JP2012128039A - Exposure apparatus - Google Patents

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Tsutomu Iwata
力 岩田
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure apparatus in which an installation floor space of the exposure apparatus can be made smaller.SOLUTION: The exposure apparatus comprises: an optical engine 31; a first Y table 20R that is freely movable on a first X table 5R in Y direction by a linear guiding device 9R including a track 9Rb and a bearing 9Ra; a first XY table R, in which the bearing 9Ra supports less than 1/2 of the length of the first Y table 20R in Y direction; and a second XY table L which is arranged on the left side in Y direction of the optical engine 31 and whose configuration is symmetrical to the first XY table R with respect to a symmetrical surface P perpendicular to Y direction of the optical engine. A substantial support end (end surface 9Ra1f), which supports the first Y table 20R or the second Y table 20 L when the first Y table 20R or the second Y table 20 L is positioned at an exposure position, is arranged at 10 mm or less from the symmetrical surface P.

Description

本発明は、パターンマスクに代えて空間的光変調器(Digital Micromirror Device。以下、「DMD」という。)等を用いて、表面に感光性ドライフィルムまたは液状レジスト等が塗布されたプリント基板等の露光対象物(以下、「ワーク」という。)に紫外光等の光により電気回路等を露光(描画)するマスクレスの露光装置(以下、「露光装置」という。)に関する。   The present invention uses a spatial light modulator (Digital Micromirror Device; hereinafter referred to as “DMD”) or the like in place of a pattern mask, and the like, such as a printed circuit board having a photosensitive dry film or a liquid resist coated thereon. The present invention relates to a maskless exposure apparatus (hereinafter referred to as “exposure apparatus”) that exposes (draws) an electric circuit or the like on an exposure object (hereinafter referred to as “work”) with light such as ultraviolet light.

露光装置は、露光手段(描画手段)である光学エンジン(露光ヘッド)に加えてCCDカメラ等の撮像装置を備えている。そして、予めワークの表面に配置されたアライメントマークを撮像装置により読み取り(アライメント作業)、読み取ったアライメントマークの位置に基づいて露光する(露光作業)ことで、描画の位置精度を向上させている。露光手段である光学エンジンは高価であるため、ランニングコストを低減するためには光学エンジンの使用率を上げる必要がある。   The exposure apparatus includes an imaging device such as a CCD camera in addition to an optical engine (exposure head) which is an exposure means (drawing means). And the alignment mark previously arranged on the surface of the workpiece is read by an imaging device (alignment work), and exposure is performed based on the position of the read alignment mark (exposure work), thereby improving the drawing position accuracy. Since the optical engine as the exposure means is expensive, it is necessary to increase the usage rate of the optical engine in order to reduce the running cost.

そこで、1つの光学エンジンに対向する加工領域の両側に、それぞれ撮像装置を配置した第1と第2の撮像領域を設け、第1のXYテーブルは第1の撮像領域と加工領域内を、第2のXYテーブルは第2の撮像領域と加工領域内を、それぞれ移動できるようにしておき、アライメント作業が終了した第1のXYテーブル上または第2のXYテーブル上のワークのいずれか一方を光学エンジンによって露光する露光装置の技術が開示されている(特許文献1)。特許文献1の技術に依ればアライメント作業と露光作業とを並行して行えるので、光学エンジンの使用率が向上し、ランニングコストを低減することができた。   Therefore, first and second imaging regions each having an imaging device are provided on both sides of the processing region facing one optical engine, and the first XY table includes the first imaging region and the processing region in the first region. The XY table 2 is configured to be movable in the second imaging area and the machining area, and either the work on the first XY table or the second XY table on which the alignment work has been completed is optically detected. The technique of the exposure apparatus which exposes with an engine is disclosed (patent document 1). According to the technique of Patent Document 1, since the alignment work and the exposure work can be performed in parallel, the usage rate of the optical engine can be improved and the running cost can be reduced.

ところで、光学エンジンの焦点深度は30μm程度であるため精度に優れる露光をするためには光学エンジンとワークとの距離を一定に保つ必要がある。特許文献1の露光装置の場合、第1のXYテーブルを構成する第1のYテーブルのY方向の両側に軸受けを配置することにより、軌道上のいずれの位置においても第1のXYテーブルがXY方向と直角なZ方向に動くことはない。同様に、第2のXYテーブルもZ方向に動くことはない。したがって、光学エンジンとワークとの距離は常に一定であり、高精度の描画(露光)を行うことができた。   By the way, since the focal depth of the optical engine is about 30 μm, it is necessary to keep the distance between the optical engine and the workpiece constant in order to perform exposure with high accuracy. In the case of the exposure apparatus disclosed in Patent Document 1, the first XY table can be placed in any position on the track by arranging bearings on both sides in the Y direction of the first Y table constituting the first XY table. It does not move in the Z direction perpendicular to the direction. Similarly, the second XY table does not move in the Z direction. Therefore, the distance between the optical engine and the workpiece is always constant, and high-precision drawing (exposure) can be performed.

特開2009−223447号公報JP 2009-223447 A

特許文献1の露光装置の場合、光学エンジン4のY方向の露光幅をワークの最大幅に等しくすると、特許文献1の図3におけるYの幅をワークの幅の3倍程度にすることができる。しかし、Y方向に移動するYテーブル(1al、1ar)のX方向の長さはベース8のX方向の長さとほぼ同じであるため、Y方向に移動するテーブルが重くなる。また、ワークの搬出装置は1個にできるが、XYθテーブルの一方がワークを露光および搬出している間は他方はワークを搬入することができない。したがって、稼働率を上げるためにはXYθテーブルのそれぞれに搬入装置を設ける必要があった。   In the case of the exposure apparatus of Patent Document 1, if the exposure width in the Y direction of the optical engine 4 is made equal to the maximum width of the workpiece, the width of Y in FIG. 3 of Patent Document 1 can be made about three times the width of the workpiece. . However, since the length in the X direction of the Y table (1al, 1ar) moving in the Y direction is almost the same as the length of the base 8 in the X direction, the table moving in the Y direction becomes heavy. Further, the number of workpiece carry-out devices can be one. However, while one of the XYθ tables exposes and carries the workpiece, the other cannot carry the workpiece. Therefore, in order to increase the operating rate, it is necessary to provide a loading device for each of the XYθ tables.

本発明の目的は、露光装置の設置床面積を小さくすると共に、ワークの搬入、搬出装置を1組あるいは搬入兼搬出装置として1台にすることができる露光装置を提供するにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an exposure apparatus that can reduce the installation floor area of the exposure apparatus and can provide a single work load / unload apparatus as a set or a single load / unload apparatus.

上記課題を解決するため、本発明は、光を照射する光学エンジンとテーブル上に載置したワークとを相対的に移動させて前記ワークを露光する露光装置において、前記光のY方向の照射幅が前記ワークのY方向の幅と同じである光学エンジンと、前記光学エンジンのY方向の一方に配置され、前記Y方向と直角なX方向に移動自在の第1のXテーブルと、軌道と軸受けとからなる直線案内装置により前記第1のXテーブル上をY方向に移動自在な第1のYテーブルとからなり、該軸受けが該第1のYテーブルのY方向の長さの1/2未満を支持する第1のXYテーブルと、前記光学エンジンのY方向の他方に配置され、前記光学エンジンのY方向に垂直な対称面に関して前記第1のXYテーブルと構成が対称である第2のXYテーブルと、を設け、前記第1のYテーブルと前記第2のYテーブルを露光位置に位置決めしたときに前記第1のYテーブルと前記第2のYテーブルを支持する、前記軸受け又は補助支持手段により決定される実質的な支持端が、前記対称面からの距離が+10mm以下に位置決めされるように配置することを特徴とする。
このように本願発明においては装置をコンパクトのするために実質的に片持ち構造を採用したが、それにより発生するたわみの問題を上記の構成にすることにより解決した。
In order to solve the above-described problems, the present invention provides an exposure apparatus that exposes the work by relatively moving an optical engine that irradiates light and a work placed on a table. An optical engine having the same width as the workpiece in the Y direction, a first X table disposed in one of the Y directions of the optical engine and movable in the X direction perpendicular to the Y direction, a track and a bearing The first Y table is movable in the Y direction on the first X table by a linear guide device comprising: the bearing is less than half the length of the first Y table in the Y direction And a second XY that is arranged on the other side in the Y direction of the optical engine and is symmetrical with the first XY table with respect to a symmetry plane perpendicular to the Y direction of the optical engine. Table and the Therefore, when the first Y table and the second Y table are positioned at the exposure position, they are determined by the bearings or the auxiliary support means that support the first Y table and the second Y table. The substantial support end is arranged so that the distance from the symmetry plane is positioned at +10 mm or less.
As described above, in the present invention, the cantilever structure is substantially adopted in order to make the apparatus compact. However, the problem of the deflection caused by the structure is solved by adopting the above-described configuration.

この場合、前記第1のYテーブル又は前記第2のYテーブルを支持する、前記対称面に近い側の前記軸受けの前記対称面に近い側の端面を前記実質的な支持端とし、該実質的な支持端が前記対称面から+1〜+10mmの距離に位置決めされるように配置することが好ましい。   In this case, an end surface close to the symmetry plane of the bearing on the side close to the symmetry plane that supports the first Y table or the second Y table is used as the substantial support end, and the substantial support end. It is preferable to arrange such that the support end is positioned at a distance of +1 to +10 mm from the symmetry plane.

また、前記補助支持手段を、前記光学エンジンのY方向に垂直な対称面を中心面とし、X方向の長さが前記第1のYテーブルと前記第2のYテーブルのX方向の移動範囲以上であるように設けた静圧空気軸受けにすることができる。   The auxiliary support means has a symmetry plane perpendicular to the Y direction of the optical engine as a center plane, and the length in the X direction is equal to or greater than the movement range in the X direction of the first Y table and the second Y table. It can be set as the static pressure air bearing provided.

露光装置の設置床面積を小さくすると共に、ワークの搬入、搬出装置を1組あるいは搬入兼搬出装置として1台にすることができる。   The installation floor area of the exposure apparatus can be reduced, and one set of work loading / unloading apparatus or a single loading / unloading apparatus can be provided.

図1は本発明に係る露光装置の一部断面平面図である。FIG. 1 is a partial sectional plan view of an exposure apparatus according to the present invention. 図2は本発明に係る露光装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of the exposure apparatus according to the present invention. 図3は図1のA−A断面図である。3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 図4はYテーブル20LとYテーブル20Rの位置を時系列で示す動作説明図である。FIG. 4 is an operation explanatory diagram showing the positions of the Y table 20L and the Y table 20R in time series. 図5は本発明に係る他の露光装置の、図3に対応する図である。FIG. 5 is a view corresponding to FIG. 3 of another exposure apparatus according to the present invention. 図6は本発明に係るさらに他の露光装置の、図3に対応する図である。FIG. 6 is a view corresponding to FIG. 3 of still another exposure apparatus according to the present invention. 図7は図6のB−B断面図である。7 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG.

以下、図面を参照しながら本発明を説明する。   The present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、本発明に係る露光装置100の一部断面平面図、図2は正面図、図3は図1のA−A断面図である。なお、ワーク22のY方向の長さ(以下、単に「長さ」という。)をS、X方向の長さ(以下、「幅」という。)をTとする。
図1に示すように、本露光装置100は少なくとも光学エンジン31及び搬送系に関してY方向に垂直な対称面Pを持ち、その対称面Pが中心面となるようにスケールホルダ2が配置されている。スケールホルダ2の左右の側面にはリニアスケール3L、3Rが配置されている。
軸受け4aと軌道4bとからなる直線案内装置4の2対の軌道4bは、それぞれ対称面Pに関して対称となるようにしてベッド1上のX方向に配置されている。
制御装置40は、各部の動作を制御する。また、ベース1に近接してワーク22をYテーブルに搬入する搬入装置50とワーク22をYテーブルから搬出する搬出装置51とが対称面Pがそれぞれの中心面となるように配置されている。
1 is a partial cross-sectional plan view of an exposure apparatus 100 according to the present invention, FIG. 2 is a front view, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. Note that the length of the workpiece 22 in the Y direction (hereinafter simply referred to as “length”) is S, and the length in the X direction (hereinafter referred to as “width”) is T.
As shown in FIG. 1, the exposure apparatus 100 has a symmetry plane P perpendicular to the Y direction at least with respect to the optical engine 31 and the transport system, and the scale holder 2 is arranged so that the symmetry plane P becomes the center plane. . Linear scales 3 </ b> L and 3 </ b> R are arranged on the left and right side surfaces of the scale holder 2.
Two pairs of tracks 4b of the linear guide device 4 including the bearing 4a and the track 4b are arranged in the X direction on the bed 1 so as to be symmetrical with respect to the symmetry plane P.
The control device 40 controls the operation of each unit. Further, a loading device 50 for loading the workpiece 22 onto the Y table and a carrying-out device 51 for loading the workpiece 22 from the Y table in the vicinity of the base 1 are arranged so that the symmetry planes P are the respective center planes.

図2に示すように、Xテーブル5R、5Lの下面には軌道4bに係合する軸受け4aがそれぞれ固定されている。
可動子6Rmと固定子6Rkとからなるリニアモータ6Rの固定子6Rkはベッド1の上面に、可動子6RmはXテーブル5Rの下面に、それぞれ配置されている。リニアモータ6RはXテーブル5Rを駆動する。可動子6Lmと固定子6Lkとからなるリニアモータ6Lの固定子6Lkはベッド1の上面に、可動子6LmはXテーブル5Lの下面に、それぞれ配置されている。リニアモータ6LはXテーブル5Lを駆動する。Xテーブル5Rのリニアスケール3Rと対向する位置にはドッグ7Rが配置されている。リニアスケール3Rはドッグ7RすなわちXテーブル5Rの位置を検出する。Xテーブル5Lのリニアスケール3Lと対向する位置にはドッグ7Lが配置されている。リニアスケール3Lはドッグ7LすなわちXテーブル5Lの位置を検出する。以上の構成であるから、Xテーブル5L、5Rはベッド1上をX方向に位置決め自在である。
As shown in FIG. 2, bearings 4a that engage with the tracks 4b are fixed to the lower surfaces of the X tables 5R and 5L, respectively.
The stator 6Rk of the linear motor 6R composed of the mover 6Rm and the stator 6Rk is disposed on the upper surface of the bed 1, and the mover 6Rm is disposed on the lower surface of the X table 5R. The linear motor 6R drives the X table 5R. The stator 6Lk of the linear motor 6L composed of the mover 6Lm and the stator 6Lk is disposed on the upper surface of the bed 1, and the mover 6Lm is disposed on the lower surface of the X table 5L. The linear motor 6L drives the X table 5L. A dog 7R is disposed at a position facing the linear scale 3R of the X table 5R. The linear scale 3R detects the position of the dog 7R, that is, the X table 5R. A dog 7L is arranged at a position facing the linear scale 3L of the X table 5L. The linear scale 3L detects the position of the dog 7L, that is, the X table 5L. With the above configuration, the X tables 5L and 5R can be positioned on the bed 1 in the X direction.

Xテーブル5Rの上面には、XY面内を回転自在のC軸テーブル8Rが配置されている。Xテーブル5Lの上面には、XY面内を回転自在のC軸テーブル8Lが配置されている。C軸テーブル8Lの回転の中心は対称面Pに関してC軸テーブル8Rの回転の中心と(映進)対称である。C軸テーブル8R、8Lは、それぞれ図示を省略する駆動モータにより、0.0005度の精度で回転方向に位置決め制御される。   On the upper surface of the X table 5R, a C-axis table 8R that is rotatable in the XY plane is disposed. On the upper surface of the X table 5L, a C-axis table 8L that is rotatable in the XY plane is disposed. The center of rotation of the C-axis table 8L is (projection) symmetric with respect to the center of rotation of the C-axis table 8R with respect to the symmetry plane P. The C-axis tables 8R and 8L are positioned and controlled in the rotational direction with a precision of 0.0005 degrees by drive motors (not shown).

C軸テーブル8Rの上面には、軸受け9Raと軌道9Rbとからなる直線案内装置9Rの軸受け9Raが4個固定されている。4個の軸受け9Raは、C軸テーブル8Rが基準位置(回転角度が0度)にあるとき、係合する軌道9RbがX方向と直角なY方向になるようにして、X,Y方向の方形の頂点の位置に位置決めされている。なお、軸受け9RaのY方向の位置については後述する。   Four bearings 9Ra of a linear guide device 9R including a bearing 9Ra and a track 9Rb are fixed on the upper surface of the C-axis table 8R. The four bearings 9Ra are rectangular in the X and Y directions so that when the C-axis table 8R is at the reference position (rotation angle is 0 degree), the engaging track 9Rb is in the Y direction perpendicular to the X direction. It is positioned at the apex position. The position of the bearing 9Ra in the Y direction will be described later.

Yテーブル20Rの下面には軸受け9Raに係合する軌道9Rbが2個配置されている。Yテーブル20Rの大きさはY方向が長さS、X方向が幅Tであり、ワーク22の大きさと同じである。また、軌道9RbのY方向の長さはSである。Yテーブル20Lの下面には軸受け9Laに係合する軌道9Lbが2個配置されている。Yテーブル20Lの大きさはY方向が長さS、X方向が幅Tであり、ワーク22の大きさと同じである。また、軌道9LbのY方向の長さはSである。以上の構成であるから、Yテーブル20R、20Lは基準位置にあるC軸テーブル8R、8L上をY方向に移動自在である。そして、Xテーブル5RとC軸テーブル8RとYテーブル20Rとで第1のXYテ−ブルRが、Xテーブル5LとC軸テーブル8LとYテーブル20Lとで第2のXYテ−ブルLが、それぞれ構成されている。なお、Yテーブル20R、20Lの待機位置と露光位置については後述する。   Two tracks 9Rb that engage with the bearings 9Ra are disposed on the lower surface of the Y table 20R. The Y table 20R has a length S in the Y direction and a width T in the X direction, which is the same as the size of the workpiece 22. The length of the track 9Rb in the Y direction is S. Two tracks 9Lb that engage with the bearings 9La are arranged on the lower surface of the Y table 20L. The Y table 20L has a length S in the Y direction and a width T in the X direction, which is the same as the size of the workpiece 22. The length of the track 9Lb in the Y direction is S. With the above configuration, the Y tables 20R and 20L are movable in the Y direction on the C-axis tables 8R and 8L at the reference position. The X table 5R, the C axis table 8R, and the Y table 20R form a first XY table R, and the X table 5L, the C axis table 8L, and the Y table 20L form a second XY table L, Each is composed. The standby position and exposure position of the Y tables 20R and 20L will be described later.

Yテーブル20R、20Lの上面にはそれぞれテーブル21が固定されている。テーブル21の表面には図示を省略する多数の吸着穴が設けられている。被露光物であるワーク22は吸着によりテーブル21の表面に固定されている。   Tables 21 are fixed to the upper surfaces of the Y tables 20R and 20L, respectively. A number of suction holes (not shown) are provided on the surface of the table 21. A work 22 as an object to be exposed is fixed to the surface of the table 21 by suction.

門型のコラム30はベッド1の側面に固定されている。コラム30のXY方向の中心にはX、Y方向に整列して配置された複数の光源(X方向は1列の場合もある。)を備える光学エンジン31が配置されている。光学エンジン31は光源列がY方向に垂直な対称面Pを持つように位置決めされている。駆動系32は光学エンジン31をXY面に垂直なZ方向に移動させる。なお、光学エンジン31の移動範囲は20mm程度である。   The portal column 30 is fixed to the side surface of the bed 1. An optical engine 31 having a plurality of light sources arranged in the X and Y directions (the X direction may be a single row) is arranged at the center in the XY direction of the column 30. The optical engine 31 is positioned so that the light source array has a symmetry plane P perpendicular to the Y direction. The drive system 32 moves the optical engine 31 in the Z direction perpendicular to the XY plane. The moving range of the optical engine 31 is about 20 mm.

光学エンジン31の側面に配置された支持部材33にはワーク22上に形成されたアライメントマークを読み取るための撮像装置34が1個あるいは複数個(図示の場合2個)配置されている。
駆動系35は撮像装置34をZ方向に移動させる。なお、撮像装置34の焦点位置は、光学エンジン31の焦点位置と同一になるように移動原点が調整されている。
One or a plurality of imaging devices 34 (two in the figure) for reading alignment marks formed on the workpiece 22 are arranged on the support member 33 arranged on the side surface of the optical engine 31.
The drive system 35 moves the imaging device 34 in the Z direction. Note that the origin of movement is adjusted so that the focal position of the imaging device 34 is the same as the focal position of the optical engine 31.

次に、Yテーブル20Rの待機位置と露光位置および軸受け9Raの位置について説明する。
ここで、第2のXYテ−ブルLは構成が第1のXYテ−ブルRと対称面Pに関して対称である。そこで、第1のXYテ−ブルRについて説明する。
図3(a)に示すように、1対の軸受け9Ra1は、対称面Pに近い側の端面9Ra1fが対称面Pから距離gだけ離れた位置になるようにしてC軸テーブル8Rに固定されている。また、1対の軸受け9Ra2は、対称面Pから離れた側の端面9Ra2bが対称面Pから距離S/2だけ離れた位置になるようにしてC軸テーブル8R上に固定されている。
Yテーブル20Rの待機位置は、図3(a)に示すように、C軸テーブル8Rが基準位置にあるとき、Yテーブル20Rの左端が対称面Pから距離gだけ右の位置、すなわち端面9Ra1fと同一のY座標となる位置である。また、Yテーブル20Rの露光(描画)位置は、図3(b)に示すように、C軸テーブル8Rが基準位置にあるとき、Yテーブル20Rの左端が対称面PからS/2左方となる位置である。また、Yテーブル20Rが露光位置に位置決めされたとき、軌道9Rbの右端のY座標は軸受け9Ra2の端面9Ra2bのY座標と一致する。なお、図中点線で示すように、第2のXYテ−ブルLにおける軸受け9La1は軸受け9Ra1に、軸受け9La2は軸受け9Ra2に、また、軌道9Lbは軌道9Rbにそれぞれ対応する。
Next, the standby position and exposure position of the Y table 20R and the position of the bearing 9Ra will be described.
Here, the configuration of the second XY table L is symmetric with respect to the first XY table R and the symmetry plane P. Accordingly, the first XY table R will be described.
As shown in FIG. 3A, the pair of bearings 9Ra1 is fixed to the C-axis table 8R so that the end surface 9Ra1f on the side close to the symmetry plane P is at a position separated from the symmetry plane P by the distance g. Yes. The pair of bearings 9Ra2 is fixed on the C-axis table 8R so that the end surface 9Ra2b on the side away from the symmetry plane P is at a position away from the symmetry plane P by a distance S / 2.
As shown in FIG. 3A, the standby position of the Y table 20R is such that when the C-axis table 8R is at the reference position, the left end of the Y table 20R is the right position from the symmetry plane P by the distance g, that is, the end face 9Ra1f. It is a position that has the same Y coordinate. Further, as shown in FIG. 3B, the exposure (drawing) position of the Y table 20R is such that when the C-axis table 8R is at the reference position, the left end of the Y table 20R is S / 2 left from the symmetry plane P. Is the position. When the Y table 20R is positioned at the exposure position, the Y coordinate of the right end of the track 9Rb matches the Y coordinate of the end surface 9Ra2b of the bearing 9Ra2. As indicated by the dotted line in the figure, the bearing 9La1 in the second XY table L corresponds to the bearing 9Ra1, the bearing 9La2 corresponds to the bearing 9Ra2, and the track 9Lb corresponds to the track 9Rb.

次に、距離gの値について説明する。
本発明では、距離gを0<g<S/2に定めることができる。例えば、g=0とすると、待機位置に位置決めしたYテーブル20Rと待機位置に位置決めしたYテーブル20Lを対向させた場合(X座標を同じ値にした場合)Yテーブル20RとYテーブル20Lの先端(対称面Pに近い側)は対称面P上で互いに接することになる。この場合、両者が干渉することはなり、実用的ではない。また、後述するように、gの値をS/2に近づけると、露光位置におけるYテーブル20R先端(左端)のZ方向の変位が大きくなる。そこで、実用上、距離g=1〜10mmとすることが好ましい。
Next, the value of the distance g will be described.
In the present invention, the distance g can be set to 0 <g <S / 2. For example, when g = 0, when the Y table 20R positioned at the standby position and the Y table 20L positioned at the standby position are opposed to each other (when the X coordinate is set to the same value), the tips of the Y table 20R and the Y table 20L ( The sides close to the symmetry plane P) are in contact with each other on the symmetry plane P. In this case, both will interfere and it is not practical. As will be described later, when the value of g approaches S / 2, the displacement in the Z direction of the tip (left end) of the Y table 20R at the exposure position increases. Therefore, in practice, it is preferable to set the distance g = 1 to 10 mm.

可動子10Rmと固定子10Rkとからなるリニアモータ10Rの固定子10Rkは軌道9Rbに平行になるようにしてC軸テーブル8Rの上面に配置されている。可動子10RmはYテーブル20Rの下面に配置されている。リニアモータ10RはYテーブル20Rを駆動する。
図示を省略するが、可動子10Lmと固定子10Lkとからなるリニアモータ10Lの固定子10Lkは軌道9Lbに平行になるようにしてC軸テーブル8Lの上面に配置されている。可動子10LmはYテーブル20Lの下面に配置されている。リニアモータ10LはYテーブル20Lを駆動する。
The stator 10Rk of the linear motor 10R including the mover 10Rm and the stator 10Rk is arranged on the upper surface of the C-axis table 8R so as to be parallel to the track 9Rb. The mover 10Rm is disposed on the lower surface of the Y table 20R. The linear motor 10R drives the Y table 20R.
Although not shown, the stator 10Lk of the linear motor 10L including the mover 10Lm and the stator 10Lk is arranged on the upper surface of the C-axis table 8L so as to be parallel to the track 9Lb. The mover 10Lm is disposed on the lower surface of the Y table 20L. The linear motor 10L drives the Y table 20L.

なお、図1におけるベース1の下端(搬入装置50側)から撮像装置34の中心までのX方向の距離と、撮像装置34の中心から光学エンジン31の中心までのX方向の距離と、光学エンジン31の図における下端からベース1の上端(搬出装置51側)までのX方向の距離は、それぞれ幅T以上である。以下、図1におけるベース1の下端から撮像装置34の中心までの領域を搬入領域Dと、撮像装置34の中心から光学エンジン31の下端までの領域を露光領域Eと、光学エンジン31の下端からベース1の上端までの領域を搬出領域Fという。   1, the distance in the X direction from the lower end of the base 1 (on the carry-in device 50 side) to the center of the imaging device 34, the distance in the X direction from the center of the imaging device 34 to the center of the optical engine 31, and the optical engine The distances in the X direction from the lower end in FIG. 1, the area from the lower end of the base 1 to the center of the imaging device 34 in FIG. 1 is the carry-in area D, the region from the center of the imaging apparatus 34 to the lower end of the optical engine 31 is the exposure area E, and the lower end of the optical engine 31. An area up to the upper end of the base 1 is referred to as an unloading area F.

次に、この実施例の動作を説明する。
図4は、Yテーブル20RとYテーブル20Lの位置を時系列で示す動作説明図である。
加工開始に先立ち、露光位置に位置決めしたYテーブル20Lを搬入領域Dに、待機位置に位置決めしたYテーブル20Rを搬出領域Fに位置決めしておく。
手順1.Yテーブル20Lにワーク22を載置する。Yテーブル20Rは待機させる。(同図a)
手順2.Yテーブル20Lを露光領域Eに移動させ、ワーク22上のアライメントマークの位置を読み取る。Yテーブル20Rは待機させる。(同図b)
なお、アライメントマークの位置を読み取る際、焦点合わせのために撮像装置34をz方向に移動させると、その移動量に合わせて光学エンジン31もz方向に移動するので、光学エンジン31の焦点位置も最適な値に設定される。
手順3.Yテーブル20Lを待機位置に位置決めする。Yテーブル20Rは待機させる。(同図c)
手順4.Yテーブル20Lを待機させる。この状態で、Yテーブル20Rを搬入領域Dに移動させる(同図d)
手順5.Yテーブル20Lを露光位置に位置決めする。Yテーブル20Rを露光位置に位置決めする。(同図e)
手順6.読み取ったアライメントマークの位置に基づいてC軸テーブル8Lを回転させ、ワーク22の傾きを補正する。その後、Yテーブル20Lを搬出領域Fの方向に移動させながらワーク22を露光する。そして、露光が終了したら、搬出装置51により、Yテーブル20L上のワーク22を搬出する。また、Yテーブル20Rにワーク22を載置した後、Yテーブル20Rを露光領域Eに移動させ、ワーク22上のアライメントマークの位置を読み取る。(同図f)
なお、手順6においては、Yテーブル20RがYテーブル20Lに衝突しないようYテーブル20RのX方向の位置を制御する。
手順7.Yテーブル20Lを待機位置に位置決めすると共にC軸テーブル8Lを基準位置に位置決めする。また、Yテーブル20Rを待機位置に位置決めする。(同図g)
手順8.Yテーブル20Lを搬入領域Dに移動させる。Yテーブル20Rは待機させる。(同図h)
手順9.Yテーブル20Lを露光位置に位置決めし、Yテーブル20Lにワーク22を載置する。その後、Yテーブル20Lを露光領域Eに移動させ、ワーク22上のアライメントマークの位置を読み取る。また、Yテーブル20Rを露光位置に位置決めし、読み取ったアライメントマークの位置に基づいてC軸テーブル8Rを回転させ、ワーク22の傾きを補正する。その後、Yテーブル20Rを搬出領域Fの方向に移動させながらワーク22を露光する。そして、露光が終了したら、搬出装置51により、Yテーブル20R上のワーク22を搬出し、Yテーブル20Rを待機位置に位置決めすると共にC軸テーブル8Rを基準位置に位置決めする。
なお、手順9においては、Yテーブル20LがYテーブル20Rに衝突しないようYテーブル20LのX方向の位置を制御する。
そして、手順9が終了すると、Yテーブル20LとYテーブル20Rは同図bに示す状態に戻る。以下、未加工のワーク22が無くなるまで手順3〜手順9の動作を繰り返す。
Next, the operation of this embodiment will be described.
FIG. 4 is an operation explanatory diagram showing the positions of the Y table 20R and the Y table 20L in time series.
Prior to the start of processing, the Y table 20L positioned at the exposure position is positioned in the carry-in area D, and the Y table 20R positioned at the standby position is positioned in the carry-out area F.
Procedure 1. The workpiece 22 is placed on the Y table 20L. The Y table 20R is put on standby. (Fig. A)
Procedure 2. The Y table 20L is moved to the exposure area E, and the position of the alignment mark on the workpiece 22 is read. The Y table 20R is put on standby. (Fig. B)
When the position of the alignment mark is read, if the imaging device 34 is moved in the z direction for focusing, the optical engine 31 also moves in the z direction in accordance with the amount of movement. It is set to an optimal value.
Procedure 3. The Y table 20L is positioned at the standby position. The Y table 20R is put on standby. (Fig. C)
Procedure 4. The Y table 20L is put on standby. In this state, the Y table 20R is moved to the carry-in area D (d in the figure).
Procedure 5. The Y table 20L is positioned at the exposure position. The Y table 20R is positioned at the exposure position. (Fig. E)
Procedure 6. Based on the read alignment mark position, the C-axis table 8L is rotated to correct the tilt of the workpiece 22. Thereafter, the workpiece 22 is exposed while moving the Y table 20L in the direction of the carry-out area F. When the exposure is completed, the work 22 on the Y table 20L is carried out by the carry-out device 51. Further, after placing the work 22 on the Y table 20R, the Y table 20R is moved to the exposure area E, and the position of the alignment mark on the work 22 is read. (Fig. F)
In step 6, the position of the Y table 20R in the X direction is controlled so that the Y table 20R does not collide with the Y table 20L.
Step 7. The Y table 20L is positioned at the standby position, and the C-axis table 8L is positioned at the reference position. Further, the Y table 20R is positioned at the standby position. (Fig.g)
Procedure 8. The Y table 20L is moved to the carry-in area D. The Y table 20R is put on standby. (Fig. H)
Procedure 9. The Y table 20L is positioned at the exposure position, and the work 22 is placed on the Y table 20L. Thereafter, the Y table 20L is moved to the exposure area E, and the position of the alignment mark on the workpiece 22 is read. Further, the Y table 20R is positioned at the exposure position, and the C-axis table 8R is rotated based on the read position of the alignment mark to correct the tilt of the workpiece 22. Thereafter, the workpiece 22 is exposed while moving the Y table 20R in the direction of the carry-out area F. When the exposure is completed, the work 22 on the Y table 20R is unloaded by the unloading device 51, and the Y table 20R is positioned at the standby position and the C-axis table 8R is positioned at the reference position.
In step 9, the position of the Y table 20L in the X direction is controlled so that the Y table 20L does not collide with the Y table 20R.
When step 9 is completed, the Y table 20L and the Y table 20R return to the state shown in FIG. Thereafter, the operations in steps 3 to 9 are repeated until there is no unprocessed workpiece 22.

この実施例では、待機位置におけるYテーブルRの右端を対称面Pから(S+g)の距離にすることができる。したがって、ベース1の対称面PからY方向の両端までの距離も(S+g)にすることができる。すなわち、露光装置100の幅をワーク22の幅の約2倍にすることができるので、露光装置100を小型にすることができる。   In this embodiment, the right end of the Y table R at the standby position can be set to a distance of (S + g) from the symmetry plane P. Therefore, the distance from the symmetry plane P of the base 1 to both ends in the Y direction can also be (S + g). That is, since the width of the exposure apparatus 100 can be about twice the width of the workpiece 22, the exposure apparatus 100 can be reduced in size.

また、Yテーブル20RとYテーブル20Lは互いに独立してワーク22の搬入装置と搬出装置に位置決めできるので、搬入装置と搬出装置を1組あるいは搬入兼搬出装置として1台にすることができる。
以下、1組の搬入装置と搬出装置代えて1台の搬入兼搬出装置を採用する場合について補足説明する。
例えば、図1における搬入装置50の位置に1台の搬入兼搬出装置を配置する場合、上記搬出領域Fを待機領域として使用し、上記手順6におけるYテーブル20L上のワーク22を搬出せず、手順9において露光が終了したワーク22を搬出した後、Yテーブル20Lにワーク22を載置する。
同様に、Yテーブル20Rの場合は、手順9において露光が終了したワーク22を搬出せず、2回目以降の手順6において露光が終了したワーク22を搬出した後、Yテーブル20Lにワーク22を載置する。
Further, since the Y table 20R and the Y table 20L can be positioned independently of each other with respect to the carry-in device and the carry-out device of the workpiece 22, the carry-in device and the carry-out device can be set as one set or as a single carry-in / out device.
In the following, a supplementary description will be given of a case where a single loading / unloading device is employed instead of a single loading / unloading device.
For example, when one loading / unloading device is arranged at the position of the loading device 50 in FIG. 1, the unloading area F is used as a standby area, and the workpiece 22 on the Y table 20L in the procedure 6 is not unloaded, After carrying out the workpiece 22 that has been exposed in the procedure 9, the workpiece 22 is placed on the Y table 20L.
Similarly, in the case of the Y table 20R, the work 22 that has been exposed in step 9 is not carried out, and the work 22 that has been exposed in the second and subsequent steps 6 is carried out, and then the work 22 is placed on the Y table 20L. Put.

次に、本発明の他の実施例を説明する。
図5は本発明の他の実施例を説明する図であり、(a)はYテーブル20Rが待機位置に位置決めされた場合を、(b)はYテーブル20Rが露光位置に位置決めされた場合を、それぞれ示している。すなわち、図5は実施例1の図3に対応する図である。
実施例1では軸受け9Ra、9LaをそれぞれC軸テーブル8R、8Lに配置し、Yテーブル20R、20Lの下面にそれぞれ軌道9Rb、9Lbを配置したが、この実施例では、C軸テーブル8R、8Lに軌道9Rb、9Lbを配置し、Yテーブル20R、20Lの下面に軸受け9Ra、9Laを配置している。すなわち、第1のXYテーブルRを例にとって説明すると、図5(a)に示すように、長さをSの軌道9Rbを、基準位置に位置決めしたC軸テーブル8R上、左端面が対称面Pから距離gとなるように配置する。また、待機位置に位置決めしたYテーブル20R下面の対称面Pから(S/2+g)の位置に軸受け9Ra1の端面9Ra1fを、対称面Pから(S+g)の位置に軸受け9Ra2の端面9Ra2bを、それぞれ配置する。
このようにすると、図5(b)に示すように、Yテーブル20Rが露光位置に位置決めされたとき、軸受け9Ra1と軸受け9Ra2のY方向の位置は実施例1における軸受け9Ra1と軸受け9Ra2と同じ位置になる。すなわち、この実施例の場合も、待機位置におけるYテーブルRの右端は対称面Pから(S+g)の距離であるので、露光装置100の幅をワーク22の幅の約2倍にすることができる。また、Yテーブル20RとYテーブル20Lを互いに独立してワーク22の搬入装置と搬出装置に位置決めできるので、搬入装置と搬出装置を1組あるいは搬入兼搬出装置として1台にすることができる。なお、動作は実施例1と同じであるので、重複する説明を省略する。
Next, another embodiment of the present invention will be described.
FIGS. 5A and 5B are diagrams for explaining another embodiment of the present invention. FIG. 5A shows a case where the Y table 20R is positioned at the standby position, and FIG. 5B shows a case where the Y table 20R is positioned at the exposure position. , Respectively. That is, FIG. 5 is a diagram corresponding to FIG. 3 of the first embodiment.
In the first embodiment, the bearings 9Ra and 9La are arranged on the C-axis tables 8R and 8L, respectively, and the tracks 9Rb and 9Lb are arranged on the lower surfaces of the Y tables 20R and 20L, respectively, but in this embodiment, the bearings 9Ra and 9L are arranged on the C-axis tables 8R and 8L. The tracks 9Rb and 9Lb are arranged, and the bearings 9Ra and 9La are arranged on the lower surfaces of the Y tables 20R and 20L. That is, taking the first XY table R as an example, as shown in FIG. 5A, the left end surface is a plane of symmetry P on the C-axis table 8R in which the track 9Rb having the length S is positioned at the reference position. To be a distance g. Further, the end surface 9Ra1f of the bearing 9Ra1 is arranged at a position (S / 2 + g) from the symmetry plane P of the lower surface of the Y table 20R positioned at the standby position, and the end face 9Ra2b of the bearing 9Ra2 is arranged at a position (S + g) from the symmetry plane P. To do.
In this manner, as shown in FIG. 5B, when the Y table 20R is positioned at the exposure position, the positions of the bearing 9Ra1 and the bearing 9Ra2 in the Y direction are the same positions as the bearing 9Ra1 and the bearing 9Ra2 in the first embodiment. become. That is, also in this embodiment, since the right end of the Y table R at the standby position is a distance of (S + g) from the symmetry plane P, the width of the exposure apparatus 100 can be approximately twice the width of the workpiece 22. . In addition, since the Y table 20R and the Y table 20L can be positioned independently of each other on the carry-in device and the carry-out device for the workpiece 22, the carry-in device and the carry-out device can be combined into a single set or a single loading / unloading device. Since the operation is the same as that of the first embodiment, a duplicate description is omitted.

ところで、実施例1の場合は軌道9Rb、9LbがそれぞれYテーブル20R、20Lの強度メンバーになり得るのに対して、実施例2の場合は軌道9Rb、9LbがそれぞれC軸テーブル8R、8Lに配置される。したがって、Yテーブル20R、20Lの構造が同じである場合、実施例2におけるYテーブル20R、20L先端の露光位置におけるZ方向の変位は実施例1よりも大きくなることがある。   By the way, in the first embodiment, the tracks 9Rb and 9Lb can be strength members of the Y tables 20R and 20L, respectively, whereas in the second embodiment, the tracks 9Rb and 9Lb are arranged on the C-axis tables 8R and 8L, respectively. Is done. Therefore, when the structures of the Y tables 20R and 20L are the same, the displacement in the Z direction at the exposure position of the tips of the Y tables 20R and 20L in the second embodiment may be larger than that in the first embodiment.

次に、本発明のさらに他の実施例を説明する。
図6は本発明のさらに他の実施例を説明する図であり、実施例1の図3に対応する図である。また、図7は図6のB−B断面図である。なお、露光装置100の平面図および正面図は、実施例1の図1,図2から容易に理解できるので、図示を省略する。また、実施例1と同じものまたは同一機能のものは同一の符号を付して重複する説明を省略する。
この実施例では、実施例1におけるスケールホルダ2に代わる静圧空気軸受け61がベッド1のY方向に垂直な対称面Pを中心とするように配置されている。静圧空気軸受け61のX方向の長さは、Yテーブル20R、20LのX方向の移動範囲以上である。
Next, still another embodiment of the present invention will be described.
FIG. 6 is a diagram for explaining still another embodiment of the present invention and corresponds to FIG. 3 of the first embodiment. FIG. 7 is a sectional view taken along line BB in FIG. Note that a plan view and a front view of the exposure apparatus 100 can be easily understood from FIGS. Moreover, the same thing as Example 1 or the thing of the same function attaches | subjects the same code | symbol, and abbreviate | omits the overlapping description.
In this embodiment, a static pressure air bearing 61 in place of the scale holder 2 in the first embodiment is arranged so as to center on a symmetry plane P perpendicular to the Y direction of the bed 1. The length of the static pressure air bearing 61 in the X direction is longer than the movement range of the Y tables 20R and 20L in the X direction.

図6に示すように、静圧空気軸受け61は、金属等の気密材で形成された保持体61aと多孔質材料61b(ここでは、多孔質セラミックス)とから形成されている。保持体61aの中空部61cは図示を省略する圧縮空気源に接続されている。そして、中空部61cに供給された圧縮空気は多孔質材料61bを通り、図の上方に噴出する。保持体61aはベース1の上面に固定されている。多孔質材料61bの幅(Y方向の長さ)はHmmである。静圧空気軸受け61の左右の側面には、リニアスケール3L、3Rが配置されている。   As shown in FIG. 6, the static pressure air bearing 61 is formed of a holding body 61a made of an airtight material such as metal and a porous material 61b (here, porous ceramics). The hollow portion 61c of the holding body 61a is connected to a compressed air source (not shown). The compressed air supplied to the hollow portion 61c passes through the porous material 61b and is ejected upward in the figure. The holding body 61 a is fixed to the upper surface of the base 1. The width (the length in the Y direction) of the porous material 61b is Hmm. Linear scales 3 </ b> L and 3 </ b> R are disposed on the left and right side surfaces of the static pressure air bearing 61.

次に、静圧空気軸受け61とYテーブル20R、20Lとの関係について説明する。なお、この実施例においても、XYテ−ブルLは構成が第1のXYテ−ブルRと対称面Pに関して対称である。そこで、静圧空気軸受け61とYテーブル20Rとの関係について説明する。
C軸テーブル8Rが基準位置にあるとき、C軸テーブル8Rは左端が対称面Pから距離kとなる位置に配置される。なお、距離kはC軸テーブル8Rが角度θ回転したときにYテーブル20RのX方向の端部が保持体61aの右側面と干渉しない値に定められる。
Next, the relationship between the static pressure air bearing 61 and the Y tables 20R and 20L will be described. Also in this embodiment, the XY table L is symmetrical with respect to the first XY table R and the plane of symmetry P. Therefore, the relationship between the static pressure air bearing 61 and the Y table 20R will be described.
When the C-axis table 8R is at the reference position, the C-axis table 8R is disposed at a position where the left end is a distance k from the symmetry plane P. Note that the distance k is determined to be a value at which the end portion in the X direction of the Y table 20R does not interfere with the right side surface of the holding body 61a when the C-axis table 8R rotates by an angle θ.

1対の軸受け9Ra1は、対称面Pに近い側の端面9Ra1fが対称面Pから距離kだけ離れた位置になるようにしてC軸テーブル8Rに固定されている。また、1対の軸受け9Ra2は、対称面Pから離れた側の端面9Ra2bが対称面Pから距離S/2だけ離れた位置になるようにしてC軸テーブル8R上に固定されている。   The pair of bearings 9Ra1 is fixed to the C-axis table 8R so that the end face 9Ra1f on the side close to the symmetry plane P is located at a distance k from the symmetry plane P. The pair of bearings 9Ra2 is fixed on the C-axis table 8R so that the end surface 9Ra2b on the side away from the symmetry plane P is at a position away from the symmetry plane P by a distance S / 2.

Yテーブル20Rの長さはSである。そして、待機位置は、C軸テーブル8Rが基準位置にあるとき、実施例1の場合と同様に、Yテーブル20Rの左端が対称面Pから距離gとなる位置である。また、Yテーブル20Rの露光位置は、C軸テーブル8Rが基準位置にあるとき、Yテーブル20Rの左端が対称面PからS/2左方となる位置である。Yテーブル20Rの下面には1対の長さがSである軌道9Rbが固定されている。Yテーブル20Rが待機位置にあるとき、軌道9Rbは左端が対称面Pからgの位置、右端が対称面PからS+gの位置である。したがって、Yテーブル20Rが露光位置に位置決めされたとき、軌道9Rbの右端のY座標は軸受け9Ra2の右端9Ra2bのY座標に一致する。   The length of the Y table 20R is S. The standby position is a position where the left end of the Y table 20R is at a distance g from the symmetry plane P when the C-axis table 8R is at the reference position, as in the first embodiment. Further, the exposure position of the Y table 20R is a position where the left end of the Y table 20R is S / 2 left from the symmetry plane P when the C-axis table 8R is at the reference position. A track 9Rb having a pair of lengths S is fixed to the lower surface of the Y table 20R. When the Y table 20R is in the standby position, the track 9Rb has the left end at the position from the symmetry plane P to g and the right end at the position from the symmetry plane P to S + g. Therefore, when the Y table 20R is positioned at the exposure position, the Y coordinate of the right end of the track 9Rb matches the Y coordinate of the right end 9Ra2b of the bearing 9Ra2.

Yテーブル20Rの下面には断面が方形のサポート23Rが固定されている。サポート23RはY方向の左端がYテーブル20Rの左端と同一面に配置され、Y方向の全長は(S/2+H/2)mm以上である。また、図7に示すように、サポート23Rは2対の軸受け9Ra1、9Ra2から等距離となるように配置されている。サポート23Rの下面(多孔質材料61bに対向する面)は鏡面に仕上げられている。サポート23Rは、下面から多孔質材料61bの上面までの距離が2μmになるようにしてYテーブル20Rに固定されている。なお、同図に示すように、軌道9Rbの下面はサポート23Rの下面よりも上方となるように配置される。   A support 23R having a square cross section is fixed to the lower surface of the Y table 20R. The left end of the support 23R is arranged on the same plane as the left end of the Y table 20R, and the total length in the Y direction is (S / 2 + H / 2) mm or more. In addition, as shown in FIG. 7, the support 23R is disposed so as to be equidistant from the two pairs of bearings 9Ra1 and 9Ra2. The lower surface of the support 23R (surface facing the porous material 61b) is finished to be a mirror surface. The support 23R is fixed to the Y table 20R so that the distance from the lower surface to the upper surface of the porous material 61b is 2 μm. As shown in the figure, the lower surface of the track 9Rb is arranged to be higher than the lower surface of the support 23R.

可動子10Rmと固定子10Rkとからなるリニアモータ10Rの固定子10Rkは軌道9Rbに平行になるようにしてC軸テーブル8Rの上面に配置されている。可動子10RmはYテーブル20Rの底面の固定子10Rkに対向する位置に配置されている。リニアモータ10RはYテーブル20Rを駆動する。なお、この実施例の場合、Yテーブル20R、20LのX方向の長さはTよりも若干長くなる。
以上の構成であるから、C軸テーブル8R、8Lが基準位置にあるとき、実施例1,2の場合と同様に、待機位置に位置決めしたYテーブル20R、20LのX座標を同一にして互いに対向させた場合の両者間の距離は2gである。そして、実施例1、2の場合と同様に、距離gをg=1〜10mmとすることが好ましい。
The stator 10Rk of the linear motor 10R including the mover 10Rm and the stator 10Rk is arranged on the upper surface of the C-axis table 8R so as to be parallel to the track 9Rb. The mover 10Rm is arranged at a position facing the stator 10Rk on the bottom surface of the Y table 20R. The linear motor 10R drives the Y table 20R. In this embodiment, the lengths of the Y tables 20R and 20L in the X direction are slightly longer than T.
Because of the above configuration, when the C-axis tables 8R and 8L are at the reference position, the Y-coordinates of the Y tables 20R and 20L positioned at the standby position are the same as each other, as in the first and second embodiments. The distance between the two is 2 g. And like the case of Example 1, 2, it is preferable that the distance g shall be 1-10 mm.

この実施例ではYテーブル20RとYテーブル20Lの軸受け9Ra1、9La1からオーバーハングする部分を静圧空気軸受け61により支持するように中空部61cに供給する圧縮空気の圧力及び流量を調整すると、露光位置におけるYテーブル20R、20Lの実質的なオーバーハング長さは(S/2−H/2)になる。したがって、本実施例では、露光時におけるYテーブル20R、20Lの自由端側のZ方向の変位を実施例1、2の場合に比べて小さくすることができる。そして、この実施例の場合も、待機位置におけるYテーブルRの右端は対称面Pから(S+g)の距離であるので、露光装置100の幅をワーク22の幅の約2倍にすることができる。また、Yテーブル20RとYテーブル20Rは互いに独立してワーク22の搬入装置と搬出装置に位置決めできるので、搬入装置と搬出装置を1組あるいは搬入兼搬出装置として1台にすることができる。なお、動作は実施例1と同じであるので、重複する説明を省略する。   In this embodiment, when the pressure and flow rate of the compressed air supplied to the hollow portion 61c are adjusted so that the portions overhanging the bearings 9Ra1 and 9La1 of the Y table 20R and the Y table 20L are supported by the static pressure air bearing 61, the exposure position The substantial overhang length of the Y tables 20R and 20L at (S / 2−H / 2). Therefore, in the present embodiment, the displacement in the Z direction on the free end side of the Y tables 20R and 20L at the time of exposure can be made smaller than in the first and second embodiments. Also in this embodiment, since the right end of the Y table R at the standby position is a distance (S + g) from the symmetry plane P, the width of the exposure apparatus 100 can be about twice the width of the workpiece 22. . Further, since the Y table 20R and the Y table 20R can be positioned independently of each other with respect to the loading device and the unloading device for the workpiece 22, the loading device and the unloading device can be set as one set or as a loading and unloading device. Since the operation is the same as that of the first embodiment, a duplicate description is omitted.

次に、本発明においてはYテーブル20Rが基本的に片持ち状態であるため、Z方向の変位(たわみ)が発生し得るが、その影響について説明する。
Yテーブル20RのXZ面における断面形状がY方向に関して一定であるとすると、Yテーブル20RにはY方向に関してYテーブル20Rの自重とワーク22の重量が等分布荷重として加わる。いま、「片持ち梁の自重によるたわみ」と仮定し、梁の長さをQ、梁左端のZ方向の変位(最大たわみ)をδとすると、下記式1で表される。
δ=(3ρQ)/(2hE) ・・・・(式1)
ここで、梁の密度をρ、ヤング率をE、Z方向の高さ(厚さ)をhとした。
鉄系ステンレスの場合、密度ρ=8000kg/m、ヤング率E=200GPaである。
Next, in the present invention, since the Y table 20R is basically in a cantilever state, displacement (deflection) in the Z direction may occur.
Assuming that the cross-sectional shape in the XZ plane of the Y table 20R is constant in the Y direction, the own weight of the Y table 20R and the weight of the work 22 are applied to the Y table 20R as equally distributed loads in the Y direction. Assuming that “deflection due to the weight of the cantilever beam”, assuming that the length of the beam is Q and the displacement (maximum deflection) in the Z direction of the left end of the beam is δ, the following equation 1 is obtained.
δ = (3ρQ 4 ) / (2h 2 E) (Equation 1)
Here, the density of the beam is ρ, the Young's modulus is E, and the height (thickness) in the Z direction is h.
In the case of iron-based stainless steel, density ρ = 8000 kg / m 3 and Young's modulus E = 200 GPa.

Yテーブル20Rの長さS×幅Tが600mm×500mmとし、材質を鉄系ステンレスとして、上記「片持ち梁の自重によるたわみ」モデルを用いて最大たわみδを検討する。
まず、実施例1又は2の場合軸受け9Ra1の対称面Pに近い側の端面9Ra1fが実質的な支持端(固定端)と考えられ、実質的な支持端の対称面Pからの距離G=gになる。従って、オーバーハング部分の長さはQ=S/2+G=S/2+g≦300+10=310mmであるから、厚さを14mm以上にすればδ<28μmとなり、光学エンジン31の焦点深度30μmよりも小さな値にすることができる。したがって、露光時にYテーブル20Rの左端が自由端であっても、鉄系ステンレスを用い、厚さを14mm以上にすることにより高精度の露光をすることができる。ここで、gを10mmを超えた値にすることは最大たわみを焦点深度内に抑えるためにテーブル厚さをさらに厚くしなければならないため、実用的でない。
The maximum deflection δ is examined using the above-mentioned “deflection due to the weight of the cantilever beam” model, where the length S × width T of the Y table 20R is 600 mm × 500 mm and the material is iron-based stainless steel.
First, in the case of Example 1 or 2, the end surface 9Ra1f on the side close to the symmetry plane P of the bearing 9Ra1 is considered to be a substantial support end (fixed end), and the distance G = g from the symmetry plane P of the substantial support end. become. Therefore, since the length of the overhang portion is Q = S / 2 + G = S / 2 + g ≦ 300 + 10 = 310 mm, if the thickness is 14 mm or more, δ <28 μm, which is smaller than the depth of focus of the optical engine 31 of 30 μm. Can be. Therefore, even when the left end of the Y table 20R is a free end during exposure, high-precision exposure can be performed by using iron-based stainless steel and having a thickness of 14 mm or more. Here, it is not practical to set g to a value exceeding 10 mm because the table thickness must be further increased in order to suppress the maximum deflection within the focal depth.

次に実施例3の場合ついて検討する。この場合実質的な支持端は静圧空気軸受の左端と考えられ、実質的な支持端の対称面Pからの距離G=−H/2になる。従って、静圧空気軸受け61の幅Hを100mmとするとオーバーハング部分の長さはQ=S/2+G=S/2−H/2=300−50=250mmであるから、厚さを9mm以上にすればδ<29μmになる。したがって、この場合はYテーブル20Rに鉄系ステンレスを用い、厚さを9mm以上にすることにより高精度の露光をすることができる。   Next, the case of Example 3 will be examined. In this case, the substantial support end is considered to be the left end of the hydrostatic air bearing, and the distance G from the symmetry plane P of the substantial support end is G = −H / 2. Accordingly, if the width H of the static pressure air bearing 61 is 100 mm, the length of the overhang portion is Q = S / 2 + G = S / 2−H / 2 = 300−50 = 250 mm, so the thickness is 9 mm or more. Then, δ <29 μm. Therefore, in this case, high precision exposure can be performed by using iron-based stainless steel for the Y table 20R and setting the thickness to 9 mm or more.

なお、本発明では、Yテーブル20RとYテーブル20LのZ方向の高さは同一であり、水平方向にも離れているので、Yテーブルの一方の駆動系等から発生する塵が他方のYテーブルの表面に付着することを予防できる。   In the present invention, the Y table 20R and the Y table 20L have the same height in the Z direction and are also separated in the horizontal direction, so that dust generated from one drive system or the like of the Y table is the other Y table. Can be prevented from adhering to the surface.

また、上記各実施例ではXテーブルとYテーブルの間にC軸テーブルを設けたが、C軸テーブルは設けなくてもよい。   In each of the above embodiments, the C-axis table is provided between the X table and the Y table, but the C-axis table may not be provided.

また、通常、露光装置では露光に最も時間を要するので、上記3つの実施例のようにワーク22の長い方をY方向にすることにより加工能率を向上させることができる。   In general, the exposure apparatus takes the longest time for exposure, so that the machining efficiency can be improved by making the longer one of the workpieces 22 in the Y direction as in the above three embodiments.

5L 第2のXテーブル
5R 第1のXテーブル
9R,9L 直線案内装置
9Ra,9La 軸受け
9Rb,9Lb 軌道
9Ra1f,9La1f 端面
9Ra2b,9La2b 端面
20R 第1のYテーブル
22 ワーク
31 光学エンジン
P 対称面
L 第2のXYテーブル
R 第1のXYテーブル
5L 2nd X table 5R 1st X table 9R, 9L Linear guide device 9Ra, 9La Bearing 9Rb, 9Lb Orbit 9Ra1f, 9La1f End face 9Ra2b, 9La2b End face 20R First Y table 22 Work 31 Optical engine P Symmetric plane P 2 XY tables R 1st XY table

Claims (3)

光を照射する光学エンジンとテーブル上に載置したワークとを相対的に移動させて前記ワークを露光する露光装置において、
前記光のY方向の照射幅が前記ワークのY方向の幅と同じである光学エンジンと、
前記光学エンジンのY方向の一方に配置され、前記Y方向と直角なX方向に移動自在の第1のXテーブルと、軌道と軸受けとからなる直線案内装置により前記第1のXテーブル上をY方向に移動自在な第1のYテーブルとからなり、該軸受けが該第1のYテーブルのY方向の長さの1/2未満を支持する第1のXYテーブルと、
前記光学エンジンのY方向の他方に配置され、前記光学エンジンのY方向に垂直な対称面に関して前記第1のXYテーブルと構成が対称である第2のXYテーブルと、
を設け、
前記第1のYテーブル又は前記第2のYテーブルを露光位置に位置決めしたときに前記第1のYテーブル又は前記第2のYテーブルを支持する、前記軸受け又は補助支持手段により決定される実質的な支持端が、前記対称面からの距離が+10mm以下に位置決めされるように配置する
ことを特徴とする露光装置。
In an exposure apparatus that exposes the work by relatively moving an optical engine that irradiates light and a work placed on a table,
An optical engine in which the irradiation width of the light in the Y direction is the same as the width of the workpiece in the Y direction;
The first X table is arranged on one side in the Y direction of the optical engine and can be moved in the X direction perpendicular to the Y direction, and a linear guide device comprising a track and a bearing on the first X table. A first Y table that is movable in a direction, and the bearing supports less than half of the length of the first Y table in the Y direction;
A second XY table arranged on the other side in the Y direction of the optical engine and symmetric with respect to the first XY table with respect to a plane of symmetry perpendicular to the Y direction of the optical engine;
Provided,
Substantially determined by the bearing or auxiliary support means for supporting the first Y table or the second Y table when the first Y table or the second Y table is positioned at the exposure position. An exposure apparatus, wherein the support end is positioned such that the distance from the symmetry plane is +10 mm or less.
前記第1のYテーブル又は前記第2のYテーブルを支持する、前記対称面に近い側の前記軸受けの前記対称面に近い側の端面を前記実質的な支持端とし、該実質的な支持端が前記対称面から+1〜+10mmの距離に位置決めされるように配置する
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
An end surface close to the symmetry plane of the bearing on the side close to the symmetry plane that supports the first Y table or the second Y table is defined as the substantial support end, and the substantial support end. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the exposure apparatus is arranged so as to be positioned at a distance of +1 to +10 mm from the symmetry plane.
前記補助支持手段を、前記光学エンジンのY方向に垂直な対称面を中心面とし、X方向の長さが前記第1のYテーブルと前記第2のYテーブルのX方向の移動範囲以上であるように設けた静圧空気軸受けとする、
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。

The auxiliary support means has a symmetry plane perpendicular to the Y direction of the optical engine as a center plane, and the length in the X direction is greater than or equal to the movement range in the X direction of the first Y table and the second Y table. The static pressure air bearing provided as
The exposure apparatus according to claim 1, wherein:

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013253270A (en) * 2012-06-05 2013-12-19 Sharp Corp Carbon dioxide reduction device

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