JP2012124534A - デュアルステージエリアリソグラフィ装置における位置測定システムの補正方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】可動ステージの位置を測定する位置測定システムは、基準プレートと、基準プレートに対する可動ステージの位置に応じて、複数のセンサの少なくともサブセットが基準プレートと協働して、基準プレートに対する個々のセンサの位置を表す個々のセンサ信号をサブセットの各センサに提供するように構成された複数のセンサと、センサ信号からステージ位置を割り出すプロセッサと、を含み、該プロセッシングデバイスは、基準プレートと動作協働しているセンサの少なくともサブセットによって、過剰に規定された数のセンサ信号が提供される位置にステージがある場合、(a)過剰に規定された数のセンサ信号のサブセットからステージの位置を割り出し、(b)割り出されたステージの位置と残りのセンサ信号との矛盾から1つ又は複数のセンサのセンサ信号を補正する。
【選択図】図2
Description
Claims (19)
- ステージシステムであって、
可動ステージと、
前記可動ステージの位置を測定する位置測定システムとを含み、該位置測定システムが、
基準プレートと、
複数のセンサであって、前記基準プレートに対する前記可動ステージの位置に応じて、前記複数のセンサの少なくともサブセットが前記基準プレートと協働して、前記基準プレートに対する前記個々のセンサの位置を表す個々のセンサ信号を提供する、複数センサと、
前記センサ信号からステージ位置を割り出すプロセッサであって、前記基準プレートと動作協働している前記センサの少なくとも前記サブセットによって、過剰に規定された数のセンサ信号が提供される位置に前記ステージがある場合、(a)前記過剰に規定された数のセンサ信号のサブセットから前記ステージの位置を割り出し、(b)前記割り出されたステージの位置と残りの前記センサ信号との矛盾から1つ又は複数の前記センサのセンサ信号を補正するプロセッサとを備える、
ステージシステム。 - 前記プロセッサが、前記矛盾から前記残りの前記複数のセンサの各センサ信号を補正する、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記プロセッサが、前記矛盾から過剰に規定されたセンサ信号の前記サブセットのセンサ信号を補正する、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記プロセッサが、前記プロセッサのメモリに記憶された前記可動ステージの幾何モデルを使用して、前記割り出されたステージ位置と前記残りの前記センサ信号との関係を割り出すことにより、及び前記関係から補正値を導き出すことにより、前記矛盾から前記複数のセンサのうち1つ又は複数を補正する、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記基準プレートが隣り合って配置された4枚の基準プレートを備える、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記複数のセンサが4つのセンサを備える、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記プロセッサが、少なくとも2回前記補正値を割り出し、その度に前記可動ステージが前記基準プレートに対して異なる位置にあり、前記プロセッサが、前記異なる位置にて割り出した前記補正値間の差から、前記基準プレートの膨張の推定値を割り出す、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記可動ステージがリソグラフィ装置の基板ステージである、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記可動ステージがリソグラフィ装置のパターニングデバイスステージである、請求項1に記載のステージシステム。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調節する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するパターニングデバイスサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムとを含み、
前記サポートの一方がステージシステムを備え、該ステージシステムが、
可動ステージと、
前記可動ステージの位置を測定する位置測定システムとを含み、該位置測定システムが、
基準プレートと、
複数のセンサであって、前記基準プレートに対する前記可動ステージの位置に応じて、前記複数のセンサの少なくともサブセットが、前記基準プレートと協働して、前記基準プレートに対する前記個々のセンサの位置を表す個々のセンサ信号を提供する、複数のセンサと、
前記センサ信号からステージ位置を割り出すプロセッサであって、前記基準プレートと動作協働している前記センサの少なくとも前記サブセットによって、過剰に規定された数のセンサ信号が提供される位置に前記ステージがある場合、(a)前記過剰に規定された数のセンサ信号のサブセットから前記ステージの位置を割り出し、(b)前記割り出されたステージの位置と残りの前記センサ信号との矛盾から1つ又は複数の前記センサのセンサ信号を補正するプロセッサとを備える、
リソグラフィ装置。 - 1つ又は複数のステージが露光エリアと測定エリアで移動可能となっているデュアルステージエリアを有するデュアルステージエリアリソグラフィ装置内で、前記ステージエリアそれぞれのステージ位置を測定する位置測定システムを補正する補正方法であって、
前記測定エリア内にステージを配置し、
第一位置測定値を取得するために、前記位置測定システムを使用して前記ステージの前記位置を測定し、
第一所定距離だけ前記ステージを変位させ、
第二位置測定値を取得するために、前記位置測定システムを使用して前記ステージの前記位置を測定し、
前記ステージを前記露光エリアに配置し、
第三位置測定値を取得するために、前記位置測定システムを使用して前記ステージの前記位置を測定し、
第二所定距離だけ前記ステージを変位させ、
第四位置測定値を取得するために、前記位置測定システムを使用して前記ステージの前記位置を測定し、
前記第一及び第二位置測定値と前記第一所定距離との差から、前記位置測定システムの測定エリア補正係数を割り出し、
前記第三及び第四位置測定値と前記第二所定距離との差から、前記位置測定システムの露光エリア補正係数を割り出し、
前記測定エリア補正係数及び前記露光エリア補正係数から倍率を割り出し、
前記倍率を使用して前記露光エリアの前記位置測定値と前記測定エリアの前記位置測定値とを関連させることを含む方法。 - 前記第二所定距離が、
前記ステージの第一TISセンサを使用して、前記ステージを配置し、
前記ステージの第二TISセンサを使用して、前記ステージを変位させて、前記ステージを配置することによって提供される、請求項11に記載の方法。 - 前記第一所定距離が、
前記ステージの第一アラインメントマークを使用して、前記ステージを配置し、
前記ステージの第二アラインメントマークを使用して、前記ステージを変位させて、前記ステージを配置することによって提供される、請求項11に記載の方法。 - 前記位置測定システムが、複数の基準プレート及び前記ステージに接続された複数のセンサを備え、前記センサが前記基準プレートと協働して前記センサそれぞれの位置信号を提供し、前記位置信号が前記基準プレートのうち1つに対する個々のセンサの位置を示す、請求項11に記載の方法。
- リソグラフィ装置で使用するステージシステムであって、
基準プレート上で動く可動ステージと、
前記基準プレートに対する前記可動ステージの位置に応じて、センサの少なくともサブセットが前記基準プレートと協働するように、前記可動ステージ上に構成された複数のセンサであって、前記サブセットにおける前記センサがそれぞれ、前記基準プレートに対する前記センサの位置を表すセンサ信号を提供する、センサと、
前記サブセットの前記センサ信号から前記可動ステージの位置を割り出すプロセッサを含み、
前記プロセッサが前記センサ信号の部分から前記可動ステージの位置を計算できるように、前記ステージが前記基準プレートに対して配置されている場合、前記計算器が、前記割り出されたステージ位置と残りの前記センサ信号に基づいて、前記センサの少なくとも1つのセンサ信号を補正する、ステージシステム。 - 前記基準プレートが隣り合って配置された4枚の基準プレートを備える、請求項15に記載のステージシステム。
- 前記複数のセンサが4つのセンサを備える、請求項15に記載のステージシステム。
- 前記可動ステージが前記リソグラフィ装置の基板ステージである、請求項15に記載のステージシステム。
- 前記可動ステージが前記リソグラフィ装置のパターニングデバイスステージである、請求項15に記載のステージシステム。
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