JP2012117033A - Liquid sealing material, and electronic component using the same - Google Patents

Liquid sealing material, and electronic component using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2012117033A
JP2012117033A JP2011120662A JP2011120662A JP2012117033A JP 2012117033 A JP2012117033 A JP 2012117033A JP 2011120662 A JP2011120662 A JP 2011120662A JP 2011120662 A JP2011120662 A JP 2011120662A JP 2012117033 A JP2012117033 A JP 2012117033A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sealing material
component
liquid sealing
coupling agent
silica filler
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011120662A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5651537B2 (en
Inventor
Toshio Kondo
寿夫 近藤
Kazuyuki Obara
和之 小原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Namics Corp
Original Assignee
Namics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Namics Corp filed Critical Namics Corp
Priority to JP2011120662A priority Critical patent/JP5651537B2/en
Publication of JP2012117033A publication Critical patent/JP2012117033A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5651537B2 publication Critical patent/JP5651537B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid sealing material excellent in injection property, adhesion, curability, storage stability or the like, not generating void, and further excellent in moisture resistance of a sealed portion, thermal cycle resistance, reflow resistance, crack resistance, warpage resistance or the like, and to provide an electronic component whose sealing portion is sealed by using the liquid sealing material.SOLUTION: This liquid sealing material contains (A) an epoxy resin, (B) an aromatic amine curing agent, (C) a metal complex, (D) a coupling agent and (E) a silica filler, wherein the (D) component coupling agent contains at least vinyltrimethoxysilane, and (E) component silica filler is previously surface-treated by a silane coupling agent.

Description

本発明は、アンダーフィルとして用いられる液状封止材に関する。また、本発明は、該液状封止材を用いて封止部位を封止してなる電子部品に関する。   The present invention relates to a liquid sealing material used as an underfill. Moreover, this invention relates to the electronic component formed by sealing a sealing part using this liquid sealing material.

電子機器の小型化、軽量化、高性能化に伴い半導体の実装形態がワイヤーボンド型からフリップチップ型へと変化してきている。
フリップチップ型の半導体装置は、バンプ電極を介して基板上の電極部と半導体素子とが接続された構造を持っている。この構造の半導体装置は、温度サイクル等の熱付加が加わった際に、エポキシ樹脂等の有機材料製の基板と、半導体素子と、の熱膨張係数の差によってバンプ電極に応力がかかり、バンプ電極にクラック等の不良が発生することが問題となっている。この不良発生を抑制するためにアンダーフィルと呼ばれる封止剤を用いて、半導体素子と基板との間のギャップを封止し、両者を互いに固定することによって、耐サーマルサイクル性を向上させることが広く行われている。
As electronic devices become smaller, lighter, and have higher performance, the semiconductor mounting form has changed from a wire bond type to a flip chip type.
A flip chip type semiconductor device has a structure in which an electrode portion on a substrate and a semiconductor element are connected via a bump electrode. In the semiconductor device having this structure, when heat application such as a temperature cycle is applied, a stress is applied to the bump electrode due to a difference in coefficient of thermal expansion between the substrate made of an organic material such as an epoxy resin and the semiconductor element. It is a problem that defects such as cracks occur. In order to suppress the occurrence of this defect, a sealing agent called underfill is used to seal the gap between the semiconductor element and the substrate and fix them together, thereby improving the thermal cycle resistance. Widely done.

アンダーフィルとして用いられる液状封止剤は、注入性、接着性、硬化性、保存安定性等に優れ、かつ、ボイドが発生しないことが求められる。また、液状封止材によって封止した部位が、耐湿性、耐サーマルサイクル性、耐リフロー、耐クラック性、耐反り等に優れることが求められる。   The liquid sealant used as the underfill is required to have excellent injectability, adhesiveness, curability, storage stability, and the like, and no voids are generated. Moreover, it is calculated | required that the site | part sealed with the liquid sealing material is excellent in moisture resistance, thermal cycle resistance, reflow resistance, crack resistance, warpage resistance, etc.

上記の要求を満足するため、アンダーフィルとして用いられる液状封止材としては、エポキシ樹脂を主剤とするものが広く用いられている(特許文献1〜5参照)。   In order to satisfy the above-described requirements, as a liquid sealing material used as an underfill, an epoxy resin-based material is widely used (see Patent Documents 1 to 5).

特開昭61−218624号公報Japanese Patent Laid-Open No. 61-218624 特開平8−104795号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-104795 特開2008−255178号公報JP 2008-255178 A 特開平11−315189号公報JP 11-315189 A 特開2003−268206号公報JP 2003-268206 A

液状封止材によって封止した部位の耐湿性および耐サーマルサイクル性、特に耐サーマルサイクル性を向上させるためには、シリカフィラーのような無機物質からなる充填材(以下、「フィラー」という。)を液状封止材に添加することにより、エポキシ樹脂等の有機材料製の基板と、半導体素子と、の熱膨張係数差のコントロールを行うことや、バンプ電極を補強することが有効であることが知られている。
特許文献1〜3に記載の発明では、封止した部位の耐湿性および耐サーマルサイクル性を向上させる目的で、シリカフィラーのようなフィラーを、これらの文献に記載のエポキシ樹脂組成物および液状樹脂封止材に添加することは記載も示唆もされていない。
特に、特許文献2には、以下に示すように、液状樹脂封止材へのシリカフィラーの添加について否定的な記載がなされている。
『また、一般に樹脂硬化物の耐熱性、耐湿性、電気特性を向上させるためには、その架橋密度を高くしてガラス転移温度(Tg )を高くすることが知られている。ところがこのような効果を期待して(Tg )を高くしすぎると、樹脂硬化物の弾性率を高くする結果となる。応力は一般に熱膨張率と弾性率との積に比例すると考えられているため、シリカ等の無機質充填材を添加して熱膨張係数を小さくできたとしても、結果的には応力歪みの低下につながらず、ストレスによる樹脂と基材(半導体チップやポリイミドテープ)との密着性の低下や、硬化物にクラックが発生する問題が生じていた。』
このため、特許文献1〜3に記載のエポキシ樹脂組成物および液状樹脂封止材をアンダーフィルとして使用した場合、液状封止材によって封止した部位の耐湿性および耐サーマルサイクル性、特に耐サーマルサイクル性に劣ると考えられる。
In order to improve the moisture resistance and thermal cycle resistance, particularly the thermal cycle resistance of the part sealed with the liquid sealing material, a filler made of an inorganic substance such as silica filler (hereinafter referred to as “filler”). It is effective to control the difference in thermal expansion coefficient between the substrate made of an organic material such as an epoxy resin and the semiconductor element or to reinforce the bump electrode by adding to the liquid sealing material. Are known.
In the inventions described in Patent Documents 1 to 3, for the purpose of improving the moisture resistance and thermal cycle resistance of the sealed portion, a filler such as a silica filler is used as an epoxy resin composition and a liquid resin described in these documents. It is neither described nor suggested to be added to the encapsulant.
In particular, Patent Document 2 discloses a negative description regarding addition of a silica filler to a liquid resin sealing material as described below.
[In general, it is known to increase the glass transition temperature (Tg) by increasing the crosslinking density in order to improve the heat resistance, moisture resistance and electrical properties of the cured resin. However, if such an effect is expected and (Tg) is increased too much, this results in an increase in the elastic modulus of the cured resin. Since stress is generally considered to be proportional to the product of the coefficient of thermal expansion and the elastic modulus, even if an inorganic filler such as silica is added to reduce the coefficient of thermal expansion, the result is a decrease in stress strain. In other words, there have been problems in that the adhesiveness between the resin and the base material (semiconductor chip or polyimide tape) is reduced due to stress, and cracks occur in the cured product. ]
For this reason, when the epoxy resin composition and the liquid resin sealing material described in Patent Documents 1 to 3 are used as an underfill, the moisture resistance and thermal cycle resistance of the part sealed with the liquid sealing material, particularly the thermal resistance It is thought that it is inferior in cycle property.

なお、特許文献2に記載の発明の場合、TAB(テープ・オートメーテッド・ボンディング)に使用される液状封止樹脂組成物とされており(同文献段落番号[0001]参照)、特許文献3に記載の発明の場合、COF(チップオンフィルム)型半導体封止用エポキシ樹脂組成物とされていることから(同文献の[要約]の[課題]、段落番号[0001]等参照)、封止した部位の耐サーマルサイクル性を向上させる目的で、シリカフィラーのようなフィラーを、液状樹脂封止樹脂組成物およびエポキシ樹脂組成物に添加する必要性は認識されていなかったものと考えられる。
TABやCOFの場合、柔軟性を有するフレキシブル配線基板を用いるため、温度サイクル等の熱付加が加わったとしても、基板と、半導体素子と、の熱膨張係数の差によってバンプ電極に応力がかかることはない。このため、TABやCOFの場合、シリカフィラーのようなフィラーを、液状樹脂封止樹脂組成物およびエポキシ樹脂組成物に添加し、バンプ電極を補強する必要がない。
In the case of the invention described in Patent Document 2, it is a liquid sealing resin composition used for TAB (Tape Automated Bonding) (see paragraph [0001] in the same document). In the case of the described invention, since it is a COF (chip-on-film) type epoxy resin composition for semiconductor encapsulation (see [Summary] [Problem], paragraph number [0001], etc.) of the same document], sealing It is considered that the necessity of adding a filler such as a silica filler to the liquid resin encapsulating resin composition and the epoxy resin composition was not recognized for the purpose of improving the thermal cycle resistance of the part.
In the case of TAB and COF, since a flexible wiring board having flexibility is used, even if heat application such as a temperature cycle is applied, stress is applied to the bump electrode due to the difference in thermal expansion coefficient between the substrate and the semiconductor element. There is no. For this reason, in the case of TAB and COF, it is not necessary to add a filler such as a silica filler to the liquid resin encapsulating resin composition and the epoxy resin composition to reinforce the bump electrode.

特許文献4に記載の発明は、エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含む半導体装置封止用樹脂組成物であって、該無機充填材が、その表面に水酸基を含有するシリカを含みかつその水酸基含有シリカにおいて、トリメトキシシランを脱アルコール反応させた時、その反応に関与するトリメトキシシランの量が0.05ミリモル/g以上であることを特徴とする半導体装置封止用樹脂組成物に関する。   The invention described in Patent Document 4 is a resin composition for sealing a semiconductor device containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, and the inorganic filler contains silica containing a hydroxyl group on the surface thereof, and In a hydroxyl group-containing silica, when trimethoxysilane is dealcoholized, the amount of trimethoxysilane involved in the reaction is 0.05 mmol / g or more. .

特許文献4では、エポキシ樹脂と硬化剤の硬化反応を促進するための硬化触媒を用いてもよいとされており、硬化触媒として、2−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−メチル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール化合物、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール,2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7,1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)ノネン−5などの3級アミン化合物、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラプロポキシド、テトラキス(アセチルアセトナト)ジルコニウム、トリ(アセチルアセトナト)アルミニウムなどの有機金属化合物及びトリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン、トリフェニルホスフィン・トリフェニルボラン、テトラフェニルホスフォニウム・テトラフェニルボレートなどの有機ホスフィン化合物が例示されている(同文献段落番号[0025])。   In Patent Document 4, it is said that a curing catalyst for accelerating the curing reaction between the epoxy resin and the curing agent may be used. As the curing catalyst, 2-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-methyl- Imidazole compounds such as 4-methylimidazole and 2-heptadecylimidazole, triethylamine, benzyldimethylamine, α-methylbenzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol , Tertiary amine compounds such as 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7,1,5-diazabicyclo (4,3,0) nonene-5, zirconium tetramethoxide, zirconium tetrapropoxide, tetrakis (Acetylacetonato) zirconium, tri (a Organometallic compounds such as tylacetonato) aluminum and triphenylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, tributylphosphine, tri (p-methylphenyl) phosphine, tri (nonylphenyl) phosphine, triphenylphosphine / triphenylborane, tetraphenylphosphorus Examples include organic phosphine compounds such as nium tetraphenylborate (paragraph number [0025] in the same document).

また、特許文献4には、封止用樹脂組成物の無機充填材は、必要に応じて、シラン系カップリング剤で表面処理を行うことができるとされており、シラン系カップリング剤として、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランが例示されている(同文献段落番号[0032]、[0033])。   Patent Document 4 states that the inorganic filler of the sealing resin composition can be subjected to surface treatment with a silane coupling agent as necessary. γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltridimethoxysilane, γ-methacryloxypropylsilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltri Examples include methoxysilane, methyltrimethoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, and vinyltrimethoxysilane (paragraph numbers [0032] and [0033] in the same document).

特許文献5に記載の発明は、エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)、充填材(C)、および、2−ジヒドロキシベンゼン、1,3−ジヒドロキシベンゼン、1,4−ジヒドロキシベンゼン、1,2,3−トリヒドロキシベンゼン、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン、3,4,5−トリヒドロキシベンゾイックアシッド、1,2,4−トリヒドロキシベンゼンを具体例とする特定の構造のベンゼン環化合物(D)を含有するエポキシ樹脂組成物であって、前記充填材(C)が該エポキシ樹脂組成物中に80重量%以上含有されていることを特徴とする精密部品用エポキシ樹脂組成物に関する。   The invention described in Patent Document 5 includes an epoxy resin (A), a curing agent (B), a filler (C), 2-dihydroxybenzene, 1,3-dihydroxybenzene, 1,4-dihydroxybenzene, 1, Benzene ring having a specific structure such as 2,3-trihydroxybenzene, 1,3,5-trihydroxybenzene, 3,4,5-trihydroxybenzoic acid, 1,2,4-trihydroxybenzene An epoxy resin composition containing a compound (D), wherein the filler (C) is contained in the epoxy resin composition in an amount of 80% by weight or more. .

特許文献5では、エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)の硬化反応を促進するため硬化触媒を用いても良いとされており、硬化触媒として、2−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール化合物、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7などの3級アミン化合物およびそれらの塩、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラプロポキシド、テトラキス(アセチルアセトナト)ジルコニウム、トリ(アセチルアセトナト)アルミニウムなどの有機金属化合物およびそれらの塩、およびトリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィンなどの有機ホスフィン化合物およびそれらの塩、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンとp−ベンゾキノンとの付加物などが例示されている(同文献段落番号[0014])。   In Patent Document 5, it is said that a curing catalyst may be used to accelerate the curing reaction between the epoxy resin (A) and the curing agent (B). As the curing catalyst, 2-methylimidazole and 2,4-dimethylimidazole are used. , Imidazole compounds such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, triethylamine, benzyldimethylamine, α-methylbenzylmethylamine, 2- ( Tertiary amine compounds such as dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 and salts thereof, zirconium tetramethoxide , Zirconium tetrapropoxide, tetrakis (a Organometallic compounds such as tylacetonato) zirconium and tri (acetylacetonato) aluminum and their salts, and triphenylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, tributylphosphine, tri (p-methylphenyl) phosphine, tri (nonylphenyl) phosphine Organic phosphine compounds and salts thereof, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 · tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium · tetraphenylborate, adducts of triphenylphosphine and p-benzoquinone, etc. Is exemplified (paragraph number [0014] in the same document).

また、特許文献5では、エポキシ樹脂組成物がカップリング剤を含んでいることが好ましいとされており、カップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、イソプロピルトリス(ジオクチルピロホスフェート)チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネートなどのチタネート系カップリング剤、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレートなどのアルミニウム系カップリング剤が例示されている。これらカップリング剤は、あらかじめ充填材に表面処理してもよいが、エポキシ樹脂組成物中に添加するだけでもかまわないとされている(同文献段落番号[0026]、[0027])。   In Patent Document 5, it is preferable that the epoxy resin composition contains a coupling agent. As the coupling agent, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldibenzoate are used. Ethoxysilane, N- (2-aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane Silane coupling agents such as N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, isopropyl Tris Le pyrophosphate) titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate coupling agents such as titanate, aluminum-based coupling agents such as acetoalkoxyaluminum diisopropylate is illustrated. These coupling agents may be surface-treated on the filler in advance, but may be added only to the epoxy resin composition (paragraph numbers [0026] and [0027] in the same document).

上述したように、封止した部位の耐湿性および耐サーマルサイクル性を向上させるためには、シリカフィラーのようなフィラーを液状封止材に添加することが有効である。
しかしながら、液状封止材にシリカフィラーのようなフィラーを添加すると、該液状封止材の注入性が低下する傾向がある。
近年、半導体装置における狭ギャップ化の進行により、アンダーフィルとして用いられる液状封止材には注入性の向上が強く求められている。
As described above, in order to improve the moisture resistance and thermal cycle resistance of the sealed portion, it is effective to add a filler such as a silica filler to the liquid sealing material.
However, when a filler such as a silica filler is added to the liquid sealing material, the injectability of the liquid sealing material tends to decrease.
In recent years, due to the progress of narrowing gaps in semiconductor devices, liquid sealing materials used as underfills are strongly required to have improved injectability.

本発明は上記した従来技術の問題点を解決するため、注入性、接着性、硬化性、保存安定性等に優れ、かつ、ボイドが発生することがなく、さらに、封止した部位の耐湿性、耐サーマルサイクル性、耐リフロー、耐クラック性、耐反り等に優れた液状封止材、および、液状封止材を用いて封止部位を封止してなる電子部品を提供することを目的とする。   In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, the present invention is excellent in injectability, adhesiveness, curability, storage stability, etc., does not generate voids, and further has moisture resistance at the sealed site. An object of the present invention is to provide a liquid sealing material excellent in thermal cycle resistance, reflow resistance, crack resistance, warpage resistance, and the like, and an electronic component in which a sealing portion is sealed using the liquid sealing material And

上記の目的を達成するため、本発明は、(A)エポキシ樹脂、(B)芳香族アミン硬化剤、(C)金属錯体、(D)カップリング剤、および、(E)シリカフィラーを含む液状封止材であって、前記(D)成分のカップリング剤が少なくともビニルトリメトキシシランを含有し、前記(E)成分のシリカフィラーがシランカップリング剤にて予め表面処理されていることを特徴とする液状封止材を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a liquid containing (A) an epoxy resin, (B) an aromatic amine curing agent, (C) a metal complex, (D) a coupling agent, and (E) a silica filler. A sealing material, wherein the coupling agent of component (D) contains at least vinyltrimethoxysilane, and the silica filler of component (E) is surface-treated with a silane coupling agent in advance. A liquid sealing material is provided.

本発明の液状封止材において、前記(E)成分のシリカフィラーが、トリメトキシシラン化合物およびトリエトキシシラン化合物のうち、少なくとも一方を含むシランカップリング剤にて予め表面処理されていることが好ましい。   In the liquid sealing material of the present invention, the silica filler as the component (E) is preferably surface-treated in advance with a silane coupling agent containing at least one of a trimethoxysilane compound and a triethoxysilane compound. .

本発明の液状封止材において、前記(E)成分のシリカフィラーが、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよび3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランのうち、少なくとも一方を含むシランカップリング剤にて予め表面処理されていることが好ましい。   In the liquid sealing material of the present invention, the silica filler as the component (E) is a silane coupling agent containing at least one of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane. It is preferable that the surface treatment is performed in advance.

本発明の液状封止材において、前記(E)成分のシリカフィラーの平均粒径が0.05〜10μmであることが好ましい。   In the liquid sealing material of the present invention, the silica filler as the component (E) preferably has an average particle size of 0.05 to 10 μm.

本発明の液状封止材において、前記(E)成分のシリカフィラーの含有量が40〜80wt%であることが好ましい。   In the liquid sealing material of the present invention, the content of the silica filler as the component (E) is preferably 40 to 80 wt%.

本発明の液状封止材において、前記(C)成分の金属錯体が、アルミニウムトリアセチルアセトネートおよびアルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネートからなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。   In the liquid sealing material of the present invention, the metal complex of the component (C) is preferably at least one selected from the group consisting of aluminum triacetylacetonate and aluminum bisethylacetoacetate / monoacetylacetonate.

本発明の液状封止材において、前記(B)成分の芳香族アミン硬化剤の割合が、前記(A)成分のエポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.7〜1.5当量であることが好ましい。   In the liquid sealing material of the present invention, the ratio of the aromatic amine curing agent of the component (B) is 0.7 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin of the component (A). It is preferable.

本発明の液状封止材において、前記(D)成分のカップリング剤としてのビニルトリメトキシシランの含有量が0.2〜2.0wt%であることが好ましい。   In the liquid sealing material of the present invention, the content of vinyltrimethoxysilane as the coupling agent of the component (D) is preferably 0.2 to 2.0 wt%.

また、本発明は、本発明の液状封止材を用いて封止部位を封止してなる電子部品を提供する。   Moreover, this invention provides the electronic component formed by sealing a sealing site | part using the liquid sealing material of this invention.

本発明の液状封止材は、注入性、接着性、硬化性、保存安定性等に優れ、かつ、ボイドを発生することがなく、さらに、封止した部位の耐湿性、耐サーマルサイクル性、耐リフロー、耐クラック性、耐反り等に優れている。
本発明の液状封止材は、(D)成分に含まれるビニルトリメトキシシランと、(C)成分の金属錯体と、の相互作用により、(A)成分のエポキシ樹脂の付加反応(硬化)を促進する触媒成分として作用することにより、液状封止材の硬化物表面に皺が発生する等の外観不良が生じるのを防止できる。
本発明の電気部品は、封止部の耐湿性に優れているため、配線間の絶縁劣化や回路短絡がない。また、封止部の耐サーマルサイクル性に優れているため、温度サイクル等の熱付加が加わることによって、エポキシ樹脂等の有機材料製の基板と、半導体素子と、の熱膨張係数の差によってバンプ電極に応力がかかり、バンプ電極にクラック等の不良が発生することがない。
The liquid sealing material of the present invention is excellent in injectability, adhesiveness, curability, storage stability and the like, and does not generate voids. Further, the moisture resistance of the sealed part, thermal cycle resistance, Excellent reflow resistance, crack resistance and warpage resistance.
The liquid encapsulant of the present invention has an addition reaction (curing) of the epoxy resin of component (A) by the interaction between vinyltrimethoxysilane contained in component (D) and the metal complex of component (C). By acting as a promoting catalyst component, it is possible to prevent appearance defects such as generation of wrinkles on the surface of the cured product of the liquid sealing material.
Since the electrical component of the present invention is excellent in the moisture resistance of the sealing portion, there is no insulation deterioration or short circuit between wirings. In addition, because of the excellent thermal cycle resistance of the sealing part, bumping is caused by the difference in thermal expansion coefficient between the substrate made of an organic material such as epoxy resin and the semiconductor element by adding heat such as temperature cycle. Stress is not applied to the electrodes, and defects such as cracks do not occur in the bump electrodes.

図1は、実施例1の液状封止材の硬化物の外観を示した写真である。FIG. 1 is a photograph showing the appearance of a cured product of the liquid sealing material of Example 1. 図2は、比較例2の液状封止材の硬化物の外観を示した写真である。FIG. 2 is a photograph showing the appearance of a cured product of the liquid sealing material of Comparative Example 2.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の液状封止材は、以下に示す(A)〜(E)成分を必須成分として含有する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The liquid sealing material of the present invention contains the following components (A) to (E) as essential components.

(A)成分:エポキシ樹脂
(A)成分のエポキシ樹脂は、本発明の液状封止材の主剤をなす成分である。
(A)成分のエポキシ樹脂は、常温で液状であることが好ましいが、常温で固体のものであっても、他の液状のエポキシ樹脂又は希釈剤により希釈し、液状を示すようにして用いることができる。
(A) Component: Epoxy Resin The epoxy resin (A) is a component that forms the main component of the liquid sealing material of the present invention.
The epoxy resin of component (A) is preferably liquid at normal temperature, but even if it is solid at normal temperature, it should be diluted with another liquid epoxy resin or diluent and used as a liquid. Can do.

具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノールFなどのグリシジルエーテルであるビスフェノール型エポキシ樹脂:ジグリシジルアニリン、ジグリシジルオルソトルイジン、パラアミノフェノール型エポキシ樹脂などの液状グリシジルアミン型エポキシ樹脂;(3’,4’−エポキシシクロヘキサン)メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、1−メチル−4−(2−メチルオキシラニル)−7−オキサビシクロ[4,1,0]ヘプタンなどの脂環型エポキシ樹脂;2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンジグリシジルエーテルなどの水添型エポキシ樹脂、1,3−ビス(3−グリシドキシプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンなどのエポキシ基を有するシクロヘキサンオリゴマー、ノボラック型エポキシ樹脂などが挙げられる。好ましいのは液状ビスフェノール型エポキシ樹脂、液状グリシジルアミン型エポキシ樹脂、エポキシ基を有するシクロヘキサンオリゴマーであり、特に好ましいのは液状ビスフェノールAエポキシ樹脂、液状ビスフェノールFエポキシ樹脂、液状パラアミノフェノール型エポキシ樹脂、1,3−ビス(3−グリシドキシプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、液状ビスフェノールAエポキシ樹脂の水素化物、(3’,4’−エポキシシクロヘキサン)メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、1,2:8,9−ジエポキシネンなどである。
(A)成分としてのエポキシ樹脂は、上述したエポキシ樹脂のうち、いずれか1種を使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
Specifically, bisphenol type epoxy resins that are glycidyl ethers such as bisphenol A and bisphenol F: liquid glycidyl amine type epoxy resins such as diglycidyl aniline, diglycidyl orthotoluidine, paraaminophenol type epoxy resin; (3 ′, 4 ′ An alicyclic epoxy resin such as -epoxycyclohexane) methyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate, 1-methyl-4- (2-methyloxiranyl) -7-oxabicyclo [4,1,0] heptane; Hydrogenated epoxy resins such as 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane diglycidyl ether, 1,3-bis (3-glycidoxypropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, etc. Cyclohexane oligomer having an epoxy group of Such as novolac type epoxy resin. Preferred are a liquid bisphenol type epoxy resin, a liquid glycidylamine type epoxy resin, and a cyclohexane oligomer having an epoxy group, and particularly preferred are a liquid bisphenol A epoxy resin, a liquid bisphenol F epoxy resin, a liquid paraaminophenol type epoxy resin, 3-bis (3-glycidoxypropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hydride of liquid bisphenol A epoxy resin, (3 ′, 4′-epoxycyclohexane) methyl-3,4- Examples thereof include epoxy cyclohexyl carboxylate and 1,2: 8,9-diepoxyne.
As the epoxy resin as the component (A), any one of the above-described epoxy resins may be used, or two or more may be used in combination.

(B)成分:芳香族アミン硬化剤
(B)成分の芳香族アミン硬化剤は、(A)成分のエポキシ樹脂の硬化剤である。
(B)成分の芳香族アミン硬化剤は、常温で液状であることが好ましいが、常温で固体のものであってもよい。常温で固体の場合は、加熱して液状化してから(A)成分のエポキシ樹脂と混合することが好ましい。
(B) Component: Aromatic amine curing agent The (A) component aromatic amine curing agent is a curing agent for the (A) component epoxy resin.
The aromatic amine curing agent as component (B) is preferably liquid at normal temperature, but may be solid at normal temperature. When it is solid at room temperature, it is preferably mixed with the epoxy resin of component (A) after being liquefied by heating.

(B)成分の芳香族アミン硬化剤は、アルキレンジアニリン構造を有する芳香族アミンであることが好ましく、芳香環に少なくとも一つの置換基を有する芳香族アミンであることが好ましい。置換基はメチル基、エチル基などの低級アルキル基、メトキシ基などの低級アルコキシ基であることが好ましい。(B)成分の芳香族アミン硬化剤(B)は、それを合成する際に副生するオリゴマーなどを含有していても差支えない。(B)成分の芳香族アミン硬化剤は単独使用でも複数を併用することもできる。勿論、(B)成分の芳香族アミン硬化剤の特性を損なわない限り、その他のアミン硬化剤を併用することができる。   The aromatic amine curing agent as component (B) is preferably an aromatic amine having an alkylenedianiline structure, and is preferably an aromatic amine having at least one substituent on the aromatic ring. The substituent is preferably a lower alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, or a lower alkoxy group such as a methoxy group. The aromatic amine curing agent (B) as the component (B) may contain an oligomer generated as a by-product when it is synthesized. The aromatic amine curing agent (B) can be used alone or in combination. Of course, other amine curing agents can be used in combination as long as the properties of the aromatic amine curing agent of component (B) are not impaired.

(B)成分の芳香族アミン硬化剤は、具体的には、メタフェニレンジアミン、1,3−ジアミノトルエン、1,4−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノトルエン、3,5−ジエチル−2,4−ジアミノトルエン、3,5−ジエチル−2,6−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノアニソールなどの芳香環1個の芳香族アミン硬化剤;2,4−ジアミノジフェニルメタン、4,4−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−メチレンビス(2−エチルアニリン)、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノフェニルメタン、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノフェニルメタン、3,3’,5,5’−テトラエチル−4,4’−ジアミノフェニルメタンなどの芳香環2個の芳香族アミン硬化剤;該芳香族アミン硬化剤の加水分解縮合物;ポリテトラメチレンオキシドジ−p−アミノ安息香酸エステル、ポリテトラメチレンオキシドジパラアミノベンゾエートなどの芳香族アミン硬化剤;芳香族ジアミンとエピクロロヒドリンとの縮合物や芳香族ジアミンとスチレンとの反応生成物などが挙げられる。   Specific examples of the aromatic amine curing agent (B) include metaphenylenediamine, 1,3-diaminotoluene, 1,4-diaminotoluene, 2,4-diaminotoluene, 3,5-diethyl-2, Aromatic amine curing agent having one aromatic ring such as 4-diaminotoluene, 3,5-diethyl-2,6-diaminotoluene, 2,4-diaminoanisole; 2,4-diaminodiphenylmethane, 4,4-diaminodiphenyl Sulfone, 4,4-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-methylenebis (2-ethylaniline), 3,3′-diethyl-4,4′-diaminophenylmethane, 3,3 ′, 5,5′-tetra Aroma of two aromatic rings such as methyl-4,4′-diaminophenylmethane, 3,3 ′, 5,5′-tetraethyl-4,4′-diaminophenylmethane Amine curing agent; hydrolysis condensate of the aromatic amine curing agent; aromatic amine curing agent such as polytetramethylene oxide di-p-aminobenzoate, polytetramethylene oxide diparaaminobenzoate; aromatic diamine and epichloro Examples thereof include condensates with hydrin and reaction products of aromatic diamines and styrene.

好ましいのは、アルキレンジアニリン構造を有する芳香族アミンであり、特に好ましいのは反応性などの点から液状の4,4’−メチレンビス(2−エチルアニリン)である。
また、粘度が低い液状封止材を得ることができることから、3,5−ジエチル−2,4−ジアミノトルエン、3,5−ジエチル−2,6−ジアミノトルエンの併用が好ましい。
Preferred is an aromatic amine having an alkylenedianiline structure, and particularly preferred is liquid 4,4′-methylenebis (2-ethylaniline) from the viewpoint of reactivity.
Moreover, since a liquid sealing material with a low viscosity can be obtained, the combined use of 3,5-diethyl-2,4-diaminotoluene and 3,5-diethyl-2,6-diaminotoluene is preferable.

(B)成分の芳香族アミン硬化剤は、そのアミノ基がエポキシ樹脂(A)のエポキシ基1当量に対し0.7〜1.5当量、好ましくは0.8〜1.2当量の割合になるように配合される。上記範囲外であると、液状封止材の半導体素子に対する接着強度の低下やガラス転移点の低下などの問題が起きることがある。   The aromatic amine curing agent of the component (B) has a ratio of 0.7 to 1.5 equivalents, preferably 0.8 to 1.2 equivalents, based on 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin (A). It mix | blends so that it may become. If it is outside the above range, problems such as a decrease in the adhesive strength of the liquid sealing material to the semiconductor element and a decrease in the glass transition point may occur.

(C)成分:金属錯体
(C)成分の金属錯体は、(A)成分のエポキシ樹脂の硬化を、(D)成分のカップリング剤と協同して促進する触媒成分である。(C)成分の金属錯体は、硬化促進作用を有するものであれば特に限定されないが、所望の加熱温度における硬化促進作用を発現し、保存安定性が良好で、ポットライフ性にも優れるものが好ましい。
金属としてはアルミニウム、鉄、亜鉛、インジウム、マグネシウム等が挙げられるが、アルミニウムが好ましい。
配位子としては、アセチルアセトナート、ピリジン、トリフェニルホスフィン、エチレンジアミン、エチレンジアミン四酢酸などが挙げられるが、アセチルアセトナートが好ましい。特に好ましいのはアルミニウムのアセチルアセトナート錯体である。
勿論、(C)成分の金属錯体を二種以上併用することもできる。また、(C)成分の金属錯体の特性を損なわない限り、その他の金属錯体を併用することもできる。
(C) Component: Metal Complex The metal complex of the (C) component is a catalyst component that promotes the curing of the epoxy resin of the (A) component in cooperation with the coupling agent of the (D) component. The metal complex of component (C) is not particularly limited as long as it has a curing accelerating action, but it exhibits a curing accelerating action at a desired heating temperature, has good storage stability, and has excellent pot life. preferable.
Examples of the metal include aluminum, iron, zinc, indium, and magnesium, and aluminum is preferable.
Examples of the ligand include acetylacetonate, pyridine, triphenylphosphine, ethylenediamine, and ethylenediaminetetraacetic acid. Acetylacetonate is preferable. Particularly preferred is an acetylacetonate complex of aluminum.
Of course, two or more metal complexes of the component (C) can be used in combination. In addition, other metal complexes can be used in combination as long as the characteristics of the metal complex of component (C) are not impaired.

アルミニウムのアセチルアセトナート錯体としては、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムトリス(オクタデシルアセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(ヘキサデシルアセチルアセトネート)、アルミニウムエチルアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネートなどが挙げられるが、硬化性、保存安定性などの点からアルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネートが好ましい。勿論、これらの二種以上を併用することもできる。   Aluminum acetylacetonate complexes include aluminum trisacetylacetonate, aluminum tris (octadecylacetylacetonate), aluminum tris (hexadecylacetylacetonate), aluminum ethylacetylacetonate, aluminum bisethylacetoacetate monoacetylacetonate However, aluminum trisacetylacetonate and aluminum bisethylacetoacetate / monoacetylacetonate are preferable from the viewpoints of curability and storage stability. Of course, two or more of these may be used in combination.

(C)成分の金属錯体は、(D)成分のカップリング剤と協同して触媒作用をすることから、その配合量を一義的に決めることができないが、(C)成分の金属錯体(C)の配合量の目安は、(A)成分のエポキシ樹脂と(B)成分の芳香族アミン硬化剤の合計量100質量部に対し0.1〜2質量部であり、好ましくは0.2〜1.8質量部である。該範囲より少ないと、液状封止材が硬化性に劣るおそれがあり、該範囲より多いと液状封止材の保存安定性が悪化するおそれがある。   Since the metal complex of the component (C) acts as a catalyst in cooperation with the coupling agent of the component (D), the compounding amount cannot be uniquely determined, but the metal complex of the component (C) (C )) Is 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.2 to 0.2 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin as the component (A) and the aromatic amine curing agent as the component (B). 1.8 parts by mass. If it is less than this range, the liquid encapsulant may be inferior in curability, and if it is more than this range, the storage stability of the liquid encapsulant may be deteriorated.

(D)成分:カップリング剤
(D)成分のカップリング剤は、(B)成分の芳香族アミン硬化剤による、(A)成分のエポキシ樹脂の付加反応(硬化)を促進する触媒成分として、(C)成分の金属錯体と協同して作用する。
(D)成分のカップリング剤の具体例としては、後述するシランカップリング剤や下記構造式で表されるケイ素化合物が挙げられる。
上記構造式中、Rは炭素数1〜10の直鎖状または分岐状のアルキル基であり、R′は炭素数1〜2のアルキル基であり、nは1〜3の整数である。
(D) Component: Coupling agent The coupling agent of (D) component is a catalyst component that promotes the addition reaction (curing) of the epoxy resin of (A) component by the aromatic amine curing agent of (B) component, It works in cooperation with the metal complex of component (C).
Specific examples of the coupling agent (D) include a silane coupling agent described later and a silicon compound represented by the following structural formula.
In the above structural formula, R is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 'is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 3.

シランカップリング剤としては、ビニル系、グリシドキシ系、メタクリル系、アミノ系、メルカプト系などがあるが、ビニルシランカップリング剤が、他のシランカップリング剤に比べ、(C)成分の金属錯体と組合せた場合、液状封止材の硬化物の膨れなどの外観不良を起こさないので好ましい。   Silane coupling agents include vinyl, glycidoxy, methacrylic, amino, mercapto, etc., but vinyl silane coupling agents are combined with (C) component metal complexes compared to other silane coupling agents. Is preferable because it does not cause appearance defects such as swelling of the cured liquid sealing material.

ビニルシランカップリング剤としては、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどが挙げられるが、特に好ましいのはビニルトリメトキシシランである。これらは併用することができる。   Examples of the vinyl silane coupling agent include vinyl tris (β-methoxyethoxy) silane, vinyl trimethoxy silane, vinyl triethoxy silane, and the like, with vinyl trimethoxy silane being particularly preferred. These can be used in combination.

グリシドキシシランカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。好ましいのは3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランである。   Examples of the glycidoxysilane coupling agent include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane. Preference is given to 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane.

アミノシランカップリング剤としては、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリメトキシシリル)−1−プロピルアミン、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−2−(トリメトキシシリル)−1−プロピルアミン、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリエトキシシリル)−1−プロピルアミン、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−2−(トリエトキシシリル)−1−プロピルアミンなど、および、それらの加水分解縮合物が挙げられる。好ましいのはN−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリエトキシシリル)−1−プロピルアミンなどである。   As aminosilane coupling agents, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ -Aminopropyltrimethoxysilane, N- (1,3-dimethylbutylidene) -3- (trimethoxysilyl) -1-propylamine, N- (1,3-dimethylbutylidene) -2- (trimethoxysilyl) ) -1-propylamine, N- (1,3-dimethylbutylidene) -3- (triethoxysilyl) -1-propylamine, N- (1,3-dimethylbutylidene) -2- (triethoxysilyl) ) -1-propylamine and the like, and their hydrolysis condensates. Preferred is N- (1,3-dimethylbutylidene) -3- (triethoxysilyl) -1-propylamine.

メルカプトシランカップリング剤としては、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン等が好ましい。   As the mercaptosilane coupling agent, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane and the like are preferable.

上記構造式で表されるケイ素化合物としては、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、ジフェニルメチルメトキシシランなどのモノアルコキシシラン;ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジアルコキシシラン;トリ(パラメトキシフェニル)シラン、パラメチルベンジルトリメトキシシランなどのトリアルコキシシランなどである。好ましいのはジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジアルコキシシランである。これらは併用することができる。また、これらのケイ素化合物は、上述したシランカップリング剤と併用することもできる。   Examples of the silicon compound represented by the above structural formula include monoalkoxysilanes such as triphenylmethoxysilane, triphenylethoxysilane, and diphenylmethylmethoxysilane; dialkoxysilanes such as diphenyldimethoxysilane and diphenyldiethoxysilane; tri (paramethoxy) Phenyl) silane, trialkoxysilane such as paramethylbenzyltrimethoxysilane. Preferred are dialkoxysilanes such as diphenyldimethoxysilane and diphenyldiethoxysilane. These can be used in combination. These silicon compounds can also be used in combination with the silane coupling agent described above.

(D)成分のカップリング剤として、上述したシランカップリング剤、および、上記構造式で表わされるケイ素化合物のうちの1種、または、2種以上を用いることができる。但し、硬化物の表面での皺発生防止等の理由から、(D)成分のカップリング剤は、少なくともビニルトリメトシキシランを含有する。
(D)成分のカップリング剤が、少なくともビニルトリメトシキシランを含有することにより、硬化物の表面での皺発生を防止できる理由を以下に説明する。
(D) As a coupling agent of a component, 1 type in the silane coupling agent mentioned above and the silicon compound represented by the said structural formula, or 2 or more types can be used. However, for reasons such as prevention of wrinkles on the surface of the cured product, the coupling agent of component (D) contains at least vinyltrimethoxysilane.
The reason why the generation of wrinkles on the surface of the cured product can be prevented by the fact that the coupling agent of component (D) contains at least vinyltrimethoxysilane will be described below.

本発明の液状封止材のように、エポキシ樹脂の硬化剤として、芳香族アミン硬化剤を使用する場合、酸がエポキシ樹脂の付加反応(硬化)を促進する触媒成分として作用する。
しかしながら、液状封止材に酸を含有させると、液状封止材の保存安定性が悪化するため、液状封止材を加熱した際に酸を発生し、硬化促進作用を発現する潜在性硬化触媒が好ましく使用される。
このような潜在性硬化触媒としては、シランカップリング剤と、金属錯体と、の組み合わせが、所望の加熱温度で酸を発生し、硬化促進作用を発現するので好ましく用いられる。
When an aromatic amine curing agent is used as the epoxy resin curing agent as in the liquid sealing material of the present invention, the acid acts as a catalyst component for promoting the addition reaction (curing) of the epoxy resin.
However, if an acid is contained in the liquid sealing material, the storage stability of the liquid sealing material is deteriorated. Therefore, a latent curing catalyst that generates an acid when the liquid sealing material is heated and develops a curing acceleration effect. Are preferably used.
As such a latent curing catalyst, a combination of a silane coupling agent and a metal complex is preferably used because it generates an acid at a desired heating temperature and exhibits a curing accelerating action.

潜在性硬化触媒として、シランカップリング剤と、金属錯体と、の組み合わせを使用する場合、液状封止材を加熱した際、雰囲気中の水分によってシランカップリング剤が加水分解が進行し、それによって生じたブレンステッド酸が硬化促進作用を発現する。
シランカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルメトキシシランが、エポキシ樹脂との親和性を有することから通常用いられるが、加水分解速度が比較的遅いため、液状封止材の表層と、内部で、は加水分解速度に差が生じる。具体的には、液状封止材の表層のほうが、該液状封止材の内部よりも加水分解速度が速い。この結果、エポキシ樹脂の硬化も、液状封止材の内部よりも表層のほうが速く進行し、エポキシ樹脂の硬化時には収縮反応を伴うため、液状封止材の硬化物表面に皺が発生することとなる。
When a combination of a silane coupling agent and a metal complex is used as the latent curing catalyst, when the liquid sealing material is heated, the hydrolysis of the silane coupling agent proceeds due to moisture in the atmosphere. The resulting Bronsted acid exhibits a curing accelerating action.
As the silane coupling agent, 3-glycidoxypropylmethoxysilane is usually used because it has an affinity with the epoxy resin, but since the hydrolysis rate is relatively slow, the surface layer of the liquid sealing material and the internal However, there is a difference in the hydrolysis rate. Specifically, the surface layer of the liquid sealing material has a faster hydrolysis rate than the inside of the liquid sealing material. As a result, the curing of the epoxy resin proceeds faster in the surface layer than the inside of the liquid sealing material, and a shrinkage reaction occurs when the epoxy resin is cured, so that wrinkles are generated on the surface of the cured liquid sealing material. Become.

一方、ビニルトリメトキシシランは、加水分解しやすいため、液状封止材の表層と、内部と、の加水分解速度の差がないか、差があってもその差がきわめて小さい。この結果、液状封止材の内部と、表層と、でエポキシ樹脂の硬化の進行に差が生じることがなく、液状封止材の硬化物表面に皺が発生することがない。   On the other hand, since vinyltrimethoxysilane is easily hydrolyzed, there is no difference in the hydrolysis rate between the surface layer of the liquid sealing material and the inside, or even if there is a difference, the difference is very small. As a result, there is no difference in the progress of curing of the epoxy resin between the inside of the liquid sealing material and the surface layer, and wrinkles are not generated on the surface of the cured product of the liquid sealing material.

特許文献4には、封止用樹脂組成物の無機充填材は、必要に応じて、シラン系カップリング剤で表面処理を行うことができるとされているが、これは本発明の液状封止材の(E)成分と同様の目的での使用であり、エポキシ樹脂の潜在性硬化触媒成分として、シランカップリング剤を使用することは記載も示唆もされていない。
この点については、特許文献4の段落番号[0007]〜[0011]、および、[0034]には、封止用樹脂組成物中に未反応のシラン系カップリング剤が存在すると、大気中の水分とシラン系カップリング剤とが反応してアルコールが発生し、このアルコールがボイドやクラックの原因となると記載されていることからも明らかである。
なお、本願発明の液状封止材では、(C)成分の金属錯体と、(D)成分のカップリング剤と、を組み合わせて、エポキシ樹脂の潜在性硬化触媒として使用するため、特許文献4の段落番号[0007]〜[0011]、および、[0034]に記載されているような問題を生じることがない。
In Patent Document 4, it is said that the inorganic filler of the sealing resin composition can be surface-treated with a silane coupling agent as necessary, but this is the liquid sealing of the present invention. It is used for the same purpose as the component (E) of the material, and there is no description or suggestion that a silane coupling agent is used as the latent curing catalyst component of the epoxy resin.
In this regard, in paragraph numbers [0007] to [0011] and [0034] of Patent Document 4, when an unreacted silane coupling agent is present in the sealing resin composition, It is also clear from the description that the alcohol reacts with the moisture and the silane coupling agent, and this alcohol causes voids and cracks.
In addition, in the liquid sealing material of the present invention, since the (C) component metal complex and the (D) component coupling agent are used in combination as a latent curing catalyst for epoxy resin, The problems described in paragraph numbers [0007] to [0011] and [0034] do not occur.

特許文献5についても、エポキシ樹脂組成物がカップリング剤を含んでいることが好ましいとされているが、本発明の液状封止材の(E)成分と同様の目的での使用、すなわち、充填材を表面処理する目的での使用である。特許文献5の段落番号[0027]には、カップリング剤は、エポキシ樹脂組成物中に添加するだけでもかまわないと記載されているが、充填材を表面処理する目的での使用である。この点については、カップリング剤と、金属錯体と、を組み合わせて、エポキシ樹脂の潜在性硬化触媒として使用することが全く記載されていないことや、充填剤をカップリング剤であらかじめ表面処理したうえで、ささらにエポキシ樹脂組成物中にカップリング剤を添加するとは記載されていないことからも明らかである。   Also for Patent Document 5, although it is said that the epoxy resin composition preferably contains a coupling agent, it is used for the same purpose as the component (E) of the liquid sealing material of the present invention, ie, filling. It is used for the purpose of surface treatment of materials. In paragraph [0027] of Patent Document 5, it is described that the coupling agent may be added to the epoxy resin composition, but it is used for the purpose of surface treatment of the filler. In this regard, it is not described at all that a coupling agent and a metal complex are used as a latent curing catalyst for an epoxy resin, or the filler is surface-treated with a coupling agent in advance. Further, it is also clear from the fact that no coupling agent is added to the epoxy resin composition.

本発明の液状封止材において、(D)成分のカップリング剤としてのビニルトリメトシキシランの含有量は、0.2〜2.0wt%であることが好ましく、0.3〜1.5wt%であることがより好ましく、0.5〜1.0wt%であることがさらに好ましい。
ビニルトリメトシキシランの含有量が0.2wt%未満だと、硬化物の表面に皺が発生するおそれがある。一方、ビニルトリメトシキシランの含有量が2.0wt%超だと、硬化時においてボイドが発生するおそれがある。
なお、(D)成分のカップリング剤自体の配合割合の好適範囲については後述する。
In the liquid sealing material of the present invention, the content of vinyltrimethoxysilane as the coupling agent of the component (D) is preferably 0.2 to 2.0 wt%, and 0.3 to 1.5 wt%. It is more preferable that it is 0.5 to 1.0 wt%.
If the content of vinyltrimethoxysilane is less than 0.2 wt%, wrinkles may occur on the surface of the cured product. On the other hand, if the content of vinyltrimethoxysilane exceeds 2.0 wt%, voids may occur during curing.
In addition, the suitable range of the mixture ratio of (D) component coupling agent itself is mentioned later.

(D)成分のカップリング剤は、(D)成分の金属錯体と協同して触媒作用をすることから、その配合量を一義的に決めることができないが、(D)成分のカップリング剤の配合割合の目安は、(A)成分のエポキシ樹脂と(B)成分の芳香族アミン硬化剤の合計量100質量部に対し、0.5〜4質量部であることが好ましく、より好ましくは0.8〜3質量部である。該範囲より少ないと、液状封止材が硬化性に劣るおそれがあり、該範囲より多いと液状封止材の保存安定性が悪化するおそれがある。   Since the coupling agent of component (D) catalyzes in cooperation with the metal complex of component (D), its amount cannot be determined uniquely, but the coupling agent of component (D) The standard of the blending ratio is preferably 0.5 to 4 parts by mass, more preferably 0 with respect to 100 parts by mass of the total amount of the epoxy resin of component (A) and the aromatic amine curing agent of component (B). .8-3 parts by mass. If it is less than this range, the liquid encapsulant may be inferior in curability, and if it is more than this range, the storage stability of the liquid encapsulant may be deteriorated.

(E)成分:シリカフィラー
(E)成分のシリカフィラーは、封止した部位の耐湿性および耐サーマルサイクル性、特に耐サーマルサイクル性を向上させる目的で液状封止材に添加される。
しかしながら、上述したように、液状封止材にシリカフィラーのようなフィラーを添加すると、該液状封止材の注入性が低下する傾向がある。
本発明の液状封止材では、(E)成分のシリカフィラーとして、シランカップリング剤で予め表面処理されたものを用いることで、液状封止材の注入性を低下させることなしに、封止した部位の耐湿性および耐サーマルサイクル性、特に耐サーマルサイクル性を向上させる。
(E) Component: Silica Filler The silica filler of the (E) component is added to the liquid sealing material for the purpose of improving the moisture resistance and thermal cycle resistance of the sealed site, particularly the thermal cycle resistance.
However, as described above, when a filler such as a silica filler is added to the liquid sealing material, the injectability of the liquid sealing material tends to decrease.
In the liquid sealing material of the present invention, the silica filler of the component (E) is sealed without reducing the pouring property of the liquid sealing material by using a surface treated with a silane coupling agent in advance. Improve the moisture resistance and thermal cycle resistance, especially thermal cycle resistance of the affected part.

シリカフィラーの表面処理には、ビニル系、グリシドキシ系、メタクリル系、アミノ系、メルカプト系などの各種シランカップリング剤を用いることができる。シリカフィラーの表面処理に用いるシランカップリング剤は、トリメトキシシラン化合物およびトリエトキシシラン化合物のうち、少なくとも一方を含むことが液状封止材の注入性の低下を抑制する効果に優れることから好ましい。また、シリカフィラーの分散安定性に優れ、液状封止剤の保存安定性の点からも好ましい。
なお、シリカフィラーの表面処理に用いるシランカップリング剤は、トリメトキシシラン化合物およびトリエトキシシラン化合物のうち一方のみ含有してもよく、これらの両方を含有してもよい。トリメトキシシラン化合物およびトリエトキシシラン化合物の具体例については後述する。
For the surface treatment of the silica filler, various silane coupling agents such as vinyl, glycidoxy, methacryl, amino and mercapto can be used. The silane coupling agent used for the surface treatment of the silica filler preferably contains at least one of a trimethoxysilane compound and a triethoxysilane compound because it is excellent in the effect of suppressing the deterioration of the injection property of the liquid sealing material. Moreover, it is excellent also in the dispersion stability of a silica filler, and is preferable also from the point of the storage stability of a liquid sealing agent.
In addition, the silane coupling agent used for the surface treatment of the silica filler may contain only one of the trimethoxysilane compound and the triethoxysilane compound, or may contain both of them. Specific examples of the trimethoxysilane compound and the triethoxysilane compound will be described later.

トリメトキシシラン化合物の具体例としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシランが例示される。
トリエトキシシラン化合物の具体例としては、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリエトキシシリル)−1−プロピルアミン、ビニルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシランが例示される。
これらの中でも、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよび3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが、液状封止材の注入性の低下を抑制する効果、および、保存安定性に優れることから好ましい。
Specific examples of the trimethoxysilane compound include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, and 3-aminopropyl. Examples include trimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxylane.
Specific examples of the triethoxysilane compound include N- (1,3-dimethylbutylidene) -3- (triethoxysilyl) -1-propylamine, vinyltriethoxysilane, and 3-aminopropyltriethoxysilane. The
Among these, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane are preferable because they are excellent in the effect of suppressing a decrease in injectability of the liquid sealing material and in storage stability.

シランカップリング剤によって、シリカフィラーを表面処理する方法は特に限定されず、例えば、撹拌法や湿式法等により実施することができる。
撹拌法は、予めシランカップリング剤とシリカフィラーとを撹拌装置に仕込み、適切な条件で撹拌する方法である、上記撹拌装置としては、ヘンシェルミキサー等の高速回転で撹拌・混合が可能なミキサーを用いることができるが、特に限定されるものではない。撹拌の条件も特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、シリカフィラーをヘンシェルミキサーに仕込み、1000rpmで3分間予備混合した後、シランカップリング剤を滴下し、さらに1000rpmで5分間本混合する条件を挙げることができる。なお、上記予備混合および本混合の回転速度や混合時間は、用いるシランカップリング剤の種類や、シリカフィラーおよびシランカップリング剤の配合内容や配合量により適切な条件を選択すればよい。
湿式法は、表面処理しようとするシリカフィラーの表面積に対して十分な量のシランカップリング剤を水または有機溶剤に溶解して、シランカップリング剤をなす化合物の分子を加水分解させることにより、表面処理溶液とする。この表面処理溶液の濃度は特に限定されるものではないが、例えば、約3質量%を挙げることができる。得られた表面処理溶液に対してシリカフィラーを添加し、スラリー状となるように撹拌する。撹拌によってシランカップリング剤およびシリカフィラーを十分反応させた後、濾過や遠心分離等の方法によりシリカフィラーを表面処理溶液から分離し、加熱乾燥する。
なお、上記撹拌法や湿式法以外にも、例えば、シリカフィラーを溶媒中に分散させてなるシリカフィラー分散液に直接シランカップリング剤を添加し、シリカフィラーの表面を改質するインテグラルブレンド法も好適に用いることができる。
The method for surface-treating the silica filler with a silane coupling agent is not particularly limited, and can be carried out by, for example, a stirring method or a wet method.
The stirring method is a method in which a silane coupling agent and a silica filler are previously charged in a stirring device and stirred under appropriate conditions. As the stirring device, a mixer capable of stirring and mixing at high speed such as a Henschel mixer is used. Although it can be used, it is not particularly limited. Stirring conditions are not particularly limited. Specifically, for example, silica filler is charged into a Henschel mixer, premixed at 1000 rpm for 3 minutes, and then a silane coupling agent is dropped, and further at 1000 rpm for 5 minutes. The conditions of this mixing can be mentioned. In addition, what is necessary is just to select suitable conditions for the rotational speed and mixing time of the said preliminary mixing and this mixing according to the kind of silane coupling agent to be used, the content and amount of a silica filler and a silane coupling agent.
In the wet method, a sufficient amount of the silane coupling agent relative to the surface area of the silica filler to be surface-treated is dissolved in water or an organic solvent to hydrolyze the molecules of the compound forming the silane coupling agent. A surface treatment solution is used. The concentration of the surface treatment solution is not particularly limited, and for example, about 3% by mass can be mentioned. A silica filler is added to the obtained surface treatment solution and stirred so as to form a slurry. After sufficiently reacting the silane coupling agent and the silica filler by stirring, the silica filler is separated from the surface treatment solution by a method such as filtration or centrifugation, and then dried by heating.
In addition to the above stirring method and wet method, for example, an integral blend method in which the surface of the silica filler is modified by directly adding a silane coupling agent to a silica filler dispersion obtained by dispersing the silica filler in a solvent. Can also be suitably used.

(E)成分のシリカフィラーは、平均粒径が0.05〜10μmであることが、液状封止材の粘度調整、液状封止剤の注入性、ボイドの発生防止等の観点から好ましく、0.1〜5μmであることがより好ましく、0.3〜3μmであることがさらに好ましい。
ここで、シリカフィラーの形状は特に限定されず、粒状、粉末状、りん片等のいずれの形態であってもよい。なお、シリカフィラーの形状が粒状以外の場合、シリカフィラーの平均粒径とはシリカフィラーの平均最大径を意味する。
The silica filler of component (E) preferably has an average particle size of 0.05 to 10 μm from the viewpoints of adjusting the viscosity of the liquid sealing material, injectability of the liquid sealing agent, preventing the generation of voids, and the like. More preferably, it is 1-5 micrometers, and it is still more preferable that it is 0.3-3 micrometers.
Here, the shape of the silica filler is not particularly limited, and may be any form such as granular, powder, and flakes. In addition, when the shape of a silica filler is other than a granular form, the average particle diameter of a silica filler means the average maximum diameter of a silica filler.

本発明の液状封止材において、(E)成分のシリカフィラーの含有量が40〜80wt%であることが、バンプ電極の補強や、エポキシ樹脂等の有機材料製の基板と、半導体素子と、の熱膨張係数の差の低減等の理由から好ましく、50〜70wt%であることがより好ましく、55〜65wt%であることがさらに好ましい。   In the liquid sealing material of the present invention, the content of the silica filler of the component (E) is 40 to 80 wt%, reinforcing the bump electrode, a substrate made of an organic material such as an epoxy resin, a semiconductor element, It is preferable for reasons such as a reduction in the difference in thermal expansion coefficient, more preferably 50 to 70 wt%, and even more preferably 55 to 65 wt%.

本発明の液状封止材は、上記(A)〜(E)成分以外に、以下に述べる成分を必要に応じて含有してもよい。   The liquid sealing material of this invention may contain the component described below as needed other than the said (A)-(E) component.

(その他の配合剤)
本発明の液状封止材は、上記(A)〜(E)成分以外の成分を必要に応じてさらに含有してもよい。
このような成分の具体例としては、レベリング剤、着色剤、イオントラップ剤、消泡剤、難燃剤などを配合することができる。各配合剤の種類、配合量は常法通りである。また、オキタセン、アクリレート、ビスマレイミドなどの熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、エラストマーなどを配合してもよい。
(Other ingredients)
The liquid sealing material of this invention may further contain components other than the said (A)-(E) component as needed.
As specific examples of such components, a leveling agent, a colorant, an ion trapping agent, an antifoaming agent, a flame retardant, and the like can be blended. The type and amount of each compounding agent are as usual. Further, thermosetting resins such as okitacene, acrylate, bismaleimide, thermoplastic resins, elastomers, and the like may be blended.

(液状封止材の調製)
本発明の液状封止材は、上記(A)〜(E)成分、および、さらに必要に応じて配合するその他の配合剤を混合し、攪拌して調製される。混合攪拌は、ロールミルを用いて行うことができるが、勿論、これに限定されない。(A)成分のエポキシ樹脂が固形の場合には、加熱などにより液状化ないし流動化し混合することが好ましい。
各成分を同時に混合しても、一部成分を先に混合し、残り成分を後から混合するなど、適宜変更しても差支えない。
(Preparation of liquid sealing material)
The liquid sealing material of the present invention is prepared by mixing and stirring the components (A) to (E) and other compounding agents to be blended as necessary. Although mixing and stirring can be performed using a roll mill, of course, it is not limited to this. When the epoxy resin as the component (A) is solid, it is preferably liquefied or fluidized and mixed by heating.
Even if the components are mixed at the same time, some components may be mixed first, and the remaining components may be mixed later.

本発明の液状封止材において、(B)成分として使用する芳香族アミン硬化剤はガラス転移点(Tg)の調整が容易である点でフェノール系硬化剤や酸無水物系硬化剤に比べて優れているが、硬化が遅く、ブリードやクリーピングが発生しやすい問題がある。本発明では、(D)成分として特定のカップリング剤を使用し、かつ、(E)成分として特定の表面処理をしたシリカフィラーを使用することにより、(C)成分としての金属錯体の併用が可能になり、硬化性が向上して結果的に短所であるブリード、クリーピングを抑制できる。   In the liquid sealing material of the present invention, the aromatic amine curing agent used as the component (B) is easier to adjust the glass transition point (Tg) than phenol-based curing agents and acid anhydride-based curing agents. Although excellent, there is a problem that curing is slow and bleeding and creeping are likely to occur. In the present invention, by using a specific coupling agent as the component (D) and using a silica filler having a specific surface treatment as the component (E), the combined use of the metal complex as the component (C) can be achieved. This makes it possible to improve curability and consequently suppress bleed and creep, which are disadvantages.

次に本発明の液状封止材の使用方法について説明する。
本発明の液状封止材を使用する場合、封止対象とする部位(封止対象とする面)に対して、本発明の液状封止材をディスペンサ、印刷機等を用いて塗布する。ここで、塗布時の温度は70〜120℃であることが好ましい。
その後、所定温度で所定時間、具体的には、140〜170℃で20分〜3時間加熱硬化させることによって封止が完了する。
Next, the usage method of the liquid sealing material of this invention is demonstrated.
When using the liquid sealing material of the present invention, the liquid sealing material of the present invention is applied to a portion to be sealed (surface to be sealed) using a dispenser, a printing machine, or the like. Here, the temperature during coating is preferably 70 to 120 ° C.
Thereafter, the sealing is completed by heat-curing at a predetermined temperature for a predetermined time, specifically, at 140 to 170 ° C. for 20 minutes to 3 hours.

本発明の電子部品は、本発明の液状封止材を用いて上記の手順で封止部位を封止したものである。ここで封止を行う電子部品としては、半導体素子が挙げられ、集積回路、大規模集積回路、トランジスタ、サイリスタおよびダイオードおよびコンデンサ等で特に限定されるものではない。   The electronic component of the present invention is obtained by sealing a sealed portion by the above procedure using the liquid sealing material of the present invention. The electronic component to be sealed here includes a semiconductor element, and is not particularly limited by an integrated circuit, a large-scale integrated circuit, a transistor, a thyristor, a diode, a capacitor, and the like.

以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

(実施例1〜5、比較例1〜5)
表1に示す成分を、表1に示す量(質量部)で量り取り、一挙に混合した混合物を三本ロールミル混練し、均一な液状封止材を得た。ついで、該液状封止材を減圧下に置き、液状封止材中の気泡を除去し、評価用試料にした。
なお、表中の記号は、それぞれ以下を表わす。
エポキシ樹脂(A):ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量158)
芳香族アミン系硬化剤(B):4,4’−ジアミノ−3,3’ −ジエチルジフェニルメタン
金属錯体(C):アルミニウムトリスアセチルアセトナート
カップリング剤(D1):3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
カップリング剤(D2):ビニルトリメトキシシラン
シリカフィラー(E1):3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン表面処理シリカフィラー(平均粒径2μm)
シリカフィラー(E2):3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン表面処理シリカフィラー(平均粒径2μm)
シリカフィラー(E3):表面未処理シリカフィラー(平均粒径2μm)
(Examples 1-5, Comparative Examples 1-5)
The components shown in Table 1 were weighed out in the amounts (parts by mass) shown in Table 1, and the mixture mixed at once was kneaded with a three-roll mill to obtain a uniform liquid sealing material. Next, the liquid sealing material was placed under a reduced pressure to remove bubbles in the liquid sealing material, and used as a sample for evaluation.
In addition, the symbol in a table | surface represents the following, respectively.
Epoxy resin (A): Bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent 158)
Aromatic amine curing agent (B): 4,4′-diamino-3,3′-diethyldiphenylmethane metal complex (C): aluminum trisacetylacetonate coupling agent (D1): 3-glycidoxypropyltrimethoxy Silane coupling agent (D2): Vinyltrimethoxysilane silica filler (E1): 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane surface-treated silica filler (average particle size 2 μm)
Silica filler (E2): 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane surface-treated silica filler (average particle size 2 μm)
Silica filler (E3): Untreated surface silica filler (average particle size 2 μm)

上記の手順で得られた液状封止材の硬化性、注入性、該液状封止材の硬化物の外観、および耐サーマルサイクル性を下記方法により評価した。   The following methods evaluated the sclerosis | hardenability of the liquid sealing material obtained by said procedure, pouring property, the external appearance of the hardened | cured material of this liquid sealing material, and thermal cycle resistance.

(硬化性)
150±2℃の熱板上に評価用試料を約5mmφの大きさに滴下し、糸引きがなくなるまでの時間を、ストップウォッチにより測定した。
(Curable)
The sample for evaluation was dropped on a hot plate of 150 ± 2 ° C. to a size of about 5 mmφ, and the time until the stringing disappeared was measured with a stopwatch.

(注入性)
ガラス基板を50μmのギャップを空けて張り合わせ、該ギャップの中に評価用試料を毛管作用により注入し、20mmまでの到達時間を測定する。
(Injectability)
A glass substrate is laminated with a gap of 50 μm, an evaluation sample is injected into the gap by capillary action, and an arrival time up to 20 mm is measured.

(外観)
評価用試料の約5gを金属ケース(50mmφ)に量り取り、150℃で90分間加熱し、硬化させて、試験片を作製した。該試験片の硬化状態(皺、ボイド)を目視観察した。
また、ガラス基板を50μmのギャップを空けて張り合わせ、該ギャップの中に評価用試料を毛管作用により注入し、その後、150℃で90分間加熱し硬化させ、試験片を作製した。該試験片の注入部およびフィレット部の硬化状態を目視観察し、ボイドおよび皺の有無を確認した。いずれにおいても皺、ボイドがない場合を、外観良好と見て合格(○)とし、いずれか一方に皺、ボイドがある場合を、外観不良と見て不合格(×)とした。
実施例1と比較例2については、また、ステンレス板に厚さ約250μmになるように評価用試料を塗布し、165℃で90分間加熱し、硬化させて試験片の硬化状態(ワレ・フクレ)を観察した。図1は実施例1の試験片(液状封止材の硬化物)の外観を示した写真であり、図2は比較例2の試験片(液状封止材の硬化物)の外観を示した写真である。
(appearance)
About 5 g of the sample for evaluation was weighed into a metal case (50 mmφ), heated at 150 ° C. for 90 minutes, and cured to prepare a test piece. The cured state (wax, void) of the test piece was visually observed.
A glass substrate was laminated with a gap of 50 μm, and a sample for evaluation was injected into the gap by capillary action, and then heated and cured at 150 ° C. for 90 minutes to prepare a test piece. The cured state of the injection part and fillet part of the test piece was visually observed to check for the presence of voids and wrinkles. In any case, the case where there were no wrinkles and voids was judged as acceptable (◯) when the appearance was good, and the case where there were wrinkles and voids on either side was regarded as a failure (×) when the appearance was bad.
For Example 1 and Comparative Example 2, a sample for evaluation was applied to a stainless steel plate to a thickness of about 250 μm, heated at 165 ° C. for 90 minutes, and cured to cure the test piece (wallet / flank). ) Was observed. FIG. 1 is a photograph showing the appearance of the test piece (cured material of liquid sealing material) of Example 1, and FIG. 2 shows the appearance of the test piece (cured material of liquid sealing material) of Comparative Example 2. It is a photograph.

(耐サーマルサイクル性)
FR−4基板(基板サイズ52.5mm×30.0mm×厚さ0.73mm)上に、PIパッシベーションダイ(ダイサイズ10mm×10mm×厚さ0.73mm)、Sn5Pb95バンプ(バンプピッチ175μm)を形成させたテストエレメントグループ(TEG)(株式会社日立超LSIシステムズ製)を使用し、上記の手順で得られた液状封止材をダイ部分に注入し、165℃で120分間加熱し液状封止材を硬化させることによって、封止した試験片を260℃リフローを1回、JEDEC Lv3、260℃リフロー3回かけた後、サーマルサイクル(−55℃/30min.⇔125℃/30min.)を実施した後、超音波探傷装置を用いて観察し、内部クラック及び界面剥離の有無、抵抗値変化を調べた。内部クラック及び界面剥離がなく、抵抗値変化が10%未満であった場合を合格とし、内部クラック及び界面剥離の面積がダイ面積の1%以上か、または、抵抗値変化が10%以上の場合を不合格とし、1000サイクルまで実施した。
(Thermal cycle resistance)
A PI passivation die (die size 10 mm × 10 mm × thickness 0.73 mm) and Sn5Pb95 bump (bump pitch 175 μm) are formed on an FR-4 substrate (substrate size 52.5 mm × 30.0 mm × thickness 0.73 mm). Using the test element group (TEG) (manufactured by Hitachi Ultra LSI Systems Co., Ltd.), the liquid encapsulant obtained by the above procedure is injected into the die part and heated at 165 ° C. for 120 minutes to obtain the liquid encapsulant The cured specimen was subjected to 260 ° C reflow once, JEDEC Lv3, 260 ° C reflow three times, and then a thermal cycle (-55 ° C / 30 min. To 125 ° C / 30 min.) Was performed. Then, it observed using the ultrasonic flaw detector and investigated the presence or absence of an internal crack and interface peeling, and resistance value change. When there is no internal crack and interface peeling and the resistance change is less than 10%, the internal crack and interface peeling area is 1% or more of the die area, or the resistance change is 10% or more. Was carried out up to 1000 cycles.

(ポットライフ、増粘倍率)
調製後の評価用試料の粘度を回転粘度計(50rpm)を用いて測定した後、該評価用試料を密閉容器に入れて25℃、湿度50%の環境にて24時間保管した時点における粘度を同様の手順で測定し、調製直後の粘度に対する倍率を算出した。
(Pot life, thickening ratio)
After measuring the viscosity of the prepared sample for evaluation using a rotational viscometer (50 rpm), the viscosity at the time when the sample for evaluation was placed in a sealed container and stored in an environment of 25 ° C. and 50% humidity for 24 hours was measured. The measurement was carried out in the same procedure, and the magnification with respect to the viscosity immediately after preparation was calculated.

実施例1〜5の液状封止材は、硬化性、注入性、外観、耐サーマルサイクル性、ポットライフの評価結果がいずれも良好であった。一方、(E)成分として、表面未処理のシリカフィラーを使用した比較例1の液状封止材は注入性に劣っていた。また、(D)成分のカップリング剤として、ビニルトリメトキシシラン(D2)を含まない比較例2,3の液状封止材は硬化性に劣っていた。特に、(C)成分の金属錯体を含有する一方で、(D)成分のカップリング剤として、ビニルトリメトキシシラン(D2)を含まない比較例2の液状封止材は硬化物の外観も劣っていた。また、図1に示すように、実施例1の硬化物は表面に皺が発生せず、外観が良好であったのに対して、図2に示すように、比較例2の硬化物は、表面に皺が発生しており、外観が劣っていた。また、シリカフィラー((E1)〜(E3))を含まない比較例4の液状封止材は耐サーマルサイクル性に劣っており、250サイクルに達する前に不合格となった。また、金属錯体(C)を含まない比較例5の液状封止材は硬化性に劣っていた。   As for the liquid sealing material of Examples 1-5, sclerosis | hardenability, injectability, the external appearance, thermal cycle resistance, and the evaluation result of pot life were all favorable. On the other hand, as the component (E), the liquid sealing material of Comparative Example 1 using an untreated silica filler was inferior in injectability. Moreover, the liquid sealing material of the comparative examples 2 and 3 which does not contain vinyltrimethoxysilane (D2) as a coupling agent of (D) component was inferior in sclerosis | hardenability. In particular, the liquid sealing material of Comparative Example 2 containing the metal complex of component (C) but not containing vinyltrimethoxysilane (D2) as the coupling agent of component (D) is inferior in the appearance of the cured product. It was. Also, as shown in FIG. 1, the cured product of Example 1 did not generate wrinkles on the surface and had a good appearance, whereas the cured product of Comparative Example 2, as shown in FIG. The surface was wrinkled and the appearance was poor. Moreover, the liquid sealing material of the comparative example 4 which does not contain a silica filler ((E1)-(E3)) was inferior to thermal cycle resistance, and failed before reaching 250 cycles. Moreover, the liquid sealing material of the comparative example 5 which does not contain a metal complex (C) was inferior to sclerosis | hardenability.

Claims (9)

(A)エポキシ樹脂、(B)芳香族アミン硬化剤、(C)金属錯体、(D)カップリング剤、および(E)シリカフィラーを含む液状封止材であって、前記(D)成分のカップリング剤が少なくともビニルトリメトキシシランを含有し、前記(E)成分のシリカフィラーがシランカップリング剤にて予め表面処理されていることを特徴とする液状封止材。   A liquid sealing material comprising (A) an epoxy resin, (B) an aromatic amine curing agent, (C) a metal complex, (D) a coupling agent, and (E) a silica filler, wherein the component (D) A liquid sealing material, wherein the coupling agent contains at least vinyltrimethoxysilane, and the silica filler of the component (E) is surface-treated in advance with a silane coupling agent. 前記(E)成分のシリカフィラーが、トリメトキシシラン化合物およびトリエトキシシラン化合物のうち、少なくとも一方を含むシランカップリング剤にて予め表面処理されていることを特徴とする請求項1に記載の液状封止材。   2. The liquid according to claim 1, wherein the silica filler of the component (E) is previously surface-treated with a silane coupling agent containing at least one of a trimethoxysilane compound and a triethoxysilane compound. Sealing material. 前記(E)成分のシリカフィラーが、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよび3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランのうち、少なくとも一方を含むシランカップリング剤にて予め表面処理されていることを特徴とする請求項2に記載の液状封止材。   The silica filler as the component (E) is previously surface-treated with a silane coupling agent containing at least one of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane. The liquid sealing material according to claim 2. 前記(E)成分のシリカフィラーの平均粒径が0.05〜10μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の液状封止材。   The liquid sealing material according to any one of claims 1 to 3, wherein an average particle diameter of the silica filler as the component (E) is 0.05 to 10 µm. 前記(E)成分のシリカフィラーの含有量が40〜80wt%であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の液状封止材。   Content of the silica filler of the said (E) component is 40-80 wt%, The liquid sealing material in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記(C)成分の金属錯体が、アルミニウムトリアセチルアセトネートおよびアルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネートからなる群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の液状封止材。   6. The metal complex of the component (C) is at least one selected from the group consisting of aluminum triacetylacetonate and aluminum bisethylacetoacetate / monoacetylacetonate. The liquid sealing material as described. 前記(B)成分の芳香族アミン硬化剤の割合が、前記(A)成分のエポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.7〜1.5当量であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の液状封止材。   The proportion of the aromatic amine curing agent as the component (B) is 0.7 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin as the component (A). 6. The liquid sealing material according to any one of 6. 前記(D)成分のカップリング剤としてのビニルトリメトキシシランの含有量が0.2〜2.0wt%であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の液状封止材。   The liquid sealing material according to any one of claims 1 to 7, wherein a content of vinyltrimethoxysilane as a coupling agent of the component (D) is 0.2 to 2.0 wt%. 請求項1〜8のいずれかに記載の液状封止材を用いて封止部位を封止してなる電子部品。   The electronic component formed by sealing a sealing part using the liquid sealing material in any one of Claims 1-8.
JP2011120662A 2010-11-12 2011-05-30 Liquid encapsulant and electronic parts using it Active JP5651537B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011120662A JP5651537B2 (en) 2010-11-12 2011-05-30 Liquid encapsulant and electronic parts using it

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010254077 2010-11-12
JP2010254077 2010-11-12
JP2011120662A JP5651537B2 (en) 2010-11-12 2011-05-30 Liquid encapsulant and electronic parts using it

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012117033A true JP2012117033A (en) 2012-06-21
JP5651537B2 JP5651537B2 (en) 2015-01-14

Family

ID=46500253

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011120662A Active JP5651537B2 (en) 2010-11-12 2011-05-30 Liquid encapsulant and electronic parts using it

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5651537B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101321981B1 (en) 2012-10-25 2013-10-28 한국전기연구원 Manufacturing method of solvent content controllable silica-epoxy hybrid packaging materials
WO2016039193A1 (en) * 2014-09-09 2016-03-17 デクセリアルズ株式会社 Aluminum chelate-based latent curing agent, method for producing same, and thermosetting epoxy resin composition
JP2017168723A (en) * 2016-03-17 2017-09-21 富士電機株式会社 Semiconductor device
WO2018105056A1 (en) * 2016-12-07 2018-06-14 日立化成株式会社 Resin composition for sealing, cured product, electronic component device, and method for producing electronic component device
WO2020186379A1 (en) * 2019-03-15 2020-09-24 Henkel Ag & Co. Kgaa Thermally conductive potting composition
KR102676681B1 (en) * 2016-12-07 2024-06-18 가부시끼가이샤 레조낙 Resin composition for sealing, cured product, electronic component device, and manufacturing method of electronic component device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008255178A (en) * 2007-04-03 2008-10-23 Namics Corp Epoxy resin composition for sealing semiconductor, semiconductor device, and its manufacturing method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008255178A (en) * 2007-04-03 2008-10-23 Namics Corp Epoxy resin composition for sealing semiconductor, semiconductor device, and its manufacturing method

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101321981B1 (en) 2012-10-25 2013-10-28 한국전기연구원 Manufacturing method of solvent content controllable silica-epoxy hybrid packaging materials
US10093769B2 (en) 2014-09-09 2018-10-09 Dexerials Corporation Aluminum chelate-based latent curing agent, method of producing same, and thermosetting epoxy resin
KR20170049465A (en) * 2014-09-09 2017-05-10 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 Aluminum chelate-based latent curing agent, method for producing same, and thermosetting epoxy resin composition
WO2016039193A1 (en) * 2014-09-09 2016-03-17 デクセリアルズ株式会社 Aluminum chelate-based latent curing agent, method for producing same, and thermosetting epoxy resin composition
JP2016056274A (en) * 2014-09-09 2016-04-21 デクセリアルズ株式会社 Aluminum chelate-based latent curing agent, method for producing the same, and thermosetting epoxy resin composition
KR102331383B1 (en) 2014-09-09 2021-11-25 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 Aluminum chelate-based latent curing agent, method for producing same, and thermosetting epoxy resin composition
JP2017168723A (en) * 2016-03-17 2017-09-21 富士電機株式会社 Semiconductor device
CN110036071B (en) * 2016-12-07 2022-12-09 昭和电工材料株式会社 Sealing resin composition, cured product, electronic component device, and method for producing electronic component device
WO2018105056A1 (en) * 2016-12-07 2018-06-14 日立化成株式会社 Resin composition for sealing, cured product, electronic component device, and method for producing electronic component device
CN110036071A (en) * 2016-12-07 2019-07-19 日立化成株式会社 The manufacturing method of resin composition for encapsulating, solidfied material, electronic part apparatus and electronic part apparatus
KR102676681B1 (en) * 2016-12-07 2024-06-18 가부시끼가이샤 레조낙 Resin composition for sealing, cured product, electronic component device, and manufacturing method of electronic component device
WO2020186379A1 (en) * 2019-03-15 2020-09-24 Henkel Ag & Co. Kgaa Thermally conductive potting composition
EP3938457A4 (en) * 2019-03-15 2022-10-12 Henkel AG & Co. KGaA Thermally conductive potting composition
US20220002607A1 (en) * 2019-03-15 2022-01-06 Henkel Ag & Co. Kgaa Thermally conductive potting composition
CN113574132A (en) * 2019-03-15 2021-10-29 汉高股份有限及两合公司 Thermally conductive potting composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP5651537B2 (en) 2015-01-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4736473B2 (en) Liquid sealing resin composition for underfill, semiconductor device using the same, and manufacturing method thereof
JP6789495B2 (en) Resin composition for underfill, electronic component device and manufacturing method of electronic component device
JP2002146160A (en) Liquid epoxy resin composition and semiconductor device
JP2012162585A (en) Resin sealng material for semiconductor
US20120126434A1 (en) Liquid resin composition and semiconductor device using the same
JP5651537B2 (en) Liquid encapsulant and electronic parts using it
JP2011168650A (en) Epoxy resin composition
JP4656269B2 (en) Liquid epoxy resin composition and semiconductor device
TWI794372B (en) Resin composition, semiconductor encapsulation material, one-component adhesive and adhesive film
JP2008069291A (en) Liquid epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor device
WO2011065365A1 (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductors, and semiconductor devices
US20070106036A1 (en) Semiconductor encapsulating epoxy resin composition and semiconductor device
JP2012046576A (en) Epoxy resin composition for sealing and electronic component apparatus
JP5367205B2 (en) Liquid epoxy resin composition for sealing
JP5682470B2 (en) RESIN COMPOSITION FOR ELECTRONIC COMPONENT AND ELECTRONIC COMPONENT DEVICE
JP4176619B2 (en) Flip chip mounting side fill material and semiconductor device
JP6286959B2 (en) Epoxy resin composition, electronic component device, and method of manufacturing electronic component device
JP2019083225A (en) Liquid resin composition for underfill, electronic component device, and method of manufacturing electronic component device
JP5593259B2 (en) Liquid epoxy resin composition
JP3925803B2 (en) Flip chip mounting side fill material and semiconductor device
JP2019006905A (en) Resin composition for sealing material and electronic apparatus using the same
JP2003128875A (en) Liquid epoxy resin composition and semiconductor device
JP5132239B2 (en) Epoxy resin composition for optical semiconductor element sealing and optical semiconductor device using the same
JP2013237780A (en) Phenol compound, method for producing the same, resin composition and electronic component device
JP2015054952A (en) Epoxy resin composition, electronic part device and production method of electronic part device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140306

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140710

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140715

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140730

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141104

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141117

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5651537

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250