JP2012109214A - 表示装置 - Google Patents
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- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 70
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 39
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 description 26
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 9
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- -1 and a cathode Substances 0.000 description 1
- LFZDEAVRTJKYAF-UHFFFAOYSA-L barium(2+) 2-[(2-hydroxynaphthalen-1-yl)diazenyl]naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Ba+2].C1=CC=CC2=C(S([O-])(=O)=O)C(N=NC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=CC=C21.C1=CC=CC2=C(S([O-])(=O)=O)C(N=NC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=CC=C21 LFZDEAVRTJKYAF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- CECAIMUJVYQLKA-UHFFFAOYSA-N iridium 1-phenylisoquinoline Chemical compound [Ir].C1=CC=CC=C1C1=NC=CC2=CC=CC=C12.C1=CC=CC=C1C1=NC=CC2=CC=CC=C12.C1=CC=CC=C1C1=NC=CC2=CC=CC=C12 CECAIMUJVYQLKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- QXKXDIKCIPXUPL-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenemercury Chemical compound [Hg]=S QXKXDIKCIPXUPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K50/858—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
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- H10K59/80—Constructional details
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- H10K59/879—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
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Abstract
【課題】 製造容易な構成により、白色の色度ずれが抑制された表示装置を得ることを目的とする。
【解決手段】 発光色の異なる複数の画素1からなる画素ユニットには、所望の輝度の白色を表示する際に画素1の発光色ごとの有機EL素子に供給される電流の差が小さくなるようにレンズ30R,30G,30Bが設けられている。
【選択図】 図1
【解決手段】 発光色の異なる複数の画素1からなる画素ユニットには、所望の輝度の白色を表示する際に画素1の発光色ごとの有機EL素子に供給される電流の差が小さくなるようにレンズ30R,30G,30Bが設けられている。
【選択図】 図1
Description
有機EL素子を備えた表示装置に関する。
近年、有機EL素子を備えた表示装置に関して盛んに研究開発されている。有機EL素子は陽極と発光層を含む有機化合物層と陰極とで構成され、陽極と陰極からそれぞれ正孔と電子が発光層に注入され、正孔と電子の再結合エネルギーを利用して発光層から光が出射される。
カラー表示を可能にするために、例えば赤色、緑色、及び青色のような、互いに異なる色を発する複数の有機EL素子を備えた表示装置では、各色の有機EL素子を発光させて白色を表示する。しかし、その際に、各色(赤色、緑色、青色)の有機EL素子に供給する電流(必要電流)が異なるため、各色の画素回路、周辺回路、配線などの駆動回路が複雑になるという問題があった。
具体的には、有機EL素子に供給する電流を調整するトランジスタの特性を必要電流の大きい有機EL素子に合わせてしまうと、必要電流の小さい有機EL素子では階調分解能が不足してしまうため、それを補う回路が別途必要になる。また、必要電流の小さい有機EL素子で必要な分解能が確保できるようトランジスタを設計してしまうと、必要電流の大きい有機EL素子ではオーバースペックになってしまう。
これに対して、特許文献1では、各色の発光領域の面積を調整することにより、各色の有機EL素子に同量の電流を供給することが提案されている。
しかし、表示装置において、発光領域の面積を大きくする、あるいは小さくすることには限界があり、特許文献1で提案されている方法では、各色の有機EL素子に供給される電流の差に十分対応することができないという課題があった。
本発明は上記課題に鑑みて、より広範な発光色間の電流の差に対応が可能であるレンズを用いることにより、白色の表示時における各色の有機EL素子に供給される電流の差が抑制された表示装置を得ることを目的とする。
本発明は、発光色の異なる複数の画素からなる画素ユニットが複数配列され、画素ユニットで白色を表示する表示装置であって、前記画素は、有機EL素子を備え、前記画素ユニットには、所望の輝度の白色を表示する際に前記画素の発光色ごとの有機EL素子に供給される電流の差が小さくなるようにレンズが設けられていることを特徴とする。
本発明は、レンズを用いることにより、白色の表示時における各色の有機EL素子に供給される電流の差が抑制された表示装置を得ることができる。
以下、本発明に係る表示装置の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書で特に図示または記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知または公知技術を適用する。また以下に説明する実施形態は、発明の一つの実施形態であって、これらに限定されるものではない。なお、必要電流比とは、所望の輝度の白色を表示する際に必要な電流値の各色(例えば、赤、緑、青)の比であり、例えば所望の輝度の白色表示時の各色の輝度/各色の発光効率の比のことである。
(実施形態1)
図1(a)は、本発明の実施形態1に係る表示装置を示す斜視模式図である。本実施形態の表示装置は、有機EL素子を備える画素1を複数有している。そして、複数の画素1はマトリックス状に配置され、表示領域2を形成している。なお、画素とは、1つの発光素子の発光領域に対応した領域を意味している。本実施形態の表示装置では、発光素子は、有機EL素子であり、画素1のそれぞれに1つの色の有機EL素子が配置された表示装置である。有機EL素子の発光色としては、赤色、緑色、青色が挙げられ、そのほかに黄色、シアンでもよい。また、本実施形態の表示装置には、発光色の異なる複数の画素(例えば赤色を発する画素、緑色を発する画素、及び青色を発する画素)からなる画素ユニットが複数配列されている。画素ユニットとは、各画素の混色によって所望の色の発光を可能とする最小の単位を示す。
図1(a)は、本発明の実施形態1に係る表示装置を示す斜視模式図である。本実施形態の表示装置は、有機EL素子を備える画素1を複数有している。そして、複数の画素1はマトリックス状に配置され、表示領域2を形成している。なお、画素とは、1つの発光素子の発光領域に対応した領域を意味している。本実施形態の表示装置では、発光素子は、有機EL素子であり、画素1のそれぞれに1つの色の有機EL素子が配置された表示装置である。有機EL素子の発光色としては、赤色、緑色、青色が挙げられ、そのほかに黄色、シアンでもよい。また、本実施形態の表示装置には、発光色の異なる複数の画素(例えば赤色を発する画素、緑色を発する画素、及び青色を発する画素)からなる画素ユニットが複数配列されている。画素ユニットとは、各画素の混色によって所望の色の発光を可能とする最小の単位を示す。
図1(b)は、図1(a)のA−B線における部分断面模式図である。画素1は、基板10上に、第1電極(陽極)11と、正孔輸送層12と、発光層13R,13G,13Bと、電子輸送層14と、第2電極(陰極)15と、を備える有機EL素子3を有している。また、なお、本実施形態では、発光層13Rは赤色を発する発光層、発光層13Gは緑色を発する発光層、発光層13Bは青色を発する発光層である。発光層13R,13G,13Bはそれぞれ、赤色、緑色、青色を発する画素(有機EL素子3)に対応してパターン形成されている。また、第1電極11も、隣の画素(有機EL素子3)の第1電極11と分離されて形成されている。そして、正孔輸送層12と電子輸送層14と第2電極15は、隣の画素と共通で形成されていてもよいし、画素毎にパターン形成されていてもよい。なお、第1電極11と第2電極15とが異物によってショートするのを防ぐために、画素(より具体的には、第1電極11)間に絶縁層20が設けられている。
さらに、本実施形態の表示装置では、レンズ部材30が設けられている。なお、レンズ部材30と各有機EL素子3の間には、水分や酸素から有機EL素子3を保護する保護層40が配置されている。レンズ部材30には、表面に凸部を有する構成であり、各画素に対応する位置に凸レンズ30R,30G,30Bが配置されている。そして、各凸レンズ30R,30G,30Bは、その曲率半径が異なるように調整されている。この構成により、レンズの集光特性を画素毎に変えることが可能となる。本発明では、レンズの集光特性を色毎に調整することにより、所望の輝度の白色を表示する際に画素の発光色ごとの有機EL素子に供給される電流の差を小さくしている。以下で具体的に説明する。なお、「集光特性」とは、界面に入射する光の入射角度よりも出射される光の出射角度の方が小さくなる特性である。また、集光特性は、画素の領域のうちレンズが占める領域、レンズの曲率半径(もしくは曲率)、発光層(有機EL素子)からレンズまでの距離、レンズの材料の屈折率によっても制御することが可能である。
まず、図2に示すように、画素にレンズが形成されていない場合を考える。有機EL素子から斜めに出射された光50は、保護層40から出射する際に、さらに斜めの光51となって出射される。これに対して、図1(b)のように、画素に凸レンズ(例えば凸レンズ30B)が形成されている場合には、凸レンズ30Bを透過して出射された光50は、レンズが無い場合(破線)に比べて、基板10の垂直方向(表示装置の正面方向)に向いた光52となって出射される。したがって、レンズが無い場合と比較して、凸レンズがあった場合の方が光を集光する機能がある。すなわち、表示装置としては、正面方向から観察したときの輝度が大きくなり、正面方向における光の利用効率を高めることができる。
次に、凸レンズの曲率と正面方向の輝度について述べる。図3は、凸レンズの曲率半径Rが異なる場合の、放射角と相対輝度の相関関係を示す図である。図3において、「平坦」とは、レンズが形成されていない場合を示す。なお、測定に用いた凸レンズは、曲率半径Rが、20μm,30μm,60μm,100μmの4種類のものを用意した。それぞれの曲率半径の構成において、画素のピッチを31.5μm、凸レンズの最大幅を31.5μm、画素の幅を16.5μmであった。また、第2電極15は、酸化インジウムと酸化亜鉛の混合物で構成し、屈折率1.9、膜厚0.05μmであった。保護層40は、窒化シリコンで構成し、屈折率1.83、膜厚0.18μmであった。レンズ部材30は、エポキシ樹脂で構成し、屈折率1.54、最小膜厚を10μmであった。なお、相対輝度とは、それぞれの構成における放射角0度(正面方向)の輝度(正面輝度)を1とした場合の相対的な輝度を意味する。
図3で示すように、放射角30度以下、特に正面方向において、レンズが形成されている場合の方が、レンズが形成されていない場合よりも相対輝度が大きくなっている。さらに、凸レンズが形成されている場合であっても、凸レンズの曲率半径が小さいほど、相対輝度が大きくなっていることがわかる。これは、曲率半径が小さい凸レンズの方が、曲率半径が大きい凸レンズよりも、凸レンズによる集光特性が大きいことを示している。つまり、集光特性は、レンズを設けない構成、曲率半径が大きい凸レンズを設ける構成、曲率半径が小さい凸レンズを設ける構成、の順に大きくなる。このため、集光特性が大きいレンズを備えた画素ほど、表示装置の正面方向での相対輝度が大きくなっている。
また、表示装置は一般的に正面方向から観察されることが多く、正面輝度が大きな表示装置が望まれている。上述したように、集光特性のあるレンズによって、レンズを設けないものよりも正面輝度を大きくした場合、所望の正面輝度を得るためには、レンズを設けないものよりも有機EL素子に供給する電流が小さくてすむ。このため、集光特性のあるレンズを設けた場合には、供給する電流を小さくすることができる。また、同一輝度を表示する場合には、集光特性の大きいレンズを設けた有機EL素子に供給される電流は、集光特性の小さいレンズを設けた有機EL素子に供給される電流よりも小さくすることができる。
一方、有機EL素子は、一般的に、発光色ごとで発光層やその他の有機化合物層の材料や膜厚が異なるため、発光色ごとで発光効率が異なる。白色を表示する際の有機EL素子に供給する電流は、発光色ごとの発光効率の差と、白色表示時の各色の輝度比に基づいて決まり、発光色ごとで有機EL素子に供給する電流(必要電流)は異なってしまう。このため、駆動回路が複雑化してしまう。
そこで、本実施形態の表示装置では、白色表示の際において、異なる色を発する有機EL素子どうしの必要電流の差(あるいは必要電流比)を小さくするように、集光特性が調整されたレンズを、各画素ユニットに、各画素が発する色に応じて設けている。例えば、表示装置に赤色を発する画素、緑色を発する画素、青色を発する画素からなる画素ユニットが搭載され、この3色を混色して白色を表示する場合を想定する。各色の正面での色度座標がCIExyで、赤(0.67, 0.33)、緑(0.21,0.71)、青(0.14,0.08)とする。また、各色の発光効率が、赤12cd/A、緑10cd/A、青5cd/Aとする。色度座標(0.31,0.33)の白色を表示する際には、赤、緑、青の輝度比は、およそ3:6:1となる。赤、緑、青の必要電流比は、所望の輝度の白色表示時の各色の輝度(あるいは輝度比)を各色の発光効率(あるいは発光効率比)で除した、所望の輝度の白色表示時の各色の輝度/各色の発光効率の比(必要電流比)で表される。つまり、上記の場合では赤、緑、青の必要電流比は、およそ5:12:4となる。本発明では、赤、緑、青の各有機EL素子に同一の電流を供給し、赤、緑、青の正面輝度比が5:12:4となるようにレンズを設ける。これにより、赤、緑、青の各有機EL素子に流す電流の比を、1:1:1とすることができ、駆動回路の構成が複雑になるのを抑制でき、最適なものとすることができる。
なお、所望の輝度の白色表示時の各色の輝度/各色の発光効率は、任意の輝度の白色表示の際にレンズを設けない場合の有機EL素子に供給される電流(必要電流)に比例する量を表している。本発明では、各画素に設けるレンズの集光特性を、必要電流に比例する量の各色の比、つまり各色の必要電流比に応じて調整している。必要電流比を表すものとしては、所望の輝度の白色表示時の各色の輝度比/各色の発光効率の比、所望の輝度の白色表示時の各色の輝度/各色の発光効率比の比、所望の輝度の白色表示時の各色の輝度比/各色の発光効率比の比を用いてもよい。
本発明のより具体的な構成としては、必要電流比が大きい有機EL素子を有する画素には集光特性が大きいレンズを設け、必要電流比が小さい有機EL素子を有する画素には集光特性の小さいレンズを設けている。凸レンズの曲率半径で集光特性を制御する場合には、必要電流比が大きい有機EL素子を有する画素には曲率半径の小さい凸レンズを設け、必要電流比が小さい有機EL素子を有する画素には曲率半径の大きい凸レンズを設ける。
例えば、各画素に、赤色を発する有機EL素子(以下では、R素子という)又は緑色を発する有機EL素子(以下では、G素子という)又は青色を発する有機EL素子(以下では、B素子という)を備える表示装置について、B素子、R素子、G素子の順に必要電流比が大きくなる場合を考える(B素子の必要電流<R素子の必要電流<G素子の必要電流)。この場合、B素子、R素子、G素子の順に、設けるレンズの集光特性を大きくすればよい(B素子の集光特性<R素子の集光特性<G素子の集光特性)。この構成により、集光特性の大きいレンズが設けられたG素子を有する画素は、正面輝度が大きくなり、白色表示において供給する電流を小さくすることができる。このため、必要電流比が小さいB素子に供給される電流に近づけることができる。同様に、R素子を有する画素も、B素子に供給される電流に近づけることができる。つまり、G素子、R素子に供給される電流は、B素子に供給される電流に近づけることができ、G素子、R素子、B素子で必要電流比の差がレンズによって小さくなる。
なお、レンズの集光特性は、各色毎に必ずしも変更する必要はなく、必要に応じて適宜調整すればよい。例えば、R素子、G素子、B素子の必要電流比がそれぞれ異なっていても、例えば、B素子とG素子のレンズの集光特性を同じにし、R素子に設けるレンズの集光特性だけを変えるようにしてもよい。
また、一般的に、緑色を発する有機EL素子は、他の色を発する有機EL素子より、白色表示時の輝度が大きくなる。このため、G素子に設けるレンズの集光特性を最も大きくすること、あるいは、G素子にのみ集光特性のあるレンズを設けることが望ましい。
また、集光特性は、凸レンズを設ける構成と、凸レンズを設けない構成とで調整することもできる。すなわち、必要電流比が大きい有機EL素子を有する画素には凸レンズを設け、必要電流比が小さい有機EL素子を有する画素には凸レンズを設けないようにしてもよい。
基板10は、TFTやMIM等のスイッチング素子(不図示)が形成された絶縁性の基板であり、ガラス、プラスチック等からなる。また、基板10は、スイッチング素子と第1電極11とを電気的に接続するためのコンタクトホールが形成された層間絶縁膜を有していてもよい。さらに、基板10には、スイッチング素子の凹凸を平坦化するための平坦化膜を有していてもよい。
第1電極11は、Al、Cr、Agなどの金属単体やそれらの合金からなる金属層を用いることができる。さらに、酸化インジウムと酸化錫の化合物層や酸化インジウムと酸化亜鉛の化合物層などの透明酸化物導電層を金属層の上に積層する構成を採ることもできる。第1電極11の膜厚は、50nm以上200nm以下が好ましい。なお、透明とは、可視光域(波長400nm乃至780nm)において40%以上の光透過率を有することをいう。
正孔輸送層12は、正孔注入性、正孔輸送性を備える有機化合物の単層又は複数の層からなる。一方、電子輸送層14は、電子注入性、電子輸送性を備える有機化合物の単層又は複数の層からなる。また、必要に応じて、正孔輸送層12として、発光層から陽極側に電子が移動するのを抑制するために、電子ブロッキング層を設けることもできる。また、電子輸送層14として、正孔ブロッキング層を設けることもできる。また、正孔輸送層12、電子輸送層14として、発光層で発生した励起子の拡散を抑制するための励起子ブロッキング層を設けることもできる。
赤色を発する発光層13R、緑色を発する発光層13G、青色を発する発光層13Bとしては、特に制限はなく公知の材料を適用することが可能である。例えば、発光性とキャリア輸送性を兼ね備える材料の単一層や、蛍光材料、燐光材料等の発光性材料をキャリア輸送性のホスト材料の混合層を適用することができる。
各発光層13R,13G,13B、正孔輸送層12、電子輸送層14には、公知の材料が使用することができ、成膜手法も蒸着や転写等公知の成膜手法を用いることができる。また、各層の膜厚は、各色の有機EL素子の発光効率を上げるために最適な膜厚にすることが望ましく、それぞれ5nm以上100nm以下の膜厚であることが望ましい。
第2電極15は、Al、Cr、Agなどの金属単体やそれらの合金からなる金属薄膜を使用することができる。特にAgを含む金属薄膜は吸収率が低く、比抵抗も低いため、第2電極15として好ましい。第2電極15の膜厚が5nm以上30nm以下であることが好ましい。また、第2電極15は上述した金属薄膜と酸化インジウムと酸化錫の化合物層や酸化インジウムと酸化亜鉛の化合物層などの透明酸化物導電層とが積層され構成であってもよいし、透明酸化物導電層のみで構成されていてもよい。
保護層40は、材料や成膜手法は公知のものを使用することができる。一例としては、窒化シリコンや酸化窒化シリコンをCVD装置で成膜する方法が挙げられる。保護層40の膜厚は、保護性能を有するために0.5μm乃至10μmであることが好ましい。
レンズ部材30は、水分含有が少ない熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、光硬化型樹脂を用いることができる。レンズ部材30の膜厚は、10μm乃至100μmが好ましい。熱硬化型樹脂と光硬化型樹脂を用いた場合、成膜方法としては、スピンコート法、ディスペンス法などを用いることが可能である。また、保護層40上に、膜厚10μm乃至100μm程度の熱可塑性樹脂のフィルムを真空下にて貼りつける方法も用いることができる。具体的な樹脂材料としては、エポキシ樹脂、ブチル樹脂が好適に用いられる。
またレンズ部材30の材料として窒化シリコンや酸化シリコンといった無機物を用いてもよい。その場合は、まずCVD法にて窒化シリコン層や酸化シリコン層を20μmほど堆積し、その上に樹脂にてレンズ形状の構造物を作成する。これらをドライエッチングすることで窒化シリコン層や酸化シリコン層にレンズ形状を転写する。
凸レンズ30R,30G,30Bの製造方法は、以下の方法が挙げられる。
(1)レンズの型を用意し、その型を樹脂層に対して押圧してレンズ形状に形成する方法。
(2)フォトリソなどによってパターニングされた樹脂層を熱処理し、リフローによって樹脂層をレンズ形状に変形させる方法。
(3)均一の厚さに形成された光硬化型樹脂層を、面内方向に分布を持った光で露光し、この樹脂層を現像することによってレンズを形成する方法。
(4)イオンビームあるいは電子ビーム、レーザー等を用いて、均一の厚さに形成された樹脂材料の表面をレンズ形状に加工する方法。
(5)各画素に適量の樹脂を滴下して自己整合的にレンズを形成する方法。
(6)有機EL素子が形成された基板とは別個に、レンズが予め形成された樹脂シートを用意し、両者をアライメントした後、貼り合せることによりレンズを形成する方法。
(1)レンズの型を用意し、その型を樹脂層に対して押圧してレンズ形状に形成する方法。
(2)フォトリソなどによってパターニングされた樹脂層を熱処理し、リフローによって樹脂層をレンズ形状に変形させる方法。
(3)均一の厚さに形成された光硬化型樹脂層を、面内方向に分布を持った光で露光し、この樹脂層を現像することによってレンズを形成する方法。
(4)イオンビームあるいは電子ビーム、レーザー等を用いて、均一の厚さに形成された樹脂材料の表面をレンズ形状に加工する方法。
(5)各画素に適量の樹脂を滴下して自己整合的にレンズを形成する方法。
(6)有機EL素子が形成された基板とは別個に、レンズが予め形成された樹脂シートを用意し、両者をアライメントした後、貼り合せることによりレンズを形成する方法。
本実施形態の表示装置の製造について、上記(1)の方法を用いる場合を図4を用いて説明する。なお、基板10の上に第1電極11から第2電極15までを形成する方法は周知の方法を用いるため省略する。
まず、図4(a)のように、基板10上にトップエミッション型の有機EL素子を複数形成する。次に、図4(b)のように、有機EL素子を覆うように保護層40を表示領域の全域に形成する。保護層40は、空気中の水分や酸素、または後に形成される樹脂材料30aに内在する水分から有機EL素子を保護するためのものであり、またこの上にレンズを精度よく形成するための平坦化する機能を併せ持つ。
次に、図4(c)のように保護層40の上にレンズ部材30の元になる樹脂材料30aを形成する。そして、図4(d)で示すように、凸レンズ30R,30G,30Bを成形するための型31を用意し、樹脂材料30aに気泡が混入しないように、型31を樹脂材料30aに対して押圧する。型31の樹脂材料30aに接触する表面は、各画素に対応して凹部が形成されており、各凹部の曲率半径は各画素に設ける凸レンズの集光特性に応じて調整されている。
なお、型31は、一般的な金属で形成することができるが、樹脂材料30aに光硬化型樹脂を用いる場合は、光を透過させる必要があるため石英基板から形成されることが好ましい。また、型31のレンズ部材30に対する剥離性を高めるために、型31の表面に、フッ素樹脂などの膜を形成してもよい。
樹脂材料30aに熱硬化型樹脂を用いる場合は、型31における凹部の頂点が、対応する画素の中心とほぼ一致した状態で、樹脂材料30aを80℃に加熱することにより硬化させる。硬化温度については、一般的な有機EL素子を構成する有機化合物の耐熱温度が100℃程度であるため、それよりも低い80℃程度の硬化温度が好ましい。
次に、図4(e)に示すように、型31を、硬化したレンズ部材30から剥がす。これにより、レンズ部材30の表面に、各画素に対応して凸レンズ30R,30G,30Bが形成される。
なお、凸レンズ30R,30G,30Bが樹脂で形成される場合には、レンズの形状が損傷しないように、無機からなる第2保護層(不図示)をレンズの上に有することが望ましい。この第2保護層は、保護層40と同様の材料、方法で形成することができる。
(実施形態2)
図5は、本実施形態の表示装置の部分断面模式図である。実施形態1は、レンズの曲率半径を各色で異ならせて集光特性を制御し、白色表示の際に有機EL素子に供給される電流の差を小さくする表示装置に関するものであった。これに対して、本実施形態では、レンズの屈折率を各色で異ならせて集光特性を制御し、白色表示の際に有機EL素子に供給される電流の差を小さくする表示装置に関する。
図5は、本実施形態の表示装置の部分断面模式図である。実施形態1は、レンズの曲率半径を各色で異ならせて集光特性を制御し、白色表示の際に有機EL素子に供給される電流の差を小さくする表示装置に関するものであった。これに対して、本実施形態では、レンズの屈折率を各色で異ならせて集光特性を制御し、白色表示の際に有機EL素子に供給される電流の差を小さくする表示装置に関する。
一般的に、凸レンズの屈折率が大きくなるに従い、レンズの集光特性は大きくなる。このために、必要電流比が大きい有機EL素子を有する画素には、集光特性が大きくなるように屈折率の大きな凸レンズを設け、必要電流比が小さい有機EL素子を有する画素には、屈折率の小さな凸レンズを設ける構成とする。
具体的にB素子、R素子、G素子の順に必要電流比が大きくなる場合を考える(B素子の必要電流<R素子の必要電流<G素子の必要電流)。この場合、図5に示すように、B素子、R素子、G素子の順に凸レンズの屈折率を大きくしている(B素子の凸レンズの屈折率<R素子の凸レンズの屈折率<G素子の凸レンズの屈折率)。この構成により、屈折率が大きく集光特性の大きいレンズが設けられたG素子を有する画素は、正面輝度が大きくなり、白表示において供給する電流を小さくすることができる。このため、必要電流比が小さいB素子に供給される電流に近づけることができる。同様に、R素子を有する画素も、B素子に供給される電流に近づけることができる。つまり、G素子、R素子に供給される電流は、B素子に供給される電流に近づけることができ、G素子、R素子、B素子で必要電流比の差がレンズによって小さくなる。
なお、本実施形態の表示装置も、実施形態1と同様の製造方法で作成することが可能である。また、本実施形態では、凸レンズの曲率半径は各画素で同じであってもよいが、各画素で異なっていてもよい。特に、実施形態1のように、必要電流比が大きい有機EL素子を有する画素には、曲率半径の小さい凸レンズを設け、必要電流比が小さい有機EL素子を有する画素には、曲率半径の大きい凸レンズを設ける構成にすることが望ましい。
また、屈折率を制御する方法としては、レンズを形成する樹脂の屈折率で調整する方法がある。更には、レンズを形成する樹脂の中に無機材料を含有させて、その無機材料の屈折率や樹脂中の含有量を調整する方法がある。無機材料としては例えば、屈折率の大きな酸化チタン(2.90)、ITO(2.12)、硫化水銀(2.81)、コバルト緑(1.97)、コバルト青(1.74)などが挙げられる。
(その他の実施形態)
上述したように、実施形態1、2とは異なる方法で集光特性を制御することが可能である。例えば、画素の領域のうちレンズが占める領域によって集光特性を制御する場合は、以下の構成であれば本発明の効果を有する。つまり、必要電流比が小さい有機EL素子を有する画素には、レンズが占める領域を大きくし、必要電流比が大きい有機EL素子を有する画素には、レンズが占める領域を小さくする構成であればよい。この構成により、発光領域(画素)から出射する光のうちレンズを透過する割合を調整することが可能になり、画素全体の集光特性が制御される。
上述したように、実施形態1、2とは異なる方法で集光特性を制御することが可能である。例えば、画素の領域のうちレンズが占める領域によって集光特性を制御する場合は、以下の構成であれば本発明の効果を有する。つまり、必要電流比が小さい有機EL素子を有する画素には、レンズが占める領域を大きくし、必要電流比が大きい有機EL素子を有する画素には、レンズが占める領域を小さくする構成であればよい。この構成により、発光領域(画素)から出射する光のうちレンズを透過する割合を調整することが可能になり、画素全体の集光特性が制御される。
また、上述した構成では、必要電流比が小さい色の電流に合わせるように、レンズを設ける構成であったが、必要電流比が大きい色の電流に合わせるようにレンズを設ける構成であっても、白色の色度ずれを低減することができる。具体的には、以下の構成が挙げられる。
すなわち、凸レンズを設ける構成と、凹レンズを設ける構成とを混在させて、集光特性を調整することもできる。凹レンズは、凸レンズを設ける構成よりも、さらに、レンズを設けない構成よりも集光特性が小さく、発散特性が大きい。この特性を利用して、必要電流比が小さい有機EL素子を有する画素には凹レンズを設け、必要電流比が大きい有機EL素子を有する画素には凸レンズを設けるようにしてもよい。
また、凹レンズでは、曲率半径が小さいほど集光特性が小さくなる(集光特性が大きくなる)ことを利用して、凹レンズのみで画素の集光特性(集光特性)を制御することも可能である。つまり、必要電流比が小さい有機EL素子を有する画素には、曲率半径の小さい凹レンズを設け、必要電流比が大きい有機EL素子を有する画素には、曲率半径の大きい凹レンズを設ける構成であればよい。この構成であっても、各色の有機EL素子の電流の差を小さくすることができる。
本発明の表示装置としては、テレビ受像機、パーソナルコンピュータ、撮像装置、携帯電話の表示部、携帯ゲーム機が挙げられる。その他、携帯音楽再生装置、携帯情報端末(PDA)、カーナビゲーションシステム等が挙げられる。
(実施例1)
本実施例では、曲率半径の異なるレンズを用いて、白色表示の際に各有機EL素子に供給される電流の差を小さくする例について、図4を用いて説明する。
本実施例では、曲率半径の異なるレンズを用いて、白色表示の際に各有機EL素子に供給される電流の差を小さくする例について、図4を用いて説明する。
まず、ガラス基板上に、低温ポリシリコンTFTを形成し、その上に窒化シリコンからなる層間絶縁膜とアクリル樹脂からなる平坦化膜を、この順番で形成して、図4(a)に示す基板10を作成した。この基板10上にITO膜/AlNd膜をスパッタリング法にて38nm/100nmの厚さで形成した。続いて、ITO膜/AlNd膜を画素毎にパターニングし、第1電極11を形成した。
第1電極11の上にアクリル樹脂をスピンコートで形成し、アクリル樹脂をリソグラフィ法により、第1電極11が形成された部分に開口(この開口部が画素に相当)が形成されるようにパターニングし絶縁層20を形成した。各画素のピッチを30μm、開口による第1電極11の露出部の大きさを10μmとした。そして、この製造物をイソプロピルアルコール(IPA)で超音波洗浄し、煮沸洗浄後、乾燥した。さらに、UV/オゾン洗浄し、以下の有機化合物層を真空蒸着により成膜した。なお、各有機化合物層の成膜時の真空度、蒸着レートは、1×10−4〜3.0×10−4Pa、0.2〜0.5nm/secであった。
まず、正孔輸送層12として下記構造式の化合物1を、表示領域全体に、第1電極11の上に共通に87nmの厚さで成膜した。
次に、蒸着マスクを用いて、赤色を発する画素となる部分に、赤色の発光層13RとしてCBPとIr(piq)3を、重量比91:9、厚さ30nmになるよう共蒸着で成膜した。そして、蒸着マスクを用いて、緑色を発する画素となる部分に、緑色の発光層13GとしてAlq3とクマリン6を、重量比99:1で厚さ40nmになるよう共蒸着で成膜した。そして、蒸着マスクを用いて、青色を発する画素となる部分に、青色の発光層13BとしてBAlqとペリレンを、重量比97:3、厚さ25nmになるよう共蒸着で成膜した。
次に、表示領域全体に、共通の電子輸送層14としてBphenを、10nmの厚さで成膜した。さらに、その上に、共通の電子注入層(電子輸送層14の一部)として、BphenとCs2CO3を共蒸着(重量比90:10)して40nmの厚さで成膜した。
次に、上述した製造物を、真空を破ることなくスパッタリング装置に移動し、第2電極15としてAgおよびITOをそれぞれ10nm及び50nmの厚さで順に成膜した。
次に、図4(b)に示すように、窒化シリコンからなる保護層40を、SiH4ガス、N2ガス、H2ガスを用いたプラズマCVD法で成膜した。
そして、図4(c)に示すように、露点温度60℃の窒素雰囲気下で、樹脂材料30aとして粘度3000mPa・sの熱硬化性のエポキシ樹脂材料を、ディスペンサー(武蔵エンジニアリング社製、製品名SHOT MINI SL)を用いて塗布した。
樹脂材料30aを熱硬化する前に、図4(d)のように、別途用意した凸レンズ30R,30G,30Bを成形するための型31を、樹脂材料30aの表面に押し当てた。押し当てる際、型31に形成してあるアライメントマークと基板10に形成してあるアライメントマークをあわせる事により位置決めを行なった。その結果、画素に合わせて凸レンズ30R,30G,30Bが形成された。型31は、画素ピッチと同じピッチで凹部が形成されており、型31の表面に離型剤としてフッ素系の樹脂をコートした。型31の、赤、緑、青の画素に対応する凹部の曲率半径は、それぞれ27.2μm、17.5μm、28.6μmであった。レンズ部材30の膜厚は20μmであった。
ここで、クリーンルームおよびプロセス装置の環境によっては異物等が発生することを考慮して、樹脂材料30aで異物などを吸収して平坦化されるように、レンズ部材30の最小膜厚(最薄部における膜厚)は10μmとした。
次に、型31を樹脂材料30aに押し当てた状態で、真空環境下で100℃の温度で15分間加熱し、樹脂材料30aを硬化させて、レンズ部材30を形成した。その後、レンズ部材30から型31を離して、図4(e)のように凸レンズ30R,30G,30Bを形成した。凸レンズ30R,30G,30Bの曲率半径は、それぞれ27.2μm、17.5μm、28.6μmであった。
さらに、窒化シリコンからなる無機材料の保護層(不図示)を、SiH4ガス、N2ガス、H2ガスを用いたプラズマCVD法で成膜した。この保護層の膜厚は1μmであり、表示領域の全面を覆うように形成した。
このようにして製造した本発明の表示装置の特性を評価し、その結果を表1にまとめて示す。表中の単素子の発光効率は、各色の有機EL素子の特性を画素にレンズを設けない状態で評価した結果である。また、白色表示時の必要電流比は、所望の輝度の白色(CIExy座標(0.310,0.329))を表示する際に必要な各色の電流の比を示すものである。
表1より、本実施例1の表示装置は、白色表示時の必要電流比を各色でほぼ同じにしたため、各色の有機EL素子につながる駆動回路の特性をそろえることができた。このため各色の所望の諧調を表示するときでも良好な表示特性を示した。
(比較例1)
本比較例は、各画素のいずれにもレンズを設けない表示装置の例であり、その他の構成は実施例1と同じである。
本比較例は、各画素のいずれにもレンズを設けない表示装置の例であり、その他の構成は実施例1と同じである。
表3より、本比較例1の表示装置は、各色の必要電流に最大2.8倍程度の差が生じた。このため、駆動回路は最も電流比の大きい緑色画素に合わせる必要があるため、特に青色画素の表示時の低階調表示時に階調ずれが認められた。
(実施例2)
本実施例は、凸レンズの屈折率を調整することで、白色表示の際に各有機EL素子に供給される電流の差を小さくする例である。
本実施例は、凸レンズの屈折率を調整することで、白色表示の際に各有機EL素子に供給される電流の差を小さくする例である。
本実施例は、実施例1とはレンズ部材の塗布工程とレンズの型31の表面形状が異なる以外は同じ工程で製造される。レンズ部材の塗布工程に関しては、実施例1と同様に窒化シリコンからなる保護層40を形成した後、図6(c)に示すように、ノズルディスペンサーを用いて酸化チタンの微粒子を混合したエポキシ樹脂30aR、30aG、30aBをそれぞれの画素の位置に塗布した。なお、赤色、緑色、青色の画素に対応した位置のノズルに酸化チタン微粒子の混合比率の異なるエポキシ樹脂をそれぞれ充填して塗布した。赤色、緑色、青色の画素に対応した位置のノズルに充填されたエポキシ樹脂中の酸化チタンの割合は、それぞれエポキシ樹脂に対して10重量%、38重量%、6重量%であった。
次に、図6(d)に示すように、別途用意した型31を、樹脂部材30aの表面に押し当てることで凸レンズを形成した。本実施例の型31は、画素ピッチと同じピッチで凹部が形成され、且つ、レンズ30R、30G、30Bの表面形状は同一形状であった。
次に、型31を樹脂材料30aR、30aG、30aBに押し当てた状態で、真空環境下で100℃の温度で15分間加熱し、樹脂材料30aR、30aG、30aBを硬化させて、レンズ部材30を形成した。その後、レンズ部材30から型31を離して、図6(e)のように凸レンズ30R,30G,30Bを形成した。凸レンズ30R,30G,30Bの曲率半径は、すべて同じ25μmであった。
凸レンズ30R、30G、30Bは、屈折率1.54のエポキシ樹脂中に屈折率2.9の酸化チタンの微粒子が混合されてなり、混合比率をG素子、R素子、B素子の順に増やすことで、レンズの屈折率をB素子、R素子、G素子の順に大きくした(B素子の凸レンズの屈折率<R素子の凸レンズの屈折率<G素子の凸レンズの屈折率)。
このようにして作製した表示装置の特性を評価し、その結果を表3にまとめて示す。比較例は実施例1と同様である。
表3より、本実施例1の表示装置は、白色表示時の必要電流比を各色でほぼ同じにしたため、各色の有機EL素子につながる駆動回路の特性をそろえることができた。このため各色の所望の諧調を表示するときでも良好な表示特性を示した。
1 画素
11 第1電極
13R,13G,13B 発光層
15 第2電極
30R,30G,30B レンズ
11 第1電極
13R,13G,13B 発光層
15 第2電極
30R,30G,30B レンズ
Claims (7)
- 発光色の異なる複数の画素からなる画素ユニットが複数配列され、画素ユニットで白色を表示する表示装置であって、
前記画素は、有機EL素子を備え、
前記画素ユニットには、所望の輝度の白色を表示する際に前記画素の発光色ごとの有機EL素子に供給される電流の差が小さくなるようにレンズが設けられていることを特徴とする表示装置。 - 必要電流比が大きい有機EL素子を備える画素には、必要電流比が小さい有機EL素子を備える画素よりも集光特性が大きいレンズが設けられていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 必要電流比が大きい有機EL素子を備える画素には、集光特性のあるレンズが設けられ、必要電流比が小さい有機EL素子を備える画素には、レンズが設けられていないことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記集光特性は、凸レンズの曲率半径、又は凸レンズの屈折率によって制御されていることを特徴とする請求項2又は3に記載の表示装置。
- 必要電流比が大きい有機EL素子を備える画素には、必要電流比が小さい有機EL素子を備える画素よりも曲率半径が小さい凸レンズが設けられていることを特徴とする請求項4に記載の表示装置。
- 必要電流比が大きい有機EL素子を備える画素には、必要電流比が小さい有機EL素子を備える画素よりも屈折率大きい凸レンズが設けられていることを特徴とする請求項4に記載の表示装置。
- 前記複数の画素は、赤色又は緑色又は青色を発する画素を有し、
必要電流比が大きい有機EL素子は、青色を発する有機EL素子であることを特徴とする請求項2乃至6のいずれか1項に記載の表示装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011187168A JP2012109214A (ja) | 2010-10-27 | 2011-08-30 | 表示装置 |
US13/274,631 US20120104368A1 (en) | 2010-10-27 | 2011-10-17 | Display apparatus |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010241207 | 2010-10-27 | ||
JP2010241207 | 2010-10-27 | ||
JP2011187168A JP2012109214A (ja) | 2010-10-27 | 2011-08-30 | 表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012109214A true JP2012109214A (ja) | 2012-06-07 |
Family
ID=45995659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011187168A Withdrawn JP2012109214A (ja) | 2010-10-27 | 2011-08-30 | 表示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120104368A1 (ja) |
JP (1) | JP2012109214A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10388913B2 (en) | 2017-11-28 | 2019-08-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device |
US10727442B2 (en) | 2014-11-03 | 2020-07-28 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display apparatus including an encapsulating layer having islands |
US11069759B2 (en) | 2018-11-19 | 2021-07-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device |
US11081676B2 (en) | 2019-07-11 | 2021-08-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Display apparatus |
US11289684B2 (en) | 2020-02-12 | 2022-03-29 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and electronic apparatus |
JP2022080507A (ja) * | 2020-11-18 | 2022-05-30 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置および電子機器 |
US11545528B2 (en) | 2019-09-16 | 2023-01-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Display apparatus |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5471937B2 (ja) * | 2010-07-27 | 2014-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | 発光素子、表示装置および電子機器 |
KR20150019325A (ko) * | 2013-08-13 | 2015-02-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조방법 |
CN106129260B (zh) * | 2016-06-30 | 2019-03-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及显示装置 |
US20210005688A1 (en) * | 2018-02-16 | 2021-01-07 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Display device and manufacturing method thereof |
CN111834544B (zh) * | 2020-06-30 | 2022-08-23 | 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 | 显示面板和显示装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101071137B1 (ko) * | 2005-06-29 | 2011-10-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 렌티큘러방식 입체영상표시장치 |
JP2011065773A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Fujifilm Corp | 有機電界発光装置 |
-
2011
- 2011-08-30 JP JP2011187168A patent/JP2012109214A/ja not_active Withdrawn
- 2011-10-17 US US13/274,631 patent/US20120104368A1/en not_active Abandoned
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US10388913B2 (en) | 2017-11-28 | 2019-08-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device |
US10651428B2 (en) | 2017-11-28 | 2020-05-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device |
US11758761B2 (en) | 2017-11-28 | 2023-09-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device |
US11069759B2 (en) | 2018-11-19 | 2021-07-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device |
US11844242B2 (en) | 2018-11-19 | 2023-12-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device |
US11081676B2 (en) | 2019-07-11 | 2021-08-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Display apparatus |
US11545528B2 (en) | 2019-09-16 | 2023-01-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Display apparatus |
US11289684B2 (en) | 2020-02-12 | 2022-03-29 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and electronic apparatus |
JP2022080507A (ja) * | 2020-11-18 | 2022-05-30 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置および電子機器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120104368A1 (en) | 2012-05-03 |
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