JP2012093679A - Optical filter for display - Google Patents

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Hideyuki Kamei
秀之 亀井
Hiroyuki Nagayama
裕之 永山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter for display including s structure with a mesh-like conductive layer and a hard coat layer on the conductive layer which reduces generation of a large-sized convex defect on the hard coat layer.SOLUTION: An optical filter 20 for display includes a structure with a mesh-like conductive layer 13 on one surface of a transparent base material 12 and a hard coat layer 14 on the conductive layer 13. The hard coat layer 14 is composed of a composition for hard coat layer formation including a polymer whose weight average molecular weight is at least 6000.

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)、ブラウン管(CRT)ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機EL(電界発光)ディスプレイ等のディスプレイの画像表示部に用いられ、電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタ及びディスプレイ用光学フィルタの製造方法に関する。   The present invention is used for an image display part of a display such as a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescence) display, etc. The present invention relates to a method for manufacturing an optical filter.

従来から、プラズマディスプレイパネル(PDP)等のディスプレイから発生する不要な電磁波の輻射を遮蔽するディスプレイ用フィルタとして、フィルタ内にメッシュ状の導電層を設けた電磁波シールド性および光透過性を有するディスプレイ用光学フィルタが用いられている。   Conventionally, as a display filter that shields radiation of unnecessary electromagnetic waves generated from a display such as a plasma display panel (PDP), for a display having an electromagnetic shielding property and a light transmitting property in which a mesh-like conductive layer is provided in the filter. An optical filter is used.

上記ディスプレイ用光学フィルタとして、例えば、1枚の透明基材上に導電層を設け、その上に樹脂組成物のハードコート層や反射防止層等の機能層を積層させたものが開発されている(特許文献1)。ハードコート層や反射防止層は視聴者側の最外面であり、平面性が重視される。特に、平面性が低下すると、光学的歪みにより光学フィルタ表面の反射率が高くなり、外部からの光の影響で、内部の視覚情報が見え難くなる問題が生じる。特に、ハードコート層に突出した凸状欠点の面積(ハードコート層の表面から盛り上がった部分の水平投影面積をいう)が大きい場合はレンズ状の欠点となり、製品歩留り低下の原因となる。   As the optical filter for display, for example, a conductive layer is provided on a single transparent substrate, and a functional layer such as a hard coat layer or an antireflection layer of the resin composition is laminated thereon. (Patent Document 1). The hard coat layer and the antireflection layer are the outermost surfaces on the viewer side, and flatness is important. In particular, when the planarity is lowered, the reflectance of the optical filter surface is increased due to optical distortion, and there is a problem that the internal visual information becomes difficult to see due to the influence of light from the outside. In particular, when the area of the convex defect projecting on the hard coat layer (referring to the horizontal projected area of the portion raised from the surface of the hard coat layer) is large, it becomes a lens-shaped defect, which causes a decrease in product yield.

図3に、ディスプレイ用光学フィルタの例を示す。この光学フィルタでは、透明基材32の表面に形成されたメッシュ状の導電層33の上に、ハードコート層34が形成されている。メッシュ状の導電層は、例えば、導電性インクをメッシュ状に印刷し、更に銅又は銅合金等の金属めっきを施したものである。一般に、凹凸があるメッシュ状の導電層上にハードコート層等を塗工する場合、樹脂組成物を含む塗工液を塗工し、紫外線硬化等により硬化する。この際、導電層上に金属めっきのムラ等による微小な凸部40が存在した場合、塗工液の硬化時に樹脂組成物が凸部40の周囲に、凸部40の径Sよりも極端に大きな径Sの凸状欠点42が形成され、上述の大きな面積のレンズ状の欠点となる場合がある。 FIG. 3 shows an example of an optical filter for display. In this optical filter, the hard coat layer 34 is formed on the mesh-like conductive layer 33 formed on the surface of the transparent substrate 32. The mesh-like conductive layer is obtained by, for example, printing conductive ink in a mesh shape and further performing metal plating such as copper or copper alloy. In general, when a hard coat layer or the like is applied onto a mesh-like conductive layer having irregularities, a coating liquid containing a resin composition is applied and cured by ultraviolet curing or the like. At this time, if a minute convex portion 40 due to metal plating unevenness or the like exists on the conductive layer, the resin composition is more extreme than the diameter S 1 of the convex portion 40 around the convex portion 40 when the coating liquid is cured. large convex defect 42 of diameter S 2 are formed, it may become lenticular drawback of large area above the.

特開2007−243158号公報JP 2007-243158 A

従って、本発明の目的は、メッシュ状の導電層と、導電層上にハードコート層を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、ハードコート層に大きな面積の凸状欠点の発生が低減されたディスプレイ用光学フィルタ、及びその製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is an optical filter for display including a mesh-like conductive layer and a structure having a hard coat layer on the conductive layer, and the occurrence of convex defects having a large area in the hard coat layer is reduced. It is an object of the present invention to provide an optical filter for display and a method for manufacturing the same.

上記目的は、透明基材の一方の表面にメッシュ状の導電層と、当該導電層上にハードコート層を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、前記ハードコート層が、重量平均分子量が6000以上のポリマーを含むハードコート層形成用組成物からなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタによって達成される。   The above object is an optical filter for display comprising a mesh-like conductive layer on one surface of a transparent substrate and a structure having a hard coat layer on the conductive layer, wherein the hard coat layer has a weight average molecular weight. It consists of a composition for forming a hard coat layer containing 6000 or more polymers.

これにより、メッシュ状の導電層上に微小な凸部があっても、ハードコート層形成用組成物が硬化する際に、その凸部の形状に追従し易くなるので、ハードコート層上の盛り上がりが、その凸部の径より極端に大きな径になることを防止することができる。従って、ハードコート層に大きな面積の凸状欠点の発生が低減されたディスプレイ用光学フィルタとすることができる。この要因としては、例えば、ハードコート層形成用組成物中の樹脂成分として、通常より大きい重量平均分子量のポリマーを用いることにより、ハードコート層形成前の樹脂成分の粘度が極めて高くなり、ハードコート層形成後の樹脂成分の位置的変化が少ないためと考えられる。   As a result, even if there are minute protrusions on the mesh-like conductive layer, the hard coat layer forming composition is easy to follow the shape of the protrusions when cured, so the bulge on the hard coat layer However, it can be prevented that the diameter becomes extremely larger than the diameter of the convex portion. Therefore, it can be set as the optical filter for displays by which generation | occurrence | production of the convex-shaped defect of a big area was reduced in the hard-coat layer. As this factor, for example, by using a polymer having a weight average molecular weight larger than usual as a resin component in the composition for forming a hard coat layer, the viscosity of the resin component before the formation of the hard coat layer becomes extremely high. This is probably because the positional change of the resin component after the layer formation is small.

本発明に係るディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様は以下の通りである。
(1)前記ポリマーの重量平均分子量が6000〜200000である。ポリマーの重量平均分子量が上記範囲であれば、ハードコート層の硬さをより高くすることができる。
(2)前記ハードコート層形成用組成物が、更に、重合性基を備えたモノマーを含む。ハードコート層形成用組成物に重量平均分子量が大きいポリマーを用いた場合、ハードコート層の機能として重要な耐擦傷性が低下する場合がある。重合性基を備えたモノマーを併用することにより、ハードコート表面に大きな面積の凸状欠点の発生を低減するとともに、ハードコート層の耐擦傷性を向上させることができる。
(3)前記モノマーが、1分子中に3個以上の重合性基を備えたモノマーである。
(4)前記モノマーが、分子量が3000以下である。これにより、更に、ハードコート層の耐擦傷性を向上することができる。重合性基を備えたモノマーは、分子量700以下のものが好ましい。
(5)前記ハードコート層形成用組成物における前記ポリマーの前記モノマーに対する質量比(ポリマー/モノマー)が、1/1〜1/10である。これにより、更に、ハードコート層における大きな面積の凸状欠点の発生の低減と耐擦傷性の向上を両立させることができる。
(6)前記重合性基が、光重合性基である。ハードコート層の形成には光硬化型が、短時間に硬化でき、生産性に優れるので好ましい。
(7)前記重合性基が、エチレン性不飽和二重結合を有する基である。
(8)前記エチレン性不飽和二重結合を有する基が、(メタ)アクリロイル基である。
(9)前記導電層上に、微小な凸部を有する。導電層上に凸部を有するとは、導電層のメッシュ上、又はメッシュの開口部上にメッシュの高さを超えた凸部を有することをいう。本発明においては、特にそのような微小な凸部が存在する場合に、大きな面積の凸状欠点の発生を防止できるので有効である。
(10)前記導電層が、金属めっき層を有する。金属めっき層の形成時に、上述のような導電層上に微小な凸部が生じる場合があるので、特に本発明が有効である。
(11)前記ハードコート層の前記透明基材表面からの層厚(D)と、前記導電層のメッシュの前記透明基材表面からの高さ(H)との差(D−H)が、1〜5μmである。ハードコート層の層厚が上記の範囲であれば、導電層上に微小な凸部があっても、その凸部に対する追従性が高いので、大きな面積の凸状欠点の発生を、更に低減することができる。
Preferred embodiments of the optical filter for display according to the present invention are as follows.
(1) The polymer has a weight average molecular weight of 6,000 to 200,000. If the weight average molecular weight of a polymer is the said range, the hardness of a hard-coat layer can be made higher.
(2) The composition for forming a hard coat layer further contains a monomer having a polymerizable group. When a polymer having a large weight average molecular weight is used for the composition for forming a hard coat layer, the scratch resistance important as a function of the hard coat layer may be lowered. By using a monomer having a polymerizable group in combination, the occurrence of convex defects having a large area on the hard coat surface can be reduced, and the scratch resistance of the hard coat layer can be improved.
(3) The monomer is a monomer having three or more polymerizable groups in one molecule.
(4) The monomer has a molecular weight of 3000 or less. Thereby, the scratch resistance of the hard coat layer can be further improved. The monomer having a polymerizable group preferably has a molecular weight of 700 or less.
(5) The mass ratio of the polymer to the monomer (polymer / monomer) in the hard coat layer forming composition is 1/1 to 1/10. Thereby, it is possible to further reduce the occurrence of convex defects having a large area in the hard coat layer and improve the scratch resistance.
(6) The polymerizable group is a photopolymerizable group. For the formation of the hard coat layer, a photo-curing type is preferable because it can be cured in a short time and has excellent productivity.
(7) The polymerizable group is a group having an ethylenically unsaturated double bond.
(8) The group having an ethylenically unsaturated double bond is a (meth) acryloyl group.
(9) It has a minute convex part on the conductive layer. Having a convex portion on the conductive layer means having a convex portion that exceeds the height of the mesh on the mesh of the conductive layer or on the opening of the mesh. In the present invention, in particular, when such a minute convex portion exists, it is possible to prevent occurrence of a convex defect having a large area, which is effective.
(10) The conductive layer has a metal plating layer. Since a minute convex part may arise on the above conductive layers when forming a metal plating layer, the present invention is particularly effective.
(11) The difference (DH) between the layer thickness (D) of the hard coat layer from the transparent substrate surface and the height (H) of the mesh of the conductive layer from the transparent substrate surface, 1-5 μm. If the thickness of the hard coat layer is in the above range, even if there are minute convex portions on the conductive layer, the followability to the convex portions is high, so the occurrence of convex defects with a large area is further reduced. be able to.

本発明のディスプレイ用光学フィルタによれば、メッシュ状の導電層上に微小な凸部があっても、ハードコート層上の盛り上がりが、その凸部の径より極端に大きな径になることが防止されているので、ハードコート層に大きな面積の凸状欠点の発生が低減することができる。従って、高品質なディスプレイ用光学フィルタを高い歩留りで得ることができる。   According to the optical filter for display of the present invention, even if there are minute convex portions on the mesh-like conductive layer, the bulge on the hard coat layer is prevented from becoming an extremely larger diameter than the diameter of the convex portions. Therefore, the occurrence of a convex defect having a large area in the hard coat layer can be reduced. Therefore, a high quality optical filter for display can be obtained with a high yield.

本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な一例を示し、図1(a)ディスプレイ用光学フィルタの概略断面図であり、図1(b)は図1(a)の破線で囲んだ部分を拡大して示した概略断面図である。1 shows a typical example of an optical filter for display according to the present invention, and FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of the optical filter for display. FIG. 1B is an enlarged view of a portion surrounded by a broken line in FIG. It is the schematic sectional drawing shown. 本発明のディスプレイ用光学フィルタの評価方法の1種である、凸部欠点歪みサイズの測定方法を説明する概略平面図である(実施例参照)。It is a schematic plan view explaining the measuring method of the convex part fault distortion size which is 1 type of the evaluation method of the optical filter for displays of this invention (refer an Example). 本発明の課題を説明するため、従来技術のディスプレイ用光学フィルタの1例を示す、概略断面図である。In order to demonstrate the subject of this invention, it is a schematic sectional drawing which shows an example of the optical filter for display of a prior art.

以下に、本発明のディスプレイ用光学フィルタ及びディスプレイ用光学フィルタの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な1例を示し、図1(a)ディスプレイ用光学フィルタの概略断面図であり、図1(b)は図1(a)の破線で囲んだ部分を拡大して示した概略断面図である。   Below, the optical filter for display of this invention and the manufacturing method of the optical filter for display are demonstrated, referring drawings. FIG. 1 shows a typical example of a display optical filter according to the present invention. FIG. 1 (a) is a schematic sectional view of the display optical filter, and FIG. 1 (b) is a broken line in FIG. 1 (a). It is the schematic sectional drawing which expanded and showed the enclosed part.

なお、本発明において、アクリル系化合物の「重量平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)法を用いてポリスチレン換算で測定した値をいう。   In the present invention, the “weight average molecular weight” of an acrylic compound refers to a value measured in terms of polystyrene using a gel permeation chromatography (GPC) method.

また、本発明において、ハードコート層とは、JIS K5600(1999)で規定される鉛筆硬度試験でH以上の硬度を有するものをいう。   Moreover, in this invention, a hard-coat layer means what has the hardness more than H by the pencil hardness test prescribed | regulated by JISK5600 (1999).

図1(a)に示す通り、ディスプレイ用光学フィルタ20においては、矩形状の透明基材12の表面全域にメッシュ状の導電層13が形成されている。なお、透明基材12と導電層13との間に中間層が形成されていても良い(図示していない)。その上にハードコート層14が形成され、さらにその上に、反射防止層として、高屈折率層15及び低屈折率層16が形成されている。透明基材12の導電層13が形成された面の他面上には、近赤外線層17及び粘着剤層18が形成されており、光学フィルタ20は粘着剤層18を介して、ガラス基板21に張り付けられて使用される。反射防止層として、高屈折率層15及び低屈折率層16は無くても良いが、光学フィルタとして、外部の光の反射を抑えるために反射防止層が形成されていることが好ましい。反射防止層は、図1に示すように高屈折率層15と低屈折率層16と組み合わせた層でも良く、低屈折率層16のみでも良い。   As shown in FIG. 1A, in the display optical filter 20, a mesh-like conductive layer 13 is formed over the entire surface of the rectangular transparent substrate 12. An intermediate layer may be formed between the transparent substrate 12 and the conductive layer 13 (not shown). A hard coat layer 14 is formed thereon, and a high refractive index layer 15 and a low refractive index layer 16 are further formed thereon as an antireflection layer. A near-infrared layer 17 and an adhesive layer 18 are formed on the other surface of the transparent substrate 12 on which the conductive layer 13 is formed, and the optical filter 20 is placed on the glass substrate 21 via the adhesive layer 18. Used by sticking to. Although the high refractive index layer 15 and the low refractive index layer 16 may be omitted as the antireflection layer, it is preferable that an antireflection layer is formed as an optical filter in order to suppress reflection of external light. The antireflection layer may be a layer combined with the high refractive index layer 15 and the low refractive index layer 16 as shown in FIG.

なお、導電層13から外部への導通を図るため、光学フィルタ20には、光学フィルタの周囲のハードコート層等の機能層をレーザー照射等により除去して導電層を露出させたり、導電性粘着テープを導電層に挟みこんだりして外部に接地させる等の構造が含まれる(図示していない)。   In order to conduct electricity from the conductive layer 13 to the outside, the optical filter 20 has a functional layer such as a hard coat layer around the optical filter removed by laser irradiation or the like to expose the conductive layer, or conductive adhesive. It includes a structure in which a tape is sandwiched between conductive layers and grounded to the outside (not shown).

本発明においては、ハードコート層14が、重量平均分子量6000以上のポリマーを含むハードコート層形成用組成物からなる。   In the present invention, the hard coat layer 14 is composed of a hard coat layer forming composition containing a polymer having a weight average molecular weight of 6000 or more.

一般に、メッシュ状の導電層が形成された透明基材にハードコート層を形成する場合、比較的低分子の重合性基を有するモノマー又はオリゴマーを主成分とするハードコート層形成用組成物を塗工し、これを紫外線照射等により硬化させる。この際、図3に示した光学フィルタの例のように、導電層33上に微小な凸部40が存在した場合、ハードコート層形成用組成物中のモノマー又はオリゴマーが重合・硬化する際に、凸部40に引っ張られる様にハードコート層34表面に歪みが生じ、凸部40の径Sより極端に大きな径Sの凸状欠点42がハードコート層34上に生じる場合がある。 In general, when a hard coat layer is formed on a transparent substrate on which a mesh-like conductive layer is formed, a composition for forming a hard coat layer mainly composed of a monomer or oligomer having a relatively low molecular weight polymerizable group is applied. And harden it by ultraviolet irradiation or the like. At this time, as in the example of the optical filter shown in FIG. 3, when the minute protrusion 40 is present on the conductive layer 33, the monomer or oligomer in the hard coat layer forming composition is polymerized and cured. In some cases, the surface of the hard coat layer 34 is distorted so as to be pulled by the convex portion 40, and a convex defect 42 having a diameter S 2 that is extremely larger than the diameter S 1 of the convex portion 40 may occur on the hard coat layer 34.

本発明においては、ハードコート層形成用組成物中に、上記の重量平均分子量のポリマーを含んでいるので、図1(b)に示すように、導電層13上に微小な凸部50が存在した場合でも、ハードコート層が形成される際に、凸部50の形状を追従し易くなっており、ハードコート層14上には、凸部50の径Tから極端に大きくない径Tの凸部52が形成されるに留まる。この要因としては、例えば以下のように考えられる。即ち、ハードコート層形成用組成物中に上記ポリマーを用いることにより、ハードコート層形成用組成物を塗工した後、乾燥して溶剤を除去すると、樹脂成分の粘度が極めて高くなり、流動性がほとんど無くなることになる。そうすると、ハードコート層形成前後の樹脂成分の位置的変化が少ないため、導電層上13の凸部50の形状に追従し易くなるものと考えられる。 In the present invention, since the hard coat layer forming composition contains the polymer having the above weight average molecular weight, there are minute convex portions 50 on the conductive layer 13 as shown in FIG. Even when the hard coat layer is formed, the shape of the convex portion 50 can be easily followed when the hard coat layer is formed, and the diameter T 2 which is not extremely large from the diameter T 1 of the convex portion 50 on the hard coat layer 14. The convex portion 52 is only formed. As this factor, for example, it is considered as follows. That is, by using the above polymer in the hard coat layer forming composition, when the hard coat layer forming composition is applied and then dried and the solvent is removed, the viscosity of the resin component becomes extremely high, and the fluidity Will almost disappear. Then, since the positional change of the resin component before and after the hard coat layer is formed is small, it is considered that the shape of the convex portion 50 on the conductive layer 13 can be easily followed.

ハードコート層上の凸部は、その面積が大きい場合、レンズ状の凸状欠点となり問題となるが、図1のディスプレイ用光学フィルタ20における、凸部52程度であれば、光学フィルタの品質上問題とならない。従って、本発明のディスプレイ用フィルタは、ハードコート層に大きな面積の凸状欠点の発生が低減され、高い歩留りで製造可能な高品質なディスプレイ用光学フィルタである。   If the convex portion on the hard coat layer has a large area, it becomes a lens-like convex defect, which causes a problem. However, if the convex portion is about 52 in the optical filter for display 20 in FIG. It doesn't matter. Therefore, the display filter of the present invention is a high-quality optical filter for display that can reduce the occurrence of convex defects having a large area in the hard coat layer and can be manufactured with a high yield.

本発明のハードコート層形成用組成物におけるポリマーは、重量平均分子量が6000以上であれば、どのようなものでも良く、重合性基を備えていても、いなくても良い。重量平均分子量が大き過ぎるとハードコート層としての硬さが低下する場合があるので、重量平均分子量は6000〜200000が好ましく、7000〜80000が更に好ましい。これらのポリマーは1種でも2種以上のポリマーで構成されていても良い。   The polymer in the composition for forming a hard coat layer of the present invention may be any polymer as long as the weight average molecular weight is 6000 or more, and may or may not have a polymerizable group. If the weight average molecular weight is too large, the hardness of the hard coat layer may be lowered. Therefore, the weight average molecular weight is preferably 6000 to 200000, and more preferably 7000 to 80000. These polymers may be composed of one kind or two or more kinds of polymers.

例えば、骨格成分がポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、ポリ(アクリロニトリル/スチレン)、ポリ((メタ)アクリル酸2−ヒドロキシメチル/(メタ)アクリル酸メチル)、ポリ((メタ)アクリル酸2−ヒドロキシメチル/(メタ)アクリル酸ブチル)、及び、これらの樹脂とシリコーン樹脂との共重合体、
ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等)と、有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2’−4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)と、水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウレタン(メタ)アクリレート、等を挙げることができる。
For example, if the skeleton component is poly (meth) acrylate methyl, poly (meth) acrylate butyl, poly (acrylonitrile / styrene), poly ((meth) acrylate 2-hydroxymethyl / (meth) acrylate), poly ( (Meth) acrylic acid 2-hydroxymethyl / (meth) acrylic acid butyl), and copolymers of these resins and silicone resins,
Polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1, Polyols such as 3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc., or their acid anhydrides, and the above-mentioned polyols and ε-capro Polycaprolactone polyols which are reaction products with kuton, reaction products of the above-mentioned polyols with the above polybasic acids or ε-caprolactone of these acid anhydrides, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates (for example, , Tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, dicyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4- Trimethylhexamethylene diisocyanate) and hydroxyl group-containing (meth) acrylates (for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxy Loxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, And polyurethane (meth) acrylate, which is a reaction product of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, and the like.

これら化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。   These compounds can be used alone or in combination.

市販品としては、ビームセット371(荒川化学工業社製)、マクロモノマーAA−6、AA−10、AS−6、AB−6、AA−10、AN−6S(以上、東亜合成社製)、HCX−201−54(アデカ社製)、フォレットM−80(綜研化学社製)等が挙げられる。   Commercially available products include Beamset 371 (Arakawa Chemical Industries), Macromonomer AA-6, AA-10, AS-6, AB-6, AA-10, AN-6S (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), HCX-201-54 (manufactured by Adeka), Foret M-80 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

また、ハードコート層形成用組成物に重量平均分子量が大きいポリマーを用いた場合、ハードコート層の機能として、耐擦傷性が低下する場合があるため、ハードコート層形成用組成物が、更に、重合性基を備えたモノマーを含むことが好ましい。反応性の点で、1分子中に3個以上の重合性基を備えたモノマーが好ましい。また、上記重合性基を備えたモノマーの分子量は、3000以下が好ましく、700以下が更に好ましく、200〜600が特に好ましい。モノマーの分子量は、重量平均分子量であっても、化学式から得られる式量であっても良い。なお、この場合のモノマーは、オリゴマーであっても良い。上記モノマーを併用することにより、ハードコート層の大きな面積の凸状欠点の発生を低減するとともに、ハードコート層の耐擦傷性を向上させることができる。   In addition, when a polymer having a large weight average molecular weight is used for the hard coat layer forming composition, the hard coat layer may have reduced scratch resistance as a function of the hard coat layer. It is preferable to include a monomer having a polymerizable group. From the viewpoint of reactivity, a monomer having three or more polymerizable groups in one molecule is preferable. Moreover, the molecular weight of the monomer having the polymerizable group is preferably 3000 or less, more preferably 700 or less, and particularly preferably 200 to 600. The molecular weight of the monomer may be a weight average molecular weight or a formula weight obtained from a chemical formula. In this case, the monomer may be an oligomer. By using the monomer in combination, it is possible to reduce the occurrence of convex defects having a large area in the hard coat layer and improve the scratch resistance of the hard coat layer.

また、ハードコート層形成用組成物における上記ポリマーと上記モノマーの配合比には特に制限は無いが、より、ハードコート層における大きな面積の凸状欠点の発生の低減と耐擦傷性の向上を両立させるためには、上記ポリマーの上記モノマーに対する質量比(ポリマー/モノマー)は、1/1〜1/10が好ましく、1/3〜1/7が更に好ましい。   In addition, the mixing ratio of the polymer and the monomer in the composition for forming a hard coat layer is not particularly limited. However, both the occurrence of convex defects having a large area in the hard coat layer and the improvement of scratch resistance are compatible. In order to achieve this, the mass ratio of the polymer to the monomer (polymer / monomer) is preferably 1/1 to 1/10, and more preferably 1/3 to 1/7.

本発明において、上記モノマーの重合性基は、熱重合性基、光重合性基のいずれでも良い。紫外線照射により短時間に硬化させることができ、生産性に優れる点で、上記重合性基は光重合性基が好ましい。   In the present invention, the polymerizable group of the monomer may be either a thermally polymerizable group or a photopolymerizable group. The polymerizable group is preferably a photopolymerizable group in that it can be cured in a short time by ultraviolet irradiation and is excellent in productivity.

重合性基は、エチレン性不飽和二重結合を有する基や、エポキシ基、オキセタン基等の環状エーテル基等どのようなものでも良いが、反応性の点で、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましく、特に、(メタ)アクリロイル基が好ましい。   The polymerizable group may be any group such as a group having an ethylenically unsaturated double bond or a cyclic ether group such as an epoxy group or an oxetane group. However, in terms of reactivity, an ethylenically unsaturated double bond may be used. And a (meth) acryloyl group is particularly preferable.

重合性基(好ましくは1分子中に3個以上)を備えたモノマー(又はオリゴマー)としてはどのようなものでも良い。(メタ)アクリロイル基を備えたモノマー(又はオリゴマー)としては、上記のポリマーの例示と同様な成分からなるモノマーやオリゴマーでも良く、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。特に、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。   Any monomer (or oligomer) having a polymerizable group (preferably 3 or more per molecule) may be used. The monomer (or oligomer) having a (meth) acryloyl group may be a monomer or an oligomer composed of the same components as those exemplified in the above polymer, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate. 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, di Cyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate , O-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, tricyclodecandi Methylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) Acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, dito (Meth) acrylate monomers such as methylolpropane tetra (meth) acrylate, bisphenol type epoxy resin such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and bisphenol type epoxy (meth) which is a reaction product of (meth) acrylic acid Examples include (meth) acrylate oligomers such as acrylate. These compounds can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to mainly use hard polyfunctional monomers such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

更に、ハードコート層形成用組成物には光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤は、使用する樹脂成分の性質に適した任意の化合物を使用することができる。   Furthermore, it is preferable to mix | blend a photoinitiator with the composition for hard-coat layer formation. As the photopolymerization initiator, any compound suitable for the properties of the resin component to be used can be used.

例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、2−4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、4−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第3級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の1種または2種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの1種または2種以上の混合で使用することができる。特に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、イルガキュア184)が好ましい。   For example, acetophenone such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 Benzoin series such as benzyl dimethyl ketal, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzophenone series such as hydroxybenzophenone, thioxanthone series such as isopropylthioxanthone, 2-4-diethylthioxanthone, and other special types include methylphenyl glyoxylate Etc. can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid type or tertiary amine type such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. In particular, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184) is preferable.

光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。   Generally the quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.

さらに、ハードコート層形成用組成物は、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。特に、紫外線吸収剤(例、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤)を含むことが好ましく、これによりフィルタの黄変等の防止が効率的に行うことができる。その量は、樹脂組成物に対して一般に0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。   Furthermore, the composition for forming a hard coat layer may contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a paint processing aid, a colorant and the like. In particular, it is preferable to contain an ultraviolet absorber (for example, a benzotriazole-based ultraviolet absorber or a benzophenone-based ultraviolet absorber), whereby yellowing of the filter can be efficiently prevented. The amount thereof is generally 0.1 to 10% by mass, preferably 0.1 to 5% by mass, based on the resin composition.

ハードコート層を形成するには、例えば、上述のような樹脂成分、光重合開始剤、必要に応じて添加剤を含むハードコート層形成用組成物をトルエン、n−ヘキサン、メチルエチルケトン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。   In order to form the hard coat layer, for example, the hard coat layer forming composition containing the resin component, the photopolymerization initiator, and the additive as necessary is added with a solvent such as toluene, n-hexane, or methyl ethyl ketone. An example is a method in which a coating solution in solution is coated with a gravure coater or the like, then dried, and then cured with ultraviolet rays. This wet coating method has the advantage that the film can be uniformly formed at high speed at low cost. After this coating, for example, by irradiating with ultraviolet rays and curing, effects of improving adhesion and increasing the hardness of the film can be obtained.

紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を40〜120℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。   In the case of ultraviolet curing, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be used as the light source, such as ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury lamp, carbon arc lamp, incandescent lamp. And laser light. The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several seconds to several minutes. Moreover, in order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 40 to 120 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.

ハードコート層の層厚は、通常、透明基材表面から1〜50μm、好ましくは5〜20μmである。本発明においては、導電層13上に微小な凸部50が存在する場合に、凸部50に対するハードコート層の追従性を高くするために、ハードコート層13の透明基材12表面からの層厚(D)と、導電層13のメッシュの透明基材12表面からの高さ(H)との差(D−H)が、1〜5μmであることが好ましい(図1(b)参照)。   The layer thickness of the hard coat layer is usually 1 to 50 μm, preferably 5 to 20 μm from the surface of the transparent substrate. In the present invention, in the case where the minute protrusions 50 are present on the conductive layer 13, in order to increase the followability of the hard coat layer to the protrusions 50, the layer of the hard coat layer 13 from the surface of the transparent substrate 12 is used. The difference (D−H) between the thickness (D) and the height (H) of the mesh of the conductive layer 13 from the surface of the transparent substrate 12 is preferably 1 to 5 μm (see FIG. 1B). .

後述する実施例で述べるように、層厚が薄いほど、凸部に対する追従性が高くなるからである。これにより、ハードコート層13の大きな面積の凸状欠点の発生を、更に低減することができる。   This is because as the thickness of the layer decreases, the followability to the convex portion increases as described in the examples described later. Thereby, generation | occurrence | production of the convex-shaped defect of the big area of the hard-coat layer 13 can further be reduced.

本発明のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の目的を達成することができれば、どのような材料や工程を用いても良い。以下に好ましい態様を説明する。   Any material and process may be used for the optical filter for display of the present invention as long as the object of the present invention can be achieved. A preferred embodiment will be described below.

[透明基材]
透明基材は、一般に、透明なプラスチックフィルムである。その材料としては、透明(「可視光に対して透明」を意味する。)であれば特に制限はない。プラスチックフィルムの例としては、ポリエステル[例、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート]、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷(熱、溶剤、折り曲げ等)に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等が好ましい。特に、PETが、加工性に優れているので好ましい。また、近赤外吸収層等に含まれる有機色素類は紫外線を受けて耐久性が低下しやすいが、PET等のポリエステルはこのような紫外線を吸収する傾向があり好ましい。透明基材の表面には各機能層の密着性を良くするための易接着層を設けても良い。易接着層は、例えば、共重合ポリエステル樹脂とポリウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂のみ、又はそれらの樹脂に、SiO、ZrO、TiO、Al等の金属酸化微粒子、好ましくは平均粒径1〜100nmの金属酸化微粒子を配合して、屈折率を調整したものが用いられる。
[Transparent substrate]
The transparent substrate is generally a transparent plastic film. The material is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”). Examples of plastic films include polyester [eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate], polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, poly Examples thereof include vinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability. In addition, organic dyes contained in the near-infrared absorbing layer and the like are likely to be deteriorated in durability by receiving ultraviolet rays, but polyesters such as PET are preferable because they tend to absorb such ultraviolet rays. You may provide the easily bonding layer for improving the adhesiveness of each functional layer on the surface of a transparent base material. The easy-adhesion layer is, for example, a thermosetting resin such as a copolyester resin and a polyurethane resin, or a metal oxide fine particle such as SiO 2 , ZrO 2 , TiO 2 , or Al 2 O 3 , preferably an average. What adjusted the refractive index by mix | blending metal oxide fine particles with a particle size of 1-100 nm is used.

透明基材の厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に1μm〜10mm、1μm〜5mm、特に25〜250μmが好ましい。   The thickness of the transparent substrate varies depending on the use of the optical filter and the like, but generally 1 μm to 10 mm, 1 μm to 5 mm, particularly 25 to 250 μm is preferable.

[導電層]
メッシュ状の導電層は、一般に10Ω/□以下、好ましくは0.001〜5Ω/□の範囲、特に0.005〜5Ω/□のとなるように設定される。メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
[Conductive layer]
The mesh-like conductive layer is generally set to be 10Ω / □ or less, preferably in the range of 0.001 to 5Ω / □, particularly 0.005 to 5Ω / □. As the mesh-like conductive layer, metal fibers and metal-coated organic fiber metals made into a mesh, copper foil on a transparent film etched into a mesh and provided with openings, conductive on the transparent film And the like, in which a conductive ink is printed in a mesh shape.

メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなる線径1μm〜1mm、開口率40〜95%のものが好ましい。より好ましい線径は10〜500μm、開口率は50〜95%である。メッシュ状の導電層において、線径が1mmを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。1μm未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が95%を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、40%未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。   In the case of a mesh-shaped conductive layer, the mesh preferably has a wire diameter of 1 μm to 1 mm and an aperture ratio of 40 to 95% made of metal fibers and / or metal-coated organic fibers. A more preferable wire diameter is 10 to 500 μm, and an aperture ratio is 50 to 95%. When the wire diameter exceeds 1 mm in the mesh-like conductive layer, the electromagnetic wave shielding property is improved, but the aperture ratio is lowered and cannot be made compatible. If it is less than 1 μm, the strength as a mesh is lowered and handling becomes difficult. Further, when the aperture ratio exceeds 95%, it is difficult to maintain the shape as a mesh. When the aperture ratio is less than 40%, the light transmittance is reduced, and the light amount from the display is also reduced.

なお、メッシュの開口率とは、当該メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。   In addition, the aperture ratio of a mesh means the area ratio which the opening part occupies in the projection area of the said mesh.

導電層のメッシュの透明基材表面からの高さは1〜15μmが好ましく、更に3〜10μmが好ましい。   1-15 micrometers is preferable and, as for the height from the transparent base material surface of the mesh of a conductive layer, 3-10 micrometers is more preferable.

メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素又はこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。   As the metal of the mesh-like conductive layer and the metal of the metal-coated organic fiber, copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, carbon or alloys thereof, preferably copper, Stainless steel and nickel are used.

金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。   As the organic material for the metal-coated organic fiber, polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.

金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。   When a conductive foil such as a metal foil is subjected to pattern etching, copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or aluminum is used as the metal of the metal foil.

金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、1〜200μm程度とするのが好ましい。   If the thickness of the metal foil is too thin, it is not preferable in terms of handleability and workability of pattern etching, and if it is too thick, it affects the thickness of the film obtained, and the time required for the etching process becomes long. The thickness is preferably about 1 to 200 μm.

エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、20〜95%が好ましく、更に好ましくは40〜95%、特に60〜95%が好ましい。   The shape of the etching pattern is not particularly limited, and examples thereof include a grid-like metal foil in which square holes are formed, and a punching metal-like metal foil in which circular, hexagonal, triangular or elliptical holes are formed. It is done. Further, the holes are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. The area ratio of the opening portion on the projection surface of the metal foil is preferably 20 to 95%, more preferably 40 to 95%, and particularly preferably 60 to 95%.

上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状の導電層を用いても良い。   In addition to the above, as a mesh-like conductive layer, dots are formed on the film surface by a material soluble in a solvent, and a conductive material layer made of a conductive material insoluble in a solvent is formed on the film surface, A mesh-like conductive layer obtained by bringing the film surface into contact with a solvent to remove the dots and the conductive material layer on the dots may be used.

導電層の上層に、さらに金属めっき層を、導電性を向上させるために設けても良い。金属めっき層は、公知の電解めっき法、無電解めっき法により形成することができる。めっきに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。   A metal plating layer may be further provided on the conductive layer in order to improve conductivity. The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. As the metal used for plating, it is generally possible to use copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc, tin or the like, preferably copper, copper alloy, silver, or nickel, In particular, it is preferable to use copper or a copper alloy from the viewpoint of economy and conductivity.

また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、(メッシュ)導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。   Moreover, you may give anti-glare performance. When this anti-glare treatment is performed, a blackening treatment may be performed on the surface of the (mesh) conductive layer. For example, oxidation treatment of a metal film, black plating such as chromium alloy, application of black or dark ink, and the like can be performed.

上述の通り、本発明においては、導電層上に微小な凸部を有する場合に有効である。特に、導電層が、金属めっき層を有する場合に、金属めっき層を形成するめっき工程において、めっきムラ等により、このような微小な凸部が生じる場合があるので、有効である。   As described above, the present invention is effective when the conductive layer has a minute convex portion. In particular, when the conductive layer has a metal plating layer, such a minute convex portion may be generated due to uneven plating in the plating step for forming the metal plating layer, which is effective.

[反射防止層]
反射防止層の内、高屈折率層は、樹脂成分(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に、ITO,ATO,Sb,SbO,In,SnO,ZnO、AlをドープしたZnO、TiO等の導電性金属酸化物微粒子(無機化合物)が分散した層(硬化層)とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径10〜10000nm、好ましくは10〜50nmのものが好ましい。特にITO(特に平均粒径10〜50nmのもの)が好ましい。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。
[Antireflection layer]
Among the antireflection layers, the high refractive index layer is doped with ITO, ATO, Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, and Al in the resin component (preferably UV curable resin). It is preferable to use a layer (cured layer) in which conductive metal oxide fine particles (inorganic compounds) such as ZnO and TiO 2 are dispersed. The metal oxide fine particles preferably have an average particle size of 10 to 10,000 nm, preferably 10 to 50 nm. In particular, ITO (especially having an average particle diameter of 10 to 50 nm) is preferable. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.

反射防止層の内、低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを10〜40重量%(好ましくは10〜30質量%)が樹脂成分(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に分散した層(硬化層)であることが好ましい。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。中空シリカとしては、平均粒径10〜100nm、好ましくは10〜50nm、比重0.5〜1.0、好ましくは0.8〜0.9のものが好ましい。   Of the antireflection layer, the low refractive index layer is composed of fine particles such as silica and fluororesin, preferably 10 to 40% by weight (preferably 10 to 30% by weight) of hollow silica resin component (preferably UV curable resin). A layer (cured layer) dispersed therein is preferable. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm. As the hollow silica, those having an average particle diameter of 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm, and a specific gravity of 0.5 to 1.0, preferably 0.8 to 0.9 are preferable.

これらの反射防止層に使用する樹脂成分としては、通常のハードコート層と同様なものが使用できる。一般にフェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコーン樹脂などの熱硬化性樹脂、又は紫外線硬化性樹脂であり、上述の通り、短時間で硬化させることができ、生産性に優れる点から紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、紫外線硬化性樹脂組成物(紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる)として使用する。紫外線硬化性樹脂としては、上述のポリマー、モノマー等を使用できる。   As the resin component used for these antireflection layers, the same resin components as those for ordinary hard coat layers can be used. Generally, it is a thermosetting resin such as phenol resin, resorcinol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, furan resin, silicone resin, or ultraviolet curable resin. An ultraviolet curable resin is preferable from the viewpoint of excellent productivity. When an ultraviolet curable resin is used, it is used as an ultraviolet curable resin composition (consisting of an ultraviolet curable resin, a photopolymerization initiator, etc.). As the ultraviolet curable resin, the above-mentioned polymers, monomers and the like can be used.

上述のハードコート層と合わせて全体として可視光線透過率が85%以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも85%以上であることが好ましい。   The visible light transmittance as a whole is preferably 85% or more together with the hard coat layer described above. Both the visible light transmittance of the high refractive index layer and the low refractive index layer are preferably 85% or more.

ハードコート層と上記2層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは全体で1〜20μm、高屈折率層の厚さは50〜150nm、低屈折率層の厚さは50〜150nmであることが好ましい。   When the hard coat layer and the above two layers are used, for example, the hard coat layer has a total thickness of 1 to 20 μm, the high refractive index layer has a thickness of 50 to 150 nm, and the low refractive index layer has a thickness of 50 to 50 μm. It is preferable that it is 150 nm.

反射防止層を形成するには、上述のハードコート層の場合と同様に形成することができる。この場合、ハードコート層、反射防止層の各層を1層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。連続加工の場合、各層の塗工後に硬化をしないと、塗工面に傷が付く場合があるので、各層を1層ずつ塗工し硬化するのが好ましい。   The antireflection layer can be formed in the same manner as the hard coat layer described above. In this case, each layer of the hard coat layer and the antireflection layer may be applied and cured one by one, or all the layers may be applied and then cured together. In the case of continuous processing, the coating surface may be scratched unless it is cured after application of each layer. Therefore, it is preferable to coat and cure each layer one by one.

[近赤外線吸収層]
透明基材の導電層が形成された面の他面上に形成される近赤外線吸収層は、一般に、基板フィルムの表面に色素等を含む層が形成されることにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に800〜1200nmの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
[Near-infrared absorbing layer]
The near-infrared absorbing layer formed on the other surface of the transparent substrate on which the conductive layer is formed is generally obtained by forming a layer containing a pigment or the like on the surface of the substrate film. The near-infrared absorbing layer can be obtained, for example, by applying a coating liquid containing the above-described pigment and binder resin, and if necessary, drying and curing. Alternatively, it can also be obtained by applying a coating solution containing the above-mentioned pigment and binder resin and simply drying it. When used as a film, it is generally a near-infrared cut film, such as a film containing a pigment or the like. The dye generally has an absorption maximum at a wavelength of 800 to 1200 nm. Examples include phthalocyanine dyes, metal complex dyes, nickel dithiolene complex dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, polymethine dyes, Examples include azomethine dyes, azo dyes, polyazo dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and anthraquinone dyes, and cyanine dyes, phthalocyanine dyes, and diimonium dyes are particularly preferable. These dyes can be used alone or in combination. Examples of the binder resin include thermoplastic resins such as acrylic resins.

近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能(ネオンカット機能)を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層(ネオンカット層)を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。   The near-infrared absorbing layer may be provided with a function of adjusting color tone by providing a neon emission absorbing function (neon cut function). For this purpose, a neon-emission absorption layer (neon cut layer) may be provided, but a neon-emission selective absorption dye may be included in the near-infrared absorption layer.

ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、585nm付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が575〜595nmであり、吸収スペクトル半値幅が40nm以下であるものが好ましい。   Examples of selective absorption dyes for neon emission include cyanine dyes, squarylium dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, polymethine dyes, polyazo dyes, azurenium dyes, diphenylmethane dyes, and triphenylmethane dyes. it can. Such a selective absorption dye is required to have a selective absorption of neon emission near 585 nm and a small absorption at other visible light wavelengths, so that the absorption maximum wavelength is 575 to 595 nm and the absorption spectrum half width is What is 40 nm or less is preferable.

また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。   Also, when combining multiple types of near-infrared or neon luminescent absorbing dyes, if there is a problem with the solubility of the dye, if there is a reaction between the dyes due to mixing, if there is a decline in heat resistance, moisture resistance, etc. All the near-infrared absorbing dyes need not be contained in the same layer, and may be contained in another layer.

また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。   Further, as long as the optical properties are not greatly affected, coloring pigments, ultraviolet absorbers, antioxidants and the like may be further added.

近赤外線吸収特性としては、850〜1000nmの透過率を、20%以下、さらに15%するのが好ましい。また選択吸収性としては、585nmの透過率が50%以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、575〜595nmにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。近赤外線吸収層の層厚は、0.5〜50μmが一般的である。   As near-infrared absorption characteristics, it is preferable that the transmittance of 850 to 1000 nm is 20% or less, and further 15%. Moreover, as selective absorptivity, it is preferable that the transmittance | permeability of 585 nm is 50% or less. Especially in the former case, there is an effect of reducing the transmittance in a wavelength region where malfunction of a remote controller of a peripheral device is pointed out. In the latter case, an orange color having a peak at 575 to 595 nm is color reproducibility. This has the effect of absorbing the orange wavelength, thereby improving the redness and improving the color reproducibility. The layer thickness of the near infrared absorbing layer is generally 0.5 to 50 μm.

[粘着剤層]
透明な粘着剤層は、ガラス基板に接着する接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、SEBS(スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン)及びSBS(スチレン/ブタジエン/スチレン)等の熱可塑性エラストマー(TPE)を主成分とするTPE系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
[Adhesive layer]
As the transparent pressure-sensitive adhesive layer, any resin can be used as long as it has an adhesion function of adhering to the glass substrate. For example, an acrylic adhesive formed from an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), an ethylene-methyl acrylate copolymer, butyl acrylate, a rubber adhesive, SEBS (styrene / ethylene / butylene / styrene) and TPE-based pressure-sensitive adhesives and adhesives mainly composed of a thermoplastic elastomer (TPE) such as SBS (styrene / butadiene / styrene) can also be used.

その層厚は、一般に5〜500μm、特に10〜100μmの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に圧着することにより装備する。   The layer thickness is generally in the range of 5 to 500 μm, particularly 10 to 100 μm. The optical filter is generally equipped by pressing the pressure-sensitive adhesive layer on the glass plate of the display.

以下、本発明を実施例により説明する。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples.

1.ハードコート層の凸状欠点モデル試験
(実施例1)
(1)ハードコート層形成組成物(塗工液)の調製
樹脂成分(HCX−201−54(アデカ社製)、重量平均分子量約7000(GPC法(ポリスチレン換算)))固形分30質量%(溶剤(メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノン)にて調整)、及び光重合開始剤(イルガキュア184(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製))対樹脂成分固形分2.0質量%を攪拌混合し、塗工液を調製した。
(2)ハードコート層の凸状欠点モデル作製
ガラスビーズ(直径;50μm(ミクロパールSP−250(積水化成社製))0.05質量%を、(1)で調製した塗工液に分散させ、PETフィルム上に、最終的に5μmのハードコート層を形成するように塗工した。これを70℃、30秒乾燥後、高圧水銀ランプにて、UV照射量300mJ/cmで硬化し、ハードコート層を形成した。
(3)歪みサイズの測定
得られたハードコート層サンプルを光学顕微鏡観察し、図2に示したように、ガラスビーズ上に形成されたハードコート層の凸状欠点モデルの歪みサイズを計測した。
1. Convex defect model test of hard coat layer (Example 1)
(1) Preparation of hard coat layer forming composition (coating liquid) Resin component (HCX-201-54 (manufactured by Adeka), weight average molecular weight of about 7000 (GPC method (polystyrene conversion))) solid content 30% by mass ( A solvent (adjusted with methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol, cyclohexanone)) and a photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)) with a resin component solid content of 2.0% by mass are stirred and mixed to form a coating solution. Was prepared.
(2) Convex defect model preparation of hard coat layer 0.05% by mass of glass beads (diameter: 50 μm (Micropearl SP-250 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)) is dispersed in the coating solution prepared in (1). The film was finally coated on a PET film so as to form a 5 μm hard coat layer, which was dried at 70 ° C. for 30 seconds and then cured with a high-pressure mercury lamp at a UV irradiation amount of 300 mJ / cm 2 . A hard coat layer was formed.
(3) Measurement of strain size The obtained hard coat layer sample was observed with an optical microscope, and as shown in FIG. 2, the strain size of the convex defect model of the hard coat layer formed on the glass beads was measured.

(実施例2)
樹脂成分をフォレットM−80(綜研化学社製)(重量平均分子量約80000(GPC法(ポリスチレン換算))に変更した以外は、実施例1と同様にハードコート層を形成し、歪みサイズ計測した。
(Example 2)
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the resin component was changed to Foret M-80 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) (weight average molecular weight of about 80,000 (GPC method (polystyrene conversion)), and strain size was measured. .

(実施例3)
樹脂成分をフォレットM−80(綜研化学社製)固形分7.5質量%、及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートADPH(新中村化学社製)(分子量578)固形分22.5質量%に変更した以外は、実施例1と同様にハードコート層を形成し、歪みサイズ計測した。
(Example 3)
The resin component was changed to Foret M-80 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) with a solid content of 7.5% by mass and dipentaerythritol hexaacrylate ADPH (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (molecular weight 578) with a solid content of 22.5% by mass. In the same manner as in Example 1, a hard coat layer was formed, and the strain size was measured.

(実施例4)
樹脂成分をフォレットM−80(綜研化学社製)5質量%(固形分)、及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートADPH(新中村化学社製)25質量%(固形分)に変更した以外は、実施例1と同様にハードコート層を形成し、歪みサイズ計測した。
Example 4
Except for changing the resin component to 5% by mass (solid content) foret M-80 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) and 25% by mass (solid content) of dipentaerythritol hexaacrylate ADPH (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) A hard coat layer was formed in the same manner as in No. 1, and the strain size was measured.

(実施例5)
樹脂成分をフォレットM−80(綜研化学社製)3.75質量%(固形分)、及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートADPH(新中村化学社製)26.25質量%(固形分)に変更した以外は、実施例1と同様にハードコート層を形成し、歪みサイズ計測した。
(Example 5)
Other than changing the resin component to Foret M-80 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 3.75% by mass (solid content) and dipentaerythritol hexaacrylate ADPH (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 26.25% by mass (solid content) In the same manner as in Example 1, a hard coat layer was formed, and the strain size was measured.

(実施例6)
樹脂成分をフォレットM−80(綜研化学社製)7.5質量%(固形分)、及びウレタンアクリレーUA−53H(新中村化学社製)(分子量2300)22.5質量%(固形分)に変更した以外は、実施例1と同様にハードコート層を形成し、歪みサイズ計測した。
(Example 6)
Resin component is foret M-80 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 7.5% by mass (solid content), and urethane accelerator UA-53H (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (molecular weight 2300) 22.5% by mass (solid content) A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the strain size was changed, and the strain size was measured.

(実施例7)
樹脂成分をフォレットM−80(綜研化学社製)5質量%(固形分)、及びウレタンアクリレートUA−53H(新中村化学社製)25質量%(固形分)に変更した以外は、実施例1と同様にハードコート層を形成し、歪みサイズ計測した。
(Example 7)
Example 1 except that the resin component was changed to 5% by mass (solid content) of Foret M-80 (manufactured by Soken Chemical) and 25% by mass (solid content) of urethane acrylate UA-53H (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) A hard coat layer was formed in the same manner as above, and the strain size was measured.

(実施例8)
樹脂成分をフォレットM−80(綜研化学社製)3.75質量%(固形分)、及びウレタンアクリレートUA−53H(新中村化学社製)26.25質量%(固形分)に変更した以外は、実施例1と同様にハードコート層を形成し、歪みサイズ計測した。
(Example 8)
Except for changing the resin component to Foret M-80 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 3.75% by mass (solid content) and urethane acrylate UA-53H (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 26.25% by mass (solid content) A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1, and the strain size was measured.

(比較例1)
樹脂成分をジペンタエリスリトールヘキサアクリレートADPH(新中村化学社製)に変更した以外は、実施例1と同様にハードコート層を形成し、歪みサイズ計測した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the resin component was changed to dipentaerythritol hexaacrylate ADPH (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and the strain size was measured. The results are shown in Table 1.

2.耐擦傷性評価
好ましい態様を評価するため、上記実施例1〜8及び比較例1で得られたハードコート層について、耐擦傷性をスチールウール#0000を荷重400gで10往復して評価した。評価は、傷がない場合を○とし、少し傷がある場合を△、明らかに傷がある場合を×とした。結果を表1に示す。
2. Scratch resistance evaluation In order to evaluate a preferred embodiment, the hard coat layers obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Example 1 were evaluated by scratching 10 times with steel wool # 0000 at a load of 400 g. In the evaluation, a case where there was no flaw was marked with ◯, a case where there was a slight flaw, Δ, and a case where there was a clear flaw, x. The results are shown in Table 1.

3.ハードコート層の層厚の違いによる歪みサイズの変動
(実施例9)
実施例1のハードコート層の層厚を3〜10μmに変更した以外は同様にハードコート層を形成し、歪みサイズを計測した。結果を表2に示す。
3. Variation of strain size due to difference in layer thickness of hard coat layer (Example 9)
A hard coat layer was formed in the same manner except that the thickness of the hard coat layer of Example 1 was changed to 3 to 10 μm, and the strain size was measured. The results are shown in Table 2.

(実施例10)
実施例2のハードコート層の層厚を3〜10μmに変更した以外は同様にハードコート層を形成し、歪みサイズを計測した。結果を表2に示す。
(Example 10)
A hard coat layer was similarly formed except that the thickness of the hard coat layer of Example 2 was changed to 3 to 10 μm, and the strain size was measured. The results are shown in Table 2.

(比較例2)
比較例1のハードコート層の層厚を3〜10μmに変更した以外は同様にハードコート層を形成し、歪みサイズを計測した。結果を表2に示す。
(Comparative Example 2)
A hard coat layer was formed in the same manner except that the thickness of the hard coat layer of Comparative Example 1 was changed to 3 to 10 μm, and the strain size was measured. The results are shown in Table 2.

Figure 2012093679
Figure 2012093679

Figure 2012093679
Figure 2012093679

表1に示す通り、実施例1〜8の重量平均分子量6000以上のポリマーを含むハードコート層形成用組成物を用いたハードコート層では、分子量の小さい樹脂成分を用いた比較例1のハードコート層に比べて、ガラスビーズ上に形成された凸状欠点モデルの歪みサイズが小さく、ハードコート層の下方に微小な凸部があっても、大きな面積の凸状欠点の発生を低減できることが示唆された。   As shown in Table 1, in the hard coat layer using the hard coat layer forming composition containing the polymer having a weight average molecular weight of 6000 or more in Examples 1 to 8, the hard coat of Comparative Example 1 using a resin component having a low molecular weight. Compared with the layer, the strain size of the convex defect model formed on the glass beads is small, suggesting that even if there is a small convex part under the hard coat layer, the occurrence of convex defects with a large area can be reduced. It was done.

また、実施例3〜8の評価から、上記ポリマーと重合性基を備えたモノマーとを併用した場合、凸状欠点の発生の低減と耐擦傷性の向上を両立できることが示された。   In addition, the evaluation of Examples 3 to 8 showed that when the polymer and a monomer having a polymerizable group were used in combination, it was possible to achieve both a reduction in the occurrence of convex defects and an improvement in scratch resistance.

更に、表2に示す通り、ハードコート層の層厚が薄い程、凸状欠点モデルの歪みサイズが小さくなり、より大きな面積の凸状欠点の発生を低減できることが示唆された。   Furthermore, as shown in Table 2, it was suggested that the smaller the hard coat layer thickness, the smaller the strain size of the convex defect model, and the occurrence of convex defects having a larger area can be reduced.

なお、本発明は上記の実施の形態の構成及び実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内で種々変形が可能である。   In addition, this invention is not limited to the structure and Example of said embodiment, A various deformation | transformation is possible within the range of the summary of invention.

本発明により、PDP等に有効な導電層を備えた高品質なディスプレイ用光学フィルタを低コストで提供することができる。   According to the present invention, a high-quality optical filter for display provided with a conductive layer effective for PDP or the like can be provided at low cost.

12、32 透明基材
13、33 導電層
14、34 ハードコート層
15 高屈折率層
16 低屈折率層
17 近赤外線吸収層
18 粘着剤層
20 光学フィルタ
21 ガラス基板
40、50、52 凸部
42 凸状欠点
12, 32 Transparent base material 13, 33 Conductive layers 14, 34 Hard coat layer 15 High refractive index layer 16 Low refractive index layer 17 Near-infrared absorbing layer 18 Adhesive layer 20 Optical filter 21 Glass substrates 40, 50, 52 Convex part 42 Convex defect

Claims (12)

透明基材の一方の表面にメッシュ状の導電層と、当該導電層上にハードコート層を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
前記ハードコート層が、重量平均分子量が6000以上のポリマーを含むハードコート層形成用組成物からなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
An optical filter for display comprising a structure having a mesh-like conductive layer on one surface of a transparent substrate and a hard coat layer on the conductive layer,
The optical filter for a display, wherein the hard coat layer is made of a composition for forming a hard coat layer containing a polymer having a weight average molecular weight of 6000 or more.
前記ポリマーの重量平均分子量が6000〜200000である請求項1に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to claim 1, wherein the polymer has a weight average molecular weight of 6,000 to 200,000. 前記ハードコート層形成用組成物が、更に、重合性基を備えたモノマーを含む請求項1又は2に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for a display according to claim 1 or 2, wherein the composition for forming a hard coat layer further contains a monomer having a polymerizable group. 前記モノマーが、1分子中に3個以上の重合性基を備えたモノマーである請求項3に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to claim 3, wherein the monomer is a monomer having three or more polymerizable groups in one molecule. 前記モノマーが、分子量が3000以下である請求項3又は4に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to claim 3 or 4, wherein the monomer has a molecular weight of 3000 or less. 前記ハードコート層形成用組成物における前記ポリマーの前記モノマーに対する質量比(ポリマー/モノマー)が、1/1〜1/10である請求項3〜5のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for a display according to any one of claims 3 to 5, wherein a mass ratio of the polymer to the monomer (polymer / monomer) in the hard coat layer forming composition is 1/1 to 1/10. . 前記重合性基が、光重合性基である請求項3〜6のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 3 to 6, wherein the polymerizable group is a photopolymerizable group. 前記重合性基が、エチレン性不飽和二重結合を有する基である請求項3〜7のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 3 to 7, wherein the polymerizable group is a group having an ethylenically unsaturated double bond. 前記エチレン性不飽和二重結合を有する基が、(メタ)アクリロイル基である請求項8に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to claim 8, wherein the group having an ethylenically unsaturated double bond is a (meth) acryloyl group. 前記導電層上に、微小な凸部を有する請求項1〜9のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 1 to 9, wherein the conductive layer has a minute convex portion. 前記導電層が、金属めっき層を有する請求項1〜10のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to claim 1, wherein the conductive layer has a metal plating layer. 前記ハードコート層の前記透明基材表面からの層厚(D)と、前記導電層のメッシュの前記透明基材表面からの高さ(H)との差(D−H)が、1〜5μmである請求項1〜11のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The difference (D−H) between the layer thickness (D) of the hard coat layer from the surface of the transparent substrate and the height (H) of the mesh of the conductive layer from the surface of the transparent substrate is 1 to 5 μm. The optical filter for display according to any one of claims 1 to 11.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014188874A (en) * 2013-03-27 2014-10-06 Toppan Forms Co Ltd Laminate and communication equipment

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