JP2012088532A - Optical element and card - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent spark generation, prevent a fire and damage of a machine in manufacturing, and improve the visibility of a hologram in the hologram having a light reflecting layer comprising a metal deposited thin film or a card such as a magnetic card including the hologram on a magnetic layer.SOLUTION: This optical element comprises a hologram layer 3 including a hologram forming layer 4 and a reflecting layer 5. The hologram forming layer includes a diffraction structure formed of microscopic asperities. The reflecting layer includes: a first reflecting layer 6 having a sea-island structure in which an island part comprises a metal material with an average diameter of 80-120 μm, and an interval between the island parts is 30-60 μm; and a second reflecting layer 7 covering the first reflecting layer and having the sea-island structure in which the island part comprises a metal material with an average diameter of 0.02-1 μm and an interval between the island parts is 0.01-0.5 μm.

Description

本発明は、光学素子に関する技術である。詳しくは磁気カード等の上に形成する光学素子に関する。   The present invention relates to a technique related to an optical element. Specifically, the present invention relates to an optical element formed on a magnetic card or the like.

従来、キャッシュカード、及びクレジットカード等において、磁気層とホログラムを一体化する事で、カードデザイン上有利であり、しかも機械情報処理を行なえる磁気カードが知られている(特許文献1参照)。
一般的にこれらのカードに設けるホログラムは、視角効果を高めるために金属蒸着薄膜から成る光反射層を設けた構成を用いている。これらカードは、製造時の加工機において、カード基材上に帯電した静電気が、ホログラムの金属蒸着薄膜(光反射層)の端部から、加工機の導電部等へスパークすることがある。このような問題を解決するために、ホログラムの金属蒸着薄膜(光反射層)を海島状の金属蒸着で構成することで、膜全体としては非導電性としてスパーク発生を防止し、製造上の火災、機械の損傷、さらには磁気カードにおける磁気読み取り時等の磁気データ損傷を防止する方法が知られている(特許文献2、3参照)。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a cash card, a credit card, and the like, a magnetic card that is advantageous in card design by integrating a magnetic layer and a hologram and that can perform mechanical information processing is known (see Patent Document 1).
In general, holograms provided on these cards have a configuration in which a light reflection layer made of a metal-deposited thin film is provided in order to enhance the viewing angle effect. In these cards, in a processing machine at the time of manufacture, static electricity charged on the card substrate may spark from the end of the metal vapor-deposited thin film (light reflecting layer) of the hologram to the conductive part of the processing machine. To solve these problems, the metal vapor-deposited thin film (light reflecting layer) of the hologram is composed of sea-island metal vapor deposition, making the entire film non-conductive, preventing sparks, and manufacturing fires. There are known methods for preventing damage to a machine, and further, damage to magnetic data such as magnetic reading in a magnetic card (see Patent Documents 2 and 3).

しかし、ホログラムの金属蒸着薄膜(光反射層)を海島状の金属薄膜で構成した場合、金属薄膜のない海部において、磁気記録層の黒の色味が見えるため、ホログラムの視認性が悪くなるという問題がある。
また金属薄膜を海島状に形成する場合、島を形成する金属部分が微小なため表面の影響を受けやすく酸化しやすい。金属薄膜が酸化した場合、材料にもよるが酸化した部分の透過率があがるため、全体の光反射性が低下し、ホログラムの視認性が低下するという問題がある。
However, when the metal vapor-deposited thin film (light reflecting layer) of the hologram is composed of a sea-island-like metal thin film, the black color of the magnetic recording layer can be seen in the sea where there is no metal thin film, so the visibility of the hologram is poor. There's a problem.
Further, when the metal thin film is formed in the shape of a sea island, the metal portion forming the island is very small and is easily affected by the surface and easily oxidized. When the metal thin film is oxidized, although the transmittance of the oxidized portion is increased depending on the material, there is a problem that the entire light reflectivity is lowered and the visibility of the hologram is lowered.

特開平6−167920JP-A-6-167920 特開2008−15071JP2008-15071 特開平3−129381JP-A-3-129281

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、金属蒸着薄膜から成る光反射層を有するホログラム、またはホログラムを設けた磁気カード等のカードにおいて、スパーク発生を防止し、製造上の火災、機械の損傷を防止し、かつホログラムの視認性が良好なものとすることを課題とする。   The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to generate a spark in a hologram such as a hologram having a light reflection layer made of a metal-deposited thin film or a magnetic card provided with a hologram. It is an object of the present invention to prevent manufacturing, fire and machine damage, and to improve hologram visibility.

上述した課題を解決するために、本発明は、ホログラム形成層と反射層を有するホログラム層を有する光学素子であって、該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、該反射層が、平均径80〜120μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が30〜60μmである海島構造を有する第1反射層と、該第1反射層を覆うように、平均径0.02〜1μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が0.01〜0.5μmである海島構造を有する第2反射層とを有することを特徴とする光学素子とする。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides an optical element having a hologram layer having a hologram forming layer and a reflective layer, the hologram forming layer having a diffractive structure composed of minute irregularities, and the reflective layer However, an average diameter of 0.1 mm is formed so as to cover an island part made of a metal material having an average diameter of 80 to 120 μm, a first reflective layer having a sea-island structure in which an interval between the island parts is 30 to 60 μm, and the first reflective layer. An optical element having an island part made of a metal material having a thickness of 02 to 1 μm and a second reflective layer having a sea-island structure in which the distance between the island parts is 0.01 to 0.5 μm.

また本発明は、さらに磁気記録層を有することを特徴とする。   The present invention is further characterized by further comprising a magnetic recording layer.

また本発明は、前記反射層の表面抵抗値1010オーム以上であることを特徴とする。 Further, the invention is characterized in that the reflective layer has a surface resistance value of 10 10 ohms or more.

また本発明は、カード基材と、カード基材上に形成されたホログラム層とを備える磁気カードであって、該ホログラム層が、ホログラム形成層と反射層を有し、該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、該反射層が、平均径80〜120μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が30〜60μmである海島構造を有する第1反射層と、該第1反射層を覆うように、平均径0.02〜1μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が0.01〜0.5μmである海島構造を有する第2反射層と、を有することを特徴とするカードとする。   Further, the present invention is a magnetic card comprising a card substrate and a hologram layer formed on the card substrate, the hologram layer having a hologram forming layer and a reflective layer, the hologram forming layer, A first reflective layer having a diffractive structure composed of minute irregularities, wherein the reflective layer has an island part made of a metal material having an average diameter of 80 to 120 μm and a sea-island structure in which the distance between the island parts is 30 to 60 μm; An island part made of a metal material having an average diameter of 0.02 to 1 μm and a second reflection layer having a sea-island structure in which the distance between the island parts is 0.01 to 0.5 μm so as to cover the first reflection layer. It is set as the card | curd characterized by having.

また本発明は、前記カード基材とホログラム層の間に磁気記録層が形成されてなることを特徴とする。   Further, the invention is characterized in that a magnetic recording layer is formed between the card substrate and the hologram layer.

また本発明は、さらにICチップまたはICモジュールを有することを特徴とする。   The present invention further includes an IC chip or an IC module.

また本発明は、前記反射層の表面抵抗値1010オーム以上であることを特徴とする。 Further, the invention is characterized in that the reflective layer has a surface resistance value of 10 10 ohms or more.

本発明によれば、金属蒸着薄膜から成る光反射層を有するホログラム、または磁気層上にホログラムを設けた磁気記録媒体において、磁気層上にスパーク発生を防止し、製造上の火災、、機械の損傷を防止し、かつホログラムの視認性が良好なものとすることができる。   According to the present invention, in a hologram having a light reflecting layer made of a metal-deposited thin film, or a magnetic recording medium provided with a hologram on the magnetic layer, the occurrence of sparks on the magnetic layer is prevented, so that Damage can be prevented and the visibility of the hologram can be improved.

本発明の光学素子の一具体例を示した断面説明図である。It is sectional explanatory drawing which showed one specific example of the optical element of this invention. 本発明の光学素子の反射層の一具体例を示した平面説明図である。It is plane explanatory drawing which showed one specific example of the reflection layer of the optical element of this invention. 本発明の光学素子の一具体例を示した断面説明図である。It is sectional explanatory drawing which showed one specific example of the optical element of this invention. 本発明の光学素子の一具体例を示した断面説明図である。It is sectional explanatory drawing which showed one specific example of the optical element of this invention. 本発明の磁気記録媒体の一具体例を示した断面説明図である。FIG. 4 is a cross-sectional explanatory view showing a specific example of the magnetic recording medium of the present invention. 本発明の磁気記録媒体の一具体例を示した平面説明図である。It is a plane explanatory view showing a specific example of the magnetic recording medium of the present invention. 本発明の光学素子の反射層の一具体例を示した平面説明図である。It is plane explanatory drawing which showed one specific example of the reflection layer of the optical element of this invention.

以下、本発明の光学素子について、図面を用いて詳細に説明する。
図1は、本発明の光学素子の一具体例を示した断面図で、支持体1上に剥離層2、ホログラム層3、粘着層9を有するホログラム転写シートである。
ホログラム層3はホログラム形成層4と反射層5を有し、ホログラム形成層4は、微小凹凸からなる回折構造を有する。反射層5は、平均径80〜120μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が30〜60μmである海島構造を有する第1反射層6と、第1反射層6を覆うように、平均径0.02〜1μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が0.01〜0.5μmである海島構造を有する第2反射層7を有する。
Hereinafter, the optical element of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a specific example of the optical element of the present invention, which is a hologram transfer sheet having a release layer 2, a hologram layer 3, and an adhesive layer 9 on a support 1.
The hologram layer 3 has a hologram forming layer 4 and a reflective layer 5, and the hologram forming layer 4 has a diffractive structure composed of minute irregularities. The reflective layer 5 is formed so as to cover the first reflective layer 6 having an island part made of a metal material having an average diameter of 80 to 120 μm, a first reflective layer 6 having a sea-island structure in which the distance between the island parts is 30 to 60 μm, and It has the 2nd reflective layer 7 which has the island part which the space | interval of the island part which consists of a metal material with an average diameter of 0.02-1 micrometer and this island part is 0.01-0.5 micrometer.

図3は、本発明の光学素子の他の一具体例を示した断面図で、支持体1上に剥離層2、ホログラム層3、磁気記録層10、粘着層9を有するホログラム付磁気記録層転写シートである。
図4は、本発明の光学素子の他の一具体例を示した断面図で、支持体1の一方の面上にホログラム層3を有し、もう一方の面上に粘着層9を有するホログラムシールである。
図5は、カード基材上に図1のホログラム転写シートを転写し、支持体を剥離したホログラム付磁気カードの一具体例を示した断面図ある。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing another specific example of the optical element of the present invention. A magnetic recording layer with a hologram having a release layer 2, a hologram layer 3, a magnetic recording layer 10, and an adhesive layer 9 on a support 1. It is a transfer sheet.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing another specific example of the optical element of the present invention. The hologram has a hologram layer 3 on one surface of the support 1 and an adhesive layer 9 on the other surface. It is a seal.
FIG. 5 is a sectional view showing a specific example of a magnetic card with hologram in which the hologram transfer sheet of FIG. 1 is transferred onto a card substrate and the support is peeled off.

磁気記録層は一般的に長尺状(ストライプ状)であり、それにあわせ光学素子も長尺状(ストライプ状)の形状とすることができる。   The magnetic recording layer is generally elongated (striped), and the optical element can also be elongated (striped) accordingly.

支持体1としては、特に限定するものではないが、樹脂フィルム基材を用いることができる。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリエチレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、耐熱塩化ビニルフィルム等が使用できる。これらの樹脂の中で、耐熱性が高く厚みが安定していることから、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムが好ましく使用できる
また、これら樹脂フィルムに剥離層を設けたり、易接着処理を行ったりして剥離保護層の剥離強度を調整したフィルムを支持体として利用することもできる。また、帯電防止処理、マット加工、エンボス処理等の加工を施したフィルムも使用することができる。
Although it does not specifically limit as the support body 1, A resin film base material can be used. As the resin film, a polyethylene terephthalate (PET) resin film, a polyethylene naphthalate (PEN) resin film, a polyimide resin film, a polyethylene resin film, a polypropylene resin film, a heat-resistant vinyl chloride film, or the like can be used. Among these resins, since the heat resistance is high and the thickness is stable, polyethylene terephthalate resin films can be preferably used. Also, these resin films are provided with a release layer or subjected to easy adhesion treatment to protect against peeling. A film in which the peel strength of the layer is adjusted can also be used as the support. In addition, a film that has been subjected to processing such as antistatic treatment, mat processing, or embossing treatment can also be used.

剥離保護層2としては、特に限定するものではないが、樹脂に滑剤を添加したものが使用できる。樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、アクリル樹脂やポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂である。また、滑剤としてはポリエチレンパウダーや、カルナバロウ等のワックスを使用することができ、20重量部まで添加することが可能である。これらは剥離保護層として、支持体上にグラビア印刷法やマイクログラビア法等、公知の塗布方法によって形成される。   Although it does not specifically limit as the peeling protection layer 2, What added the lubricant to resin can be used. As the resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a moisture curable resin, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, or the like can be used. For example, acrylic resin, polyester resin, and polyamideimide resin. Further, as the lubricant, polyethylene powder or wax such as carnauba wax can be used, and it can be added up to 20 parts by weight. These are formed as a peeling protective layer on a support by a known coating method such as a gravure printing method or a micro gravure method.

ホログラム層3のホログラム形成層4は、例えば微小凹凸からなる回折構造を有するレリーフ型回折格子を用いることができる。レリーフ型回折格子は、その表面に微細な凹凸パターンの形態で回折格子を記録したものである。
このような凹凸パターンは、例えば、二光束干渉法を使用して感光性樹脂の表面に互いに可干渉の2本の光線を照射してこの感光性樹脂表面に干渉縞を生成させ、この干渉縞を凹凸の形態で感光性樹脂に記録することで形成することができる。尚、この二光束性干渉法によって形成された干渉縞をホログラムと呼び、前記2本の光線の選択によって任意の立体画像を記録することが可能である。また、観察する角度に応じて異なる画像(以下チェンジング画像と言う)を見ることができるように記録することも可能である。
前記レリーフ型回折格子による回折構造形成層に適用される樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、熱可塑性樹脂では、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等が挙げられる。また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等が使用できる。また、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂としては、エポキシ(メタ)アクリル、ウレタン(メタ)アクリレート等が使用できる。
なお、微細な凹凸パターンは全面に設けてもよいし、部分的に設けてもよい。
For the hologram forming layer 4 of the hologram layer 3, for example, a relief type diffraction grating having a diffractive structure composed of minute irregularities can be used. The relief type diffraction grating has a diffraction grating recorded in the form of a fine uneven pattern on the surface thereof.
Such a concavo-convex pattern is obtained by, for example, irradiating the surface of the photosensitive resin with two coherent light beams using the two-beam interference method to generate an interference pattern on the surface of the photosensitive resin. Can be formed by recording in a photosensitive resin in the form of irregularities. The interference fringes formed by the two-beam interferometry are called holograms, and any three-dimensional image can be recorded by selecting the two light beams. It is also possible to record so that different images (hereinafter referred to as changing images) can be seen depending on the viewing angle.
As the resin applied to the diffraction structure forming layer by the relief type diffraction grating, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet ray, an electron beam curable resin, or the like can be used. For example, acrylic resins include acrylic resins, epoxy resins, cellulose resins, vinyl resins, and the like. In addition, urethane resins, melamine resins, phenol resins, and the like obtained by adding polyisocyanate as a crosslinking agent to an acrylic polyol or polyester polyol having a reactive hydroxyl group and crosslinking can be used. Further, as the ultraviolet ray or electron beam curable resin, epoxy (meth) acryl, urethane (meth) acrylate, or the like can be used.
In addition, a fine uneven | corrugated pattern may be provided in the whole surface, and may be provided partially.

反射層5は、ホログラム形成層4に直接接触して設ける必要はないが、ホログラム形成層4がレリーフ型回折格子の場合には、その凹凸パターンに光反射層を直接接触して設ける必要がある。この場合には、この反射層5によって反射した光がそのまま回折光となる。
本発明では反射層5は、第1反射層6と第2反射層7を有する。第1反射層6における光反射を第2反射層7が補完し、視認性を向上させ、かつ酸化の影響により第1反射層6の反射性が悪くなったとしても、第2反射層7により、反射の低下を最小限に抑えることができる
The reflective layer 5 does not need to be provided in direct contact with the hologram forming layer 4, but when the hologram forming layer 4 is a relief-type diffraction grating, it is necessary to provide the light reflective layer in direct contact with the concavo-convex pattern. . In this case, the light reflected by the reflective layer 5 becomes diffracted light as it is.
In the present invention, the reflective layer 5 includes a first reflective layer 6 and a second reflective layer 7. Even if the second reflective layer 7 complements the light reflection in the first reflective layer 6 to improve the visibility and the reflectivity of the first reflective layer 6 deteriorates due to the influence of oxidation, the second reflective layer 7 Can minimize the drop in reflection

第1反射層6は、平均径80〜120μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が30〜60μmである海島構造を有する。このようにすることで、マクロ的には第1反射層6全面からの反射光が視認され、ホログラム形成層の視覚効果を向上させ、下層に位置することになる磁気記録層を隠蔽することができると共に、ミクロ的には個々の金属材料が独立しているため、全体では非導電性となるため、スパークの発生を抑えることが可能となる。
島部の径が80μm未満になると、海部の面積が大きくなるため、下層が認識されやすくなり隠蔽効果が薄れる。なお、本発明では海部を第2反射層で覆うように形成し視認性を補完しているが、第2反射層は経時変化により変色するため、海部の面積が大きいと、時間と共に海部の視認性の影響が大きくなる。上記範囲に入っていれば、多少第2反射層が経時変化により変色しても、第1反射層に対する面積が比較的小さいため、視認性への影響は少ないものとなる。
島部の径が120μm以上になると、島部の間隔が狭くなり、導通する部分が出てくる危険性がある。
The first reflective layer 6 has a sea-island structure in which the distance between the island part made of a metal material having an average diameter of 80 to 120 μm and the island part is 30 to 60 μm. By doing so, the reflected light from the entire surface of the first reflective layer 6 is viewed macroscopically, improving the visual effect of the hologram forming layer and concealing the magnetic recording layer that will be located in the lower layer. At the same time, since each metal material is microscopically independent, it becomes non-conductive as a whole, so that the occurrence of sparks can be suppressed.
When the diameter of the island part is less than 80 μm, the area of the sea part increases, so that the lower layer is easily recognized and the concealment effect is reduced. In the present invention, the sea part is formed so as to be covered with the second reflective layer, and the visibility is supplemented. However, since the second reflective layer is discolored over time, the sea part is visible with time if the area of the sea part is large. The effect of sex is increased. As long as it falls within the above range, even if the second reflective layer changes its color due to aging, the area with respect to the first reflective layer is relatively small, so that the effect on visibility is small.
When the diameter of the island portion is 120 μm or more, the interval between the island portions is narrowed, and there is a risk that a conductive portion appears.

第1反射層6としては、反射輝度が高い点で金属材料からなる薄膜が好ましく利用できる。金属材料としては、例えば、Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、真鍮等が挙げられる。第1反射層6は、特に限定するものではないが例えば真空製膜法により形成することができる。真空製膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用できる。
第1反射層6の厚みは1〜1000nm程度、好ましくは1〜50nm程度に制御できれば良い。
As the first reflective layer 6, a thin film made of a metal material can be preferably used in terms of high reflection luminance. Examples of the metal material include Al, Sn, Cr, Ni, Cu, Au, and brass. The first reflective layer 6 is not particularly limited, but can be formed by, for example, a vacuum film forming method. As the vacuum film forming method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like can be applied.
The thickness of the first reflective layer 6 may be controlled to about 1 to 1000 nm, preferably about 1 to 50 nm.

第1反射層6の海島構造は特に限定するものではないが、以下のようにして形成することができる。
第1の方法は、ホログラム形成層に海島構造パターンの開口部を有するマスクを重ねて真空製膜することにより、海島構造パターンに金属薄膜を製膜する方法である。
また、その第2の方法は、まず、溶剤溶解性の樹脂層を島構造パターンのネガパターンになるように設け、この溶剤溶解性樹脂層を被覆して全面一様に金属薄膜を形成した後、溶剤で前記の溶剤溶解性樹脂層を溶解して除去すると同時に、この溶剤溶解性樹脂層上に重ねられた金属薄膜を除去することによって、残存する金属薄膜が海島構造に形成される方法である。
また、第3の方法は、まず、ホログラム形成層上に、このホログラム形成層から剥離しやすい樹脂層をネガパターンに設け、この樹脂層を被覆して全面一様に金属薄膜を形成した後、粘着ロールや粘着紙等に押し当てることによって粘着ロールや粘着紙等にネガパターンに転写させて除去し、結果、金属薄膜が海島構造パターンに残存される方法である。
The sea-island structure of the first reflective layer 6 is not particularly limited, but can be formed as follows.
The first method is a method of forming a metal thin film on the sea-island structure pattern by stacking a mask having an opening of the sea-island structure pattern on the hologram forming layer and performing vacuum film formation.
In the second method, first, a solvent-soluble resin layer is provided so as to be a negative pattern of an island structure pattern, and this solvent-soluble resin layer is coated to form a metal thin film uniformly on the entire surface. The solvent-soluble resin layer is dissolved and removed with a solvent, and at the same time, the remaining metal thin film is formed into a sea-island structure by removing the metal thin film superimposed on the solvent-soluble resin layer. is there.
In the third method, first, on the hologram forming layer, a resin layer that is easily peeled off from the hologram forming layer is provided in a negative pattern, and after covering the resin layer and forming a metal thin film uniformly on the entire surface, This is a method in which the metal thin film remains in the sea-island structure pattern by being transferred to and removed from the pressure-sensitive adhesive roll, pressure-sensitive paper or the like by negatively pressing the pressure-sensitive adhesive roll or pressure-sensitive paper.

また、第4の方法は、全面一様に金属薄膜を形成し、この金属薄膜上に耐薬品性の樹脂層を海島構造パターンに設け、アルカリ性または酸性のエッチング液を適用して露出している金属薄膜を溶解して除去する方法である。この場合、金属薄膜を海島構造パターンに加工したした後、前記耐薬品性樹脂層を除去しても良いが、そのまま残存させて、耐薬品保護層として利用することもできる。
また、第5の方法は、全面一様に形成された金属薄膜上に感光性樹脂層を形成し、海島構造パターンに露光・現像した後、アルカリ性または酸性のエッチング液を適用して露出した金属薄膜を溶解して除去する方法である。この場合も、残存する感光性樹脂層をそのまま残存させて、耐薬品保護層として利用する事ができる。
図1、3、4においては、耐薬品性樹脂層または感光性樹脂層7を用いて海島構造を形成した例を示している。
また、第6の方法は、全面一様に形成された金属薄膜にレーザー光を照射して除去することにより、残存する金属薄膜が海島構造パターンとなる方法である。
In the fourth method, a metal thin film is uniformly formed on the entire surface, a chemical-resistant resin layer is provided on the metal thin film in a sea-island structure pattern, and exposed by applying an alkaline or acidic etching solution. In this method, the metal thin film is dissolved and removed. In this case, after processing the metal thin film into a sea-island structure pattern, the chemical-resistant resin layer may be removed, but it can be left as it is and used as a chemical-resistant protective layer.
In the fifth method, a photosensitive resin layer is formed on a metal thin film formed uniformly on the entire surface, exposed and developed to a sea-island structure pattern, and then exposed to an exposed metal by applying an alkaline or acidic etchant. In this method, the thin film is dissolved and removed. Also in this case, the remaining photosensitive resin layer can be left as it is and used as a chemical-resistant protective layer.
1, 3 and 4 show examples in which a sea-island structure is formed using a chemical-resistant resin layer or a photosensitive resin layer 7.
The sixth method is a method in which the remaining metal thin film becomes a sea-island structure pattern by removing the metal thin film formed uniformly on the entire surface by irradiating it with laser light.

この海島構造パターンとしては、図2に示すように規則的なパターン形状にしてもよいし、明確な意味を持たないランダムなパターンでも良い。また、島部自体を絵柄、図形、模様、文字、数字、記号等のパターンとして、この画像パターンに認知可能な情報を付与させることも可能である。また、図7に示すように複数の島部により絵柄、図形、模様、文字、数字、記号等のパターンを形成してもよい。   As the sea-island structure pattern, a regular pattern shape as shown in FIG. 2 or a random pattern having no clear meaning may be used. It is also possible to give recognizable information to the image pattern by using the island itself as a pattern such as a pattern, a figure, a pattern, a character, a number, a symbol, or the like. Moreover, as shown in FIG. 7, you may form patterns, such as a pattern, a figure, a pattern, a character, a number, a symbol, by several island parts.

第2反射層7は、第1反射層6の海部の光反射を補完するために、第1反射層6の海島構造より微細な海島構造であることが好ましく、平均径0.02〜1μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が0.01〜0.5μmである海島構造を有し、第1反射層6を覆うように形成される。また、第1反射層7の厚みは1〜1000nm程度とすることができる。図2は、上記第4の方法を用いて海島状の第1反射層6を形成した後、第2反射層7を形成した状態を示した平面説明図である。
第2反射層7は、前記第1反射層6と同様の材料、方法で形成することが可能であるが、Snを用いて真空蒸着法により形成することが好ましい。Snを用いた真空蒸着法は、蒸着速度、蒸着膜厚等の蒸着条件を選択することで、非蒸着部と蒸着部が不規則に並んだ海島構造を形成することが可能である。
The second reflective layer 7 preferably has a sea-island structure finer than the sea-island structure of the first reflective layer 6 in order to complement the light reflection of the sea part of the first reflective layer 6, and has an average diameter of 0.02 to 1 μm. It has a sea-island structure in which the distance between the island portion made of a metal material and the island portion is 0.01 to 0.5 μm, and is formed so as to cover the first reflective layer 6. Moreover, the thickness of the 1st reflection layer 7 can be about 1-1000 nm. FIG. 2 is an explanatory plan view showing a state in which the second reflective layer 7 is formed after the sea-island-shaped first reflective layer 6 is formed using the fourth method.
The second reflective layer 7 can be formed by the same material and method as the first reflective layer 6, but is preferably formed by vacuum deposition using Sn. The vacuum vapor deposition method using Sn can form a sea-island structure in which non-deposition portions and vapor deposition portions are irregularly arranged by selecting vapor deposition conditions such as vapor deposition rate and vapor deposition film thickness.

本発明の反射層5の表面抵抗値1010オーム以上、好ましくは1012オーム以上であることが好ましい。この範囲であれば製造時等において、スパークの発生を抑えることができる。
なお、表面抵抗値の測定は抵抗測定装置で測定可能である。表面抵抗値は長尺状の反射層の両端間の値を用いる。また、測定は第2反射層7側から測定できるが、最表面に帯電防止処理等の特殊加工を施していない場合は剥離保護層側から測定してもよい。
The surface resistance of the reflective layer 5 of the present invention is 10 10 ohms or more, preferably 10 12 ohms or more. If it is this range, generation | occurrence | production of a spark at the time of manufacture etc. can be suppressed.
The surface resistance value can be measured with a resistance measuring device. As the surface resistance value, a value between both ends of the long reflective layer is used. Further, the measurement can be performed from the second reflective layer 7 side. However, when the outermost surface is not subjected to special processing such as antistatic treatment, the measurement may be performed from the peeling protective layer side.

磁気記録層10としては、通常の磁気カードや磁気テープ等に使用されている磁気記録層と同じものが使用できる。例えば、γ−Fe、コバルト被着γ−Fe、バリウムフェライト等の磁性粉をバインダー中に分散して製造した磁性塗料を、光学素子又はカード上に公知の方法で均一に塗布して形成することができる。 As the magnetic recording layer 10, the same magnetic recording layer used in a normal magnetic card or magnetic tape can be used. For example, a magnetic coating prepared by dispersing magnetic powder such as γ-Fe 2 O 3 , cobalt-coated γ-Fe 2 O 3 , and barium ferrite in a binder is uniformly applied to an optical element or card by a known method. It can be formed by coating.

接着層9としては、特に限定するものではなく、公知の粘着剤、接着剤を用いることができる。転写材とするときは熱及び圧力によって被転写材に接着するものを用いることができ、このようなものとして公知の感熱性接着材料を使用することができる。   The adhesive layer 9 is not particularly limited, and known pressure-sensitive adhesives and adhesives can be used. When a transfer material is used, a material that adheres to the material to be transferred by heat and pressure can be used, and as such a known heat-sensitive adhesive material can be used.

本発明の磁気記録媒体としては、カード基材上に形成した磁気記録層とさらにその上に形成されたホログラム層を有するホログラム付磁気カードが挙げられる。
カード基材としては、単層または複数の層からなるコア基材とコア基材の片面または両面にオーバーシート基材を設けた構成が挙げられる。コア基材としては非晶質ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等の基材を用いることができる。オーバーシート基材としては非晶質ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等の基材を用いることができる。また、コア基材、オーバーシート基材は、紙や合成紙等を用いてもよい。
Examples of the magnetic recording medium of the present invention include a magnetic card with a hologram having a magnetic recording layer formed on a card substrate and a hologram layer formed thereon.
As a card | curd base material, the structure which provided the oversheet base material in the single side | surface or both surfaces of the core base material which consists of a single layer or several layers, and a core base material is mentioned. As the core substrate, a substrate such as an amorphous polyester resin, a polyvinyl chloride resin, a polyethylene terephthalate resin, or a polycarbonate resin can be used. As the oversheet substrate, a substrate such as an amorphous polyester resin, a polyvinyl chloride resin, a polyethylene terephthalate resin, or a polycarbonate resin can be used. Moreover, paper, synthetic paper, etc. may be used for a core base material and an oversheet base material.

磁気記録層及びホログラム層は、カード基材に前述のホログラム付磁気記録層転写シートを転写し、支持体を剥離することにより形成してもよいし、カード基材のオーバーシート基材に磁気記録層を埋設形成し、その上に前述のホログラム転写シートを転写し、支持体を剥離することにより形成してもよい。   The magnetic recording layer and the hologram layer may be formed by transferring the above-described magnetic recording layer transfer sheet with hologram to a card substrate and peeling the support, or magnetic recording on the oversheet substrate of the card substrate. It may be formed by embedding a layer, transferring the above-mentioned hologram transfer sheet thereon, and peeling the support.

また、必要に応じ、カードとしたときに最表面に帯電防止層、防汚層、抗菌層などの機能層を形成してもよい。   If necessary, a functional layer such as an antistatic layer, an antifouling layer, or an antibacterial layer may be formed on the outermost surface when the card is used.

さらに、本発明では、ICチップ(ICモジュール)とICチップ(ICモジュール)に接続されたアンテナ素子を有する非接触式ICカード等においても適用可能で、本発明を利用することにより、スパークによるICへのダメージを防ぐことができると共に、通信を阻害することがないものとすることができる。
非接触式ICカードとする場合は、ICカードの表面に転写シートからなる光学素子を転写により形成することができる。
また、カード表面に接触式のICモジュールを埋設してもよい。この場合は、平面方向において光学素子と重ならな位置に形成する。非接触/接触機能を有するデュアルICカードとする場合は、接触端子を光学素子と重ならない位置に形成する。
Furthermore, the present invention can be applied to an IC chip (IC module) and a contactless IC card having an antenna element connected to the IC chip (IC module). Damage can be prevented and communication can be prevented.
When a non-contact IC card is used, an optical element made of a transfer sheet can be formed on the surface of the IC card by transfer.
Further, a contact type IC module may be embedded on the card surface. In this case, it is formed at a position that does not overlap with the optical element in the planar direction. In the case of a dual IC card having a non-contact / contact function, the contact terminal is formed at a position that does not overlap the optical element.

<実施例1>
基材として厚み25μ、のポリエステルフィルムを用い、このフィルムの片面に下記(1)、(2)、(3)、(4)、(5)の各組成物を用い、剥離保護層(厚さ3μm)、回折構造形成層(厚さ1.5μm)、光反射層(100μm)磁気記録層(15μm)、接着層(3μm)を順次塗布形成して転写シートを作成した。尚、光反射層は金属薄膜1の海島構造を島平均径100μm、島間隔50μmのアルミニウム蒸着で、金属薄膜2の海島構造を島平均径0.02μm、島間隔0.5μmの錫蒸着にて形成した。
上記積層した転写シートを0.1mmの透明硬質塩化ビニルフィルムに熱転写し、支持体を取り除いた後、乳白及び透明硬質塩化ビニルフィルムを0.7〜0.8mmの厚さになるように積層し、加熱,加圧により一枚の板にし、打ち抜きによりカードサイズ(54×86mm)に打ち抜くことにより、ホログラム、磁気入りの磁気カードを作成した。
<Example 1>
A polyester film having a thickness of 25 μm is used as a substrate, and the following compositions (1), (2), (3), (4), and (5) are used on one side of the film, and a release protective layer (thickness) 3 μm), a diffraction structure forming layer (thickness 1.5 μm), a light reflecting layer (100 μm), a magnetic recording layer (15 μm), and an adhesive layer (3 μm) were sequentially applied to form a transfer sheet. The light reflecting layer is formed by depositing aluminum on the sea-island structure of the metal thin film 1 with an island average diameter of 100 μm and an island interval of 50 μm. Formed.
The laminated transfer sheet was thermally transferred to a 0.1 mm transparent hard vinyl chloride film, the support was removed, and then the milky white and transparent hard vinyl chloride film were laminated to a thickness of 0.7 to 0.8 mm. A hologram and magnetized magnetic card was prepared by punching to a card size (54 × 86 mm) by punching and punching to a single plate by heating and pressing.

(1)剥離保護層
アクリル樹脂(Tg.105℃)
ポリエチレンパウダー
メチルエチルケトン
トルエン
(2)ホログラム形成層
ウレタン樹脂
メチルエチルケトン
酢酸エチル
(3)第1反射層
アルミニウム(島平均径80μm、島間隔60μm、厚み50nm)
(4)第2反射層
Sn(錫、島平均径0.02μm、島間隔0.5μm、最大厚み60nm)
(5)磁気記録層組成物
γ−Fe
塩酸酢酸ビニル共重合体
ポリウレタンエラストマー
トルエン
メチルエチルケトン
イソプロピルアルコール
(6)接着層組成物
塩酸酢酸ビニル共重合体
アクリル樹脂
酢酸エチル
トルエン
(1) Release protective layer Acrylic resin (Tg. 105 ° C)
Polyethylene powder Methyl ethyl ketone Toluene (2) Hologram forming layer Urethane resin Methyl ethyl ketone Ethyl acetate (3) First reflective layer Aluminum (island average diameter 80 μm, island spacing 60 μm, thickness 50 nm)
(4) Second reflective layer Sn (tin, island average diameter 0.02 μm, island spacing 0.5 μm, maximum thickness 60 nm)
(5) Magnetic recording layer composition γ-Fe 2 O 3
Vinyl acetate vinyl acetate copolymer Polyurethane elastomer Toluene Methyl ethyl ketone Isopropyl alcohol (6) Adhesive layer composition Vinyl acetate vinyl acetate copolymer Acrylic resin Ethyl acetate Toluene

<実施例2>
第1反射層を、アルミニウム(島平均径120μm、島間隔30μm)とし、第2反射層を、Sn(錫、島平均径1μm、島間隔0.01μm)とした以外は実施例1と同様に作成した。
<Example 2>
Example 1 except that the first reflective layer was aluminum (island average diameter 120 μm, island interval 30 μm) and the second reflective layer was Sn (tin, island average diameter 1 μm, island interval 0.01 μm). Created.

<実施例3>
第1反射層を、アルミニウム(島平均径80μm、島間隔60μm)とし、第2反射層を、Sn(錫、島平均径1μm、島間隔0.01μm)とした以外は実施例1と同様に作成した。
<Example 3>
Example 1 except that the first reflective layer was aluminum (island average diameter 80 μm, island spacing 60 μm) and the second reflective layer was Sn (tin, island average diameter 1 μm, island spacing 0.01 μm). Created.

<実施例4>
第1反射層を、アルミニウム(島平均径120μm、島間隔30μm)とし、第2反射層を、Sn(錫、島平均径0.02μm、島間隔0.5μm)とした以外は実施例1と同様に作成した。
<Example 4>
Example 1 except that the first reflective layer was aluminum (island average diameter 120 μm, island interval 30 μm) and the second reflective layer was Sn (tin, island average diameter 0.02 μm, island interval 0.5 μm). Created similarly.

<比較例1>
光反射層を厚み50nmの連続したアルミニウム蒸着薄膜とした以外は実施例1と同様に作成した。
<Comparative Example 1>
It was prepared in the same manner as in Example 1 except that the light reflecting layer was a continuous aluminum vapor-deposited thin film having a thickness of 50 nm.

<比較例2>
光反射層を金属薄膜1の海島構造を島平均径70μm、島間隔70μm、厚み50nmのアルミニウム蒸着と、金属薄膜2の海島構造を島平均径0.02μm、島間隔0.5μm、厚み60nmの錫蒸着で形成した以外は実施例1と同様に作成した。
<Comparative example 2>
The light reflecting layer is formed by depositing the sea-island structure of the metal thin film 1 with an island average diameter of 70 μm, an island spacing of 70 μm and a thickness of 50 nm, and the sea-island structure of the metal thin film 2 with an island average diameter of 0.02 μm, an island spacing of 0.5 μm and a thickness of 60 nm. It was created in the same manner as in Example 1 except that it was formed by tin vapor deposition.

<比較例3>
光反射層を金属薄膜1の海島構造を島平均径100μm、島間隔50μm、厚み50nmのアルミニウム蒸着のみで形成した以外は実施例1と同様に作成した。
<Comparative Example 3>
A light reflecting layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the sea-island structure of the metal thin film 1 was formed only by aluminum vapor deposition with an island average diameter of 100 μm, an island interval of 50 μm, and a thickness of 50 nm.

<評価>
(スパーク試験)
得られた実施例1〜4、比較例1の磁気カードを、静電気減衰測定器にてコロナ放電により発生したイオンを照射ヘッドにより、回転させながらカードに照射・帯電させ、金属片を磁気カードに近づけたとき、実施例1〜4の磁気カードは放電(スパーク)しなかったが、比較例1の磁気カードは約2.2KVで放電を起こした。
<Evaluation>
(Spark test)
The magnetic cards of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 thus obtained were irradiated and charged on the card while rotating the ions generated by corona discharge by the electrostatic attenuation measuring device with the irradiation head, and the metal piece was made into the magnetic card. When approached, the magnetic cards of Examples 1 to 4 did not discharge (spark), but the magnetic card of Comparative Example 1 caused discharge at about 2.2 KV.

(外観)
実施例1〜4、比較例1の磁気カードは、美麗な外観を呈し、時間が経っても外観に変化は見られなかった。比較例2の磁気カードはアルミニウム蒸着の面積が小さく、平面視において、錫蒸着の面積が大きいため、経時変化により錫蒸着が酸化して変色したの部分の影響を受けてホログラム全体の視認性が悪くなった。比較例3の磁気カードは、アルミニウム蒸着の間から磁気記録層の黒の色が見え、ホログラムの視認性が悪いものであった。
(appearance)
The magnetic cards of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 exhibited a beautiful appearance, and no change was observed in the appearance over time. The magnetic card of Comparative Example 2 has a small area of aluminum vapor deposition and a large area of tin vapor deposition in plan view. Therefore, the visibility of the entire hologram is affected by the influence of the portion where the tin vapor deposition is oxidized and discolored over time. It got worse. In the magnetic card of Comparative Example 3, the black color of the magnetic recording layer was visible during the aluminum vapor deposition, and the hologram visibility was poor.

1・・・・支持体
2・・・・剥離保護層
3・・・・ホログラム層
4・・・・ホログラム形成層
5・・・・反射層
6・・・・第1反射層
7・・・・第2反射層
8・・・・耐薬品性樹脂層
9・・・・粘着層
10・・・磁気記録層
11・・・カード基材
12・・・磁気カード
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support body 2 ... Detachment protective layer 3 ... Hologram layer 4 ... Hologram formation layer 5 ... Reflection layer 6 ... 1st reflection layer 7 ... Second reflective layer 8 Chemical resistant resin layer 9 Adhesive layer 10 Magnetic recording layer 11 Card substrate 12 Magnetic card

Claims (7)

ホログラム形成層と反射層を有するホログラム層を有する光学素子であって、
該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、
該反射層が、平均径80〜120μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が30〜60μmである海島構造を有する第1反射層と、
該第1反射層を覆うように、平均径0.02〜1μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が0.01〜0.5μmである海島構造を有する第2反射層と、
を有することを特徴とする光学素子。
An optical element having a hologram layer having a hologram forming layer and a reflective layer,
The hologram forming layer has a diffractive structure composed of minute irregularities,
The first reflective layer having an island part made of a metal material having an average diameter of 80 to 120 μm and a sea-island structure in which the distance between the island parts is 30 to 60 μm;
An island part made of a metal material having an average diameter of 0.02 to 1 μm and a second reflection layer having a sea-island structure in which an interval between the island parts is 0.01 to 0.5 μm so as to cover the first reflection layer;
An optical element comprising:
さらに磁気記録層を有することを特徴とする請求項1記載の光学素子。   The optical element according to claim 1, further comprising a magnetic recording layer. 前記反射層の表面抵抗値1010オーム以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学素子。 The optical element according to claim 1, wherein the reflective layer has a surface resistance value of 10 10 ohms or more. カード基材と、カード基材上に形成されたホログラム層とを備える磁気カードであって、
該ホログラム層が、ホログラム形成層と反射層を有し、
該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、
該反射層が、平均径80〜120μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が30〜60μmである海島構造を有する第1反射層と、
該第1反射層を覆うように、平均径0.02〜1μmの金属材料からなる島部と該島部の間隔が0.01〜0.5μmである海島構造を有する第2反射層と、
を有することを特徴とするカード。
A magnetic card comprising a card substrate and a hologram layer formed on the card substrate,
The hologram layer has a hologram forming layer and a reflective layer,
The hologram forming layer has a diffractive structure composed of minute irregularities,
The first reflective layer having an island part made of a metal material having an average diameter of 80 to 120 μm and a sea-island structure in which the distance between the island parts is 30 to 60 μm;
An island part made of a metal material having an average diameter of 0.02 to 1 μm and a second reflection layer having a sea-island structure in which an interval between the island parts is 0.01 to 0.5 μm so as to cover the first reflection layer;
A card characterized by having.
前記カード基材とホログラム層の間に磁気記録層が形成されてなることを特徴とする請求項4記載のカード。   5. The card according to claim 4, wherein a magnetic recording layer is formed between the card substrate and the hologram layer. さらにICチップまたはICモジュールを有することを特徴とする請求項4または5記載のカード。   6. The card according to claim 4, further comprising an IC chip or an IC module. 前記反射層の表面抵抗値1010オーム以上であることを特徴とする請求項4〜6のいずれかに記載のカード。 The card according to claim 4, wherein the reflective layer has a surface resistance value of 10 10 ohms or more.
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