JP2012083681A - Liquid crystal display device - Google Patents

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貴夫 佐藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide technology of preventing occurrence of a vertical stripe in a liquid crystal display device in which two gate lines are arranged for each pixel row and one drain line is arranged for two pixel columns.SOLUTION: In the liquid crystal display device, the pixel rows are composed in a first direction and the pixel columns are composed in a second direction, the pixel rows are arranged so as to be shifted, the first and second gate lines are arranged for one pixel row, and one drain line is arranged for two pixel columns. Each pixel row includes a first pixel having a first thin film transistor connected to the first gate line, and a second pixel having a second thin film transistor connected to the second gate line. Each drain line includes a second-direction drain line extended in the second direction and a first-direction drain line extended in the first direction and connected to the second thin film transistor after intersecting the second gage line. The second-direction drain line is extended in the first or second direction and has an additional extension part intersecting the first gate line.

Description

本発明は、液晶表示装置に係わり、特に、2つの画素列に1本のドレイン線で映像信号を供給する液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device that supplies a video signal to two pixel columns through one drain line.

一本のドレイン線から2つの画素列に対して映像信号を供給する液晶表示装置は、例えば、特許文献1に開示がなされている。   A liquid crystal display device that supplies a video signal from one drain line to two pixel columns is disclosed in, for example, Patent Document 1.

このような液晶表示装置は、マトリックス状に配置された各画素のうち、同一の画素行に配列される複数の画素に対して、例えば、奇数番目の画素を当該画素の一方の側に形成した第1ゲート線によって選択し、偶数番目の画素を当該画素の他方の側に形成した第2ゲート線によって選択する構成となっている。このように形成される液晶表示装置では、隣接する奇数番目の画素と偶数番目の画素との間にドレイン線が配置され、隣接する偶数番目の画素と奇数番目の画素との間にはドレイン線は配置されていない構成となっている。   In such a liquid crystal display device, for example, odd-numbered pixels are formed on one side of a plurality of pixels arranged in the same pixel row among the pixels arranged in a matrix. The selection is made by the first gate line, and the even-numbered pixel is selected by the second gate line formed on the other side of the pixel. In the liquid crystal display device thus formed, a drain line is disposed between adjacent odd-numbered pixels and even-numbered pixels, and a drain line is disposed between adjacent even-numbered pixels and odd-numbered pixels. Are not arranged.

また、画素が1行(1列)おきに半ピッチずつゲート線の延在方向(又はドレイン線の延在方向)にずれるように形成することにより、時分割で映像信号を供給する際に生じる表示不良である、いわゆる縦すじの発生を低減した液晶表示装置がある。画素を1行(1列)おきに半ピッチずつゲート線の延在方向ずらして配置する液晶表示装置としては、例えば、特許文献2に記載の液晶表示装置がある。   In addition, when pixels are formed so as to be shifted in the gate line extending direction (or the drain line extending direction) by a half pitch every other row (one column), this occurs when video signals are supplied in a time division manner. There is a liquid crystal display device in which the occurrence of so-called vertical stripes, which are display defects, is reduced. An example of a liquid crystal display device in which pixels are arranged with a half-pitch shift every other row (one column) in the gate line extending direction is the liquid crystal display device described in Patent Document 2.

特開2000−35589号公報JP 2000-35589 A 特開平6−289423号公報JP-A-6-289423

特許文献1に記載の技術に特許文献2に記載の技術を適用した液晶表示装置は、例えば、図6に示すように、隣接する2つの画素PXL1,PXL2の間にY方向に延在するドレイン線DLが形成されると共に、各画素PXL1,PXL2の図中上側にX方向に延在するゲート線GL1が形成され、図中下側にゲート線GL2が形成される構成となる。この構成からなる液晶表示装置は、このゲート線GL1,GL2とドレイン線DLとが交差する近傍にそれぞれの画素PXL1,PXL2に対応する薄膜トランジスタTFTが形成されている。このために、同じドレイン線DLに接続され、同じ画素行に形成される画素PXL1,PXL2に対応する薄膜トランジスタTFTは、ドレイン線DLに対して線対称な構成となっている。このような配置の薄膜トランジスタTFTは、半導体層とドレイン電極(ソース電極を含む)を形成する際の位置合わせ精度に起因する層間ずれに伴うゲート・ドレイン間やゲート・ソース間等の容量変動により薄膜トランジスタTFTの駆動能力に差が生じ、画素PXL1側と画素PXL2側とで輝度差が生じてしまい、いわゆる縦すじが発生してしまうことが知られている。   A liquid crystal display device in which the technique described in Patent Document 2 is applied to the technique described in Patent Document 1, for example, as shown in FIG. 6, is a drain extending in the Y direction between two adjacent pixels PXL1, PXL2. A line DL is formed, a gate line GL1 extending in the X direction is formed on the upper side of each pixel PXL1, PXL2, and a gate line GL2 is formed on the lower side in the figure. In the liquid crystal display device having this configuration, the thin film transistors TFT corresponding to the respective pixels PXL1 and PXL2 are formed in the vicinity where the gate lines GL1 and GL2 and the drain line DL intersect. Therefore, the thin film transistors TFT connected to the same drain line DL and corresponding to the pixels PXL1 and PXL2 formed in the same pixel row have a configuration symmetrical with respect to the drain line DL. The thin film transistor TFT having such an arrangement is a thin film transistor due to capacitance variation between the gate and the drain or between the gate and the source due to an interlayer shift caused by alignment accuracy when forming the semiconductor layer and the drain electrode (including the source electrode). It is known that a difference occurs in the driving ability of the TFT, a luminance difference occurs between the pixel PXL1 side and the pixel PXL2 side, and so-called vertical stripes occur.

このような薄膜トランジスタTFTの駆動能力の差を低減させ、縦すじの発生を抑制するために、図7に示すように、全ての画素内における薄膜トランジスタTFTのX方向に対する向きを揃えた液晶表示装置がある。図7に示す液晶表示装置では、画素行PL1に形成されると共に、同一のドレイン線DLに接続される一対の画素PX1,PXL2と、画素行PL2に形成される一対の画素PXL1,PXL2とからなる画素群が順次X方向及びY方向に配列されて、画素がマトリクス状に配置される。このとき、画素行PL1の画素PXL1,PXL2と、画素行PL2の画素PXL1,PXL2とは、画素の半ピッチ分だけずれて配置されている。   In order to reduce the difference in driving capability of the thin film transistor TFT and suppress the occurrence of vertical stripes, as shown in FIG. is there. In the liquid crystal display device shown in FIG. 7, a pair of pixels PX1 and PXL2 formed in the pixel row PL1 and connected to the same drain line DL, and a pair of pixels PXL1 and PXL2 formed in the pixel row PL2 are used. The pixel groups to be arranged are sequentially arranged in the X direction and the Y direction, and the pixels are arranged in a matrix. At this time, the pixels PXL1 and PXL2 of the pixel row PL1 and the pixels PXL1 and PXL2 of the pixel row PL2 are arranged so as to be shifted by a half pitch of the pixels.

この図7に示す構成からなる液晶表示装置では、半導体層とドレイン電極等の層間ずれに伴う薄膜トランジスタTFTの駆動能力の変化を防止できるが、図7中に丸印Cで示すように、ゲート線GL1,GL2とドレイン線DLとの交差数が異なることとなってしまう。このために、同じ画素行PL1,PL2に隣接する画素電極PXL1と画素電極PXL2に対応する薄膜トランジスタTFTのゲート・ドレイン間容量が異なることとなり、その結果、薄膜トランジスタTFTの駆動能力が異なってしまい、縦すじが発生し、画質が低下してしまうことが懸念されている。   In the liquid crystal display device having the configuration shown in FIG. 7, the change in the driving capability of the thin film transistor TFT due to the misalignment between the semiconductor layer and the drain electrode can be prevented. However, as indicated by a circle C in FIG. The number of intersections between GL1 and GL2 and the drain line DL will be different. For this reason, the gate-drain capacitances of the thin film transistors TFT corresponding to the pixel electrodes PXL1 and PXL2 adjacent to the same pixel rows PL1 and PL2 are different. As a result, the driving capability of the thin film transistors TFT is different. There is a concern that streaks occur and the image quality deteriorates.

本発明はこれらの問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、1つの画素行に対して2本のゲート線が配置され、2つの画素列に対して1本のドレイン線が配置される液晶表示装置における縦すじの発生を防止し、画質を向上することが可能な技術を提供することにある。   The present invention has been made in view of these problems, and an object of the present invention is to provide two gate lines for one pixel row and one drain line for two pixel columns. It is an object of the present invention to provide a technique capable of preventing the occurrence of vertical streaks and improving the image quality in a liquid crystal display device in which is disposed.

前記課題を解決すべく、第1基板と第2基板が液晶を挟持し、前記第1基板の前記液晶側の面に、映像信号が供給される画素電極を少なくとも有する画素を備え、前記画素は、第1の方向に沿って複数配置されて画素行を構成し、前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って画素列を構成し、上段の画素行に対して下段の画素行は前記第1の方向にずれて配置され、段ごとに、交互に異なるようにして配置され、1つの画素行に対して第1ゲート線及び第2ゲート線が配置され、2つの画素列に対して1本のドレイン線が配置され、前記ドレイン線が前記第1ゲート線及び前記第2ゲート線と交差してなる液晶表示装置であって、前記画素行は、前記第1ゲート線に接続される第1薄膜トランジスタを有する第1画素と、第2ゲート線に接続され、前記第1薄膜トランジスタと同じ向きに形成される第2薄膜トランジスタを有する第2画素と、を備え、前記ドレイン線は、前記第2の方向に延在し、前記第1ゲート線及び前記第2ゲート線とそれぞれ交差する第2方向ドレイン線と、前記第2方向ドレイン線から前記第1の方向に伸延され、前記第2ゲート線と交差した後に前記第2薄膜トランジスタのドレイン電極に接続される第1方向ドレイン線と、からなり、前記第2方向ドレイン線は、前記第1薄膜トランジスタのドレイン電極に接続される延在部と、前記第1の方向又は前記第2の方向に伸延され、前記第1ゲート線と交差する追加延在部と、を有する液晶表示装置である。   In order to solve the above problem, the first substrate and the second substrate sandwich a liquid crystal, and a pixel having at least a pixel electrode to which a video signal is supplied is provided on the liquid crystal side surface of the first substrate, A plurality of pixels are arranged along the first direction to constitute a pixel row, a pixel column is constituted along a second direction intersecting the first direction, and a lower pixel row with respect to an upper pixel row Are shifted in the first direction, and are arranged so as to be alternately different for each stage. The first gate line and the second gate line are arranged for one pixel row, and two pixel columns are arranged. A liquid crystal display device in which one drain line is arranged and the drain line intersects the first gate line and the second gate line, and the pixel row is connected to the first gate line. Connected to the first pixel having the first thin film transistor and the second gate line. A second pixel having a second thin film transistor formed in the same direction as the first thin film transistor, wherein the drain line extends in the second direction, and the first gate line and the second thin film transistor A second direction drain line that intersects with each gate line; and a second direction drain line that extends from the second direction drain line in the first direction and that intersects the second gate line and is connected to the drain electrode of the second thin film transistor. The second direction drain line extends in the first direction or the second direction, and extends in the first direction or the second direction. The second direction drain line extends in the first direction or the second direction. 1 is a liquid crystal display device having an additional extension that intersects one gate line.

本発明によれば、1つの画素行に対して2本のゲート線が配置され、2つの画素列に対して1本のドレイン線が配置される液晶表示装置における縦すじの発生を防止し、画質を向上できる。   According to the present invention, it is possible to prevent the occurrence of vertical stripes in a liquid crystal display device in which two gate lines are arranged for one pixel row and one drain line is arranged for two pixel columns, The image quality can be improved.

本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。   Other effects of the present invention will become apparent from the description of the entire specification.

本発明の実施形態1の液晶表示装置の概略構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating schematic structure of the liquid crystal display device of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1の液晶表示装置における画素構成を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the pixel structure in the liquid crystal display device of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態2の液晶表示装置における画素構成を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the pixel structure in the liquid crystal display device of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施形態3の液晶表示装置における画素構成を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the pixel structure in the liquid crystal display device of Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施形態4の液晶表示装置における画素構成を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the pixel structure in the liquid crystal display device of Embodiment 4 of this invention. 従来の液晶表示装置における画素構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the pixel structure in the conventional liquid crystal display device. 従来の液晶表示装置における画素構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the pixel structure in the conventional liquid crystal display device.

以下、本発明が適用された実施形態について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明は省略する。   Embodiments to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings. However, in the following description, the same components are denoted by the same reference numerals, and repeated description is omitted.

〈実施形態1〉
〈全体構成〉
図1は本発明の実施形態1の液晶表示装置の概略構成を説明するための図であり、以下、図1に基づいて、実施形態1の液晶表示装置の全体構成を説明する。ただし、図1に示すX,YはそれぞれX軸、Y軸を示す。
<Embodiment 1>
<overall structure>
FIG. 1 is a diagram for explaining a schematic configuration of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. Hereinafter, an overall configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. However, X and Y shown in FIG. 1 indicate the X axis and the Y axis, respectively.

図1に示すように、実施形態1の液晶表示装置は、画素電極PX及び薄膜トランジスタTFTが形成される第1基板SUB1と、第1基板SUB1に対向して配置され共通電極及びカラーフィルタ等が形成される第2基板SUB2と、第1基板SUB1と第2基板SUB2とで挟持される図示しない液晶層とで構成される液晶表示パネルPNLを有し、該液晶表示パネルPNLの光源となる図示しないバックライトユニット(バックライト装置)とを組み合わせることにより、液晶表示装置が構成されている。第1基板SUB1と第2基板SUB2との固定及び液晶の封止は、第2基板の周辺部に環状に塗布されたシール材SLで固定され、液晶も封止される構成となっている。ただし、実施形態1の液晶表示装置では、液晶が封入された領域の内で表示画素(以下、画素と略記する)の形成される領域が表示領域ARとなる。従って、液晶が封入されている領域内であっても、画素が形成されておらず表示に係わらない領域は表示領域ARとはならない。   As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device of Embodiment 1 includes a first substrate SUB1 on which a pixel electrode PX and a thin film transistor TFT are formed, and a common electrode, a color filter, and the like that are disposed to face the first substrate SUB1. A liquid crystal display panel PNL composed of a second substrate SUB2 and a liquid crystal layer (not shown) sandwiched between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2, and serves as a light source of the liquid crystal display panel PNL (not shown) A liquid crystal display device is configured by combining with a backlight unit (backlight device). The first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 are fixed and the liquid crystal is sealed with a sealing material SL applied to the periphery of the second substrate in an annular shape, and the liquid crystal is also sealed. However, in the liquid crystal display device according to the first embodiment, a region in which display pixels (hereinafter abbreviated as pixels) are formed in a region in which liquid crystal is sealed becomes a display region AR. Therefore, even in the region where the liquid crystal is sealed, a region where pixels are not formed and which is not involved in display is not the display region AR.

また、第2基板SUB2は、第1基板SUB1よりも小さな面積となっており、第1基板SUB1の図中下側の辺部を露出させるようになっている。この第1基板SUB1の辺部には、半導体チップで構成される駆動回路DRが搭載されている。この駆動回路DRは、表示領域ARに配置される各画素を駆動する。なお、以下の説明では、液晶表示パネルPNLの説明においても、液晶表示装置と記すことがある。   Further, the second substrate SUB2 has a smaller area than the first substrate SUB1, and the lower side of the first substrate SUB1 in the drawing is exposed. A drive circuit DR composed of a semiconductor chip is mounted on the side of the first substrate SUB1. The drive circuit DR drives each pixel arranged in the display area AR. In the following description, the liquid crystal display panel PNL may also be described as a liquid crystal display device.

第1基板SUB1及び第2基板SUB2としては、例えば周知のガラス基板が基材として用いられるのが一般的であるが、ガラス基板に限定されることはなく、石英ガラスやプラスチック(樹脂)のような他の絶縁性基板であってもよい。   As the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2, for example, a well-known glass substrate is generally used as a base material, but is not limited to a glass substrate, and is not limited to quartz glass or plastic (resin). Any other insulating substrate may be used.

実施形態1の液晶表示装置では第1基板SUB1の液晶側の面であって表示領域AR内には、図1中X方向に延在しY方向に並設され、駆動回路DRからの走査信号が供給される走査信号線(ゲート線)GLが形成されている。また、図1中Y方向に延在しX方向に並設され、駆動回路からの映像信号(階調信号)が供給される映像信号線(ドレイン線)DLが形成されている。このとき、実施形態1の液晶表示装置では、後に詳述するように、X方向に隣接する2つの画素毎に1本のドレイン線DLがY方向に並設される、すなわち2つの画素列に対して1本のドレイン線DLがY方向に並設される構成となっている。従って、1本のドレイン線DLには、同一の画素行に配置される2つの画素が接続される構成となっている。このとき、各ドレイン線DLには、隣接する2つの画素に対応した映像信号が順次出力される構成となっている。また、実施形態1の液晶表示装置では、後に詳述するように、1つの画素行に対して2本のゲート線GLが形成され、この対をなす2本のゲート線GLの間に画素(画素列)が形成され、各ドレイン線DLが接続される画素毎に異なるゲート線GLが接続される構成となっている。   In the liquid crystal display device according to the first embodiment, the surface of the first substrate SUB1 on the liquid crystal side and in the display area AR extends in the X direction in FIG. 1 and is juxtaposed in the Y direction, and a scanning signal from the drive circuit DR. Is formed as a scanning signal line (gate line) GL. Further, a video signal line (drain line) DL is formed which extends in the Y direction in FIG. 1 and is juxtaposed in the X direction and is supplied with a video signal (grayscale signal) from the drive circuit. At this time, in the liquid crystal display device of Embodiment 1, as will be described in detail later, one drain line DL is arranged in parallel in the Y direction for every two pixels adjacent in the X direction, that is, in two pixel columns. On the other hand, one drain line DL is arranged in parallel in the Y direction. Accordingly, two drains arranged in the same pixel row are connected to one drain line DL. At this time, a video signal corresponding to two adjacent pixels is sequentially output to each drain line DL. In the liquid crystal display device according to the first embodiment, as will be described in detail later, two gate lines GL are formed for one pixel row, and a pixel (between the two gate lines GL forming a pair is formed. Pixel line) is formed, and a different gate line GL is connected to each pixel to which each drain line DL is connected.

各画素は、例えば図1中丸印Aの等価回路図A’に示すように、ゲート線GLからの走査信号によってオン/オフ駆動される薄膜トランジスタTFTと、このオンされた薄膜トランジスタTFTを介してドレイン線DLからの映像信号が供給される画素電極PXと、コモン線CLを介して映像信号の電位に対して基準となる電位を有する共通信号が供給される共通電極CTとを備えている。ただし、薄膜トランジスタTFTは、いわゆる逆スタガ構造の薄膜トランジスタであり、そのバイアスの印加によってドレイン電極とソース電極が入れ替わるように駆動するが、本明細書中においては、便宜上、ドレイン線DLと接続される側をドレイン電極DT、画素電極PXと接続される側をソース電極STと記す。   For example, as shown in an equivalent circuit diagram A ′ of a circle A in FIG. 1, each pixel includes a thin film transistor TFT that is turned on / off by a scanning signal from the gate line GL, and a drain line through the turned on thin film transistor TFT. A pixel electrode PX to which a video signal from DL is supplied and a common electrode CT to which a common signal having a reference potential with respect to the potential of the video signal is supplied via a common line CL. However, the thin film transistor TFT is a thin film transistor having a so-called reverse stagger structure, and is driven so that the drain electrode and the source electrode are switched by application of a bias. However, in this specification, for convenience, the side connected to the drain line DL Is the drain electrode DT, and the side connected to the pixel electrode PX is the source electrode ST.

画素電極PXが形成される第1基板SUB1と共通電極CTが形成される第2基板SUB2との間には、対向配置される第1基板SUB1及び第2基板SUB2の主面と垂直な電界が印加され、この電界によって液晶の分子を駆動させるようになっている。このような液晶表示装置は、いわゆる広視野角表示ができるものとして知られるVA方式やTN方式の液晶表示装置である。   Between the first substrate SUB1 on which the pixel electrode PX is formed and the second substrate SUB2 on which the common electrode CT is formed, an electric field perpendicular to the main surfaces of the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 disposed to face each other is present. When applied, this electric field drives the molecules of the liquid crystal. Such a liquid crystal display device is a VA mode or TN mode liquid crystal display device that is known as a so-called wide viewing angle display.

各ドレイン線DL及び各ゲート線GLはその端部においてシール材SLを越えてそれぞれ延在され、外部システムからフレキシブルプリント基板FPCを介して入力される入力信号に基づいて、映像信号や走査信号等の駆動信号を生成する駆動回路DRに接続される。ただし、実施形態1の液晶表示装置では、駆動回路DRを半導体チップで形成し第1基板SUB1に搭載する構成としているが、映像信号を出力する映像信号駆動回路と走査信号を出力する走査信号駆動回路との何れか一方又はその両方の駆動回路をフレキシブルプリント基板FPCにテープキャリア方式やCOF(Chip On Film)方式で搭載し、第1基板SUB1に接続させる構成であってもよい。   Each drain line DL and each gate line GL extend beyond the sealing material SL at their ends, and based on an input signal input from an external system through the flexible printed circuit board FPC, a video signal, a scanning signal, etc. Is connected to a drive circuit DR that generates a drive signal. However, in the liquid crystal display device of the first embodiment, the drive circuit DR is formed of a semiconductor chip and mounted on the first substrate SUB1, but the video signal drive circuit that outputs the video signal and the scan signal drive that outputs the scan signal are used. One or both of the drive circuits may be mounted on the flexible printed circuit board FPC by a tape carrier method or a COF (Chip On Film) method and connected to the first substrate SUB1.

〈画素構成〉
図2は本発明の実施形態1の液晶表示装置における画素構成を説明するための平面図であり、特に、第1基板SUB1の平面図である。ただし、図2に示す画素の配置は、上段が画素行の奇数行であり、下段が画素行の偶数行であり、各段の左列が画素列の奇数列であり、右列が画素列の偶数列の場合について説明する。また、以下の説明において、各薄膜層は周知のフォトリソグラフィー技術で形成可能となるので、その形成方法等の詳細は省略する。さらには、実施形態1の液晶表示装置では、第2基板SUB2に各画素の辺縁部に対応したブラックマトリクス及びR(赤色),G(緑色),B(青色)カラーフィルタ並びに共通電極CTが形成され、ブラックマトリクスが隣接配置される画素間からの光漏れを防止する構成となっている。
<Pixel configuration>
FIG. 2 is a plan view for explaining a pixel configuration in the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. In particular, FIG. 2 is a plan view of the first substrate SUB1. However, in the pixel arrangement shown in FIG. 2, the upper row is an odd row of pixel rows, the lower row is an even row of pixel rows, the left column of each row is an odd row of pixel rows, and the right row is a pixel row. The case of even-numbered columns will be described. In the following description, since each thin film layer can be formed by a well-known photolithography technique, details of the forming method and the like are omitted. Furthermore, in the liquid crystal display device of Embodiment 1, the second substrate SUB2 includes a black matrix, R (red), G (green), B (blue) color filters, and a common electrode CT corresponding to the edge of each pixel. Thus, the black matrix is configured to prevent light leakage from between adjacent pixels.

図2に示すように、実施形態1の液晶表示装置では、Y方向(第2の方向)に延在しX方向(第1の方向)に並設されるドレイン線DLを有しており、1本のドレイン線DLは同一の画素行(走査ライン)PL1,PL2に配置される画素の内、隣接する2つの画素列の画素PXL1,PXL2にそれぞれ接続されている。また、Y方向に延在しX方向に並設される2本のゲート線(第1ゲート線)GL1とゲート線(第2ゲート線)GL2を有しており、X方向に並設される2本のゲート線GL1,GL2の間に同一の画素行の画素(第1画素)PXL1と画素(第2画素)PX2が配置される。   As shown in FIG. 2, the liquid crystal display device of Embodiment 1 has a drain line DL extending in the Y direction (second direction) and arranged in parallel in the X direction (first direction). One drain line DL is connected to pixels PXL1 and PXL2 of two adjacent pixel columns among the pixels arranged in the same pixel row (scanning line) PL1 and PL2. Further, it has two gate lines (first gate lines) GL1 and gate lines (second gate lines) GL2 that extend in the Y direction and are arranged in parallel in the X direction, and are arranged in parallel in the X direction. A pixel (first pixel) PXL1 and a pixel (second pixel) PX2 in the same pixel row are arranged between the two gate lines GL1 and GL2.

また、全ての画素PXL1,PXL2において、薄膜トランジスタTFTの向きが同じ方向となっている。特に、実施形態1においては、各画素PXL1,PXL2の画素領域で図中左側に薄膜トランジスタTFT1,TFT2が形成され、この各薄膜トランジスタTFT1,TFT2の図中左側にドレイン電極DTが形成され、図中右側にソース電極STが形成されている。また、ソース電極STと電気的に接続されるパッド部PADは薄膜トランジスタTFT1,TFT2の図中右側に配置されている。すなわち、実施形態1の薄膜トランジスタTFT1,TFT2は、後に詳述するように、図中左側から延在部JCが延在され、図中右側に凹面が形成されるドレイン電極DTに接続され、ソース電極STはドレイン電極DTの凹面に対向して配置されている。   In all the pixels PXL1 and PXL2, the direction of the thin film transistor TFT is the same. In particular, in the first embodiment, the thin film transistors TFT1 and TFT2 are formed on the left side in the drawing in the pixel region of each pixel PXL1 and PXL2, and the drain electrode DT is formed on the left side in the drawing of each thin film transistor TFT1 and TFT2. A source electrode ST is formed on the substrate. The pad portion PAD electrically connected to the source electrode ST is disposed on the right side of the thin film transistors TFT1 and TFT2. That is, as will be described in detail later, the thin film transistors TFT1 and TFT2 of the first embodiment are connected to a drain electrode DT having an extending portion JC extending from the left side in the drawing and forming a concave surface on the right side in the drawing, ST is disposed to face the concave surface of the drain electrode DT.

このような構成とするために、実施形態1の液晶表示装置では、画素行PL1の画素PXL1においては、ゲート線GL1が配置される画素領域の図中左上の領域に薄膜トランジスタTFT1が配置される。画素PXL2においては、ゲート線GL2が配置される画素領域の図中左下の領域に薄膜トランジスタTFT2が配置される。同様にして、画素行PL2の画素PXL1においては、ゲート線GL1が配置される画素領域の図中左下の領域に薄膜トランジスタTFT1が配置され、画素PXL2においては、ゲート線GL2が配置される画素領域の図中左上の領域に薄膜トランジスタTFT2が配置される。   In order to achieve such a configuration, in the liquid crystal display device of Embodiment 1, in the pixel PXL1 of the pixel row PL1, the thin film transistor TFT1 is disposed in the upper left region of the pixel region in which the gate line GL1 is disposed. In the pixel PXL2, the thin film transistor TFT2 is disposed in the lower left region of the pixel region in which the gate line GL2 is disposed. Similarly, in the pixel PXL1 of the pixel row PL2, the thin film transistor TFT1 is disposed in the lower left region of the pixel region in which the gate line GL1 is disposed, and in the pixel PXL2, the pixel region in which the gate line GL2 is disposed. The thin film transistor TFT2 is arranged in the upper left region in the figure.

このとき、例えば、画素行PL1の画素PXL1においては、丸印Bの拡大図B’に示すように、ゲート線GL1から図中下側に突出し、薄膜トランジスタTFT1のゲート電極GTとして機能する構成となっている。ゲート電極GTの表面には、ゲート線GLをも被う図示しない絶縁膜(ゲート絶縁膜)が形成され、この絶縁膜上のゲート電極GTと重畳する部分には、例えばアモルファスシリコンからなる島状の半円形の半導体層ASが形成されている。この半導体層ASは、薄膜トランジスタTFT1の半導体層となるものである。   At this time, for example, in the pixel PXL1 of the pixel row PL1, as shown in an enlarged view B ′ of a circle B, the pixel PXL1 protrudes downward from the gate line GL1 in the drawing and functions as the gate electrode GT of the thin film transistor TFT1. ing. An insulating film (gate insulating film) (not shown) that covers the gate line GL is formed on the surface of the gate electrode GT, and an island shape made of, for example, amorphous silicon is formed on a portion overlapping the gate electrode GT on the insulating film. A semicircular semiconductor layer AS is formed. The semiconductor layer AS becomes a semiconductor layer of the thin film transistor TFT1.

ドレイン電極DTは半円形の半導体層ASに沿った湾曲した形状をなしており、ドレイン線DLの形成と同時に形成され、ドレイン線DLの一部が延在して形成される延在部JCにより、ドレイン線DLとドレイン電極DTとが電気的に接続されている。また、ソース電極STは、ドレイン電極DTの形成と同時に形成され、該ソース電極STから延在されるパッド部PDも共に形成される。実施形態1においては、ドレイン電極DTは半円形の半導体層ASに沿った湾曲したパターンをなし、ソース電極STはドレイン電極DTの凹面に対向して配置されている。これによって、薄膜トランジスタTFT1のチャネル幅を大きく構成できるようにしている。   The drain electrode DT has a curved shape along the semicircular semiconductor layer AS, and is formed simultaneously with the formation of the drain line DL, and is formed by an extension portion JC formed by extending part of the drain line DL. The drain line DL and the drain electrode DT are electrically connected. Further, the source electrode ST is formed simultaneously with the formation of the drain electrode DT, and a pad portion PD extending from the source electrode ST is also formed. In the first embodiment, the drain electrode DT has a curved pattern along the semicircular semiconductor layer AS, and the source electrode ST is disposed to face the concave surface of the drain electrode DT. Thus, the channel width of the thin film transistor TFT1 can be increased.

このパッド部PDの上層には、薄膜トランジスタTFT1及びドレイン線DL等をも被う図示しない保護膜が第1基板SUB1の表面に形成され、該保護膜PASの上面に平板状の画素電極PXが形成され、その一部がパッド部PADと重畳している。この画素電極PXは、パッド部PADの上層部分の保護膜に形成された図示しないコンタクトホールを通してパッド部PDに接続され、画素電極PXが薄膜トランジスタTFTのソース電極STに電気的に接続されている。なお、画素電極PXは、例えばITO(Indium Tin Oxide)からなる透光性導電膜によって構成されているが、ZnO(酸化亜鉛)系透明導電膜を用いてもよい。   A protective film (not shown) that covers the thin film transistor TFT1 and the drain line DL and the like is formed on the upper surface of the pad portion PD, and a flat pixel electrode PX is formed on the upper surface of the protective film PAS. A part of the pad overlaps with the pad part PAD. The pixel electrode PX is connected to the pad portion PD through a contact hole (not shown) formed in the protective film in the upper layer portion of the pad portion PAD, and the pixel electrode PX is electrically connected to the source electrode ST of the thin film transistor TFT. The pixel electrode PX is made of a translucent conductive film made of, for example, ITO (Indium Tin Oxide), but a ZnO (zinc oxide) based transparent conductive film may be used.

実施形態1の液晶表示装置では、奇数段である画素行PL1には2個の画素PXL1,PXL2が隣接してX方向に並設され、偶数段である画素行PL2にはドレイン線DLを介して2個の画素PXL1,PXL2がX方向に並設されている。この2つの画素行PL1,PL2のそれぞれに配置される一対の画素PXL1,PXL2からなる合計4つの画素PXL1,PXLからなる画素群が表示領域AR内にマトリクス状に配置されて、画像表示を行う構成となっている。このとき、上段である画素行PL1の画素PXL1,PXL2に対して、下段の画素行である画素行PL2の画素PXL1,PXL2は半ピッチ(X方向の画素幅の半分)ずつX方向に沿ってずれて形成され、このずれ方向は、段の下降ごとに、交互(例えば、図中の左右)に異なるように、各画素PXL1,PXL2が配列されている。ただし、各画素PXL1,PXL2のずれ量は半ピッチに限定されない。   In the liquid crystal display device according to the first embodiment, two pixels PXL1 and PXL2 are adjacently arranged in the X direction adjacent to the odd-numbered pixel row PL1, and the even-numbered pixel row PL2 is connected to the pixel row PL2 via the drain line DL. The two pixels PXL1 and PXL2 are juxtaposed in the X direction. A pixel group consisting of a total of four pixels PXL1 and PXL consisting of a pair of pixels PXL1 and PXL2 arranged in each of the two pixel rows PL1 and PL2 is arranged in a matrix in the display area AR, and image display is performed. It has a configuration. At this time, with respect to the pixels PXL1 and PXL2 in the upper pixel row PL1, the pixels PXL1 and PXL2 in the lower pixel row PL2 are arranged along the X direction by a half pitch (half the pixel width in the X direction). The pixels PXL1 and PXL2 are arranged in such a manner that the shift directions are alternately changed (for example, left and right in the drawing) every time the stage is lowered. However, the shift amount of each pixel PXL1, PXL2 is not limited to a half pitch.

このような画素配置においては、各画素列に配置される2本のゲート線GL1,GL2は、各画素PXL1,PXL2のY方向の端部にそれぞれ配置されているので、画素行PL1と画素行PL2との間には、2本のゲート線GLが配置される構成となっている。このとき、実施形態1では、奇数行(画素行PL1)と偶数行(画素行PL2)とでは、各画素PXL1,PLX2の構成は、ドレイン線DLを除く他の構成部材の配置がY方向(上下方向)に反転した位置関係となっている。従って、Y方向に隣接する画素との間には、2本のゲート線GL1又は2本のゲート線GL2とがそれぞれ近接してX方向に延在し、Y方向に並設されている。また、同一の画素列に配置されると共に、同一のドレイン線DLに接続される2つの画素毎に、異なる2つのゲート線GL1,GL2にそれぞれ接続されると共に、そのドレイン線DLとゲート線GL1,GL2とが交差する近傍にそれぞれの画素PXL1,PXL2に対応する薄膜トランジスタTFT1,TFT2が形成されている。例えば、画素行PL1では、同一のドレイン線DLに接続される画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1は図中上端側に配置されるゲート線GL1に接続され、画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2は図中下端側に配置されるゲート線GL2に接続される。同様にして、画素行PL2では、ドレイン線DLに接続される画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2はゲート線GL2に接続され、画素PXL1の薄膜トランジスタTFT2はゲート線GL1に接続される。   In such a pixel arrangement, the two gate lines GL1 and GL2 arranged in each pixel column are arranged at the ends in the Y direction of the respective pixels PXL1 and PXL2, and therefore the pixel row PL1 and the pixel row Two gate lines GL are arranged between PL2. At this time, in the first embodiment, in the odd-numbered row (pixel row PL1) and the even-numbered row (pixel row PL2), the configuration of the pixels PXL1 and PLX2 is such that the arrangement of the other constituent members excluding the drain line DL is in the Y direction ( The positional relationship is reversed in the vertical direction. Therefore, between the pixels adjacent in the Y direction, the two gate lines GL1 or the two gate lines GL2 are close to each other and extend in the X direction, and are arranged in parallel in the Y direction. Further, each of two pixels arranged in the same pixel column and connected to the same drain line DL is connected to two different gate lines GL1 and GL2, and the drain line DL and the gate line GL1. , GL2 are formed in the vicinity where the thin film transistors TFT1 and TFT2 corresponding to the respective pixels PXL1 and PXL2 are formed. For example, in the pixel row PL1, the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1 connected to the same drain line DL is connected to the gate line GL1 arranged on the upper end side in the drawing, and the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2 is arranged on the lower end side in the drawing. Connected to the gate line GL2. Similarly, in the pixel row PL2, the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2 connected to the drain line DL is connected to the gate line GL2, and the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL1 is connected to the gate line GL1.

また、Y方向に延在されるドレイン線DLは、画素PXL1,PXL2の長手方向すなわちY方向に伸延するY方向配線部(第2方向ドレイン線)と、近接する2本のゲート線GL1,GL2に間に形成され、画素PXL1,PXL2の短手方向すなわちX方向に伸延し、その端部が薄膜トランジスタTFT1,TFT2のドレイン電極DTに接続されるX方向配線部(第1方向ドレイン線)とからなる。   Further, the drain line DL extending in the Y direction includes a Y direction wiring portion (second direction drain line) extending in the longitudinal direction of the pixels PXL1 and PXL2, that is, the Y direction, and two adjacent gate lines GL1 and GL2. From the X direction wiring portion (first direction drain line) extending in the short direction of the pixels PXL1 and PXL2, that is, extending in the X direction and having an end connected to the drain electrode DT of the thin film transistors TFT1 and TFT2. Become.

このとき、画素行PL1においては、ドレイン線DLのY方向配線部は、画素PXL1の図中左側の辺縁部に沿ってY方向に延在され、その際に丸印Cで示すように、ゲート線GL1,GL2とそれぞれ1度ずつ交差する。このY方向配線部は、その一部がY方向に延在して形成される延在部JCを有し、その端部が画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1のドレイン電極DTに接続される。一方、X方向配線部は、Y方向配線部の下端から画素PXL1の図中下側の辺部に沿い、2本のゲート線GL2の間をX方向に延在され、丸印Cに示す個所で1本のゲート線GL2(画素行PL1に対応するゲート線GL2)と交差した後に、その端部が画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2のドレイン電極DTに接続される。   At this time, in the pixel row PL1, the Y-direction wiring portion of the drain line DL extends in the Y direction along the left side edge portion of the pixel PXL1 in the drawing, and in this case, as indicated by a circle C, It intersects with the gate lines GL1 and GL2 once each. The Y-direction wiring portion has an extending portion JC that is formed so as to partially extend in the Y direction, and an end thereof is connected to the drain electrode DT of the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1. On the other hand, the X-direction wiring portion extends in the X direction between the two gate lines GL2 from the lower end of the Y-direction wiring portion along the lower side of the pixel PXL1 in the figure, and is indicated by a circle C. Then, after intersecting with one gate line GL2 (gate line GL2 corresponding to the pixel row PL1), the end thereof is connected to the drain electrode DT of the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2.

また、画素行PL2においては、ドレイン線DLのY方向配線部は、画素PXL1と画素PXL2との間に沿ってY方向に延在され、ゲート線GL1,GL2とそれぞれ1度ずつ交差する。また、X方向配線部は、Y方向配線部の下端から画素PXL1の図中下側の辺部に沿い、図示しない次段のゲート線とゲート線GL1との2本のゲート線GL1の間をX方向に延在され、1本のゲート線GL1(画素行PL2に対応するゲート線GL1)と交差した後に、その端部が画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1のドレイン電極DTに接続される。   In the pixel row PL2, the Y-direction wiring portion of the drain line DL extends in the Y direction between the pixel PXL1 and the pixel PXL2, and intersects the gate lines GL1 and GL2 once each. The X-direction wiring portion extends from the lower end of the Y-direction wiring portion to the lower side of the pixel PXL1 in the figure and extends between two gate lines GL1 including a gate line GL1 of the next stage (not shown) and the gate line GL1. After extending in the X direction and intersecting one gate line GL1 (gate line GL1 corresponding to the pixel row PL2), the end thereof is connected to the drain electrode DT of the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1.

さらには、実施形態1の液晶表示装置では、画素行PL1において、画素PXL1の上側端部に形成されるドレイン線DLのX方向配線部が、画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1に接続される1本のゲート線GL1(画素行PL1に対応するゲート線GL1)と交差する追加延在部AD1を有する構成となっている。すなわち、実施形態1のドレイン線DLのX方向配線部は、画素PXL1の図中上側の辺部に沿い、図示しない2本のゲート線GL1の間をX方向に延在された後に、丸印Dに示す画素PXL1の短手方向の他方の端部で画素PXL1,PXL2の形成方向に屈曲され、ゲート線GL1と交差する追加延在部AD1を有する構成となっている。このとき、追加延在部AD1は、ドレイン線DLと同じ薄膜材料を用いて形成されると共に、配線幅もドレイン線DLと同じ配線幅で形成される。   Furthermore, in the liquid crystal display device according to the first embodiment, in the pixel row PL1, the X-direction wiring portion of the drain line DL formed at the upper end portion of the pixel PXL1 is connected to the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1. It has a configuration having an additional extension AD1 that intersects with the line GL1 (the gate line GL1 corresponding to the pixel row PL1). That is, the X-direction wiring portion of the drain line DL according to the first embodiment extends along the upper side of the pixel PXL1 in the drawing and extends between two gate lines GL1 (not shown) in the X direction. The other end portion in the short side direction of the pixel PXL1 shown in D is bent in the formation direction of the pixels PXL1 and PXL2, and has an additional extension portion AD1 intersecting with the gate line GL1. At this time, the additional extension part AD1 is formed using the same thin film material as the drain line DL, and the wiring width is also the same wiring width as the drain line DL.

特に、実施形態1の液晶表示装置においては、ドレイン線DLの形成工程と同じ工程において、追加延在部AD1を形成する。これにより、追加延在部AD1の形成に伴う製造工程追加することなく、他の交差部分と同じ交差容量を形成することが可能となる。   In particular, in the liquid crystal display device of the first embodiment, the additional extension part AD1 is formed in the same process as the process of forming the drain line DL. Accordingly, it is possible to form the same crossing capacitance as other crossing portions without adding a manufacturing process accompanying the formation of the additional extension portion AD1.

その結果、画素行PL1に配置され、同一のドレイン線DLに接続される、画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1のゲート電極GTに接続されるゲート線GL1とドレイン線DLとの交差数と、画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2のゲート電極GTに接続されるゲート線GL2とドレイン線DLとの交差数とを同じ交差数にすることが可能となる。   As a result, the number of intersections between the gate line GL1 connected to the gate electrode GT of the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1 and the drain line DL arranged in the pixel row PL1 and connected to the same drain line DL, and the thin film transistor of the pixel PXL2 It is possible to make the number of intersections between the gate line GL2 connected to the gate electrode GT of the TFT2 and the drain line DL the same.

同様に、画素行PL2においても、画素PXL1,PXL2の上側端部に形成されるドレイン線DLのX方向配線部が、画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2に接続される1本のゲート線GL2と交差する追加延在部AD2を有する構成となっている。すなわち、画素PXL1の図中上側の辺部に沿い、2本のゲート線GL1の間をX方向に延在された後に、画素PXL1の短手方向の他方の端部で画素PXL1の形成方向に屈曲され、ゲート線GL2と交差する追加延在部AD2を有する構成となっている。   Similarly, in the pixel row PL2, the X-direction wiring part of the drain line DL formed at the upper end of the pixels PXL1 and PXL2 is added to intersect with one gate line GL2 connected to the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2. It has the structure which has extension part AD2. That is, after extending in the X direction between the two gate lines GL1 along the upper side of the pixel PXL1, the other end of the pixel PXL1 in the lateral direction is formed in the direction in which the pixel PXL1 is formed. The structure has an additional extension part AD2 that is bent and intersects the gate line GL2.

従って、画素行PL2においても、ドレイン線DLに接続される、薄膜トランジスタTFT1のゲート電極GTに接続されるゲート線GL1とドレイン線DLとの交差数と、薄膜トランジスタTFT2のゲート電極GTに接続されるゲート線GL2とドレイン線DLとの交差数とを同じ交差数にすることが可能となる。   Accordingly, also in the pixel row PL2, the number of intersections between the gate line GL1 connected to the gate electrode GT of the thin film transistor TFT1 and the drain line DL, which are connected to the drain line DL, and the gate connected to the gate electrode GT of the thin film transistor TFT2. It is possible to make the number of intersections between the line GL2 and the drain line DL the same.

以上説明したように、実施形態1の液晶表示装置では、1つの画素行に対してゲート線GL1,GL2が配置され、2つの画素列に対して1本のドレイン線DLが配置され、同じ画素行に、ゲート線GL1に接続される薄膜トランジスタTFT1を有する第1画素PXL1と、ゲート線GL2に接続され、薄膜トランジスタTFT1と同じ向きに形成される薄膜トランジスタTFT2を有する第2画素PXL2とが配置される構成となっている。このとき、ドレイン線DLは、第2の方向であるY方向に延在し、ゲート線DL1,DL2とそれぞれ交差するY方向配線部(第2方向ドレイン線)と、このY方向配線部からX方向に伸延され、ゲート線GL2と交差した後に、画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2のドレイン電極DTに接続されるX方向配線部(第1方向ドレイン線)とから形成されている。さらには、ドレイン線DLのY方向配線部が、近接される薄膜トランジスタTFT1,TFT2のドレイン電極DTに接続される延在部JCと、該延在部JCが接続される薄膜トランジスタTFT1,TFT2が配置される側から他端側にX方向に沿って伸延され、該延在部JCが接続される薄膜トランジスタTFT1,TFT2に接続されるゲート線GL1,GL2とそれぞれ交差する追加延在部AD1,AD2とをそれぞれ有する構成となっているので、同一のドレイン線DLに接続される画素行PL1,PL2のそれぞれの薄膜トランジスタTFT1,TFT2のゲート・ドレイン間容量の同じ容量に揃えることが可能となり、縦すじの原因となる隣接する画素を駆動する薄膜トランジスタTFT1,TFT2を同じ駆動能力とすることが可能となる。従って、縦すじの発生を防止することが可能となり、画質を向上させることができる。   As described above, in the liquid crystal display device according to the first embodiment, the gate lines GL1 and GL2 are arranged for one pixel row, and one drain line DL is arranged for two pixel columns. A configuration in which a first pixel PXL1 having a thin film transistor TFT1 connected to the gate line GL1 and a second pixel PXL2 having a thin film transistor TFT2 connected to the gate line GL2 and formed in the same direction as the thin film transistor TFT1 are arranged in a row. It has become. At this time, the drain line DL extends in the Y direction, which is the second direction, and intersects with the gate lines DL1 and DL2, respectively, and a Y direction wiring line (second direction drain line). After extending in the direction and intersecting the gate line GL2, the X direction wiring portion (first direction drain line) connected to the drain electrode DT of the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2 is formed. Furthermore, the Y-direction wiring part of the drain line DL is arranged with an extension part JC connected to the drain electrode DT of the adjacent thin film transistors TFT1 and TFT2, and the thin film transistors TFT1 and TFT2 to which the extension part JC is connected. The extension portions AD1 and AD2 extending along the X direction from the first side to the other end side and intersecting the gate lines GL1 and GL2 connected to the thin film transistors TFT1 and TFT2 to which the extension portion JC is connected, respectively. Since each has a configuration, it is possible to make the same capacitance between the gate and drain of the thin film transistors TFT1 and TFT2 of the pixel rows PL1 and PL2 connected to the same drain line DL, which causes vertical streaks. The thin film transistors TFT1 and TFT2 that drive adjacent pixels are set to have the same driving capability. It is possible. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of vertical stripes and improve the image quality.

〈実施形態2〉
図3は本発明の実施形態2の液晶表示装置における画素構成を説明するための平面図であり、特に、マルチドメイン方式のIPS型液晶表示装置に本願発明を適用した場合の画素構成を説明するための図である。ただし、実施形態2の液晶表示装置は、ゲート線GL1,GL2及び薄膜トランジスタTFT1,TFT2等の形成位置並びに画素PXL1,PXL2内の電極構成を除く他の構成は、実施形態1と同様となる。従って、以下の説明では、ゲート線GL1,GL2及び薄膜トランジスタTFT1,TFT2の形成位置の異なることによる追加延在部AD1,AD2の構成について詳細に説明する。また、実施形態2のIPS型の液晶表示装置では、平板状の共通電極の液晶側に絶縁膜を介して線状の画素電極が形成される場合について説明するが、ドレイン線と平板状の画素電極とが同層に形成され、画素電極の液晶側に絶縁膜を介して線状の共通電極が形成される構成であってもよい。さらには、実施形態2の液晶表示装置では、図示しない第2基板には、各画素の辺縁部に対応したブラックマトリクス及びR(赤色),G(緑色),B(青色)カラーフィルタが形成され、ブラックマトリクスが隣接配置される画素間からの光漏れを防止する構成となっている。
<Embodiment 2>
FIG. 3 is a plan view for explaining the pixel configuration of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention. In particular, the pixel configuration when the present invention is applied to a multi-domain IPS liquid crystal display device will be described. FIG. However, the liquid crystal display device of the second embodiment is the same as that of the first embodiment except for the formation positions of the gate lines GL1 and GL2, the thin film transistors TFT1 and TFT2, and the electrode configuration in the pixels PXL1 and PXL2. Therefore, in the following description, the configuration of the additional extending portions AD1 and AD2 due to different formation positions of the gate lines GL1 and GL2 and the thin film transistors TFT1 and TFT2 will be described in detail. In the IPS liquid crystal display device according to the second embodiment, a case where a linear pixel electrode is formed on the liquid crystal side of the flat common electrode via an insulating film will be described. The electrode may be formed in the same layer, and a linear common electrode may be formed on the liquid crystal side of the pixel electrode via an insulating film. Furthermore, in the liquid crystal display device according to the second embodiment, a black matrix and R (red), G (green), and B (blue) color filters corresponding to the edge of each pixel are formed on a second substrate (not shown). Thus, the light leakage from pixels adjacent to the black matrix is prevented.

実施形態2では、各画素PXL1,PXL2は、薄膜トランジスタTFT1,TFT2の上層に図示しない保護膜が形成され、その上面に平板状の共通電極が形成され、その上層に絶縁膜を介して、Y方向に延在するスリットSLTを有する画素電極PXが形成され、共通電極CTと重畳する領域において線状電極を形成している。このとき、実施形態2では、画素PX11,PXL2のY方向の中間領域にゲート線GL1,GL2及び薄膜トランジスタTFT1,TFT2が形成されている。中間領域の図中上側の領域(第1領域)では、スリットSLTはY方向から図中右側方向(プラス方向、第1の傾斜角)に傾斜して形成され、中間領域の図中下側の領域(第2領域)では、スリットSLTはY方向から図中左側方向(マイナス方向、第2の傾斜角)に傾斜して形成される構成となっており、いわゆる縦マルチドメインの電極構成となっている。   In Embodiment 2, each pixel PXL1, PXL2 has a protective film (not shown) formed on the upper layer of the thin film transistors TFT1, TFT2, a flat common electrode is formed on the upper surface thereof, and an insulating film is formed on the upper layer thereof in the Y direction. A pixel electrode PX having a slit SLT extending in the region is formed, and a linear electrode is formed in a region overlapping with the common electrode CT. At this time, in the second embodiment, the gate lines GL1 and GL2 and the thin film transistors TFT1 and TFT2 are formed in the intermediate region in the Y direction of the pixels PX11 and PXL2. In the upper region (first region) of the intermediate region in the figure, the slit SLT is formed so as to be inclined from the Y direction to the right side of the drawing (plus direction, first inclination angle). In the region (second region), the slit SLT is formed so as to be inclined from the Y direction to the left side in the drawing (minus direction, second inclination angle), and has a so-called vertical multi-domain electrode configuration. ing.

この画素構成を有する実施形態2の液晶表示装置においても、Y方向に延在しX方向に並設されるドレイン線DLを有しており、1本のドレイン線DLは同一の画素行PL1,PL2に配置される画素の内、隣接する2つの画素列の画素PXL1,PXL2にそれぞれ接続されている。また、Y方向に延在しX方向に並設される2本のゲート線GL1,GL2を有しており、特に、同一の画素行の画素PXL1,PXL2において、第1領域と第2領域との間の領域(中間領域)に、X方向に並設される2本のゲート線GL1,GL2が配置される。この中間領域には、各画素PXL1,PX2に対応する薄膜トランジスタTFT1,TFT2も配置され、この薄膜トランジスタTFT1,TFT2はゲート線GL1,GL2の間に配置され、同じ向きとなっている。ただし、実施形態1と同様に、画素行PL1と画素行PL2とでは、各画素PXL1,PLX2の構成は、ドレイン線DLを除く他の構成部材の配置がY方向(上下方向)に反転した位置関係となっている。   The liquid crystal display device according to the second embodiment having this pixel configuration also has drain lines DL extending in the Y direction and arranged in parallel in the X direction, and one drain line DL has the same pixel row PL1, Of the pixels arranged in PL2, they are connected to the pixels PXL1 and PXL2 of two adjacent pixel columns, respectively. In addition, it has two gate lines GL1 and GL2 that extend in the Y direction and are arranged in parallel in the X direction. In particular, in the pixels PXL1 and PXL2 in the same pixel row, the first region, the second region, Two gate lines GL1 and GL2 arranged in parallel in the X direction are arranged in a region between them (intermediate region). In this intermediate region, thin film transistors TFT1 and TFT2 corresponding to the respective pixels PXL1 and PX2 are also arranged, and these thin film transistors TFT1 and TFT2 are arranged between the gate lines GL1 and GL2 and have the same orientation. However, as in the first embodiment, in the pixel row PL1 and the pixel row PL2, the configurations of the pixels PXL1 and PLX2 are positions where the arrangement of the other constituent members excluding the drain line DL is inverted in the Y direction (vertical direction). It has become a relationship.

また、上段である画素行PL1の画素PXL1,PXL2に対して、下段の画素行である画素行PL2の画素PXL1,PXL2は半ピッチ(X方向の画素幅の半分)ずつX方向に沿ってずれて配置されている。従って、X方向及びY方向に隣接する画素PXL1,PXL2との間には、ドレイン線DLのみが形成されている。   In addition, the pixels PXL1 and PXL2 of the pixel row PL2, which is the lower pixel row, are shifted in the X direction by a half pitch (half the pixel width in the X direction) with respect to the pixels PXL1, PXL2 of the upper pixel row PL1. Are arranged. Accordingly, only the drain line DL is formed between the pixels PXL1 and PXL2 adjacent in the X direction and the Y direction.

例えば、画素行PL1では、ドレイン線DLに接続される画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1は中央領域内の図中上側(薄膜トランジスタTFT1,TFT2の上側)に配置されるゲート線GL1に接続され、画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2は中央領域内の図中下側(薄膜トランジスタTFT1,TFT2の下側)に配置されるゲート線GL2に接続される。同様にして、画素行PL2では、ドレイン線DLに接続される画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2はゲート線GL2に接続され、画素PXL1の薄膜トランジスタTFT2はゲート線GL1に接続される。   For example, in the pixel row PL1, the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1 connected to the drain line DL is connected to the gate line GL1 arranged on the upper side (upper side of the thin film transistors TFT1 and TFT2) in the center region, and the thin film transistor of the pixel PXL2 The TFT 2 is connected to a gate line GL 2 arranged on the lower side (lower side of the thin film transistors TFT 1 and TFT 2) in the center region. Similarly, in the pixel row PL2, the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2 connected to the drain line DL is connected to the gate line GL2, and the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL1 is connected to the gate line GL1.

また、Y方向に延在されるドレイン線DLは、画素PXL1,PXL2の長手方向すなわちY方向に伸延するY方向配線部(第2方向ドレイン線)と、Y方向に隣接される画素PXL1,PXL2との間に形成され、画素PXL1,PXL2の短手方向すなわちX方向に伸延し、その端部が薄膜トランジスタTFT1,TFT2のドレイン電極DTに接続されるX方向配線部(第1方向ドレイン線)とからなる。   Further, the drain line DL extending in the Y direction includes Y direction wiring portions (second direction drain lines) extending in the longitudinal direction of the pixels PXL1 and PXL2, that is, the Y direction, and pixels PXL1 and PXL2 adjacent in the Y direction. And an X direction wiring portion (first direction drain line) extending in the lateral direction of the pixels PXL1 and PXL2, that is, extending in the X direction and having an end connected to the drain electrode DT of the thin film transistors TFT1 and TFT2. Consists of.

このとき、画素行PL1においては、ドレイン線DLのY方向配線部は、画素PXL1の図中左側の辺縁部に沿ってY方向に延在され、その際に丸印Cで示すように、ゲート線GL1,GL2とそれぞれ1度ずつ交差する。このY方向配線部は、その一部がY方向に延在して形成される延在部JCを有し、その端部が画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1のドレイン電極DTに接続される。一方、X方向配線部は、Y方向配線部の下端から画素PXL1の図中下側の辺部に沿い、隣接画素間をX方向に延在された後にY方向(図中の上方向)に延在し、丸印Cに示す個所で、画素行PL1に対応するゲート線GL2と交差した後に、その端部が画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2のドレイン電極DTに接続される。   At this time, in the pixel row PL1, the Y-direction wiring portion of the drain line DL extends in the Y direction along the left side edge portion of the pixel PXL1 in the drawing, and in this case, as indicated by a circle C, It intersects with the gate lines GL1 and GL2 once each. The Y-direction wiring portion has an extending portion JC that is formed so as to partially extend in the Y direction, and an end thereof is connected to the drain electrode DT of the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1. On the other hand, the X-direction wiring portion extends from the lower end of the Y-direction wiring portion along the lower side of the pixel PXL1 in the drawing, extends in the X direction between adjacent pixels, and then extends in the Y direction (upward in the drawing). After extending and intersecting the gate line GL2 corresponding to the pixel row PL1 at a position indicated by a circle C, the end thereof is connected to the drain electrode DT of the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2.

また、画素行PL2においては、ドレイン線DLのY方向配線部は、画素PXL1と画素PXL2との間に沿ってY方向に延在され、ゲート線GL1,GL2とそれぞれ1度ずつ交差すると共に、その一部がY方向に延在して延在部JCを形成し、その端部が画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2のドレイン電極DTに接続される。また、X方向配線部は、Y方向配線部の下端から画素PXL1の図中下側の辺部に沿い、図示しない次段の画素と画素PXL1との間をX方向に延在された後にY方向(図中の上方向)に延在し、丸印Cに示す個所で、画素行PL2に対応するゲート線GL1と交差した後に、その端部が画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1のドレイン電極DTに接続される。   In the pixel row PL2, the Y-direction wiring portion of the drain line DL extends in the Y direction between the pixel PXL1 and the pixel PXL2, and intersects the gate lines GL1 and GL2 once each. A part thereof extends in the Y direction to form an extension part JC, and an end part thereof is connected to the drain electrode DT of the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2. Further, the X-direction wiring portion extends from the lower end of the Y-direction wiring portion along the lower side of the pixel PXL1 in the figure, and extends in the X direction between the next pixel (not shown) and the pixel PXL1. Extending in the direction (upward in the figure) and intersecting with the gate line GL1 corresponding to the pixel row PL2 at the position indicated by the circle C, the end thereof is connected to the drain electrode DT of the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1 Is done.

このとき、実施形態2の液晶表示装置においては、画素行PL1においては、画素PXL1の下側辺縁部に沿って形成されるドレイン線DLのX方向配線部が、画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2に接続される。この後に、ドレイン線DLの追加延在部AD1が画素PXL1と画素PXL2との間をゲート線GL方向(上側方向)に伸延し、丸印Dに示す交差部において、画素行PL1に対応する1本のゲート線GL1と交差する構成となっている
同様に、画素行PL2においても、画素PXL1の下側辺縁部に沿って形成されるドレイン線DLのX方向配線部が、画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1に接続される。
At this time, in the liquid crystal display device of Embodiment 2, in the pixel row PL1, the X-direction wiring portion of the drain line DL formed along the lower side edge portion of the pixel PXL1 is connected to the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2. Is done. Thereafter, the additional extension portion AD1 of the drain line DL extends between the pixel PXL1 and the pixel PXL2 in the gate line GL direction (upward direction), and 1 corresponding to the pixel row PL1 at the intersection indicated by a circle D. Similarly, in the pixel row PL2, the X-direction wiring portion of the drain line DL formed along the lower side edge of the pixel PXL1 is also a thin film transistor of the pixel PXL1. Connected to TFT1.

この後に、ドレイン線DLの追加延在部AD2が画素PXL1とX方向の前段の図示しない画素との間をゲート線GL方向(上側方向)に伸延し、丸印Dに示す交差部において、画素行PL1に対応する1本のゲート線GL2と交差する構成となっている。 Thereafter, the additional extension AD2 of the drain line DL extends in the direction of the gate line GL (upward direction) between the pixel PXL1 and a pixel (not shown) in the previous stage in the X direction. The configuration intersects with one gate line GL2 corresponding to the row PL1.

このように画素行PL1,PL2においても、追加延在部AD1,AD2がそれぞれ1本のゲート線GL1,GL2と交差する構成となっており、ドレイン線DLのX線方向配線部のゲート線GL1,GL2との交差数を、Y方向配線部と同じにすることができるので、実施形態1と同様の効果を得ることができる。なお、実施形態2においても、追加延在部AD1,AD2は、ドレイン線DLと同じ薄膜材料を用いて形成されると共に、配線幅もドレイン線DLと同じ配線幅で形成される。   As described above, also in the pixel rows PL1 and PL2, the additional extending portions AD1 and AD2 respectively intersect with one gate line GL1 and GL2, and the gate line GL1 of the X-ray direction wiring portion of the drain line DL is formed. , GL2 can be made to have the same number of intersections as that of the Y-direction wiring portion, so that the same effect as in the first embodiment can be obtained. In the second embodiment, the additional extending portions AD1 and AD2 are formed using the same thin film material as the drain line DL, and the wiring width is also the same as that of the drain line DL.

なお、実施形態2の液晶表示装置においては、マルチドメイン方式のIPS型液晶表示装置に本願発明を適用した場合について説明したが、全ての線状電極が同一方向に形成されるシングルドメイン方式のIPS型液晶表示装置にも適用可能である。   In the liquid crystal display device of the second embodiment, the case where the present invention is applied to a multi-domain IPS liquid crystal display device has been described. However, a single-domain IPS in which all linear electrodes are formed in the same direction. It can also be applied to a liquid crystal display device.

また、ゲート線GL1,GL2及び薄膜トランジスタTFT1,TFT2等の形成位置が、実施形態1と同様に、画素PXL1,PXL2のY方向の端部に配置されるIPS型液晶表示装置にも適用可能である。ただし、この場合には、ゲート線GL1,GL2や追加延在部AD1,AD2の形成位置及び形状等は、実施形態1と同様の構成となる。   Further, the formation positions of the gate lines GL1 and GL2 and the thin film transistors TFT1 and TFT2 are also applicable to the IPS liquid crystal display device arranged at the end in the Y direction of the pixels PXL1 and PXL2, as in the first embodiment. . However, in this case, the formation positions and shapes of the gate lines GL1 and GL2 and the additional extending portions AD1 and AD2 are the same as those in the first embodiment.

〈実施形態3〉
図4は本発明の実施形態3の液晶表示装置における画素構成を説明するための平面図である。ただし、実施形態3の液晶表示装置は、追加延在部AD11,AD21の構成を除く他の構成は実施形態1と同様となる。従って、以下の説明では、追加延在部AD11,AD21の構成について詳細に説明する。
<Embodiment 3>
FIG. 4 is a plan view for explaining a pixel configuration in the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention. However, the liquid crystal display device of the third embodiment is the same as that of the first embodiment except for the configuration of the additional extending portions AD11 and AD21. Therefore, in the following description, the configuration of the additional extension parts AD11 and AD21 will be described in detail.

図4に示すように、実施形態3の液晶表示装置では、画素行PL1においては、画素PXL1の上側端部に形成されるドレイン線DLのX方向配線部が、画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1に接続されるゲート線GL1と交差した後に、さらにY方向に延在する追加延在部AD11を有する構成となっている。すなわち、実施形態3のドレイン線DLの追加延在部AD11は、X方向配線部から画素PXL1の図中上側の辺部に沿い、図示しない2本のゲート線GL1の間をX方向に延在された後に、丸印Dに示す画素PXL1の短手方向の他方の端部で画素PXL1,PXL2の形成方向(図中下側方向)に屈曲される。この後に、ゲート線GL1と交差した後に、さらに隣接する画素PXL1と画素PXL2との間の領域を画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2の形成領域の近傍まで延在される構成となっている。   As shown in FIG. 4, in the liquid crystal display device of the third embodiment, in the pixel row PL1, the X-direction wiring portion of the drain line DL formed at the upper end portion of the pixel PXL1 is connected to the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1. After the intersection with the gate line GL1, the additional extension part AD11 extending in the Y direction is further provided. That is, the additional extension part AD11 of the drain line DL according to the third embodiment extends in the X direction between two gate lines GL1 (not shown) along the upper side in the drawing of the pixel PXL1 from the X direction wiring part. After that, the other end portion in the short direction of the pixel PXL1 indicated by the circle D is bent in the formation direction (downward direction in the drawing) of the pixels PXL1 and PXL2. Thereafter, after crossing the gate line GL1, the region between the adjacent pixels PXL1 and PXL2 is extended to the vicinity of the formation region of the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2.

同様に、画素行PL2においても、画素PXL1,PXL2の上側端部に形成されるドレイン線DLのX方向配線部が、画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2に接続される1本のゲート線GL2と交差した後に、さらにY方向に延在する追加延在部AD21を有する構成となっている。すなわち、追加延在部AD21は、画素行PL2の画素PXL1の図中上側の辺部に沿い、2本のゲート線GL1の間をX方向に延在された後に、丸印Dに示す画素PXL1の短手方向の他方の端部で当該画素PXL1の形成方向(図中下側方向)に屈曲される。この後に、ゲート線GL2と交差した後に、さらに隣接する図示しない画素と画素PXL1との間の領域を画素PXL1の薄膜トランジスタTFT1の形成領域の近傍まで延在される構成となっている。   Similarly, also in the pixel row PL2, after the X-direction wiring portion of the drain line DL formed at the upper end portion of the pixels PXL1 and PXL2 intersects with one gate line GL2 connected to the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2. In addition, the configuration further includes an additional extension part AD21 extending in the Y direction. That is, the additional extension portion AD21 extends in the X direction between the two gate lines GL1 along the upper side of the pixel PXL1 of the pixel row PL2 in the figure, and then the pixel PXL1 indicated by the circle D Is bent in the direction in which the pixel PXL1 is formed (downward in the figure) at the other end in the short direction. After this, after crossing the gate line GL2, the region between the adjacent pixel (not shown) and the pixel PXL1 is extended to the vicinity of the formation region of the thin film transistor TFT1 of the pixel PXL1.

すなわち、実施形態3の液晶表示装置では、追加延在部AD11,AD21の開放端側が、薄膜トランジスタTFT1,TFT2の近傍まで伸延される構成となっているので、前述する実施形態1の効果に加えて、画素PXL1,PXL2の分離を第2基板に形成されるブラックマトリクスと、追加延在部AD11,AD21の2つで行うことが可能となり、画素間の光漏れを減少させることができる。さらには、隣接する画素間での混色に対するマージンを向上させることができ、画質を向上できるという格別の効果を得ることができる。特に、追加延在部AD11,AD21は画素電極が形成される第1基板SUB1側に形成されるので、液晶表示装置の主面の斜め方向から表示画像を観察する際の画素間の光漏れの低減や混色に対するマージンの向上に大きな効果を得ることが可能となる。   That is, in the liquid crystal display device according to the third embodiment, since the open ends of the additional extending portions AD11 and AD21 are extended to the vicinity of the thin film transistors TFT1 and TFT2, in addition to the effects of the first embodiment described above. The pixels PXL1 and PXL2 can be separated by the black matrix formed on the second substrate and the additional extending portions AD11 and AD21, and light leakage between the pixels can be reduced. Furthermore, a margin for color mixing between adjacent pixels can be improved, and a special effect that image quality can be improved can be obtained. In particular, since the additional extending portions AD11 and AD21 are formed on the first substrate SUB1 side on which the pixel electrode is formed, light leakage between the pixels when the display image is observed from an oblique direction of the main surface of the liquid crystal display device. It is possible to obtain a great effect in reducing and improving the margin for color mixing.

〈実施形態4〉
図5は本発明の実施形態4の液晶表示装置における画素構成を説明するための平面図である。ただし、実施形態4の液晶表示装置は、追加延在部AD11,AD21の構成を除く他の構成は実施形態2と同様となる。従って、以下の説明では、追加延在部AD11,AD21の構成について詳細に説明する。
<Embodiment 4>
FIG. 5 is a plan view for explaining a pixel configuration in the liquid crystal display device according to the fourth embodiment of the present invention. However, the configuration of the liquid crystal display device of the fourth embodiment is the same as that of the second embodiment except for the configuration of the additional extending portions AD11 and AD21. Therefore, in the following description, the configuration of the additional extension parts AD11 and AD21 will be described in detail.

図5に示すように、実施形態4の液晶表示装置においても、画素行PL1では、画素PXL1の下側辺縁部に沿って形成されるドレイン線DLのX方向配線部が、画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2に接続される。この後に、ドレイン線DLのX方向配線部から伸延される追加延在部AD11が画素PXL1と画素PXL2との間をゲート線GL方向(上側方向)に伸延し、丸印Dに示す交差部において画素行PL1に対応する1本のゲート線GL1と交差した後も、さらに画素PXL1と画素PXL2との間の領域をその端部まで延在される構成となっている。   As shown in FIG. 5, also in the liquid crystal display device of the fourth embodiment, in the pixel row PL1, the X-direction wiring portion of the drain line DL formed along the lower side edge portion of the pixel PXL1 is the thin film transistor of the pixel PXL2. Connected to TFT2. Thereafter, an additional extension AD11 extending from the X-direction wiring portion of the drain line DL extends between the pixel PXL1 and the pixel PXL2 in the gate line GL direction (upward direction), and at an intersection indicated by a circle D Even after intersecting with one gate line GL1 corresponding to the pixel row PL1, the region between the pixel PXL1 and the pixel PXL2 is further extended to the end thereof.

画素行PL2においても、画素PXL1の下側辺縁部に沿って形成されるドレイン線DLのX方向配線部が、画素PXL2の薄膜トランジスタTFT2に接続される。この後に、ドレイン線DLのX方向配線部から伸延される追加延在部AD21が画素PXL1と図示しない前段の画素PXLとの間をその辺縁形状に沿って伸延し、丸印Dに示す交差部において画素行PL1に対応する1本のゲート線GL2と交差した後も、さらに画素PXL1と画素PXL2との間の領域をその端部まで延在される構成となっている。   Also in the pixel row PL2, the X-direction wiring portion of the drain line DL formed along the lower side edge portion of the pixel PXL1 is connected to the thin film transistor TFT2 of the pixel PXL2. Thereafter, an additional extension AD21 extending from the X-direction wiring portion of the drain line DL extends along the edge shape between the pixel PXL1 and the preceding pixel PXL (not shown), and is shown by a circle D. Even after intersecting with one gate line GL2 corresponding to the pixel row PL1 in the portion, the region between the pixel PXL1 and the pixel PXL2 is further extended to the end thereof.

このように、実施形態4の液晶表示装置においては、追加延在部AD11,AD21の開放端側が、ゲート線GL1,GL2と交差した後に、画素PXL1,PXL2の反対側の端部まで伸延される構成となっているので、前述する実施形態1の効果に加えて、実施形態3の効果も得ることができる。   As described above, in the liquid crystal display device according to the fourth embodiment, the open ends of the additional extending portions AD11 and AD21 intersect with the gate lines GL1 and GL2, and then extend to the opposite ends of the pixels PXL1 and PXL2. Since it is configured, the effect of the third embodiment can be obtained in addition to the effect of the first embodiment described above.

以上、本発明者によってなされた発明を、前記発明の実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記発明の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment of the invention. However, the invention is not limited to the embodiment of the invention, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. It can be changed.

PNL……液晶表示パネル、FPC……フレキシブルプリント基板、AR……表示領域
CT……共通電極、PX……画素電極、SL……シール材、DL……ドレイン線
CL……コモン線、GL,GL1,GL2……ゲート線、ST……ソース電極
TFT,TFT1,TFT2……薄膜トランジスタ、SUB1……第1基板
SUB2……第2基板、DR……駆動回路、AS……半導体層、JC……延在部
PAD……パッド部、PXL1,PXL2……画素、SLT……スリット
AD1,AD2,AD11,AD21……追加延在部
PNL: Liquid crystal display panel, FPC: Flexible printed circuit board, AR: Display area CT: Common electrode, PX: Pixel electrode, SL: Seal material, DL: Drain line CL ... Common line, GL, GL1, GL2 ... Gate line, ST ... Source electrode TFT, TFT1, TFT2 ... Thin film transistor, SUB1 ... First substrate SUB2 ... Second substrate, DR ... Drive circuit, AS ... Semiconductor layer, JC ... Extension part PAD ... Pad part, PXL1, PXL2 ... Pixel, SLT ... Slit AD1, AD2, AD11, AD21 ... Additional extension part

Claims (6)

第1基板と第2基板が液晶を挟持し、前記第1基板の前記液晶側の面に、映像信号が供給される画素電極を少なくとも有する画素を備え、
前記画素は、第1の方向に沿って複数配置されて画素行を構成し、前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って画素列を構成し、上段の画素行に対して下段の画素行は前記第1の方向にずれて配置され、段ごとに、交互に異なるようにして配置され、
1つの画素行に対して第1ゲート線及び第2ゲート線が配置され、2つの画素列に対して1本のドレイン線が配置され、前記ドレイン線が前記第1ゲート線及び前記第2ゲート線と交差してなる液晶表示装置であって、
前記画素行は、前記第1ゲート線に接続される第1薄膜トランジスタを有する第1画素と、第2ゲート線に接続され、前記第1薄膜トランジスタと同じ向きに形成される第2薄膜トランジスタを有する第2画素と、を備え、
前記ドレイン線は、前記第2の方向に延在し、前記第1ゲート線及び前記第2ゲート線とそれぞれ交差する第2方向ドレイン線と、前記第2方向ドレイン線から前記第1の方向に伸延され、前記第2ゲート線と交差した後に前記第2薄膜トランジスタのドレイン電極に接続される第1方向ドレイン線と、からなり、
前記第2方向ドレイン線は、前記第1薄膜トランジスタのドレイン電極に接続される延在部と、前記第1の方向又は前記第2の方向に伸延され、前記第1ゲート線と交差する追加延在部と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate and a second substrate sandwich a liquid crystal, and a pixel having at least a pixel electrode to which a video signal is supplied is provided on the liquid crystal side surface of the first substrate;
A plurality of the pixels are arranged along a first direction to form a pixel row, a pixel column is formed along a second direction intersecting the first direction, and a lower row with respect to the upper pixel row. The pixel rows are arranged in a shifted manner in the first direction, and are arranged to be alternately different for each stage.
A first gate line and a second gate line are disposed for one pixel row, a drain line is disposed for two pixel columns, and the drain line is the first gate line and the second gate. A liquid crystal display device crossing a line,
The pixel row includes a first pixel having a first thin film transistor connected to the first gate line and a second thin film transistor connected to a second gate line and formed in the same direction as the first thin film transistor. A pixel, and
The drain line extends in the second direction, intersects with the first gate line and the second gate line, respectively, and from the second direction drain line to the first direction. A first direction drain line that is extended and connected to the drain electrode of the second thin film transistor after intersecting the second gate line,
The second direction drain line includes an extension connected to the drain electrode of the first thin film transistor, and an additional extension extending in the first direction or the second direction and intersecting the first gate line. A liquid crystal display device.
前記画素行は、前記第1画素の一方の辺縁部側に沿って前記第2方向ドレイン線が配置され、他方の辺縁部側に前記第2画素が近接する第1画素行と、前記第1画素と前記第2画素との間に前記第2方向ドレイン線が配置される第2画素行と、からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The pixel row includes a first pixel row in which the second direction drain line is disposed along one edge side of the first pixel, and the second pixel is close to the other edge side; The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising: a second pixel row in which the second direction drain line is disposed between the first pixel and the second pixel. 前記第1基板の前記液晶側に配置され、前記画素電極と絶縁膜を介して重畳配置される共通電極を備え、前記液晶側に配置され側が線状電極であることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。   2. The liquid crystal device according to claim 1, further comprising a common electrode disposed on the liquid crystal side of the first substrate and superimposed on the pixel electrode via an insulating film, and the side disposed on the liquid crystal side is a linear electrode. Or a liquid crystal display device according to 2; 前記液晶側に配置される電極は、第1の傾斜角の線状電極が形成される第1領域と、第2の傾斜角の線状電極が形成される第2領域とを有することを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。   The electrode disposed on the liquid crystal side includes a first region where a linear electrode having a first inclination angle is formed and a second region where a linear electrode having a second inclination angle is formed. The liquid crystal display device according to claim 3. 前記第1領域と前記第2領域との間に、前記第1及び第2ゲート線、並びに前記第1及び第2薄膜トランジスタが配置されることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。   5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the first and second gate lines and the first and second thin film transistors are disposed between the first region and the second region. 6. 前記第2基板は、前記映像信号の基準電位となる共通信号が入力される共通電極を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second substrate includes a common electrode to which a common signal serving as a reference potential of the video signal is input.
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