JP2012083126A - 基板の検査方法及び基板の検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の表面に対してp偏光の光を照射して得られた鏡面反射光から、基板の表面を複数の小領域に分割した分割小領域に対応する画素を有した基板画像を取得し、該基板画像に基づき、異物の付着や欠陥を有した箇所を異常箇所として検出する基板の検査方法であり、i)基板の理論上のブリュースター角θBを含む角度範囲dでp偏光の入射角を相対的に変化させる入射面内走査とii)入射面と基板とが交わる線を中心軸にして基板を相対的に傾斜させる傾斜走査とを組み合わせて基板画像を取得し、上記で得られた全基板画像において画素の光量が一度もゼロにならない分割小領域を基板の異常箇所として検出するようにする。
【選択図】図1
Description
すなわち、本発明の要旨は、以下のとおりである。
i)基板の直径を含んだp偏光の光の入射面内において、該基板の理論上のブリュースター角θBを含む所定の角度範囲dで基板の表面に対するp偏光の光の入射角を相対的に変化させる入射面内走査と、
ii)入射面と基板とが交わる線を中心軸にして、所定の傾斜角範囲φで基板を相対的に傾斜させる傾斜走査と、
を組み合わせて、基板の表面に対するp偏光の光の入射角、及び、基板の表面に対するp偏光の光の入射方向を変化させながら、それぞれ基板画像を取得し、
基板表面の分割小領域にp偏光の光が実際にブリュースター角θBで入射された際に対応する画素の光量をゼロとしたとき、上記で得られた全基板画像において画素の光量が一度もゼロにならない分割小領域を基板の異常箇所として検出することを特徴とする基板の検査方法。
前記基板保持手段によって、照射手段から照射されたp偏光の光の入射角、及びp偏光の光の入射方向を変化させることで、
i)該基板の直径を含んだp偏光の光の入射面内において、該基板の理論上のブリュースター角θBを含む所定の角度範囲dで基板の表面に対するp偏光の光の入射角を変化させる入射面内走査と、
ii)入射面と基板とが交わる線を中心軸にして、所定の傾斜角範囲φで基板を傾斜させる傾斜走査と、
を組み合わせながら、画像取得手段でそれぞれの基板画像を取得し、
前記画像処理手段によって、基板表面の分割小領域にp偏光の光が実際にブリュースター角θBで入射された際に対応する画素の光量をゼロとして処理したときに、上記で得られた全基板画像において画素の光量が一度もゼロにならない分割小領域を基板の異常箇所として検出することを特徴とする基板の検査装置。
本発明では、基板の表面にp偏光の光を照射して、その鏡面反射光(正反射光)から基板画像を取得するようにする。p偏光の光を基板の表面に照射するためには、例えば、公知の光源と偏光子とを用いれば良く、その際、光源について特に制限はないが、好ましくは、検査対象の基板の表面全体に一度でp偏光の光を照射することができるようなものを使用するのが良い。
2 :p偏光の光
3 :反射光
4 :入射面
5n:基板画像
6 :光源
7 :偏光子
8 :照射手段
9 :画像取得手段
10:基板保持手段
11:画像処理手段
Claims (6)
- 基板の表面に対してp偏光の光を照射して得られた鏡面反射光から、基板の表面を複数の小領域に分割した分割小領域に対応する画素を有した基板画像を取得し、該基板画像に基づき、異物の付着や欠陥を有した箇所を異常箇所として検出する基板の検査方法であり、
i)基板の直径を含んだp偏光の光の入射面内において、該基板の理論上のブリュースター角θBを含む所定の角度範囲dで基板の表面に対するp偏光の光の入射角を相対的に変化させる入射面内走査と、
ii)入射面と基板とが交わる線を中心軸にして、所定の傾斜角範囲φで基板を相対的に傾斜させる傾斜走査と、
を組み合わせて、基板の表面に対するp偏光の光の入射角、及び、基板の表面に対するp偏光の光の入射方向を変化させながら、それぞれ基板画像を取得し、
基板表面の分割小領域にp偏光の光が実際にブリュースター角θBで入射された際に対応する画素の光量をゼロとしたとき、上記で得られた全基板画像において画素の光量が一度もゼロにならない分割小領域を基板の異常箇所として検出することを特徴とする基板の検査方法。 - 前記入射面内走査の角度範囲dは、該基板が備えるそり・うねりによる最大傾斜角αを考慮して、理論上のブリュースター角θBを基準に、少なくともd=θB±αの範囲を含むようにすることを特徴とする請求項1に記載の基板の検査方法。
- 前記傾斜走査は、入射面と基板とが垂直に交わる場合の傾斜角度を0°として、−0.5°以上+0.5°以下の傾斜角範囲φで行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板の検査方法。
- 前記入射面内走査を0.01°以上0.5°以下の角度間隔で行うと共に、前記傾斜走査を0.01°以上0.5°以下の傾斜角間隔で行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板の検査方法。
- 基板の表面に対してp偏光の光を照射する照射手段と、該基板を載置すると共に、p偏光の光の入射角、及びp偏光の光の入射方向を相対的に変化させることができる基板保持手段と、得られた鏡面反射光から、該基板の表面を複数の小領域に分割した分割小領域に対応する画素を有した基板画像を取得する画像取得手段と、取得した基板画像を処理して、異物の付着や欠陥を有した箇所を基板の異常個所として検出することができる画像処理手段とを備えた基板の検査装置であり、
前記基板保持手段によって、照射手段から照射されたp偏光の光の入射角、及びp偏光の光の入射方向を変化させることで、
i)該基板の直径を含んだp偏光の光の入射面内において、該基板の理論上のブリュースター角θBを含む所定の角度範囲dで基板の表面に対するp偏光の光の入射角を変化させる入射面内走査と、
ii)入射面と基板とが交わる線を中心軸にして、所定の傾斜角範囲φで基板を傾斜させる傾斜走査と、
を組み合わせながら、画像取得手段でそれぞれの基板画像を取得し、
前記画像処理手段によって、基板表面の分割小領域にp偏光の光が実際にブリュースター角θBで入射された際に対応する画素の光量をゼロとして処理したときに、上記で得られた全基板画像において画素の光量が一度もゼロにならない分割小領域を基板の異常箇所として検出することを特徴とする基板の検査装置。 - 前記基板保持手段が、x−y直交座標を形成する2本の直交軸のまわりでそれぞれ回転させるようにして、載置した基板を任意の方向に傾斜させることができる基板ホルダーである請求項5に記載の基板の検査装置。
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