JP2012049519A - Package for semiconductor light-emitting device, and light-emitting device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a package for a semiconductor light-emitting device made of a material which has extremely high heat resistance and light resistance and can secure a sufficient working life until molding.SOLUTION: The package for a semiconductor light-emitting device at least includes a resin molding 2 containing (A) a polyorganosiloxane resin, (B) a filler, and (C) a curing catalyst. The metal composition content of the curing catalyst in the resin molding except for the filler should be between 0.4 ppm and 25 ppm.

Description

本発明は、光デバイス、特に発光ダイオード等の発光素子を備えた半導体発光装置に用いられるパッケージ、及び発光装置に関する。   The present invention relates to an optical device, in particular, a package used for a semiconductor light emitting device including a light emitting element such as a light emitting diode, and a light emitting device.

半導体発光素子を備える半導体発光装置は図1に示す様に半導体発光素子1、樹脂成形体2、ボンディングワイヤー3、封止材4、リードフレーム5等から構成され、パッケージは主にリードフレーム5などの導電性金属配線及び絶縁性の樹脂成形体2からなる。   As shown in FIG. 1, a semiconductor light emitting device including a semiconductor light emitting element includes a semiconductor light emitting element 1, a resin molded body 2, a bonding wire 3, a sealing material 4, a lead frame 5 and the like, and a package mainly includes a lead frame 5 and the like. Conductive metal wiring and an insulating resin molded body 2.

従来、樹脂成形体に用いる絶縁性材料はポリアミド等の熱可塑性樹脂に白色顔料を配合したものが一般的に用いられてきた(例えば特許文献1参照)。発光に指向性が求められる半導体発光装置は、半導体発光素子より目的とする向きへ発せられた光だけでなく、それ以外の光を樹脂成形体やリードフレームなどの金属配線、及び反射材等で目的の向きに反射させ、発光効率を上げている。ポリアミドなどの熱可塑性樹脂が透光性であるために、樹脂成形体で反射させる際は樹脂に白色顔料を配合することで、樹脂と白色顔料の屈折率の差を利用し半導体発光素子からの光を反射し半導体発光装置としての発光効率を上げている。   Conventionally, an insulating material used for a resin molding has generally been used in which a white pigment is blended with a thermoplastic resin such as polyamide (see, for example, Patent Document 1). Semiconductor light-emitting devices that require directivity for light emission are not only light emitted from the semiconductor light-emitting element in the target direction, but also other light by metal wiring such as resin molded bodies and lead frames, and reflectors, etc. Reflected in the desired direction to increase luminous efficiency. Since a thermoplastic resin such as polyamide is translucent, a white pigment is blended into the resin when reflected by the resin molding, and the difference between the refractive index of the resin and the white pigment is utilized to remove the light from the semiconductor light emitting device. The light is reflected to increase the luminous efficiency of the semiconductor light emitting device.

上記特許文献1では、白色顔料を使用した場合であっても、白色顔料の種類によってはその反射効率が十分でなく吸収や透過する光線も出てしまうため、結果として半導体発光素子からの光を目的の向きに集中できずに半導体発光装置としての効率が下がってしまう場合があった。   In Patent Document 1, even when a white pigment is used, depending on the type of the white pigment, its reflection efficiency is not sufficient, and light rays that are absorbed and transmitted are also emitted. As a result, light from the semiconductor light emitting element is emitted. In some cases, the efficiency of the semiconductor light emitting device may be lowered without being able to concentrate in the intended direction.

また、ポリアミドを用いたパッケージは、ポリアミドが熱可塑性樹脂であり、環境問題より融点の高い鉛フリー半田が積極的に使用されリフロー温度が高くなる傾向にある現状ではその熱により軟化してしまうため耐熱性に問題がある。また、ポリアミドは紫外線、熱により、光劣化、熱劣化が起こるため、近年実用化が進んでいる青色〜近紫外線半導体発光素子のようなエネルギーの高い波長領域まで発光域を持つ発光素子を用いた場合、光による劣化が特に問題となる。また、より明るい発光素子が求められている現状においては、半導体発光素子から発せられる光束の大きな光、発熱により、熱劣化、光劣化の問題がより顕在化する。   In addition, since polyamide is a thermoplastic resin, lead-free solder with a high melting point is actively used due to environmental problems and the reflow temperature tends to be high, so the package using polyamide is softened by the heat. There is a problem with heat resistance. In addition, since light degradation and thermal degradation occur due to ultraviolet rays and heat in polyamide, a light emitting element having a light emitting region up to a high energy wavelength region such as a blue to near ultraviolet semiconductor light emitting element which has been practically used in recent years was used. In this case, deterioration due to light becomes a particular problem. In the present situation where a brighter light emitting element is demanded, the problem of thermal degradation and light degradation becomes more obvious due to the large light flux and heat generated from the semiconductor light emitting element.

一方、耐熱性が求められる場合は焼結されたアルミナを配合したセラミックが絶縁材料として用いられる(例えば特許文献2参照)。セラミックを用いたパッケージは耐熱性が良いが、製造に際し成形後に高温での焼結工程が必要である。焼結工程では電気代などのコスト面での問題や、焼結により成形体の大きさ、形状が変化するために不良品が出やすく量産性に問題があった。   On the other hand, when heat resistance is required, a ceramic mixed with sintered alumina is used as an insulating material (see, for example, Patent Document 2). A package using ceramic has good heat resistance, but requires a sintering process at a high temperature after molding in the production. In the sintering process, there were problems in terms of cost such as electricity bills, and because the size and shape of the molded body changed due to sintering, defective products were likely to be produced and there was a problem in mass productivity.

これに対して近年、樹脂にポリオルガノシロキサンを用い、白色顔料として酸化チタンを用いたシリコーン樹脂組成物を成形したケースも提案されている(例えば特許文献3参照)。樹脂にポリオルガノシロキサンを用いる事により、ポリアミドを用いたものと比べ耐熱性の向上が図られる。   On the other hand, a case where a silicone resin composition using polyorganosiloxane as a resin and titanium oxide as a white pigment is molded has been recently proposed (see, for example, Patent Document 3). By using polyorganosiloxane as the resin, heat resistance can be improved as compared with those using polyamide.

特開2002−283498号公報JP 2002-283498 A 特開2004−288937号公報JP 2004-288937 A 特開2009−155415号公報JP 2009-155415 A

半導体発光装置では半導体発光素子からの発熱があり、特に明るい発光素子が求められる場合にはその発熱も大きくなる。そのため、半導体発光素子からの発熱及び光により半導体発光装置のパッケージを構成する樹脂成形体が変色したり割れたりする現象が問題視されていた。この現象は、ポリアミド等の有機樹脂の場合に顕著であるが、シリコーン樹脂を用いた場合でもなお課題として残存していた。
また、LEDパッケージの成形加工プロセスにおいて樹脂そのものの可使時間が有る程度長いことも作業上の理由から求められる。本発明はこのような課題を解決し、耐熱性や耐光性が極めて高く、成形の際に成形までの可使時間を十分に確保できる半導体発光装置用パッケージを提供することを目的とする。
In the semiconductor light emitting device, heat is generated from the semiconductor light emitting element, and particularly when a bright light emitting element is required, the heat generation is also increased. Therefore, there has been a problem that the resin molded body constituting the package of the semiconductor light emitting device is discolored or cracked due to heat and light from the semiconductor light emitting element. This phenomenon is remarkable in the case of an organic resin such as polyamide, but it still remains a problem even when a silicone resin is used.
Further, it is also required for work reasons that the usable time of the resin itself is long in the LED package molding process. An object of the present invention is to provide a package for a semiconductor light-emitting device that solves such problems and has extremely high heat resistance and light resistance, and can sufficiently ensure the pot life until molding.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、樹脂成形体中における硬化触媒の金属成分濃度が、特定の値であることで、上記課題を解決できることを見出した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved when the metal component concentration of the curing catalyst in the resin molding is a specific value.

即ち本発明は以下のとおりである。
(A)ポリオルガノシロキサン樹脂、(B)フィラー、及び(C)硬化触媒を含有する樹脂成形体を少なくとも備える半導体発光装置用パッケージであって、
前記フィラーを除いた前記樹脂成形体中における前記硬化触媒の金属成分含有量が0.4ppm以上、25ppm以下であることを特徴とする。
That is, the present invention is as follows.
(A) A package for a semiconductor light emitting device comprising at least a resin molded body containing a polyorganosiloxane resin, (B) a filler, and (C) a curing catalyst,
The metal component content of the curing catalyst in the resin molded body excluding the filler is 0.4 ppm or more and 25 ppm or less.

また、前記(C)硬化触媒の金属成分は白金を含むことが好ましい。   The metal component of the (C) curing catalyst preferably contains platinum.

また、前記樹脂成形体は、ヒドロシリル化を介して硬化することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said resin molding is hardened | cured through hydrosilylation.

また、前記(B)フィラーは、アルミナを含むことが好ましく、前記(B)フィラーは、表面処理されていることが好ましい。   The (B) filler preferably contains alumina, and the (B) filler is preferably surface-treated.

また、前記(B)フィラーは、その一次粒子のアスペクト比が1.0以上4.0以下であることが好ましい。   The filler (B) preferably has an aspect ratio of primary particles of 1.0 or more and 4.0 or less.

また、前記樹脂成形体中に含まれる(A)ポリオルガノシロキサン樹脂を含むベース樹脂と(B)フィラーの重量比が15〜60:85〜40であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the weight ratio of the base resin containing the (A) polyorganosiloxane resin and the (B) filler contained in the resin molding is 15 to 60:85 to 40.

また、前記樹脂成形体は、0.3mm厚において、波長400nmの光反射率が50%以上であることが好ましい。   The resin molded body preferably has a light reflectance of 50% or more at a wavelength of 400 nm at a thickness of 0.3 mm.

また、前記樹脂成形体は、更に脂環式の炭化水素基を有する化合物を含むことが好ましく、前記樹脂成形体は、成形加工前の操作温度として一貫して45℃以下であり、かつ、成形加工時の成形温度が300℃以下であることが好ましい。   The resin molded body preferably further contains a compound having an alicyclic hydrocarbon group, and the resin molded body is consistently at 45 ° C. or lower as an operating temperature before molding processing, and molded. The molding temperature during processing is preferably 300 ° C. or lower.

本発明の別の態様は、半導体発光素子、上記記載のパッケージ、及び封止材を少なくとも備える半導体発光装置である。   Another aspect of the present invention is a semiconductor light emitting device including at least a semiconductor light emitting element, the package described above, and a sealing material.

本発明によると、耐熱性や耐光性が極めて高く、成形の際に成形までの可使時間を十分に確保できる半導体発光装置用パッケージを得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a package for a semiconductor light-emitting device that has extremely high heat resistance and light resistance and can sufficiently ensure the pot life until molding.

本発明の半導体発光装置の一態様を表す概念図である。It is a conceptual diagram showing the one aspect | mode of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の半導体発光装置の一態様を表す概念図である。It is a conceptual diagram showing the one aspect | mode of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明のパッケージとPPAパッケージの点灯耐久試験結果を示すグラフである。It is a graph which shows the lighting durability test result of the package of this invention, and a PPA package. 本発明のパッケージとPPAパッケージの接着性評価結果を示す写真である(図面代用写真)。It is a photograph which shows the adhesive evaluation result of the package of this invention and a PPA package (drawing substitute photograph).

<1.樹脂成形体>
本発明のパッケージは、(A)ポリオルガノシロキサン樹脂と、(B)フィラーと、(C)硬化触媒とを含有する樹脂成形体を少なくとも備える。フィラーを除いた樹脂成形体中における硬化触媒の金属成分濃度が0.4ppm以上25ppm以下であることを特徴とする。このような構成を有することで、可使時間を必要以上に短くせずに耐熱性、耐UV(光)性が高く、極めて信頼性に富むパッケージを得ることができるという新たな知見を発明者は得た。つまり、樹脂成形体中における触媒の金属成分含有量を特定の範囲とすることで、課題を解決した。
<1. Resin molding>
The package of the present invention includes at least a resin molded body containing (A) a polyorganosiloxane resin, (B) a filler, and (C) a curing catalyst. The metal component concentration of the curing catalyst in the resin molded body excluding the filler is 0.4 ppm or more and 25 ppm or less. With such a configuration, the inventor has a new finding that a highly reliable package with high heat resistance and UV (light) resistance can be obtained without shortening the pot life unnecessarily. Got. That is, the problem was solved by making the metal component content of the catalyst in the resin molded body into a specific range.

<1−1.硬化触媒の金属成分>
本発明のパッケージは、可使時間を必要以上に短くせずに耐熱性、耐UV(光)性を高くする目的から、フィラーを除いた樹脂成形体中における硬化触媒の金属成分含有量が0.4ppm以上25ppm以下である。好ましくは0.5ppm以上であり、また、好ましくは20ppm以下、より好ましくは15ppm以下、さらに好ましくは10ppm以下である。
<1-1. Metal component of curing catalyst>
In the package of the present invention, the metal component content of the curing catalyst in the resin molded body excluding the filler is 0 for the purpose of improving heat resistance and UV (light) resistance without shortening the pot life unnecessarily. 4 ppm or more and 25 ppm or less. Preferably it is 0.5 ppm or more, preferably 20 ppm or less, more preferably 15 ppm or less, still more preferably 10 ppm or less.

硬化触媒の金属成分含有量がこの範囲を越えて少なすぎる場合には硬化が不十分もしくは、硬化に非常に長い時間を要して経済的に好ましくない。
逆に、硬化触媒の金属成分含有量がこの範囲を越えて高すぎる場合には、硬化物そのものが着色したり、耐久性に劣ったり(長時間熱をかけると着色する、長時間紫外線を照射すると表面が割れるなど)、後に示す反射率の低下を招く他、硬化速度の制御が難しく、可使時間が十分確保できず、工業プロセス上好ましくない。特に光学部材用樹脂として使用する場合には、色が付くと大きな問題となり得る。
When the content of the metal component of the curing catalyst is too small beyond this range, curing is insufficient or it takes a very long time for curing, which is economically undesirable.
Conversely, if the content of the metal component in the curing catalyst exceeds this range and is too high, the cured product itself may be colored or inferior in durability (colored when heated for a long time, or irradiated with long-term ultraviolet rays. In this case, the surface is cracked), the reflectance described later is lowered, the curing rate is difficult to control, and the pot life cannot be secured sufficiently, which is not preferable for industrial processes. In particular, when used as a resin for optical members, it may be a big problem if it is colored.

例えば硬化触媒の金属成分として白金を含む場合、白金含有量が上記範囲を超えて高すぎると、そのような樹脂成形体を備えた半導体発光装置用パッケージにおいて以下のようなデメリットが生じる可能性がある。
付加型シリコーンを使用した樹脂成形体を備えた半導体発光装置用パッケージにおいて白金量が多い状態で数万時間の長時間点灯を行うと、上記パッケージ自体が着色したり割れたりする他、その表面に接触している封止材が着色したり不必要な硬度アップが促進されたりすることも危惧される。特に封止材の硬度が不必要に上がってしまった場合には、硬くなった封止材とパッケージの界面での応力緩和が不能となり、界面剥離が懸念される。
また、遊離の余分な残白金成分が封止層に移行して電場によって還元もしくは酸化されて白金微粒子ないしは酸化白金微粒子となると、その封止層部分を茶色に変色させることがある。さらに、遊離の残白金成分が移行してダイボンド材に接触すると、ダイボンド材の分解を促進して変色させることがある。特にエポキシ樹脂を含むダイボンド材の場合にはそれが顕著となる。また、白金がイオンの状態で封止層中や界面を移行すると、イオン化傾向のより大きな、電極表面の銀、またダイボンド材に使用されている銀をイオン化し、銀のマイグレーションによる電極表面および近傍の封止層の黒色化が発生し、半導体発光装置の輝度を大きく低下させる原因となる。
その他、パッケージ内に充填する封止材を固める際にも、白金量の多い材料で形成されたパッケージとの界面において余分な残白金が触媒となることにより不都合が生じる場合もある。具体的には、封止材として縮合型シリコーンなどの水酸基やアルコキシ基を有する化合物を使用する場合、水素やアルカンといった爆発性の危険性ガスが発生したり、泡(水蒸気)が生じたりする可能性がある。また、封止材として付加型シリコーンを使用する場合、パッケージとの界面付近の封止材のみ硬化が速くなり、パッケージ界面での応力緩和機能が損なわれたりすることも推測される。
For example, when platinum is included as the metal component of the curing catalyst, if the platinum content exceeds the above range and is too high, the following disadvantages may occur in the package for a semiconductor light emitting device provided with such a resin molded body. is there.
In a package for a semiconductor light emitting device provided with a resin molded body using addition-type silicone, if the light is lit for tens of thousands of hours in a state where the amount of platinum is large, the package itself may be colored or cracked, There is also a concern that the sealing material in contact may be colored or an unnecessary increase in hardness may be promoted. In particular, when the hardness of the sealing material is unnecessarily increased, stress relaxation at the interface between the hardened sealing material and the package becomes impossible and there is a concern about interface peeling.
Further, when the free excess platinum component is transferred to the sealing layer and reduced or oxidized by an electric field to become platinum fine particles or platinum oxide fine particles, the sealing layer portion may be changed to brown. Further, when the free residual platinum component moves and contacts the die bond material, the decomposition of the die bond material may be promoted to cause discoloration. This is particularly noticeable in the case of a die bond material containing an epoxy resin. In addition, when platinum migrates in the sealing layer or at the interface in an ion state, silver on the electrode surface, which has a greater ionization tendency, and silver used in the die bond material are ionized, and the electrode surface and its vicinity due to silver migration Blackening of the sealing layer occurs, which causes a significant decrease in the luminance of the semiconductor light emitting device.
In addition, when the sealing material to be filled in the package is hardened, there may be a problem that excess residual platinum becomes a catalyst at the interface with the package formed of a material having a large amount of platinum. Specifically, when a compound having a hydroxyl group or alkoxy group such as condensed silicone is used as a sealing material, an explosive hazardous gas such as hydrogen or alkane may be generated, or bubbles (water vapor) may be generated. There is sex. In addition, when addition type silicone is used as the sealing material, only the sealing material in the vicinity of the interface with the package is cured faster, and the stress relaxation function at the package interface may be impaired.

さらに、硬化触媒の白金の成分含有量が上記のごとく0.4ppm以上25ppm以下の範囲の場合、使用するフィラーの一次粒子のアスペクト比は、1.0以上4.0以下であることが特に好ましい。本アスペクト比は、後述するように材料の高反射率確保の観点や、金型の磨耗率低減といった白金濃度と関連性の低い製品物性や加工面の観点からもこの範囲であることが好ましいが、白金濃度との関連性からもこの範囲が好ましい。特に、硬化触媒の白金の成分含有量が0.4ppm以上25ppm以下であり、かつ、使用するフィラーの一次粒子のアスペクト比が1.0以上4.0以下であれば、成形加工性が容易であり、反応性の高い材料、つまり、成形性と経済性の双方を満足することができる材料を製造することが可能となる。
フィラーの一次粒子のアスペクト比がこの範囲を越えて小さい場合には、成形加工をしやすい液粘弾性を得るためにフィラーの充填量を上げることが好ましい。0.4ppm以上25ppm以下の白金濃度では、高いフィラー充填量のために、成形加工品に欠けが出ることがあったり、硬化触媒と反応基末端の衝突頻度が低下して硬化速度が遅くなり、成形加工時の経済性に欠けたりするデメリットが生じる場合がある。
逆に、フィラーの一次粒子のアスペクト比がこの範囲を越えて大きい場合には、成形加工をしやすい液粘弾性を得るためにはフィラーの充填量を下げることが好ましい。0.4ppm以上25ppm以下の白金濃度では、低いフィラー充填量と粘度のために、硬化触媒と反応基末端の衝突頻度が増大して硬化速度が速くなり、金型の隅々まで材料液が充填される前に硬化反応が進行して成形加工品に欠けが出ることがあったり、充填された材料液が金型の隙間にまで浸み込み、バリ発生のエラーが生じたりするデメリットが生じることがある。
このような白金濃度とフィラーの一次粒子のアスペクト比に好ましい範囲があるという事実については、これまで報告されていない。
Furthermore, when the platinum component content of the curing catalyst is in the range of 0.4 ppm to 25 ppm as described above, the aspect ratio of the primary particles of the filler used is particularly preferably 1.0 or more and 4.0 or less. . The aspect ratio is preferably in this range from the viewpoint of securing a high reflectance of the material as described later, and from the viewpoint of product properties and processing surfaces that are not related to the platinum concentration, such as reducing the wear rate of the mold. Also, this range is preferable from the relationship with the platinum concentration. In particular, if the platinum content of the curing catalyst is 0.4 ppm or more and 25 ppm or less, and the aspect ratio of the primary particles of the filler used is 1.0 or more and 4.0 or less, the moldability is easy. In addition, it is possible to manufacture a highly reactive material, that is, a material that can satisfy both moldability and economy.
When the aspect ratio of the primary particles of the filler is small beyond this range, it is preferable to increase the filling amount of the filler in order to obtain liquid viscoelasticity that facilitates molding. When the platinum concentration is 0.4 ppm or more and 25 ppm or less, chipping may occur due to a high filler filling amount, the collision frequency between the curing catalyst and the reactive group terminal decreases, and the curing rate becomes slow. There may be disadvantages such as lack of economic efficiency during molding.
On the other hand, when the aspect ratio of the primary particles of the filler is larger than this range, it is preferable to reduce the filling amount of the filler in order to obtain liquid viscoelasticity that facilitates the molding process. At platinum concentrations of 0.4 ppm or more and 25 ppm or less, due to the low filler filling amount and viscosity, the collision frequency between the curing catalyst and the reactive group ends increases, the curing speed increases, and the material liquid fills every corner of the mold. There is a demerit that the curing reaction may progress before being processed and chipping may occur in the molded product, or the filled material liquid penetrates into the gaps of the mold and causes burring errors. There is.
The fact that there is a preferable range for the platinum concentration and the aspect ratio of the primary particles of the filler has not been reported so far.

さらに、硬化触媒の白金の成分含有量が上記のごとく0.4ppm以上25ppm以下の間の場合、上記のとおり使用するフィラーの一次粒子のアスペクト比は1.0以上4.0以下が好ましく、さらに成形性と経済性(反応性)との双方を満足させるために、ポリオルガノシロキサン樹脂を含むベース樹脂と該フィラーの重量比が15〜60:85〜40であることが望ましい。後述するようにポリオルガノシロキサン樹脂を含むベース樹脂と該フィラーの重量比が上記範囲にあることにより、温度衝撃に強く、樹脂成形体からリードフレームや封止材が剥離しにくく、かつ物理的衝撃に強く割れや欠けが生じない樹脂成形体を得られるが、このような効果が得られる「硬化触媒の白金の成分含有量、フィラー粒子のアスペクト比、及びフィラー含有量」の良好な組合せ範囲は、当業者であっても容易には想到できなかったものである。   Furthermore, when the platinum component content of the curing catalyst is between 0.4 ppm and 25 ppm as described above, the aspect ratio of the primary particles of the filler used as described above is preferably 1.0 or more and 4.0 or less, In order to satisfy both moldability and economy (reactivity), the weight ratio of the base resin containing the polyorganosiloxane resin to the filler is preferably 15 to 60:85 to 40. As will be described later, the weight ratio of the base resin containing the polyorganosiloxane resin to the filler is in the above range, so that it is resistant to temperature shock, the lead frame and the sealing material are difficult to peel off from the resin molded body, and physical impact. A resin molded body that is strongly resistant to cracking and chipping can be obtained, but a good combination range of “the platinum content of the curing catalyst, the aspect ratio of the filler particles, and the filler content” that can obtain such an effect is Even those skilled in the art could not easily conceive.

硬化触媒中の金属成分としては、上記示した白金のほか、チタン、タンタル、ジルコニウム、アルミニウム、ハフニウム、亜鉛、錫、などが使用できるが、白金であることが好ましい。金属成分としては、硬化触媒中に1種類のみ含んでもよく、2種以上含むこともできる。2種以上含む場合には、少なくとも白金を含むことが好ましく、金属成分の通常70重量%以上、好ましくは90重量%以上が白金であることが好ましい。
白金としては、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの
反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセテートなどが挙げられる。
As the metal component in the curing catalyst, titanium, tantalum, zirconium, aluminum, hafnium, zinc, tin, and the like can be used in addition to the above-described platinum, and platinum is preferable. As a metal component, only one type may be included in the curing catalyst, or two or more types may be included. When two or more kinds are contained, it is preferable that at least platinum is contained, and it is preferable that 70% by weight or more, preferably 90% by weight or more of the metal component is platinum.
Examples of platinum include platinum black, secondary platinum chloride, chloroplatinic acid, a reaction product of chloroplatinic acid and a monohydric alcohol, a complex of chloroplatinic acid and olefins, and platinum bisacetate.

<1−2.反射率>
本発明のパッケージを構成する樹脂成形体は、可視光について高反射率を維持することができることが好ましい。0.3mm厚において波長460nmの光の反射率が60%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。
また、0.3mm厚において波長400nmの光の反射率が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。
樹脂成形体の反射率は、樹脂の種類やフィラーの種類、フィラーの粒径や含有量などにより制御することができる。
<1-2. Reflectivity>
It is preferable that the resin molding which comprises the package of this invention can maintain a high reflectance about visible light. The reflectance of light having a wavelength of 460 nm at a thickness of 0.3 mm is preferably 60% or more, more preferably 80% or more, and still more preferably 90% or more.
Further, the reflectance of light having a wavelength of 400 nm at a thickness of 0.3 mm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and further preferably 90% or more.
The reflectance of the resin molding can be controlled by the type of resin, the type of filler, the particle size and content of the filler, and the like.

<1−3.屈折率>
本発明のパッケージを構成する樹脂成形体は、フィラーを含まない、即ち(A)ポリオルガノシロキサン樹脂のみを硬化させた成形体の屈折率として1.41〜1.54であることが好ましい。ポリオルガノシロキサン樹脂成形体の屈折率がこのような範囲の場合には、封止材に用いる樹脂との兼ね合いにより、樹脂成形体と封止材の界面における光の反射ロスを抑えることができる。
樹脂成形体の屈折率は、樹脂の種類や樹脂に含まれる官能基、フィラーの種類や含有量により制御することができる。具体的には官能基としてはフェニル基を含有させることで屈折率を上げることが出来、フッ素を含有させることで低減させることが出来る。ちなみに、フェニル基を有しないジメチル系のポリオルガノシロキサン(屈折率1.40〜1.41)に、Siの個数(mol数)に対しフェニル基の含有数として0.8個(mol)程度添加することで屈折率がおよそ1.53〜1.54に到達することが知られている。
また、フィラーとしてアルミナ(屈折率:1.7)、酸化亜鉛(屈折率:2.0)、ジルコニア(屈折率:2.4)、チタニア(屈折率:2.7)等の粒子を加えることによって屈折率を高めることも可能である。
<1-3. Refractive index>
It is preferable that the resin molding which comprises the package of this invention is 1.41-1.54 as a refractive index of the molding which does not contain a filler, ie, (A) only the polyorganosiloxane resin hardened | cured. When the refractive index of the polyorganosiloxane resin molding is in such a range, the reflection loss of light at the interface between the resin molding and the sealing material can be suppressed due to the balance with the resin used for the sealing material.
The refractive index of the resin molding can be controlled by the type of resin, the functional group contained in the resin, and the type and content of the filler. Specifically, the refractive index can be increased by including a phenyl group as a functional group, and the functional group can be decreased by containing fluorine. Incidentally, about 0.8 (mol) of phenyl group content is added to dimethyl polyorganosiloxane (refractive index: 1.40 to 1.41) having no phenyl group with respect to the number of Si (mol number). It is known that the refractive index reaches approximately 1.53 to 1.54.
Also, particles such as alumina (refractive index: 1.7), zinc oxide (refractive index: 2.0), zirconia (refractive index: 2.4), titania (refractive index: 2.7) are added as fillers. It is also possible to increase the refractive index.

<2.樹脂成形体材料>
本発明において、樹脂成形体の原料とする樹脂成形体材料は、(A)ポリオルガノシロキサン樹脂、(B)フィラー、及び(C)硬化触媒を含有する。樹脂成形体は、樹脂成形体材料を硬化させた成形体であり、リードフレームなどの金属配線と共に成形することにより、半導体発光装置用パッケージとなる。
<2. Resin molding material>
In the present invention, the resin molding material used as the raw material of the resin molding contains (A) a polyorganosiloxane resin, (B) a filler, and (C) a curing catalyst. The resin molded body is a molded body obtained by curing a resin molded body material, and becomes a package for a semiconductor light emitting device by being molded together with a metal wiring such as a lead frame.

<2−1.(A)ポリオルガノシロキサン樹脂>
本発明のパッケージを構成する樹脂成形体のベース樹脂は、フィラーを除いた樹脂成形体重量中における硬化触媒の金属成分濃度が上記範囲であり、(A)ポリオルガノシロキサンを含有する樹脂であれば、そのベース樹脂は熱可塑性樹脂であっても熱硬化性樹脂であっても良く、その種類は特段限定されない。ポリオルガノシロキサンと併用(混合または共重合体として)される熱可塑性樹脂としては、芳香族ナイロン系樹脂、ポリフタルアミド樹脂(PPA)、サルホン系樹脂、ポリアミドイミド樹脂(PAI)、ポリケトン樹脂(PK)、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、液晶ポリマー(LCP)、ABS樹脂、PBT樹脂などが使用できる。また、併用される熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、各種変性シリコーン樹脂、アクリレート樹脂、ウレタン樹脂などが使用できる。
本発明のパッケージを構成する樹脂成形体のベース樹脂中、(A)ポリオルガノシロキサンの含有量は特段限定されず、所望のパッケージの性質により適宜選択できるが、(A)ポリオルガノシロキサンが主成分であることが好ましい。ここで主成分とは、ベース樹脂中においての含有量が50重量%以上であることをいう。具体的には、70重量%以上であることが好ましく、80重量%以上がより好ましく、90重量%以上が更に好ましい。
<2-1. (A) Polyorganosiloxane resin>
The base resin of the resin molded body constituting the package of the present invention is such that the metal component concentration of the curing catalyst in the weight of the resin molded body excluding the filler is in the above range, and (A) a resin containing polyorganosiloxane. The base resin may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin, and the type thereof is not particularly limited. Thermoplastic resins used in combination with polyorganosiloxane (as a mixture or copolymer) include aromatic nylon resins, polyphthalamide resins (PPA), sulfone resins, polyamideimide resins (PAI), and polyketone resins (PK). ), Polycarbonate resin, polyphenylene sulfide (PPS), liquid crystal polymer (LCP), ABS resin, PBT resin, and the like. Moreover, as a thermosetting resin used together, an epoxy resin, a modified epoxy resin, various modified silicone resins, an acrylate resin, a urethane resin, etc. can be used.
In the base resin of the resin molded body constituting the package of the present invention, the content of (A) polyorganosiloxane is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the properties of the desired package. It is preferable that Here, the main component means that the content in the base resin is 50% by weight or more. Specifically, it is preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and still more preferably 90% by weight or more.

フィラー添加前のベース樹脂の粘度としては、取り扱いの容易さから、常温で100,000cp以下が好ましい。より好ましくは20,000cp以下である。さらに好ましくは10,000cp以下である。下限は特には制限されないが、揮発度(沸点)との関係上一般的には15cp以上である。   The viscosity of the base resin before adding the filler is preferably 100,000 cp or less at normal temperature because of easy handling. More preferably, it is 20,000 cp or less. More preferably, it is 10,000 cp or less. The lower limit is not particularly limited, but is generally 15 cp or more in relation to volatility (boiling point).

また、ベース樹脂のポリスチレンを標準物質として測定したゲルパーミエーションクロマトグラフィーでの平均分子量測定値として、樹脂の平均分子量は500以上、100,000以下であることが好ましい。より好ましくは700以上50,000以下である。さらに、揮発成分を少なくする(他部材との接着性を維持するため)目的から900以上、また、成形前の材料の取扱いのし易さから10,000以下であることがより好ましい。最も好ましくは5,000以下である。   The average molecular weight of the resin is preferably 500 or more and 100,000 or less as an average molecular weight measurement value in gel permeation chromatography measured using polystyrene of the base resin as a standard substance. More preferably, it is 700 or more and 50,000 or less. Furthermore, it is more preferably 900 or more for the purpose of reducing volatile components (to maintain adhesion to other members) and 10,000 or less for ease of handling of the material before molding. Most preferably, it is 5,000 or less.

本発明の樹脂成形体におけるベース樹脂として用いられるポリオルガノシロキサンとは、ケイ素原子が酸素を介して他のケイ素原子と結合した部分を持つ構造に有機基が付加している高分子物質を指す。通常、シロキサン結合を主鎖とする有機重合体をいい、例えば以下に示す一般組成式(1)で表される化合物や、その混合物が挙げられる。
(R123SiO1/2M(R45SiO2/2D(R6SiO3/2T(SiO4/2Q ・・・(1)
ここで、上記式(1)中、R1からR6は独立して、有機官能基、水酸基、水素原子から選択される。またM、D、TおよびQは0から1未満であり、M+D+T+Q=1を満足する数である。
The polyorganosiloxane used as the base resin in the resin molded product of the present invention refers to a polymer substance in which an organic group is added to a structure having a portion in which a silicon atom is bonded to another silicon atom through oxygen. Usually, it refers to an organic polymer having a siloxane bond as the main chain, and examples thereof include compounds represented by the following general composition formula (1) and mixtures thereof.
(R 1 R 2 R 3 SiO 1/2 ) M (R 4 R 5 SiO 2/2 ) D (R 6 SiO 3/2 ) T (SiO 4/2 ) Q (1)
Here, in the above formula (1), R 1 to R 6 are independently selected from an organic functional group, a hydroxyl group, and a hydrogen atom. M, D, T, and Q are 0 to less than 1 and satisfy M + D + T + Q = 1.

主なポリオルガノシロキサンを構成する単位は、1官能型[R3SiO0.5](トリオル
ガノシルヘミオキサン)、2官能型[R2SiO](ジオルガノシロキサン)、3官能型[RSiO1.5](オルガノシルセスキオキサン)、4官能型[SiO2](シリケート)であり、これら4種の単位の構成比率を変えることにより、ポリオルガノシロキサンの性状の違いが出てくるので、所望の特性が得られるように適宜選択し、ポリオルガノシロキサンの合成を行う。
上記構成単位が1〜3官能型のポリオルガノシロキサンは、オルガノクロロシラン(一般式RnSiCl4-n(n=1〜3))と呼ばれる一連の有機ケイ素化合物をもとにして合成することができる。例えば、メチルクロロシランは塩化メチルとケイ素SiとをCu触媒下高温で直接反応させて合成することができ、また、ビニル基などの有機基を持つシラン類は、一般の有機合成化学の手法によって合成することができる。
単離されたオルガノクロロシランを、単独で、あるいは任意の割合で混合し、水により加水分解を行うとシラノールが生成し、このシラノールが脱水縮合するとシリコーンの基本骨格であるポリオルガノシロキサンが合成される。
The units constituting the main polyorganosiloxane are monofunctional [R 3 SiO 0.5 ] (triorganosyl hemioxane), bifunctional [R 2 SiO] (diorganosiloxane), trifunctional [RSiO 1.5 ]. (Organosilsesquioxane), tetrafunctional type [SiO 2 ] (silicate). By changing the composition ratio of these four units, the difference in the properties of polyorganosiloxane will occur. Is selected as appropriate so that polyorganosiloxane is synthesized.
The polyorganosiloxane of the structural units 1 to 3 functional type, be synthesized based on a series of organic silicon compounds called organochlorosilanes (general formula R n SiCl 4-n (n = 1~3)) it can. For example, methylchlorosilane can be synthesized by directly reacting methyl chloride and silicon Si at a high temperature under a Cu catalyst, and silanes having an organic group such as a vinyl group can be synthesized by a general synthetic organic chemistry method. can do.
Silanol is produced when the isolated organochlorosilane is mixed alone or in an arbitrary ratio and hydrolyzed with water. When this silanol is dehydrated and condensed, polyorganosiloxane, which is the basic skeleton of silicone, is synthesized. .

ポリオルガノシロキサンは、硬化触媒の存在下で、熱エネルギーや光エネルギー等を与えることにより硬化させる事ができる。ここで硬化とは、流動性を示す状態から、流動性を示さない状態に変化することをいい、例えば、対象物を水平より45度傾けた状態で30分間静置しても流動性がある状態を未硬化状態といい、全く流動性がない状態を硬化状態として判断することができる。
ポリオルガノシロキサンは、硬化のメカニズムにより分類すると、通常、付加重合硬化タイプ、縮重合硬化タイプ、紫外線硬化タイプ、パーオキサイド架硫タイプなどのポリオルガノシロキサンを挙げることができる。これらの中では、付加重合硬化タイプ(付加型ポリオルガノシロキサン)、および縮合硬化タイプ(縮合型ポリオルガノシロキサン)が好適である。中でも、副生成物の発生が無く、また、反応が可逆性でないヒドロシリル化(付加重合)によって硬化するポリオルガノシロキサンのタイプがより好適である。これ
は、成形加工時に副生成物が発生すると、成形容器内の圧を上昇させたり、硬化材料中に泡として残存したりする傾向にあるからである。
ポリオルガノシロキサンは、常温常圧下において液体であっても、常温常圧下で固体であってもよいが、より望ましくは液体である。上記常温とは20℃±15℃(5〜35℃)の範囲の温度をいい、常圧とは大気圧に等しい圧力をいい、ほぼ1気圧である。
Polyorganosiloxane can be cured by applying heat energy, light energy, or the like in the presence of a curing catalyst. Here, curing refers to changing from a state showing fluidity to a state showing no fluidity. For example, even if the object is left at an angle of 45 degrees from the horizontal for 30 minutes, it is fluid. The state is referred to as an uncured state, and a state having no fluidity can be determined as a cured state.
When the polyorganosiloxane is classified according to the curing mechanism, polyorganosiloxanes such as an addition polymerization curing type, a condensation polymerization curing type, an ultraviolet curing type, and a peroxide crosslinking type can be generally exemplified. Among these, addition polymerization curing type (addition type polyorganosiloxane) and condensation curing type (condensation type polyorganosiloxane) are preferable. Among these, a polyorganosiloxane type that does not generate by-products and cures by hydrosilylation (addition polymerization) in which the reaction is not reversible is more preferable. This is because when a by-product is generated during the molding process, the pressure in the molded container tends to increase or it remains as foam in the cured material.
The polyorganosiloxane may be liquid at room temperature and normal pressure, or may be solid at room temperature and normal pressure, but is more preferably liquid. The normal temperature refers to a temperature in the range of 20 ° C. ± 15 ° C. (5-35 ° C.), and the normal pressure refers to a pressure equal to atmospheric pressure, which is approximately 1 atm.

ポリオルガノシロキサンは、硬化のメカニズムにより分類すると、通常、付加重合硬化タイプ、縮重合硬化タイプ、紫外線硬化タイプ、パーオキサイド架硫タイプなどのポリオルガノシロキサンを挙げることができる。これらの中では、付加重合硬化タイプ(付加型ポリオルガノシロキサン)、及び縮合硬化タイプ(縮合型ポリオルガノシロキサン)が好適である。中でも、成形加工時に副生成物(成形容器内の圧を上昇させたり、硬化材料中に泡として残存したりするため好ましくない)の発生が無く、また反応が可逆性でないヒドロシリル化(付加重合)によって硬化するポリオルガノシロキサンのタイプがより好適である。   When the polyorganosiloxane is classified according to the curing mechanism, polyorganosiloxanes such as an addition polymerization curing type, a condensation polymerization curing type, an ultraviolet curing type, and a peroxide crosslinking type can be generally exemplified. Among these, addition polymerization curing type (addition type polyorganosiloxane) and condensation curing type (condensation type polyorganosiloxane) are preferable. In particular, there is no generation of by-products (not preferred because it increases the pressure in the molding container or remains as foam in the cured material) during the molding process, and the reaction is not reversible (addition polymerization). The type of polyorganosiloxane that cures by is more preferred.

上記付加型ポリオルガノシロキサンとは、ポリオルガノシロキサン鎖が、有機付加結合により架橋されたものをいう。代表的なものとしては、例えばビニルシラン等の(C1)アルケニル基を有する珪素含有化合物と、例えばヒドロシラン等の(C2)ヒドロシリル基を含有する珪素化合物とを総ヒドロシリル基量が0.5倍以上、2.0倍以下となる量比で混合し、(C3)貴金属系錯体に代表される付加縮合触媒の存在下反応させて得られるSi−C−C−Si結合を架橋点に有する化合物等を挙げることができる。   The addition-type polyorganosiloxane refers to a polyorganosiloxane chain crosslinked by an organic addition bond. As a typical one, for example, a silicon-containing compound having (C1) alkenyl group such as vinylsilane and a silicon compound containing (C2) hydrosilyl group such as hydrosilane has a total hydrosilyl group amount of 0.5 times or more, A compound having a Si—C—C—Si bond at the cross-linking point obtained by mixing in an amount ratio of 2.0 times or less and reacting in the presence of an addition condensation catalyst represented by (C3) noble metal complex. Can be mentioned.

(C1)アルケニル基を有する珪素含有化合物としては、下記一般式(2)
nSiO[(4-n)/2] ・・・(2)
で示される、1分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有するポリオルガノシロキサンが挙げられる。
但し、上記式(2)中、Rは同一又は異種の置換又は非置換の1価炭化水素基、アルコキシ基、又は水酸基で、nは1≦n<2を満たす正の数である。
上記(C1)アルケニル基を有するケイ素含有化合物においてアルケニル基とは、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基などの炭素数2〜8のアルケニル基であることが好ましい。Rが炭化水素基である場合はメチル基、エチル基などのアルキル基、ビニル基、フェニル基等の炭素数1〜20の1価の炭化水素基から選択される。好ましくは、メチル基、エチル基、フェニル基である。
(C1) As a silicon-containing compound having an alkenyl group, the following general formula (2)
R n SiO [(4-n) / 2] (2)
And a polyorganosiloxane having at least two alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule.
In the above formula (2), R is the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, alkoxy group, or hydroxyl group, and n is a positive number satisfying 1 ≦ n <2.
In the silicon-containing compound having the (C1) alkenyl group, the alkenyl group is preferably an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms such as a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, or a pentenyl group. When R is a hydrocarbon group, it is selected from an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms such as a vinyl group or a phenyl group. Preferably, they are a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.

それぞれは異なっても良いが、耐UV性が要求される場合には上記式中Rのうちの65%程度はメチル基であることが好ましい。つまり、Siの個数(mol数)に対してメチル基以外の官能基の含有数として0.5個(mol)程度であることが好ましい。より好ましくは80%以上がメチル基である。Rが炭素数1〜8のアルコキシ基や水酸基であってもよいが、アルコキシ基や水酸基の含有率は(C1)アルケニル基を有する珪素含有化合物の重量の10%以下であることが好ましい。またnは1≦n<2を満たす正数であるが、この値が2以上であるとパッケージ用材料とリードフレーム等の導電体との接着に十分な強度が得られなくなり、1未満であるとこのポリオルガノシロキサンの合成が困難になる。   Each may be different, but when UV resistance is required, about 65% of R in the above formula is preferably a methyl group. That is, the content of functional groups other than methyl groups is preferably about 0.5 (mol) with respect to the number of Si (mol number). More preferably, 80% or more is a methyl group. R may be an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxyl group, but the content of the alkoxy group or hydroxyl group is preferably 10% or less of the weight of the silicon-containing compound having (C1) alkenyl group. Further, n is a positive number satisfying 1 ≦ n <2, but if this value is 2 or more, sufficient strength cannot be obtained for bonding between the packaging material and a conductor such as a lead frame, and is less than 1. This makes it difficult to synthesize this polyorganosiloxane.

上記(C1)アルケニル基を有する珪素含有化合物としては、例えばビニルシラン、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンを挙げることができ、これらを1種単独で、または2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。上記の中でも分子内に2個以上のビニル基を有するビニル基含有ポリオルガノシロキサンが好ましい。   Examples of the silicon-containing compound having the (C1) alkenyl group include vinyl silane and vinyl group-containing polyorganosiloxane. These may be used alone or in combination of two or more in any ratio and combination. it can. Among these, a vinyl group-containing polyorganosiloxane having two or more vinyl groups in the molecule is preferable.

分子内に2個以上のビニル基を有するビニル基含有ポリオルガノシロキサンとして具体
的には以下のものが挙げられる。
両末端ビニルポリジメチルシロキサン
DMS−V00、DMS−V03、DMS−V05、DMS−V21、DMS−V22、DMS−V25、DMS−V31、DMS−V33、DMS−V35、DMS−V41、DMS−V42、DMS−V46、DMS−V52(いずれもGelest社製)
両末端ビニルジメチルシロキサン−ジフェニルシロキサンコポリマー
PDV−0325、PDV−0331、PDV−0341、PDV−0346、PDV−0525、PDV−0541、PDV−1625、PDV−1631、PDV−1635、PDV−1641、PDV−2331、PDV−2335(いずれもGelest社製)
両末端ビニルフェニルメチルシロキサン
PMV−9925(Gelest社製)
トリメチルシリル基封鎖ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマー
VDT−123、VDT−127、VDT−131、VDT−153、VDT−431、VDT−731、VDT−954(いずれもGelest社製)
ビニルT−構造ポリマー
VTT−106、MTV−124(いずれもGelest社製)
Specific examples of the vinyl group-containing polyorganosiloxane having two or more vinyl groups in the molecule include the following.
Both ends vinyl polydimethylsiloxane DMS-V00, DMS-V03, DMS-V05, DMS-V21, DMS-V22, DMS-V25, DMS-V31, DMS-V33, DMS-V35, DMS-V41, DMS-V42, DMS-V46, DMS-V52 (both manufactured by Gelest)
Both-end vinyldimethylsiloxane-diphenylsiloxane copolymer PDV-0325, PDV-0331, PDV-0341, PDV-0346, PDV-0525, PDV-0541, PDV-1625, PDV-1631, PDV-1635, PDV-1641, PDV -2331, PDV-2335 (both manufactured by Gelest)
Both end vinylphenylmethylsiloxane PMV-9925 (manufactured by Gelest)
Trimethylsilyl-blocked vinylmethylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer VDT-123, VDT-127, VDT-131, VDT-153, VDT-431, VDT-731, VDT-954 (all manufactured by Gelest)
Vinyl T-structure polymer VTT-106, MTV-124 (both manufactured by Gelest)

また、(C2)ヒドロシリル基を含有する珪素化合物としては、例えばヒドロシラン、ヒドロシリル基含有ポリオルガノシロキサンを挙げることができ、これらを1種単独で、または2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。上記の中でも分子内に2個以上のヒドロシリル基を有するヒドロシリル基含有ポリオルガノシロキサンが好ましい。   In addition, examples of the (C2) hydrosilyl group-containing silicon compound include hydrosilane and hydrosilyl group-containing polyorganosiloxane, and these may be used alone or in combination of two or more in any ratio and combination. Can do. Of these, hydrosilyl group-containing polyorganosiloxane having two or more hydrosilyl groups in the molecule is preferred.

分子中に2個以上のヒドロシリル基を含有するポリオルガノシロキサンとして具体的には以下のものが挙げられる。
両末端ヒドロシリルポリジメチルシロキサン
DMS−H03、DMS−H11、DMS−H21、DMS−H25、DMS−H31、DMS−H41(いずれもGelest社製)
両末端トリメチルシリル封鎖メチルヒドロシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマーHMS−013、HMS−031、HMS−064、HMS−071、HMS−082、HMS−151、HMS−301、HMS−501(いずれもGelest社製)
Specific examples of the polyorganosiloxane containing two or more hydrosilyl groups in the molecule include the following.
Both terminal hydrosilyl polydimethylsiloxane DMS-H03, DMS-H11, DMS-H21, DMS-H25, DMS-H31, DMS-H41 (all manufactured by Gelest)
Both end trimethylsilyl-blocked methylhydrosiloxane-dimethylsiloxane copolymer HMS-013, HMS-031, HMS-064, HMS-071, HMS-082, HMS-151, HMS-301, HMS-501 (all manufactured by Gelest)

本発明における上記(C1)アルケニル基を有する珪素含有化合物および(C2)ヒドロシリル基を含有する珪素化合物の使用量は、(C1)アルケニル基を有する珪素含有化合物1molに対して(C2)ヒドロシリル基を含有する珪素化合物が通常0.5mol以上であり、好ましくは0.7mol以上、より好ましくは0.8mol以上である。また通常2.0mol以下であり、好ましくは1.8mol以下、より好ましくは1.5mol以下である。このような割合で反応させることにより、硬化後の未反応末端基の残存量を低減し、点灯使用時の着色や剥離等の経時変化が少ない硬化物を得ることができる。
また、ヒドロシリル化を起こす反応点(架橋点)の個数は、アルケニル基およびヒドロシリル基ともにフィラーを含まない樹脂自体中において0.15mmol/g以上、20mmol/g以下であることが好ましい。さらに好ましくは0.25mmol/g以上、10mmol/g以下である。
The amount of the silicon-containing compound having the (C1) alkenyl group and the silicon compound containing the (C2) hydrosilyl group in the present invention is such that (C2) hydrosilyl group is added to 1 mol of the silicon-containing compound having (C1) alkenyl group. The silicon compound contained is usually 0.5 mol or more, preferably 0.7 mol or more, more preferably 0.8 mol or more. Moreover, it is 2.0 mol or less normally, Preferably it is 1.8 mol or less, More preferably, it is 1.5 mol or less. By reacting at such a ratio, the remaining amount of unreacted end groups after curing can be reduced, and a cured product with little change over time such as coloring or peeling during lighting use can be obtained.
The number of reaction points (crosslinking points) that cause hydrosilylation is preferably 0.15 mmol / g or more and 20 mmol / g or less in the resin itself that does not contain a filler for both alkenyl groups and hydrosilyl groups. More preferably, it is 0.25 mmol / g or more and 10 mmol / g or less.

また、上記縮合型ポリオルガノシロキサンとしては、例えば、アルキルアルコキシシランの加水分解・重縮合で得られるSi−O−Si結合を架橋点に有する化合物を挙げることができる。具体的には、下記一般式(3)及び/若しくは(4)で表わされる化合物、並びに/又はそのオリゴマーを加水分解・重縮合して得られる重縮合物が挙げられる。   Examples of the condensed polyorganosiloxane include a compound having a Si—O—Si bond obtained by hydrolysis and polycondensation of an alkylalkoxysilane at a crosslinking point. Specific examples thereof include polycondensates obtained by hydrolysis and polycondensation of compounds represented by the following general formula (3) and / or (4) and / or oligomers thereof.

m+n1 m-1 ・・・(3)
式(3)中、Mはケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びチタンからなる群から選択される少なくとも1種の元素を表し、Xは加水分解性基を表し、Y1は、1価の有機基を表し、mはMの価数を表す1以上の整数を表し、nはX基の数を表わす1以上の整数を表す。但し、m≧nである。
M m + X n Y 1 m-1 (3)
In formula (3), M represents at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, and titanium, X represents a hydrolyzable group, and Y 1 represents a monovalent organic group. M represents one or more integers representing the valence of M, and n represents one or more integers representing the number of X groups. However, m ≧ n.

(MS+t1 s-t-1u2 ・・・(4)
式(4)中、Mは、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びチタンからなる群から選択される少なくとも1種の元素を表し、Xは加水分解性基を表し、Y1は1価の有機基を表し、Y2はu価の有機基を表し、sはMの価数を表す1以上の整数を表し、tは1以上s−1以下の整数を表し、uは2以上の整数を表す。
(M S + X t Y 1 st-1) u Y 2 ··· (4)
In Formula (4), M represents at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, and titanium, X represents a hydrolyzable group, and Y 1 represents a monovalent organic group. Y 2 represents a u-valent organic group, s represents an integer of 1 or more representing the valence of M, t represents an integer of 1 to s−1, and u represents an integer of 2 or more.

縮合型ポリオルガノシロキサンは公知のものを使用することができ、例えば、特開2006−77234号公報、特開2006−291018号公報、特開2006−316264号公報、特開2006−336010号公報、特開2006−348284号公報、および国際公開2006/090804号パンフレットに記載の半導体発光デバイス用部材が好適である。   As the condensed polyorganosiloxane, known ones can be used. For example, JP 2006-77234 A, JP 2006-291018 A, JP 2006-316264 A, JP 2006-336010 A, The semiconductor light-emitting device members described in JP-A-2006-348284 and International Publication No. 2006/090804 are suitable.

縮合型ポリオルガノシロキサンの中で、特に好ましい材料について、以下に説明する。
ポリオルガノシロキサンは、一般に半導体発光装置に用いた場合、半導体発光素子や半導体素子を配置する基板、樹脂成形体等との接着性が弱いことがあるが、これらと密着性が高いポリオルガノシロキサンとするため、特に、以下の[1]および[2]のうち1つ以上の特徴を有する縮合型ポリオルガノシロキサンが好ましい。
[1]ケイ素含有率が20重量%以上である。
[2]測定した固体Si−核磁気共鳴(NMR)スペクトルにおいて、下記(a)および/または(b)のSiに由来するピークを少なくとも1つ有する。
Among the condensed polyorganosiloxanes, particularly preferred materials will be described below.
When polyorganosiloxane is generally used in a semiconductor light emitting device, the adhesion between the semiconductor light emitting element, the substrate on which the semiconductor element is disposed, the resin molding, etc. may be weak. Therefore, a condensed polyorganosiloxane having at least one of the following [1] and [2] is particularly preferable.
[1] The silicon content is 20% by weight or more.
[2] The measured solid Si-nuclear magnetic resonance (NMR) spectrum has at least one peak derived from Si in the following (a) and / or (b).

(a)ピークトップの位置がシリコーンゴムを基準としてケミカルシフト−40ppm以上、0ppm以下の領域にあり、ピークの半値幅が0.3ppm以上、3.0ppm以下であるピーク。
(b)ピークトップの位置がシリコーンゴムを基準としてケミカルシフト−80ppm以上、−40ppm以下の領域にあり、ピークの半値幅が0.3ppm以上5.0ppm以下であるピーク。
(A) A peak whose peak top position is in the region of chemical shift −40 ppm or more and 0 ppm or less with reference to silicone rubber, and the peak half-value width is 0.3 ppm or more and 3.0 ppm or less.
(B) A peak whose peak top position is in the region of chemical shift of −80 ppm or more and −40 ppm or less with respect to the silicone rubber, and the peak half-value width is 0.3 ppm or more and 5.0 ppm or less.

また、本発明のベース樹脂としてはフェニル基を含有していることも好ましい。フェニル基を有するポリオルガノシロキサンを用いた樹脂成形体とすることで材料の強度がアップする他、屈折率が上昇するため封止材に用いる樹脂との兼ね合いにより、樹脂成形体と封止材の界面における光の反射ロスを抑えることができる。特に上記(1)で表されるポリオルガノシロキサン1分子中に含まれるSiの個数(mol数)に対しフェニル基の含有数が平均0.8個(mol)以下である場合には、樹脂成形体の屈折率と白色フィラーの屈折率との差を大きくとって、なおかつ封止樹脂との屈折率差を小さくすることが出来、樹脂成形体と封止材の界面における光の反射ロスをより抑えることが出来るために更に好ましい。具体的な白色フィラーを含まない樹脂材料の屈折率としては1.41〜1.54の範囲が好ましい。   Further, the base resin of the present invention preferably contains a phenyl group. In addition to increasing the strength of the material by using a polyorganosiloxane having a phenyl group, the refractive index increases so that the resin molded body and the sealing material Light reflection loss at the interface can be suppressed. In particular, when the average number of phenyl groups is 0.8 (mol) or less with respect to the number (mol) of Si contained in one molecule of the polyorganosiloxane represented by (1) above, resin molding The difference between the refractive index of the body and the refractive index of the white filler can be increased, and the difference in refractive index with the sealing resin can be reduced, further reducing the reflection loss of light at the interface between the resin molded body and the sealing material. Since it can suppress, it is still more preferable. The refractive index of a resin material that does not contain a specific white filler is preferably in the range of 1.41 to 1.54.

また、上記の特徴を有するポリオルガノシロキサンの中でも、反応の進行に伴い脱離する成分の無い付加型ポリオルガノシロキサンが、閉じた金型内での硬化を想定した場合の成形加工性、硬化物の耐熱性(重量変化が少ないこと)等の観点からは好ましい。成形加工方法により、縮合反応の進行に伴い発生する成分の成形加工性への影響が大きくない場合には縮合型ポリオルガノシロキサンも用いることができ、その場合には、特にシラノー
ル含有率が0.01重量%以上、10重量%以下である縮合型ポリオルガノシロキサンが好ましい。より好ましくは、シラノール含有率として3重量%以下である。
In addition, among the polyorganosiloxanes having the above characteristics, addition-type polyorganosiloxane that does not have a component that is eliminated as the reaction progresses is moldable when cured in a closed mold. From the standpoint of heat resistance (small weight change), etc., it is preferable. Condensation type polyorganosiloxane can also be used when the molding process does not significantly affect the molding processability of the components generated with the progress of the condensation reaction. Condensed polyorganosiloxanes having a content of from 01% by weight to 10% by weight are preferred. More preferably, the silanol content is 3% by weight or less.

<2−2.(C)硬化触媒>
本発明における(C)硬化触媒とは(A)ポリオルガノシロキサン樹脂を硬化させる触媒である。ポリオルガノシロキサンは触媒を加えることにより重合反応が早まり硬化する。本発明の樹脂成形体は、ヒドロシリル化反応や縮合反応などにより硬化するが、ヒドロシリル化反応を介して硬化することが好ましい。すなわち、ヒドロシリル化反応で硬化すること、または、ヒドロシリル化反応と縮合反応とを併用して硬化することが好ましい。
<2-2. (C) Curing catalyst>
The (C) curing catalyst in the present invention is a catalyst for curing the (A) polyorganosiloxane resin. The polyorganosiloxane is cured by adding a catalyst to accelerate the polymerization reaction. The resin molded body of the present invention is cured by a hydrosilylation reaction or a condensation reaction, but is preferably cured via a hydrosilylation reaction. That is, it is preferable to cure by a hydrosilylation reaction, or to cure by combining a hydrosilylation reaction and a condensation reaction.

本発明の樹脂成形体がシリコーン樹脂主体の場合は、ポリオルガノシロキサンの硬化機構により付加重合用触媒、縮合重合用触媒がある。付加重合用触媒としては、上記(C1)成分中のアルケニル基と上記(C2)成分中のヒドロシリル基とのヒドロシリル化付加反応を促進するための触媒であり、この付加縮合触媒の例としては、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、白金成分とオレフィン類との錯体およびそれをシリコーンや炭化水素に溶解させたもの、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒、ルテニウム系触媒などの貴金属系触媒が挙げられる。中でも白金系触媒が好ましく、さらには塩化白金酸が好ましい。付加重合用触媒の配合量は、通常白金族金属として上記(C1)及び(C2)成分の合計重量に対して通常0.4ppm以上、好ましくは0.5ppm以上、より好ましくは1ppm以上、さらに好ましくは3ppm以上であり、通常25ppm以下、好ましくは20ppm以下、より好ましくは15ppm以下、さらに好ましくは10ppm以下である。これにより硬化反応速度を高く維持することができると同時に、大量に高価な金属触媒を使用することによる経済性の低さと活性な触媒種の残存による材料の耐久性低下(加熱保管時の着色や耐UV性等)、ならびに可使時間を十分に確保することが可能となる。特に白金成分を含有させることは、電極表面に汎用される銀のマイグレーションを防止する観点からも好ましい。   When the resin molding of the present invention is mainly composed of a silicone resin, there are an addition polymerization catalyst and a condensation polymerization catalyst depending on the curing mechanism of the polyorganosiloxane. The addition polymerization catalyst is a catalyst for promoting a hydrosilylation addition reaction between the alkenyl group in the component (C1) and the hydrosilyl group in the component (C2). Examples of the addition condensation catalyst include: Platinum black, secondary platinum chloride, chloroplatinic acid, reaction product of chloroplatinic acid and monohydric alcohol, complex of platinum component and olefins, and those dissolved in silicone or hydrocarbon, platinum bisacetoacetate, etc. And platinum-based catalysts, palladium-based catalysts, rhodium-based catalysts, and ruthenium-based catalysts. Of these, platinum-based catalysts are preferable, and chloroplatinic acid is more preferable. The blending amount of the catalyst for addition polymerization is usually 0.4 ppm or more, preferably 0.5 ppm or more, more preferably 1 ppm or more, more preferably, based on the total weight of the components (C1) and (C2) as a platinum group metal. Is 3 ppm or more, usually 25 ppm or less, preferably 20 ppm or less, more preferably 15 ppm or less, and even more preferably 10 ppm or less. As a result, the curing reaction rate can be kept high, and at the same time, low cost due to the use of a large amount of expensive metal catalyst and deterioration of the durability of the material due to the remaining active catalyst species (coloration during heating and storage) UV resistance etc.) and pot life can be secured sufficiently. In particular, inclusion of a platinum component is also preferable from the viewpoint of preventing silver migration commonly used on the electrode surface.

縮合重合用触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、有機酸などの酸、アンモニア、アミン類などのアルカリ、金属キレート化合物などを用いることができ、好適なものとしてTi、Ta、Zr、Al、Hf、Zn、Sn、Ptのいずれか1以上を含む金属キレート化合物を用いることができる。なかでも、金属キレート化合物は、Ti、Al、Zn、Zrのいずれか1以上を含むものが好ましく、Zrを含むものがさらに好ましく用いられる。
これらの触媒は半導体発光装置パッケージ材料として配合した際の安定性、被膜の硬度、無黄変性、硬化性などを考慮して選択される。
As the catalyst for condensation polymerization, acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, organic acids, alkalis such as ammonia and amines, metal chelate compounds, and the like can be used, and Ti, Ta, Zr, Al, Hf are preferable. A metal chelate compound containing any one or more of Zn, Sn, and Pt can be used. Among them, the metal chelate compound preferably contains one or more of Ti, Al, Zn, and Zr, and more preferably contains Zr.
These catalysts are selected in consideration of stability when blended as a semiconductor light emitting device package material, film hardness, non-yellowing, curability and the like.

縮合重合用触媒の配合量は、上記式(3)および/または(4)で表される成分の合計重量に対して通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上である。上限値は、通常10重量%以下であり、6重量%以下であることが好ましい。
添加量が上記範囲であると半導体発光装置用樹脂成形体材料の硬化性、保存安定性、樹脂成形体の品質が良好である。添加量が上限値以上と成ると樹脂成形体材料の保存安定性に問題が生じ、下限値未満と成ると硬化時間が長くなり樹脂成形体の生産性の低下、未硬化成分により樹脂成形体の品質が低下する。
The blending amount of the condensation polymerization catalyst is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more with respect to the total weight of the components represented by the above formula (3) and / or (4). The upper limit is usually 10% by weight or less, and preferably 6% by weight or less.
When the addition amount is in the above range, the curability and storage stability of the resin molded body material for a semiconductor light emitting device and the quality of the resin molded body are good. If the amount added exceeds the upper limit value, there will be a problem in the storage stability of the resin molded material. If the amount added is less than the lower limit value, the curing time will become longer and the productivity of the resin molded product will be reduced. Quality deteriorates.

<2−3.(B)フィラー>
本発明においてフィラーは、樹脂の硬化に対して阻害のない公知の無機又は有機フィラーを適宜選択する事が出来る。
本発明においては、上記フィラーは、上記樹脂成形体の断面観察において、樹脂成形体断面100μm2あたりに含まれる粒径0.2μm以上50μm以下のフィラーの個数が100個以上350個以下であることが好ましい。樹脂成形体の破断面に存在するフィラ
ーの数を上記範囲に制御することで、上記フィラーの露出により生じる輝度の低下を防止することができるため好ましい。
<2-3. (B) Filler>
In the present invention, as the filler, a known inorganic or organic filler that does not inhibit the curing of the resin can be appropriately selected.
In the present invention, the number of fillers having a particle diameter of 0.2 μm or more and 50 μm or less contained in 100 μm 2 of the cross section of the resin molded body in the cross section observation of the resin molded body is 100 or more and 350 or less. Is preferred. Controlling the number of fillers present on the fracture surface of the resin molded body within the above range is preferable because it is possible to prevent a decrease in luminance caused by exposure of the filler.

より一層の長期信頼性を有する観点から、樹脂成形体の断面観察において、樹脂成形体断面100μm2あたりに含まれるフィラーの個数が120個以上であることが好ましく、150個以上であることがより好ましい。一方、300個以下であることがより好ましく、280個以下であることが更に好ましい。 From the viewpoint of further long-term reliability, in the cross-sectional observation of the resin molded body, the number of fillers contained in the resin molded body cross section of 100 μm 2 is preferably 120 or more, more preferably 150 or more. preferable. On the other hand, the number is preferably 300 or less, and more preferably 280 or less.

上記樹脂成形体中に含まれるフィラーの測定方法について、以下説明する。
断面観察の具体的方法としては、SEM、ESCA、TEM、SEM−EDXなどの手法が好適に用いられる。
A method for measuring the filler contained in the resin molded body will be described below.
As a specific method for cross-sectional observation, a technique such as SEM, ESCA, TEM, SEM-EDX, or the like is preferably used.

中でも0.2μm以上径の粒子をある面積に亘って観察するという意図から、SEMもしくはESCAが好適に用いられる。
さらにその中でも測定の簡便性から、SEM観察が好ましい。
Among them, SEM or ESCA is preferably used from the intention of observing particles having a diameter of 0.2 μm or more over a certain area.
Among them, SEM observation is preferable from the viewpoint of simplicity of measurement.

樹脂成形体の断面のSEM観察には以下の手法に基づいて観察を行なった。
1)はさみでサンプルを小さく切り出す。
2)2液混合型エポキシで包埋固定する。
3)ライカマイクロシステムズ(株)製のウルトラミクロトームUC6とFC6を用いて、設定温度−120℃でダイヤモンドナイフで切削する
4)切削面を自作装置でイオンエッチング処理を行う。
5)フィルジェン(株)製のオスミウムプラズマコーターで導電処理を行う。
6)HITACHI製のSEM S800で観察を行う。
7)0.2μm径以上50μm径以下の粒子を100μm2中にいくつあるかカウントする。
The SEM observation of the cross section of the resin molded body was performed based on the following method.
1) Cut a small sample with scissors.
2) Embed and fix with two-component mixed epoxy.
3) Using an ultramicrotome UC6 and FC6 manufactured by Leica Microsystems Co., Ltd., and cutting with a diamond knife at a set temperature of −120 ° C. 4) Perform ion etching treatment on the cutting surface with a self-made device.
5) Conductive treatment is performed with an osmium plasma coater manufactured by Philgen.
6) Observe with SEM S800 manufactured by HITACHI.
7) Count the number of particles having a diameter of 0.2 μm or more and 50 μm or less in 100 μm 2 .

上記樹脂成形体断面中のフィラーの個数は、樹脂成形体とフィラーとの接着性により制御できる。すなわち、樹脂成形体とフィラーの接着性が良い場合には、樹脂成形体の破断面のフィラーが樹脂成形体の被膜に覆われており、露出しにくい傾向にある。
本発明の樹脂成形体において、樹脂成形体の断面100μm2あたりに含まれるフィラーの個数は、ベース樹脂に含まれる吸着性官能基量の大小、フィラー表面の活性の高低を調節する表面処理、粘度調節剤の含有により、制御することができる。例えば、ベース樹脂及びフィラー表面にお互いが共有結合、水素結合もしくは配位結合などの化学結合を出来るような官能基を予め導入しておくことが一般的な制御手法として挙げられる。
The number of fillers in the cross section of the resin molded body can be controlled by the adhesiveness between the resin molded body and the filler. That is, when the adhesiveness between the resin molded body and the filler is good, the filler on the fracture surface of the resin molded body is covered with the film of the resin molded body and tends to be difficult to be exposed.
In the resin molded body of the present invention, the number of fillers contained per 100 μm 2 in cross section of the resin molded body is the amount of the adsorptive functional group contained in the base resin, the surface treatment for adjusting the activity level of the filler surface, the viscosity It can be controlled by the inclusion of the regulator. For example, a general control method is to introduce in advance functional groups that can form chemical bonds such as a covalent bond, a hydrogen bond, or a coordinate bond with each other on the surface of the base resin and the filler.

本発明に用いることができる無機フィラーとしては、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化珪素、酸化チタン(チタニア)、酸化亜鉛、酸化マグネシウム等の金属酸化物;炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属塩;窒化硼素、アルミナホワイト、コロイダルシリカ、珪酸アルミニウム、珪酸ジルコニウム、硼酸アルミニウム、クレー、タルク、カオリン、雲母、合成雲母などが挙げられる。
また、有機フィラーとしては、弗素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等の樹脂粒子などを挙げることができるが、いずれもこれらに限定されるものではない。
Examples of the inorganic filler that can be used in the present invention include metal oxides such as aluminum oxide (alumina), silicon oxide, titanium oxide (titania), zinc oxide, and magnesium oxide; calcium carbonate, barium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, Metal salts such as aluminum hydroxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide; boron nitride, alumina white, colloidal silica, aluminum silicate, zirconium silicate, aluminum borate, clay, talc, kaolin, mica, synthetic mica and the like.
In addition, examples of the organic filler include resin particles such as fluorine resin particles, guanamine resin particles, melamine resin particles, acrylic resin particles, and silicone resin particles, but they are not limited to these.

このうち、反射材として高い機能を発揮する観点からは、白色を呈する白色顔料が好ましい。特に可視光の吸収が弱く、屈折率が高いことが好ましく、具体的にはチタニア、アルミナなどが特に好ましい。発光素子の発光波長が410nm以下である場合には、紫外乃至近紫外域の光吸収が少ない観点からアルミナ、酸化ジルコニウムなどが好ましい。ま
た、熱伝導率の観点からは、アルミナ、窒化硼素が好ましい。フィラーは単独もしくは2種以上混合して用いる事が出来る。
Among these, from the viewpoint of exhibiting a high function as a reflecting material, a white pigment exhibiting white is preferable. In particular, the absorption of visible light is weak and the refractive index is preferably high, and specifically, titania, alumina and the like are particularly preferable. When the light emission wavelength of the light emitting element is 410 nm or less, alumina, zirconium oxide, or the like is preferable from the viewpoint of low light absorption in the ultraviolet to near ultraviolet region. From the viewpoint of thermal conductivity, alumina and boron nitride are preferable. A filler can be used individually or in mixture of 2 or more types.

上記アルミナは、アルミニウムの酸化物をいい、結晶形態は問わないが、化学的に安定、融点が高い、機械的強度が大きい、硬度が高い、電気絶縁抵抗が大きい等の特性を持つαアルミナが好適に使用できる。
また、アルミナ中にアルミニウム、酸素以外の元素を不純物として含む場合には可視光領域に吸収を持つために着色するため、好ましくない。好ましくは、クロム、鉄、チタンの含有量がそれぞれ0.02%以下、好ましくは0.01%以下のものを使用できる。また、材料の熱伝導率は高い方が好ましく、熱伝導率を高くするためには、純度98%以上、好ましくは純度99%以上のアルミナを用いることが好ましく、特に低ソーダアルミナが好ましい。
The above-mentioned alumina is an oxide of aluminum, and the crystal form is not limited, but α-alumina having characteristics such as chemically stable, high melting point, high mechanical strength, high hardness, and high electric insulation resistance is used. It can be suitably used.
In addition, when an element other than aluminum or oxygen is contained in alumina as an impurity, it is colored because it has absorption in the visible light region, which is not preferable. Preferably, chromium, iron and titanium contents of 0.02% or less, preferably 0.01% or less can be used. The material preferably has a higher thermal conductivity. In order to increase the thermal conductivity, it is preferable to use alumina having a purity of 98% or more, preferably 99% or more, and particularly preferably low soda alumina.

チタニアとしては具体的には富士チタン工業社製のTA−100、TA−200、TA−300、TA−500、TR−840等が挙げられ、アルミナとしては具体的には日本軽金属社製A30シリーズ、ANシリーズ、A40シリーズ、MMシリーズ、LSシリーズ、AHPシリーズ、アドマテックス社製「Admafine Alumina」AO−5タイプ、AO−8タイプ、日本バイコウスキー社製CRシリーズ、大明化学工業社製タイミクロン、Aldrich社製10μm2径アルミナ粉末、昭和電工社製A−42シリーズ、A−43シリーズ、A−50シリーズ、ASシリーズ、AL−43シリーズ、AL−47シリーズ、AL−160SGシリーズ、A−170シリーズ、AL−170シリーズ、住友化学社製AMシリーズ、ALシリーズ、AMSシリーズ、AESシリーズ、AKPシリーズ、AAシリーズ等が挙げられ、ジルコニアとしては具体的には第一希元素化学工業社製UEP−100等が挙げられ、酸化亜鉛としては具体的にはハクスイテック社製酸化亜鉛2種等が挙げられる。 Specific examples of titania include TA-100, TA-200, TA-300, TA-500, and TR-840 manufactured by Fuji Titanium Industry. Specific examples of alumina include A30 series manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd. , AN series, A40 series, MM series, LS series, AHP series, “Admafine Alumina” manufactured by Admatechs, AO-5 type, AO-8 type, CR series manufactured by Nihon Bikosky Co., Ltd. Aldrich 10 μm 2 diameter alumina powder, Showa Denko A-42 series, A-43 series, A-50 series, AS series, AL-43 series, AL-47 series, AL-160SG series, A-170 Series, AL-170 series, AM series made by Sumitomo Chemical, L series, AMS series, AES series, AKP series, AA series, etc. are listed. Specific examples of zirconia include UEP-100 manufactured by Daiichi Rare Chemicals Co., Ltd., and specific examples of zinc oxide include Hakusuitec. 2 types of zinc oxide manufactured by the company are listed.

上記フィラーは、その一次粒子のアスペクト比が1.0以上4.0以下であることが好ましく、1.0以上3.0以下であることがより好ましい。1.2以上3.0以下であることがさらに好ましく、なかでも1.3以上2.5以下であることがより好ましく、1.4以上2.2以下であることが特に好ましく、1.4以上1.8以下であることが最も好ましい。一次粒子のアスペクト比が上記範囲である場合には、散乱により高反射率を発現しやすく、特に近紫外領域の短波長の光の反射が大きい。さらに、白金の成分含有量が0.4ppm以上25ppm以下の間の場合には、上述したように、成形加工性と経済性の観点からもこの範囲が好ましい。   The filler preferably has an aspect ratio of primary particles of 1.0 or more and 4.0 or less, and more preferably 1.0 or more and 3.0 or less. More preferably, it is 1.2 or more and 3.0 or less, more preferably 1.3 or more and 2.5 or less, particularly preferably 1.4 or more and 2.2 or less, and 1.4 or less. It is most preferable that it is 1.8 or more. When the aspect ratio of the primary particles is in the above range, high reflectivity is likely to be exhibited by scattering, and in particular, reflection of light having a short wavelength in the near ultraviolet region is large. Furthermore, when the platinum component content is between 0.4 ppm and 25 ppm, this range is preferable from the viewpoint of molding processability and economy as described above.

また、上記フィラーとして白色顔料を用いる場合に、一次粒子径が0.1μm以上2μm以下であることが好ましい。下限値については好ましくは0.15μm以上、更に好ましくは0.2μm以上であり、上限値については好ましくは1μm以下、更に好ましくは0.8μm以下、特に好ましくは0.5μm以下である。
一次粒子径が小さすぎると白色顔料は、散乱光強度が小さいため反射率は低くなる傾向があり、一次粒子径が大きすぎると白色顔料は、散乱強度は大きくなるが、前方散乱傾向になるため反射率は小さくなる傾向にある。なお、樹脂組成物中の白色顔料の充填率を上げる等の目的で、一次粒子径が2μmよりも大きい白色顔料を併用することもできる。
Moreover, when using a white pigment as said filler, it is preferable that a primary particle diameter is 0.1 to 2 micrometer. The lower limit is preferably 0.15 μm or more, more preferably 0.2 μm or more, and the upper limit is preferably 1 μm or less, more preferably 0.8 μm or less, and particularly preferably 0.5 μm or less.
If the primary particle diameter is too small, the white pigment tends to have low reflectance because the scattered light intensity is small, and if the primary particle diameter is too large, the white pigment tends to scatter forward, although the scattering intensity will increase. The reflectance tends to be small. A white pigment having a primary particle diameter larger than 2 μm can be used in combination for the purpose of increasing the filling rate of the white pigment in the resin composition.

一方、上記白色顔料は、二次粒子のメディアン径(D50)が、0.2μm以上50μm以下であるものが好ましく、0.2μm以上5μm以下であるものがより好ましい。なお、樹脂組成物中の白色顔料の充填率を上げる等の目的で、二次粒子径が50μmよりも大きい白色顔料を併用することもできる。   On the other hand, the white pigment preferably has a median diameter (D50) of secondary particles of 0.2 to 50 μm, more preferably 0.2 to 5 μm. A white pigment having a secondary particle size larger than 50 μm can be used in combination for the purpose of increasing the filling rate of the white pigment in the resin composition.

本発明における一次粒子とは粉体を構成している粒子のうち、粒子間の界面を明瞭に観
察することができる粒子のことであり、複数の一次粒子が凝集したバルク状粒子は除かれる。一次粒子径はSEMなどの電子顕微鏡観察により計測した一次粒子の粒子径をいい、観察する方向によって面積が異なる粒子の場合には、面積が最大となる方向から観察した際の長軸の長さを、一次粒子径とする。一方、一次粒子が凝集してできる凝集粒子を二次粒子といい、二次粒子径はSEMなどの電子顕微鏡観察以外にも、粉体を適当な分散媒(例えばアルミナの場合は水)に分散させて粒度分析計等で測定した粒径を言う。本明細書中において述べる粒径もしくは粒子径は特に記載しない場合において二次粒子径のことをさす。この粒子径はばらつきがある場合は、複数点(例えば10点)をSEM観察し、その平均値を粒子径としてもとめることができる。また、測定の際、個々の粒子径が球状でない場合はもっとも長い、即ち長軸の長さを粒子径とする。
The primary particles in the present invention are particles that can clearly observe the interface between the particles constituting the powder, and exclude bulk particles in which a plurality of primary particles are aggregated. The primary particle diameter refers to the particle diameter of the primary particles measured by observation with an electron microscope such as SEM. In the case of particles having different areas depending on the observation direction, the length of the major axis when observed from the direction in which the area is maximum. Is the primary particle size. On the other hand, agglomerated particles formed by agglomeration of primary particles are called secondary particles, and the secondary particle size is dispersed in an appropriate dispersion medium (for example, water in the case of alumina) in addition to observation with an electron microscope such as SEM. The particle size measured with a particle size analyzer or the like. The particle diameter or particle diameter described in the present specification refers to the secondary particle diameter unless otherwise specified. When this particle diameter varies, a plurality of points (for example, 10 points) can be observed by SEM, and the average value can be obtained as the particle diameter. In the measurement, when the particle diameter is not spherical, the longest length, that is, the length of the long axis is taken as the particle diameter.

上記フィラーは、(A)ポリオルガノシロキサン樹脂との接着性を上げるため、表面処理することが好ましい。表面処理としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などのカップリング剤で処理することが挙げられる。
このようなカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。
The filler is preferably subjected to a surface treatment in order to improve the adhesiveness with the (A) polyorganosiloxane resin. Examples of the surface treatment include treatment with a coupling agent such as a silane coupling agent and a titanium coupling agent.
Examples of such coupling agents include epoxy functional alkoxy such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and the like. Amino-functional alkoxysilanes such as silane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltri It is preferable to use a mercapto functional alkoxysilane such as methoxysilane.

なお、表面処理に用いるカップリング剤の表面処理方法については、通常の処理方法によって実施されればよく、その方法は特に限定されるものではない。例えばシランカップリング剤を適当な溶媒中に溶解し、この溶液中にフィラーを浸し、溶媒を留去および加熱乾燥する方法などが挙げられる。   In addition, about the surface treatment method of the coupling agent used for surface treatment, what is necessary is just to implement by a normal processing method, and the method is not specifically limited. For example, a method in which a silane coupling agent is dissolved in a suitable solvent, a filler is immersed in this solution, the solvent is distilled off, and heat drying is exemplified.

また、樹脂成形体におけるフィラーの含有量が、(A)ポリオルガノシロキサン樹脂を含むベース樹脂と(B)フィラーの重量比が15〜60:85〜40であると、温度衝撃に強く、樹脂成形体からリードフレームや封止材が剥離しにくく、かつ物理的衝撃に強く割れや欠けが生じない樹脂成形体を得やすくなる。上記範囲は30〜40:70〜60であることがより好ましい。   Further, when the weight ratio of the filler in the resin molded body is (A) the base resin containing the polyorganosiloxane resin and (B) the filler is 15 to 60:85 to 40, the resin molded body is resistant to temperature shock. It is easy to obtain a resin molded body that is difficult to peel off the lead frame and the sealing material from the body and that is resistant to physical impact and does not crack or chip. The above range is more preferably 30-40: 70-60.

さらにまた、成形体の強度アップを図る目的で、またフィラーの一部として、ガラス繊維やガラスファイバー、ガラスパウダー等を用いることもできる。
好ましいガラス繊維やガラスファイバー、ガラスパウダーとしては、具体的には、デンカ社製大粒径シリカFB−40S、セントラル硝子社製EFDE50−31、EGP200−10、EFH75−10、NSG Vetrotex社製REV1、REV7、REV8等が挙げられる。
Furthermore, glass fiber, glass fiber, glass powder, etc. can be used for the purpose of increasing the strength of the molded body and as part of the filler.
Specific examples of preferable glass fiber, glass fiber, and glass powder include Denka's large particle size silica FB-40S, Central Glass's EFDE50-31, EGP200-10, EFH75-10, NSG Vetrotex's REV1, REV7, REV8, etc. are mentioned.

これらの材料の添加に際しても、各々の系に合った種類、適した範囲の含有量を選択することができる。   In addition to the addition of these materials, it is possible to select the type suitable for each system and the content in a suitable range.

<2−4.その他の成分>
本発明の樹脂組成物中には、本発明の要旨を損なわない限り、必要に応じて他の成分を1種、または2種以上、任意の比率及び組み合わせで含有させることができる。
例えば、樹脂組成物の流動性コントロールや白色顔料の沈降抑制の目的で、粒径0.2μm未満のシリカ微粒子を含有させることができる。このシリカ微粒子は本発明におけるフィラーとは定義しない。
上記シリカ微粒子の含有量は、通常、ベース樹脂がシリコーンである場合には、ポリオ
ルガノシロキサン100重量部に対し60重量部以下、好ましくは40重量部以下である。
<2-4. Other ingredients>
In the resin composition of the present invention, as long as the gist of the present invention is not impaired, one or two or more other components can be contained in any ratio and combination as necessary.
For example, silica fine particles having a particle diameter of less than 0.2 μm can be contained for the purpose of controlling fluidity of the resin composition and suppressing sedimentation of the white pigment. This silica fine particle is not defined as a filler in the present invention.
The content of the silica fine particles is usually 60 parts by weight or less, preferably 40 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the polyorganosiloxane when the base resin is silicone.

本発明に使用するシリカ微粒子は、特に限定されるものではないが、BET法による比表面積が、通常0.02m2/g以上、好ましくは10m2/g以上、さらに好ましくは50m2/g以上、よりさらに好ましくは100m2/g以上である。また、通常500m2/g以下、好ましくは200m2/g以下である。比表面積が小さすぎるとシリカ微粒子の添加効果が認められず、大きすぎると樹脂中への分散処理が困難になる。シリカ微粒子は、例えば親水性のシリカ微粒子の表面に存在するシラノール基と表面改質剤を反応させることにより表面を疎水化したものを使用してもよい。 The silica fine particles used in the present invention are not particularly limited, but the specific surface area by the BET method is usually 0.02 m 2 / g or more, preferably 10 m 2 / g or more, more preferably 50 m 2 / g or more. More preferably, it is 100 m 2 / g or more. Moreover, it is 500 m < 2 > / g or less normally, Preferably it is 200 m < 2 > / g or less. If the specific surface area is too small, the addition effect of silica fine particles is not recognized, and if it is too large, dispersion treatment in the resin becomes difficult. As the silica fine particles, for example, those obtained by hydrophobizing the surface by reacting a silanol group present on the surface of the hydrophilic silica fine particles with a surface modifier may be used.

表面改質剤としては、アルキルシラン類の化合物が挙げられ、具体例としてジメチルジクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、オクチルシラン、ジメチルシリコーンオイルなどが挙げられる。   Examples of the surface modifier include alkylsilane compounds, and specific examples include dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane, octylsilane, and dimethylsilicone oil.

シリカ微粒子としては、例えばフュームドシリカを挙げることができ、フュームドシリカは、H2とO2との混合ガスを燃焼させた1100〜1400℃の炎でSiCl4ガスを酸化、加水分解させることにより作製される。フュームドシリカの一次粒子は、平均粒径が5〜50nm程度の非晶質の二酸化ケイ素(SiO2)を主成分とする球状の超微粒子であり、この一次粒子がそれぞれ凝集し、粒径が数百nmである二次粒子を形成する。フュームドシリカは、超微粒子であるとともに、急冷によって作製されるため、表面の構造が化学的に活性な状態となっている。 Examples of the silica fine particles include fumed silica, and fumed silica is obtained by oxidizing and hydrolyzing SiCl 4 gas with a flame of 1100 to 1400 ° C. in which a mixed gas of H 2 and O 2 is burned. Produced. The primary particles of fumed silica are spherical ultrafine particles mainly composed of amorphous silicon dioxide (SiO 2 ) having an average particle size of about 5 to 50 nm. Secondary particles that are several hundred nm are formed. Since fumed silica is an ultrafine particle and is produced by rapid cooling, the surface structure is in a chemically active state.

具体的には、例えば日本アエロジル株式会社製「アエロジル」(登録商標)が挙げられ、親水性アエロジル(登録商標)の例としては、「90」、「130」、「150」、「200」、「300」、疎水性アエロジル(登録商標)の例としては、「R8200」、「R972」、「R972V」、「R972CF」、「R974」、「R202」、「R805」、「R812」、「R812S」、「RY200」、「RY200S」「RX200」が挙げられる。   Specific examples include “Aerosil” (registered trademark) manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., and examples of hydrophilic Aerosil (registered trademark) include “90”, “130”, “150”, “200”, Examples of “300” and hydrophobic Aerosil® include “R8200”, “R972”, “R972V”, “R972CF”, “R974”, “R202”, “R805”, “R812”, “R812S”. ”,“ RY200 ”,“ RY200S ”, and“ RX200 ”.

また、樹脂組成物を成形した成形体の物理特性を調整するため、架橋剤を加えることもできる。架橋剤としては、例えば、下記一般式(6)で表わされる化合物及び/又はその部分加水分解縮合物が好適に用いられる。
7 aSiX4-a ・・・(6)
上記式(6)中、R7は非置換又は置換の一価炭化水素基であり、Xは加水分解性基であり、aは0又は1である。
Moreover, in order to adjust the physical characteristic of the molded object which shape | molded the resin composition, a crosslinking agent can also be added. As the crosslinking agent, for example, a compound represented by the following general formula (6) and / or a partial hydrolysis-condensation product thereof is preferably used.
R 7 a SiX 4-a (6)
In the above formula (6), R 7 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, X is a hydrolyzable group, and a is 0 or 1.

一般式(6)中、R7で表される非置換又は置換の一価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数10以下、好ましくは1〜8、特に好ましくは1〜6の低級アルキル基;ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;(メタ)アクリロイル基;(メタ)アクリロイルオキシ基;シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリル基;ベンジル基、2−フェニルエチル基等のアラルキル基;及び、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子等で置換された基、例えば、クロロメチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等の、炭素原子数1〜10、好ましくは1〜8、特に好ましくは1〜6のものが挙げられる。このうち、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基及びフェニル基であり、特に好ましくはメチル基及びフェニル基である。 In the general formula (6), the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group represented by R 7 is, for example, 10 or less carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, preferably 1 -8, particularly preferably 1-6 lower alkyl groups; alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group; (meth) acryloyl group; (meth) acryloyloxy group; cyclohexyl group, etc. A cycloalkyl group; an allyl group such as a phenyl group, a tolyl group and a naphthyl group; an aralkyl group such as a benzyl group and a 2-phenylethyl group; and a part or all of hydrogen atoms of these groups are substituted with a halogen atom or the like Group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably 1 to 6 carbon atoms such as chloromethyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group And the like. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a vinyl group and a phenyl group are preferable, and a methyl group and a phenyl group are particularly preferable.

一般式(6)中、Xで表される加水分解性基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、メチルエチルケトオキシム基等のケトオキシム基、イソプロペノキシ基等のアルケニルオキシ基、アセトキシ基等のアシロキシ基、ジメチルアミノキシ基等のアミノキシ基等が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。
In the general formula (6), examples of the hydrolyzable group represented by X include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group, ketoxime groups such as methylethyl ketoxime group, and alkenyl such as isopropenoxy group. Examples include an acyloxy group such as an oxy group and an acetoxy group, and an aminoxy group such as a dimethylaminoxy group. An alkoxy group is preferable, and a methoxy group and an ethoxy group are particularly preferable.

一般式(6)で表される化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリス(メトキシエトキシ)シラン等の3官能性アルコキシシラン;テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン等の4官能性アルコキシシラン;メチルトリプロペノキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリ(ブタノキシム)シラン、ビニルトリ(ブタノキシム)シラン、フェニルトリ(ブタノキシム)シラン、プロピルトリ(ブタノキシム)シラン、テトラ(ブタノキシム)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリ(ブタノキシム)シラン、3−クロロプロピルトリ(ブタノキシム)シラン、メチルトリ(プロパノキシム)シラン、メチルトリ(ペンタノキシム)シラン、メチルトリ(イソペンタノキシム)シラン、ビニルトリ(シクロペンタノキシム)シラン、メチルトリ(シクロヘキサノキシム)シラン及びこれらの部分加水分解縮合物等が挙げられ、好ましくはアルコキシシラン類とその部分加水分解縮合物である。   Specific examples of the compound represented by the general formula (6) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, and vinyltrimethoxysilane. , Trifunctional alkoxysilanes such as phenyltrimethoxysilane and methyltris (methoxyethoxy) silane; tetrafunctional alkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane and tetrapropoxysilane; methyltripropenoxysilane, methyltriacetoxysilane, Vinyltriacetoxysilane, methyltri (butanoxime) silane, vinyltri (butanoxime) silane, phenyltri (butanoxime) silane, propyltri (butanoxime) silane, tetra (butanoxime) Silane, 3,3,3-trifluoropropyltri (butanoxime) silane, 3-chloropropyltri (butanoxime) silane, methyltri (propanoxime) silane, methyltri (pentanoxime) silane, methyltri (isopentanoxime) silane, vinyltri ( Cyclopentanoxime) silane, methyltri (cyclohexanoxime) silane and partial hydrolysis condensates thereof, and the like, preferably alkoxysilanes and partial hydrolysis condensates thereof.

樹脂組成物中に含まれる架橋剤の配合量は、ベース樹脂の主成分がポリオルガノシロキサンである場合には、当該ポリオルガノシロキサン100質量部に対して通常、0質量部より大きく、30質量部以下である。好ましくは20質量部以下であり、特に好ましくは10質量部以下である。配合量が上記範囲であることで、樹脂に適切な硬度と柔軟性を付与することができる。   When the main component of the base resin is a polyorganosiloxane, the amount of the crosslinking agent contained in the resin composition is usually greater than 0 parts by weight and 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosiloxane. It is as follows. Preferably it is 20 mass parts or less, Most preferably, it is 10 mass parts or less. When the blending amount is within the above range, appropriate hardness and flexibility can be imparted to the resin.

また、樹脂成形体の弾性を高めて物理的特性を改善する目的において、粉状シリコーンゴムなどのゴム状弾性体を添加することも好ましい。
添加量としては、樹脂成形体100質量部に対して通常、0質量部より大きく、30質量部以下である。好ましくは20質量部以下であり、特に好ましくは5質量部以下である。配合量が上記範囲であることで、樹脂成形体の強度が良好となる。
It is also preferable to add a rubbery elastic body such as powdered silicone rubber for the purpose of improving the physical properties by increasing the elasticity of the resin molded body.
As addition amount, it is larger than 0 mass part with respect to 100 mass parts of resin moldings, and is 30 mass parts or less normally. Preferably it is 20 mass parts or less, Most preferably, it is 5 mass parts or less. When the blending amount is in the above range, the strength of the resin molded body is improved.

さらに、樹脂組成物を成形した成形体の物理特性を調整するためと、可使時間の最適化を目的として、硬化遅延剤(触媒制御剤)を加えることもできる。硬化遅延剤としては、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられ、これらを併用してもかまわない。   Further, a curing retarder (catalyst control agent) can be added for the purpose of adjusting the physical properties of the molded article obtained by molding the resin composition and optimizing the pot life. Examples of the curing retarder include a compound containing an aliphatic unsaturated bond, an organic phosphorus compound, an organic sulfur compound, a nitrogen-containing compound, a tin-based compound, and an organic peroxide, and these may be used in combination.

脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、3−ヒドロキシ−3−フェニル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、ジメチルマレート等のマレイン酸エステル類等が例示される。有機リン化合物としては、トリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示される。有機イオウ化合物としては、オルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示される。窒素含有化合物としては、アンモニア、1〜3級アルキルアミン類、アリールアミン類、尿素、ヒドラジン等が例示される。スズ系化合物としては、ハロゲン化第一スズ2水和物、カルボン酸第一スズ等が例示される。有機過酸化物としては、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸t−ブチル等が例示される。   Examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include propargyl alcohols such as 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne, 3-hydroxy-3-phenyl-1-butyne and 1-ethynyl-1-cyclohexanol. And maleate esters such as ene-yne compounds and dimethyl malate. Examples of the organophosphorus compound include triorganophosphine, diorganophosphine, organophosphon, and triorganophosphite. Examples of organic sulfur compounds include organomercaptans, diorganosulfides, hydrogen sulfide, benzothiazole, thiazole, benzothiazole disulfide and the like. Examples of the nitrogen-containing compound include ammonia, primary to tertiary alkylamines, arylamines, urea, hydrazine and the like. Examples of tin compounds include stannous halide dihydrate and stannous carboxylate. Examples of the organic peroxide include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl perbenzoate.

これらの硬化遅延剤のうち、遅延活性が良好で原料入手性がよいという観点からは、ベンゾチアゾール、チアゾール、ジメチルマレート、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノールが好ましい。   Among these curing retarders, from the viewpoint of good retarding activity and good raw material availability, benzothiazole, thiazole, dimethyl malate, 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne, 1-ethynyl-1- Cyclohexanol is preferred.

硬化遅延剤の添加量は種々設定できるが、使用する(C)硬化触媒1molに対する好ましい添加量の下限は10-1モル、より好ましくは1モルであり、好ましい添加量の上限は103モル、より好ましくは50モルである。また、これらの硬化遅延剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。 Although the addition amount of the curing retarder can be variously set, the lower limit of the preferable addition amount relative to 1 mol of the (C) curing catalyst to be used is 10 −1 mol, more preferably 1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 3 mol. More preferably, it is 50 mol. Moreover, these hardening retarders may be used independently and may be used together 2 or more types.

また、樹脂組成物を成形した成形体の物理特性を調整するため、脂環式の炭化水素基を有する化合物を加えることも好ましい。脂環式の炭化水素基を有する化合物としては、シクロヘキシル基やノルボルニル基を有するシランカップリング剤や、ビニル基を有するシクロヘキサン系有機化合物が挙げられ、特にトリビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキサン、ビニルノルボルネンが好ましい。
上記脂環式の炭化水素基を有する化合物の含有量は適宜設定できるが、樹脂成形体100重量部当たり0重量部より多く、10重量部以下であることが好ましい。
It is also preferable to add a compound having an alicyclic hydrocarbon group in order to adjust the physical properties of the molded article obtained by molding the resin composition. Examples of the compound having an alicyclic hydrocarbon group include a silane coupling agent having a cyclohexyl group or a norbornyl group, and a cyclohexane-based organic compound having a vinyl group, and trivinylcyclohexane, vinylcyclohexane, and vinylnorbornene are particularly preferable. .
The content of the compound having an alicyclic hydrocarbon group can be appropriately set, but is preferably more than 0 parts by weight and 10 parts by weight or less per 100 parts by weight of the resin molded body.

また、樹脂組成物の熱硬化後の強度、靭性を高める目的で、ガラス繊維などの無機物繊維を含有させてもよく、また、熱伝導性を高めたるため、熱伝導率の高い窒化ホウ素、窒化アルミ、繊維状アルミナ等を前述の白色顔料とは別に含有させることができる。その他、硬化物の線膨張係数を下げる目的で、石英ビーズ、ガラスビーズ等を含有させることができる。
これらの添加する場合の含有量は、少なすぎると目的の効果か得られず、多すぎると樹脂組成物の粘度が上がり、加工性に影響するので、十分な効果が発現し、材料の加工性を損なわない範囲で適宜選択できる。通常、ポリオルガノシロキサン100重量部に対し100重量部以下、好ましくは60重量部以下である。
In addition, for the purpose of increasing the strength and toughness of the resin composition after thermosetting, inorganic fibers such as glass fibers may be included. In addition, in order to increase the thermal conductivity, boron nitride or nitride having high thermal conductivity. Aluminum, fibrous alumina or the like can be contained separately from the above-mentioned white pigment. In addition, for the purpose of lowering the linear expansion coefficient of the cured product, quartz beads, glass beads and the like can be contained.
If the content of these additives is too small, the desired effect cannot be obtained. If the content is too large, the viscosity of the resin composition increases and affects processability. Can be appropriately selected within a range not impairing the above. Usually, it is 100 parts by weight or less, preferably 60 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyorganosiloxane.

また上記樹脂組成物中には、その他、イオンマイグレーション(エレクトロケミカルマイグレーション)防止剤、硬化促進剤、硬化遅延剤、老化防止剤、ラジカル禁止剤、紫外線吸収剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定改良剤、オゾン劣化防止剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、カップリング剤、酸化防止剤、熱安定剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線遮断剤、核剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤などを本発明の目的および効果を損なわない範囲において含有させることができる。   In addition, the resin composition includes other ion migration (electrochemical migration) inhibitors, curing accelerators, curing retarders, anti-aging agents, radical inhibitors, ultraviolet absorbers, adhesion improvers, flame retardants, interfaces. Activator, Storage stability improver, Ozone degradation inhibitor, Light stabilizer, Thickener, Plasticizer, Coupling agent, Antioxidant, Thermal stabilizer, Conductivity imparting agent, Antistatic agent, Radiation blocker, Nuclear An agent, a phosphorus peroxide decomposing agent, a lubricant, a pigment, a metal deactivator, a physical property adjusting agent and the like can be contained within a range not impairing the object and effect of the present invention.

なお、これら以外にカップリング剤を添加することも成形体の物理特性をより一層制御する観点から好ましい。一部はフィラー表面修飾剤や架橋剤の箇所でも紹介したが、好ましいカップリング剤としては例えばシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性のケイ素基を各々少なくとも1個有する化合物であれば特に限定されない。有機基と反応性のある基としては、取扱い性の点からエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基から選ばれる少なくとも1個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。加水分解性のケイ素基としては取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。   In addition to these, addition of a coupling agent is also preferable from the viewpoint of further controlling the physical properties of the molded body. Some have been introduced in terms of filler surface modifiers and crosslinking agents, but preferred coupling agents include, for example, silane coupling agents. The silane coupling agent is not particularly limited as long as it is a compound having at least one functional group reactive with an organic group and one hydrolyzable silicon group in the molecule. The group reactive with the organic group is preferably at least one functional group selected from an epoxy group, a methacryl group, an acrylic group, an isocyanate group, an isocyanurate group, a vinyl group, and a carbamate group from the viewpoint of handling. From the viewpoints of adhesiveness and adhesiveness, an epoxy group, a methacryl group, and an acrylic group are particularly preferable. As the hydrolyzable silicon group, an alkoxysilyl group is preferable from the viewpoint of handleability, and a methoxysilyl group and an ethoxysilyl group are particularly preferable from the viewpoint of reactivity.

好ましいシランカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するアルコキシシラン類;3−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類が例示できる。
Preferred silane coupling agents include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4- (Epoxycyclohexyl) alkoxysilanes having an epoxy functional group such as ethyltriethoxysilane; 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyl Methacrylic or acrylic groups such as triethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, acryloxymethyltrimethoxysilane, acryloxymethyltriethoxysilane Alkoxysilanes having can be exemplified.

<3.本発明の半導体発光装置用樹脂成形体の製造方法>
本発明の半導体発光装置用樹脂成形体の成形方法として圧縮成形法やトランスファー成形法や射出成形法が挙げられる。これらのうち、好ましい成形法としては、無駄な硬化物が発生せず二次加工が不要である点から、射出成形法、特に液状射出成形法(LIM成形)が好ましい。射出成形法によれば、樹脂成形体の成形工程の自動化、成形サイクルの短縮化、成形品のコスト削減が可能になる等大きなメリットがある。
<3. Manufacturing Method of Resin Molded Body for Semiconductor Light Emitting Device of the Present Invention>
Examples of the molding method of the resin molded body for a semiconductor light emitting device of the present invention include a compression molding method, a transfer molding method and an injection molding method. Among these, as a preferable molding method, an injection molding method, particularly a liquid injection molding method (LIM molding) is preferable because no unnecessary cured product is generated and secondary processing is unnecessary. According to the injection molding method, there are significant advantages such as automation of the molding process of the resin molded body, shortening of the molding cycle, and cost reduction of the molded product.

樹脂成形体は、成形加工前の操作温度として一貫して45℃以下であり、かつ成形加工時の成形温度が300℃以下であることが好ましい。   It is preferable that the resin molded body is consistently 45 ° C. or lower as the operating temperature before the molding process, and the molding temperature during the molding process is 300 ° C. or lower.

圧縮成形法ではコンプレッション成形機を用いて行う事が出来る。成形温度は材料に応じて適宜選択すればよいが、通常80℃以上、300℃以下、好ましくは100℃以上、250℃以下、さらに好ましくは、130℃以上、200℃以下である。成形時間は材料の硬化速度に応じて適宜選択すればよいが、通常3秒以上、1200秒以下、好ましくは5秒以上、900秒以下、さらに好ましくは10秒以上、600秒以下である。   The compression molding method can be performed using a compression molding machine. The molding temperature may be appropriately selected according to the material, but is usually 80 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, and more preferably 130 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. The molding time may be appropriately selected according to the curing rate of the material, but is usually 3 seconds or more and 1200 seconds or less, preferably 5 seconds or more and 900 seconds or less, more preferably 10 seconds or more and 600 seconds or less.

トランスファー成形法ではトランスファー成形機を用いて行う事が出来る。成形温度は材料に応じて適宜選択すればよいが、通常80℃以上、300℃以下、好ましくは100℃以上、250℃以下、さらに好ましくは、130℃以上、200℃以下である。成形時間は材料のゲル化速度や硬化速度に応じて適宜選択すればよいが、通常3秒以上、1200秒以下、好ましくは5秒以上、900秒以下、さらに好ましくは10秒以上、600秒以下である。   The transfer molding method can be performed using a transfer molding machine. The molding temperature may be appropriately selected according to the material, but is usually 80 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, and more preferably 130 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. The molding time may be appropriately selected depending on the gelation speed and curing speed of the material, but usually 3 seconds or more and 1200 seconds or less, preferably 5 seconds or more and 900 seconds or less, more preferably 10 seconds or more and 600 seconds or less. It is.

射出成形法では射出成形機を用いて行う事が出来る。シリンダー設定温度は材料に応じて適宜選択すればよいが、通常100℃以下、好ましくは80℃以下、さらに好ましくは、60℃以下である。金型温度は80℃以上、300℃以下、好ましくは100℃以上、250℃以下、さらに好ましくは、130℃以上、200℃以下である。射出時間は材料によって変わるが、通常数秒あるいは1秒以下である。成形時間は材料のゲル化速度や硬化速度に応じて適宜選択すればよいが、通常3秒以上、1200秒以下、好ましくは5秒以上、900秒以下、さらに好ましくは10秒以上、600秒以下である。   The injection molding method can be performed using an injection molding machine. The cylinder set temperature may be appropriately selected according to the material, but is usually 100 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or lower, and more preferably 60 ° C. or lower. The mold temperature is 80 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, more preferably 130 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. The injection time varies depending on the material, but is usually several seconds or less than 1 second. The molding time may be appropriately selected depending on the gelation speed and curing speed of the material, but usually 3 seconds or more and 1200 seconds or less, preferably 5 seconds or more and 900 seconds or less, more preferably 10 seconds or more and 600 seconds or less. It is.

いずれの成形法でも必要に応じて後硬化を行う事ができ、後硬化温度は100℃以上、300℃以下、好ましくは150℃以上、250℃以下、さらに好ましくは、170℃以上、200℃以下である。後硬化時間は通常3分間以上、24時間以下、好ましくは5分間以上、10時間以下、さらに好ましくは10分間以上、5時間以下である。   In any molding method, post-curing can be performed as necessary, and the post-curing temperature is 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, preferably 150 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. It is. The post-curing time is usually 3 minutes or more and 24 hours or less, preferably 5 minutes or more and 10 hours or less, more preferably 10 minutes or more and 5 hours or less.

本発明の樹脂成形体は、成形の際に金属配線と共に成形することで、半導体発光装置用パッケージとすることができる。例えば、金属配線として配線を有する基板を作成し、基板上に金型を用いて樹脂成形体を射出成形する方法や、金属配線としてリードフレームを金型に配置して樹脂成形体を射出成形する方法などにより製造することができる。   The resin molded body of the present invention can be made into a package for a semiconductor light-emitting device by molding together with metal wiring during molding. For example, a substrate having wiring as metal wiring is created, and a resin molded body is injection molded using a mold on the substrate, or a resin-molded body is injection molded by placing a lead frame on the mold as metal wiring. It can be manufactured by a method or the like.

<4.半導体発光装置>
本発明の半体導体発光装置用パッケージは、通常半導体発光素子を搭載して半導体発光装置として用いられる。半導体発光装置の概要を、図を用いて説明するが、本発明は以下
の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変形して実施することができる。
図1、図2には、半導体発光装置の一例が示され、半導体発光素子(LEDチップ)1、樹脂成形体2および金属リードフレーム5からなるパッケージ、ボンディングワイヤー3、封止材4等から構成される。
図1では封止材中に蛍光体粒子が分散しており、蛍光体層を兼ねている。一方、図2のように蛍光体層6を封止材とは別に、半導体発光素子と離れて配置することもできる。
<4. Semiconductor light emitting device>
The half-conductor light emitting device package of the present invention is usually used as a semiconductor light emitting device with a semiconductor light emitting element mounted thereon. The outline of the semiconductor light emitting device will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and can be arbitrarily modified without departing from the gist of the present invention.
1 and 2 show an example of a semiconductor light emitting device, which is composed of a semiconductor light emitting element (LED chip) 1, a package comprising a resin molded body 2 and a metal lead frame 5, a bonding wire 3, a sealing material 4 and the like. Is done.
In FIG. 1, the phosphor particles are dispersed in the sealing material, which also serves as the phosphor layer. On the other hand, as shown in FIG. 2, the phosphor layer 6 can be arranged apart from the semiconductor light emitting element, separately from the sealing material.

半導体発光素子1は、近紫外領域の波長を有する光を発する近紫外半導体発光素子、紫領域の波長の光を発する紫半導体発光素子、青領域の波長の光を発する青色半導体発光素子などを用いることが可能であり、350nm以上520nm以下の波長を有する光を発する。図1及び図2においては半導体発光素子が1つのみ記載されているが、複数個の半導体発光素子を線状、平面状に配置することも可能である。半導体発光素子1を平面状に配置することで、容易に面照明とすることができ、該実施形態は、より出力を強くしたい場合に好適である。   The semiconductor light emitting device 1 uses a near ultraviolet semiconductor light emitting device that emits light having a wavelength in the near ultraviolet region, a purple semiconductor light emitting device that emits light in a purple region, a blue semiconductor light emitting device that emits light in a blue region, and the like. It emits light having a wavelength of 350 nm or more and 520 nm or less. Although only one semiconductor light emitting element is shown in FIGS. 1 and 2, it is also possible to arrange a plurality of semiconductor light emitting elements in a linear or planar shape. By arranging the semiconductor light emitting element 1 in a planar shape, it is possible to easily achieve surface illumination, and this embodiment is suitable when it is desired to further increase the output.

パッケージを形成する樹脂成形体2は、リードフレーム5と共に成形される。パッケージの形状は特段限定されず平面型でもカップ型でもよいが、光に指向性を持たせる観点からカップ型とすることが好ましい。リードフレーム5は導電性の金属からなり、半導体発光装置外からの電源供給を行い、半導体発光素子1に通電する役割を果たす。   The resin molded body 2 forming the package is molded together with the lead frame 5. The shape of the package is not particularly limited and may be a planar type or a cup type, but is preferably a cup type from the viewpoint of imparting directivity to light. The lead frame 5 is made of a conductive metal and plays a role of supplying power from outside the semiconductor light emitting device and energizing the semiconductor light emitting element 1.

ボンディングワイヤー3は、半導体発光素子1をパッケージに固定する。また、半図2のように、導体発光素子1が電極となるリードフレーム5と接触していない場合には、導電性のボンディングワイヤー3が半導体発光素子1への電極供給の役割を担う。ボンディングワイヤー3は、リードフレーム5に圧着し、熱及び超音波の振動を与えることで接着させるが、リードフレーム5の表面が銀または銀合金である場合には、当該接着性が向上し、好ましい。   The bonding wire 3 fixes the semiconductor light emitting element 1 to the package. As shown in FIG. 2, when the conductor light emitting element 1 is not in contact with the lead frame 5 that serves as an electrode, the conductive bonding wire 3 plays a role of supplying an electrode to the semiconductor light emitting element 1. The bonding wire 3 is bonded to the lead frame 5 by applying pressure and vibration of heat and ultrasonic waves. However, when the surface of the lead frame 5 is made of silver or a silver alloy, the adhesion is improved, which is preferable. .

封止材4は、バインダー樹脂に蛍光体を混合させた混合物であり、封止材中に含まれる蛍光体が半導体発光素子1からの励起光を蛍光に変換する。本実施形態においては、封止材が蛍光体層の役割を兼ねている。封止材4に含まれる蛍光体は、半導体発光素子1の励起光の波長に応じて適宜選択される。白色光を発する発光装置において、青色励起光を発する半導体発光素子を励起光源とする場合であれば、緑色及び赤色の蛍光体を蛍光体層に含ませることで白色光を生成することができる。紫色励起光を発する半導体発光素子の場合であれば、青色及び黄色の蛍光体を蛍光体層に含ませる場合や、青色、緑色、及び赤色の蛍光体を蛍光体層に含ませる場合などが挙げられる。
封止材4に含まれるバインダー樹脂は、従来封止材に用いられている透光性のものを適宜選択することが可能であり、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などが用いられるが、シリコーン樹脂を用いることが好ましい。
The encapsulant 4 is a mixture in which a phosphor is mixed with a binder resin, and the phosphor contained in the encapsulant converts excitation light from the semiconductor light emitting element 1 into fluorescence. In the present embodiment, the sealing material also serves as the phosphor layer. The phosphor contained in the sealing material 4 is appropriately selected according to the wavelength of the excitation light of the semiconductor light emitting device 1. In a light emitting device that emits white light, if a semiconductor light emitting element that emits blue excitation light is used as an excitation light source, white light can be generated by including green and red phosphors in the phosphor layer. In the case of a semiconductor light emitting device that emits purple excitation light, there are cases where blue and yellow phosphors are included in the phosphor layer, and blue, green, and red phosphors are included in the phosphor layer. It is done.
As the binder resin contained in the sealing material 4, it is possible to appropriately select a translucent resin conventionally used in sealing materials, and epoxy resins, silicone resins, acrylic resins, polycarbonate resins, and the like are used. However, it is preferable to use a silicone resin.

封止材4は、蛍光体を混合せず封止の役割のみを持たせ、蛍光体層を別に構成する態様も本発明の実施の態様である。例えば図2のように、樹脂成形体2を覆うように透明基板(図示せず)を用意し、その上に蛍光体層6を形成する態様も考えられる。このような態様の場合、半導体発光素子1と蛍光体層6とが距離をあけて配置されているため、蛍光体層6の劣化を防ぐことができ、また発光装置の出力も向上させることができる。半導体発光素子1と蛍光体層6との距離は、1〜500mmであることが好ましく、5〜500mmであることがより好ましい。   An embodiment in which the sealing material 4 does not mix phosphors but has only a sealing role and is configured separately from the phosphor layer is also an embodiment of the present invention. For example, as shown in FIG. 2, a mode in which a transparent substrate (not shown) is prepared so as to cover the resin molded body 2 and the phosphor layer 6 is formed thereon is also conceivable. In such an embodiment, since the semiconductor light emitting element 1 and the phosphor layer 6 are arranged at a distance, the deterioration of the phosphor layer 6 can be prevented, and the output of the light emitting device can be improved. it can. The distance between the semiconductor light emitting element 1 and the phosphor layer 6 is preferably 1 to 500 mm, and more preferably 5 to 500 mm.

図1においては、樹脂成形体2に半導体発光素子1が直接搭載されており、半導体発光素子1が搭載された箇所の樹脂成形体2の厚さは、通常100μm以上、好ましくは20
0μm以上である。また、通常3000μm以下であり好ましくは2000μm以下である。厚みが薄すぎると底面に光が透過して反射率が低下する傾向があり、パッケージの強度が不十分で取り扱い上変形する、などの問題が生じるおそれがあり、厚すぎるとパッケージ自体も厚く嵩高くなるため、半導体発光装置の適用用途が限られる可能性がある。
In FIG. 1, the semiconductor light emitting element 1 is directly mounted on the resin molded body 2, and the thickness of the resin molded body 2 where the semiconductor light emitting element 1 is mounted is usually 100 μm or more, preferably 20
0 μm or more. Moreover, it is 3000 micrometers or less normally, Preferably it is 2000 micrometers or less. If the thickness is too thin, light tends to be transmitted to the bottom surface and the reflectivity tends to decrease, which may cause problems such as insufficient strength of the package and deformation in handling. If it is too thick, the package itself becomes thick and bulky. Therefore, the application of the semiconductor light emitting device may be limited.

以下、本発明について実施例を挙げより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例により何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited at all by the following example.

[白金溶液A〜Dの調製]
10mLのスクリュー管に、フェニル基非含有シリコーンH(ビニル基:1.2mmol/g含有、白金:6.8ppm含有)2.5g、および0.1MのPlatinum(0)−1,3−divinyl−1,1,3,3−tetramethyldisiloxane complex in Vinyl terminated poly(dimethylsiloxane)0.13gを添加して室温下30分間回転子にて攪拌し、白金濃度1070ppmの白金溶液Aを得た。
[Preparation of platinum solutions A to D]
To a 10 mL screw tube, phenyl group-free silicone H (vinyl group: 1.2 mmol / g contained, platinum: 6.8 ppm contained) 2.5 g, and 0.1 M Platinum (0) -1,3-divinyl- 0.13 g of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex in vinyl terminated poly (dimethylsiloxane) was added and stirred with a rotor at room temperature for 30 minutes to obtain a platinum solution A having a platinum concentration of 1070 ppm.

10mLのスクリュー管に、フェニル基非含有シリコーンK(ビニル基:0.04mmol/g含有)2.5g、および0.1MのPlatinum(0)−1,3−divinyl−1,1,3,3−tetramethyldisiloxane complex in Vinyl terminated poly(dimethylsiloxane)0.13gを添加して室温下30分間回転子にて攪拌し、白金濃度1064ppmの白金溶液Bを得た。   To a 10 mL screw tube, phenyl group-free silicone K (vinyl group: 0.04 mmol / g contained) 2.5 g, and 0.1 M Platinum (0) -1,3-divinyl-1,1,3,3 -0.13 g of tetramethyldisiloxane complex in vinyl terminated poly (dimethylsiloxane) was added and stirred with a rotor at room temperature for 30 minutes to obtain a platinum solution B having a platinum concentration of 1064 ppm.

10mLのスクリュー管に、フェニル基非含有シリコーンH(ビニル基:1.24mmol/g含有、白金:6.8ppm含有)2.5g、および塩化白金酸(IV)0.0073g(白金濃度:376675ppm)を添加して室温下30分間回転子にて攪拌し、白金濃度1094ppmの白金溶液Cを得た。   In a 10 mL screw tube, phenyl group-free silicone H (vinyl group: 1.24 mmol / g contained, platinum: 6.8 ppm contained) 2.5 g, and chloroplatinic acid (IV) 0.0073 g (platinum concentration: 376675 ppm) Was added and stirred with a rotor for 30 minutes at room temperature to obtain a platinum solution C having a platinum concentration of 1094 ppm.

10mLのスクリュー管に、フェニル基非含有シリコーンK(ビニル基:0.04mmol/g)6g、および塩化白金酸(IV)0.0016g(白金濃度:376675ppm)を添加して室温下30分間回転子にて攪拌し、白金濃度100.4ppmの白金溶液Dを得た。   To a 10 mL screw tube, 6 g of phenyl group-free silicone K (vinyl group: 0.04 mmol / g) and 0.0016 g of chloroplatinic acid (IV) (platinum concentration: 376675 ppm) were added, and the rotor was kept at room temperature for 30 minutes. And a platinum solution D having a platinum concentration of 100.4 ppm was obtained.

[樹脂組成物1の調製]
上記得られた白金溶液A 0.06gに、さらにフェニル基非含有シリコーンHを2.94g加えて、室温下回転子にて30分間攪拌を行なった。そこにフェニル基非含有シリコーンI(ビニル基:0.3mmol/g含有、ヒドロシリル基:1.8mmol/g含有)を3.0g添加し、室温下回転子にて15分間攪拌を行い、白金濃度が14.0ppmである樹脂組成物1を得た。樹脂組成物1は、攪拌後粘度が増加していることが認められた。さらに、樹脂組成物1を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱硬化させた硬化物について、着色度合いを測定した。測定結果は、YI値が1.8、APHA値が30であり、ほとんど着色は認められなかった。
ここで、着色度合いの指標としているYI(Yellowness Index)値は米国材料試験協会(American Society for Testing and Materials)により定められた黄色度の指標であり、ASTM E 313規格では理想上の白色(完全拡散反射面)を黄色度0とし、この白色からの距離がYI値と定義される。またAPHA値は、米国公共衛生協会(American Public Health Association)の色差標準値で、ハーゼン色数とも言われる黄色味の指標であり、ASTM D 1209規格では値が大きいほど黄色味が濃いことを示す。なお、YI値とAPHA値の測定に際しては、日本電色工業株式会社製 測色色差計(Color Meter) 型番ZE−2000を使用した。以降の実施例においても同様である。
[Preparation of Resin Composition 1]
2.94 g of phenyl group-free silicone H was further added to 0.06 g of the obtained platinum solution A, and the mixture was stirred for 30 minutes with a rotor at room temperature. Thereto, 3.0 g of phenyl group-free silicone I (vinyl group: 0.3 mmol / g contained, hydrosilyl group: 1.8 mmol / g contained) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes with a rotor to obtain a platinum concentration. Obtained the resin composition 1 which is 14.0 ppm. The resin composition 1 was found to have increased viscosity after stirring. Furthermore, the coloring degree was measured about the hardened | cured material which made the resin composition 1 1 mm thick, was pinched | interposed with two slide glasses, and was heat-hardened at 150 degreeC for 30 minutes. As a result of the measurement, the YI value was 1.8 and the APHA value was 30, and almost no coloring was observed.
Here, the YI (Yellowness Index) value, which is an index of the degree of coloring, is an index of yellowness determined by the American Society for Testing and Materials, and is ideal white (completely in the ASTM E313 standard) The diffuse reflection surface) has a yellowness of 0, and the distance from this white is defined as the YI value. The APHA value is a color difference standard value of the American Public Health Association and is an index of yellowishness, which is also called Hazen color number. In the ASTM D 1209 standard, the higher the value, the deeper the yellowishness. . In measuring the YI value and the APHA value, a colorimetry color difference meter (Color Meter) model number ZE-2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. was used. The same applies to the following embodiments.

[樹脂組成物2の調製]
上記得られた白金溶液Aを0.03g、フェニル基非含有シリコーンHを2.97gとした以外は樹脂組成物1と同様にして混合液を調製し、白金濃度が8.7ppmである樹脂組成物2を得た。樹脂組成物2は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物2を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱硬化させた硬化物について、着色度合いを測定した。測定結果は、YI値が1.5、APHA値が25であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 2]
A mixed solution was prepared in the same manner as the resin composition 1 except that 0.03 g of the obtained platinum solution A and 2.97 g of phenyl group-free silicone H were used, and a resin composition having a platinum concentration of 8.7 ppm. Product 2 was obtained. In the resin composition 2, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, the coloring degree was measured about the hardened | cured material which made the resin composition 2 1 mm thick, was pinched | interposed with two slide glasses, and was heat-hardened at 150 degreeC for 30 minutes. The measurement results were a YI value of 1.5 and an APHA value of 25, and almost no coloration was observed.

[樹脂組成物3の調製]
上記得られた白金溶液Aを0.015g、フェニル基非含有シリコーンHを2.985gとした以外は樹脂組成物1と同様にして混合液を調製し、白金濃度が6.1ppmである樹脂組成物3を得た。樹脂組成物3は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物3を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱硬化させた硬化物について、着色度合いを測定した。測定結果は、YI値が0.5、APHA値が5であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 3]
A mixed solution was prepared in the same manner as the resin composition 1 except that 0.015 g of the obtained platinum solution A and 2.985 g of the phenyl group-free silicone H were used, and a resin composition having a platinum concentration of 6.1 ppm. Product 3 was obtained. In the resin composition 3, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, the coloring degree was measured about the hardened | cured material which made the resin composition 3 1 mm thick, was pinched | interposed with two slide glasses, and was heat-hardened at 150 degreeC for 30 minutes. As a result of the measurement, the YI value was 0.5, the APHA value was 5, and almost no coloring was observed.

[樹脂組成物4の調製]
上記得られた白金溶液Aを使用せずに、フェニル基非含有シリコーンHを3.0gとした以外は樹脂組成物1と同様にして混合液を調製し、白金濃度が3.4ppmである樹脂組成物4を得た。樹脂組成物4は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物4を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱硬化させた硬化物について、着色度合いを測定した。測定結果は、YI値が1.1、APHA値が18であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 4]
Resin having a platinum concentration of 3.4 ppm, prepared in the same manner as the resin composition 1, except that the platinum group-free silicone H was changed to 3.0 g without using the obtained platinum solution A. Composition 4 was obtained. In the resin composition 4, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, the coloring degree was measured about the hardened | cured material which made the resin composition 4 1 mm thick, was pinched | interposed with two slide glasses, and was heat-hardened at 150 degreeC for 30 minutes. The measurement results were a YI value of 1.1 and an APHA value of 18, and almost no coloration was observed.

[比較樹脂組成物1の調製]
上記得られた白金溶液A 0.3gに、さらにフェニル基非含有シリコーンHを2.7g加えて、室温下回転子にて30分間攪拌を行なった。そこにフェニル基非含有シリコーンI(ビニル基:0.3mmol/g含有、ヒドロシリル基:1.8mmol/g含有)を3.0g添加し、室温下回転子にて15分間攪拌を行い、白金濃度が56.6ppmである比較樹脂組成物1を得た。比較樹脂組成物1は、攪拌過程において全体がゲル化した。さらに、比較樹脂組成物1を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱硬化させた硬化物について、着色度合いを測定した。測定結果はYI値が13.3、APHA値が245であり、少し着色度合いが認められた。
[Preparation of Comparative Resin Composition 1]
2.7 g of phenyl group-free silicone H was further added to 0.3 g of the obtained platinum solution A, and the mixture was stirred for 30 minutes with a rotor at room temperature. Thereto, 3.0 g of phenyl group-free silicone I (vinyl group: 0.3 mmol / g contained, hydrosilyl group: 1.8 mmol / g contained) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes with a rotor to obtain a platinum concentration. Comparative resin composition 1 having a 56.6 ppm was obtained. The entire comparative resin composition 1 was gelated during the stirring process. Furthermore, the coloring degree was measured about the hardened | cured material which set the comparative resin composition 1 to 1 mm thickness, was pinched | interposed with two slide glasses, and was heat-hardened at 150 degreeC for 30 minutes. The measurement results were a YI value of 13.3 and an APHA value of 245, and a slight degree of coloring was observed.

[比較樹脂組成物2の調製]
上記得られた白金溶液Aを0.15g、フェニル基非含有シリコーンHを2.85gとした以外は比較樹脂組成物1と同様にして混合液を調製し、白金濃度が30.0ppmである比較樹脂組成物2を得た。比較樹脂組成物2は、攪拌過程において発泡し、攪拌後、液の上部が一部ゲル化していることが認められた。さらに、比較樹脂組成物2を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱硬化させた硬化物について、着色度合いを測定した。測定結果はYI値が8.4、APHA値が153であり、わずかに着色度合いが認められた。
[Preparation of Comparative Resin Composition 2]
A mixed solution was prepared in the same manner as Comparative Resin Composition 1 except that 0.15 g of the obtained platinum solution A and 2.85 g of phenyl group-free silicone H were used, and the platinum concentration was 30.0 ppm. A resin composition 2 was obtained. Comparative resin composition 2 foamed during the stirring process, and after stirring, it was confirmed that the upper part of the liquid was partially gelled. Furthermore, the coloring degree was measured about the hardened | cured material which set the comparative resin composition 2 to 1 mm thickness, was pinched | interposed with two slide glasses, and was heat-hardened at 150 degreeC for 30 minutes. As a result of measurement, YI value was 8.4, APHA value was 153, and a slight degree of coloring was recognized.

[樹脂組成物5の調製]
上記得られた白金溶液B 0.0025gにさらに、フェニル基非含有シリコーンKを4.9975g加えて、室温下回転子にて30分間攪拌を行った。そこにヒドロシリル基をSiの個数(mol数)に対して0.07個(mol)含有する直鎖状シリコーンL(
平均分子量:2000、粘度30cp)を0.2160g添加し、室温下回転子にて15分間攪拌を行い、白金濃度が0.5ppmである樹脂組成物5を得た。樹脂組成物5は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物5を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は0.2、APHA値は0であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 5]
4.9975 g of phenyl group-free silicone K was further added to 0.0025 g of the obtained platinum solution B, and the mixture was stirred with a rotor at room temperature for 30 minutes. There is a linear silicone L containing 0.07 (mol) of hydrosilyl groups with respect to the number of Si (mol).
0.2160 g (average molecular weight: 2000, viscosity 30 cp) was added, and the mixture was stirred for 15 minutes with a rotor at room temperature to obtain a resin composition 5 having a platinum concentration of 0.5 ppm. In the resin composition 5, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, when the resin composition 5 was 1 mm thick and sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes, a colorless and transparent elastomer was obtained. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 0.2, the APHA value was 0, and almost no coloring was observed.

[樹脂組成物6の調製]
上記得られた白金溶液Bを0.0050g、フェニル基非含有シリコーンKを4.9950gとした以外は樹脂組成物5と同様にして混合液を調製し、白金濃度が1.0ppmである樹脂組成物6を得た。樹脂組成物6は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物6を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は1.6、APHA値は7であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 6]
A mixed solution was prepared in the same manner as in the resin composition 5 except that 0.0050 g of the obtained platinum solution B and 4.9950 g of the phenyl group-free silicone K were changed to a resin composition having a platinum concentration of 1.0 ppm. Product 6 was obtained. In the resin composition 6, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, the resin composition 6 having a thickness of 1 mm was sandwiched between two glass slides and heated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a colorless and transparent elastomer. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 1.6, the APHA value was 7, and almost no coloring was observed.

[樹脂組成物7の調製]
上記得られた白金溶液Bを0.0250g、フェニル基非含有シリコーンKを4.9750gとした以外は樹脂組成物5と同様にして混合液を調製し、白金濃度が5.1ppmである樹脂組成物7を得た。樹脂組成物7は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物7を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は1.4、APHA値は23であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 7]
A mixed solution was prepared in the same manner as the resin composition 5 except that 0.0250 g of the obtained platinum solution B and 4.9750 g of the phenyl group-free silicone K were used, and a resin composition having a platinum concentration of 5.1 ppm. Product 7 was obtained. In the resin composition 7, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, when the resin composition 7 was 1 mm thick and sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes, a colorless and transparent elastomer was obtained. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 1.4, the APHA value was 23, and almost no coloring was observed.

[樹脂組成物8の調製]
上記得られた白金溶液Bを0.0500g、フェニル基非含有シリコーンKを4.9500gとした以外は樹脂組成物5と同様にして混合液を調製し、白金濃度が10.2ppmである樹脂組成物8を得た。樹脂組成物8は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物8を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は2.6、APHA値は45であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 8]
A mixed solution was prepared in the same manner as the resin composition 5 except that 0.0500 g of the obtained platinum solution B and 4.9500 g of the phenyl group-free silicone K were used, and a resin composition having a platinum concentration of 10.2 ppm. Product 8 was obtained. In the resin composition 8, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, when the resin composition 8 was 1 mm thick and sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes, a colorless and transparent elastomer was obtained. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 2.6, the APHA value was 45, and almost no coloring was observed.

[樹脂組成物9の調製]
上記得られた白金溶液Bを0.1000g、フェニル基非含有シリコーンKを4.9000gとした以外は樹脂組成物5と同様にして混合液を調製し、白金濃度が20.4ppmである樹脂組成物9を得た。樹脂組成物9は、攪拌後少しゲル化しかけていた。さらに、樹脂組成物9を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると極薄く茶色味を帯びた透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は3.7、APHA値は64であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of resin composition 9]
A mixed liquid was prepared in the same manner as in the resin composition 5 except that the obtained platinum solution B was 0.1000 g and the phenyl group-free silicone K was 4.9000 g, and the platinum concentration was 20.4 ppm. Product 9 was obtained. The resin composition 9 was slightly gelled after stirring. Furthermore, when the resin composition 9 was 1 mm thick and sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes, a transparent elastomer with an extremely thin brownish taste was obtained. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 3.7, the APHA value was 64, and almost no coloring was observed.

[比較樹脂組成物3の調製]
上記得られた白金溶液B 0.0015gに、さらにフェニル基非含有シリコーンKを4.9985g加えて、室温下回転子にて30分間攪拌を行なった。そこにヒドロシリル基をSiの個数(mol数)に対して0.07個(mol)含有する直鎖状シリコーンL(平均分子量:2000、粘度30cp)を0.2160g添加し、室温下回転子にて15分間攪拌を行ない、白金濃度が0.3ppmである比較樹脂組成物3を得た。比較樹脂組成物3は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、比較樹脂組成物3を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱硬化させたが、硬化物は非常に柔らかく、未硬化気味であった。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は0.1、APHA値は0で、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Comparative Resin Composition 3]
4.9985 g of phenyl group-free silicone K was further added to 0.0015 g of the obtained platinum solution B, and the mixture was stirred with a rotor at room temperature for 30 minutes. 0.2160 g of linear silicone L (average molecular weight: 2000, viscosity of 30 cp) containing 0.07 (mol) of hydrosilyl group with respect to the number of Si (mol number) was added to the rotor at room temperature. The mixture was stirred for 15 minutes to obtain a comparative resin composition 3 having a platinum concentration of 0.3 ppm. In Comparative Resin Composition 3, no noticeable change was observed in the stirring process. Further, the comparative resin composition 3 having a thickness of 1 mm was sandwiched between two slide glasses and cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes, but the cured product was very soft and uncured. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 0.1, the APHA value was 0, and almost no coloring was observed.

[比較樹脂組成物4の調製]
上記得られた白金溶液Bを0.2500g、フェニル基非含有シリコーンKを4.7500gとした以外は比較樹脂組成物3と同様にして混合液を調製し、白金濃度が51.0ppmである比較樹脂組成物4を得た。比較樹脂組成物4は、攪拌過程で全体がゲル化した。さらに、比較樹脂組成物4を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると薄く茶色味を帯びた透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は6.8、APHA値は125であり、わずかに着色度合いが認められた。
[Preparation of Comparative Resin Composition 4]
A mixed solution was prepared in the same manner as Comparative Resin Composition 3 except that 0.2500 g of the obtained platinum solution B and 4.7500 g of phenyl group-free silicone K were used, and the platinum concentration was 51.0 ppm. A resin composition 4 was obtained. The entire comparative resin composition 4 was gelated during the stirring process. Further, the comparative resin composition 4 having a thickness of 1 mm was sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a thin brownish transparent elastomer. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 6.8, the APHA value was 125, and a slight degree of coloring was recognized.

[樹脂組成物10の調製]
上記得られた白金溶液C 0.0125gに、さらにフェニル基非含有シリコーンHを2.4875g加えて、室温下回転子にて30分間攪拌を行なった。そこにフェニル基非含有シリコーンI(ビニル基:0.3mmol/g含有、ヒドロシリル基:1.8mmol/g含有)を2.5g添加し、室温下回転子にて15分間攪拌を行ない、白金濃度が6.1ppmである樹脂組成物10を得た。樹脂組成物10は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物10を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は1.8、APHA値は28であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 10]
2.4875 g of phenyl group-free silicone H was further added to 0.0125 g of the obtained platinum solution C, and the mixture was stirred with a rotor at room temperature for 30 minutes. 2.5 g of phenyl group-free silicone I (vinyl group: 0.3 mmol / g contained, hydrosilyl group: 1.8 mmol / g contained) was added thereto, and the mixture was stirred for 15 minutes with a rotor at room temperature, and the platinum concentration The resin composition 10 which is 6.1 ppm was obtained. In the resin composition 10, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, when the resin composition 10 was 1 mm thick and sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes, a colorless and transparent elastomer was obtained. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 1.8, the APHA value was 28, and almost no coloring was observed.

[樹脂組成物11の調製]
上記得られた白金溶液Cを0.025g、フェニル基非含有シリコーンHを2.475gとした以外は樹脂組成物10と同様にして混合液を調製し、白金濃度が8.8ppmである樹脂組成物11を得た。樹脂組成物11は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物11を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は3.5、APHA値は61であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 11]
A mixed solution was prepared in the same manner as the resin composition 10 except that 0.025 g of the obtained platinum solution C and 2.475 g of phenyl group-free silicone H were used, and a resin composition having a platinum concentration of 8.8 ppm. Product 11 was obtained. In the resin composition 11, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Further, when the resin composition 11 was 1 mm thick and sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes, a colorless and transparent elastomer was obtained. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 3.5, the APHA value was 61, and almost no coloring was observed.

[樹脂組成物12の調製]
上記得られた白金溶液Cを0.050g、フェニル基非含有シリコーンHを2.450gとした以外は樹脂組成物10と同様にして混合液を調製し、白金濃度が14.3ppmである樹脂組成物12を得た。樹脂組成物12は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物12を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は4.5、APHA値は80であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 12]
A mixed liquid was prepared in the same manner as the resin composition 10 except that 0.050 g of the obtained platinum solution C and 2.450 g of the phenyl group-free silicone H were used, and a resin composition having a platinum concentration of 14.3 ppm Product 12 was obtained. In the resin composition 12, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Further, the resin composition 12 having a thickness of 1 mm was sandwiched between two glass slides and heated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a colorless and transparent elastomer. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 4.5 and the APHA value was 80, and almost no coloring was observed.

[比較樹脂組成物5の調製]
上記得られた白金溶液Cを0.125g、フェニル基非含有シリコーンHを2.375gとした以外は樹脂組成物10と同様にして混合液を調製し、白金濃度が30.6ppmである比較樹脂組成物5を得た。比較樹脂組成物5は、攪拌後かなり高粘度となって全体がゲル化しかけ、泡のかみ込みによって見た目にもわずかに濁りを生じた。さらに、比較樹脂組成物5を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は7.5、APHA値は137であり、わずかに黄色い着色が認められた。
[Preparation of Comparative Resin Composition 5]
A mixed resin was prepared in the same manner as the resin composition 10 except that 0.125 g of the obtained platinum solution C and 2.375 g of phenyl group-free silicone H were used, and a comparative resin having a platinum concentration of 30.6 ppm Composition 5 was obtained. The comparative resin composition 5 became quite high in viscosity after stirring, and the whole started to gel, and the appearance was slightly turbid due to the entrapment of bubbles. Further, when the comparative resin composition 5 was 1 mm thick and sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes, a colorless and transparent elastomer was obtained. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 7.5 and the APHA value was 137, and a slightly yellow coloring was observed.

[比較樹脂組成物6の調製]
上記得られた白金溶液Cを0.25g、フェニル基非含有シリコーンHを2.25gとした以外は樹脂組成物10と同様にして混合液を調製し、白金濃度が57.8ppmである比較樹脂組成物6を得た。比較樹脂組成物6は、攪拌過程において全体がゲル化し、泡のかみ込みによって見た目にもわずかに濁りを生じた。さらに、比較樹脂組成物6を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は11.6、APHA値は214であり、黄色い着色が認められた。
[Preparation of Comparative Resin Composition 6]
A mixed resin was prepared in the same manner as the resin composition 10 except that 0.25 g of the obtained platinum solution C and 2.25 g of phenyl group-free silicone H were used, and a comparative resin having a platinum concentration of 57.8 ppm. Composition 6 was obtained. The comparative resin composition 6 was gelated as a whole in the stirring process, and was slightly turbid by appearance due to the entrapment of bubbles. Furthermore, the comparative resin composition 6 having a thickness of 1 mm was sandwiched between two glass slides and heated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a colorless and transparent elastomer. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 11.6, the APHA value was 214, and yellow coloring was recognized.

[樹脂組成物13の調製]
上記得られた白金溶液D 0.2500gに、さらにフェニル基非含有シリコーンKを4.7500g加えて、室温下回転子にて30分間攪拌を行った。そこにヒドロシリル基をSiの個数(mol数)に対して0.07個(mol)含有する直鎖状シリコーンL(平均分子量:2000、粘度30cp)を0.2160g添加し、室温下回転子にて15分間攪拌を行い、白金濃度が4.8ppmである樹脂組成物13を得た。樹脂組成物13は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物13を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は0.5、APHA値は4であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 13]
4.7500 g of phenyl group-free silicone K was further added to 0.2500 g of the obtained platinum solution D, and the mixture was stirred with a rotor at room temperature for 30 minutes. 0.2160 g of linear silicone L (average molecular weight: 2000, viscosity of 30 cp) containing 0.07 (mol) of hydrosilyl group with respect to the number of Si (mol number) was added to the rotor at room temperature. The mixture was stirred for 15 minutes to obtain a resin composition 13 having a platinum concentration of 4.8 ppm. In the resin composition 13, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, the resin composition 13 having a thickness of 1 mm was sandwiched between two glass slides and heated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a colorless and transparent elastomer. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 0.5, the APHA value was 4, and almost no coloring was observed.

[樹脂組成物14の調製]
上記得られた白金溶液Dを0.5000g、フェニル基非含有シリコーンKを4.5000gとした以外は樹脂組成物13と同様にして混合液を調製し、白金濃度が9.6ppmである樹脂組成物14を得た。樹脂組成物14は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。さらに、樹脂組成物14を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られた。その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は0.8、APHA値は11であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Resin Composition 14]
A mixed solution was prepared in the same manner as the resin composition 13 except that the obtained platinum solution D was changed to 0.5000 g and the phenyl group-free silicone K was changed to 4.5000 g, and a platinum composition having a platinum concentration of 9.6 ppm Product 14 was obtained. In the resin composition 14, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. Furthermore, when the resin composition 14 was 1 mm thick and sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes, a colorless and transparent elastomer was obtained. When the degree of coloring of the cured product was measured, the YI value was 0.8, the APHA value was 11, and almost no coloring was observed.

[比較樹脂組成物7の調製]
上記得られた白金溶液D 0.0015gに、さらにフェニル基非含有シリコーンKを4.985g加えて、室温下回転子にて30分間攪拌を行なった。そこにヒドロシリル基をSiの個数(mol数)に対して0.07個(mol)含有する直鎖状シリコーンL(平均分子量:2000、粘度30cp)を0.2160g添加し、室温下回転子にて15分間攪拌を行ない、白金濃度が0.3ppmである比較樹脂組成物7を得た。比較樹脂組成物7は、攪拌過程において特に目立った変化は認められなかった。ただし、比較樹脂組成物7を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱硬化させたところ未硬化であった。
[Preparation of Comparative Resin Composition 7]
Further, 4.985 g of phenyl group-free silicone K was added to 0.0015 g of the obtained platinum solution D, and the mixture was stirred for 30 minutes with a rotor at room temperature. 0.2160 g of linear silicone L (average molecular weight: 2000, viscosity of 30 cp) containing 0.07 (mol) of hydrosilyl group with respect to the number of Si (mol number) was added to the rotor at room temperature. The mixture was stirred for 15 minutes to obtain a comparative resin composition 7 having a platinum concentration of 0.3 ppm. In Comparative Resin Composition 7, no particularly noticeable change was observed in the stirring process. However, the comparative resin composition 7 having a thickness of 1 mm was sandwiched between two slide glasses, and was cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes.

[比較樹脂組成物8の調製]
上記得られた白金溶液Dを2.5000g、フェニル基非含有シリコーンKを2.5000gとした以外は比較樹脂組成物7と同様にして混合液を調製し、白金濃度が50.2ppmである比較樹脂組成物8を得た。比較樹脂組成物8は、攪拌後わずかに白濁していた。また、比較樹脂組成物8を室温にて6時間放置するとゲル化した。さらに、比較樹脂組成物8を1mm厚としてスライドガラス二枚にて挟み、150℃にて30分加熱すると無色透明のエラストマーが得られ、その硬化物の着色度合いを測定すると、YI値は1.1、APHA値は17であり、ほとんど着色は認められなかった。
[Preparation of Comparative Resin Composition 8]
A mixed solution was prepared in the same manner as the comparative resin composition 7 except that the obtained platinum solution D was 2.5000 g and the phenyl group-free silicone K was 2.5000 g, and the platinum concentration was 50.2 ppm. A resin composition 8 was obtained. The comparative resin composition 8 was slightly cloudy after stirring. Further, the comparative resin composition 8 gelled when left at room temperature for 6 hours. Further, when the comparative resin composition 8 is 1 mm thick and sandwiched between two slide glasses and heated at 150 ° C. for 30 minutes, a colorless and transparent elastomer is obtained. When the degree of coloring of the cured product is measured, the YI value is 1. 1. APHA value is 17, almost no coloring was observed.

[実施例]
[樹脂成形体の作製、並びに、反射率及び硬度の測定]
58mLのポリエチレン製軟膏壺に、6.0gのアルミナ(かさ密度:0.8、平均粒子径:1.2μm、一次粒子の平均アスペクト比:1.48、純度:99.12%)、0.25gの表面処理(トリメチルシリル処理)済みフュームドシリカ、3.5gの樹脂組成物4を入れ、Thinky社製泡取練太郎ARV−200にて攪拌した。再度0.25gの表面処理(トリメチルシリル処理)済みフュームドシリカを添加し、ARV−200にて真空脱泡を実施することにより白色樹脂組成物1を得た。
[Example]
[Production of resin molded body and measurement of reflectance and hardness]
In 58 mL of polyethylene ointment basket, 6.0 g of alumina (bulk density: 0.8, average particle size: 1.2 μm, average aspect ratio of primary particles: 1.48, purity: 99.12%), 25 g of surface-treated (trimethylsilyl-treated) fumed silica and 3.5 g of the resin composition 4 were added, and the mixture was stirred with Thinky's Awatake Nitarou ARV-200. 0.25 g of surface-treated (trimethylsilyl-treated) fumed silica was added again, and vacuum defoaming was performed with ARV-200 to obtain white resin composition 1.

得られた白色樹脂組成物1を1.3cm径で0.3mm厚、1.0mm厚、3.0mm厚のステンレス製型に各々入れて、銀板上にて10kg/cm2の圧力下、空気中にて3分間150℃で加温加圧プレスし、さらに通風乾燥機内にて200℃で10分間後硬化することによって白色樹脂成形体1乃至3を得た。なお、白色樹脂成形体1乃至3のポリオルガノシロキサンを含むベース樹脂とフィラーの比は36.8:63.2である。 The obtained white resin composition 1 was put into a stainless steel mold having a diameter of 1.3 cm and a thickness of 0.3 mm, 1.0 mm, and 3.0 mm, and the pressure was 10 kg / cm 2 on a silver plate. White resin molded bodies 1 to 3 were obtained by heating and pressing in air at 150 ° C. for 3 minutes and further post-curing in an air dryer at 200 ° C. for 10 minutes. The ratio of the base resin containing the polyorganosiloxane in the white resin molded bodies 1 to 3 and the filler is 36.8: 63.2.

0.3mm厚の白色樹脂成形体1の反射率は400nmの光に対しては94.6%であり、460nmの光に対しては94.6%であった。また、1.0mm厚の白色樹脂成形体2の反射率は400nmの光に対しては96.4%であり、460nmの光に対しては97.1%であった。さらに、3.0mm厚の白色樹脂成形体3の硬度はShore Aは90以上で、Shore Dは40であった。
なお、反射率は、コニカミノルタ社製SPECTROPHOTOMETER CM−2600dを用いて測定径6mmにて測定した。また、Shore A及びShore D硬度は、各硬化サンプルについて、古里精機製作所製ゴム硬度計 KR−24A及びKR−25Dを用いて1kgf荷重にて(重ね厚みが6.0mm以上となるようにして、つまり、例えば3.0mmのサンプルであれば2枚重ねて)測定した。以降の実施例においても同様である。
The reflectance of the white resin molded body 1 having a thickness of 0.3 mm was 94.6% for 400 nm light and 94.6% for 460 nm light. The reflectance of the white resin molded body 2 having a thickness of 1.0 mm was 96.4% for 400 nm light and 97.1% for 460 nm light. Further, the hardness of the white resin molded body 3 having a thickness of 3.0 mm was 90 or more for Shore A and 40 for Shore D.
The reflectance was measured at a measurement diameter of 6 mm using SPECTROTOPOMETER CM-2600d manufactured by Konica Minolta. Also, Shore A and Shore D hardness are measured for each cured sample at a load of 1 kgf using a rubber hardness tester KR-24A and KR-25D manufactured by Furusato Seiki Seisakusho (so that the overlap thickness is 6.0 mm or more, That is, for example, two samples were stacked in the case of a 3.0 mm sample. The same applies to the following embodiments.

銀板上にて0.3mm厚にて成形した白色樹脂成形体1は、金型から取り外す際にも剥離することも崩れることもなく、またその後、スパチュラで横から少々の力を加えても銀表面から剥離することも崩れることも無かった。
よって、白色樹脂成形体1は脆くなく、銀表面へも良好に接着する材料であることが判明した。
The white resin molded body 1 molded to a thickness of 0.3 mm on a silver plate does not peel off or collapse when removed from the mold, and after that, even if a slight force is applied from the side with a spatula There was no peeling or collapse from the silver surface.
Therefore, it turned out that the white resin molding 1 is not brittle and is a material that adheres well to the silver surface.

また、58mLのポリエチレン製軟膏壺に、6.0gのアルミナ(かさ密度:0.8、平均粒子径:1.2μm、平均アスペクト比:1.48、純度:99.12%)、0.25gの表面処理(トリメチルシリル処理)済みフュームドシリカ、3.5gの比較樹脂組成物4を入れ、Thinky社製泡取練太郎ARV−200にて攪拌した。再度0.25gの表面処理(トリメチルシリル処理)済みフュームドシリカを添加し、ARV−200にて真空脱泡を実施することにより白色樹脂組成物2を得た。   Further, in 58 mL of polyethylene ointment jar, 6.0 g of alumina (bulk density: 0.8, average particle size: 1.2 μm, average aspect ratio: 1.48, purity: 99.12%), 0.25 g The surface-treated (trimethylsilyl-treated) fumed silica and 3.5 g of the comparative resin composition 4 were added, and the mixture was stirred with Thinky's Foam Tritaro ARV-200. Again, 0.25 g of surface-treated (trimethylsilyl-treated) fumed silica was added, and vacuum defoaming was performed with ARV-200 to obtain white resin composition 2.

得られた白色樹脂組成物2を1.3cm径で0.3mm厚、1.0mm厚のステンレス製型に各々入れて、銀板上にて10kg/cm2の圧力下、空気中にて3分間150℃で加温加圧プレスし、さらに通風乾燥機内にて200℃で10分間後硬化することによって樹脂成形体4および5を得た。なお、樹脂成形体4乃至5のポリオルガノシロキサンを含むベース樹脂とフィラーの比は36.8:63.2である。 The obtained white resin composition 2 was put into a stainless steel mold having a diameter of 1.3 cm, a thickness of 0.3 mm, and a thickness of 1.0 mm, and 3 mm in air under a pressure of 10 kg / cm 2 on a silver plate. Resin molded bodies 4 and 5 were obtained by heating and pressing at 150 ° C. for 10 minutes and further post-curing at 200 ° C. for 10 minutes in an air dryer. The ratio of the base resin containing the polyorganosiloxane and the filler in the resin molded bodies 4 to 5 is 36.8: 63.2.

0.3mm厚の白色樹脂成形体4の反射率は400nmの光に対しては95.1%であり、460nmの光に対しては95.9%であった。また、1.0mm厚の白色樹脂成形体5の反射率は400nmの光に対しては95.5%であり、460nmの光に対しては96.8%であった。さらに、1.0mm厚の樹脂成形体5を6枚重ねたものの硬度はShore Aは90以上で、Shore Dは48であった。   The reflectance of the white resin molded body 4 having a thickness of 0.3 mm was 95.1% for 400 nm light and 95.9% for 460 nm light. The reflectance of the white resin molded body 5 having a thickness of 1.0 mm was 95.5% for 400 nm light and 96.8% for 460 nm light. Furthermore, the hardness of six sheets of 1.0 mm thick resin molded bodies 5 was 90 or more for Shore A and 48 for Shore D.

[樹脂成形体の耐光(UV)性評価]
上記1.0mm厚の白色樹脂成形体2および5に、大気中室温にて松下電工マシンアンドビジョン社製紫外線硬化装置アイキュアANUP5204からの光(2100mW/cm2)を朝日分光社製の光学フィルターを用いて250nm以下の光をカットして20時間照射した。白色樹脂成形体2の場合には外観上の表面状態が照射前後で全く変化しなかったのに対して、白色樹脂成形体5の場合には、表面に微小クラックが入って荒れたようになった。
[Evaluation of light resistance (UV) resistance of resin moldings]
Light (2100 mW / cm 2 ) from the UV curing apparatus Aicure ANUP5204 made by Matsushita Electric Works and Vision Co., Ltd. was applied to the white resin molded bodies 2 and 5 having a thickness of 1.0 mm at room temperature in the atmosphere. Using this, light of 250 nm or less was cut and irradiated for 20 hours. In the case of the white resin molded body 2, the surface state on the appearance did not change at all before and after the irradiation, whereas in the case of the white resin molded body 5, the surface became rough due to micro cracks. It was.

[樹脂成形体の耐熱性評価]
1.0mm厚の白色樹脂成形体2および5を大気中にて200℃の通風乾燥機内にて保管したところ、400時間後に測定した白色樹脂成形体2の反射率は、400nmの光に対して96.1%(照射前96.4%)であり、460nmの光に対して97.0%(照射前97.1%)となったのに対して、白色樹脂成形体5の反射率が、400nmの光に対して94.8%(照射前95.5%)であり、460nmの光に対して96.1%(照射前96.8%)となった。よって、白色樹脂成形体5の光反射率は白色樹脂成形体2の光反射率に対して絶対値が低いだけでなく、耐熱試験後にはその低下率が大きくなってしまうことが判明した。
[Evaluation of heat resistance of molded resin]
When the white resin molded bodies 2 and 5 having a thickness of 1.0 mm were stored in a ventilation dryer at 200 ° C. in the atmosphere, the reflectance of the white resin molded body 2 measured after 400 hours was 400 nm with respect to light. While it was 96.1% (96.4% before irradiation) and 97.0% (97.1% before irradiation) for 460 nm light, the reflectance of the white resin molded body 5 was , 94.8% (95.5% before irradiation) for 400 nm light, and 96.1% (96.8% before irradiation) for 460 nm light. Therefore, it was found that the light reflectance of the white resin molded body 5 is not only low in absolute value with respect to the light reflectance of the white resin molded body 2, but also decreases after the heat test.

[点灯耐久評価試験]
上記得られた白色樹脂組成物1を、全面銀メッキした銅リードフレームとともに加熱射出成形して作成した縦5mm×横5mm×高さ1.5mm、開口部の直径3.6mmの凹部を有するカップ状の表面実装型パッケージに成形し、パッケージ1を得た。また、これと同形のソルベイアドバンストポリマーズ社製のポリフタルアミド(アモデルA4122)PPAを用いたLEDパッケージ(パッケージ2)を準備し、LEDの点灯耐久試験を実施した。
[Lighting durability evaluation test]
A cup having a recess having a length of 5 mm, a width of 5 mm, a height of 1.5 mm, and an opening diameter of 3.6 mm, produced by heat-injection molding the obtained white resin composition 1 together with a silver lead-plated copper lead frame. To form a surface mount package in the form of a package. In addition, an LED package (Package 2) using Polyphthalamide (Amodel A4122) PPA manufactured by Solvay Advanced Polymers Co., Ltd. having the same shape was prepared, and an LED lighting durability test was performed.

半導体発光素子(406nmの発光波長、定格電流20mA)の装着は、パッケージの凹部に露出しているインナーリード上の所定位置にシリコーンダイボンド材(信越化学工業(株)製 KER−3000−M2)を介して設置した後、該シリコーンダイボンド材を100℃で1時間、さらに150℃で2時間硬化させることにより行なった。   Mounting of a semiconductor light emitting device (406 nm emission wavelength, rated current 20 mA) is performed by placing a silicone die bond material (KER-3000-M2 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) at a predetermined position on the inner lead exposed in the recess of the package. The silicone die bond material was cured at 100 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours.

次に、封止材を製造した。
モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製両末端シラノールジメチルシリコーンオイルXC96−723を385g、メチルトリメトキシシランを10.28g、及び、触媒としてジルコニウムテトラアセチルアセトネート粉末0.791gを、攪拌翼と、分留管、ジムロートコンデンサ及びリービッヒコンデンサとを取り付けた500ml三つ口コルベン中に計量し、室温にて15分触媒の粗大粒子が溶解するまで攪拌した。この後、反応液を100℃まで昇温して触媒を完全溶解し、100℃全還流下で30分間、500rpmで攪拌しつつ初期加水分解を行った。
続いて、留出をリービッヒコンデンサ側に接続し、窒素をSV20で液中に吹き込み生成メタノール及び水分、副生物の低沸ケイ素成分を窒素に随伴させて留去しつつ100℃、500rpmにて1時間攪拌した。窒素をSV20で液中に吹き込みながらさらに130℃に昇温、保持しつつ5時間重合反応を継続し、粘度120mPa・sの反応液を得た。なお、ここで「SV」とは「Space Velocity」の略称であり、単位時間当たりの吹き込み体積量を指す。よって、SV20とは、1時間に反応液の20倍の体積のN2を吹き込むことをいう。
窒素の吹き込みを停止し反応液をいったん室温まで冷却した後、ナス型フラスコに反応液を移し、ロータリーエバポレーターを用いてオイルバス上120℃、1kPaで50分間微量に残留しているメタノール及び水分、低沸ケイ素成分を留去し、常温における粘度
230mPa・sの無溶剤の封止材液を得た。
Next, the sealing material was manufactured.
Momentive Performance Materials Japan G.K. both ends silanol dimethyl silicone oil XC96-723 385g, methyltrimethoxysilane 10.28g, and zirconium tetraacetylacetonate powder 0.791g as a catalyst, In a 500 ml three-necked Kolben equipped with a fractionating tube, a Dimroth condenser and a Liebig condenser, the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes until the coarse particles of the catalyst were dissolved. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C. to completely dissolve the catalyst, and initial hydrolysis was performed while stirring at 500 rpm for 30 minutes at 100 ° C. under total reflux.
Subsequently, the distillate was connected to the Liebig condenser side, nitrogen was blown into the liquid with SV20, and methanol, water, and low-boiling silicon components of by-products were distilled off accompanied with nitrogen at 100 ° C. and 500 rpm. Stir for hours. The polymerization reaction was continued for 5 hours while raising and maintaining the temperature at 130 ° C. while blowing nitrogen into the liquid with SV20 to obtain a reaction liquid having a viscosity of 120 mPa · s. Here, “SV” is an abbreviation for “Space Velocity” and refers to the volume of blown volume per unit time. Therefore, SV20 refers to blowing N 2 in a volume 20 times that of the reaction solution in one hour.
After stopping the blowing of nitrogen and once cooling the reaction solution to room temperature, the reaction solution was transferred to an eggplant-shaped flask, and methanol and moisture remaining in a minute amount at 120 ° C. and 1 kPa on an oil bath using a rotary evaporator, The low boiling silicon component was distilled off to obtain a solvent-free sealing material liquid having a viscosity of 230 mPa · s at room temperature.

得られたシリコーン封止材液をパッケージ1及びパッケージ2のパッケージ凹部へ、開口部上縁と同じ高さになるように滴下した後、恒温器にて90℃2時間、次いで110℃1時間、150℃3時間の加熱硬化を行うことで半導体発光素子を封止した。   After dripping the obtained silicone sealing material liquid into the package recesses of the package 1 and the package 2 so as to be the same height as the upper edge of the opening, 90 ° C. for 2 hours, then 110 ° C. for 1 hour in a thermostatic chamber, The semiconductor light emitting device was sealed by performing heat curing at 150 ° C. for 3 hours.

点灯耐久試験は、点灯電源に上記の封止したパッケージ1および2を、熱伝導性絶縁シートを介した3mm厚の放熱アルミ板にセットして、温度60℃、相対湿度90%の環境試験機中において60mAの駆動電流を通電することで連続点灯試験を行った。所定時間ごとに半導体発光装置を取り出し、オフラインにて初期出力(mW)に対する経時の出力の百分率(出力維持率)を測定した(輝度測定は20mA通電)。測定結果を図3に示す。
図3に示すように、応用実施例1によるパッケージ1を用いた場合はパッケージ2を用いた場合に比べて明らかに出力の維持率が高くなることが判明した。
The lighting endurance test is performed by setting the above-mentioned sealed packages 1 and 2 on a lighting power source on a 3 mm-thick heat-dissipating aluminum plate with a heat conductive insulating sheet, and an environmental testing machine at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90%. A continuous lighting test was conducted by applying a drive current of 60 mA. The semiconductor light emitting device was taken out every predetermined time, and the percentage of output over time (output maintenance rate) with respect to the initial output (mW) was measured offline (luminance measurement was 20 mA energization). The measurement results are shown in FIG.
As shown in FIG. 3, when the package 1 according to the application example 1 is used, it has been found that the output maintenance rate is clearly higher than when the package 2 is used.

また、パッケージ1とパッケージ2を温度85℃、85%RH(相対湿度)の雰囲気下にて24時間保管し、その雰囲気からの取り出し直後に260℃のホットプレート上に1分間静置することにより、封止材とパッケージ表面もしくはリードフレーム表面との間の接着性(剥離)の確認試験も実施した。その結果、図4に示すように、PPA(ポリフタルアミド)製パッケージ2の場合のみ剥離が認められた。   Package 1 and package 2 are stored for 24 hours in an atmosphere of 85 ° C. and 85% RH (relative humidity), and left on a hot plate at 260 ° C. for 1 minute immediately after removal from the atmosphere. Also, a confirmation test of adhesion (peeling) between the sealing material and the package surface or the lead frame surface was also carried out. As a result, as shown in FIG. 4, peeling was recognized only in the case of the package 2 made of PPA (polyphthalamide).

[接着性評価試験]
耐久試験にて作成した、パッケージ1とPPAパッケージ2、および共立エレックス社製のセラミックスLEDパッケージ(M5050N(KA−6))について、以下の手法にてリードフレームと樹脂成形体との間の接着性(剥離)の確認実験を行なった。
まず、それぞれのパッケージをエタノールで洗浄し、乾燥させた。次に検査用の浸透液((株)タセトのカラーチェック浸透液FP−S(赤色))を乾燥させたパッケージにスプレーし5分放置した。放置後のパッケージについて、ワイパーで表面の液をぬぐい、エタノールでさらにきれいに洗浄し、室温で1時間乾燥させた。
[Adhesion evaluation test]
For the package 1 and the PPA package 2 and the ceramic LED package manufactured by Kyoritsu Elex (M5050N (KA-6)) prepared in the durability test, the adhesion between the lead frame and the resin molded body by the following method (Peeling) confirmation experiment was conducted.
First, each package was washed with ethanol and dried. Next, a test penetrant (Taset Color Check Penetrant FP-S (red)) was sprayed on the dried package and allowed to stand for 5 minutes. About the package after standing, the liquid of the surface was wiped off with a wiper, further cleaned with ethanol, and dried at room temperature for 1 hour.

上記手順で処理したパッケージについて、次の剥離の観察を行った。
(i)金属と樹脂を引き剥がして樹脂についた着色を観察する。
(ii)さらに(株)タセトのカラーチェック現像液を薄くスプレーし10分間放置して浮き出てくる赤色を確認して剥離の有無を確認する。
上記(i)の観察時においても、上記(ii)の観察時においても、パッケージ1の場合にはリードフレームと樹脂成形体との間に全く赤色が確認されなかったのに対して、PPAパッケージ2とセラミックスパッケージの場合には、ともに赤色が確認され、リードフレームと樹脂成形体乃至セラミックス材との間に剥離が有ったことがわかった。
The package treated by the above procedure was observed for the next peeling.
(I) The metal and the resin are peeled off and the coloring on the resin is observed.
(Ii) Further, Taseto Co., Ltd., a color check developer is sprayed thinly and left for 10 minutes to check the red color that emerges to confirm the presence or absence of peeling.
In the case of the observation of the above (i) and the observation of the above (ii), in the case of the package 1, no red color was observed between the lead frame and the resin molded body, whereas the PPA package In the case of 2 and the ceramic package, red was confirmed in both cases, and it was found that there was peeling between the lead frame and the resin molded body or the ceramic material.

1 半導体発光素子
2 樹脂成形体
3 ボンディングワイヤー
4 封止材
5 リードフレーム
6 蛍光体層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor light emitting element 2 Resin molding 3 Bonding wire 4 Sealing material 5 Lead frame 6 Phosphor layer

Claims (11)

(A)ポリオルガノシロキサン樹脂、(B)フィラー、及び(C)硬化触媒を含有する樹脂成形体を少なくとも備える半導体発光装置用パッケージであって、
前記フィラーを除いた前記樹脂成形体中における前記硬化触媒の金属成分含有量が0.4ppm以上、25ppm以下であることを特徴とする半導体発光装置用パッケージ。
(A) A package for a semiconductor light emitting device comprising at least a resin molded body containing a polyorganosiloxane resin, (B) a filler, and (C) a curing catalyst,
A package for a semiconductor light-emitting device, wherein a metal component content of the curing catalyst in the resin molded body excluding the filler is 0.4 ppm or more and 25 ppm or less.
前記(C)硬化触媒の金属成分は、白金を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光装置用パッケージ。   The package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the metal component of the (C) curing catalyst contains platinum. 前記樹脂成形体は、ヒドロシリル化を介して硬化することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体発光装置用パッケージ。   The package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the resin molded body is cured through hydrosilylation. 前記(B)フィラーは、アルミナを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体発光装置用パッケージ。   The said (B) filler contains an alumina, The package for semiconductor light-emitting devices of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記(B)フィラーは、表面処理されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体発光装置用パッケージ。   The package for a semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the filler (B) is surface-treated. 前記(B)フィラーは、その一次粒子のアスペクト比が1.0以上4.0以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体発光装置用パッケージ。   The package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the (B) filler has an aspect ratio of primary particles of 1.0 or more and 4.0 or less. 前記樹脂成形体は、樹脂成形体中に含まれる(A)ポリオルガノシロキサン樹脂を含むベース樹脂と(B)フィラーの重量比が15〜60:85〜40であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体発光装置用パッケージ。   The resin molded body is characterized in that the weight ratio of (A) a base resin containing a polyorganosiloxane resin and (B) filler contained in the resin molded body is 15 to 60:85 to 40. The package for semiconductor light-emitting devices of any one of 1-6. 前記樹脂成形体は、0.3mm厚において波長400nmの光反射率が50%以上であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体発光装置用パッケージ。   The package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the resin molded body has a light reflectance of 50% or more at a wavelength of 400 nm at a thickness of 0.3 mm. 前記樹脂成形体は、更に脂環式の炭化水素基を有する化合物を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体発光装置用パッケージ。   The package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the resin molded body further includes a compound having an alicyclic hydrocarbon group. 前記樹脂成形体は、成形加工前の操作温度として一貫して45℃以下であり、かつ、成形加工時の成形温度が300℃以下であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の半導体発光装置用パッケージ。   The said resin molding is 45 degrees C or less consistently as operation temperature before a shaping | molding process, and the shaping | molding temperature at the time of a shaping | molding process is 300 degrees C or less, The any one of Claims 1-9 characterized by the above-mentioned. A package for a semiconductor light emitting device according to the item. 半導体発光素子、請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体発光装置用パッケージ、及び封止材を少なくとも備えることを特徴とする、半導体発光装置。   A semiconductor light emitting device comprising at least a semiconductor light emitting element, the package for a semiconductor light emitting device according to claim 1, and a sealing material.
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