JP2012049282A - 光学素子、該光学素子を備えた面発光レーザ、該面発光レーザを露光用光源として備えた電子写真装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】開口数が1/√2以下の集光レンズで集光した際、円周偏光環状のビームの集光スポットを単峰形状とすることが可能な光学素子等を提供する。
【解決手段】ビームの入射平面7にビームが入射する際の入射ベクトル8の方向と平行する第一の分割平面5と、入射ベクトルと平行し且つ前記第一の分割平面と直交する第二の分割平面6とで分割された領域を備え、入射ベクトル方向に進行し、入射ベクトル方向と直交するビームの入射面と第一及び第二の分割平面との交線における第一の分割平面と平行な方向に直線偏光したビームが入射平面に入射する際に、第一の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角をビームに与え、交線における第二の分割平面と平行な交線の方向に直線偏光したビームが、入射面に入射する際に、第二の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角をビームに与える。
【選択図】図1
【解決手段】ビームの入射平面7にビームが入射する際の入射ベクトル8の方向と平行する第一の分割平面5と、入射ベクトルと平行し且つ前記第一の分割平面と直交する第二の分割平面6とで分割された領域を備え、入射ベクトル方向に進行し、入射ベクトル方向と直交するビームの入射面と第一及び第二の分割平面との交線における第一の分割平面と平行な方向に直線偏光したビームが入射平面に入射する際に、第一の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角をビームに与え、交線における第二の分割平面と平行な交線の方向に直線偏光したビームが、入射面に入射する際に、第二の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角をビームに与える。
【選択図】図1
Description
本発明は、光学素子、該光学素子を備えた面発光レーザ、該面発光レーザを露光用光源として備えた電子写真装置に関し、特にレーザビームの集光スポットを単峰形状とすることができ、電子写真装置等の露光用光源に適した面発光レーザに関する。
近年、基板の表面に対して垂直方向に光を出射する面発光レーザの研究が盛んに行われている。
面発光レーザは、単一モード発振が容易であり、端面発光レーザと比較してレーザビームの広がり角が狭く、二次元レーザアレイ化が容易である等の特長を有している。
そのため、電子写真装置および光記憶装置の露光用光源として用いること等について研究が進められている。
面発光半導体レーザを電子写真装置および光記憶装置の露光用光源として用いる場合、そのレーザビームは集光レンズによって感光部材表面上に集光される。よって、一般に集光のスポット径が小さいほど露光の解像度が高くなる。
面発光レーザは、単一モード発振が容易であり、端面発光レーザと比較してレーザビームの広がり角が狭く、二次元レーザアレイ化が容易である等の特長を有している。
そのため、電子写真装置および光記憶装置の露光用光源として用いること等について研究が進められている。
面発光半導体レーザを電子写真装置および光記憶装置の露光用光源として用いる場合、そのレーザビームは集光レンズによって感光部材表面上に集光される。よって、一般に集光のスポット径が小さいほど露光の解像度が高くなる。
特許文献1には、集光スポットの縮小が可能となる面発光レーザとして、断面形状が環状であって径方向に偏光したレーザビームを得るようにしたフォトニック結晶面発光レーザが記載されている。
図19(a)に特許文献1に記載されたフォトニック結晶面発光レーザの構造およびレーザビームの偏光方向(電場ベクトルの方向)を示す。
図19(a)において、39は基板、40は出射面、41は円周偏光環状のレーザビーム、42はπ/2波長板、43は進相軸、44は径偏光環状レーザビームである。
該フォトニック結晶面発光レーザは、出射面40の上に重ねられた2枚の1/2波長板42を具備しており、該2枚の1/2波長板42はその進相軸43が45°の角を成している。
また、非特許文献1には、波長板を備えないフォトニック結晶面発光レーザから出射されるレーザの断面強度分布および偏光方向に関する事項が記載されている。
すなわち、非特許文献1によれば、基板表面の出射面40から出射されたレーザビーム41は、円環状の断面強度分布を有している。そして、その偏光はレーザビーム中心の回りを周回する方向(円周方向)を向いている(このようなレーザビームを円周偏光環状のレーザビームと記す)、該円周偏光環状のレーザビームについて記載されている。
特許文献1の面発光レーザでは、上記円周偏光環状のレーザビームが、45°互いに傾いた二枚の1/2波長板42を通過することにより、偏光がそのレーザビーム中心から外側に向う方向(径方向)に変換される(これを径偏光環状レーザビームと記す)。
図19(a)に特許文献1に記載されたフォトニック結晶面発光レーザの構造およびレーザビームの偏光方向(電場ベクトルの方向)を示す。
図19(a)において、39は基板、40は出射面、41は円周偏光環状のレーザビーム、42はπ/2波長板、43は進相軸、44は径偏光環状レーザビームである。
該フォトニック結晶面発光レーザは、出射面40の上に重ねられた2枚の1/2波長板42を具備しており、該2枚の1/2波長板42はその進相軸43が45°の角を成している。
また、非特許文献1には、波長板を備えないフォトニック結晶面発光レーザから出射されるレーザの断面強度分布および偏光方向に関する事項が記載されている。
すなわち、非特許文献1によれば、基板表面の出射面40から出射されたレーザビーム41は、円環状の断面強度分布を有している。そして、その偏光はレーザビーム中心の回りを周回する方向(円周方向)を向いている(このようなレーザビームを円周偏光環状のレーザビームと記す)、該円周偏光環状のレーザビームについて記載されている。
特許文献1の面発光レーザでは、上記円周偏光環状のレーザビームが、45°互いに傾いた二枚の1/2波長板42を通過することにより、偏光がそのレーザビーム中心から外側に向う方向(径方向)に変換される(これを径偏光環状レーザビームと記す)。
また、非特許文献2には、上記径偏光環状レーザビームを集光レンズによって集光したとき、スポット径が回折限界を超えて小さくなるメカニズムについて記載されている。
ここで集光限界とは、直線偏光にある平面波が集光レンズを通過したときの、レーザビームの波長と集光レンズの開口径により決定される集光スポットの理論的な最小値を指す。
図19(b)は、径偏光環状レーザビームが回折限界を超えて集光するメカニズムを説明するための図である。
図19(b)において、45は電場ベクトル、46は断面強度分布、47は電場ベクトル、48は電場ベクトルの平行成分、49は電場ベクトルの直交成分、50は集光レンズ、51は光軸、57はスポット中心である。
図19(b−1)は径偏光環状レーザビームの断面強度分布46と電場ベクトル45の関係を示す図である。また、図19(b−2)は集光レンズ50を通過する前後のレーザビームの電場ベクトルを示す図である。
図19(b−2)で描かれている集光レンズの開口数は約0.8であり、径偏光環状レーザビームの中心を向いていた電場ベクトル47は、レンズを通過後、大きく傾く。このとき、電場ベクトルの光軸に平行な成分48(電場の平行成分)は直角な成分49(電場の直交成分)と比較して約1.7倍大きい。
また、集光レンズ50を通過後、電場の平行成分48は同じ方向を向き、電場の直交成分49は互いに逆方向を向く。よって、レンズの焦点では、電場のエネルギーの多くを担う電場の平行成分は同位相で干渉し合い、集光スポット57の中央に急峻な電場強度のピークを形成する。
ここで集光限界とは、直線偏光にある平面波が集光レンズを通過したときの、レーザビームの波長と集光レンズの開口径により決定される集光スポットの理論的な最小値を指す。
図19(b)は、径偏光環状レーザビームが回折限界を超えて集光するメカニズムを説明するための図である。
図19(b)において、45は電場ベクトル、46は断面強度分布、47は電場ベクトル、48は電場ベクトルの平行成分、49は電場ベクトルの直交成分、50は集光レンズ、51は光軸、57はスポット中心である。
図19(b−1)は径偏光環状レーザビームの断面強度分布46と電場ベクトル45の関係を示す図である。また、図19(b−2)は集光レンズ50を通過する前後のレーザビームの電場ベクトルを示す図である。
図19(b−2)で描かれている集光レンズの開口数は約0.8であり、径偏光環状レーザビームの中心を向いていた電場ベクトル47は、レンズを通過後、大きく傾く。このとき、電場ベクトルの光軸に平行な成分48(電場の平行成分)は直角な成分49(電場の直交成分)と比較して約1.7倍大きい。
また、集光レンズ50を通過後、電場の平行成分48は同じ方向を向き、電場の直交成分49は互いに逆方向を向く。よって、レンズの焦点では、電場のエネルギーの多くを担う電場の平行成分は同位相で干渉し合い、集光スポット57の中央に急峻な電場強度のピークを形成する。
¨Finite−Difference Time−Domain Simulation of Two−Dimensional Photonic Crystal Surface−Emitting Laser Having a Square−Lattice Slab Structure¨, IEICE Transitions on Electronics, vol.E87−C, No. 3, March 2004, pp. 386−392
R.Dorn 他2名、フィジカルレビューレターズ、(米国)、アメリカ物理学会発行、2000年5月25日、91巻、23号233901−1〜233901−4頁(R. Dorn et al., ¨Sharper Focus for a radially polarized Light Beam¨, Physical Review Letters, vol.91, No. 23, pp. 233901−1〜233901−4)
しかし、特許文献1に記載されているフォトニック結晶面発光レーザの構成では、開口数が1/√2≒0.71以下の集光レンズを用いた場合、集光スポットを小さくする効果が得られ難いという問題が生じる。
図20(a)は、開口数約0.2の集光レンズを通過した径偏光環状レーザビームの電場ベクトルを表している。
図20(a−1)は径偏光環状レーザビームのレーザビーム断面の電場ベクトル分布、図20(a−2)は開口数0.2の集光レンズを通過したときの電場ベクトルの傾きを示す図である。
図20(a−2)において、集光レンズ50を通過したレーザビームは、光軸51に対して約11度傾く。
図19(b)で示される高開口数の集光レンズで集光した場合と異なり、図20(a)においては、電場の直交成分49が電場の平行成分48よりも大きくなる。よって、集光のスポット中心57では、電場のエネルギーの殆どを担う直交成分は逆位相で干渉し、互いに弱め合う。
一方で、スポット中心から離れた位置では、電場の直交成分が強め合うように干渉する位置を見出すことができる。
その結果、開口数0.2の集光レンズで集光した径偏光環状レーザビームのスポットは、スポット中心にピークを持つ単峰形状とならない。
図20(a)は、開口数約0.2の集光レンズを通過した径偏光環状レーザビームの電場ベクトルを表している。
図20(a−1)は径偏光環状レーザビームのレーザビーム断面の電場ベクトル分布、図20(a−2)は開口数0.2の集光レンズを通過したときの電場ベクトルの傾きを示す図である。
図20(a−2)において、集光レンズ50を通過したレーザビームは、光軸51に対して約11度傾く。
図19(b)で示される高開口数の集光レンズで集光した場合と異なり、図20(a)においては、電場の直交成分49が電場の平行成分48よりも大きくなる。よって、集光のスポット中心57では、電場のエネルギーの殆どを担う直交成分は逆位相で干渉し、互いに弱め合う。
一方で、スポット中心から離れた位置では、電場の直交成分が強め合うように干渉する位置を見出すことができる。
その結果、開口数0.2の集光レンズで集光した径偏光環状レーザビームのスポットは、スポット中心にピークを持つ単峰形状とならない。
一般に、図20(b)で示されるように、開口数1/√2の集光レンズで集光した場合、集光レンズを通過した径偏光環状レーザビームの電場ベクトル57は光軸51に対して約45°傾き、電場の平行成分48と直交成分49は同じ大きさとなる。
図20(b−1)は従来例における径偏光環状レーザビームのレーザビーム断面の電場ベクトル分布、(b−2)は開口数1/√2〜0.71の集光レンズを通過したときの電場ベクトルの傾きを示す図である。
図19および図20より明らかなように、電場の直行成分を平行成分よりも大きくするためには、集光レンズの開口数が1/√2より小さくなければならず、電場の平行成分を直行成分よりも大きくするためには、集光レンズの開口数が1/√2より大きくなければならない。
また、図19(b)で示されるように、径偏光環状レーザビームにより集光スポットを小さくするためには、少なくとも電場の平行成分が電場の直行成分よりも大きくなる必要がある。
よって、開口数が1/√2より小さい集光レンズで径偏光環状レーザビームを集光させた場合、集光スポットを小さくする効果が得られ難い。
一般に、感光性部材の表面をレーザビームで高速走査する光記録装置および電子写真装置では、レーザビーム走査による光路長の変化を補う焦点深度が必要とされ、開口数>1/√2〜0.71を満たす高開口数の集光レンズを使用することは難しい。
したがって、特許文献1に記載される構成を用いても、光記録装置および電子写真装置において、円周偏光環状のレーザビームの集光スポットを単峰形状とすることは難しい。
図20(b−1)は従来例における径偏光環状レーザビームのレーザビーム断面の電場ベクトル分布、(b−2)は開口数1/√2〜0.71の集光レンズを通過したときの電場ベクトルの傾きを示す図である。
図19および図20より明らかなように、電場の直行成分を平行成分よりも大きくするためには、集光レンズの開口数が1/√2より小さくなければならず、電場の平行成分を直行成分よりも大きくするためには、集光レンズの開口数が1/√2より大きくなければならない。
また、図19(b)で示されるように、径偏光環状レーザビームにより集光スポットを小さくするためには、少なくとも電場の平行成分が電場の直行成分よりも大きくなる必要がある。
よって、開口数が1/√2より小さい集光レンズで径偏光環状レーザビームを集光させた場合、集光スポットを小さくする効果が得られ難い。
一般に、感光性部材の表面をレーザビームで高速走査する光記録装置および電子写真装置では、レーザビーム走査による光路長の変化を補う焦点深度が必要とされ、開口数>1/√2〜0.71を満たす高開口数の集光レンズを使用することは難しい。
したがって、特許文献1に記載される構成を用いても、光記録装置および電子写真装置において、円周偏光環状のレーザビームの集光スポットを単峰形状とすることは難しい。
本発明は、上記課題に鑑み、開口数が1/√2以下の集光レンズで集光した際にも、円周偏光環状のレーザビームの集光スポットを単峰形状とすることを可能とする光学素子、該光学素子を備えた面発光レーザの提供を目的とする。
また、本発明は、上記面発光レーザを露光用光源として備えた電子写真装置の提供を目的とする。
また、本発明は、上記面発光レーザを露光用光源として備えた電子写真装置の提供を目的とする。
本発明の光学素子は、レーザから出射された円周偏光環状のレーザビームを位相制御し、集光レンズによる集光スポットを単峰形状とする光学素子であって、
レーザビームの入射面に該レーザビームが入射する際の入射ベクトル方向と平行する第一の分割平面と、該入射ベクトルと平行し且つ前記第一の分割平面と直交する第二の分割平面とで分割された領域を備え、
前記入射ベクトル方向に進行し、且つ、前記第一の分割平面と平行な方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記入射面に入射する際に、
前記第一の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角を前記レーザビームに与え、
前記入射ベクトル方向に進行し、且つ、前記第二の分割平面と平行な交線の方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記入射面に入射する際に、
前記第二の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角を前記レーザビームに与えることを特徴とする。
また、本発明の面発光レーザは、出射面と直交する方向に円周偏光環状のレーザビームを出射し、該出射されるレーザビームの光路上に位相制御手段を備えた面発光レーザであって、
前記位相制御手段が、上記した光学素子によって構成されていることを特徴とする。
また、本発明の電子写真装置は、上記した面発光レーザが複数配列されて面発光レーザアレイが構成され、該面発光レーザアレイを露光用光源として備える電子写真装置であって、
前記面発光レーザアレイから出射されたレーザビームを感光性部材の表面で集光させる集光レンズを備え、
前記面発光レーザアレイから出射されたレーザビームの中心を一致させる光学系を、前記面発光レーザアレイと前記集光レンズが結ぶ光路上に配置されていることを特徴とする。
レーザビームの入射面に該レーザビームが入射する際の入射ベクトル方向と平行する第一の分割平面と、該入射ベクトルと平行し且つ前記第一の分割平面と直交する第二の分割平面とで分割された領域を備え、
前記入射ベクトル方向に進行し、且つ、前記第一の分割平面と平行な方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記入射面に入射する際に、
前記第一の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角を前記レーザビームに与え、
前記入射ベクトル方向に進行し、且つ、前記第二の分割平面と平行な交線の方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記入射面に入射する際に、
前記第二の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角を前記レーザビームに与えることを特徴とする。
また、本発明の面発光レーザは、出射面と直交する方向に円周偏光環状のレーザビームを出射し、該出射されるレーザビームの光路上に位相制御手段を備えた面発光レーザであって、
前記位相制御手段が、上記した光学素子によって構成されていることを特徴とする。
また、本発明の電子写真装置は、上記した面発光レーザが複数配列されて面発光レーザアレイが構成され、該面発光レーザアレイを露光用光源として備える電子写真装置であって、
前記面発光レーザアレイから出射されたレーザビームを感光性部材の表面で集光させる集光レンズを備え、
前記面発光レーザアレイから出射されたレーザビームの中心を一致させる光学系を、前記面発光レーザアレイと前記集光レンズが結ぶ光路上に配置されていることを特徴とする。
本発明によれば、開口数が1/√2以下の集光レンズで集光した際にも、円周偏光環状のレーザビームの集光スポットを単峰形状とすることを可能とする光学素子、該光学素子を備えた面発光レーザを実現することができる。
また、本発明は、上記面発光レーザを露光用光源として備え解像度を向上させた電子写真装置を実現することができる。
また、本発明は、上記面発光レーザを露光用光源として備え解像度を向上させた電子写真装置を実現することができる。
本発明を実施するための形態を、以下の実施例により説明する。
[実施例1]
実施例1として、本発明を適用した光学素子の構成例について、図1を用いて説明する。
本実施例の光学素子は、つぎのような構成を有している。
レーザビームが入射する入射面である平面7を備え、レーザビームの入射ベクトル8と平行且つ互いに直交する平面5、平面6(以下、平面5を第一の分割平面、平面6を第二の分割平面と記す)によって、第一から第四の4つの領域に分割されている。
そして、これらの領域における対角関係にある一方の第二の領域と第四の領域には、複屈折部材からなる波長板1、波長板2が設置されている。
また、対角関係にある他方の第一の領域と第三の領域には、非複屈折部材からなる光学プレート3、光学プレート4が設置されている。
ここで、入射ベクトルとは、図1の光学素子にレーザビームが入射する際の方向を示すベクトルである。以下において、光学素子に入射するレーザビームは入射ベクトルと平行に進行するものとする。
ここで、説明のために、x軸、y軸、z軸を、それぞれつぎのように定義する。すなわち、入射ベクトル方向と直交するレーザビームが入射する平面7(以下、入射平面と記す)と上記第一の分割平面との交線を、x軸と定義する。
また、上記入射平面と上記第二の分割平面との交線を、y軸と定義する。
また、上記第一の分割平面と第二の分割平面との交線を、z軸と定義する。このとき、該z軸は、上記入射ベクトルと平行となる。
波長板1、2はレーザビームの波長λに対し1/2波長板として機能し、波長板1の進相軸と遅相軸はx軸およびy軸とそれぞれ平行となるよう、また波長板2の進相軸と遅相軸はy軸およびx軸とそれぞれ平行となるように配置されている。
また、光学プレート3、4は、x軸方向に直線偏光したレーザビームが波長板1、2を透過したときと等しい位相回転角をレーザビームに与えるように構成されている。
実施例1として、本発明を適用した光学素子の構成例について、図1を用いて説明する。
本実施例の光学素子は、つぎのような構成を有している。
レーザビームが入射する入射面である平面7を備え、レーザビームの入射ベクトル8と平行且つ互いに直交する平面5、平面6(以下、平面5を第一の分割平面、平面6を第二の分割平面と記す)によって、第一から第四の4つの領域に分割されている。
そして、これらの領域における対角関係にある一方の第二の領域と第四の領域には、複屈折部材からなる波長板1、波長板2が設置されている。
また、対角関係にある他方の第一の領域と第三の領域には、非複屈折部材からなる光学プレート3、光学プレート4が設置されている。
ここで、入射ベクトルとは、図1の光学素子にレーザビームが入射する際の方向を示すベクトルである。以下において、光学素子に入射するレーザビームは入射ベクトルと平行に進行するものとする。
ここで、説明のために、x軸、y軸、z軸を、それぞれつぎのように定義する。すなわち、入射ベクトル方向と直交するレーザビームが入射する平面7(以下、入射平面と記す)と上記第一の分割平面との交線を、x軸と定義する。
また、上記入射平面と上記第二の分割平面との交線を、y軸と定義する。
また、上記第一の分割平面と第二の分割平面との交線を、z軸と定義する。このとき、該z軸は、上記入射ベクトルと平行となる。
波長板1、2はレーザビームの波長λに対し1/2波長板として機能し、波長板1の進相軸と遅相軸はx軸およびy軸とそれぞれ平行となるよう、また波長板2の進相軸と遅相軸はy軸およびx軸とそれぞれ平行となるように配置されている。
また、光学プレート3、4は、x軸方向に直線偏光したレーザビームが波長板1、2を透過したときと等しい位相回転角をレーザビームに与えるように構成されている。
図2を用いて、図1の光学素子に入射ベクトル方向に進行するレーザビームが入射したときの、第一の領域から第四の領域の波長板1、2および光学プレート3、4の屈折率を表す行列について説明する。
行列の(1、1)成分は上記x軸方向に直線偏光したレーザビームが入射したときの屈折率を表し、また行列の(2、2)成分は上記y軸方向に直線偏光したレーザビームが入射したときの屈折率を表している。
ここで、偏光および直線偏光の方向とは電場ベクトルの方向を指す。
光学プレートは非複屈折材料で作られており、屈折率の対角成分はそれぞれ等しくなる。
ここで、第二の領域においてx軸が、また第四の領域においてy軸が設置されたそれぞれの波長板1、2の進相軸52であることと、該行列の非対角成分が零、且つn1<n2と同意である。
また、波長板1、2が1/2波長板として機能することは、波長板1、2の厚さをLとしたとき、入射されるレーザビームの波長λに対してπ=L×(n2−n1)2π/λの関係が成り立つことを意味する。
さらに、図1の光学プレート3、4の厚さL3、L4は、L3×n3+(L−L3)×1=L×n1、およびL4×n4+(L−L4)×1=L×n2の関係を満たすように決められている。
行列の(1、1)成分は上記x軸方向に直線偏光したレーザビームが入射したときの屈折率を表し、また行列の(2、2)成分は上記y軸方向に直線偏光したレーザビームが入射したときの屈折率を表している。
ここで、偏光および直線偏光の方向とは電場ベクトルの方向を指す。
光学プレートは非複屈折材料で作られており、屈折率の対角成分はそれぞれ等しくなる。
ここで、第二の領域においてx軸が、また第四の領域においてy軸が設置されたそれぞれの波長板1、2の進相軸52であることと、該行列の非対角成分が零、且つn1<n2と同意である。
また、波長板1、2が1/2波長板として機能することは、波長板1、2の厚さをLとしたとき、入射されるレーザビームの波長λに対してπ=L×(n2−n1)2π/λの関係が成り立つことを意味する。
さらに、図1の光学プレート3、4の厚さL3、L4は、L3×n3+(L−L3)×1=L×n1、およびL4×n4+(L−L4)×1=L×n2の関係を満たすように決められている。
図3を用いて、図1の光学素子の第一から第四の領域を通過したレーザビームの位相回転角を表す行列について説明する。
位相回転角とは、光学素子を通過するときの光路長から光学素子を通過しなかったときの光路長を引き、2π/λを掛けた角度で定義される。
すなわち、ここで定義される位相回転角とは、光学素子を通過することによる電磁場の振動の位相ズレを表す量に相当し、位相回転角π+m×2π(mは整数を表す)が与えられると、光学素子通過の後の電場ベクトルは光学素子が無い場合と比べて反転する。
図3において、行列の(1、1)成分は上記x軸方向に直線偏光するレーザビームが通過する際の位相回転角を表し、また(2、1)成分は上記y軸方向に直線偏光するレーザビームが通過する際の位相回転角を表している。
図3の行列は、x軸方向に直線偏光したレーザビームが光学素子に入射されるとき、第三および第四領域を通過したレーザビームは第一および第二の領域通過したレーザビームよりも位相回転角がπ大きくなることを表す。
また、y軸方向に直線偏光するレーザビームが光学素子に入射されるとき、上記第二の領域および第三の領域を通過したレーザビームは上記第一の領域および第四の領域を通過したレーザビームよりも、位相回転角がπ大きくなることを表す。
すなわち、図3の行列は、入射ベクトル方向に進行し且つ上記第一の分割平面に平行に直線偏光したレーザビームが入射する、上記第一の分割平面で分割される領域間でπ異なった位相回転角がレーザビームに与えられることを意味する。
また、入射ベクトル方向に進行し且つ上記第二の分割平面に平行に直線偏光したレーザビームが入射するとき、上記第二の分割平面で分割される領域間でπ異なった位相回転角がレーザビームに与えられることを意味する。
以下、分割された領域間にπ異なった位相回転角を与えることを、位相反転と記す。
位相回転角とは、光学素子を通過するときの光路長から光学素子を通過しなかったときの光路長を引き、2π/λを掛けた角度で定義される。
すなわち、ここで定義される位相回転角とは、光学素子を通過することによる電磁場の振動の位相ズレを表す量に相当し、位相回転角π+m×2π(mは整数を表す)が与えられると、光学素子通過の後の電場ベクトルは光学素子が無い場合と比べて反転する。
図3において、行列の(1、1)成分は上記x軸方向に直線偏光するレーザビームが通過する際の位相回転角を表し、また(2、1)成分は上記y軸方向に直線偏光するレーザビームが通過する際の位相回転角を表している。
図3の行列は、x軸方向に直線偏光したレーザビームが光学素子に入射されるとき、第三および第四領域を通過したレーザビームは第一および第二の領域通過したレーザビームよりも位相回転角がπ大きくなることを表す。
また、y軸方向に直線偏光するレーザビームが光学素子に入射されるとき、上記第二の領域および第三の領域を通過したレーザビームは上記第一の領域および第四の領域を通過したレーザビームよりも、位相回転角がπ大きくなることを表す。
すなわち、図3の行列は、入射ベクトル方向に進行し且つ上記第一の分割平面に平行に直線偏光したレーザビームが入射する、上記第一の分割平面で分割される領域間でπ異なった位相回転角がレーザビームに与えられることを意味する。
また、入射ベクトル方向に進行し且つ上記第二の分割平面に平行に直線偏光したレーザビームが入射するとき、上記第二の分割平面で分割される領域間でπ異なった位相回転角がレーザビームに与えられることを意味する。
以下、分割された領域間にπ異なった位相回転角を与えることを、位相反転と記す。
図4は、図1の光学素子に入射される円周偏光環状のレーザビームの断面強度分布10および電場ベクトル9を示す。
また図5は、円周偏光環状のレーザビームにおける電場ベクトルのx軸およびy軸と平行する直線偏光成分13を表す。
図5における直線偏光成分13の色の反転は、電場ベクトルが色の異なる領域で互いに逆方向を向くことを意味している。
さらに、図6は、図1の光学素子を通過した後の電場強度分布10と電場ベクトル9を示す。
また図7は、図1の光学素子を通過した後の、電場ベクトルのx軸およびy軸と平行する直線偏光成分である。
図5および図7から明らかなように、図1の光学素子を通過することで、電場ベクトルの直線偏光成分は分割された領域間でπ異なった位相回転角が与えられ、光学素子を通過後、電場ベクトルの直線偏光成分は同じ方向を向く。
図8は、図6の偏光状態をもつ環状レーザビームを開口数0.1の集光レンズで集光したときの集光スポットを示し、14はスポット中心を示す。集光スポットは、位相反転によって単峰形状となる。
また図5は、円周偏光環状のレーザビームにおける電場ベクトルのx軸およびy軸と平行する直線偏光成分13を表す。
図5における直線偏光成分13の色の反転は、電場ベクトルが色の異なる領域で互いに逆方向を向くことを意味している。
さらに、図6は、図1の光学素子を通過した後の電場強度分布10と電場ベクトル9を示す。
また図7は、図1の光学素子を通過した後の、電場ベクトルのx軸およびy軸と平行する直線偏光成分である。
図5および図7から明らかなように、図1の光学素子を通過することで、電場ベクトルの直線偏光成分は分割された領域間でπ異なった位相回転角が与えられ、光学素子を通過後、電場ベクトルの直線偏光成分は同じ方向を向く。
図8は、図6の偏光状態をもつ環状レーザビームを開口数0.1の集光レンズで集光したときの集光スポットを示し、14はスポット中心を示す。集光スポットは、位相反転によって単峰形状となる。
図9、図10は、比較例として示された、円周偏光環状のレーザビームおよび特許文献1に記載されている径偏光環状レーザビームの、断面強度分布10と電場ベクトル9、および開口径0.1のレンズで集光したときの集光パターンである。14はスポット中心、15はレーザビームの中心である。
何れの場合も、レーザビームの中心に対して向かい合う電場ベクトルは逆方向を向いているため、低開口数のレンズで集光した場合、集光のスポット中心14では破壊的な干渉が生じ、集光パターンは単峰形状とならない。
何れの場合も、レーザビームの中心に対して向かい合う電場ベクトルは逆方向を向いているため、低開口数のレンズで集光した場合、集光のスポット中心14では破壊的な干渉が生じ、集光パターンは単峰形状とならない。
また、一般に、光学部材表面の透過および反射は部材によって異なる。
本発明の構成は、環状レーザビームの中心に対して対称に位置する電場ベクトルの干渉を利用するものであり、光学素子を通過することによる強度分布の変化は少ないことが望まれる。
そのため、本実施例における図1に示される光学素子の波長板1、2および光学プレート3、4の表面には、第一の領域から第四の領域の透過率を等しくする反射防止膜または反射膜もしく吸収膜がコーティングされていることが望ましい。
本発明の構成は、環状レーザビームの中心に対して対称に位置する電場ベクトルの干渉を利用するものであり、光学素子を通過することによる強度分布の変化は少ないことが望まれる。
そのため、本実施例における図1に示される光学素子の波長板1、2および光学プレート3、4の表面には、第一の領域から第四の領域の透過率を等しくする反射防止膜または反射膜もしく吸収膜がコーティングされていることが望ましい。
[実施例2]
実施例2として、実施例1とは異なる形態の光学素子の構成例について、図11を用いて説明する。
図11において、26、29は波長板、27、28は光学プレート、30は第二の分割平面、31は第一の分割平面、32は入射平面、33は入射ベクトルである。該入射ベクトル33は、該入射平面32と直交関係にある。
本実施例の光学素子は、つぎのような構成を有している。
すなわち、レーザビームの入射ベクトル33と平行且つ互いに直交する第一の分割平面31と第二の分割平面30を備える。
また、本実施例の光学素子は、入射ベクトル33と直交し、且つ入射平面32と平行な第一の位相制御板および第二の位相制御板を備える。
第一の位相制御板は、入射ベクトル33と平行な第一の分割平面31で分割されており、1/2波長板26および光学プレート27がそれぞれ配置されている。また、第二の位相制御板は、入射ベクトルと平行且つ第一の分割平面31と直交する第二の分割平面30で分割されており、1/2波長板29および光学プレート28がそれぞれ配置されている。
これらの光学プレート27、28とは、実施例1と同様に非複屈折率部材からなる透明プレートで構成されている。
ここで、説明のために、x軸、y軸、z軸を、それぞれつぎのように定義する。すなわち、入射ベクトル方向と直交するレーザビームが入射する平面32(以下、入射平面と記す)と上記第一の分割平面との交線を、x軸と定義する。
また、上記入射平面と上記第二の分割平面との交線を、y軸と定義する。
また、上記第一の分割平面と第二の分割平面との交線を、z軸と定義する。このとき、該z軸は、上記入射ベクトルと平行となる。
図11において、波長板26の進相軸と遅相軸はx軸およびy軸とそれぞれ平行となるよう、また波長板29の進相軸と遅相軸はy軸およびx軸とそれぞれ平行となるように設置の方向が調整されている。また、光学プレート27は、第二の分割平面と平行な方向に直線偏光したレーザビームが、波長板26を通過したときと等しい位相回転角を前記レーザビームに与えるように構成されている。また、光学プレート28は、第一の分割平面と平行な方向に直線偏光したレーザビームが、波長板29を通過したときと等しい位相回転角を前記レーザビームに与えるように構成されている。
以下、図11の光学素子に入射するレーザビームは入射ベクトルと平行に進行することとする。
実施例2として、実施例1とは異なる形態の光学素子の構成例について、図11を用いて説明する。
図11において、26、29は波長板、27、28は光学プレート、30は第二の分割平面、31は第一の分割平面、32は入射平面、33は入射ベクトルである。該入射ベクトル33は、該入射平面32と直交関係にある。
本実施例の光学素子は、つぎのような構成を有している。
すなわち、レーザビームの入射ベクトル33と平行且つ互いに直交する第一の分割平面31と第二の分割平面30を備える。
また、本実施例の光学素子は、入射ベクトル33と直交し、且つ入射平面32と平行な第一の位相制御板および第二の位相制御板を備える。
第一の位相制御板は、入射ベクトル33と平行な第一の分割平面31で分割されており、1/2波長板26および光学プレート27がそれぞれ配置されている。また、第二の位相制御板は、入射ベクトルと平行且つ第一の分割平面31と直交する第二の分割平面30で分割されており、1/2波長板29および光学プレート28がそれぞれ配置されている。
これらの光学プレート27、28とは、実施例1と同様に非複屈折率部材からなる透明プレートで構成されている。
ここで、説明のために、x軸、y軸、z軸を、それぞれつぎのように定義する。すなわち、入射ベクトル方向と直交するレーザビームが入射する平面32(以下、入射平面と記す)と上記第一の分割平面との交線を、x軸と定義する。
また、上記入射平面と上記第二の分割平面との交線を、y軸と定義する。
また、上記第一の分割平面と第二の分割平面との交線を、z軸と定義する。このとき、該z軸は、上記入射ベクトルと平行となる。
図11において、波長板26の進相軸と遅相軸はx軸およびy軸とそれぞれ平行となるよう、また波長板29の進相軸と遅相軸はy軸およびx軸とそれぞれ平行となるように設置の方向が調整されている。また、光学プレート27は、第二の分割平面と平行な方向に直線偏光したレーザビームが、波長板26を通過したときと等しい位相回転角を前記レーザビームに与えるように構成されている。また、光学プレート28は、第一の分割平面と平行な方向に直線偏光したレーザビームが、波長板29を通過したときと等しい位相回転角を前記レーザビームに与えるように構成されている。
以下、図11の光学素子に入射するレーザビームは入射ベクトルと平行に進行することとする。
図12は、x軸およびy軸と平行に直線偏光したレーザビームが入射したときの、第一の位相制御板および第二の位相制御板の屈折率を表す行列である。
行列の(1、1)成分はx軸と平行に直線偏光するレーザビームが入射したときの屈折率、行列の(2、2)成分はy軸と平行に直線偏光するレーザビームが入射したときの屈折率を表す。
ここで、第一の位相制御板において波長板のx軸が、また第二の位相制御板においてy軸が進相軸であることと、該行列の非対角成分が零、且つn1<n2と同意である。
また、図13において、波長板1、2が1/2波長板として機能することは、波長板1、2の厚さをLとしたとき、入射されるレーザビームの波長λに対してπ=L×(n2−n1)2π/λの関係が成り立つことを意味する。
さらに、光学プレート27の厚さL3は、波長板の厚さをLとしたとき、L3×n3+(L−L3)×1=L×n2を満たすように、光学プレート28の厚さL4はL4×n4+(L−L4)×1=L×n2を満たすように決められている。
行列の(1、1)成分はx軸と平行に直線偏光するレーザビームが入射したときの屈折率、行列の(2、2)成分はy軸と平行に直線偏光するレーザビームが入射したときの屈折率を表す。
ここで、第一の位相制御板において波長板のx軸が、また第二の位相制御板においてy軸が進相軸であることと、該行列の非対角成分が零、且つn1<n2と同意である。
また、図13において、波長板1、2が1/2波長板として機能することは、波長板1、2の厚さをLとしたとき、入射されるレーザビームの波長λに対してπ=L×(n2−n1)2π/λの関係が成り立つことを意味する。
さらに、光学プレート27の厚さL3は、波長板の厚さをLとしたとき、L3×n3+(L−L3)×1=L×n2を満たすように、光学プレート28の厚さL4はL4×n4+(L−L4)×1=L×n2を満たすように決められている。
図13は、第一および第二の位相制御板をレーザビームが通過する際の位相回転角を示す。
行列の(1、1)成分はx軸方向に直線偏光するレーザビームが通過する際の位相回転角、(2、1)成分はy軸方向に直線偏光するレーザビームが通過する際の位相回転角を示している。
第一および第二の位相制御板は以下のように機能する。まず、x軸方向に直線偏光したレーザビームが通過するとき、第一の位相制御板における光学プレート27は波長板26よりも位相回転角がπ大きく位相反転を引き起こし、第二の位相制御板は位相反転を起こさない。
すなわち、光学素子を通過した後、第一の分割平面と平行に直線偏光するレーザビームには、x軸と平行の分割平面31で分割された領域間でπ異なる位相回転角が与えられ位相反転が生じる。
同様に、y軸方向に直線偏光したレーザビームが通過するとき、第一の位相制御板は位相反転を引き起こさず、第二の位相制御板における光学プレート28は波長板29よりも位相回転角がπ大きく位相反転を引き起こす。
すなわち、光学素子を通過した後、第二の分平面と平行に直線偏光するレーザビームには、y軸と平行する分割平面30で分割された領域間でπ異なる位相回転角が与えられ、位相反転が生じる。
行列の(1、1)成分はx軸方向に直線偏光するレーザビームが通過する際の位相回転角、(2、1)成分はy軸方向に直線偏光するレーザビームが通過する際の位相回転角を示している。
第一および第二の位相制御板は以下のように機能する。まず、x軸方向に直線偏光したレーザビームが通過するとき、第一の位相制御板における光学プレート27は波長板26よりも位相回転角がπ大きく位相反転を引き起こし、第二の位相制御板は位相反転を起こさない。
すなわち、光学素子を通過した後、第一の分割平面と平行に直線偏光するレーザビームには、x軸と平行の分割平面31で分割された領域間でπ異なる位相回転角が与えられ位相反転が生じる。
同様に、y軸方向に直線偏光したレーザビームが通過するとき、第一の位相制御板は位相反転を引き起こさず、第二の位相制御板における光学プレート28は波長板29よりも位相回転角がπ大きく位相反転を引き起こす。
すなわち、光学素子を通過した後、第二の分平面と平行に直線偏光するレーザビームには、y軸と平行する分割平面30で分割された領域間でπ異なる位相回転角が与えられ、位相反転が生じる。
図14は、第一および第二の位相制御板を通過後の環状レーザビームの断面強度分布と電場ベクトル、およびx軸、y軸と平行な電場ベクトルの直線偏光成分を示している。
x軸方向に直線偏光した電場ベクトルの成分は、第一の位相制御板を通過した際に、分割面で分割された領域間で位相回転角の差πが生じ、レーザビームの断面内で同じ方向を向く。
同様に、y軸方向に直線偏光した電場ベクトルの成分は、第二の位相制御板を通過した際に、分割面で分割された領域間で位相回転角の差πが生じ、レーザビームの断面内で同じ方向を向く。
図15は、図13で示される光学素子を通過した円周偏光環状のレーザビームの集光パターンである。第一および第二の位相制御板を通過する際に与えられる位相回転角により、集光パターンは単峰形状に転じる。
x軸方向に直線偏光した電場ベクトルの成分は、第一の位相制御板を通過した際に、分割面で分割された領域間で位相回転角の差πが生じ、レーザビームの断面内で同じ方向を向く。
同様に、y軸方向に直線偏光した電場ベクトルの成分は、第二の位相制御板を通過した際に、分割面で分割された領域間で位相回転角の差πが生じ、レーザビームの断面内で同じ方向を向く。
図15は、図13で示される光学素子を通過した円周偏光環状のレーザビームの集光パターンである。第一および第二の位相制御板を通過する際に与えられる位相回転角により、集光パターンは単峰形状に転じる。
[実施例3]
実施例3として、出射面と直交する方向に円周偏光環状のレーザビームを出射し、該出射されるレーザビームの光路上に位相制御手段として本発明の光学素子を適用した面発光レーザの構成例について、図16を用いて説明する。
図16において、25は面内対称軸、39は基板、40は出射面、41aはレーザビーム、53は位相制御手段である。
本実施例の面発光レーザは、面内対称軸を有するフォトニック結晶で構成された共振器を備えたフォトニック結晶面発光レーザ素子として構成され、該フォトニック結晶面発光レーザ素子は、出射面40上に位相制御手段53が具備されている。
図中に示されている第一の分割平面5および第二の分割平面6は、出射面40に直交且つ互いに直交している。
出射面40から該出射面と直交する方向に出射される円周偏光環状のレーザビームにおいて、分割平面5と平行する電場ベクトルの直線偏光成分には、第一の分割平面5で分割される領域間で、π異なる位相回転角が位相制御手段53により与えられる。
同様に、分割平面6と平行する電場ベクトルの直線偏光成分には、第二の分割平面6で分割される領域間でπ異なる位相回転角が位相制御手段53により与えられる。このような位相制御手段は、実施例1ないし実施例2で記述されている光学素子で構成されるようにしてもよい。
実施例3として、出射面と直交する方向に円周偏光環状のレーザビームを出射し、該出射されるレーザビームの光路上に位相制御手段として本発明の光学素子を適用した面発光レーザの構成例について、図16を用いて説明する。
図16において、25は面内対称軸、39は基板、40は出射面、41aはレーザビーム、53は位相制御手段である。
本実施例の面発光レーザは、面内対称軸を有するフォトニック結晶で構成された共振器を備えたフォトニック結晶面発光レーザ素子として構成され、該フォトニック結晶面発光レーザ素子は、出射面40上に位相制御手段53が具備されている。
図中に示されている第一の分割平面5および第二の分割平面6は、出射面40に直交且つ互いに直交している。
出射面40から該出射面と直交する方向に出射される円周偏光環状のレーザビームにおいて、分割平面5と平行する電場ベクトルの直線偏光成分には、第一の分割平面5で分割される領域間で、π異なる位相回転角が位相制御手段53により与えられる。
同様に、分割平面6と平行する電場ベクトルの直線偏光成分には、第二の分割平面6で分割される領域間でπ異なる位相回転角が位相制御手段53により与えられる。このような位相制御手段は、実施例1ないし実施例2で記述されている光学素子で構成されるようにしてもよい。
図17(a)は非特許文献2に記載されているフォトニック結晶面発光レーザから出射される円周偏光環状のレーザビームの断面強度分布10(図中の濃淡)および電場ベクトル9(図中の矢印)の計算結果を示す図である。図17(b)は本実施例のフォトニック結晶構造からなるフォトニック結晶面発光レーザの平面模式図である。図17(b)において、24はフォトニック結晶共振器である。
図17には、本実施例のフォトニック結晶面発光レーザから出射された円周偏光環状のレーザビームが、フォトニック結晶共振器24の形状の影響を受け、その面内対称性を保ったまま、少し歪んだ環状を成すことが示されている。
本実施例の構成によれば、分割平面により分割された領域間の位相回転角を制御し、該分割された領域の電場ベクトルをスポット中心において同位相で干渉させるように構成されている。
そのため、分割平面により分割される領域の電場ベクトルおよび断面強度分布は、該分割平面に対して対称であることが望ましい。
このようなことから、図16で示される位相制御機構53の領域を分割する分割平面の少なくとも一つが、フォトニック結晶共振器の面内対称軸25の少なくとも一つと平行となるように構成される。
図17には、本実施例のフォトニック結晶面発光レーザから出射された円周偏光環状のレーザビームが、フォトニック結晶共振器24の形状の影響を受け、その面内対称性を保ったまま、少し歪んだ環状を成すことが示されている。
本実施例の構成によれば、分割平面により分割された領域間の位相回転角を制御し、該分割された領域の電場ベクトルをスポット中心において同位相で干渉させるように構成されている。
そのため、分割平面により分割される領域の電場ベクトルおよび断面強度分布は、該分割平面に対して対称であることが望ましい。
このようなことから、図16で示される位相制御機構53の領域を分割する分割平面の少なくとも一つが、フォトニック結晶共振器の面内対称軸25の少なくとも一つと平行となるように構成される。
[実施例4]
実施例4として、本発明の面発光レーザが複数配列されて構成された面発光レーザアレイを露光用光源として備える電子写真装置の構成例について、図18を用いて説明する。
図18において、18はミラー、34はフォトニック結晶面発光レーザアレイ、35は集光光学系、36は光学素子、37は円周偏光環状のレーザビーム、38はレンズである。58は集光レンズ、59は感光ドラム、60はポリゴンミラーである。
本実施例の電子写真装置は、実施例1および実施例2で説明された光学素子36をフォトニック結晶面発光レーザアレイ34と集光レンズ58の間の光路上に設置した構成を備える。
そして、該フォトニック結晶面発光レーザアレイ34から出射され該光学素子36を通過した環状レーザビームは、集光レンズ58により感光性部材からなる感光ドラム59上で集光スポットを結ぶように構成されている。
図18に示されるように、フォトニック結晶面発光レーザアレイ34から出射した複数の円周偏光環状のレーザビーム37は、該フォトニック結晶面発光レーザアレイと集光レンズを結ぶ光路上に設置された共通の集光光学系35により集光される。そして、集光光学系の焦点位置でレーザビームの中心が一致するように構成されている。
光学素子36は、該集光光学系35の焦点位置に配置されている。集光光学系35の焦点位置に光学素子を配置することにより、共通の光学素子を用いて、すべてのレーザビームに同じ位相回転角を与えることが可能となる。
なお、以上の説明では本発明の面発光レーザを電子写真装置に適用した例について説明したが、本発明はこのような構成に限定されるものではない。例えば、本発明の面発光レーザは光記録装置等の露光用光源にも好適に適用することができる。
実施例4として、本発明の面発光レーザが複数配列されて構成された面発光レーザアレイを露光用光源として備える電子写真装置の構成例について、図18を用いて説明する。
図18において、18はミラー、34はフォトニック結晶面発光レーザアレイ、35は集光光学系、36は光学素子、37は円周偏光環状のレーザビーム、38はレンズである。58は集光レンズ、59は感光ドラム、60はポリゴンミラーである。
本実施例の電子写真装置は、実施例1および実施例2で説明された光学素子36をフォトニック結晶面発光レーザアレイ34と集光レンズ58の間の光路上に設置した構成を備える。
そして、該フォトニック結晶面発光レーザアレイ34から出射され該光学素子36を通過した環状レーザビームは、集光レンズ58により感光性部材からなる感光ドラム59上で集光スポットを結ぶように構成されている。
図18に示されるように、フォトニック結晶面発光レーザアレイ34から出射した複数の円周偏光環状のレーザビーム37は、該フォトニック結晶面発光レーザアレイと集光レンズを結ぶ光路上に設置された共通の集光光学系35により集光される。そして、集光光学系の焦点位置でレーザビームの中心が一致するように構成されている。
光学素子36は、該集光光学系35の焦点位置に配置されている。集光光学系35の焦点位置に光学素子を配置することにより、共通の光学素子を用いて、すべてのレーザビームに同じ位相回転角を与えることが可能となる。
なお、以上の説明では本発明の面発光レーザを電子写真装置に適用した例について説明したが、本発明はこのような構成に限定されるものではない。例えば、本発明の面発光レーザは光記録装置等の露光用光源にも好適に適用することができる。
1、2:波長板
3、4:光学プレート
5:第一の分割平面
6:第二の分割平面
7:入射平面
8:入射ベクトル
52:進相軸
3、4:光学プレート
5:第一の分割平面
6:第二の分割平面
7:入射平面
8:入射ベクトル
52:進相軸
Claims (7)
- レーザから出射された円周偏光環状のレーザビームを位相制御し、集光レンズによる集光スポットを単峰形状とする光学素子であって、
レーザビームの入射面に該レーザビームが入射する際の入射ベクトル方向と平行する第一の分割平面と、前記入射ベクトル方向と平行し且つ前記第一の分割平面と直交する第二の分割平面とで分割された領域を備え、
前記入射ベクトル方向に進行し、且つ、前記第一の分割平面と平行な方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記入射面に入射する際に、
前記第一の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角を前記レーザビームに与え、
前記入射ベクトル方向に進行し、且つ、前記第二の分割平面と平行な方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記入射面に入射する際に、
前記第二の分割平面で分割される領域間でπ異なる位相回転角を前記レーザビームに与えることを特徴とする光学素子。 - 前記第一の分割平面と第二の分割平面とで分割された領域は、これらの第一と第二の分割平面によって第一から第四の領域に分割され、
前記分割された領域において対角関係にある一方の第二の領域および第四の領域に、1/2波長板がそれぞれ設置され、
前記分割された領域において対角関係にある他方の第一の領域と第三の領域に光学プレートがそれぞれ設置され、
前記第二の領域における1/2波長板は、該1/2波長板の進相軸と遅相軸が前記第一の分割平面および前記第二の分割平面とそれぞれ平行となるように配置されており、
前記第四の領域における1/2波長板は、該1/2波長板の進相軸と遅相軸が前記第二の分割平面および前記第一の分割平面とそれぞれ平行となるように配置されており、
前記第一の領域に設置された光学プレートは、前記第一の分割平面と平行な方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記第二の領域に設置された1/2波長板を通過したときと等しい位相回転角を前記レーザビームに与え、
前記第三の領域に設置された光学プレートは、前記第一の分割平面と平行な方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記第四の領域に設置された1/2波長板を通過したときと等しい位相回転角を前記レーザビームに与えることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。 - 前記レーザビームの入射ベクトル方向と直交する第一の位相制御板と第二の位相制御板を備え、
前記第一の位相制御板は、前記第一の分割平面で分割される領域に1/2波長板と光学プレートとをそれぞれ備え、
前記1/2波長板は、該1/2波長板の進相軸と遅相軸が前記第一の分割平面および前記第二の分割平面とそれぞれ平行となるように配置されており、
前記光学プレートは、前記第一の分割平面と直交する方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記1/2波長板を通過したときと等しい位相回転角を前記レーザビームに与え、
前記第二の位相制御板は、前記第二の分割平面で分割される領域に1/2波長板と光学プレートとをそれぞれ備え、
前記1/2波長板は、該1/2波長板の進相軸と遅相軸が前記第二の分割平面および前記第一の分割平面とそれぞれ平行となるように配置されており、
前記光学プレートは、前記第二の分割平面と直交する方向に直線偏光した前記レーザビームが、前記1/2波長板を通過したときと等しい位相回転角を前記レーザビームに与えることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。 - 前記波長板または光学プレートの表面は、
前記第一の分割平面および第二の分割平面によって分割された領域の透過率を等しくする反射防止膜、反射膜及び吸収膜におけるいずれかの膜によってコーティングされていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光学素子。 - 出射面と直交する方向に円周偏光環状のレーザビームを出射し、該出射されるレーザビームの光路上に位相制御手段を備えた面発光レーザであって、
前記位相制御手段が、請求項1から4のいずれか1項に記載の光学素子によって構成されていることを特徴とする面発光レーザ。 - 請求項5に記載の面発光レーザは、面内対称軸を有するフォトニック結晶で構成された共振器を備え、前記第一の分割平面と前記第二の分割平面の少なくとも一つは、前記共振器の面内対称軸の少なくとも一つと平行となるように構成されていることを特徴とする面発光レーザ。
- フォトニック結晶を共振器に用いた面発光レーザが複数配列されて面発光レーザアレイが構成され、該面発光レーザアレイを露光用光源として備える電子写真装置であって、
前記面発光レーザアレイから出射されたレーザビームを感光性部材の表面で集光させる集光レンズを備え、
前記面発光レーザアレイから出射されたレーザビームの中心を一致させる光学系が、前記面発光レーザアレイと前記集光レンズが結ぶ光路上に配置されており、前記光学系によってレーザビームの中心が一致する位置に、請求項1乃至4に記載の光学素子を備えていることを特徴とする電子写真装置。
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