JP2012036394A - Method for manufacturing optical film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating composition from which an antireflection film can be produced having low reflectance, neutral tone, and excellent scratch resistance, and suitable for mass production with high productivity.SOLUTION: The coating composition contains a first resin component capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN/m or less, a second resin component curable with the first resin component, first inorganic fine particles having an average particle size of 2 to 100 nm, and at least one organic solvent, wherein the first resin component and/or the second resin component have an ionization radiation curable functional group, and the coating composition can give a cured layer by curing. The coating composition in the cured layer contains the first inorganic fine particles unevenly present in a lower part of the cured layer and gives an upper layer and a lower layer having different refractive indices.

Description

本発明は、光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to an optical film, a polarizing plate, an image display device, and a method for producing an optical film.

反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)、電界放出ディスプレイ(FED)、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ(SED)のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。そのため、反射防止フィルムには高い反射防止性能の他に、高い透過率、高い物理強度(耐擦傷性など)、耐薬品性、耐候性(耐湿熱性、耐光性など)が要求される。   Anti-reflection films include liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CRT), field emission display (FED), surface conduction electron-emitting device display (SED). In various image display devices such as), they are arranged on the surface of a display in order to prevent a decrease in contrast due to reflection of external light or reflection of an image. Therefore, in addition to high antireflection performance, the antireflection film is required to have high transmittance, high physical strength (such as scratch resistance), chemical resistance, and weather resistance (such as moisture and heat resistance).

反射防止フィルムに用いる反射防止層(高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層など)としては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から広く用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法により形成することが通常に行われてきた。しかし、蒸着による金属酸化物の透明薄膜の形成方法は生産性が低く大量生産に適しておらず、生産性が高いウエット塗布により形成する方法が提案されている。   As an antireflection layer (a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a low refractive index layer, etc.) used for an antireflection film, a multilayer film obtained by laminating a transparent thin film of metal oxide has been widely used. The metal oxide transparent thin film has been usually formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a vacuum vapor deposition method which is a kind of physical vapor deposition method. However, a method for forming a transparent thin film of metal oxide by vapor deposition has low productivity and is not suitable for mass production, and a method of forming by high-productivity wet coating has been proposed.

反射防止フィルムをウエット塗布で作製する場合、特定の屈折率を有する膜形成組成物を溶剤中に溶解あるいは分散して調整される塗布組成物を透明支持体基に塗布、乾燥、必要に応じて硬化することで、単層又は多層の薄膜を形成することが必要である。単層の場合は、基材(支持体)よりも低屈折率を有する層(低屈折率層)を光学膜厚で設計波長の1/4の膜厚で形成すればよい。更に低反射化が必要な場合には、基材と低屈折率を有する層との間に、透明支持体よりも屈折率の高い層(高屈折率層)を形成すればよく、更に、反射率を低減するためには、高屈折率層の透明基材側に透明基材と高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層を設ける態様も提案されている(特許文献1)。
屈折率の異なる層を複数層形成する場合、2層間の密着性が低いために耐擦傷性が低下する、塗布工程が多くなることで、生産性が低下、コストアップすることがある。それを解決する手段として、屈折率の異なる2層を同時に形成する技術が開示されている(例えば、特許文献2、特許文献3参照)。しかしながら、更なる、低い反射率、ニュートラルな色味、高い耐擦傷性、高い生産性などの改善が望まれている。
When preparing an antireflection film by wet coating, a coating composition prepared by dissolving or dispersing a film-forming composition having a specific refractive index in a solvent is coated on a transparent support base, dried, and if necessary It is necessary to form a single-layer or multilayer thin film by curing. In the case of a single layer, a layer (low refractive index layer) having a lower refractive index than that of the substrate (support) may be formed with an optical film thickness of ¼ of the design wavelength. When lower reflection is required, a layer having a higher refractive index than the transparent support (high refractive index layer) may be formed between the substrate and the layer having a low refractive index. In order to reduce the refractive index, a mode is also proposed in which an intermediate refractive index layer having a refractive index intermediate between the transparent base material and the high refractive index layer is provided on the transparent base material side of the high refractive index layer (Patent Document 1). .
When a plurality of layers having different refractive indexes are formed, the adhesion between the two layers is low, so that the scratch resistance is reduced, and the application process is increased, so that productivity may be reduced and cost may be increased. As means for solving this problem, a technique for simultaneously forming two layers having different refractive indexes has been disclosed (see, for example, Patent Document 2 and Patent Document 3). However, further improvements such as low reflectance, neutral color, high scratch resistance, and high productivity are desired.

特開2003−121606号公報JP 2003-121606 A 特開2004−317734号公報JP 2004-317734 A 特開2004−359930号公報JP 2004-359930 A

本発明の目的は、反射率が低く、色味がニュートラルで耐擦傷性に優れ、かつ生産性がよく大量生産に適した、光学フィルム及び該光学フィルムを作製可能な塗布組成物、並びにその製造方法の提供にある。本発明他の目的は、反射が防止され、表示性能に優れる画像表示装置の提供にある。   An object of the present invention is to provide an optical film having a low reflectance, a neutral color, excellent scratch resistance, good productivity and suitable for mass production, a coating composition capable of producing the optical film, and production thereof. In providing a method. Another object of the present invention is to provide an image display device which is prevented from being reflected and has excellent display performance.

本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1] 30mN/m以下の表面自由エネルギーをもつ硬化層を形成可能な第一の樹脂成分、該第一の樹脂成分と硬化可能な第二の樹脂成分、平均粒径2nm以上100nm以下の第一の無機微粒子、及び少なくとも一種の有機溶剤を含有する塗布組成物であって、第一の樹脂成分及び/又は第二の樹脂成分は電離放射線硬化性官能基を有し、
該塗布組成物は、硬化させることにより硬化層を形成し、該第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在して、屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物。
[2] 前記第一の樹脂成分は、熱硬化型又は電離放射線硬化型の含フッ素化合物である前記[1]に記載の塗布組成物。
[3] 前記含フッ素化合物は、シリコーン構造を分子中に有するか、又は前記塗布組成物が架橋性基を有するシリコーン化合物を含み該シリコーン化合物が含む架橋性基と同じ架橋性基を有する化合物である前記[1]又は[2]に記載の塗布組成物。
[4] 前記第一の無機微粒子が、シランカップリング剤、その部分加水分解物、及びその縮合物から選ばれる少なくとも一種で表面処理された無機微粒子である前記[1]〜[3]のいずれか一項に記載の塗布組成物。
[5] 前記第二の樹脂成分の表面自由エネルギーが、前記第一の樹脂成分の表面自由エネルギーより大きく、第一の樹脂成分の表面自由エネルギーと第二の樹脂成分の表面自由エネルギーの差が、5mN/m以上である前記[1]〜[4]のいずれか一項に記載の塗布組成物。
[6] 前記第一の無機微粒子の表面自由エネルギーが、前記第一の樹脂成分の表面自由エネルギーより大きく、第一の無機微粒子の表面自由エネルギーと第一の樹脂成分の表面自由エネルギーの差が、10mN/m以上である前記[1]〜[5]のいずれか一項に記載の塗布組成物。
[7] 第二の無機微粒子として、屈折率1.46以下の無機微粒子を含有する前記[1]〜[6]のいずれか一項に記載の塗布組成物。
[8] 前記第二の無機微粒子の表面自由エネルギーが、前記第一の無機微粒子の表面自由エネルギーより小さく、第一の無機微粒子の表面自由エネルギーと第二の無機微粒子の表面自由エネルギーの差が、5mN/m以上である前記[7]に記載の塗布組成物。
[9] 透明支持体上に、前記[1]〜[8]のいずれかに一項に記載の塗布組成物を硬化してなる硬化層を有する光学フィルム。
[10] 前記硬化層が、前記光学フィルムの最表層である低屈折率層及びそれに隣接する高屈折率層である前記[9]に記載の光学フィルム。
[11] 偏光膜と、該偏光膜の表側及び裏側の両面を保護する2枚の保護フィルムとを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、前記[9]又は[10]に記載の光学フィルムである偏光板。
[12] 前記[9]又は[10]に記載の光学フィルム、又は前記[11]に記載の偏光板の少なくとも1つを有する画像表示装置。
[13] 透明支持体上に、塗布組成物を硬化してなる層を有する光学フィルムの製造方法であって、前記[1]〜[8]のいずれかに記載の塗布組成物を塗布する工程と、乾燥する工程とを有する光学フィルムの製造方法。
[14] 前記塗布する工程が、透明支持体を送り出した後に、ハードコート層形成用組成物又は中屈折率層形成用組成物とともに、前記塗布組成物をそれぞれ塗布する工程であり、かつ該各層の形成間に巻取り工程を有さない前記[13]に記載の製造方法。
[15] 前記塗布する工程が、透明支持体を送り出した後に、ハードコート層形成用組成物又は中屈折率層形成用組成物とともに、前記塗布組成物をそれぞれ塗布する工程であり、かつ前記ハードコート層形成用組成物、前記中屈折率層形成用組成物、及び前記塗布組成物のうち少なくとも2つの組成物を同時に塗布する工程である前記[13]又は[14]に記載の製造方法。
[16] 更に硬化する工程を有する前記[13]〜[15]のいずれか一項に記載の製造方法。
As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present inventors have found that the above-described problems can be solved and the object can be achieved, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
[1] A first resin component capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN / m or less, a second resin component curable with the first resin component, an average particle size of 2 nm to 100 nm. A coating composition containing one inorganic fine particle and at least one organic solvent, wherein the first resin component and / or the second resin component has an ionizing radiation-curable functional group,
The coating composition is a coating composition in which a cured layer is formed by curing, and the first inorganic fine particles are unevenly distributed under the cured layer to form an upper layer and a lower layer having different refractive indexes.
[2] The coating composition according to [1], wherein the first resin component is a thermosetting or ionizing radiation curable fluorine-containing compound.
[3] The fluorine-containing compound is a compound having a silicone structure in the molecule, or having a crosslinkable group that is the same as the crosslinkable group included in the silicone compound in which the coating composition includes a silicone compound having a crosslinkable group. The coating composition according to [1] or [2].
[4] Any of [1] to [3], wherein the first inorganic fine particles are inorganic fine particles that have been surface-treated with at least one selected from a silane coupling agent, a partial hydrolyzate thereof, and a condensate thereof. The coating composition according to claim 1.
[5] The surface free energy of the second resin component is larger than the surface free energy of the first resin component, and the difference between the surface free energy of the first resin component and the surface free energy of the second resin component is The coating composition according to any one of [1] to [4], which is 5 mN / m or more.
[6] The surface free energy of the first inorganic fine particles is larger than the surface free energy of the first resin component, and the difference between the surface free energy of the first inorganic fine particles and the surface free energy of the first resin component is The coating composition according to any one of [1] to [5], which is 10 mN / m or more.
[7] The coating composition according to any one of [1] to [6], wherein the second inorganic fine particles include inorganic fine particles having a refractive index of 1.46 or less.
[8] The surface free energy of the second inorganic fine particles is smaller than the surface free energy of the first inorganic fine particles, and the difference between the surface free energy of the first inorganic fine particles and the surface free energy of the second inorganic fine particles is The coating composition according to [7], which is 5 mN / m or more.
[9] An optical film having a cured layer obtained by curing the coating composition according to any one of [1] to [8] on a transparent support.
[10] The optical film according to [9], wherein the cured layer is a low refractive index layer that is an outermost layer of the optical film and a high refractive index layer adjacent thereto.
[11] A polarizing plate having a polarizing film and two protective films protecting both the front side and the back side of the polarizing film, wherein at least one of the protective films is as described in [9] or [10] The polarizing plate which is an optical film of description.
[12] An image display device having at least one of the optical film according to [9] or [10] or the polarizing plate according to [11].
[13] A method for producing an optical film having a layer formed by curing a coating composition on a transparent support, the step of applying the coating composition according to any one of [1] to [8] And a method for producing an optical film having a drying step.
[14] The step of applying is a step of applying the coating composition together with the composition for forming a hard coat layer or the composition for forming a medium refractive index layer after feeding the transparent support, and each of the layers. The manufacturing method according to [13], in which no winding step is included between the formations of.
[15] The step of applying is a step of applying the coating composition together with the composition for forming a hard coat layer or the composition for forming a medium refractive index layer after feeding the transparent support, and the hard The production method according to the above [13] or [14], which is a step of simultaneously applying at least two of the coating layer forming composition, the medium refractive index layer forming composition, and the coating composition.
[16] The production method according to any one of [13] to [15], further including a step of curing.

本発明によれば、本発明の塗布組成物を用いることで、屈折率の異なる上層と下層の2層を有し、かつ該第一の無機微粒子が硬化層の下部に偏在する硬化層が製造できるため、低コスト、かつ高い生産性で光学フィルムを生産することができる。また、本発明の塗布組成物から得られる光学フィルムは、表面反射が少なく、反射光の映り込みが少ない。更には、本発明の塗布組成物は特定の条件で、色付が少なく、輝度の高い光源がディスプレイ表面に映りこんだときにも赤紫色や青紫色に着色することがなく、表示品位の低下が少ない光学フィルムが製造できる。また、耐擦傷性の良好な光学フィルムが製造できる。
本発明の光学フィルムは、450nmから650nmまでの積分反射率が2.0%以下が好ましく、1.5%以下がより好ましい、1.0%以下が更に好ましい。反射率を前記の範囲にすることにより、表面反射が少なく、液晶ディスプレイに適用したとき、反射光の映り込みによる視認性の悪化が高いレベルで防止される。更に、色付が少なく、ディスプレイに向かう使用者の背面の蛍光灯等、輝度の高い光源がディスプレイ表面に映りこんだときにも気になるレベルの赤紫色や青紫色の着色がなく、表示品位の低下が少ない。また、低コスト、かつ、高い生産性で生産することができる。また、種々のモードの液晶表示装置に用いる偏光板、有機ELに用いる偏光板とλ/4板を組み合わせた表面保護板、PETフィルムに適用した平面CRTあるいはPDP用表面保護板、SED用表面保護フィルム等、様々なディスプレイに用いることができる。
According to the present invention, by using the coating composition of the present invention, a cured layer having two layers of an upper layer and a lower layer having different refractive indexes and in which the first inorganic fine particles are unevenly distributed in the lower portion of the cured layer is produced. Therefore, an optical film can be produced at low cost and high productivity. Moreover, the optical film obtained from the coating composition of the present invention has less surface reflection and less reflected light. Furthermore, the coating composition of the present invention is less colored and is not colored red-purple or blue-violet even when a light source with high brightness is reflected on the display surface under specific conditions, resulting in poor display quality. An optical film with a small amount can be manufactured. In addition, an optical film having good scratch resistance can be produced.
In the optical film of the present invention, the integrated reflectance from 450 nm to 650 nm is preferably 2.0% or less, more preferably 1.5% or less, and even more preferably 1.0% or less. By setting the reflectance within the above range, there is little surface reflection, and when applied to a liquid crystal display, deterioration of visibility due to reflection of reflected light is prevented at a high level. In addition, there is no coloring, and there is no red-purple or blue-purple coloring that is of concern when a bright light source such as a fluorescent light on the back of the user heading to the display is reflected on the display surface. There is little decrease in Further, it can be produced at low cost and high productivity. In addition, polarizing plates used in various modes of liquid crystal display devices, surface protective plates combining polarizing plates used in organic EL and λ / 4 plates, flat CRT or PDP surface protective plates applied to PET films, SED surface protection It can be used for various displays such as films.

本発明の反射防止フィルムの好ましい1実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one preferable embodiment of the antireflection film of this invention. 本発明を実施したスロットダイ13を用いたコーター10の断面図である。It is sectional drawing of the coater 10 using the slot die 13 which implemented this invention. (A)は本発明のスロットダイ13の断面形状を示し、(B)は従来のスロットダイ30の断面形状を示す。(A) shows the cross-sectional shape of the slot die 13 of the present invention, and (B) shows the cross-sectional shape of the conventional slot die 30. 本発明を実施した塗布工程のスロットダイ13及びその周辺を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the slot die 13 of the application | coating process which implemented this invention, and its periphery. 近接している減圧チャンバー40とウェブWを示す断面図である。(バックプレート40aはチャンバー40本体と一体)It is sectional drawing which shows the pressure reduction chamber 40 and the web W which are adjoining. (The back plate 40a is integrated with the main body of the chamber 40) 本発明を実施した同時重層塗布用のダイコーターの一例である。It is an example of the die coater for simultaneous multilayer coating which implemented this invention.

以下、本発明について説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリル酸」等も同様である。更に、本発明でいう「支持体上」には、該支持体の直接の表面上をいう場合と、該支持体の上に何らかの層(膜)を設けた表面上をいう場合の両方を含む趣旨である。   The present invention will be described below. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . In the present specification, the description “(meth) acrylate” means “at least one of acrylate and methacrylate”. The same applies to “(meth) acrylic acid” and the like. Furthermore, “on the support” as used in the present invention includes both the case where the surface is the direct surface of the support and the case where the surface is a surface where a certain layer (film) is provided on the support. It is the purpose.

本発明の光学フィルム(好ましくは反射防止フィルム)は、透明支持体上に、30mN/m以下の表面自由エネルギーをもつ硬化層を形成可能な第一の樹脂成分、該第一の樹脂成分と硬化可能な第二の樹脂成分、及び平均粒径2nm以上100nm以下の第一の無機微粒子を含有してなる硬化層を有し、第一の樹脂成分及び/又は第二の樹脂成分は電離放射線硬化性官能基を有する光学フィルムであり、該第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在し、かつ該硬化層が屈折率の異なる上層と下層とを有する光学フィルムである。
本明細書では、透明支持体上に形成される、物理的、光学的な機能を有する層を機能層と言う。本発明の光学フィルムは、複数の機能層を硬化層が兼ねるものであり、更に硬化層の他にも、必要に応じてその他の機能層を有することができる。
The optical film of the present invention (preferably an antireflection film) is a first resin component capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN / m or less on a transparent support, and the first resin component and the cured film. It has a cured layer comprising a possible second resin component and first inorganic fine particles having an average particle size of 2 nm to 100 nm, and the first resin component and / or the second resin component is ionizing radiation cured An optical film having a functional functional group, wherein the first inorganic fine particles are unevenly distributed under the cured layer, and the cured layer has an upper layer and a lower layer having different refractive indexes.
In the present specification, a layer having physical and optical functions formed on a transparent support is referred to as a functional layer. In the optical film of the present invention, the cured layer serves as a plurality of functional layers, and may further have other functional layers as required in addition to the cured layer.

〔塗布組成物〕
本発明の塗布組成物は、30mN/m以下の表面自由エネルギーをもつ硬化層を形成可能な第一の樹脂成分、該第一の樹脂成分と硬化可能な第二の樹脂成分、平均粒径2nm以上100nm以下の第一の無機微粒子、及び少なくとも一種の有機溶剤を含有する塗布組成物であって、第一の樹脂成分及び/又は第二の樹脂成分は電離放射線硬化性官能基を有し、該塗布組成物は、硬化させることにより硬化層を形成し、該第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在して、屈折率の異なる上層と下層とを形成する。
[Coating composition]
The coating composition of the present invention comprises a first resin component capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN / m or less, a second resin component curable with the first resin component, and an average particle size of 2 nm. The coating composition containing the first inorganic fine particles of 100 nm or less and at least one organic solvent, wherein the first resin component and / or the second resin component has an ionizing radiation curable functional group, The coating composition is cured to form a cured layer, and the first inorganic fine particles are unevenly distributed under the cured layer to form an upper layer and a lower layer having different refractive indexes.

前記第一の樹脂成分は、熱硬化型又は電離放射線硬化型の含フッ素化合物であることが好ましく、該含フッ素化合物は、シリコーン構造を分子中に有するか、又は塗布組成物が架橋性基を含有するシリコーン化合物を含み該シリコーン化合物が含む架橋性基と同じ架橋性基を有する化合物であることが更に好ましい。   The first resin component is preferably a thermosetting or ionizing radiation curable fluorine-containing compound, and the fluorine-containing compound has a silicone structure in the molecule or the coating composition has a crosslinkable group. It is more preferable that it is a compound having the same crosslinkable group as the crosslinkable group contained in the silicone compound.

本発明の塗布組成物は、硬化層の下部に第一の無機微粒子が偏在することにより硬化層が屈折率の異なる上下層に分離するものである。これにより、本発明の塗布組成物は、複数層を形成する組成物を兼ねることが出来る。また、硬化層については後述の光学フィルムの説明において詳述する。
以下に更に詳述する。
In the coating composition of the present invention, the first inorganic fine particles are unevenly distributed under the cured layer, whereby the cured layer is separated into upper and lower layers having different refractive indexes. Thereby, the coating composition of this invention can serve as the composition which forms multiple layers. The cured layer will be described in detail in the description of the optical film described later.
Further details will be described below.

<第一の樹脂成分>
本発明に用いられる上記第一の樹脂成分としては、硬化して硬化層を形成可能なものであり、上記特定の表面自由エネルギーを持つ硬化層を形成可能な樹脂であれば、特に制限無く用いることができる。
<First resin component>
As said 1st resin component used for this invention, it can harden | cure and can form a hardened layer, If it is resin which can form the hardened layer with the said specific surface free energy, it will use without a restriction | limiting especially. be able to.

前記第一の樹脂成分は、30mN/m以下の表面自由エネルギーを有する硬化層を形成可能な樹脂である。
該表面自由エネルギーは、18〜25mN/mの範囲がより好ましく、20〜23mN/mの範囲が特に好ましい。
上記の範囲とすることにより、層分離を有意に形成することができ、一方、硬化後の表面自由エネルギーが高すぎると層分離が起き難く、反射率の低下、ムラなどが発生することがある。表面自由エネルギーは、強度、塗布性の観点から、上記の好ましい下限以上とすることが好ましい。
The first resin component is a resin capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN / m or less.
The surface free energy is more preferably in the range of 18 to 25 mN / m, and particularly preferably in the range of 20 to 23 mN / m.
By setting the above range, layer separation can be formed significantly. On the other hand, if the surface free energy after curing is too high, layer separation is difficult to occur, and a decrease in reflectance or unevenness may occur. . The surface free energy is preferably set to the above preferable lower limit or more from the viewpoints of strength and applicability.

本発明の塗布組成物に用いられる前記第一の樹脂成分は、熱硬化型又は電離放射線硬化型の含フッ素化合物であるのが好ましい。また、樹脂成分は、樹脂を1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。
上記含フッ素化合物としては、下記の化合物などが挙げられる。
The first resin component used in the coating composition of the present invention is preferably a thermosetting or ionizing radiation curable fluorine-containing compound. Moreover, a resin component can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
Examples of the fluorine-containing compound include the following compounds.

第一の樹脂成分は、架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物であることが好ましく、含フッ素モノマー、オリゴマー、ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材などを用いることが好ましい。架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素モノマー、オリゴマー、ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材としては、熱又は電離放射線により架橋されることが好ましく、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数0.03〜0.30であり、水に対する接触角85〜120°となる素材が好ましい。より好ましくは熱又は電離放射線により架橋する含フッ素モノマー、オリゴマー、ポリマーであり、特に好ましくは熱又は電離放射線により架橋するフッ素ポリマーである。   The first resin component is preferably a fluorine-containing compound having a crosslinkable or polymerizable functional group, and a fluorine-containing monomer, oligomer, polymer, or fluorine-containing sol-gel material is preferably used. The fluorine-containing monomer, oligomer, polymer, or fluorine-containing sol-gel material having a crosslinkable or polymerizable functional group is preferably crosslinked by heat or ionizing radiation, and the dynamic friction coefficient of the formed low refractive index layer surface is 0. A material having a contact angle of 85 to 120 ° with respect to water is preferable. More preferred are fluorine-containing monomers, oligomers and polymers which are crosslinked by heat or ionizing radiation, and particularly preferred are fluoropolymers which are crosslinked by heat or ionizing radiation.

{第一の樹脂成分用含フッ素ポリマー}
第一の樹脂成分用に好適な含フッ素ポリマーは、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。生産性の点からは電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーであることがより好ましく、生産性及び耐擦傷性の点からは分子内に架橋性基としてエチレン性不飽和基を複数有する含フッ素ポリマーが特に好ましい。
また、本発明の光散乱フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、500gf(4.9N)以下が好ましく、300gf(2.9N)以下がより好ましく、100gf(0.98N)以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、0.3GPa以上が好ましく、0.5GPa以上がより好ましい。
{First fluoropolymer for resin component}
The fluorine-containing polymer suitable for the first resin component is a fluorine-containing polymer that is cross-linked by heat or ionizing radiation, which is preferable in terms of improving productivity in the case of applying and curing a roll film while conveying the web. . From the viewpoint of productivity, a fluorine-containing polymer that is crosslinked by ionizing radiation is more preferable, and from the viewpoint of productivity and scratch resistance, a fluorine-containing polymer having a plurality of ethylenically unsaturated groups as crosslinkable groups in the molecule. Particularly preferred.
In addition, when the light scattering film of the present invention is mounted on an image display device, the lower the peel strength from a commercially available adhesive tape, the easier it is to peel off after sticking a seal or memo, so the peel strength is 500 gf (4.9 N). ) Or less, more preferably 300 gf (2.9 N) or less, and most preferably 100 gf (0.98 N) or less. Further, the higher the surface hardness measured with a microhardness meter, the harder it is to scratch. Therefore, the surface hardness is preferably 0.3 GPa or more, and more preferably 0.5 GPa or more.

架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物としては、含フッ素モノマーと架橋性又は重合性の官能基を有するモノマーの共重合体を挙げることができる。含フッ素モノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等である。   Examples of the fluorine-containing compound having a crosslinkable or polymerizable functional group include a copolymer of a fluorine-containing monomer and a monomer having a crosslinkable or polymerizable functional group. Examples of the fluorine-containing monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) (meta ) Partially or fully fluorinated alkyl ester derivatives of acrylic acid (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) or M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like.

架橋性基付与のためのモノマーとしては、1つの態様としては、グリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーを挙げることができる。又別の態様としては、水酸基等の官能基を有するモノマーを用い含フッ素共重合体を合成後、更にそれら置換基を修飾して架橋性若しくは重合性の官能基を導入するモノマーを使用する方法である。これらモノマーとしては、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。後者の態様は特開平10−25388号公報及び特開平10−147739号公報により開示されている。   As an example of the monomer for imparting a crosslinkable group, a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl methacrylate can be exemplified. In another embodiment, after synthesizing a fluorinated copolymer using a monomer having a functional group such as a hydroxyl group, the monomer is further modified to introduce a crosslinkable or polymerizable functional group by modifying the substituent. It is. These monomers include (meth) acrylate monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.) Is mentioned. The latter embodiment is disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 10-25388 and 10-147739.

上記含フッ素共重合体には、溶解性、分散性、塗布性、防汚性、帯電防止性などの観点から、適宜共重合可能な成分を含むことができる。特に防汚性・滑り性付与のためには、シリコーンを導入することが好ましく、主鎖にも側鎖にも導入することができる。
主鎖へのポリシロキサン部分構造導入方法は、例えば特開平6−93100号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド(市販のものではVPS-0501、1001(商品名;ワコー純薬工業(株)社製))等のポリマー型開始剤を用いる方法が挙げられる。
また、側鎖に導入する方法は、例えばJ.Appl.Polym.Sci.2000,78,1955、特開昭56−28219号公報等に記載のごとく、反応性基を片末端に有するポリシロキサン(例えばサイラプレーンシリーズ(チッソ株式会社製)など)を高分子反応によって導入する方法、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができ、どちらの方法も好ましく用いることができる。
From the viewpoints of solubility, dispersibility, coatability, antifouling property, antistatic property and the like, the fluorine-containing copolymer can contain a copolymerizable component as appropriate. In particular, for imparting antifouling properties and slipperiness, it is preferable to introduce silicone, and it can be introduced into both the main chain and the side chain.
The polysiloxane partial structure introduction method to the main chain is, for example, an azo group-containing polysiloxane amide described in JP-A-6-93100 (VPS-0501, 1001 (trade name; Wako Pure Chemical Industries, Ltd. And a method using a polymer-type initiator such as a company)).
Further, the method of introducing into the side chain is, for example, as described in J. Appl. Polym. Sci. 2000, 78, 1955, JP-A-56-28219, etc. For example, a silaplane series (manufactured by Chisso Corporation) can be synthesized by a method of polymer reaction or a method of polymerizing a polysiloxane-containing silicon macromer, and both methods can be preferably used.

上記のポリマーに対しては特開2000−17028号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開2002−145952号に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、上記の2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。また、特開2004−170901号公報に記載のオルガノランの加水分解縮合物も好ましく、特に(メタ)アクリロイル基を含有するオルガノシランの加水分解縮合物が好ましい。
これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
As described in JP 2000-17028 A, a curing agent having a polymerizable unsaturated group may be used in combination with the above polymer. Moreover, combined use with the compound which has a fluorine-containing polyfunctional polymerizable unsaturated group as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-145952 is also preferable. Examples of the compound having a polyfunctional polymerizable unsaturated group include the above-described monomers having two or more ethylenically unsaturated groups. Moreover, the hydrolysis-condensation product of the organolane described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-170901 is also preferable, and the hydrolysis-condensation product of the organosilane containing a (meth) acryloyl group is especially preferable.
These compounds are particularly preferred because they have a large combined effect for improving scratch resistance, particularly when a compound having a polymerizable unsaturated group is used in the polymer body.

ポリマー自身が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。これら化合物の硬化には、有機酸又はその塩を用いるのが好ましい。   When the polymer itself does not have sufficient curability, necessary curability can be imparted by blending a crosslinkable compound. For example, when the polymer body contains a hydroxyl group, various amino compounds are preferably used as the curing agent. The amino compound used as the crosslinkable compound is, for example, a compound containing one or both of a hydroxyalkylamino group and an alkoxyalkylamino group in total, specifically, for example, a melamine compound, Examples include urea compounds, benzoguanamine compounds, glycoluril compounds, and the like. For curing these compounds, an organic acid or a salt thereof is preferably used.

これら含フッ素ポリマーの具体例は、特開2003−222702号公報、特開2003−183322号公報等に記載されている。   Specific examples of these fluoropolymers are described in JP2003-222702A, JP2003-183322A, and the like.

{架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物}
架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物としては、前述のとおり含フッ素モノマーと架橋性又は重合性の官能基を有するモノマーの共重合体を挙げることができる。含フッ素モノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等である。
{Fluorine-containing compounds having crosslinkable or polymerizable functional groups}
Examples of the fluorine-containing compound having a crosslinkable or polymerizable functional group include a copolymer of a fluorine-containing monomer and a monomer having a crosslinkable or polymerizable functional group as described above. Examples of the fluorine-containing monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) (meta ) Partially or fully fluorinated alkyl ester derivatives of acrylic acid (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) or M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like.

また、架橋性を有する含フッ素化合物を用いることもできる。含フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖(例えば−CF2CF3,−CH2(CF2H,−CH2(CF2)8CF3,−CH2CH2(CF2H等)であっても、分岐構造(例えばCH(CF32,CH2CF(CF32,CH(CH3)CF2CF3,CH(CH3)(CF2CF2H等)であっても、脂環式構造(好ましくは5員環又は6員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等)であっても良く、エーテル結合を有していても良い(例えばCH2OCH2CF2CF3,CH2CH2OCH248H,CH2CH2OCH2CH2817,CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。 Further, a fluorine-containing compound having crosslinkability can also be used. As the fluorine-containing compound, a compound having a fluoroalkyl group is preferable. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and a straight chain (for example, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 4 H, —CH 2 (CF 2 ) 8CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H, etc.), even branched structures (eg, CH (CF 3 ) 2 , CH 2 CF (CF 3 ) 2 , CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 , CH (CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H, etc.), but alicyclic structures (preferably 5-membered or 6-membered rings such as perfluorocyclohexyl group, perfluorocyclopentyl group) Or an alkyl group substituted with these, or may have an ether bond (for example, CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 , CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H, etc.). A plurality of the fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.

架橋性基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのコポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。含フッ素化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが20質量%以上であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%であることが最も好ましい。このような架橋性基を有する含フッ素化合物の好ましい例としてはダイキン化学工業(株)製、R−2020、M−2020、R−3833、M−3833(以上商品名)、大日本インキ(株)製、メガファックF−171、F−172、F−179A、ディフェンサMCF−300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   Examples of the crosslinkable group include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group and amino group. The fluorine-based compound may be a copolymer or an oligomer with a compound not containing a fluorine atom, and the molecular weight is not particularly limited. Although there is no restriction | limiting in particular in fluorine atom content of a fluorine-containing compound, It is preferable that it is 20 mass% or more, It is especially preferable that it is 30-70 mass%, It is most preferable that it is 40-70 mass%. Preferred examples of such a fluorine-containing compound having a crosslinkable group include Daikin Chemical Industries, Ltd., R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 (trade names), Dai Nippon Ink Co., Ltd. ) Manufactured by Megafac F-171, F-172, F-179A, and defender MCF-300 (trade name), but are not limited thereto.

{含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物}
第一の樹脂成分として、含フッ素のオルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物も屈折率が低く、塗膜表面の硬度が高い点で好ましく用いることができる。フッ素化アルキル基に対して片末端又は両末端に加水分解性のシラノールを含有する化合物とテトラアルコキシシランの縮合物が好ましい。具体的組成物は、特開2002−265866号公報、317152号公報に記載されている。
{Hydrolysis condensate of fluorine-containing organosilane material}
As the first resin component, a composition mainly composed of a hydrolyzed condensate of a fluorine-containing organosilane compound can also be preferably used because it has a low refractive index and a high hardness on the surface of the coating film. A condensate of a tetraalkoxysilane with a hydrolyzable silanol-containing compound at one or both ends with respect to the fluorinated alkyl group is preferred. The specific composition is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-265866, 317152.

第一の樹脂成分として好適な含フッ素化合物は、前述のようにシリコーン構造を分子中に有するのが好ましいが、塗布組成物中に含フッ素化合物と同じ架橋性基を含有するシリコーン化合物を含んでもよい。
シリコーン構造を分子中に有する化合物としては、下記の化合物などが挙げられる。
The fluorine-containing compound suitable as the first resin component preferably has a silicone structure in the molecule as described above. However, the coating composition may contain a silicone compound containing the same crosslinkable group as the fluorine-containing compound. Good.
Examples of the compound having a silicone structure in the molecule include the following compounds.

架橋性基を含有するシリコーン化合物としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端及び/又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であることがより好ましく、3000〜30000であることが特に好ましく、10000〜20000であることが最も好ましい。シリコーン化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが18.0質量%以上であることが好ましく、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%であることが最も好ましい。好ましいシリコーン化合物の例としては信越化学(株)製、X−22−174DX、X−22−2426、X−22−164B、X22−164C、X−22−170DX、X−22−176D、X−22−1821(以上商品名)やチッソ(株)製、FM−0725、FM−7725、FM−4421、FM−5521、FM6621、FM−1121やGelest製DMS−U22、RMS−033、RMS−083、UMS−182、DMS−H21、DMS−H31、HMS−301、FMS121、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   Examples of the silicone compound containing a crosslinkable group include those having a substituent at the terminal and / or side chain of a compound chain containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units. The compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. It is done. Although there is no restriction | limiting in particular in molecular weight, It is preferable that it is 100,000 or less, It is more preferable that it is 50,000 or less, It is especially preferable that it is 3000-30000, It is most preferable that it is 10,000-20000. Although there is no restriction | limiting in particular in silicone atom content of a silicone compound, it is preferable that it is 18.0 mass% or more, it is especially preferable that it is 25.0-37.8 mass%, and 30.0-37.0 mass. % Is most preferred. Examples of preferred silicone compounds are X-22-174DX, X-22-2426, X-22-164B, X22-164C, X-22-170DX, X-22-176D, X-, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 22-1821 (named above), Chisso Corporation, FM-0725, FM-7725, FM-4421, FM-5521, FM6621, FM-1221, Gelest DMS-U22, RMS-033, RMS-083 , UMS-182, DMS-H21, DMS-H31, HMS-301, FMS121, FMS123, FMS131, FMS141, FMS221 (above trade names) and the like, but are not limited thereto.

前述のシリコーン化合物の添加量は、第一の樹脂成分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜7質量%の場合である。   The silicone compound is preferably added in an amount of 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass of the first resin component. Yes, particularly preferably 0.1 to 7% by mass.

<第二の樹脂成分>
本発明の塗布組成物及び/又は各層の形成用組成物は、第一の樹脂成分と硬化可能な第二樹脂成分を含有する。第二の樹脂成分の好ましい一例としては、熱又は電離放射線により架橋する反応性基を有するモノマー又はオリゴマーが好ましく、2官能基以上を有する多官能モノマーや多官能オリゴマーを有する樹脂成分がより好ましく、3官能基以上を有する多官能モノマーや多官能オリゴマーを有する樹脂成分が更に好ましい。これらの多官能モノマー、オリゴマーは、本発明の塗布組成物を用いて形成する層以外の本発明の光学フィルム、反射防止フィルムが有していてもよい層の形成用組成物にも好ましく含有される。
<Second resin component>
The coating composition of the present invention and / or the composition for forming each layer contains a first resin component and a curable second resin component. As a preferred example of the second resin component, a monomer or oligomer having a reactive group that crosslinks by heat or ionizing radiation is preferable, and a resin component having a polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer having two or more functional groups is more preferable, A resin component having a polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer having three or more functional groups is more preferable. These polyfunctional monomers and oligomers are also preferably contained in the composition for forming a layer that the optical film of the present invention and the antireflection film may have other than the layer formed using the coating composition of the present invention. The

第二の樹脂成分としては、第一の樹脂成分より表面自由エネルギーが大きいことが好ましい。30mN/m以上の表面自由エネルギーを有する硬化層を形成可能な樹脂であることが好ましく、35〜80mN/mの範囲がより好ましく、40〜60mN/mの範囲が特に好ましい。また、第一の樹脂成分と第二の樹脂成分の表面自由エネルギーの差が、5mN/m以上であることが好ましく、10mN/m以上40mN/m以下であることが更に好ましい。
上記の範囲とすることにより、層分離がより形成し易くなる。硬化後の表面自由エネルギーが高すぎても、低すぎても、反射率の低下、ムラなどが発生することがある。表面自由エネルギーは、強度、塗布性の観点から、上記の好ましい下限以上とすることが好ましい。
The second resin component preferably has a larger surface free energy than the first resin component. A resin capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN / m or more is preferable, a range of 35 to 80 mN / m is more preferable, and a range of 40 to 60 mN / m is particularly preferable. The difference in surface free energy between the first resin component and the second resin component is preferably 5 mN / m or more, and more preferably 10 mN / m or more and 40 mN / m or less.
By setting it as the above range, layer separation is more easily formed. If the surface free energy after curing is too high or too low, a decrease in reflectance or unevenness may occur. The surface free energy is preferably set to the above preferable lower limit or more from the viewpoints of strength and applicability.

電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、具体的には、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
The functional group of the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Specific examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Of these, a (meth) acryloyl group is preferable. .

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;等を挙げることができる。
As a specific example of a photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group,
(Meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4- (acryloxy · diethoxy) phenyl} propane and 2-bis {4- (acryloxy · polypropoxy) phenyl} propane And the like.

更にはエポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。   Furthermore, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールトリアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールペンタアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。本明細書において、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクリル酸」、「(メタ)アクリロイル」は、それぞれ「アクリレート又はメタクリレート」、「アクリル酸又はメタクリル酸」、「アクリロイル又はメタクリロイル」を表す。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, a polyfunctional monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable. Specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, (di) pentaerythritol triacrylate, (di) pentaerythritol pentaacrylate, (di) pentaerythritol tetra (meth) acrylate, (di) pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate , Tripentaerythritol hexatriacrylate and the like. In the present specification, “(meth) acrylate”, “(meth) acrylic acid”, and “(meth) acryloyl” represent “acrylate or methacrylate”, “acrylic acid or methacrylic acid”, and “acryloyl or methacryloyl”, respectively. .

モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることが出来る。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
また、例えば特開2005−76005号、同2005−36105号に記載されたデンドリマーや、例えば特開2005−60425号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
As the monomer binder, monomers having different refractive indexes can be used to control the refractive index of each layer. Examples of particularly high refractive index monomers include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like.
Further, for example, dendrimers described in JP-A-2005-76005 and JP-A-2005-36105, and norbornene ring-containing monomers as described in JP-A-2005-60425 can also be used.

多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
上記樹脂成分を用いる場合には、光重合性多官能モノマーの重合反応に用いる光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
Two or more polyfunctional monomers may be used in combination.
When using the said resin component, it is preferable to use the photoinitiator used for the polymerization reaction of a photopolymerizable polyfunctional monomer. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization initiator and a photocationic polymerization initiator are preferable, and a photoradical polymerization initiator is particularly preferable.

(重合開始剤)
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤、金属酸化物粒子及び、必要に応じてマット粒子を含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムのハードコート層を形成することができる。
(Polymerization initiator)
The polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator. Accordingly, a coating liquid containing a monomer having an ethylenically unsaturated group, a photo radical initiator or a thermal radical initiator, metal oxide particles, and, if necessary, matte particles is prepared, and the coating liquid is placed on the transparent support. After coating, it can be cured by a polymerization reaction with ionizing radiation or heat to form a hard coat layer of an antireflection film.

(光ラジカル重合開始剤)
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類(特開2001−139663号公報等に記載)、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、オニウム塩類、ボレート塩、活性ハロゲン化合物などが挙げられる。
(Photo radical polymerization initiator)
As radical photopolymerization initiators, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides (described in JP 2001-139663 A), Examples include 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, onium salts, borate salts, and active halogen compounds.

アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン及び2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。   Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included.

ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。   Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether.

ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン及びp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドが含まれる。   Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

「最新UV硬化技術」{発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行}、p.159、及び「紫外線硬化システム」(加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。   “Latest UV Curing Technology” {Publisher: Kazuhiro Takasato, Publisher; Technical Information Association, 1991}, p. 159, and “UV Curing System” (written by Kiyotsugu Kato, published by General Technology Center in 1989), pages 65 to 148, are described in various examples and are useful for the present invention.

市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー(株)製の商品名「イルガキュア(651,184,907)」等が好ましい例として挙げられる。   As a commercially available photocleavable photoradical polymerization initiator, a trade name “Irgacure (651, 184, 907)” manufactured by Ciba Geigy Japan, Inc. can be mentioned as a preferred example.

光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。   It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.

(光増感剤)
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトン及びチオキサントンを挙げることができる。
(Photosensitizer)
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.

また、上記第二の樹脂成分としては、上述の化合物の他に下記のオルガノシラン化合物も好ましく用いることもできる。   Moreover, as said 2nd resin component, the following organosilane compound other than the above-mentioned compound can also be used preferably.

<低屈折率層用オルガノシラン化合物>
第二の樹脂組成物としては、オルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物(以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する)、の中から選ばれる少なくとも一種を含有させることが、耐擦傷性の点、表面自由エネルギーの点で好ましい。
これらの成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することによりバインダーとして機能する。また、本発明においては、含フッ素化合物として、好ましくは前記含フッ素ポリマーを有するので、活性光線の照射により3次元構造を有するバインダーが形成される。
前記オルガノシラン化合物は、下記一般式(1)で表されるものが好ましい。
一般式(1):(R10m−Si(X)4-m
<Organosilane compound for low refractive index layer>
The second resin composition includes an organosilane compound, a hydrolyzate of the organosilane, and a partial condensate of the hydrolyzate of the organosilane (hereinafter, the obtained reaction solution is also referred to as “sol component”). It is preferable to contain at least one selected from the viewpoints of scratch resistance and surface free energy.
These components function as a binder by applying the curable composition and then condensing in a drying and heating process to form a cured product. In the present invention, since the fluorine-containing compound preferably has the fluorine-containing polymer, a binder having a three-dimensional structure is formed by irradiation with actinic rays.
The organosilane compound is preferably represented by the following general formula (1).
Formula (1) :( R 10) m -Si (X) 4-m

前記一般式(1)において、R10は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜6のものである。
アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Xは、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基(炭素数1〜6のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、及びR2COO(R2は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。例えばCH3COO、C25COO等が挙げられる)で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。mは1〜3の整数を表し、好ましくは1又は2であり、特に好ましくは1である。
In the general formula (1), R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, for example, an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methoxy group or an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I or the like). ) And R 2 COO (R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Examples include CH 3 COO, C 2 H 5 COO, etc.), preferably An alkoxy group, particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group. m represents an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.

10あるいはXが複数存在するとき、複数のR10あるいはXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
When R 10 or X there are a plurality, a plurality of R 10 or X groups may be different, even the same, respectively.
The substituent contained in R 10 is not particularly limited, but a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy etc.), aryloxy (phenoxy etc.) ), Alkylthio groups (methylthio, ethylthio, etc.), arylthio groups (phenylthio, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), acyloxy groups (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxy) Carbonyl, etc.), aryloxy Carbonyl groups (such as phenoxycarbonyl), carbamoyl groups (such as carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl), acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylicamino, methacrylamino) Etc.), and these substituents may be further substituted.

10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基若しくは置換アリール基であることが好ましい。前記一般式(1)で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式(2)で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。 When there are a plurality of R 10 s , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group. Among the organosilane compounds represented by the general formula (1), an organosilane compound having a vinyl polymerizable substituent represented by the following general formula (2) is preferable.

一般式(2)

Figure 2012036394
General formula (2)
Figure 2012036394

前記一般式(2)において、R1は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、及び塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。
Yは単結合若しくは *−COO−**, *−CONH−**又は *−O−**を表し、単結合、 *−COO−**及び *−CONH−**が好ましく、単結合及び *−COO−**が更に好ましく、 *−COO−**が特に好ましい。* は=C(R1)−に結合する位置を、**はLに結合する位置を表す。
In the general formula (2), R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. A hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, and a chlorine atom are preferable, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom, and a chlorine atom are more preferable, and a hydrogen atom and a methyl group Is particularly preferred.
Y represents a single bond or * -COO-**, * -CONH-** or * -O-**, preferably a single bond, * -COO-** or * -CONH-**, * -COO-** is more preferable, and * -COO-** is particularly preferable. * Represents a position bonded to ═C (R 1 ) —, and ** represents a position bonded to L.

Lは2価の連結鎖を表す。具体的には、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミドなど)を有する置換若しくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換若しくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。   L represents a divalent linking chain. Specifically, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group having a linking group (eg, ether, ester, amide, etc.) inside, and a linking group inside. A substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, and an alkylene group having a linking group therein are preferred, an unsubstituted alkylene group and an unsubstituted arylene group Further, an alkylene group having an ether or ester linking group inside is more preferable, an unsubstituted alkylene group, and an alkylene group having an ether or ester linking group inside is particularly preferable. Examples of the substituent include a halogen, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.

nは0又は1を表す。Xが複数存在するとき、複数のXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。nとして好ましくは0である。
10は一般式(1)と同義であり、置換若しくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Xは一般式(1)と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
n represents 0 or 1. When there are a plurality of Xs, the plurality of Xs may be the same or different. n is preferably 0.
R 10 has the same meaning as in formula (1), preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, and more preferably an unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group.
X has the same meaning as in formula (1), preferably a halogen atom, a hydroxyl group, or an unsubstituted alkoxy group, more preferably a chlorine atom, a hydroxyl group, or an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, or a carbon number of 1 -3 alkoxy groups are more preferred, and methoxy groups are particularly preferred.

前記一般式(1)、一般式(2)の化合物は2種類以上を併用しても良い。以下に一般式(1)、一般式(2)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Two or more kinds of the compounds represented by the general formulas (1) and (2) may be used in combination. Specific examples of the compounds represented by general formula (1) and general formula (2) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2012036394
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Figure 2012036394
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上記M−1乃至75で表される化合物の内M−1、M−2、M−49が好ましい。   Of the compounds represented by M-1 to 75, M-1, M-2 and M-49 are preferable.

前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又は部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造される。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類;Zr、Ti又はAlなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数(pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が3.0以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。   The hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound is generally produced by treating the organosilane compound in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; triethylamine, Examples thereof include organic bases such as pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium; metal chelate compounds having a metal such as Zr, Ti or Al as a central metal. In the present invention, it is preferable to use a metal chelate compound, an acid catalyst of inorganic acids and organic acids. Inorganic acids are preferably hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids are preferably those having an acid dissociation constant (pKa value (25 ° C.)) of 4.5 or less in water, and further, acid dissociation constants in hydrochloric acid, sulfuric acid and water. Is preferably an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in hydrochloric acid, sulfuric acid or water, more preferably an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in water. Specifically, methanesulfonic acid, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid are more preferable, and oxalic acid is particularly preferable.

金属キレート化合物としては、一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す)で表されるアルコールとR4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、Ti、Alから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物は、一般式Zr(OR3p1(R4COCHCOR5p2、Ti(OR3q1(R4COCHCOR5q2、及びAl(OR3r1(R4COCHCOR5r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。 As the metal chelate compound, (wherein, R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) Formula R 3 OH alcohol and R 4 COCH 2 COR 5 (formula represented by, R 4 is the number of carbon atoms 1 to 10 alkyl groups, R 5 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a compound represented by an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms), and is selected from Zr, Ti, and Al. Any metal having a central metal as the metal can be used without any particular limitation. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination. The metal chelate compound used in the present invention has the general formula Zr (OR 3 ) p1 (R 4 COCHCOR 5 ) p2 , Ti (OR 3 ) q1 (R 4 COCHCOR 5 ) q2 , and Al (OR 3 ) r1 (R 4 Those selected from the group of compounds represented by COCHCOR 5 ) r2 are preferred and serve to promote the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound.

金属キレート化合物中のR3及びR4は、同一又は異なってもよく炭素数1〜10のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、フェニル基などである。また、R5は、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のp1、p2、q1、q2、r1、及びr2は、それぞれp1+p2=4、q1+q2=4、r1+r2=3となる様に決定される整数を表す。 R 3 and R 4 in the metal chelate compound may be the same or different, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, sec -Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, phenyl group and the like. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as described above, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, and n-butoxy. Group, sec-butoxy group, t-butoxy group and the like. Moreover, p1, p2, q1, q2, r1, and r2 in the metal chelate compound represent integers determined so as to be p1 + p2 = 4, q1 + q2 = 4, and r1 + r2 = 3, respectively.

これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。   Specific examples of these metal chelate compounds include tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propylacetate). Zirconium chelate compounds such as acetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium, diiso Titanium chelate compounds such as propoxy bis (acetylacetone) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropyl Poxyacetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, monoacetylacetonate bis (ethyl) An aluminum chelate compound such as acetoacetate) aluminum.

上記金属キレート化合物の具体例のうち好ましいものは、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することができる。   Among the specific examples of the metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. is there. These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can be used.

本発明では、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下に更に説明する。   In the present invention, it is preferable that a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound is further added to the curable composition. This will be further described below.

本発明で使用されるのは、一般式R4COCH2COR5で表されるβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、R4は炭素数1〜10のアルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基を表す。すなわち、前記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタニウム及び/又はアルミニウム化合物)中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物及び/又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物を構成するR4及びR5は、前記金属キレート化合物を構成するR4及びR5と同様である。 The β-diketone compound and / or β-ketoester compound represented by the general formula R 4 COCH 2 COR 5 is used in the present invention, and is used as a stability improver for the curable composition used in the present invention. It works. Here, R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. That is, by coordinating with the metal atom in the metal chelate compound (zirconium, titanium and / or aluminum compound), the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound by these metal chelate compounds is performed. It is considered that the promoting action is suppressed and the storage stability of the resulting composition is improved. R 4 and R 5 constituting the β- diketone compound and / or β- ketoester compound are the same as R 4 and R 5 constituting the metal chelate compound.

このβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、アセト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−t−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘプタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜20モル用いられる。上記範囲内において、良好な保存安定性が得られる。   Specific examples of the β-diketone compound and / or β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate-n-butyl, acetoacetate. Acetic acid-sec-butyl, acetoacetic acid-t-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane -Dione, 5-methyl-hexane-dione and the like can be mentioned. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and / or β-ketoester compounds may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the β-diketone compound and / or β-ketoester compound is preferably used in an amount of 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal chelate compound. Within the above range, good storage stability can be obtained.

第一の樹脂成分に対する第二の樹脂成分の使用量は、5〜100質量%が好ましく、5〜50質量%がより好ましく、8〜40質量%が更に好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。また、第一の樹脂成分、第二の樹脂成分は、それぞれ1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。   5-100 mass% is preferable, as for the usage-amount of the 2nd resin component with respect to a 1st resin component, 5-50 mass% is more preferable, 8-40 mass% is further more preferable, and 10-30 mass% is especially preferable. . If the amount used is small, it is difficult to obtain the effect of the present invention, and if the amount used is too large, the refractive index increases or the shape / surface shape of the film deteriorates. Moreover, the 1st resin component and the 2nd resin component can each be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

<第一の無機微粒子>
本発明に用いられる上記第一の無機微粒子は、その平均粒径が2nm以上100nm以下の無機微粒子であり、好ましくは平均粒径が5nm以上80nm以下の無機微粒子であり、更に好ましくは10nm以上60nm以下の無機微粒子である。
平均粒径が2nm未満であると、凝集し易く、分散が難しく、100nmを超えると、ヘイズが大きくなる。
上記第一の無機微粒子としては、下記する無機微粒子等が挙げられ、使用に際しては単独若しくは2種以上混合して用いることができる。
<First inorganic fine particles>
The first inorganic fine particle used in the present invention is an inorganic fine particle having an average particle diameter of 2 nm to 100 nm, preferably an inorganic fine particle having an average particle diameter of 5 nm to 80 nm, more preferably 10 nm to 60 nm. The following inorganic fine particles.
When the average particle size is less than 2 nm, the particles easily aggregate and are difficult to disperse. When the average particle size exceeds 100 nm, the haze increases.
Examples of the first inorganic fine particles include the inorganic fine particles described below, and can be used alone or in combination of two or more.

第一の無機微粒子としては、少なくともチタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物を主成分としてなる無機微粒子を用いることが好ましい。これらの無機微粒子は、硬化層の下部に偏在した際に、下部を高屈折率化し、本発明の光学フィルムの反射率を十分に低減するために、高屈折率であることが好ましく、屈折率が1.60〜3.00であることが好ましく、1.80〜2.90であることが更に好ましく、1.90〜2.80であることが特に好ましい。   As the first inorganic fine particles, it is preferable to use inorganic fine particles mainly composed of an oxide of at least one metal selected from at least titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. When these inorganic fine particles are unevenly distributed in the lower part of the cured layer, the lower part preferably has a high refractive index in order to increase the refractive index of the lower part and sufficiently reduce the reflectance of the optical film of the present invention. Is preferably 1.60 to 3.00, more preferably 1.80 to 2.90, and particularly preferably 1.90 to 2.80.

第一の無機微粒子としては、チタン、ジルコニウムのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物を主成分とする金属酸化物のうちより選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を用いることが特に望ましい。また両者のうちでは、耐光性の観点からは、光触媒作用のないジルコニウムが好ましいが、光触媒作用を抑制したチタンを用いることも好ましい。
また、帯電防止の観点からは、導電性の無機微粒子を用いることが望ましく、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子のうちより選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を用いることが望ましい。
第一の無機微粒子は、本発明の光学フィルムで用いられるその他の各層においても、例えば、ハードコート層、中屈折率層において、屈折率調整用の無機微粒子として好適に用いられる。
As the first inorganic fine particles, it is particularly desirable to use at least one metal oxide selected from metal oxides mainly composed of oxides of at least one metal selected from titanium and zirconium. . Of these, zirconium having no photocatalytic action is preferable from the viewpoint of light resistance, but it is also preferable to use titanium in which the photocatalytic action is suppressed.
Also, from the viewpoint of antistatic, it is desirable to use conductive inorganic fine particles, and among the inorganic fine particles mainly composed of an oxide of at least one metal selected from indium, zinc, tin, and antimony. It is desirable to use at least one selected metal oxide.
The first inorganic fine particles are suitably used as inorganic fine particles for adjusting the refractive index in the other layers used in the optical film of the present invention, for example, in the hard coat layer and the medium refractive index layer.

{第一の無機微粒子の表面処理}
また、前記第一の無機微粒子は、表面処理されたものであることが好ましい。表面処理の具体的手段としては、塗布組成物、各層形成用組成物、又はこれらの組成物に添加する分散液中で、分散安定化又はバインダーなどの樹脂成分との親和性・結合性を向上することができれば、特に限定されるものではない。表面処理については、[無機微粒子の分散剤・表面処理剤]の項にて詳述する以外に、第二の樹脂成分として記載したオルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物が好ましく用いられる。
{Surface treatment of first inorganic fine particles}
The first inorganic fine particles are preferably surface-treated. Specific means of surface treatment include dispersion stabilization and improved affinity / binding properties with resin components such as binders in coating compositions, compositions for forming each layer, or dispersions added to these compositions. If it can do, it will not be specifically limited. Regarding the surface treatment, in addition to the detailed description in the section “Dispersant and surface treatment agent for inorganic fine particles”, the organosilane compound described as the second resin component, the hydrolyzate of the organosilane, the organosilane A partial condensate of a hydrolyzate is preferably used.

[無機微粒子の分散剤、表面処理剤]
本発明で使用する無機粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされるのが好ましい。
[Dispersant of inorganic fine particles, surface treatment agent]
Inorganic particles used in the present invention are dispersed in a dispersion liquid or a coating liquid, such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion or to increase affinity and binding properties with a binder component. It is preferable that chemical surface treatment with a physical surface treatment or a surfactant or a coupling agent is performed.

表面処理は、無機化合物又は有機化合物の表面処理剤を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例には、コバルトを含有する無機化合物(CoO2,Co23,Co34など)、アルミニウムを含有する無機化合物(Al23,Al(OH)3など)、ジルコニウムを含有する無機化合物(ZrO2,Zr(OH)4など)、ケイ素を含有する無機化合物(SiO2など)、鉄を含有する無機化合物(Fe23など)などが含まれる。
コバルトを含有する無機化合物、アルミニウムを含有する無機化合物、ジルコニウムを含有する無機化合物が特に好ましく、コバルトを含有する無機化合物、Al(OH)3、Zr(OH)4が最も好ましい。
表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。特にシランカップリング剤(オルガノシラン化合物)、その部分加水分解物、及びその縮合物の少なくとも一種で表面処理されていることが好ましい。
The surface treatment can be carried out using a surface treatment agent of an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include inorganic compounds containing cobalt (CoO 2 , Co 2 O 3 , Co 3 O 4, etc.), inorganic compounds containing aluminum (Al 2 O 3 , Al (OH) 3, etc. Etc.), inorganic compounds containing zirconium (ZrO 2 , Zr (OH) 4 etc.), inorganic compounds containing silicon (SiO 2 etc.), inorganic compounds containing iron (Fe 2 O 3 etc.), etc. .
Inorganic compounds containing cobalt, inorganic compounds containing aluminum, and inorganic compounds containing zirconium are particularly preferred, and inorganic compounds containing cobalt, Al (OH) 3 , and Zr (OH) 4 are most preferred.
Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Silane coupling agents are most preferred. In particular, the surface treatment is preferably performed with at least one of a silane coupling agent (organosilane compound), a partial hydrolyzate thereof, and a condensate thereof.

チタネートカップリング剤としては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、のどのテトライソプロポキシチタンなどの金属アルコキシド、プレンアクト(KR−TTS、KR−46B、KR−55、KR−41Bなど;味の素(株)製)などが挙げられる。
表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、その他アニオン性基を有する有機化合物などが好ましく、特に好ましいのは、カルボキシル基、スルホン酸基、又は、リン酸基を有する有機化合物である。ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸などが好ましく用いることができる。
表面処理に用いる有機化合物は、更に、架橋又は重合性官能基を有することが好ましい。架橋、又は、重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(例えば(メタ)アクリル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する基である。
Examples of titanate coupling agents include metal alkoxides such as tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, and throat tetraisopropoxy titanium, and preneact (KR-TTS, KR-46B, KR-55, KR-41B, etc .; Ajinomoto Co., Inc. ))).
Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, and other organic compounds having an anionic group, and particularly preferable are organic compounds having a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group. is there. Stearic acid, lauric acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid and the like can be preferably used.
The organic compound used for the surface treatment preferably further has a crosslinked or polymerizable functional group. Crosslinkable or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (for example, (meth) acrylic groups, allyl groups, styryl groups, vinyloxy groups, etc.) that can undergo addition reactions and polymerization reactions with radical species, cationic polymerizable groups (Epoxy groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like can be mentioned, and groups having an ethylenically unsaturated group are preferred.

これらの表面処理は、2種類以上を併用することもでき、アルミニウムを含有する無機化合物とジルコニウムを含有する無機化合物を併用することが、特に好ましい。   Two or more kinds of these surface treatments can be used in combination, and it is particularly preferable to use an inorganic compound containing aluminum and an inorganic compound containing zirconium.

カップリング剤も好ましく用いられる。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。シランカップリング剤は部分加水分解物又は縮合物として用いても良い。
上記カップリング剤は、無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時に更に添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
本発明に好ましく用いることのできる表面処理剤及び表面処理用の触媒の具体的化合物は、例えば、WO2004/017105号に記載のオルガノシラン化合物及び触媒を挙げることができる。
A coupling agent is also preferably used. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Of these, silane coupling treatment is particularly effective. The silane coupling agent may be used as a partial hydrolyzate or condensate.
The above-mentioned coupling agent is used as a surface treatment agent for inorganic fine particles in advance for surface treatment prior to the preparation of the coating solution for the layer. Is preferred.
The inorganic fine particles are preferably dispersed in the medium in advance before the surface treatment in order to reduce the load of the surface treatment.
Specific examples of the surface treatment agent and the surface treatment catalyst that can be preferably used in the present invention include organosilane compounds and catalysts described in WO 2004/017105.

本発明に使用する粒子の分散には下記の各種の分散剤も好ましく用いることができる。
分散剤は、更に架橋又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。
The following various dispersants can also be preferably used for dispersing the particles used in the present invention.
The dispersant preferably further contains a cross-linkable or polymerizable functional group. Crosslinkable or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (for example, (meth) acryloyl groups, allyl groups, styryl groups, vinyloxy groups, etc.) that can undergo addition reactions and polymerization reactions with radical species, and cationic polymerizable groups (epoxies). Groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like, and functional groups having an ethylenically unsaturated group are preferred.

無機粒子の分散、特にTiO2を主成分とする無機粒子の分散にはアニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましく、アニオン性基、及び架橋又は重合性官能基を有することがより好ましく、該架橋又は重合性官能基を側鎖に有する分散剤であることが特に好ましい。 It is preferable to use a dispersant having an anionic group for the dispersion of inorganic particles, particularly for the dispersion of inorganic particles containing TiO 2 as a main component, more preferably having an anionic group and a crosslinkable or polymerizable functional group, It is particularly preferable that the dispersant has the cross-linked or polymerizable functional group in the side chain.

アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基(スルホ)、リン酸基(ホスホノ)、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、又はその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基又はその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。1分子当たりの分散剤に含有されるアニオン性基の数は、1分子中に複数種類が含有されていてもよいが、平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。   As the anionic group, a group having an acidic proton such as a carboxyl group, a sulfonic acid group (sulfo), a phosphoric acid group (phosphono), a sulfonamide group, or a salt thereof is effective, and in particular, a carboxyl group, a sulfonic acid group, A phosphoric acid group or a salt thereof is preferable, and a carboxyl group or a phosphoric acid group is particularly preferable. The number of anionic groups contained in the dispersing agent per molecule may be plural, but is preferably 2 or more on average, more preferably 5 or more, Particularly preferred is 10 or more. Moreover, the anionic group contained in a dispersing agent may contain multiple types in 1 molecule.

側鎖にアニオン性基を有する分散剤において、アニオン性基含有繰返し単位の組成は、全繰返し単位のうちの10-4〜100mol%の範囲であり、好ましくは1〜50mol%、特に好ましくは5〜20mol%である。 In the dispersant having an anionic group in the side chain, the composition of the anionic group-containing repeating unit is a 10-4 range ~100Mol% of the total repeating units, preferably 1 to 50 mol%, particularly preferably 5 ˜20 mol%.

分散剤は、更に架橋又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。   The dispersant preferably further contains a cross-linkable or polymerizable functional group. Crosslinkable or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (for example, (meth) acryloyl groups, allyl groups, styryl groups, vinyloxy groups, etc.) that can undergo addition reactions and polymerization reactions with radical species, and cationic polymerizable groups (epoxies). Groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like, and functional groups having an ethylenically unsaturated group are preferred.

1分子当たりの分散剤に含有される架橋又は重合性官能基の数は、平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有される架橋又は重合性官能基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。   The average number of cross-linkable or polymerizable functional groups contained in the dispersant per molecule is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and particularly preferably 10 or more. Moreover, the crosslinking or polymerizable functional group contained in the dispersant may contain a plurality of types in one molecule.

本発明に用いる好ましい分散剤において、側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰返し単位の例としては、ポリ−1,2−ブタジエン及びポリ−1,2−イソプレン構造あるいは、(メタ)アクリル酸のエステル又はアミドの繰返し単位であって、それに特定の残基(−COOR又は−CONHRのR基)が結合しているものが利用できる。上記特定の残基(R基)の例としては、−(CH2)n−CR21=CR2223、−(CH2O)n−CH2CR21=CR2223、−(CH2CH2O)n−CH2CR21=CR2223、−(CH2)n−NH−CO−O−CH2CR21=CR2223、−(CH2)n−O−CO−CR21=CR2223及び−(CH2CH2O)2−X(R21〜R23はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、R21とR22又はR23は互いに結合して環を形成してもよく、nは1〜10の整数であり、そしてXはジシクロペンタジエニル残基である)を挙げることができる。エステル残基のRの具体例には、−CH2CH=CH2(特開昭64−17047号公報記載のアリル(メタ)アクリレートのポリマーに相当)、−CH2CH2O−CH2CH=CH2、−CH2CH2OCOCH=CH2、−CH2CH2OCOC(CH3)=CH2、−CH2C(CH3)=CH2、−CH2CH=CH−C65、−CH2CH2OCOCH=CH−C65、−CH2CH2−NHCOO−CH2CH=CH2及び−CH2CH2O−X(Xはジシクロペンタジエニル残基)が含まれる。アミド残基のRの具体例には、−CH2CH=CH2、−CH2CH2−Y(Yは1−シクロヘキセニル残基)及び−CH2CH2−OCO−CH=CH2、−CH2CH2−OCO−C(CH3)=CH2が含まれる。 In the preferred dispersant used in the present invention, examples of the repeating unit having an ethylenically unsaturated group in the side chain include poly-1,2-butadiene and poly-1,2-isoprene structures, or (meth) acrylic acid. An ester or amide repeating unit to which a specific residue (the R group of —COOR or —CONHR) is bonded can be used. Examples of the specific residue (R group), - (CH 2) n -CR 21 = CR 22 R 23, - (CH 2 O) n-CH 2 CR 21 = CR 22 R 23, - (CH 2 CH 2 O) n-CH 2 CR 21 = CR 22 R 23, - (CH 2) n-NH-CO-O-CH 2 CR 21 = CR 22 R 23, - (CH 2) n-O-CO —CR 21 ═CR 22 R 23 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (R 21 to R 23 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, or an alkoxy group. R 21 and R 22 or R 23 may be bonded to each other to form a ring, n is an integer of 1 to 10, and X is a dicyclopentadienyl residue. There are). Specific examples of R of the ester residue include —CH 2 CH═CH 2 (corresponding to an allyl (meth) acrylate polymer described in JP-A No. 64-17047), —CH 2 CH 2 O—CH 2 CH = CH 2, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH 2, -CH 2 CH 2 OCOC (CH 3) = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5 , —CH 2 CH 2 OCOCH═CH—C 6 H 5 , —CH 2 CH 2 —NHCOO—CH 2 CH═CH 2 and —CH 2 CH 2 O—X (X is a dicyclopentadienyl residue) Is included. Specific examples of R of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (Y is a 1-cyclohexenyl residue) and —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2 , -CH 2 CH 2 -OCO-C ( CH 3) = CH 2 are included.

上記のエチレン性不飽和基を有する分散剤においては、その不飽和結合基にフリーラジカル(重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、分子間で直接、又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、分子間に架橋が形成されて硬化する。あるいは、分子中の原子(例えば不飽和結合基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the dispersant having an ethylenically unsaturated group, a free radical (a polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of the polymerizable compound) is added to the unsaturated bond group, and the polymerizable compound directly or between the molecules. Addition polymerization is carried out through the polymerization chain, and a crosslink is formed between the molecules to cure. Alternatively, atoms in the molecule (for example, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the unsaturated bond group) are extracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded together to form a bridge between the molecules. Harden.

アニオン性基、及び架橋又は重合性官能基を有し、かつ該架橋又は重合性官能基を側鎖に有する分散剤の重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが1000以上であることが好ましい。分散剤のより好ましい重量平均分子量(Mw)は2000〜1000000であり、更に好ましくは5000〜200000、特に好ましくは10000〜100000である。   The weight average molecular weight (Mw) of the dispersant having an anionic group and a crosslinkable or polymerizable functional group and having the crosslinkable or polymerizable functional group in the side chain is not particularly limited, but is preferably 1000 or more. . The more preferable weight average molecular weight (Mw) of the dispersant is 2000 to 1000000, more preferably 5000 to 200000, and particularly preferably 10000 to 100000.

架橋又は重合性官能基の含有単位は、アニオン性基含有繰返し単位以外の全ての繰返し単位を構成していてもよいが、好ましくは全架橋又は繰返し単位のうちの5〜50mol%であり、特に好ましくは5〜30mol%である。   The cross-linkable or polymerizable functional group-containing unit may constitute all repeating units other than the anionic group-containing repeating unit, preferably 5 to 50 mol% of the total cross-linking or repeating unit, particularly Preferably it is 5-30 mol%.

分散剤は、架橋又は重合性官能基、アニオン性基を有するモノマー以外の適当なモノマーとの共重合体であっても良い。共重合成分に関しては特に限定はされないが、分散安定性、他のモノマー成分との相溶性、形成皮膜の強度等種々の観点から選択される。好ましい例としては、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、t‐ブチル(メタ)アクリレート、シクロへキシル(メタ)アクリレート、スチレン等が挙げられる。   The dispersant may be a copolymer with an appropriate monomer other than a monomer having a crosslinking or polymerizable functional group or an anionic group. Although it does not specifically limit regarding a copolymerization component, It selects from various viewpoints, such as dispersion stability, compatibility with another monomer component, and the intensity | strength of a formed film. Preferable examples include methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene and the like.

分散剤の形態は特に制限はないが、ブロック共重合体又はランダム共重合体であることが好ましくコスト及び合成的な容易さからランダム共重合体であることが特に好ましい。   The form of the dispersant is not particularly limited, but is preferably a block copolymer or a random copolymer, and particularly preferably a random copolymer from the viewpoint of cost and ease of synthesis.

分散剤の無機粒子に対する使用量は、1〜50質量%の範囲であることが好ましく、5〜30質量%の範囲であることがより好ましく、5〜20質量%であることが最も好ましい。また、分散剤は2種類以上を併用してもよい。   The amount of the dispersant used relative to the inorganic particles is preferably in the range of 1 to 50% by mass, more preferably in the range of 5 to 30% by mass, and most preferably 5 to 20% by mass. Two or more dispersants may be used in combination.

以下に本発明に好ましく用いられる分散剤の具体例を示すが、本発明用の分散剤はこれらに限定されるものではない。なお特に記載の無い場合はランダム共重合体を表す。   Specific examples of the dispersant preferably used in the present invention are shown below, but the dispersant for the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, it represents a random copolymer.

Figure 2012036394
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[無機微粒子の分散]
無機微粒子は、分散機を用いて分散することができる。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
無機微粒子は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、好ましい重量平均径は前述の粒径に順ずるものである。
[Dispersion of inorganic fine particles]
The inorganic fine particles can be dispersed using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.
The inorganic fine particles are preferably made as fine as possible in the dispersion medium, and the preferred weight average diameter is in accordance with the aforementioned particle diameter.

{第一の無機微粒子の表面自由エネルギー}
前記第一の無機微粒子の表面自由エネルギーは、前記第一の樹脂成分の表面自由エネルギーよりも高く、かつ両者の差が、10mN/m以上であるのが、層分離構造を有利に形成する上で好ましく、15mN/m以上60mN/m以下であるのがより好ましく、20mN/m以上50mN/m以下であるのが特に好ましい。上記の範囲とすることにより、層分離を有意に形成することができ、一方、表面自由エネルギーが高すぎても、低すぎても、反射率の低下、ムラなどが発生することがある。表面自由エネルギーは、強度、塗布性の観点から、上記の好ましい範囲とすることが好ましい。
{Surface free energy of the first inorganic fine particles}
The surface free energy of the first inorganic fine particles is higher than the surface free energy of the first resin component, and the difference between the two is 10 mN / m or more in order to advantageously form a layer separation structure. And more preferably 15 mN / m or more and 60 mN / m or less, and particularly preferably 20 mN / m or more and 50 mN / m or less. By setting the above range, layer separation can be formed significantly. On the other hand, if the surface free energy is too high or too low, a decrease in reflectance, unevenness, or the like may occur. The surface free energy is preferably within the above-mentioned preferable range from the viewpoints of strength and applicability.

無機微粒子の表面自由エネルギーは、塗布組成物を静止沈降又は遠心分離後、溶剤洗浄を繰り返し、無機微粒子以外の成分を取り除いた後、洗浄した硝子版上にキャスト、溶剤を乾燥し、薄膜状にした無機微粒子の水及びヨウ化メチレンの接触角を用いて算出することができる。樹脂成分など他の成分の表面自由エネルギーも同様にして算出することができる。
上記第一の無機微粒子の塗布組成物における配合割合は、塗布組成物を各層の形成用組成物として用いる場合の各層における無機微粒子の含有量に合わせて調節できる。
The surface free energy of the inorganic fine particles is obtained by statically settling or centrifuging the coating composition, repeating solvent washing, removing components other than inorganic fine particles, casting on the washed glass plate, drying the solvent, and forming a thin film. It can calculate using the contact angle of water and methylene iodide of the inorganic fine particles. The surface free energy of other components such as a resin component can be calculated in the same manner.
The mixing ratio of the first inorganic fine particles in the coating composition can be adjusted according to the content of the inorganic fine particles in each layer when the coating composition is used as the composition for forming each layer.

<第二の無機微粒子>
また、本発明の塗布組成物においては、上述の各成分の他に第二の無機微粒子として、屈折率1.46以下、より望ましくは屈折率1.17〜1.46、特に好ましくは1.17〜1.40、更に好ましくは1.17〜1.35、最も好ましくは1.17〜1.32の無機微粒子を含有するのが好ましい。第二の無機微粒子は、硬化層の上部に偏在して、耐擦傷性の向上、屈折率の低下に寄与するため、低屈折率であることが望ましい。
上記第二の無機微粒子としては、下記する無機微粒子等が挙げられ、使用に際しては単独若しくは2種以上混合して用いることができる。
このような第二の無機微粒子の具体例としては、例えば、フッ化マグネシウムや酸化珪素(シリカ)の微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は10nm以上100nm以下が好ましく、より好ましくは15nm以上80nm以下、更に好ましくは、30nm以上60nm以下である。
前記無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると硬化層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
<Second inorganic fine particles>
Further, in the coating composition of the present invention, as the second inorganic fine particles in addition to the above-described components, a refractive index of 1.46 or less, more desirably a refractive index of 1.17 to 1.46, particularly preferably 1. It is preferable to contain inorganic fine particles of 17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and most preferably 1.17 to 1.32. The second inorganic fine particles are unevenly distributed in the upper part of the hardened layer and contribute to the improvement of scratch resistance and the reduction of the refractive index.
Examples of the second inorganic fine particles include the inorganic fine particles described below, and these can be used alone or in combination of two or more.
Specific examples of such second inorganic fine particles include fine particles of magnesium fluoride and silicon oxide (silica). In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost.
The average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 10 nm to 100 nm, more preferably 15 nm to 80 nm, and still more preferably 30 nm to 60 nm.
If the particle size of the inorganic fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. It is preferable to be within the above-mentioned range. The inorganic fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
Here, the average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a Coulter counter.

前記無機微粒子は、中空構造であるのが更に好ましい。中空構造の無機微粒子の場合に屈折率は外殻の無機質のみの屈折率を表すものではなく、粒子全体の平均の値を示す。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式(II)で表される空隙率xは
(数式II): x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100であり、好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。
中空の無機微粒子の屈折率をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。なお、無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定できる。
More preferably, the inorganic fine particles have a hollow structure. In the case of inorganic fine particles having a hollow structure, the refractive index does not represent the refractive index of the outer shell only, but represents the average value of the entire particle. At this time, the radius of the cavity inside the particle a, when the radius of the outer shell of the particle b, the porosity x represented by the following formula (II) (Formula II): x = (4πa 3 /3) / (4πb 3/3) a × 100, preferably from 10% to 60%, further preferably 20 to 60%, most preferably 30 to 60%.
If the refractive index of the hollow inorganic fine particles is made lower and the porosity is increased, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, the refractive index is 1 Particles with a low refractive index of less than .17 do not hold. The refractive index of the inorganic fine particles can be measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

第二の無機微粒子の量は、第一の樹脂成分の10〜60質量%であることが好ましく、15〜55質量%であることがより好ましく、20〜50質量%であることが特に好ましい。量が多すぎても、多すぎても膜が弱くなり、また多すぎると、硬化層の下部に偏在する粒子が存在して、反射率低減効果が薄れる。   The amount of the second inorganic fine particles is preferably 10 to 60% by mass of the first resin component, more preferably 15 to 55% by mass, and particularly preferably 20 to 50% by mass. If the amount is too large or too large, the film becomes weak. If the amount is too large, there are particles unevenly distributed in the lower portion of the cured layer, and the effect of reducing the reflectivity is reduced.

第二の無機微粒子として、小サイズ無機微粒子を併用してもよい。小サイズの無機微粒子の粒径は、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、8nm以上15nm以下が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コスト及び保持剤効果の点で好ましい。   Small inorganic fine particles may be used in combination as the second inorganic fine particles. The particle size of the small-sized inorganic fine particles is preferably 1 nm to 20 nm, more preferably 5 nm to 15 nm, and particularly preferably 8 nm to 15 nm. Use of such inorganic fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、第二の無機微粒子、特に低屈折率層を形成する場合の低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられることが好ましく、該層塗布液調製時に更に添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
Inorganic fine particles are treated with physical surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to improve the affinity and binding properties with the binder component. Chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed. Of these, the use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Of these, silane coupling treatment is particularly effective.
The coupling agent is used as a surface treatment agent for the second inorganic fine particles, particularly the inorganic fine particles of the low refractive index layer in the case of forming the low refractive index layer, in order to perform a surface treatment in advance before preparing the coating liquid for the layer. It is preferable to add it as an additive at the time of preparing the layer coating solution, and to add it to the layer.
The inorganic fine particles are preferably dispersed in the medium in advance before the surface treatment in order to reduce the load of the surface treatment.

第二の無機微粒子は第一の無機微粒子より表面自由エネルギーが小さいことが好ましく、表面処理剤で表面自由エネルギーを制御するためには、含フッ素のオルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物が好ましく用いられる。具体的な化合物の一例を下記に示す。   The second inorganic fine particles preferably have a smaller surface free energy than the first inorganic fine particles. In order to control the surface free energy with the surface treatment agent, a fluorine-containing organosilane compound, a hydrolyzate of the organosilane, A partial condensate of the hydrolyzate of organosilane is preferably used. An example of a specific compound is shown below.

Figure 2012036394
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また前記第二の無機微粒子は、上記含フッ素の化合物での表面処理に加えて、前記第一の無機微粒子の表面処理に用いた表面処理剤と併用することも好ましい。本発明において、第二の無機微粒子の表面処理剤のうちフッ素含有化合物の質量%は5%以上100%以下が好ましく、更に好ましくは15%以上90%以下である。表面処理剤を併用することで、第二の無機微粒子の表面自由エネルギーを調節することが容易になり、硬化性樹脂との結合性を付与することも可能となる。   In addition to the surface treatment with the fluorine-containing compound, the second inorganic fine particles are also preferably used in combination with the surface treatment agent used for the surface treatment of the first inorganic fine particles. In the present invention, the mass% of the fluorine-containing compound in the surface treatment agent for the second inorganic fine particles is preferably 5% or more and 100% or less, and more preferably 15% or more and 90% or less. By using the surface treatment agent in combination, it becomes easy to adjust the surface free energy of the second inorganic fine particles, and it is possible to impart the binding property to the curable resin.

また、前記第二の無機微粒子の表面自由エネルギーは、第一の無機微粒子の表面自由エネルギーよりも低く、かつ両者の差が5mN/m以上であることが、第二の無機微粒子を層の上部に偏在させる観点から好ましく、7mN/m以上50mN/mであることがより好ましく、10mN/m以上40mN/mであることが更に好ましい。この範囲にすることで、同一塗布液から両粒子が分離して層を形成しやすくなる。
本発明の光学フィルム、反射防止フィルムで用いられる各層の形成用組成物として上記塗布組成物を用いる場合、例えば低屈折率層の形成用組成物の場合には、第二の無機微粒子として低屈折率層で好適に用いられる無機微粒子を用いることができる。
上記第二の無機微粒子の塗布組成物における配合割合は、塗布組成物を各層の形成用組成物として用いる場合の各層における無機微粒子の含有量に合わせて調節できる。
Further, the surface free energy of the second inorganic fine particles is lower than the surface free energy of the first inorganic fine particles, and the difference between the two is 5 mN / m or more. From the viewpoint of uneven distribution, it is more preferably 7 mN / m or more and 50 mN / m, further preferably 10 mN / m or more and 40 mN / m. By setting it in this range, both particles are separated from the same coating solution and a layer is easily formed.
When the coating composition is used as a composition for forming each layer used in the optical film or antireflection film of the present invention, for example, in the case of a composition for forming a low refractive index layer, the second inorganic fine particles have a low refractive index. Inorganic fine particles suitably used in the rate layer can be used.
The blending ratio of the second inorganic fine particles in the coating composition can be adjusted in accordance with the content of the inorganic fine particles in each layer when the coating composition is used as the composition for forming each layer.

<有機溶剤>
本発明に用いられる上記有機溶剤としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は2種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が100℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶剤を少量(沸点が100℃以下の溶剤100質量部に対して沸点が100℃以上の溶剤1〜50質量部、より好ましくは2〜40質量部、特に好ましくは3〜30質量部)含有させることが好ましい。沸点の異なる有機溶剤を少なくとも2種併用することで、無機微粒子の下部偏在、バインダーの分離がし易くなる。
<Organic solvent>
As the organic solvent used in the present invention, it is possible to dissolve or disperse each component, to easily form a uniform surface in the coating process and the drying process, to ensure liquid storage stability, and to have an appropriate saturated vapor pressure. It is possible to use various solvents selected in view of the above.
Two or more kinds of solvents can be mixed and used. In particular, from the viewpoint of drying load, the main component is a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower at normal pressure and room temperature, and a small amount of solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher for adjusting the drying speed (100 mass of solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower). 1 to 50 parts by mass, more preferably 2 to 40 parts by mass, and particularly preferably 3 to 30 parts by mass) of a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher. By using at least two kinds of organic solvents having different boiling points, it becomes easy to disperse the lower part of the inorganic fine particles and to separate the binder.

沸点が100℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテル(68.5℃)、ジプロピルエーテル (90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。   Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point 68.7 ° C.), heptane (98.4 ° C.), cyclohexane (80.7 ° C.), benzene (80.1 ° C.), Halogenated carbonization such as dichloromethane (39.8 ° C), chloroform (61.2 ° C), carbon tetrachloride (76.8 ° C), 1,2-dichloroethane (83.5 ° C), trichloroethylene (87.2 ° C) Hydrogens, diethyl ether (34.6 ° C), diisopropyl ether (68.5 ° C), dipropyl ether (90.5 ° C), ethers such as tetrahydrofuran (66 ° C), ethyl formate (54.2 ° C), Esters such as methyl acetate (57.8 ° C.), ethyl acetate (77.1 ° C.), isopropyl acetate (89 ° C.), acetone (56.1 ° C.), 2-butanone (methyl ether) Ketones such as Luketone, 79.6 ° C, methanol (64.5 ° C), ethanol (78.3 ° C), 2-propanol (82.4 ° C), 1-propanol (97.2 ° C), etc. Alcohols, cyano compounds such as acetonitrile (81.6 ° C.), propionitrile (97.4 ° C.), carbon disulfide (46.2 ° C.), and the like. Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.

沸点が100℃以上の溶剤としては、例えば、オクタン(125.7℃)、トルエン(110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノンである。   Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C or higher include, for example, octane (125.7 ° C), toluene (110.6 ° C), xylene (138 ° C), tetrachloroethylene (121.2 ° C), chlorobenzene (131.7 ° C), Dioxane (101.3 ° C.), dibutyl ether (142.4 ° C.), isobutyl acetate (118 ° C.), cyclohexanone (155.7 ° C.), 2-methyl-4-pentanone (same as MIBK, 115.9 ° C.), Examples thereof include 1-butanol (117.7 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like. Cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone are preferable.

2種類以上の有機溶剤を使用するもう1つの好ましい例としては、沸点の差が特定の値より大きい2種類の溶剤を使うことが挙げられる。2種の溶媒の沸点の差が25℃以上であることが好ましく、35℃以上が特に好ましく、50℃以上が更に好ましい。沸点の差が大きいことで、無機微粒子の下部偏在、バインダーの分離がし易くなる。   Another preferred example of using two or more kinds of organic solvents is to use two kinds of solvents having a difference in boiling point greater than a specific value. The difference between the boiling points of the two solvents is preferably 25 ° C. or higher, particularly preferably 35 ° C. or higher, and further preferably 50 ° C. or higher. A large difference in boiling points facilitates the uneven distribution of the inorganic fine particles and the separation of the binder.

上記有機溶剤の配合割合は、固形分濃度が2〜30質量%になるように添加するのが好ましく、3〜20質量%になるように添加するのがより好ましく、5〜15質量%になるように添加するのが特に好ましい。固形分濃度が低すぎると乾燥に時間がかかる、乾燥起因の膜厚ムラが出易いなどの懸念があり、固形分濃度が高すぎると粒子の偏在が十分に起こらない、塗布量が少なくなり、塗布ムラが出易いなどの懸念がある。   The blending ratio of the organic solvent is preferably added so that the solid content concentration is 2 to 30% by mass, more preferably 3 to 20% by mass, and more preferably 5 to 15% by mass. It is particularly preferable to add them as described above. If the solid content concentration is too low, it takes time to dry, and there is a concern that film thickness unevenness due to drying is likely to occur.If the solid content concentration is too high, uneven distribution of particles does not occur sufficiently, the coating amount decreases, There is concern that uneven coating tends to occur.

本発明の塗布組成物においては、上述の各成分以外に他の添加剤を添加して用いることもできる。本発明において用いることができる上記の他の添加剤としては、下記の添加剤などが挙げられる。   In the coating composition of the present invention, other additives can be added and used in addition to the above-described components. Examples of the other additives that can be used in the present invention include the following additives.

<レベリング剤>
ムラ防止を目的として各種のレベリング剤を使用することができる。レベリング剤としては、具体的にはフッ素系レベリング剤、又はシリコーン系レベリング剤が好ましく、特にフッ素系レベリング剤はムラ防止能が高く、好ましい。
また、レベリング剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。
<Leveling agent>
Various leveling agents can be used for the purpose of preventing unevenness. Specifically, as the leveling agent, a fluorine-based leveling agent or a silicone-based leveling agent is preferable, and in particular, a fluorine-based leveling agent is preferable because of its high unevenness preventing ability.
The leveling agent is preferably an oligomer or a polymer rather than a low molecular compound.

以下ではレベリング剤として好ましいフッ素系レベリング剤について説明する。シリコーン系レベリング剤については後述する。   Hereinafter, a preferred fluorine-based leveling agent as the leveling agent will be described. The silicone leveling agent will be described later.

フッ素系レベリング剤としては、フルオロ脂肪族基を有する重合体が好ましく、更に下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)の重合体、又は下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)及び下記(ii)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。このような単量体としては、PolymerHandbook2nd ed.,J.Brandrup,Wiley lnterscience(1975)Chapter 2,Page 1〜483記載のものを用いることが出来る。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を1個有する化合物等をあげることができる。
As the fluorine leveling agent, a polymer having a fluoroaliphatic group is preferable, and a polymer of a repeating unit (polymerization unit) corresponding to the monomer (i) below or a repeating unit corresponding to the monomer (i) below. An acrylic resin, a methacrylic resin, and a copolymer with a vinyl monomer copolymerizable therewith are useful, including (polymerized unit) and a repeating unit (polymerized unit) corresponding to the monomer (ii) below. Examples of such monomers include Polymer Handbook 2nd ed. , J .; Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2, Pages 1-483 can be used.
For example, a compound having one addition polymerizable unsaturated bond selected from acrylic acid, methacrylic acid, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, etc. I can give you.

(i)下記一般式1で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー   (I) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula 1

一般式1

Figure 2012036394
General formula 1
Figure 2012036394

上記一般式1において、R1は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基が好ましい。Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R12)−を表し、酸素原子又は−N(R12)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R12は水素原子又は置換基を有しても良い炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。Rfは−CF3又は−CF2Hを表す。
一般式1中のmは1〜6の整数を表し、1〜3がより好ましく、1であることが更に好ましい。
一般式1中のnは1〜11の整数を表し、1〜9がより好ましく、1〜6が更に好ましい。Rfは−CF2Hが好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式1で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される重合単位が2種類以上構成成分として含まれていても良い。
In the general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 12 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 12 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
M in the general formula 1 represents an integer of 1 to 6, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1.
N in the general formula 1 represents an integer of 1 to 11, more preferably 1 to 9, and still more preferably 1 to 6. R f is preferably —CF 2 H.
In addition, two or more kinds of polymer units derived from the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula 1 may be contained in the fluorine-based polymer as a constituent component.

(ii)上記(i)と共重合可能な下記一般式2で示されるモノマー   (Ii) Monomer represented by the following general formula 2 copolymerizable with the above (i)

一般式2

Figure 2012036394
General formula 2
Figure 2012036394

上記一般式2において、R13は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Yは酸素原子、イオウ原子又は−N(R15)−を表し、酸素原子又は−N(R15)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R15は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。
14は、置換基を有しても良い炭素数1〜60の直鎖、分岐状、あるいは環状のアルキル基、又は置換基を有していても良い芳香族基(例えば、フェニル基又はナフチル基)を表す。該アルキル基はポリ(アルキレンオキシ)基を含んでも良い。更に、炭素数1〜20の直鎖、分岐状あるいは環状のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜10の直鎖、分岐状のアルキル基が極めて好ましい。
In the general formula 2, R 13 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, a hydrogen atom, more preferably a methyl group. Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 15 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 15 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 15 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R 14 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 60 carbon atoms which may have a substituent, or an aromatic group which may have a substituent (for example, phenyl group or naphthyl). Group). The alkyl group may include a poly (alkyleneoxy) group. Furthermore, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is very preferable.

好ましいフッ素系ポリマーの製造に用いられる上記一般式1で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの単量体全量に基づいて、10質量%以上であり、好ましくは50質量%以上であり、より好ましくは70〜100質量%であり、更に好ましくは80〜100質量%の範囲である。   The amount of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the above general formula 1 used for the production of a preferred fluoropolymer is 10% by mass or more, preferably 50% by mass based on the total amount of the monomer of the fluoropolymer. % Or more, More preferably, it is 70-100 mass%, More preferably, it is the range of 80-100 mass%.

以下、好ましいフッ素系ポリマーの具体的な構造例を示すがこの限りではない。
なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。
Hereinafter, although the specific structural example of a preferable fluorine-type polymer is shown, it is not this limitation.
In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.

Figure 2012036394
Figure 2012036394

Figure 2012036394
Figure 2012036394

Figure 2012036394
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Figure 2012036394
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Figure 2012036394
Figure 2012036394

Figure 2012036394
Figure 2012036394

フッ素系ポリマーを構成するフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位の量は、10質量%を超えることが好ましく、50〜100質量%であることがより好ましく、光散乱層のムラを防止するという観点を重視すれば、75〜100質量%であることが最も好ましく、光散乱層の上に低屈折率層を塗布する場合は、50〜75質量%であることが最も好ましい。(該フッ素系ポリマーを構成する全重合単位で記載した)   The amount of polymerized units of the fluoroaliphatic group-containing monomer constituting the fluoropolymer is preferably more than 10% by mass, more preferably 50 to 100% by mass, and the viewpoint of preventing unevenness of the light scattering layer In view of the above, it is most preferably 75 to 100% by mass, and most preferably 50 to 75% by mass when a low refractive index layer is applied on the light scattering layer. (Described in all polymer units constituting the fluoropolymer)

シリコーン系レベリング剤について、説明する。シリコーン系レベリング剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で、側鎖、主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられ、信越化学社製のKF−96、X−22−945などがある。   The silicone leveling agent will be described. Examples of the silicone-based leveling agent include polydimethylsiloxane having various substituents such as oligomers such as ethylene glycol and propylene glycol, and the side chain and the terminal of the main chain are modified. KF-96 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. X-22-945.

その他、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤も好ましく用いることができる。
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191があり、更にSUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましく、特開平6−49486号が参考にできる。
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。
In addition, a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene can also be preferably used.
Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191, and SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, and the like.
In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. A linear block copolymer is preferred, and JP-A-6-49486 can be referred to.
Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.

塗布液に対する上記含フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤の添加量は、0.001質量%〜1.0質量%であることが好ましく、より好ましくは0.01質量%〜0.2質量%である。   The amount of the fluorine-containing leveling agent and silicone leveling agent added to the coating solution is preferably 0.001% by mass to 1.0% by mass, more preferably 0.01% by mass to 0.2% by mass. It is.

フッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、3000〜100,000が好ましく、5,000〜80,000がより好ましい。
更に、フッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して0.001〜5質量%の範囲であり、好ましくは0.005〜3質量%の範囲であり、更に好ましくは0.01〜1質量%の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が0.001質量%未満では効果が不十分であり、また5質量%より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能(例えば反射率、耐擦傷性)に悪影響を及ぼすことがある。
The preferred weight average molecular weight of the fluoropolymer is preferably 3000 to 100,000, more preferably 5,000 to 80,000.
Furthermore, the preferable addition amount of a fluorine-type polymer is the range of 0.001-5 mass% with respect to a coating liquid, Preferably it is the range of 0.005-3 mass%, More preferably, it is 0.01-1 It is the range of mass%. If the addition amount of the fluorine-based polymer is less than 0.001% by mass, the effect is insufficient, and if it exceeds 5% by mass, the coating film may not be sufficiently dried or the performance as a coating film (for example, reflectance) , May have an adverse effect on the scratch resistance).

塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いることができる。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味する。
A thickener can be used to adjust the viscosity of the coating solution.
The term “thickener” as used herein means one that increases the viscosity of the liquid by adding it.

このような増粘剤としては以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトン ジオール
ポリ−ε−カプロラクトン トリオール
ポリビニルアセテート
ポリ(エチレン アジペート)
ポリ(1,4−ブチレン アジペート)
ポリ(1,4−ブチレン グルタレート)
ポリ(1,4−ブチレン スクシネート)
ポリ(1,4−ブチレン テレフタレート)
ポリ(エチレンテレフタレート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレン グルタレート)
ポリ(ネオペンチルグリコールアジペート)
ポリ(ネオペンチルグリコール セバケート)
ポリ(1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(1,3−プロピレン グルタレート)
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート
Examples of such thickeners include, but are not limited to:
Poly-ε-caprolactone poly-ε-caprolactone diol poly-ε-caprolactone triol polyvinyl acetate poly (ethylene adipate)
Poly (1,4-butylene adipate)
Poly (1,4-butylene glutarate)
Poly (1,4-butylene succinate)
Poly (1,4-butylene terephthalate)
polyethylene terephthalate)
Poly (2-methyl-1,3-propylene adipate)
Poly (2-methyl-1,3-propylene glutarate)
Poly (neopentyl glycol adipate)
Poly (neopentyl glycol sebacate)
Poly (1,3-propylene adipate)
Poly (1,3-propylene glutarate)
Polyvinyl butyral Polyvinyl formal Polyvinyl acetal Polyvinyl propanal Polyvinyl hexanal Polyvinyl pyrrolidone Polyacrylic acid ester Polymethacrylic acid ester Cellulose acetate Cellulose propionate Cellulose acetate butyrate

この他にも特開平8−325491号記載のスメクタイト、マイカ、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイトなどの層状化合物及びポリアクリル酸ソーダ、特開平10−219136エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することが出来る。チキソトロピー性付与剤としては、0.3μm以下の粒径の層状化合物を有機化処理したものが特に好ましい。0.1μm以下の粒径のものが更に好ましい。層状化合物の粒径は、長軸の長さで考えることができる。通常、紫外線硬化型樹脂100質量部に対して、1〜10質量部程度とするのが好適である。   In addition, known viscosity adjustments such as layered compounds such as smectite, mica, bentonite, silica, montmorillonite described in JP-A-8-325491, and sodium polyacrylate, JP-A-10-219136 ethylcellulose, polyacrylic acid, organic clay, etc. An agent or a thixotropic agent can be used. As the thixotropic agent, those obtained by organically treating a layered compound having a particle size of 0.3 μm or less are particularly preferable. A particle size of 0.1 μm or less is more preferable. The particle size of the layered compound can be considered as the length of the long axis. Usually, it is suitable to set it as about 1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of ultraviolet curable resin.

[下地層]
上記塗布組成物より形成される層の下地層としては、上記塗布組成物に含まれる第二の樹脂成分及び/又は第一の無機微粒子が含まれるのが好ましい。この2成分の少なくともいずれか一方が含有させることで、層間の密着性が向上し、耐擦傷性が向上する、また、上記塗布組成物から形成された層内で無機微粒子を下部偏在し易くすることができる。
[Underlayer]
The underlayer of the layer formed from the coating composition preferably contains the second resin component and / or the first inorganic fine particles contained in the coating composition. By containing at least one of these two components, adhesion between layers is improved, scratch resistance is improved, and inorganic fine particles are easily unevenly distributed in the layer formed from the coating composition. be able to.

〔光学フィルム〕
本発明の光学フィルムは、透明支持体上に、30mN/m以下の表面自由エネルギーを有する第一の樹脂成分、該第一の樹脂成分と硬化可能な第二の樹脂成分、及び平均粒径2nm以上100nm以下の第一の無機微粒子を含有してなる硬化層を有し、第一の樹脂成分及び/又は第二の樹脂成分は電離放射線硬化性官能基を有する光学フィルムであって、該第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在し、かつ該硬化層が屈折率の異なる上層と下層とを有する光学フィルムである。
以下、更に詳細に説明する。
[Optical film]
The optical film of the present invention comprises a first resin component having a surface free energy of 30 mN / m or less, a second resin component curable with the first resin component, and an average particle size of 2 nm on a transparent support. The first resin component and / or the second resin component is an optical film having an ionizing radiation-curable functional group, the first resin component and / or the second resin component having a cured layer containing the first inorganic fine particles of 100 nm or less. One inorganic fine particle is unevenly distributed under the cured layer, and the cured layer has an upper layer and a lower layer having different refractive indexes.
This will be described in more detail below.

「第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在」することは、光学フイルムの断面を透過型電子顕微鏡(TEM)により観察することで確認できる。また、本発明では、無機微粒子が硬化層の下部に偏在することにより、擬似的に屈折率の異なる上層と下層の2層構成になることを目的とする。屈折率の異なる2層構成の形成は、光学フィルムの分光反射率を測定し、その干渉パターンを各層の屈折率、膜厚を変化させ、反射率の理論計算を行い、測定した分光反射率データとフィッティングすることで明らかにすることができる。即ち、擬似的に屈折率の異なる上層と下層の2層構成になった場合は、屈折率の異なる2層で計算しないと、測定結果と分光反射率曲線が一致しない。   The fact that “the first inorganic fine particles are unevenly distributed under the hardened layer” can be confirmed by observing a cross section of the optical film with a transmission electron microscope (TEM). Another object of the present invention is to form a two-layer structure of an upper layer and a lower layer having different refractive indexes in a pseudo manner by the inorganic fine particles being unevenly distributed in the lower portion of the cured layer. Formation of a two-layer structure with different refractive indexes is performed by measuring the spectral reflectance of an optical film, changing the refractive index and thickness of each layer of the interference pattern, performing theoretical calculations of the reflectance, and measuring the measured spectral reflectance data. And can be clarified by fitting. That is, in the case of a two-layer configuration of an upper layer and a lower layer having different refractive indexes, the measurement result and the spectral reflectance curve do not match unless calculation is performed with the two layers having different refractive indexes.

[光学フィルムの構成]
前記したように、本発明の光学フィルムは、透明支持体上に、前述の硬化層を有する光学フィルムである。また、本発明の反射防止フィルムは、該光学フィルムの最表層として低屈折率層を有し、該低屈折率層とこれに隣接する好適には高屈折率層が、前記硬化層であることが好ましい。本発明の光学フィルムは、複数の機能層を硬化層が兼ねるものであり、更に低屈折率層の他にも、必要に応じてその他の機能層を有することができる。次に、本発明の光学フィルムを構成する層について記載する。
本発明の光学フィルムの好ましい一態様として、反射防止フィルムの構成例を説明する。図1は、優れた反射防止性能を有する多層型の反射防止フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。図1に示す反射防止フィルムは、透明支持体1、ハードコート性を有する層(以下、ハードコート層)2、中屈折率層3、高屈折率層4、低屈折率層(最外層)5をこの順序で有する。透明支持体1、中屈折率層3、高屈折率層4及び低屈折率層5は、以下の関係を満足する屈折率を有することが望ましい。
[Configuration of optical film]
As described above, the optical film of the present invention is an optical film having the above-mentioned cured layer on a transparent support. The antireflection film of the present invention has a low refractive index layer as the outermost layer of the optical film, and the low refractive index layer and preferably a high refractive index layer adjacent thereto are preferably the cured layer. Is preferred. In the optical film of the present invention, the cured layer serves as a plurality of functional layers, and may further have other functional layers as required in addition to the low refractive index layer. Next, the layers constituting the optical film of the present invention will be described.
As a preferred embodiment of the optical film of the present invention, a configuration example of an antireflection film will be described. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a layer structure of a multilayer antireflection film having excellent antireflection performance. The antireflection film shown in FIG. 1 includes a transparent support 1, a layer having hard coat properties (hereinafter, hard coat layer) 2, a medium refractive index layer 3, a high refractive index layer 4, and a low refractive index layer (outermost layer) 5. In this order. The transparent support 1, the medium refractive index layer 3, the high refractive index layer 4, and the low refractive index layer 5 desirably have refractive indexes that satisfy the following relationship.

高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率   Refractive index of high refractive index layer> refractive index of medium refractive index layer> refractive index of transparent support> refractive index of low refractive index layer

図1のような層構成では、特開昭59−50401号公報に記載されているように、中屈折率層が下記数式(I)、高屈折率層が下記数式(II)、低屈折率層が下記数式(III)をそれぞれ満足することがより優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムを作製できる点で好ましい。   In the layer configuration as shown in FIG. 1, as described in JP-A-59-50401, the medium refractive index layer is represented by the following formula (I), the high refractive index layer is represented by the following formula (II), and the low refractive index. The layer preferably satisfies the following formula (III) in that an antireflection film having more excellent antireflection performance can be produced.

数式(I)
(hλ/4)×0.7<n3d3<(hλ/4)×1.3
Formula (I)
(Hλ / 4) × 0.7 <n3d3 <(hλ / 4) × 1.3

数式(I)中、hは正の整数(一般に1、2又は3)であり、n3は中屈折率層の屈折率であり、そして、d3は中屈折率層の層厚(nm)である。λは可視光線の波長(nm)であり、380〜680nmの範囲の値である。   In formula (I), h is a positive integer (generally 1, 2 or 3), n3 is the refractive index of the medium refractive index layer, and d3 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer. . λ is the wavelength (nm) of visible light, and is a value in the range of 380 to 680 nm.

数式(II)
(iλ/4)×0.7<n4d4<(iλ/4)×1.3
Formula (II)
(Iλ / 4) × 0.7 <n4d4 <(iλ / 4) × 1.3

数式(II)中、iは正の整数(一般に1、2又は3)であり、n4は高屈折率層の屈折率であり、そして、d4は高屈折率層の層厚(nm)である。λは可視光線の波長(nm)であり、380〜680nmの範囲の値である。   In formula (II), i is a positive integer (generally 1, 2 or 3), n4 is the refractive index of the high refractive index layer, and d4 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer. . λ is the wavelength (nm) of visible light, and is a value in the range of 380 to 680 nm.

数式(III)
(jλ/4)×0.7<n5d5<(jλ/4)×1.3
Formula (III)
(Jλ / 4) × 0.7 <n5d5 <(jλ / 4) × 1.3

数式(III)中、jは正の奇数(一般に1)であり、n5は低屈折率層の屈折率であり、そして、d5は低屈折率層の層厚(nm)である。λは可視光線の波長(nm)であり、380〜680nmの範囲の値である。   In Formula (III), j is a positive odd number (generally 1), n5 is the refractive index of the low refractive index layer, and d5 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer. λ is the wavelength (nm) of visible light, and is a value in the range of 380 to 680 nm.

図1のような層構成では、中屈折率層が下記数式(IV)、高屈折率層が下記数式(V)、低屈折率層が下記数式(VI)をそれぞれ満足することが、特に好ましい。
ここで、λは500nmである。
In the layer configuration as shown in FIG. 1, it is particularly preferable that the middle refractive index layer satisfies the following formula (IV), the high refractive index layer satisfies the following formula (V), and the low refractive index layer satisfies the following formula (VI). .
Here, λ is 500 nm.

数式(IV)
(λ/4)×0.80<n3d3<(λ/4)×1.00
数式(V)
(λ/2)×0.75<n4d4<(λ/2)×0.95
数式(VI)
(λ/4)×0.95<n5d5<(λ/4)×1.05
Formula (IV)
(Λ / 4) × 0.80 <n3d3 <(λ / 4) × 1.00
Formula (V)
(Λ / 2) × 0.75 <n4d4 <(λ / 2) × 0.95
Formula (VI)
(Λ / 4) × 0.95 <n5d5 <(λ / 4) × 1.05

本発明の反射防止フィルムの反射率は1.5%以下が好ましく、1.0%以下がより好ましい。0.7%以下が更に好ましく、特に好ましくは0.5%以下である。低反射率を得る場合は、屈折率の異なる層を積層するため、屈折率と膜厚を調整することで色味を調節し、品質を保つことができる。本発明の反射防止フィルムの色味は|a*|≦10、|b*|≦10が好ましく、|a*|≦7、|b*|≦7が特に好ましい、|a*|≦5、|b*|≦5が更に好ましく、|a*|≦4、|b*|≦4が特に好ましい。 The reflectance of the antireflection film of the present invention is preferably 1.5% or less, and more preferably 1.0% or less. It is more preferably 0.7% or less, particularly preferably 0.5% or less. When obtaining a low reflectance, since layers having different refractive indexes are laminated, the color can be adjusted by adjusting the refractive index and the film thickness to maintain the quality. The color of the antireflection film of the present invention is preferably | a * | ≦ 10, | b * | ≦ 10, particularly preferably | a * | ≦ 7, | b * | ≦ 7, | a * | ≦ 5, | B * | ≦ 5 is more preferable, | a * | ≦ 4 and | b * | ≦ 4 are particularly preferable.

[透明支持体]
本発明のフィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルム、脂環式構造を有するポリマー(ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製))等が使用できる。 支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度のものを用いることができるが、好ましくは25μm〜200μmであり、30μm〜150であることがより好ましく、30〜90μmであることが更に好ましい。
支持体の巾は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は100〜5000mmのものが用いられ、800〜3000mmであることが好ましく、1000〜2000mmであることが更に好ましい。
支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さRaの値が1μm以下であることが好ましく、0.0001〜0.5μmであることが好ましく、0.001〜0.1μmであることが更に好ましい。
透明支持体は、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテンが含まれる。トリアセチルセルロース、及びポリオレフィンがレターデーションが小さく、光学的均一性も高いため、偏光板用途として好ましく、特に、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
[Transparent support]
The support for the film of the present invention is not particularly limited, such as a transparent resin film, a transparent resin plate, a transparent resin sheet, or transparent glass. Transparent resin films include cellulose acylate films (for example, cellulose triacetate film (refractive index 1.48), cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate propionate film), polyethylene terephthalate film, polyethersulfone. Film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, polymethylpentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film, polymer having alicyclic structure (Norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR, amorphous polyolefin (ZEONEX: trade name, Nippon The thickness of the support is usually about 25 μm to 1000 μm, preferably 25 μm to 200 μm, more preferably 30 μm to 150, and more preferably 30 to 150 μm. More preferably, it is 90 μm.
Any width of the support can be used, but from the viewpoint of handling, yield, and productivity, a width of 100 to 5000 mm is usually used, preferably 800 to 3000 mm, and preferably 1000 to 2000 mm. More preferably.
The surface of the support is preferably smooth, and the average roughness Ra is preferably 1 μm or less, preferably 0.0001 to 0.5 μm, and 0.001 to 0.1 μm. Is more preferable.
The transparent support is preferably a plastic film. Examples of the plastic film include cellulose esters (eg, triacetylcellulose, diacetylcellulose, propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose, nitrocellulose) and polyolefins (eg, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, triacetylcellulose, In addition, since polyolefin has a small retardation and high optical uniformity, it is preferable for use as a polarizing plate. In particular, when used in a liquid crystal display device, triacetyl cellulose is preferable.

[ハードコート層]
本発明のフィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、透明支持体の一方の面にハードコート層を設けることが好ましい。
[Hard coat layer]
The film of the present invention is preferably provided with a hard coat layer on one surface of the transparent support in order to impart the physical strength of the film.

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が1.48〜1.75の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.49〜1.65であり、更に好ましくは1.50〜1.55である。本発明では、ハードコート層の屈折率は反射率、色味、ムラ、コストの点から、この範囲にあることが好ましい。   The refractive index of the hard coat layer in the present invention is preferably in the range of 1.48 to 1.75, more preferably 1.49 to 1, from the optical design for obtaining an antireflection film. .65, and more preferably 1.50 to 1.55. In the present invention, the refractive index of the hard coat layer is preferably in this range from the viewpoints of reflectance, color, unevenness and cost.

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常0.5μm〜50μm程度とし、好ましくは1μm〜30μm、更に好ましくは2μm〜20μm、最も好ましくは3μm〜15μmである。ハードコート層の厚さは、カール、生産性、コストの点から上述の範囲にあることが好ましい。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に好ましくは5H以上である。
更に、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
From the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance to the film, the thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 30 μm, more preferably 2 μm. ˜20 μm, most preferably 3 μm to 15 μm. The thickness of the hard coat layer is preferably in the above range from the viewpoint of curling, productivity, and cost.
The strength of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in the pencil hardness test. More preferably, it is 5H or more.
Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

また、本発明の光学フィルムは、表面散乱に起因するヘイズ(以後、表面ヘイズと呼称する)は0.3%〜20%が好ましく、0.5%〜10%が特に好ましく、であり、0.5%〜5%であることが好ましく、0.5〜2%であることが特に好ましい。表面ヘイズが大きすぎると明室コントラストが悪化し、小さすぎると映り込みが悪化する。   In the optical film of the present invention, haze caused by surface scattering (hereinafter referred to as surface haze) is preferably 0.3% to 20%, particularly preferably 0.5% to 10%, and 0 It is preferably 5% to 5%, particularly preferably 0.5 to 2%. When the surface haze is too large, the bright room contrast is deteriorated, and when it is too small, the reflection is deteriorated.

また、本発明の光学フィルムは、その光学特性を内部散乱に起因するヘイズ(以後、内部ヘイズと呼称する)が0%〜60%であることが好ましく、1%〜40%であることがより好ましい、10%〜35%であることが特に好ましく、15%〜30%であることが更に好ましい。内部ヘイズが大きすぎると正面コントラストが低下し、白茶け感が増す。
小さすぎると使用できる素材の組合せが限定され、防眩性その他の特性値の合わせこみが困難となり、また、高コストとなる。
The optical film of the present invention preferably has a haze due to internal scattering (hereinafter referred to as internal haze) of 0% to 60%, more preferably 1% to 40%. It is particularly preferably 10% to 35%, and more preferably 15% to 30%. If the internal haze is too large, the front contrast is lowered and the brownishness is increased.
If it is too small, the combination of materials that can be used is limited, and it becomes difficult to match antiglare and other characteristic values, and the cost is high.

ハードコート層のヘイズは、反射防止フィルムに付与させる機能によって異なる。   The haze of the hard coat layer varies depending on the function imparted to the antireflection film.

表面の反射率を抑える機能に加えて、ハードコート層の表面散乱にて、防眩機能を付与する場合は、表面ヘイズ(全ヘイズ値から内部ヘイズ値を引いた値。内部ヘイズ値はフィルム表面の凹凸をフィルム表面と同じ屈折率の物質により無くすことで測定可能である。
)が0.1%〜20%が好ましく、0.2%〜10%が特に好ましく、であり、0.2%〜5%であることが好ましく、0.2〜2%であることが特に好ましい。表面ヘイズが大きすぎると明室コントラストが悪化し、小さすぎると映り込みが悪化する。
In addition to the function of suppressing the reflectance of the surface, when the anti-glare function is imparted by the surface scattering of the hard coat layer, the surface haze (the value obtained by subtracting the internal haze value from the total haze value. The internal haze value is the film surface). Can be measured by eliminating the unevenness of the film with a material having the same refractive index as the film surface.
) Is preferably 0.1% to 20%, particularly preferably 0.2% to 10%, preferably 0.2% to 5%, particularly preferably 0.2 to 2%. preferable. When the surface haze is too large, the bright room contrast is deteriorated, and when it is too small, the reflection is deteriorated.

また、ハードコート層に透光性粒子を含有して内部散乱を付与する場合、内部ヘイズは目的により好ましい範囲が異なるが、内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値は0%〜60%であることが好ましく、1%〜40%であることがより好ましい、10%〜35%であることが特に好ましく、15%〜30%であることが更に好ましい。内部ヘイズが大きすぎると正面コントラストが低下し、白茶け感が増す。小さすぎると使用できる素材の組合せが限定され、防眩性その他の特性値の合わせこみが困難となり、また、高コストとなる。一方、正面コントラストを重視する場合は、0%〜30%が好ましく、更に好ましくは1%〜20%であり、最も好ましくは1%〜10%である。
本発明のフィルムは、目的に応じて、表面ヘイズ及び内部ヘイズを自由に設定可能である。
In addition, when the hard coat layer contains translucent particles to give internal scattering, the preferred range of internal haze varies depending on the purpose, but due to internal scattering, liquid crystal panel patterns, color unevenness, luminance unevenness, glare, etc. are observed. When making it difficult or providing the function of expanding the viewing angle by scattering, the internal haze value is preferably 0% to 60%, more preferably 1% to 40%, and more preferably 10% to 35%. It is particularly preferable that it is 15% to 30%. If the internal haze is too large, the front contrast is lowered and the brownishness is increased. If it is too small, the combination of materials that can be used is limited, and it becomes difficult to match antiglare and other characteristic values, and the cost is high. On the other hand, when importance is attached to the front contrast, 0% to 30% is preferable, more preferably 1% to 20%, and most preferably 1% to 10%.
The film of the present invention can freely set surface haze and internal haze according to the purpose.

また、ハードコート層の表面凹凸形状については、中心線平均粗さ(Ra)を0.30μm以下とすることが好ましい。Raは、より好ましくは0.01〜0.20μであり、更に好ましくは0.01〜0.12μm以下である。Raが大きいと表面散乱起因の白ボケ感がでたり、ハードコート層上に形成する層の均一性が得づらいなどの問題がある。本発明のフィルムにおいては、フィルムの表面凹凸にはハードコート層の表面凹凸が支配的であり、ハードコート層の中心線平均粗さを調節することにより、反射防止フィルムの中心線平均粗さを上記範囲とすることができる。   Moreover, about the surface uneven | corrugated shape of a hard-coat layer, it is preferable that centerline average roughness (Ra) shall be 0.30 micrometer or less. Ra is more preferably 0.01 to 0.20 μm, still more preferably 0.01 to 0.12 μm or less. When Ra is large, there are problems such as white blurring caused by surface scattering, and difficulty in obtaining uniformity of the layer formed on the hard coat layer. In the film of the present invention, the surface unevenness of the hard coat layer is dominant to the surface unevenness of the film, and the center line average roughness of the antireflection film is adjusted by adjusting the center line average roughness of the hard coat layer. It can be set as the said range.

画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。反射防止フィルムの透過画像鮮明度は60%以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は好ましくは80%以上であり、更に好ましくは90%以上である。   In order to maintain the sharpness of the image, it is preferable to adjust the clarity of the transmitted image in addition to adjusting the uneven shape of the surface. The transmitted image definition of the antireflection film is preferably 60% or more. The transmitted image clarity is generally an index indicating the degree of blurring of an image reflected through a film, and the larger this value, the clearer and better the image viewed through the film. The transmitted image definition is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more.

[高屈折率層、中屈折率層]
本発明のフィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、反射防止性を高めることができる。
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体>低屈折率層、高屈折率層>透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
[High refractive index layer, medium refractive index layer]
The film of the present invention can be provided with a high refractive index layer and a medium refractive index layer to enhance antireflection properties.
In the following specification, the high refractive index layer and the middle refractive index layer may be collectively referred to as a high refractive index layer. In the present invention, “high”, “medium”, and “low” in the high refractive index layer, medium refractive index layer, and low refractive index layer represent the relative refractive index relationship between the layers. In terms of the relationship with the transparent support, the refractive index preferably satisfies the relationship of transparent support> low refractive index layer, high refractive index layer> transparent support.
In the present specification, the high refractive index layer, the middle refractive index layer, and the low refractive index layer may be collectively referred to as an antireflection layer.

高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は1.55〜2.20であることが好ましく、より好ましくは1.60〜2.00、更に好ましくは、1.65〜1.90、最も好ましくは1.70〜1.85である。高屈折率層の屈折率は高いほど反射率は低減しやすいが、色味が強くなったり、高屈折率層中の無機微粒子の量が多くなることで、層がもろくなる、ヘイズが大きくなるなどの問題があり、本発明では、以上の範囲に調整することが好ましい。   In order to construct an antireflection film by constructing a low refractive index layer on a high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.20, more preferably It is 1.60 to 2.00, more preferably 1.65 to 1.90, and most preferably 1.70 to 1.85. The higher the refractive index of the high refractive index layer, the easier it is to reduce the reflectance. However, the color becomes stronger and the amount of inorganic fine particles in the high refractive index layer increases, so that the layer becomes brittle and haze increases. In the present invention, it is preferable to adjust to the above range.

支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55乃至1.80であることが好ましく、低屈折率層及び/又は高屈折率層との屈折率差は0.08以上が好ましく、0.10以上が特に好ましい。   When an antireflection film is formed by coating a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in order from the support, the refractive index of the medium refractive index layer is higher than the refractive index of the low refractive index layer. It adjusts so that it may become a value between the refractive indexes of a refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55 to 1.80, and the refractive index difference between the low refractive index layer and / or the high refractive index layer is preferably 0.08 or more, and 0.10 or more. Is particularly preferred.

本発明に用いる高屈折率層及び中屈折率層はバインダー(例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)と、屈折率を制御する目的の高屈折率無機微粒子を含有してなる。   The high refractive index layer and the medium refractive index layer used in the present invention contain a binder (for example, ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer) and high refractive index inorganic fine particles for the purpose of controlling the refractive index. Become.

上記塗布組成物より形成される層の下地層としては、上記塗布組成物に含まれる第二の樹脂成分及び/又は第一の無機微粒子が含まれるのが好ましい。この2成分の少なくともいずれか一方が含有させることで、層間の密着性が向上し、耐擦傷性が向上する、また、上記塗布組成物から形成された層内で無機微粒子を下部偏在し易くすることができる。   The underlayer of the layer formed from the coating composition preferably contains the second resin component and / or the first inorganic fine particles contained in the coating composition. By containing at least one of these two components, adhesion between layers is improved, scratch resistance is improved, and inorganic fine particles are easily unevenly distributed in the layer formed from the coating composition. be able to.

本発明の好ましい態様は、上記高屈折率層又は中屈折率層の上に、前述の第一の樹脂成分、第二の樹脂成分、第一の無機微粒子を含有する塗布組成物を塗布して、低屈折率層と高屈折率層を同時に形成する。層間の密着性の向上、耐擦傷性の向上、第一の無機微粒子の下部偏在を容易にする点から、上記高屈折率層又は中屈折率層のバインダーとしては第二の樹脂成分、高屈折率無機微粒子としては第一の無機微粒子が好ましく用いられる。   In a preferred embodiment of the present invention, a coating composition containing the first resin component, the second resin component, and the first inorganic fine particles is applied on the high refractive index layer or the middle refractive index layer. The low refractive index layer and the high refractive index layer are formed simultaneously. From the viewpoint of improving the adhesion between layers, improving the scratch resistance, and facilitating the uneven distribution of the first inorganic fine particles, the binder of the high refractive index layer or the middle refractive index layer is a second resin component, a high refractive index. As the inorganic fine particles, the first inorganic fine particles are preferably used.

高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層は30〜200nmが好ましく、より好ましくは50〜170nm、特に好ましくは60〜150nmである。本発明では、分光反射率の光学計算によるフィッティングで屈折率とともに膜厚を求めることができる。   The film thickness of the high refractive index layer can be appropriately designed depending on the application. The high refractive index layer is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 170 nm, and particularly preferably 60 to 150 nm. In the present invention, the film thickness can be obtained together with the refractive index by fitting by optical calculation of the spectral reflectance.

高屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。5%以下であることが好ましく、更に好ましくは3%以下、特に好ましくは1%以下である。
高屈折率層は、前記透明支持体上に直接、又は他の層を介して構築することが好ましい。
The haze of the high refractive index layer is preferably as low as possible. It is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less.
The high refractive index layer is preferably constructed directly on the transparent support or via another layer.

本発明で中屈折率層を形成する場合は、ハードコート層と中屈折率層を1回の塗布で形成するのがより好ましい。すなわち、ハードコート層と中屈折率層の形成に用いられる成分の両方を含有する塗布組成物を用い、塗布、乾燥、硬化を行う時に、中屈折率層の形成に用いる高屈折率無機微粒子が表面部に偏在するようにすることで、達成することができる。高屈折率無機微粒子を表面に偏在させるには、無機微粒子の表面自由エネルギーをバインダーの表面自由エネルギーより小さくすることが好ましい。2mN/m以上小さいことが好ましく、4mN/m以上小さいことが更に好ましい。   In the case of forming the middle refractive index layer in the present invention, it is more preferable to form the hard coat layer and the middle refractive index layer by one coating. That is, when a coating composition containing both components used for forming the hard coat layer and the medium refractive index layer is used, and when applying, drying and curing, the high refractive index inorganic fine particles used for forming the medium refractive index layer are This can be achieved by making the surface portion unevenly distributed. In order to make the high refractive index inorganic fine particles unevenly distributed on the surface, it is preferable to make the surface free energy of the inorganic fine particles smaller than the surface free energy of the binder. It is preferably 2 mN / m or less, more preferably 4 mN / m or more.

無機微粒子の表面自由エネルギーは、表面処理剤で表面処理することでコントロールすることができる。表面処理剤には特に制限はないが、前述の表面処理剤より、バインダーの種類に合わせて選択して用いることが好ましい。   The surface free energy of the inorganic fine particles can be controlled by surface treatment with a surface treatment agent. Although there is no restriction | limiting in particular in a surface treating agent, It is preferable to select and use it according to the kind of binder from the above-mentioned surface treating agent.

[透明導電性層]
本発明の光学フィルムは、帯電防止の目的で透明導電性層を設けることがフィルム表面での静電気防止の点で好ましい。透明導電性層は、ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合に有効である。透明導電性層を形成する方法としては、例えば、通電性粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の公知の方法を挙げることができる。塗工する場合、その方法は特に限定されず、塗工液の特性や塗工量に応じて、例えば、ロールコート、グラビアコート、バーコート、押出しコート等の公知の方法より最適な方法を選択して行えばよい。透明導電性層は、透明支持体又はハードコート層上に直接又はこれらとの接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。
[Transparent conductive layer]
The optical film of the present invention is preferably provided with a transparent conductive layer for the purpose of preventing static electricity from the viewpoint of preventing static electricity on the film surface. The transparent conductive layer is effective when there is a demand for lowering the surface resistance value from the display side or when dust on the surface or the like becomes a problem. As a method of forming the transparent conductive layer, for example, a method of applying a conductive coating liquid containing conductive particles and a reactive curable resin, or a metal or metal oxide that forms a transparent film is deposited or sputtered. And a known method such as a method of forming a conductive thin film. In the case of coating, the method is not particularly limited, and an optimum method is selected from known methods such as roll coating, gravure coating, bar coating, extrusion coating, etc., depending on the characteristics of the coating liquid and the coating amount. You can do it. The transparent conductive layer can be formed on the transparent support or the hard coat layer directly or via a primer layer that strengthens the adhesion with them.

透明導電性層の厚さは、0.01〜10μmが好ましく、0.03〜7μmであることがより好ましく、0.05〜5μmであることが更に好ましい。最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。透明導電性層の表面抵抗は、105〜1012Ω/sqであることが好ましく、105〜109Ω/sqであることが更に好ましく、105〜108Ω/sqであることが最も好ましい。帯透明導電性層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。 The thickness of the transparent conductive layer is preferably from 0.01 to 10 μm, more preferably from 0.03 to 7 μm, still more preferably from 0.05 to 5 μm. When used in a layer close to the outermost layer, sufficient antistatic properties can be obtained even if the film is thin. The surface resistance of the transparent conductive layer is preferably from 10 5 ~10 12 Ω / sq, more preferably from 10 5 ~10 9 Ω / sq, it is 10 5 ~10 8 Ω / sq Most preferred. The surface resistance of the transparent conductive layer can be measured by a four probe method.

透明導電性層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、透明導電性層のヘイズが、10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。波長550nmの光の透過率が、50%以上であることが好ましく、60%以上であることがより好ましく、65%以上であることが更に好ましく、70%以上であることが最も好ましい。
透明導電性層は、強度が優れていることが好ましく、具体的な帯電防止層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度(JIS−K−5400の規定)で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましく、3H以上であることが更に好ましく、4H以上であることが最も好ましい。
It is preferable that the transparent conductive layer is substantially transparent. Specifically, the haze of the transparent conductive layer is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, still more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. preferable. The transmittance of light having a wavelength of 550 nm is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, still more preferably 65% or more, and most preferably 70% or more.
The transparent conductive layer preferably has excellent strength, and the specific antistatic layer has a pencil hardness of 1 kg (as defined in JIS-K-5400), preferably H or higher. More preferably, it is more preferably 3H or more, and most preferably 4H or more.

本発明では中屈折率層及び/又は高屈折率層に導電性の無機酸化物微粒子を用いて導電層とすることが好ましい。導電性の無機酸化物微粒子としては、第一の無機微粒子に記載したもののうち導電性の無機酸化物微粒子を用いることができる。   In the present invention, the conductive layer is preferably formed by using conductive inorganic oxide fine particles in the medium refractive index layer and / or the high refractive index layer. As the conductive inorganic oxide fine particles, conductive inorganic oxide fine particles among those described in the first inorganic fine particles can be used.

[低屈折率層]
本発明の光学フィルムは、フィルムの反射率を低減するため、光学フィルムの最上層として低屈折率層を設け、該低屈折率層とこれに隣接する高屈折率層が、前記硬化層であることが好ましい。
[Low refractive index layer]
In order to reduce the reflectance of the film, the optical film of the present invention is provided with a low refractive index layer as the uppermost layer of the optical film, and the low refractive index layer and the high refractive index layer adjacent thereto are the cured layers. It is preferable.

低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.46であることが好ましく、1.30〜1.40であることがより好ましく、1.33〜1.38であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、50〜200nmであることが好ましく、70〜100nmであることが更に好ましい。本発明では、分光反射率の光学計算によるフィッティングで屈折率とともに膜厚を求めることができる。低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。
低屈折率層形成後の強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に好ましくは5H以上である。
また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90度以上であることが好ましい。更に好ましくは95度以上であり、特に好ましくは100度以上である。低屈折率層表面の動摩擦係数0.03〜0.30であるのが好ましい。
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.46, more preferably 1.30 to 1.40, and particularly preferably 1.33 to 1.38.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 70 to 100 nm. In the present invention, the film thickness can be obtained together with the refractive index by fitting by optical calculation of the spectral reflectance. The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less.
The strength after forming the low refractive index layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test under a 500 g load. More preferably, it is 5H or more.
Further, in order to improve the antifouling performance of the optical film, it is preferable that the contact angle of water on the surface is 90 degrees or more. More preferably, it is 95 degrees or more, and particularly preferably 100 degrees or more. The dynamic friction coefficient of the surface of the low refractive index layer is preferably 0.03 to 0.30.

低屈折率層は、硬化性組成物を用いて形成することができる。本発明に用いる低屈折率層はバインダー及び/又は低屈折率無機微粒子を含有してなる。本発明では、少なくとも前述の第一の樹脂成分、第二の樹脂成分、第一の無機微粒子を含有する塗布組成物より、低屈折率層と高屈折率層を同時に形成する。更に第二の無機微粒子も好ましく用いられる。即ち、バインダーとしては前述の第一の樹脂成分及び第二の樹脂成分、低屈折率無機微粒子としては特に制限はないが、前述の第二の無機微粒子が好ましく用いられる。   The low refractive index layer can be formed using a curable composition. The low refractive index layer used in the present invention contains a binder and / or low refractive index inorganic fine particles. In the present invention, a low refractive index layer and a high refractive index layer are formed simultaneously from a coating composition containing at least the first resin component, the second resin component, and the first inorganic fine particles. Further, second inorganic fine particles are also preferably used. That is, the binder is not particularly limited as the first resin component and the second resin component, and the low refractive index inorganic fine particles, but the second inorganic fine particles are preferably used.

本発明では、低屈折率層用のバインダーとして、耐薬品性、生産性の観点から含フッ素ポリマーを好ましく用いる。含フッ素ポリマーとしては、前述のように熱硬化型、電離放射線硬化型のいずれも用いることができる。高屈折率層と低屈折率層を同時に形成する場合、及び高屈折率層成分との親和性、結合性を高め、反射防止フィルムの耐擦傷性を高めるためには、フッ素ポリマーは電離放射線硬化型であることが特に好ましい。熱硬化型を用いる場合は、熱硬化型、電離放射線硬化型の両方の架橋性基を有する他のバインダー成分を同時に用いることが好ましい。即ち、第一の樹脂成分及び/又は第二の樹脂成分が電離放射線硬化性官能基を有することがより好ましく、第一の樹脂成分及び第二の樹脂成分の両方が電離放射線硬化性官能基を有することが特に好ましく、エチレン性不飽和基を複数有することが更に好ましい。   In the present invention, a fluorine-containing polymer is preferably used as a binder for the low refractive index layer from the viewpoint of chemical resistance and productivity. As the fluorine-containing polymer, either a thermosetting type or an ionizing radiation curable type can be used as described above. Fluoropolymers are ionizing radiation-cured when forming a high-refractive index layer and a low-refractive index layer at the same time, and in order to increase the affinity and bonding with the components of the high-refractive index layer and to improve the scratch resistance of the antireflection film. A mold is particularly preferred. When the thermosetting type is used, it is preferable to simultaneously use other binder components having both a thermosetting type and an ionizing radiation curable type crosslinkable group. That is, it is more preferable that the first resin component and / or the second resin component have an ionizing radiation curable functional group, and both the first resin component and the second resin component have an ionizing radiation curable functional group. It is particularly preferable to have a plurality of ethylenically unsaturated groups.

防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ(株)製、メガファックF−150(商品名)、東レダウコーニング(株)製、SH−3748(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。   For the purpose of imparting properties such as dust resistance and antistatic properties, a known cationic surfactant or a dustproof agent such as a polyoxyalkylene compound, an antistatic agent, or the like can be appropriately added. These dustproofing agent and antistatic agent may contain the structural unit as a part of the function in the above-mentioned silicone compound or fluorine compound. When these are added as additives, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass. Particularly preferred is 0.1 to 5% by mass. Examples of preferred compounds include, but are not limited to, Dainippon Ink Co., Ltd., MegaFace F-150 (trade name), Toray Dow Corning Co., Ltd., SH-3748 (trade name), and the like. Do not mean.

[少なくとも2層からなる最表層を塗布する工程]
本発明の光学フィルムの製造方法では、少なくとも2層からなる最表層を塗布する工程において、少なくとも2層の最表層を同時に形成できる塗布組成物(最表層多層同時形成塗布組成物)を用いる。該少なくとも2層の最表層は、特に限定されないが、好ましくは、2層の最表層を形成できる組成物であり、より好ましくは低屈折率層及び高屈折率層の2層の最表層を形成できる組成物である。該塗布組成物は、上記の低屈折率層に含有される成分と高屈折率層に含有される成分の両方を含有するものであるが、前記第一の樹脂成分、第二の樹脂成分、第一の無機微粒子、有機溶剤を含有する塗布組成物が好ましく、第二の無機微粒子も好ましく用いられる。
該塗布組成物は、硬化させることにより硬化層を形成可能なものであり、該塗布組成物は、該硬化層において、該第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在して、屈折率の異なる上層と下層とを形成可能である。第一の無機微粒子は、層内の下部に偏在して、無機微粒子の高屈折率層中の存在割合を60%以上にするのが好ましく、70%以上にするのがより好ましく、80%以上が更に好ましい。無機微粒子の存在状態は、光学フイルムの切片をTEM(透過型電子顕微鏡)で観察することができる。例えば、高屈折率層中の存在割合は、上層と下層の界面の平均位置より下部に存在する無機微粒子の割合から求めることができる。界面が直線的でない場合は、中心線を引いて界面とする。高屈折率層において無機微粒子の存在割合が低い場合、光学フィルムの反射率が低下が小さく、ムラの発生が起こりやすくなる。
[Step of applying an outermost layer comprising at least two layers]
In the method for producing an optical film of the present invention, in the step of applying the outermost layer composed of at least two layers, a coating composition capable of simultaneously forming at least two outermost layers (the outermost layer multilayer simultaneous forming coating composition) is used. The at least two outermost layers are not particularly limited, but preferably a composition capable of forming two outermost layers, more preferably two outermost layers of a low refractive index layer and a high refractive index layer. Composition. The coating composition contains both the component contained in the low refractive index layer and the component contained in the high refractive index layer, but the first resin component, the second resin component, A coating composition containing the first inorganic fine particles and the organic solvent is preferable, and the second inorganic fine particles are also preferably used.
The coating composition is capable of forming a cured layer by curing, and the coating composition has a refractive index in which the first inorganic fine particles are unevenly distributed in the lower portion of the cured layer. Different upper and lower layers can be formed. The first inorganic fine particles are unevenly distributed in the lower part of the layer, and the proportion of the inorganic fine particles in the high refractive index layer is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and 80% or more. Is more preferable. The existence state of the inorganic fine particles can be observed with a TEM (transmission electron microscope) in the section of the optical film. For example, the existence ratio in the high refractive index layer can be obtained from the ratio of inorganic fine particles present below the average position of the interface between the upper layer and the lower layer. If the interface is not straight, draw the center line to make the interface. When the proportion of the inorganic fine particles is low in the high refractive index layer, the reflectance of the optical film is small and unevenness is likely to occur.

第二の無機微粒子は、層内の上部に多く存在することが好ましく、偏在することがより好ましい。第二の無機微粒子は、主に低屈折率層内に存在することが好ましい。低屈折率の無機微粒子の低屈折率層中の存在割合を20%以上にするのが好ましく、30%以上にするのがより好ましく、30%以上が更に好ましい。無機微粒子の存在状態は上述の方法と同じ方法で確認することができる。   The second inorganic fine particles are preferably present in a large amount in the upper part of the layer, and more preferably unevenly distributed. It is preferable that the second inorganic fine particles exist mainly in the low refractive index layer. The proportion of the low refractive index inorganic fine particles present in the low refractive index layer is preferably 20% or more, more preferably 30% or more, and even more preferably 30% or more. The presence state of the inorganic fine particles can be confirmed by the same method as described above.

[光学フィルムの形成方法]
次に、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
本発明の光学フィルムの製造方法は、透明支持体上に、ハードコート層、又はハードコート層並びに中屈折率層の各層形成用組成物を塗布する工程と、更に少なくとも2層の最表層形成用組成物を塗布する工程が好ましく用いられる。2つの工程間で塗布された透明支持体を巻き取る工程を経ないことが特に好ましい。
好ましくは、前記ハードコート層、又はハードコート層並びに中屈折率層を塗布する工程が、スロットルダイを用いて支持体上に押し出す工程、又は2つのスロットルを有するコーターから同時に支持体上に押し出す工程である。
また、好ましくは、前記ハードコート層、又はハードコート層並びに中屈折率層を塗布する工程、及び少なくとも2層の最表層を塗布する工程の後に、更に乾燥する工程、及び硬化する工程を少なくとも1回有する。
また、好ましくは、少なくとも2層の最表層を塗布する工程の少なくとも一つの工程に、上述の本発明の塗布組成物を用いる。
[Method for forming optical film]
Next, the manufacturing method of the optical film of this invention is demonstrated.
The method for producing an optical film of the present invention comprises a step of applying a hard coat layer or a composition for forming each layer of a hard coat layer and a medium refractive index layer on a transparent support, and further for forming at least two outermost layers. A step of applying the composition is preferably used. It is particularly preferable not to go through a step of winding up the transparent support applied between the two steps.
Preferably, the step of applying the hard coat layer, or the hard coat layer and the medium refractive index layer is a step of extruding onto a support using a throttle die, or a step of extruding onto a support simultaneously from a coater having two throttles. It is.
Preferably, after the step of applying the hard coat layer, or the hard coat layer and the medium refractive index layer, and the step of applying at least two outermost layers, further drying and curing steps are performed. Have times.
Preferably, the above-described coating composition of the present invention is used in at least one step of coating at least two outermost layers.

表層2層の他に、複数の層を形成する場合があるが、それらは送り出し、層形成、巻取りを必要な層数分行い、各層を1層ずつ形成することもできる。しかし、透明支持体を送り出してから巻取りまでの間に、塗布ステーションと乾燥、硬化ゾーンのセットを層の数と同じ数、縦列して設けることによって、全ての層を1回の工程で形成するのが、生産性、コストの面で有利である。   In some cases, a plurality of layers may be formed in addition to the two surface layers. However, these layers may be fed, layered, and wound up as many times as necessary to form each layer one by one. However, all the layers are formed in one step by providing a set of coating stations and drying and curing zones in the same number as the number of layers between the time when the transparent support is fed and the time of winding. This is advantageous in terms of productivity and cost.

本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムは、表層2層を1回の塗布で形成するため、塗布ステーションと乾燥、硬化ゾーンのセットの数を1つ減らすことができ、設備面で大きなメリットが得られる。例えば、透明支持体の上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の4層を形成する場合は、本発明の技術を用いれば、高屈折率層と低屈折率層の表層2層を同時に形成し、更にハードコート層と中屈折率層を同時に形成することも可能であり、透明支持体を送り出してから巻取りまでの間に、塗布ステーションと乾燥、硬化ゾーンのセットを2個並べるだけでよく、非常に大きな効果がある。
以下、各工程について更に詳述する。
Since the optical film or antireflection film of the present invention forms two surface layers by one coating, the number of coating stations and drying / curing zone sets can be reduced by one, and a great merit is obtained in terms of equipment. It is done. For example, when four layers of a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are formed on a transparent support, the high refractive index layer and the low refractive index are formed by using the technique of the present invention. It is possible to form two surface layers of the index layer at the same time, and further to form a hard coat layer and a medium refractive index layer at the same time. It is only necessary to arrange two sets of zones, which is very effective.
Hereinafter, each step will be further described in detail.

本発明の塗布では、複数のスロットルを持つスロットルダイを用いて塗布するのが更に好ましい。例えば、透明支持体の上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の4層を形成する場合は、2つのスロットルを有するスロットルダイを用い、高屈折率層と低屈折率層の表層2層を同時に形成する塗布組成物と、ハードコート層と中屈折率層を同時に形成する塗布組成物を、別々のスロットルから同時に透明支持体上に押し出すことで、4層を同時に形成することができ、塗布ステーションと乾燥、硬化ゾーンのセットを1個だけ有する塗布機でも1回の塗布で4層を形成することができ、更に大きな効果がある。   In the application of the present invention, it is more preferable to apply using a throttle die having a plurality of throttles. For example, when four layers of a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are formed on a transparent support, a throttle die having two throttles is used. Four layers are formed by extruding a coating composition for simultaneously forming two surface layers of a low refractive index layer and a coating composition for simultaneously forming a hard coat layer and a medium refractive index layer onto a transparent support from separate throttles. Even with a coating machine having only one coating station and one set of drying and curing zones, four layers can be formed by one coating, which has a further great effect.

本発明の光学フィルムにおける硬化層(最表層2層、好ましくは高屈折率層と低屈折率層、また別の態様としてハードコート層と中屈折率層)は上述の本発明の塗布組成物を用いて、また硬化層以外の機能層はそれぞれの形成用塗布液を用いて、以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(ダイコート法)(米国特許2681294号明細書参照)、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
The cured layer (two outermost layers, preferably a high refractive index layer and a low refractive index layer, and in another embodiment, a hard coat layer and a medium refractive index layer) in the optical film of the present invention is the coating composition of the present invention described above. In addition, functional layers other than the cured layer can be formed by the following coating methods using the respective coating liquids for forming, but are not limited to this method.
Dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method or extrusion coating method (die coating method) (see US Pat. No. 2,681,294), micro gravure coating method, etc. Known methods are used, among which the microgravure coating method and the die coating method are preferable, and the die coating method is particularly preferable.

本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約10〜100mm、好ましくは約20〜50mmで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。   The micro gravure coating method used in the present invention is a gravure roll having a diameter of about 10 to 100 mm, preferably about 20 to 50 mm and engraved with a gravure pattern on the entire circumference, below the support and in the transport direction of the support. The gravure roll is rotated in reverse with respect to the gravure roll, the excess coating liquid is scraped off from the surface of the gravure roll by a doctor blade, and a fixed amount of the coating liquid is removed from the support in a position where the upper surface of the support is in a free state. The coating method is characterized in that the coating liquid is transferred onto the lower surface for coating.

[スロットルダイを用いて支持体上に押し出す工程]
本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法(ダイコート法)が好ましく用いられる。特に、ハードコート層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域(20cc/m2以下)で好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に説明する。
[Process of extruding onto a support using a throttle die]
In order to supply the film of the present invention with high productivity, an extrusion method (die coating method) is preferably used. In particular, a die coater that can be preferably used in a region with a small amount of wet coating (20 cc / m 2 or less) such as a hard coat layer or an antireflection layer will be described below.

{ダイコーターの構成}
図2は本発明を実施したスロットルダイ(以下「スロットダイ」とも言う。)を用いたコーターの断面図である。コーター10はバックアップロール11に支持されて連続走行するウェブWに対して、スロットダイ13から塗布液14をビード14aにして塗布することにより、ウェブW上に塗膜14bを形成する。
{Configuration of die coater}
FIG. 2 is a cross-sectional view of a coater using a throttle die (hereinafter also referred to as “slot die”) embodying the present invention. The coater 10 is applied to the web W supported by the backup roll 11 and continuously applied from the slot die 13 as a bead 14a to form a coating film 14b on the web W.

スロットダイ13の内部にはポケット15、スロット16が形成されている。ポケット15は、その断面が曲線及び直線で構成されており、略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット15は、スロットダイ13の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット15への塗布液14の供給は、スロットダイ13の側面から、あるいはスロット開口部16aとは反対側の面中央から行う。また、ポケット15には塗布液14が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。   Inside the slot die 13, a pocket 15 and a slot 16 are formed. The pocket 15 has a curved section and a straight section, and may be substantially circular or semicircular. The pocket 15 is a liquid storage space for the coating liquid extended in the width direction of the slot die 13 with its cross-sectional shape, and the length of the effective extension is generally equal to or slightly longer than the coating width. The supply of the coating liquid 14 to the pocket 15 is performed from the side surface of the slot die 13 or from the center of the surface opposite to the slot opening 16a. The pocket 15 is provided with a stopper that prevents the coating liquid 14 from leaking out.

スロット16は、ポケット15からウェブWへの塗布液14の流路であり、ポケット15と同様にスロットダイ13の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部16aは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット16のスロット先端における、バックアップロール11のウェブ走行方向の接線とのなす角は、30°以上90°以下が好ましい。   The slot 16 is a flow path of the coating liquid 14 from the pocket 15 to the web W, and has a cross-sectional shape in the width direction of the slot die 13 similarly to the pocket 15, and the opening 16a located on the web side is generally Using a width regulating plate (not shown), the width is adjusted to be approximately the same as the coating width. The angle between the slot tip of the slot 16 and the tangent in the web running direction of the backup roll 11 is preferably 30 ° or more and 90 ° or less.

スロット16の開口部16aが位置するスロットダイ13の先端リップ17は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部18とされている。このランド18であって、スロット16に対してウェブWの進行方向の上流側を上流側リップランド18a、下流側を下流側リップランド18bと称する。   The tip lip 17 of the slot die 13 where the opening 16a of the slot 16 is located is tapered, and the tip is a flat part 18 called a land. In the land 18, the upstream side in the traveling direction of the web W with respect to the slot 16 is referred to as an upstream lip land 18 a and the downstream side is referred to as a downstream lip land 18 b.

図3は、スロットダイ13の断面形状を従来のものと比較して示すもので、(A)は本発明のスロットダイ13を示し、(B)は従来のスロットダイ30を示している。従来のスロットダイ30では、上流側リップランド31aと下流側リップランド31bのウェブとの距離は等しい。なお、符号32はポケット、33はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ13では、下流側リップランド長さILOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が20μm以下の塗布を精度良くおこなうことができる。 FIG. 3 shows a cross-sectional shape of the slot die 13 in comparison with a conventional one, (A) shows the slot die 13 of the present invention, and (B) shows a conventional slot die 30. In the conventional slot die 30, the distance between the upstream lip land 31a and the web of the downstream lip land 31b is equal. Reference numeral 32 denotes a pocket, and 33 denotes a slot. On the other hand, in the slot die 13 of the present invention, the downstream side lip land length I LO is shortened, whereby the wet film thickness of 20 μm or less can be applied with high accuracy.

上流側リップランド18aのランド長さIUPは特に限定はされないが、500μm〜1mmの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド18bのランド長さILOは30μm以上100μm以下であり、好ましくは30μm以上80μm以下、更に好ましくは30μm以上60μm以下である。下流側リップのランド長さILOが30μmよりも短い場合は、先端リップのエッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなる。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くことが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さILOが100μmよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。 The land length I UP of the upstream lip land 18a is not particularly limited, but is preferably used in the range of 500 μm to 1 mm. The land length I LO of the downstream lip land 18b is not less than 30 μm and not more than 100 μm, preferably not less than 30 μm and not more than 80 μm, more preferably not less than 30 μm and not more than 60 μm. If the land length I LO of the downstream lip is shorter than 30 μm, the edge or land of the tip lip is likely to be chipped, streaks are likely to occur in the coating film, and consequently application is impossible. In addition, it becomes difficult to set the position of the wetting line on the downstream side, and the coating liquid tends to spread on the downstream side. It has been conventionally known that this spreading of the coating solution on the downstream side means that the wetting line is not uniform, and a defective shape such as a streak is caused on the coating surface. On the other hand, when the land length I LO of the downstream lip is longer than 100 μm, the bead itself cannot be formed, so that it is impossible to apply the thin layer.

更に、下流側リップランド18bは、上流側リップランド18aよりもウェブWに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド18bと上流側リップランド18aのウェブWとの距離の差(以下、オーバーバイト長さLOと称する)は30μm以上120μm以下が好ましく、更に好ましくは30μm以上100μm以下、もっとも好ましくは30μm以上80μm以下である。スロットダイ13がオーバーバイト形状のとき、先端リップ17とウェブWの隙間GLとは、下流側リップランド18bとウェブWの隙間を示す。 Further, the downstream lip land 18b has an overbite shape closer to the web W than the upstream lip land 18a. Therefore, the degree of decompression can be lowered, and a bead suitable for thin film coating can be formed. The difference in distance between the downstream lip land 18b and the web W of the upstream lip land 18a (hereinafter referred to as overbit length LO) is preferably 30 μm or more and 120 μm or less, more preferably 30 μm or more and 100 μm or less, and most preferably 30 μm. It is 80 μm or less. When the slot die 13 has an overbite shape, the gap GL between the tip lip 17 and the web W indicates the gap between the downstream lip land 18b and the web W.

図4は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。
ウェブWの進行方向側とは反対側に、ビード14aに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー40を設置する。減圧チャンバー40は、その作動効率を保持するためのバックプレート40aとサイドプレート40bを備えており、バックプレート40aとウェブWの間、サイドプレート40bとウェブWの間にはそれぞれ隙間GB、GSが存在する。
FIG. 4 is a perspective view showing a slot die and its periphery in a coating process in which the present invention is implemented.
On the opposite side of the web W in the direction of travel, the decompression chamber 40 is installed at a position where it does not come into contact with the bead 14a so that sufficient decompression adjustment can be performed. The decompression chamber 40 includes a back plate 40a and a side plate 40b for maintaining its operating efficiency, and there are gaps G B and G between the back plate 40a and the web W and between the side plate 40b and the web W, respectively. S exists.

図5は、近接している減圧チャンバー40とウェブWを示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは図9のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート40aとウェブWの間、サイドプレート40bとウェブWの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間GB、GSと定義する。減圧チャンバー40のバックプレート40aとウェブWとの隙間GBとは、減圧チャンバー40を図8のようにウェブW及びスロットダイ13の下方に設置した場合、バックプレート40aの最上端からウェブWまでの隙間を示す。 FIG. 5 is a cross-sectional view showing the vacuum chamber 40 and the web W that are close to each other. The side plate and the back plate may be integrated with the chamber main body as shown in FIG. 9, or may be structured to be fastened to the chamber with screws so that the gap can be appropriately changed. In any structure, portions that are actually opened between the back plate 40a and the web W and between the side plate 40b and the web W are defined as gaps G B and G S , respectively. The gap G B between the back plate 40a and the web W of the decompression chamber 40, when the vacuum chamber 40 is placed under the web W and the slot die 13 as shown in FIG. 8, the uppermost end of the back plate 40a to the web W Indicates the gap.

バックプレート40aとウェブWとの隙間GBをスロットダイ13の先端リップ17とウェブWとの隙間GLよりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール11の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ13の先端リップ17とウェブWとの隙間GLが30μm以上100μm以下のとき、バックプレート40aとウェブWの間の隙間GBは100μm以上500μm以下が好ましい。 Is preferably placed in the gap G B between the back plate 40a and the web W is larger than the gap G L between the end lip 17 and the web W of the slot die 13, beads vicinity due to the eccentricity of the backup roll 11 thereby The change in the degree of decompression can be suppressed. For example, when the gap G L between the end lip 17 and the web W of the slot die 13 is 30μm or more 100μm or less, the gap G B between the back plate 40a and the web W is preferably 100μm or 500μm or less.

[材質、精度]
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が20μm以内とすることが好ましい。
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを30〜100μmの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第2817053号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径5μm以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド(以下、WCと称す)などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることも出来る。WC結晶の平均粒径としては、粒径3μm以下が更に好ましい。
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が5μm以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出す。
[Material and accuracy]
The longer the length in the web traveling direction of the tip lip on the traveling direction side of the web, the more disadvantageous it is for bead formation. It becomes unstable. Therefore, it is preferable that the fluctuation width in the slot die width direction is within 20 μm.
Further, when the material of the tip lip of the slot die is made of a material such as stainless steel, the length of the slot die tip lip in the web running direction is set to 30 to 100 μm as described above. Even within this range, the accuracy of the tip lip cannot be satisfied. Therefore, in order to maintain high processing accuracy, it is important to use a cemented carbide material as described in Japanese Patent No. 2817053. Specifically, at least the tip lip of the slot die is preferably made of a cemented carbide formed by bonding carbide crystals having an average particle size of 5 μm or less. Cemented carbides include carbide crystal particles such as tungsten carbide (hereinafter referred to as WC) bonded by a bonding metal such as cobalt, and other bonding metals include titanium, tantalum, niobium, and mixed metals thereof. Can also be used. The average particle size of the WC crystal is more preferably 3 μm or less.
In order to realize high-precision coating, the length of the land on the web traveling direction side of the tip lip and the variation in the slot die width direction of the gap with the web are also important factors. It is desirable to achieve a combination of these two factors, that is, straightness within a range in which the fluctuation range of the gap can be suppressed to some extent. Preferably, the straightness of the tip lip and the backup roll is set so that the fluctuation width of the gap in the slot die width direction is 5 μm or less.

[塗布速度]
上記の様なバックアップロール及び先端リップの精度を達成することにより、本発明で好ましく用いられる塗布方式は高速塗布時における膜厚の安定性が高い。更に、前記塗布方式は前計量方式であるために高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。低塗布量の塗布液に対して、該塗布方式は高速で膜厚安定性良く塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。前記ダイコート法を用い、25m/分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
[Application speed]
By achieving the accuracy of the backup roll and the tip lip as described above, the coating method preferably used in the present invention has high film thickness stability during high-speed coating. Furthermore, since the coating method is a pre-measuring method, it is easy to ensure a stable film thickness even during high-speed coating. With respect to a coating solution of a low coating amount, the coating method can be applied at high speed with good film thickness stability. Although coating is possible by other coating methods, the dip coating method inevitably causes vibration of the coating liquid in the liquid receiving tank, and stepped unevenness is likely to occur. In the reverse roll coating method, stepped unevenness is likely to occur due to eccentricity and deflection of the roll related to coating. Moreover, since these coating methods are post-measuring methods, it is difficult to ensure a stable film thickness. From the viewpoint of productivity, it is preferable to apply the die coating method at 25 m / min or more.

[2つ以上のスロットル及び/又はスライドを有するコーターから同時に支持体上に押し出す工程]
下記のような2つのスロットルを有するコーターを用いた以外は、ほぼ上述のスロットルダイを用いて押し出す工程と同様である。このような2つ以上のスロットル及び/又はスライドを有するコーターを用いることで、更に生産性を高めることができる。
[Step of simultaneously extruding onto a support from a coater having two or more throttles and / or slides]
Except for using a coater having two throttles as described below, the process is almost the same as the process of extruding using the throttle die described above. By using such a coater having two or more throttles and / or slides, productivity can be further increased.

同時塗布に用いる塗布ヘッドの形態を図6に示す。図6(A)乃至(C)の塗布ヘッドに更にもう1つのスライド部を設けてもよい。ハードコート層と中屈折率層を同時に塗布する場合、図6(A)が好ましい。この場合、ハードコート層と中屈折率層と(2層の)最表層の3層を同時に塗布しても良い。   The form of the coating head used for simultaneous coating is shown in FIG. Another sliding portion may be provided on the coating head shown in FIGS. 6 (A) to 6 (C). When applying a hard-coat layer and a medium refractive index layer simultaneously, FIG. 6 (A) is preferable. In this case, three layers of a hard coat layer, a medium refractive index layer, and (two layers) outermost layer may be applied simultaneously.

[乾燥]
塗布組成物が基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送される。その際の乾燥ゾーンの温度は25℃〜140℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには120℃の温風中で数分以内にその数10%前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、2官能のアクリレートモノマー等は100℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
[Dry]
After the coating composition has been applied directly onto the substrate film or via other layers, it is conveyed in a web to a heated zone to dry the solvent. In this case, the temperature of the drying zone is preferably 25 ° C. to 140 ° C., the first half of the drying zone is relatively low temperature, and the second half is preferably relatively high temperature. However, it is preferably below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize. For example, some of the commercially available photo radical generators used in combination with ultraviolet curable resins volatilize around several tens of percent within a few minutes in warm air at 120 ° C. Some acrylate monomers and the like undergo volatilization in warm air at 100 ° C. In such a case, it is preferable that it is below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize as described above.

各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が1〜50%の間は塗膜表面の風速が0.1〜2m/秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後、乾燥ゾーン内で基材フィルムの塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと基材フィルムとの温度差が0℃〜20℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
The drying wind after applying the coating composition of each layer on the base film is in the range of 0.1 to 2 m / sec on the surface of the coating film while the solid content concentration of the coating composition is 1 to 50%. In order to prevent unevenness in drying, it is preferable.
After coating the coating composition of each layer on the base film, the temperature difference between the transport roll and the base film in contact with the surface opposite to the base film coating surface in the drying zone is within 0 ° C to 20 ° C. Then, drying unevenness due to heat transfer unevenness on the transport roll can be prevented, which is preferable.

[硬化]
溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで電離放射線及び/又は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化する。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより10mJ/cm2〜1000mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜100%の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度は5%以下が好ましく、0.01%〜5%が特に好ましい。特に低屈折率層の酸素濃度は0.1%以下が好ましく、0.05%以下が特に好ましく、0.02%以下が特に好ましい。幅方向の分布は酸素濃度で2%以下が好ましい。
[Curing]
After the solvent drying zone, the coating is cured by passing through a zone where the coating is cured by ionizing radiation and / or heat on the web. For example, if the coating film is UV curable, it is to cure each layer by irradiating an irradiation amount of ultraviolet rays of 10mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 by an ultraviolet lamp preferred. At that time, the irradiation distribution in the width direction of the web is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, including both ends with respect to the central maximum irradiation. Further, when it is necessary to purge the nitrogen gas or the like to reduce the oxygen concentration in order to promote surface hardening, the oxygen concentration is preferably 5% or less, particularly preferably 0.01% to 5%. In particular, the oxygen concentration of the low refractive index layer is preferably 0.1% or less, particularly preferably 0.05% or less, and particularly preferably 0.02% or less. The distribution in the width direction is preferably 2% or less in terms of oxygen concentration.

2層以上形成する場合は、一層目の硬化率(100−残存官能基含率)が100%未満のある値となった場合、その上に2層目を設け電離放射線及び/又は熱により硬化した際に一層目の硬化率が2層目を設ける前よりも高くなると、両層間の密着性が改良され、好ましい。   When two or more layers are to be formed, if the first layer cure rate (100-residual functional group content) is less than 100%, a second layer is provided thereon and cured by ionizing radiation and / or heat. In this case, it is preferable that the curing rate of the first layer is higher than that before the second layer is provided, because the adhesion between the two layers is improved.

[偏光板用保護フィルム]
本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合は、偏光板を作成するにあたり、反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いるために、低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することが好ましい。
[Protective film for polarizing plate]
When the antireflection film of the present invention is used in a liquid crystal display device, a low refractive index layer is provided in order to use the antireflection film as a surface protective film for a polarizing film (protective film for a polarizing plate) in preparing a polarizing plate. It is preferable to improve the adhesion to the polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component by hydrophilizing the surface of the transparent support opposite to the side, that is, the surface to be bonded to the polarizing film.

透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、(1)予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層(例、ハードコート層、中屈折率層、表層2層など)を塗設する手法、(2)透明支持体の一方の面に上記の各層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法、の2つが考えられるが、(1)はハードコートを塗設するべき面まで親水化されるため、支持体とハードコート層との密着性の確保が困難となるため、(2)の手法が好ましい。
As the transparent support, it is particularly preferable to use a triacetyl cellulose film.
As a method for producing a protective film for polarizing plate in the present invention, (1) each of the above-mentioned layers (eg, hard coat layer, medium refractive index layer, two surface layers, etc.) on one surface of a previously saponified transparent support. There are two methods: (2) a method of coating each layer on one side of the transparent support, and then a saponification treatment on the side to be bonded to the polarizing film. Since the surface to which the coat is to be applied is hydrophilized, it is difficult to ensure the adhesion between the support and the hard coat layer, so the method (2) is preferred.

[鹸化処理](1)浸漬法
アルカリ液の中に反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は0.5〜3mol/lであり、特に好ましくは1〜2mol/lである。好ましいアルカリ液の液温は30〜70℃、特に好ましくは40〜60℃である。
上記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
[Saponification] (1) Immersion method This is a technique in which an antireflection film is immersed in an alkaline solution under appropriate conditions, and all surfaces having reactivity with alkali on the entire surface of the film are saponified, and special equipment is provided. Is preferable from the viewpoint of cost. The alkaline liquid is preferably a sodium hydroxide aqueous solution. A preferred concentration is 0.5 to 3 mol / l, particularly preferably 1 to 2 mol / l. The liquid temperature of a preferable alkali liquid is 30-70 degreeC, Most preferably, it is 40-60 degreeC.
The combination of the above saponification conditions is preferably a combination of relatively mild conditions, but can be set according to the material and configuration of the antireflection film and the target contact angle.
After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by immersing in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.

鹸化処理することにより、透明支持体の反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に低屈折率層を有する表面までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる反射防止層の受けるダメージの指標として、反射防止構造層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち反射防止フィルムの貼り合わせ面の、水に対する接触角を用いた場合、特に支持体がトリアセチルセルロースであれば、20度〜50度、好ましくは30度〜50度、より好ましくは40度〜50度を上記接触角とするのが好ましい。50度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、20度未満では、反射防止層の受けるダメージが大きすぎる為、物理強度、耐光性を損ない、好ましくない。
By saponification treatment, the surface of the transparent support opposite to the surface having the antireflection layer is hydrophilized. The protective film for polarizing plate is used by adhering the hydrophilic surface of the transparent support to the polarizing film.
The hydrophilized surface is effective for improving the adhesiveness with the adhesive layer mainly composed of polyvinyl alcohol.
In the saponification treatment, the lower the contact angle with water on the surface of the transparent support opposite to the side having the low refractive index layer, the better from the viewpoint of adhesion to the polarizing film, while the dipping method simultaneously reduces the low refractive index. Since the surface having the rate layer is damaged by alkali, it is important to set the reaction conditions to the minimum necessary. As an index of the damage received by the antireflection layer due to alkali, particularly when the surface of the transparent support opposite to the side having the antireflection structure layer, that is, the bonding angle of the antireflection film, the contact angle with water is used. When the support is triacetylcellulose, the contact angle is preferably 20 to 50 degrees, preferably 30 to 50 degrees, more preferably 40 to 50 degrees. If it is 50 degrees or more, there is a problem in the adhesion to the polarizing film, which is not preferable. On the other hand, if the angle is less than 20 degrees, the damage received by the antireflection layer is too great, and physical strength and light resistance are impaired.

(2)アルカリ液塗布法
上述の浸漬法における反射防止膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、この時、反射防止フィルムの貼り合わせ面の水に対する接触角が、10〜50度となるように鹸化処理を行なうことが好ましい。また、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では(1)の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
(2) Alkaline liquid application method As a means for avoiding damage to the antireflection film in the above-described immersion method, the alkaline liquid is applied only on the surface opposite to the surface having the antireflection film under appropriate conditions, heated, washed with water, A drying alkaline solution coating method is preferably used. The application in this case means that an alkali solution or the like is brought into contact only with the surface to be saponified, and at this time, the contact angle with respect to water of the bonded surface of the antireflection film is 10 to 50 degrees. It is preferable to perform a saponification treatment. In addition to the application, it may include spraying, contact with a belt containing liquid, or the like. By adopting these methods, a separate facility and process for applying an alkaline solution are required, which is inferior to the immersion method (1) from the viewpoint of cost. On the other hand, since the alkali solution contacts only the surface to be saponified, the opposite surface can have a layer using a material that is weak against the alkali solution. For example, vapor deposition films and sol-gel films have various effects such as corrosion, dissolution, and peeling due to alkali solution, so it is not desirable to use the immersion method. Is possible.

上記(1)、(2)のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。更に、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。   In any of the saponification methods (1) and (2) above, since each layer can be formed by unwinding from a roll-shaped support, a series of operations can be performed in addition to the above-described antireflection film production process. You can go. Furthermore, the polarizing plate can be produced more efficiently than the same operation with a single wafer by continuously performing the pasting step with the polarizing plate made of the unwound support.

[偏光板]
本発明の偏光板は、偏光膜と、該偏光膜の表側及び裏側の両面を保護する2枚の保護フィルムとを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、上述の本発明の光学フィルム、又は本発明の反射防止フィルムである。以下、反射防止フィルムを例に説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜の保護フィルム(偏光板用保護フィルム)の少なくとも一方に、本発明の反射防止フィルムを有する。反射防止フィルムの透明支持体がポリビニルアルコールからなる接着剤層を介して偏光膜に接着しており、もう一方の偏光膜の保護フィルムが接着剤層を介して偏光膜の反射防止フィルムが接着している主面と反対側の主面と接着している。もう一方の保護フィルムの偏光膜と接着している主面と反対側の面主面には粘着剤層を有している。
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減が可能となる。
また、本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右及び斜め方向の視野角を非常に広げることができる偏光板を作製できる。
[Polarizer]
The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate having a polarizing film and two protective films for protecting both the front side and the back side of the polarizing film, and at least one of the protective films of the present invention described above. It is an optical film or the antireflection film of the present invention. Hereinafter, an antireflection film will be described as an example.
The polarizing plate of this invention has the antireflection film of this invention in at least one of the protective film (protective film for polarizing plates) of a polarizing film. The transparent support of the antireflection film is adhered to the polarizing film through an adhesive layer made of polyvinyl alcohol, and the protective film of the other polarizing film is adhered to the antireflective film of the polarizing film through the adhesive layer. It adheres to the main surface opposite to the main surface. The surface main surface opposite to the main surface bonded to the polarizing film of the other protective film has an adhesive layer.
By using the antireflection film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, a polarizing plate having physical strength and an excellent antireflection function can be produced, and the cost can be greatly reduced.
Further, by preparing a polarizing plate using the antireflection film of the present invention as one of the protective films for polarizing plates and an optical compensation film having optical anisotropy described later as the other protective film of the polarizing film, Thus, it is possible to produce a polarizing plate that improves the contrast in the bright room of the liquid crystal display device and can greatly widen the viewing angle in the vertical and horizontal directions and in the oblique direction.

[光学補償フィルム]
光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号に記載されているディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層を有し、該ディスコティック化合物と支持体とのなす角度が透明支持体からの距離に伴って変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。
該角度は光学異方性層の支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
また、光学異方性層が更にセルロースエステルを含んでいる態様、光学異方性層と透明支持体との間に配向層が形成されている態様、該光学異方性層を有する光学補償フィルムの透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、かつ該透明支持体面の法線方向に光軸を有し、更に下記の条件を満足する態様も好ましい。
20≦{(nx+ny)/2−nz}×d≦400
上記の条件式において、nxは、フィルム面内の遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)の屈折率、nyは、フィルム面内の進相軸方向(屈折率が最小となる方向)の屈折率、nzは、フィルムの厚み方向の屈折率であり、またdは光学補償層の厚みを表す。
[Optical compensation film]
The optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen.
A known film can be used as the optical compensation film, but it has optical anisotropy made of a compound having a discotic structural unit described in JP-A-2001-100042 in terms of widening the viewing angle. An optical compensation film having a layer, wherein the angle formed by the discotic compound and the support varies with the distance from the transparent support, is preferable.
The angle preferably increases as the distance from the support surface side of the optically anisotropic layer increases.
When the optical compensation film is used as a protective film for the polarizing film, the surface on the side to be bonded to the polarizing film is preferably saponified, and is preferably performed according to the saponifying process.
Also, an aspect in which the optically anisotropic layer further contains a cellulose ester, an aspect in which an alignment layer is formed between the optically anisotropic layer and the transparent support, and an optical compensation film having the optically anisotropic layer It is also preferable that the transparent support has an optically negative uniaxial property, has an optical axis in the normal direction of the transparent support surface, and further satisfies the following conditions.
20 ≦ {(nx + ny) / 2−nz} × d ≦ 400
In the above conditional expression, nx is the refractive index in the slow axis direction (direction in which the refractive index is maximum) in the film plane, and ny is the fast axis direction in the film plane (direction in which the refractive index is minimum). Where nz is the refractive index in the thickness direction of the film, and d is the thickness of the optical compensation layer.

[画像表示装置]
本発明の画像表示装置は、上述の本発明の光学フィルム、本発明の反射防止フィルム、又は本発明の偏光板の少なくとも1つを有する。
本発明の反射防止フィルムを有する画像表示装置としては、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)、電界放出ディスプレイ(FED)、表面電界ディスプレイ(SED)等が挙げられる。本発明の反射防止フィルムを有する偏光板を有する画像表示装置としては、液晶表示装置(LCD)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)のような画像表示装置が挙げられる。本発明の画像表示装置においては、本発明の反射防止フィルムを有する偏光板を、液晶表示装置の液晶セルのガラスに直接又は他の層を介して接着して用いる。
[Image display device]
The image display device of the present invention has at least one of the above-described optical film of the present invention, the antireflection film of the present invention, or the polarizing plate of the present invention.
As an image display device having the antireflection film of the present invention, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode tube display device (CRT), a field emission display (FED), Surface electric field display (SED) etc. are mentioned. Examples of the image display device having the polarizing plate having the antireflection film of the present invention include image display devices such as a liquid crystal display device (LCD) and an electroluminescence display (ELD). In the image display device of the present invention, the polarizing plate having the antireflection film of the present invention is used by bonding directly to the glass of the liquid crystal cell of the liquid crystal display device or through another layer.

本発明に用いる反射防止フィルムを用いた偏光板は、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
また、透過型又は半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム(偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友3M(株)製のD−BEFなど)と併せて用いることにより、更に視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ/4板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ELディスプレイ用表面保護板として表面及び内部からの反射光を低減するのに用いることができる。
The polarizing plate using the antireflection film used in the present invention includes twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optically compensated bend cell ( It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device in a mode such as OCB).
Further, when used in a transmissive or transflective liquid crystal display device, it is used in combination with a commercially available brightness enhancement film (a polarized light separation film having a polarization selective layer, such as D-BEF manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.). Thus, a display device with higher visibility can be obtained.
Further, by combining with a λ / 4 plate, it can be used to reduce the reflected light from the surface and inside as a polarizing plate for reflective liquid crystal or a surface protective plate for organic EL display.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお特別の断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。   In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

(パーフルオロオレフィン共重合体(P1)の合成) (Synthesis of perfluoroolefin copolymer (P1))

パーフルオロオレフィン共重合体(P1)

Figure 2012036394
Perfluoroolefin copolymer (P1)
Figure 2012036394

内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7g及び過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は0.53Mpa(5.4kg/cm2)であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.31MPa(3.2kg/cm2)に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体(P1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.421であった。 Into an autoclave with a stirrer made of stainless steel having an internal volume of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Further, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 0.53 Mpa (5.4 kg / cm 2 ). The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 0.31 MPa (3.2 kg / cm 2 ), the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of a perfluoroolefin copolymer (P1). The resulting polymer had a refractive index of 1.421.

(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
(Preparation of sol solution a)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. Thereafter, 30 parts of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(シリカ分散液Aの調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径40nm、シェル厚み6nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.30、特開2002−79616の調製例4に準じサイズを変更して作成)500部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)8部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(GE東芝シリコーン(株)製)2部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水を9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加した。
この分散液500gにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力20kPaで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し、22質量%にしたときの粘度は25℃で9mPa・sであった。得られた分散液Aのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.0%であった
(Preparation of silica dispersion A)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol silica sol, average particle diameter 40 nm, shell thickness 6 nm, silica concentration 20% by mass, silica particle refractive index 1.30, prepared by changing the size according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616 ) 500 parts, 8 parts acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 2 parts tridecafluorooctyltrimethoxysilane (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.), and diisopropoxyaluminum ethyl acetate 1 After adding 5 parts and mixing, 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 parts of acetylacetone was added.
While adding cyclohexanone to 500 g of this dispersion so that the silica content was almost constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 20 kPa. There was no generation of foreign matter in the dispersion, and the viscosity when adjusted to a solid content concentration of 22% by mass with cyclohexanone was 9 mPa · s at 25 ° C. The amount of isopropyl alcohol remaining in the obtained dispersion A was analyzed by gas chromatography and found to be 1.0%.

(分散液Bの調整)
粒子径15nmのZrO2粒子のメチルイソブチルケトン分散物(固形分濃度20質量%)500gに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)10g、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート0.5g加え混合した後に、イオン交換水を3gを加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8gを添加したし分散液Bを作製した。分散液Bにジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)31.4gを加え、圧力20kPaで減圧蒸留し、固形分濃度62%の溶液を作製した。光重合開始剤(イルガキュア184、チバガイギー社製)を0.5g、光重合開始剤(イルガキュア904、チバガイギー社製)を0.5gを加え、攪拌して溶解し、メチルエチルケトンを加え濃度調整し、固形分濃度約61%、固形分中ZrO2含率約70%の分散液Bを作製した。
(Adjustment of dispersion B)
500 g of a methyl isobutyl ketone dispersion (solid content concentration 20 mass%) of ZrO 2 particles having a particle diameter of 15 nm, 10 g of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and diisopropoxyaluminum ethyl acetate After adding 5 g and mixing, 3 g of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 g of acetylacetone was added to prepare dispersion B. 31.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is added to Dispersion B and distilled under reduced pressure at a pressure of 20 kPa to produce a solution having a solid content concentration of 62%. did. 0.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy) and 0.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 904, manufactured by Ciba Geigy) are added and dissolved by stirring. Dispersion B having a partial concentration of about 61% and a ZrO 2 content of about 70% in the solid content was prepared.

(ハードコート層用塗布液Aの調整)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)306質量部を、16質量部のメチルエチルケトンと220質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア184、チバガイギー社製)7.5質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、450質量部の MEK−ST(平均粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%のSiO2 ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学(株)製)を添加し、撹拌して混合物を得、孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過してハードコート層用塗布液Aを調製した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.50であった。
(Adjustment of coating liquid A for hard coat layer)
306 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 16 parts by mass of methyl ethyl ketone and 220 parts by mass of cyclohexanone. After adding 7.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy) to the resulting solution and stirring until dissolved, 450 parts by mass of MEK-ST (average particle size of 10 to 20 nm, solid content) Add a methyl ethyl ketone dispersion of SiO 2 sol having a concentration of 30% by mass (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), stir to obtain a mixture, and filter through a polypropylene filter (PPE-03) with a pore size of 3 μm for a hard coat layer. A coating solution A was prepared. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.50.

(ハードコート層用塗布液Bの調製)
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(PET-30、日本化薬(株)製)を71.2g、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)を2.9g、フッ素系表面改質剤(SP−13)0.1g、シランカップリング剤(KBM−5103、信越化学工業(株)製)を11.8gをメチルイソブチルケトンに添加し、エアーディスパーにて60分間攪拌して溶質を完全に溶解した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.52であった。平均粒径3.5μmの架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子(共重合組成比=50/50、屈折率1.536)13.7gをポリトロン分散機にて10000rpmで20分間分散し30%メチルイソブチルケトン分散液として添加し、メチルイソブチルケトンとメチルエチルケトンとを加え、固形分濃度を45質量%に調整後、エアーディスパーにて10分間攪拌した。メチルイソブチルケトンとメチルエチルケトンの質量比は9:1になるように調整した。
前記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液Bを調製した。
(Preparation of coating liquid B for hard coat layer)
71.2 g of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (PET-30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 2.9 g of a polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) , 0.1 g of fluorine-based surface modifier (SP-13), 11.8 g of silane coupling agent (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were added to methyl isobutyl ketone, and 60 by air disperser. Stir for minutes to completely dissolve the solute. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.52. 13.7 g of a crosslinked poly (acryl-styrene) particle having an average particle size of 3.5 μm (copolymerization composition ratio = 50/50, refractive index 1.536) was dispersed with a Polytron disperser at 10,000 rpm for 20 minutes and 30% methyl isobutyl. It added as a ketone dispersion liquid, methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone were added, solid content concentration was adjusted to 45 mass%, and it stirred for 10 minutes with the air disper. The mass ratio of methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone was adjusted to 9: 1.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution B for hard coat layer.

(中屈折率層用塗布液の調整)
分散液B65.6gにジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)57g、光重合開始剤(イルガキュア904、チバガイギー社製)3gを加え、固形分濃度が3.5重量%になるようにメチルイソブチルケトンを加え、10分間攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.62であった。
前記混合液を孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
(Adjustment of coating solution for medium refractive index layer)
57 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 3 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 904, manufactured by Ciba Geigy) are added to 65.6 g of the dispersion B, and the solid content Methyl isobutyl ketone was added so that the concentration was 3.5% by weight and stirred for 10 minutes. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.62.
The mixture was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore size of 3 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer.

(表層2層用塗布液Aの調整)
分散液B132gに、パーフルオロオレフィン共重合体(P1)50.8g、反応性シリコーンX−22−164B(商品名;信越化学工業社製)1.6g、光重合開始剤(イルガキュア907(商品名)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)1.6gを加え、固形分濃度5.4%になるようにメチルエチルケトンにとシクロヘキサノンを加え、10分間攪拌した。メチルエチルケトンとシクロヘキサノンの質量比は9:1になるように調整した。
前記混合液を孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過して表層2層用塗布液Aを調製した。
(Adjustment of coating liquid A for the surface layer 2 layers)
Dispersion B132g, perfluoroolefin copolymer (P1) 50.8g, reactive silicone X-22-164B (trade name; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.6g, photopolymerization initiator (Irgacure 907 (trade name) ), 1.6 g of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), cyclohexanone and methyl ethyl ketone were added to a solid content concentration of 5.4%, and the mixture was stirred for 10 minutes. The mass ratio of methyl ethyl ketone and cyclohexanone was adjusted to 9: 1.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore diameter of 3 μm to prepare a surface layer two-layer coating solution A.

(表層2層用塗布液Bの調整)
分散液B132gに、ポリシロキサン及び水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)780.2g、ゾル液a 7.3g、光重合開始剤A0.5gを加え、固形分濃度5.4%になるようにメチルエチルケトンにとシクロヘキサノンを加え、10分間攪拌した。メチルエチルケトンとシクロヘキサノンの質量比は9:1になるように調整した。
前記混合液を孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過して表層2層用塗布液Bを調製した。
(Adjustment of coating liquid B for surface layer 2 layers)
In 132 g of the dispersion B, 780.2 g of a heat-crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.44 containing polysiloxane and a hydroxyl group (JTA113, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation), sol solution a 7.3 g, 0.5 g of photopolymerization initiator A was added, and cyclohexanone was added to methyl ethyl ketone so that the solid content concentration was 5.4%, followed by stirring for 10 minutes. The mass ratio of methyl ethyl ketone and cyclohexanone was adjusted to 9: 1.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore size of 3 μm to prepare a surface layer 2-layer coating solution B.

(開始剤A)

Figure 2012036394
(Initiator A)
Figure 2012036394

(表層2層用塗布液Cの調整)
分散液B132gに、パーフルオロオレフィン共重合体(P1)30g、分散液A120g、反応性シリコーンX−22−164B(商品名;信越化学工業社製)1.6g、ゾル液a 7.2g、光重合開始剤(イルガキュア907(商品名)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)1.6gを加え、固形分濃度5.4%になるようにメチルエチルケトンにとシクロヘキサノンを加え、10分間攪拌した。メチルエチルケトンとシクロヘキサノンの質量比は8:2になるように調整した。
前記混合液を孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過して表層2層用塗布液Cを調製した。
(Adjustment of coating liquid C for the surface layer 2 layers)
Dispersion B132g, perfluoroolefin copolymer (P1) 30g, dispersion A120g, reactive silicone X-22-164B (trade name; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.6g, sol liquid a 7.2g, light 1.6 g of a polymerization initiator (Irgacure 907 (trade name), manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added, methyl ethyl ketone and cyclohexanone were added to a solid content concentration of 5.4%, and the mixture was stirred for 10 minutes. The mass ratio of methyl ethyl ketone and cyclohexanone was adjusted to 8: 2.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore size of 3 μm to prepare a surface layer 2-layer coating solution C.

(表層2層用塗布液Dの調整)
溶媒は全てメチルエチルケトンにする以外は表層2層用塗布液Aと同じ方法で、表層2層用塗布液Dを調整した。
(Adjustment of surface layer 2 layer coating solution D)
Surface layer 2 layer coating solution D was prepared in the same manner as surface layer 2 layer coating solution A, except that all solvents were methyl ethyl ketone.

(表層2層用塗布液Eの調整)
パーフルオロオレフィン共重合体(P1)と反応性シリコーンX−22−164B(商品名;信越化学工業社製)の代わりに、2つの成分の合計量と同じ量のジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)を用いた以外は表層2層用塗布液Aと同じ方法で、表層2層用塗布液Eを調整した。
(Adjustment of coating solution E for surface layer 2 layers)
Instead of perfluoroolefin copolymer (P1) and reactive silicone X-22-164B (trade name; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), the same amount of dipentaerythritol pentaacrylate and dipenta as the total amount of the two components The surface layer 2 layer coating solution E was prepared in the same manner as the surface layer 2 layer coating solution A, except that a mixture of erythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used.

[実施例1]
(反射防止フィルムの作製)
(反射防止フィルム1−1Aの作製)
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製、屈折率:1.49)に、上記のハードコート層用塗布液Aを、スロットルダイコーター(図3(A))を用いて塗布し、100℃で2分間乾燥した。次に窒素パージし、酸素濃度を0.1%にした条件下で紫外線を70mJ/cm2照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層(屈折率:1.50、膜厚:6μm)を形成した。続いて、上記の中屈折率層用塗布液をスロットルダイコーター(図3(A))を用いて塗布し、100℃で乾燥した後、窒素パージし、酸素濃度を0.1%にした条件下で紫外線を200mJ/cm2照射して、塗布層を硬化させ、中屈折率層(屈折率:1.62、膜厚:60nm)を設けた。中屈折率層の上に、上記の表層2層用塗布液Aをスロットルダイコーター(図3(A))を用いて塗布し、100℃で1分乾燥した後、窒素パージし、酸素濃度を0.05%にした条件下で紫外線を500mJ/cm2照射して、塗布層を硬化させ、高屈折率層と低屈折率層を同時に形成して、反射防止フィルム1−1Aを作製した。高屈折率層と低屈折率層の屈折率と膜厚は、形成された膜の分光反射曲線のフィッティングより、高屈折率層が屈折率:1.72、膜厚:110nmと低屈折率層が屈折率:1.43、膜厚:90nmとなり、光学的に2層に分離していることが確認できた。
[Example 1]
(Preparation of antireflection film)
(Preparation of antireflection film 1-1A)
To the triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., refractive index: 1.49) having a thickness of 80 μm, the above-mentioned coating liquid A for hard coat layer was added to a throttle die coater (FIG. 3 (A )) And dried at 100 ° C. for 2 minutes. Next, purging with nitrogen and irradiating with ultraviolet rays of 70 mJ / cm 2 under a condition where the oxygen concentration is 0.1%, the coating layer is cured, and a hard coat layer (refractive index: 1.50, film thickness: 6 μm) Formed. Subsequently, the above medium refractive index layer coating solution was applied using a throttle die coater (FIG. 3A), dried at 100 ° C., purged with nitrogen, and the oxygen concentration was adjusted to 0.1%. Under the irradiation, ultraviolet rays were irradiated at 200 mJ / cm 2 to cure the coating layer, and an intermediate refractive index layer (refractive index: 1.62, film thickness: 60 nm) was provided. On the medium refractive index layer, the above-mentioned surface layer two-layer coating solution A is applied using a throttle die coater (FIG. 3A), dried at 100 ° C. for 1 minute, and then purged with nitrogen to adjust the oxygen concentration. An antireflection film 1-1A was produced by irradiating with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 under a condition of 0.05%, curing the coating layer, and simultaneously forming a high refractive index layer and a low refractive index layer. The refractive index and the film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer are as follows. From the fitting of the spectral reflection curve of the formed film, the high refractive index layer has a refractive index of 1.72 and the film thickness is 110 nm. The refractive index was 1.43 and the film thickness was 90 nm, confirming optical separation into two layers.

(反射防止フィルム1−1Bの作製)
表層2層用塗布液として表層2層用塗布液Bを用い、100℃で乾燥した後に、100度で10分熱硬化させ、その後、窒素パージし、酸素濃度を0.05%にした条件下で紫外線を500mJ/cm2照射して、塗布層を硬化させた以外は、反射防止フィルム1−1Aと同じ方法で反射防止フィルム1−1Bを作製した。表層2層用塗布液より同時に形成された高屈折率層と低屈折率層の屈折率と膜厚は、形成された膜の分光反射曲線のフィッティングより、高屈折率層が屈折率:1.72、膜厚:110nmと低屈折率層が屈折率:1.44、膜厚:90nmとなり、光学的に2層に分離していることが確認できた。
(Preparation of antireflection film 1-1B)
The surface layer 2 layer coating solution B was used as the surface layer 2 layer coating solution, dried at 100 ° C., then thermally cured at 100 ° C. for 10 minutes, and then purged with nitrogen to have an oxygen concentration of 0.05%. The antireflection film 1-1B was produced by the same method as the antireflection film 1-1A except that the coating layer was cured by irradiating with 500 mJ / cm 2 of ultraviolet rays. The refractive index and film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer formed at the same time from the coating solution for the two surface layers are such that the refractive index of the high refractive index layer is 1. 72, the film thickness: 110 nm, and the low refractive index layer had a refractive index of 1.44 and a film thickness of 90 nm, confirming optical separation into two layers.

(反射防止フィルム1−1Cの作製)
表層2層用塗布液として表層2層用塗布液Cを用いた以外は、反射防止フィルム1−1Aと同じ方法で反射防止フィルム1−1Cを作製した。表層2層用塗布液より同時に形成された高屈折率層と低屈折率層の屈折率と膜厚は、形成された膜の分光反射曲線のフィッティングより、高屈折率層が屈折率:1.72、膜厚:110nmと低屈折率層が屈折率:1.38、膜厚:95nmとなり、光学的に2層に分離していることが確認できた。
(Preparation of antireflection film 1-1C)
An antireflection film 1-1C was produced in the same manner as the antireflection film 1-1A, except that the surface layer 2 layer coating liquid C was used as the surface layer 2 layer coating liquid. The refractive index and film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer formed at the same time from the coating solution for the two surface layers are such that the refractive index of the high refractive index layer is 1. 72, film thickness: 110 nm, and the low refractive index layer had a refractive index of 1.38 and a film thickness of 95 nm, confirming optical separation into two layers.

(反射防止フィルム1−1Dの作製)
表層2層用塗布液として表層2層用塗布液Dを用いた以外は、反射防止フィルム1−1Aと同じ方法で反射防止フィルム1−1Dを作製した。表層2層用塗布液より同時に形成された高屈折率層と低屈折率層の屈折率と膜厚は、形成された膜の分光反射曲線のフィッティングより、高屈折率層が屈折率:1.69、膜厚:110nmと低屈折率層が屈折率:1.48、膜厚:90nmとなり、光学的に2層に分離していることが確認できた。
(Preparation of antireflection film 1-1D)
An antireflection film 1-1D was produced in the same manner as the antireflection film 1-1A, except that the surface layer 2 layer coating liquid D was used as the surface layer 2 layer coating liquid. The refractive index and film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer formed at the same time from the coating solution for the two surface layers are such that the refractive index of the high refractive index layer is 1. 69, film thickness: 110 nm, and the low refractive index layer had a refractive index of 1.48 and a film thickness of 90 nm, confirming optical separation into two layers.

(反射防止フィルム1−1Eの作製)
表層2層用塗布液として表層2層用塗布液Eを用いた以外は、反射防止フィルム1−1Aと同じ方法で反射防止フィルム1−1Eを作製した。表層2層用塗布液より高屈折率層と低屈折率層と低屈折率層の2層は形成されず、形成された膜の分光反射曲線のフィッティングより、屈折率:1.63、膜厚:200nmの1層のみが形成された。
(Preparation of antireflection film 1-1E)
An antireflection film 1-1E was produced in the same manner as the antireflection film 1-1A, except that the surface layer 2 layer coating liquid E was used as the surface layer 2 layer coating liquid. Two layers of a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a low refractive index layer are not formed from the coating solution for the surface layer, and the refractive index is 1.63 from the fitting of the spectral reflection curve of the formed film. : Only one layer of 200 nm was formed.

(表面自由エネルギーの算出)
パーフルオロオレフィン共重合体(P1)と反応性シリコーンX−22−164Bの混合物、熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)それぞれをMEKに溶かし、塗布、乾燥、硬化し、硬化物を作製し、単独の表面自由エネルギーを求めた。パーフルオロオレフィン共重合体(P1)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)に関しては、固形分濃度5%分の光重合開始剤(イルガキュア907(商品名)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)を加えた。乾燥、硬化条件は、パーフルオロオレフィン共重合体(P1)と反応性シリコーンX−22−164Bの混合物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)に関しては、反射防止フィルム1−1Aの表層2層硬化時と同じ条件、熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)に関しては反射防止フィルム1−1Bの表層2層硬化時と同じ条件とした。表面自由エネルギーは水とヨウ化メチレンの接触角より算出した。
パーフルオロオレフィン共重合体(P1)と反応性シリコーンX−22−164Bの混合物、熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)それぞれの表面自由エネルギーは22.5mN/m、22.0mN/m、49.0mN/mであった。
(Calculation of surface free energy)
Mixture of perfluoroolefin copolymer (P1) and reactive silicone X-22-164B, thermally crosslinkable fluoropolymer (JTA113, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation), dipentaerythritol pentaacrylate, di Each mixture of pentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved in MEK, applied, dried and cured to produce a cured product, and the single surface free energy was determined. For the perfluoroolefin copolymer (P1), a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), a photopolymerization initiator having a solid content concentration of 5% ( Irgacure 907 (trade name), manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added. Drying and curing conditions were a mixture of perfluoroolefin copolymer (P1) and reactive silicone X-22-164B, a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ) With respect to the same conditions as when the antireflection film 1-1A was cured on the two surface layers, and with respect to the thermally crosslinkable fluorine-containing polymer (JTA113, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation), the antireflection film 1-1B The conditions were the same as those for the two-layer curing. The surface free energy was calculated from the contact angle between water and methylene iodide.
Mixture of perfluoroolefin copolymer (P1) and reactive silicone X-22-164B, thermally crosslinkable fluoropolymer (JTA113, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation), dipentaerythritol pentaacrylate and di The surface free energy of each of the mixtures with pentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was 22.5 mN / m, 22.0 mN / m, and 49.0 mN / m.

シリカ分散液A及び分散液Bについて、遠心分離で、粒子を沈降させ、デカンテーションした後、MEK溶剤を添加し、超音波発信機で超音波を2分印加した。その後、遠心分離、デカンテーション、MEK溶剤、US印加を4回繰り返し、その後洗浄した硝子基板上にキャスト、乾燥し、酸化物微粒子の薄膜サンプルを得た。そのサンプルの接触角測定より、表面自由エネルギーを算出したところ、シリカ分散液A及び分散液Bより作製した酸化物微粒子の薄膜はそれぞれ、34.5mN/m、52.0mN/mであった。   For silica dispersion A and dispersion B, particles were precipitated by centrifuging and decanted, then MEK solvent was added, and ultrasonic waves were applied for 2 minutes with an ultrasonic transmitter. Thereafter, centrifugation, decantation, MEK solvent, and US application were repeated 4 times, and then cast on a washed glass substrate and dried to obtain a thin film sample of oxide fine particles. When the surface free energy was calculated from the contact angle measurement of the sample, the oxide fine particles prepared from the silica dispersion A and the dispersion B were 34.5 mN / m and 52.0 mN / m, respectively.

(反射防止フィルムの評価)
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。その結果を表1にまとめる。
(Evaluation of antireflection film)
About the obtained film, the following items were evaluated. The results are summarized in Table 1.

(1)積分反射率及び色味
フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、分光光度計V−550(日本分光(株)製)にて積分反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。更に、測定された反射スペクトルから、CIE標準光源D65の5度入射光に対する正反射光の色味を表わすCIE1976L***色空間のa*値、b*値を算出し、反射光の色味を評価した。
(1) Integral reflectance and color The back side of the film is sandpaper and then treated with black ink, and the back side reflection is eliminated, and the spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation) is used. The integrated reflectance was measured, the average reflectance of 450 to 650 nm was calculated, and the antireflection property was evaluated. Further, the CIE 1976 L * a * b * color space a * value and b * value representing the color of the specularly reflected light with respect to the 5-degree incident light of the CIE standard light source D65 are calculated from the measured reflection spectrum, and the reflected light The color was evaluated.

(2)ヘイズ
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ(H)、内部ヘイズ(Hi)、表面ヘイズ(Hs)を測定した。
[1] JIS−K7136に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値(H)を測定した。
[2] 得られたフィルムの低屈折率層側の表面及び裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ1mmのガラス板(ミクロスライドガラス品番S 9111、MATSUNAMI製)を2枚用いて裏表より挟んで、完全に2枚のガラス板と得られたフィルムを光学的に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板2枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ(Hi)として算出した。
[3] 上記[1]で測定した全ヘイズ(H)から上記[2]で算出した内部ヘイズ(Hi)を引いた値をフィルムの表面ヘイズ(Hs)として算出した。
(2) Haze The following measurements measured the total haze (H), internal haze (Hi), and surface haze (Hs) of the obtained film.
[1] The total haze value (H) of the film obtained according to JIS-K7136 was measured.
[2] A few drops of silicone oil are added to the front and back surfaces of the obtained film on the low refractive index layer side, and two glass plates having a thickness of 1 mm (micro slide glass product number S 9111, manufactured by MATSANAMI) are used from the front and back. The two glass plates and the obtained film are optically closely attached, and the haze is measured with the surface haze removed, and only silicone oil is sandwiched between two separately measured glass plates. The value obtained by subtracting the haze measured in step 1 was calculated as the internal haze (Hi) of the film.
[3] A value obtained by subtracting the internal haze (Hi) calculated in [2] from the total haze (H) measured in [1] above was calculated as the surface haze (Hs) of the film.

(3)鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてJIS K 5400に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止膜を温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、JIS S 6006に規定する2H〜5Hの試験用鉛筆を用いて、500gの荷重にて、以下のとおりの判定で評価し、OKとなる最も高い硬度を評価値とした。
n=5の評価において傷なし〜傷1つ :OK
n=5の評価において傷が3つ以上 :NG
(3) Pencil hardness evaluation Pencil hardness evaluation described in JIS K 5400 was performed as an index of scratch resistance. After conditioning the antireflection film at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, it was evaluated using the 2H-5H test pencil specified in JIS S 6006 at a load of 500 g as follows. Then, the highest hardness that is OK was taken as the evaluation value.
In evaluation of n = 5, there is no scratch to one scratch: OK
In evaluation of n = 5, 3 or more scratches: NG

(4)スチールウール耐傷性評価
スチールウール耐傷性は、ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることが出来る。
評価環境条件:25℃、60%RH、
こすり材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、グレードNo.0000)
試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定、
移動距離(片道):13cm、
こすり速度:13cm/秒、
荷重:200g/cm2
先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察し、以下のとおりの判定を行った。
A:キズがほとんど気にならない
B:キズが少し気になる
C:キズが非常に気になる
(4) Steel wool scratch resistance evaluation Steel wool scratch resistance can be used as an index of scratch resistance by conducting a rubbing test under the following conditions using a rubbing tester.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH,
Rubbing material: Steel wool (manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., Grade No. 0000)
Wrap around the tip (1cm x 1cm) of the scraper of the tester that comes into contact with the sample, and fix the band.
Travel distance (one way): 13cm
Rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 200 g / cm 2
Tip contact area: 1 cm × 1 cm, rubbing frequency: 10 reciprocations.
Oily black ink was applied to the back side of the rubbed sample, and scratches on the rubbed portion were visually observed with reflected light, and the following determinations were made.
A: I'm scared of scratches B: I'm worried about scratches C: I'm very worried about scratches

(5)接触角測定
表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、純水の接触角を測定し、指紋付着性の指標とした。
(5) Contact angle measurement As an index of surface contamination resistance, the optical material was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, and then the contact angle of pure water was measured to obtain an index of fingerprint adhesion. .

(6)中心線平均粗さ
JIS−B0601に準じて得られたフィルムの中心線平均粗さRaを測定した。
(6) Centerline average roughness The centerline average roughness Ra of the film obtained according to JIS-B0601 was measured.

Figure 2012036394
Figure 2012036394

実施例1−1A〜1−1Dはいずれも良好な反射防止性能を示した。1−1A〜1−1Dの中では1−1Dの反射防止性能がやや劣った。特に好ましくは1−1A、1−1Cであり、最も好ましくは1−1Cであった。比較例1−Eは積分反射率の値が、反射防止されているとは言い難い値を示した。   Examples 1-1A to 1-1D all showed good antireflection performance. Among 1-1A to 1-1D, the antireflection performance of 1-1D was slightly inferior. Particularly preferred are 1-1A and 1-1C, and most preferred is 1-1C. In Comparative Example 1-E, the value of the integrated reflectance is a value that is difficult to say that the reflection is prevented.

実施例1−1A〜1−1Eの各試料の切片TEM写真を撮影し、ZrO2粒子の存在状態を確認した。実施例1−1A〜1−1Cはいずれも下部偏在が認められ、粒子の存在する部分と存在しない部分が明確に分かれていた。1−1Dは1−1A〜1−1Cと比較してZrO2粒子存在界面が波打っており、1−1A、1−1Bよりは高屈折率層中の粒子存在が疎であった。1−1EはZrO2粒子の下部偏在が認められず、表層2層形成層中にほぼ均一に分散していた。 Section TEM photographs of each sample of Examples 1-1A to 1-1E were taken to confirm the presence state of ZrO 2 particles. In all of Examples 1-1A to 1-1C, the uneven distribution of the lower part was observed, and the part where the particles were present and the part where the particles were not present were clearly separated. In 1-1D, the presence interface of ZrO 2 particles was wavy compared with 1-1A to 1-1C, and the presence of particles in the high refractive index layer was sparser than 1-1A and 1-1B. 1-1E was not found to be unevenly distributed in the lower part of the ZrO 2 particles, and was dispersed almost uniformly in the surface layer 2 layer forming layer.

実施例1−1Cの試料の切片TEM写真を撮影し、中空シリカ微粒子の存在状態を確認した結果、上部に多く偏在した。   As a result of taking a section TEM photograph of the sample of Example 1-1C and confirming the presence state of the hollow silica fine particles, the sample was unevenly distributed in the upper part.

反射防止フィルム1−1Aのハードコート層用塗布液Aの代わりに、ハードコート層用塗布液Bを用いた以外は、反射防止フィルム1−Aと同じ方法で、反射防止フィルム1−2Aを作成した。その結果を表2にまとめる。

Figure 2012036394
An antireflection film 1-2A is prepared in the same manner as the antireflection film 1-A, except that the coating liquid B for the hard coat layer is used instead of the coating liquid A for the hard coat layer of the antireflection film 1-1A. did. The results are summarized in Table 2.
Figure 2012036394

反射防止フィルム1−2Aは弱い防眩性が付与され、1−1Aより、反射防止性能が更によくなった。また、25.1%の内部ヘイズが付与され、高精細LCDに用いる場合のギラツキ防止性能や、LCDの視野角特性の改善効果がある反射防止フィルムが得られた。   The antireflection film 1-2A was given a weak antiglare property, and the antireflection performance was further improved than that of 1-1A. Further, an antireflection film having an internal haze of 25.1% and having an effect of improving glare prevention performance when used in a high-definition LCD and viewing angle characteristics of the LCD was obtained.

(反射防止フィルム1−3Aの作製)
同時重層塗布用のダイコーター(図6(A))を用い、スロットル部より、反射防止フィルムハードコート層用塗布液Aを、スライド部より中屈折率用塗布液を、同時にスロットルダイより押し出し、透明支持体上に塗布した以外は1−1Aと同じ方法で反射防止フィルム1−3Aを作製した。同時重層塗布したハードコート層と中屈折率層の乾燥・硬化条件は、100℃で2分乾燥後、窒素パージ下酸素濃度を0.1%にした条件下で紫外線を200mJ/cm2照射した。得られた反射防止膜1−3Aは積分反射率が1.3%と1−1Aよりやや劣るものの、良好な反射防止性能が効率的に作製できた。表層2層用塗布液より同時に形成された高屈折率層と低屈折率層の屈折率と膜厚は、形成された膜の分光反射曲線のフィッティングより、光学的に2層に分離していることが確認できた。
(Preparation of antireflection film 1-3A)
Using a die coater (FIG. 6 (A)) for simultaneous multilayer coating, the coating liquid A for the antireflection film hard coat layer is extruded from the throttle part, the medium refractive index coating liquid from the slide part, and simultaneously extruded from the throttle die. An antireflection film 1-3A was produced in the same manner as 1-1A, except that it was coated on a transparent support. Drying / curing conditions of the hard coat layer and the middle refractive index layer applied simultaneously with the multilayer were dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with UV rays at a concentration of 0.1% under a nitrogen purge at 200 mJ / cm 2 . . Although the obtained antireflection film 1-3A had an integrated reflectance of 1.3%, which was slightly inferior to 1-1A, good antireflection performance could be efficiently produced. The refractive index and film thickness of the high-refractive index layer and low-refractive index layer formed simultaneously from the surface layer two-layer coating solution are optically separated into two layers by fitting the spectral reflection curve of the formed film. I was able to confirm.

(反射防止フィルム1−4Aの作製)
同時重層塗布用のダイコーター(図6(A))に更にスライド部が1つ多いダイコーターを用い、スロットル部よりハードコート層用塗布液、2つのスライド部より、それぞれ中屈折率層用塗布液と表層2層用塗布液Aを押し出し、透明支持体上に同時に塗布した以外は1−1Aと同じ方法で反射防止フィルム1−4Aを作製した。同時重層塗布したハードコート層と中屈折率層の乾燥・硬化条件は、100℃で2分乾燥後、窒素パージ下酸素濃度を0.05%にした条件下で紫外線を500mJ/cm2照射した。得られた反射防止膜1−4Aは、積分反射率が1.5%と1−3Aよりやや劣るものの、良好な反射防止性能を示す反射防止フィルムが効率的に作製できた。表層2層用塗布液より同時に形成された高屈折率層と低屈折率層の屈折率と膜厚は、形成された膜の分光反射曲線のフィッティングより、光学的に2層に分離していることが確認できた。
(Preparation of antireflection film 1-4A)
Use a die coater with one more slide part for the simultaneous multi-layer coating die coater (Fig. 6 (A)), apply coating solution for hard coat layer from the throttle part, and apply for medium refractive index layer from the two slide parts, respectively. The antireflection film 1-4A was produced by the same method as 1-1A except that the liquid and the coating liquid A for the surface layer 2 layer were extruded and simultaneously applied onto the transparent support. Drying / curing conditions for the hard coat layer and the middle refractive index layer applied simultaneously with multiple layers were dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays at 500 mJ / cm 2 under a nitrogen purge with an oxygen concentration of 0.05%. . Although the obtained antireflection film 1-4A had an integrated reflectance of 1.5%, which was slightly inferior to 1-3A, an antireflection film showing good antireflection performance could be produced efficiently. The refractive index and film thickness of the high-refractive index layer and low-refractive index layer formed simultaneously from the surface layer two-layer coating solution are optically separated into two layers by fitting the spectral reflection curve of the formed film. I was able to confirm.

[実施例2]
(反射防止フィルムの鹸化処理)
前記各試料1−1A〜1E、2A、3Aについて、以下の処理を行った。
1.5mol/lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55℃に保温した。0.01mol/lの希硫酸水溶液を調製し、35℃に保温した。作製した反射防止フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの反射防止フィルムを作製した。
[Example 2]
(Saponification treatment of antireflection film)
The following processing was performed on each of the samples 1-1A to 1E, 2A, and 3A.
A 1.5 mol / l aqueous sodium hydroxide solution was prepared and kept at 55 ° C. A 0.01 mol / l dilute sulfuric acid aqueous solution was prepared and kept at 35 ° C. The prepared antireflection film was immersed in the aqueous sodium hydroxide solution for 2 minutes, and then immersed in water to sufficiently wash away the aqueous sodium hydroxide solution. Subsequently, after being immersed in the dilute sulfuric acid aqueous solution for 1 minute, it was immersed in water to sufficiently wash away the dilute sulfuric acid aqueous solution. Finally, the sample was thoroughly dried at 120 ° C.
In this way, a saponified antireflection film was produced.

(偏光板の作製)
1.5mol/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗した、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)と、鹸化処理済みの反射防止フィルム(鹸化処理済み試料1−1A〜1E、2A、3A、4A)を、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板を作製した。これらを、試料2−1A〜1E、2A、3A、4Aとする。
また、上記の鹸化処理済みのトリアセチルセルロースフィルムを両面の保護フィルムに用いて偏光板を作製し、これを試料2−5A(比較例)とする。
(Preparation of polarizing plate)
80 μm-thick triacetylcellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), saponified, immersed in 1.5 mol / L, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes, neutralized and washed with water A polarizing plate is prepared by adhering and protecting a used antireflection film (saponified samples 1-1A to 1E, 2A, 3A, 4A) by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol and stretching the polarizer. Produced. These are designated as Samples 2-1A to 1E, 2A, 3A, and 4A.
Moreover, a polarizing plate is produced using the saponified triacetyl cellulose film as a protective film on both sides, and this is designated as Sample 2-5A (Comparative Example).

(偏光板の評価)
作製した偏光板試料2−1A〜1E、2A、3A、4A、5Aを、液晶テレビの視認側の偏光板の代わりとして貼り換えたものを作製した。液晶テレビはシャープ(株)製の『LC−37GD4』(MVA方式)を用いた。
実施例であるサンプル2−1A〜1D、2A、3A、4Aを偏光板として用いた場合は、映り込みの少ない、コントラストのよい映像が得られた。また、表面の反射での色付きがなく、黒が黒く見える良好な映像が得られた。2−2Aを用いた場合は、防眩性により、映り込みがより少なかった。また、視野角特性が改善され、斜め45度方向のコントラスト、階調特性が改善された。比較例である試料2−E、5Aを用いた場合は、反射防止性がなく、強く反射像が移りこみ、表示性能に悪影響を与えた。
(Evaluation of polarizing plate)
The produced polarizing plate samples 2-1A to 1E, 2A, 3A, 4A, and 5A were produced as a substitute for the polarizing plate on the viewing side of the liquid crystal television. As the liquid crystal television, “LC-37GD4” (MVA method) manufactured by Sharp Corporation was used.
When samples 2-1A to 1D, 2A, 3A, and 4A, which are examples, were used as polarizing plates, images with little reflection and good contrast were obtained. Moreover, there was no coloration due to the reflection on the surface, and a good image in which black looked black was obtained. When 2-2A was used, the reflection was less due to the antiglare property. In addition, the viewing angle characteristics were improved, and the contrast and gradation characteristics in an oblique 45 degree direction were improved. When Samples 2-E and 5A, which are comparative examples, were used, there was no anti-reflective property, and the reflected image was strongly transferred, adversely affecting the display performance.

[実施例3]
透明支持体として易接着層付きPET(東洋紡製コスモシャインA4100、膜厚188μm)を用いた以外は試料1−1−Aと同じ方法で試料3−1−Aを作製した。前面板なしの42インチプラズマディスプレイ(パイオニア製ダイレクトカラーフィルター方式PDU−42H6A1)の表面フィルムを剥がし、代りに試料3−1−Aを粘着剤で貼り付けたところ、映り込みの少ない、良好な表示性能が得られた。
[Example 3]
Sample 3-1-A was produced in the same manner as Sample 1-1-A, except that PET with an easy-adhesion layer (Cosmo Shine A4100 manufactured by Toyobo Co., Ltd., film thickness: 188 μm) was used as the transparent support. When the surface film of the 42-inch plasma display (pioneer direct color filter type PDU-42H6A1) without the front plate is peeled off and the sample 3-1A is attached with an adhesive instead, a good display with little reflection Performance was obtained.

[実施例4]
試料1−1−Aの低屈折率層と反対側の面にλ/4板を粘着剤で貼り合せ円偏光板(試料4−1−A)を作製した。有機ELディスプレイの表面に低屈折率層が外側になるように試料4−1−Aを粘着剤で貼り付けたところ、映り込みの少ない、良好な表示性能が得られた。
[Example 4]
A circularly polarizing plate (Sample 4-1-A) was prepared by laminating a λ / 4 plate with an adhesive on the surface of Sample 1-1-A opposite to the low refractive index layer. When Sample 4-1-A was attached to the surface of the organic EL display with an adhesive so that the low refractive index layer was on the outside, good display performance with little reflection was obtained.

[実施例5]
反射型液晶ディスプレイ及び半透過型液晶ディスプレイの表面の偏光板として、低屈折率層が外側になるように試料4−1−Aを用いたところ、映り込みの少ない、良好な表示性能が得られた。
[Example 5]
When Sample 4-1-A was used as a polarizing plate on the surface of a reflective liquid crystal display and a transflective liquid crystal display so that the low refractive index layer was on the outside, good display performance with little reflection was obtained. It was.

[実施例6]
実施例3で用いたラズマディスプレイの表面の硝子上に、低屈折率層が外側になるように試料4−1−Aを粘着剤で貼り付けたところ、白輝度は低下したものの、コントラストは著しく向上し、映り込みの少ない、良好な表示性能が得られた。
[Example 6]
When the sample 4-1-A was affixed on the glass on the surface of the laser display used in Example 3 with an adhesive so that the low refractive index layer was on the outside, the white brightness was reduced, but the contrast was remarkably high. Improved display performance was obtained with less reflection.

[実施例7]
(反射防止フィルム7−1Aの作製)
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製、屈折率:1.49)に、上記のハードコート層用塗布液Bを、スロットルダイコーター(図3(A))を用いて塗布し、100℃で2分間乾燥した。次に窒素パージし、酸素濃度を0.1%にした条件下で紫外線を70mJ/cm2照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層(屈折率:1.52、膜厚:6μm)を形成した。続いて上記の表層2層用塗布液Aをスロットルダイコーター(図3(A))を用いて塗布し、100℃で1分乾燥した後、窒素パージし、酸素濃度を0.05%にした条件下で紫外線を500mJ/cm2照射して、塗布層を硬化させ、高屈折率層と低屈折率層を同時に形成して、反射防止フィルム7−1Aを作製した。
得られた反射防止膜7−1Aの積分反射率は1.0%であった。高屈折率層と低屈折率層の屈折率と膜厚は、形成された膜の分光反射曲線のフィッティングより、高屈折率層が屈折率:1.72、膜厚:110nmと低屈折率層が屈折率:1.43、膜厚:90nmとなり、光学的に2層に分離していることが確認できた。
[Example 7]
(Preparation of antireflection film 7-1A)
To the 80 μm thick triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., refractive index: 1.49), the above hard coat layer coating solution B was added to a throttle die coater (FIG. 3 (A )) And dried at 100 ° C. for 2 minutes. Next, purging with nitrogen and irradiating with ultraviolet rays of 70 mJ / cm 2 under the condition that the oxygen concentration is 0.1%, the coating layer is cured, and a hard coat layer (refractive index: 1.52, film thickness: 6 μm) Formed. Subsequently, the above surface layer 2 layer coating solution A was applied using a throttle die coater (FIG. 3A), dried at 100 ° C. for 1 minute, and then purged with nitrogen to make the oxygen concentration 0.05%. Under the conditions, ultraviolet rays were irradiated at 500 mJ / cm 2 to cure the coating layer, and a high refractive index layer and a low refractive index layer were formed at the same time to produce an antireflection film 7-1A.
The obtained antireflection film 7-1A had an integrated reflectance of 1.0%. The refractive index and the film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer are as follows. From the fitting of the spectral reflection curve of the formed film, the high refractive index layer has a refractive index of 1.72 and the film thickness is 110 nm. The refractive index was 1.43 and the film thickness was 90 nm, confirming optical separation into two layers.

(反射防止フィルム7−2Aの作製)
同時重層塗布用のダイコーター(図6(A))を用い、スロットル部より、反射防止フィルムハードコート層用塗布液Aを、スライド部よりハードコート層用塗布液Bを、同時にスロットルダイより押し出し、透明支持体上に塗布した以外は7−1Aと同じ方法で反射防止フィルム7−2Aを作製した。乾燥・硬化条件は、100℃で2分乾燥後、窒素パージ下酸素濃度を0.05%にした条件下で紫外線を500mJ/cm2照射した。
得られた反射防止膜7−2A は、積分反射率が2.0%となり、7−1Aより劣るものの、反射防止性能を示すフィルムが作製できた。
(Preparation of antireflection film 7-2A)
Using a die coater (Fig. 6 (A)) for simultaneous multi-layer coating, the coating liquid A for the anti-reflection film hard coat layer is extruded from the throttle part, and the coating liquid B for the hard coat layer is extruded from the slide part simultaneously from the throttle die. An antireflection film 7-2A was produced in the same manner as 7-1A, except that it was coated on a transparent support. Drying / curing conditions were as follows: after drying at 100 ° C. for 2 minutes, irradiation with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 was performed under a nitrogen purge with an oxygen concentration of 0.05%.
Although the obtained antireflection film 7-2A had an integrated reflectance of 2.0% and was inferior to 7-1A, a film showing antireflection performance could be produced.

反射防止膜7−1A及び7−2Aの各試料の切片TEM写真を撮影し、ZrO2粒子の存在状態を確認した。7−1AのZrO2粒子は膜表面から90nm下に膜厚110nmの層状に偏析しており、分光反射曲線のフィッティングより求めた膜厚110nmと良く対応した。
一方、7−2AのZrO2粒子は膜表面から90nm下に膜厚約500nm程度にわたり層状に分布しており、下層のハードコート層に拡散していることがわかった。実施例1の反射防止膜1−3A及び1−4Aは同時重層塗布時に、表層2層用塗布液中の下部偏析成分と共通のZrO2が下層用塗布液に含有されていることで、同時重層塗布時の反射率の目減りが少ないと推定している。一方、実施例7の反射防止膜7−2Aは、同時重層塗布時に、表層2層用塗布液中の下部偏析成分と共通のZrO2が下層用塗布液に含有されていないため、ZrO2粒子の拡散が大きく、同時重層塗布時の反射率の目減りが大きくなったものと推定している。
Section TEM photographs of the samples of the antireflection films 7-1A and 7-2A were taken to confirm the presence of ZrO 2 particles. The 7-1A ZrO 2 particles segregated into a layer having a thickness of 110 nm 90 nm below the film surface, and corresponded well to the film thickness of 110 nm obtained by fitting the spectral reflection curve.
On the other hand, it was found that the 7-2A ZrO 2 particles were distributed in a layer form over a thickness of about 500 nm 90 nm below the film surface and diffused into the lower hard coat layer. The antireflection films 1-3A and 1-4A of Example 1 contain ZrO 2 common to the lower segregation component in the surface layer two-layer coating solution at the time of simultaneous multilayer coating, It is estimated that there is little loss of reflectivity during multilayer coating. On the other hand, since the antireflection film 7-2A of Example 7 does not contain ZrO 2 common to the lower segregation component in the surface layer two-layer coating liquid during simultaneous multilayer coating, the lower layer coating liquid contains ZrO 2 particles. It is presumed that the decrease in reflectance at the time of simultaneous multi-layer coating was increased.

1 透明支持体
2 ハードコート層
3 中屈折率層
4 高屈折率層
5 低屈折率層
10 コーター
11 バックアップロール
W ウェブ
13 スロットダイ
14 塗布液
14a ビード
14b 塗膜
15 ポケット
16 スロット
16a スロット開口部
17 先端リップ
18 ランド
18a 上流側リップランド
18b 下流側リップランド
UP 上流側リップランド18aのランド長さ
LO 下流側リップランド18bのランド長さ
LO オーバーバイト長さ(下流側リップランド18bと上流側リップランド18aのウェブWとの距離の差)
L 先端リップ17とウェブWの隙間(下流側リップランド18bとウェブWの隙間)
30 従来のスロットダイ
31a 上流側リップランド
31b 下流側リップランド
32 ポケット
33 スロット
40 減圧チャンバー
40a バックプレート
40b サイドプレート
40c ネジ
B バックプレート40aとウェブWの間の隙間
S サイドプレート40bとウェブWの間の隙間
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent support 2 Hard coat layer 3 Medium refractive index layer 4 High refractive index layer 5 Low refractive index layer 10 Coater 11 Backup roll W Web 13 Slot die 14 Coating liquid 14a Bead 14b Coating film 15 Pocket 16 Slot 16a Slot opening part 17 Tip lip 18 Land 18a Upstream lip land 18b Downstream lip land I UP Land length of upstream lip land 18a I LO Land length of downstream lip land 18b LO Over bite length (downstream lip land 18b and upstream side (Difference in distance between the lip land 18a and the web W)
G L End lip 17 and web W gap (downstream lip land 18b and web W gap)
30 the gap G S side plate 40b and the web W between the conventional slot-die 31a upstream lip land 31b downstream lip land 32 pocket 33 slot 40 vacuum chamber 40a back plate 40b side plate 40c screws G B back plate 40a and the web W Gap between

本発明は、光学フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a light optical film.

本発明の目的は、反射率が低く、色味がニュートラルで耐擦傷性に優れ、かつ生産性がよく大量生産に適した、光学フィルムの製造方法の提供にある An object of the present invention has a low reflectance, color excellent in scratch resistance in neutral, and the productivity is suitable for mass production, to provide a method for producing an optical fill beam.

本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1] 透明支持体上にハードコート層形成用塗布組成物又は中屈折率層形成用塗布組成物と同時に、下記屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物を塗布する工程と硬化する工程を有する光学フィルムの製造方法。
30mN/m以下の表面自由エネルギーをもつ硬化層を形成可能な第一の樹脂成分、該第一の樹脂成分と硬化可能な第二の樹脂成分、平均粒径2nm以上100nm以下の第一の無機微粒子、及び少なくとも一種の有機溶剤を含有する塗布組成物であって、第一の樹脂成分び/第二の樹脂成分は電離放射線硬化性官能基を有し、該塗布組成物は、硬化させることにより硬化層を形成し、該第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在して、屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物。
[2] 前記屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物と直接隣接して同時に塗布する塗布組成物が共に無機微粒子を含有する前記[1]に記載の光学フィルムの製造方法。
[3] 前記屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物と直接隣接して同時に塗布する塗布組成物が共に共通の無機微粒子を含有する前記[2]に記載の光学フィルムの製造方法。
[4] 透明支持体上にハードコート層形成用塗布組成物、中屈折率層形成用塗布組成物、および前記屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物、の3つの塗布組成物を同時に塗布する工程と硬化する工程を有する前記[1]〜[3]のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
[5] 透明支持体上にハードコート層形成用塗布組成物又は中屈折率層形成用塗布組成物と同時に、前記屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物をダイコーターで塗布する工程と硬化する工程を有する前記[1]〜[4]のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
[6] 前記屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物が、
30mN/m以下の表面自由エネルギーをもつ硬化層を形成可能な第一の樹脂成分、該第一の樹脂成分と硬化可能な第二の樹脂成分、平均粒径2nm以上100nm以下の第一の無機微粒子、第二の無機微粒子として、屈折率1.46以下の無機微粒子、及び少なくとも一種の有機溶剤を含有する塗布組成物であって、該第一の樹脂成分及び/又は該第二の樹脂成分は電離放射線硬化性官能基を有し、該塗布組成物は、硬化させることにより硬化層を形成し、該第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在し、該第二の無機微粒子が該硬化層の上部に偏在して、屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物
である前記[1]〜[5]のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
[7] 前記屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物が
30mN/m以下の表面自由エネルギーをもつ硬化層を形成可能な第一の樹脂成分、該第一の樹脂成分と硬化可能な第二の樹脂成分、平均粒径2nm以上100nm以下の第一の無機微粒子、第二の無機微粒子として、屈折率1.46以下の無機微粒子、及び少なくとも一種の有機溶剤を含有する塗布組成物であって、該第一の樹脂成分及び/又は該第二の樹脂成分は電離放射線硬化性官能基を有し、該塗布組成物は、硬化させることにより硬化層を形成し、該第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在し、該第二の無機微粒子が該硬化層の上部に偏在して、屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物
であって、
前記第一の樹脂成分は、熱硬化型又は電離放射線硬化型の含フッ素化合物であり、
前記第二の無機微粒子が、含フッ素のオルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、または該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物によって表面処理されており、
前記第二の樹脂成分の表面自由エネルギーが、前記第一の樹脂成分の表面自由エネルギーより大きく、前記第一の樹脂成分の表面自由エネルギーと前記第二の樹脂成分の表面自由エネルギーの差が、5mN/m以上であり、
前記第一の無機微粒子の表面自由エネルギーが、前記第一の樹脂成分の表面自由エネルギーより大きく、前記第一の無機微粒子の表面自由エネルギーと前記第一の樹脂成分の表面自由エネルギーの差が、10mN/m以上であり、
前記第二の無機微粒子の表面自由エネルギーが、前記第一の無機微粒子の表面自由エネルギーより小さく、前記第一の無機微粒子の表面自由エネルギーと前記第二の無機微粒子の表面自由エネルギーの差が、5mN/m以上である
前記[1]〜[6]のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
なお、本発明は上記[1]〜[7]に記載された光学フィルムの製造方法であるが、参考のため、明細書中にはその他の事項についても記載してある。
As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present inventors have found that the above-described problems can be solved and the object can be achieved, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
[1] A step of applying a coating composition for forming an upper layer and a lower layer having different refractive indexes on the transparent support and a coating composition for forming a hard coat layer or a medium refractive index layer forming composition on a transparent support and curing. The manufacturing method of the optical film which has a process to do.
A first resin component capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN / m or less, a first resin component and a curable second resin component, a first inorganic material having an average particle size of 2 nm to 100 nm particulates, and at least the coating composition containing one organic solvent, said first resin component beauty / or said second resin component has an ionizing radiation-curable functional groups, the coating composition Is a coating composition in which a cured layer is formed by curing, and the first inorganic fine particles are unevenly distributed under the cured layer to form an upper layer and a lower layer having different refractive indexes.
[2] The method for producing an optical film according to the above [1], wherein both the coating composition directly and adjacently applied to the coating composition forming the upper layer and the lower layer having different refractive indexes contain inorganic fine particles.
[3] The method for producing an optical film according to [2], wherein both the coating composition for forming the upper layer and the lower layer having different refractive indexes are directly adjacent to each other and contain the same inorganic fine particles. .
[4] Three coating compositions: a coating composition for forming a hard coat layer, a coating composition for forming a medium refractive index layer, and a coating composition for forming an upper layer and a lower layer having different refractive indexes on a transparent support. The manufacturing method of the optical film as described in any one of said [1]-[3] which has the process of apply | coating simultaneously, and the process of hardening | curing.
[5] A coating composition for forming an upper layer and a lower layer having different refractive indexes is coated on a transparent support simultaneously with a die coater, simultaneously with the coating composition for forming a hard coat layer or the coating composition for forming a medium refractive index layer. The manufacturing method of the optical film as described in any one of said [1]-[4] which has the process and the process of hardening.
[6] A coating composition for forming an upper layer and a lower layer having different refractive indexes,
A first resin component capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN / m or less, a first resin component and a curable second resin component, a first inorganic material having an average particle size of 2 nm to 100 nm A coating composition containing fine particles, inorganic fine particles having a refractive index of 1.46 or less, and at least one organic solvent as the second inorganic fine particles, wherein the first resin component and / or the second resin component Has an ionizing radiation curable functional group, and the coating composition is cured to form a cured layer, the first inorganic fine particles are unevenly distributed in the lower part of the cured layer, and the second inorganic fine particles are Coating composition that is unevenly distributed on top of the cured layer to form an upper layer and a lower layer having different refractive indexes
The method for producing an optical film according to any one of the above [1] to [5].
[7] A coating composition for forming an upper layer and a lower layer having different refractive indexes
A first resin component capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN / m or less, a first resin component and a curable second resin component, a first inorganic material having an average particle size of 2 nm to 100 nm A coating composition containing fine particles, inorganic fine particles having a refractive index of 1.46 or less, and at least one organic solvent as the second inorganic fine particles, wherein the first resin component and / or the second resin component Has an ionizing radiation curable functional group, and the coating composition is cured to form a cured layer, the first inorganic fine particles are unevenly distributed in the lower part of the cured layer, and the second inorganic fine particles are Coating composition that is unevenly distributed on top of the cured layer to form an upper layer and a lower layer having different refractive indexes
Because
The first resin component is a thermosetting or ionizing radiation curable fluorine-containing compound,
The second inorganic fine particles are surface-treated with a fluorine-containing organosilane compound, a hydrolyzate of the organosilane, or a partial condensate of the hydrolyzate of the organosilane,
The surface free energy of the second resin component is larger than the surface free energy of the first resin component, and the difference between the surface free energy of the first resin component and the surface free energy of the second resin component is 5 mN / m or more,
The surface free energy of the first inorganic fine particles is larger than the surface free energy of the first resin component, and the difference between the surface free energy of the first inorganic fine particles and the surface free energy of the first resin component is: 10 mN / m or more,
The surface free energy of the second inorganic fine particles is smaller than the surface free energy of the first inorganic fine particles, and the difference between the surface free energy of the first inorganic fine particles and the surface free energy of the second inorganic fine particles is: 5 mN / m or more
The manufacturing method of the optical film as described in any one of said [1]-[6].
In addition, although this invention is a manufacturing method of the optical film described in said [1]-[7], the other matter is also described in the specification for reference.

Claims (16)

30mN/m以下の表面自由エネルギーをもつ硬化層を形成可能な第一の樹脂成分、該第一の樹脂成分と硬化可能な第二の樹脂成分、平均粒径2nm以上100nm以下の第一の無機微粒子、及び少なくとも一種の有機溶剤を含有する塗布組成物であって、第一の樹脂成分及び/又は第二の樹脂成分は電離放射線硬化性官能基を有し、
該塗布組成物は、硬化させることにより硬化層を形成し、該第一の無機微粒子が該硬化層の下部に偏在して、屈折率の異なる上層と下層とを形成する塗布組成物。
A first resin component capable of forming a cured layer having a surface free energy of 30 mN / m or less, a first resin component and a curable second resin component, a first inorganic material having an average particle size of 2 nm to 100 nm A coating composition containing fine particles and at least one organic solvent, wherein the first resin component and / or the second resin component has an ionizing radiation curable functional group,
The coating composition is a coating composition in which a cured layer is formed by curing, and the first inorganic fine particles are unevenly distributed under the cured layer to form an upper layer and a lower layer having different refractive indexes.
前記第一の樹脂成分は、熱硬化型又は電離放射線硬化型の含フッ素化合物である請求項1に記載の塗布組成物。   The coating composition according to claim 1, wherein the first resin component is a thermosetting or ionizing radiation curable fluorine-containing compound. 前記含フッ素化合物は、シリコーン構造を分子中に有するか、又は前記塗布組成物が架橋性基を有するシリコーン化合物を含み該シリコーン化合物が含む架橋性基と同じ架橋性基を有する化合物である請求項1又は2に記載の塗布組成物。   The fluorine-containing compound has a silicone structure in the molecule, or the coating composition contains a silicone compound having a crosslinkable group and has the same crosslinkable group as the crosslinkable group contained in the silicone compound. 3. The coating composition according to 1 or 2. 前記第一の無機微粒子が、シランカップリング剤、その部分加水分解物、及びその縮合物から選ばれる少なくとも一種で表面処理された無機微粒子である請求項1〜3のいずれか一項に記載の塗布組成物。   The said 1st inorganic fine particle is an inorganic fine particle surface-treated with at least 1 type chosen from a silane coupling agent, its partial hydrolyzate, and its condensate. Coating composition. 前記第二の樹脂成分の表面自由エネルギーが、前記第一の樹脂成分の表面自由エネルギーより大きく、第一の樹脂成分の表面自由エネルギーと第二の樹脂成分の表面自由エネルギーの差が、5mN/m以上である請求項1〜4のいずれか一項に記載の塗布組成物。   The surface free energy of the second resin component is greater than the surface free energy of the first resin component, and the difference between the surface free energy of the first resin component and the surface free energy of the second resin component is 5 mN / It is m or more, The coating composition as described in any one of Claims 1-4. 前記第一の無機微粒子の表面自由エネルギーが、前記第一の樹脂成分の表面自由エネルギーより大きく、第一の無機微粒子の表面自由エネルギーと第一の樹脂成分の表面自由エネルギーの差が、10mN/m以上である請求項1〜5のいずれか一項に記載の塗布組成物。   The surface free energy of the first inorganic fine particles is larger than the surface free energy of the first resin component, and the difference between the surface free energy of the first inorganic fine particles and the surface free energy of the first resin component is 10 mN / It is m or more, The coating composition as described in any one of Claims 1-5. 第二の無機微粒子として、屈折率1.46以下の無機微粒子を含有する請求項1〜6のいずれか一項に記載の塗布組成物。   The coating composition according to any one of claims 1 to 6, comprising inorganic fine particles having a refractive index of 1.46 or less as the second inorganic fine particles. 前記第二の無機微粒子の表面自由エネルギーが、前記第一の無機微粒子の表面自由エネルギーより小さく、第一の無機微粒子の表面自由エネルギーと第二の無機微粒子の表面自由エネルギーの差が、5mN/m以上である請求項7に記載の塗布組成物。   The surface free energy of the second inorganic fine particles is smaller than the surface free energy of the first inorganic fine particles, and the difference between the surface free energy of the first inorganic fine particles and the surface free energy of the second inorganic fine particles is 5 mN / The coating composition according to claim 7, which is m or more. 透明支持体上に、請求項1〜8のいずれかに一項に記載の塗布組成物を硬化してなる硬化層を有する光学フィルム。   The optical film which has a hardened layer formed by hardening | curing the coating composition as described in any one of Claims 1-8 on a transparent support body. 前記硬化層が、前記光学フィルムの最表層である低屈折率層及びそれに隣接する高屈折率層である請求項9に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 9, wherein the cured layer is a low refractive index layer that is an outermost layer of the optical film and a high refractive index layer adjacent thereto. 偏光膜と、該偏光膜の表側及び裏側の両面を保護する2枚の保護フィルムとを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、請求項9又は10に記載の光学フィルムである偏光板。   It is a polarizing plate which has a polarizing film and two protective films which protect both the front side and back side of this polarizing film, Comprising: At least one of this protective film is an optical film of Claim 9 or 10. Polarizer. 請求項9又は10に記載の光学フィルム、又は請求項11に記載の偏光板の少なくとも1つを有する画像表示装置。   The image display apparatus which has at least 1 of the optical film of Claim 9 or 10, or the polarizing plate of Claim 11. 透明支持体上に、塗布組成物を硬化してなる層を有する光学フィルムの製造方法であって、請求項1〜8のいずれかに記載の塗布組成物を塗布する工程と、乾燥する工程とを有する光学フィルムの製造方法。   It is a manufacturing method of the optical film which has a layer formed by hardening | curing a coating composition on a transparent support body, Comprising: The process of apply | coating the coating composition in any one of Claims 1-8, The process of drying, The manufacturing method of the optical film which has this. 前記塗布する工程が、透明支持体を送り出した後に、ハードコート層形成用組成物又は中屈折率層形成用組成物とともに、前記塗布組成物をそれぞれ塗布する工程であり、かつ該各層の形成間に巻取り工程を有さない請求項13に記載の製造方法。   The step of applying is a step of applying the coating composition together with the composition for forming a hard coat layer or the composition for forming a medium refractive index layer after feeding the transparent support, and between the formation of each layer The manufacturing method of Claim 13 which does not have a winding-up process. 前記塗布する工程が、透明支持体を送り出した後に、ハードコート層形成用組成物又は中屈折率層形成用組成物とともに、前記塗布組成物をそれぞれ塗布する工程であり、かつ前記ハードコート層形成用組成物、前記中屈折率層形成用組成物、及び前記塗布組成物のうち少なくとも2つの組成物を同時に塗布する工程である請求項13又は14に記載の製造方法。   The step of applying is a step of applying the coating composition together with the composition for forming a hard coat layer or the composition for forming a medium refractive index layer after feeding the transparent support, and forming the hard coat layer The manufacturing method according to claim 13 or 14, which is a step of simultaneously applying at least two of the composition for forming, the medium refractive index layer forming composition, and the coating composition. 更に硬化する工程を有する請求項13〜15のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 13, further comprising a curing step.
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