JP2012030164A - Coating apparatus and method of producing optical film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は塗布装置、及び光学フィルムの製造方法に関して、スリット間隔の調整手段を備える塗布装置、及びこれを用いた光学フィルムの製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a coating apparatus and an optical film manufacturing method, and relates to a coating apparatus including a slit interval adjusting unit and an optical film manufacturing method using the coating apparatus.
光学フィルムの製造において、連続走行する基材に塗布液を塗布することが行われる。このような塗布液を塗布する装置として、マニホールドと連通するスロットを有するスロットダイが知られている。マニホールドに連通するスロット(スリットともいう)の先端から塗布液が吐出される。塗布液が塗布される基材は、バックアップローラに巻き掛けられて連続走行する。スロットダイ先端と基材との間に、スリットから吐出された塗布液のビードが形成され、このビードを介して基材に塗布液が供給される。 In the production of an optical film, a coating solution is applied to a continuously running substrate. As a device for applying such a coating liquid, a slot die having a slot communicating with a manifold is known. The coating liquid is discharged from the tip of a slot (also referred to as a slit) communicating with the manifold. The base material to which the coating liquid is applied is wound around a backup roller and continuously runs. A bead of coating liquid discharged from the slit is formed between the tip of the slot die and the base material, and the coating liquid is supplied to the base material through this bead.
近年、光学フィルムの塗膜を均一な厚さで塗布することが求められる。そのため、スロットダイのスロット間隔を幅方向に亘り一定に維持することが必要となる。この問題を解決するため、スロットダイのスロット間隔を調整する方法が提案されている。特許文献1は、スリットダイの先端部に所定角度で取り付けられた調整ボルトによりスリット幅が調整されるスリットダイを開示する。このスリットダイから重力方向に液体が吐出される。特許文献2は、山部を備える当て板をダイスロットの外周に配置し、固定ボトルと調整ボルトで固定したスロットダイを開示する。このダイスロットから重力と反対方向に液体が吐出される。 In recent years, it has been required to apply a coating film of an optical film with a uniform thickness. Therefore, it is necessary to keep the slot interval of the slot die constant over the width direction. In order to solve this problem, a method of adjusting the slot interval of the slot die has been proposed. Patent Document 1 discloses a slit die in which the slit width is adjusted by an adjustment bolt attached at a predetermined angle to the tip of the slit die. Liquid is discharged from the slit die in the direction of gravity. Patent Document 2 discloses a slot die in which a contact plate having a peak portion is arranged on the outer periphery of a die slot and fixed with a fixing bottle and an adjusting bolt. Liquid is discharged from the die slot in the direction opposite to gravity.
光学フィルムの製造において、スロットダイのスロット間隔を調節するために調整ボルトを用いることがある。このとき、特許文献1の方法ではスロットダイに多数のボルトを配置する必要があり、スロット間隔の調整作業に長時間かかってしまう。 In the manufacture of optical films, adjustment bolts are sometimes used to adjust the slot spacing of the slot die. At this time, in the method of Patent Document 1, it is necessary to arrange a large number of bolts on the slot die, and it takes a long time to adjust the slot interval.
特許文献2の方法では、連続走行する基材に対して横方向から塗布液を供給するとき当て板がスロットダイの上部に配置される。そのため当て板の自重によりスロット間隔が変形する問題があった。一方、当て板を軽量化しすぎると、当て板の剛性が不足し、スロット間隔を調整できなくなる問題があった。 In the method of Patent Document 2, when a coating liquid is supplied from the lateral direction to a continuously running substrate, a contact plate is disposed on the upper portion of the slot die. Therefore, there is a problem that the slot interval is deformed by the weight of the backing plate. On the other hand, when the weight of the contact plate is excessively reduced, there is a problem that the rigidity of the contact plate is insufficient and the slot interval cannot be adjusted.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、スロット間隔を高精度に調整することができる塗布装置、及び光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a coating apparatus and an optical film manufacturing method capable of adjusting the slot interval with high accuracy.
本発明の一態様によると、走行する帯状の基材に塗布液を供給する塗布装置であって、塗布液が供給されるマニホールド、前記マニホールド連通するスロットを有し、前記基材に水平方向から塗布液を供給するスロットダイと、前記スロットダイの上部に設置され、前記スロットの間隔を調整する手段を備え、前記調整手段は、脚部を有するブロック、固定ボルトと調整ボルトを含み、前記脚部が前記スロットダイに当接され、前記脚部を挿通する前記固定ボルトと前記脚部以外を挿通する前記調整ボルトにより、前記ブロックが前記スロットダイに固定され、前記ブロックが120GPa以上のヤング率、及び6000N/m2以下の自重による圧力を有することを特徴とする。 According to one aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus that supplies a coating liquid to a traveling strip-shaped base material, and includes a manifold to which the coating liquid is supplied, a slot that communicates with the manifold, and the base material from a horizontal direction A slot die for supplying a coating liquid; and a means installed on an upper portion of the slot die for adjusting the interval between the slots. The adjusting means includes a block having leg portions, a fixing bolt and an adjusting bolt, The block is fixed to the slot die by the fixing bolt that is in contact with the slot die, and the adjustment bolt that is inserted through other than the leg, and the block has a Young's modulus of 120 GPa or more. And a pressure due to its own weight of 6000 N / m 2 or less.
本発明によれば、ブロックを軽くて剛性の高い素材で構成することにより、自重による圧力を6000N/m2以下でヤング率を120GPa以上にする。その結果、ブロックの自重によるスロット間隔の変形をなくし、スロット間隔を調整することができる。 According to the present invention, the block is made of a light and highly rigid material, so that the pressure due to its own weight is 6000 N / m 2 or less and the Young's modulus is 120 GPa or more. As a result, it is possible to eliminate the deformation of the slot interval due to the weight of the block and adjust the slot interval.
本発明の塗布装置の他の態様によると、好ましくは、前記ブロックが繊維強化プラスチック、又はセラミックで構成される。 According to another aspect of the coating apparatus of the present invention, preferably, the block is made of fiber reinforced plastic or ceramic.
本発明の塗布装置の他の態様によると、好ましくは、前記スロットダイが1m以上の幅を有する。 According to another aspect of the coating apparatus of the present invention, preferably, the slot die has a width of 1 m or more.
本発明の塗布装置の他の態様によると、好ましくは、前記スロットダイが、その上部に複数の前記固定ボルトの穴と前記調整ボルトの穴の組を有し、前記調整手段が任意の数、及び位置に配置される。 According to another aspect of the coating apparatus of the present invention, preferably, the slot die has a plurality of sets of holes of the fixing bolts and holes of the adjusting bolts at an upper portion thereof, and the adjusting means has an arbitrary number of And placed in the position.
本発明の塗布装置の他の態様によると、好ましくは、前記スロットダイの下部に減圧チャンバーをさらに有する。 According to another aspect of the coating apparatus of the present invention, it is preferable that a decompression chamber is further provided below the slot die.
本発明の別の態様によると、走行する帯状の基材に塗布液を供給する光学フィルムの製造方法であって、塗布液が供給されるマニホールド、前記マニホールド連通するスロットを有し、前記基材に水平方向から塗布液を供給するスロットダイと、前記スロットダイの上部に設置され、前記スロットの間隔を調整する手段を備え、前記調整手段は、脚部を有するブロック、固定ボルトと調整ボルトを含み、前記脚部が前記スロットダイに当接され、前記脚部を挿通する前記固定ボルトと前記脚部以外を挿通する前記調整ボルトにより、前記ブロックが前記スロットダイに固定され、前記ブロックが120GPa以上のヤング率、及び6000N/m2以下の自重による圧力を有する塗布装置を準備する工程と、前記調整手段により前記スロットの間隔を調整する工程と、連続走行する基材に塗布液を前記塗布装置により供給する工程と、を含む。 According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical film for supplying a coating liquid to a traveling strip-shaped substrate, the manifold having a manifold to which the coating liquid is supplied, the slots communicating with the manifold, and the substrate A slot die for supplying the coating liquid from the horizontal direction, and means for adjusting the interval between the slots, and the adjusting means includes a block having legs, a fixing bolt and an adjusting bolt. The block is fixed to the slot die by the fixing bolt that passes through the leg and the adjustment bolt that passes through other than the leg, and the block is 120 GPa. A step of preparing a coating apparatus having the above Young's modulus and a pressure due to its own weight of 6000 N / m 2 or less; And a step of supplying the coating liquid to the continuously running base material by the coating device.
本発明の光学フィルムの製造方法の他の態様によると、好ましくは、前記ブロックが繊維強化プラスチック、又はセラミックで構成される。 According to another aspect of the method for producing an optical film of the present invention, preferably, the block is made of fiber reinforced plastic or ceramic.
本発明の光学フィルムの製造方法の他の態様によると、好ましくは、前記スロットダイが1m以上の幅を有する。 According to another aspect of the method for producing an optical film of the present invention, preferably, the slot die has a width of 1 m or more.
本発明の光学フィルムの製造方法の他の態様によると、好ましくは、前記スロットダイが、その上部に複数の前記固定ボルトの穴と前記調整ボルトの穴の組を有し、前記調整手段が任意の数、及び位置に配置される。 According to another aspect of the method of manufacturing an optical film of the present invention, preferably, the slot die has a plurality of sets of fixing bolt holes and adjusting bolt holes at an upper portion thereof, and the adjusting means is optional. Are arranged in the number and position.
本発明の光学フィルムの製造方法の他の態様によると、好ましくは、前記スロットダイの下部に減圧チャンバーをさらに有する。 According to another aspect of the method for producing an optical film of the present invention, it is preferable that a vacuum chamber is further provided below the slot die.
本発明によれば、ブロックを軽くて剛性の高い素材で構成することにより、自重による圧力を6000N/m2以下でヤング率を120GPa以上にする。したがって、ブロックの自重によるスロット間隔の変形をなくし、スロット間隔を調整することができる。 According to the present invention, the block is made of a light and highly rigid material, so that the pressure due to its own weight is 6000 N / m 2 or less and the Young's modulus is 120 GPa or more. Therefore, the slot interval can be adjusted by eliminating the deformation of the slot interval due to the weight of the block.
以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について説明する。本発明は以下の好ましい実施の形態により説明されるが、本発明の範囲を逸脱すること無く、多くの手法により変更を行うことができ、本実施の形態以外の他の実施の形態を利用することができる。したがって、本発明の範囲内における全ての変更が特許請求の範囲に含まれる。また、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を含む範囲を意味する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention will be described with reference to the following preferred embodiments, but can be modified in many ways without departing from the scope of the present invention, and other embodiments than the present embodiment can be used. be able to. Accordingly, all modifications within the scope of the present invention are included in the claims. In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to”.
図1は、塗布装置の断面図を示す。塗布装置10は、スロットダイ12、及びスロット間隔を調整する調整手段30を備える。スロットダイ12は、本体の内部に設けられたマニホールド14と、マニホールド14と連通するスロット16とを有する。スロットダイ12は、下部ダイブロック18、及び上部ダイブロック20の二つのブロックによって構成される。マニホールド14、及びスロット16は下部ダイブロック18と上部ダイブロック20により形成される。このように、スロットダイ12を多ブロック構造とすることで、スロットダイ12の加工精度を高めることができる。下部ダイブロック18、及び上部ダイブロック20は、200GPa以上のヤング率を有するSUS等の材料で構成される。これらの材料を使用するのは耐腐食性が高いことや加工精度が高い理由からである。下部ダイブロック18と上部ダイブロック20を一体的に形成することもできる。
FIG. 1 shows a cross-sectional view of the coating apparatus. The
スロットダイ12のマニホールド14は、供給された塗布液を塗布幅方向(ウェブ幅方向)へ拡流する液溜め部であり、ウェブ幅方向へ延びる。本実施の形態のマニホールド14は略円形の断面形状を有する。マニホールド14はウェブ幅方向に沿って略同一の断面形状をもつ空洞部を構成する。
The
スロット間隔を調整する調整手段30が上部ダイブロック20上に設置される。スロット間隔tとは、スロット16の先端部(塗布液の出口)での下部ダイブロック18と上部ダイブロック20の距離を意味する。調整手段30は、脚部32を有するブロック31、固定ボルト33、調整ボルト34,35を含む。ブロック31は、脚部32が上部ダイブロック20に当接するように設置される。固定ボルト33はブロック31の脚部32を挿通し、上部ダイブロック20内に延びる。調整ボルト34,35は、ブロック31の脚部32を除く領域を挿通し、上部ダイブロック20内に延びる。調整ボルト34,35は回転自在に取り付けられる。調整ボルト34,35の何れか又は両方を上部ダイブロック20側に締め付けることにより、脚部32を支点として、スロット間隔tを大きくする方向に力が働く。これにより、スロット間隔tを調整することができる。
An adjusting means 30 for adjusting the slot interval is installed on the
脚部32が一体的に形成されたブロック31を示したが、これに限定されない。脚部を別部材とすることができる。また、必要に応じてブロックと上部ダイブロック間に他の板材等が挿入される。
Although the
本実施の形態では、ブロック31は120GPa以上のヤング率を有する。ブロック31が高い剛性を有するので、調整ボルト34,35により荷重を加えた場合でも、脚部32を支点にテコの原理を作用させることができる。ブロック31は6000N/m2以下の自重による圧力を有する。したがって、ブロック31の自重によりスロット間隔tが狭められるのを防止することができる。ブロック31は、繊維強化プラスチック、又はセラミックで構成される。繊維強化プラスチックとして、FRP等を使用することができる。本実施の形態によれば、自重によるスロット間隔の変形をなくし、スロット間隔を精度よく調整することができる。
In the present embodiment, the
図2は塗布装置の斜視図を示す。塗布装置10は1個のスロットダイ12と、3個の調整手段30を含んでいる。近年、生産性を上げるため、塗布液が供給されるウェブの幅が広くなっている。ウェブの幅に応じて、1m以上の幅Lを有するスロットダイ12が使用される。スロットダイ12が大きくなるにしたがい、スロットダイ12を製作するときの加工精度を上げることが難しくなる。その結果、スロットダイ12の幅L方向に亘り、スロット間隔にバラツキが生じる場合がある。均一な膜厚の塗膜を得るために、複数の調整手段30をスロットダイ12の任意の箇所に配置する必要がある。図2に示すように上部ダイブロック20には、複数の、固定ボルト33用の穴36と調整ボルト34,35用の穴37,38の組合せが形成される。これにより、任意の数の調整手段30を任意の位置に配置することができる。
FIG. 2 shows a perspective view of the coating apparatus. The
図3は、塗布装置10、バックアップローラ40、およびその周辺の構成図である。図中のバックアップローラ40、及びおよびウェブWの近傍の矢印は、ウェブWの走行方向を示す。なお、理解を容易にするため、図3に示されている各機器類の大きさや向きは実際の装置と必ずしも一致しない。
FIG. 3 is a configuration diagram of the
図3に示されるように、本実施の形態では、バックアップローラ40により支持された状態で連続走行するウェブ(基材)Wの表面に向かってスロットダイ12のスロット16から塗布液が吐出される。塗布液はウェブWに対し水平方向から塗布液が供給される。水平方向とは重力方向に対し略直交する方向を意味する。スロットダイ12とウェブWとの間に塗布液のビード42が形成される。塗膜を精度良く形成する上で、ビード42の状態を安定化させることが好ましい。そのため、ビード42の近傍の圧力状態を理想的な状態に保つため、下部ダイブロック18に隣接した位置に減圧チャンバー50が設けられる。
As shown in FIG. 3, in the present embodiment, the coating liquid is discharged from the
なお、ウェブWに塗布液が供給される前に、又は後に、調整手段30によりスロット16の間隔が精度よく調整される。この調整により、ウェブW上に均一の膜厚で塗布液を供給することができる。
In addition, before or after the coating liquid is supplied to the web W, the interval between the
ウェブWに塗布される塗布液としては、光学補償フィルム用塗布液、反射防止フィルム用塗布液、視野角拡大用塗布液のように低粘度・薄膜塗布が必要な有機溶剤塗布液を好適に使用できる。例えば、メチルエチルケトン等が使用される。 As the coating liquid to be applied to the web W, an organic solvent coating liquid that requires low viscosity and thin film coating, such as an optical compensation film coating liquid, an antireflection film coating liquid, and a viewing angle widening coating liquid is preferably used. it can. For example, methyl ethyl ketone or the like is used.
ウェブWとしては公知の各種ウェブを用いることができる。一般的にはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィルム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が2〜10のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層した各種複合材料が含まれる。 As the web W, various known webs can be used. Generally, various known plastic films such as polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate, polyimide, polyamide, paper The surface of the belt-shaped substrate such as various laminated papers coated with α-polyolefins having 2 to 10 carbon atoms such as polyethylene, polypropylene, ethylene butene copolymer, etc. on paper, metal foils such as aluminum, copper, and tin In which a preliminary processed layer is formed, or various composite materials in which these are laminated.
図4は、光学フィルムの製造ライン100の全体構成を示す図である。図中の矢印はウェブWの走行方向を示す。なお、ウェブWを搬送する複数のパスローラ68については、代表的な位置に配置されるパスローラ68のみが図示されている。
FIG. 4 is a diagram showing an overall configuration of the optical
本実施の形態の製造ライン100では、上流側から下流側に向かって、送り出し機66、除塵機74、バックアップローラ40、塗布装置10、乾燥装置76、加熱装置78、紫外線照射装置80、および巻き取り機82が順次設置されている。なお、ここでいう「上流」および「下流」は、ウェブWの走行方向を基準としている。
In the
送り出し機66は、ポリマー層が予め形成された透明な支持体であるウェブWを、下流側へ順次送り出す。除塵機74は、ウェブWに付着する塵等の異物を除去する。
The feeder 66 sequentially feeds the web W, which is a transparent support having a polymer layer formed in advance, to the downstream side. The
バックアップローラ40によって搬送、支持されるウェブWに向かってスロットダイ12から塗布液が吐出され、ウェブW上に塗膜が形成される。スロットダイ12の上流側に減圧チャンバー50が配置される。減圧チャンバー50は2枚のサイドプレート52とバックプレート54と有する。減圧チャンバー50で減圧することにより、ビードを精度よく形成できる。上述したように、スロットダイ12の上には調整手段30が設置される。
The coating liquid is discharged from the slot die 12 toward the web W conveyed and supported by the
乾燥装置76および加熱装置78は、ウェブW上に形成された塗膜を乾燥させるゾーンを形成する。乾燥装置76は、塗膜に含まれる溶媒を蒸発させる。加熱装置78は、必要により加熱して溶剤を除去したり、膜硬化させたりするのに用いられることもある。
The drying
なお、乾燥装置76および加熱装置78による溶媒の乾燥は、カバーで覆った状態で行われることが好ましい。乾燥風として、整流した風、均質な風、等を用いることができる。蒸発した溶媒を、塗膜面に対向して設置された冷却凝縮板により、凝縮させて取り除いてもよい。
In addition, it is preferable that drying of the solvent by the drying
紫外線照射装置80は、紫外線ランプによって塗膜に紫外線を照射する。紫外線により塗膜のモノマー等を架橋させて、所望のポリマーを形成する。巻き取り機82は、ポリマー化された塗膜が積層されているウェブWを、ロール状に巻き取って回収する。
The
なお、塗膜の成分に応じて、塗膜を熱により硬化させるための熱処理ゾーンをさらに設けることもでき、所望の塗膜の硬化および架橋を行ってもよい。また、製造ライン100と別の工程で、ウェブW上の塗膜に対して熱処理等の他の処理を施してもよい。
In addition, according to the component of a coating film, the heat processing zone for hardening a coating film with a heat | fever can also be provided, and hardening and bridge | crosslinking of a desired coating film may be performed. Moreover, you may perform other processes, such as heat processing, with respect to the coating film on the web W at a process different from the
各機器類の間にはパスローラ68が複数設けられる。ウェブWは、これらのパスローラ68によって上流側から下流側へ送られる。パスローラ68の位置および数、隣接するパスローラ68の回転中心の相互間距離、等は必要に応じて適宜調整される。
A plurality of
また、バックアップローラ40およびパスローラ68が、ウェブWを搬送するガイドローラとして機能する。また、必要に応じて他の機器類を製造ライン100に導入することもできる。例えば、光学補償フィルムでは、塗膜の液晶部の配向を調整するためのラビング処理装置を除塵機74の前後に設置することもできる。
Further, the
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。但し、これらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention. However, it is not limited to these.
表1は、実施例と比較例におけるスロットダイの素材、ブロックの素材、ブロック形状、ブロックの密度、自重による圧力、ブロックのヤング率、及び評価のデータである。評価は、スリット間隔の調整、自重によるスリット間隔の変化、総合評価の3項目で行った。スリット間隔の調整について、5μmまで変形調整可能の場合を○、1μmの変形調整不可能の場合を×とした。自重によるスリット間隔の変化について、経時で1μm以下の変形が起きた場合を○、経時で3μm以下の変形が起きた場合を△、経時で5μm以下の変形が起きた場合を×とした。総合評価について、上記の2評価結果が両方とも○の場合を○、片方が△で片方が○の場合を△、どちらか片方が×の場合を×とした。 Table 1 shows data of the slot die material, block material, block shape, block density, pressure due to its own weight, block Young's modulus, and evaluation data in Examples and Comparative Examples. The evaluation was performed with three items: adjustment of the slit interval, change of the slit interval due to its own weight, and comprehensive evaluation. Regarding the adjustment of the slit interval, the case where the deformation adjustment was possible up to 5 μm was marked with “◯”, and the case where the deformation adjustment of 1 μm was impossible was made x. Regarding the change in the slit interval due to its own weight, the case where deformation of 1 μm or less occurred over time was indicated as “◯”, the case where deformation of 3 μm or less occurred over time, and the case where deformation of 5 μm or less over time occurred. Regarding the overall evaluation, the case where both of the above two evaluation results were ○ was indicated as ◯, one was Δ and one was ○, and one was ×.
一方、比較例1〜3について、自重による圧力が6000N/m2より大きいので、自重によるスリット間隔の変化は△以下の評価であった。比較例4〜6について、ヤング率が120GPaより小さいため、スリット間隔の調整は×の評価であった。 On the other hand, about Comparative Examples 1-3, since the pressure by own weight is larger than 6000 N / m < 2 >, the change of the slit space | interval by own weight was evaluation below (triangle | delta). About Comparative Examples 4-6, since Young's modulus is smaller than 120 GPa, adjustment of a slit space | interval was evaluation of x.
10…塗布装置、12…スロットダイ、14…マニホールド、16…スロット、18…下部ダイブロック、20…上部ダイブロック、30…調整手段、31…ブロック、32…脚部、33…固定ボルト、34、35…調整ボルト、40…バックアップローラ、50…減圧チャンバー
DESCRIPTION OF
Claims (10)
塗布液が供給されるマニホールド、前記マニホールド連通するスロットを有し、前記基材に水平方向から塗布液を供給するスロットダイと、
前記スロットダイの上部に設置され、前記スロットの間隔を調整する手段を備え、前記調整手段は、脚部を有するブロック、固定ボルトと調整ボルトを含み、前記脚部が前記スロットダイに当接され、前記脚部を挿通する前記固定ボルトと前記脚部以外を挿通する前記調整ボルトにより、前記ブロックが前記スロットダイに固定され、
前記ブロックが120GPa以上のヤング率、及び6000N/m2以下の自重による圧力を有することを特徴とする塗布装置。 A coating apparatus for supplying a coating liquid to a traveling belt-like substrate,
A manifold to which the coating liquid is supplied, a slot die having a slot communicating with the manifold, and supplying the coating liquid from the horizontal direction to the substrate;
The slot die is provided at an upper portion of the slot die, and includes means for adjusting a distance between the slots. The adjustment means includes a block having leg portions, a fixing bolt and an adjustment bolt, and the leg portions are in contact with the slot die. The block is fixed to the slot die by the fixing bolt that passes through the leg and the adjustment bolt that passes through other than the leg.
The coating apparatus, wherein the block has a Young's modulus of 120 GPa or more and a pressure due to its own weight of 6000 N / m 2 or less.
塗布液が供給されるマニホールド、前記マニホールド連通するスロットを有し、前記基材に水平方向から塗布液を供給するスロットダイと、前記スロットダイの上部に設置され、前記スロットの間隔を調整する手段を備え、前記調整手段は、脚部を有するブロック、固定ボルトと調整ボルトを含み、前記脚部が前記スロットダイに当接され、前記脚部を挿通する前記固定ボルトと前記脚部以外を挿通する前記調整ボルトにより、前記ブロックが前記スロットダイに固定され、前記ブロックが120GPa以上のヤング率、及び6000N/m2以下の自重による圧力を有する塗布装置を準備する工程と、
前記調整手段により前記スロットの間隔を調整する工程と、
連続走行する基材に塗布液を前記塗布装置により供給する工程と、
を含む光学フィルムの製造方法。 A method for producing an optical film for supplying a coating liquid to a traveling belt-like substrate,
A manifold to which a coating liquid is supplied, a slot die that has a slot communicating with the manifold, and that supplies the coating liquid to the base material from a horizontal direction, and a means that is installed above the slot die and that adjusts the interval between the slots The adjusting means includes a block having a leg portion, a fixing bolt and an adjusting bolt, and the leg portion is in contact with the slot die and passes through the leg portion except for the fixing bolt and the leg portion. A step of preparing a coating device in which the block is fixed to the slot die by the adjusting bolt, the block has a Young's modulus of 120 GPa or more, and a pressure due to its own weight of 6000 N / m 2 or less;
Adjusting the slot spacing by the adjusting means;
Supplying the coating solution to the continuously running substrate by the coating device;
The manufacturing method of the optical film containing this.
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---|---|---|---|---|
JP2018012056A (en) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 日東電工株式会社 | Manufacturing method of optical film |
JP2018061928A (en) * | 2016-10-12 | 2018-04-19 | 東レ株式会社 | Coating head, coating applicator using coating head, and adjustment method of coating head |
CN115518828A (en) * | 2021-06-24 | 2022-12-27 | 株式会社斯库林集团 | Slit nozzle, method for adjusting slit nozzle, and substrate processing apparatus |
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