JP5419642B2 - Method and apparatus for producing coated film - Google Patents

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Description

本発明は塗布フィルムの製造方法及び装置であって、特に、走行するフィルム上に低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布し、該塗布液を搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥することで、塗布フィルムを製造する塗布フィルムの製造方法及び装置に関する。   The present invention is a method and apparatus for producing a coated film, and in particular, a coating liquid containing a low molecular weight compound is applied on a traveling film, and the coating liquid is applied to the low molecular weight in a heating and drying zone provided with a transport roller. It is related with the manufacturing method and apparatus of a coating film which manufactures a coating film by sending the airflow more than melting | fusing point of a compound and heat-drying.

光学素子、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイなどの表示装置、半導体装置、薄膜太陽電池など、各種の装置に、ガスバリアフィルム、保護フィルム、光学補償フィルムや反射防止フィルム等の塗布フィルムが利用されている。   Coating films such as gas barrier films, protective films, optical compensation films, and antireflection films are used in various devices such as optical devices, display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays, semiconductor devices, and thin film solar cells.

ところで、塗布フィルムの塗布膜が光学補償膜、反射防止膜などの場合には、塗布液には低分子量化合物(例えば、紫外線重合開始剤)を含んでおり、塗布膜が加熱・乾燥される際に低分子量物質が揮発してしまい、加熱乾燥ゾーンの搬送ローラに付着し結露となりフィルムに付着することがあり、高得率で光学フィルムを製造できないという問題がある。また、加熱乾燥ゾーンの搬送ローラに低分子量物質が付着してしまうことで、搬送ローラの清掃も必要となり、塗布フィルムの製造装置の稼働率が下がってしまうという問題もある。なお、ここで云う低分子量物質とは、分子量が一般的に1000以下であるものを指す。   By the way, when the coating film of the coating film is an optical compensation film, an antireflection film, or the like, the coating liquid contains a low molecular weight compound (for example, an ultraviolet polymerization initiator), and the coating film is heated and dried. In addition, the low molecular weight substance volatilizes and adheres to the transport roller in the heating and drying zone to form dew and adhere to the film, resulting in a problem that an optical film cannot be produced with high yield. In addition, since the low molecular weight substance adheres to the conveyance roller in the heating and drying zone, it is necessary to clean the conveyance roller, and there is a problem that the operation rate of the coating film manufacturing apparatus decreases. In addition, the low molecular weight substance mentioned here refers to a substance having a molecular weight of generally 1000 or less.

この問題に関して、溶液製膜法において製造されるフィルムを乾燥させるものではあるが、特許文献1には、加熱乾燥ゾーン内で揮発した低分子量物質の凝縮結露によるフィルム汚染を防止するために、乾燥風に接触する部分(床面除く)の温度を低分子量物質の飽和温度よりも5℃以上高くすることが記載されている。   Regarding this problem, although the film produced by the solution casting method is dried, Patent Document 1 discloses that the film is dried in order to prevent film contamination due to condensation condensation of low molecular weight substances volatilized in the heat drying zone. It is described that the temperature of the portion in contact with the wind (excluding the floor surface) is higher by 5 ° C. or more than the saturation temperature of the low molecular weight substance.

また、特許文献2には、乾燥ゾーンで塗布層を加熱風で乾燥させた後、硬化ゾーンで該塗布層を硬化させる光学フィルムの製造方法において、乾燥ゾーンと硬化ゾーンとの間に仕切を介して中間ゾーンを設け、中間ゾーンの温度を乾燥ゾーンの温度と硬化ゾーンの温度の何れよりも低くなるように制御することで低分子量化合物の結露を防止することが記載されている。   Further, in Patent Document 2, in a method for producing an optical film in which a coating layer is dried with heated air in a drying zone and then the coating layer is cured in a curing zone, a partition is provided between the drying zone and the curing zone. An intermediate zone is provided, and dew condensation of low molecular weight compounds is prevented by controlling the temperature of the intermediate zone to be lower than both the temperature of the drying zone and the temperature of the curing zone.

特開2001−198934号公報JP 2001-198934 A 特開2009−205092号公報JP 2009-205092 A

しかしながら、搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで塗布液を乾燥する場合において、引用文献1及び2の方法では、加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口の搬送ローラに低分子量化合物が結露するのを防止することができないという問題があることが分かった。また、加熱乾燥ゾーン内の雰囲気温度分布が揮発した溶剤ガスの影響により不安定となり、塗布膜の乾燥速度が変化してしまうことで乾燥ムラの原因になるという問題があった。   However, when the coating liquid is dried in the heating and drying zone provided with the conveying roller, the methods of the cited references 1 and 2 show that the low molecular weight compound is condensed on the conveying roller at the film inlet or the film outlet in the heating and drying zone. It turns out that there is a problem that cannot be prevented. In addition, the atmospheric temperature distribution in the heating and drying zone becomes unstable due to the influence of the volatilized solvent gas, and the drying speed of the coating film changes, which causes drying unevenness.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口の搬送ローラに低分子量化合物が結露するのを防止することができ、加熱乾燥ゾーン内の雰囲気温度分布の制御を簡便に行うことができる塗布フィルムの製造方法及び装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and it is possible to prevent condensation of a low molecular weight compound on the transport roller at the film entrance or film exit of the heat drying zone, and the atmospheric temperature distribution in the heat drying zone. An object of the present invention is to provide a method and an apparatus for producing a coated film that can easily perform the control.

前記目的を達成するために、本発明の塗布フィルムの製造方法は、走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布し、該塗布液を搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥することで、塗布フィルムを製造する塗布フィルムの製造方法であって、前記加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口では、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略平行方向に板部材を配設することで、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに結露が発生しないようにすることを特徴とする。そして、本発明の塗布フィルムの製造装置は、走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布する塗布装置と、該塗布液を前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥する搬送ローラが備えられた加熱乾燥装置と、を備えた塗布フィルムの製造装置であって、前記加熱乾燥装置のフィルム入口又はフィルム出口であって、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥装置のグラウンドレベルと略平行方向な板部材を配設することを特徴とする。 In order to achieve the above object, a method for producing a coated film according to the present invention comprises applying a coating solution containing a solvent and a low molecular weight compound on a traveling film, and heating the coating solution with a transport roller. In the method for producing a coated film by feeding an airflow having a melting point of the low molecular weight compound or higher and drying by heating, the film lower side of the traveling film at the film inlet or the film outlet of the heat drying zone to, by disposing the ground level direction substantially parallel to the plate member of the heating drying zone, condensation in conveying roller solvent gas atmosphere cools volatilized from the coating cloth layer is retained to the position of the transport roller This is characterized by preventing the occurrence of. The apparatus for producing a coated film of the present invention includes a coating apparatus that applies a coating liquid containing a solvent and a low molecular weight compound on a traveling film, and heats the coating liquid by sending an airflow that is equal to or higher than the melting point of the low molecular weight compound. A coating film manufacturing apparatus provided with a conveying roller for drying, wherein the heating drying unit is a film inlet or a film outlet of the heating drying apparatus, and the heating drying unit is provided below the traveling film. A plate member substantially parallel to the ground level of the apparatus is provided.

本発明では、加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口では、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略平行方向に板部材を配設する。この板部材により、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気が重力に従って加熱乾燥ゾーンの底部に落ちてしまうのを一旦抑制する。そして、本発明では、加熱乾燥ゾーンでは塗布液に含まれる低分子量化合物の融点以上の気流が送り込まれているので、板部材により気流の温度で搬送ローラの温度低下を妨げることができ、揮発した低分子量化合物が搬送ローラに結露するのを防ぐことができる。   In the present invention, at the film entrance or film exit of the heat drying zone, a plate member is disposed on the lower side of the traveling film in a direction substantially parallel to the ground level of the heat drying zone. This plate member temporarily suppresses the solvent gas atmosphere that has been volatilized and cooled from the coating film from falling to the bottom of the heat drying zone according to gravity. And in this invention, since the airflow more than melting | fusing point of the low molecular weight compound contained in a coating liquid is sent in the heat drying zone, the temperature reduction of a conveyance roller can be prevented with the temperature of the airflow by the board member, and it volatilized. It is possible to prevent the low molecular weight compound from condensing on the conveying roller.

即ち、板部材を設けることで、加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口の搬送ローラへの低分子量化合物の結露汚れを防止できるので、塗布膜への汚れ写り故障を撲滅することができ、搬送ローラの清掃が不要になることによって製造装置の稼働率を上げることができる。また、加熱乾燥ゾーン内の雰囲気温度分布の制御が簡便にできることにより、乾燥ムラ対策や乾燥速度制御も容易に行うことができる。   In other words, by providing a plate member, it is possible to prevent condensation of low molecular weight compounds on the transport roller at the film entrance or film exit in the heating and drying zone, so it is possible to eliminate the smearing failure on the coating film. This eliminates the need for cleaning, thereby increasing the operating rate of the manufacturing apparatus. In addition, since the control of the atmospheric temperature distribution in the heating and drying zone can be easily performed, measures against drying unevenness and drying speed control can be easily performed.

発明によれば、加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口の搬送ローラに低分子量化合物が結露するのを防止することができ、加熱乾燥ゾーン内の雰囲気温度分布の制御を簡便に行うことができる。   According to the invention, it is possible to prevent the low molecular weight compound from condensing on the transport roller at the film inlet or the film outlet of the heat drying zone, and the atmospheric temperature distribution in the heat drying zone can be easily controlled.

前記目的を達成するために、本発明の塗布フィルムの製造方法は、走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布し、該塗布液を搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥することで、塗布フィルムを製造する塗布フィルムの製造方法であって、前記加熱乾燥ゾーンでは、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略垂直方向に板部材を配設することで、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに結露が発生しないようにすることを特徴とする。そして、本発明の塗布フィルムの製造装置は、走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布する塗布装置と、該塗布液を前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥する搬送ローラが備えられた加熱乾燥装置と、を備えた塗布フィルムの製造装置であって、前記加熱乾燥装置内には、前記走行するフィルムの下方側に、グラウンドレベルに略鉛直方向な板部材を配設することを特徴とする。 In order to achieve the above object, a method for producing a coated film according to the present invention comprises applying a coating solution containing a solvent and a low molecular weight compound on a traveling film, and heating the coating solution with a transport roller. In the method for producing a coated film by sending an air flow having a melting point of the low molecular weight compound or more and drying by heating, the heating and drying zone has a heating and drying zone below the traveling film. by disposing the ground level substantially perpendicular to the plate member, the solvent gas atmosphere cools volatilized from the coating cloth film to dwell position of the conveying roller condensation in conveying roller so as not to occur It is characterized by that. The apparatus for producing a coated film of the present invention includes a coating apparatus that applies a coating liquid containing a solvent and a low molecular weight compound on a traveling film, and heats the coating liquid by sending an airflow that is equal to or higher than the melting point of the low molecular weight compound. A coating film manufacturing apparatus including a conveying roller for drying, and a plate that is substantially perpendicular to a ground level on the lower side of the traveling film in the heating and drying apparatus. A member is provided.

本発明では、加熱乾燥ゾーンでは、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略垂直方向に板部材を配設する。この板部材により、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気が重力に従って加熱乾燥ゾーンの底部に落ちてしまう量を抑制する。即ち、略垂直方向に配設された板部材により、溶剤ガスが搬送ローラの位置まで溜まり易くなるので、搬送ローラの温度は搬送ローラ周辺の温度よりも高くなり搬送ローラへの低分子量化合物の結露汚れを防止することができる。   In the present invention, in the heat drying zone, a plate member is disposed on the lower side of the traveling film in a direction substantially perpendicular to the ground level of the heat drying zone. By this plate member, the amount of the solvent gas atmosphere that has been volatilized and cooled from the coating film falls to the bottom of the heat drying zone according to gravity is suppressed. That is, since the plate member arranged in the substantially vertical direction makes it easy for the solvent gas to accumulate up to the position of the transport roller, the temperature of the transport roller becomes higher than the temperature around the transport roller, and condensation of low molecular weight compounds on the transport roller. Dirt can be prevented.

したがって、本発明によれば、加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口の搬送ローラに低分子量化合物が結露するのを防止することができ、加熱乾燥ゾーン内の雰囲気温度分布の制御を簡便に行うことができる。   Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent the low molecular weight compound from condensing on the transport roller at the film entrance or film exit of the heat drying zone, and to easily control the atmospheric temperature distribution in the heat drying zone. Can do.

本発明においては、前記加熱乾燥ゾーンでのフィルムの搬送角度が30°以下であること、又は、前記加熱乾燥装置は30°以下の角度で備えられていることが好ましい。なお、30°以下であることが好ましいが、より好ましくは20°以下、更に好ましくは12°以下である。   In this invention, it is preferable that the conveyance angle of the film in the said heat drying zone is 30 degrees or less, or the said heat drying apparatus is provided at an angle of 30 degrees or less. In addition, although it is preferable that it is 30 degrees or less, More preferably, it is 20 degrees or less, More preferably, it is 12 degrees or less.

また、本発明の製造方法又は装置によって製造された機能性フィルムは、低分子量化合物の搬送ローラへの結露汚れが塗布膜へ写り故障となったり乾燥ムラが起きたりすることがないので、光学素子、表示装置、半導体装置、薄膜太陽電池など、各種の機能性フィルムとして好適に用いることができる。   In addition, the functional film manufactured by the manufacturing method or apparatus of the present invention does not cause dew stains on the coating film of the low molecular weight compound on the conveying roller to cause failure or drying unevenness. It can be suitably used as various functional films such as display devices, semiconductor devices, and thin film solar cells.

本発明によれば、加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口の搬送ローラに低分子量化合物が結露するのを防止することができ、加熱乾燥ゾーン内の雰囲気温度分布の制御を簡便に行うことができる。   According to the present invention, it is possible to prevent the low molecular weight compound from condensing on the transport roller at the film inlet or the film outlet in the heat drying zone, and it is possible to easily control the atmospheric temperature distribution in the heat drying zone. .

本発明が適用される光学フィルムの製造工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the manufacturing process of the optical film to which this invention is applied. 本発明に係る乾燥装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the drying apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る乾燥装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the drying apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る乾燥装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the drying apparatus which concerns on this invention. 実施例の測定結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the measurement result of an Example.

以下、添付図面により本発明の塗布フィルムの製造方法及び製造装置の好ましい実施の形態について詳説する。   DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a method for manufacturing a coated film and a manufacturing apparatus of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、塗布フィルムの製造工程の一例を示す概略図であり、光学補償フィルムの製造工程10を示している。なお、光学補償フィルムの製造工程10における搬送ローラの配置形態は、図1の態様に限定されないものとする。   FIG. 1 is a schematic view showing an example of a manufacturing process of a coated film, and shows a manufacturing process 10 of an optical compensation film. In addition, the arrangement | positioning form of the conveyance roller in the manufacturing process 10 of an optical compensation film shall not be limited to the aspect of FIG.

図1に示すように、光学補償フィルムの製造工程10は、主に、配向膜形成工程12と、該配向膜上にラビング処理を施すラビング処理工程14と、該ラビング処理後に液晶層形成工程16と、を備えている。   As shown in FIG. 1, the optical compensation film manufacturing process 10 mainly includes an alignment film forming process 12, a rubbing process 14 for performing a rubbing process on the alignment film, and a liquid crystal layer forming process 16 after the rubbing process. And.

ポリマーフィルムの長尺ロール(フィルムロール)20から送出機22により送り出された長尺状の透明フィルム24aは、搬送ローラ26により搬送され、表面除塵機28により除塵された後、配向膜形成工程12に送られる。   The long transparent film 24a sent out from the long roll (film roll) 20 of the polymer film by the delivery machine 22 is conveyed by the conveyance roller 26 and removed by the surface dust remover 28, and then the alignment film forming step 12 is performed. Sent to.

配向膜形成工程12では、塗布機30により配向膜形成用樹脂を含む塗布液が塗布され、乾燥装置32で乾燥され、樹脂層が透明フィルム24a表面上に形成される。そして、該透明フィルム24aは、更にラビング処理工程14へ送られる。なお、ここで得られたフィルムは一旦巻き取ってもよい。   In the alignment film forming step 12, a coating liquid containing an alignment film forming resin is applied by a coating machine 30, and dried by a drying device 32, whereby a resin layer is formed on the surface of the transparent film 24a. Then, the transparent film 24a is further sent to the rubbing treatment step 14. In addition, you may wind up the film obtained here once.

ラビング処理工程14では、ラビングローラ34、スプリングでローラステージに固定されたガイドローラ36及びラビングローラに備え付けられた除塵機37よりなるラビング装置により、配向膜形成用樹脂層を有する透明フィルム24bにラビング処理が施される。これにより、形成された配向膜の表面は、ラビング装置に隣接して設けられた表面除塵機38により除塵される。ラビング装置は、上記以外の公知の装置を使用してもよい。除塵された後、配向膜が形成された透明フィルム24cは、搬送ローラ40により搬送され、更に液晶層形成工程16へ送られる。   In the rubbing treatment step 14, a rubbing device comprising a rubbing roller 34, a guide roller 36 fixed to a roller stage with a spring, and a dust remover 37 provided to the rubbing roller is used to rub the transparent film 24b having an alignment film forming resin layer. Processing is performed. Thereby, the surface of the formed alignment film is dust-removed by the surface dust remover 38 provided adjacent to the rubbing device. A known device other than the above may be used as the rubbing device. After the dust is removed, the transparent film 24 c on which the alignment film is formed is transported by the transport roller 40 and further sent to the liquid crystal layer forming step 16.

液晶層形成工程16では、透明フィルム24cの配向膜上に、液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液が塗布機42により塗布され、次いで、溶剤を蒸発させた後、乾燥装置44において、塗布層をディスコティックネマティック相形成温度に加熱される(ここで塗布層の残留溶剤も蒸発する)。これにより、ディスコティックネマティック相の液晶層が形成される。   In the liquid crystal layer forming step 16, a coating liquid containing a liquid crystalline discotic compound is applied onto the alignment film of the transparent film 24c by the coating machine 42, and after the solvent is evaporated, the coating layer is formed in the drying device 44. It is heated to the discotic nematic phase formation temperature (here, the residual solvent in the coating layer also evaporates). Thereby, a liquid crystal layer having a discotic nematic phase is formed.

上記液晶層は、次いで、紫外線(UV)ランプ46により紫外線が照射され、液晶層は架橋する。液晶層を架橋させるためには、液晶性ディスコティック化合物として架橋性官能基を有する液晶性ディスコティック化合物を使用する必要がある。   The liquid crystal layer is then irradiated with ultraviolet rays from an ultraviolet (UV) lamp 46, and the liquid crystal layer is crosslinked. In order to crosslink the liquid crystal layer, it is necessary to use a liquid crystal discotic compound having a crosslinkable functional group as the liquid crystal discotic compound.

塗布機42と加熱乾燥装置44は、精密な塗布及び乾燥を行うために、一般的にクリーンルーム内に設置されている。クリーンルームは、例えば天井面から清浄な空調エアをダウンフローすることによって、常に加圧された清浄な状態を維持している。   The applicator 42 and the heat drying device 44 are generally installed in a clean room in order to perform precise application and drying. The clean room always maintains a clean and pressurized state by, for example, downflowing clean air-conditioned air from the ceiling surface.

塗布機42は、エクストルージョン型、ロールコータ型、グラビアコータ型、スライドコート型、或いはそれ以外の塗布方式であってもよい。また、本発明の乾燥装置は有機溶剤系の塗布液に限らず水系に適用することもできるが、乾燥ムラが発生し易い有機溶剤系の塗布液において効果を発揮する。   The coating machine 42 may be an extrusion type, a roll coater type, a gravure coater type, a slide coat type, or other coating methods. The drying apparatus of the present invention can be applied not only to an organic solvent-based coating solution but also to an aqueous system, but exhibits an effect in an organic solvent-based coating solution in which drying unevenness easily occurs.

塗布液に含まれる溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン(MEK)、水エタノール、1−メトキシ−2−プロパノールアセテート(MMPG−AC)、N−メチルピロリドン(NMP)、ノルマルプロピルアルコール(n−PrOH)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、アノンから成る組成のものが使用される。   Examples of the solvent contained in the coating solution include methyl ethyl ketone (MEK), water ethanol, 1-methoxy-2-propanol acetate (MMPG-AC), N-methylpyrrolidone (NMP), normal propyl alcohol (n-PrOH), A composition comprising methyl isobutyl ketone (MIBK) and anone is used.

塗布液に含まれる低分子化合物としては、硬膜剤として重合開始剤が使用される。重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類(特開2001−139663号公報等に記載)、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、オニウム塩類、ボレート塩、活性ハロゲン化合物などが挙げられる。   As the low molecular weight compound contained in the coating solution, a polymerization initiator is used as a hardener. Examples of the polymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides (described in JP-A-2001-139663, etc.), 2, Examples include 3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, onium salts, borate salts, and active halogen compounds.

「最新UV硬化技術」{発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行}、p.159、及び「紫外線硬化システム」(加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。   “Latest UV Curing Technology” {Publisher: Kazuhiro Takasato, Publisher; Technical Information Association, 1991}, p. 159, and "Ultraviolet curing system" (by Kiyomi Kato, published by the General Technology Center in 1989), p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・ジャパン(株)製の商品名「イルガキュア(184,651,907)」等が好ましい例として挙げられる。   Preferable examples of commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include “Irgacure (184, 651, 907)” manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.

フィルム24cに塗布液を塗布する塗布条件としては、例えば、ウェット塗布量が5〜15μm程度になるようにする。こうして塗布液が塗布されたフィルムは、乾燥装置44へ走行されて、最終的に塗布膜面の膜厚が乾膜状態で1〜5μm程度になる。   As an application condition for applying the application liquid to the film 24c, for example, the wet application amount is set to about 5 to 15 μm. The film thus coated with the coating liquid is run to the drying device 44, and finally the film thickness of the coating film surface becomes about 1 to 5 μm in the dry film state.

乾燥装置44は、ポリマーフィルム24cの走行方向に対して塗布機42の下流側に配設され、ポリマーフィルム24cに気流を送り込んで塗布膜面を乾燥させる。乾燥装置44と塗布機42は、乾燥時の熱が塗布機42に悪影響を及ぼすことを防止するため、及び、ポリマーフィルム24cの塗布膜面に熱風の乾燥エアをすぐに当てないため、1000mm程度の間隔をあけて設置することが好ましい。   The drying device 44 is disposed on the downstream side of the coating machine 42 with respect to the traveling direction of the polymer film 24c, and sends an air current to the polymer film 24c to dry the coating film surface. The drying device 44 and the coating machine 42 are about 1000 mm in order to prevent the heat at the time of drying from adversely affecting the coating machine 42 and because the hot air is not immediately applied to the coating film surface of the polymer film 24c. It is preferable to install with an interval of.

図2に加熱乾燥装置44を示す。   FIG. 2 shows the heat drying apparatus 44.

図2(A)は、従来の加熱乾燥装置44を示している。加熱乾燥装置44は、主に、乾燥ボックス44aと、熱風の乾燥エアを供給する二次元ノズル60と、加熱可能な複数の搬送ローラ62,62…とからなる。乾燥ボックス44aには、ポリマーフィルム24cが走行するためのフィルム入口64とフィルム出口66とが設けられている。   FIG. 2A shows a conventional heat drying apparatus 44. The heating and drying device 44 mainly includes a drying box 44a, a two-dimensional nozzle 60 for supplying hot air drying air, and a plurality of heatable transport rollers 62, 62. The drying box 44a is provided with a film inlet 64 and a film outlet 66 for the polymer film 24c to travel.

図2(A)の加熱乾燥装置44では、フィルム入口64又はフィルム出口66の搬送ローラ62に塗布膜中から気化した低分子量化合物が結露してしまうという問題があった。また、加熱乾燥装置内の雰囲気温度分布が揮発した溶剤ガスの影響により不安定となり、塗布膜の乾燥速度が変化してしまうことで乾燥ムラの原因になるという問題があった。   In the heating and drying apparatus 44 of FIG. 2A, there is a problem that the low molecular weight compound evaporated from the coating film is condensed on the transport roller 62 at the film inlet 64 or the film outlet 66. In addition, the atmospheric temperature distribution in the heating / drying apparatus becomes unstable due to the influence of the volatilized solvent gas, and the drying speed of the coating film changes, which causes drying unevenness.

そこで、図2(B)又は(C)の少なくとも何れかのように加熱乾燥装置を構成することで、低分子量化合物が搬送ローラに結露する問題と、塗布膜の乾燥ムラの問題とを解決することができることを見出した。   Therefore, by configuring the heating and drying apparatus as at least one of FIGS. 2B and 2C, the problem of the low molecular weight compound condensing on the conveyance roller and the problem of uneven drying of the coating film are solved. I found that I can do it.

図2(B)に示す加熱乾燥装置44は、二次元ノズル60からポリマーフィルム24cの塗布液を低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥する。そして、フィルム入口64の走行するポリマーフィルム24cの下方側に加熱乾燥装置のグラウンドレベルと略平行方向な板部材68を配設している。   The heating / drying apparatus 44 shown in FIG. 2 (B) feeds the coating liquid for the polymer film 24c from the two-dimensional nozzle 60 with an air flow that is equal to or higher than the melting point of the low molecular weight compound and heats and dries it. A plate member 68 that is substantially parallel to the ground level of the heating / drying apparatus is disposed below the polymer film 24c that the film inlet 64 travels.

この板部材68により、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気が重力に従って加熱乾燥装置の底部に落ちてしまうのを一旦抑制する。また、加熱乾燥装置では塗布液に含まれる低分子量化合物の融点以上の気流が送り込まれているので、板部材68により気流の温度でフィルム入口64の搬送ローラ62の温度低下を妨げることができる。したがって、揮発した低分子量化合物がフィルム入口64の搬送ローラ62に結露するのを防ぐことができる。即ち、板部材を設けることで、加熱乾燥装置のフィルム入口の搬送ローラへの低分子量化合物の結露汚れを防止できるので、塗布膜への汚れ写り故障を撲滅することができ、搬送ローラの清掃が不要になることによって製造装置の稼働率を上げることができる。   The plate member 68 temporarily suppresses the solvent gas atmosphere that has been volatilized and cooled from the coating film from dropping to the bottom of the heating and drying apparatus according to gravity. In the heat drying apparatus, since an air flow higher than the melting point of the low molecular weight compound contained in the coating liquid is sent, the plate member 68 can prevent the temperature drop of the transport roller 62 at the film inlet 64 due to the temperature of the air flow. Therefore, it is possible to prevent the volatilized low molecular weight compound from condensing on the transport roller 62 at the film entrance 64. In other words, by providing a plate member, it is possible to prevent condensation contamination of the low molecular weight compound on the transport roller at the film entrance of the heating and drying apparatus, so that it is possible to eliminate the smearing failure on the coating film, and the transport roller can be cleaned. By eliminating the necessity, the operating rate of the manufacturing apparatus can be increased.

また、図2(B)の加熱乾燥装置により、加熱乾燥装置内の雰囲気温度分布の制御が簡便にできる。なぜならば、フィルム入口64から流入する空気により搬送ローラ62近傍の雰囲気温度を決定することができるからである。よって、乾燥ムラ対策や乾燥速度制御も容易に行うことができる。   Moreover, the control of the atmospheric temperature distribution in the heat drying apparatus can be easily performed by the heat drying apparatus of FIG. This is because the ambient temperature in the vicinity of the transport roller 62 can be determined by the air flowing from the film inlet 64. Therefore, dry unevenness countermeasures and drying speed control can be easily performed.

なお、この板部材68は、フィルム入口64の搬送ローラ62の下部側にかかる長さであることが好ましい。   The plate member 68 preferably has a length on the lower side of the transport roller 62 at the film inlet 64.

図2(C)に示す加熱乾燥装置44は、図2(B)に示した加熱乾燥装置と同様に、二次元ノズル60からポリマーフィルム24cの塗布液を低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥する。そして、走行するポリマーフィルム24cの下方側に、グラウンドレベルに略鉛直方向な板部材70を配設している。   The heating / drying device 44 shown in FIG. 2 (C) feeds the coating liquid for the polymer film 24c from the two-dimensional nozzle 60 with an air flow higher than the melting point of the low molecular weight compound, similarly to the heating / drying device shown in FIG. 2 (B). Heat to dry. A plate member 70 that is substantially perpendicular to the ground level is disposed below the traveling polymer film 24c.

この板部材70により、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気が重力に従って加熱乾燥装置の底部に落ちてしまう量を抑制する。即ち、略垂直方向に配設された板部材70により、溶剤ガスがフィルム入口64の搬送ローラ62の位置まで溜まり易くなるので、搬送ローラ62の温度は搬送ローラ周辺の温度よりも高くなり、搬送ローラへの低分子量化合物の結露汚れを防止することができる。   The plate member 70 suppresses the amount of the solvent gas atmosphere that volatilizes and cools from the coating film and falls to the bottom of the heating and drying apparatus according to gravity. That is, since the plate member 70 disposed in the substantially vertical direction makes it easy for the solvent gas to accumulate up to the position of the transport roller 62 at the film inlet 64, the temperature of the transport roller 62 becomes higher than the temperature around the transport roller, It is possible to prevent condensation of low molecular weight compounds on the roller.

また、図2(C)の加熱乾燥装置により、加熱乾燥装置内の雰囲気温度分布の制御が簡便にできる。なぜならば、フィルム入口64から流入する空気を板部材70によりフィルム下にバッファすることができるため、フィルム下雰囲気温度を決定することができるからである。よって、乾燥ムラ対策や乾燥速度制御も容易に行うことができる。   Moreover, the control of the atmospheric temperature distribution in the heating and drying apparatus can be easily performed by the heating and drying apparatus in FIG. This is because the air flowing from the film inlet 64 can be buffered under the film by the plate member 70, so that the ambient temperature under the film can be determined. Therefore, dry unevenness countermeasures and drying speed control can be easily performed.

なお、この板部材70は、フィルム入口64の搬送ローラ62よりも下流側に設けることが好ましい。   The plate member 70 is preferably provided on the downstream side of the transport roller 62 at the film inlet 64.

図2(B)、(C)において、フィルム入口64の搬送ローラ62について説明したが、フィルム出口66の搬送ローラ62においても、同様の効果がある。したがって、本発明によれば、加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口の搬送ローラに低分子量化合物が結露するのを防止することができ、加熱乾燥ゾーン内の雰囲気温度分布の制御を簡便に行うことができる。   2B and 2C, the conveyance roller 62 at the film inlet 64 has been described, but the same effect can be achieved with the conveyance roller 62 at the film outlet 66. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent the low molecular weight compound from condensing on the transport roller at the film entrance or film exit of the heat drying zone, and to easily control the atmospheric temperature distribution in the heat drying zone. Can do.

そして、図3に示すように、加熱乾燥装置44はグランドレベルGLに対して30°以下の角度θで備えられていることが好ましい。なお、30°以下であることが好ましいが、より好ましくは20°以下、更に好ましくは15°以下、より更に好ましくは12°以下である。   And as shown in FIG. 3, it is preferable that the heat drying apparatus 44 is provided with the angle (theta) of 30 degrees or less with respect to the ground level GL. In addition, although it is preferable that it is 30 degrees or less, More preferably, it is 20 degrees or less, More preferably, it is 15 degrees or less, More preferably, it is 12 degrees or less.

上記実施形態では、光学補償フィルムの製造工程10を例に説明したが、これに限定されず、その他の機能性フィルム、例えば、反射防止フィルム、各種画像表示装置に使用される光学用途の薄膜状フィルムの製造、搬送工程に適用できる。   In the said embodiment, although the manufacturing process 10 of the optical compensation film was demonstrated to the example, it is not limited to this, Other functional films, for example, an antireflection film, the thin film form of the optical use used for various image display apparatuses It can be applied to film production and transport processes.

また、図2(B)、(C)は、本発明の少なくとも何れかの場合についてそれぞれ説明したが、例えば、図4のように、図2(B)の板部材68と図2(C)の板部材70とを一緒に配設ことも有効である。   2 (B) and 2 (C) have described at least one of the cases of the present invention. For example, as shown in FIG. 4, the plate member 68 in FIG. 2 (B) and FIG. 2 (C). It is also effective to arrange the plate member 70 together.

[フィルム]
本発明で使用されるフィルムとしては、一般に幅0.3〜5m、長さ45〜10000m、厚さ5〜200μmのポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフィルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が2〜10のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙、アルミニウム、銅、錫等の金属箔等、或いは帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたものが含まれる。
[the film]
The film used in the present invention is generally polyethylene terephthalate having a width of 0.3 to 5 m, a length of 45 to 10,000 m, and a thickness of 5 to 200 μm, polyethylene-2,6 naphthalate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate pro Coated or laminated α-polyolefins having 2 to 10 carbon atoms such as plastic film such as pionate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate, polyimide, polyamide, paper, polyethylene, polypropylene, ethylene butene copolymer, etc. Paper, metal foils such as aluminum, copper, and tin, or those obtained by forming a preliminary processing layer on the surface of a belt-like substrate are included.

[塗布液]
本発明において、塗布フィルムには、溶剤と可塑剤や硬膜剤等の低分子量化合物とが含まれる塗布液がその表面に塗布され、乾燥された後、所望する長さ及び幅に裁断されるものも含まれ、これらの代表例としては、光学補償フィルム、反射防止フィルムが挙げられる。
[Coating solution]
In the present invention, a coating liquid containing a solvent and a low molecular weight compound such as a plasticizer or a hardener is applied to the surface of the coating film, dried, and then cut into a desired length and width. The typical examples include an optical compensation film and an antireflection film.

図1に示した塗布フィルムの製造工程10で実験を行った。   The experiment was performed in the manufacturing process 10 of the coated film shown in FIG.

フィルム24aとしては、厚さ80μmのトリアセチルセルロース(フジタック、富士フイルム(株)製)を使用した。そして、フィルムの表面に、長鎖アルキル変性ポバール(MP−203、クラレ(株)製)の2重量パーセント溶液をフィルム1m当り25ml塗布後、60°Cで1分間乾燥させて形成した配向膜用樹脂層を形成したフィルム24bを、30m/分で搬送させながら、配向膜用樹脂層表面にラビング処理を行って配向膜を形成した。 As the film 24a, triacetyl cellulose (Fujitack, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm was used. Then, the surface of the film, the long-chain alkyl-modified Poval (MP-203, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) After 2 wt% solution of the film 1 m 2 per 25ml applying the alignment film formed by drying for 1 minute at 60 ° C While the film 24b on which the resin layer was formed was conveyed at 30 m / min, the alignment layer was formed by rubbing the surface of the alignment layer resin layer.

そして、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた配向膜上に、塗布液としては、ディスコティック化合物TE−8の(3)とTE−8の(5)の重量比で4:1の混合物に、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製造)を前記混合物に対して1重量パーセント添加した混合物の40重量%メチルエチルケトン溶液とする液晶性化合物を含む塗布液を使用した。フィルム24cを、30m/分で走行させながら、この塗布液を配向膜上に塗布液量が帯状ベースフィルム1m当り5mL〜7mLになるようにグラビア塗布装置で塗布した。そして、塗布後に、135°Cに調整された加熱乾燥装置44で乾燥させた。加熱乾燥装置44には、搬送ローラ62,62…が6個設けられており、フィルム入口から順に搬送ローラの温度を25.4℃、26.5℃、38.6℃、46.9℃、53.3℃、63.6℃と設定した。 And, on the alignment film obtained by rubbing the alignment film resin layer, the coating liquid is 4: 1 by weight ratio of (3) of the discotic compound TE-8 and (5) of TE-8. A coating liquid containing a liquid crystalline compound to be a 40 wt% methyl ethyl ketone solution of a mixture obtained by adding 1 wt% of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy Japan Co., Ltd.) to the mixture was used. While running the film 24c at 30 m / min, this coating solution was applied onto the alignment film with a gravure coating device so that the amount of the coating solution was 5 to 7 mL per 1 m 2 of the strip-shaped base film. And after application | coating, it was dried with the heat drying apparatus 44 adjusted to 135 degreeC. The heating and drying device 44 is provided with six transport rollers 62, 62..., And the temperature of the transport rollers is 25.4 ° C., 26.5 ° C., 38.6 ° C., 46.9 ° C. The temperature was set to 53.3 ° C and 63.6 ° C.

ここで、図2(A)の従来の加熱乾燥装置と図4の板部材68,70が配設された加熱乾燥装置とを用い、加熱乾燥装置内の雰囲気温度分布を調べた。温度は、底面(床)付近とフィルム(ベース)付近とを計測した。   Here, the atmospheric temperature distribution in the heating and drying apparatus was examined using the conventional heating and drying apparatus in FIG. 2A and the heating and drying apparatus in which the plate members 68 and 70 in FIG. 4 were disposed. The temperature was measured near the bottom (floor) and near the film (base).

なお、その後、フィルム24cを紫外線ランプにより紫外線を照射した。   Thereafter, the film 24c was irradiated with ultraviolet rays by an ultraviolet lamp.

図5はその測定結果を示したグラフであり、図5(A)が従来の加熱乾燥装置、図5(B)が本発明に係る板部材68,70が配設された加熱乾燥装置である。   FIG. 5 is a graph showing the measurement results. FIG. 5A is a conventional heating and drying apparatus, and FIG. 5B is a heating and drying apparatus in which plate members 68 and 70 according to the present invention are arranged. .

図5から分かるように、本発明によれば、雰囲気温度分布制御が簡便にできていることが分かる。そして、製造された塗布フィルムにおいては、図5(A)の従来の加熱乾燥装置では乾燥ムラが見受けられるが、図5(B)の本発明に係る板部材68,70が配設された加熱乾燥装置では乾燥ムラは見られなかった。更に、フィルム入口の搬送ローラへの低分子量化合物の結露汚れも、図5(A)の従来の加熱乾燥装置では見受けられるが、図5(B)の本発明に係る板部材68,70が配設された加熱乾燥装置では見られなかった。   As can be seen from FIG. 5, according to the present invention, it is understood that the atmospheric temperature distribution control can be easily performed. And in the manufactured coating film, although the drying nonuniformity is seen in the conventional heat drying apparatus of FIG. 5 (A), the heating provided with the plate members 68 and 70 according to the present invention of FIG. 5 (B). No drying unevenness was observed in the drying apparatus. Further, condensation contamination of low molecular weight compounds on the conveyance roller at the film entrance is also observed in the conventional heating and drying apparatus of FIG. 5A, but the plate members 68 and 70 according to the present invention of FIG. It was not seen in the installed heat drying apparatus.

したがって、本発明によれば、加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口の搬送ローラに低分子量化合物が結露するのを防止することができ、加熱乾燥ゾーン内の雰囲気温度分布の制御を簡便に行うことができることが分かる。   Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent the low molecular weight compound from condensing on the transport roller at the film entrance or film exit of the heat drying zone, and to easily control the atmospheric temperature distribution in the heat drying zone. You can see that

10…光学補償フィルムの製造工程、24a,24b,24c…(ポリマー)フィルム、30…塗布機、32…乾燥装置、42…塗布機、44…乾燥装置、44a…乾燥ボックス、62…搬送ローラ、64…フィルム入口、66…フィルム出口、68,70…板部材   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Manufacturing process of optical compensation film, 24a, 24b, 24c ... (polymer) film, 30 ... coating machine, 32 ... drying apparatus, 42 ... coating machine, 44 ... drying apparatus, 44a ... drying box, 62 ... conveyance roller, 64 ... Film inlet, 66 ... Film outlet, 68, 70 ... Plate member

Claims (4)

走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布し、該塗布液を搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥することで、塗布フィルムを製造する塗布フィルムの製造方法であって、
前記加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口では、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略平行方向に板部材を配設することで、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに前記低分子量化合物の結露が発生しないようにすることを特徴とする塗布フィルムの製造方法。
By applying a coating liquid containing a solvent and a low molecular weight compound on a traveling film, and sending the coating liquid in a heating and drying zone equipped with a transport roller by feeding an airflow above the melting point of the low molecular weight compound, A method for producing a coated film for producing a coated film,
At the film entrance or film exit of the heating and drying zone, a solvent is volatilized and cooled from the coating film by disposing a plate member on the lower side of the traveling film in a direction substantially parallel to the ground level of the heating and drying zone. A method for producing a coated film, characterized in that a gas atmosphere is retained at the position of the transport roller so that condensation of the low molecular weight compound does not occur on the transport roller.
走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布し、該塗布液を搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥することで、塗布フィルムを製造する塗布フィルムの製造方法であって、
前記加熱乾燥ゾーンでは、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略垂直方向に板部材を配設することで、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに前記低分子量化合物の結露が発生しないようにすることを特徴とする塗布フィルムの製造方法。
By applying a coating liquid containing a solvent and a low molecular weight compound on a traveling film, and sending the coating liquid in a heating and drying zone equipped with a transport roller by feeding an airflow above the melting point of the low molecular weight compound, A method for producing a coated film for producing a coated film,
In the heat drying zone, a plate member is disposed on the lower side of the traveling film in a direction substantially perpendicular to the ground level of the heat drying zone, so that the solvent gas atmosphere volatilized and cooled from the coating film is transferred to the transport roller. The method for producing a coated film is characterized in that the low-molecular weight compound is prevented from condensing on the conveying roller by staying at the position.
走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布する塗布装置と、該塗布液を前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥する搬送ローラが備えられた加熱乾燥装置と、を備えた塗布フィルムの製造装置であって、
前記加熱乾燥装置のフィルム入口又はフィルム出口であって、走行するフィルムの下方側に、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに前記低分子量化合物の結露が発生しないように、該加熱乾燥装置のグラウンドレベルと略平行方向な板部材を配設することを特徴とする塗布フィルムの製造装置。
A coating apparatus for applying a coating liquid containing a solvent and a low molecular weight compound on a traveling film; and a heating / drying apparatus provided with a conveying roller for heating and drying the coating liquid by sending an airflow higher than the melting point of the low molecular weight compound; An apparatus for producing a coated film comprising:
At the film inlet or film outlet of the heating and drying apparatus, a solvent gas atmosphere that has evaporated and cooled from the coating film is retained at the position of the transport roller on the lower side of the traveling film, and the low molecular weight is stored in the transport roller. An apparatus for producing a coated film, comprising a plate member disposed in a direction substantially parallel to the ground level of the heating and drying apparatus so as not to cause condensation of the compound .
走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布する塗布装置と、該塗布液を前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥する搬送ローラが備えられた加熱乾燥装置と、を備えた塗布フィルムの製造装置であって、
前記加熱乾燥装置内には、前記走行するフィルムの下方側に、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに前記低分子量化合物の結露が発生しないように、グラウンドレベルに略鉛直方向な板部材を配設することを特徴とする塗布フィルムの製造装置。
A coating apparatus for applying a coating liquid containing a solvent and a low molecular weight compound on a traveling film; and a heating / drying apparatus provided with a conveying roller for heating and drying the coating liquid by sending an airflow higher than the melting point of the low molecular weight compound; An apparatus for producing a coated film comprising:
In the heating and drying apparatus, a solvent gas atmosphere that has been volatilized and cooled from the coating film stays at the position of the transport roller on the lower side of the traveling film, and condensation of the low molecular weight compound occurs on the transport roller. An apparatus for producing a coated film, characterized in that a plate member substantially perpendicular to the ground level is disposed.
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