JP2012022804A - Conductive composition and solar cell - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive composition capable of forming an electrode, etc. with reduced volume resistivity and excellent adhesion to a silicon substrate, and to provide a solar cell with an electrode formed by using the same.SOLUTION: A conductive composition contains: silver powder (A); a fatty acid silver salt (B); and an epoxy resin (C) with ethylene oxide and/or propylene oxide added.

Description

本発明は、導電性組成物およびそれを用いて電極を形成した太陽電池セルに関する。   The present invention relates to a conductive composition and a solar battery cell in which an electrode is formed using the conductive composition.

太陽光のような光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽電池は、地球環境問題に対する関心が高まるにつれ、積極的に種々の構造・構成のものが開発されている。その中でも、シリコンなどの半導体基板を用いた太陽電池は、その変換効率、製造コストなどの優位性により最も一般的に用いられている。   Solar cells that convert light energy such as sunlight into electrical energy have been actively developed in various structures and configurations as interest in global environmental issues increases. Among them, solar cells using a semiconductor substrate such as silicon are most commonly used due to advantages such as conversion efficiency and manufacturing cost.

このような太陽電池の電極を形成する材料としては、エポキシ樹脂系のペースト材料が知られている。
例えば、特許文献1には、「銀粉末と加熱硬化性成分と溶剤とを主成分とし、前記加熱硬化性成分がエポキシ当量1000以下のエポキシ樹脂とエポキシ当量1500以上のエポキシ樹脂と硬化剤とを含有することを特徴とする導電性ペースト組成物。」が記載されている。
また、特許文献2には、「銀粉末と加熱硬化性成分と溶剤とを含む導電性ペースト組成物において、前記加熱硬化性成分が、エポキシ当量が2000ないし3500g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂と、エポキシ当量が1000g/eq以下で粘性率が10ないし100mPa・sの多価アルコール系のグリシジル型エポキシ樹脂と、硬化剤とを含有し、前記多価アルコール系のグリシジル型エポキシ樹脂が、以下の化1の構造式を有するアルキルジオール系または以下の化2の構造式を有するポリエチレングリコール系で、化1の構造式と化2の構造式におけるnが3ないし9であり、前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂対多価アルコール系のグリシジル型エポキシ樹脂の重量混合比率が、1対1ないし1対3であることを特徴とする導電性ペースト組成物。」が記載されている。

As a material for forming such an electrode of a solar cell, an epoxy resin-based paste material is known.
For example, Patent Document 1 states that “a silver powder, a thermosetting component, and a solvent are the main components, and the thermosetting component includes an epoxy resin having an epoxy equivalent of 1000 or less, an epoxy resin having an epoxy equivalent of 1500 or more, and a curing agent. The conductive paste composition characterized by containing. "
Patent Document 2 states that “in a conductive paste composition containing silver powder, a thermosetting component and a solvent, the thermosetting component contains a bisphenol A type epoxy resin having an epoxy equivalent of 2000 to 3500 g / eq. And a polyhydric alcohol-based glycidyl-type epoxy resin having an epoxy equivalent of 1000 g / eq or less and a viscosity of 10 to 100 mPa · s, and a curing agent, wherein the polyhydric alcohol-based glycidyl-type epoxy resin comprises: An alkyldiol system having the structural formula of Chemical Formula 1 or a polyethylene glycol system having the structural formula of Chemical Formula 2 below, wherein n in the structural formula of Chemical Formula 1 and the structural formula of Chemical Formula 2 is 3 to 9, and the bisphenol A type epoxy The weight mixing ratio of the resin to the polyhydric alcohol glycidyl type epoxy resin is 1: 1 to 1: 3. Conductive paste composition and. "Is described.

一方、特許文献3および4には、液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイパネル(PDP)のような平板ディスプレイの導電線パターン形成、タッチスクリーンの電極部、面発光バックライト(FFL)のPAD部電極、フレキシブルPCBとRFIDのアンテナ等に用いられる導電膜を形成する銀ペーストが記載されており、特許文献3には、「炭素数0〜12の脂肪酸銀0.1〜60重量%;銀粉末1〜80重量%;バインダー0.1〜15重量%;及び有機溶媒残量で構成される導電膜形成用銀ペースト。」が記載され([請求項1])、また、脂肪酸銀としてクエン酸、銀粉末として板型銀粉末、バインダーとしてエポキシ樹脂バインダーが記載されている([0027][0035])。   On the other hand, Patent Documents 3 and 4 include conductive line pattern formation for flat panel displays such as liquid crystal displays (LCDs) and plasma display panels (PDPs), electrode parts for touch screens, and PAD part electrodes for surface-emitting backlights (FFLs). In addition, a silver paste for forming a conductive film used for flexible PCBs and RFID antennas is described, and Patent Document 3 describes “0.1 to 60 wt% of fatty acid silver having 0 to 12 carbon atoms; silver powder 1 -80% by weight; 0.1-15% by weight of binder; and a silver paste for forming a conductive film composed of the remaining amount of organic solvent ”([Claim 1]), and citric acid as fatty acid silver, A plate-type silver powder is described as the silver powder, and an epoxy resin binder is described as the binder ([0027] [0035]).

特開2006−40708号公報JP 2006-40708 A 特開2009−146584号公報JP 2009-146588 A 特表2010−504612号公報Special table 2010-504612 gazette 特表2010−505230号公報Special table 2010-505230 gazette

しかしながら、特許文献1および2に記載された導電性ペースト組成物は、銀粉末の連結が進行せず、電極や配線の体積抵抗率(比抵抗)が高くなる場合があり、また、シリコン基板との密着性が劣ることが明らかとなった。
また、特許文献3および4に記載されたペースト材料は、使用するエポキシ樹脂バインダーの種類や焼成温度によっては、導電線パターンや電極の形成に用いられる導電膜の体積抵抗率(比抵抗)が高くなる場合があり、また、シリコン基板との密着性が劣ることが明らかとなった。
However, in the conductive paste compositions described in Patent Documents 1 and 2, the connection of silver powder does not proceed, and the volume resistivity (specific resistance) of electrodes and wirings may increase. It became clear that the adhesiveness of was inferior.
Further, the paste materials described in Patent Documents 3 and 4 have high volume resistivity (specific resistance) of the conductive film used for forming the conductive line pattern and the electrode depending on the type of epoxy resin binder used and the firing temperature. In addition, it became clear that the adhesion to the silicon substrate was inferior.

そこで、本発明は、体積抵抗率を低く、また、シリコン基板との密着性にも優れる電極・配線や導電膜(以下、「電極等」という。)を形成することができる導電性組成物およびそれを用いて電極を形成した太陽電池セルを提供することを課題とする。   Therefore, the present invention provides a conductive composition capable of forming an electrode / wiring or conductive film (hereinafter referred to as “electrode or the like”) having a low volume resistivity and excellent adhesion to a silicon substrate, and It is an object to provide a solar battery cell in which an electrode is formed using the same.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、銀粉および脂肪酸銀塩に対して、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂を含有する導電性組成物が、体積抵抗率を低く、また、シリコン基板との密着性にも優れる電極等を形成することができることを見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は、下記(1)〜(13)を提供する。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that a conductive composition containing an epoxy resin in which ethylene oxide and / or propylene oxide is added to silver powder and a fatty acid silver salt has a volume resistivity. The inventors have found that an electrode and the like that are low and have excellent adhesion to a silicon substrate can be formed, and the present invention has been completed. That is, the present invention provides the following (1) to (13).

(1)銀粉(A)と、脂肪酸銀塩(B)と、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂(C)とを含有する導電性組成物。   (1) A conductive composition containing silver powder (A), a fatty acid silver salt (B), and an epoxy resin (C) to which ethylene oxide and / or propylene oxide is added.

(2)上記脂肪酸銀塩(B)が、カルボキシ銀塩基(−COOAg)と水酸基(−OH)とをそれぞれ1個以上有する脂肪酸銀塩(B1)、および/または、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を2個以上有するポリカルボン酸銀塩(B2)である上記(1)に記載の導電性組成物。   (2) The fatty acid silver salt (B1) in which the fatty acid silver salt (B) has at least one carboxy silver base (—COOAg) and one hydroxyl group (—OH), and / or carboxy silver base (—COOAg) The conductive composition according to (1) above, which is a polycarboxylic acid silver salt (B2) having two or more.

(3)上記脂肪酸銀塩(B1)が、下記式(I)〜(III)のいずれかで表される化合物である上記(2)に記載の導電性組成物。

(式(I)中、nは0〜2の整数を表し、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。nが0または1である場合、複数のR2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。nが2である場合、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(II)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(III)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R3は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。)
(3) The conductive composition according to (2), wherein the fatty acid silver salt (B1) is a compound represented by any one of the following formulas (I) to (III).

(In formula (I), n represents an integer of 0 to 2, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. When it is 0 or 1, the plurality of R 2 may be the same or different, and when n is 2, the plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (II), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (III), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. The plurality of R 1 may be the same or different. )

(4)上記脂肪酸銀塩(B1)が、上記カルボキシ銀塩基に対するα位および/またはβ位の炭素原子に上記水酸基を有している上記(2)または(3)に記載の導電性組成物。   (4) The conductive composition according to (2) or (3), wherein the fatty acid silver salt (B1) has the hydroxyl group at a carbon atom at the α-position and / or β-position with respect to the carboxy silver base. .

(5)上記脂肪酸銀塩(B1)が、上記カルボキシ銀塩基を1個有し、上記水酸基を1個または2個有する上記(2)〜(4)のいずれかに記載の導電性組成物。   (5) The conductive composition according to any one of (2) to (4), wherein the fatty acid silver salt (B1) has one carboxy silver base and one or two hydroxyl groups.

(6)上記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、水酸基を有しない上記(2)に記載の導電性組成物。   (6) The conductive composition according to (2), wherein the polycarboxylic acid silver salt (B2) does not have a hydroxyl group.

(7)上記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、下記式(IV)で表される化合物である上記(2)または(6)に記載の導電性組成物。

(式(IV)中、mは、2〜6の整数を表し、R4は、炭素数1〜24のm価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数2〜12のm価の不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数3〜12のm価の脂環式炭化水素基、または、炭素数6〜12のm価の芳香族炭化水素基を表す。R4の炭素数をpとすると、m≦2p+2である。)
(7) The conductive composition according to (2) or (6), wherein the polycarboxylic acid silver salt (B2) is a compound represented by the following formula (IV).

(In Formula (IV), m represents an integer of 2 to 6, R 4 represents an m-valent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and an m-valent unsaturated fat having 2 to 12 carbon atoms. family hydrocarbon group, m-valent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or, when the carbon number of the .R 4 representing the m-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms and p, m ≦ 2p + 2.)

(8)上記脂肪酸銀塩(B1)が、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩、2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩およびグリコール酸銀塩からなる群から選択される少なくとも一種である上記(2)〜(5)のいずれかに記載の導電性組成物。   (8) The fatty acid silver salt (B1) is at least one selected from the group consisting of 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt, 2-hydroxyisobutyric acid silver salt and glycolic acid silver salt. The electroconductive composition in any one of said (2)-(5).

(9)上記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、グルタル酸銀塩および/または1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩である上記(2)、(6)および(7)のいずれかに記載の導電性組成物。   (9) In the above (2), (6) and (7), the polycarboxylic acid silver salt (B2) is a glutaric acid silver salt and / or a 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt. The electroconductive composition in any one.

(10)上記脂肪酸銀塩(B)の含有量が、上記銀粉(A)100質量部に対して、1〜100質量部である上記(1)〜(9)のいずれかに記載の導電性組成物。   (10) The conductivity according to any one of (1) to (9), wherein the content of the fatty acid silver salt (B) is 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silver powder (A). Composition.

(11)上記エポキシ樹脂(C)の含有量が、上記銀粉(A)100質量部に対して、1〜50質量部である上記(1)〜(10)のいずれかに記載の導電性組成物。   (11) The conductive composition according to any one of (1) to (10), wherein the content of the epoxy resin (C) is 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silver powder (A). object.

(12)太陽電池電極用ペーストに用いる上記(1)〜(11)のいずれかに記載の導電性組成物。   (12) The conductive composition according to any one of (1) to (11), which is used for a solar cell electrode paste.

(13)受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、
上記表面電極および/または上記裏面電極が、上記(12)に記載の導電性組成物を用いて形成される太陽電池セル。
(13) A surface electrode on the light-receiving surface side, a semiconductor substrate, and a back electrode are provided,
The photovoltaic cell in which the said surface electrode and / or the said back surface electrode are formed using the electrically conductive composition as described in said (12).

以下に示すように、本発明によれば、体積抵抗率を低く、また、シリコン基板との密着性にも優れる電極等を形成することができる導電性組成物およびそれを用いて電極を形成した太陽電池セルを提供することができる。   As shown below, according to the present invention, a conductive composition capable of forming an electrode or the like having a low volume resistivity and excellent adhesion to a silicon substrate, and an electrode formed using the same A solar battery cell can be provided.

図1は太陽電池セルの好適な実施態様の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a preferred embodiment of a solar battery cell. 図2は実施例で使用する銀粉(AgC−103、福田金属箔社製)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影した写真である。FIG. 2 is a photograph of the silver powder (AgC-103, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.) used in the examples taken with a scanning electron microscope (SEM). 図3は実施例で使用する銀粉(AgC−2011、福田金属箔社製)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影した写真である。FIG. 3 is a photograph of silver powder (AgC-2011, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.) used in the examples taken with a scanning electron microscope (SEM).

本発明の導電性組成物は、銀粉(A)と、脂肪酸銀塩(B)と、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂(C)とを含有する導電性組成物である。
また、本発明の導電性組成物は、後述するように印刷性等の観点から、必要に応じて溶媒(D)を含有していてもよい。
以下に、銀粉(A)、脂肪酸銀塩(B)および樹脂(C)ならびに所望により含有してもよい溶媒(D)について詳述する。
The conductive composition of the present invention is a conductive composition containing silver powder (A), a fatty acid silver salt (B), and an epoxy resin (C) to which ethylene oxide and / or propylene oxide is added.
Moreover, the electrically conductive composition of this invention may contain the solvent (D) as needed from viewpoints of printability etc. so that it may mention later.
Below, the silver powder (A), the fatty acid silver salt (B), the resin (C), and the solvent (D) that may be optionally contained are described in detail.

<銀粉(A)>
本発明の導電性組成物で用いる銀粉(A)は特に限定されず、従来公知の導電性ペーストで配合されているものを使用することができる。
<Silver powder (A)>
The silver powder (A) used by the electrically conductive composition of this invention is not specifically limited, What is mix | blended with the conventionally well-known electrically conductive paste can be used.

上記銀粉(A)は、印刷性が良好となり、体積抵抗率のより小さい電極等を形成することができる理由から、平均粒子径が0.5〜10μmの球状の銀粉末であるのが好ましい。
ここで、球状とは、長径/短径の比率が2以下の粒子の形状をいう。
また、平均粒子径とは、球状の銀粉末の粒子径の平均値をいい、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定された50%体積累積径(D50)をいう。なお、平均値を算出する基になる粒子径は、球状の銀粉末の断面が楕円形である場合はその長径と短径の合計値を2で割った平均値をいい、正円形である場合はその直径をいう。
例えば、後述する実施例で使用する銀粉(AgC−103、福田金属箔社製)の写真(図2)で示されるものは球状の銀粉末に該当するが、銀粉(AgC−2011、福田金属箔社製)の写真(図3)で示されるものは球状の銀粉末には該当せず、フレーク(鱗片)状の銀粉末に該当するものである。
The silver powder (A) is preferably a spherical silver powder having an average particle diameter of 0.5 to 10 μm because the printability is good and an electrode having a smaller volume resistivity can be formed.
Here, the term “spherical” refers to the shape of particles having a major axis / minor axis ratio of 2 or less.
Moreover, an average particle diameter means the average value of the particle diameter of spherical silver powder, and means the 50% volume cumulative diameter (D50) measured using the laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus. In addition, when the cross section of the spherical silver powder is elliptical, the particle diameter that is the basis for calculating the average value is the average value obtained by dividing the total value of the major axis and the minor axis by 2, and is a regular circle Refers to its diameter.
For example, what is shown in the photograph (FIG. 2) of silver powder (AgC-103, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.) used in Examples described later corresponds to spherical silver powder, but silver powder (AgC-2011, Fukuda Metal Foil). The photo shown in FIG. 3 (manufactured by Kogyo Co., Ltd.) does not correspond to the spherical silver powder, but corresponds to the flake (scale) -like silver powder.

また、上記銀粉(A)の平均粒子径は、印刷性がより良好となる理由から、0.7〜5μmであるのが好ましく、焼結速度が適当となり作業性に優れる理由から、1〜3μmであるのがより好ましい。   Further, the average particle diameter of the silver powder (A) is preferably 0.7 to 5 μm because the printability is better, and 1 to 3 μm because the sintering speed is appropriate and the workability is excellent. It is more preferable that

本発明においては、このような銀粉(A)として市販品を用いることができ、その具体例としては、AgC−103(形状:球状、平均粒子径:1.5μm、福田金属箔社製)、AG4−8F(形状:球状、平均粒子径:2.2μm、DOWAエレクトロニクス社製)、AG2−1C(形状:球状、平均粒子径:1.0μm、DOWAエレクトロニクス社製)、AG3−11F(形状:球状、平均粒子径:1.4μm、DOWAエレクトロニクス社製)、EHD(形状:球状、平均粒子径:0.5μm、三井金属社製)、AgC−2011(形状:フレーク状、平均粒子径:2〜10μm、福田金属箔社製)等が挙げられる。   In the present invention, commercially available products can be used as such silver powder (A), and specific examples thereof include AgC-103 (shape: spherical, average particle size: 1.5 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.), AG4-8F (shape: spherical, average particle size: 2.2 μm, manufactured by DOWA Electronics), AG2-1C (shape: spherical, average particle size: 1.0 μm, manufactured by DOWA Electronics), AG3-11F (shape: Spherical, average particle size: 1.4 μm, DOWA Electronics Co., Ltd.), EHD (shape: spherical, average particle size: 0.5 μm, Mitsui Kinzoku Co., Ltd.), AgC-2011 (shape: flake shape, average particle size: 2) 10 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.).

また、本発明においては、上記銀粉(A)の含有量は、印刷性が良好となり、体積抵抗率のより小さい電極等を形成することができる理由から、後述する溶媒(D)100質量部に対して300〜700質量部であるのが好ましく、400〜600質量部であるのがより好ましい。   Moreover, in this invention, content of the said silver powder (A) becomes favorable to printability, and since it can form an electrode with a smaller volume resistivity, etc. to 100 mass parts of solvent (D) mentioned later. It is preferable that it is 300-700 mass parts with respect to it, and it is more preferable that it is 400-600 mass parts.

更に、本発明においては、後述する実施例4にも示すように、上記銀粉(A)として、球状の銀粉末とフレーク状の銀粉末とを併用することができる。
ここで、フレーク状の銀粉末を併用する場合の含有量は、上記銀粉(A)の総質量のうち50質量%以下であるのが好ましい。
Furthermore, in this invention, as shown also in Example 4 mentioned later, spherical silver powder and flaky silver powder can be used together as said silver powder (A).
Here, the content when the flaky silver powder is used in combination is preferably 50% by mass or less of the total mass of the silver powder (A).

<脂肪酸銀塩(B)>
本発明の導電性組成物で用いる脂肪酸銀塩(B)は、有機カルボン酸の銀塩であれば特に限定されないが、低温(150〜350℃程度)焼成であっても、断線の発生を抑制して配線(電極)を形成することができ、シリコン基板への熱によるダメージを軽減できる理由から、カルボキシ銀塩基(−COOAg)と水酸基(−OH)とをそれぞれ1個以上有する脂肪酸銀塩(B1)、および/または、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を2個以上有するポリカルボン酸銀塩(B2)であるのが好ましい。
このような脂肪酸銀塩(B1)またはポリカルボン酸銀塩(B2)を用いることにより、シリコン基板のみならず、耐熱性の低い基材上にも電子回路、アンテナ等の回路を容易かつ短時間で作製することができるため非常に有用である。
以下に、脂肪酸銀塩(B1)およびポリカルボン酸銀塩(B2)について詳述する。
<Fatty acid silver salt (B)>
The fatty acid silver salt (B) used in the conductive composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a silver salt of an organic carboxylic acid, but even when firing at a low temperature (about 150 to 350 ° C.), the occurrence of disconnection is suppressed. In order to form a wiring (electrode) and reduce damage to the silicon substrate due to heat, a fatty acid silver salt having at least one carboxy silver base (—COOAg) and one hydroxyl group (—OH) each ( B1) and / or a polycarboxylic acid silver salt (B2) having two or more carboxy silver bases (—COOAg) is preferred.
By using such a fatty acid silver salt (B1) or polycarboxylic acid silver salt (B2), not only a silicon substrate but also a circuit such as an electronic circuit and an antenna can be easily and quickly formed on a substrate having low heat resistance. It is very useful because it can be made with.
Below, fatty acid silver salt (B1) and polycarboxylic acid silver salt (B2) are explained in full detail.

(脂肪酸銀塩(B1))
上記脂肪酸銀塩(B1)は、カルボキシ銀塩基(−COOAg)と水酸基(−OH)とをそれぞれ1個以上有する脂肪酸銀塩であり、具体的には、以下に示す水酸基を1個以上有する脂肪酸と酸化銀とを反応させて得られるものである。
(Fatty acid silver salt (B1))
The fatty acid silver salt (B1) is a fatty acid silver salt having at least one carboxy silver base (—COOAg) and one hydroxyl group (—OH), and specifically, a fatty acid having at least one hydroxyl group shown below. And silver oxide.

上記反応に用いられる脂肪酸は、水酸基を1個以上有する脂肪酸であれば特に限定されず、例えば、下記式(1)〜(3)で表される化合物が挙げられる。   The fatty acid used for the said reaction will not be specifically limited if it is a fatty acid which has 1 or more of hydroxyl groups, For example, the compound represented by following formula (1)-(3) is mentioned.

式(1)中、nは0〜2の整数を表し、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。nが0または1である場合、複数のR2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。nが2である場合、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(2)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(3)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R3は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
In formula (1), n represents an integer of 0 to 2, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. When n is 0 or 1, the plurality of R 2 may be the same or different from each other. When n is 2, the plurality of R 1 may be the same or different.
In Formula (2), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (3), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. The plurality of R 1 may be the same or different.

上記式(1)〜(3)中、R1の炭素数1〜10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基が挙げられる。R1としては、水素原子、メチル基、エチル基であるのが好ましい。
また、上記式(1)中、R2の炭素数1〜6のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ヘプタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基が挙げられる。R2としては、メチレン基、エチレン基であるのが好ましい。上記式(1)中、nの0〜2の整数としては、1または2であるのが好ましい。
また、上記式(3)中、R3の炭素数1〜6のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ヘプタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基が挙げられる。R2としては、メチレン基、エチレン基であるのが好ましい。
In the above formula (1) to (3), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms of R 1, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, n- butyl group, n- pentyl group, n- hexyl group , N-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group. R 1 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.
Moreover, in said formula (1), as a C1-C6 alkylene group of R < 2 >, a methylene group, ethylene group, propane- 1, 3- diyl group, butane- 1, 4- diyl group, heptane-1 , 5-diyl group and hexane-1,6-diyl group. R 2 is preferably a methylene group or an ethylene group. In said formula (1), it is preferable that it is 1 or 2 as an integer of 0-2 of n.
Moreover, in said formula (3), as a C1-C6 alkylene group of R <3>, a methylene group, ethylene group, a propane- 1, 3- diyl group, butane- 1, 4- diyl group, heptane-1 , 5-diyl group and hexane-1,6-diyl group. R 2 is preferably a methylene group or an ethylene group.

上記式(1)で表される化合物としては、具体的には、例えば、下記式(1a)で表される2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸、下記式(1b)で表される2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、下記式(1c)で表されるヒドロキシピバリン酸、下記式(1d)で表されるβ−ヒドロキシイソ酪酸等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the compound represented by the above formula (1) include 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid represented by the following formula (1a) and the following formula (1b). 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, hydroxypivalic acid represented by the following formula (1c), β-hydroxyisobutyric acid represented by the following formula (1d), and the like. You may use independently and may use 2 or more types together.

上記式(2)で表される化合物としては、具体的には、例えば、下記式(2a)で表される2−ヒドロキシ−2−メチル−n−酪酸、下記式(2b)で表される2−ヒドロキシイソ酪酸、下記式(2c)で表されるグリコール酸、下記式(2d)で表されるDL−2−ヒドロキシ酪酸等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the compound represented by the formula (2) include 2-hydroxy-2-methyl-n-butyric acid represented by the following formula (2a) and the following formula (2b). Examples include 2-hydroxyisobutyric acid, glycolic acid represented by the following formula (2c), DL-2-hydroxybutyric acid represented by the following formula (2d), etc., and these may be used alone. More than one species may be used in combination.

上記式(3)で表される化合物としては、具体的には、例えば、下記式(3a)で表されるDL−3−ヒドロキシ酪酸、下記式(3b)で表されるβ−ヒドロキシ吉草酸等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種を併用してもよい。   Specific examples of the compound represented by the above formula (3) include, for example, DL-3-hydroxybutyric acid represented by the following formula (3a) and β-hydroxyvaleric acid represented by the following formula (3b). These may be used, and these may be used alone or in combination of two.

これらのうち、得られる脂肪酸銀塩(B1)の還元が速やかに行われ、銀粒子が生成しやすくなる結果、本発明の導電性組成物を用いた電極等の形成がより低温かつ短時間で可能となる理由から、上記カルボキシ銀塩基に対するα位および/またはβ位の炭素原子に上記水酸基を有しているものが好ましく、上記カルボキシ銀塩基を1個有し、上記水酸基を1個または2個有するものがより好ましい。
特に、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸、2−ヒドロキシイソ酪酸およびグリコール酸からなる群から選択される少なくとも一種であるのが、得られる脂肪酸銀塩(B2)である2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩、2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩およびグリコール酸銀塩からなる群から選択される少なくとも一種を含有する本発明の導電性組成物を用いた電極等の形成が更に低温かつ短時間で可能となる理由から好ましい。
Among these, the resulting fatty acid silver salt (B1) is rapidly reduced, and silver particles are easily generated. As a result, formation of an electrode or the like using the conductive composition of the present invention is performed at a lower temperature and in a shorter time. For the reason that it is possible, those having the hydroxyl group at the carbon atom at the α-position and / or β-position with respect to the carboxy silver base are preferred, having one carboxy silver base and one or two hydroxyl groups. Those having the number are more preferable.
In particular, the fatty acid silver salt (B2) obtained is at least one selected from the group consisting of 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid, 2-hydroxyisobutyric acid and glycolic acid. Electrode using the conductive composition of the present invention containing at least one selected from the group consisting of 2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt, 2-hydroxyisobutyric acid silver salt and silver glycolate Is preferable because it can be formed at a lower temperature and in a shorter time.

一方、上記反応に用いられる酸化銀は、酸化銀(I)、即ち、Ag2Oである。 On the other hand, the silver oxide used in the above reaction is silver oxide (I), that is, Ag 2 O.

上記脂肪酸銀塩(B1)は、上述した水酸基を1個以上有する脂肪酸と酸化銀とを反応させて得られ、以下に示す反応式中の下記式(I)〜(III)で表される化合物であるのが好ましい。
この反応は、例えば、上記式(1)〜(3)で表される化合物を用いた場合は以下に示す反応式で表される反応が進行するものであれば特に限定されないが、上記酸化銀を粉砕しつつ進行させる方法や、上記酸化銀を粉砕した後に上記脂肪酸を反応させる方法が好ましい。前者の方法としては、具体的には、上記酸化銀と、溶剤により上記脂肪酸を溶液化したものとを、ボールミル等により混練し、固体である上記酸化銀を粉砕させながら、室温で、1〜24時間程度、好ましくは2〜8時間反応させるのが好ましい。
The fatty acid silver salt (B1) is obtained by reacting a fatty acid having one or more hydroxyl groups described above with silver oxide, and is represented by the following formulas (I) to (III) in the reaction formulas shown below. Is preferred.
For example, when the compounds represented by the above formulas (1) to (3) are used, this reaction is not particularly limited as long as the reaction represented by the following reaction formula proceeds. A method of proceeding while pulverizing and a method of reacting the fatty acid after pulverizing the silver oxide are preferred. Specifically, as the former method, the above silver oxide and a solution obtained by dissolving the above fatty acid with a solvent are kneaded with a ball mill or the like, and the above solid silver oxide is pulverized at room temperature, The reaction is preferably performed for about 24 hours, preferably 2 to 8 hours.

式(I)中、nは0〜2の整数を表し、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。nが0または1である場合、複数のR2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。nが2である場合、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(II)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(III)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R3は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
In formula (I), n represents an integer of 0 to 2, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. When n is 0 or 1, the plurality of R 2 may be the same or different from each other. When n is 2, the plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (II), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (III), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. The plurality of R 1 may be the same or different.

上記脂肪酸を溶液化する溶媒としては、具体的には、例えば、ブチルカルビトール、メチルエチルケトン、イソホロン、α−テルピネオール等が挙げられ、これらを1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
中でも、イソホロンおよび/またはα−テルピネオールを溶媒として用いるのが、上記反応により得られる脂肪酸銀塩(B1)を含有する本発明の導電性組成物のチクソ性が良好となる。
Specific examples of the solvent for dissolving the fatty acid include butyl carbitol, methyl ethyl ketone, isophorone, α-terpineol, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Good.
Of these, the use of isophorone and / or α-terpineol as a solvent improves the thixotropy of the conductive composition of the present invention containing the fatty acid silver salt (B1) obtained by the above reaction.

(ポリカルボン酸銀塩(B2))
上記ポリカルボン酸銀塩(B2)は、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を2個以上有するポリカルボン酸銀塩であり、具体的には、以下に示すカルボキシ基を2個以上有する脂肪酸と酸化銀とを反応させて得られるものである。
(Polycarboxylic acid silver salt (B2))
The polycarboxylic acid silver salt (B2) is a polycarboxylic acid silver salt having two or more carboxy silver bases (—COOAg), specifically, a fatty acid and silver oxide having two or more carboxy groups shown below. It is obtained by reacting.

上記反応に用いられる脂肪酸は、カルボキシ基を2個以上有する脂肪酸であれば特に限定されないが、水酸基を有していない脂肪酸であるのが好ましく、例えば、下記式(4)で表される化合物等が挙げられる。   Although the fatty acid used for the said reaction will not be specifically limited if it is a fatty acid which has 2 or more of carboxy groups, It is preferable that it is a fatty acid which does not have a hydroxyl group, for example, the compound etc. which are represented by following formula (4) Is mentioned.

式(4)中、mは、2〜6の整数を表し、R4は、炭素数1〜24のm価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数2〜12のm価の不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数3〜12のm価の脂環式炭化水素基、または、炭素数6〜12のm価の芳香族炭化水素基を表す。R4の炭素数をpとすると、m≦2p+2である。
なお、式(4)中、mが2以上の場合、カルボキシ基の炭素が結合するR4の炭素は、同一であっても異なっていてもよい。
In formula (4), m represents an integer of 2 to 6, R 4 represents an m-valent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and an m-valent unsaturated aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms. It represents a hydrocarbon group, an m-valent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an m-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms. When the carbon number of R 4 is p, m ≦ 2p + 2.
In the formula (4), when m is 2 or more, the carbons of R 4 to which the carbon of the carboxy group is bonded may be the same or different.

上記式(4)中、mの2〜6の整数としては、2〜5であるのが好ましく、2〜4であるのがより好ましい。   In said formula (4), as an integer of 2-6 of m, it is preferable that it is 2-5, and it is more preferable that it is 2-4.

上記式(4)中、R4が示す飽和脂肪族炭化水素基の1〜24の炭素数としては、1〜12であるのが好ましく、1〜6であるのがより好ましい。
mが2の場合におけるR4が示す飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エタン−1,1−ジイル基、エタン−1,2−ジイル基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基等が挙げられる。
mが3の場合におけるR4が示す飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、メタン−トリイル基、エタン−1,1,2−トリイル基、プロパン−1,1,3−トリイル基、プロパン−1,2,3−トリイル基、ブタン−1,1,3−トリイル基、ブタン−1,1,4−トリイル基、ブタン−1,2,4−トリイル基等が挙げられる。
mが4の場合におけるR4が示す飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、エタン−1,2,2,2−テトライル基、プロパン−1,2,2,3−テトライル基、ブタン−1,2,3,4−テトライル基等が挙げられる。
In the formula (4), as a 1 to 24 carbon atoms, saturated aliphatic hydrocarbon radical R 4 represents, is preferably from 1 to 12, and more preferably 1-6.
Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 2 include a methylene group, an ethane-1,1-diyl group, an ethane-1,2-diyl group, and a propane-1,3-diyl group. , Butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group and the like.
Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 3 include methane-triyl group, ethane-1,1,2-triyl group, propane-1,1,3-triyl group, propane- Examples include 1,2,3-triyl group, butane-1,1,3-triyl group, butane-1,1,4-triyl group, butane-1,2,4-triyl group.
Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 4 include ethane-1,2,2,2-tetrayl group, propane-1,2,2,3-tetrayl group, butane-1 2,3,4-tetrayl group and the like.

上記式(4)中、R4が示す不飽和脂肪族炭化水素基の2〜12の炭素数としては、2〜10であるのが好ましく、2〜6であるのがより好ましい。
mが2の場合におけるR4が示す不飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、エチレン−1,2−ジイル基、プロペン−1,3−ジイル基等が挙げられる。
mが3の場合におけるR4が示す不飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、プロペン−1,2,3−トリイル基、プロペン−1,3,3−トリイル基等が挙げられる。
mが4の場合におけるR4が示す不飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、プロペン−1,1,2,3−テトライル基等が挙げられる。
In the above formula (4), 2 to 12 carbon atoms of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 are preferably 2 to 10, and more preferably 2 to 6.
Examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 2 include an ethylene-1,2-diyl group and a propene-1,3-diyl group.
Examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 3 include a propene-1,2,3-triyl group and a propene-1,3,3-triyl group.
Examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 4 include a propene-1,1,2,3-tetrayl group.

上記式(4)中、R4が示す脂環式炭化水素基の3〜12の炭素数としては、3〜10であるのが好ましく、3〜6であるのがより好ましい。
mが2の場合におけるR4が示す脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロヘキサン−1,2−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロヘキセン−1,2−ジイル基、シクロヘキセン−4,5−ジイル基、1−メチルシクロヘキセン−4,5−ジイル基等が挙げられる。
mが3の場合におけるR4が示す脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロパン−1,2,3−トリイル基、シクロペンタン−1,1,2−トリイル基、シクロヘキサン−1,2,4−トリイル基等が挙げられる。
mが4の場合におけるR4が示す脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブタン−1,2,3,4−テトライル基、シクロペンタン−1,2,3,4−テトライル基、シクロペンタン−1,2,4,5−テトライル基、シクロヘキサン−1,2,4,5−テトライル基、3,6−ジメチルシクロヘキサン−1,2,4,5−テトライル基等が挙げられる。
In the formula (4), the 3 to 12 carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group R 4 represents, is preferably from 3-10, more preferably 3-6.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 2 include a cyclohexane-1,2-diyl group, a cyclohexane-1,4-diyl group, a cyclohexene-1,2-diyl group, and a cyclohexene- 4,5-diyl group, 1-methylcyclohexene-4,5-diyl group and the like can be mentioned.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 3 include cyclopropane-1,2,3-triyl group, cyclopentane-1,1,2-triyl group, and cyclohexane-1,2. , 4-triyl group and the like.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 4 include cyclobutane-1,2,3,4-tetrayl group, cyclopentane-1,2,3,4-tetrayl group, and cyclopentane. Examples include -1,2,4,5-tetrayl group, cyclohexane-1,2,4,5-tetrayl group, 3,6-dimethylcyclohexane-1,2,4,5-tetrayl group.

上記式(4)中、R4が示す芳香族炭化水素基の6〜12の炭素数としては、6〜10であるのが好ましく、6〜8であるのがより好ましい。
mが2の場合におけるR4が示す芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン−1,2−ジイル基、ベンゼン−1,3−ジイル基、ベンゼン−1,4−ジイル基、ナフタレン−1,4−ジイル基、ナフタレン−2,3−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基等が挙げられる。
mが3の場合におけるR4が示す芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン−1,2,4−トリイル基、ベンゼン−1,3,5−トリイル基等が挙げられる。
mが4の場合におけるR4が示す芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン−1,2,4,5−テトライル基、ビフェニル−3,3′,4,4′−テトライル基等が挙げられる。
In said formula (4), as 6-12 carbon number of the aromatic hydrocarbon group which R < 4 > shows, it is preferable that it is 6-10, and it is more preferable that it is 6-8.
As the aromatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 2, for example, benzene-1,2-diyl group, benzene-1,3-diyl group, benzene-1,4-diyl group, naphthalene-1 , 4-diyl group, naphthalene-2,3-diyl group, naphthalene-2,6-diyl group and the like.
Examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 3 include a benzene-1,2,4-triyl group and a benzene-1,3,5-triyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 4 include a benzene-1,2,4,5-tetrayl group, a biphenyl-3,3 ′, 4,4′-tetrayl group, and the like. It is done.

上記式(4)で表される化合物としては、例えば、脂肪族ポリカルボン酸、脂環式ポリカルボン酸、芳香族ポリカルボン酸が挙げられる。
脂肪族ポリカルボン酸としては、具体的には、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸などの飽和ジカルボン酸;フマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸;トリカルバリル酸などの飽和トリカルボン酸;アコニット酸などの不飽和トリカルボン酸;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸などの飽和テトラカルボン酸;等が挙げられる。
脂環式ポリカルボン酸としては、具体的には、例えば、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、4−メチル−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸などの不飽和脂環式ジカルボン酸;1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸などの飽和脂環式テトラカルボン酸;等が挙げられる。
芳香族ポリカルボン酸としては、具体的には、例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などのベンゼンジカルボン酸;トリメリット酸、トリメシン酸などのトリカルボン酸;ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸などのテトラカルボン酸;1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸;等が挙げられる。
これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the compound represented by the formula (4) include aliphatic polycarboxylic acids, alicyclic polycarboxylic acids, and aromatic polycarboxylic acids.
Specific examples of the aliphatic polycarboxylic acid include saturated dicarboxylic acids such as malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, and sebacic acid; unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, maleic acid, and itaconic acid; And saturated tricarboxylic acids such as tricarballylic acid; unsaturated tricarboxylic acids such as aconitic acid; saturated tetracarboxylic acids such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid; and the like.
Specific examples of the alicyclic polycarboxylic acid include unsaturated alicyclic dicarboxylic acids such as 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid and 4-methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid. Saturated alicyclic tetracarboxylic acids such as 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid; and the like.
Specific examples of the aromatic polycarboxylic acid include benzenedicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid; tricarboxylic acids such as trimellitic acid and trimesic acid; pyromellitic acid, 3,3 ′, 4 , 4′-biphenyltetracarboxylic acid and the like; 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 2,3-naphthalenedicarboxylic acid and the like; and the like.
These may be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、印刷性が良好となり、本発明の導電性組成物を用いた電極等の形成がより低温かつ短時間で可能となる理由から、脂肪族ポリカルボン酸、脂環式ポリカルボン酸が好ましく、飽和ジカルボン酸、飽和テトラカルボン酸、不飽和脂環式ジカルボン酸であるのがより好ましい。
特に、グルタル酸および/または1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸であるのが、得られるポリカルボン酸銀塩(B2)であるグルタル酸銀塩および/または1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩を含有する本発明の導電性組成物を用いた電極等の形成が更に低温かつ短時間で可能となる理由から好ましい。
Of these, aliphatic polycarboxylic acids and alicyclic polycarboxylic acids are used because the printability is good and the formation of electrodes and the like using the conductive composition of the present invention is possible at a lower temperature and in a shorter time. Saturated dicarboxylic acid, saturated tetracarboxylic acid, and unsaturated alicyclic dicarboxylic acid are more preferable.
In particular, glutaric acid and / or 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is the resulting polycarboxylic acid silver salt (B2), glutaric acid silver salt and / or 1,2,3,4. -It is preferable from the reason that formation of an electrode or the like using the conductive composition of the present invention containing a silver salt of butanetetracarboxylic acid is possible at a lower temperature and in a shorter time.

一方、上記反応に用いられる酸化銀は、上述した脂肪酸銀塩(B1)の反応(合成)と同様、Ag2Oである。 On the other hand, silver oxide used in the above reaction is similar to the reaction (synthesis) of the fatty acid silver salt (B1) described above, and Ag 2 O.

上記ポリカルボン酸銀塩(B2)は、上述したカルボキシ基を2個以上有するポリカルボン酸と酸化銀とを反応させて得られ、以下に示す反応式中の下記式(IV)で表される化合物であるのが好ましい。
この反応は、例えば、上記式(4)で表される化合物を用いた場合は以下に示す反応式で表される反応が進行するものであれば特に限定されず、上述した式(1)〜(3)で表される化合物を用いた場合と同様の方法が挙げられる。
The polycarboxylic acid silver salt (B2) is obtained by reacting the above-described polycarboxylic acid having two or more carboxy groups with silver oxide, and is represented by the following formula (IV) in the reaction formula shown below. Preferably it is a compound.
For example, when the compound represented by the above formula (4) is used, this reaction is not particularly limited as long as the reaction represented by the following reaction formula proceeds. A method similar to that when the compound represented by (3) is used can be mentioned.

式(IV)中、mは、2〜6の整数を表し、R4は、炭素数1〜24のm価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数2〜12のm価の不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数3〜12のm価の脂環式炭化水素基、または、炭素数6〜12のm価の芳香族炭化水素基を表す。R4の炭素数をpとすると、m≦2p+2である。
なお、式(IV)中、mが2以上の場合、カルボキシ基の炭素が結合するR4の炭素は、同一であっても異なっていてもよい。
In the formula (IV), m represents an integer of 2 to 6, R 4 represents an m-valent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and an m-valent unsaturated aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms. It represents a hydrocarbon group, an m-valent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an m-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms. When the carbon number of R 4 is p, m ≦ 2p + 2.
In the formula (IV), when m is 2 or more, the carbons of R 4 to which the carbon of the carboxy group is bonded may be the same or different.

本発明においては、上記脂肪酸銀塩(B)の含有量は、印刷性が良好となり、体積抵抗率のより小さい電極等を形成することができる理由から、上記銀粉(A)100質量部に対して1〜100質量部であるのが好ましく、5〜80質量部であるのがより好ましい。   In the present invention, the content of the fatty acid silver salt (B) is good for printability, and can form an electrode having a smaller volume resistivity, and therefore, with respect to 100 parts by mass of the silver powder (A). The amount is preferably 1 to 100 parts by mass, and more preferably 5 to 80 parts by mass.

<エポキシ樹脂(C)>
本発明の導電性組成物で用いるエポキシ樹脂(C)は、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂であれば特に限定されない。
ここで、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドによる付加は、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF等をエピクロロヒドリンと反応させてエポキシ樹脂を調製する際に、エチレンおよび/またはプロピレンを添加することにより付加(変性)することができる。
<Epoxy resin (C)>
The epoxy resin (C) used in the conductive composition of the present invention is not particularly limited as long as it is an epoxy resin to which ethylene oxide and / or propylene oxide is added.
Here, the addition by ethylene oxide and / or propylene oxide is performed by adding ethylene and / or propylene when preparing an epoxy resin by reacting bisphenol A, bisphenol F or the like with epichlorohydrin ( Denatured).

このようなエポキシ樹脂(C)として市販品を用いることができ、その具体例としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(BEO−60E、新日本理化社製)、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(BPO−20E、新日本理化社製)、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4010S、ADEKA社製)、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4000S、ADEKA社製)等が挙げられる。   Commercially available products can be used as such epoxy resin (C). Specific examples thereof include ethylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin (BEO-60E, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), propylene oxide added bisphenol A type epoxy resin. (BPO-20E, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), propylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin (EP-4010S, manufactured by ADEKA), propylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin (EP-4000S, manufactured by ADEKA) and the like. It is done.

本発明においては、上述した銀粉(A)および脂肪酸銀塩(B)とともに上記エポキシ樹脂(C)を配合した導電性組成物を用いることにより、体積抵抗率を低く、また、シリコン基板との密着性にも優れる電極等を形成することができる。
これは、エポキシ樹脂(C)が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂等の通常のエポキシ樹脂と比べて柔軟性が高いため、断線の発生を抑制して高い導電性を発現すると考えられる。また、エポキシ樹脂(C)が、熱処理により脂肪酸銀塩(B)から分解される銀とともにシリコン基板に適度に濡れ広がるため、シリコン基板との密着性が向上すると考えられる。
In the present invention, by using a conductive composition in which the epoxy resin (C) is blended together with the silver powder (A) and the fatty acid silver salt (B) described above, the volume resistivity is lowered and the adhesion to the silicon substrate is reduced. It is possible to form an electrode having excellent properties.
This is presumably because the epoxy resin (C) has higher flexibility than a normal epoxy resin such as a bisphenol A type epoxy resin, and therefore exhibits high conductivity by suppressing the occurrence of disconnection. In addition, since the epoxy resin (C) spreads moderately on the silicon substrate together with the silver decomposed from the fatty acid silver salt (B) by heat treatment, it is considered that the adhesion with the silicon substrate is improved.

また、本発明においては、上記エポキシ樹脂(C)の含有量は、体積抵抗率がより低く、シリコン基板との密着性がより良好となる電極等を形成することができる理由から、上記銀粉(A)100質量部に対して、1〜50質量部であるのが好ましく、1〜25質量部であるのがより好ましい。   Further, in the present invention, the content of the epoxy resin (C) is such that the volume resistivity is lower, and an electrode or the like having better adhesion to the silicon substrate can be formed. A) It is preferable that it is 1-50 mass parts with respect to 100 mass parts, and it is more preferable that it is 1-25 mass parts.

<溶媒(D)>
本発明の導電性組成物は、印刷性等の作業性の観点から、溶媒(D)を含有するのが好ましい。
上記溶媒(D)は、本発明の導電性組成物を基材上に塗布することができるものであれば特に限定されず、その具体例としては、ブチルカルビトール、メチルエチルケトン、イソホロン、α−テルピネオール等が挙げられ、これらを1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
<Solvent (D)>
The conductive composition of the present invention preferably contains a solvent (D) from the viewpoint of workability such as printability.
The solvent (D) is not particularly limited as long as the conductive composition of the present invention can be applied onto a substrate. Specific examples thereof include butyl carbitol, methyl ethyl ketone, isophorone, α-terpineol. These may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

<硬化剤>
本発明の導電性組成物は、上述したエポキシ樹脂(C)の硬化剤を含有するのが好ましい。
上記硬化剤は特に限定されず、従来公知の導電性ペーストにおいてエポキシ樹脂とともに配合されているものを使用することができる。
<Curing agent>
The conductive composition of the present invention preferably contains the epoxy resin (C) curing agent described above.
The said hardening | curing agent is not specifically limited, What is mix | blended with the epoxy resin in the conventionally well-known electrically conductive paste can be used.

<酸化銀>
本発明の導電性組成物は、上述したエポキシ樹脂(C)の分解を抑制し、シリコン基板との優れた密着性を保持できる理由から、酸化銀の含有量は上述した溶媒(D)100質量部に対して5質量部以下であるのが好ましく、1質量部以下であるのがより好ましく、実質的に酸化銀を含有していない態様が最も好ましい。
<Silver oxide>
The conductive composition of the present invention suppresses the above-described decomposition of the epoxy resin (C), and can maintain excellent adhesion to the silicon substrate. Therefore, the silver oxide content is 100 masses of the solvent (D) described above. The amount is preferably 5 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or less, and most preferably an embodiment containing substantially no silver oxide.

<ガラスフリット>
本発明の導電性組成物は、太陽電池電極用ペーストに用いる場合、形成される電極とシリコン基板との密着性がより良好となる理由から、所望によりガラスフリットを含有することができる。なお、低温(150〜350℃程度)、特に200℃以下の温度による焼成で電極等を形成する場合は、通常、ガラスフリットは含有しない。
<Glass frit>
When the conductive composition of the present invention is used in a solar cell electrode paste, it can contain a glass frit as desired because the adhesion between the formed electrode and the silicon substrate becomes better. In addition, when forming an electrode etc. by baking by low temperature (about 150-350 degreeC), especially the temperature of 200 degrees C or less, glass frit is not normally contained.

本発明の導電性組成物は、必要に応じて、上述した銀粉(A)以外の金属粉、還元剤等の添加剤を含有していてもよい。
上記金属粉としては、具体的には、例えば、銅、アルミニウム等が挙げられ、中でも、銅であるのが好ましい。また、0.01〜10μmの粒径の金属粉であるのが好ましい。
上記還元剤としては、具体的には、例えば、エチレングリコール類等が挙げられる。
The electrically conductive composition of this invention may contain additives, such as metal powder other than the silver powder (A) mentioned above, a reducing agent, as needed.
Specific examples of the metal powder include copper and aluminum. Among them, copper is preferable. Moreover, it is preferable that it is a metal powder with a particle size of 0.01-10 micrometers.
Specific examples of the reducing agent include ethylene glycols.

本発明の導電性組成物の製造方法は特に限定されず、上記銀粉(A)、上記脂肪酸銀塩(B)および上記エポキシ樹脂(C)ならびに所望により含有してもよい上記溶媒(D)硬化剤および添加剤等を、ロール、ニーダー、押出し機、万能かくはん機等により混合する方法が挙げられる。   The manufacturing method of the electroconductive composition of this invention is not specifically limited, The said silver powder (A), the said fatty acid silver salt (B), the said epoxy resin (C), and the said solvent (D) hardening which may be contained depending on necessity Examples thereof include a method of mixing agents, additives and the like with a roll, a kneader, an extruder, a universal agitator, and the like.

本発明の太陽電池セルは、受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、上記表面電極および/または上記裏面電極が、上述した本発明の導電性組成物を用いて形成される太陽電池セルである。
ここで、本発明の太陽電池セルは、上述した本発明の導電性組成物が全裏面電極型(いわゆるバックコンタクト型)太陽電池の裏面電極の形成にも適用することができるため、全裏面電極型の太陽電池にも適用することができる。
以下に、本発明の太陽電池セルの構成について図1を用いて説明する。
The solar cell of the present invention comprises a light-receiving surface-side surface electrode, a semiconductor substrate, and a back electrode, and the surface electrode and / or the back electrode is formed using the above-described conductive composition of the present invention. It is a solar battery cell.
Here, the solar battery cell of the present invention can be applied to the formation of the back electrode of the all back electrode type (so-called back contact type) solar battery because the above-described conductive composition of the present invention can be applied to the all back electrode. The present invention can also be applied to a type solar cell.
Below, the structure of the photovoltaic cell of this invention is demonstrated using FIG.

図1に示すように、本発明の太陽電池セル1は、受光面側の表面電極4と、p層5およびn層2が接合したpn接合シリコン基板7と、裏面電極6とを具備するものである。
また、図1に示すように、本発明の太陽電池セル1は、反射率低減のため、例えば、ウェハー表面にエッチングを施して、ピラミッド状のテクスチャを形成し、反射防止膜3を具備するのが好ましい。
As shown in FIG. 1, a solar cell 1 of the present invention includes a surface electrode 4 on the light-receiving surface side, a pn junction silicon substrate 7 in which a p layer 5 and an n layer 2 are joined, and a back electrode 6. It is.
Further, as shown in FIG. 1, the solar battery cell 1 of the present invention is provided with an antireflection film 3 by, for example, etching the wafer surface to form a pyramidal texture in order to reduce the reflectance. Is preferred.

<表面電極/裏面電極>
本発明の太陽電池セルが具備する表面電極および裏面電極は、いずれか一方または両方が本発明の導電性組成物を用いて形成されていれば、電極の配置(ピッチ)、形状、高さ、幅等は特に限定されない。なお、電極の高さは、通常、数〜数十μmに設計されるが、本発明の導電性組成物を用いて形成した電極の断面の高さと幅の比率(高さ/幅)(以下、「アスペクト比」という。)を大きく(例えば、0.4程度以上)調整することが可能となる。
ここで、表面電極および裏面電極は、図1に示すように、通常、複数個有するものであるが、本発明においては、例えば、複数の表面電極の一部のみが本発明の導電性組成物で形成されたものであってもよく、複数の表面電極の一部と複数の裏面電極の一部が本発明の導電性組成物で形成されたものであってもよい。
<Front electrode / Back electrode>
If either one or both of the front electrode and the back electrode included in the solar battery cell of the present invention are formed using the conductive composition of the present invention, the electrode arrangement (pitch), shape, height, The width and the like are not particularly limited. The height of the electrode is usually designed to be several to several tens of μm, but the ratio of the height and width of the cross section of the electrode formed using the conductive composition of the present invention (height / width) (hereinafter referred to as “height / width”) , “Aspect ratio”) can be adjusted to a large value (for example, about 0.4 or more).
Here, as shown in FIG. 1, the front surface electrode and the back surface electrode usually have a plurality, but in the present invention, for example, only a part of the plurality of front surface electrodes is the conductive composition of the present invention. Or a part of the plurality of front surface electrodes and a part of the plurality of back surface electrodes may be formed of the conductive composition of the present invention.

<反射防止膜>
本発明の太陽電池セルが具備していてもよい反射防止膜は、受光面の表面電極が形成されていない部分に形成される膜(膜厚:0.05〜0.1μm程度)であって、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、酸化チタン膜、これらの積層膜等から構成されるものである。
<Antireflection film>
The antireflection film that the solar battery cell of the present invention may have is a film (film thickness: about 0.05 to 0.1 μm) formed on a portion of the light receiving surface where the surface electrode is not formed. For example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a titanium oxide film, or a laminated film thereof.

<シリコン基板>
本発明の太陽電池セルが具備するシリコン基板は特に限定されず、太陽電池を形成するための公知のシリコン基板(板厚:100〜450μm程度)を用いることができ、また、単結晶または多結晶のいずれのシリコン基板であってもよい。
<Silicon substrate>
The silicon substrate included in the solar battery cell of the present invention is not particularly limited, and a known silicon substrate (plate thickness: about 100 to 450 μm) for forming a solar battery can be used, and a single crystal or polycrystal Any silicon substrate may be used.

また、上記シリコン基板はpn接合を有するが、これは、第1導電型の半導体基板の表面側に第2導電型の受光面不純物拡散領域が形成されていることを意味する。なお、第1導電型がn型の場合には、第2導電型はp型であり、第1導電型がp型の場合には、第2導電型はn型である。
ここで、p型を与える不純物としては、ホウ素、アルミニウム等が挙げられ、n型を与える不純物としては、リン、砒素などが挙げられる。
The silicon substrate has a pn junction, which means that a second conductivity type light-receiving surface impurity diffusion region is formed on the surface side of the first conductivity type semiconductor substrate. When the first conductivity type is n-type, the second conductivity type is p-type. When the first conductivity type is p-type, the second conductivity type is n-type.
Here, examples of the impurity imparting p-type include boron and aluminum, and examples of the impurity imparting n-type include phosphorus and arsenic.

本発明の太陽電池セルは、表面電極および/または裏面電極が本発明の導電性組成物を用いて形成されているため、電極のアスペクト比を大きくし易く、受光により発生した起電力を電流として効率良く取り出すことができる。   In the solar battery cell of the present invention, the front electrode and / or the back electrode are formed using the conductive composition of the present invention, so that the aspect ratio of the electrode is easily increased, and the electromotive force generated by light reception is used as the current. It can be taken out efficiently.

本発明の太陽電池セルの製造方法は特に限定されないが、本発明の導電性組成物をシリコン基板上に塗布して配線を形成する配線形成工程と、得られた配線を熱処理して電極(表面電極および/または裏面電極)を形成する電極形成工程とを有する方法が挙げられる。
なお、本発明の太陽電池セルが反射防止層を具備する場合、反射防止膜は、プラズマCVD法等の公知の方法により形成することができる。
以下に、配線形成工程、熱処理工程について詳述する。
Although the manufacturing method of the photovoltaic cell of the present invention is not particularly limited, a wiring forming step of forming the wiring by applying the conductive composition of the present invention on a silicon substrate, and heat treating the obtained wiring to form an electrode (surface Electrode forming step of forming an electrode and / or a back electrode).
In addition, when the photovoltaic cell of this invention comprises an antireflection layer, an antireflection film can be formed by well-known methods, such as a plasma CVD method.
Below, a wiring formation process and a heat treatment process are explained in full detail.

<配線形成工程>
上記配線形成工程は、本発明の導電性組成物をシリコン基材上に塗布して配線を形成する工程である。
ここで、塗布方法としては、具体的には、例えば、インクジェット、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷等が挙げられる。
<Wiring formation process>
The said wiring formation process is a process of apply | coating the electrically conductive composition of this invention on a silicon base material, and forming wiring.
Here, specific examples of the coating method include inkjet, screen printing, gravure printing, offset printing, letterpress printing, and the like.

<熱処理工程>
上記熱処理工程は、上記配線形成工程で得られた塗膜を熱処理して導電性の配線(電極)を得る工程である。
配線を熱処理することにより、脂肪酸銀塩(B)から分解される銀が融解する際に銀粉(A)が連結され、電極(銀膜)が形成される。
<Heat treatment process>
The heat treatment step is a step of obtaining a conductive wiring (electrode) by heat-treating the coating film obtained in the wiring forming step.
By heat-treating the wiring, when the silver decomposed from the fatty acid silver salt (B) melts, the silver powder (A) is connected to form an electrode (silver film).

本発明においては、上記熱処理は特に限定されないが、150〜350℃の比較的低い温度で、数秒〜数十分間、加熱(焼成)する処理であるのが好ましい。温度および時間がこの範囲であると、シリコン基板上に反射防止膜を形成した場合であっても、ファイヤースルー法により容易に電極を形成することができる。   In the present invention, the heat treatment is not particularly limited, but is preferably a treatment of heating (firing) at a relatively low temperature of 150 to 350 ° C. for several seconds to several tens of minutes. When the temperature and time are within this range, even when an antireflection film is formed on the silicon substrate, the electrode can be easily formed by the fire-through method.

なお、本発明においては、上記配線形成工程で得られた配線は、紫外線または赤外線の照射でも電極を形成することができるため、上記熱処理工程は、紫外線または赤外線の照射によるものであってもよい。   In the present invention, since the wiring obtained in the wiring formation step can form electrodes even by irradiation with ultraviolet rays or infrared rays, the heat treatment step may be performed by irradiation with ultraviolet rays or infrared rays. .

以下、実施例を用いて、本発明の導電性組成物について詳細に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, the conductive composition of the present invention will be described in detail using examples. However, the present invention is not limited to this.

(実施例1〜8、比較例1〜2)
ボールミルに、下記第1表に示す銀粉等を下記第1表中に示す組成比となるように添加し、これらを混合することにより導電性組成物を調製した。
次いで、調製した導電性組成物をシリコン基板(単結晶シリコンウェハー、LS−25TVA、156mm×156mm×200μm、信越化学工業社製)上に、スクリーン印刷で塗布して塗膜を形成した後、オーブンにて200℃および450℃の2つの条件で30分間乾燥し、導電性被膜を作製した。
(Examples 1-8, Comparative Examples 1-2)
To the ball mill, silver powder and the like shown in Table 1 below were added so as to have the composition ratio shown in Table 1 below, and these were mixed to prepare a conductive composition.
Next, the prepared conductive composition was applied on a silicon substrate (single crystal silicon wafer, LS-25TVA, 156 mm × 156 mm × 200 μm, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) by screen printing to form a coating film. Was dried for 30 minutes under two conditions of 200 ° C. and 450 ° C. to produce a conductive film.

<体積抵抗率(比抵抗)>
形成した各導電性被膜について、低抵抗率計(ロレスターGP、三菱化学社製)を用いた4端子4探針法により比抵抗(体積固有抵抗値)を測定した。その結果を下記第1表に示す。
<Volume resistivity (specific resistance)>
About each formed conductive film, the specific resistance (volume specific resistance value) was measured by the 4-terminal 4 probe method using the low resistivity meter (Lorestar GP, Mitsubishi Chemical Corporation make). The results are shown in Table 1 below.

<密着性>
形成した各導電性被膜のシリコン基板に対する密着性の評価は、碁盤目はく離試験により行った。その結果を下記第1表に示す。
具体的には、得られた各導電性被膜付きシリコン基板に、1mmの基盤目を100個(10×10)作り、基盤目上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、指の腹で10回こすった後、テープの一端を導電性膜に直角に保った状態で瞬間的に引き離し、完全に剥がれないで残った基盤目の数を調べた。完全に剥がれないで残った基盤目数が100、即ち、全く剥がれなかったものが最も好ましい。
<Adhesion>
The evaluation of the adhesion of each formed conductive film to the silicon substrate was performed by a grid peel test. The results are shown in Table 1 below.
Specifically, on each of the obtained silicon substrates with a conductive coating, 100 1 mm bases (10 × 10) were made, and cellophane adhesive tape was completely adhered on the bases, and 10 times with the finger pad. After rubbing, one end of the tape was momentarily pulled away while keeping one end of the tape at right angles to the conductive film, and the number of base meshes remaining without being completely peeled was examined. It is most preferable that the number of base meshes remaining without being completely peeled is 100, that is, those having not peeled off at all.

第1表中の各成分は、以下のものを使用した。
・銀粉1:AgC−103(形状:球状、平均粒子径:1.5μm、福田金属箔社製)
・銀粉2:AgC−2011(形状:フレーク状、平均粒子径:2〜10μm、福田金属箔社製)
The following were used for each component in Table 1.
Silver powder 1: AgC-103 (shape: spherical, average particle size: 1.5 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.)
Silver powder 2: AgC-2011 (shape: flake shape, average particle size: 2 to 10 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.)

・2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸(東京化成社製)64gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、白色の2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩を調製した。
2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 64 g of 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) are put in a ball mill and stirred at room temperature for 24 hours. It was made to react.
Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the resulting powder was dried to prepare white 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt.

・2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、2−ヒドロキシイソ酪酸(東京化成社製)45gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、白色の2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩を調製した。
-Silver 2-hydroxyisobutyrate:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 45 g of 2-hydroxyisobutyric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) were placed in a ball mill and reacted by stirring at room temperature for 24 hours.
Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare white 2-hydroxyisobutyric acid silver salt.

・グリコール酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、グリコール酸(東京化成社製)32.8gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、白色のグリコール酸銀塩を調製した。
・ Silver glycolate:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 32.8 g of glycolic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) were placed in a ball mill and reacted by stirring at room temperature for 24 hours.
Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare a white silver glycolate.

・グルタル酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、グルタル酸(東京化成工業社製)57gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることによって、白色のグルタル酸銀塩を調製した。
・ Glutaric acid silver salt:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 57 g of glutaric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) were placed in a ball mill and reacted by stirring at room temperature for 24 hours.
Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare white silver glutarate.

・1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸(新日本理化社製)25.29gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることによって、白色の1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩を調製した。
-1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 25.29 g of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) were put into a ball mill, and the mixture was stirred at room temperature. The reaction was allowed to stir for hours.
Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare white 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt.

・2−エチルヘキサン酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、2−エチルヘキサン酸(東京化成社製)62.21gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることによって、白色の2−エチルヘキサン酸銀塩を調製した。
・ 2-ethylhexanoic acid silver salt:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 62.21 g of 2-ethylhexanoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) were placed in a ball mill and reacted by stirring at room temperature for 24 hours. .
Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare white 2-ethylhexanoic acid silver salt.

・ネオデカン酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、ネオデカン酸(東洋合成社製)74.3gおよびMEK300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、ネオデカン酸銀塩を調製した。
・ Neodecanoic acid silver salt:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 74.3 g of neodecanoic acid (manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) and 300 g of MEK were put into a ball mill and reacted by stirring at room temperature for 24 hours.
Next, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare a silver neodecanoate.

・PO付加エポキシ樹脂:プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4000、ADEKA社製)
・EO付加エポキシ樹脂:エチレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(BEO−60E、新日本理化社製)
・ビスフェノールA型エポキシ樹脂:EP−4010(ADEKA社製)
・ビスフェノールF型エポキシ樹脂:YDF−170(新日鐵化学社製)
・溶媒:α−テルピネール
・硬化剤:芳香族スルホニウム塩(Sl−100L、三新化学工業社製)
PO addition epoxy resin: propylene oxide addition bisphenol A type epoxy resin (EP-4000, manufactured by ADEKA)
-EO-added epoxy resin: ethylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin (BEO-60E, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)
-Bisphenol A type epoxy resin: EP-4010 (manufactured by ADEKA)
・ Bisphenol F type epoxy resin: YDF-170 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
・ Solvent: α-Terpinel ・ Curing agent: Aromatic sulfonium salt (Sl-100L, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)

第1表に示す結果から、エチレンオキシドまたはプロピレンオキシドが付加されていないエポキシ樹脂を用いて調製した比較例1および2は、体積抵抗率が高くなり、また、シリコン基板との密着性にも劣ることが分かった。
これに対し、所定のエポキシ樹脂(C)を用いて調製した実施例1〜8は、450℃で30分間という中温焼成条件のみならず、200℃で30分間という低温焼成条件であっても、体積抵抗率が低く、また、シリコン基板との密着性にも優れることが分かった。特に、所定の脂肪酸銀塩(B1)やポリカルボン酸銀塩(B2)を用いて調製した実施例1〜7は、体積抵抗率がより低くなることが分かった。
From the results shown in Table 1, Comparative Examples 1 and 2 prepared using an epoxy resin to which ethylene oxide or propylene oxide is not added have high volume resistivity and inferior adhesion to the silicon substrate. I understood.
On the other hand, Examples 1 to 8 prepared using a predetermined epoxy resin (C) are not only medium temperature baking conditions of 450 ° C. for 30 minutes, but also low temperature baking conditions of 200 ° C. for 30 minutes, It was found that the volume resistivity was low and the adhesion to the silicon substrate was excellent. In particular, Examples 1 to 7 prepared using a predetermined fatty acid silver salt (B1) and polycarboxylic acid silver salt (B2) were found to have a lower volume resistivity.

1 太陽電池セル
2 n層
3 反射防止膜
4 表面電極
5 p層
6 裏面電極
7 シリコン基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solar cell 2 N layer 3 Antireflection film 4 Surface electrode 5 P layer 6 Back electrode 7 Silicon substrate

Claims (13)

銀粉(A)と、脂肪酸銀塩(B)と、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂(C)とを含有する導電性組成物。   A conductive composition containing silver powder (A), a fatty acid silver salt (B), and an epoxy resin (C) to which ethylene oxide and / or propylene oxide is added. 前記脂肪酸銀塩(B)が、カルボキシ銀塩基(−COOAg)と水酸基(−OH)とをそれぞれ1個以上有する脂肪酸銀塩(B1)、および/または、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を2個以上有するポリカルボン酸銀塩(B2)である請求項1に記載の導電性組成物。   The fatty acid silver salt (B) is a fatty acid silver salt (B1) having at least one carboxy silver base (—COOAg) and one hydroxyl group (—OH) and / or two carboxy silver bases (—COOAg). The conductive composition according to claim 1, which is a polycarboxylic acid silver salt (B2) having the above. 前記脂肪酸銀塩(B1)が、下記式(I)〜(III)のいずれかで表される化合物である請求項2に記載の導電性組成物。

(式(I)中、nは0〜2の整数を表し、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。nが0または1である場合、複数のR2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。nが2である場合、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(II)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(III)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R3は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。)
The conductive composition according to claim 2, wherein the fatty acid silver salt (B1) is a compound represented by any one of the following formulas (I) to (III).

(In formula (I), n represents an integer of 0 to 2, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. When it is 0 or 1, the plurality of R 2 may be the same or different, and when n is 2, the plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (II), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (III), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. The plurality of R 1 may be the same or different. )
前記脂肪酸銀塩(B1)が、前記カルボキシ銀塩基に対するα位および/またはβ位の炭素原子に前記水酸基を有している請求項2または3に記載の導電性組成物。   4. The conductive composition according to claim 2, wherein the fatty acid silver salt (B1) has the hydroxyl group at the α-position and / or β-position carbon atom with respect to the carboxy silver base. 前記脂肪酸銀塩(B1)が、前記カルボキシ銀塩基を1個有し、前記水酸基を1個または2個有する請求項2〜4のいずれかに記載の導電性組成物。   The conductive composition according to claim 2, wherein the fatty acid silver salt (B1) has one carboxy silver base and one or two hydroxyl groups. 前記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、水酸基を有しない請求項2に記載の導電性組成物。   The conductive composition according to claim 2, wherein the polycarboxylic acid silver salt (B2) does not have a hydroxyl group. 前記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、下記式(IV)で表される化合物である請求項2または6に記載の導電性組成物。

(式(IV)中、mは、2〜6の整数を表し、R4は、炭素数1〜24のm価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数2〜12のm価の不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数3〜12のm価の脂環式炭化水素基、または、炭素数6〜12のm価の芳香族炭化水素基を表す。R4の炭素数をpとすると、m≦2p+2である。)
The conductive composition according to claim 2 or 6, wherein the silver polycarboxylic acid salt (B2) is a compound represented by the following formula (IV).

(In Formula (IV), m represents an integer of 2 to 6, R 4 represents an m-valent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and an m-valent unsaturated fat having 2 to 12 carbon atoms. family hydrocarbon group, m-valent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or, when the carbon number of the .R 4 representing the m-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms and p, m ≦ 2p + 2.)
前記脂肪酸銀塩(B1)が、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩、2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩およびグリコール酸銀塩からなる群から選択される少なくとも一種である請求項2〜5のいずれかに記載の導電性組成物。   The fatty acid silver salt (B1) is at least one selected from the group consisting of 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt, 2-hydroxyisobutyric acid silver salt and glycolic acid silver salt. The electrically conductive composition in any one of 2-5. 前記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、グルタル酸銀塩および/または1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩である請求項2、6および7のいずれかに記載の導電性組成物。   The electroconductive composition according to any one of claims 2, 6 and 7, wherein the polycarboxylic acid silver salt (B2) is a glutaric acid silver salt and / or a 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt. object. 前記脂肪酸銀塩(B)の含有量が、前記銀粉(A)100質量部に対して、1〜100質量部である請求項1〜9のいずれかに記載の導電性組成物。   The conductive composition according to any one of claims 1 to 9, wherein a content of the fatty acid silver salt (B) is 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silver powder (A). 前記エポキシ樹脂(C)の含有量が、前記銀粉(A)100質量部に対して、1〜50質量部である請求項1〜10のいずれかに記載の導電性組成物。   The conductive composition according to any one of claims 1 to 10, wherein a content of the epoxy resin (C) is 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silver powder (A). 太陽電池電極用ペーストに用いる請求項1〜11のいずれかに記載の導電性組成物。   The electroconductive composition according to claim 1, which is used for a solar cell electrode paste. 受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、
前記表面電極および/または前記裏面電極が、請求項12に記載の導電性組成物を用いて形成される太陽電池セル。
It comprises a surface electrode on the light receiving surface side, a semiconductor substrate and a back electrode
The photovoltaic cell in which the said surface electrode and / or the said back surface electrode are formed using the electrically conductive composition of Claim 12.
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