JP5527901B2 - Conductive composition for forming solar battery collecting electrode and solar battery cell - Google Patents

Conductive composition for forming solar battery collecting electrode and solar battery cell Download PDF

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Description

本発明は、太陽電池集電電極形成用導電性組成物および太陽電池セルに関する。   The present invention relates to a conductive composition for forming a solar battery collecting electrode and a solar battery cell.

従来、銀粒子などの導電性粒子に熱可塑性樹脂(例えば、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂等)や熱硬化性樹脂(例えば、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等)などからなるバインダ、有機溶剤、硬化剤、触媒等を添加し混合して得られる銀ペースト(導電性組成物)を、合成樹脂基材上(例えば、ポリエステルフィルム等)に所定の回路パターンとなるように印刷し、これらを加熱して導体回路をなす導電性配線を形成し、回路基板を製造する方法が知られている。   Conventionally, conductive particles such as silver particles, a binder made of a thermoplastic resin (eg, acrylic resin, vinyl acetate resin, etc.) or a thermosetting resin (eg, epoxy resin, unsaturated polyester resin, etc.), organic solvent, cured Silver paste (conductive composition) obtained by adding and mixing agents, catalysts, etc., is printed on a synthetic resin substrate (for example, a polyester film) so as to have a predetermined circuit pattern, and these are heated. There is known a method of manufacturing a circuit board by forming a conductive wiring forming a conductor circuit.

例えば、特許文献1には、「レーザー回折法50%粒径が3〜8μmであり、見掛密度が0.4〜1.1/cm3であり、しかもBET法比表面積値が1.5〜4.0m2/gであるフレーク状銀粉、および樹脂からなる導体ペーストであって、前記導体ペーストは、150〜200℃の間に電気抵抗値のピークを有することを特徴とする導体ペースト。」が記載されている([請求項5])。 For example, Patent Document 1 states that “Laser diffraction method 50% particle size is 3 to 8 μm, apparent density is 0.4 to 1.1 / cm 3 , and BET specific surface area value is 1.5. A conductive paste comprising flaky silver powder having a viscosity of ˜4.0 m 2 / g and a resin, wherein the conductive paste has a peak of electric resistance between 150 and 200 ° C. Is described ([Claim 5]).

また、特許文献2には、「3〜8μmの平均粒径、1.5〜4.0m2/gの比表面積および0.4〜1.1g/cm3の見掛け密度を有する薄片状銀粉A、3〜10μmの平均粒径、0.6〜1.2m2/gの比表面積および1.5〜2.1g/cm3の見掛け密度を有する薄片状銀粉Bならびに樹脂を含有する導電性ペースト組成物であって、薄片状銀粉Aを薄片状銀粉Aと薄片状銀粉Bとの合計重量100部に対して30〜95重量部となる割合で含有し、そして薄片状銀粉Aと薄片状銀粉Bとの合計を導電性ペーストの固形分に対して35〜85重量%となるように含有する導電性ペースト組成物。」が記載されている([請求項3])。 Patent Document 2 discloses that “flaky silver powder A having an average particle diameter of 3 to 8 μm, a specific surface area of 1.5 to 4.0 m 2 / g and an apparent density of 0.4 to 1.1 g / cm 3. Conductive paste containing flaky silver powder B having a mean particle diameter of 3 to 10 μm, a specific surface area of 0.6 to 1.2 m 2 / g and an apparent density of 1.5 to 2.1 g / cm 3 and a resin A composition comprising flaky silver powder A in a proportion of 30 to 95 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total weight of flaky silver powder A and flaky silver powder B, and flaky silver powder A and flaky silver powder The conductive paste composition containing 35 to 85% by weight of the total amount of B with respect to the solid content of the conductive paste "is described ([Claim 3]).

更に、特許文献3には、「電気抵抗率が20×10-6Ω・cm以下の金属材料(A)と、水酸基を1個以上有する脂肪酸銀塩(B)と、沸点が200℃以下の2級脂肪酸を用いて得られる2級脂肪酸銀塩(C)と、を含有する導電性組成物。」が記載されており([請求項1])、任意成分としてエポキシ樹脂等の造膜性樹脂が記載されており([0061])、金属材料(A)として実施例では銀粉末が使用されている([0071])。 Further, Patent Document 3 states that “a metal material (A) having an electrical resistivity of 20 × 10 −6 Ω · cm or less, a fatty acid silver salt (B) having one or more hydroxyl groups, and a boiling point of 200 ° C. or less. And a secondary fatty acid silver salt (C) obtained by using a secondary fatty acid ”([Claim 1]), and a film-forming property such as an epoxy resin as an optional component. Resin is described ([0061]), and silver powder is used as the metal material (A) in the examples ([0071]).

特開2003−55701号公報JP 2003-55701 A 特許第3955805号公報Japanese Patent No. 3955805 特開2010−92684号公報JP 2010-92684 A

しかしながら、本発明者が特許文献1〜3に記載されたペースト材料について検討したところ、線幅が狭い回路パターンが多く存在する太陽電池集電電極を形成すると、断線や蛇行、ニジミ等の発生により印刷性が劣り、また、電極の断面の高さと幅の比率(高さ/幅)(以下、「アスペクト比」という。)も小さくなることが分かった。
特に、シリコン型太陽電池のシリコンウエハの表面にはピラミッド状の微細テクスチャ構造が形成されているが、テクスチャの形状によっては、印刷したペースト材料がテクスチャの溝に沿って濡れ広がる現象(ニジミ)が発生しやすくなる場合があることが分かった。
However, when the present inventor examined the paste materials described in Patent Documents 1 to 3, when a solar cell collecting electrode having many circuit patterns with a narrow line width is formed, disconnection, meandering, bleeding, and the like are caused. It was found that the printability was inferior and the ratio of the height and width of the cross section of the electrode (height / width) (hereinafter referred to as “aspect ratio”) was also reduced.
In particular, a pyramidal fine texture structure is formed on the surface of the silicon wafer of a silicon solar cell, but depending on the shape of the texture, the phenomenon that the printed paste material spreads along the texture groove (brightening) may occur. It turns out that it may be easy to occur.

そこで、本発明は、印刷性に優れ、アスペクト比の高い電極を形成することができる太陽電池集電電極形成用導電性組成物およびそれを用いた太陽電池セルを提供することを課題とする。   Then, this invention makes it a subject to provide the electrically conductive composition for solar cell current collection electrode formation which is excellent in printability, and can form an electrode with a high aspect ratio, and a photovoltaic cell using the same.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、所定の平均粒子径を有する球状銀粉と所定の平均厚さおよび見掛密度を有するフレーク状銀粉とを特定の割合で併用して調製した組成物が、良好な印刷性を有し、アスペクト比の高い電極を形成することができることを見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は、下記(1)〜()を提供する。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor prepared by using spherical silver powder having a predetermined average particle diameter and flaky silver powder having a predetermined average thickness and apparent density in combination at a specific ratio. The present invention was completed by finding that the obtained composition can form an electrode having good printability and a high aspect ratio. That is, the present invention provides the following (1) to ( 9 ).

(1)平均粒子径が0.5〜5.0μmの球状銀粉(A)と、
平均厚さが0.05〜0.2μmで、かつ、見掛密度が0.4〜1.1g/cm3のフレーク状銀粉(B)と、を含有し、
上記フレーク状銀粉(B)の含有量が、上記球状銀粉(A)および上記フレーク状銀粉(B)の合計の質量に対して10質量%以下である太陽電池集電電極形成用導電性組成物。
(1) a spherical silver powder (A) having an average particle size of 0.5 to 5.0 μm;
A flaky silver powder (B) having an average thickness of 0.05 to 0.2 μm and an apparent density of 0.4 to 1.1 g / cm 3 ,
The conductive composition for forming a solar cell collector electrode, wherein the content of the flaky silver powder (B) is 10 % by mass or less based on the total mass of the spherical silver powder (A) and the flaky silver powder (B). .

)更に、エポキシ樹脂(C)を含有する上記(1)に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。 ( 2 ) Furthermore, the electroconductive composition for solar cell current collection electrode formation as described in said (1 ) containing an epoxy resin (C).

)更に、脂肪酸銀塩(D)を含有する上記(1)または(2)に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。 ( 3 ) The conductive composition for forming a solar cell collector electrode according to (1) or (2) , further comprising a fatty acid silver salt (D).

)上記エポキシ樹脂(C)が、少なくとも、エポキシ当量が1500〜4000g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂(C1)およびエポキシ当量が1000g/eq以下の多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂(C2)である上記()または()に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。 ( 4 ) The epoxy resin (C) is at least a bisphenol A type epoxy resin (C1) having an epoxy equivalent of 1500 to 4000 g / eq and a polyhydric alcohol glycidyl type epoxy resin (C2) having an epoxy equivalent of 1000 g / eq or less. The conductive composition for forming a solar cell collector electrode according to ( 2 ) or ( 3 ) above.

)上記脂肪酸銀塩(D)が、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を3個以上有するポリカルボン酸銀塩(D2)である上記()または()に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。 (5) the fatty acid silver salt (D) is, mosquitoes Rubokishi silver base (3) is a polycarboxylic silver (D2) having three or more (-COOAg) or solar collector according to (4) Electroconductive composition for electrode formation.

)上記ポリカルボン酸銀塩(D2)が、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩である上記()に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。 ( 6 ) The conductive composition for forming a solar cell collecting electrode according to ( 5 ), wherein the polycarboxylic acid silver salt (D2) is 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt.

)上記エポキシ樹脂(C)の含有量が、上記球状銀粉(A)および上記フレーク状銀粉(B)の合計100質量部に対して2〜20質量部である上記()〜()のいずれかに記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。 ( 7 ) The said ( 2 )-( 6 ) content of the said epoxy resin (C) is 2-20 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the said spherical silver powder (A) and the said flaky silver powder (B). ) The conductive composition for forming a solar cell collecting electrode according to any one of 1).

)上記脂肪酸銀塩(D)の含有量が、上記球状銀粉(A)および上記フレーク状銀粉(B)の合計100質量部に対して0.1〜10質量部である上記()〜()のいずれかに記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。 (8) The content of the fatty acid silver salt (D) is, the (3) is 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the spherical silver powder (A) and the flaky silver powder (B) The electrically conductive composition for solar cell current collection electrode formation in any one of-( 7 ).

)受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、
上記表面電極および/または上記裏面電極が、上記(1)〜()のいずれかに記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物を用いて形成される太陽電池セル。
( 9 ) It comprises a surface electrode on the light receiving surface side, a semiconductor substrate and a back electrode,
The photovoltaic cell in which the said surface electrode and / or the said back surface electrode are formed using the electrically conductive composition for solar cell current collection electrode formation in any one of said (1)-( 8 ).

以下に示すように、本発明によれば、印刷性に優れ、アスペクト比の高い電極を形成することができる太陽電池集電電極形成用導電性組成物およびそれを用いた太陽電池セルを提供することができる。
特に、本発明の太陽電池集電電極形成用導電性組成物(以下、「本発明の導電性組成物」という。)は、細線部(線幅:50〜100μm程度)の印刷性にも優れるため、スクリーン印刷に好適に用いることができる。
また、本発明の導電性組成物を用いれば、低温(150〜500℃程度)焼成であっても、断線やニジミの発生を抑制して電極を形成することができるため、太陽電池セル基板(例えば、シリコン基板等)への熱によるダメージを軽減できる効果も有し、非常に有用である。
As shown below, according to the present invention, there are provided a conductive composition for forming a solar battery collecting electrode, which is excellent in printability and capable of forming an electrode having a high aspect ratio, and a solar battery cell using the same. be able to.
In particular, the conductive composition for forming a solar cell collector electrode of the present invention (hereinafter referred to as “the conductive composition of the present invention”) is excellent in the printability of a fine line portion (line width: about 50 to 100 μm). Therefore, it can be suitably used for screen printing.
In addition, if the conductive composition of the present invention is used, an electrode can be formed even when firing at a low temperature (about 150 to 500 ° C.) while suppressing the occurrence of disconnection and blemishes. For example, it has an effect of reducing damage to a silicon substrate or the like by heat, which is very useful.

図1は、太陽電池セルの好適な実施態様の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a preferred embodiment of a solar battery cell. 図2は、実施例で用いた球状銀粉(AgC−103、福田金属箔粉工業社製)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影した写真である。FIG. 2 is a photograph of the spherical silver powder (AgC-103, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.) used in the examples, taken with a scanning electron microscope (SEM). 図3は、実施例で用いたフレーク状銀粉(Ag−XF301K、福田金属箔粉工業社製)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影した写真である。FIG. 3 is a photograph taken with a scanning electron microscope (SEM) of the flaky silver powder (Ag-XF301K, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.) used in the examples. 図4は、比較例で用いたフレーク状銀粉(AgC−A、福田金属箔粉工業社製)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影した写真である。FIG. 4 is a photograph taken with a scanning electron microscope (SEM) of the flaky silver powder (AgC-A, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.) used in the comparative example.

〔太陽電池集電電極形成用導電性組成物〕
本発明の導電性組成物は、平均粒子径が0.5〜5.0μmの球状銀粉(A)と、平均厚さが0.05〜0.2μmで、かつ、見掛密度が0.4〜1.1g/cm3のフレーク状銀粉(B)と、を含有する太陽電池集電電極形成用の導電性組成物である。
以下に、球状銀粉(A)およびフレーク状銀粉(B)ならびに所望により含有してもよい他の成分等について詳述する。
[Conductive composition for forming solar cell collector electrode]
The conductive composition of the present invention has a spherical silver powder (A) having an average particle diameter of 0.5 to 5.0 μm, an average thickness of 0.05 to 0.2 μm, and an apparent density of 0.4. It is an electroconductive composition for solar cell current collection electrode containing -1.1g / cm < 3 > flaky silver powder (B).
Hereinafter, the spherical silver powder (A), the flaky silver powder (B), and other components that may be optionally contained are described in detail.

<球状銀粉(A)>
本発明の導電性組成物で用いる球状銀粉(A)は、平均粒子径が0.5〜5μmの銀粉末である。
ここで、球状とは、長径/短径の比率が2以下の粒子の形状をいう。
また、平均粒子径とは、球状の銀粉末の粒子径の平均値をいい、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定された50%体積累積径(D50)をいう。なお、平均値を算出する基になる粒子径は、球状の銀粉末の断面が楕円形である場合はその長径と短径の合計値を2で割った平均値をいい、正円形である場合はその直径をいう。
例えば、後述する実施例で使用する銀粉(AgC−103、福田金属箔粉工業社製)の写真(図2)で示されるものは球状の銀粉末に該当するが、後述する実施例で併用する銀粉(Ag−XF301K、福田金属箔粉工業社製)の写真(図3)や比較例で併用する銀粉(AgC−A、福田金属箔粉工業社製)の写真(図4)で示されるものは球状の銀粉末には該当せず、フレーク(鱗片)状の銀粉末に該当するものである。
<Spherical silver powder (A)>
The spherical silver powder (A) used in the conductive composition of the present invention is a silver powder having an average particle diameter of 0.5 to 5 μm.
Here, the term “spherical” refers to the shape of a particle having a major axis / minor axis ratio of 2 or less.
Moreover, an average particle diameter means the average value of the particle diameter of spherical silver powder, and means the 50% volume cumulative diameter (D50) measured using the laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus. In addition, when the cross section of the spherical silver powder is elliptical, the particle diameter that is the basis for calculating the average value is the average value obtained by dividing the total value of the major axis and the minor axis by 2, and is a regular circle Refers to its diameter.
For example, what is shown in the photograph (FIG. 2) of silver powder (AgC-103, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.) used in the examples described later corresponds to the spherical silver powder, but is used in the examples described later. What is shown by the photograph (FIG. 3) of silver powder (Ag-XF301K, made by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.) and the photograph (FIG. 4) of silver powder (AgC-A, made by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.) used together in the comparative example. Does not correspond to spherical silver powder, but corresponds to flake-shaped silver powder.

また、上記球状銀粉(A)の平均粒子径は、印刷性がより良好となる理由から、0.7〜5μmであるのが好ましく、焼結速度が適当となり作業性に優れる理由から、1〜3μmであるのがより好ましい。   Further, the average particle diameter of the spherical silver powder (A) is preferably 0.7 to 5 μm from the reason that the printability is better, and from the reason that the sintering speed is appropriate and the workability is excellent, 1 to More preferably, it is 3 μm.

本発明においては、上記球状銀粉(A)として市販品を用いることができ、その具体例としては、AgC−102(平均粒子径:1.5μm、福田金属箔粉工業社製)、AgC−103(平均粒子径:1.5μm、福田金属箔粉工業社製)、AG4−8F(平均粒子径:2.2μm、DOWAエレクトロニクス社製)、AG2−1C(平均粒子径:1.0μm、DOWAエレクトロニクス社製)、AG3−11F(平均粒子径:1.4μm、DOWAエレクトロニクス社製)、EHD(平均粒子径:0.5μm、三井金属社製)等が挙げられる。   In the present invention, a commercially available product can be used as the spherical silver powder (A). Specific examples thereof include AgC-102 (average particle size: 1.5 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.), AgC-103. (Average particle diameter: 1.5 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.), AG4-8F (average particle diameter: 2.2 μm, manufactured by DOWA Electronics), AG2-1C (average particle diameter: 1.0 μm, DOWA electronics) AG3-11F (average particle size: 1.4 μm, manufactured by DOWA Electronics), EHD (average particle size: 0.5 μm, manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd.), and the like.

<フレーク状銀粉(B)>
本発明の導電性組成物で用いるフレーク状銀粉(B)は、平均厚さが0.05〜0.2μmで、かつ、見掛密度が0.4〜1.1g/cm3の銀粉末である。
ここで、フレーク状とは、長径/短径の比率が2超の形状をいい、上述したように、例えば、図3および図4で示される銀粉末が該当するが、そのうち図3で示される銀粉末がフレーク状銀粉(B)に該当するものである。
また、平均厚さ(d)とは、BET法(気体吸着法)により測定した銀粉の比表面積をS(m2/g)として、下記式(i)から算出した値をいう。
d=0.19/S ・・・(i)
また、見掛け密度とは、JIS Z2504:2000の「金属粉−見掛密度測定方法」に記載された方法で測定した値をいう。
<Flake silver powder (B)>
The flaky silver powder (B) used in the conductive composition of the present invention is a silver powder having an average thickness of 0.05 to 0.2 μm and an apparent density of 0.4 to 1.1 g / cm 3. is there.
Here, the flake shape means a shape having a ratio of major axis / minor axis of more than 2, and as described above, for example, the silver powder shown in FIG. 3 and FIG. Silver powder corresponds to flaky silver powder (B).
The average thickness (d) is a value calculated from the following formula (i), where S (m 2 / g) is the specific surface area of silver powder measured by the BET method (gas adsorption method).
d = 0.19 / S (i)
The apparent density means a value measured by the method described in “Metal powder—apparent density measuring method” of JIS Z2504: 2000.

また、上記フレーク状銀粉(B)の平均厚さは、印刷性がより良好となり、ペースト化しやすいという理由から、0.05〜0.1μmであるのが好ましい。
同様に、上記フレーク状銀粉(B)の見掛密度は、0.4〜1.1g/cm3であるのが好ましく、0.5〜1.0g/cm3であるのがより好ましい。
The average thickness of the flaky silver powder (B) is preferably 0.05 to 0.1 μm because the printability becomes better and the paste is easily formed.
Similarly, the apparent density of the flaky silver powder (B) is preferably from 0.4~1.1g / cm 3, and more preferably 0.5 to 1.0 g / cm 3.

本発明においては、上記フレーク状銀粉(B)の調製方法は特に限定されないが、例えば、特許文献1の[0007]〜[0015]段落に記載された方法等により調製することができる。
また、上記フレーク状銀粉(B)として市販品を用いることができ、その具体例としては、Ag−XF301K(平均厚さ:0.1μm、見掛密度:0.82g/cm3、福田金属箔粉工業社製)等が挙げられる。
In the present invention, the method for preparing the flaky silver powder (B) is not particularly limited. For example, it can be prepared by the method described in paragraphs [0007] to [0015] of Patent Document 1.
Moreover, a commercial item can be used as said flaky silver powder (B), As the specific example, Ag-XF301K (average thickness: 0.1 micrometer, apparent density: 0.82 g / cm < 3 >, Fukuda metal foil) Powder industry)).

本発明においては、上述した球状銀粉(A)とフレーク状銀粉(B)とを併用することにより、得られる本発明の導電性組成物の印刷性が良好となり、アスペクト比の高い電極を形成することができる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者は以下のように推測している。
まず、一般的なペースト材料では、内在する粉体の表面積が大きいほどチクソ性が向上すると考えられている。そして、本発明で用いるフレーク状銀粉(B)は、通常のフレーク状銀粉に比べて表面積が非常に大きく、チクソ性を付与する効果が高いため、印刷性が良好になると考えられる。また、球状銀粉(A)とフレーク状銀粉(B)とを併用することで、球状銀粉(A)がフレーク状銀粉(B)に挟まれて動きにくくなり、更には後述する任意成分(エポキシ樹脂、脂肪酸銀塩、溶媒等)をフレーク状銀粉(B)同士の間に内包するため、印刷後の形状保持性に優れ、アスペクト比の高い電極を形成することができると考えられる。
In the present invention, by using the above-mentioned spherical silver powder (A) and flaky silver powder (B) in combination, the printability of the resulting conductive composition of the present invention is improved, and an electrode having a high aspect ratio is formed. be able to.
Although this is not clear in detail, the inventor presumes as follows.
First, in general paste materials, it is considered that the thixotropy improves as the surface area of the inherent powder increases. And since the flaky silver powder (B) used by this invention has a very large surface area compared with normal flaky silver powder and the effect which provides thixotropy is high, it is thought that printability becomes favorable. Further, by using the spherical silver powder (A) and the flaky silver powder (B) in combination, the spherical silver powder (A) is sandwiched between the flaky silver powder (B) and is difficult to move. , Fatty acid silver salt, solvent, etc.) are included between the flaky silver powders (B), and thus it is considered that an electrode having excellent shape retention after printing and a high aspect ratio can be formed.

また、本発明においては、チクソ性および粘度が適当となり、印刷性がより良好となる理由から、上記フレーク状銀粉(B)の含有量が、上記球状銀粉(A)および上記フレーク状銀粉(B)の合計の質量に対して10質量%以下であり、1〜10質量%であるのがより好ましく、5〜10質量%であるのが更に好ましい。 In the present invention, the thixotropy and viscosity are appropriate, and the printability is better, so that the content of the flaky silver powder (B) is such that the spherical silver powder (A) and the flaky silver powder (B ) or less 10% by weight relative to the total weight of, more preferably from 1 to 10 wt%, 5 and even more preferably from 10% by mass.

<エポキシ樹脂(C)>
本発明の導電性組成物は、必要に応じて、更に、造膜性樹脂としてエポキシ樹脂(C)を含有するのが好ましい。
<Epoxy resin (C)>
The conductive composition of the present invention preferably further contains an epoxy resin (C) as a film-forming resin, if necessary.

上記エポキシ樹脂(C)としては、従来公知のエポキシ樹脂を用いることができる。
具体的には、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、臭素化ビスフェノールA型、水添ビスフェノールA型、ビスフェノールS型、ビスフェノールAF型などのビスフェノール型エポキシ樹脂;
エチレングリコールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリグリセリンポリグリシジルエーテル、ポリオキシエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ポリペンタエリスリトールポリグリシジル、トリメチルプロパンジグリシジルエーテル、テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン、トリス(グリシジルオキシ)メタンなどの多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂;
ダイマー酸等の合成脂肪酸のグリシジルエステル系エポキシ樹脂;
N,N,N′,N′−テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン(TGDDM)、テトラグリシジルジアミノジフェニルスルホン(TGDDS)、テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン(TGMXDA)、トリグリシジル−p−アミノフェノール、トリグリシジル−m−アミノフェノール、N,N−ジグリシジルアニリン、テトラグリシジル1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン(TG1,3−BAC)、トリグリシジルイソシアヌレート(TGIC)等のグリシジルアミン系エポキシ樹脂;等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
As the epoxy resin (C), a conventionally known epoxy resin can be used.
Specifically, for example, bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type, bisphenol F type, brominated bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol S type, bisphenol AF type;
Ethylene glycol glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, polyneopentyl glycol Diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, polyglycerin polyglycidyl ether , Polyoxyethylene Glycol diglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, polytetramethylene glycol diglycidyl ether, pentaerythritol diglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, polypentaerythritol polyglycidyl ether, trimethyl Polyhydric alcohol-based glycidyl type epoxy resins such as propanediglycidyl ether, tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane, tris (glycidyloxy) methane;
Glycidyl ester epoxy resins of synthetic fatty acids such as dimer acid;
N, N, N ′, N′-tetraglycidyldiaminodiphenylmethane (TGDDM), tetraglycidyldiaminodiphenylsulfone (TGDDS), tetraglycidyl-m-xylylenediamine (TGMXDA), triglycidyl-p-aminophenol, triglycidyl- glycidylamine epoxy resins such as m-aminophenol, N, N-diglycidylaniline, tetraglycidyl 1,3-bisaminomethylcyclohexane (TG1,3-BAC), triglycidyl isocyanurate (TGIC); These may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、上記エポキシ樹脂(C)は、半田付け性が良好な電極を形成することができる理由から、エポキシ当量が1500〜4000g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂(C1)およびエポキシ当量が1000g/eq以下の多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂(C2)を併用するのが好ましい。   In the present invention, since the epoxy resin (C) can form an electrode with good solderability, the bisphenol A type epoxy resin (C1) having an epoxy equivalent of 1500 to 4000 g / eq and an epoxy equivalent of It is preferable to use a polyhydric alcohol glycidyl type epoxy resin (C2) of 1000 g / eq or less in combination.

(ビスフェノールA型エポキシ樹脂(C1))
上記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(C1)は、エポキシ当量が1500〜4000g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂である。
上記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(C1)のエポキシ当量が上記範囲であると、本発明の導電性組成物の硬化後の硬度が良好となり、硬化物(電極)に対する優れた半田付け性を維持することができる。
また、上記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(C1)のエポキシ当量は、電極に対する半田付け性がより良好となり、硬化収縮の割合が小さく太陽電池セル基板の反りを抑えることができる理由から、2000〜4000g/eqであるのが好ましく、2000〜3500g/eqであるのがより好ましい。
(Bisphenol A type epoxy resin (C1))
The bisphenol A type epoxy resin (C1) is a bisphenol A type epoxy resin having an epoxy equivalent of 1500 to 4000 g / eq.
When the epoxy equivalent of the bisphenol A type epoxy resin (C1) is in the above range, the hardness of the conductive composition of the present invention after curing becomes good, and excellent solderability to the cured product (electrode) is maintained. Can do.
Moreover, the epoxy equivalent of the said bisphenol A type epoxy resin (C1) becomes the solderability with respect to an electrode more favorable, and since the ratio of hardening shrinkage is small and can suppress the curvature of a photovoltaic cell board | substrate, it is 2000-4000 g / It is preferably eq, more preferably 2000 to 3500 g / eq.

(多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂(C2))
上記多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂(C2)は、エポキシ当量が1000g/eq以下の多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂である。
上記多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂(C2)のエポキシ当量が上記範囲であると、本発明の導電性組成物の粘度が良好となり、印刷性がより良好となる。
また、上記多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂(C2)のエポキシ当量は、スクリーン印刷をする際の粘度が適当になる理由から、100〜400g/eqであるのが好ましく、100〜300g/eqであるのがより好ましい。
(Polyhydric alcohol glycidyl type epoxy resin (C2))
The polyhydric alcohol glycidyl epoxy resin (C2) is a polyhydric alcohol glycidyl epoxy resin having an epoxy equivalent of 1000 g / eq or less.
When the epoxy equivalent of the polyhydric alcohol glycidyl type epoxy resin (C2) is within the above range, the viscosity of the conductive composition of the present invention becomes good, and the printability becomes better.
The epoxy equivalent of the polyhydric alcohol-based glycidyl type epoxy resin (C2) is preferably 100 to 400 g / eq, and preferably 100 to 300 g / eq, because the viscosity at the time of screen printing becomes appropriate. More preferably.

また、本発明においては、上記エポキシ樹脂(C)は、太陽電池セル基板との密着性が良好な電極を形成することができる理由から、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂(C3)であるのが好ましい。
ここで、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドによる付加は、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF等)をエピクロロヒドリンと反応させてエポキシ樹脂を調製する際に、エチレンおよび/またはプロピレンを添加することにより付加(変性)することができる。
上記エポキシ樹脂(C3)としては市販品を用いることができ、その具体例としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(BEO−60E、新日本理化社製)、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(BPO−20E、新日本理化社製)、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4010S、ADEKA社製)、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4000S、ADEKA社製)等が挙げられる。
In the present invention, the epoxy resin (C) is an epoxy resin (C3) to which ethylene oxide and / or propylene oxide is added because it can form an electrode having good adhesion to the solar cell substrate. ) Is preferred.
Here, addition with ethylene oxide and / or propylene oxide is performed by adding ethylene and / or propylene when an epoxy resin is prepared by reacting, for example, bisphenol A, bisphenol F, etc.) with epichlorohydrin. (Denaturation).
Commercially available products can be used as the epoxy resin (C3). Specific examples thereof include ethylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin (BEO-60E, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), propylene oxide added bisphenol A type epoxy resin ( BPO-20E (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), propylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin (EP-4010S, manufactured by ADEKA), propylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin (EP-4000S, manufactured by ADEKA), and the like. .

本発明においては、上記エポキシ樹脂(C)を含有する場合の含有量は、太陽電池セル基板との密着性がより良好な電極を形成することができる理由から、上記球状銀粉(A)および上記フレーク状銀粉(B)の合計100質量部に対して、2〜20質量部であるのが好ましく、2〜10質量部であるのがより好ましい。   In the present invention, the content in the case of containing the epoxy resin (C) is that the spherical silver powder (A) and the above can be formed because an electrode having better adhesion to the solar cell substrate can be formed. It is preferable that it is 2-20 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of flaky silver powder (B), and it is more preferable that it is 2-10 mass parts.

<脂肪酸銀塩(D)>
本発明の導電性組成物は、より低温(150〜200℃程度)の焼成であっても電極を形成することができ、太陽電池セル基板への熱によるダメージをより軽減できる理由から、更に脂肪酸銀塩(D)を含有するのが好ましい。
<Fatty acid silver salt (D)>
The conductive composition of the present invention can form an electrode even when fired at a lower temperature (about 150 to 200 ° C.), and can further reduce damage to the solar cell substrate due to heat. It is preferable to contain a silver salt (D).

上記脂肪酸銀塩(D)は、有機カルボン酸の銀塩であれば特に限定されず、例えば、特開2008−198595号公報の[0063]〜[0068]段落に記載された脂肪酸金属塩(特に3級脂肪酸銀塩)、特許第4482930号公報の[0030]段落に記載された脂肪酸銀、特開2010−92684号公報の[0029]〜[0045]段落に記載された水酸基を1個以上有する脂肪酸銀塩、同公報の[0046]〜[0056]段落に記載された2級脂肪酸銀塩等を用いることができる。
これらのうち、カルボキシ銀塩基(−COOAg)と水酸基(−OH)とをそれぞれ1個以上有する脂肪酸銀塩(D1)、および/または、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を3個以上有するポリカルボン酸銀塩(D2)を用いるのが好ましい。
具体的には、例えば、上記脂肪酸銀塩(D1)としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩、2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩を好適に用いることができ、上記ポリカルボン酸銀塩(D2)としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩を好適に用いることができる。
The fatty acid silver salt (D) is not particularly limited as long as it is a silver salt of an organic carboxylic acid. For example, the fatty acid metal salt described in paragraphs [0063] to [0068] of JP-A-2008-198595 (particularly, Tertiary fatty acid silver salt), fatty acid silver described in paragraph [0030] of Japanese Patent No. 4482930, and one or more hydroxyl groups described in paragraphs [0029] to [0045] of JP 2010-92684 A Fatty acid silver salts, secondary fatty acid silver salts described in paragraphs [0046] to [0056] of the same publication, and the like can be used.
Among these, a polycarboxylic acid having at least three carboxy silver bases (-COOAg) and / or a fatty acid silver salt (D1) having at least one carboxy silver base (-COOAg) and at least one hydroxyl group (-OH). It is preferable to use a silver salt (D2).
Specifically, for example, as the fatty acid silver salt (D1), 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt and 2-hydroxyisobutyric acid silver salt can be suitably used. As the carboxylic acid silver salt (D2), 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt can be preferably used.

本発明においては、上記脂肪酸銀塩(D)の含有量は、印刷性がより良好となる理由から、上記球状銀粉(A)および上記フレーク状銀粉(B)の合計100質量部に対して、0.1〜10質量部であるのが好ましく、1〜10質量部であるのがより好ましい。   In the present invention, the content of the fatty acid silver salt (D) is based on 100 parts by mass of the total of the spherical silver powder (A) and the flaky silver powder (B) because the printability is better. The amount is preferably 0.1 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass.

<カチオン系硬化剤(E)>
本発明の導電性組成物は、所望により上記エポキシ樹脂(C)を含有する場合、エポキシ樹脂の硬化剤としてカチオン系硬化剤(E)を含有するのが好ましい。
上記カチオン系硬化剤(E)は、特に限定されず、アミン系、スルホニウム系、アンモニウム系、ホスホニウム系の硬化剤が好ましい。
上記カチオン系硬化剤(E)としては、具体的には、例えば、三フッ化ホウ素エチルアミン、三フッ化ホウ素ピペリジン、三フッ化ホウ素フェノール、p−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルイオドニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルスルホニウム、テトラ−n−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート、下記式(I)で表されるスルホニウム塩等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらのうち、硬化時間が短くなるという理由から、下記式(I)で表されるスルホニウム塩を用いるのが好ましい。
<Cationic curing agent (E)>
When the conductive composition of the present invention optionally contains the epoxy resin (C), it preferably contains a cationic curing agent (E) as a curing agent for the epoxy resin.
The cationic curing agent (E) is not particularly limited, and amine-based, sulfonium-based, ammonium-based, and phosphonium-based curing agents are preferable.
Specific examples of the cationic curing agent (E) include boron trifluoride ethylamine, boron trifluoride piperidine, boron trifluoride phenol, p-methoxybenzenediazonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexa Fluorophosphate, tetraphenylsulfonium, tetra-n-butylphosphonium tetraphenylborate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphorodithioate, sulfonium salts represented by the following formula (I), and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, it is preferable to use a sulfonium salt represented by the following formula (I) because the curing time is shortened.

(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子を表し、R2は、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよいベンジル基またはα−ナフチルメチル基を表し、R3は、炭素数1〜4のアルキル基を表す。また、Qは、下記式(a)〜(c)のいずれかで表される基を表し、Xは、SbF6、PF6、CF3SO3、(CF3SO22N、BF4、B(C654またはAl(CF3SO34を表す。)
(式(a)中、Rは、水素原子、アセチル基、メトキシカルボニル基またはベンジルオキシカルボニル基を表す。)
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom, and R 2 is substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Q is represented by any one of the following formulas (a) to (c). X represents SbF 6 , PF 6 , CF 3 SO 3 , (CF 3 SO 2 ) 2 N, BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 or Al (CF 3 SO 3 ) 4 . )
(In the formula (a), R represents a hydrogen atom, an acetyl group, a methoxycarbonyl group or a benzyloxycarbonyl group.)

上記式(I)で表されるスルホニウム塩のうち、半田付け性が良好な電極を形成することができる理由から、上記式(I)中のXがSbF6で表されるスルホニウム塩であるのが好ましく、その具体例としては、下記式(1)および(2)で表される化合物が挙げられる。 Among the sulfonium salts represented by the above formula (I), X in the above formula (I) is a sulfonium salt represented by SbF 6 because an electrode having good solderability can be formed. Are preferred, and specific examples thereof include compounds represented by the following formulas (1) and (2).

また、本発明においては、上記カチオン系硬化剤(E)の含有量は、熱により活性化してエポキシ基の開環反応を十分に進行させることができるという理由から、上記エポキシ樹脂(C)100質量部に対して1〜10質量部であるのが好ましく、1〜5質量部であるのがより好ましい。   In the present invention, since the content of the cationic curing agent (E) can be activated by heat to sufficiently proceed with the ring-opening reaction of the epoxy group, the epoxy resin (C) 100 is used. It is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 5 parts by mass with respect to parts by mass.

<溶媒(F)>
本発明の導電性組成物は、印刷性等の作業性の観点から、更に溶媒(F)を含有するのが好ましい。
上記溶媒(F)は、本発明の導電性組成物を基材上に塗布することができるものであれば特に限定されず、その具体例としては、ブチルカルビトール、メチルエチルケトン、イソホロン、α−テルピネオール等が挙げられ、これらを1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
また、上記溶媒(F)を含有する場合の含有量は、上記球状銀粉(A)および上記フレーク状銀粉(B)の合計100質量部に対して、2〜20質量部であるのが好ましく、5〜15質量部であるのがより好ましい。
<Solvent (F)>
The conductive composition of the present invention preferably further contains a solvent (F) from the viewpoint of workability such as printability.
The solvent (F) is not particularly limited as long as the conductive composition of the present invention can be applied onto a substrate. Specific examples thereof include butyl carbitol, methyl ethyl ketone, isophorone, α-terpineol. These may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.
Moreover, it is preferable that content in the case of containing the said solvent (F) is 2-20 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the said spherical silver powder (A) and the said flaky silver powder (B), It is more preferably 5 to 15 parts by mass.

<添加剤>
本発明の導電性組成物は、必要に応じて、上述した球状銀粉(A)およびフレーク状銀粉(B)以外の金属粉、還元剤等の添加剤を含有していてもよい。
上記金属粉としては、具体的には、例えば、銅、アルミニウム等が挙げられ、中でも、銅であるのが好ましい。また、0.01〜10μmの粒径の金属粉であるのが好ましい。
上記還元剤としては、具体的には、例えば、エチレングリコール類等が挙げられる。
一方、アスペクト比をより高くすることができ、また、上述したエポキシ樹脂(C)の分解を抑制する理由から、酸化銀の含有量は上述した溶媒(F)100質量部に対して5質量部以下であるのが好ましく、1質量部以下であるのがより好ましく、実質的に酸化銀を含有していない態様が最も好ましい。
<Additives>
The electrically conductive composition of this invention may contain additives, such as metal powder other than the spherical silver powder (A) mentioned above and flaky silver powder (B), and a reducing agent as needed.
Specific examples of the metal powder include copper and aluminum. Among them, copper is preferable. Moreover, it is preferable that it is a metal powder with a particle size of 0.01-10 micrometers.
Specific examples of the reducing agent include ethylene glycols.
On the other hand, since the aspect ratio can be further increased and the decomposition of the epoxy resin (C) described above is suppressed, the content of silver oxide is 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solvent (F) described above. It is preferably the following, more preferably 1 part by mass or less, and most preferably an embodiment containing substantially no silver oxide.

本発明の導電性組成物の製造方法は特に限定されず、上記球状銀粉(A)および上記フレーク状銀粉(B)ならびに所望により含有してもよい上記エポキシ樹脂(C)、上記脂肪酸銀塩(D)、上記カチオン系硬化剤(E)、上記溶媒(F)および添加剤を、ロール、ニーダー、押出し機、万能かくはん機等により混合する方法が挙げられる。   The manufacturing method of the electroconductive composition of this invention is not specifically limited, The said spherical silver powder (A) and the said flaky silver powder (B), the said epoxy resin (C) which may be contained depending on necessity, the said fatty acid silver salt ( D), the said cationic hardening | curing agent (E), the said solvent (F), and an additive are mixed with a roll, a kneader, an extruder, a universal stirrer, etc. are mentioned.

〔太陽電池セル〕
本発明の太陽電池セルは、受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、上記表面電極および/または上記裏面電極が、上述した本発明の導電性組成物を用いて形成される太陽電池セルである。
ここで、本発明の太陽電池セルは、上述した本発明の導電性組成物が全裏面電極型(いわゆるバックコンタクト型)太陽電池の裏面電極の形成にも適用することができるため、全裏面電極型の太陽電池にも適用することができる。
以下に、本発明の太陽電池セルの構成について図1を用いて説明する。
[Solar cells]
The solar cell of the present invention comprises a light-receiving surface-side surface electrode, a semiconductor substrate, and a back electrode, and the surface electrode and / or the back electrode is formed using the above-described conductive composition of the present invention. It is a solar battery cell.
Here, the solar battery cell of the present invention can be applied to the formation of the back electrode of the all back electrode type (so-called back contact type) solar battery because the above-described conductive composition of the present invention can be applied to the all back electrode. The present invention can also be applied to a type solar cell.
Below, the structure of the photovoltaic cell of this invention is demonstrated using FIG.

図1に示すように、本発明の太陽電池セル1は、受光面側の表面電極4と、p層5およびn層2が接合したpn接合シリコン基板7と、裏面電極6とを具備するものである。
また、図1に示すように、本発明の太陽電池セル1は、反射率低減のため、例えば、ウェハー表面にエッチングを施して、ピラミッド状のテクスチャを形成し、反射防止膜3を具備するのが好ましい。
As shown in FIG. 1, a solar cell 1 of the present invention includes a surface electrode 4 on the light-receiving surface side, a pn junction silicon substrate 7 in which a p layer 5 and an n layer 2 are joined, and a back electrode 6. It is.
Further, as shown in FIG. 1, the solar battery cell 1 of the present invention is provided with an antireflection film 3 by, for example, etching the wafer surface to form a pyramidal texture in order to reduce the reflectance. Is preferred.

<表面電極/裏面電極>
本発明の太陽電池セルが具備する表面電極および裏面電極は、いずれか一方または両方が本発明の導電性組成物を用いて形成されていれば、電極の配置(ピッチ)、形状、高さ、幅等は特に限定されない。なお、電極の高さは、通常、数〜数十μmに設計されるが、本発明の導電性組成物を用いて形成した電極のアスペクト比は0.4以上に調整することが可能となる。
ここで、表面電極および裏面電極は、図1に示すように、通常、複数個有するものであるが、本発明においては、例えば、複数の表面電極の一部のみが本発明の導電性組成物で形成されたものであってもよく、複数の表面電極の一部と複数の裏面電極の一部が本発明の導電性組成物で形成されたものであってもよい。
<Front electrode / Back electrode>
If either one or both of the front electrode and the back electrode included in the solar battery cell of the present invention are formed using the conductive composition of the present invention, the electrode arrangement (pitch), shape, height, The width and the like are not particularly limited. The height of the electrode is usually designed to be several to several tens of μm, but the aspect ratio of the electrode formed using the conductive composition of the present invention can be adjusted to 0.4 or more. .
Here, as shown in FIG. 1, the front surface electrode and the back surface electrode usually have a plurality, but in the present invention, for example, only a part of the plurality of front surface electrodes is the conductive composition of the present invention. Or a part of the plurality of front surface electrodes and a part of the plurality of back surface electrodes may be formed of the conductive composition of the present invention.

<反射防止膜>
本発明の太陽電池セルが具備していてもよい反射防止膜は、受光面の表面電極が形成されていない部分に形成される膜(膜厚:0.05〜0.1μm程度)であって、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、酸化チタン膜、これらの積層膜等から構成されるものである。
<Antireflection film>
The antireflection film that the solar battery cell of the present invention may have is a film (film thickness: about 0.05 to 0.1 μm) formed on a portion of the light receiving surface where the surface electrode is not formed. For example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a titanium oxide film, or a laminated film thereof.

<シリコン基板>
本発明の太陽電池セルが具備するシリコン基板は特に限定されず、太陽電池を形成するための公知のシリコン基板(板厚:100〜450μm程度)を用いることができ、また、単結晶または多結晶のいずれのシリコン基板であってもよい。
<Silicon substrate>
The silicon substrate included in the solar battery cell of the present invention is not particularly limited, and a known silicon substrate (plate thickness: about 100 to 450 μm) for forming a solar battery can be used, and a single crystal or polycrystal Any silicon substrate may be used.

また、上記シリコン基板はpn接合を有するが、これは、第1導電型の半導体基板の表面側に第2導電型の受光面不純物拡散領域が形成されていることを意味する。なお、第1導電型がn型の場合には、第2導電型はp型であり、第1導電型がp型の場合には、第2導電型はn型である。
ここで、p型を与える不純物としては、ホウ素、アルミニウム等が挙げられ、n型を与える不純物としては、リン、砒素などが挙げられる。
The silicon substrate has a pn junction, which means that a second conductivity type light-receiving surface impurity diffusion region is formed on the surface side of the first conductivity type semiconductor substrate. When the first conductivity type is n-type, the second conductivity type is p-type. When the first conductivity type is p-type, the second conductivity type is n-type.
Here, examples of the impurity imparting p-type include boron and aluminum, and examples of the impurity imparting n-type include phosphorus and arsenic.

本発明の太陽電池セルは、表面電極および/または裏面電極が本発明の導電性組成物を用いて形成されているため、電極のアスペクト比が0.4以上となり、受光により発生した起電力を電流として効率良く取り出すことができる。   In the solar cell of the present invention, since the front electrode and / or the back electrode is formed using the conductive composition of the present invention, the aspect ratio of the electrode is 0.4 or more, and the electromotive force generated by light reception is reduced. It can be taken out efficiently as a current.

本発明の太陽電池セルの製造方法は特に限定されないが、本発明の導電性組成物をシリコン基板上に塗布して配線を形成する配線形成工程と、得られた配線を熱処理して電極(表面電極および/または裏面電極)を形成する熱処理工程とを有する方法が挙げられる。
なお、本発明の太陽電池セルが反射防止層を具備する場合、反射防止膜は、プラズマCVD法等の公知の方法により形成することができる。
以下に、配線形成工程、熱処理工程について詳述する。
Although the manufacturing method of the photovoltaic cell of the present invention is not particularly limited, a wiring forming step of forming the wiring by applying the conductive composition of the present invention on a silicon substrate, and heat treating the obtained wiring to form an electrode (surface A heat treatment step of forming an electrode and / or a back electrode).
In addition, when the photovoltaic cell of this invention comprises an antireflection layer, an antireflection film can be formed by well-known methods, such as a plasma CVD method.
Below, a wiring formation process and a heat treatment process are explained in full detail.

<配線形成工程>
上記配線形成工程は、本発明の導電性組成物をシリコン基材上に塗布して配線を形成する工程である。
ここで、塗布方法としては、具体的には、例えば、インクジェット、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷等が挙げられる。
<Wiring formation process>
The said wiring formation process is a process of apply | coating the electrically conductive composition of this invention on a silicon base material, and forming wiring.
Here, specific examples of the coating method include inkjet, screen printing, gravure printing, offset printing, letterpress printing, and the like.

<熱処理工程>
上記熱処理工程は、上記配線形成工程で得られた配線を熱処理して導電性の配線(電極)を得る工程である。
ここで、上記熱処理は特に限定されないが、150〜800℃の温度で、数秒〜数十分間、加熱(焼成)する処理であるのが好ましい。温度および時間がこの範囲であると、シリコン基板上に反射防止膜を形成した場合であっても、ファイヤースルー法により容易に電極を形成することができる。
本発明においては、本発明の導電性組成物を用いているため、低温(150〜500℃程度)であっても、良好な熱処理(焼成)を施すことができる。
なお、本発明においては、上記配線形成工程で得られた配線は、紫外線または赤外線の照射でも電極を形成することができるため、上記熱処理工程は、紫外線または赤外線の照射によるものであってもよい。
<Heat treatment process>
The heat treatment step is a step of obtaining a conductive wiring (electrode) by heat-treating the wiring obtained in the wiring forming step.
Here, although the said heat processing is not specifically limited, It is preferable that it is the process heated (baking) for several seconds-several tens of minutes at the temperature of 150-800 degreeC. When the temperature and time are within this range, even when an antireflection film is formed on the silicon substrate, the electrode can be easily formed by the fire-through method.
In the present invention, since the conductive composition of the present invention is used, favorable heat treatment (firing) can be performed even at a low temperature (about 150 to 500 ° C.).
In the present invention, since the wiring obtained in the wiring formation step can form electrodes even by irradiation with ultraviolet rays or infrared rays, the heat treatment step may be performed by irradiation with ultraviolet rays or infrared rays. .

以下、実施例を用いて、本発明の導電性組成物について詳細に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, the conductive composition of the present invention will be described in detail using examples. However, the present invention is not limited to this.

参考例1〜8、実施例9、参考例10、実施例11〜15、比較例1〜3)
撹拌機に、下記第1表に示す球状銀粉等を下記第1表中に示す組成比となるように添加し、これらを混合することにより導電性組成物を調製した。
(Reference Example 1-8, Example 9, Reference Example 10, Example 11-15, Comparative Examples 1-3)
To the stirrer, spherical silver powder shown in Table 1 below was added so as to have the composition ratio shown in Table 1 below, and these were mixed to prepare a conductive composition.

<スクリーン印刷性>
調製した導電性組成物を、シリコン基板(単結晶シリコンウェハー、LS−25TVA、156mm×156mm×200μm、信越化学工業社製)上に、スクリーン印刷で塗布して配線(線幅:80μm、長さ:5cm)を形成した。
スクリーン印刷で形成した乾燥(焼成)前の配線を光学顕微鏡で観察した。
その結果、断線、蛇行、ニジミおよびメッシュ跡のいずれも確認されない場合を印刷性が極めて良好なものとして「◎」と評価し、断線は確認されないが、蛇行、ニジミおよびメッシュ跡のいずれか1つが確認された場合を印刷性が良好なものとして「○」と評価し、断線は確認されないが、蛇行、ニジミおよびメッシュ跡のいずれか2つ以上が確認された場合を印刷性が劣るものとして「△」と評価し、断線は確認された場合を印刷性が極めて劣るものとして「×」と評価した。これらの結果を下記第1表に示す。
<Screen printability>
The prepared conductive composition is applied on a silicon substrate (single crystal silicon wafer, LS-25TVA, 156 mm × 156 mm × 200 μm, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) by screen printing and wiring (line width: 80 μm, length) : 5 cm).
Wiring before drying (firing) formed by screen printing was observed with an optical microscope.
As a result, when none of the disconnection, meandering, bleeding and mesh marks is confirmed, the printability is evaluated as “良好”, and no disconnection is confirmed, but any one of meandering, bleeding and mesh marks is When confirmed, the printability is evaluated as “good”, and disconnection is not confirmed. However, when any two or more of meandering, bleeding, and mesh marks are confirmed, the printability is inferior. The case where disconnection was confirmed was evaluated as “x” because the printability was extremely inferior. These results are shown in Table 1 below.

<体積抵抗率(比抵抗)>
スクリーン印刷で配線を形成した後、オーブンにて200℃で30分間乾燥し、導電性の配線(電極)を形成させた太陽電池セルのサンプルを作製した。
作製した各太陽電池セルのサンプルについて、電極の体積抵抗率を抵抗率計(ロレスターGP、三菱化学社製)を用いた4端子4探針法により測定した。その結果を下記第1表に示す。
<Volume resistivity (specific resistance)>
After forming the wiring by screen printing, it was dried in an oven at 200 ° C. for 30 minutes to produce a solar cell sample on which conductive wiring (electrode) was formed.
About the sample of each produced photovoltaic cell, the volume resistivity of the electrode was measured by a 4-terminal 4-probe method using a resistivity meter (Lorestar GP, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). The results are shown in Table 1 below.

<アスペクト比(焼成後)>
上記と同様に作製した各太陽電池セルのサンプルについて、電極をレーザー顕微鏡で観察し、高さと幅とを測定し、アスペクト比(高さ/幅)を求めた。
アスペクト比が0.4以上0.8未満のサンプルをアスペクト比が高い(満足できる)として「○」と評価し、0.4以下のサンプルをアスペクト比が低い(満足できない)として「×」と評価した。これらの結果を下記第1表に示す。
<Aspect ratio (after firing)>
About the sample of each photovoltaic cell produced similarly to the above, the electrode was observed with the laser microscope, height and width were measured, and the aspect ratio (height / width) was calculated | required.
A sample having an aspect ratio of 0.4 or more and less than 0.8 is evaluated as “◯” with a high aspect ratio (satisfactory), and a sample with a aspect ratio of 0.4 or less is evaluated as “x” with a low aspect ratio (not satisfactory). evaluated. These results are shown in Table 1 below.

第1表中の各成分は、以下のものを使用した。
・球状銀粉A−1:Ag2−1C(平均粒子径:1.0μm、DOWAエレクトロニクス社製)
・球状銀粉A−2:AgC−103(平均粒子径:1.5μm、福田金属箔粉工業社製)
・フレーク状銀粉B−1:Ag−XF301K(平均厚さ:0.1μm、見掛密度:0.82g/cm3、福田金属箔粉工業社製)
・フレーク状銀粉X:AgC−A(平均厚さ:0.3μm、見掛密度:1.82g/cm3、福田金属箔粉工業社製)
The following were used for each component in Table 1.
-Spherical silver powder A-1: Ag2-1C (average particle size: 1.0 μm, manufactured by DOWA Electronics)
Spherical silver powder A-2: AgC-103 (average particle diameter: 1.5 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.)
・ Flake silver powder B-1: Ag-XF301K (average thickness: 0.1 μm, apparent density: 0.82 g / cm 3 , manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.)
・ Flake silver powder X: AgC-A (average thickness: 0.3 μm, apparent density: 1.82 g / cm 3 , manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.)

・ビスフェノールA型エポキシ樹脂C1−1:YD−019(エポキシ当量:2400〜3300g/eq、新日鐵化学社製)
・多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂C2−1:ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル(EX−821、エポキシ当量:185g/eq、ナガセケムテックス社製)
・PO付加エポキシ樹脂C3−1:プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量:260g/eq、EP−4000S、ADEKA社製)
・PO付加エポキシ樹脂C3−2:350g/eq、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4010S、ADEKA社製)
Bisphenol A type epoxy resin C1-1: YD-019 (epoxy equivalent: 2400-3300 g / eq, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
Polyhydric alcohol glycidyl type epoxy resin C2-1: Polyethylene glycol diglycidyl ether (EX-821, epoxy equivalent: 185 g / eq, manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
PO addition epoxy resin C3-1: propylene oxide addition bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 260 g / eq, EP-4000S, manufactured by ADEKA)
PO addition epoxy resin C3-2: 350 g / eq, propylene oxide addition bisphenol A type epoxy resin (EP-4010S, manufactured by ADEKA)

・イソ酪酸銀塩:まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、イソ酪酸(関東化学社製)38gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、白色のイソ酪酸銀塩を調製した。   Silver salt of isobutyrate: First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 38 g of isobutyric acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) are put into a ball mill and reacted by stirring at room temperature for 24 hours. It was. Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare white silver isobutyrate.

・ネオデカン酸銀塩:まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、ネオデカン酸(東洋合成社製)74.3gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、白色のネオデカン酸銀塩を調製した。   ・ Neodecanoic acid silver salt: First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Co., Ltd.), 74.3 g of neodecanoic acid (manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) are put into a ball mill and stirred at room temperature for 24 hours. Reacted. Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare a white silver neodecanoate.

・2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩:まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、2−ヒドロキシイソ酪酸(東京化成社製)45gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、白色の2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩を調製した。   Silver salt of 2-hydroxyisobutyrate: First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 45 g of 2-hydroxyisobutyric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) are put in a ball mill and are allowed to stand at room temperature for 24 hours The reaction was allowed to stir. Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare white 2-hydroxyisobutyric acid silver salt.

・2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩:まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸(東京化成社製)64gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、白色の2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩を調製した。   ・ 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt: First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Chemical Co., Ltd.), 64 g of 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Then, 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) was put into a ball mill and reacted by stirring at room temperature for 24 hours. Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the resulting powder was dried to prepare white 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt.

・1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩:まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸(新日本理化社製)25.29gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることによって、白色の1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩を調製した。   -1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt: First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Chemical Co., Ltd.), 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) 29 g and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) were placed in a ball mill and reacted by stirring at room temperature for 24 hours. Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare white 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt.

・硬化剤:上記式(1)で表される芳香族スルホニウム塩(Sl−100L、三新化学工業社製)
・溶媒:α−テルピネール
Curing agent: aromatic sulfonium salt represented by the above formula (1) (Sl-100L, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Solvent: α-Terpinel

第1表に示す結果から、フレーク状銀粉(B)のみを用いて調製した比較例1は、断線が見られることから印刷性が極めて悪く、アスペクト比も測定不能なほど小さく、体積抵抗率も高くなることが分かった。
また、球状銀粉(A)と、フレーク状銀粉(B)に該当しないフレーク状銀粉とを併用した比較例2は、比較例1よりも全体的に改善しているが、いまだに印刷性に劣り、アスペクト比も低く、体積抵抗率も高くなることが分かった。
また、球状銀粉(A)のみを用いて調製した比較例3は、印刷性が良好で、体積抵抗率も低くなるが、アスペクト比が低くなることが分かった。
From the results shown in Table 1, Comparative Example 1 prepared using only the flaky silver powder (B) is very poor in printability because of the disconnection, the aspect ratio is too small to be measured, and the volume resistivity is also low. It turned out to be high.
Moreover, although the comparative example 2 which used spherical silver powder (A) and the flaky silver powder which does not correspond to flaky silver powder (B) is improving rather than the comparative example 1, it is still inferior to printability, It was found that the aspect ratio was low and the volume resistivity was high.
Moreover, it turned out that the comparative example 3 prepared using only spherical silver powder (A) has good printability and low volume resistivity but low aspect ratio.

これに対し、球状銀粉(A)とフレーク状銀粉(B)とを併用して調製した参考例1〜8、実施例9、参考例10、実施例11〜15は、印刷性が良好で、アスペクト比も高く、体積抵抗率も低くなることが分かった。
また、脂肪酸銀塩を添加して調製した参考例4〜8、実施例9、参考例10、実施例11〜15は、参考例1と比較して、体積抵抗率が低くなり、また、僅かにアスペクト比も大きくなることが分かった。
On the other hand, Reference Examples 1 to 8, Example 9, Reference Example 10, and Examples 11 to 15 prepared by using the spherical silver powder (A) and the flaky silver powder (B) in combination have good printability. It was found that the aspect ratio was high and the volume resistivity was low.
In addition, Reference Examples 4 to 8, Example 9, Reference Example 10, and Examples 11 to 15 prepared by adding a fatty acid silver salt have a lower volume resistivity than that of Reference Example 1, and are slightly higher. It was found that the aspect ratio also increased.

1 太陽電池セル
2 n層
3 反射防止膜
4 表面電極
5 p層
6 裏面電極
7 シリコン基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solar cell 2 N layer 3 Antireflection film 4 Surface electrode 5 P layer 6 Back electrode 7 Silicon substrate

Claims (9)

平均粒子径が0.5〜5.0μmの球状銀粉(A)と、
平均厚さが0.05〜0.2μmで、かつ、見掛密度が0.4〜1.1g/cm3のフレーク状銀粉(B)と、を含有し、
前記フレーク状銀粉(B)の含有量が、前記球状銀粉(A)および前記フレーク状銀粉(B)の合計の質量に対して10質量%以下である太陽電池集電電極形成用導電性組成物。
Spherical silver powder (A) having an average particle size of 0.5 to 5.0 μm,
A flaky silver powder (B) having an average thickness of 0.05 to 0.2 μm and an apparent density of 0.4 to 1.1 g / cm 3 ,
The conductive composition for forming a solar cell collecting electrode, wherein the content of the flaky silver powder (B) is 10 % by mass or less based on the total mass of the spherical silver powder (A) and the flaky silver powder (B). .
更に、エポキシ樹脂(C)を含有する請求項1に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。   Furthermore, the electroconductive composition for solar cell current collection electrode formation of Claim 1 containing an epoxy resin (C). 更に、脂肪酸銀塩(D)を含有する請求項1または2に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。   Furthermore, the electrically conductive composition for solar cell current collection electrode formation of Claim 1 or 2 containing fatty-acid silver salt (D). 前記エポキシ樹脂(C)が、少なくとも、エポキシ当量が1500〜4000g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂(C1)およびエポキシ当量が1000g/eq以下の多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂(C2)である請求項2または3に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。   The epoxy resin (C) is at least a bisphenol A type epoxy resin (C1) having an epoxy equivalent of 1500 to 4000 g / eq and a polyhydric alcohol glycidyl type epoxy resin (C2) having an epoxy equivalent of 1000 g / eq or less. Item 4. A conductive composition for forming a solar cell collecting electrode according to Item 2 or 3. 前記脂肪酸銀塩(D)が、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を3個以上有するポリカルボン酸銀塩(D2)である請求項3または4に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。   The conductive composition for forming a solar cell collector electrode according to claim 3 or 4, wherein the fatty acid silver salt (D) is a polycarboxylic acid silver salt (D2) having three or more carboxy silver bases (-COOAg). . 前記ポリカルボン酸銀塩(D2)が、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩である請求項5に記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。   The conductive composition for forming a solar cell collector electrode according to claim 5, wherein the silver salt of polycarboxylic acid (D2) is 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt. 前記エポキシ樹脂(C)の含有量が、前記球状銀粉(A)および前記フレーク状銀粉(B)の合計100質量部に対して2〜20質量部である請求項2〜6のいずれかに記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。   The content of the epoxy resin (C) is 2 to 20 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the spherical silver powder (A) and the flaky silver powder (B). A conductive composition for forming a solar cell collector electrode. 前記脂肪酸銀塩(D)の含有量が、前記球状銀粉(A)および前記フレーク状銀粉(B)の合計100質量部に対して0.1〜10質量部である請求項3〜7のいずれかに記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物。   The content of the fatty acid silver salt (D) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the spherical silver powder (A) and the flaky silver powder (B). A conductive composition for forming a solar cell collecting electrode according to claim 1. 受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、
前記表面電極および/または前記裏面電極が、請求項1〜8のいずれかに記載の太陽電池集電電極形成用導電性組成物を用いて形成される太陽電池セル。
It comprises a surface electrode on the light receiving surface side, a semiconductor substrate and a back electrode,
The photovoltaic cell in which the said surface electrode and / or the said back surface electrode are formed using the electrically conductive composition for solar cell current collection electrode formation in any one of Claims 1-8.
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