JP2012022795A - Conductive composition and solar cell - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive composition capable of forming an electrode, etc. with reduced volume resistivity and excellent adhesion to a silicon substrate, and to provide a solar cell with an electrode formed by using the same.SOLUTION: A conductive composition contains silver powder (A), a fatty acid silver salt (B), an epoxy resin (C) and a cationic curing agent (D). The cationic curing agent (D) is preferably a sulfonium salt. More preferably, the fatty acid silver salt (B) is a fatty acid silver salt (B1) having one or more of each of carboxy silver salt groups (-COOAg) and hydroxyl groups (-OH), and/or polycarboxylic acid silver salt (B2) having two or more carboxy silver salt groups (-COOAg).

Description

本発明は、導電性組成物およびそれを用いて電極を形成した太陽電池セルに関する。   The present invention relates to a conductive composition and a solar battery cell in which an electrode is formed using the conductive composition.

太陽光のような光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽電池は、地球環境問題に対する関心が高まるにつれ、積極的に種々の構造・構成のものが開発されている。その中でも、シリコンなどの半導体基板を用いた太陽電池は、その変換効率、製造コストなどの優位性により最も一般的に用いられている。   Solar cells that convert light energy such as sunlight into electrical energy have been actively developed in various structures and configurations as interest in global environmental issues increases. Among them, solar cells using a semiconductor substrate such as silicon are most commonly used due to advantages such as conversion efficiency and manufacturing cost.

このような太陽電池の電極を形成する材料としては、エポキシ樹脂系のペースト材料が知られている。
例えば、特許文献1には、「銀粉末と加熱硬化性成分と溶剤とを主成分とし、前記加熱硬化性成分がエポキシ当量1000以下のエポキシ樹脂とエポキシ当量1500以上のエポキシ樹脂と硬化剤とを含有することを特徴とする導電性ペースト組成物。」が記載され([請求項1])、硬化剤が、イミダゾール類、三級アミンおよびフッ化ホウ素を含むルイス酸およびそれらの錯体あるいは塩からなる群の少なくとも一つから選ばれることが記載されている([請求項3])。
As a material for forming such an electrode of a solar cell, an epoxy resin-based paste material is known.
For example, Patent Document 1 states that “a silver powder, a thermosetting component, and a solvent are the main components, and the thermosetting component includes an epoxy resin having an epoxy equivalent of 1000 or less, an epoxy resin having an epoxy equivalent of 1500 or more, and a curing agent. (Claim 1) ”, and the curing agent is selected from Lewis acids containing imidazoles, tertiary amines and boron fluoride, and complexes or salts thereof. It is described that it is selected from at least one of the following groups ([Claim 3]).

一方、特許文献2および3には、液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイパネル(PDP)のような平板ディスプレイの導電線パターン形成、タッチスクリーンの電極部、面発光バックライト(FFL)のPAD部電極、フレキシブルPCBとRFIDのアンテナ等に用いられる導電膜を形成する銀ペーストが記載されており、特許文献2には、「炭素数0〜12の脂肪酸銀0.1〜60重量%;銀粉末1〜80重量%;バインダー0.1〜15重量%;及び有機溶媒残量で構成される導電膜形成用銀ペースト。」が記載され([請求項1])、また、硬化剤としてイミダゾール、脂肪酸銀としてクエン酸、銀粉末として板型銀粉末、バインダーとしてエポキシ樹脂バインダーが記載されている([0024][0027][0035])。   On the other hand, in Patent Documents 2 and 3, conductive line pattern formation for flat panel displays such as liquid crystal displays (LCDs) and plasma display panels (PDPs), electrode parts for touch screens, and PAD part electrodes for surface emitting backlights (FFLs). In addition, a silver paste for forming a conductive film used for an antenna of a flexible PCB and an RFID is described. Patent Document 2 describes “0.1 to 60 wt% of fatty acid silver having 0 to 12 carbon atoms; silver powder 1 -80% by weight; 0.1-15% by weight of binder; and a silver paste for forming a conductive film composed of the remaining amount of organic solvent ”([Claim 1]), and imidazole and fatty acid as curing agents. Citric acid is described as silver, plate-type silver powder as silver powder, and epoxy resin binder as binder ([0024] [0027] [0 35]).

特開2006−40708号公報JP 2006-40708 A 特表2010−504612号公報Special table 2010-504612 gazette 特表2010−505230号公報Special table 2010-505230 gazette

しかしながら、特許文献1に記載された導電性ペースト組成物は、銀粉末の連結が進行せず、電極や配線の体積抵抗率(比抵抗)が高くなる場合があり、また、シリコン基板との密着性が劣ることが明らかとなった。
また、特許文献2および3に記載されたペースト材料は、使用する硬化剤の種類や焼成温度によっては、導電線パターンや電極の形成に用いられる導電膜の体積抵抗率(比抵抗)が高くなる場合があることが明らかとなった。
However, the conductive paste composition described in Patent Document 1 does not proceed with the connection of silver powder, and may have a high volume resistivity (specific resistance) of electrodes and wirings. It became clear that the sex was inferior.
In addition, the paste materials described in Patent Documents 2 and 3 have a high volume resistivity (specific resistance) of a conductive film used for forming a conductive line pattern or an electrode depending on the type of curing agent used and the firing temperature. It became clear that there was a case.

そこで、本発明は、体積抵抗率を低く、また、シリコン基板との密着性にも優れる電極・配線や導電膜(以下、「電極等」という。)を形成することができる導電性組成物およびそれを用いて電極を形成した太陽電池セルを提供することを課題とする。   Therefore, the present invention provides a conductive composition capable of forming an electrode / wiring or conductive film (hereinafter referred to as “electrode or the like”) having a low volume resistivity and excellent adhesion to a silicon substrate, and It is an object to provide a solar battery cell in which an electrode is formed using the same.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、銀粉、脂肪酸銀塩およびエポキシ樹脂に対して、カチオン系硬化剤を含有する導電性組成物が、体積抵抗率を低く、また、シリコン基板との密着性にも優れる電極等を形成することができることを見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は、下記(1)〜(16)を提供する。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that a conductive composition containing a cationic curing agent has a low volume resistivity with respect to silver powder, fatty acid silver salt and epoxy resin, and silicon The inventors have found that an electrode having excellent adhesion to a substrate can be formed and completed the present invention. That is, the present invention provides the following (1) to (16).

(1)銀粉(A)と、脂肪酸銀塩(B)と、エポキシ樹脂(C)と、カチオン系硬化剤(D)とを含有する導電性組成物。   (1) A conductive composition containing silver powder (A), a fatty acid silver salt (B), an epoxy resin (C), and a cationic curing agent (D).

(2)上記カチオン系硬化剤(D)が、下記式(i)で表されるスルホニウム塩である上記(1)に記載の導電性組成物。
(式(i)中、Xは、水酸基または下記式(a)〜(c)のいずれかで表される基を表し、Arはアリール基を表す。)
(式(a)〜(c)中、Rは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族または脂肪族の炭化水素基を表す。)
(2) The conductive composition according to (1), wherein the cationic curing agent (D) is a sulfonium salt represented by the following formula (i).
(In formula (i), X represents a hydroxyl group or a group represented by any of the following formulas (a) to (c), and Ar represents an aryl group.)
(In formulas (a) to (c), each R independently represents an aromatic or aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent.)

(3)上記脂肪酸銀塩(B)が、カルボキシ銀塩基(−COOAg)と水酸基(−OH)とをそれぞれ1個以上有する脂肪酸銀塩(B1)、および/または、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を2個以上有するポリカルボン酸銀塩(B2)である上記(1)または(2)に記載の導電性組成物。   (3) The fatty acid silver salt (B1) in which the fatty acid silver salt (B) has at least one carboxy silver base (—COOAg) and one hydroxyl group (—OH), and / or a carboxy silver base (—COOAg). The conductive composition according to the above (1) or (2), which is a polycarboxylic acid silver salt (B2) having two or more.

(4)上記脂肪酸銀塩(B1)が、下記式(I)〜(III)のいずれかで表される化合物である上記(3)に記載の導電性組成物。
(式(I)中、nは0〜2の整数を表し、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。nが0または1である場合、複数のR2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。nが2である場合、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(II)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(III)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R3は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。)
(4) The conductive composition according to (3), wherein the fatty acid silver salt (B1) is a compound represented by any one of the following formulas (I) to (III).
(In formula (I), n represents an integer of 0 to 2, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. When it is 0 or 1, the plurality of R 2 may be the same or different, and when n is 2, the plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (II), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (III), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. The plurality of R 1 may be the same or different. )

(5)上記脂肪酸銀塩(B1)が、上記カルボキシ銀塩基に対するα位および/またはβ位の炭素原子に上記水酸基を有している上記(3)または(4)に記載の導電性組成物。   (5) The conductive composition according to (3) or (4), wherein the fatty acid silver salt (B1) has the hydroxyl group at a carbon atom at the α-position and / or β-position with respect to the carboxy silver base. .

(6)上記脂肪酸銀塩(B1)が、上記カルボキシ銀塩基を1個有し、上記水酸基を1個または2個有する上記(3)〜(5)のいずれかに記載の導電性組成物。   (6) The conductive composition according to any one of (3) to (5), wherein the fatty acid silver salt (B1) has one carboxy silver base and one or two hydroxyl groups.

(7)上記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、水酸基を有しない上記(3)に記載の導電性組成物。   (7) The conductive composition according to (3), wherein the polycarboxylic acid silver salt (B2) does not have a hydroxyl group.

(8)上記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、下記式(IV)で表される化合物である上記(3)または(7)に記載の導電性組成物。
(式(IV)中、mは、2〜6の整数を表し、R4は、炭素数1〜24のm価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数2〜12のm価の不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数3〜12のm価の脂環式炭化水素基、または、炭素数6〜12のm価の芳香族炭化水素基を表す。R4の炭素数をpとすると、m≦2p+2である。)
(8) The conductive composition according to (3) or (7), wherein the polycarboxylic acid silver salt (B2) is a compound represented by the following formula (IV).
(In Formula (IV), m represents an integer of 2 to 6, R 4 represents an m-valent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and an m-valent unsaturated fat having 2 to 12 carbon atoms. family hydrocarbon group, m-valent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or, when the carbon number of the .R 4 representing the m-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms and p, m ≦ 2p + 2.)

(9)上記エポキシ樹脂(C)が、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂である上記(1)〜(8)のいずれかに記載の導電性組成物。   (9) The conductive composition according to any one of (1) to (8), wherein the epoxy resin (C) is an epoxy resin to which ethylene oxide and / or propylene oxide is added.

(10)上記脂肪酸銀塩(B1)が、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩および/または2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩である上記(3)〜(6)および(9)のいずれかに記載の導電性組成物。   (10) The above (3) to (6) and (9), wherein the fatty acid silver salt (B1) is 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt and / or 2-hydroxyisobutyric acid silver salt ).

(11)上記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩である上記(3)および(7)〜(9)のいずれかに記載の導電性組成物。   (11) The electrical conductivity according to any one of (3) and (7) to (9), wherein the polycarboxylic acid silver salt (B2) is 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt. Composition.

(12)上記脂肪酸銀塩(B)の含有量が、上記銀粉(A)100質量部に対して、1〜100質量部である上記(1)〜(11)のいずれかに記載の導電性組成物。   (12) The conductivity according to any one of (1) to (11), wherein the content of the fatty acid silver salt (B) is 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silver powder (A). Composition.

(13)上記エポキシ樹脂(C)の含有量が、上記銀粉(A)100質量部に対して、1〜50質量部である上記(1)〜(12)のいずれかに記載の導電性組成物。   (13) The conductive composition according to any one of (1) to (12), wherein the content of the epoxy resin (C) is 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silver powder (A). object.

(14)上記カチオン系硬化剤(D)の含有量が、上記エポキシ樹脂(C)100質量部に対して、0.1〜10質量部である上記(1)〜(13)のいずれかに記載の導電性組成物。   (14) The content of the cationic curing agent (D) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (C). The electroconductive composition as described.

(15)太陽電池電極用ペーストに用いる上記(1)〜(14)のいずれかに記載の導電性組成物。   (15) The conductive composition according to any one of (1) to (14), which is used for a solar cell electrode paste.

(16)受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、
上記表面電極および/または上記裏面電極が、上記(15)に記載の導電性組成物を用いて形成される太陽電池セル。
(16) It comprises a surface electrode on the light receiving surface side, a semiconductor substrate and a back electrode,
The photovoltaic cell in which the said surface electrode and / or the said back surface electrode are formed using the electrically conductive composition as described in said (15).

以下に示すように、本発明によれば、体積抵抗率を低く、また、シリコン基板との密着性にも優れる電極等を形成することができる導電性組成物およびそれを用いて電極を形成した太陽電池セルを提供することができる。
また、本発明の導電性組成物を用いれば、低温(150〜350℃程度)焼成であっても、断線の発生を抑制して電極等を形成することができるため、シリコン基板への熱によるダメージを軽減できる効果も有し、非常に有用である。
更に、本発明の導電性組成物を用いれば、シリコン基板のみならず、耐熱性の低い基材上にも電子回路、アンテナ等の回路を容易かつ短時間で作製することができるため非常に有用である。
As shown below, according to the present invention, a conductive composition capable of forming an electrode or the like having a low volume resistivity and excellent adhesion to a silicon substrate, and an electrode formed using the same A solar battery cell can be provided.
In addition, if the conductive composition of the present invention is used, even when firing at a low temperature (about 150 to 350 ° C.), an electrode or the like can be formed while suppressing the occurrence of disconnection. It has the effect of reducing damage and is very useful.
Furthermore, if the conductive composition of the present invention is used, a circuit such as an electronic circuit or an antenna can be easily and quickly produced not only on a silicon substrate but also on a substrate having low heat resistance. It is.

図1は太陽電池セルの好適な実施態様の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a preferred embodiment of a solar battery cell. 図2は実施例で使用する銀粉(AgC−103、福田金属箔社製)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影した写真である。FIG. 2 is a photograph of the silver powder (AgC-103, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.) used in the examples taken with a scanning electron microscope (SEM). 図3は実施例で使用する銀粉(AgC−2011、福田金属箔社製)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影した写真である。FIG. 3 is a photograph of silver powder (AgC-2011, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.) used in the examples taken with a scanning electron microscope (SEM).

本発明の導電性組成物は、銀粉(A)と、脂肪酸銀塩(B)と、エポキシ樹脂(C)と、カチオン性硬化剤(D)とを含有する導電性組成物である。
また、本発明の導電性組成物は、後述するように印刷性等の観点から、必要に応じて溶媒(E)を含有していてもよい。
以下に、銀粉(A)、脂肪酸銀塩(B)、エポキシ樹脂(C)およびカチオン性硬化剤(D)ならびに所望により含有してもよい溶媒(E)について詳述する。
The conductive composition of the present invention is a conductive composition containing silver powder (A), a fatty acid silver salt (B), an epoxy resin (C), and a cationic curing agent (D).
Moreover, the electrically conductive composition of this invention may contain the solvent (E) as needed from viewpoints of printability etc. so that it may mention later.
Hereinafter, the silver powder (A), the fatty acid silver salt (B), the epoxy resin (C) and the cationic curing agent (D) and the solvent (E) which may be optionally contained will be described in detail.

<銀粉(A)>
本発明の導電性組成物で用いる銀粉(A)は特に限定されず、従来公知の導電性ペーストで配合されているものを使用することができる。
<Silver powder (A)>
The silver powder (A) used by the electrically conductive composition of this invention is not specifically limited, What is mix | blended with the conventionally well-known electrically conductive paste can be used.

上記銀粉(A)は、印刷性が良好となり、体積抵抗率のより小さい電極等を形成することができる理由から、平均粒子径が0.5〜10μmの球状の銀粉末であるのが好ましい。
ここで、球状とは、長径/短径の比率が2以下の粒子の形状をいう。
また、平均粒子径とは、球状の銀粉末の粒子径の平均値をいい、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定された50%体積累積径(D50)をいう。なお、平均値を算出する基になる粒子径は、球状の銀粉末の断面が楕円形である場合はその長径と短径の合計値を2で割った平均値をいい、正円形である場合はその直径をいう。
例えば、後述する実施例で使用する銀粉(AgC−103、福田金属箔社製)の写真(図2)で示されるものは球状の銀粉末に該当するが、銀粉(AgC−2011、福田金属箔社製)の写真(図3)で示されるものは球状の銀粉末には該当せず、フレーク(鱗片)状の銀粉末に該当するものである。
The silver powder (A) is preferably a spherical silver powder having an average particle diameter of 0.5 to 10 μm because the printability is good and an electrode having a smaller volume resistivity can be formed.
Here, the term “spherical” refers to the shape of particles having a major axis / minor axis ratio of 2 or less.
Moreover, an average particle diameter means the average value of the particle diameter of spherical silver powder, and means the 50% volume cumulative diameter (D50) measured using the laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus. In addition, when the cross section of the spherical silver powder is elliptical, the particle diameter that is the basis for calculating the average value is the average value obtained by dividing the total value of the major axis and the minor axis by 2, and is a regular circle Refers to its diameter.
For example, what is shown in the photograph (FIG. 2) of silver powder (AgC-103, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.) used in Examples described later corresponds to spherical silver powder, but silver powder (AgC-2011, Fukuda Metal Foil). The photo shown in FIG. 3 (manufactured by Kogyo Co., Ltd.) does not correspond to the spherical silver powder, but corresponds to the flake (scale) -like silver powder.

また、上記銀粉(A)の平均粒子径は、印刷性がより良好となる理由から、0.7〜5μmであるのが好ましく、焼結速度が適当となり作業性に優れる理由から、1〜3μmであるのがより好ましい。   Further, the average particle diameter of the silver powder (A) is preferably 0.7 to 5 μm because the printability is better, and 1 to 3 μm because the sintering speed is appropriate and the workability is excellent. It is more preferable that

本発明においては、このような銀粉(A)として市販品を用いることができ、その具体例としては、AgC−103(形状:球状、平均粒子径:1.5μm、福田金属箔社製)、AG4−8F(形状:球状、平均粒子径:2.2μm、DOWAエレクトロニクス社製)、AG2−1C(形状:球状、平均粒子径:1.0μm、DOWAエレクトロニクス社製)、AG3−11F(形状:球状、平均粒子径:1.4μm、DOWAエレクトロニクス社製)、EHD(形状:球状、平均粒子径:0.5μm、三井金属社製)、AgC−2011(形状:フレーク状、平均粒子径:2〜10μm、福田金属箔社製)等が挙げられる。   In the present invention, commercially available products can be used as such silver powder (A), and specific examples thereof include AgC-103 (shape: spherical, average particle size: 1.5 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.), AG4-8F (shape: spherical, average particle size: 2.2 μm, manufactured by DOWA Electronics), AG2-1C (shape: spherical, average particle size: 1.0 μm, manufactured by DOWA Electronics), AG3-11F (shape: Spherical, average particle size: 1.4 μm, DOWA Electronics Co., Ltd.), EHD (shape: spherical, average particle size: 0.5 μm, Mitsui Kinzoku Co., Ltd.), AgC-2011 (shape: flake shape, average particle size: 2) 10 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.).

また、本発明においては、上記銀粉(A)の含有量は、印刷性が良好となり、体積抵抗率のより小さい電極等を形成することができる理由から、後述する溶媒(E)100質量部に対して300〜700質量部であるのが好ましく、400〜600質量部であるのがより好ましい。   Moreover, in this invention, content of the said silver powder (A) becomes favorable to printability, and since it can form an electrode with a smaller volume resistivity, etc. in 100 mass parts of solvent (E) mentioned later. It is preferable that it is 300-700 mass parts with respect to it, and it is more preferable that it is 400-600 mass parts.

更に、本発明においては、後述する実施例4にも示すように、上記銀粉(A)として、球状の銀粉末とフレーク状の銀粉末とを併用することができる。
ここで、フレーク状の銀粉末を併用する場合の含有量は、上記銀粉(A)の総質量のうち50質量%以下であるのが好ましい。
Furthermore, in this invention, as shown also in Example 4 mentioned later, spherical silver powder and flaky silver powder can be used together as said silver powder (A).
Here, the content when the flaky silver powder is used in combination is preferably 50% by mass or less of the total mass of the silver powder (A).

<脂肪酸銀塩(B)>
本発明の導電性組成物で用いる脂肪酸銀塩(B)は、有機カルボン酸の銀塩であれば特に限定されないが、シリコン基板への熱によるダメージをより軽減できる理由から、カルボキシ銀塩基(−COOAg)と水酸基(−OH)とをそれぞれ1個以上有する脂肪酸銀塩(B1)、および/または、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を2個以上有するポリカルボン酸銀塩(B2)であるのが好ましい。
以下に、脂肪酸銀塩(B1)およびポリカルボン酸銀塩(B2)について詳述する。
<Fatty acid silver salt (B)>
The fatty acid silver salt (B) used in the conductive composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a silver salt of an organic carboxylic acid. However, from the reason that damage to the silicon substrate due to heat can be further reduced, a carboxy silver base (- A fatty acid silver salt (B1) having at least one COOAg) and a hydroxyl group (—OH) and / or a polycarboxylic acid silver salt (B2) having at least two carboxy silver bases (—COOAg). preferable.
Below, fatty acid silver salt (B1) and polycarboxylic acid silver salt (B2) are explained in full detail.

(脂肪酸銀塩(B1))
上記脂肪酸銀塩(B1)は、カルボキシ銀塩基(−COOAg)と水酸基(−OH)とをそれぞれ1個以上有する脂肪酸銀塩であり、具体的には、以下に示す水酸基を1個以上有する脂肪酸と酸化銀とを反応させて得られるものである。
(Fatty acid silver salt (B1))
The fatty acid silver salt (B1) is a fatty acid silver salt having at least one carboxy silver base (—COOAg) and one hydroxyl group (—OH), and specifically, a fatty acid having at least one hydroxyl group shown below. And silver oxide.

上記反応に用いられる脂肪酸は、水酸基を1個以上有する脂肪酸であれば特に限定されず、例えば、下記式(1)〜(3)で表される化合物が挙げられる。   The fatty acid used for the said reaction will not be specifically limited if it is a fatty acid which has 1 or more of hydroxyl groups, For example, the compound represented by following formula (1)-(3) is mentioned.

式(1)中、nは0〜2の整数を表し、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。nが0または1である場合、複数のR2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。nが2である場合、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(2)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(3)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R3は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
In formula (1), n represents an integer of 0 to 2, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. When n is 0 or 1, the plurality of R 2 may be the same or different from each other. When n is 2, the plurality of R 1 may be the same or different.
In Formula (2), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (3), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. The plurality of R 1 may be the same or different.

上記式(1)〜(3)中、R1の炭素数1〜10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基が挙げられる。R1としては、水素原子、メチル基、エチル基であるのが好ましい。
また、上記式(1)中、R2の炭素数1〜6のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ヘプタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基が挙げられる。R2としては、メチレン基、エチレン基であるのが好ましい。上記式(1)中、nの0〜2の整数としては、1または2であるのが好ましい。
また、上記式(3)中、R3の炭素数1〜6のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ヘプタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基が挙げられる。R2としては、メチレン基、エチレン基であるのが好ましい。
In the above formula (1) to (3), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms of R 1, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, n- butyl group, n- pentyl group, n- hexyl group , N-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group. R 1 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.
Moreover, in said formula (1), as a C1-C6 alkylene group of R < 2 >, a methylene group, ethylene group, propane- 1, 3- diyl group, butane- 1, 4- diyl group, heptane-1 , 5-diyl group and hexane-1,6-diyl group. R 2 is preferably a methylene group or an ethylene group. In said formula (1), it is preferable that it is 1 or 2 as an integer of 0-2 of n.
Moreover, in said formula (3), as a C1-C6 alkylene group of R <3>, a methylene group, ethylene group, a propane- 1, 3- diyl group, butane- 1, 4- diyl group, heptane-1 , 5-diyl group and hexane-1,6-diyl group. R 2 is preferably a methylene group or an ethylene group.

上記式(1)で表される化合物としては、具体的には、例えば、下記式(1a)で表される2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸、下記式(1b)で表される2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、下記式(1c)で表されるヒドロキシピバリン酸、下記式(1d)で表されるβ−ヒドロキシイソ酪酸等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the compound represented by the above formula (1) include 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid represented by the following formula (1a) and the following formula (1b). 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, hydroxypivalic acid represented by the following formula (1c), β-hydroxyisobutyric acid represented by the following formula (1d), and the like. You may use independently and may use 2 or more types together.

上記式(2)で表される化合物としては、具体的には、例えば、下記式(2a)で表される2−ヒドロキシ−2−メチル−n−酪酸、下記式(2b)で表される2−ヒドロキシイソ酪酸、下記式(2c)で表されるグリコール酸、下記式(2d)で表されるDL−2−ヒドロキシ酪酸等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the compound represented by the formula (2) include 2-hydroxy-2-methyl-n-butyric acid represented by the following formula (2a) and the following formula (2b). Examples include 2-hydroxyisobutyric acid, glycolic acid represented by the following formula (2c), DL-2-hydroxybutyric acid represented by the following formula (2d), etc., and these may be used alone. More than one species may be used in combination.

上記式(3)で表される化合物としては、具体的には、例えば、下記式(3a)で表されるDL−3−ヒドロキシ酪酸、下記式(3b)で表されるβ−ヒドロキシ吉草酸等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種を併用してもよい。   Specific examples of the compound represented by the above formula (3) include, for example, DL-3-hydroxybutyric acid represented by the following formula (3a) and β-hydroxyvaleric acid represented by the following formula (3b). These may be used, and these may be used alone or in combination of two.

これらのうち、得られる脂肪酸銀塩(B1)の還元が速やかに行われ、銀粒子が生成しやすくなる結果、本発明の導電性組成物を用いた電極等の形成がより低温かつ短時間で可能となる理由から、上記カルボキシ銀塩基に対するα位および/またはβ位の炭素原子に上記水酸基を有しているものが好ましく、上記カルボキシ銀塩基を1個有し、上記水酸基を1個または2個有するものがより好ましい。
特に、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸および/または2−ヒドロキシイソ酪酸であるのが、得られる脂肪酸銀塩(B2)である2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩および/または2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩を含有する本発明の導電性組成物を用いた電極等の形成が更に低温かつ短時間で可能となる理由から好ましい。
Among these, the resulting fatty acid silver salt (B1) is rapidly reduced, and silver particles are easily generated. As a result, formation of an electrode or the like using the conductive composition of the present invention is performed at a lower temperature and in a shorter time. For the reason that it is possible, those having the hydroxyl group at the carbon atom at the α-position and / or β-position with respect to the carboxy silver base are preferred, having one carboxy silver base and one or two hydroxyl groups. Those having the number are more preferable.
In particular, 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid and / or 2-hydroxyisobutyric acid is 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-, which is the resulting fatty acid silver salt (B2). It is preferable because formation of an electrode or the like using the conductive composition of the present invention containing silver butyrate and / or silver 2-hydroxyisobutyrate is possible at a lower temperature and in a shorter time.

一方、上記反応に用いられる酸化銀は、酸化銀(I)、即ち、Ag2Oである。 On the other hand, the silver oxide used in the above reaction is silver oxide (I), that is, Ag 2 O.

上記脂肪酸銀塩(B1)は、上述した水酸基を1個以上有する脂肪酸と酸化銀とを反応させて得られ、以下に示す反応式中の下記式(I)〜(III)で表される化合物であるのが好ましい。
この反応は、例えば、上記式(1)〜(3)で表される化合物を用いた場合は以下に示す反応式で表される反応が進行するものであれば特に限定されないが、上記酸化銀を粉砕しつつ進行させる方法や、上記酸化銀を粉砕した後に上記脂肪酸を反応させる方法が好ましい。前者の方法としては、具体的には、上記酸化銀と、溶剤により上記脂肪酸を溶液化したものとを、ボールミル等により混練し、固体である上記酸化銀を粉砕させながら、室温で、1〜24時間程度、好ましくは2〜8時間反応させるのが好ましい。
The fatty acid silver salt (B1) is obtained by reacting a fatty acid having one or more hydroxyl groups described above with silver oxide, and is represented by the following formulas (I) to (III) in the reaction formulas shown below. Is preferred.
For example, when the compounds represented by the above formulas (1) to (3) are used, this reaction is not particularly limited as long as the reaction represented by the following reaction formula proceeds. A method of proceeding while pulverizing and a method of reacting the fatty acid after pulverizing the silver oxide are preferred. Specifically, as the former method, the above silver oxide and a solution obtained by dissolving the above fatty acid with a solvent are kneaded with a ball mill or the like, and the above solid silver oxide is pulverized at room temperature, The reaction is preferably performed for about 24 hours, preferably 2 to 8 hours.

式(I)中、nは0〜2の整数を表し、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。nが0または1である場合、複数のR2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。nが2である場合、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(II)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(III)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R3は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
In formula (I), n represents an integer of 0 to 2, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. When n is 0 or 1, the plurality of R 2 may be the same or different from each other. When n is 2, the plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (II), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (III), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. The plurality of R 1 may be the same or different.

上記脂肪酸を溶液化する溶媒としては、具体的には、例えば、ブチルカルビトール、メチルエチルケトン、イソホロン、α−テルピネオール等が挙げられ、これらを1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
中でも、イソホロンおよび/またはα−テルピネオールを溶媒として用いるのが、上記反応により得られる脂肪酸銀塩(B1)を含有する本発明の導電性組成物のチクソ性が良好となる。
Specific examples of the solvent for dissolving the fatty acid include butyl carbitol, methyl ethyl ketone, isophorone, α-terpineol, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Good.
Of these, the use of isophorone and / or α-terpineol as a solvent improves the thixotropy of the conductive composition of the present invention containing the fatty acid silver salt (B1) obtained by the above reaction.

(ポリカルボン酸銀塩(B2))
上記ポリカルボン酸銀塩(B2)は、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を2個以上有するポリカルボン酸銀塩であり、具体的には、以下に示すカルボキシ基を2個以上有する脂肪酸と酸化銀とを反応させて得られるものである。
(Polycarboxylic acid silver salt (B2))
The polycarboxylic acid silver salt (B2) is a polycarboxylic acid silver salt having two or more carboxy silver bases (—COOAg), specifically, a fatty acid and silver oxide having two or more carboxy groups shown below. It is obtained by reacting.

上記反応に用いられる脂肪酸は、カルボキシ基を2個以上有する脂肪酸であれば特に限定されないが、水酸基を有していない脂肪酸であるのが好ましく、例えば、下記式(4)で表される化合物等が挙げられる。   Although the fatty acid used for the said reaction will not be specifically limited if it is a fatty acid which has 2 or more of carboxy groups, It is preferable that it is a fatty acid which does not have a hydroxyl group, for example, the compound etc. which are represented by following formula (4) Is mentioned.

式(4)中、mは、2〜6の整数を表し、R4は、炭素数1〜24のm価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数2〜12のm価の不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数3〜12のm価の脂環式炭化水素基、または、炭素数6〜12のm価の芳香族炭化水素基を表す。R4の炭素数をpとすると、m≦2p+2である。
なお、式(4)中、mが2以上の場合、カルボキシ基の炭素が結合するR4の炭素は、同一であっても異なっていてもよい。
In formula (4), m represents an integer of 2 to 6, R 4 represents an m-valent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and an m-valent unsaturated aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms. It represents a hydrocarbon group, an m-valent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an m-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms. When the carbon number of R 4 is p, m ≦ 2p + 2.
In the formula (4), when m is 2 or more, the carbons of R 4 to which the carbon of the carboxy group is bonded may be the same or different.

上記式(4)中、mの2〜6の整数としては、2〜5であるのが好ましく、2〜4であるのがより好ましい。   In said formula (4), as an integer of 2-6 of m, it is preferable that it is 2-5, and it is more preferable that it is 2-4.

上記式(4)中、R4が示す飽和脂肪族炭化水素基の1〜24の炭素数としては、1〜12であるのが好ましく、1〜6であるのがより好ましい。
mが2の場合におけるR4が示す飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エタン−1,1−ジイル基、エタン−1,2−ジイル基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基等が挙げられる。
mが3の場合におけるR4が示す飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、メタン−トリイル基、エタン−1,1,2−トリイル基、プロパン−1,1,3−トリイル基、プロパン−1,2,3−トリイル基、ブタン−1,1,3−トリイル基、ブタン−1,1,4−トリイル基、ブタン−1,2,4−トリイル基等が挙げられる。
mが4の場合におけるR4が示す飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、エタン−1,2,2,2−テトライル基、プロパン−1,2,2,3−テトライル基、ブタン−1,2,3,4−テトライル基等が挙げられる。
In the formula (4), as a 1 to 24 carbon atoms, saturated aliphatic hydrocarbon radical R 4 represents, is preferably from 1 to 12, and more preferably 1-6.
Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 2 include a methylene group, an ethane-1,1-diyl group, an ethane-1,2-diyl group, and a propane-1,3-diyl group. , Butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group and the like.
Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 3 include methane-triyl group, ethane-1,1,2-triyl group, propane-1,1,3-triyl group, propane- Examples include 1,2,3-triyl group, butane-1,1,3-triyl group, butane-1,1,4-triyl group, butane-1,2,4-triyl group.
Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 4 include ethane-1,2,2,2-tetrayl group, propane-1,2,2,3-tetrayl group, butane-1 2,3,4-tetrayl group and the like.

上記式(4)中、R4が示す不飽和脂肪族炭化水素基の2〜12の炭素数としては、2〜10であるのが好ましく、2〜6であるのがより好ましい。
mが2の場合におけるR4が示す不飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、エチレン−1,2−ジイル基、プロペン−1,3−ジイル基等が挙げられる。
mが3の場合におけるR4が示す不飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、プロペン−1,2,3−トリイル基、プロペン−1,3,3−トリイル基等が挙げられる。
mが4の場合におけるR4が示す不飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、プロペン−1,1,2,3−テトライル基等が挙げられる。
In the above formula (4), 2 to 12 carbon atoms of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 are preferably 2 to 10, and more preferably 2 to 6.
Examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 2 include an ethylene-1,2-diyl group and a propene-1,3-diyl group.
Examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 3 include a propene-1,2,3-triyl group and a propene-1,3,3-triyl group.
Examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 4 include a propene-1,1,2,3-tetrayl group.

上記式(4)中、R4が示す脂環式炭化水素基の3〜12の炭素数としては、3〜10であるのが好ましく、3〜6であるのがより好ましい。
mが2の場合におけるR4が示す脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロヘキサン−1,2−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロヘキセン−1,2−ジイル基、シクロヘキセン−4,5−ジイル基、1−メチルシクロヘキセン−4,5−ジイル基等が挙げられる。
mが3の場合におけるR4が示す脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロパン−1,2,3−トリイル基、シクロペンタン−1,1,2−トリイル基、シクロヘキサン−1,2,4−トリイル基等が挙げられる。
mが4の場合におけるR4が示す脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブタン−1,2,3,4−テトライル基、シクロペンタン−1,2,3,4−テトライル基、シクロペンタン−1,2,4,5−テトライル基、シクロヘキサン−1,2,4,5−テトライル基、3,6−ジメチルシクロヘキサン−1,2,4,5−テトライル基等が挙げられる。
In the formula (4), the 3 to 12 carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group R 4 represents, is preferably from 3-10, more preferably 3-6.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 2 include a cyclohexane-1,2-diyl group, a cyclohexane-1,4-diyl group, a cyclohexene-1,2-diyl group, and a cyclohexene- 4,5-diyl group, 1-methylcyclohexene-4,5-diyl group and the like can be mentioned.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 3 include cyclopropane-1,2,3-triyl group, cyclopentane-1,1,2-triyl group, and cyclohexane-1,2. , 4-triyl group and the like.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 4 include cyclobutane-1,2,3,4-tetrayl group, cyclopentane-1,2,3,4-tetrayl group, and cyclopentane. Examples include -1,2,4,5-tetrayl group, cyclohexane-1,2,4,5-tetrayl group, 3,6-dimethylcyclohexane-1,2,4,5-tetrayl group.

上記式(4)中、R4が示す芳香族炭化水素基の6〜12の炭素数としては、6〜10であるのが好ましく、6〜8であるのがより好ましい。
mが2の場合におけるR4が示す芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン−1,2−ジイル基、ベンゼン−1,3−ジイル基、ベンゼン−1,4−ジイル基、ナフタレン−1,4−ジイル基、ナフタレン−2,3−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基等が挙げられる。
mが3の場合におけるR4が示す芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン−1,2,4−トリイル基、ベンゼン−1,3,5−トリイル基等が挙げられる。
mが4の場合におけるR4が示す芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン−1,2,4,5−テトライル基、ビフェニル−3,3′,4,4′−テトライル基等が挙げられる。
In said formula (4), as 6-12 carbon number of the aromatic hydrocarbon group which R < 4 > shows, it is preferable that it is 6-10, and it is more preferable that it is 6-8.
As the aromatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 2, for example, benzene-1,2-diyl group, benzene-1,3-diyl group, benzene-1,4-diyl group, naphthalene-1 , 4-diyl group, naphthalene-2,3-diyl group, naphthalene-2,6-diyl group and the like.
Examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 3 include a benzene-1,2,4-triyl group and a benzene-1,3,5-triyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R 4 when m is 4 include a benzene-1,2,4,5-tetrayl group, a biphenyl-3,3 ′, 4,4′-tetrayl group, and the like. It is done.

上記式(4)で表される化合物としては、例えば、脂肪族ポリカルボン酸、脂環式ポリカルボン酸、芳香族ポリカルボン酸が挙げられる。
脂肪族ポリカルボン酸としては、具体的には、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸などの飽和ジカルボン酸;フマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸;トリカルバリル酸などの飽和トリカルボン酸;アコニット酸などの不飽和トリカルボン酸;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸などの飽和テトラカルボン酸;等が挙げられる。
脂環式ポリカルボン酸としては、具体的には、例えば、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、4−メチル−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸などの不飽和脂環式ジカルボン酸;1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸などの飽和脂環式テトラカルボン酸;等が挙げられる。
芳香族ポリカルボン酸としては、具体的には、例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などのベンゼンジカルボン酸;トリメリット酸、トリメシン酸などのトリカルボン酸;ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸などのテトラカルボン酸;1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸;等が挙げられる。
これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the compound represented by the formula (4) include aliphatic polycarboxylic acids, alicyclic polycarboxylic acids, and aromatic polycarboxylic acids.
Specific examples of the aliphatic polycarboxylic acid include saturated dicarboxylic acids such as malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, and sebacic acid; unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, maleic acid, and itaconic acid; And saturated tricarboxylic acids such as tricarballylic acid; unsaturated tricarboxylic acids such as aconitic acid; saturated tetracarboxylic acids such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid; and the like.
Specific examples of the alicyclic polycarboxylic acid include unsaturated alicyclic dicarboxylic acids such as 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid and 4-methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid. Saturated alicyclic tetracarboxylic acids such as 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid; and the like.
Specific examples of the aromatic polycarboxylic acid include benzenedicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid; tricarboxylic acids such as trimellitic acid and trimesic acid; pyromellitic acid, 3,3 ′, 4 , 4′-biphenyltetracarboxylic acid and the like; 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 2,3-naphthalenedicarboxylic acid and the like; and the like.
These may be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、印刷性が良好となり、本発明の導電性組成物を用いた電極等の形成がより低温かつ短時間で可能となる観点から、脂肪族ポリカルボン酸、脂環式ポリカルボン酸が好ましく、飽和ジカルボン酸、飽和テトラカルボン酸、不飽和脂環式ジカルボン酸であるのがより好ましい。
特に、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸であるのが、得られるポリカルボン酸銀塩(B2)である1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩を含有する本発明の導電性組成物を用いた電極等の形成が更に低温かつ短時間で可能となる理由から好ましい。
Among these, aliphatic polycarboxylic acid and alicyclic polycarboxylic acid are used from the viewpoint that printability is improved and formation of an electrode or the like using the conductive composition of the present invention is possible at a lower temperature and in a shorter time. Saturated dicarboxylic acid, saturated tetracarboxylic acid, and unsaturated alicyclic dicarboxylic acid are more preferable.
In particular, the present invention contains 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt, which is 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, which is the resulting polycarboxylic acid silver salt (B2). It is preferable because formation of an electrode or the like using the conductive composition is possible at a lower temperature and in a shorter time.

一方、上記反応に用いられる酸化銀は、上述した脂肪酸銀塩(B1)の反応(合成)と同様、Ag2Oである。 On the other hand, silver oxide used in the above reaction is similar to the reaction (synthesis) of the fatty acid silver salt (B1) described above, and Ag 2 O.

上記ポリカルボン酸銀塩(B2)は、上述したカルボキシ基を2個以上有するポリカルボン酸と酸化銀とを反応させて得られ、以下に示す反応式中の下記式(IV)で表される化合物であるのが好ましい。
この反応は、例えば、上記式(4)で表される化合物を用いた場合は以下に示す反応式で表される反応が進行するものであれば特に限定されず、上述した式(1)〜(3)で表される化合物を用いた場合と同様の方法が挙げられる。
The polycarboxylic acid silver salt (B2) is obtained by reacting the above-described polycarboxylic acid having two or more carboxy groups with silver oxide, and is represented by the following formula (IV) in the reaction formula shown below. Preferably it is a compound.
For example, when the compound represented by the above formula (4) is used, this reaction is not particularly limited as long as the reaction represented by the following reaction formula proceeds. A method similar to that when the compound represented by (3) is used can be mentioned.

式(IV)中、mは、2〜6の整数を表し、R4は、炭素数1〜24のm価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数2〜12のm価の不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数3〜12のm価の脂環式炭化水素基、または、炭素数6〜12のm価の芳香族炭化水素基を表す。R4の炭素数をpとすると、m≦2p+2である。
なお、式(IV)中、mが2以上の場合、カルボキシ基の炭素が結合するR4の炭素は、同一であっても異なっていてもよい。
In the formula (IV), m represents an integer of 2 to 6, R 4 represents an m-valent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and an m-valent unsaturated aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms. It represents a hydrocarbon group, an m-valent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an m-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms. When the carbon number of R 4 is p, m ≦ 2p + 2.
In the formula (IV), when m is 2 or more, the carbons of R 4 to which the carbon of the carboxy group is bonded may be the same or different.

本発明においては、上記脂肪酸銀塩(B)の含有量は、印刷性が良好となり、体積抵抗率のより小さい電極等を形成することができる理由から、上記銀粉(A)100質量部に対して1〜100質量部であるのが好ましく、5〜50質量部であるのがより好ましい。   In the present invention, the content of the fatty acid silver salt (B) is good for printability, and can form an electrode having a smaller volume resistivity, and therefore, with respect to 100 parts by mass of the silver powder (A). The amount is preferably 1 to 100 parts by mass, and more preferably 5 to 50 parts by mass.

<エポキシ樹脂(C)>
本発明の導電性組成物で用いるエポキシ樹脂(C)は、1分子中に2個以上のオキシラン環(エポキシ基)を有する化合物からなる樹脂であれば特に限定されず、一般的に、エポキシ当量が90〜2000のものである。
このようなエポキシ樹脂としては、従来公知のエポキシ樹脂を用いることができる。
具体的には、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、臭素化ビスフェノールA型、水添ビスフェノールA型、ビスフェノールS型、ビスフェノールAF型、ビフェニル型等のビスフェニル基を有するエポキシ化合物や、ポリアルキレングリコール型、アルキレングリコール型のエポキシ化合物や、ナフタレン環を有するエポキシ化合物や、フルオレン基を有するエポキシ化合物等の二官能型のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂;
フェノールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型、トリスヒドロキシフェニルメタン型、テトラフェニロールエタン型等の多官能型のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂;
ダイマー酸等の合成脂肪酸のグリシジルエステル系エポキシ樹脂;
N,N,N′,N′−テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン(TGDDM)、テトラグリシジルジアミノジフェニルスルホン(TGDDS)、テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン(TGMXDA)、トリグリシジル−p−アミノフェノール、トリグリシジル−m−アミノフェノール、N,N−ジグリシジルアニリン、テトラグリシジル1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン(TG1,3−BAC)、トリグリシジルイソシアヌレート(TGIC)等のグリシジルアミン系エポキシ樹脂;
トリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン環を有するエポキシ化合物、具体的には、例えば、ジシクロペンタジエンとメタクレゾール等のクレゾール類またはフェノール類を重合させた後、エピクロルヒドリンを反応させる公知の製造方法によって得ることができるエポキシ化合物;
脂環型エポキシ樹脂;東レチオコール社製のフレップ10に代表されるエポキシ樹脂主鎖に硫黄原子を有するエポキシ樹脂;ウレタン結合を有するウレタン変性エポキシ樹脂;ポリブタジエン、液状ポリアクリロニトリル−ブタジエンゴムまたはアクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)を含有するゴム変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
<Epoxy resin (C)>
The epoxy resin (C) used in the conductive composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a resin composed of a compound having two or more oxirane rings (epoxy groups) in one molecule. Is 90-2000.
A conventionally well-known epoxy resin can be used as such an epoxy resin.
Specifically, for example, epoxy compounds having a bisphenyl group such as bisphenol A type, bisphenol F type, brominated bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol S type, bisphenol AF type, biphenyl type, and polyalkylene Bifunctional glycidyl ether type epoxy resins such as glycol type, alkylene glycol type epoxy compounds, epoxy compounds having a naphthalene ring, and epoxy compounds having a fluorene group;
Polyfunctional glycidyl ether type epoxy resins such as phenol novolac type, orthocresol novolak type, trishydroxyphenylmethane type, tetraphenylolethane type;
Glycidyl ester epoxy resins of synthetic fatty acids such as dimer acid;
N, N, N ′, N′-tetraglycidyldiaminodiphenylmethane (TGDDM), tetraglycidyldiaminodiphenylsulfone (TGDDS), tetraglycidyl-m-xylylenediamine (TGMXDA), triglycidyl-p-aminophenol, triglycidyl- Glycidylamine epoxy resins such as m-aminophenol, N, N-diglycidylaniline, tetraglycidyl 1,3-bisaminomethylcyclohexane (TG1,3-BAC), triglycidyl isocyanurate (TGIC);
Tricyclo [5,2,1,0 2,6] epoxy compound having a decane ring, specifically, for example, after polymerizing the cresols or phenols such as dicyclopentadiene and cresol are reacted with epichlorohydrin Epoxy compounds obtainable by known production methods;
Cycloaliphatic epoxy resin; epoxy resin represented by Toraythiol Co., Ltd. Frep 10 epoxy resin main chain having sulfur atom; urethane modified epoxy resin having urethane bond; polybutadiene, liquid polyacrylonitrile-butadiene rubber or acrylonitrile butadiene rubber Examples thereof include a rubber-modified epoxy resin containing (NBR).

これらは1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
また、これらのうち、硬化性、耐熱性、耐久性およびコストの観点から、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂であるのが好ましい。
These may be used alone or in combination of two or more.
Of these, bisphenol A type epoxy resins and bisphenol F type epoxy resins are preferable from the viewpoints of curability, heat resistance, durability, and cost.

本発明においては、上記エポキシ樹脂(C)は、体積抵抗率がより低く、シリコン基板との密着性がより良好となる電極等を形成することができる理由から、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂であるのが好ましい。
ここで、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドによる付加は、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF等)をエピクロロヒドリンと反応させてエポキシ樹脂を調製する際に、エチレンおよび/またはプロピレンを添加することにより付加(変性)することができる。
エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂としては市販品を用いることができ、その具体例としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(BEO−60E、新日本理化社製)、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(BPO−20E、新日本理化社製)、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4010S、ADEKA社製)、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4000S、ADEKA社製)等が挙げられる。
In the present invention, the epoxy resin (C) is added with ethylene oxide and / or propylene oxide because it has a lower volume resistivity and can form an electrode having better adhesion to the silicon substrate. It is preferable to be an epoxy resin.
Here, addition with ethylene oxide and / or propylene oxide is performed by adding ethylene and / or propylene when an epoxy resin is prepared by reacting, for example, bisphenol A, bisphenol F, etc.) with epichlorohydrin. (Denaturation).
Commercially available products can be used as the epoxy resin to which ethylene oxide and / or propylene oxide is added. Specific examples thereof include ethylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin (BEO-60E, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), propylene oxide addition. Bisphenol A type epoxy resin (BPO-20E, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.), Propylene oxide added bisphenol A type epoxy resin (EP-4010S, manufactured by ADEKA), Propylene oxide added bisphenol A type epoxy resin (EP-4000S, ADEKA) Manufactured) and the like.

本発明においては、上記エポキシ樹脂(C)の含有量は、体積抵抗率がより低く、シリコン基板との密着性がより良好となる電極等を形成することができる理由から、上記銀粉(A)100質量部に対して、1〜100質量部であるのが好ましく、5〜50質量部であるのがより好ましい。   In the present invention, the content of the epoxy resin (C) is such that the volume resistivity is lower and an electrode or the like having better adhesion to the silicon substrate can be formed, so that the silver powder (A) It is preferable that it is 1-100 mass parts with respect to 100 mass parts, and it is more preferable that it is 5-50 mass parts.

<カチオン系硬化剤(D)>
本発明の導電性組成物で用いるカチオン系硬化剤(D)は、特に限定されず、スルホニウム系、アンモニウム系、ホスホニウム系の硬化剤が好ましい。
上記カチオン系硬化剤(D)としては、具体的には、例えば、三フッ化ホウ素のアミン塩、P−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルイオドニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルスルホニウム、テトラ−n−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート、下記式(i)で表されるスルホニウム塩、下記式(ii)で表されるスルホニウム塩等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Cationic curing agent (D)>
The cationic curing agent (D) used in the conductive composition of the present invention is not particularly limited, and sulfonium-based, ammonium-based, and phosphonium-based curing agents are preferable.
Specific examples of the cationic curing agent (D) include boron trifluoride amine salt, P-methoxybenzenediazonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, tetraphenylsulfonium, tetra-n. -Butylphosphonium tetraphenylborate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithioate, sulfonium salt represented by the following formula (i), sulfonium salt represented by the following formula (ii) These may be used alone or in combination of two or more.

(式(i)中、Xは、水酸基または下記式(a)〜(c)のいずれかで表される基を表し、Arはアリール基を表す。)
(式(a)〜(c)中、Rは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族または脂肪族の炭化水素基を表す。)
(In formula (i), X represents a hydroxyl group or a group represented by any of the following formulas (a) to (c), and Ar represents an aryl group.)
(In formulas (a) to (c), each R independently represents an aromatic or aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent.)

上記式(a)〜(c)中のRは、硬化性を調整する観点から種々の置換基を選択することができるため、特に限定されないが、Rが示す芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数6〜18のアリール基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基が挙げられ、具体的には、フェニル基、ナフチル基、ビフェニレニル基、フルオレニル基、アンスリル基、p−トルエンスルホニル基などアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基などのアリールアルキル基;スチリル基、シンナミル基などのアリールアルケニル基;等が挙げられる。
同様に、Rが示す脂肪族炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜12の飽和または不飽和の鎖式炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等)が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、−CH=CH−(CH28−基、エチニル基等が挙げられる。
R in the above formulas (a) to (c) is not particularly limited because various substituents can be selected from the viewpoint of adjusting curability, but examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R include: An aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an arylalkyl group, and an arylalkenyl group, and specifically, an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylenyl group, a fluorenyl group, an anthryl group, and a p-toluenesulfonyl group; Arylalkyl groups such as benzyl group and phenylethyl group; arylalkenyl groups such as styryl group and cinnamyl group; and the like.
Similarly, examples of the aliphatic hydrocarbon group represented by R include a saturated or unsaturated chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, etc.). Specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, hexyl group, isohexyl group group, 2-ethylhexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, vinyl group, allyl group, isopropenyl group, -CH = CH- (CH 2) 8 - group, ethynyl group Etc.

これらのうち、硬化時間が短くなるという理由から、上記式(i)で表されるスルホニウム塩を用いるのが好ましく、上記式(i)中のXが水酸基または上記式(c)で表される基(特に、p−トルエンスルホニル基)で表されるスルホニウム塩を用いるのがより好ましい。   Among these, it is preferable to use the sulfonium salt represented by the above formula (i) for the reason that the curing time is short, and X in the above formula (i) is represented by a hydroxyl group or the above formula (c). It is more preferable to use a sulfonium salt represented by a group (particularly a p-toluenesulfonyl group).

本発明においては、上述した銀粉(A)、脂肪酸銀塩(B)およびエポキシ樹脂(C)とともに、カチオン系硬化剤(D)を配合した導電性組成物を用いることにより、低温(150〜350℃程度)焼成であっても、体積抵抗率を低く、また、シリコン基板との密着性にも優れる電極等を形成することができる。
これは、低温(150〜350℃程度)でも十分な硬化性を示すカチオン系硬化剤(D)を使用することにより、イミダゾール系硬化剤を使用した場合よりもエポキシ樹脂(C)の重合度が上がり、その結果、上述した銀粉(A)同士の接触が多くなるため、断線の発生を抑制して高い導電性を発現すると考えられる。また、熱処理により脂肪酸銀塩(B)から分解される銀が融解する際にシリコン基板に適度に濡れ広がるため、シリコン基板との密着性が向上すると考えられる。
In this invention, low temperature (150-350) is used by using the conductive composition which mix | blended the cationic hardening | curing agent (D) with the silver powder (A) mentioned above, fatty acid silver salt (B), and an epoxy resin (C). Even when firing, an electrode or the like having a low volume resistivity and excellent adhesion to a silicon substrate can be formed.
This is because the degree of polymerization of the epoxy resin (C) is higher than that when an imidazole curing agent is used by using a cationic curing agent (D) that exhibits sufficient curability even at low temperatures (about 150 to 350 ° C.). As a result, the contact between the silver powders (A) described above increases, and it is considered that the occurrence of disconnection is suppressed and high conductivity is expressed. In addition, when silver decomposed from the fatty acid silver salt (B) is melted by heat treatment, the silicon substrate is appropriately wetted and spread, so that the adhesion to the silicon substrate is considered to be improved.

また、本発明においては、上記カチオン系硬化剤(D)の含有量は、体積抵抗率がより低く、シリコン基板との密着性がより良好となる電極等を形成することができる理由から、上記エポキシ樹脂(C)100質量部に対して、0.1〜10質量部であるのが好ましく、0.1〜5質量部であるのがより好ましい。   In the present invention, the content of the cationic curing agent (D) is such that the volume resistivity is lower and an electrode or the like having better adhesion to the silicon substrate can be formed. It is preferable that it is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins (C), and it is more preferable that it is 0.1-5 mass parts.

<溶媒(E)>
本発明の導電性組成物は、印刷性等の作業性の観点から、溶媒(E)を含有するのが好ましい。
上記溶媒(E)は、本発明の導電性組成物を基材上に塗布することができるものであれば特に限定されず、その具体例としては、ブチルカルビトール、メチルエチルケトン、イソホロン、α−テルピネオール等が挙げられ、これらを1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
<Solvent (E)>
The conductive composition of the present invention preferably contains a solvent (E) from the viewpoint of workability such as printability.
The solvent (E) is not particularly limited as long as it can apply the conductive composition of the present invention onto a substrate. Specific examples thereof include butyl carbitol, methyl ethyl ketone, isophorone, α-terpineol. These may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

<酸化銀>
本発明の導電性組成物は、上述したエポキシ樹脂(C)の分解を抑制し、シリコン基板との優れた密着性を保持できる理由から、酸化銀の含有量は上述した溶媒(E)100質量部に対して5質量部以下であるのが好ましく、1質量部以下であるのがより好ましく、実質的に酸化銀を含有していない態様が最も好ましい。
<Silver oxide>
The conductive composition of the present invention suppresses the above-described decomposition of the epoxy resin (C) and can maintain excellent adhesion to the silicon substrate, so the content of silver oxide is 100 mass of the solvent (E) described above. The amount is preferably 5 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or less, and most preferably an embodiment containing substantially no silver oxide.

<添加剤>
本発明の導電性組成物は、必要に応じて、上述した銀粉(A)以外の金属粉、還元剤等の添加剤を含有していてもよい。
上記金属粉としては、具体的には、例えば、銅、アルミニウム等が挙げられ、中でも、銅であるのが好ましい。また、0.01〜10μmの粒径の金属粉であるのが好ましい。
上記還元剤としては、具体的には、例えば、エチレングリコール類等が挙げられる。
<Additives>
The electrically conductive composition of this invention may contain additives, such as metal powder other than the silver powder (A) mentioned above, a reducing agent, as needed.
Specific examples of the metal powder include copper and aluminum. Among them, copper is preferable. Moreover, it is preferable that it is a metal powder with a particle size of 0.01-10 micrometers.
Specific examples of the reducing agent include ethylene glycols.

本発明の導電性組成物の製造方法は特に限定されず、上記銀粉(A)、上記脂肪酸銀塩(B)、上記エポキシ樹脂(C)および上記カチオン系硬化剤(D)ならびに所望により含有してもよい上記溶媒(E)および添加剤等を、ロール、ニーダー、押出し機、万能かくはん機等により混合する方法が挙げられる。   The method for producing the conductive composition of the present invention is not particularly limited, and the silver powder (A), the fatty acid silver salt (B), the epoxy resin (C), the cationic curing agent (D), and optionally contained. Examples thereof include a method of mixing the solvent (E), additives, and the like, which may be mixed, using a roll, a kneader, an extruder, a universal agitator, or the like.

本発明の太陽電池セルは、受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、上記表面電極および/または上記裏面電極が、上述した本発明の導電性組成物を用いて形成される太陽電池セルである。
ここで、本発明の太陽電池セルは、上述した本発明の導電性組成物が全裏面電極型(いわゆるバックコンタクト型)太陽電池の裏面電極の形成にも適用することができるため、全裏面電極型の太陽電池にも適用することができる。
以下に、本発明の太陽電池セルの構成について図1を用いて説明する。
The solar cell of the present invention comprises a light-receiving surface-side surface electrode, a semiconductor substrate, and a back electrode, and the surface electrode and / or the back electrode is formed using the above-described conductive composition of the present invention. It is a solar battery cell.
Here, the solar battery cell of the present invention can be applied to the formation of the back electrode of the all back electrode type (so-called back contact type) solar battery because the above-described conductive composition of the present invention can be applied to the all back electrode. The present invention can also be applied to a type solar cell.
Below, the structure of the photovoltaic cell of this invention is demonstrated using FIG.

図1に示すように、本発明の太陽電池セル1は、受光面側の表面電極4と、p層5およびn層2が接合したpn接合シリコン基板7と、裏面電極6とを具備するものである。
また、図1に示すように、本発明の太陽電池セル1は、反射率低減のため、例えば、ウェハー表面にエッチングを施して、ピラミッド状のテクスチャを形成し、反射防止膜3を具備するのが好ましい。
As shown in FIG. 1, a solar cell 1 of the present invention includes a surface electrode 4 on the light-receiving surface side, a pn junction silicon substrate 7 in which a p layer 5 and an n layer 2 are joined, and a back electrode 6. It is.
Further, as shown in FIG. 1, the solar battery cell 1 of the present invention is provided with an antireflection film 3 by, for example, etching the wafer surface to form a pyramidal texture in order to reduce the reflectance. Is preferred.

<表面電極/裏面電極>
本発明の太陽電池セルが具備する表面電極および裏面電極は、いずれか一方または両方が本発明の導電性組成物を用いて形成されていれば、電極の配置(ピッチ)、形状、高さ、幅等は特に限定されない。なお、電極の高さは、通常、数〜数十μmに設計されるが、本発明の導電性組成物を用いて形成した電極の断面の高さと幅の比率(高さ/幅)(以下、「アスペクト比」という。)を大きく(例えば、0.4程度以上)調整することが可能となる。
ここで、表面電極および裏面電極は、図1に示すように、通常、複数個有するものであるが、本発明においては、例えば、複数の表面電極の一部のみが本発明の導電性組成物で形成されたものであってもよく、複数の表面電極の一部と複数の裏面電極の一部が本発明の導電性組成物で形成されたものであってもよい。
<Front electrode / Back electrode>
If either one or both of the front electrode and the back electrode included in the solar battery cell of the present invention are formed using the conductive composition of the present invention, the electrode arrangement (pitch), shape, height, The width and the like are not particularly limited. The height of the electrode is usually designed to be several to several tens of μm, but the ratio of the height and width of the cross section of the electrode formed using the conductive composition of the present invention (height / width) (hereinafter referred to as “height / width”) , “Aspect ratio”) can be adjusted to a large value (for example, about 0.4 or more).
Here, as shown in FIG. 1, the front surface electrode and the back surface electrode usually have a plurality, but in the present invention, for example, only a part of the plurality of front surface electrodes is the conductive composition of the present invention. Or a part of the plurality of front surface electrodes and a part of the plurality of back surface electrodes may be formed of the conductive composition of the present invention.

<反射防止膜>
本発明の太陽電池セルが具備していてもよい反射防止膜は、受光面の表面電極が形成されていない部分に形成される膜(膜厚:0.05〜0.1μm程度)であって、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、酸化チタン膜、これらの積層膜等から構成されるものである。
<Antireflection film>
The antireflection film that the solar battery cell of the present invention may have is a film (film thickness: about 0.05 to 0.1 μm) formed on a portion of the light receiving surface where the surface electrode is not formed. For example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a titanium oxide film, or a laminated film thereof.

<シリコン基板>
本発明の太陽電池セルが具備するシリコン基板は特に限定されず、太陽電池を形成するための公知のシリコン基板(板厚:100〜450μm程度)を用いることができ、また、単結晶または多結晶のいずれのシリコン基板であってもよい。
<Silicon substrate>
The silicon substrate included in the solar battery cell of the present invention is not particularly limited, and a known silicon substrate (plate thickness: about 100 to 450 μm) for forming a solar battery can be used, and a single crystal or polycrystal Any silicon substrate may be used.

また、上記シリコン基板はpn接合を有するが、これは、第1導電型の半導体基板の表面側に第2導電型の受光面不純物拡散領域が形成されていることを意味する。なお、第1導電型がn型の場合には、第2導電型はp型であり、第1導電型がp型の場合には、第2導電型はn型である。
ここで、p型を与える不純物としては、ホウ素、アルミニウム等が挙げられ、n型を与える不純物としては、リン、砒素などが挙げられる。
The silicon substrate has a pn junction, which means that a second conductivity type light-receiving surface impurity diffusion region is formed on the surface side of the first conductivity type semiconductor substrate. When the first conductivity type is n-type, the second conductivity type is p-type. When the first conductivity type is p-type, the second conductivity type is n-type.
Here, examples of the impurity imparting p-type include boron and aluminum, and examples of the impurity imparting n-type include phosphorus and arsenic.

本発明の太陽電池セルは、表面電極および/または裏面電極が本発明の導電性組成物を用いて形成されているため、電極のアスペクト比を大きくし易く、受光により発生した起電力を電流として効率良く取り出すことができる。   In the solar battery cell of the present invention, the front electrode and / or the back electrode are formed using the conductive composition of the present invention, so that the aspect ratio of the electrode is easily increased, and the electromotive force generated by light reception is used as the current. It can be taken out efficiently.

本発明の太陽電池セルの製造方法は特に限定されないが、本発明の導電性組成物をシリコン基板上に塗布して配線を形成する配線形成工程と、得られた配線を熱処理して電極(表面電極および/または裏面電極)を形成する電極形成工程とを有する方法が挙げられる。
なお、本発明の太陽電池セルが反射防止層を具備する場合、反射防止膜は、プラズマCVD法等の公知の方法により形成することができる。
以下に、配線形成工程、熱処理工程について詳述する。
Although the manufacturing method of the photovoltaic cell of the present invention is not particularly limited, a wiring forming step of forming the wiring by applying the conductive composition of the present invention on a silicon substrate, and heat treating the obtained wiring to form an electrode (surface Electrode forming step of forming an electrode and / or a back electrode).
In addition, when the photovoltaic cell of this invention comprises an antireflection layer, an antireflection film can be formed by well-known methods, such as a plasma CVD method.
Below, a wiring formation process and a heat treatment process are explained in full detail.

<配線形成工程>
上記配線形成工程は、本発明の導電性組成物をシリコン基材上に塗布して配線を形成する工程である。
ここで、塗布方法としては、具体的には、例えば、インクジェット、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷等が挙げられる。
<Wiring formation process>
The said wiring formation process is a process of apply | coating the electrically conductive composition of this invention on a silicon base material, and forming wiring.
Here, specific examples of the coating method include inkjet, screen printing, gravure printing, offset printing, letterpress printing, and the like.

<熱処理工程>
上記熱処理工程は、上記配線形成工程で得られた塗膜を熱処理して導電性の配線(電極)を得る工程である。
配線を熱処理することにより、脂肪酸銀塩(B)から分解される銀が融解する際に銀粉(A)が連結され、電極(銀膜)が形成される。
<Heat treatment process>
The heat treatment step is a step of obtaining a conductive wiring (electrode) by heat-treating the coating film obtained in the wiring forming step.
By heat-treating the wiring, when the silver decomposed from the fatty acid silver salt (B) melts, the silver powder (A) is connected to form an electrode (silver film).

本発明においては、上記熱処理は特に限定されないが、150〜350℃の比較的低い温度で、数秒〜数十分間、加熱(焼成)する処理であるのが好ましい。温度および時間がこの範囲であると、シリコン基板上に反射防止膜を形成した場合であっても、ファイヤースルー法により容易に電極を形成することができる。
また、本発明においては、本発明の導電性組成物を用いているため、低温(150〜350℃程度)であっても、良好な熱処理(焼成)を施すことができる。
In the present invention, the heat treatment is not particularly limited, but is preferably a treatment of heating (firing) at a relatively low temperature of 150 to 350 ° C. for several seconds to several tens of minutes. When the temperature and time are within this range, even when an antireflection film is formed on the silicon substrate, the electrode can be easily formed by the fire-through method.
In the present invention, since the conductive composition of the present invention is used, good heat treatment (firing) can be performed even at a low temperature (about 150 to 350 ° C.).

なお、本発明においては、上記配線形成工程で得られた配線は、紫外線または赤外線の照射でも電極を形成することができるため、上記熱処理工程は、紫外線または赤外線の照射によるものであってもよい。   In the present invention, since the wiring obtained in the wiring formation step can form electrodes even by irradiation with ultraviolet rays or infrared rays, the heat treatment step may be performed by irradiation with ultraviolet rays or infrared rays. .

以下、実施例を用いて、本発明の導電性組成物について詳細に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, the conductive composition of the present invention will be described in detail using examples. However, the present invention is not limited to this.

(実施例1〜5、比較例1〜2)
ボールミルに、下記第1表に示す銀粉等を下記第1表中に示す組成比となるように添加し、これらを混合することにより導電性組成物を調製した。
次いで、調製した導電性組成物をシリコン基板(単結晶シリコンウェハー、LS−25TVA、156mm×156mm×200μm、信越化学工業社製)上に、スクリーン印刷で塗布して塗膜を形成した後、オーブンにて200℃で30分間乾燥し、導電性被膜を作製した。
(Examples 1-5, Comparative Examples 1-2)
To the ball mill, silver powder and the like shown in Table 1 below were added so as to have the composition ratio shown in Table 1 below, and these were mixed to prepare a conductive composition.
Next, the prepared conductive composition was applied on a silicon substrate (single crystal silicon wafer, LS-25TVA, 156 mm × 156 mm × 200 μm, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) by screen printing to form a coating film. And dried at 200 ° C. for 30 minutes to prepare a conductive film.

<体積抵抗率(比抵抗)>
形成した各導電性被膜について、低抵抗率計(ロレスターGP、三菱化学社製)を用いた4端子4探針法により比抵抗(体積固有抵抗値)を測定した。その結果を下記第1表に示す。
<Volume resistivity (specific resistance)>
About each formed conductive film, the specific resistance (volume specific resistance value) was measured by the 4-terminal 4 probe method using the low resistivity meter (Lorestar GP, Mitsubishi Chemical Corporation make). The results are shown in Table 1 below.

<密着性>
形成した各導電性被膜のシリコン基板に対する密着性の評価は、碁盤目はく離試験により行った。その結果を下記第1表に示す。
具体的には、得られた各導電性被膜付きシリコン基板に、1mmの基盤目を100個(10×10)作り、基盤目上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、指の腹で10回こすった後、テープの一端を導電性膜に直角に保った状態で瞬間的に引き離し、完全に剥がれないで残った基盤目の数を調べた。完全に剥がれないで残った基盤目数が100、即ち、全く剥がれなかったものが最も好ましい。
<Adhesion>
The evaluation of the adhesion of each formed conductive film to the silicon substrate was performed by a grid peel test. The results are shown in Table 1 below.
Specifically, on each of the obtained silicon substrates with a conductive coating, 100 1 mm bases (10 × 10) were made, and cellophane adhesive tape was completely adhered on the bases, and 10 times with the finger pad. After rubbing, one end of the tape was momentarily pulled away while keeping one end of the tape at right angles to the conductive film, and the number of base meshes remaining without being completely peeled was examined. It is most preferable that the number of base meshes remaining without being completely peeled is 100, that is, those having not peeled off at all.

第1表中の各成分は、以下のものを使用した。
・銀粉1:AgC−103(形状:球状、平均粒子径:1.5μm、福田金属箔社製)
・銀粉2:AgC−2011(形状:フレーク状、平均粒子径:2〜10μm、福田金属箔社製)
The following were used for each component in Table 1.
Silver powder 1: AgC-103 (shape: spherical, average particle size: 1.5 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.)
Silver powder 2: AgC-2011 (shape: flake shape, average particle size: 2 to 10 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd.)

・2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸(東京化成社製)64gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、白色の2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩を調製した。
2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 64 g of 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) are put in a ball mill and stirred at room temperature for 24 hours. It was made to react.
Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the resulting powder was dried to prepare white 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt.

・2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、2−ヒドロキシイソ酪酸(東京化成社製)45gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることにより、白色の2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩を調製した。
-Silver 2-hydroxyisobutyrate:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 45 g of 2-hydroxyisobutyric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) were placed in a ball mill and reacted by stirring at room temperature for 24 hours.
Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare white 2-hydroxyisobutyric acid silver salt.

・1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩:
まず、酸化銀(東洋化学工業社製)50g、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸(新日本理化社製)25.29gおよびメチルエチルケトン(MEK)300gをボールミルに投入し、室温で24時間撹拌させることにより反応させた。
次いで、吸引ろ過によりMEKを取り除き、得られた粉末を乾燥させることによって、白色の1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩を調製した。
-1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt:
First, 50 g of silver oxide (manufactured by Toyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 25.29 g of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) and 300 g of methyl ethyl ketone (MEK) were put into a ball mill, and the mixture was stirred at room temperature. The reaction was allowed to stir for hours.
Subsequently, MEK was removed by suction filtration, and the obtained powder was dried to prepare white 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt.

・PO付加エポキシ樹脂:プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4000、ADEKA社製)
・ビスフェノールA型エポキシ樹脂:EP−4100E(ADEKA社製)
・ビスフェノールF型エポキシ樹脂:YDF−170(新日鐵化学社製)
・溶媒:α−テルピネール
・カチオン系硬化剤D1:下記式(i−1)で表されるスルホニウム塩
・カチオン系硬化剤D2:下記式(i−2)で表されるスルホニウム塩
・イミダゾール系硬化剤:アミキュア(味の素ファインテクノ社製)
PO addition epoxy resin: propylene oxide addition bisphenol A type epoxy resin (EP-4000, manufactured by ADEKA)
Bisphenol A type epoxy resin: EP-4100E (manufactured by ADEKA)
・ Bisphenol F type epoxy resin: YDF-170 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
Solvent: α-terpineol Cationic curing agent D1: Sulfonium salt represented by the following formula (i-1) Cationic curing agent D2: Sulfonium salt represented by the following formula (i-2) Imidazole curing Agent: Amicure (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)

第1表に示す結果から、カチオン系硬化剤(D)を用いずにイミダゾール系硬化剤を用いて調製した比較例1および2は、体積抵抗率が高くなることが分かった。
これに対し、カチオン系硬化剤(D)を用いて調製した実施例1〜5は、200℃で30分間という低温焼成条件であっても、体積抵抗率を低く、また、シリコン基板との密着性にも優れることが分かった。
From the results shown in Table 1, it was found that Comparative Examples 1 and 2 prepared using an imidazole curing agent without using a cationic curing agent (D) had a high volume resistivity.
On the other hand, Examples 1 to 5 prepared using the cationic curing agent (D) have low volume resistivity and adhesion to the silicon substrate even under low temperature firing conditions of 200 ° C. for 30 minutes. It turned out that it is excellent also in property.

1 太陽電池セル
2 n層
3 反射防止膜
4 表面電極
5 p層
6 裏面電極
7 シリコン基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solar cell 2 N layer 3 Antireflection film 4 Surface electrode 5 P layer 6 Back electrode 7 Silicon substrate

Claims (16)

銀粉(A)と、脂肪酸銀塩(B)と、エポキシ樹脂(C)と、カチオン系硬化剤(D)とを含有する導電性組成物。   A conductive composition containing silver powder (A), a fatty acid silver salt (B), an epoxy resin (C), and a cationic curing agent (D). 前記カチオン系硬化剤(D)が、下記式(i)で表されるスルホニウム塩である請求項1に記載の導電性組成物。
(式(i)中、Xは、水酸基または下記式(a)〜(c)のいずれかで表される基を表し、Arはアリール基を表す。)
(式(a)〜(c)中、Rは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族または脂肪族の炭化水素基を表す。)
The conductive composition according to claim 1, wherein the cationic curing agent (D) is a sulfonium salt represented by the following formula (i).
(In formula (i), X represents a hydroxyl group or a group represented by any of the following formulas (a) to (c), and Ar represents an aryl group.)
(In formulas (a) to (c), each R independently represents an aromatic or aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent.)
前記脂肪酸銀塩(B)が、カルボキシ銀塩基(−COOAg)と水酸基(−OH)とをそれぞれ1個以上有する脂肪酸銀塩(B1)、および/または、カルボキシ銀塩基(−COOAg)を2個以上有するポリカルボン酸銀塩(B2)である請求項1または2に記載の導電性組成物。   The fatty acid silver salt (B) is a fatty acid silver salt (B1) having at least one carboxy silver base (—COOAg) and one hydroxyl group (—OH) and / or two carboxy silver bases (—COOAg). The conductive composition according to claim 1, which is a polycarboxylic acid silver salt (B2) having the above. 前記脂肪酸銀塩(B1)が、下記式(I)〜(III)のいずれかで表される化合物である請求項3に記載の導電性組成物。
(式(I)中、nは0〜2の整数を表し、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。nが0または1である場合、複数のR2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。nが2である場合、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(II)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式(III)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R3は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。)
The conductive composition according to claim 3, wherein the fatty acid silver salt (B1) is a compound represented by any one of the following formulas (I) to (III).
(In formula (I), n represents an integer of 0 to 2, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. When it is 0 or 1, the plurality of R 2 may be the same or different, and when n is 2, the plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (II), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 1 may be the same or different.
In formula (III), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. The plurality of R 1 may be the same or different. )
前記脂肪酸銀塩(B1)が、前記カルボキシ銀塩基に対するα位および/またはβ位の炭素原子に前記水酸基を有している請求項3または4に記載の導電性組成物。   The conductive composition according to claim 3 or 4, wherein the fatty acid silver salt (B1) has the hydroxyl group at a carbon atom at the α-position and / or the β-position with respect to the carboxy silver base. 前記脂肪酸銀塩(B1)が、前記カルボキシ銀塩基を1個有し、前記水酸基を1個または2個有する請求項3〜5のいずれかに記載の導電性組成物。   The conductive composition according to any one of claims 3 to 5, wherein the fatty acid silver salt (B1) has one of the carboxy silver bases and one or two of the hydroxyl groups. 前記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、水酸基を有しない請求項3に記載の導電性組成物。   The conductive composition according to claim 3, wherein the polycarboxylic acid silver salt (B2) does not have a hydroxyl group. 前記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、下記式(IV)で表される化合物である請求項3または7に記載の導電性組成物。
(式(IV)中、mは、2〜6の整数を表し、R4は、炭素数1〜24のm価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数2〜12のm価の不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数3〜12のm価の脂環式炭化水素基、または、炭素数6〜12のm価の芳香族炭化水素基を表す。R4の炭素数をpとすると、m≦2p+2である。)
The conductive composition according to claim 3 or 7, wherein the polycarboxylic acid silver salt (B2) is a compound represented by the following formula (IV).
(In Formula (IV), m represents an integer of 2 to 6, R 4 represents an m-valent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and an m-valent unsaturated fat having 2 to 12 carbon atoms. family hydrocarbon group, m-valent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or, when the carbon number of the .R 4 representing the m-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms and p, m ≦ 2p + 2.)
前記エポキシ樹脂(C)が、エチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂である請求項1〜8のいずれかに記載の導電性組成物。   The conductive composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the epoxy resin (C) is an epoxy resin to which ethylene oxide and / or propylene oxide is added. 前記脂肪酸銀塩(B1)が、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−n−酪酸銀塩および/または2−ヒドロキシイソ酪酸銀塩である請求項3〜6および9のいずれかに記載の導電性組成物。   The conductive acid according to claim 3, wherein the fatty acid silver salt (B1) is 2,2-bis (hydroxymethyl) -n-butyric acid silver salt and / or 2-hydroxyisobutyric acid silver salt. Sex composition. 前記ポリカルボン酸銀塩(B2)が、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸銀塩である請求項3および7〜9のいずれかに記載の導電性組成物。   The conductive composition according to any one of claims 3 and 7 to 9, wherein the silver salt of polycarboxylic acid (B2) is 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid silver salt. 前記脂肪酸銀塩(B)の含有量が、前記銀粉(A)100質量部に対して、1〜100質量部である請求項1〜11のいずれかに記載の導電性組成物。   The conductive composition according to any one of claims 1 to 11, wherein a content of the fatty acid silver salt (B) is 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silver powder (A). 前記エポキシ樹脂(C)の含有量が、前記銀粉(A)100質量部に対して、1〜50質量部である請求項1〜12のいずれかに記載の導電性組成物。   Content of the said epoxy resin (C) is 1-50 mass parts with respect to 100 mass parts of said silver powder (A), The electroconductive composition in any one of Claims 1-12. 前記カチオン系硬化剤(D)の含有量が、前記エポキシ樹脂(C)100質量部に対して、0.1〜10質量部である請求項1〜13のいずれかに記載の導電性組成物。   The conductive composition according to any one of claims 1 to 13, wherein a content of the cationic curing agent (D) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (C). . 太陽電池電極用ペーストに用いる請求項1〜14のいずれかに記載の導電性組成物。   The electroconductive composition according to claim 1, which is used for a solar cell electrode paste. 受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、
前記表面電極および/または前記裏面電極が、請求項15に記載の導電性組成物を用いて形成される太陽電池セル。
It comprises a surface electrode on the light receiving surface side, a semiconductor substrate and a back electrode
The photovoltaic cell in which the said surface electrode and / or the said back surface electrode are formed using the electrically conductive composition of Claim 15.
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