JP2012018365A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
JP2012018365A
JP2012018365A JP2010157264A JP2010157264A JP2012018365A JP 2012018365 A JP2012018365 A JP 2012018365A JP 2010157264 A JP2010157264 A JP 2010157264A JP 2010157264 A JP2010157264 A JP 2010157264A JP 2012018365 A JP2012018365 A JP 2012018365A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
substrate
crystal display
protrusion
crystal layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2010157264A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Iwai
義夫 岩井
Junichi Kobayashi
淳一 小林
Kazuyuki Harada
和幸 原田
Takahiro Yamamoto
恭弘 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Central Inc
Original Assignee
Toshiba Mobile Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Mobile Display Co Ltd filed Critical Toshiba Mobile Display Co Ltd
Priority to JP2010157264A priority Critical patent/JP2012018365A/en
Publication of JP2012018365A publication Critical patent/JP2012018365A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device having good display quality.SOLUTION: A liquid crystal display device includes a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer. The first substrate has a common electrode arranged over a first insulating substrate, an insulating film covering the common electrode, multiple pixel electrodes arranged on the insulating film to be opposed to the common electrode and having slits formed therein, and a first oriented film covering the respective pixel electrodes. The second substrate has, on an inner surface of a second insulating substrate opposed to the first substrate, a black matrix arranged over between the pixel electrodes, a color filter arranged over the respective pixel electrodes, and a second oriented film arranged over the color filter at the first substrate side. The liquid crystal layer is retained between the first substrate and the second substrate and has a first region located on between the pixel electrodes and a second region located on the pixel electrodes. When a phase difference value of the liquid crystal layer is defined as Δn*d wherein Δn is refractive index anisotropy of the liquid crystal layer and d is a thickness of the liquid crystal layer, the phase difference value of the first region is smaller than the phase difference value of the second region.

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。   Embodiments described herein relate generally to a liquid crystal display device.

液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力などの特徴を生かして、パーソナルコンピュータなどのOA機器やテレビなどの表示装置として各種分野で利用されている。近年では、液晶表示装置は、携帯電話などの携帯端末機器や、カーナビゲーション装置、ゲーム機などの表示装置としても利用されている。特に、情報量の増大に伴い、高精細化への要求が高まる一方で、屋外での視認性の向上のために高輝度化(あるいは高透過率化)への要求も高まっている。   Liquid crystal display devices are utilized in various fields as display devices for OA equipment such as personal computers and televisions, taking advantage of features such as light weight, thinness, and low power consumption. In recent years, liquid crystal display devices are also used as mobile terminal devices such as mobile phones, display devices such as car navigation devices and game machines. In particular, as the amount of information increases, the demand for higher definition increases, while the demand for higher brightness (or higher transmittance) increases in order to improve outdoor visibility.

液晶表示装置は、スイッチング素子、ゲート配線、ソース配線、画素電極などを備えたアレイ基板と、ブラックマトリクス、カラーフィルタなどを備えた対向基板とを具備している。このような液晶表示装置において、輝度あるいは透過率を高めるためには、個々の画素の光透過面積(以下、開口率と称する)を高める必要があり、具体的には、スイッチング素子を小型化し、かつ、ゲート配線、ソース配線、及び、ブラックマトリクスのそれぞれの幅を細線化していく必要がある。   The liquid crystal display device includes an array substrate including switching elements, gate wirings, source wirings, pixel electrodes, and the like, and a counter substrate including a black matrix, a color filter, and the like. In such a liquid crystal display device, in order to increase luminance or transmittance, it is necessary to increase the light transmission area (hereinafter referred to as aperture ratio) of each pixel. Specifically, the switching element is reduced in size, In addition, it is necessary to reduce the widths of the gate wiring, the source wiring, and the black matrix.

しかしながら、画素の高開口率化に伴い、隣接する画素と画素との間からの光漏れの影響が顕在化する。特に、液晶表示装置を観察する角度(以下、視角と称する)を変化させると、色が変化していく混色の問題が発生するおそれがある。より具体的には、液晶表示装置を正面から観察した場合(すなわち、視角0°の場合)には単色表示であったにもかかわらず、液晶表示装置を斜め方向から観察した場合(すなわち、視角≠0°の場合)には隣接する画素の異なる色のカラーフィルタを透過した光も同時に観察されるため、色味が変化してしまい、表示品位の劣化を招くおそれがある。   However, as the aperture ratio of a pixel increases, the influence of light leakage between adjacent pixels becomes obvious. In particular, when the angle at which the liquid crystal display device is observed (hereinafter referred to as the viewing angle) is changed, there is a possibility that a problem of color mixing in which the color changes occurs. More specifically, when the liquid crystal display device is viewed from the front (that is, when the viewing angle is 0 °), the liquid crystal display device is viewed from an oblique direction (that is, when the viewing angle is 0 °). In the case of ≠ 0 °, the light transmitted through the color filters of different colors of the adjacent pixels is also observed at the same time, so that the color changes and the display quality may be deteriorated.

特開2005−195927号公報JP 2005-195927 A

本実施形態の目的は、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することにある。   An object of the present embodiment is to provide a liquid crystal display device with good display quality.

本実施形態によれば、
第1絶縁基板と、前記第1絶縁基板の上方に配置された共通電極と、前記共通電極を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜の上に配置され前記共通電極と向かい合うとともにスリットが形成された複数の画素電極と、前記画素電極の各々を覆う第1配向膜と、を備えた第1基板と、第2絶縁基板と、前記第2絶縁基板の前記第1基板と対向する内面において前記画素電極の間の直上に配置されたブラックマトリクスと、前記画素電極の各々の直上に配置されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタの前記第1基板側に配置された第2配向膜と、を備えた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に保持されるとともに、前記画素電極の間の直上に位置する第1領域と、前記画素電極の直上に位置する第2領域と、を含む液晶層と、を備え、前記液晶層の屈折率異方性をΔnとし、前記液晶層の厚みをdとし、前記液晶層の位相差値をΔn・dで定義したとき、前記第1領域の位相差値は、前記第2領域の位相差値よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
According to this embodiment,
A plurality of first insulating substrates; a common electrode disposed above the first insulating substrate; an insulating film covering the common electrodes; and a plurality of slits formed on the insulating film so as to face the common electrodes and to form a slit. A first substrate having a first alignment film covering each of the pixel electrodes, a second insulating substrate, and an inner surface of the second insulating substrate facing the first substrate. A black matrix disposed immediately above each of the pixel electrodes, a color filter disposed immediately above each of the pixel electrodes, and a second alignment film disposed on the first substrate side of the color filter. Two substrates, a first region that is held between the first substrate and the second substrate, and is located immediately above the pixel electrodes; a second region that is located immediately above the pixel electrodes; A liquid crystal layer containing When the refractive index anisotropy of the crystal layer is Δn, the thickness of the liquid crystal layer is d, and the retardation value of the liquid crystal layer is defined by Δn · d, the retardation value of the first region is the second retardation value. A liquid crystal display device characterized by being smaller than the retardation value of the region is provided.

図1は、本実施形態における液晶表示装置の構成を概略的に示す平面図である。FIG. 1 is a plan view schematically showing the configuration of the liquid crystal display device according to the present embodiment. 図2は、図1に示した液晶表示パネルの構成及び等価回路を概略的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration and an equivalent circuit of the liquid crystal display panel shown in FIG. 図3は、図2に示したアレイ基板における画素の構造の一例を対向基板の側から見た概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of an example of the pixel structure of the array substrate shown in FIG. 2 as viewed from the counter substrate side. 図4は、図3に示した画素をA−B線で切断した液晶表示パネルの断面構造を概略的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a cross-sectional structure of a liquid crystal display panel in which the pixel shown in FIG. 3 is cut along the line AB. 図5は、本実施形態において適用される各種光学素子の軸角度の関係を説明するための図であり、液晶表示パネルを対向基板の側から観察したときの上面図である。FIG. 5 is a diagram for explaining the relationship between the axial angles of various optical elements applied in this embodiment, and is a top view when the liquid crystal display panel is observed from the counter substrate side. 図6は、本実施形態の液晶表示装置における動作原理を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the operation principle in the liquid crystal display device of the present embodiment. 図7は、本実施形態の第1構成例における液晶表示パネルを概略的に示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing the liquid crystal display panel in the first configuration example of the present embodiment. 図8は、位相差値(Δn×d)に対する各視角での透過光強度の計算結果を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a calculation result of transmitted light intensity at each viewing angle with respect to the phase difference value (Δn × d). 図9は、本実施形態の第2構成例における液晶表示パネルLPNを概略的に示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing the liquid crystal display panel LPN in the second configuration example of the present embodiment. 図10は、本実施形態の第3構成例における液晶表示パネルLPNを概略的に示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display panel LPN in the third configuration example of the present embodiment. 図11は、本実施形態において適用可能な突起の形状を説明するための概略平面図である。FIG. 11 is a schematic plan view for explaining the shape of the protrusion applicable in the present embodiment. 図12は、本実施形態において適用可能な突起の他の形状を説明するための概略平面図である。FIG. 12 is a schematic plan view for explaining another shape of the protrusion applicable in the present embodiment.

以下、本実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings. In each figure, the same reference numerals are given to components that exhibit the same or similar functions, and duplicate descriptions are omitted.

図1は、本実施形態における液晶表示装置1の構成を概略的に示す平面図である。   FIG. 1 is a plan view schematically showing a configuration of a liquid crystal display device 1 in the present embodiment.

すなわち、液晶表示装置1は、アクティブマトリクスタイプの液晶表示パネルLPN、液晶表示パネルLPNに接続された駆動ICチップ2及びフレキシブル配線基板3などを備えている。   That is, the liquid crystal display device 1 includes an active matrix type liquid crystal display panel LPN, a drive IC chip 2 connected to the liquid crystal display panel LPN, a flexible wiring board 3, and the like.

液晶表示パネルLPNは、第1基板としてのアレイ基板ARと、アレイ基板ARに対向して配置された第2基板としての対向基板CTと、これらのアレイ基板ARと対向基板CTとの間に保持された図示しない液晶層と、を備えて構成されている。これらのアレイ基板ARと対向基板CTとは、シール材SEによって貼り合わせられている。液晶層は、アレイ基板ARと対向基板CTとの間に形成されたセルギャップにおいてシール材SEによって囲まれた内側に保持されている。このシール材SEは、例えば、アレイ基板ARと対向基板CTとの間において、略矩形枠状に形成され、閉ループをなしている。   The liquid crystal display panel LPN is held between an array substrate AR as a first substrate, a counter substrate CT as a second substrate disposed to face the array substrate AR, and the array substrate AR and the counter substrate CT. And a liquid crystal layer (not shown). The array substrate AR and the counter substrate CT are bonded together by a seal material SE. The liquid crystal layer is held on the inner side surrounded by the sealing material SE in the cell gap formed between the array substrate AR and the counter substrate CT. For example, the seal material SE is formed in a substantially rectangular frame shape between the array substrate AR and the counter substrate CT and forms a closed loop.

このような液晶表示パネルLPNは、シール材SEによって囲まれた内側に、画像を表示する略矩形状のアクティブエリアACTを備えている。このアクティブエリアACTは、m×n個のマトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている(但し、m及びnは正の整数である)。駆動ICチップ2及びフレキシブル配線基板3は、アクティブエリアACTよりも外側の周辺エリアPRPにおいて、アレイ基板ARに実装されている。   Such a liquid crystal display panel LPN includes a substantially rectangular active area ACT for displaying an image on the inner side surrounded by the seal material SE. This active area ACT is composed of a plurality of pixels PX arranged in an m × n matrix (where m and n are positive integers). The driving IC chip 2 and the flexible wiring board 3 are mounted on the array substrate AR in the peripheral area PRP outside the active area ACT.

図2は、図1に示した液晶表示パネルLPNの構成及び等価回路を概略的に示す図である。ここでは、液晶表示パネルLPNのアレイ基板ARが画素電極PE及び共通電極CEを備え、これらの画素電極PEと共通電極CEとの間に形成される横電界(すなわち、基板の主面にほぼ平行な電界)を主に利用して液晶層LQを構成する液晶分子をスイッチングするFringe Field Switching(FFS)モードを適用した構成について説明する。   FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration and an equivalent circuit of the liquid crystal display panel LPN shown in FIG. Here, the array substrate AR of the liquid crystal display panel LPN includes a pixel electrode PE and a common electrode CE, and a horizontal electric field (that is, substantially parallel to the main surface of the substrate) formed between the pixel electrode PE and the common electrode CE. A configuration in which a fringe field switching (FFS) mode for switching liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer LQ is mainly used will be described.

アレイ基板ARは、アクティブエリアACTにおいて、X方向に沿ってそれぞれ延出したn本のゲート配線G(G1〜Gn)及びn本の容量線C(C1〜Cn)、X方向に略直交するY方向に沿ってそれぞれ延出したm本のソース配線S(S1〜Sm)、各画素PXに配置されゲート配線G及びソース配線Sと電気的に接続されたm×n個のスイッチング素子SW、各画素PXに配置されスイッチング素子SWに電気的に接続されたm×n個の画素電極PE、容量線Cの一部であり画素電極PEと向かい合う共通電極CEなどを備えている。保持容量Csは、例えば、容量線Cと画素電極PEとの間に形成される。液晶層LQは、画素電極PEと共通電極CEとの間に介在する。   In the active area ACT, the array substrate AR includes n gate wirings G (G1 to Gn) and n capacitance lines C (C1 to Cn) that extend along the X direction, and Y that is substantially orthogonal to the X direction. M source lines S (S1 to Sm) extending along the direction, m × n switching elements SW arranged in each pixel PX and electrically connected to the gate lines G and the source lines S, There are provided m × n pixel electrodes PE disposed in the pixel PX and electrically connected to the switching element SW, a common electrode CE which is a part of the capacitor line C and faces the pixel electrode PE, and the like. For example, the storage capacitor Cs is formed between the capacitor line C and the pixel electrode PE. The liquid crystal layer LQ is interposed between the pixel electrode PE and the common electrode CE.

各ゲート配線Gは、アクティブエリアACTの外側に引き出され、第1駆動回路GDに接続されている。各ソース配線Sは、アクティブエリアACTの外側に引き出され、第2駆動回路SDに接続されている。各容量線Cは、アクティブエリアACTの外側に引き出され、第3駆動回路CDに接続されている。これらの第1駆動回路GD、第2駆動回路SD、及び、第3駆動回路CDは、アレイ基板ARに形成され、駆動ICチップ2と接続されている。   Each gate line G is drawn outside the active area ACT and is connected to the first drive circuit GD. Each source line S is drawn outside the active area ACT and connected to the second drive circuit SD. Each capacitance line C is drawn outside the active area ACT and connected to the third drive circuit CD. The first drive circuit GD, the second drive circuit SD, and the third drive circuit CD are formed on the array substrate AR and connected to the drive IC chip 2.

図示した例では、駆動ICチップ2は、液晶表示パネルLPNのアクティブエリアACTの外側において、アレイ基板ARに実装されている。なお、フレキシブル配線基板の図示は省略しており、アレイ基板ARには、フレキシブル配線基板を接続するための端子Tが形成されている。これらの端子Tは、各種配線を介して駆動ICチップ2に接続されている。   In the illustrated example, the drive IC chip 2 is mounted on the array substrate AR outside the active area ACT of the liquid crystal display panel LPN. In addition, illustration of a flexible wiring board is abbreviate | omitted and the terminal T for connecting a flexible wiring board is formed in array board | substrate AR. These terminals T are connected to the driving IC chip 2 through various wirings.

図3は、図2に示したアレイ基板ARにおける画素PXの構造の一例を対向基板CTの側から見た概略平面図である。   FIG. 3 is a schematic plan view of an example of the structure of the pixel PX in the array substrate AR shown in FIG. 2 as viewed from the counter substrate CT side.

ゲート配線Gは、X方向に沿って略直線状に延出している。ソース配線Sは、Y方向に沿って略直線状に延出している。スイッチング素子SWは、ゲート配線Gとソース配線Sとの交差部近傍に配置され、例えば、薄膜トランジスタ(TFT)によって構成されている。このスイッチング素子SWは、半導体層SCを備えている。この半導体層SCは、例えば、ポリシリコンやアモルファスシリコンなどによって形成可能であり、ここではポリシリコンによって形成されている。   The gate line G extends substantially linearly along the X direction. The source line S extends substantially linearly along the Y direction. The switching element SW is disposed in the vicinity of the intersection of the gate line G and the source line S, and is configured by, for example, a thin film transistor (TFT). The switching element SW includes a semiconductor layer SC. The semiconductor layer SC can be formed of, for example, polysilicon or amorphous silicon, and is formed of polysilicon here.

スイッチング素子SWのゲート電極WGは、半導体層SCの直上に位置し、ゲート配線Gに電気的に接続されている(図示した例では、ゲート電極WGは、ゲート配線Gと一体的に形成されている)。スイッチング素子SWのソース電極WSは、ソース配線Sに電気的に接続されている(図示した例では、ソース電極WSは、ソース配線Sと一体的に形成されている)。スイッチング素子SWのドレイン電極WDは、画素電極PEに電気的に接続されている。   The gate electrode WG of the switching element SW is located immediately above the semiconductor layer SC and is electrically connected to the gate wiring G (in the illustrated example, the gate electrode WG is formed integrally with the gate wiring G. ) The source electrode WS of the switching element SW is electrically connected to the source line S (in the illustrated example, the source electrode WS is formed integrally with the source line S). The drain electrode WD of the switching element SW is electrically connected to the pixel electrode PE.

容量線Cは、X方向に延在している。この容量線Cは、各画素PXに対応して形成された共通電極CEを含み、ソース配線Sの少なくとも一部の上方に延在している。画素電極PEは、共通電極CEの上方に配置されている。画素電極PEは、画素PXにおいて画素形状に対応した島状、例えば、略四角形に形成されている。この画素電極PEは、各々スイッチング素子SWのドレイン電極WDに接続されている。   The capacitance line C extends in the X direction. The capacitor line C includes a common electrode CE formed corresponding to each pixel PX, and extends above at least a part of the source line S. The pixel electrode PE is disposed above the common electrode CE. The pixel electrode PE is formed in an island shape corresponding to the pixel shape in the pixel PX, for example, a substantially square shape. Each pixel electrode PE is connected to the drain electrode WD of the switching element SW.

このような画素電極PEには、スリットPSLが形成されている。図示した例では、スリットPSLは、Y方向に一直線状に延出している。つまり、スリットPSLの延出方向は、ソース配線Sが延出した方向と略平行である。このスリットPSLは、共通電極CEの上に形成されている。このようなスリット形状により、各画素PXにおいて、シングルドメインが形成される。   A slit PSL is formed in such a pixel electrode PE. In the illustrated example, the slit PSL extends in a straight line in the Y direction. That is, the extending direction of the slit PSL is substantially parallel to the direction in which the source wiring S extends. The slit PSL is formed on the common electrode CE. With such a slit shape, a single domain is formed in each pixel PX.

このようなアレイ基板ARにおいて、ゲート配線G、ソース配線S、スイッチング素子SWなどの配線部の直上には、アレイ基板ARと対向基板CTとの間にセルギャップを形成する柱状スペーサSPが配置されている。図示した例では、柱状スペーサSPは、ゲート配線Gの直上に配置されている。   In such an array substrate AR, a columnar spacer SP that forms a cell gap between the array substrate AR and the counter substrate CT is disposed immediately above the wiring portions such as the gate wiring G, the source wiring S, and the switching element SW. ing. In the illustrated example, the columnar spacer SP is disposed immediately above the gate wiring G.

図4は、図3に示した画素PXをA−B線で切断した液晶表示パネルLPNの断面構造を概略的に示す図である。   FIG. 4 is a diagram schematically showing a cross-sectional structure of a liquid crystal display panel LPN obtained by cutting the pixel PX shown in FIG. 3 along the line AB.

すなわち、アレイ基板ARは、ガラス板などの光透過性を有する第1絶縁基板20を用いて形成されている。このアレイ基板ARは、第1絶縁基板20の内面(すなわち、対向基板CTに対向する面)にスイッチング素子SWを備えている。ここに示したスイッチング素子SWは、トップゲート型の薄膜トランジスタである。半導体層SCは、第1絶縁基板20の上に配置されている。このような半導体層SCは、ゲート絶縁膜21によって覆われている。また、ゲート絶縁膜21は、第1絶縁基板20の上にも配置されている。なお、第1絶縁基板20と半導体層SCとの間に、絶縁膜としてアンダーコート層を配置しても良い。   That is, the array substrate AR is formed by using a first insulating substrate 20 having a light transmission property such as a glass plate. The array substrate AR includes a switching element SW on the inner surface of the first insulating substrate 20 (that is, the surface facing the counter substrate CT). The switching element SW shown here is a top-gate thin film transistor. The semiconductor layer SC is disposed on the first insulating substrate 20. Such a semiconductor layer SC is covered with the gate insulating film 21. The gate insulating film 21 is also disposed on the first insulating substrate 20. Note that an undercoat layer may be disposed as an insulating film between the first insulating substrate 20 and the semiconductor layer SC.

スイッチング素子SWのゲート電極WGは、ゲート絶縁膜21の上に配置され、半導体層SCの直上に位置している。また、ゲート配線Gも、ゲート絶縁膜21の上に配置されている。このようなゲート電極WG及びゲート配線Gは、第1層間絶縁膜22によって覆われている。また、第1層間絶縁膜22は、ゲート絶縁膜21の上にも配置されている。これらのゲート絶縁膜21及び第1層間絶縁膜22は、例えば窒化シリコン(SiN)などの無機系材料によって形成されている。   The gate electrode WG of the switching element SW is disposed on the gate insulating film 21 and is located immediately above the semiconductor layer SC. The gate wiring G is also disposed on the gate insulating film 21. The gate electrode WG and the gate wiring G are covered with the first interlayer insulating film 22. The first interlayer insulating film 22 is also disposed on the gate insulating film 21. The gate insulating film 21 and the first interlayer insulating film 22 are formed of an inorganic material such as silicon nitride (SiN).

スイッチング素子SWのソース電極WS及びドレイン電極WDは、第1層間絶縁膜22の上に配置されている。これらのソース電極WS及びドレイン電極WDは、ゲート絶縁膜21及び第1層間絶縁膜22を貫通するコンタクトホールを介して半導体層SCにコンタクトしている。また、図示しないソース配線も、第1層間絶縁膜22の上に配置されている。これらのゲート電極WG、ソース電極WS、及び、ドレイン電極WDは、例えば、モリブデン、アルミニウム、タングステン、チタンなどの導電材料によって形成されている。   The source electrode WS and the drain electrode WD of the switching element SW are disposed on the first interlayer insulating film 22. The source electrode WS and the drain electrode WD are in contact with the semiconductor layer SC through contact holes that penetrate the gate insulating film 21 and the first interlayer insulating film 22. A source wiring (not shown) is also disposed on the first interlayer insulating film 22. The gate electrode WG, the source electrode WS, and the drain electrode WD are formed of a conductive material such as molybdenum, aluminum, tungsten, or titanium.

ソース電極WS及びドレイン電極WDは、第2層間絶縁膜23によって覆われている。また、この第2層間絶縁膜23は、第1層間絶縁膜22の上にも配置されている。共通電極CEを含む容量線Cは、第2層間絶縁膜23の上に配置されている。このような共通電極CE及び容量線Cは、第3層間絶縁膜24によって覆われている。また、この第3層間絶縁膜24は、第2層間絶縁膜23の上にも配置されている。これらの第1層間絶縁膜23及び第2層間絶縁膜は、例えば、樹脂材料によって形成されている。   The source electrode WS and the drain electrode WD are covered with the second interlayer insulating film 23. The second interlayer insulating film 23 is also disposed on the first interlayer insulating film 22. The capacitor line C including the common electrode CE is disposed on the second interlayer insulating film 23. The common electrode CE and the capacitor line C are covered with the third interlayer insulating film 24. The third interlayer insulating film 24 is also disposed on the second interlayer insulating film 23. The first interlayer insulating film 23 and the second interlayer insulating film are made of, for example, a resin material.

柱状スペーサSPは、第3層間絶縁膜24の上に配置されている。この柱状スペーサSPは、例えば、樹脂材料によって形成されている。   The columnar spacer SP is disposed on the third interlayer insulating film 24. This columnar spacer SP is made of, for example, a resin material.

画素電極PEは、第3層間絶縁膜24の上に配置さている。この画素電極PEは、第2層間絶縁膜23及び第3層間絶縁膜24を貫通するコンタクトホールを介してドレイン電極WDに接続されている。この画素電極PEには、共通電極CEに向かい合うスリットPSLが形成されている。このような画素電極PEは、第2層間絶縁膜24を介して共通電極CEと向かい合っている。   The pixel electrode PE is disposed on the third interlayer insulating film 24. The pixel electrode PE is connected to the drain electrode WD through a contact hole that penetrates the second interlayer insulating film 23 and the third interlayer insulating film 24. In the pixel electrode PE, a slit PSL facing the common electrode CE is formed. Such a pixel electrode PE faces the common electrode CE via the second interlayer insulating film 24.

共通電極CE及び容量線Cと、画素電極PEとは、ともに光透過性を有する導電材料、例えば、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)などによって形成されている。画素電極PE、柱状スペーサSP、及び、第2層間絶縁膜24は、第1配向膜25によって覆われている。つまり、この第1配向膜25は、アレイ基板ARの液晶層LQに接する面に配置されている。   The common electrode CE, the capacitor line C, and the pixel electrode PE are both formed of a light-transmitting conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). The pixel electrode PE, the columnar spacer SP, and the second interlayer insulating film 24 are covered with a first alignment film 25. That is, the first alignment film 25 is disposed on the surface in contact with the liquid crystal layer LQ of the array substrate AR.

一方、対向基板CTは、ガラス板などの光透過性を有する第2絶縁基板30を用いて形成されている。この対向基板CTは、第2絶縁基板30の内面(すなわち、アレイ基板ARに対向する面)に、各画素PXを区画するブラックマトリクス31、及び、各画素PXに配置されたカラーフィルタ32を備えている。   On the other hand, the counter substrate CT is formed using a second insulating substrate 30 having optical transparency such as a glass plate. The counter substrate CT includes, on the inner surface of the second insulating substrate 30 (that is, the surface facing the array substrate AR), a black matrix 31 for partitioning each pixel PX, and a color filter 32 disposed in each pixel PX. ing.

ブラックマトリクス31は、第2絶縁基板30の上において、アクティブエリアACTに配置されている。より具体的には、ブラックマトリクス31は、アレイ基板ARに設けられたゲート配線G、ソース配線S、スイッチング素子SWなどの配線部の直上に位置するように配置されている。このようなブラックマトリクス31は、格子状またはストライプ状に形成されている。このブラックマトリクス31は、例えば、黒色に着色された樹脂材料やクロム(Cr)などの遮光性の金属材料によって形成されている。   The black matrix 31 is disposed in the active area ACT on the second insulating substrate 30. More specifically, the black matrix 31 is disposed so as to be located immediately above wiring portions such as the gate wiring G, the source wiring S, and the switching element SW provided on the array substrate AR. Such a black matrix 31 is formed in a lattice shape or a stripe shape. The black matrix 31 is made of, for example, a black-colored resin material or a light shielding metal material such as chromium (Cr).

カラーフィルタ32は、第2絶縁基板30の上において、アクティブエリアACTに配置されている。なお、カラーフィルタ32の一部は、ブラックマトリクス31の上に積層されている。このようなカラーフィルタ32には、赤色画素に対応して配置される赤色カラーフィルタ、青色画素に対応して配置される青色カラーフィルタ、及び、緑色画素に対応して配置される緑色カラーフィルタが含まれる。これらの赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタ、及び、緑色カラーフィルタは、それぞれの色に着色された樹脂材料によって形成されている。   The color filter 32 is disposed in the active area ACT on the second insulating substrate 30. A part of the color filter 32 is stacked on the black matrix 31. The color filter 32 includes a red color filter disposed corresponding to the red pixel, a blue color filter disposed corresponding to the blue pixel, and a green color filter disposed corresponding to the green pixel. included. These red color filter, blue color filter, and green color filter are formed of resin materials colored in respective colors.

上述したような横電界を利用した液晶モードにおいては、対向基板CTの液晶層LQに接する面が平坦であることが望ましく、対向基板CTは、さらに、ブラックマトリクス31及びカラーフィルタ32の表面の凹凸を平坦化するオーバーコート層33を備えている。このようなオーバーコート層33は、例えば、透明な樹脂材料によって形成されている。   In the liquid crystal mode using the lateral electric field as described above, it is desirable that the surface of the counter substrate CT that is in contact with the liquid crystal layer LQ is flat, and the counter substrate CT further includes irregularities on the surfaces of the black matrix 31 and the color filter 32. An overcoat layer 33 for flattening is provided. Such an overcoat layer 33 is formed of, for example, a transparent resin material.

このオーバーコート層33は、第2配向膜34によって覆われている。つまり、第2配向膜34は、対向基板CTの液晶層LQに接する面に配置されている。第1配向膜25及び第2配向膜34は、例えば、ポリイミドによって形成されている。   The overcoat layer 33 is covered with a second alignment film 34. That is, the second alignment film 34 is disposed on the surface in contact with the liquid crystal layer LQ of the counter substrate CT. The first alignment film 25 and the second alignment film 34 are made of polyimide, for example.

上述したようなアレイ基板ARと対向基板CTとは、第1配向膜25及び第2配向膜34が向かい合うように配置されている。このとき、アレイ基板ARと対向基板CTとの間には、柱状スペーサSPが配置され、これにより、所定のセルギャップが形成される。アレイ基板ARと対向基板CTとは、所定のセルギャップが形成された状態で図示しないシール材によって貼り合わせられている。   The array substrate AR and the counter substrate CT as described above are arranged so that the first alignment film 25 and the second alignment film 34 face each other. At this time, the columnar spacers SP are arranged between the array substrate AR and the counter substrate CT, thereby forming a predetermined cell gap. The array substrate AR and the counter substrate CT are bonded together with a sealing material (not shown) in a state where a predetermined cell gap is formed.

液晶層LQは、これらのアレイ基板ARの第1配向膜25と対向基板CTの第2配向膜34との間に形成されたセルギャップに封入された液晶組成物によって構成されている。   The liquid crystal layer LQ is composed of a liquid crystal composition sealed in a cell gap formed between the first alignment film 25 of the array substrate AR and the second alignment film 34 of the counter substrate CT.

液晶表示パネルLPNの一方の外面、すなわちアレイ基板ARを構成する第1絶縁基板20の外面には、第1偏光板PL1が配置されている。この第1偏光板PL1は、第1絶縁基板20の外面に接着されるなどして固定されている。   A first polarizing plate PL1 is disposed on one outer surface of the liquid crystal display panel LPN, that is, on the outer surface of the first insulating substrate 20 constituting the array substrate AR. The first polarizing plate PL1 is fixed by being adhered to the outer surface of the first insulating substrate 20.

また、液晶表示パネルLPNの他方の外面、すなわち対向基板CTを構成する第2絶縁基板30の外面には、第2偏光板PL2が配置されている。この第2偏光板PL2は、第2絶縁基板30の外面に接着されるなどして固定されている。なお、第2絶縁基板30と第2偏光板PL2との間には、1枚以上の位相差板が配置されても良い。   A second polarizing plate PL2 is disposed on the other outer surface of the liquid crystal display panel LPN, that is, the outer surface of the second insulating substrate 30 constituting the counter substrate CT. The second polarizing plate PL2 is fixed by being adhered to the outer surface of the second insulating substrate 30. Note that one or more retardation plates may be disposed between the second insulating substrate 30 and the second polarizing plate PL2.

図5は、本実施形態において適用される各種光学素子の軸角度の関係を説明するための図であり、液晶表示パネルLPNを対向基板CTの側、つまり、上方から観察したときの上面図である。   FIG. 5 is a diagram for explaining the relationship between the axial angles of various optical elements applied in this embodiment, and is a top view when the liquid crystal display panel LPN is observed from the counter substrate CT side, that is, from above. is there.

液晶表示パネルLPNにおいて、各画素電極PEに形成されたスリットPSLは、上記の通り、Y方向に延出している。アレイ基板ARに備えられる第1配向膜25は、θ方向にラビング処理されている。すなわち、第1配向膜25のラビング方向R1は、θ方向である。スリットPSLの延出方向(Y方向)は、θ方向に対して反時計回り(正方向)に僅かに傾いた方向である。ここでは、スリットPSLは、θ方向に対して反時計回りに5〜10°の角度だけずれた方向に相当する。換言すると、θ方向とは、Y方向から時計回り(負方向)に5〜10°の角度だけずれた方向である。   In the liquid crystal display panel LPN, the slit PSL formed in each pixel electrode PE extends in the Y direction as described above. The first alignment film 25 provided in the array substrate AR is rubbed in the θ direction. That is, the rubbing direction R1 of the first alignment film 25 is the θ direction. The extending direction (Y direction) of the slit PSL is a direction slightly inclined counterclockwise (positive direction) with respect to the θ direction. Here, the slit PSL corresponds to a direction shifted by an angle of 5 to 10 degrees counterclockwise with respect to the θ direction. In other words, the θ direction is a direction shifted by an angle of 5 to 10 ° clockwise (negative direction) from the Y direction.

対向基板CTに備えられる第2配向膜34は、第1配向膜25のラビング方向R1とは平行であるが、逆向きの方向にラビング処理されている。すなわち、第2配向膜34のラビング方向R2は、(θ+180°)方向である。   The second alignment film 34 provided on the counter substrate CT is parallel to the rubbing direction R1 of the first alignment film 25, but is rubbed in the opposite direction. That is, the rubbing direction R2 of the second alignment film 34 is the (θ + 180 °) direction.

第1偏光板PL1は、第1配向膜25のラビング方向R1と平行な第1吸収軸A1を有している。つまり、第1吸収軸A1は、θ方向に平行である。第2偏光板PL2は、第1吸収軸A1と直交する第2吸収軸A2を有している。つまり、第2吸収軸A2は、(θ+90°)方向と平行である。   The first polarizing plate PL1 has a first absorption axis A1 parallel to the rubbing direction R1 of the first alignment film 25. That is, the first absorption axis A1 is parallel to the θ direction. The second polarizing plate PL2 has a second absorption axis A2 orthogonal to the first absorption axis A1. That is, the second absorption axis A2 is parallel to the (θ + 90 °) direction.

図6は、本実施形態の液晶表示装置における動作原理を説明するための図である。ここでは、第2吸収軸A2と平行な(θ+90°)方向での液晶表示パネルLPNの断面を参照しながら説明する。なお、ここでは、説明に必要な構成のみを図示している。   FIG. 6 is a diagram for explaining the operation principle in the liquid crystal display device of the present embodiment. Here, description will be made with reference to a cross section of the liquid crystal display panel LPN in a direction (θ + 90 °) parallel to the second absorption axis A2. Here, only the configuration necessary for the description is illustrated.

本実施形態の液晶表示装置において、図中の左側の画素PX1は、画素電極PE1と共通電極CEとの間に電界が形成されていないOFF状態を図示しており、図中の右側の画素PX2は、スリットPSLを介して画素電極PE2と共通電極CEとの間に電界(フリンジ電界)FEが形成されたON状態を図示している。   In the liquid crystal display device of this embodiment, the pixel PX1 on the left side in the drawing shows an OFF state in which no electric field is formed between the pixel electrode PE1 and the common electrode CE, and the pixel PX2 on the right side in the drawing is shown. FIG. 2 illustrates an ON state in which an electric field (fringe electric field) FE is formed between the pixel electrode PE2 and the common electrode CE via the slit PSL.

OFF状態の画素PX1では、液晶層LQにおいて第1配向膜のラビング方向R1及び第2配向膜のラビング方向R2にホモジニアス配向した液晶分子LMの配向軸は、第1偏光板PL1の第1吸収軸A1と平行である一方で、第2偏光板PL2の第2吸収軸A2と直交する。このOFF状態では、バックライトBLから放射され第1偏光板PL1を透過した直線偏光は、液晶表示パネルLPNを通過した後に、第2偏光板PL2で吸収されるため、黒表示となる。   In the pixel PX1 in the OFF state, the alignment axis of the liquid crystal molecules LM homogeneously aligned in the rubbing direction R1 of the first alignment film and the rubbing direction R2 of the second alignment film in the liquid crystal layer LQ is the first absorption axis of the first polarizing plate PL1. While being parallel to A1, it is orthogonal to the second absorption axis A2 of the second polarizing plate PL2. In this OFF state, the linearly polarized light emitted from the backlight BL and transmitted through the first polarizing plate PL1 is absorbed by the second polarizing plate PL2 after passing through the liquid crystal display panel LPN, so that black display is obtained.

一方、ON状態の画素PX2では、一部の液晶分子LMはフリンジ電界FEの影響を受けて変調され、その配向軸が第1偏光板PL1の第1吸収軸A1及び第2偏光板PL2の第2吸収軸A2からずれる。このON状態では、第1偏光板PL1を透過した直線偏光は、液晶表示パネルLPNを通過した後に、第2偏光板PL2を透過するため、白表示となる。これにより、ノーマリーブラックモードが実現される。   On the other hand, in the pixel PX2 in the ON state, some liquid crystal molecules LM are modulated under the influence of the fringe electric field FE, and the alignment axes thereof are the first absorption axis A1 of the first polarizing plate PL1 and the second polarizing plate PL2. 2 Deviation from the absorption axis A2. In this ON state, the linearly polarized light that has passed through the first polarizing plate PL1 passes through the liquid crystal display panel LPN and then passes through the second polarizing plate PL2, so that white display is performed. Thereby, the normally black mode is realized.

ところで、隣接する一方の画素PX1がOFF状態であって、他方の画素PX2がON状態である場合、画素PX1の画素電極PE1と画素PX2の画素電極PE2との間の電位差により、図示したような不所望な横電界NEが発生する。つまり、横電界NEは、OFF状態の画素PX1とON状態の画素PX2との間に跨って形成される。このため、画素PX1と画素PX2との間の直上に位置する液晶分子LMXは、この不所望な横電界NEの影響を受けて変調される。   By the way, when one adjacent pixel PX1 is in an OFF state and the other pixel PX2 is in an ON state, the potential difference between the pixel electrode PE1 of the pixel PX1 and the pixel electrode PE2 of the pixel PX2 is as illustrated. An undesired lateral electric field NE is generated. That is, the horizontal electric field NE is formed across the pixel PX1 in the OFF state and the pixel PX2 in the ON state. For this reason, the liquid crystal molecules LMX located immediately above the pixel PX1 and the pixel PX2 are modulated under the influence of the undesired lateral electric field NE.

特に、図示した例のように、第2層間絶縁膜24を介して共通電極CEの上方に画素電極PE1及び画素電極PE2が配置された構成の場合、画素電極PE2と共通電極CEとの間の電界の影響よりも、画素電極PE2と画素電極PE1との間で液晶層LQを横切る横電界NEの影響の方が支配的となる。このため、このような構成の場合には、不所望な横電界NEにより画素間の液晶分子LMXが変調されたことによる影響を無視することができない。   In particular, as in the illustrated example, in the configuration in which the pixel electrode PE1 and the pixel electrode PE2 are disposed above the common electrode CE via the second interlayer insulating film 24, the pixel electrode PE2 and the common electrode CE are disposed between the pixel electrode PE2 and the common electrode CE. The influence of the transverse electric field NE that crosses the liquid crystal layer LQ is more dominant between the pixel electrode PE2 and the pixel electrode PE1 than the influence of the electric field. For this reason, in such a configuration, it is not possible to ignore the influence caused by the modulation of the liquid crystal molecules LMX between the pixels due to an undesired lateral electric field NE.

例えば、アレイ基板ARにおいて画素電極PE1及び画素電極PE2の上方に絶縁層を介して共通電極CEが配置された構成の場合、画素間に跨って配置された共通電極CEが液晶層LQにより近づく。このため、画素PX1がOFF状態であり、画素PX2がON状態である場合には、画素電極PE2と画素電極PE1との間で液晶層LQを横切る横電界NEの影響は小さく、画素電極PE2と共通電極CEとの間の電界の影響の方が支配的となる。このため、このような構成の場合には、不所望な横電界NEにより画素間の液晶分子LMXが変調されたとしても、それによる影響はほとんど無視することができる。   For example, in the configuration in which the common electrode CE is disposed above the pixel electrode PE1 and the pixel electrode PE2 via the insulating layer in the array substrate AR, the common electrode CE disposed across the pixels is closer to the liquid crystal layer LQ. Therefore, when the pixel PX1 is in the OFF state and the pixel PX2 is in the ON state, the influence of the transverse electric field NE across the liquid crystal layer LQ is small between the pixel electrode PE2 and the pixel electrode PE1, and the pixel electrode PE2 The influence of the electric field between the common electrode CE is dominant. For this reason, in the case of such a configuration, even if the liquid crystal molecules LMX between the pixels are modulated by an undesired lateral electric field NE, the influence of the liquid crystal molecules LMX can be almost ignored.

いま、画素PX1が緑色カラーフィルタ32Gを備えた緑色画素であり、画素PX2が赤色カラーフィルタ32Rを備えた赤色画素である場合を考える。赤色を表示する場合には、画素PX1はOFF状態(つまり、光非透過状態)となり、画素PX2はON状態(つまり、光透過状態)となる。液晶表示パネルLPNを正面方向から観察した場合には、画素PX2の赤色カラーフィルタ32Rを通過した光線のみが観察されるため、赤色として視認される。   Consider a case where the pixel PX1 is a green pixel including the green color filter 32G and the pixel PX2 is a red pixel including the red color filter 32R. When displaying red, the pixel PX1 is in an OFF state (that is, a light non-transmission state), and the pixel PX2 is in an ON state (that is, a light transmission state). When the liquid crystal display panel LPN is observed from the front direction, only the light beam that has passed through the red color filter 32R of the pixel PX2 is observed, so that it is visually recognized as red.

しかしながら、視角を拡大し、液晶表示パネルLPNを斜め方向から観察した場合には、ブラックマトリクス31の直下の液晶層LQは、不所望な横電界NEの影響を受けて変調され、複屈折現象により光を透過させる作用をもつ。液晶表示パネルLPNを透過する透過光の強度Iは、電界によって誘起される液晶層LQの屈折率異方性(Δn)と液晶層LQの厚みあるいは光路長(d)との積で定義される位相差値(Δn×d)と波長(λ)の除算項(Δn×d/λ)の正弦関数の2乗、すなわち、sin2(πΔn×d/λ)に比例する。斜め方向では、正面方向と比較して実質的な光路長が大きくなるため、位相差値(Δn×d)がより大きくなることになり、透過光強度が強くなる。なお、位相差値(Δn×d)がゼロの場合、透過光強度もゼロとなる。 However, when the viewing angle is enlarged and the liquid crystal display panel LPN is observed from an oblique direction, the liquid crystal layer LQ immediately below the black matrix 31 is modulated under the influence of an undesired lateral electric field NE, and is caused by a birefringence phenomenon. Has the effect of transmitting light. The intensity I of the transmitted light that passes through the liquid crystal display panel LPN is defined by the product of the refractive index anisotropy (Δn) of the liquid crystal layer LQ induced by the electric field and the thickness or optical path length (d) of the liquid crystal layer LQ. It is proportional to the square of the sine function of the division term (Δn × d / λ) of the phase difference value (Δn × d) and the wavelength (λ), that is, sin 2 (πΔn × d / λ). In the oblique direction, the substantial optical path length is larger than that in the front direction, so that the phase difference value (Δn × d) is further increased, and the transmitted light intensity is increased. When the phase difference value (Δn × d) is zero, the transmitted light intensity is also zero.

つまり、斜め方向から観察した場合には、画素PX2の赤色カラーフィルタ32Rを通過した光線のみならず、画素PX1から緑色カラーフィルタ32Gを通過した光線も同時に観察されるため、赤色に緑色が混じるといった混色現象が発生する。このような混色現象が発生した場合、視角により正規の色とは異なる色が表示されることになる。   That is, when observed from an oblique direction, not only the light beam that has passed through the red color filter 32R of the pixel PX2 but also the light beam that has passed through the green color filter 32G from the pixel PX1 is observed at the same time, so that red is mixed with green. A color mixing phenomenon occurs. When such a color mixing phenomenon occurs, a color different from the normal color is displayed depending on the viewing angle.

横電界を利用した液晶モードは、縦電界を利用したTNモードなどと比較して広視野角化が可能であるといったメリットを有している一方で、上記のような混色現象による視角の拡大に伴った色味の変化を抑制することが求められる。   While the liquid crystal mode using the horizontal electric field has the advantage that a wider viewing angle is possible compared to the TN mode using the vertical electric field, the liquid crystal mode can increase the viewing angle due to the color mixing phenomenon as described above. It is required to suppress the accompanying color change.

そこで、本実施形態においては、画素電極EPの間の直上に位置する液晶層LQの第1領域の位相差値は、画素電極EPの直上に位置する液晶層LQの第2領域の位相差値よりも小さく設定されている。これにより、第1領域を透過する光の透過光強度を低減し、視角を拡大したときの混色を抑制することが可能となり、色味が変化しない視角を拡大することができる。したがって、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することが可能となる。   Therefore, in the present embodiment, the phase difference value of the first region of the liquid crystal layer LQ positioned immediately above the pixel electrodes EP is equal to the phase difference value of the second region of the liquid crystal layer LQ positioned directly above the pixel electrodes EP. Is set smaller than. Thereby, it is possible to reduce the transmitted light intensity of the light transmitted through the first region, to suppress color mixing when the viewing angle is enlarged, and to enlarge the viewing angle at which the color does not change. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device with good display quality.

以下に、より具体的な構成例1乃至3について説明する。   Hereinafter, more specific configuration examples 1 to 3 will be described.

まず、本実施形態の構成例1について説明する。
図7は、本実施形態の第1構成例における液晶表示パネルLPNを概略的に示す断面図である。なお、この図7は、ゲート配線Gが延出するX方向に沿った液晶表示パネルLPNの断面図であり、画素PX1が緑色画素に相当し、画素PX2が赤色画素に相当する。
First, configuration example 1 of the present embodiment will be described.
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing the liquid crystal display panel LPN in the first configuration example of the present embodiment. FIG. 7 is a cross-sectional view of the liquid crystal display panel LPN along the X direction in which the gate line G extends. The pixel PX1 corresponds to a green pixel and the pixel PX2 corresponds to a red pixel.

図示した液晶表示パネルLPNにおいては、アレイ基板ARに形成されたソース配線Sのセンターの直上に、対向基板CTに形成されたブラックマトリクス31のセンターが位置するように構成されている。   The illustrated liquid crystal display panel LPN is configured such that the center of the black matrix 31 formed on the counter substrate CT is located immediately above the center of the source wiring S formed on the array substrate AR.

アレイ基板ARにおいて、ソース配線Sを挟んで隣接する画素PX1及びPX2は、それぞれ画素電極PE1及びPE2を備えている。これらの画素PX1と画素PX2との間には、第1突起PR1が配置されている。図示した例では、第1突起PR1は、アレイ基板ARに備えられ、対向基板CTに向かって突出している。この第1突起PR1は、画素電極PE1と画素電極PE2との間に配置されており、図示した例では、第2層間絶縁膜24の上に形成されるとともにその一部が画素電極PE1及び画素電極PE2に重なっている。つまり、第1突起PR1は、ソース配線Sの直上に位置し、また、ブラックマトリクス31の直下に位置している。このような第1突起PR1は、第2層間絶縁膜24の上に形成された柱状スペーサSPと同様に、第1配向膜25によって覆われている。   In the array substrate AR, adjacent pixels PX1 and PX2 across the source line S include pixel electrodes PE1 and PE2, respectively. A first protrusion PR1 is disposed between the pixel PX1 and the pixel PX2. In the illustrated example, the first protrusion PR1 is provided on the array substrate AR and protrudes toward the counter substrate CT. The first protrusion PR1 is disposed between the pixel electrode PE1 and the pixel electrode PE2. In the illustrated example, the first protrusion PR1 is formed on the second interlayer insulating film 24, and part of the first protrusion PR1 is formed on the pixel electrode PE1 and the pixel. It overlaps with the electrode PE2. That is, the first protrusion PR1 is located immediately above the source line S and is located directly below the black matrix 31. Such a first protrusion PR1 is covered with the first alignment film 25 in the same manner as the columnar spacers SP formed on the second interlayer insulating film 24.

この第1突起PR1は、絶縁性の材料、例えば、感光性の樹脂材料によって形成されている。このような第1突起PR1は、柱状スペーサSPと同一の樹脂材料によって同一工程で形成可能である。   The first protrusion PR1 is formed of an insulating material, for example, a photosensitive resin material. Such a first protrusion PR1 can be formed in the same process using the same resin material as the columnar spacer SP.

但し、第1突起PR1の高さH1は、柱状スペーサSPの高さSPHと同一であるとは限らない。ここで、第1突起PR1の高さH1は第2層間絶縁膜24の上面から第1突起PR1の頂点までの法線方向に沿った距離に相当し、柱状スペーサSPの高さSPHは、第2層間絶縁膜24の上面から柱状スペーサSPの頂点までの法線方向に沿った距離に相当する。   However, the height H1 of the first protrusion PR1 is not necessarily the same as the height SPH of the columnar spacer SP. Here, the height H1 of the first protrusion PR1 corresponds to a distance along the normal direction from the upper surface of the second interlayer insulating film 24 to the apex of the first protrusion PR1, and the height SPH of the columnar spacer SP is This corresponds to the distance along the normal direction from the upper surface of the two interlayer insulating film 24 to the apex of the columnar spacer SP.

図示した例では、第1突起PR1の高さH1は、柱状スペーサSPの高さSPHよりも低い(H1<SPH)。柱状スペーサSPと対向基板CTとの間には液晶層LQが介在しないのに対して、第1突起PR1と対向基板CTとの間には液晶層LQが介在する。このように、第1突起PR1の高さH1と、柱状スペーサSPの高さSPHとが異なる場合、感光性の樹脂材料をハーフトーン露光するなどの手法を用いて第1突起PR1及び柱状スペーサSPを一括して形成することが可能である。   In the illustrated example, the height H1 of the first protrusion PR1 is lower than the height SPH of the columnar spacer SP (H1 <SPH). While the liquid crystal layer LQ is not interposed between the columnar spacer SP and the counter substrate CT, the liquid crystal layer LQ is interposed between the first protrusion PR1 and the counter substrate CT. As described above, when the height H1 of the first protrusion PR1 is different from the height SPH of the columnar spacer SP, the first protrusion PR1 and the columnar spacer SP are used by a method such as halftone exposure of a photosensitive resin material. Can be formed collectively.

このような第1構成例によれば、画素電極PE1と画素電極PE2との間の直上に位置する液晶層LQの第1領域LQ1は厚みd1を有し、また、画素電極PE1(あるいは画素電極PE2)の直上に位置する液晶層LQの第2領域LQ2は厚みd2を有し、しかも、厚みd1は厚みd2よりも小さい(d2>d1)。ここでは、例えば、厚みd1は、厚みd2の1/2に設定した。   According to such a first configuration example, the first region LQ1 of the liquid crystal layer LQ located immediately above the pixel electrode PE1 and the pixel electrode PE2 has the thickness d1, and the pixel electrode PE1 (or the pixel electrode) The second region LQ2 of the liquid crystal layer LQ located immediately above PE2) has a thickness d2, and the thickness d1 is smaller than the thickness d2 (d2> d1). Here, for example, the thickness d1 is set to ½ of the thickness d2.

具体的には、例えば、第2領域LQ2の厚みd2が4μmであり、第1領域LQ1の厚みd1が2μmである。この場合、隣接する画素PX1と画素PX2との間の不所望な横電界NEによって誘起される液晶層LQの第1領域LQ1の屈折率異方性を考慮すると、この第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)は約50nm程度となる。   Specifically, for example, the thickness d2 of the second region LQ2 is 4 μm, and the thickness d1 of the first region LQ1 is 2 μm. In this case, in consideration of the refractive index anisotropy of the first region LQ1 of the liquid crystal layer LQ induced by an undesired lateral electric field NE between the adjacent pixels PX1 and PX2, the phase difference in the first region LQ1 is considered. The value (Δn × d1) is about 50 nm.

なお、第1突起PR1を設けなかった場合、第1領域LQ1の厚みd1は、実質的に第2領域LQ2の厚みd2と略同等となる。この場合、隣接する画素PX1と画素PX2との間の不所望な横電界NEによって誘起される第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)は約100nm程度となる。つまり、第1突起PR1を設けた場合には、第1突起PR1を設けなかった場合と比較して、第1領域LQ1の位相差値を低減することができる。   If the first protrusion PR1 is not provided, the thickness d1 of the first region LQ1 is substantially equal to the thickness d2 of the second region LQ2. In this case, the phase difference value (Δn × d1) in the first region LQ1 induced by the undesired lateral electric field NE between the adjacent pixels PX1 and PX2 is about 100 nm. That is, when the first protrusion PR1 is provided, the phase difference value of the first region LQ1 can be reduced compared to the case where the first protrusion PR1 is not provided.

当然のことながら、画素PX1及び画素PX2の各々において、フリンジ電界によって誘起される第2領域LQ2における位相差値(Δn×d2)は、第1突起PR1を設けた場合の第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)よりも大きい。   As a matter of course, in each of the pixel PX1 and the pixel PX2, the phase difference value (Δn × d2) in the second region LQ2 induced by the fringe electric field is the position in the first region LQ1 when the first protrusion PR1 is provided. It is larger than the phase difference value (Δn × d1).

上記したように、液晶層LQを透過する光の透過光強度Iはsin2(πΔn×d/λ)に比例するため、位相差値(Δn×d)が大きいほど透過光強度Iが増大する。緑色画素を透過する光(λ=550nm)を基準として、位相差値(Δn×d)に対する各視角での透過光強度を算出したところ、図8に示すような結果が得られた。 As described above, since the transmitted light intensity I of the light transmitted through the liquid crystal layer LQ is proportional to sin 2 (πΔn × d / λ), the transmitted light intensity I increases as the phase difference value (Δn × d) increases. . When the transmitted light intensity at each viewing angle with respect to the phase difference value (Δn × d) was calculated based on the light transmitted through the green pixel (λ = 550 nm), the result shown in FIG. 8 was obtained.

第1突起PR1を設けて第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)が50nmとなる場合と、第1突起PR1を設けずに第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)が100nmとなる場合とで、各視角での透過光強度を比較すると、前者の場合は、後者の場合と比較して、約1/4程度に透過光強度を低減できることが確認された。   When the first protrusion PR1 is provided and the phase difference value (Δn × d1) in the first region LQ1 is 50 nm, the phase difference value (Δn × d1) in the first region LQ1 is 100 nm without providing the first protrusion PR1. When the transmitted light intensity at each viewing angle is compared, the former case has been confirmed to be able to reduce the transmitted light intensity to about ¼ compared to the latter case.

このような第1構成例によれば、第1突起PR1を設けたことにより、液晶層LQの第1領域LQ1の厚みd1を薄くすることができ、視角を0°から80°まで拡大しても、混色が視認されなかった。なお、第1突起PR1を設けなかった場合には、視角を30°以上に拡大すると、混色が視認された。   According to such a first configuration example, by providing the first protrusion PR1, the thickness d1 of the first region LQ1 of the liquid crystal layer LQ can be reduced, and the viewing angle is increased from 0 ° to 80 °. Even the color mixture was not visible. In the case where the first protrusion PR1 was not provided, the color mixture was visually recognized when the viewing angle was increased to 30 ° or more.

次に、本実施形態の構成例2について説明する。
図9は、本実施形態の第2構成例における液晶表示パネルLPNを概略的に示す断面図である。なお、図7に示した第1構成例と同一の構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
Next, configuration example 2 of the present embodiment will be described.
FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing the liquid crystal display panel LPN in the second configuration example of the present embodiment. In addition, about the same structure as the 1st structural example shown in FIG. 7, the same referential mark is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

この図9に示した第2構成例は、図7に示した第1構成例と比較して、第1突起PR1に代えて、対向基板CTが第2突起PR2を備えている点で相違している。   The second configuration example shown in FIG. 9 is different from the first configuration example shown in FIG. 7 in that the counter substrate CT includes a second projection PR2 instead of the first projection PR1. ing.

すなわち、第2突起PR2は、画素PX1と画素PX2との間に配置されている。この第2突起PR2は、対向基板CTに備えられ、アレイ基板ARに向かって突出している。この第2突起PR2は、画素電極PE1と画素電極PE2との間の直上に配置されており、図示した例では、ブラックマトリクス31に重なっている。つまり、第2突起PR2は、ソース配線Sの直上に位置し、また、ブラックマトリクス31の直下に位置している。このような第2突起PR2は、第2配向膜34によって覆われている。   That is, the second protrusion PR2 is disposed between the pixel PX1 and the pixel PX2. The second protrusion PR2 is provided on the counter substrate CT and protrudes toward the array substrate AR. The second protrusion PR2 is disposed immediately above the pixel electrode PE1 and the pixel electrode PE2, and overlaps the black matrix 31 in the illustrated example. That is, the second protrusion PR2 is located immediately above the source line S and is located directly below the black matrix 31. The second protrusion PR2 is covered with the second alignment film 34.

この第2突起PR2は、絶縁性の材料、例えば、感光性の樹脂材料によって形成されている。より具体的には、例えば、第2突起PR2は、複数のカラーフィルタ32の積層体として構成されている。このような第2突起PR2は、カラーフィルタ32と同一の樹脂材料によって同一工程で形成可能である。また、この第2突起PR2は、その少なくとも一部がオーバーコート層33と同一の樹脂材料によって形成されていても良い。   The second protrusion PR2 is formed of an insulating material, for example, a photosensitive resin material. More specifically, for example, the second protrusion PR2 is configured as a stacked body of a plurality of color filters 32. Such a second protrusion PR2 can be formed in the same process using the same resin material as that of the color filter 32. Further, at least a part of the second protrusion PR2 may be formed of the same resin material as the overcoat layer 33.

図示した例では、第2突起PR2は、ブラックマトリクス31の上に積層された赤色カラーフィルタ32R、赤色カラーフィルタ32Rに積層された緑色カラーフィルタ32G、及び、緑色カラーフィルタ32Gに積層されたオーバーコート層33の積層体として構成されている。このような第2突起PR2とアレイ基板ARとの間には液晶層LQが介在する。   In the illustrated example, the second protrusion PR2 includes a red color filter 32R stacked on the black matrix 31, a green color filter 32G stacked on the red color filter 32R, and an overcoat stacked on the green color filter 32G. It is configured as a laminate of layers 33. A liquid crystal layer LQ is interposed between the second protrusion PR2 and the array substrate AR.

このような第2構成例においても、第1構成例と同様に、液晶層LQの第1領域LQ1における厚みd1は、第2領域LQ2における厚みd2よりも小さい(d2>d1)。ここでは、例えば、厚みd1は、厚みd2の3/4程度に設定した。この場合、隣接する画素PX1と画素PX2との間の不所望な横電界NEによって誘起される液晶層LQの第1領域LQ1の屈折率異方性を考慮すると、この第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)は約75nm程度となる。   In such a second configuration example, as in the first configuration example, the thickness d1 of the liquid crystal layer LQ in the first region LQ1 is smaller than the thickness d2 of the second region LQ2 (d2> d1). Here, for example, the thickness d1 is set to about 3/4 of the thickness d2. In this case, in consideration of the refractive index anisotropy of the first region LQ1 of the liquid crystal layer LQ induced by an undesired lateral electric field NE between the adjacent pixels PX1 and PX2, the phase difference in the first region LQ1 is considered. The value (Δn × d1) is about 75 nm.

第2突起PR2を設けて第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)が75nmとなる場合と、第2突起PR2を設けずに第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)が100nmとなる場合とで、各視角での透過光強度を比較すると、図8に示した結果から明らかなように、前者の場合は、後者の場合と比較して、約1/2程度に透過光強度を低減できることが確認された。   When the second protrusion PR2 is provided and the phase difference value (Δn × d1) in the first region LQ1 is 75 nm, the phase difference value (Δn × d1) in the first region LQ1 is 100 nm without the second protrusion PR2. When the transmitted light intensity at each viewing angle is compared with the case where, as is clear from the results shown in FIG. 8, the transmitted light is about ½ in the former case compared to the latter case. It was confirmed that the strength could be reduced.

次に、本実施形態の構成例3について説明する。
図10は、本実施形態の第3構成例における液晶表示パネルLPNを概略的に示す断面図である。なお、図7に示した第1構成例と同一の構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
Next, configuration example 3 of the present embodiment will be described.
FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display panel LPN in the third configuration example of the present embodiment. In addition, about the same structure as the 1st structural example shown in FIG. 7, the same referential mark is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

この図10に示した第3構成例は、図7に示した第1構成例と比較して、第1突起PR1に加えて、対向基板CTが第2突起PR2を備えている点で相違している。   The third configuration example shown in FIG. 10 is different from the first configuration example shown in FIG. 7 in that the counter substrate CT includes a second projection PR2 in addition to the first projection PR1. ing.

すなわち、第1突起PR1及び第2突起PR2は、画素PX1と画素PX2との間に配置され、向かい合っている。第1突起PR1は、アレイ基板ARに備えられ、対向基板CTに向かって突出している。第2突起PR2は、対向基板CTに備えられ、アレイ基板ARに向かって突出している。これらの第1突起PR1及び第2突起PR2の詳細については、それぞれ上記の第1構成例及び第2構成例で述べた通りである。つまり、第1突起PR1及び第2突起PR2は、ソース配線Sの直上に位置し、また、ブラックマトリクス31の直下に位置している。第1突起PR1は第1配向膜25によって覆われ、第2突起PR2は第2配向膜34によって覆われている。図示した例では、第1突起PR1と第2突起PR2との間には液晶層LQが介在する。   That is, the first protrusion PR1 and the second protrusion PR2 are disposed between the pixels PX1 and PX2 and face each other. The first protrusion PR1 is provided on the array substrate AR and protrudes toward the counter substrate CT. The second protrusion PR2 is provided on the counter substrate CT and protrudes toward the array substrate AR. The details of the first protrusion PR1 and the second protrusion PR2 are as described in the first configuration example and the second configuration example, respectively. That is, the first protrusion PR1 and the second protrusion PR2 are located immediately above the source line S and located immediately below the black matrix 31. The first protrusion PR1 is covered with the first alignment film 25, and the second protrusion PR2 is covered with the second alignment film. In the illustrated example, a liquid crystal layer LQ is interposed between the first protrusion PR1 and the second protrusion PR2.

このような第3構成例においても、第1構成例と同様に、液晶層LQの第1領域LQ1における厚みd1は、第2領域LQ2における厚みd2よりも小さい(d2>d1)。ここでは、例えば、厚みd1は、厚みd2の1/4程度に設定した。この場合、隣接する画素PX1と画素PX2との間の不所望な横電界NEによって誘起される液晶層LQの第1領域LQ1の屈折率異方性を考慮すると、この第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)は約25nm程度となる。   Also in the third configuration example, as in the first configuration example, the thickness d1 of the liquid crystal layer LQ in the first region LQ1 is smaller than the thickness d2 of the second region LQ2 (d2> d1). Here, for example, the thickness d1 is set to about ¼ of the thickness d2. In this case, in consideration of the refractive index anisotropy of the first region LQ1 of the liquid crystal layer LQ induced by an undesired lateral electric field NE between the adjacent pixels PX1 and PX2, the phase difference in the first region LQ1 is considered. The value (Δn × d1) is about 25 nm.

第1突起PR1及び第2突起PR2を設けて第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)が25nmとなる場合と、第1突起PR1及び第2突起PR2を設けずに第1領域LQ1における位相差値(Δn×d1)が100nmとなる場合とで、各視角での透過光強度を比較すると、図8に示した結果から明らかなように、前者の場合は、後者の場合と比較して、約1/16程度に透過光強度を低減できることが確認された。   When the first projection PR1 and the second projection PR2 are provided and the phase difference value (Δn × d1) in the first region LQ1 is 25 nm, the first projection LPR1 and the second projection PR2 are not provided in the first region LQ1. When the transmitted light intensity at each viewing angle is compared in the case where the phase difference value (Δn × d1) is 100 nm, as is clear from the results shown in FIG. 8, the former case is compared with the latter case. Thus, it was confirmed that the transmitted light intensity can be reduced to about 1/16.

上述した本実施形態の第1乃至第3構成例では、液晶層LQの第1領域LQ1における厚みd1がゼロではない場合について説明したが、第1突起PR1及び第2突起PR2の少なくとも一方を用いて厚みd1を0umとしても良い。つまり、この場合には、ブラックマトリクス31の直下に液晶層LQがまったく介在しない。これにより、視角や不所望な横電界NEの影響にかかわらず、液晶層LQの位相差値(Δn×d)はゼロとなり、透過光強度をゼロとする、すなわち完全遮光することが可能となる。   In the first to third configuration examples of the present embodiment described above, the case where the thickness d1 in the first region LQ1 of the liquid crystal layer LQ is not zero has been described, but at least one of the first protrusion PR1 and the second protrusion PR2 is used. Thus, the thickness d1 may be 0 um. That is, in this case, the liquid crystal layer LQ does not intervene immediately below the black matrix 31. As a result, the phase difference value (Δn × d) of the liquid crystal layer LQ becomes zero regardless of the influence of the viewing angle and the undesired lateral electric field NE, and the transmitted light intensity becomes zero, that is, it is possible to completely block light. .

また、上述した本実施形態の第1乃至第3構成例において、第1突起PR1及び第2突起PR2の少なくとも一方は、黒色の材料などの遮光性を有する材料によって形成されても良い。これにより、視角を拡大した際に、液晶層LQを通過した光の透過光強度を低減できるのに加えて、第1突起PR1及び第2突起PR2の少なくとも一方での遮光が可能となる。   In the first to third configuration examples of the present embodiment described above, at least one of the first protrusion PR1 and the second protrusion PR2 may be formed of a light-shielding material such as a black material. Thereby, when the viewing angle is enlarged, the transmitted light intensity of the light that has passed through the liquid crystal layer LQ can be reduced, and at least one of the first protrusion PR1 and the second protrusion PR2 can be shielded.

図11及び図12は、本実施形態において適用可能な突起PR(第1突起PR1または第2突起PR2)の形状を説明するための概略平面図である。ここでは、液晶表示パネルLPNを対向基板CTの側から観察したときの図を示している。図示したように、突起PRは、ソース配線Sの直上に位置している。   11 and 12 are schematic plan views for explaining the shape of the protrusion PR (first protrusion PR1 or second protrusion PR2) applicable in the present embodiment. Here, a view when the liquid crystal display panel LPN is observed from the counter substrate CT side is shown. As shown in the figure, the projection PR is located immediately above the source line S.

特に、図11に示した例では、突起PRは、X方向に隣接する画素電極PE1と画素電極PE2との間において、ソース配線Sが延出するY方向と略平行に直線状(あるいは連続的)に配置されている。このような形状の突起PRを設けたことにより、X方向に隣接する画素間での不所望な横電界による液晶層LQの変調による影響を軽減することが可能となる。   In particular, in the example shown in FIG. 11, the protrusion PR is linear (or continuous) between the pixel electrode PE1 and the pixel electrode PE2 adjacent in the X direction substantially parallel to the Y direction in which the source wiring S extends. ). By providing the projection PR having such a shape, it is possible to reduce the influence of the modulation of the liquid crystal layer LQ due to an undesired lateral electric field between pixels adjacent in the X direction.

また、図12に示した例では、突起PRは、ソース配線Sが延出するY方向と略平行に部分的(あるいは不連続的)に配置されている。特に、この突起PRは、X方向に隣接する画素電極PE1と画素電極PE2との間において、その中央部分に配置される一方で、Y方向に沿った途中で途切れている。このような形状の突起PRを設けたことにより、上記した例と同様に、X方向に隣接する画素間での不所望な横電界による液晶層LQの変調による影響を軽減することが可能となることに加えて、液晶層LQのX方向への広がりを許容するパスを確保することが可能となる。例えば、液晶注入口から液晶材料を真空注入した際、あるいは、閉ループ状のシール材で囲まれた内側に液晶材料を滴下した後にアレイ基板ARと対向基板CTとを貼り合わせた際、液晶材料は、突起PRが途切れた部分を介してX方向に広がり、移動することができるため、製造時間の短縮が期待できる。   In the example shown in FIG. 12, the protrusion PR is partially (or discontinuously) arranged substantially parallel to the Y direction in which the source wiring S extends. In particular, the protrusion PR is disposed at the center portion between the pixel electrode PE1 and the pixel electrode PE2 adjacent in the X direction, but is interrupted along the Y direction. By providing the projection PR having such a shape, it is possible to reduce the influence of the modulation of the liquid crystal layer LQ due to an undesired lateral electric field between pixels adjacent in the X direction, as in the above example. In addition, it is possible to secure a path that allows the liquid crystal layer LQ to spread in the X direction. For example, when the liquid crystal material is vacuum-injected from the liquid crystal injection port or when the array substrate AR and the counter substrate CT are bonded to each other after the liquid crystal material is dropped inside the closed loop seal material, the liquid crystal material is Since the protrusion PR can spread and move in the X direction through the interrupted portion, the manufacturing time can be expected to be shortened.

以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することができる。   As described above, according to this embodiment, it is possible to provide a liquid crystal display device with good display quality.

なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment itself, In the stage of implementation, it can change and implement a component within the range which does not deviate from the summary. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine suitably the component covering different embodiment.

1…液晶表示装置
LPN…液晶表示パネル AR…アレイ基板 CT…対向基板
SE…シール材
ACT…アクティブエリア PX…画素
PE…画素電極 CE…共通電極
LQ…液晶層 LQ1…第1領域 LQ2…第2領域 LM…液晶分子
PR…突起 PR1…第1突起 PR2…第2突起
SP…柱状スペーサ
31…ブラックマトリクス 32…カラーフィルタ 33…オーバーコート層
BL…バックライト
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display device LPN ... Liquid crystal display panel AR ... Array substrate CT ... Opposite substrate SE ... Sealing material ACT ... Active area PX ... Pixel PE ... Pixel electrode CE ... Common electrode LQ ... Liquid crystal layer LQ1 ... 1st area | region LQ2 ... 2nd Region LM ... Liquid crystal molecule PR ... Projection PR1 ... First projection PR2 ... Second projection SP ... Columnar spacer 31 ... Black matrix 32 ... Color filter 33 ... Overcoat layer BL ... Backlight

Claims (8)

第1絶縁基板と、前記第1絶縁基板の上方に配置された共通電極と、前記共通電極を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜の上に配置され前記共通電極と向かい合うとともにスリットが形成された複数の画素電極と、前記画素電極の各々を覆う第1配向膜と、を備えた第1基板と、
第2絶縁基板と、前記第2絶縁基板の前記第1基板と対向する内面において前記画素電極の間の直上に配置されたブラックマトリクスと、前記画素電極の各々の直上に配置されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタの前記第1基板側に配置された第2配向膜と、を備えた第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に保持されるとともに、前記画素電極の間の直上に位置する第1領域と、前記画素電極の直上に位置する第2領域と、を含む液晶層と、を備え、
前記液晶層の屈折率異方性をΔnとし、前記液晶層の厚みをdとし、前記液晶層の位相差値をΔn・dで定義したとき、前記第1領域の位相差値は、前記第2領域の位相差値よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
A plurality of first insulating substrates; a common electrode disposed above the first insulating substrate; an insulating film covering the common electrodes; and a plurality of slits formed on the insulating film so as to face the common electrodes and to form a slit. A first substrate comprising: a pixel electrode; and a first alignment film covering each of the pixel electrodes;
A second insulating substrate; a black matrix disposed directly between the pixel electrodes on an inner surface of the second insulating substrate facing the first substrate; and a color filter disposed immediately above each of the pixel electrodes; A second alignment film disposed on the first substrate side of the color filter, and a second substrate,
A liquid crystal layer that is held between the first substrate and the second substrate, and includes a first region located immediately above the pixel electrodes, and a second region located immediately above the pixel electrodes. And comprising
When the refractive index anisotropy of the liquid crystal layer is Δn, the thickness of the liquid crystal layer is d, and the retardation value of the liquid crystal layer is defined by Δn · d, the retardation value of the first region is A liquid crystal display device characterized by being smaller than the retardation value of two regions.
前記第1領域における前記液晶層の厚みd1は、前記第2領域における前記液晶層の厚みd2よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a thickness d <b> 1 of the liquid crystal layer in the first region is smaller than a thickness d <b> 2 of the liquid crystal layer in the second region. 前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方は、突起を備えたことを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 2, wherein at least one of the first substrate and the second substrate includes a protrusion. 前記第1基板は、さらに、略直線状に延出したソース配線と、前記ソース配線と略直交する方向に延出したゲート配線と、を備え、
前記突起は、前記ソース配線の直上において、前記ソース配線が延出する方向と略平行に直線状または部分的に配置されたことを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
The first substrate further includes a source line extending in a substantially straight line and a gate line extending in a direction substantially orthogonal to the source line,
The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the protrusion is arranged linearly or partially directly above the source line and substantially parallel to a direction in which the source line extends.
前記第1基板は、前記画素電極の間に配置され前記第2基板に向かって突出した絶縁性の第1突起を備えたことを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the first substrate includes an insulating first protrusion disposed between the pixel electrodes and protruding toward the second substrate. 前記第1基板は、前記第2基板との間にセルギャップを形成する柱状スペーサを備え、前記第1突起の高さは、前記柱状スペーサの高さよりも低いことを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。   The said 1st board | substrate is provided with the columnar spacer which forms a cell gap between the said 2nd board | substrate, The height of a said 1st protrusion is lower than the height of the said columnar spacer, The Claim 5 characterized by the above-mentioned. The liquid crystal display device described. 前記第2基板は、前記ブラックマトリクスの直下に配置され前記第1基板に向かって突出した絶縁性の第2突起を備えたことを特徴とする請求項2または5に記載の液晶表示装置。   6. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the second substrate includes an insulating second protrusion that is disposed immediately below the black matrix and protrudes toward the first substrate. 前記第2突起は、前記カラーフィルタの積層体であることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the second protrusion is a laminate of the color filters.
JP2010157264A 2010-07-09 2010-07-09 Liquid crystal display device Withdrawn JP2012018365A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010157264A JP2012018365A (en) 2010-07-09 2010-07-09 Liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010157264A JP2012018365A (en) 2010-07-09 2010-07-09 Liquid crystal display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012018365A true JP2012018365A (en) 2012-01-26

Family

ID=45603631

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010157264A Withdrawn JP2012018365A (en) 2010-07-09 2010-07-09 Liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012018365A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020008887A (en) * 2019-10-21 2020-01-16 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020008887A (en) * 2019-10-21 2020-01-16 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5504215B2 (en) Liquid crystal display
JP5830433B2 (en) Liquid crystal display
JP2014044330A (en) Liquid crystal display device
JP5380387B2 (en) Liquid crystal display
US9921439B2 (en) Liquid crystal display device
US9146434B2 (en) Liquid crystal display device having particular electrodes structure
US9134576B2 (en) Liquid crystal display device
JP2014174431A (en) Liquid crystal display device
US9341906B2 (en) Liquid crystal display device
JP5520896B2 (en) Liquid crystal display
US9470938B2 (en) Liquid crystal display device
JP2013127558A (en) Liquid crystal display device
JP5572603B2 (en) Liquid crystal display
JP5564473B2 (en) Liquid crystal display
JP5674587B2 (en) Liquid crystal display
JP2015052730A (en) Liquid crystal display device
JP5677923B2 (en) Liquid crystal display
JP2015014670A (en) Liquid crystal display device
JP2014074797A (en) Liquid crystal display device and method for setting retardation of the same
JP5699069B2 (en) Liquid crystal display
JP2012018365A (en) Liquid crystal display device
JP2012032539A (en) Liquid crystal display device
JP5845042B2 (en) Liquid crystal display
JP5785831B2 (en) Liquid crystal display
JP5851175B2 (en) Liquid crystal display

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20130711

A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20131001

A072 Dismissal of procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072

Effective date: 20131112