JP2012012251A - Dielectric ceramic, method for producing the same and electronic component - Google Patents

Dielectric ceramic, method for producing the same and electronic component Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dielectric ceramic which can be obtained by fired at a low temperature, and nonetheless ensures sinterability, maintains flexural strength and has excellent dielectric characteristics, and to provide a method for producing the dielectric ceramic, and an electronic component.SOLUTION: The dielectric ceramic includes a main component which contains MgSiOand additives which contain a zinc oxide and a glass component, wherein in X-ray diffraction, the peak intensity ratio, I/I, of the X-ray diffraction peak intensity Iof zinc oxide remaining unreacted, for which 2θ is between 31.0° and 32.0° and between 33.0° and 34.0°, with respect to the peak intensity Iof MgSiOas the main phase, for which 2θ is between 36.0° and 37.0°, is ≤10%, and wherein the dielectric ceramic has a relative density of ≥96%.

Description

本発明は、高周波領域で使用される電子部品に使用される誘電体磁器、誘電体磁器の製造方法及び電子部品に関する。   The present invention relates to a dielectric ceramic used for an electronic component used in a high frequency region, a method for manufacturing the dielectric ceramic, and an electronic component.

近年、需要が増加している携帯電話等の移動体通信機器では、数百MHzから数GHz程度のいわゆる準マイクロ波と呼ばれる高周波帯域が使用されている。そのため、移動体通信機器に用いられるコンデンサ、フィルター、共振器、回路基板等の電子部品においても高周波帯域での使用に適した諸特性が要求されている。   2. Description of the Related Art In recent years, mobile communication devices such as cellular phones, for which demand is increasing, use a so-called quasi-microwave high frequency band of about several hundred MHz to several GHz. For this reason, electronic components such as capacitors, filters, resonators, and circuit boards used in mobile communication devices are required to have various characteristics suitable for use in a high frequency band.

高周波帯域で使用される電子部品の一つである回路基板は、電極や配線等の導体(以下、「導体材」という。)を備え、磁性体と誘電体とを組み合わせてなるLCフィルター、高誘電率材料と低誘電率材料とを組み合わせてなるコンデンサなどを内蔵し、LCフィルターやコンデンサなどの回路を形成している。   A circuit board, which is one of the electronic components used in the high frequency band, is equipped with a conductor such as an electrode or wiring (hereinafter referred to as “conductor material”), an LC filter composed of a combination of a magnetic material and a dielectric material, Capacitors made by combining dielectric constant materials and low dielectric constant materials are built in to form circuits such as LC filters and capacitors.

回路基板では、その配線層での配線間容量に起因する信号遅延を低減するため、基板の比誘電率εrを低くすることが必要となる。また、回路基板では、高周波信号を減衰させないため、基板のQf値を大きくすること(即ち、誘電損失を小さくすること)が必要となる。従って、回路基板用の材料としては、使用周波数における比誘電率εrが低く、且つQf値が大きい誘電体材料が要求される。Qは、誘電体における現実の電流と電圧の位相差と、理想の電流と電圧の位相差90度との差である損失角度δの正接tanδの逆数であり、fは共振周波数である。Qf値は、品質係数Q=1/tanδと共振周波数fとの積で表され、Qf値が大きくなると、誘電損失は小さくなる。   In the circuit board, it is necessary to reduce the relative dielectric constant εr of the board in order to reduce the signal delay due to the inter-wiring capacitance in the wiring layer. Further, in the circuit board, since the high frequency signal is not attenuated, it is necessary to increase the Qf value of the board (that is, to reduce the dielectric loss). Therefore, as a material for the circuit board, a dielectric material having a low relative dielectric constant εr at a use frequency and a large Qf value is required. Q is the reciprocal of the tangent tan δ of the loss angle δ, which is the difference between the actual current and voltage phase difference in the dielectric and the ideal current and voltage phase difference of 90 degrees, and f is the resonance frequency. The Qf value is represented by the product of the quality factor Q = 1 / tan δ and the resonance frequency f. As the Qf value increases, the dielectric loss decreases.

一般に誘電率の低い材料は誘電損失が小さいものが多く、マイクロ波領域のデバイスに使用されており、例えば、LCフィルターは高誘電率材料と低誘電率材料とを同時焼成して形成される。LCフィルターはそのL部を構成する部分のセラミック材料に自己共振周波数を高く取れるように高いQ値を有する低誘電率材料を、C部に温度特性が良く誘電率の高い材料を用いることで温度特性の良い高Q値を有するLC素子を実現できる。   In general, many materials having a low dielectric constant have a small dielectric loss and are used in devices in the microwave region. For example, an LC filter is formed by simultaneously firing a high dielectric constant material and a low dielectric constant material. The LC filter uses a low dielectric constant material having a high Q value so that a high self-resonant frequency can be obtained in the ceramic material of the portion constituting the L part, and a temperature characteristic is obtained by using a material having a good temperature characteristic and a high dielectric constant in the C part. An LC element having good characteristics and a high Q value can be realized.

このような誘電体材料としては、例えば、フォルステライト(Mg2SiO4)を主成分とし、亜鉛酸化物、ホウ素酸化物、アルカリ土類金属酸化物、銅化合物、及びリチウム化合物を副成分として含む誘電体磁器組成物(以下、「フォルステライト系組成物」という。)が提案されている(例えば、特許文献1参照)。フォルステライト系組成物は、導体材である金属Ag又はAg系合金(以下、Ag系金属という。)の融点より低い温度(低温)で焼成することが可能となり、基板としての強度を上昇させることができることから、回路基板用の誘電体材料に適している。   As such a dielectric material, for example, a dielectric ceramic containing forsterite (Mg2SiO4) as a main component and zinc oxide, boron oxide, alkaline earth metal oxide, copper compound, and lithium compound as subcomponents. A composition (hereinafter referred to as “forsterite composition”) has been proposed (see, for example, Patent Document 1). The forsterite-based composition can be fired at a temperature (low temperature) lower than the melting point of the metal Ag or Ag-based alloy (hereinafter referred to as Ag-based metal), which is a conductor material, and increases the strength as a substrate. Therefore, it is suitable for a dielectric material for a circuit board.

フォルステライト系組成物の焼結温度は約1000℃以下であり、従来の誘電体磁器組成物の焼結温度より低いため、PdやPtなどの従来から用いられてきた導体材に比べて融点が低く、低抵抗であり、且つ安価なAg系金属を導体材として用いることができる。そのため、フォルステライト系組成物は、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で同時焼成することが可能である。そのため、フォルステライト系組成物を用いて回路基板を形成する際、フォルステライト系組成物はAg系金属などの導体材と同時に焼成可能な低温焼成材料(LTCC)として用いられ、各層にLCフィルターやコンデンサなどの回路を形成することが可能である。   Since the sintering temperature of the forsterite-based composition is about 1000 ° C. or lower and is lower than the sintering temperature of the conventional dielectric ceramic composition, the melting point is higher than that of conventionally used conductor materials such as Pd and Pt. Low, low resistance, and inexpensive Ag-based metal can be used as the conductor material. Therefore, the forsterite composition can be co-fired at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag metal). Therefore, when forming a circuit board using a forsterite-based composition, the forsterite-based composition is used as a low-temperature firing material (LTCC) that can be fired simultaneously with a conductor material such as an Ag-based metal. Circuits such as capacitors can be formed.

特開2009−132579号公報JP 2009-132579 A

しかしながら、従来のフォルステライト系組成物は、本焼成した後、添加している亜鉛酸化物などの焼結助剤が未反応のまま残るため、得られる誘電体磁器の誘電損失が大きくなる、という問題がある。   However, in the conventional forsterite composition, after sintering, the added sintering aid such as zinc oxide remains unreacted, so that the dielectric loss of the obtained dielectric ceramic increases. There's a problem.

また、焼結助剤の添加量を減らし、未反応物の焼結助剤を軽減した場合、フォルステライト系組成物を焼成して得られる焼成材料の焼結性を損ない、基板の誘電損失、強度を悪化させる、という問題がある。   Also, when the amount of sintering aid added is reduced and the amount of unreacted sintering aid is reduced, the sintering property of the fired material obtained by firing the forsterite composition is impaired, the dielectric loss of the substrate, There is a problem of deteriorating the strength.

そのため、フォルステライト系組成物を用いて低温で焼成した後に未反応の焼結助剤が残るのを抑制すると同時に、焼結助剤を完全に反応させて、焼結性を確保し、抗折強度を維持すると共に、優れた誘電特性を有する誘電体磁器が求められている。   For this reason, it is possible to prevent unreacted sintering aid from remaining after firing at a low temperature using a forsterite-based composition, and at the same time to completely react the sintering aid to ensure sinterability and resist bending. There is a need for dielectric ceramics that maintain strength and have excellent dielectric properties.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、低温で焼成して得ることを可能としつつ、焼結性を確保し、抗折強度を維持すると共に、優れた誘電特性を有する誘電体磁器、誘電体磁器の製造方法及び電子部品を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and is a dielectric having excellent dielectric characteristics while ensuring sinterability and maintaining bending strength while being able to be obtained by firing at a low temperature. It is an object of the present invention to provide a porcelain, a dielectric porcelain manufacturing method, and an electronic component.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明者らは誘電体磁器、誘電体磁器の製造方法及び電子部品物について鋭意研究をした。その結果、Mg2SiO4を主成分として含む誘電体磁器は、X線回折において、主相であるMg2SiO4に対する未反応なまま存在する亜鉛酸化物のピーク強度比を抑えると共に、誘電体磁器の相対密度を大きくすることにより、誘電体磁器は焼結性を確保することができ、抗折強度を維持すると共に、優れた誘電特性を有することができることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present inventors have intensively studied dielectric ceramics, dielectric ceramic manufacturing methods, and electronic parts. As a result, the dielectric ceramic comprising as a main component Mg2SiO4, in X-ray diffraction, while suppressing the peak intensity ratio of the zinc oxide present remains unreacted for Mg 2 SiO 4 which is the main phase, the dielectric ceramic relative It has been found that by increasing the density, the dielectric ceramic can secure sinterability, maintain the bending strength, and have excellent dielectric properties. The present invention has been completed based on such findings.

本発明に係る誘電体磁器は、Mg2SiO4を含む主成分と、亜鉛酸化物及びガラス成分を含む副成分とを含み、X線回折において、主相であるMg2SiO4の2θが36.0°から37.0°の間におけるX線回折ピーク強度IAに対する、未反応なまま存在する亜鉛酸化物の2θが31.0°から32.0°及び33.0°から34.0°におけるX線回折ピーク強度IBのピーク強度比IB/IAが10%以下であると共に、相対密度が96%以上であることを特徴とする。 The dielectric ceramic according to the present invention includes a main component including Mg 2 SiO 4 and a subcomponent including zinc oxide and a glass component. In X-ray diffraction, 2θ of Mg 2 SiO 4 as a main phase is 36. The unreacted zinc oxide 2θ is 31.0 ° to 32.0 ° and 33.0 ° to 34.0 to the X-ray diffraction peak intensity I A between .0 ° and 37.0 °. with the peak intensity ratio I B / I a of the X-ray diffraction peak intensity I B is 10% or less in °, relative density, characterized in that 96% or more.

上記組成によれば、副成分として含まれるガラス成分が液相としての役割を果たし、未反応で残る焼結助剤とMg2SiO4との反応性を促進し、誘電体磁器組成物の焼成後に未反応で残る焼結助剤を低減することができると共に、焼結助剤を完全に反応させることができるため、誘電体磁器の焼結性を確保することができる。このとき、誘電体磁器のX線回折におけるピーク強度比IB/IAを10%以下とし、相対密度を96%以上とする。この結果、誘電体磁器のQ値を上昇させることができ、誘電損失を小さくすることができる。また、上記組成によれば、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で誘電体磁器組成物をAg系金属と同時焼成することができると共に、誘電体磁器組成物の焼成温度の低下に伴い生じる誘電体磁器の抗折強度の低下を抑制することができる。 According to the above composition, the glass component contained as an auxiliary component plays a role as a liquid phase, promotes the reactivity between the unreacted sintering aid and Mg 2 SiO 4 , and fires the dielectric ceramic composition. The sintering aid remaining unreacted later can be reduced, and the sintering aid can be completely reacted, so that the sinterability of the dielectric ceramic can be ensured. In this case, the peak intensity ratio I B / I A in the X-ray diffraction of the dielectric ceramic is 10% or less, the relative density is 96% or more. As a result, the Q value of the dielectric ceramic can be increased, and the dielectric loss can be reduced. In addition, according to the above composition, the dielectric ceramic composition can be co-fired with the Ag-based metal at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal), and the firing temperature of the dielectric ceramic composition decreases. A decrease in the bending strength of the dielectric ceramic produced can be suppressed.

尚、誘電体磁器組成物とは、誘電体磁器の原料組成物であり、誘電体磁器とは、誘電体磁器組成物を焼結させることによって得られる焼結体である。また、焼結とは、誘電体磁器組成物を加熱することで、誘電体磁器組成物が焼結体(誘電体磁器)となり、緻密な物体になる現象である。一般に、加熱前の誘電体磁器組成物に比べて、焼結体(誘電体磁器)の密度、機械的強度等は大きくなる。また、焼結温度とは、誘電体磁器組成物が焼結する際の誘電体磁器組成物の温度である。また、焼成とは、焼結を目的とした加熱処理を意味し、焼成温度とは、加熱処理の際に誘電体磁器組成物が曝される雰囲気の温度である。   The dielectric ceramic composition is a raw material composition for dielectric ceramic, and the dielectric ceramic is a sintered body obtained by sintering the dielectric ceramic composition. Sintering is a phenomenon in which a dielectric ceramic composition becomes a sintered body (dielectric ceramic) and becomes a dense object by heating the dielectric ceramic composition. In general, the density, mechanical strength, etc. of the sintered body (dielectric ceramic) are increased as compared with the dielectric ceramic composition before heating. The sintering temperature is the temperature of the dielectric ceramic composition when the dielectric ceramic composition is sintered. Further, firing means a heat treatment for the purpose of sintering, and the firing temperature is the temperature of the atmosphere to which the dielectric ceramic composition is exposed during the heat treatment.

本発明の好ましい態様として、前記ガラス成分は、Li2Oを含むガラスを少なくとも1つ以上含むことが好ましい。ガラス成分がLi2Oを含むことで、更に未反応な焼結助剤とMg2SiO4との反応を促進し、誘電体磁器組成物の焼成後、誘電体磁器中に未反応で残る焼結助剤を更に低減すると共に、焼結助剤を完全に反応させることができるので、誘電体磁器の焼結性は更に安定して確保できる。このため、得られる誘電体磁器のQ値は更に上昇させることができ、誘電損失を更に小さくすることができる。また、誘電体磁器の抗折強度を更に安定させることができる。 As a preferred embodiment of the present invention, the glass component preferably contains at least one glass containing Li 2 O. When the glass component contains Li 2 O, the reaction between the unreacted sintering aid and Mg 2 SiO 4 is further promoted, and after firing the dielectric ceramic composition, the unreacted firing remaining in the dielectric ceramic. Since the binder can be further reduced and the sintering assistant can be completely reacted, the sinterability of the dielectric ceramic can be secured more stably. For this reason, the Q value of the obtained dielectric ceramic can be further increased, and the dielectric loss can be further reduced. In addition, the bending strength of the dielectric ceramic can be further stabilized.

本発明の好ましい態様として、前記亜鉛酸化物の含有量が、10質量部以上16質量部以下であることが好ましい。前記亜鉛酸化物(特に、ZnO)は、誘電体磁器組成物をAg系金属と同時焼成する際に、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で焼成するのに寄与するため、前記亜鉛酸化物の含有量を上記範囲内とすることで、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で誘電体磁器組成物をAg系金属と安定して同時焼成させ、誘電体磁器を得ることができる。   As a preferred embodiment of the present invention, the content of the zinc oxide is preferably 10 parts by mass or more and 16 parts by mass or less. The zinc oxide (particularly ZnO) contributes to firing at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal) when the dielectric ceramic composition is fired simultaneously with the Ag-based metal. By setting the content of the product within the above range, the dielectric ceramic composition can be stably co-fired with the Ag-based metal at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal) to obtain a dielectric ceramic. .

本発明に係る誘電体磁器の製造方法は、Mg2SiO4を含む主成分と、亜鉛酸化物及びガラス成分を含む副成分とを含む誘電体磁器を製造するにあたり、酸化マグネシウムの原料粉末と二酸化珪素の原料粉末とを混合して熱処理し、Mg2SiO4結晶粉末を作製し、前記Mg2SiO4結晶粉末に、副成分原料粉末として前記亜鉛酸化物及びガラス成分を添加し、誘電体磁器組成物を得る誘電体磁器組成物の作製工程と、前記誘電体磁器組成物を酸素雰囲気下において800℃以上1000℃以下の温度で焼成して、焼結体を得る焼成工程とを含み、X線回折において、前記焼結体の主相であるMg2SiO4の2θが36.0°から37.0°の間におけるX線回折ピーク強度IAに対する、未反応なまま存在する亜鉛酸化物の2θが31.0°から32.0°及び33.0°から34.0°におけるX線回折ピーク強度IBのピーク強度比IB/IAが10%以下であると共に、相対密度が96%以上であることを特徴とする。 The production method of a dielectric ceramic according to the present invention includes the production of a dielectric ceramic containing a main component containing Mg 2 SiO 4 and a subcomponent containing zinc oxide and a glass component. heat treated by mixing the raw material powder of silicon, to prepare a Mg 2 SiO 4 crystal powder, the Mg 2 SiO 4 crystal powder, adding the zinc oxide and a glass component as a subcomponent material powder, the dielectric ceramic A dielectric ceramic composition producing step for obtaining a composition, and a firing step for obtaining a sintered body by firing the dielectric ceramic composition at a temperature of 800 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower in an oxygen atmosphere, Zinc oxide that remains unreacted with respect to X-ray diffraction peak intensity I A when 2θ of Mg 2 SiO 4 , which is the main phase of the sintered body, is between 36.0 ° and 37.0 ° in line diffraction 2θ of 31. ° with 32.0 ° and 33.0 peak intensity ratio I B / I A of the X-ray diffraction peak intensity I B in ° from 34.0 ° is less than 10%, the relative density of 96% or more It is characterized by.

上記組成を有する誘電体磁器組成物は、酸素雰囲気下において800℃以上1000℃以下の温度で焼成でき、低温(Ag系金属の融点より低い温度)でAg系金属と同時焼成することができる。また、誘電体磁器組成物を低温(Ag系金属の融点より低い温度)焼成する際、副成分として含まれる亜鉛酸化物及びガラス成分が液相としての役割を果たし、未反応で残る焼結助剤とMg2SiO4との反応を促進することができる。これにより、誘電体磁器組成物の焼成後、誘電体磁器に未反応で残る焼結助剤を低減することができると共に、焼結助剤を完全に反応させることができるため、誘電体磁器の焼結性を確保することができる。このとき、得られる誘電体磁器は、ピーク強度比IB/IAを10%以下とし、相対密度を96%以上とする。これにより、得られる誘電体磁器のQ値を上昇させ、誘電損失を小さくすることができる。また、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で誘電体磁器組成物をAg系金属と同時焼成する際、誘電体磁器組成物の焼成温度の低下に伴い生じる誘電体磁器の抗折強度の低下を抑制することができる。このため、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で焼成して得られる誘電体磁器の抗折強度を、従来のフォルステライト系組成物を焼成して得られる誘電体磁器よりも向上させることができる。 The dielectric ceramic composition having the above composition can be fired at a temperature of 800 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower in an oxygen atmosphere, and can be simultaneously fired with an Ag-based metal at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal). In addition, when the dielectric ceramic composition is fired at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal), the zinc oxide and glass component contained as subcomponents serve as a liquid phase, and the sintering aid that remains unreacted. The reaction between the agent and Mg 2 SiO 4 can be promoted. Thus, after firing the dielectric ceramic composition, the sintering aid remaining unreacted on the dielectric ceramic can be reduced and the sintering aid can be completely reacted. Sinterability can be ensured. At this time, the resulting dielectric porcelain, the peak intensity ratio I B / I A is 10% or less, the relative density is 96% or more. Thereby, the Q value of the obtained dielectric ceramic can be increased, and the dielectric loss can be reduced. In addition, when the dielectric ceramic composition is simultaneously fired with the Ag-based metal at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal), the bending strength of the dielectric ceramic generated as the firing temperature of the dielectric ceramic composition is decreased. The decrease can be suppressed. For this reason, the bending strength of the dielectric ceramic obtained by firing at a low temperature (temperature lower than the melting point of the Ag-based metal) is improved as compared with the dielectric ceramic obtained by firing the conventional forsterite composition. Can do.

本発明の好ましい態様として、前記ガラス成分として、Li2Oを含むガラスを少なくとも1つ以上含むことが好ましい。ガラス成分がLi2Oを含むことで、更に未反応な焼結助剤とMg2SiO4との反応を促進し、誘電体磁器組成物の焼成後、誘電体磁器に未反応で残る焼結助剤を更に低減すると共に、焼結助剤を完全に反応させることができるので、誘電体磁器の焼結性は更に安定して確保できる。このため、得られる誘電体磁器のQ値は更に上昇させることができ、誘電損失を更に小さくすることができる。また、誘電体磁器の抗折強度を更に安定させることができる。 As a preferred embodiment of the present invention, it is preferable that at least one glass containing Li 2 O is contained as the glass component. Since the glass component contains Li 2 O, the reaction between the unreacted sintering aid and Mg 2 SiO 4 is further promoted, and after firing the dielectric ceramic composition, the unreacted sintering remains in the dielectric ceramic. Since the auxiliary agent can be further reduced and the sintering auxiliary agent can be completely reacted, the sinterability of the dielectric ceramic can be secured more stably. For this reason, the Q value of the obtained dielectric ceramic can be further increased, and the dielectric loss can be further reduced. In addition, the bending strength of the dielectric ceramic can be further stabilized.

本発明の好ましい態様として、前記亜鉛酸化物の含有量が、10質量部以上16質量部以下であることが好ましい。前記亜鉛酸化物(特に、ZnO)は、誘電体磁器組成物をAg系金属と同時焼成する際に、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で焼成するのに寄与するため、前記亜鉛酸化物の含有量を上記範囲内とすることで、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で誘電体磁器組成物をAg系金属と安定して同時焼成させることができる。   As a preferred embodiment of the present invention, the content of the zinc oxide is preferably 10 parts by mass or more and 16 parts by mass or less. The zinc oxide (particularly ZnO) contributes to firing at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal) when the dielectric ceramic composition is fired simultaneously with the Ag-based metal. By setting the content of the product within the above range, the dielectric ceramic composition can be stably fired simultaneously with the Ag-based metal at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal).

本発明に係る電子部品は、上記何れか一つに記載の誘電体磁器からなる誘電体層を有することを特徴とする。誘電体層には、本発明に係る誘電体磁器が用いられるため、Q値は大きく、誘電損失は小さくなるので、高周波帯域での使用に適した特性が得られ、信頼性の高い電子部品を提供することができる。   An electronic component according to the present invention includes a dielectric layer made of the dielectric ceramic according to any one of the above. Since the dielectric ceramic according to the present invention is used for the dielectric layer, the Q value is large and the dielectric loss is small. Therefore, characteristics suitable for use in a high frequency band can be obtained, and a highly reliable electronic component can be obtained. Can be provided.

本発明によれば、低温で焼成して得ることを可能としつつ、焼結性を確保し、抗折強度を維持すると共に、優れた誘電特性を有する誘電体磁器、誘電体磁器の製造方法及び電子部品を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to obtain by firing at a low temperature, while ensuring sinterability, maintaining bending strength, and having excellent dielectric properties, a method for manufacturing the dielectric ceramic, and Electronic components can be provided.

図1は、本実施形態に係る誘電体磁器の製造方法を示すフローチャートである。FIG. 1 is a flowchart showing a method for manufacturing a dielectric ceramic according to the present embodiment. 図2は、本実施形態の電子部品をLCフィルターとした場合の一実施形態を模式的に示す概念断面図である。FIG. 2 is a conceptual cross-sectional view schematically showing one embodiment when the electronic component of this embodiment is an LC filter. 図3は、本実施形態に係る電子部品の製造方法の一例を示すフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart illustrating an example of a method for manufacturing an electronic component according to the present embodiment. 図4は、実施例4及び比較例7のX線回折チャートである。FIG. 4 is an X-ray diffraction chart of Example 4 and Comparative Example 7.

以下、本発明を好適に実施するための形態(以下、実施形態という。)につき、詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に記載した内容により限定されるものではない。また、以下に記載した実施形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、以下に記載した実施形態で開示した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, modes for suitably carrying out the present invention (hereinafter referred to as embodiments) will be described in detail. In addition, this invention is not limited by the content described in the following embodiment. In addition, constituent elements in the embodiments described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art, those that are substantially the same, and those in a so-called equivalent range. Furthermore, the components disclosed in the embodiments described below can be appropriately combined.

<誘電体磁器>
本実施形態に係る誘電体磁器は、Mg2SiO4を含む主成分と、ZnO及びガラス成分を含む副成分とを含み、X線回折において、主相であるMg2SiO4の2θが36.0°から37.0°の間におけるX線回折ピーク強度IAに対する、未反応なまま存在する亜鉛酸化物の2θが31.0°から32.0°及び33.0°から34.0°におけるX線回折ピーク強度IBのピーク強度比IB/IAが10%以下であると共に、相対密度が96%以上である。
<Dielectric porcelain>
The dielectric ceramic according to the present embodiment includes a main component including Mg 2 SiO 4 and a subcomponent including ZnO and a glass component. In X-ray diffraction, 2θ of Mg 2 SiO 4 as a main phase is 36. The unreacted zinc oxide 2θ of 31.0 ° to 32.0 ° and 33.0 ° to 34.0 ° with respect to the X-ray diffraction peak intensity I A between 0 ° and 37.0 ° with the peak intensity ratio I B / I a of the X-ray diffraction peak intensity I B is 10% or less in and a relative density of 96% or more.

なお、本実施形態において、誘電体磁器組成物とは、誘電体磁器の原料組成物であり、誘電体磁器とは、誘電体磁器組成物を焼結させることによって得られる焼結体である。また、焼結とは、誘電体磁器組成物を加熱することで、誘電体磁器組成物が焼結体(誘電体磁器)となり、緻密な物体になる現象である。一般に、加熱前の誘電体磁器組成物に比べて、焼結体(誘電体磁器)の密度、機械的強度等は大きくなる。また、焼結温度とは、誘電体磁器組成物が焼結する際の誘電体磁器組成物の温度である。また、焼成とは、焼結を目的とした加熱処理を意味し、焼成温度とは、加熱処理の際に誘電体磁器組成物が曝される雰囲気の温度である。   In the present embodiment, the dielectric ceramic composition is a raw material composition for dielectric ceramic, and the dielectric ceramic is a sintered body obtained by sintering the dielectric ceramic composition. Sintering is a phenomenon in which a dielectric ceramic composition becomes a sintered body (dielectric ceramic) and becomes a dense object by heating the dielectric ceramic composition. In general, the density, mechanical strength, etc. of the sintered body (dielectric ceramic) are increased as compared with the dielectric ceramic composition before heating. The sintering temperature is the temperature of the dielectric ceramic composition when the dielectric ceramic composition is sintered. Further, firing means a heat treatment for the purpose of sintering, and the firing temperature is the temperature of the atmosphere to which the dielectric ceramic composition is exposed during the heat treatment.

誘電体磁器組成物を低温で焼成することが可能であるか否か(低温焼結性)の評価は、誘電体磁器組成物の焼成温度を徐々に下げて焼成し、本実施形態に係る誘電体磁器が所望の誘電体高周波特性が得られる程度に誘電体磁器組成物が焼結しているかどうかで判断することができる。また、本実施形態に係る誘電体磁器についての誘電特性は、Qf値、温度変化による共振周波数の変化(共振周波数の温度係数τf)、及び比誘電率εrによって評価することができる。Qf値、比誘電率εrは、日本工業規格「マイクロ波用ファインセラミックスの誘電特性の試験方法」(JIS R1627 1996年度)に従って測定することができる。   Whether the dielectric ceramic composition can be fired at a low temperature (low temperature sinterability) is evaluated by gradually lowering the firing temperature of the dielectric ceramic composition and firing the dielectric ceramic composition according to the present embodiment. The determination can be made based on whether the dielectric ceramic composition is sintered to such an extent that the desired ceramic high-frequency characteristics can be obtained. In addition, the dielectric characteristics of the dielectric ceramic according to the present embodiment can be evaluated by the Qf value, the change in the resonance frequency due to the temperature change (temperature coefficient τf of the resonance frequency), and the relative dielectric constant εr. The Qf value and the relative dielectric constant εr can be measured according to Japanese Industrial Standard “Test Method for Dielectric Properties of Fine Ceramics for Microwaves” (JIS R1627 1996).

<主成分>
本実施形態に係る誘電体磁器には、Mg2SiO4(フォルステライト)が主成分として含まれる。Mg2SiO4は、単体でのQf値が200000GHz以上であり、誘電損失が小さいため、誘電体磁器の誘電損失を低下させる機能を有する。また、Mg2SiO4は、その比誘電率εrが6から7程度と低いため、誘電体磁器の比誘電率εrを低下させる機能も有する。ここで、誘電損失は、高周波のエネルギの一部が熱となって放散する現象である。誘電損失の大きさは、上記の通り、現実の電流と電圧の位相差と理想の電流と電圧の位相差90度との差である損失角度δの正接tanδの逆数Q(Q=1/tanδ)で表わされる。誘電体磁器の誘電損失の評価は、このQと共振周波数fの積であるQf値を用いている。誘電損失が小さくなればQf値は大きくなり、誘電損失が大きくなればQf値は小さくなる。誘電損失は高周波デバイスの電力損失を意味するため、誘電体磁器のQf値は大きいことが好ましい。本実施形態では、誘電損失の評価は、Q値を用いる。
<Main component>
The dielectric ceramic according to the present embodiment contains Mg 2 SiO 4 (forsterite) as a main component. Mg 2 SiO 4 has a function of reducing the dielectric loss of the dielectric ceramic because the single Qf value is 200,000 GHz or more and the dielectric loss is small. Mg 2 SiO 4 also has a function of lowering the relative dielectric constant εr of the dielectric ceramic because its relative dielectric constant εr is as low as about 6 to 7. Here, dielectric loss is a phenomenon in which part of high-frequency energy is dissipated as heat. As described above, the magnitude of the dielectric loss is the reciprocal Q (Q = 1 / tan δ) of the tangent tan δ of the loss angle δ, which is the difference between the actual current and voltage phase difference and the ideal current and voltage phase difference of 90 degrees. ). Evaluation of the dielectric loss of the dielectric ceramic uses a Qf value which is a product of the Q and the resonance frequency f. The Qf value increases as the dielectric loss decreases, and the Qf value decreases as the dielectric loss increases. Since the dielectric loss means the power loss of the high frequency device, it is preferable that the Qf value of the dielectric ceramic is large. In the present embodiment, the Q value is used for evaluating the dielectric loss.

誘電体磁器の誘電損失を下げるという観点から、主成分に占めるMgSiOの割合が100質量部であることが好ましいが、比誘電率εrを調整するため、MgSiO以外の主成分をMg2SiO4と併用することができる。Mg2SiO4以外の主成分としては、例えば比誘電率εrが17前後であるチタン酸マグネシウム(MgTiO3)、及び比誘電率εrが200前後であるチタン酸カルシウム(CaTiO3)等が挙げられる。 From the viewpoint of reducing the dielectric loss of the dielectric ceramic, the proportion of Mg 2 SiO 4 in the main component is preferably 100 parts by mass. However, in order to adjust the relative permittivity εr, main components other than Mg 2 SiO 4 Can be used in combination with Mg 2 SiO 4 . Examples of main components other than Mg 2 SiO 4 include magnesium titanate (MgTiO 3 ) having a relative dielectric constant εr of about 17, and calcium titanate (CaTiO 3 ) having a relative dielectric constant εr of about 200. .

Mg2SiO4を構成するMgOとSiO2とのモル比は、化学量論的にはMgO対SiO2が2対1であるが、本実施形態はこれに限定されるものではなく、本実施形態に係る誘電体磁器の効果を損なわない範囲内で化学量論比から外れてもよい。例えば、MgO対SiO2は、1.9対1.1から2.1対0.9の範囲内とすることができる。 The molar ratio of MgO and SiO 2 which constitutes the mg 2 SiO 4, the stoichiometrically MgO pair SiO 2 is 2 to 1, this embodiment is not limited thereto, the present embodiment You may remove | deviate from stoichiometry within the range which does not impair the effect of the dielectric ceramic which concerns on a form. For example, MgO to SiO 2 can be in the range of 1.9 to 1.1 to 2.1 to 0.9.

本実施形態の誘電体磁器中のMg2SiO4の含有量は、誘電体磁器全体から後述する各副成分を除いた残部であることが好ましい。誘電体磁器がこのような条件で主成分であるMg2SiO4を含むことで、誘電損失及び比誘電率εrを低下する効果が確実に得られるようになる。なお、主成分として上記のようなMg2SiO4以外の成分を含む場合、主成分の合計は誘電体磁器全体から後述の各副成分を除いた残部となる。 The content of Mg 2 SiO 4 in the dielectric ceramic according to the present embodiment is preferably the remainder obtained by removing each subcomponent described later from the entire dielectric ceramic. When the dielectric ceramic contains the main component Mg 2 SiO 4 under such conditions, the effect of reducing the dielectric loss and the relative permittivity εr can be obtained with certainty. In addition, when a component other than the above Mg 2 SiO 4 is included as a main component, the total of the main component is the remainder obtained by removing each subcomponent described later from the entire dielectric ceramic.

<副成分>
本実施形態の誘電体磁器は、主成分であるMg2SiO4に対する副成分として、亜鉛酸化物及びガラス成分を含む組成で構成されている。副成分は、誘電体磁器組成物を焼成する際に液相を形成する焼結助剤として用いられる。特に、副成分として含まれるガラス成分は液相としての役割を果たし、未反応で残る焼結助剤と主成分であるMg2SiO4との反応性を促進する。これにより、誘電体磁器組成物の焼成後に誘電体磁器に未反応で残る焼結助剤を低減することができると共に、焼結助剤を完全に反応させることができるため、誘電体磁器の焼結性が確保される。この結果、得られる誘電体磁器のQ値を上昇させることができ、誘電損失を小さくすることができる。
<Subcomponent>
The dielectric ceramic of the present embodiment is composed of a composition containing zinc oxide and a glass component as subcomponents with respect to Mg 2 SiO 4 as the main component. The auxiliary component is used as a sintering aid for forming a liquid phase when the dielectric ceramic composition is fired. In particular, the glass component contained as a subsidiary component plays a role as a liquid phase, and promotes the reactivity between the unreacted sintering aid and the main component Mg 2 SiO 4 . As a result, the sintering aid remaining unreacted on the dielectric ceramic after firing the dielectric ceramic composition can be reduced and the sintering aid can be completely reacted. Consistency is ensured. As a result, the Q value of the obtained dielectric ceramic can be increased, and the dielectric loss can be reduced.

また、亜鉛酸化物及びガラス成分を誘電体磁器組成物の焼成時に液相を形成する焼結助剤として添加し、副成分として誘電体磁器組成物に含有させることによって、誘電体磁器組成物の焼結温度が低下する。このため、誘電体磁器組成物を焼成し、誘電体磁器を作製する際、誘電体磁器組成物を低温(Ag系金属の融点より低い温度)でAg系金属と同時に焼成することが可能となり、低温焼成化を図ることができると共に、誘電体磁器組成物の焼成温度の低下に伴い生じる誘電体磁器の抗折強度の低下を抑制することができる。よって、誘電体磁器組成物の低温(Ag系金属の融点より低い温度)焼成を可能としつつ、得られる誘電体磁器の抗折強度を、従来のフォルステライト系組成物を焼成して得られる誘電体磁器よりも向上させることができる。   In addition, zinc oxide and a glass component are added as a sintering aid for forming a liquid phase during firing of the dielectric ceramic composition, and are contained in the dielectric ceramic composition as subcomponents. The sintering temperature decreases. For this reason, when the dielectric ceramic composition is fired to produce the dielectric ceramic, the dielectric ceramic composition can be fired simultaneously with the Ag-based metal at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal). A low temperature firing can be achieved, and a decrease in the bending strength of the dielectric ceramic caused by a decrease in the firing temperature of the dielectric ceramic composition can be suppressed. Therefore, the dielectric porcelain obtained by firing the conventional forsterite composition can be obtained with the bending strength of the obtained dielectric porcelain while allowing the dielectric ceramic composition to be fired at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal). This can be improved over the body porcelain.

亜鉛酸化物としては、例えばZnO等が挙げられる。ガラス成分は、Li2Oを含むガラスを少なくとも1つ以上含むものであることが好ましい。ガラス成分がLi2Oを含むことで、更に未反応な焼結助剤とMg2SiO4との反応性を促進し、誘電体磁器組成物の焼成後、誘電体磁器に未反応で残る焼結助剤を更に低減すると共に、焼結助剤を完全に反応させることができるので、誘電体磁器の焼結性は更に安定して確保できる。これにより、得られる誘電体磁器のQ値は更に上昇させることができ、誘電損失を更に小さくすることができる。また、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で誘電体磁器組成物をAg系金属と同時焼成することを可能としつつ誘電体磁器の抗折強度を更に安定して確保することができる。 Examples of zinc oxide include ZnO. The glass component preferably contains at least one glass containing Li 2 O. By including Li 2 O in the glass component, the reactivity between the unreacted sintering aid and Mg 2 SiO 4 is further promoted, and after firing the dielectric ceramic composition, the unreacted firing remaining in the dielectric ceramic. Since the binder can be further reduced and the sintering assistant can be completely reacted, the sinterability of the dielectric ceramic can be secured more stably. Thereby, the Q value of the obtained dielectric ceramic can be further increased, and the dielectric loss can be further reduced. In addition, the dielectric ceramic composition can be fired simultaneously with the Ag-based metal at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal), and the bending strength of the dielectric ceramic can be secured more stably.

このようなガラス成分としては、例えば、SiO2−RO−Li2O(ROはアルカリ土類金属酸化物を1種類以上含む)系ガラスとB23−RO−Li2O系ガラスとの何れか一方又は両方を含んで構成されるものが好ましい。ガラス成分として、具体的には、SiO2−RO−Li2O系ガラスとしては、SiO2−CaO−Li2O系ガラス、SiO2−SrO−Li2O系ガラス、SiO2−BaO−Li2O系ガラス、SiO2−CaO−SrO−Li2O系ガラス、SiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラス、SiO2−SrO−BaO−Li2O系ガラス、SiO2−CaO−SrO−BaO−Li2O系ガラスなどが挙げられる。B23−RO−Li2O系ガラスとしては、B23−CaO−Li2O系ガラス、B23−SrO−Li2O系ガラス、B23−BaO−Li2O系ガラス、B23−CaO−SrO−Li2O系ガラス、B23−BaO−CaO−Li2O系ガラス、B23−SrO−BaO−Li2O系ガラス、B23−CaO−SrO−BaO−Li2O系ガラスなどが挙げられる。これらの中でも、SiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスが好ましい。 As such a glass component, for example, SiO 2 —RO—Li 2 O (RO contains at least one alkaline earth metal oxide) glass and B 2 O 3 —RO—Li 2 O glass. What comprises any one or both is preferable. As glass component, specifically, the SiO 2 -RO-Li 2 O-based glass, SiO 2 -CaO-Li 2 O-based glass, SiO 2 -SrO-Li 2 O-based glass, SiO 2 -BaO-Li 2 O-based glass, SiO 2 -CaO-SrO-Li 2 O -based glass, SiO 2 -BaO-CaO-Li 2 O -based glass, SiO 2 -SrO-BaO-Li 2 O -based glass, SiO 2 -CaO-SrO such -BaO-Li 2 O system glass. B 2 O 3 as the -RO-Li 2 O-based glass, B 2 O 3 -CaO-Li 2 O -based glass, B 2 O 3 -SrO-Li 2 O -based glass, B 2 O 3 -BaO-Li 2 O glass, B 2 O 3 —CaO—SrO—Li 2 O glass, B 2 O 3 —BaO—CaO—Li 2 O glass, B 2 O 3 —SrO—BaO—Li 2 O glass, B Examples include 2 O 3 —CaO—SrO—BaO—Li 2 O-based glass. Among these, SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 O-based glass is preferable.

亜鉛酸化物の含有量は、亜鉛酸化物の質量をZnOに換算した場合、主成分100質量部に対して、8.0質量部以上20質量部以下であることが好ましく、10質量部以上16質量部以下であることがより好ましく、12.0質量部以上16.0質量部以下であることが更に好ましい。亜鉛酸化物(特に、ZnO)は、誘電体磁器組成物をAg系金属と同時焼成する際に、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で焼成するのに寄与する。このため、亜鉛酸化物の含有量を上記範囲内とすることで、低温(Ag系金属の融点より低い温度)で誘電体磁器組成物をAg系金属と安定して同時焼成させることが可能となる。   The content of the zinc oxide is preferably 8.0 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, and preferably 10 parts by mass or more and 16 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the main component when the mass of the zinc oxide is converted to ZnO. More preferably, it is 1 part by mass or more and 16.0 parts by mass or less. Zinc oxide (particularly ZnO) contributes to firing at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal) when the dielectric ceramic composition is fired simultaneously with the Ag-based metal. Therefore, by setting the content of zinc oxide within the above range, the dielectric ceramic composition can be stably co-fired with the Ag-based metal at a low temperature (a temperature lower than the melting point of the Ag-based metal). Become.

亜鉛酸化物の含有量が8.0質量部未満となると、低温焼結効果(即ち、より低い温度での誘電体磁器組成物の焼結を可能とする効果)が不充分となる傾向があり、誘電体磁器の焼結密度は小さくなり、品質係数Qが低下して、誘電損失が大きくなる傾向があると共に、抗折強度を向上する効果が小さくなる傾向がある。また、亜鉛酸化物の含有量が20質量部を超えると、品質係数Qが低下して、誘電損失が大きくなる傾向がある。そこで、亜鉛酸化物の含有量を上記範囲内とすることによって、これらの傾向を抑制できる。   When the zinc oxide content is less than 8.0 parts by mass, the low-temperature sintering effect (that is, the effect that enables the dielectric ceramic composition to be sintered at a lower temperature) tends to be insufficient. The sintered density of the dielectric ceramic decreases, the quality factor Q decreases, the dielectric loss tends to increase, and the effect of improving the bending strength tends to decrease. On the other hand, when the content of zinc oxide exceeds 20 parts by mass, the quality factor Q tends to decrease and the dielectric loss tends to increase. Therefore, by setting the content of zinc oxide within the above range, these tendencies can be suppressed.

副成分の一種であるガラス成分の含有量は、ガラス成分の質量をSiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスに換算した場合、副成分からガラス成分を除いた誘電体組成100質量部に対して、2.0質量部以上10.0質量部以下であることが好ましく、2.0質量部以上7.0質量部以下であることがより好ましい。 The content of the glass component which is a kind of subcomponent is 100 parts by mass of the dielectric composition excluding the glass component from the subcomponent when the mass of the glass component is converted to SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 O-based glass. On the other hand, it is preferably 2.0 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less, and more preferably 2.0 parts by mass or more and 7.0 parts by mass or less.

ガラス成分の含有量が2.0質量部未満となると、低温焼結効果が不充分となり、焼結が不足し、本実施形態に係る誘電体磁器の焼結密度は小さくなり、品質係数Qは低下し、誘電損失が大きくなる傾向があると共に、抗折強度を向上する効果が小さくなる傾向がある。また、ガラス成分の含有量が10.0質量部を超えると、品質係数Qは低下し、誘電損失が大きくなる傾向がある。そこで、ガラス成分の含有量を上記範囲内とすることによって、これらの傾向を抑制できる。   When the content of the glass component is less than 2.0 parts by mass, the low-temperature sintering effect is insufficient, the sintering is insufficient, the sintered density of the dielectric ceramic according to this embodiment is reduced, and the quality factor Q is The dielectric loss tends to increase and the dielectric loss tends to increase, and the effect of improving the bending strength tends to decrease. Moreover, when content of a glass component exceeds 10.0 mass parts, the quality factor Q will fall and there exists a tendency for a dielectric loss to become large. Therefore, by setting the content of the glass component within the above range, these tendencies can be suppressed.

本実施形態に係る誘電体磁器においては、副成分に含まれる成分として、亜鉛酸化物及びガラス成分以外に、例えば、ホウ素酸化物、アルカリ土類金属酸化物などを含むようにしてもよい。具体的なホウ素酸化物としては、B23等が挙げられる。アルカリ土類金属酸化物としては、BaO、SrO、CaO、MgO等が挙げられる。 In the dielectric ceramic according to the present embodiment, for example, a boron oxide, an alkaline earth metal oxide, or the like may be included as a component included in the subcomponent in addition to the zinc oxide and the glass component. Specific examples of the boron oxide include B 2 O 3 . Examples of the alkaline earth metal oxide include BaO, SrO, CaO, and MgO.

ホウ素酸化物の含有量は、ホウ素酸化物の質量をB23に換算した場合、主成分100質量部に対して、3.0質量部以上10.0質量部以下であることが好ましく、4.0質量部以上8.0質量部以下であることがより好ましい。 The content of the boron oxide is preferably 3.0 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the main component when the mass of the boron oxide is converted to B 2 O 3 . It is more preferable that it is 4.0 parts by mass or more and 8.0 parts by mass or less.

ホウ素酸化物の含有量が3.0質量部未満となると、低温焼結効果が不十分となる傾向があり、品質係数Qが低下して誘電損失が大きくなる傾向がある。また、ホウ素酸化物の含有量が10.0質量部を超えると、誘電体磁器の焼結密度が低くなり易く、品質係数Qが低下して誘電損失が大きくなると共に、抗折強度が向上する効果が小さくなる傾向がある。そこで、ホウ素酸化物の含有量を上記範囲内とすることによって、これらの傾向を抑制できる。   If the boron oxide content is less than 3.0 parts by mass, the low-temperature sintering effect tends to be insufficient, the quality factor Q tends to decrease, and the dielectric loss tends to increase. On the other hand, if the content of boron oxide exceeds 10.0 parts by mass, the sintered density of the dielectric ceramic is likely to be lowered, the quality factor Q is lowered to increase the dielectric loss, and the bending strength is improved. The effect tends to be small. Therefore, by setting the content of boron oxide within the above range, these tendencies can be suppressed.

アルカリ土類金属酸化物の含有量は、アルカリ土類金属酸化物の質量をRO(Rはアルカリ土類金属元素を示す)に換算した場合、主成分100質量部に対して、1.0質量部以上4.0質量部以下であることが好ましく、1.0質量部以上3.0質量部以下であることがより好ましい。アルカリ土類金属酸化物を誘電体磁器組成物に含有させることによって、誘電体磁器組成物の低温焼結効果が顕著となる。   Content of alkaline-earth metal oxide is 1.0 mass with respect to 100 mass parts of main components, when the mass of alkaline-earth metal oxide is converted into RO (R shows an alkaline-earth metal element). Part or more and 4.0 parts by weight or less is preferable, and 1.0 part by weight or more and 3.0 parts by weight or less is more preferable. By including the alkaline earth metal oxide in the dielectric ceramic composition, the low-temperature sintering effect of the dielectric ceramic composition becomes remarkable.

アルカリ土類金属酸化物の含有量が1.0質量部未満となると、低温焼結効果が十分に得られなくなる傾向があり、本実施形態に係る誘電体磁器の焼結密度が低くなり易く、品質係数Qが低下して誘電損失が大きくなると共に、抗折強度が向上する効果が小さくなる傾向がある。また、アルカリ土類金属酸化物の含有量が4.0質量部を超えると、低温焼結効果は顕著となるものの、品質係数Qが低下して、誘電損失が大きくなる傾向がある。そこで、アルカリ土類金属酸化物の含有量を上記範囲内とすることによって、これらの傾向を抑制できる。   When the content of the alkaline earth metal oxide is less than 1.0 part by mass, the low-temperature sintering effect tends to be insufficient, and the sintered density of the dielectric ceramic according to the present embodiment tends to be low. The quality factor Q decreases and the dielectric loss increases, and the effect of improving the bending strength tends to decrease. On the other hand, when the content of the alkaline earth metal oxide exceeds 4.0 parts by mass, although the low-temperature sintering effect becomes remarkable, the quality factor Q tends to decrease and the dielectric loss tends to increase. Therefore, by setting the content of the alkaline earth metal oxide within the above range, these tendencies can be suppressed.

アルカリ土類金属であるRとしては、Ba、Sr、Caの何れかが好ましく、これらの2種以上を混合して用いてもよい。具体的なアルカリ土類金属酸化物ROとしては、MgO、CaO、SrO、BaO等が挙げられる。   As R which is an alkaline earth metal, any one of Ba, Sr and Ca is preferable, and two or more of these may be mixed and used. Specific examples of the alkaline earth metal oxide RO include MgO, CaO, SrO, BaO and the like.

本実施形態に係る誘電体磁器では、X線回折におけるピーク強度比IB/IAは10%以下であり、好ましくは5%以下であり、更に好ましくは0%である。ピーク強度比IB/IAが10%を越えると、誘電体磁器の焼結性は不十分となり、十分な強度が得られないからである。 The dielectric ceramic according to the present embodiment, the peak intensity ratio I B / I A in the X-ray diffraction is 10% or less, preferably 5% or less, more preferably 0%. When the peak intensity ratio I B / I A exceeds 10%, sinterability of the dielectric ceramic becomes insufficient and enough strength can not be obtained.

X線回折において、主相であるMg2SiO4のX線回折ピーク強度IAは、2θが36.0°から37.0°の間に最大ピークが生じ、亜鉛酸化物のX線回折ピーク強度IBは、2θが31.0°から32.0°及び33.0°から34.0°の間に生じる。このX線回折ピーク強度IBから未反応なまま残存する亜鉛酸化物を確認することができ、X線回折ピーク強度IAと比較することで、主成分中に未反応なまま残存する亜鉛酸化物の割合を確認することができる。主成分中に未反応なまま残存する亜鉛酸化物は、誘電体磁器組成物を焼結した際の誘電体磁器の焼結性に影響し、誘電体磁器の焼結密度を低下させ、Q値を低下させる。よって、ピーク強度比IB/IAを10%以下とし、主成分中に未反応なまま残存する亜鉛酸化物の割合を小さくすることで、誘電体磁器の焼結性を確保し、誘電体磁器の焼結密度を良好とし、Q値を上昇させることができる。 In X-ray diffraction, the X-ray diffraction peak intensity I A of Mg 2 SiO 4 which is the main phase has a maximum peak between 2θ of 36.0 ° and 37.0 °, and the X-ray diffraction peak of zinc oxide Intensity I B occurs between 2θ between 31.0 ° and 32.0 ° and between 33.0 ° and 34.0 °. The zinc oxide remaining unreacted can be confirmed from the X-ray diffraction peak intensity I B. By comparing with the X-ray diffraction peak intensity I A , the zinc oxide remaining unreacted in the main component can be confirmed. The ratio of objects can be confirmed. Zinc oxide that remains unreacted in the main component affects the sinterability of the dielectric ceramic when the dielectric ceramic composition is sintered, reduces the sintered density of the dielectric ceramic, and reduces the Q value. Reduce. Accordingly, the peak intensity ratio I B / I A is 10% or less, by reducing the proportion of zinc oxide remaining remains unreacted in the main component to ensure sinterability of the dielectric ceramic, dielectric The sintered density of the porcelain can be improved, and the Q value can be increased.

X線回折ピーク強度IAのMg2SiO4の2θの角度は、36.0°から37.0°の間の範囲内としているが、後述するように、誘電体磁器組成物を作製する際、Mg2SiO4結晶粉末に、副成分原料粉末として亜鉛酸化物やガラス成分を添加しており、誘電体磁器に含まれる副成分の組成比に応じて若干変動することから、Mg2SiO4の2θの角度は、36.0°から36.5°の間の範囲内が好ましく、36.3°付近がより好ましい。 The angle of 2θ of Mg 2 SiO 4 having an X-ray diffraction peak intensity I A is set in a range between 36.0 ° and 37.0 °, but as described later, when a dielectric ceramic composition is manufactured. In addition, zinc oxide or glass component is added to the Mg 2 SiO 4 crystal powder as a subcomponent raw material powder, and slightly varies depending on the composition ratio of subcomponents contained in the dielectric ceramic, so that Mg 2 SiO 4 The 2θ angle is preferably in the range between 36.0 ° and 36.5 °, more preferably in the vicinity of 36.3 °.

X線回折ピーク強度IBの未反応なまま存在する亜鉛酸化物の2θの角度は、31.0°から32.0°及び33.0°から34.0°の間の範囲内と各々しているが、上記と同様に、誘電体磁器に含まれる副成分の組成比に応じて若干変動することから、未反応なまま存在する亜鉛酸化物の2θの角度のうち31.0°から32.0°の値は、31.5°から32.0°の間の範囲内が好ましく、31.8°付近がより好ましい。また、未反応なまま存在する亜鉛酸化物の2θの角度のうち33.0°から34.0°の角度は、33.3°から33.8°の間の範囲内が好ましく、33.6°付近がより好ましい。 The 2θ angle of the unreacted zinc oxide with the X-ray diffraction peak intensity I B is in the range between 31.0 ° to 32.0 ° and 33.0 ° to 34.0 °, respectively. However, in the same manner as described above, since it slightly varies depending on the composition ratio of the subcomponents contained in the dielectric ceramic, 31.0 ° to 32% of the 2θ angle of the zinc oxide remaining unreacted. The value of 0.0 ° is preferably in the range between 31.5 ° and 32.0 °, more preferably around 31.8 °. Of the 2θ angles of the zinc oxide that remains unreacted, the angle of 33.0 ° to 34.0 ° is preferably within the range of 33.3 ° to 33.8 °, and 33.6 ° The vicinity of ° is more preferable.

本実施形態に係る誘電体磁器では、相対密度が96%以上であり、好ましくは99%以上である。相対密度は誘電体磁器組成物を焼成した際の焼成性を示す。相対密度が96%を下回ると、誘電体磁器の焼結性は不十分となり、誘電体磁器のQ値の低下、強度の低下を引き起こすからである。誘電体磁器組成物の主成分をMgSiOとし、副成分をZnOとB23とCaCO3とSiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスとした時、同一の組成の誘電体磁器組成物の焼成温度と時間とを変化させて焼結密度ρsを測定した際、その焼結密度ρsの値が3.35g/cm3である。誘電体磁器の主成分と副成分との組成比によって誘電体磁器の焼結密度ρsの値は若干変動するが、相対密度は、例えば、誘電体磁器の焼結密度ρsの値が、3.35g/cm3の時を、相対密度100%と規定して求めることができる。よって、本実施形態に係る誘電体磁器の相対密度を96%以上とすることで、誘電体磁器の焼結性は確保できるので、得られる誘電体磁器の焼結密度を良好とし、Q値を上昇させ、誘電損失を低下させることができると共に、抗折強度を上昇させることができる。 In the dielectric ceramic according to this embodiment, the relative density is 96% or more, and preferably 99% or more. The relative density indicates the firing property when the dielectric ceramic composition is fired. This is because, when the relative density is less than 96%, the sinterability of the dielectric ceramic becomes insufficient, and the Q value and the strength of the dielectric ceramic are reduced. When the main component of the dielectric ceramic composition is Mg 2 SiO 4 and the subcomponents are ZnO, B 2 O 3 , CaCO 3, and SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 O glass, a dielectric having the same composition When the sintering density ρs was measured while changing the firing temperature and time of the porcelain composition, the value of the sintering density ρs was 3.35 g / cm 3 . The value of the sintering density ρs of the dielectric ceramic slightly varies depending on the composition ratio of the main component and the subcomponent of the dielectric ceramic, but the relative density is, for example, the value of the sintering density ρs of the dielectric ceramic is 3. The time of 35 g / cm 3 can be determined by defining the relative density as 100%. Therefore, since the sinterability of the dielectric ceramic can be ensured by setting the relative density of the dielectric ceramic according to the present embodiment to 96% or more, the sintered density of the dielectric ceramic obtained is good, and the Q value is The dielectric loss can be lowered and the bending strength can be raised.

Q値の低下は電子部品の損失が大きくなることを意味し、Q値が大きいほど、電子部品の損失は小さく抑えられる。本実施形態に係る誘電体磁器は、亜鉛酸化物及びガラス成分の含有量を誘電体磁器組成物と同様の範囲内とし、X線回折におけるピーク強度比IB/IAを10%以下とすると共に、相対密度を96%以上とする。これにより、本実施形態に係る誘電体磁器は、焼結性及び抗折強度を確保することができると共に、Q値を上昇させ、誘電損失を小さくすることが可能となる。このため、誘電体磁器組成物の低温焼結化を図りつつ、本実施形態に係る誘電体磁器のQ値を、所定値(例えば、1000)以上に維持することができる。よって、本実施形態に係る誘電体磁器は、Ag系金属等の低融点の導体材を内部電極とする電子部品に用いられる低温焼成が可能な誘電体磁器を提供することができる。 A decrease in the Q value means that the loss of the electronic component becomes large. The larger the Q value, the smaller the loss of the electronic component. The dielectric ceramic according to the present embodiment, the content of zinc oxide and a glass component in a range similar to the dielectric ceramic composition, a peak intensity ratio I B / I A in the X-ray diffraction is 10% or less At the same time, the relative density is set to 96% or more. As a result, the dielectric ceramic according to the present embodiment can ensure sinterability and bending strength, increase the Q value, and reduce the dielectric loss. For this reason, the Q value of the dielectric ceramic according to the present embodiment can be maintained at a predetermined value (for example, 1000) or more while achieving low-temperature sintering of the dielectric ceramic composition. Therefore, the dielectric ceramic according to the present embodiment can provide a dielectric ceramic that can be fired at a low temperature and is used for an electronic component having a low melting point conductor material such as an Ag-based metal as an internal electrode.

このように、本実施形態に係る誘電体磁器は、主成分としてMg2SiO4を含み、副成分として亜鉛酸化物及びガラス成分を含み、X線回折において、ピーク強度比IB/IAを10%以下とすると共に、相対密度を96%以上とするものである。本実施形態に係る誘電体磁器に副成分として含まれるガラス成分は、誘電体磁器組成物を焼成する際、液相としての役割を果たし、未反応で残る焼結助剤とMg2SiO4との反応を促進させることができ、誘電体磁器組成物を低温で焼成しても未反応な焼結助剤をなくし、焼結助剤を完全に反応させ、誘電体磁器の焼結性を確保することができる。このとき、本実施形態に係る誘電体磁器のピーク強度比IB/IAは10%以下であると共に、相対密度は96%以上である。これにより、得られる誘電体磁器のQ値を上昇させることができ、誘電損失を小さくすることができる。また、上記組成によれば、Ag系金属が溶融しない程度の低温で誘電体磁器組成物をAg系金属と同時焼成することができると共に、誘電体磁器組成物の焼成温度の低下に伴い生じる抗折強度の低下を抑制することができる。このため、低温で焼成して得られる誘電体磁器の抗折強度を、従来のフォルステライト系組成物を焼成して得られる誘電体磁器よりも向上させることができる。従って、本実施形態に係る誘電体磁器は、低温で焼成して得ることを可能としつつ、焼結性が確保され、抗折強度を維持すると共に、誘電損失を低下させることが可能となる。 As described above, the dielectric ceramic according to the present embodiment includes Mg 2 SiO 4 as a main component, zinc oxide and a glass component as subcomponents, and has a peak intensity ratio I B / I A in X-ray diffraction. In addition to 10% or less, the relative density is 96% or more. The glass component contained as a subcomponent in the dielectric ceramic according to the present embodiment plays a role as a liquid phase when firing the dielectric ceramic composition, and the sintering aid remaining unreacted with Mg 2 SiO 4 Reaction can be promoted, and even if the dielectric ceramic composition is fired at a low temperature, the unreacted sintering aid is eliminated and the sintering aid is completely reacted to ensure the sinterability of the dielectric ceramic. can do. In this case, the peak intensity ratio I B / I A of the dielectric ceramic according to the present embodiment with 10% or less, relative density is 96% or more. Thereby, the Q value of the obtained dielectric ceramic can be increased, and the dielectric loss can be reduced. In addition, according to the above composition, the dielectric ceramic composition can be fired simultaneously with the Ag-based metal at a low temperature that does not melt the Ag-based metal, and the resistance generated as the firing temperature of the dielectric ceramic composition decreases. A decrease in bending strength can be suppressed. For this reason, the bending strength of the dielectric ceramic obtained by firing at a low temperature can be improved as compared with the dielectric ceramic obtained by firing the conventional forsterite composition. Therefore, the dielectric ceramic according to the present embodiment can be obtained by firing at a low temperature, while ensuring sinterability, maintaining the bending strength, and reducing the dielectric loss.

<誘電体磁器の製造方法>
本実施形態に係る誘電体磁器の製造方法の一例について説明する。図1は、本実施形態に係る誘電体磁器の製造方法を示すフローチャートである。図1に示すように、本実施形態に係る誘電体磁器の製造方法は、Mg2SiO4を含む主成分と、ZnO及びガラス成分を含む副成分とを含む誘電体磁器を製造するにあたり、以下の工程を含む。
(a) 酸化マグネシウムの原料粉末と二酸化珪素の原料粉末とを混合して熱処理し、Mg2SiO4結晶粉末を作製するMg2SiO4結晶粉末の作製工程(ステップS11)
(b) Mg2SiO4結晶粉末に、副成分原料粉末として前記亜鉛酸化物及びガラス成分を添加し、誘電体磁器組成物を得る誘電体磁器組成物の作製工程(ステップS12)
(c) 誘電体磁器組成物を酸素雰囲気下において800℃以上1000℃以下の温度で焼成して、焼結体を得る焼成工程(ステップS13)
<Dielectric porcelain manufacturing method>
An example of a method for manufacturing a dielectric ceramic according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a flowchart showing a method for manufacturing a dielectric ceramic according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the method for manufacturing a dielectric ceramic according to the present embodiment includes the following steps when manufacturing a dielectric ceramic including a main component including Mg 2 SiO 4 and a subcomponent including ZnO and a glass component. These steps are included.
(A) by mixing a raw material powder of the raw material powder and silicon dioxide magnesium oxide was heat-treated, Mg 2 SiO 4 to produce a crystalline powder Mg 2 SiO 4 crystal powder manufacturing process (step S11)
(B) Step of producing a dielectric ceramic composition by adding the zinc oxide and glass component as subcomponent raw powder to Mg 2 SiO 4 crystal powder to obtain a dielectric ceramic composition (step S12)
(C) A firing step of firing the dielectric ceramic composition at a temperature of 800 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower in an oxygen atmosphere to obtain a sintered body (step S13).

<Mg2SiO4結晶粉末の作製工程:ステップS11>
Mg2SiO4結晶粉末の作製工程(ステップS11)は、酸化マグネシウム(MgO)の原料粉末と酸化珪素(SiO2)の原料粉末とを混合して仮焼きし、フォルステライト(Mg2SiO4)結晶粉末を作製する工程である。Mg2SiO4結晶粉末の原料となるMgOの原料粉末とSiO2の原料粉末とをそれぞれ所定量秤量した後、混合する。これにより原料混合粉末を得る。なお、副成分の各原料の秤量は、完成後の誘電体磁器組成物において、各副成分の含有率が、誘電体磁器組成物全体に対して所望の上記比率(質量部)となるように行う。また、MgOの原料粉末及びSiO2の原料粉末との混合は、乾式混合又は湿式混合等の混合方式で行うことができ、例えば、ボールミルなどの混合分散機で純水、エタノール等の溶媒を用いて混合する。ボールミルの場合の混合時間は4時間から24時間程度とする。
<Mg 2 SiO 4 crystal powder production process: step S11>
The Mg 2 SiO 4 crystal powder production step (step S11) is performed by mixing a magnesium oxide (MgO) raw material powder and a silicon oxide (SiO 2 ) raw material powder and calcining them to produce forsterite (Mg 2 SiO 4 ). This is a process for producing crystal powder. A predetermined amount of raw material powder of MgO and raw material powder of SiO 2 as raw materials for Mg 2 SiO 4 crystal powder are weighed and mixed. Thereby, raw material mixed powder is obtained. The subcomponents are weighed so that the content of each subcomponent is the desired ratio (parts by mass) with respect to the entire dielectric ceramic composition in the finished dielectric ceramic composition. Do. Further, the mixing of the MgO raw material powder and the SiO 2 raw material powder can be performed by a mixing method such as dry mixing or wet mixing, for example, using a solvent such as pure water or ethanol in a mixing and dispersing machine such as a ball mill. And mix. The mixing time in the case of a ball mill is about 4 to 24 hours.

原料混合粉末を、好ましくは100℃以上200℃以下、より好ましくは120℃以上140℃以下で12時間から36時間程度乾燥させた後、熱処理(仮焼き)する。この仮焼きによって、MgSiO結晶が得られる。仮焼温度は、1100℃以上1500℃以下であることが好ましく、1100℃以上1350℃以下であることが好ましい。また、仮焼時間は1時間から24時間程度行うことが好ましい。 The raw material mixed powder is preferably dried at 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or higher and 140 ° C. or lower for about 12 to 36 hours, and then heat treatment (calcination). By this calcination, Mg 2 SiO 4 crystals are obtained. The calcination temperature is preferably 1100 ° C. or more and 1500 ° C. or less, and preferably 1100 ° C. or more and 1350 ° C. or less. The calcining time is preferably about 1 to 24 hours.

合成されたMgSiO結晶を、粉砕して粉末とした後、乾燥する。これにより、MgSiO結晶粉末が得られる。このMgSiO結晶粉末が誘電体磁器の主成分粉末として用いられる。粉砕は乾式粉砕又は湿式粉砕等の粉砕方式で行なうことができ、例えば、ボールミルで純水、エタノール等の溶媒を用いて湿式粉砕する。粉砕時間は、特に限定されるものではなく、所望の平均粒子径の大きさのMgSiO結晶粉末が得られればよく、粉砕時間は例えば4時間から24時間程度とすればよい。MgSiO結晶粉末の乾燥は、好ましくは100℃以上200℃以下、より好ましくは120℃以上140℃以下の乾燥温度で、12時間から36時間程度行なう。 The synthesized Mg 2 SiO 4 crystal is pulverized into a powder and then dried. Thereby, Mg 2 SiO 4 crystal powder is obtained. This Mg 2 SiO 4 crystal powder is used as the main component powder of the dielectric ceramic. The pulverization can be performed by a pulverization method such as dry pulverization or wet pulverization. For example, wet pulverization is performed with a ball mill using a solvent such as pure water or ethanol. The pulverization time is not particularly limited, and it is sufficient that an Mg 2 SiO 4 crystal powder having a desired average particle size is obtained. The pulverization time may be, for example, about 4 to 24 hours. The Mg 2 SiO 4 crystal powder is preferably dried at a drying temperature of 100 ° C. to 200 ° C., more preferably 120 ° C. to 140 ° C. for about 12 to 36 hours.

なお、Mg2SiO4結晶による効果を大きくするためには、Mg2SiO4中に含まれる未反応のMgOやSiO2の原料成分を少なくする必要があるため、MgOとSiO2とを混合した原料混合粉末を調製する際、マグネシウムのモル数が珪素のモル数の2倍となるように、MgOとSiO2とを混合することが好ましい。 In order to increase the effect of Mg 2 SiO 4 crystal, it is necessary to reduce the raw material components of unreacted MgO and SiO 2 contained in Mg 2 SiO 4 , so MgO and SiO 2 were mixed. When preparing the raw material mixed powder, it is preferable to mix MgO and SiO 2 so that the number of moles of magnesium is twice that of silicon.

MgSiO結晶粉末は、MgOの原料粉末及びSiO2の原料粉末からMg2SiO4結晶を合成する方法に限定されるものではなく、市販のMg2SiO4を用いてもよい。この場合、市販のMg2SiO4を、上述と同様の方法で粉砕し、乾燥してMg2SiO4結晶粉末を得るようにしてもよい。 The Mg 2 SiO 4 crystal powder is not limited to the method of synthesizing the Mg 2 SiO 4 crystal from the MgO raw material powder and the SiO 2 raw material powder, and commercially available Mg 2 SiO 4 may be used. In this case, commercially available Mg 2 SiO 4 may be pulverized by the same method as described above and dried to obtain Mg 2 SiO 4 crystal powder.

Mg2SiO4結晶粉末を得た後、誘電体磁器組成物の作製工程(ステップS12)に移行する。 After obtaining the Mg 2 SiO 4 crystal powder, the process proceeds to the dielectric ceramic composition manufacturing step (step S12).

<誘電体磁器組成物の作製工程:ステップS12>
誘電体磁器組成物の作製工程(ステップS12)は、Mg2SiO4結晶粉末に、副成分原料粉末として前記亜鉛酸化物及びガラス成分を添加し、誘電体磁器組成物を得る誘電体磁器組成物の作製工程である。
<Production process of dielectric ceramic composition: Step S12>
In the dielectric ceramic composition manufacturing step (step S12), the zinc oxide and the glass component are added to the Mg 2 SiO 4 crystal powder as subcomponent raw powders to obtain a dielectric ceramic composition. This is a manufacturing process.

得られたMgSiO結晶粉末と、誘電体磁器組成物の副成分の原料である亜鉛酸化物を所定量秤量した後、これらを混合して熱処理する。Mg2SiO4結晶粉末と副成分原料粉末との熱処理後の粉に対し、ガラス成分を添加して粉砕処理して誘電体磁器組成物とする。本実施形態では、ガラス成分は、MgSiO結晶粉末と亜鉛酸化物とを混合した後、熱処理して得られる粉に添加するようにしているが、本実施形態はこれに限定されるものではなく、ガラス成分は、MgSiO結晶粉末と亜鉛酸化物とを混合し熱処理する時に混合してもよい。亜鉛酸化物としては、上記のように、例えばZnOが挙げられる。ガラス成分としては、上記のように、Li2Oを含むガラスを少なくとも1つ以上含むものであることが好ましい。ガラス成分としては、例えば、SiO2−RO−Li2O系ガラスとB23−RO−Li2O系ガラスとの何れか一方又は両方を含んで構成されるものが好ましい。ガラス成分がLi2Oを含むことで、更に未反応なまま存在する焼結助剤とMg2SiO4との反応を促進させることができるので、誘電体磁器の焼結性は更に安定して確保でき、誘電体磁器のQ値は更に上昇させ、誘電損失を更に小さくすることができる。また、Ag系金属が溶融しない程度の低温で誘電体磁器組成物をAg系金属と同時焼成しつつ抗折強度を更に安定して確保することができる。 A predetermined amount of the obtained Mg 2 SiO 4 crystal powder and zinc oxide which is a raw material of the accessory component of the dielectric ceramic composition are weighed, and then mixed and heat-treated. The powder after heat treatment of the Mg 2 SiO 4 crystal powder and the subcomponent raw material powder is added with a glass component and pulverized to obtain a dielectric ceramic composition. In this embodiment, the glass component is added to the powder obtained by heat treatment after mixing the Mg 2 SiO 4 crystal powder and zinc oxide, but this embodiment is limited to this. Instead, the glass component may be mixed when the Mg 2 SiO 4 crystal powder and zinc oxide are mixed and heat-treated. Examples of zinc oxide include ZnO as described above. As described above, the glass component preferably contains at least one glass containing Li 2 O. As the glass component, for example, those composed include one or both of the SiO 2 -RO-Li 2 O-based glass and B 2 O 3 -RO-Li 2 O system glass is preferred. Since the glass component contains Li 2 O, the reaction between the sintering aid that remains unreacted and Mg 2 SiO 4 can be promoted, so that the sinterability of the dielectric ceramic is further stabilized. The Q value of the dielectric ceramic can be further increased, and the dielectric loss can be further reduced. In addition, the dielectric ceramic composition can be simultaneously fired with the Ag-based metal at a low temperature at which the Ag-based metal is not melted, and the bending strength can be secured more stably.

副成分の原料として、後述する仮焼き等の熱処理で焼成することによって亜鉛酸化物及びLi2Oを含むガラスとなる化合物を用いることもできる。誘電体磁器組成物の副成分の原料としては、亜鉛酸化物及びガラス成分以外に、例えば、ホウ素酸化物、アルカリ土類金属酸化物、又は焼成(後述する仮焼き等の熱処理)することによってこれらの酸化物となる化合物を用いることができる。ホウ素酸化物としては、B23等が挙げられる。アルカリ土類金属酸化物としては、BaO、SrO、CaO、MgO等が挙げられる。焼成により上記酸化物となる化合物としては、例えば、炭酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物、硫化物、有機金属化合物等が例示される。ホウ素酸化物としては、B23等が挙げられる。アルカリ土類金属酸化物としては、BaO、SrO、CaO、MgO等が挙げられる。 A compound that becomes a glass containing zinc oxide and Li 2 O by firing by a heat treatment such as calcining described later can also be used as a raw material for the auxiliary component. In addition to zinc oxide and glass components, raw materials for subcomponents of the dielectric ceramic composition include, for example, boron oxide, alkaline earth metal oxide, or firing (heat treatment such as calcining described later). A compound that becomes an oxide can be used. Examples of the boron oxide include B 2 O 3 . Examples of the alkaline earth metal oxide include BaO, SrO, CaO, and MgO. Examples of the compound that becomes the oxide upon firing include carbonates, nitrates, oxalates, hydroxides, sulfides, organometallic compounds, and the like. Examples of the boron oxide include B 2 O 3 . Examples of the alkaline earth metal oxide include BaO, SrO, CaO, and MgO.

亜鉛酸化物及びガラス成分の各原料の秤量は、完成後の誘電体磁器において、亜鉛酸化物及びガラス成分の含有量が、主成分に対して所望の上記質量比率(質量部)となるように行う。即ち、亜鉛酸化物の含有量は、亜鉛酸化物の質量をZnOに換算した場合、主成分100質量部に対して、8.0質量部以上20質量部以下であることが好ましく、12.0質量部以上16.0質量部以下であることがより好ましい。ガラス成分の含有量は、ガラス成分の質量をSiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスに換算した場合、副成分からガラス成分を除いた誘電体組成100質量部に対して、2.0質量部以上10.0質量部以下であることが好ましく、2.0質量部以上7.0質量部以下であることがより好ましい。 The weighing of each raw material of zinc oxide and glass component is performed so that the content of zinc oxide and glass component becomes a desired mass ratio (part by mass) with respect to the main component in the finished dielectric ceramic. Do. That is, the content of zinc oxide is preferably 8.0 parts by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the main component when the mass of zinc oxide is converted to ZnO. More preferably, it is at least 1 part by mass and no more than 16.0 parts by mass. The content of the glass component is 2.0 with respect to 100 parts by mass of the dielectric composition excluding the glass component from the subcomponent when the mass of the glass component is converted to SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 O glass. It is preferable that it is no less than 10.0 parts by mass and more preferably no less than 2.0 parts by mass and no greater than 7.0 parts by mass.

副成分に含まれる成分として、亜鉛酸化物とガラス成分以外に、例えば、ホウ素酸化物、アルカリ土類金属酸化物などを含む場合、ホウ素酸化物及びアルカリ土類金属酸化物の含有量についても、上記の通り、主成分に対して各々所望の上記質量比率(質量部)となるように行う。   In addition to zinc oxide and glass component as a component contained in the subcomponent, for example, when boron oxide, alkaline earth metal oxide, etc. are included, for the content of boron oxide and alkaline earth metal oxide, As above-mentioned, it carries out so that it may become the said desired mass ratio (mass part) with respect to a main component, respectively.

混合は、乾式混合又は湿式混合等の混合方式で行うことができ、例えば、ボールミルなどの混合分散機で純水、エタノール等の溶媒を用いた混合方式により行うことができる。混合時間は、4時間から24時間程度とすればよい。   Mixing can be performed by a mixing method such as dry mixing or wet mixing, and for example, can be performed by a mixing method using a solvent such as pure water or ethanol with a mixing and dispersing machine such as a ball mill. The mixing time may be about 4 to 24 hours.

原料混合粉末を、好ましくは100℃以上200℃以下、より好ましくは120℃以上140℃以下の乾燥温度で、12時間から36時間程度乾燥する。   The raw material mixed powder is preferably dried at a drying temperature of 100 ° C. to 200 ° C., more preferably 120 ° C. to 140 ° C. for about 12 to 36 hours.

乾燥させた原料混合粉末は、例えば800℃以上950℃以下で、1時間から10時間程度、熱処理(仮焼き)する。このように仮焼を焼成温度以下の温度で行うことによって、原料混合粉末中のフォルステライトが融解することを抑制でき、誘電体磁器組成物中に、結晶の形でMg2SiO4を含有させることができる。 The dried raw material mixed powder is heat-treated (calcined) at 800 ° C. or higher and 950 ° C. or lower for about 1 to 10 hours, for example. Thus, by performing calcination at a temperature lower than the firing temperature, it is possible to suppress melting of the forsterite in the raw material mixed powder, and the dielectric ceramic composition contains Mg 2 SiO 4 in the form of crystals. be able to.

仮焼後の原料混合粉末に対してLi2Oを含むガラスなどのLi系ガラスを添加、混合粉砕した後、乾燥する。これにより、誘電体磁器組成物が得られる。粉砕は乾式粉砕又は湿式粉砕等の粉砕方式で行なうことができる。粉砕時間は4時間から24時間程度とすればよい。粉砕後の原料混合粉末の乾燥は、好ましくは100℃以上200℃以下、より好ましくは120℃以上140℃以下の処理温度で12時間から36時間程度行えばよい。 Li-based glass such as glass containing Li 2 O is added to the raw material mixed powder after calcination, mixed and pulverized, and then dried. Thereby, a dielectric ceramic composition is obtained. The pulverization can be performed by a pulverization method such as dry pulverization or wet pulverization. The pulverization time may be about 4 to 24 hours. Drying of the raw material mixed powder after pulverization is preferably performed at a treatment temperature of 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or higher and 140 ° C. or lower for about 12 to 36 hours.

上述した誘電体粉末である原料混合粉末の作成方法により、誘電体磁器組成物の主成分と副成分とが均一に混合されて、材質が均一な誘電体磁器組成物を得ることができる。   By the above-described method for producing a raw material mixed powder that is a dielectric powder, the main component and subcomponent of the dielectric ceramic composition are uniformly mixed, and a dielectric ceramic composition having a uniform material can be obtained.

誘電体磁器組成物を得た後、誘電体磁器組成物を焼成する焼成工程(ステップS13)に移行する。   After obtaining the dielectric ceramic composition, the process proceeds to a firing step (step S13) for firing the dielectric ceramic composition.

<焼成工程:ステップS13>
焼成工程(ステップS13)では、得られた誘電体磁器組成物を焼成して、焼結体を得る。これにより、本実施形態に係る誘電体磁器が得られる。焼成は、例えば、空気中のような酸素雰囲気にて行うことが好ましい。また、焼成温度は、導体材として用いるAg系金属の融点以下であることが好ましく、例えば、800℃以上1000℃以下であることが好ましく、800℃以上950℃以下であることがより好ましく、860℃以上950℃以下であることが更に好ましく、880℃以上940℃以下であることが最も好ましい。
<Baking process: Step S13>
In the firing step (step S13), the obtained dielectric ceramic composition is fired to obtain a sintered body. Thereby, the dielectric ceramic according to the present embodiment is obtained. Firing is preferably performed, for example, in an oxygen atmosphere like air. The firing temperature is preferably not higher than the melting point of the Ag-based metal used as the conductor material. For example, it is preferably 800 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower, more preferably 800 ° C. or higher and 950 ° C. or lower, and 860. It is more preferable that it is 950 degreeC or more, and it is most preferable that it is 880 degreeC or more and 940 degrees C or less.

このように本実施形態に係る誘電体磁器の製造方法を用いて得られる誘電体磁器は、ピーク強度比IB/IAが10%以下であると共に、相対密度が96%以上である。このため、焼成工程(ステップS13)において800℃以上1000℃以下の低温で焼成しても誘電体磁器の相対密度を高くし、未反応なまま残存するZnOの含有量を軽減している。よって、本実施形態に係る誘電体磁器は、焼成工程(ステップS13)において低温で焼成して得ることができ、誘電体磁器の焼結性を確保し、抗折強度を維持すると共に、誘電損失の優れた誘電体磁器となる。したがって、本実施形態に係る誘電体磁器は、フィルター、共振器、コンデンサ、回路基板等の電子部品の一部を構成する誘電体磁器として好適に用いることができる。 Thus the dielectric ceramic obtained by using the manufacturing method of a dielectric ceramic according to the present embodiment, the peak intensity ratio I B / I A is not more than 10%, a relative density of 96% or more. For this reason, even when firing at a low temperature of 800 ° C. or more and 1000 ° C. or less in the firing step (step S13), the relative density of the dielectric ceramic is increased, and the content of ZnO remaining unreacted is reduced. Therefore, the dielectric ceramic according to the present embodiment can be obtained by firing at a low temperature in the firing step (step S13), ensuring the sinterability of the dielectric ceramic, maintaining the bending strength, and maintaining the dielectric loss. It is an excellent dielectric ceramic. Therefore, the dielectric ceramic according to the present embodiment can be suitably used as a dielectric ceramic constituting a part of electronic components such as a filter, a resonator, a capacitor, and a circuit board.

以上、本発明に係る誘電体磁器の好適な実施形態について説明したが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明に係る誘電体磁器は、低温で焼成可能としつつ、焼結性を確保し、抗折強度を維持すると共に、誘電損失を低下させる効果を阻害しない範囲内で、他の化合物を含むようにしてもよい。   The preferred embodiments of the dielectric ceramic according to the present invention have been described above, but the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments. For example, the dielectric ceramic according to the present invention can be fired at a low temperature, while ensuring sinterability, maintaining bending strength, and other compounds within a range that does not hinder the effect of reducing dielectric loss. It may be included.

<電子部品>
本実施形態の誘電体磁器は、例えば、フィルター、コンデンサ、共振器、回路基板等の電子部品の一部を構成する誘電体層として好適に用いることができる。図2は、本実施形態の電子部品をLCフィルターとした場合の一実施形態を模式的に示す概念断面図である。図2に示すように、LCフィルター10は、複数の誘電体層11と、コイル12と、キャパシタパターン部13−1から13−3と、ビア(ビア導体)14とを含む。誘電体層11は、本実施形態の誘電体磁器が用いられている。コイル12及びキャパシタパターン部13−1から13−3はAg導体で形成されている。ビア14は、コイル12とキャパシタパターン部13−1とを導通させるAg導体が充填されたビアホール部分であり、LC共振回路が形成されている。キャパシタパターン部13−1はビア14によってコイル12と接続されている。LCフィルター10のコンデンサー部は3層構造としているが、LCフィルター10は3層構造に限定されず、任意の多層構造とすることができる。LCフィルター10では、誘電体層11に本実施形態に係る誘電体磁器を用いていることから誘電体層21は抗折強度を確保すると共に、誘電損失の低下を抑制するため、LCフィルター10は、誘電体層11の強度を維持することができると共に、高いQ値を有し、誘電損失が小さくなるので、高周波帯域での使用に適した特性が得られる。よって、本実施形態の電子部品は、LCフィルターとして好適に用いることができる。
<Electronic parts>
The dielectric ceramic of the present embodiment can be suitably used as a dielectric layer that constitutes a part of an electronic component such as a filter, a capacitor, a resonator, or a circuit board. FIG. 2 is a conceptual cross-sectional view schematically showing one embodiment when the electronic component of this embodiment is an LC filter. As shown in FIG. 2, the LC filter 10 includes a plurality of dielectric layers 11, a coil 12, capacitor pattern portions 13-1 to 13-3, and vias (via conductors) 14. The dielectric layer 11 uses the dielectric ceramic of this embodiment. The coil 12 and the capacitor pattern portions 13-1 to 13-3 are formed of an Ag conductor. The via 14 is a via hole portion filled with an Ag conductor that makes the coil 12 and the capacitor pattern portion 13-1 conductive, and an LC resonance circuit is formed. Capacitor pattern portion 13-1 is connected to coil 12 by via 14. Although the capacitor portion of the LC filter 10 has a three-layer structure, the LC filter 10 is not limited to a three-layer structure, and can have an arbitrary multilayer structure. In the LC filter 10, since the dielectric ceramic according to the present embodiment is used for the dielectric layer 11, the dielectric layer 21 secures a bending strength and suppresses a decrease in dielectric loss. In addition, the strength of the dielectric layer 11 can be maintained, the Q value is high, and the dielectric loss is small, so that characteristics suitable for use in the high frequency band can be obtained. Therefore, the electronic component of this embodiment can be suitably used as an LC filter.

このようにして製造されたLCフィルター10は、はんだ付け等によってプリント基板上に実装され、各種電子機器に用いられる。   The LC filter 10 manufactured in this way is mounted on a printed circuit board by soldering or the like and used for various electronic devices.

本実施形態に係る電子部品は、図2に示すLCフィルター10のように、誘電体層11とキャパシタパターン部13−1から13−3とが交互に積層される電子部品に限定されるものではなく、誘電体層を含む電子部品であれば好適に用いることができる。また、本実施形態に係る誘電体磁器は、外部に更に素子が個別に実装される電子部品であっても好適に用いることができる。本実施形態の他の電子部品としては、例えば、コンデンサ、共振器、回路基板、ロー・パス・フィルタ(Low-pass filter:LPF)、バンド・パス・フィルタ(Band-pass filter:BPF)、ダイプレクサ(DPX)、カプラ(方向性結合器)、バルン(又はバラン;平衡不平衡インピーダンス変換器)等としても好適に用いることができる。   The electronic component according to the present embodiment is not limited to an electronic component in which the dielectric layer 11 and the capacitor pattern portions 13-1 to 13-3 are alternately stacked, like the LC filter 10 illustrated in FIG. However, any electronic component including a dielectric layer can be preferably used. Further, the dielectric ceramic according to the present embodiment can be suitably used even for an electronic component in which elements are further individually mounted outside. Other electronic components of the present embodiment include, for example, a capacitor, a resonator, a circuit board, a low-pass filter (Low-pass filter: LPF), a band-pass filter (BPF), a diplexer. (DPX), coupler (directional coupler), balun (or balun; balanced / unbalanced impedance converter), and the like can also be suitably used.

<電子部品の製造方法>
本実施形態に係る電子部品の製造方法の一例について説明する。図3は、本実施形態に係る電子部品の製造方法の一例を示すフローチャートである。図3に示すように、本実施形態に係る電子部品の製造方法は、図1に示す誘電体磁器の製造方法により製造される誘電体磁器組成物を成型して複数積層し、焼成することにより製造されるものである。本実施形態に係る電子部品を製造するにあたり、以下の工程を含む。
(a) 酸化マグネシウムと二酸化珪素とを混合して熱処理し、Mg2SiO4結晶粉末を作製するMg2SiO4結晶粉末の作製工程(ステップS21)
(b) Mg2SiO4結晶粉末に、副成分原料粉末として前記亜鉛酸化物及びガラス成分を添加し、誘電体磁器組成物を得る誘電体磁器組成物の作製工程(ステップS22)
(c) 誘電体磁器組成物の粉末を含むペーストを基板上に塗布し、成型体を作製する成型体作製工程(ステップS23)
(d) 成型体を形成して得られるグリーンシートを複数積層し、積層体を得る積層体作製工程(ステップS24)
(e) 積層体を酸素雰囲気下において800℃以上1000℃以下の温度で焼成して、焼結体を得る焼成工程(ステップS25)
<Method for manufacturing electronic parts>
An example of a method for manufacturing an electronic component according to this embodiment will be described. FIG. 3 is a flowchart illustrating an example of a method for manufacturing an electronic component according to the present embodiment. As shown in FIG. 3, the manufacturing method of the electronic component according to the present embodiment is obtained by molding, laminating and firing a plurality of dielectric ceramic compositions manufactured by the dielectric ceramic manufacturing method shown in FIG. It is manufactured. In manufacturing the electronic component according to the present embodiment, the following steps are included.
(A) a mixture of magnesium oxide and silicon dioxide was heat-treated, Mg 2 SiO 4 to produce a crystalline powder Mg 2 SiO 4 crystal powder manufacturing process (step S21)
(B) The dielectric ceramic composition production process of obtaining the dielectric ceramic composition by adding the zinc oxide and the glass component as subcomponent raw powders to the Mg 2 SiO 4 crystal powder (step S22)
(C) A molded body manufacturing step of applying a paste containing a dielectric ceramic composition powder onto a substrate to manufacture a molded body (step S23).
(D) Laminate production process (step S24) in which a plurality of green sheets obtained by forming a molded body are laminated to obtain a laminate.
(E) Firing step of firing the laminated body at a temperature of 800 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower in an oxygen atmosphere to obtain a sintered body (step S25)

<Mg2SiO4結晶粉末の作製工程(ステップS21)及び誘電体磁器組成物の作製工程(ステップS22)>
Mg2SiO4結晶粉末の作製工程(ステップS21)及び誘電体磁器組成物の作製工程(ステップS22)は、上述の誘電体磁器を製造する際の図1に示すMg2SiO4結晶粉末の作製工程(ステップS11)及び誘電体磁器組成物の作製工程(ステップS12)と同様であるため、説明は省略する。誘電体磁器組成物を得た後、成型体を作製する成型体作製工程(ステップS23)に移行する。
<Mg 2 SiO 4 crystal powder manufacturing process steps for manufacturing a (step S21) and the dielectric ceramic composition (Step S22)>
The production process of Mg 2 SiO 4 crystal powder (step S21) and the production process of dielectric ceramic composition (step S22) are the production of the Mg 2 SiO 4 crystal powder shown in FIG. 1 when manufacturing the above-mentioned dielectric ceramic. Since it is the same as the process (step S11) and the production process of the dielectric ceramic composition (step S12), description thereof is omitted. After obtaining the dielectric ceramic composition, the process proceeds to a molded body manufacturing step (step S23) for manufacturing a molded body.

<成型体作製工程:ステップS23>
成型体作製工程(ステップS23)は、誘電体磁器組成物の粉末を含むペーストを基板上に塗布し、成型体を作製する工程である。得られた誘電体磁器組成物の粉末を、ポリビニルアルコール系、アクリル系、又はエチルセルロース系等の有機バインダー等に添加した後、得られた混合物をシート状に成型してグリーンシートを得る。グリーンシートの成型方法としては、シート法や印刷法等の湿式成型法がある。成型体を作製した後、積層体を作製する積層体作製工程(ステップS24)に移行する。
<Molded body production process: Step S23>
The molded body manufacturing process (step S23) is a process of manufacturing a molded body by applying a paste containing a dielectric ceramic composition powder on a substrate. The obtained dielectric ceramic composition powder is added to an organic binder such as polyvinyl alcohol, acrylic or ethyl cellulose, and then the resulting mixture is molded into a sheet to obtain a green sheet. As a green sheet molding method, there are wet molding methods such as a sheet method and a printing method. After producing a molded object, it transfers to the laminated body production process (step S24) which produces a laminated body.

<積層体作製工程:ステップS24>
積層体作製工程(ステップS24)は、成型体を形成して得られるグリーンシートを複数積層し、積層体を得る工程である。積層体作製工程(ステップS24)では、成型して得たグリーンシート上に、所定形状の内部電極が形成されるようにAgを含有する導電性ペーストを塗布する。導電性ペーストが塗布されたグリーンシートを必要に応じて複数作製し、積層してプレスし、積層体を得る。得られた積層体を所望のサイズに切断し、面取りを行った後、チップを焼成する焼成工程(ステップS25)に移行する。
<Laminated body production process: Step S24>
The laminate manufacturing step (step S24) is a step of obtaining a laminate by laminating a plurality of green sheets obtained by forming a molded body. In the laminate manufacturing step (step S24), a conductive paste containing Ag is applied on the green sheet obtained by molding so that an internal electrode having a predetermined shape is formed. A plurality of green sheets coated with a conductive paste are prepared as necessary, stacked and pressed to obtain a stacked body. After cutting the obtained laminated body into a desired size and chamfering, the process proceeds to a firing step (step S25) in which the chip is fired.

<焼成工程:ステップS25>
焼成工程(ステップS25)は、上述の誘電体磁器を製造する際の図1に示す焼成工程(ステップS13)と同様であるため、説明は省略する。焼結体の冷却後、必要に応じて、得られた誘電体磁器に外部電極等を形成することで、誘電体磁器に外部電極等が形成された電子部品が完成する。
<Baking process: Step S25>
Since the firing process (step S25) is the same as the firing process (step S13) shown in FIG. 1 when manufacturing the above-described dielectric ceramic, the description thereof will be omitted. After cooling the sintered body, an external electrode or the like is formed on the obtained dielectric porcelain as necessary, thereby completing an electronic component in which the external electrode or the like is formed on the dielectric porcelain.

以下、本発明を実施例及び比較例を挙げてさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to a following example.

<誘電体磁器の作製>
[実施例1]
主成分としてMg2SiO4を含み、副成分として、亜鉛酸化物及びガラス成分を含み、主成分100質量部に対して、ZnOの含有率が16質量部であり、B23の含有率が6.0質量部であり、CaCO3の含有率が2.0質量部であり、副成分からガラス成分を除いた誘電体組成100質量部に対して、SiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスの含有率が2.0質量部である誘電体磁器を、以下に示す手順で作製した。
<Production of dielectric ceramic>
[Example 1]
Mg 2 SiO 4 as a main component, zinc oxide and glass component as subcomponents, the content of ZnO is 16 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the main component, and the content of B 2 O 3 Is 6.0 parts by mass, the CaCO 3 content is 2.0 parts by mass, and SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 with respect to 100 parts by mass of the dielectric composition excluding the glass component from the subcomponents. A dielectric porcelain having an O-based glass content of 2.0 parts by mass was produced by the following procedure.

まず、主成分の原料であるMgO及びSiOを、マグネシウム原子のモル数がケイ素原子のモル数の2倍となるようにそれぞれ秤量した。秤量した原料に純水を加え、スラリー濃度が25質量部であるスラリーを調製した。このスラリーを、ボールミルにて16時間湿式混合した後、120℃程度で24時間乾燥して、原料混合粉末を得た。この原料混合粉末を、空気中で、3時間、1200℃程度で仮焼して、Mg2SiO4結晶を得た。このMg2SiO4結晶に純水を加えて、スラリー濃度が25%であるスラリーを調製した。このスラリーを、ボールミルにて16時間粉砕した後、120℃で24時間乾燥して、誘電体磁器組成物の主成分であるMg2SiO4結晶粉末を作製した。 First, MgO and SiO 2 which are main component materials were weighed so that the number of moles of magnesium atoms was twice the number of moles of silicon atoms. Pure water was added to the weighed raw materials to prepare a slurry having a slurry concentration of 25 parts by mass. This slurry was wet mixed in a ball mill for 16 hours, and then dried at about 120 ° C. for 24 hours to obtain a raw material mixed powder. This raw material mixed powder was calcined in air at about 1200 ° C. for 3 hours to obtain Mg 2 SiO 4 crystals. Pure water was added to the Mg 2 SiO 4 crystal to prepare a slurry having a slurry concentration of 25%. This slurry was pulverized with a ball mill for 16 hours and then dried at 120 ° C. for 24 hours to produce Mg 2 SiO 4 crystal powder, which is the main component of the dielectric ceramic composition.

次に、得られたMg2SiO4結晶粉末に対して、誘電体磁器組成物の副成分の原料であるZnO、B2、CaCO3、ガラス成分を各々配合して調整し、誘電体磁器組成物の粉末を得た。誘電体磁器組成物の各成分の配合量は、Mg2SiO4結晶粉末100質量部に対して、ZnOが16質量部、B2が6.0質量部、CaCO3が2.0質量部、副成分からガラス成分を除いた誘電体組成物100質量部に対して、SiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスが2.0質量部となるように調整した。 Next, ZnO, B 2 O 3 , CaCO 3 and glass components which are raw materials of subcomponents of the dielectric porcelain composition are mixed and adjusted with respect to the obtained Mg 2 SiO 4 crystal powder, and the dielectric A porcelain composition powder was obtained. The amount of each component of the dielectric ceramic composition is 16 parts by mass of ZnO, 6.0 parts by mass of B 2 O 3 and 2.0 parts by mass of CaCO 3 with respect to 100 parts by mass of the Mg 2 SiO 4 crystal powder. parts, the dielectric composition 100 parts by weight excluding the glass component from subcomponent was adjusted to SiO 2 -BaO-CaO-Li 2 O system glass is 2.0 parts by weight.

誘電体磁器組成物の粉末に有機バインダーなどを添加した後、これをドクターブレード法によってシート成型してシート成型体を複数作製した。複数のシート成型体を積層後プレスして基板状に成型し、シート積層成型体を作製した。このシート積層成型体を所望のサイズに切断後、チップの面取りを行い、これをAgが溶融しない焼成温度(900℃)で2.5時間焼成して、誘電体磁器を作製した。作製した誘電体磁器の主成分として含まれるMgSiOと、副成分として含まれるZnOとB23とCaCO3とSiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスとの各々の配合量を表1に示す。 After adding an organic binder or the like to the dielectric ceramic composition powder, a sheet was molded by the doctor blade method to produce a plurality of molded sheets. A plurality of sheet molded bodies were laminated and then pressed to form a substrate, thereby producing a sheet laminated molded body. After cutting this sheet laminated molded body into a desired size, the chip was chamfered and fired at a firing temperature (900 ° C.) at which Ag does not melt for 2.5 hours to produce a dielectric ceramic. And Mg 2 SiO 4 contained as the main component of the produced dielectric ceramic, the amount of each of the ZnO and B 2 O 3 and CaCO 3 and SiO 2 -BaO-CaO-Li 2 O system glass contained as a sub-component Is shown in Table 1.

[実施例2から12、比較例1から10]
誘電体磁器組成物全体に対するLiOの含有率(質量%)を表1に示す値としたこと以外は、実施例1と同様の方法で、誘電体磁器組成物をそれぞれ作製した。そして、得られた誘電体磁器組成物をシート成型して得られるシート成型体を、複数積層後プレスして基板状に成型したシート積層成型体を作製した。このシート積層成型体を実施例1と同様の方法で、各誘電体磁器を得た。作製した誘電体磁器の主成分として含まれるMgSiOと、副成分として含まれるZnOとB23とCaCO3とSiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスとLiO2との各々の配合量を表1に示す。
[Examples 2 to 12, Comparative Examples 1 to 10]
Dielectric porcelain compositions were prepared in the same manner as in Example 1 except that the content (% by mass) of Li 2 O with respect to the entire dielectric porcelain composition was changed to the values shown in Table 1. And the sheet | seat laminated body obtained by carrying out sheet shaping | molding of the obtained dielectric ceramic composition was laminated | stacked, and it pressed after that, and produced the sheet | seat laminated molded object. Each dielectric ceramic was obtained from this sheet laminated molded body in the same manner as in Example 1. Each of Mg 2 SiO 4 contained as a main component of the produced dielectric ceramic, ZnO, B 2 O 3 , CaCO 3 , SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 O-based glass and LiO 2 contained as subcomponents. Table 1 shows the blending amount.

<評価>
得られた誘電体磁器の焼結密度ρs、相対密度(焼結密度が3.35g/cm3の時を100%とした)、Q値、抗折強度、素地の変形及び焼結性、主相に対するZnOの量を各々求めた。
<Evaluation>
Sintering density ρs of the obtained dielectric ceramic, relative density (100% when the sintering density is 3.35 g / cm 3 ), Q value, bending strength, deformation and sinterability of substrate, Each amount of ZnO relative to the phase was determined.

[焼結密度ρsの測定]
焼成後の試験片がLWT方向で4.5×3.2×0.8mm前後になるように切断加工し、各方向の寸法をマイクロメーターで測定し、電子天秤で質量を測定し、そこからの嵩密度を焼結密度ρs(単位:g/cm3)とした。測定結果を表1に示す。尚、本実施例では、実施例4の誘電体磁器を作製する際に用いた誘電体磁器組成物の主成分であるMgSiOと、副成分であるZnOとB23とCaCO3とSiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスと同一の組成の誘電体磁器組成物の焼成温度と時間とを変化させて焼結密度ρsを測定した際、その焼結密度ρsの値が3.35g/cm3であった。そのため、実施例4での焼結密度の値3.35g/cm3を相対密度100%と規定し、相対密度が96%を下回る場合には焼結が不十分と評価した。
[Measurement of sintering density ρs]
The test piece after firing is cut and processed so as to be around 4.5 × 3.2 × 0.8 mm in the LWT direction, the dimensions in each direction are measured with a micrometer, the mass is measured with an electronic balance, and from there The bulk density was defined as the sintered density ρs (unit: g / cm 3 ). The measurement results are shown in Table 1. In this example, Mg 2 SiO 4 which is a main component of the dielectric ceramic composition used in manufacturing the dielectric ceramic of Example 4, and ZnO, B 2 O 3 and CaCO 3 which are subcomponents are used. When the sintering density ρs was measured while changing the firing temperature and time of the dielectric ceramic composition having the same composition as the SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 O-based glass, the value of the sintering density ρs was It was 3.35 g / cm 3 . Therefore, the value 3.35 g / cm 3 of the sintering density in Example 4 was defined as a relative density of 100%, and when the relative density was less than 96%, it was evaluated that the sintering was insufficient.

[Q値]
(X線回折による未反応で残存するZnOの量の特定)
焼成後の試料を瑪瑙乳鉢を用いて粉末状にすり潰してX線回折(X-Ray Diffraction spectroscopy;XRD)法によりXRD測定を行ない、X線回折ピーク強度を測定した。XRD測定は、Cu管球を使用しているX線回折装置(商品名:RINT2000/PC、リガク社製)を用いて行なった。測定試料には、実施例4、比較例7を用いた。測定条件は、以下に示す通りで行った。実施例4及び比較例7のX線回折チャートを図4に示す。
(測定条件)
・電圧:50kV
・電流:300mA
・スキャン速度:4°/min
・範囲:2θ=10〜70(deg)
[Q value]
(Identification of the amount of unreacted ZnO by X-ray diffraction)
The calcined sample was ground into a powder using an agate mortar and XRD measurement was performed by X-ray diffraction spectroscopy (XRD) to measure the X-ray diffraction peak intensity. XRD measurement was performed using an X-ray diffractometer (trade name: RINT2000 / PC, manufactured by Rigaku Corporation) using a Cu tube. Example 4 and Comparative Example 7 were used as measurement samples. The measurement conditions were as follows. The X-ray diffraction charts of Example 4 and Comparative Example 7 are shown in FIG.
(Measurement condition)
・ Voltage: 50kV
・ Current: 300mA
・ Scanning speed: 4 ° / min
Range: 2θ = 10-70 (deg)

図4に示すように、XRD測定結果から、実施例4では、36.5°付近にX線回折ピーク強度が確認され、比較例7では、36.4°付近にX線回折ピーク強度IAが確認された。このX線回折ピーク強度IAは、主相であるMg2SiO4に起因して見られるものである。比較例7では、31.8°付近と33.6°付近にX線回折ピーク強度IBが確認された。このX線回折ピーク強度IBは、未反応なまま存在するZnOに起因して見られるものである。一方、実施例4では、31.8°付近と33.6°付近にはX線回折ピーク強度IBは確認されなかった。よって、MgSiOを主成分とし、ZnOとB23とCaCO3とSiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスとを副成分として含む誘電体磁器では、X線回折ピーク強度IAに対するX線回折ピーク強度IBのピーク強度比IB/IAは0%であった。一方、MgSiOを主成分とし、ZnOとB23とCaCO3とLi2Oとを副成分として含む誘電体磁器では、ピーク強度比IB/IAは15%程度であった。よって、実施例4の誘電体磁器のように、MgSiOを主成分とし、ZnOとB23とCaCO3とSiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスとを副成分として含む誘電体磁器では、亜鉛酸化物は未反応なまま存在せず、完全に反応しているといえる。 As shown in FIG. 4, from the XRD measurement results, in Example 4, the X-ray diffraction peak intensity was confirmed around 36.5 °, and in Comparative Example 7, the X-ray diffraction peak intensity I A was around 36.4 °. Was confirmed. This X-ray diffraction peak intensity I A is found due to the main phase Mg 2 SiO 4 . In Comparative Example 7, X-ray diffraction peak intensities I B were confirmed at around 31.8 ° and around 33.6 °. This X-ray diffraction peak intensity I B is found due to ZnO remaining unreacted. On the other hand, in Example 4, the X-ray diffraction peak intensity I B was not confirmed in the vicinity of 31.8 ° and 33.6 °. Therefore, in a dielectric ceramic containing Mg 2 SiO 4 as a main component and ZnO, B 2 O 3 , CaCO 3, and SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 O glass as subcomponents, the X-ray diffraction peak intensity I peak intensity ratio I B / I a of the X-ray diffraction peak intensity I B for a was 0%. Meanwhile, a main component Mg 2 SiO 4, the dielectric ceramic containing ZnO and B 2 O 3 and CaCO 3 and Li 2 O as an auxiliary component, the peak intensity ratio I B / I A was about 15% . Therefore, like the dielectric ceramic of Example 4, Mg 2 SiO 4 is the main component, and ZnO, B 2 O 3 , CaCO 3, and SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 O-based glass are included as subcomponents. In dielectric ceramics, zinc oxide does not exist unreacted and can be said to be completely reacted.

(Q値の測定)
空洞共振器摂動法によりQ値を測定した。空洞共振器内に大きさが0.8mm四方の試験片を挿入し、空洞共振器内のQ値の変化を測定した。測定周波数は1.9GHzで行い、Q値は、3回行なって得られたQ値の平均値とした。測定結果を表1に示す。
(Measurement of Q value)
The Q value was measured by the cavity resonator perturbation method. A test piece having a size of 0.8 mm square was inserted into the cavity resonator, and the change in the Q value in the cavity resonator was measured. The measurement frequency was 1.9 GHz, and the Q value was the average value of the Q values obtained three times. The measurement results are shown in Table 1.

[抗折強度の測定]
各誘電体磁器の試験片の厚みが0.4mm前後、幅が2.6mm前後になるように切断加工し、3点曲げ強度を測定した。測定器(商品名:5543、Instron社製)を用いて3点曲げ強度を測定した。3点曲げ強度試験により測定して得られた結果から抗折強度を求めた。測定時に試験片を支える2点間の治具距離は15mmとし、測定速度は0.5mm/minとし、10箇所で測定を行い、試験数10個で測定して得られた値の平均値(単位:MPa)を測定値とした。測定結果を表1に示す。
[Measurement of bending strength]
The test pieces of each dielectric ceramic were cut so that the thickness was about 0.4 mm and the width was about 2.6 mm, and the three-point bending strength was measured. Three-point bending strength was measured using a measuring instrument (trade name: 5543, manufactured by Instron). The bending strength was determined from the results obtained by measurement by a three-point bending strength test. The jig distance between the two points that support the test piece at the time of measurement is 15 mm, the measurement speed is 0.5 mm / min, the measurement is performed at 10 points, and the average value of the values obtained by measuring 10 tests ( The unit was MPa). The measurement results are shown in Table 1.

[素地の変形及び焼結性]
素地の変形は、焼結密度ρsの測定に用いた各試料を目視で判断した。焼結性は、焼結密度ρsの測定に用いた各試料を破断し、その面を走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope、商品名:JSM‐6700、日本電子データム社製)でSEM観察して相対密度100%の試料に対してポア量の程度で焼結性が充分か否かを判断した。結果を表1に示す。
[Deformation and sintering of substrate]
The deformation of the substrate was visually determined for each sample used for measuring the sintered density ρs. For sinterability, each sample used for the measurement of the sintered density ρs was broken, and the surface was observed with a scanning electron microscope (Scanning Electron Microscope, trade name: JSM-6700, manufactured by JEOL Datum) by SEM. It was judged whether or not the sinterability was sufficient with the degree of pore amount for a sample having a relative density of 100%. The results are shown in Table 1.

[主相に対する未反応で残存するZnOの量]
焼成後の主相に対する未反応で残存するZnOの量は、主相に含まれるMg2SiO4の2θが36.0°から37.0°の間におけるX線回折ピーク強度IAと、未反応なまま存在するZnOの2θが31.0°から32.0°及び33.0°から34.0°におけるX線回折ピーク強度IBとを求め、X線回折ピーク強度IAに対するX線回折ピーク強度IBのピーク強度比IB/IAから求めた。測定結果を表1に示す。このピーク強度比IB/IAが10%以下が好適な範囲とした。
[Amount of unreacted ZnO remaining in the main phase]
The amount of ZnO remaining unreacted with respect to the main phase after calcination is the X-ray diffraction peak intensity I A when 2θ of Mg 2 SiO 4 contained in the main phase is between 36.0 ° and 37.0 °, X-ray diffraction peak intensities I B when 2θ of ZnO present in the reaction is 31.0 ° to 32.0 ° and 33.0 ° to 34.0 ° are obtained, and X-rays with respect to the X-ray diffraction peak intensities I A It was determined from the peak intensity ratio I B / I A of the diffraction peak intensity I B. The measurement results are shown in Table 1. The peak intensity ratio I B / I A was set to a suitable range of 10% or less.

Figure 2012012251
Figure 2012012251

表1に示すように、実施例1から12では、焼結密度ρsの値は3.35g/cm3から±0.02g/cm3の範囲内にあり、焼結密度ρsの値が3.35g/cm3を相対密度100%と規定した時の相対密度の値は99%以上であったことが確認された。このとき、実施例1から12の各誘電体磁器は、Q値が1000以上であり、抗折強度も280MPa以上であり、何れも素地の変形は無く、焼結性も良好であったことが確認された。また、焼成後の主相に対する未反応で残存するZnOの量は、何れも0%であったことが確認された。よって、SiO2−BaO−CaO−Li2O系ガラスのようなLi系ガラスを添加することで、未反応で残存するZnOの量は抑制することができ、Q値を1000以上にすることできるといえる。 As shown in Table 1, in Examples 1 12, the value of the sintered density ρs is in the range of ± 0.02 g / cm 3 from 3.35 g / cm 3, the value of the sintered density ρs is 3. It was confirmed that the relative density value was 99% or more when 35 g / cm 3 was defined as a relative density of 100%. At this time, each of the dielectric ceramics of Examples 1 to 12 had a Q value of 1000 or more, a bending strength of 280 MPa or more, and there was no deformation of the substrate, and the sinterability was good. confirmed. Further, it was confirmed that the amount of ZnO remaining unreacted with respect to the main phase after firing was 0%. Therefore, by adding Li-based glass such as SiO 2 —BaO—CaO—Li 2 O-based glass, the amount of unreacted ZnO can be suppressed, and the Q value can be increased to 1000 or more. It can be said.

これに対し、比較例1と比較例3から6では、焼結密度ρsの値が3.35g/cm3より小さく、相対密度の値は96%より小さかったことが確認された。特に、相対密度の値が90%以上96%未満の場合には、Q値及び抗折強度は低くなり、素地の変形は生じない場合もあったが、何れも焼結不十分となったことが確認された(比較例3、4参照)。また、相対密度の値が90%より小さい場合には、Q値及び抗折強度は測定不能となり、焼結不十分となったことが確認された(比較例5、6参照)。このとき、主相に対するZnOの量は、何れも0%であったことが確認された。これは、誘電体磁器組成物の焼結が不足し、誘電体磁器を得ることができなかったからであると考えられる。また、比較例2、7から10では、相対密度の値は96%以上であったが、Q値が低く、主相に対する未反応で残存するZnOの量は、15%以上であったことが確認された。これは、Li2Oを添加すると、未反応なZnOがある程度残り、Q値を1000以上にできないからであると考えられる。よって、焼結密度ρsが良好であってもQ値が低いと、誘電体磁器には、ZnOが残存するといえる。 In contrast, in Comparative Example 1 and Comparative Examples 3 to 6, it was confirmed that the value of the sintered density ρs was smaller than 3.35 g / cm 3 and the value of the relative density was smaller than 96%. In particular, when the value of the relative density is 90% or more and less than 96%, the Q value and the bending strength are low, and the base material may not be deformed, but both are insufficiently sintered. Was confirmed (see Comparative Examples 3 and 4). Moreover, when the value of relative density was smaller than 90%, Q value and bending strength became impossible to measure, and it was confirmed that the sintering was insufficient (see Comparative Examples 5 and 6). At this time, it was confirmed that the amount of ZnO with respect to the main phase was 0%. This is presumably because the dielectric ceramic composition was insufficiently sintered and a dielectric ceramic could not be obtained. In Comparative Examples 2 and 7 to 10, the relative density value was 96% or more, but the Q value was low, and the amount of unreacted ZnO remaining in the main phase was 15% or more. confirmed. This is considered to be because when Li 2 O is added, unreacted ZnO remains to some extent, and the Q value cannot be increased to 1000 or more. Therefore, it can be said that ZnO remains in the dielectric ceramic if the Q value is low even if the sintering density ρs is good.

従って、誘電体磁器組成物に含まれるZnOを全て焼成し、誘電体磁器のピーク強度比IB/IAを10%以下とすると共に、相対密度を96%以上とすることで、得られる誘電体磁器の焼結性を確保し、抗折強度を維持すると共に、Q値を上昇させ、誘電損失を低下させることができることが判明した。 Thus, all firing the ZnO contained in the dielectric ceramic composition, while the peak intensity ratio I B / I A of the dielectric ceramic 10% or less, the relative density by 96% or more, the resulting dielectric It has been found that the sinterability of the body porcelain can be secured, the bending strength can be maintained, the Q value can be increased, and the dielectric loss can be decreased.

以上のように、本発明に係る誘電体磁器、誘電体磁器の製造方法及び電子部品は、低温焼成化を可能としつつ、誘電特性を向上させることができるため、LTCCとして用いられ、高周用回路基板などに好適に用いることができる。   As described above, the dielectric porcelain, the dielectric porcelain manufacturing method and the electronic component according to the present invention can be used for LTCC because it can improve the dielectric characteristics while enabling low-temperature firing. It can be suitably used for a circuit board or the like.

10 LCフィルター
11 誘電体層
12 コイル
13−1〜23−3 キャパシタパターン部
14 ビア(ビア導体)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 LC filter 11 Dielectric layer 12 Coil 13-1 to 23-3 Capacitor pattern part 14 Via (via conductor)

Claims (7)

Mg2SiO4を含む主成分と、亜鉛酸化物及びガラス成分を含む副成分とを含み、
X線回折において、主相であるMg2SiO4の2θが36.0°から37.0°の間におけるX線回折ピーク強度IAに対する、未反応なまま存在する亜鉛酸化物の2θが31.0°から32.0°及び33.0°から34.0°におけるX線回折ピーク強度IBのピーク強度比IB/IAが10%以下であると共に、
相対密度が96%以上であることを特徴とする誘電体磁器。
A main component including Mg 2 SiO 4 and a subcomponent including zinc oxide and a glass component;
In X-ray diffraction, the unreacted zinc oxide 2θ is 31 with respect to the X-ray diffraction peak intensity I A between 26.0 and 37.0 ° of Mg 2 SiO 4 as the main phase. with the peak intensity ratio of X-ray diffraction peak intensity I B at 32.0 ° and 34.0 ° from 33.0 ° from .0 ° I B / I a is not more than 10%,
A dielectric ceramic having a relative density of 96% or more.
前記ガラス成分は、Li2Oを含むガラスを少なくとも1つ含む請求項1に記載の誘電体磁器。 The dielectric ceramic according to claim 1, wherein the glass component includes at least one glass containing Li 2 O. 前記亜鉛酸化物の含有量が、10質量部以上16質量部以下である請求項1又は2に記載の誘電体磁器。   The dielectric ceramic according to claim 1, wherein a content of the zinc oxide is 10 parts by mass or more and 16 parts by mass or less. Mg2SiO4を含む主成分と、亜鉛酸化物及びガラス成分を含む副成分とを含む誘電体磁器を製造するにあたり、
酸化マグネシウムの原料粉末と二酸化珪素の原料粉末とを混合して熱処理し、Mg2SiO4結晶粉末を作製し、前記Mg2SiO4結晶粉末に、副成分原料粉末として前記亜鉛酸化物及びガラス成分を添加し、誘電体磁器組成物を得る誘電体磁器組成物の作製工程と、
前記誘電体磁器組成物を酸素雰囲気下において800℃以上1000℃以下の温度で焼成して、焼結体を得る焼成工程とを含み、
X線回折において、前記焼結体の主相であるMg2SiO4の2θが36.0°から37.0°の間におけるX線回折ピーク強度IAに対する、未反応なまま存在する亜鉛酸化物の2θが31.0°から32.0°及び33.0°から34.0°におけるX線回折ピーク強度IBのピーク強度比IB/IAが10%以下であると共に、
相対密度が96%以上であることを特徴とする誘電体磁器の製造方法。
In producing a dielectric ceramic containing a main component containing Mg 2 SiO 4 and a subcomponent containing zinc oxide and a glass component,
A raw material powder of the raw material powder and silicon dioxide magnesium oxide mixed and heat-treated to prepare a Mg 2 SiO 4 crystal powder, the Mg 2 to SiO 4 crystal powder, the zinc oxide and a glass component as a subcomponent material powder And a dielectric porcelain composition production step of obtaining a dielectric porcelain composition,
Firing the dielectric ceramic composition at a temperature of 800 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower in an oxygen atmosphere to obtain a sintered body,
In X-ray diffraction, unreacted zinc oxidation with respect to X-ray diffraction peak intensity I A when 2θ of Mg 2 SiO 4 which is the main phase of the sintered body is between 36.0 ° and 37.0 ° The peak intensity ratio I B / I A of the X-ray diffraction peak intensity I B when the 2θ of the object is 31.0 ° to 32.0 ° and 33.0 ° to 34.0 ° is 10% or less,
A method for manufacturing a dielectric ceramic, wherein the relative density is 96% or more.
前記ガラス成分として、Li2Oを含むガラスを少なくとも1つ以上含む請求項4に記載の誘電体磁器の製造方法。 The method for manufacturing a dielectric ceramic according to claim 4, wherein the glass component includes at least one glass containing Li 2 O. 前記亜鉛酸化物の含有量を、10質量部以上16質量部以下とする請求項4又は5に記載の誘電体磁器の製造方法。   The method for manufacturing a dielectric ceramic according to claim 4 or 5, wherein a content of the zinc oxide is 10 parts by mass or more and 16 parts by mass or less. 請求項1乃至3の何れか一つに記載の誘電体磁器からなる誘電体層を有することを特徴とする電子部品。   An electronic component comprising a dielectric layer made of the dielectric ceramic according to any one of claims 1 to 3.
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