JP2012003992A - Conductive paste using inorganic material slurry and method of producing the paste - Google Patents

Conductive paste using inorganic material slurry and method of producing the paste Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive paste that has high dispersibility and can provide a smooth dry coating film even if fine particles are used.SOLUTION: A method of producing an inorganic material slurry comprises: a first step of agitating a rough slurry composition containing at least inorganic powder, a dispersant and an organic solvent while held under the reduced pressure atmosphere of -100 mmHg to -760 mmHg relative to normal pressure so as to perform dispersion processing while defoaming, thereby producing a preprocessed kneaded substance; a second step of performing further dispersion processing to the preprocessed kneaded substance with a high pressure homogenizer to produce a slurry; and a third step of filtrating the slurry using a filter.

Description

本発明は微粒な粉末を使用しても、その分散性が高く、平滑な乾燥塗膜が得られる導電性ペーストに関するものである。   The present invention relates to an electrically conductive paste that has a high dispersibility even when a fine powder is used and can provide a smooth dry coating film.

携帯電話やデジタル機器などの電子機器の軽薄短小化に伴い、チップ部品である積層セラミックコンデンサ(以下、MLCCと称する)についても小型化、高容量化および高性能化が望まれている。これらを実現するための最も効果的な手段は、内部電極層と誘電体層を薄くして多層化を図ることである。   As electronic devices such as cellular phones and digital devices become lighter, thinner, and smaller, multilayer ceramic capacitors (hereinafter referred to as MLCCs) that are chip parts are also desired to be reduced in size, increased in capacity, and improved in performance. The most effective means for realizing these is to reduce the thickness of the internal electrode layer and the dielectric layer to increase the number of layers.

このMLCCは、一般に次のようにして製造される。
先ず導電体層を形成するために、チタン酸バリウム(BaTiO)を主成分として、これとポリビニルブチラール等の有機バインダーからなる誘電体グリーンシート上に導電性粉末を主成分とし、これを樹脂バインダーおよび溶剤を含むビヒクルに分散させた内部電極となる導電性ペーストを所定のパターンで印刷、乾燥させて溶剤を除去して乾燥膜を形成する。次に、乾燥膜を形成した誘電体グリーンシートを多層に積み重ねた状態で加熱圧着して一体化した後に切断し、酸化性雰囲気または不活性雰囲気中において500℃以下で脱バインダー処理する。その後、内部電極が酸化しないように還元雰囲気中にて1300℃程度で加熱焼成を行い、次いで、焼成チップを塗布、焼成後、外部電極上にニッケルメッキなどを施してMLCCを作製する。
This MLCC is generally manufactured as follows.
First, in order to form a conductor layer, a main component is barium titanate (BaTiO 3 ), and a dielectric green sheet composed of this and an organic binder such as polyvinyl butyral. Then, a conductive paste serving as an internal electrode dispersed in a vehicle containing a solvent is printed in a predetermined pattern and dried to remove the solvent and form a dry film. Next, the dielectric green sheets on which the dry film is formed are integrated by thermocompression bonding in a state of being stacked in multiple layers, and then cut and debindered at 500 ° C. or lower in an oxidizing atmosphere or an inert atmosphere. Thereafter, heat and baking is performed at about 1300 ° C. in a reducing atmosphere so that the internal electrode is not oxidized, and then a fired chip is applied and fired, and then nickel plating is applied to the external electrode to produce an MLCC.

しかし、この焼成工程において、誘電体セラミック粉末が焼結し始める温度は、1200℃程度であり、ニッケル等の導電性金属粉末との焼結・収縮が開始する温度とかなりのミスマッチが生じるため、デラミネーション(層間剥離)やクラック等の構造欠陥が発生しやすかった。特に小型・高容量化に伴って、積層数が多くなるほど、あるいはセラミック誘電体層の厚みが薄くなるほど、構造欠陥の発生が顕著となっていた。   However, in this firing step, the temperature at which the dielectric ceramic powder begins to sinter is about 1200 ° C., and a considerable mismatch occurs with the temperature at which sintering and shrinkage with conductive metal powder such as nickel starts. Structural defects such as delamination (delamination) and cracks were likely to occur. In particular, as the number of layers increases or the thickness of the ceramic dielectric layer decreases as the size and capacity increase, the occurrence of structural defects becomes more prominent.

例えば、通常内部電極用ニッケルペーストには、少なくとも誘電体層の焼結・収縮を開始する温度付近まで、その焼結・収縮を制御するために、誘電体層の組成に類似したチタン酸バリウム系あるいはジルコン酸ストロンチウム系などのペロブスカイト型酸化物を主成分とするセラミック粉末が添加されている。なぜなら、誘電体層の主成分の構成元素と電極ペーストに含まれる誘電体粉末の構成元素とが大きく異なると誘電損失が増大するなど、電気特性に影響を及ぼすからである。   For example, the nickel paste for internal electrodes usually has a barium titanate system similar to the composition of the dielectric layer in order to control the sintering / shrinkage at least near the temperature at which the dielectric layer starts sintering / shrinking. Alternatively, ceramic powder containing a perovskite oxide such as strontium zirconate as a main component is added. This is because if the constituent elements of the main component of the dielectric layer and the constituent elements of the dielectric powder contained in the electrode paste are greatly different, the electrical characteristics are affected, for example, the dielectric loss increases.

近年、MLCCは一層の小型・大容量化要求に従い、ニッケルなどの導電性金属粉末を用いた内部電極層およびチタン酸バリウムなどのセラミック粉末を用いた誘電体層の更なる薄層化が急速に進んでいる。そのため、導電性ペーストに使用するニッケルなどの導電性金属粉末およびセラミック粉末の微粒化・高分散化が必要である。
しかしながら、導電性金属粉末およびセラミック粉末の微粒化が進むにしたがって、凝集のし易さが増大してくるため、従来の3本ロール法によるせん断力だけでは十分に分散した導電性ペーストが製造できず、平滑な乾燥塗膜や高い乾燥膜密度を得る事は困難であった。
In recent years, MLCCs have been required to further reduce the thickness of internal electrode layers using conductive metal powders such as nickel and dielectric layers using ceramic powders such as barium titanate in accordance with demands for further miniaturization and larger capacity. Progressing. Therefore, it is necessary to atomize and highly disperse conductive metal powder such as nickel and ceramic powder used for the conductive paste.
However, as the conductive metal powder and ceramic powder become finer, the ease of agglomeration increases, so that a sufficiently dispersed conductive paste can be produced with only the shear force of the conventional three-roll method. Therefore, it was difficult to obtain a smooth dry coating film and a high dry film density.

このため、乾燥凝集した導電性金属粉末およびセラミック粉末を、ビヒクルおよび溶剤へ十分に分散させる手段として、ボールミルやビーズミル等で機械的に分散、粉砕する手法が提案されている(例えば、特許文献1など参照)。
しかしながら、上記の分散手法の場合、セラミック粉末では過粉砕やコンタミの混入、導電性金属粉末では変形してしまうことなどによって十分な分散が得られない問題があった。
For this reason, a technique of mechanically dispersing and pulverizing the dried and agglomerated conductive metal powder and ceramic powder with a ball mill, a bead mill or the like has been proposed as a means for sufficiently dispersing in a vehicle and a solvent (for example, Patent Document 1). Etc.)
However, in the case of the above dispersion method, there has been a problem that sufficient dispersion cannot be obtained due to overgrinding and contamination with ceramic powder and deformation with conductive metal powder.

最近、高圧ホモジナイザーを用いた導電性ペーストの製造に関して、少なくとも乾燥凝集した微粒な導電性金属粉末およびセラミック粉末、ビヒクル、有機溶剤、分散剤と含有する混合物を予備混合し、その混合物を高圧ホモジナイザーを用いて処理することによって、含まれる粉末の分散処理が可能であることが示されている(例えば、特許文献2、3など参照)。   Recently, regarding the production of conductive paste using a high-pressure homogenizer, a mixture containing at least dry agglomerated fine conductive metal powder and ceramic powder, vehicle, organic solvent, and dispersant is premixed, and the mixture is mixed with a high-pressure homogenizer. It has been shown that dispersion treatment of the contained powder is possible by using and processing (see, for example, Patent Documents 2 and 3).

ところで、一般的な無機粉末の分散過程は、
(1)無機粉末の「濡れ」、すなわち2次粒子表面および、2次粒子内部の空隙に存在する空気が溶剤および分散剤により置換される過程、
(2)分散機により2次粒子が分散、粉砕される過程、
(3)分散、粉砕した粒子表面に分散剤が吸着し、粒子の「再凝集防止」が行われる過程、の3つの過程を含んでいる。
これらの分散過程がうまく連動しない場合には、無機粉末の分散性に大きく影響し、後工程における「フィルターろ過時間が長くなるため生産コストの上昇」や導電性ペーストの平滑な塗膜および高い乾燥膜密度を得ることが難しくなるため、「ペースト塗膜の品質低下」にもつながる等のデメリットを生じる。
By the way, the general dispersion process of inorganic powder is:
(1) “Wetting” of the inorganic powder, that is, a process in which air existing in the secondary particle surface and in the voids in the secondary particle is replaced by a solvent and a dispersant;
(2) A process in which secondary particles are dispersed and pulverized by a disperser,
(3) It includes three processes: a process in which a dispersant is adsorbed on the surface of dispersed and pulverized particles, and “re-aggregation prevention” of the particles is performed.
If these dispersion processes do not work well, it will greatly affect the dispersibility of the inorganic powder, resulting in a “filter increase in production time due to longer filter filtration time” and a smooth coating film of conductive paste and high drying. Since it becomes difficult to obtain the film density, disadvantages such as “degradation of paste coating quality” occur.

また、「濡れ」の過程において、少なくとも導電性金属粉末、有機溶剤、分散剤を含む混合物を単に高速攪拌する(プレミックス)だけでは、「ダマ」や「泡」の巻き込み等が生じ、2次粒子表面の「濡れ」は起こっても、2次粒子内部の一次粒子表面の「濡れ」が不十分となり、上記問題点は改善されない。さらに、泡の発生を抑制するために必要以上の動力をかけても、材料の中に発生または存在するサブミクロン〜数ミクロンの泡の除去は困難である。以上の事から、「ダマ」や「泡」を発生させず、一次粒子表面の「濡れ」も解決できる前処理工程および後工程の分散処理工程での高圧ホモジナイザーを使いこなす事が重要なカギとなる。   In addition, in the process of “wetting”, “dama” or “bubble” entrainment occurs when the mixture containing at least the conductive metal powder, the organic solvent, and the dispersant is simply stirred at high speed (premix). Even if the “wetting” of the particle surface occurs, the “wetting” of the primary particle surface inside the secondary particle becomes insufficient, and the above problem is not improved. Furthermore, even if power is applied more than necessary to suppress the generation of bubbles, it is difficult to remove submicron to several micron bubbles generated or present in the material. From the above, it is important to make full use of the high-pressure homogenizer in the pretreatment process and the post-dispersion process that can solve the “wetting” of the primary particle surface without generating “dama” and “bubbles”. .

ところが、一次粒子表面の「濡れ」を改善し、高圧ホモジナイザーによる混合物の分散処理効率や分散性を向上させることに関して、前記「フィルターろ過時間の短縮などの生産コストダウン」や「平滑な導電性ペースト塗膜を実現するなどの品質改善」については特別な工夫はなされていなかった。   However, with regard to improving the "wetting" of the primary particle surface and improving the dispersion treatment efficiency and dispersibility of the mixture by the high-pressure homogenizer, the above-mentioned "Production cost reduction such as shortening of filter filtration time" and "Smooth conductive paste" No special ingenuity has been made for “quality improvement such as realizing a coating film”.

特開2006−156204号公報JP 2006-156204 A 特開1999−99514号公報JP 1999-99514 A 特開2005−104070号公報JP 2005-104070 A

本発明者は、このような課題の改善策として前処理工程において、「攪拌雰囲気」、「攪拌方法」、「脱泡」の3点が重要な因子であることを以下の検討結果から見出した。
(a)「大気圧下において高速攪拌した後、減圧脱泡する前処理分散方法」において、単に高速撹拌するだけでは処理物内の泡を除去できないため、「泡の巻き込み」による2次粒子内部の一次粒子表面の「濡れ」が不十分となり、結果として、フィルターの処理時間が長くなったり、平滑な導電性ペースト塗膜が得られないなどの問題が生じる。さらに、この前処理物を単に減圧脱泡する場合でも、泡が抜けるまでペーストを長時間放置しなければならないという問題点があり、生産コストの低減に至らない。例えば、泡は大気圧の760分の1の真空圧下に曝されると大気圧下の体積の約760倍に膨張し、この体積膨張を利用して脱泡する場合、材料表面の泡は比較的容易に脱泡できるが、攪拌操作を同時に行わないと混合物内に大きな対流が生じないため、泡を効率的に除去できない。
The present inventor found from the following examination results that three points of “stirring atmosphere”, “stirring method”, and “defoaming” are important factors in the pretreatment process as measures for improving such problems. .
(A) In the “pretreatment dispersion method of degassing under reduced pressure after high-speed stirring under atmospheric pressure”, the bubbles in the processed product cannot be removed simply by high-speed stirring. As a result, problems such as an increase in filter processing time and a failure to obtain a smooth conductive paste coating film arise. Furthermore, even when the pretreated product is simply degassed under reduced pressure, there is a problem in that the paste must be left for a long time until the bubbles are removed, which does not lead to a reduction in production cost. For example, when a bubble is exposed to a vacuum pressure of 1/760 of atmospheric pressure, the bubble expands to about 760 times its volume under atmospheric pressure. Although it can be easily degassed, if the stirring operation is not performed simultaneously, a large convection does not occur in the mixture, so that the bubbles cannot be removed efficiently.

(b)「減圧雰囲気下において高速攪拌する前処理分散方法」では、一定速度、一方向にのみ回転する高速攪拌では遠心力が小さく、処理物の攪拌にムラ(滞留部分)が生じる。また、これらの方法だけでは材料の中に発生または存在するサブミクロン〜数ミクロンの泡の除去が困難となるため、導電性金属粉末およびセラミック粉末の濡れが不十分であり、フィルターの処理時間、導電性ペースト塗膜の平滑性などに問題が生じる。 (B) In the “pretreatment dispersion method in which high-speed stirring is performed in a reduced-pressure atmosphere”, centrifugal force is small in high-speed stirring rotating only in one direction at a constant speed, and unevenness (residual portion) occurs in stirring of the processed material. In addition, these methods alone make it difficult to remove submicron to several micron bubbles generated or present in the material, so that wetting of the conductive metal powder and ceramic powder is insufficient, the processing time of the filter, Problems arise in the smoothness of the conductive paste coating film.

本発明は、上記問題点に鑑み、少なくとも無機材料粉末、分散剤および有機溶剤からなる混合物を高圧ホモジナイザーにより分散処理する前処理工程において、減圧雰囲気下に保持し、公転方向に加えて自転方向にも回転させながら攪拌することで、遠心力が大きくなり、混合物全体を万遍なく対流させる。したがって滞留することもなく、泡も発生しないため、上記「濡れ」の過程がスムーズに進むものである。   In view of the above problems, the present invention holds in a pre-treatment step in which a mixture of at least an inorganic material powder, a dispersant, and an organic solvent is dispersed by a high-pressure homogenizer, and is held in a reduced-pressure atmosphere so that the rotation direction is in addition to the revolution direction By stirring while rotating, the centrifugal force increases, and the entire mixture is convected uniformly. Accordingly, no stagnation occurs and no bubbles are generated, so that the “wetting” process proceeds smoothly.

この前処理工程を加えることにより、高圧ホモジナイザーにおける分散工程では、「ノズル詰まり」が解消されたり、一次粒子表面の「濡れ」が改善され、分散処理工程で粒子表面に分散剤が吸着して起こる、粒子の「再凝集」を防止できるため、フィルターによるスラリの濾過の時間が短縮できる。また、積層セラミック電子部品の小型化、薄型化のために微細化した導電性金属粉やセラミック粉に対しても高い分散性を与えるため、乾燥塗膜の平滑性および乾燥膜密度の向上を期待できる導電性ペーストを提供可能とするものである。   By adding this pretreatment step, “nozzle clogging” is eliminated in the dispersion step in the high-pressure homogenizer, or “wetting” of the primary particle surface is improved, and the dispersant is adsorbed on the particle surface in the dispersion treatment step. Since the particles can be prevented from being “re-agglomerated”, the time for filtering the slurry with a filter can be shortened. In addition, it is expected to improve the smoothness of the dry coating film and the dry film density in order to give high dispersibility to conductive metal powders and ceramic powders miniaturized to make multilayer ceramic electronic parts smaller and thinner. It is possible to provide a conductive paste that can be produced.

このように本発明は、微粒な粉末を使用していても、その分散性が高いことから平滑な乾燥塗膜が得られるセラミック電子部品に最適な導電性ペーストを提供するものである。   As described above, the present invention provides a conductive paste that is optimal for ceramic electronic components that can provide a smooth dry coating film because of its high dispersibility even when a fine powder is used.

本発明の第1の発明は、下記の第1工程から第3工程を有することを特徴とする無機材料スラリの製造方法である。
第1工程:少なくとも無機材料粉末、分散剤および有機溶剤を含有する粗スラリ組成物を、常圧を基準として−100mmHg〜−760mmHgの減圧雰囲気下に保持して攪拌することにより脱泡を行いながら分散処理して前処理混練物を形成する工程。
第2工程:第1工程で作製した前処理混練物を、高圧ホモジナイザーによりさらに分散処理してスラリを作製する工程。
第3工程:第2工程で作製したスラリを、フィルターを用いて濾過する工程。
1st invention of this invention is a manufacturing method of the inorganic material slurry characterized by having the following 1st process-3rd process.
First step: While performing defoaming by holding and stirring a crude slurry composition containing at least an inorganic material powder, a dispersant and an organic solvent in a reduced pressure atmosphere of −100 mmHg to −760 mmHg based on normal pressure The process of forming a pre-processed kneaded material by carrying out a dispersion process.
Second step: A step of preparing a slurry by further dispersing the pre-processed kneaded material prepared in the first step with a high-pressure homogenizer.
Third step: A step of filtering the slurry produced in the second step using a filter.

本発明の第2の発明は、第1の発明による無機材料スラリ、ビヒクル、有機溶剤を含有することを特徴とする導電性ペーストである。
さらに、無機材料スラリを構成する無機粉末における導電性金属紛体が、導電性ペースト全量に対して30〜70質量%の含有量であることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a conductive paste comprising the inorganic material slurry, vehicle and organic solvent according to the first aspect.
Furthermore, the conductive metal powder in the inorganic powder constituting the inorganic material slurry has a content of 30 to 70% by mass with respect to the total amount of the conductive paste.

本発明によれば、微粒な粉末を使用したスラリであっても、その微粒な粉末の分散性を高める効果を有するものである。したがって平滑な乾燥塗膜を容易に得ることができ、小型、薄層化が要求される積層セラミック電子部品に好適な導電性ペーストを提供できるものである。   According to the present invention, even a slurry using a fine powder has an effect of improving the dispersibility of the fine powder. Therefore, a smooth dry coating film can be easily obtained, and a conductive paste suitable for a multilayer ceramic electronic component that is required to be small and thin can be provided.

本発明における積層セラミックコンデンサの内部電極形成用の導電性ペーストは、バインダーを溶剤に溶解したビヒクル中に導電性金属粉末およびセラミック粉末を分散させたペーストを特徴としている。そのためには、微細な導電性粉末、セラミック粉末を十分に分散せしめた状態のペーストであることが必要である。そこで、本発明では、その導電性ペーストの導電性成分の供給を、導電性成分が十分に分散されたスラリによって行うもので、そのスラリの製造工程には、次の3工程が必要である。   The conductive paste for forming internal electrodes of a multilayer ceramic capacitor according to the present invention is characterized by a paste in which conductive metal powder and ceramic powder are dispersed in a vehicle in which a binder is dissolved in a solvent. For that purpose, it is necessary to be a paste in which fine conductive powder and ceramic powder are sufficiently dispersed. Therefore, in the present invention, the conductive component of the conductive paste is supplied by the slurry in which the conductive component is sufficiently dispersed, and the manufacturing process of the slurry requires the following three steps.

〔第1工程〕
本発明におけるスラリ製造の第1工程は、無機材料粉末、分散剤および有機溶剤を含有する粗スラリ組成物を減圧雰囲気下に保持し、自転および公転方向に回転させながら攪拌する事で脱泡しながら分散処理して、前処理混練物を形成するものである。
[First step]
In the first step of slurry production in the present invention, a crude slurry composition containing an inorganic material powder, a dispersant and an organic solvent is held in a reduced-pressure atmosphere, and defoamed by stirring while rotating in the rotation and revolution directions. While being dispersed, a pretreated kneaded product is formed.

この減圧雰囲気下で、自転させると同時に公転させることによって、材料自体に流動性が生じるとともに、大きな遠心力が加わり、容器内部の混練物に上下方向の対流が発生する。この力を効率よく利用することで、混練物が攪拌され、さらに減圧雰囲気を加えることによって容器の底面や壁面の泡が強い流動性によって上面まで上がることによって、サブミクロンの泡まで除去される。また、混練物の粘度に応じて、自転および公転の回転は別々に制御できるため、昇温対策としても有効である。
このような自転並びに公転攪拌装置としては、例えばプライミクス株式会社製「T.K.ハイビスディスパーミックス」などの分散・混練装置が用いられる。
By rotating and revolving in this reduced pressure atmosphere, fluidity is generated in the material itself, and a large centrifugal force is applied to cause vertical convection in the kneaded material inside the container. By efficiently using this force, the kneaded product is stirred, and by adding a reduced-pressure atmosphere, bubbles on the bottom surface and wall surface of the container rise to the top surface due to strong fluidity, thereby removing submicron bubbles. Moreover, since rotation of rotation and revolution can be controlled separately according to the viscosity of the kneaded material, it is also effective as a measure for raising the temperature.
As such a rotation and revolution stirring device, for example, a dispersion / kneading device such as “TK Hibis Disper Mix” manufactured by PRIMIX Corporation is used.

本発明における攪拌時の自転および公転方向の回転数としては、自転方向の回転数は1000rpm/分以上が好ましく、公転方向の回転数は10rpm/分以上が好ましい。
自転方向の回転数が1000rpm/分未満では、容器内の上下方向(高さ)の流れを作る力が弱くなり、泡を上面まで移動させることができない場合がある。また、公転方向の回転数が10rpm/分未満では、流動性が低下し、小さな遠心力しか得られないため、十分な攪拌ができない。
As the rotation speed in the rotation and revolution directions in the present invention, the rotation speed in the rotation direction is preferably 1000 rpm / min or more, and the rotation speed in the revolution direction is preferably 10 rpm / min or more.
If the rotation speed in the rotation direction is less than 1000 rpm / min, the force that creates the flow in the vertical direction (height) in the container becomes weak, and the bubbles may not be able to move to the upper surface. Moreover, when the rotation speed in the revolution direction is less than 10 rpm / minute, the fluidity is lowered and only a small centrifugal force can be obtained, so that sufficient stirring cannot be performed.

混練処理を行う減圧雰囲気下の圧力は、−760mmHg以上、−100mmHg以下が好ましい。なお、この圧力の値は大気圧を0mmHgとした常圧基準で表示している。
溶媒からは泡の放出と溶剤成分の蒸発が同時に起こっているが、−100mmHg以下の場合は、溶剤の蒸発を抑えながら泡を効果的に膨張させて放出させることができる。これに反して、減圧環境下にしないで混練を行う場合は、材料などから分離した泡がつぶれて小さくなって溶媒から除去できなくなる場合がある。
The pressure in a reduced-pressure atmosphere for performing the kneading treatment is preferably −760 mmHg or more and −100 mmHg or less. The value of the pressure is displayed on the basis of the normal pressure with the atmospheric pressure set to 0 mmHg.
Bubbles are released from the solvent and the solvent components are evaporated at the same time. However, when it is -100 mmHg or less, the bubbles can be effectively expanded and discharged while suppressing the evaporation of the solvent. On the other hand, when kneading without a reduced pressure environment, bubbles separated from the material may be crushed and become smaller and cannot be removed from the solvent.

〔第2工程〕
本発明におけるスラリ製造の第2工程は、第1工程で得られた前処理混練物を高圧ホモジナイザーにより、さらに分散処理する工程である。なお、高圧ホモジナイザーとは、一般に原料を高圧もしくは超高圧に加圧し、オリフィスを抜ける際のせん断力を利用して粉砕、分散、乳化を行うものである。
この高圧ホモジナイザーとしては、オリフィスから噴出したジェット流を壁に衝突させる分散方式、オリフィスから噴出したジェット流同士を衝突させる分散方式、さらにはオリフィスから噴出したジェット流(処理物)が、次のオリフィス以降の抵抗により滞留した背圧状態の処理物に衝突させることで、速度変化を生じて力をうけ、次のオリフィスへ進み、それが多段となって、大気圧に放出される分散方式などがあげられる。例えば、マイクロフルイダイザー(マイクロフルイディクス社製)、ナノマイザー(吉田機械興業株式会社製)、アルティマイザー(株式会社スギノマシン製)、Nano3000(株式会社美粒製)が挙げられる。
[Second step]
The second step of slurry production in the present invention is a step of further dispersing the pretreated kneaded product obtained in the first step with a high-pressure homogenizer. The high-pressure homogenizer generally pressurizes a raw material to a high pressure or an ultrahigh pressure, and performs pulverization, dispersion, and emulsification using a shearing force when exiting an orifice.
This high-pressure homogenizer includes a dispersion method in which a jet flow ejected from an orifice collides with a wall, a dispersion method in which jet flows ejected from an orifice collide with each other, and a jet flow (processed product) ejected from an orifice is the next orifice By colliding with a back-pressure treated material that has accumulated due to subsequent resistance, a speed change is generated, force is applied, and the process proceeds to the next orifice. can give. Examples thereof include a microfluidizer (manufactured by Microfluidics), a nanomizer (manufactured by Yoshida Kikai Kogyo Co., Ltd.), an optimizer (manufactured by Sugino Machine Co., Ltd.), and Nano3000 (manufactured by Miebu Co., Ltd.).

本発明における高圧ホモジナイザーによる処理条件は、その処理圧力は、50〜300MPaが好ましく、さらに100〜250MPaの範囲で処理することが好ましい。処理圧力が50MPa未満であると、オリフィスから噴出したジェット流の速度が不十分であるため、処理物にかかるエネルギーが弱いため分散不良となる。また、圧力が300MPa以下である理由は、分散機の部材の摩耗を抑制し、長期間の使用に耐えられるようにする観点から好ましいためである。   As for the processing conditions by the high-pressure homogenizer in the present invention, the processing pressure is preferably 50 to 300 MPa, and more preferably 100 to 250 MPa. When the processing pressure is less than 50 MPa, the speed of the jet flow ejected from the orifice is insufficient, and the energy applied to the processed material is weak, resulting in poor dispersion. The reason why the pressure is 300 MPa or less is that it is preferable from the viewpoint of suppressing wear of the members of the disperser and withstanding long-term use.

さらに、高圧ホモジナイザーでは高速ジェット流を発生させるために微細なオリフィスを利用することを特徴とする。そのために、そのオリフィス径は、生産性や装置の効率性から0.03〜0.5mm程度とするのが好ましく、また、その形状は湾曲部や屈曲部のない摩耗し難い直線状が望ましい。さらに、オリフィスを形成する材料としては、例えば、焼結ダイヤモンドや単結晶ダイヤモンド等のダイヤモンド、アルミナ、ジルコニア、カーボランダム等のセラミック材料、ステンレス、鉄、チタン等の金属が挙げられるが、その中でも耐摩耗性に優れる材質のものが好ましい。   Further, the high-pressure homogenizer is characterized in that a fine orifice is used to generate a high-speed jet flow. Therefore, the orifice diameter is preferably about 0.03 to 0.5 mm in view of productivity and the efficiency of the apparatus, and the shape is preferably a straight line that does not have a curved portion or a bent portion and is difficult to wear. Furthermore, examples of the material for forming the orifice include diamond such as sintered diamond and single crystal diamond, ceramic materials such as alumina, zirconia, and carborundum, and metals such as stainless steel, iron, and titanium. A material excellent in abrasion is preferred.

ここで、スラリのオリフィス内の通過速度が速ければ速いほどせん断力も大きくなり、粒子の粒径をより微細にすることができるが、粒子の粒径が小さくなりすぎると凝集が起こりやすくなるため、粒子を適度な粒径のままで維持するには、オリフィス内およびオリフィス通過後の空間部内でスラリにかかる応力が最適となるように、スラリのオリフィス通過速度を調整することが必要である。
この通過速度の調整は、オリフィス径、処理圧等の条件を選択することによって可能であり、スラリのオリフィス通過速度を100〜1000m/secの範囲とし、より好ましくは400〜800m/secの範囲に調整することにより、粒子を適度な微細粒径のままで維持することができる。
Here, the faster the passage speed in the orifice of the slurry, the greater the shearing force, and the particle size of the particles can be made finer, but if the particle size of the particles becomes too small, aggregation tends to occur. In order to maintain the particles at an appropriate particle size, it is necessary to adjust the speed of the slurry passing through the orifice so that the stress applied to the slurry is optimal in the orifice and in the space after passing through the orifice.
This passage speed can be adjusted by selecting conditions such as orifice diameter and processing pressure. The passage speed of the slurry orifice is set in the range of 100 to 1000 m / sec, more preferably in the range of 400 to 800 m / sec. By adjusting, the particles can be maintained at an appropriate fine particle size.

また、スラリのオリフィス通過後の空間部内壁への衝突や、せん断力の不均一化を招く泡の発生を防止するために、背圧をかけながら、スラリを製造することもできる。さらに、スラリ温度が高くなると粒子の安定性が低下し、再凝集する等の問題が生じ、好ましくないため、スラリ温度の上昇を防止するために、冷却装置を装備することが好ましい。さらに、高圧ホモジナイザーにおける分散パス回数は、要求される粒子径、粒度分布等によって適宜選択することができる。なお、分散パス回数は、スラリを循環させるような装置の構成で行うことが好ましい。   In addition, the slurry can be manufactured while applying back pressure in order to prevent collision of the slurry with the inner wall of the space after passing through the orifice and generation of bubbles that cause uneven shearing force. Further, when the slurry temperature is increased, the stability of the particles is lowered and problems such as re-aggregation occur, which is not preferable. Therefore, it is preferable to equip a cooling device in order to prevent an increase in the slurry temperature. Furthermore, the number of dispersion passes in the high-pressure homogenizer can be appropriately selected depending on the required particle size, particle size distribution, and the like. In addition, it is preferable to perform the number of times of the dispersion pass by a device configuration that circulates slurry.

〔第3工程〕
次に、高圧ホモジナイザーにより分散処理して得られたスラリをフィルター濾過する。
その条件としては、99%カットろ過精度で、目開きが5μm以下のフィルターでろ過することが望ましい。その目開きが5μmを超えるフィルターを用いた場合、無機物の未分散物、粗大粒子などが除去できなくなり、誘電体層の厚みより大きい物質が混入していると、ペースト塗膜表面に突起が生じるため、平滑性が低下する。そのため、平滑性に優れた導電性ペーストを得ることができない。
[Third step]
Next, the slurry obtained by dispersing with a high-pressure homogenizer is filtered.
As the condition, it is desirable to filter with a filter having 99% cut filtration accuracy and an opening of 5 μm or less. When a filter with an opening exceeding 5 μm is used, inorganic non-dispersed materials and coarse particles cannot be removed, and if a substance larger than the thickness of the dielectric layer is mixed, protrusions are generated on the paste coating surface. Therefore, the smoothness decreases. Therefore, a conductive paste excellent in smoothness cannot be obtained.

特に、本発明における高濃度かつ高比重な導電性金属スラリは、高圧ホモジナイザーにより分散処理し終えた後、時間を空けてフィルター濾過すると目詰まりが早くなる問題が生じるため、フィルター濾過をする第3工程では、高圧ホモジナイザーにより分散処理した直後、取り出す直前にフィルター濾過する。   In particular, the conductive metal slurry having a high concentration and high specific gravity in the present invention has a problem that clogging occurs earlier when the filter is filtered after a long time after the dispersion treatment by the high-pressure homogenizer. In the process, filter filtration is performed immediately after the dispersion treatment with a high-pressure homogenizer and immediately before the removal.

なお、99%カット濾過精度で、目開きが5μm以下のフィルターにて濾過を行うとは、5μm以上の粒子を99%以上補足することを意味する。例えば、JIS z 8901規定試験用粉体7種(5mg/L分散液、10L/min)に基づいたシングルパステストが挙げられる。また、濾材としては、金属、PTFE、ポリプロピレンなどがあるが、これらに限定されるものではない。さらに、ここで使用されるフィルター構造としては、メンブレンタイプ、プリーツタイプ、デプスタイプなどが例示されるが、これらに限定されるものではない。   In addition, filtering with a filter having a 99% cut filtration accuracy and an opening of 5 μm or less means that 99% or more of particles having a size of 5 μm or more are captured. For example, a single pass test based on seven kinds of JIS z 8901 regulation test powder (5 mg / L dispersion, 10 L / min) can be mentioned. Further, examples of the filter medium include metals, PTFE, and polypropylene, but are not limited thereto. Furthermore, examples of the filter structure used here include a membrane type, a pleat type, and a depth type, but are not limited thereto.

〔導電性ペースト〕
本発明において、乾燥塗膜の平滑性および乾燥膜密度を向上させる導電性ペーストを得るには、そのニッケル粉末の粒径は、0.5μm以下の微粉末を用いると良い。
ニッケル粉末は凝集により粗大粒子が生じることがあり、ニッケル粉末の粒径が0.5μmを超えると、ペースト層を薄層化するときの成膜性が悪化し、所定の静電容量が得られないばかりでなく、粗大粒子の混入確率が増大して破壊電圧(BDV)が下がる不良を発生しやすくなる。また、薄層化対応となるような電極膜を形成しようとすると、乾燥膜で平滑性が不十分であり、かつニッケル粉末粒子の充填が不十分となり、所望の乾燥膜密度が確保できない。
[Conductive paste]
In the present invention, in order to obtain a conductive paste that improves the smoothness of the dry coating film and the dry film density, it is preferable to use a fine powder having a nickel particle size of 0.5 μm or less.
Coarse particles may be formed by aggregation in the nickel powder. When the particle size of the nickel powder exceeds 0.5 μm, the film formability when the paste layer is thinned is deteriorated, and a predetermined capacitance is obtained. In addition to the absence, the probability of inclusion of coarse particles increases, and a failure in which the breakdown voltage (BDV) decreases is likely to occur. Further, if an electrode film that can be used for thinning is formed, the dry film has insufficient smoothness and is insufficiently filled with nickel powder particles, and a desired dry film density cannot be ensured.

一方、ニッケル粉末の粒径を0.5μm以下とする理由としては、積層コンデンサの薄層化において連続性に優れた電極膜を形成するのに必須だからである。さらに、粒径が0.03μmを下回ると粒子の比表面積が大きくなりすぎ、金属粒子の表面活性が高くなりすぎ、乾燥、脱バインダー特性に悪影響をおよぼすだけでなく、適正な粘度特性が得られなかったり、導電性ペーストの長期保存中に変質する恐れがある。
本発明において、ニッケル粉末の粒径は、特に断らない限り比表面積をBET法に基づいて算出した粒径である。その算出式を数1に示す。
On the other hand, the reason why the particle size of the nickel powder is 0.5 μm or less is that it is essential for forming an electrode film having excellent continuity in thinning the multilayer capacitor. Furthermore, when the particle size is less than 0.03 μm, the specific surface area of the particles becomes too large, the surface activity of the metal particles becomes too high, and not only adversely affects drying and debinding properties, but also proper viscosity characteristics are obtained. Otherwise, there is a risk of deterioration during long-term storage of the conductive paste.
In the present invention, the particle size of the nickel powder is a particle size obtained by calculating the specific surface area based on the BET method unless otherwise specified. The calculation formula is shown in Equation 1.

Figure 2012003992
Figure 2012003992

本発明の導電性ペースト中における導電性金属粒子の割合は、好ましくは30〜70質量%である。導電性金属粒子が30質量%を下回ると焼成後の電極厚みが著しく薄くなり抵抗値が上昇したり、電極膜の形成が不充分で導電性を失い、目的とする静電容量が得られない場合がある。70質量%を上回ると電極膜の薄層化が困難となる。導電性金属粉末は、ペースト全体に対して40〜60質量%とすることがより好ましい。   The ratio of the conductive metal particles in the conductive paste of the present invention is preferably 30 to 70% by mass. If the conductive metal particles are less than 30% by mass, the thickness of the electrode after firing becomes extremely thin and the resistance value increases, or the electrode film is insufficiently formed and loses conductivity, and the desired capacitance cannot be obtained. There is a case. If it exceeds 70% by mass, it is difficult to make the electrode film thinner. The conductive metal powder is more preferably 40 to 60% by mass with respect to the entire paste.

導電性ペーストに含まれるセラミック粉末は、通常ペロブスカイト型酸化物であるBaTiOなどや、これに種々の添加物を添加したから選択することができる。また、MLCC用の誘電体層グリーンシートの主成分として使用されるセラミック粉末と同組成、あるいは類似の組成も好ましい。 The ceramic powder contained in the conductive paste can be selected because BaTiO 3 which is usually a perovskite type oxide and various additives are added thereto. Moreover, the same composition as the ceramic powder used as a main component of the dielectric layer green sheet for MLCC, or a similar composition is also preferable.

また、セラミック粉末の製造方法について固相法、水熱合成法、アルコキシド法、ゾルゲル法など種々あるが、特に水熱合成法は、微細でシャープな粒度分布が得られるため、本発明に使用するセラミック粉末としては好ましい。
なお、必要に応じて、セラミック粉末は、ビーズミルや高圧ホモジナイザーなどの装置により分散・粉砕処理を施したセラミックスラリを導電性ペーストに焼結抑制剤として添加することができる。
There are various methods for producing ceramic powder, such as solid phase method, hydrothermal synthesis method, alkoxide method, sol-gel method, etc. Especially, hydrothermal synthesis method can be used in the present invention because a fine and sharp particle size distribution can be obtained. The ceramic powder is preferable.
If necessary, the ceramic powder can be added as a sintering inhibitor to a ceramic paste that has been dispersed and pulverized by a device such as a bead mill or a high-pressure homogenizer.

このセラミック粉末の粒径は、0.01から0.2μmの範囲が望ましい。セラミック粉末の粒径が0.2μmを超えると乾燥膜密度が低下する。乾燥膜では、略球状のニッケル粉末粒子が積み重なって形成される隙間にセラミック粉末が充填されることから、セラミック粉末の粒径が0.2μmを超えると、略球状のニッケル粉末粒子の接触点間に入り込みにくくなるために、所望の乾燥膜密度が得られず、導電性ペーストの焼結開始温度をセラミック層の焼結開始温度まで遅延する効果も弱くなることから制限される。   The ceramic powder preferably has a particle size in the range of 0.01 to 0.2 μm. When the particle size of the ceramic powder exceeds 0.2 μm, the dry film density decreases. In the dry film, since the ceramic powder is filled in the gap formed by stacking the substantially spherical nickel powder particles, when the particle size of the ceramic powder exceeds 0.2 μm, the contact point between the substantially spherical nickel powder particles is between Since it becomes difficult to enter, the desired dry film density cannot be obtained, and the effect of delaying the sintering start temperature of the conductive paste to the sintering start temperature of the ceramic layer is limited.

また、セラミック粉末の粒径が0.01μmを下回ると、導電性ペーストの焼結遅延効果が困難となり、デラミネーションやクラックなどの構造欠陥が生じる。さらに、上述の乾燥膜密度の低下やセラミック粉末の凝集粉末を起因に誘電体層の薄層化が困難になる、コンデンサの信頼性(絶縁抵抗の低下やショート率の上昇など)が悪化するという問題が発生する。   On the other hand, when the particle size of the ceramic powder is less than 0.01 μm, the sintering delay effect of the conductive paste becomes difficult, and structural defects such as delamination and cracks occur. Furthermore, it is difficult to reduce the thickness of the dielectric layer due to the decrease in the dry film density and the agglomerated powder of the ceramic powder described above, and the reliability of the capacitor (such as a decrease in insulation resistance and an increase in the short-circuit rate) deteriorates. A problem occurs.

本発明において、セラミック粉末の粒径は、特に断らない限り比表面積をBET法に基づいて算出した粒径である。その算出式を数2に示す。   In the present invention, the particle size of the ceramic powder is a particle size obtained by calculating the specific surface area based on the BET method unless otherwise specified. The calculation formula is shown in Equation 2.

Figure 2012003992
Figure 2012003992

本発明で用いる有機溶剤は、ターピネオール(α、β、γおよびこれらの混合物)、ジヒドロターピネオール、オクタノール、デカノール、トリデカノール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどを使用することができる。また、粘度を調整するために、ペーストの希釈剤として芳香族炭化水素や脂肪族炭化水素が使用される。かかる希釈剤は、ペースト印刷後の乾燥速度の調節、そしてペーストに適度の粘度特性を付与するのに使用される。   As the organic solvent used in the present invention, terpineol (α, β, γ and a mixture thereof), dihydroterpineol, octanol, decanol, tridecanol, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, dipropylene glycol monomethyl ether, or the like may be used. it can. In order to adjust the viscosity, aromatic hydrocarbons or aliphatic hydrocarbons are used as a diluent for the paste. Such diluents are used to control the drying rate after paste printing and to impart moderate viscosity characteristics to the paste.

さらに、導電性ペーストのバインダー樹脂としては、エチルセルロース、ニトロセルロース、アクリル、ポリビニルブチラールなどの有機樹脂が挙げられ、これらの中から1種以上が選択される。分子量は上記溶剤に溶解するものであることが前提であるが、好ましくは20000〜200000の分子量の樹脂を用いる。
ペースト中のバインダー樹脂量は、1.0〜5.0wt%が望ましく、特に2.0〜4.0wt%がより好ましい。1.0wt%未満ではスクリーン印刷に適した粘度を得ることが困難であり、5.0wt%を超えると脱バインダー時に残留カーボン量が増え、積層チップのデラミネ−ションを引き起こすので好ましくない。
Furthermore, examples of the binder resin for the conductive paste include organic resins such as ethyl cellulose, nitrocellulose, acrylic, and polyvinyl butyral, and one or more of these are selected. The molecular weight is based on the premise that the molecular weight is soluble in the solvent, but a resin having a molecular weight of 20,000 to 200,000 is preferably used.
The amount of the binder resin in the paste is desirably 1.0 to 5.0 wt%, and more preferably 2.0 to 4.0 wt%. If it is less than 1.0 wt%, it is difficult to obtain a viscosity suitable for screen printing, and if it exceeds 5.0 wt%, the amount of residual carbon increases at the time of binder removal, which causes delamination of the laminated chip, which is not preferable.

本発明における分散剤は、特に限定されるものではなく、カチオン系分散剤、アニオン系分散剤、ノニオン系分散剤、両性界面活性剤、高分子系分散剤など、導電性金属粉末やセラミック粉末をバインダーおよび有機溶剤中に微細化した状態で安定に分散させうる分散剤であればよく、公知の分散剤を使用することができる。特に、これらの中でアニオン系分散剤が好ましく、たとえば、カルボン酸系分散剤、燐酸系分散剤、燐酸塩系分散剤などが挙げられる。これらの分散剤は1種または2種以上組み合わせて用いても良い。アニオン系分散剤は、無機表面への吸着力が大きいため、その表面改質作用により無機成分の分散性を上げるのに寄与して、塗膜の平滑性や乾燥膜密度の向上をもたらすものである。   The dispersant in the present invention is not particularly limited, and conductive metal powders and ceramic powders such as cationic dispersants, anionic dispersants, nonionic dispersants, amphoteric surfactants, and polymeric dispersants can be used. Any dispersing agent that can be stably dispersed in a finely divided state in a binder and an organic solvent may be used, and a known dispersing agent can be used. Among these, anionic dispersants are preferable, and examples thereof include carboxylic acid dispersants, phosphoric acid dispersants, and phosphate dispersants. These dispersants may be used alone or in combination of two or more. Anionic dispersants have a high adsorptive power to inorganic surfaces, and thus contribute to increasing the dispersibility of inorganic components by their surface modification action, resulting in improved coating smoothness and dry film density. is there.

そのアニオン系分散剤の平均分子量は、200〜20000が好ましい。より好ましくは300〜10000である。この平均分子量が200より小さいと、粒子が十分な静電反発力が得られず、粒子の分散性や保存安定性が低下する場合がある。通常、分散剤が粒子表面に吸着して分散剤の吸着層を形成し、静電反発力や立体的反発力を粒子に付与することで、分散性に優れたペーストが得られる。
しかし、時間の経過とともに粒子同士の衝突により、吸着層の静電反発力より勝って粒子同士が凝集すると考えられるため、平均分子量は200以上が良い。また、分子量が20000より大きいと、ビヒクルおよび溶剤との相溶性が低下したり、粒子同士の凝集を招いたり、分散性・保存安定性の低下を引き起こす場合がある。さらに、ペースト粘度が高くなる問題も生じる。
The average molecular weight of the anionic dispersant is preferably 200 to 20000. More preferably, it is 300-10000. If this average molecular weight is less than 200, the particles may not have sufficient electrostatic repulsion, and the dispersibility and storage stability of the particles may be reduced. Usually, a dispersing agent is adsorbed on the particle surface to form an adsorbing layer of the dispersing agent, and an electrostatic repulsive force or a three-dimensional repulsive force is imparted to the particles, whereby a paste having excellent dispersibility can be obtained.
However, the average molecular weight is preferably 200 or more because it is considered that particles collide with each other over the electrostatic repulsion force of the adsorption layer due to the collision of the particles with time. On the other hand, if the molecular weight is larger than 20000, the compatibility with the vehicle and the solvent may be reduced, the particles may be aggregated, and the dispersibility and storage stability may be reduced. Furthermore, the problem that a paste viscosity becomes high also arises.

ここで、アニオン系分散剤の添加量は、例えば導電性金属粉末に対する添加量は、無機物含有量100質量部に対して0.01〜2.00質量部が好ましく、0.30〜1.00質量部が更に好ましい。界面活性剤が0.01質量部未満では、充分な分散性が得にくくなる傾向がある。一方、2.00質量部を越えると乾燥性が悪くなり、また乾燥膜密度が低下する問題等が生じる。   Here, the addition amount of the anionic dispersant is, for example, preferably 0.01 to 2.00 parts by mass, and 0.30 to 1.00 with respect to 100 parts by mass of the inorganic content, relative to the conductive metal powder. Part by mass is more preferable. If the surfactant is less than 0.01 parts by mass, sufficient dispersibility tends to be difficult to obtain. On the other hand, when it exceeds 2.00 parts by mass, the drying property is deteriorated, and the problem that the density of the dried film is lowered is caused.

セラミック粉末の含有量は、導電性金属粉末100質量部に対して3〜25質量部が望ましい。より望ましくは導電性金属粉末100質量部に対して5〜15質量部である。
セラミック粉末の含有量が3質量部未満では、例えば、ニッケル粉末の焼結が制御できず、内部電極層と誘電体層の焼結収縮挙動のミスマッチが顕著になると共に、内部電極の焼結が低温から始まってしまい、内部電極層と誘電体層との焼結温度の差が大きくなるため、焼成クラックが発生してしまう。一方、セラミック粉末の含有量が25質量部を超えると、例えば、内部電極層から誘電体層中のセラミック粒子との焼結により誘電体層の厚みが膨張し、組成のずれが生じるため、誘電率の低下等の電気特性に悪影響を及ぼす。
The content of the ceramic powder is desirably 3 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive metal powder. More desirably, it is 5 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive metal powder.
When the content of the ceramic powder is less than 3 parts by mass, for example, the sintering of the nickel powder cannot be controlled, the mismatch of the sintering shrinkage behavior of the internal electrode layer and the dielectric layer becomes significant, and the internal electrode is sintered. Since it starts from a low temperature and the difference in sintering temperature between the internal electrode layer and the dielectric layer becomes large, firing cracks are generated. On the other hand, when the content of the ceramic powder exceeds 25 parts by mass, the thickness of the dielectric layer expands due to, for example, sintering from the internal electrode layer to the ceramic particles in the dielectric layer, resulting in a composition shift. It adversely affects electrical characteristics such as rate reduction.

以下、本発明をより具体的な実施例に基づき詳細に説明する。なお、本発明の範囲は実施例によって何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail based on more specific examples. The scope of the present invention is not limited by the examples.

1.無機材料スラリの作製(ニッケルスラリの作製)
ニッケル粉末(粒径:0.3μm)を85wt%、有機溶剤が14.5wt%、アニオン系分散剤が0.5wt%とした粗スラリ組成物を、圧力が−650mmHgの減圧雰囲気下に保持し、自転方向に2500rpm/分、公転方向に25rpm/分に回転させながら攪拌脱泡する前処理分散を行い、前処理混練物を形成した。次いで、得られた前処理混練物を、200MPaの処理圧、ダイヤモンド製オリフィス径を0.1mm、処理回数を5回とした条件の高圧ホモジナイザーを行い、ニッケルスラリを作製した。このニッケルスラリを目開きが2.0μmのデプスタイプフィルターにより濾過して、最終のニッケルスラリを得た。
1. Production of inorganic material slurry (production of nickel slurry)
A crude slurry composition in which nickel powder (particle size: 0.3 μm) is 85 wt%, an organic solvent is 14.5 wt%, and an anionic dispersant is 0.5 wt% is held in a reduced-pressure atmosphere having a pressure of −650 mmHg. A pretreatment dispersion was carried out by stirring and defoaming while rotating at 2500 rpm / min in the rotation direction and 25 rpm / min in the revolution direction to form a pretreatment kneaded product. Next, the obtained pre-processed kneaded product was subjected to a high-pressure homogenizer with a processing pressure of 200 MPa, a diamond orifice diameter of 0.1 mm, and a processing frequency of 5 times to prepare a nickel slurry. This nickel slurry was filtered through a depth type filter having an opening of 2.0 μm to obtain a final nickel slurry.

2.導電性ペーストの作製
上記無機材料スラリの作製で作製したニッケルスラリ中に含まれたニッケル含有量が50wt%、ビヒクルが3.5wt%、アニオン系分散剤が0.5wt%、ターピネオールが46wt%となるように各成分を混合し、3本ロールにて混練して導電性ペーストを作製した。なお、ビヒクルは樹脂成分としてエチルセルロースが9wt%、有機溶剤としてターピネオール91%からなり、加熱して作製した。この作製した導電性ペーストの粒度分布、および導電性ペーストによる乾燥膜の表面粗さRzを、下記測定法によって測定し、その結果を表1に示した。
2. Production of conductive paste The nickel content contained in the nickel slurry produced by the production of the inorganic material slurry is 50 wt%, the vehicle is 3.5 wt%, the anionic dispersant is 0.5 wt%, and the terpineol is 46 wt%. Each component was mixed so as to be kneaded with three rolls to prepare a conductive paste. The vehicle consisted of 9% by weight of ethyl cellulose as a resin component and 91% of terpineol as an organic solvent, and was prepared by heating. The particle size distribution of the produced conductive paste and the surface roughness Rz of the dried film by the conductive paste were measured by the following measuring method. The results are shown in Table 1.

[評価特性と評価方法]
(a)粒度分布
前処理方法が異なるニッケルスラリの最終的な分散性を比較するために、上記フィルター処理直前のスラリの粒度分布のD50を測定した。
なお、粒度分布測定は日機装社製のマイクロトラックにより測定した。
粒度分布をフィルター処理前で比較した理由は、前処理攪拌条件の相違がニッケル粉の分散性に及ぼす影響が、フィルター処理によって判別できなくなることを避けるためである。フィルター処理前の粒度分布の相違は、フィルターの濾過効率や目詰まりの程度に影響する。すなわち、粒度分布が大きいものほど濾過時間が増大し、また目詰まりが多く発生するといった問題を生じるものである。
[Evaluation characteristics and evaluation method]
(A) Particle size distribution In order to compare the final dispersibility of nickel slurries with different pretreatment methods, the particle size distribution D50 of the slurry immediately before the above-mentioned filter treatment was measured.
The particle size distribution was measured with a Microtrack manufactured by Nikkiso Co., Ltd.
The reason why the particle size distributions are compared before the filter treatment is to prevent the influence of the difference in the pretreatment stirring conditions on the dispersibility of the nickel powder from being discriminated by the filter treatment. The difference in particle size distribution before the filter treatment affects the filtration efficiency of the filter and the degree of clogging. That is, the larger the particle size distribution, the longer the filtration time and the more clogging occurs.

(b)乾燥膜表面粗さ:Rz
前処理方法が異なるニッケルスラリを用いて製造したニッケルペーストを、アプリケーター(ギャップ厚10μm)を用いてガラス基板上に塗布後、120℃で5分間、空気中で乾燥させ、乾燥膜を作製し、次いで、その乾燥膜を表面粗さ計(装置名;SURFCOM 551A、ピックアップ:スタイラス10μmR、ダイヤモンド90°円錐)を用い、Cut−off:1.6mm、測定範囲3.0mm、測定速度:0.6mm/secの条件にて、10点平均粗さ(Rz)を測定した。
(B) Dry film surface roughness: Rz
A nickel paste manufactured using a nickel slurry with a different pretreatment method is applied onto a glass substrate using an applicator (gap thickness 10 μm), and then dried in air at 120 ° C. for 5 minutes to produce a dry film. Then, the dry film was measured using a surface roughness meter (device name: SURFCOM 551A, pickup: stylus 10 μmR, diamond 90 ° cone), Cut-off: 1.6 mm, measurement range 3.0 mm, measurement speed: 0.6 mm 10-point average roughness (Rz) was measured under the conditions of / sec.

(比較例1A)
ニッケル粉末(粒径:0.3μm)を85wt%、有機溶剤が14.5wt%、アニオン系分散剤を0.5wt%とした粗スラリ組成物を、減圧雰囲気下の圧力が−80mmHgに保持し、自転方向に2500rpm/分、公転方向に25rpm/分に回転させながら攪拌脱泡する前処理分散を行い、前処理混練物を形成した。次いで、得られた前処理混練物を200MPaの処理圧、ダイヤモンド製オリフィス径を0.1mm、処理回数を5回とした条件の高圧ホモジナイザーを行い、ニッケルスラリを作製した。このニッケルスラリを目開きが2.0μmのデプスタイプフィルターにより濾過し、最終のニッケルスラリを得た。
次いで、実施例1と同様にして導電性ペーストを作製した。
その導電性ペーストを用いて特性評価を行い実施例1と同様に、その結果を表1に示した。
(Comparative Example 1A)
A crude slurry composition in which nickel powder (particle size: 0.3 μm) is 85 wt%, organic solvent is 14.5 wt%, anionic dispersant is 0.5 wt%, and the pressure in a reduced-pressure atmosphere is maintained at −80 mmHg. A pretreatment dispersion was performed by stirring and defoaming while rotating at 2500 rpm / min in the rotation direction and 25 rpm / min in the revolution direction to form a pretreatment kneaded product. Next, a nickel slurry was prepared by performing a high-pressure homogenizer on the pre-processed kneaded material obtained under the conditions of a processing pressure of 200 MPa, a diamond orifice diameter of 0.1 mm, and a processing frequency of 5 times. This nickel slurry was filtered through a depth type filter having an opening of 2.0 μm to obtain a final nickel slurry.
Next, a conductive paste was produced in the same manner as in Example 1.
The characteristics were evaluated using the conductive paste, and the results are shown in Table 1 as in Example 1.

(比較例1B)
ニッケル粉末(粒径:0.3μm)を85wt%、ターピネオールが14.5wt%、アニオン系分散剤を0.5wt%とした粗スラリ組成物を、常圧下で高速攪拌する前処理分散を行った。
次いで、実施例1と同様にして導電性ペーストを作製した。
その導電性ペーストを用いて特性評価を行い実施例1と同様に、その結果を表1に示した。
(Comparative Example 1B)
A rough slurry composition in which nickel powder (particle size: 0.3 μm) was 85 wt%, terpineol was 14.5 wt%, and an anionic dispersant was 0.5 wt% was subjected to pretreatment dispersion by stirring at high speed under normal pressure. .
Next, a conductive paste was produced in the same manner as in Example 1.
The characteristics were evaluated using the conductive paste, and the results are shown in Table 1 as in Example 1.

Figure 2012003992
Figure 2012003992

表1に示すように、前処理条件として減圧雰囲気下で自転および公転方向に攪拌した後、高圧ホモジナイザーにより製造したニッケルスラリ(実施例1参照)は、高速攪拌のみの前処理条件を経て製造したニッケルスラリ(比較例1B参照)と比較して、D50値が約13%小さくなっている。これは、前処理条件の違いによりニッケル表面の濡れが改善され、後工程の高圧ホモジナイザーによる分散効率が向上した結果、Ni粉の分散性に差が生じることがわかる。
さらに、前処理混練条件が同じ減圧下であるが、減圧量が小さく、本発明の範囲を外れた条件で作製されたニッケルスラリ(比較例1A参照)と比較しても、D50値は約11%ほど小さくなっている。
As shown in Table 1, after stirring in the direction of rotation and revolution in a reduced-pressure atmosphere as pretreatment conditions, the nickel slurry produced by the high-pressure homogenizer (see Example 1) was produced through pretreatment conditions of only high-speed stirring. Compared to nickel slurry (see Comparative Example 1B), the D50 value is about 13% smaller. This shows that the difference in pretreatment conditions improves the wetting of the nickel surface, and the dispersion efficiency by the high-pressure homogenizer in the post-process improves, resulting in a difference in the dispersibility of the Ni powder.
Furthermore, even when the pretreatment kneading conditions are the same under reduced pressure, the D50 value is about 11 even when compared with nickel slurry (see Comparative Example 1A) produced under conditions where the amount of reduced pressure is small and out of the scope of the present invention. % Is smaller.

さらに、前処理条件として減圧雰囲気下で自転および公転方向に攪拌することで、高速攪拌のみの前処理条件と比較(比較例1B参照)して、ニッケルペースト乾燥膜のRz値が約38%改善され、平滑な乾燥膜が得られていることがわかる。これは、前処理の攪拌時に粒子の濡れが改善され、分散性が向上したからである。
また、前処理混練条件が同じ減圧下であるが、減圧量が小さく、本発明の範囲を外れた条件で作製されたニッケルスラリ(比較例1A参照)と比較しても、乾燥膜のRz値は約32%改善されているのがわかる。
Furthermore, by stirring in the direction of rotation and revolution in a reduced pressure atmosphere as a pretreatment condition, the Rz value of the nickel paste dry film is improved by about 38% compared to the pretreatment condition of only high-speed stirring (see Comparative Example 1B). It can be seen that a smooth dry film is obtained. This is because the wettability of the particles is improved during the pretreatment and the dispersibility is improved.
Also, the Rz value of the dried film is lower than that of nickel slurry (see Comparative Example 1A) prepared under the same pretreatment kneading conditions under the same reduced pressure but with a reduced amount of reduced pressure and out of the scope of the present invention. It can be seen that is improved by about 32%.

1.セラミックスラリの作製
セラミック粉末(粒径:0.03μm)が40wt%、有機溶剤が59wt%、アニオン系分散剤が1.0wt%である粗スラリ組成物を減圧雰囲気下の圧力が−650mmHgに保持し、自転方向に2000rpm/分、公転方向に20rpm/分に回転させながら攪拌脱泡する前処理分散を行い、前処理混練物を形成する。次いで、得られた前処理混練物を前述の高圧ホモジナイザーを用いて処理圧を200MPa、ダイヤモンド製オリフィス径を0.1mm処理回数を10回とした条件にて行い、セラミックスラリを得た。得られたセラミックスラリを目開きが0.8μmのメンブレンフィルターにより濾過し、最終のセラミックスラリを得た。
1. Preparation of Ceramic Slurry A crude slurry composition containing 40 wt% ceramic powder (particle size: 0.03 μm), 59 wt% organic solvent, and 1.0 wt% anionic dispersant is maintained at -650 mmHg under reduced pressure. Then, pretreatment dispersion is performed by stirring and degassing while rotating at 2000 rpm / min in the rotation direction and 20 rpm / min in the revolution direction to form a pretreatment kneaded product. Subsequently, the obtained pre-processed kneaded material was processed using the above-described high-pressure homogenizer under the conditions of a processing pressure of 200 MPa, a diamond orifice diameter of 0.1 mm, and a processing frequency of 10 times to obtain a ceramic slurry. The obtained ceramic slurry was filtered through a membrane filter having an opening of 0.8 μm to obtain a final ceramic slurry.

2.ニッケルペーストの作製
作製したセラミックスラリ中に含有されるセラミック粉末(粒径:0.03μm)の量を4.7wt%になる量のセラミックスラリと、ニッケル粉末(粒径:0.2μm)が47wt%、ビヒクル2.8wt%、アニオン系分散剤が0.5wt%、ターピネオールが45wt%となるように混合して3本ロールにて混練した。ビヒクルは、樹脂成分としてエチルセルロースが9wt%、有機溶剤としてターピネオール91%からなり加熱して作製したビヒクルとした。
そのニッケルスラリを、目開きが1.0μmのデプスタイプフィルターにより濾過し、最終のニッケルスラリを作製し、実施例1と同様にして導電性ペーストであるニッケルペーストを作製した。
そのニッケルペーストによる乾燥膜の表面粗さRa、乾燥膜密度(DFD)を下記測定法によって測定し、その結果を表2に示した。
2. Preparation of nickel paste Ceramic slurry in an amount of 4.7 wt% of ceramic powder (particle size: 0.03 μm) contained in the prepared ceramic slurry and 47 wt% of nickel powder (particle size: 0.2 μm) %, Vehicle 2.8 wt%, anionic dispersant 0.5 wt%, and terpineol 45 wt%, and kneaded with three rolls. The vehicle was a vehicle made of 9% by weight of ethyl cellulose as a resin component and 91% of terpineol as an organic solvent and heated.
The nickel slurry was filtered through a depth type filter having an opening of 1.0 μm to produce a final nickel slurry, and a nickel paste as a conductive paste was produced in the same manner as in Example 1.
The surface roughness Ra and dry film density (DFD) of the dry film by the nickel paste were measured by the following measurement method, and the results are shown in Table 2.

セラミックスラリの作製における高圧ホモジナイザーの処理条件を、オリフィス径を0.01mm、処理回数を20回とした以外は実施例2と同条件でニッケルペーストを作製して表面粗さRa、乾燥膜密度(DFD)を測定し、その結果を表2に示した。   A nickel paste was prepared under the same conditions as in Example 2 except that the orifice diameter was 0.01 mm and the number of treatments was 20 in the ceramic slurry production, except that the orifice diameter was 0.01 mm and the number of treatments was 20. The surface roughness Ra and the dry film density ( DFD) was measured and the results are shown in Table 2.

セラミックスラリの作製における高圧ホモジナイザーの処理条件を、オリフィス径を0.06mm、処理回数を20回とした以外は実施例2と同条件でニッケルペーストを作製して表面粗さRa、乾燥膜密度(DFD)を測定し、その結果を表2に示した。   A nickel paste was prepared under the same conditions as in Example 2 except that the orifice diameter was 0.06 mm and the number of treatments was 20 in the ceramic slurry production, except that the orifice diameter was 0.06 mm and the number of treatments was 20. The surface roughness Ra and the dry film density ( DFD) was measured and the results are shown in Table 2.

(比較例2)
セラミック粉末(粒径:0.03μm)が40wt%、有機溶剤が59wt%、アニオン系分散剤が1.0wt%とした粗スラリ組成物を常圧下で高速攪拌した後、実施例2と同じ条件で前処理分散を行いセラミックスラリを作製した。
次いで、実施例2と同様にして、ニッケルペーストを作製し、表面粗さRa、乾燥膜密度(DFD)を測定した。その結果を表2に示した。
(Comparative Example 2)
A crude slurry composition containing 40 wt% ceramic powder (particle size: 0.03 μm), 59 wt% organic solvent, and 1.0 wt% anionic dispersant was stirred at high speed under normal pressure, and then the same conditions as in Example 2 A ceramic slurry was prepared by pre-dispersing with.
Next, in the same manner as in Example 2, a nickel paste was prepared, and the surface roughness Ra and the dry film density (DFD) were measured. The results are shown in Table 2.

(比較例3)
比較例2の粗スラリ組成物を常圧下で高速攪拌し、次いで前処理分散を行わずに、ニッケル粉末(粒径:0.2μm)が47wt%、セラミック粉末(粒径:0.03μm)が4.7wt%、ビヒクルAが2.8wt%、アニオン系分散剤が0.5wt%、ターピネオールが45wt%の成分組成になるように混合したセラミックスラリを作製して3本ロールにて混練した。なお、ビヒクルAは樹脂成分としてエチルセルロースが9wt%、有機溶剤としてターピネオール91%からなり加熱して作製したビヒクルとした。
(Comparative Example 3)
The coarse slurry composition of Comparative Example 2 was stirred at high speed under normal pressure, and then without pretreatment dispersion, the nickel powder (particle size: 0.2 μm) was 47 wt% and the ceramic powder (particle size: 0.03 μm). A ceramic slurry was prepared so as to have a component composition of 4.7 wt%, vehicle A 2.8 wt%, anionic dispersant 0.5 wt%, and terpineol 45 wt%, and kneaded with three rolls. Vehicle A was a vehicle made of 9% by weight of ethyl cellulose as a resin component and 91% of terpineol as an organic solvent and heated.

〔評価特性と評価方法〕
(c)非接触式表面粗さRaの測定
本発明における平均表面粗さの測定方法は、以下の方法を用いた。
アプリケーター(ギャップ厚5μm)を用いてガラス基板上にニッケルペーストを塗布後、120℃で5分間、空気中で乾燥させ、膜厚約3μmの乾燥膜を得る。次いで、乾燥膜について、光学的な方法、つまり位相シフト干渉方式により表面の突起を測定する。
具体的には、特定波長領域に限定された光源から光を、試料およびリファレンス鏡に照射し、試料およびリファレンス鏡に照射した光の干渉縞により表面状態を観察する。さらに言えば、試料を1/4波長ごとに光が照射される方向に移動させて光の干渉縞から表面状態を観察する。たとえば、光干渉式表面形状測定装置(WYCO製NT-1100)を用いて、乾燥膜の平均粗さを測定することができる。測定数は3箇所としている。
[Evaluation characteristics and evaluation method]
(C) Measurement of non-contact type surface roughness Ra The measuring method of the average surface roughness in this invention used the following method.
A nickel paste is applied onto a glass substrate using an applicator (gap thickness 5 μm), and then dried in air at 120 ° C. for 5 minutes to obtain a dry film having a thickness of about 3 μm. Next, the protrusion on the surface of the dried film is measured by an optical method, that is, a phase shift interference method.
Specifically, the sample and the reference mirror are irradiated with light from a light source limited to a specific wavelength region, and the surface state is observed by interference fringes of the light irradiated on the sample and the reference mirror. Furthermore, the surface state is observed from the interference fringes of the light by moving the sample in the direction in which the light is irradiated every quarter wavelength. For example, the average roughness of the dried film can be measured using an optical interference type surface shape measuring device (NT-1100 manufactured by WYCO). The number of measurements is three.

(d)乾燥膜密度(DFD)の測定
乾燥膜密度の測定は、ペーストをPETフィルム上に5cm×10cmの面積で膜厚30μmとなるように印刷後、120℃で40分間、空気中で乾燥させ、その乾燥したニッケルペースト乾燥膜を1×1cmに切断し、厚みと質量を測定して、下記数3によって乾燥膜密度を算出した。測定数は15箇所であり、得られた膜密度の平均値をその導電性ペーストの膜密度とした。
(D) Measurement of dry film density (DFD) The dry film density is measured by printing the paste on a PET film so as to have a film thickness of 30 μm in an area of 5 cm × 10 cm, and then drying in air at 120 ° C. for 40 minutes. The dried nickel paste dry film was cut into 1 × 1 cm, the thickness and mass were measured, and the dry film density was calculated according to the following equation (3). The number of measurements was 15 places, and the average value of the obtained film densities was taken as the film density of the conductive paste.

Figure 2012003992
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乾燥膜密度の測定はPETフィルム上に導電性ペーストを印刷して行うが、本発明の導電性ペーストを誘電体層グリーンシートに印刷しても同様の特性が発揮されるのはもちろんである。
ここで、乾燥膜密度とは、導電性ペーストを乾燥させた後の密度のことである。
The dry film density is measured by printing a conductive paste on a PET film, but it goes without saying that the same characteristics are exhibited even when the conductive paste of the present invention is printed on a dielectric layer green sheet.
Here, the dry film density is the density after the conductive paste is dried.

Figure 2012003992
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従来の3本ロールで分散した比較例3では、乾燥膜密度が5.1と低く、微粒なセラミック粉が分散できないが、高圧ホモジナイザーにより分散処理した比較例2では、乾燥膜密度が5.4まで向上した。比較例2に示した分散工程の前処理として自転および公転真空攪拌工程を取り入れた実施例2では、粒子の濡れ性が改善されたことにより、Ra値が約15%小さくなり、乾燥膜密度は5.6と高い値を示した。また、オリフィスを通過するパス回数が20回とした実施例3では、Ra値および乾燥膜密度が更に改善される。さらに、実施例4に示すようにオリフィス径を0.06mmまで小さくした場合、乾燥膜密度が5.9と更に高い値を示しており、比較例3に対して15%、比較例2に対して10%改善された。   In Comparative Example 3 dispersed with a conventional three roll, the dry film density is as low as 5.1 and fine ceramic powder cannot be dispersed, but in Comparative Example 2 dispersed by a high-pressure homogenizer, the dry film density is 5.4. Improved. In Example 2, which incorporated a rotation and revolution vacuum stirring step as a pretreatment of the dispersion step shown in Comparative Example 2, the Ra value was reduced by about 15% due to improved wettability of the particles, and the dry film density was It showed a high value of 5.6. Further, in Example 3 in which the number of passes through the orifice was 20, the Ra value and the dry film density were further improved. Furthermore, as shown in Example 4, when the orifice diameter was reduced to 0.06 mm, the dry film density showed a higher value of 5.9, 15% for Comparative Example 3 and 15% for Comparative Example 2. 10% improvement.

以上の結果から、自転および公転真空攪拌による前処理工程を加えた後に、パス回数やオリフィス径などを検討して高圧ホモジナイザーにより分散処理することで、従来の3本ロールあるいは通常の高圧ホモジナイザーによる処理では実現できなかった分散性の向上により、ペースト塗膜の平滑性および粒子の充填性が改善されていた。   From the above results, after adding the pretreatment step by rotation and revolution vacuum stirring, the number of passes, orifice diameter, etc. are examined and dispersed with a high pressure homogenizer, so that treatment with a conventional three-roll or normal high pressure homogenizer In this case, the smoothness of the paste coating film and the filling property of the particles were improved due to the improvement of the dispersibility that could not be realized in the above.

Claims (3)

無機材料スラリの製造方法であって、
下記の第1工程から第3工程を有することを特徴とする。
〔第1工程〕
少なくとも無機粉末、分散剤および有機溶剤を含有する粗スラリ組成物を、常圧を基準として−100mmHg〜−760mmHgの減圧雰囲気下に保持して攪拌することにより脱泡を行いながら分散処理して前処理混練物を形成する工程。
〔第2工程〕
前記前処理混練物を、高圧ホモジナイザーによりさらに分散処理してスラリを作製する工程。
〔第3工程〕
前記スラリを、フィルターを用いて濾過する工程。
A method of manufacturing an inorganic material slurry,
It has the following 3rd process from the 1st process.
[First step]
A crude slurry composition containing at least an inorganic powder, a dispersant, and an organic solvent is dispersed and treated while degassing by holding and stirring in a reduced pressure atmosphere of −100 mmHg to −760 mmHg based on normal pressure. A step of forming a processed kneaded product.
[Second step]
A step of further dispersing the pre-processed kneaded product with a high-pressure homogenizer to produce a slurry.
[Third step]
Filtering the slurry using a filter.
無機材料スラリ、ビヒクル、有機溶剤を含有する導電性ペーストであって、
前記無機材料スラリが、請求項1に記載の無機材料スラリの製造方法によって形成されていることを特徴とする。
A conductive paste containing an inorganic material slurry, vehicle, organic solvent,
The inorganic material slurry is formed by the inorganic material slurry manufacturing method according to claim 1.
前記無機材料スラリを構成する無機粉末における導電性金属粉体が、前記導電性ペースト全量に対して30〜70質量%の含有量であることを特徴とする請求項2に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 2, wherein the conductive metal powder in the inorganic powder constituting the inorganic material slurry has a content of 30 to 70 mass% with respect to the total amount of the conductive paste.
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