JP2012003792A - Semiconductor integrated circuit and method for inspecting the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は半導体集積回路及び半導体集積回路の検査方法に関し、特に欠陥救済のために冗長セルを有するメモリ回路を有する半導体集積回路及び半導体集積回路の検査方法に関する。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit and a semiconductor integrated circuit inspection method, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a memory circuit having a redundant cell for defect relief and a semiconductor integrated circuit inspection method.
チップ上に搭載されるメモリ回路の個数は、年々増加傾向にある。一般に、メモリ自身のテストには、メモリBIST(Built In Self-Test)が適用され、メモリ周辺部のテストには、スキャンパステストを用いる。 The number of memory circuits mounted on a chip is increasing year by year. In general, a memory BIST (Built In Self-Test) is applied to the test of the memory itself, and a scan path test is used to test the peripheral part of the memory.
しかし、近年のメモリの搭載個数の増加により、メモリ回路と、周辺ランダムロジック間の故障は、無視できなくなってきている。メモリ、ランダムロジック間の故障検出には、スキャンパステストを拡張し、メモリ回路を含めたテストが可能な、RAM(Random Access Memory)シーケンシャルテストの適用が一般的に行われている。 However, due to the recent increase in the number of mounted memories, failures between the memory circuit and peripheral random logic cannot be ignored. In order to detect a failure between a memory and a random logic, a RAM (Random Access Memory) sequential test, which can expand a scan path test and include a memory circuit, is generally performed.
一方、製造歩留まり向上策のひとつに、欠陥を有するメモリセルを、冗長に持たせた予備のセルに置き換えることによるメモリ欠陥救済手法がある。欠陥の救済は、欠陥に応じた救済情報をメモリ回路の周辺のレジスタに設定し、その設定条件下でメモリを使用することで実現する。欠陥救済回路の状態は、個々のデバイスに搭載されたメモリ回路の欠陥の有無、欠陥が発生した位置によって決まり、デバイス毎に異なった状態設定が必要となる。 On the other hand, as one of the measures for improving the manufacturing yield, there is a memory defect remedy method by replacing a defective memory cell with a redundant cell having redundancy. Defect relief is realized by setting relief information corresponding to the defect in a peripheral register of the memory circuit and using the memory under the set condition. The state of the defect relief circuit is determined by the presence or absence of a defect in the memory circuit mounted on each device and the position where the defect has occurred, and a different state setting is required for each device.
メモリ救済回路を搭載した集積回路システムに関する技術が、特許文献1に記載されている。図4は、半導体集積回路201を示す図である。半導体集積回路201は、複数のメモリデバイス211と、複数の救済情報解析回路212と、1の保存デバイス213と、1の救済情報転送回路114とを有している。メモリデバイス211は、デバイス救済情報を入力することにより、欠陥部分の冗長救済を行うことができるメモリである。
A technique related to an integrated circuit system equipped with a memory relief circuit is described in
eFuse等の保存デバイス213に予め書き込まれた救済情報Dは、救済情報転送回路214を介して、救済情報解析回路212にシリアル転送される。
The relief information D written in advance in the
救済情報解析回路212は、リセット信号Sa、登録信号Sb、クロック信号Sc、及びシフトイネーブル信号Sdを入力され、これらの信号により制御され、救済情報を解析し、メモリデバイスに入力する。
The repair
図5は、救済情報解析回路212を示す図である。救済情報解析回路212は、識別情報記憶部301と、識別情報比較部302と、デバイス救済情報登録部303と、救済上方転送部304とを有する。
FIG. 5 is a diagram showing the repair
救済情報解析部212では、救済情報転送部304から転送された救済情報をもとに、識別情報記憶部301、識別情報比較部302、及びデバイス救済情報登録部303からなる各種演算回路で演算処理を行い、欠陥セルと代替セルとを置換するためのデバイス救済情報D−Xを算出する。算出されたデバイス救済情報D−Xは、メモリ回路111に対し出力される。
In the repair
メモリ回路111に存在する欠陥セルは、置換情報により、正常なセルへと置換され、正常動作を行うことが可能となる。 The defective cell existing in the memory circuit 111 is replaced with a normal cell by the replacement information, and normal operation can be performed.
ところで、一般にSRAM等のメモリ回路を搭載するLSIにおいて、メモリ回路はBIST回路、メモリ周辺回路は、スキャンパステストを用いてテストする。従来、メモリとその周辺回路間の境界部分においては、BIST回路を用いたテストと、スキャンパステストを用いたテストとを併用することでもれなくテストすることが可能とされていた。しかし昨今では、プロセスの微細化・高速化に伴い、遅延故障が無視できなくなっている。そのため、のような、スキャンパステストとBIST回路を用いたテストの併用では、実際に通常動作時に使用するパスの遅延テストを正しく行うことができないという問題があった。 By the way, generally, in an LSI mounting a memory circuit such as an SRAM, the memory circuit is tested using a BIST circuit, and the memory peripheral circuit is tested using a scan path test. Conventionally, at a boundary portion between a memory and its peripheral circuit, it has been possible to perform a test without fail by using both a test using a BIST circuit and a test using a scan path test. However, lately, with the miniaturization and speeding up of processes, delay faults cannot be ignored. For this reason, the combined use of the scan path test and the test using the BIST circuit as described above has a problem that the path delay test actually used during normal operation cannot be correctly performed.
特許文献2には、メモリ回路とその周辺回路との間の境界部をテストする技術、すなわちRAMシーケンシャルテストに関する技術が記載されている。図6は、特許文献2に記載の半導体集積回路の概要を示す図である。
特許文献2に記載の半導体集積回路は、SRAM401と、SRAMを試験するためのBIST402と、スキャンチェーンに接続されたフリップフロップ回路(以下FFという。)403及び407と、組み合わせ回路404及び406と、BIST402からの信号と組み合わせ回路404からの信号とを選択する選択回路405を有する。
The semiconductor integrated circuit described in
特許文献2に記載の技術では、スキャンモード時に、メモリ回路へのアクセスが有効となるように、テスト制御信号を制御し、スキャンチェーンのスキャンFF403に設定したデータを、メモリ回路401に書き込む。
In the technique described in
次に、メモリ回路401に書き込まれたデータを読出し、メモリ回路401の出力段にあるスキャンFF407にてキャプチャする。スキャンFF407に取り込まれたデータは、スキャンチェーンを通して、LSI外部に出力され、テスタにて期待値判定を行う。これにより、RAMシーケンシャルテストを行うことが可能となる。
Next, the data written in the
特許文献2に記載の技術では、スキャンパステスト時に、メモリ回路へのアクセスを行うことで、メモリ回路とランダムロジック回路部との境界部のテストを行うものである。
In the technique described in
ところで、特許文献3には、半導体集積装置製造方法及び半導体集積装置に関する技術が記載されている。特許文献3に記載の技術は、複数のメモリセルを有するメモリ部と、論理部とを有する半導体装置の製造方法において、メモリ部のテストをし、メモリ部に欠陥がある場合にメモリセルの欠陥情報をレジスタに保持させる。そして、当該レジスタに保持された欠陥情報を元に、欠陥のあるセルを冗長セルに置き換え、論理部のテストを行う。その後、レジスタに保持された欠陥情報に基づいて、Fuse回路の設定を行うものである。 By the way, Patent Document 3 describes a technique related to a semiconductor integrated device manufacturing method and a semiconductor integrated device. The technique described in Patent Document 3 is a method of manufacturing a semiconductor device having a memory unit having a plurality of memory cells and a logic unit. When a memory unit is tested and the memory unit is defective, Keep information in registers. Then, based on the defect information held in the register, the defective cell is replaced with a redundant cell, and the logic unit is tested. Thereafter, the Fuse circuit is set based on the defect information held in the register.
しかしながら、特許文献2に記載の技術を、欠陥救済回路を有する半導体集積回路に対して適用すると、欠陥救済回路もテスト対象となる。そのため、欠陥救済回路の状態が保証されず、従って救済回路により救われたはずの欠陥セルをアクセスし、本来であれば正常デバイスと判定されるべきところを、欠陥デバイスと判定される可能性がある問題がある。
However, when the technique described in
また、欠陥救済回路をスキャンテストの対象から除外し、完全にスキャンテストと分離して、RAMシーケンシャルテストを行うことは可能であるが、それでは欠陥救済回路の故障検出はできないという問題がある。 Further, it is possible to exclude the defect relief circuit from the target of the scan test and completely separate it from the scan test and perform the RAM sequential test, but there is a problem that failure detection of the defect relief circuit cannot be performed.
本発明にかかる半導体集積回路は、メモリセル及び冗長セルと、メモリセルに欠陥があった場合に冗長セルを選択するセレクタとを有するメモリと、外部からの情報に基づきセレクタに冗長セルを選択させるための第1の制御信号を生成する救済制御回路と、救済制御回路の第1の制御信号をラッチする救済情報保持ラッチと、を有する。そして、救済情報保持ラッチは、第2の制御信号に応じて救済制御回路が生成した第1の制御信号をラッチする。 A semiconductor integrated circuit according to the present invention has a memory cell and a redundant cell, a memory having a selector for selecting a redundant cell when the memory cell is defective, and allows the selector to select a redundant cell based on information from the outside. A relief control circuit that generates a first control signal for the purpose, and a relief information holding latch that latches the first control signal of the relief control circuit. The relief information holding latch latches the first control signal generated by the relief control circuit in response to the second control signal.
本発明にかかる半導体集積回路のテスト方法は、メモリセル及び冗長セルと、メモリセルに欠陥があった場合に冗長セルを選択するセレクタとを有するメモリの、セレクタを制御する第1の制御信号を救済制御回路により生成し、救済情報保持ラッチは、入力される第2の制御信号に応じて救済制御回路が生成した第1の制御信号をラッチし、メモリの周囲に配置される組合せ回路及び救済制御回路を、救済制御回路及び組合せ回路をスキャンテストするスキャンチェーン及びメモリをテストするメモリテスト回路によりテストする。 A method for testing a semiconductor integrated circuit according to the present invention includes: a first control signal for controlling a selector of a memory having a memory cell and a redundant cell; and a selector for selecting a redundant cell when the memory cell is defective. The relief information holding latch generated by the relief control circuit latches the first control signal generated by the relief control circuit according to the input second control signal, and the combinational circuit and the relief arranged around the memory The control circuit is tested by a scan chain that scan-tests the relief control circuit and the combinational circuit and a memory test circuit that tests the memory.
本発明においては、欠陥救済回路を持つメモリ回路において、その救済情報をスキャンテスト中に保持可能にすることにより、欠陥を救済した状態でのRAMシーケンシャルテストが可能である。 In the present invention, in the memory circuit having the defect relief circuit, the relief information can be held during the scan test, so that the RAM sequential test in a state where the defect is relieved is possible.
本発明によれば、RAM及びRAM周辺ロジック間のテストを、スキャンテストにて実現することができる。 According to the present invention, a test between a RAM and a RAM peripheral logic can be realized by a scan test.
説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略及び簡略化がなされている。また、様々な処理を行う機能ブロックとして図面に記載される各要素は、ハードウェア的には、CPU(Central Processing Unit)、メモリ、その他の回路で構成することができ、ソフトウェア的には、メモリにロードされたプログラムなどによって実現される。したがって、これらの機能ブロックがハードウェアのみ、ソフトウェアのみ、またはそれらの組合せによっていろいろな形で実現できることは当業者には理解されるところであり、いずれかに限定されるものではない。また、以下の図面に示す各装置の構成は、例えば記憶装置に読み込まれたプログラムをコンピュータ(PC(personal computer)や携帯端末装置等)上で実行することにより実現される。 For clarity of explanation, the following description and drawings are omitted and simplified as appropriate. In addition, each element described in the drawings as a functional block for performing various processes can be configured by a CPU (Central Processing Unit), a memory, and other circuits in terms of hardware. This is realized by a program loaded on the computer. Therefore, it is understood by those skilled in the art that these functional blocks can be realized in various forms by hardware only, software only, or a combination thereof, and is not limited to any one. The configuration of each device shown in the following drawings is realized by executing a program read into a storage device on a computer (PC (personal computer), portable terminal device, etc.), for example.
プログラムは、様々なタイプの非一時的なコンピュータ可読媒体(non-transitory computer readable medium)を用いて格納され、コンピュータに供給することができる。非一時的なコンピュータ可読媒体は、様々なタイプの実体のある記録媒体(tangible storage medium)を含む。非一時的なコンピュータ可読媒体の例は、磁気記録媒体(例えばフレキシブルディスク、磁気テープ、ハードディスクドライブ)、光磁気記録媒体(例えば光磁気ディスク)、CD−ROM(Read Only Memory)、CD−R、CD−R/W、半導体メモリ(例えば、マスクROM、PROM(Programmable ROM)、EPROM(Erasable PROM)、フラッシュROM、RAM(Random Access Memory))を含む。また、プログラムは、様々なタイプの一時的なコンピュータ可読媒体(transitory computer readable medium)によってコンピュータに供給されてもよい。一時的なコンピュータ可読媒体の例は、電気信号、光信号、及び電磁波を含む。一時的なコンピュータ可読媒体は、電線及び光ファイバ等の有線通信路、又は無線通信路を介して、プログラムをコンピュータに供給できる。 The program may be stored using various types of non-transitory computer readable media and supplied to a computer. Non-transitory computer readable media include various types of tangible storage media. Examples of non-transitory computer-readable media include magnetic recording media (for example, flexible disks, magnetic tapes, hard disk drives), magneto-optical recording media (for example, magneto-optical disks), CD-ROMs (Read Only Memory), CD-Rs, CD-R / W, semiconductor memory (for example, mask ROM, PROM (Programmable ROM), EPROM (Erasable PROM), flash ROM, RAM (Random Access Memory)) are included. The program may also be supplied to the computer by various types of transitory computer readable media. Examples of transitory computer readable media include electrical signals, optical signals, and electromagnetic waves. The temporary computer-readable medium can supply the program to the computer via a wired communication path such as an electric wire and an optical fiber, or a wireless communication path.
実施の形態1
図1は、本実施の形態にかかる半導体集積回路1の概要を示す図である。本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、メモリとしてのSRAM(Static Random Access Memory)10と、BIST(Built In Self-Test)回路11と、Fuse回路12と、救済制御回路13と、救済情報保持ラッチ14とを有する。さらに、半導体集積回路1は、組み合わせ回路16と、セレクト回路17と、組み合わせ回路18と、スキャンFF19とを有する。
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a semiconductor integrated
SRAM10は、内部に通常セル22乃至25と、冗長セル26及び27を有し、通常セル22乃至25に欠陥があった場合、通常セルを冗長セル26又は27と切り替えるセレクト回路21及び28を有する、欠陥救済機構付きのSRAMである。
The
BIST回路11は、SRAM10をテストするための回路である。
The
Fuse回路12は、外部から提供された、SRAM10の欠陥救済のための情報を有し、当該欠陥救済情報を救済制御回路13に出力する。Fuse回路12は救済制御回路13に接続されている。
The
救済制御回路13は、Fuse回路12からSRAM10の欠陥救済情報を受け取る。そして、セレクト回路21又はセレクト回路28に冗長セルを選択させるための第1の制御信号であるセレクト信号を生成し、救済情報保持ラッチ14に出力する。
The
救済情報保持ラッチ14は、スルーラッチであり、外部から入力される第2の制御信号であるスキャンモード信号33がイネーブルの場合は保持動作を行い、ディスエーブルの場合は、スルー論理となる。救済情報保持ラッチ14は、スキャンモード信号33がイネーブルの場合、救済制御回路13から出力されたセレクト信号をセレクト回路21及び28に出力する。
The relief
救済制御回路13及び救済情報保持ラッチ14について、さらに詳細に説明する。図2は、救済制御回路13及び救済情報保持ラッチ14を示す図である。救済制御回路13は、救済制御レジスタ131乃至133と、救済情報演算回路134とを有する。
The
救済制御レジスタ131乃至134は、Fuse回路12から受け取った欠陥救済情報を一時的に記憶する。また、救済制御レジスタ131乃至133は、スキャンFFで構成され、スキャンチェーン(図示せず)に接続されている。そのため、特に半導体集積回路1のスキャンテストと区別することなく、救済制御レジスタ131乃至134は、スキャンテストの対象とすることができる。
The
救済情報演算回路134は、救済制御レジスタ131乃至134から受け取った欠陥救済情報に基づき、セレクト信号を生成する。
The repair
救済情報保持ラッチ14は、インバータ141と、ラッチ回路142乃至144とを有する。
The relief
インバータ141は、外部から入力されたスキャンモード信号33を反転してラッチ回路142乃至144に入力する。
The inverter 141 inverts the
ラッチ回路142乃至144は、スキャンモード信号33がイネーブルになったときのみ、保持動作を行い、ディスエーブル状態では、スルー論理となる。
The
セレクト回路21及びセレクト回路28は、セレクト信号に基づき、通常セル22乃至25のうち欠陥のあるものを、冗長セル26又は27に置き換える。
The
図1に戻って、更に半導体集積回路1について説明する。半導体集積回路1は、SRAM10に接続された論理回路としてのスキャンFF15、組み合わせ回路16、セレクト回路17、組み合わせ回路18及びスキャンFF19を有する。
Returning to FIG. 1, the semiconductor integrated
スキャンFF15及びスキャンFF19は、スキャンチェーン(図示せず)に接続されている。
The
セレクト回路17は、テスト制御信号30に基づいて、BIST回路11からの信号と、組み合わせ回路16からの信号とを切り替える。ここでテスト制御信号30は、LSIチップのスキャンモード信号33を接続するようにしてもよい。
The
本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、救済情報保持ラッチ14を有し、救済情報保持ラッチ14は、スキャンモード信号33がイネーブル状態の際に救済制御回路13から出力されたセレクト信号を保持する。セレクト信号が救済情報保持ラッチ14において保持されている間は、救済制御回路13の動作に関わらず、SRAM10の欠陥救済をすることができる。
The semiconductor integrated
次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路1の動作について説明する。まず、Fuse回路12が、欠陥救済情報を救済制御回路13に出力する。読み出された欠陥救済情報は、Fuseデータ転送経路31を経由して、救済制御回路13の救済制御レジスタ131乃至133に転送される。
Next, the operation of the semiconductor integrated
転送された欠陥救済情報は、救済情報演算回路134にて計算され、セレクト信号32として、出力段にある救済情報保持ラッチ14のラッチ回路142乃至144を介し、SRAM回路10に出力される。この際、スキャンモード信号33は、ディスエーブル状態
"Lowレベル"であり、インバータ141により反転される。これにより、ラッチ回路142乃至144はスルー論理となる。
The transferred defect repair information is calculated by the repair
It is “Low level” and is inverted by the inverter 141. Thereby, the
次に、セレクト信号32が、SRAM10のセレクト回路21又は28に到達した後、スキャンモード信号32を"High"(イネーブル状態)に切り替える。ここで、スキャンモード信号32は、半導体集積回路1のスキャンモード信号(図示せず)を用いても良い。これにより、救済情報保持ラッチ14において、セレクト信号34が保持される。
Next, after the
次に、SRAM周辺論理を含んだRAMシーケンシャルテストを行う。テスト制御信号30を、組み合わせ回路16が常に選択されるように固定する。これにより、SRAM10へのアクセステストが可能となる。
Next, a RAM sequential test including SRAM peripheral logic is performed. The
次に、スキャンチェーン(図示せず)を通じて、スキャンFF15に設定したテストデータを、組み合わせ回路16を介し、SRAM10に書き込む。SRAM10に書き込まれたデータを読出し、SRAM10の後段の組み合わせ回路18を介して、スキャンFF19でキャプチャし、スキャンチェーンを通して出力する。
Next, the test data set in the
この時、セレクト信号34は、ラッチ回路142乃至144で保持状態にあり、SRAM10の欠陥セルにアクセスすることなくテストを行うことが可能となる。
At this time, the
本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、スキャンモード信号33により、救済情報保持ラッチ14で、セレクト信号34の保持が制御可能である。そして、スキャンモード信号33がディスエーブル状態の際は、所望の欠陥救済情報を、Fuse回路12から、Fuseデータ転送経路31を介して、救済制御レジスタ131乃至133、及び救済情報演算回路134に転送可能である。そして、当該演算結果であるセレクト信号34を救済情報保持ラッチ14に出力させることができる。
In the semiconductor integrated
手順にて出力したセレクト信号34は、SRAM10の欠陥セルを、正常セルに置換するために必要な情報である。手順を踏んだ後で、スキャンモード信号33をイネーブルにすることで、セレクト信号34は救済情報保持ラッチ14にて保持される。一旦、保持された後では、救済制御回路13の救済制御レジスタ131乃至133及び134に任意の値を上書きしても、SRAM10に対するセレクト信号34は失われない。これにより、RAMシーケンシャルテストで、欠陥セルをアクセスすることはなくなり、さらには、救済制御レジスタも、同時にスキャンテストの対象とすることが可能となる。
The
実施の形態2
次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路2について説明する。実施の形態1と本実施の形態とでは、ラッチ回路142乃至144の制御を行う、第1の論理回路としてのNAND回路36と、ラッチ回路142乃至144の出力段に接続された観測部39とを有する点が異なる。図3は、本実施の形態にかかる半導体集積回路2の部分を示す図である。
Next, the semiconductor integrated
NAND回路36は、スキャンモード信号33と、RAMシーケンシャルモード信号35とを入力され、保持制御信号37を生成する。
The
シーケンシャル信号35はRAMシーケンシャルテストを実施するか否かを決定するためのモード信号であり、スキャンモード信号とは別に設ける。ラッチ回路142乃至144は、NAND回路36で生成された保持制御信号37がHighの場合、スルー論理となり、Lowの場合は保持動作を行う。よって、スキャンモード信号33がHighで、かつ、シーケンシャルモード信号35がHighの場合のみ、ラッチ回路142乃至144は、保持動作を行う。
The sequential signal 35 is a mode signal for determining whether or not to execute the RAM sequential test, and is provided separately from the scan mode signal. The
AND回路38は、保持制御信号37とセレクト信号34とを入力され、当該二つの信号のAND論理をとり、観測部39に出力する。
The AND
観測部39は、スキャンFFで構成され、AND回路38を介して入力される信号を観測する。
The
次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路2の動作について説明する。Fuse回路12の欠陥救済情報の出力から、セレクト信号34がラッチ回路142乃至144を介してSRAM10に出力されるまでの動作は実施の形態1と同様であるため、ここでは省略する。
Next, the operation of the semiconductor integrated
セレクト信号34がSRAM10に到達した後、スキャンモード信号33と、スキャンモード信号33とをイネーブルとし、保持制御信号37を"High"に切り替える。おして、ラッチ回路142乃至144に保持制御信号37を保持させる。
After the
この場合には、観測部39は、AND回路38により、"Low"状態に固定される。この固定制御により、半導体集積回路ごとに異なる欠陥救済情報を、観測部39でキャプチャすることを防ぐことができる。言い換えれば、欠陥救済情報は、チップ毎に異なり、その情報に対応した期待値をテストベクタ上に作りこむことは困難であるが、この固定制御は、それを防止するためのマスク手段となる。
In this case, the
またこの場合、実施の形態1と同様の動作となり、救済情報演算回路134及び救済制御レジスタ131乃至救済制御レジスタ133のスキャンテストが可能となる。そしてこの際、SRAM回路10に対するRAMシーケンシャルテストの併用が可能である。
In this case, the operation is the same as that of the first embodiment, and the scan test of the repair
次に、観測部39を用いて救済制御回路13および救済情報保持ラッチ14の故障検出を行う際の動作について説明する。
Next, an operation when the failure detection of the
この場合も、セレクト信号34がSRAM10に到達した時点から説明を行う。まず、スキャンモード信号33のみをイネーブル"High"にし、シーケンシャルモード信号35をディスエーブル状態"Low"とする。これにより、保持制御信号37はHighとなり、ラッチ回路142乃至144はスルー論理を維持する。同時に、救済制御レジスタ13も、任意の動作を行うことから、RAMシーケンシャルテストは実行不能となる。
Also in this case, the description will be made from the time when the
一方、ラッチ回路142乃至144の後段に配置したAND回路38の固定制御がはずれる。これによりラッチ回路142乃至144の出力信号が観測部39に取り込まれる。
On the other hand, the fixed control of the AND
これにより、セレクト信号34は保持されず、救済制御レジスタ132にシフトインした所望の値を使って、救済情報演算回路134、及びラッチ回路142乃至144のテストが可能となる。
As a result, the
本実施の形態にかかる半導体集積回路2は、実施の形態1では検出不能であった、ラッチ回路142乃至144の故障検出ができる。また、実施の形態1では、故障検出が不可能な部分が残されていた、救済情報演算回路の故障検出が可能となる。さらに、スキャンモード信号33及びシーケンシャル信号35を制御することにより、実施の形態1で示したように、RAMシーケンシャルテストの実現も可能である。
The semiconductor integrated
本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、欠陥救済回路を持つメモリ回路において、その救済情報をスキャンテスト中に保持可能にすることにより、欠陥を救済した状態でのRAMシーケンシャルテストが可能である。これにより、RAM及びRAM周辺ロジック間のテストを、スキャンテストにて実現することができる。
In the semiconductor integrated
また、RAMシーケンシャル動作時のみ、保持する機構を有効にすることで、保持回路を含めた、欠陥救済回路自身のテストをスキャンテストにて実現することが可能となる。 Also, by enabling the holding mechanism only during the RAM sequential operation, it becomes possible to realize a test of the defect relief circuit itself including the holding circuit by a scan test.
なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention.
1 半導体集積回路
2 半導体集積回路
10 SRAM
11 BIST回路
12 Fuse回路
13 救済制御回路
14 救済情報保持ラッチ
15 スキャンFF
16 組み合わせ回路
17 セレクト回路
18 組み合わせ回路
19 スキャンFF
21 セレクト回路
22 通常セル
23 通常セル
24 通常セル
25 通常セル
26 冗長セル
27 冗長セル
28 セレクト回路
30 テスト制御信号
31 Fuseデータ転送経路
32 セレクト信号
33 スキャンモード信号
34 セレクト信号
35 シーケンシャル信号
36 NAND回路
37 保持制御信号
38 AND回路
39 観測部
131 救済制御レジスタ
132 救済制御レジスタ
133 救済制御レジスタ
134 救済情報演算回路
141 インバータ
142 ラッチ回路
143 ラッチ回路
144 ラッチ回路
DESCRIPTION OF
11
16
DESCRIPTION OF
Claims (7)
外部からの情報に基づき前記セレクタに前記冗長セルを選択させる第1の制御信号を生成する救済制御回路と、
前記救済制御回路の前記第1の制御信号をラッチする救済情報保持ラッチと、を有し
前記救済情報保持ラッチは、第2の制御信号に応じて前記救済制御回路が生成した前記第1の制御信号をラッチする、半導体集積回路。 A memory having a memory cell and a redundant cell, and a selector for selecting the redundant cell when the memory cell is defective;
A relief control circuit for generating a first control signal for causing the selector to select the redundant cell based on information from outside;
A relief information holding latch for latching the first control signal of the relief control circuit, wherein the relief information holding latch is the first control generated by the relief control circuit in response to a second control signal. A semiconductor integrated circuit that latches signals.
前記メモリの周囲に配置される組合せ回路と、
前記組合せ回路をスキャンテストするスキャンチェーンとを有し、
前記救済制御回路は、前記スキャンチェーンに接続され、
前記第2の制御信号に応じて前記救済情報保持ラッチが前記第1の制御信号をラッチした後、前記スキャンチェーン及び前記メモリを使用して前記救済制御回路及び組合せ回路をテストする、請求項1又は2記載の半導体集積回路。 A memory test circuit for testing the memory;
A combinational circuit disposed around the memory;
A scan chain that scan-tests the combinational circuit,
The relief control circuit is connected to the scan chain,
2. The repair control circuit and the combinational circuit are tested using the scan chain and the memory after the repair information holding latch latches the first control signal in response to the second control signal. Or the semiconductor integrated circuit of 2.
前記救済情報保持ラッチがラッチしたデータを観測するための観測部と、
前記ラッチ信号と前記第1の制御信号とに基づき前記観測部にデータを取り込むか否かを決定する第4の制御信号を生成する第2の論理回路とを有し、
前記第1の論理回路により前記ラッチ信号を非アクティブにし、前記第2の論理回路の前記第4の制御信号により前記観測部にデータを取り込む、請求項1乃至3のいずれか1項記載の半導体集積回路。 A first logic circuit for generating a latch signal of the relief information holding latch based on the second control signal and the third control signal;
An observation unit for observing data latched by the relief information holding latch;
A second logic circuit for generating a fourth control signal for determining whether to take data into the observation unit based on the latch signal and the first control signal;
4. The semiconductor according to claim 1, wherein the latch signal is deactivated by the first logic circuit, and data is taken into the observation unit by the fourth control signal of the second logic circuit. 5. Integrated circuit.
救済情報保持ラッチは、入力される第2の制御信号に応じて前記救済制御回路が生成した前記第1の制御信号をラッチし、
前記メモリの周囲に配置される組合せ回路及び前記救済制御回路を、前記救済制御回路及び前記組合せ回路をスキャンテストするスキャンチェーン及び前記メモリをテストするメモリテスト回路によりテストする
半導体集積回路のテスト方法。 Generating a first control signal for controlling the selector of a memory having a memory cell and a redundant cell, and a selector for selecting the redundant cell when the memory cell is defective;
The relief information holding latch latches the first control signal generated by the relief control circuit in response to the input second control signal,
A test method for a semiconductor integrated circuit, wherein the combinational circuit and the relief control circuit arranged around the memory are tested by a scan chain for performing a scan test on the relief control circuit and the combinational circuit and a memory test circuit for testing the memory.
第2の論理回路により前記ラッチ信号と前記第1の制御信号とに基づき前記観測部にデータを取り込むか否かを決定する第4の制御信号を生成し、
前記第1の論理回路により前記ラッチ信号を非アクティブにし、前記第2の論理回路の前記第4の制御信号により、前記救済情報保持ラッチがラッチしたデータを観測するための観測部にデータを取り込ませる請求項5又は6項記載の半導体集積回路のテスト方法。 Generating a latch signal of the relief information holding latch based on the second control signal and the third control signal by a first logic circuit;
A second logic circuit for generating a fourth control signal for deciding whether to take data into the observation unit based on the latch signal and the first control signal;
The latch signal is deactivated by the first logic circuit, and data is taken into an observation unit for observing the data latched by the relief information holding latch by the fourth control signal of the second logic circuit. A method for testing a semiconductor integrated circuit according to claim 5 or 6.
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