JP2012003792A - Semiconductor integrated circuit and method for inspecting the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit capable of implementing a test between a memory and memory peripheral logic in a scan test.SOLUTION: A semiconductor integrated circuit comprises: a memory 10 having memory cells 22 to 25, redundant cells 26 and 27, and a selector 28 for selecting a redundant cell if a failed memory cell is found; a repair control circuit 13 for generating a first control signal used to make the selector select a redundant cell on the basis of external information; and a repair information retention latch 14 for latching the first control signal of a repair control circuit 13. The repair information retention latch 14 latches the first control signal generated by the repair control circuit 13 according to a second control signal.

Description

本発明は半導体集積回路及び半導体集積回路の検査方法に関し、特に欠陥救済のために冗長セルを有するメモリ回路を有する半導体集積回路及び半導体集積回路の検査方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit and a semiconductor integrated circuit inspection method, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a memory circuit having a redundant cell for defect relief and a semiconductor integrated circuit inspection method.

チップ上に搭載されるメモリ回路の個数は、年々増加傾向にある。一般に、メモリ自身のテストには、メモリBIST(Built In Self-Test)が適用され、メモリ周辺部のテストには、スキャンパステストを用いる。   The number of memory circuits mounted on a chip is increasing year by year. In general, a memory BIST (Built In Self-Test) is applied to the test of the memory itself, and a scan path test is used to test the peripheral part of the memory.

しかし、近年のメモリの搭載個数の増加により、メモリ回路と、周辺ランダムロジック間の故障は、無視できなくなってきている。メモリ、ランダムロジック間の故障検出には、スキャンパステストを拡張し、メモリ回路を含めたテストが可能な、RAM(Random Access Memory)シーケンシャルテストの適用が一般的に行われている。   However, due to the recent increase in the number of mounted memories, failures between the memory circuit and peripheral random logic cannot be ignored. In order to detect a failure between a memory and a random logic, a RAM (Random Access Memory) sequential test, which can expand a scan path test and include a memory circuit, is generally performed.

一方、製造歩留まり向上策のひとつに、欠陥を有するメモリセルを、冗長に持たせた予備のセルに置き換えることによるメモリ欠陥救済手法がある。欠陥の救済は、欠陥に応じた救済情報をメモリ回路の周辺のレジスタに設定し、その設定条件下でメモリを使用することで実現する。欠陥救済回路の状態は、個々のデバイスに搭載されたメモリ回路の欠陥の有無、欠陥が発生した位置によって決まり、デバイス毎に異なった状態設定が必要となる。   On the other hand, as one of the measures for improving the manufacturing yield, there is a memory defect remedy method by replacing a defective memory cell with a redundant cell having redundancy. Defect relief is realized by setting relief information corresponding to the defect in a peripheral register of the memory circuit and using the memory under the set condition. The state of the defect relief circuit is determined by the presence or absence of a defect in the memory circuit mounted on each device and the position where the defect has occurred, and a different state setting is required for each device.

メモリ救済回路を搭載した集積回路システムに関する技術が、特許文献1に記載されている。図4は、半導体集積回路201を示す図である。半導体集積回路201は、複数のメモリデバイス211と、複数の救済情報解析回路212と、1の保存デバイス213と、1の救済情報転送回路114とを有している。メモリデバイス211は、デバイス救済情報を入力することにより、欠陥部分の冗長救済を行うことができるメモリである。   A technique related to an integrated circuit system equipped with a memory relief circuit is described in Patent Document 1. FIG. 4 is a diagram showing the semiconductor integrated circuit 201. The semiconductor integrated circuit 201 includes a plurality of memory devices 211, a plurality of repair information analysis circuits 212, one storage device 213, and one repair information transfer circuit 114. The memory device 211 is a memory capable of performing redundant repair of a defective portion by inputting device repair information.

eFuse等の保存デバイス213に予め書き込まれた救済情報Dは、救済情報転送回路214を介して、救済情報解析回路212にシリアル転送される。   The relief information D written in advance in the storage device 213 such as eFuse is serially transferred to the relief information analysis circuit 212 via the relief information transfer circuit 214.

救済情報解析回路212は、リセット信号Sa、登録信号Sb、クロック信号Sc、及びシフトイネーブル信号Sdを入力され、これらの信号により制御され、救済情報を解析し、メモリデバイスに入力する。   The repair information analysis circuit 212 receives the reset signal Sa, the registration signal Sb, the clock signal Sc, and the shift enable signal Sd, is controlled by these signals, analyzes the repair information, and inputs it to the memory device.

図5は、救済情報解析回路212を示す図である。救済情報解析回路212は、識別情報記憶部301と、識別情報比較部302と、デバイス救済情報登録部303と、救済上方転送部304とを有する。   FIG. 5 is a diagram showing the repair information analysis circuit 212. The repair information analysis circuit 212 includes an identification information storage unit 301, an identification information comparison unit 302, a device repair information registration unit 303, and a repair upper transfer unit 304.

救済情報解析部212では、救済情報転送部304から転送された救済情報をもとに、識別情報記憶部301、識別情報比較部302、及びデバイス救済情報登録部303からなる各種演算回路で演算処理を行い、欠陥セルと代替セルとを置換するためのデバイス救済情報D−Xを算出する。算出されたデバイス救済情報D−Xは、メモリ回路111に対し出力される。   In the repair information analysis unit 212, based on the repair information transferred from the repair information transfer unit 304, arithmetic processing is performed by various arithmetic circuits including the identification information storage unit 301, the identification information comparison unit 302, and the device repair information registration unit 303. The device repair information DX for replacing the defective cell and the substitute cell is calculated. The calculated device repair information DX is output to the memory circuit 111.

メモリ回路111に存在する欠陥セルは、置換情報により、正常なセルへと置換され、正常動作を行うことが可能となる。   The defective cell existing in the memory circuit 111 is replaced with a normal cell by the replacement information, and normal operation can be performed.

ところで、一般にSRAM等のメモリ回路を搭載するLSIにおいて、メモリ回路はBIST回路、メモリ周辺回路は、スキャンパステストを用いてテストする。従来、メモリとその周辺回路間の境界部分においては、BIST回路を用いたテストと、スキャンパステストを用いたテストとを併用することでもれなくテストすることが可能とされていた。しかし昨今では、プロセスの微細化・高速化に伴い、遅延故障が無視できなくなっている。そのため、のような、スキャンパステストとBIST回路を用いたテストの併用では、実際に通常動作時に使用するパスの遅延テストを正しく行うことができないという問題があった。   By the way, generally, in an LSI mounting a memory circuit such as an SRAM, the memory circuit is tested using a BIST circuit, and the memory peripheral circuit is tested using a scan path test. Conventionally, at a boundary portion between a memory and its peripheral circuit, it has been possible to perform a test without fail by using both a test using a BIST circuit and a test using a scan path test. However, lately, with the miniaturization and speeding up of processes, delay faults cannot be ignored. For this reason, the combined use of the scan path test and the test using the BIST circuit as described above has a problem that the path delay test actually used during normal operation cannot be correctly performed.

特許文献2には、メモリ回路とその周辺回路との間の境界部をテストする技術、すなわちRAMシーケンシャルテストに関する技術が記載されている。図6は、特許文献2に記載の半導体集積回路の概要を示す図である。   Patent Document 2 describes a technique for testing a boundary portion between a memory circuit and its peripheral circuit, that is, a technique related to a RAM sequential test. FIG. 6 is a diagram showing an outline of the semiconductor integrated circuit described in Patent Document 2. In FIG.

特許文献2に記載の半導体集積回路は、SRAM401と、SRAMを試験するためのBIST402と、スキャンチェーンに接続されたフリップフロップ回路(以下FFという。)403及び407と、組み合わせ回路404及び406と、BIST402からの信号と組み合わせ回路404からの信号とを選択する選択回路405を有する。   The semiconductor integrated circuit described in Patent Document 2 includes an SRAM 401, a BIST 402 for testing the SRAM, flip-flop circuits (hereinafter referred to as FF) 403 and 407 connected to a scan chain, combinational circuits 404 and 406, A selection circuit 405 that selects a signal from the BIST 402 and a signal from the combinational circuit 404 is provided.

特許文献2に記載の技術では、スキャンモード時に、メモリ回路へのアクセスが有効となるように、テスト制御信号を制御し、スキャンチェーンのスキャンFF403に設定したデータを、メモリ回路401に書き込む。   In the technique described in Patent Document 2, the test control signal is controlled so that access to the memory circuit is valid in the scan mode, and the data set in the scan FF 403 of the scan chain is written into the memory circuit 401.

次に、メモリ回路401に書き込まれたデータを読出し、メモリ回路401の出力段にあるスキャンFF407にてキャプチャする。スキャンFF407に取り込まれたデータは、スキャンチェーンを通して、LSI外部に出力され、テスタにて期待値判定を行う。これにより、RAMシーケンシャルテストを行うことが可能となる。   Next, the data written in the memory circuit 401 is read and captured by the scan FF 407 in the output stage of the memory circuit 401. The data fetched into the scan FF 407 is output to the outside of the LSI through the scan chain, and the expected value is determined by the tester. As a result, a RAM sequential test can be performed.

特許文献2に記載の技術では、スキャンパステスト時に、メモリ回路へのアクセスを行うことで、メモリ回路とランダムロジック回路部との境界部のテストを行うものである。   In the technique described in Patent Document 2, the boundary between the memory circuit and the random logic circuit is tested by accessing the memory circuit during the scan path test.

ところで、特許文献3には、半導体集積装置製造方法及び半導体集積装置に関する技術が記載されている。特許文献3に記載の技術は、複数のメモリセルを有するメモリ部と、論理部とを有する半導体装置の製造方法において、メモリ部のテストをし、メモリ部に欠陥がある場合にメモリセルの欠陥情報をレジスタに保持させる。そして、当該レジスタに保持された欠陥情報を元に、欠陥のあるセルを冗長セルに置き換え、論理部のテストを行う。その後、レジスタに保持された欠陥情報に基づいて、Fuse回路の設定を行うものである。   By the way, Patent Document 3 describes a technique related to a semiconductor integrated device manufacturing method and a semiconductor integrated device. The technique described in Patent Document 3 is a method of manufacturing a semiconductor device having a memory unit having a plurality of memory cells and a logic unit. When a memory unit is tested and the memory unit is defective, Keep information in registers. Then, based on the defect information held in the register, the defective cell is replaced with a redundant cell, and the logic unit is tested. Thereafter, the Fuse circuit is set based on the defect information held in the register.

特開2008‐226285号公報JP 2008-226285 A 特開2004−012374号公報JP 2004-012374 A 国際公開第2002/059902号International Publication No. 2002/059902

しかしながら、特許文献2に記載の技術を、欠陥救済回路を有する半導体集積回路に対して適用すると、欠陥救済回路もテスト対象となる。そのため、欠陥救済回路の状態が保証されず、従って救済回路により救われたはずの欠陥セルをアクセスし、本来であれば正常デバイスと判定されるべきところを、欠陥デバイスと判定される可能性がある問題がある。   However, when the technique described in Patent Document 2 is applied to a semiconductor integrated circuit having a defect relief circuit, the defect relief circuit is also a test target. Therefore, there is a possibility that the state of the defect relief circuit is not guaranteed, and therefore, a defective cell that should have been saved by the relief circuit is accessed, and a place that should be judged as a normal device can be judged as a defective device. There is a problem.

また、欠陥救済回路をスキャンテストの対象から除外し、完全にスキャンテストと分離して、RAMシーケンシャルテストを行うことは可能であるが、それでは欠陥救済回路の故障検出はできないという問題がある。   Further, it is possible to exclude the defect relief circuit from the target of the scan test and completely separate it from the scan test and perform the RAM sequential test, but there is a problem that failure detection of the defect relief circuit cannot be performed.

本発明にかかる半導体集積回路は、メモリセル及び冗長セルと、メモリセルに欠陥があった場合に冗長セルを選択するセレクタとを有するメモリと、外部からの情報に基づきセレクタに冗長セルを選択させるための第1の制御信号を生成する救済制御回路と、救済制御回路の第1の制御信号をラッチする救済情報保持ラッチと、を有する。そして、救済情報保持ラッチは、第2の制御信号に応じて救済制御回路が生成した第1の制御信号をラッチする。   A semiconductor integrated circuit according to the present invention has a memory cell and a redundant cell, a memory having a selector for selecting a redundant cell when the memory cell is defective, and allows the selector to select a redundant cell based on information from the outside. A relief control circuit that generates a first control signal for the purpose, and a relief information holding latch that latches the first control signal of the relief control circuit. The relief information holding latch latches the first control signal generated by the relief control circuit in response to the second control signal.

本発明にかかる半導体集積回路のテスト方法は、メモリセル及び冗長セルと、メモリセルに欠陥があった場合に冗長セルを選択するセレクタとを有するメモリの、セレクタを制御する第1の制御信号を救済制御回路により生成し、救済情報保持ラッチは、入力される第2の制御信号に応じて救済制御回路が生成した第1の制御信号をラッチし、メモリの周囲に配置される組合せ回路及び救済制御回路を、救済制御回路及び組合せ回路をスキャンテストするスキャンチェーン及びメモリをテストするメモリテスト回路によりテストする。   A method for testing a semiconductor integrated circuit according to the present invention includes: a first control signal for controlling a selector of a memory having a memory cell and a redundant cell; and a selector for selecting a redundant cell when the memory cell is defective. The relief information holding latch generated by the relief control circuit latches the first control signal generated by the relief control circuit according to the input second control signal, and the combinational circuit and the relief arranged around the memory The control circuit is tested by a scan chain that scan-tests the relief control circuit and the combinational circuit and a memory test circuit that tests the memory.

本発明においては、欠陥救済回路を持つメモリ回路において、その救済情報をスキャンテスト中に保持可能にすることにより、欠陥を救済した状態でのRAMシーケンシャルテストが可能である。   In the present invention, in the memory circuit having the defect relief circuit, the relief information can be held during the scan test, so that the RAM sequential test in a state where the defect is relieved is possible.

本発明によれば、RAM及びRAM周辺ロジック間のテストを、スキャンテストにて実現することができる。   According to the present invention, a test between a RAM and a RAM peripheral logic can be realized by a scan test.

実施の形態1にかかる半導体集積回路1の概要を示す図である。1 is a diagram showing an outline of a semiconductor integrated circuit 1 according to a first embodiment; 実施の形態1にかかる救済制御回路13及び救済情報保持ラッチ14を示す図である。2 is a diagram showing a relief control circuit 13 and a relief information holding latch 14 according to the first embodiment. FIG. 実施の形態2にかかる半導体集積回路2の部分を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a portion of a semiconductor integrated circuit 2 according to a second embodiment. 従来の半導体集積回路201を示す図である。1 is a diagram showing a conventional semiconductor integrated circuit 201. FIG. 従来の救済情報転送回路212を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a conventional relief information transfer circuit 212. 従来の半導体集積回路の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of the conventional semiconductor integrated circuit.

説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略及び簡略化がなされている。また、様々な処理を行う機能ブロックとして図面に記載される各要素は、ハードウェア的には、CPU(Central Processing Unit)、メモリ、その他の回路で構成することができ、ソフトウェア的には、メモリにロードされたプログラムなどによって実現される。したがって、これらの機能ブロックがハードウェアのみ、ソフトウェアのみ、またはそれらの組合せによっていろいろな形で実現できることは当業者には理解されるところであり、いずれかに限定されるものではない。また、以下の図面に示す各装置の構成は、例えば記憶装置に読み込まれたプログラムをコンピュータ(PC(personal computer)や携帯端末装置等)上で実行することにより実現される。   For clarity of explanation, the following description and drawings are omitted and simplified as appropriate. In addition, each element described in the drawings as a functional block for performing various processes can be configured by a CPU (Central Processing Unit), a memory, and other circuits in terms of hardware. This is realized by a program loaded on the computer. Therefore, it is understood by those skilled in the art that these functional blocks can be realized in various forms by hardware only, software only, or a combination thereof, and is not limited to any one. The configuration of each device shown in the following drawings is realized by executing a program read into a storage device on a computer (PC (personal computer), portable terminal device, etc.), for example.

プログラムは、様々なタイプの非一時的なコンピュータ可読媒体(non-transitory computer readable medium)を用いて格納され、コンピュータに供給することができる。非一時的なコンピュータ可読媒体は、様々なタイプの実体のある記録媒体(tangible storage medium)を含む。非一時的なコンピュータ可読媒体の例は、磁気記録媒体(例えばフレキシブルディスク、磁気テープ、ハードディスクドライブ)、光磁気記録媒体(例えば光磁気ディスク)、CD−ROM(Read Only Memory)、CD−R、CD−R/W、半導体メモリ(例えば、マスクROM、PROM(Programmable ROM)、EPROM(Erasable PROM)、フラッシュROM、RAM(Random Access Memory))を含む。また、プログラムは、様々なタイプの一時的なコンピュータ可読媒体(transitory computer readable medium)によってコンピュータに供給されてもよい。一時的なコンピュータ可読媒体の例は、電気信号、光信号、及び電磁波を含む。一時的なコンピュータ可読媒体は、電線及び光ファイバ等の有線通信路、又は無線通信路を介して、プログラムをコンピュータに供給できる。   The program may be stored using various types of non-transitory computer readable media and supplied to a computer. Non-transitory computer readable media include various types of tangible storage media. Examples of non-transitory computer-readable media include magnetic recording media (for example, flexible disks, magnetic tapes, hard disk drives), magneto-optical recording media (for example, magneto-optical disks), CD-ROMs (Read Only Memory), CD-Rs, CD-R / W, semiconductor memory (for example, mask ROM, PROM (Programmable ROM), EPROM (Erasable PROM), flash ROM, RAM (Random Access Memory)) are included. The program may also be supplied to the computer by various types of transitory computer readable media. Examples of transitory computer readable media include electrical signals, optical signals, and electromagnetic waves. The temporary computer-readable medium can supply the program to the computer via a wired communication path such as an electric wire and an optical fiber, or a wireless communication path.

実施の形態1
図1は、本実施の形態にかかる半導体集積回路1の概要を示す図である。本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、メモリとしてのSRAM(Static Random Access Memory)10と、BIST(Built In Self-Test)回路11と、Fuse回路12と、救済制御回路13と、救済情報保持ラッチ14とを有する。さらに、半導体集積回路1は、組み合わせ回路16と、セレクト回路17と、組み合わせ回路18と、スキャンFF19とを有する。
Embodiment 1
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a semiconductor integrated circuit 1 according to the present embodiment. The semiconductor integrated circuit 1 according to the present embodiment includes an SRAM (Static Random Access Memory) 10 as a memory, a BIST (Built In Self-Test) circuit 11, a Fuse circuit 12, a repair control circuit 13, and repair information. Holding latch 14. Further, the semiconductor integrated circuit 1 includes a combinational circuit 16, a selection circuit 17, a combinational circuit 18, and a scan FF 19.

SRAM10は、内部に通常セル22乃至25と、冗長セル26及び27を有し、通常セル22乃至25に欠陥があった場合、通常セルを冗長セル26又は27と切り替えるセレクト回路21及び28を有する、欠陥救済機構付きのSRAMである。   The SRAM 10 has normal cells 22 to 25 and redundant cells 26 and 27 therein, and has select circuits 21 and 28 for switching the normal cells to the redundant cells 26 or 27 when the normal cells 22 to 25 are defective. This is an SRAM with a defect relief mechanism.

BIST回路11は、SRAM10をテストするための回路である。   The BIST circuit 11 is a circuit for testing the SRAM 10.

Fuse回路12は、外部から提供された、SRAM10の欠陥救済のための情報を有し、当該欠陥救済情報を救済制御回路13に出力する。Fuse回路12は救済制御回路13に接続されている。   The fuse circuit 12 has information for defect repair of the SRAM 10 provided from the outside, and outputs the defect repair information to the repair control circuit 13. The Fuse circuit 12 is connected to the repair control circuit 13.

救済制御回路13は、Fuse回路12からSRAM10の欠陥救済情報を受け取る。そして、セレクト回路21又はセレクト回路28に冗長セルを選択させるための第1の制御信号であるセレクト信号を生成し、救済情報保持ラッチ14に出力する。   The repair control circuit 13 receives defect repair information of the SRAM 10 from the fuse circuit 12. Then, a select signal which is a first control signal for causing the select circuit 21 or the select circuit 28 to select a redundant cell is generated and output to the repair information holding latch 14.

救済情報保持ラッチ14は、スルーラッチであり、外部から入力される第2の制御信号であるスキャンモード信号33がイネーブルの場合は保持動作を行い、ディスエーブルの場合は、スルー論理となる。救済情報保持ラッチ14は、スキャンモード信号33がイネーブルの場合、救済制御回路13から出力されたセレクト信号をセレクト回路21及び28に出力する。   The relief information holding latch 14 is a through latch, and performs a holding operation when the scan mode signal 33 which is a second control signal input from the outside is enabled, and becomes through logic when disabled. The relief information holding latch 14 outputs the select signal output from the relief control circuit 13 to the select circuits 21 and 28 when the scan mode signal 33 is enabled.

救済制御回路13及び救済情報保持ラッチ14について、さらに詳細に説明する。図2は、救済制御回路13及び救済情報保持ラッチ14を示す図である。救済制御回路13は、救済制御レジスタ131乃至133と、救済情報演算回路134とを有する。   The relief control circuit 13 and the relief information holding latch 14 will be described in more detail. FIG. 2 is a diagram showing the relief control circuit 13 and the relief information holding latch 14. The relief control circuit 13 includes relief control registers 131 to 133 and a relief information calculation circuit 134.

救済制御レジスタ131乃至134は、Fuse回路12から受け取った欠陥救済情報を一時的に記憶する。また、救済制御レジスタ131乃至133は、スキャンFFで構成され、スキャンチェーン(図示せず)に接続されている。そのため、特に半導体集積回路1のスキャンテストと区別することなく、救済制御レジスタ131乃至134は、スキャンテストの対象とすることができる。   The relief control registers 131 to 134 temporarily store defect relief information received from the Fuse circuit 12. The relief control registers 131 to 133 are configured by scan FFs and are connected to a scan chain (not shown). Therefore, the relief control registers 131 to 134 can be targeted for the scan test without being particularly distinguished from the scan test of the semiconductor integrated circuit 1.

救済情報演算回路134は、救済制御レジスタ131乃至134から受け取った欠陥救済情報に基づき、セレクト信号を生成する。   The repair information calculation circuit 134 generates a select signal based on the defect repair information received from the repair control registers 131 to 134.

救済情報保持ラッチ14は、インバータ141と、ラッチ回路142乃至144とを有する。   The relief information holding latch 14 includes an inverter 141 and latch circuits 142 to 144.

インバータ141は、外部から入力されたスキャンモード信号33を反転してラッチ回路142乃至144に入力する。   The inverter 141 inverts the scan mode signal 33 input from the outside and inputs the inverted signal to the latch circuits 142 to 144.

ラッチ回路142乃至144は、スキャンモード信号33がイネーブルになったときのみ、保持動作を行い、ディスエーブル状態では、スルー論理となる。   The latch circuits 142 to 144 perform a holding operation only when the scan mode signal 33 is enabled, and become a through logic in the disabled state.

セレクト回路21及びセレクト回路28は、セレクト信号に基づき、通常セル22乃至25のうち欠陥のあるものを、冗長セル26又は27に置き換える。   The select circuit 21 and the select circuit 28 replace the defective one of the normal cells 22 to 25 with the redundant cell 26 or 27 based on the select signal.

図1に戻って、更に半導体集積回路1について説明する。半導体集積回路1は、SRAM10に接続された論理回路としてのスキャンFF15、組み合わせ回路16、セレクト回路17、組み合わせ回路18及びスキャンFF19を有する。   Returning to FIG. 1, the semiconductor integrated circuit 1 will be further described. The semiconductor integrated circuit 1 includes a scan FF 15 as a logic circuit connected to the SRAM 10, a combination circuit 16, a select circuit 17, a combination circuit 18, and a scan FF 19.

スキャンFF15及びスキャンFF19は、スキャンチェーン(図示せず)に接続されている。   The scan FF 15 and the scan FF 19 are connected to a scan chain (not shown).

セレクト回路17は、テスト制御信号30に基づいて、BIST回路11からの信号と、組み合わせ回路16からの信号とを切り替える。ここでテスト制御信号30は、LSIチップのスキャンモード信号33を接続するようにしてもよい。   The select circuit 17 switches between the signal from the BIST circuit 11 and the signal from the combinational circuit 16 based on the test control signal 30. Here, the test control signal 30 may be connected to the scan mode signal 33 of the LSI chip.

本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、救済情報保持ラッチ14を有し、救済情報保持ラッチ14は、スキャンモード信号33がイネーブル状態の際に救済制御回路13から出力されたセレクト信号を保持する。セレクト信号が救済情報保持ラッチ14において保持されている間は、救済制御回路13の動作に関わらず、SRAM10の欠陥救済をすることができる。   The semiconductor integrated circuit 1 according to the present embodiment has a relief information holding latch 14, and the relief information holding latch 14 holds a select signal output from the relief control circuit 13 when the scan mode signal 33 is enabled. To do. While the select signal is held in the repair information holding latch 14, the defect repair of the SRAM 10 can be performed regardless of the operation of the repair control circuit 13.

次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路1の動作について説明する。まず、Fuse回路12が、欠陥救済情報を救済制御回路13に出力する。読み出された欠陥救済情報は、Fuseデータ転送経路31を経由して、救済制御回路13の救済制御レジスタ131乃至133に転送される。   Next, the operation of the semiconductor integrated circuit 1 according to the present embodiment will be described. First, the fuse circuit 12 outputs defect repair information to the repair control circuit 13. The read defect repair information is transferred to the repair control registers 131 to 133 of the repair control circuit 13 via the fuse data transfer path 31.

転送された欠陥救済情報は、救済情報演算回路134にて計算され、セレクト信号32として、出力段にある救済情報保持ラッチ14のラッチ回路142乃至144を介し、SRAM回路10に出力される。この際、スキャンモード信号33は、ディスエーブル状態
"Lowレベル"であり、インバータ141により反転される。これにより、ラッチ回路142乃至144はスルー論理となる。
The transferred defect repair information is calculated by the repair information calculation circuit 134 and is output as the select signal 32 to the SRAM circuit 10 via the latch circuits 142 to 144 of the repair information holding latch 14 in the output stage. At this time, the scan mode signal 33 is disabled.
It is “Low level” and is inverted by the inverter 141. Thereby, the latch circuits 142 to 144 become through logic.

次に、セレクト信号32が、SRAM10のセレクト回路21又は28に到達した後、スキャンモード信号32を"High"(イネーブル状態)に切り替える。ここで、スキャンモード信号32は、半導体集積回路1のスキャンモード信号(図示せず)を用いても良い。これにより、救済情報保持ラッチ14において、セレクト信号34が保持される。   Next, after the select signal 32 reaches the select circuit 21 or 28 of the SRAM 10, the scan mode signal 32 is switched to "High" (enabled state). Here, the scan mode signal 32 may be a scan mode signal (not shown) of the semiconductor integrated circuit 1. As a result, the select signal 34 is held in the relief information holding latch 14.

次に、SRAM周辺論理を含んだRAMシーケンシャルテストを行う。テスト制御信号30を、組み合わせ回路16が常に選択されるように固定する。これにより、SRAM10へのアクセステストが可能となる。   Next, a RAM sequential test including SRAM peripheral logic is performed. The test control signal 30 is fixed so that the combinational circuit 16 is always selected. Thereby, an access test to the SRAM 10 becomes possible.

次に、スキャンチェーン(図示せず)を通じて、スキャンFF15に設定したテストデータを、組み合わせ回路16を介し、SRAM10に書き込む。SRAM10に書き込まれたデータを読出し、SRAM10の後段の組み合わせ回路18を介して、スキャンFF19でキャプチャし、スキャンチェーンを通して出力する。   Next, the test data set in the scan FF 15 is written into the SRAM 10 via the combination circuit 16 through a scan chain (not shown). Data written in the SRAM 10 is read, captured by the scan FF 19 via the combinational circuit 18 at the subsequent stage of the SRAM 10, and output through the scan chain.

この時、セレクト信号34は、ラッチ回路142乃至144で保持状態にあり、SRAM10の欠陥セルにアクセスすることなくテストを行うことが可能となる。   At this time, the select signal 34 is held in the latch circuits 142 to 144, and the test can be performed without accessing the defective cell of the SRAM 10.

本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、スキャンモード信号33により、救済情報保持ラッチ14で、セレクト信号34の保持が制御可能である。そして、スキャンモード信号33がディスエーブル状態の際は、所望の欠陥救済情報を、Fuse回路12から、Fuseデータ転送経路31を介して、救済制御レジスタ131乃至133、及び救済情報演算回路134に転送可能である。そして、当該演算結果であるセレクト信号34を救済情報保持ラッチ14に出力させることができる。   In the semiconductor integrated circuit 1 according to the present embodiment, the retention of the select signal 34 can be controlled by the relief information holding latch 14 by the scan mode signal 33. When the scan mode signal 33 is disabled, desired defect repair information is transferred from the fuse circuit 12 to the repair control registers 131 to 133 and the repair information calculation circuit 134 via the fuse data transfer path 31. Is possible. Then, the select signal 34 as the calculation result can be output to the relief information holding latch 14.

手順にて出力したセレクト信号34は、SRAM10の欠陥セルを、正常セルに置換するために必要な情報である。手順を踏んだ後で、スキャンモード信号33をイネーブルにすることで、セレクト信号34は救済情報保持ラッチ14にて保持される。一旦、保持された後では、救済制御回路13の救済制御レジスタ131乃至133及び134に任意の値を上書きしても、SRAM10に対するセレクト信号34は失われない。これにより、RAMシーケンシャルテストで、欠陥セルをアクセスすることはなくなり、さらには、救済制御レジスタも、同時にスキャンテストの対象とすることが可能となる。   The select signal 34 output in the procedure is information necessary for replacing a defective cell of the SRAM 10 with a normal cell. After the steps are taken, the select signal 34 is held in the relief information holding latch 14 by enabling the scan mode signal 33. Once held, the select signal 34 for the SRAM 10 is not lost even if an arbitrary value is overwritten in the relief control registers 131 to 133 and 134 of the relief control circuit 13. As a result, the defective cell is not accessed in the RAM sequential test, and the relief control register can be simultaneously subjected to the scan test.

実施の形態2
次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路2について説明する。実施の形態1と本実施の形態とでは、ラッチ回路142乃至144の制御を行う、第1の論理回路としてのNAND回路36と、ラッチ回路142乃至144の出力段に接続された観測部39とを有する点が異なる。図3は、本実施の形態にかかる半導体集積回路2の部分を示す図である。
Embodiment 2
Next, the semiconductor integrated circuit 2 according to the present embodiment will be described. In the first embodiment and the present embodiment, the NAND circuit 36 as the first logic circuit that controls the latch circuits 142 to 144, and the observation unit 39 connected to the output stage of the latch circuits 142 to 144, Is different. FIG. 3 is a diagram showing a portion of the semiconductor integrated circuit 2 according to the present embodiment.

NAND回路36は、スキャンモード信号33と、RAMシーケンシャルモード信号35とを入力され、保持制御信号37を生成する。   The NAND circuit 36 receives the scan mode signal 33 and the RAM sequential mode signal 35 and generates a holding control signal 37.

シーケンシャル信号35はRAMシーケンシャルテストを実施するか否かを決定するためのモード信号であり、スキャンモード信号とは別に設ける。ラッチ回路142乃至144は、NAND回路36で生成された保持制御信号37がHighの場合、スルー論理となり、Lowの場合は保持動作を行う。よって、スキャンモード信号33がHighで、かつ、シーケンシャルモード信号35がHighの場合のみ、ラッチ回路142乃至144は、保持動作を行う。   The sequential signal 35 is a mode signal for determining whether or not to execute the RAM sequential test, and is provided separately from the scan mode signal. The latch circuits 142 to 144 are through logic when the holding control signal 37 generated by the NAND circuit 36 is High, and perform a holding operation when the holding control signal 37 is Low. Therefore, the latch circuits 142 to 144 perform the holding operation only when the scan mode signal 33 is High and the sequential mode signal 35 is High.

AND回路38は、保持制御信号37とセレクト信号34とを入力され、当該二つの信号のAND論理をとり、観測部39に出力する。   The AND circuit 38 receives the holding control signal 37 and the select signal 34, takes an AND logic of the two signals, and outputs it to the observation unit 39.

観測部39は、スキャンFFで構成され、AND回路38を介して入力される信号を観測する。   The observation unit 39 includes a scan FF and observes a signal input via the AND circuit 38.

次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路2の動作について説明する。Fuse回路12の欠陥救済情報の出力から、セレクト信号34がラッチ回路142乃至144を介してSRAM10に出力されるまでの動作は実施の形態1と同様であるため、ここでは省略する。   Next, the operation of the semiconductor integrated circuit 2 according to the present embodiment will be described. Since the operation from the output of defect repair information of the Fuse circuit 12 to the output of the select signal 34 to the SRAM 10 via the latch circuits 142 to 144 is the same as that of the first embodiment, it is omitted here.

セレクト信号34がSRAM10に到達した後、スキャンモード信号33と、スキャンモード信号33とをイネーブルとし、保持制御信号37を"High"に切り替える。おして、ラッチ回路142乃至144に保持制御信号37を保持させる。   After the select signal 34 reaches the SRAM 10, the scan mode signal 33 and the scan mode signal 33 are enabled, and the holding control signal 37 is switched to “High”. Then, the holding control signal 37 is held in the latch circuits 142 to 144.

この場合には、観測部39は、AND回路38により、"Low"状態に固定される。この固定制御により、半導体集積回路ごとに異なる欠陥救済情報を、観測部39でキャプチャすることを防ぐことができる。言い換えれば、欠陥救済情報は、チップ毎に異なり、その情報に対応した期待値をテストベクタ上に作りこむことは困難であるが、この固定制御は、それを防止するためのマスク手段となる。   In this case, the observation unit 39 is fixed to the “Low” state by the AND circuit 38. By this fixed control, it is possible to prevent the observation unit 39 from capturing different defect relief information for each semiconductor integrated circuit. In other words, the defect relief information differs for each chip, and it is difficult to create an expected value corresponding to the information on the test vector, but this fixed control serves as a mask means for preventing it.

またこの場合、実施の形態1と同様の動作となり、救済情報演算回路134及び救済制御レジスタ131乃至救済制御レジスタ133のスキャンテストが可能となる。そしてこの際、SRAM回路10に対するRAMシーケンシャルテストの併用が可能である。   In this case, the operation is the same as that of the first embodiment, and the scan test of the repair information calculation circuit 134 and the repair control registers 131 to 133 can be performed. At this time, a RAM sequential test for the SRAM circuit 10 can be used together.

次に、観測部39を用いて救済制御回路13および救済情報保持ラッチ14の故障検出を行う際の動作について説明する。   Next, an operation when the failure detection of the repair control circuit 13 and the repair information holding latch 14 is performed using the observation unit 39 will be described.

この場合も、セレクト信号34がSRAM10に到達した時点から説明を行う。まず、スキャンモード信号33のみをイネーブル"High"にし、シーケンシャルモード信号35をディスエーブル状態"Low"とする。これにより、保持制御信号37はHighとなり、ラッチ回路142乃至144はスルー論理を維持する。同時に、救済制御レジスタ13も、任意の動作を行うことから、RAMシーケンシャルテストは実行不能となる。   Also in this case, the description will be made from the time when the select signal 34 reaches the SRAM 10. First, only the scan mode signal 33 is enabled “High”, and the sequential mode signal 35 is disabled “Low”. As a result, the holding control signal 37 becomes High, and the latch circuits 142 to 144 maintain the through logic. At the same time, the relief control register 13 also performs an arbitrary operation, so that the RAM sequential test cannot be executed.

一方、ラッチ回路142乃至144の後段に配置したAND回路38の固定制御がはずれる。これによりラッチ回路142乃至144の出力信号が観測部39に取り込まれる。   On the other hand, the fixed control of the AND circuit 38 arranged at the subsequent stage of the latch circuits 142 to 144 is removed. As a result, the output signals of the latch circuits 142 to 144 are taken into the observation unit 39.

これにより、セレクト信号34は保持されず、救済制御レジスタ132にシフトインした所望の値を使って、救済情報演算回路134、及びラッチ回路142乃至144のテストが可能となる。   As a result, the select signal 34 is not held, and the repair information calculation circuit 134 and the latch circuits 142 to 144 can be tested using a desired value shifted into the repair control register 132.

本実施の形態にかかる半導体集積回路2は、実施の形態1では検出不能であった、ラッチ回路142乃至144の故障検出ができる。また、実施の形態1では、故障検出が不可能な部分が残されていた、救済情報演算回路の故障検出が可能となる。さらに、スキャンモード信号33及びシーケンシャル信号35を制御することにより、実施の形態1で示したように、RAMシーケンシャルテストの実現も可能である。   The semiconductor integrated circuit 2 according to the present embodiment can detect a failure of the latch circuits 142 to 144 that cannot be detected in the first embodiment. Further, in the first embodiment, it is possible to detect a failure of the repair information calculation circuit, in which a portion where failure detection is impossible is left. Further, by controlling the scan mode signal 33 and the sequential signal 35, a RAM sequential test can be realized as shown in the first embodiment.

本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、欠陥救済回路を持つメモリ回路において、その救済情報をスキャンテスト中に保持可能にすることにより、欠陥を救済した状態でのRAMシーケンシャルテストが可能である。これにより、RAM及びRAM周辺ロジック間のテストを、スキャンテストにて実現することができる。   In the semiconductor integrated circuit 1 according to the present embodiment, in a memory circuit having a defect relief circuit, the relief information can be held during a scan test, so that a RAM sequential test in a state where the defect is relieved is possible. . Thereby, the test between the RAM and the RAM peripheral logic can be realized by the scan test.

また、RAMシーケンシャル動作時のみ、保持する機構を有効にすることで、保持回路を含めた、欠陥救済回路自身のテストをスキャンテストにて実現することが可能となる。   Also, by enabling the holding mechanism only during the RAM sequential operation, it becomes possible to realize a test of the defect relief circuit itself including the holding circuit by a scan test.

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

1 半導体集積回路
2 半導体集積回路
10 SRAM
11 BIST回路
12 Fuse回路
13 救済制御回路
14 救済情報保持ラッチ
15 スキャンFF
16 組み合わせ回路
17 セレクト回路
18 組み合わせ回路
19 スキャンFF
21 セレクト回路
22 通常セル
23 通常セル
24 通常セル
25 通常セル
26 冗長セル
27 冗長セル
28 セレクト回路
30 テスト制御信号
31 Fuseデータ転送経路
32 セレクト信号
33 スキャンモード信号
34 セレクト信号
35 シーケンシャル信号
36 NAND回路
37 保持制御信号
38 AND回路
39 観測部
131 救済制御レジスタ
132 救済制御レジスタ
133 救済制御レジスタ
134 救済情報演算回路
141 インバータ
142 ラッチ回路
143 ラッチ回路
144 ラッチ回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor integrated circuit 2 Semiconductor integrated circuit 10 SRAM
11 BIST circuit 12 Fuse circuit 13 Relief control circuit 14 Relief information holding latch 15 Scan FF
16 Combination circuit 17 Select circuit 18 Combination circuit 19 Scan FF
DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 Select circuit 22 Normal cell 23 Normal cell 24 Normal cell 25 Normal cell 26 Redundant cell 27 Redundant cell 28 Select circuit 30 Test control signal 31 Fuse data transfer path 32 Select signal 33 Scan mode signal 34 Select signal 35 Sequential signal 36 NAND circuit 37 Holding control signal 38 AND circuit 39 Observation unit 131 Relief control register 132 Relief control register 133 Relief control register 134 Relief information calculation circuit 141 Inverter 142 Latch circuit 143 Latch circuit 144 Latch circuit

Claims (7)

メモリセル及び冗長セルと、前記メモリセルに欠陥があった場合に前記冗長セルを選択するセレクタとを有するメモリと、
外部からの情報に基づき前記セレクタに前記冗長セルを選択させる第1の制御信号を生成する救済制御回路と、
前記救済制御回路の前記第1の制御信号をラッチする救済情報保持ラッチと、を有し
前記救済情報保持ラッチは、第2の制御信号に応じて前記救済制御回路が生成した前記第1の制御信号をラッチする、半導体集積回路。
A memory having a memory cell and a redundant cell, and a selector for selecting the redundant cell when the memory cell is defective;
A relief control circuit for generating a first control signal for causing the selector to select the redundant cell based on information from outside;
A relief information holding latch for latching the first control signal of the relief control circuit, wherein the relief information holding latch is the first control generated by the relief control circuit in response to a second control signal. A semiconductor integrated circuit that latches signals.
前記第2の制御信号は、スキャンモード信号である、請求項1記載の半導体集積回路。   The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the second control signal is a scan mode signal. 前記メモリをテストするメモリテスト回路と、
前記メモリの周囲に配置される組合せ回路と、
前記組合せ回路をスキャンテストするスキャンチェーンとを有し、
前記救済制御回路は、前記スキャンチェーンに接続され、
前記第2の制御信号に応じて前記救済情報保持ラッチが前記第1の制御信号をラッチした後、前記スキャンチェーン及び前記メモリを使用して前記救済制御回路及び組合せ回路をテストする、請求項1又は2記載の半導体集積回路。
A memory test circuit for testing the memory;
A combinational circuit disposed around the memory;
A scan chain that scan-tests the combinational circuit,
The relief control circuit is connected to the scan chain,
2. The repair control circuit and the combinational circuit are tested using the scan chain and the memory after the repair information holding latch latches the first control signal in response to the second control signal. Or the semiconductor integrated circuit of 2.
前記第2の制御信号と第3の制御信号に基づき前記救済情報保持ラッチのラッチ信号を生成する第1の論理回路と、
前記救済情報保持ラッチがラッチしたデータを観測するための観測部と、
前記ラッチ信号と前記第1の制御信号とに基づき前記観測部にデータを取り込むか否かを決定する第4の制御信号を生成する第2の論理回路とを有し、
前記第1の論理回路により前記ラッチ信号を非アクティブにし、前記第2の論理回路の前記第4の制御信号により前記観測部にデータを取り込む、請求項1乃至3のいずれか1項記載の半導体集積回路。
A first logic circuit for generating a latch signal of the relief information holding latch based on the second control signal and the third control signal;
An observation unit for observing data latched by the relief information holding latch;
A second logic circuit for generating a fourth control signal for determining whether to take data into the observation unit based on the latch signal and the first control signal;
4. The semiconductor according to claim 1, wherein the latch signal is deactivated by the first logic circuit, and data is taken into the observation unit by the fourth control signal of the second logic circuit. 5. Integrated circuit.
メモリセル及び冗長セルと、前記メモリセルに欠陥があった場合に前記冗長セルを選択するセレクタとを有するメモリの、前記セレクタを制御する第1の制御信号を救済制御回路により生成し、
救済情報保持ラッチは、入力される第2の制御信号に応じて前記救済制御回路が生成した前記第1の制御信号をラッチし、
前記メモリの周囲に配置される組合せ回路及び前記救済制御回路を、前記救済制御回路及び前記組合せ回路をスキャンテストするスキャンチェーン及び前記メモリをテストするメモリテスト回路によりテストする
半導体集積回路のテスト方法。
Generating a first control signal for controlling the selector of a memory having a memory cell and a redundant cell, and a selector for selecting the redundant cell when the memory cell is defective;
The relief information holding latch latches the first control signal generated by the relief control circuit in response to the input second control signal,
A test method for a semiconductor integrated circuit, wherein the combinational circuit and the relief control circuit arranged around the memory are tested by a scan chain for performing a scan test on the relief control circuit and the combinational circuit and a memory test circuit for testing the memory.
前記第2の制御信号は、スキャンモード信号である、請求項5記載の半導体集積回路のテスト方法。   6. The method of testing a semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein the second control signal is a scan mode signal. 第1の論理回路により前記第2の制御信号と第3の制御信号に基づき前記救済情報保持ラッチのラッチ信号を生成し、
第2の論理回路により前記ラッチ信号と前記第1の制御信号とに基づき前記観測部にデータを取り込むか否かを決定する第4の制御信号を生成し、
前記第1の論理回路により前記ラッチ信号を非アクティブにし、前記第2の論理回路の前記第4の制御信号により、前記救済情報保持ラッチがラッチしたデータを観測するための観測部にデータを取り込ませる請求項5又は6項記載の半導体集積回路のテスト方法。
Generating a latch signal of the relief information holding latch based on the second control signal and the third control signal by a first logic circuit;
A second logic circuit for generating a fourth control signal for deciding whether to take data into the observation unit based on the latch signal and the first control signal;
The latch signal is deactivated by the first logic circuit, and data is taken into an observation unit for observing the data latched by the relief information holding latch by the fourth control signal of the second logic circuit. A method for testing a semiconductor integrated circuit according to claim 5 or 6.
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