JP2011509516A - 空間位相フィーチャ・ロケーション - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、その両方が参照によって本明細書に組み込まれている、2007年12月5日に出願した米国仮出願第60/992416号の、米国特許法第119(e)(1)条の下での利益を主張するものである。
strip=avg(r:r+w,c:c+h) (式1)
を提供することによってつぶすことができ、ここで、イメージ・フレームが、Wピクセル幅およびHピクセル高さであり、ロケータ・マーク76が、wピクセル幅およびhピクセル高さなので、
c=1からW−wまで (式2)
r=1からH−hまで (式3)
である。ステップ108で、第N離散フーリエ変換(dft)を、
fc=dft(strip,N) (式4)
によって決定することができる。ステップ110で、フーリエ係数の大きさを
m(r,c)=abs(fc) (式5)
によって決定することができる。一般に、フーリエ係数の大きさの最大値mmaxは、当初は0である。ステップ112で、この値を、m(r,c)がmmaxより大きいかどうかを決定することによって継続的に更新することができる。m(r,c)がmmaxより大きい場合には、mmax=m(r,c)である。ステップ114で、フーリエ係数の位相を、
p(r,c)=angle(fc) (式6)
によって決定する。ステップ116で、大きさ(たとえば、c=1からW−wまで、r=1からH−hまで、およびm(r,c))を、0と1との間に正規化することができる。ステップ118で、位相値(たとえば、c=1からW−wまで、r=1からH−hまで、p(r,c))を、0と1との間に正規化することができる。ステップ120で、目的関数を使用して、正規化された大きさおよび位相値に基づいてロケータ・マーク76を識別することができる。たとえば、ロケータ・マーク76を、ピクセル・ロケーション(mr,mc)が一般にロケータ・マーク76のロケーションであり、mr=rかつmc=cになるように、
(m(r,c)+p(r,c))>mmax (式7)
を決定することによって識別することができる。
col=イメージからの列c (式8)
fc=dft(col,m) (式9)
strip(c)+=abs(fc) (式10)
によって決定することができ、ここで、
binMax=round(H/Np)+1 (式11)
strip(1:W)=0 (式12)
for m=binMax−4からbinMax+4まで
であり、Npは、その周期性の方向(たとえば、図5Dの垂直方向)に沿ったロケータ・マーク76のピクセル周期の個数である。
mc=cmax (式13)
として決定することができる。
16 ステージ; 18 テンプレート; 20 モールド;
22 パターニング表面; 28 チャック; 30 インプリント・ヘッド;
32 流体ディスペンス・システム; 34 重合可能材料34;
38 エネルギ源; 40 エネルギ; 42 経路; 44 表面;
46 パターニングされた層; 50 突起; 54 プロセッサ。
Claims (21)
- モールド、複数のアラインメント・マーク、および複数のロケータ・マークを有するテンプレートを、リソグラフィ・システム内で基板に位置合わせする方法であって、
前記リソグラフィ・システムには、複数の調整可能なアラインメント測定ユニットを有するアラインメント・システムが含まれ、そのリソグラフィ・システム内でテンプレートを位置決めすることと、
少なくとも1つのアラインメント測定ユニットによって、イメージ・フレームを提供することと、
前記提供されるイメージ・フレーム内で少なくとも1つのテンプレート・アラインメント・マークおよび1つのテンプレート・ロケータ・マークを提供するために前記アラインメント測定ユニットを調整することと、
基板がテンプレートと重ね合わされるように、リソグラフィ・システム内で基板を位置決めすることと、
テンプレート・アラインメント・マークのロケーションを提供するために前記イメージ・フレーム内のロケータ・マークのロケーションを決定することと、
テンプレート・アラインメント・マークを使用してテンプレートを基板に位置合わせすることと
を含む、方法。 - 前記イメージ・フレーム内のロケータ・マークのロケーションを決定することは、周期性の方向でロケータ・マークのロケーションを決定することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記周期性の方向でロケータ・マークのロケーションを決定することは、ロケータ・マークとロケータ・マークから入手された1次元強度マップとの間の相互相関関数を最大にすることを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記イメージ・フレーム内のロケータ・マークのロケーションを決定することは、
ロケータ・マークの水平位置を識別することと、
ロケータ・マークの垂直位置を識別することと
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記イメージ・フレーム内のロケータ・マークのロケーションを決定することは、イメージ・フレーム内のロケータ・マークのピクセル・ロケーションを決定することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記提供されるイメージ・フレーム内で少なくとも1つのテンプレート・アラインメント・マークおよび1つのテンプレート・ロケータ・マークを提供するために前記アラインメント測定ユニットを調整することは、リソグラフィ・システム内に基板を位置決めする前に行われる、請求項1に記載の方法。
- テンプレートと基板との間で重合可能材料を位置決めすることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 重合可能材料を固体化することをさらに含む、請求項7に記載の方法。
- 前記イメージ・フレーム内のロケータ・マークのロケーションを決定することは、テンプレート・アラインメント・マークのエッジのロケーションを提供する、請求項1に記載の方法。
- テンプレート・アラインメント・マークのロケーションを提供するために前記イメージ・フレーム内のロケータ・マークのロケーションを決定することは、リソグラフィ・システム内の基板の位置決めの前に発生する、請求項1に記載の方法。
- テンプレート上のアラインメント・マークを突き止める方法であって、前記テンプレートは、前記アラインメント・マークに隣接する複数のロケータ・マークを有しており、
複数の調整可能なアラインメント測定ユニットを有するアラインメント・システムを含むリソグラフィ・システム内で、テンプレートを位置決めすることと、
少なくとも1つのアラインメント測定ユニットによって、イメージ・フレームを提供することと、
前記提供されるイメージ・フレーム内で少なくとも1つのテンプレート・アラインメント・マークおよび少なくとも1つのテンプレート・ロケータ・マークを提供するために前記アラインメント測定ユニットを調整することと、
テンプレート・アラインメント・マークの相対ロケーションを提供するために前記イメージ・フレーム内のテンプレート・ロケータ・マークのロケーションを決定することと
を含む、方法。 - 前記イメージ・フレーム内のテンプレート・ロケータ・マークのロケーションを決定することは、テンプレート・ロケータ・マークのピクセル・ロケーションを決定することを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記イメージ・フレーム内のテンプレート・ロケータ・マークのロケーションを決定することは、周期性の方向でテンプレート・ロケータ・マークのロケーションを決定することを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記周期性の方向でテンプレート・ロケータ・マークのロケーションを決定することは、テンプレート・ロケータ・マークとテンプレート・ロケータ・マークから入手された1次元強度マップとの間の相互相関関数を最大にすることを含む、請求項10に記載の方法。
- リソグラフィ・システム内に基板をロードすることであって、テンプレートは、基板に重ね合わされる、ロードすること
をさらに含み、テンプレート・アラインメント・マークの相対ロケーションを提供するために前記イメージ・フレーム内のテンプレート・ロケータ・マークのロケーションを決定することは、リソグラフィ・システム内の基板のロードの前に予測されたモアレじまの相対ロケーションを提供する
請求項10に記載の方法。 - 前記テンプレートは、インプリント・テンプレートである、請求項10に記載の方法。
- リソグラフィ・システム内でテンプレートを基板に位置合わせする方法であって、前記基板は、複数のアラインメント・マークおよび複数のロケータ・マークを有しており、
複数の調整可能なアラインメント測定ユニットを有するアラインメント・システムを含むリソグラフィ・システム内で、テンプレートを位置決めすることと、
少なくとも1つのアラインメント測定ユニットによって、イメージ・フレームを提供することと、
前記提供されるイメージ・フレーム内で少なくとも1つのテンプレート・アラインメント・マークおよび1つのテンプレート・ロケータ・マークを提供するために前記アラインメント測定ユニットを調整することと、
インプリント・テンプレートが基板と重ね合わされるように、リソグラフィ・システム内で基板を位置決めすることであって、前記基板は、複数の基板アラインメント・マークを有する、位置決めすることと、
前記提供されるイメージ・フレーム内のテンプレートのロケータ・マークのロケーションを決定することと、
前記提供されるイメージ・フレーム内のロケータ・マークのロケーションを使用して、少なくとも1つのテンプレート・アラインメント・マークに対する少なくとも1つの基板アラインメント・マークの相対変位の大きさを決定することと、
相対変位の大きさを実質的になくすために基板を調整することと、
テンプレート・アラインメント・マークおよび基板アラインメント・マークを使用してテンプレートを基板に位置合わせすることと
を含む、方法。 - 前記イメージ・フレーム内のロケータ・マークのロケーションを決定することは、周期性の方向でロケータ・マークのロケーションを決定することを含む、請求項17に記載の方法。
- 前記周期性の方向でロケータ・マークのロケーションを決定することは、ロケータ・マークとロケータ・マップから入手された1次元強度マップとの間の相互相関関数を最大にすることを含む、請求項18に記載の方法。
- テンプレートと基板との間で重合可能材料を位置決めすることをさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 重合可能材料を固体化することをさらに含む、請求項20に記載の方法。
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