JP2011508718A - Chlorine dioxide production equipment - Google Patents

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Abstract

本発明は、二酸化塩素の製造装置を提供する。本発明は、二酸化塩素製造に必要な原料薬品をソレノイドバルブを利用して定量的に投入することにおいて、流量計や定量ポンプを使わずに反応槽の内部を減圧状態とし、必要な薬品が外部貯蔵容器から反応槽の内部に管を通じて必要な量だけ投入されるようにする二酸化塩素の製造装置を提供する。  The present invention provides an apparatus for producing chlorine dioxide. In the present invention, when the raw material chemicals necessary for chlorine dioxide production are quantitatively charged using a solenoid valve, the inside of the reaction tank is decompressed without using a flow meter or a metering pump, and the necessary chemicals are externally supplied. An apparatus for producing chlorine dioxide is provided which allows a necessary amount to be introduced from a storage container into a reaction vessel through a pipe.

Description

本発明は二酸化塩素を製造する装置に関する。   The present invention relates to an apparatus for producing chlorine dioxide.

二酸化塩素は、1811年Humphrey Daryによって発見された。二酸化塩素は、氷点が−59℃、沸点が11℃であり、常温で緑黄色を帯びる気体である。ちょっと塩素のにおいがし、水とエーテルなどに容易に解ける。   Chlorine dioxide was discovered in 1811 by Humphrey Dary. Chlorine dioxide has a freezing point of −59 ° C. and a boiling point of 11 ° C., and is a greenish yellow gas at room temperature. It smells a little chlorine and can be easily dissolved in water and ether.

二酸化塩素は、貯蔵時に徐々に分解されて亜塩素酸、塩素酸、塩素イオンなどに変換され、強力な酸化力(酸化状態:+4)によって殺菌効果を有する。   Chlorine dioxide is gradually decomposed during storage and converted into chlorous acid, chloric acid, chlorine ions, etc., and has a bactericidal effect due to its strong oxidizing power (oxidation state: +4).

このような二酸化塩素の長所では、有機物を酸化させず、特に発癌物質であるトリハロメタン(trihalomethane、THM)、HAAs(haloaceticacids)、HAN(Haloacetonitrile)及びその他塩素化有機化合物を生成しないことにある。また、広いpH範囲で殺菌効能を維持する。その他にも副産物による発癌物質などの生成がなく、且つ光によって容易に分解される環境親和的特性により塩素系消毒剤の代替薬品として活用度が急速に拡がっている物質である。   Such an advantage of chlorine dioxide is that it does not oxidize organic substances, and in particular does not produce carcinogens such as trihalomethane (THM), HAAs (haloaceticacids), HAN (Haloacetonitol) and other chlorinated organic compounds. Moreover, bactericidal efficacy is maintained in a wide pH range. In addition, there is no generation of carcinogenic substances by by-products, and it is a substance that is rapidly expanding in its use as an alternative to chlorinated disinfectants due to its environmentally friendly properties that are easily decomposed by light.

このような特性を利用して1944年ナイアガラの瀧(米国、ニューヨーク州)の水処里施設に最初適用され、現在米国900余所を含めてヨーロッパなどの数千所に殺菌消毒剤として使用されている。   Utilizing these characteristics, it was first applied to a water treatment facility in the Niagara Pass (New York, USA) in 1944, and is currently used as a disinfectant in thousands of places in Europe, including over 900 places in the United States. ing.

我が国では、殺菌消毒剤として使用(1ppm以下)されており、また野菜、果物などの食品の殺菌用途として使用可能である。   In Japan, it is used as a disinfectant (1 ppm or less) and can be used for sterilization of foods such as vegetables and fruits.

しかし、二酸化塩素は、経時変化が大きく、且つ製法が複雑であり、保管及び分析が容易ではない。また、一日数百トンずつ大量製造するためには、酸性の液体状で出発物質である塩素酸塩を下記の化学式1乃至化学式3のような方法により亜硫酸、塩酸、または過酸化水素に還元して発生させなければならないが、このような大規模製造方法は、巨大な設備が要求されるので、漂白工程以外の普通の場合は、応用し難い。   However, chlorine dioxide has a large change over time, and its manufacturing method is complicated, so that storage and analysis are not easy. In addition, in order to mass-produce several hundred tons per day, an acidic liquid starting material chlorate is reduced to sulfurous acid, hydrochloric acid, or hydrogen peroxide by a method such as the following chemical formulas 1 to 3. However, since such a large-scale manufacturing method requires a large facility, it is difficult to apply in a general case other than the bleaching step.

(式1)
2NaClO+HSO→2ClO+NaSO+H
(Formula 1)
2NaClO 3 + H 2 SO 3 → 2ClO 2 + Na 2 SO 4 + H 2 O

(式2)
2NaClO+4HCl→2ClO+2NaCl+Cl+2H
(Formula 2)
2NaClO 3 + 4HCl → 2ClO 2 + 2NaCl + Cl 2 + 2H 2 O

(式3)
2NaClO+H+2HCl→2ClO+2NaCl+O+2H
(Formula 3)
2NaClO 3 + H 2 O 2 + 2HCl → 2ClO 2 + 2NaCl + O 2 + 2H 2 O

その他にも上述の二酸化塩素は常温で不安定であるので、現場で使用直前に製造しなければならず、且つ運送及び流通に多い制約がある。   In addition, since the above-mentioned chlorine dioxide is unstable at room temperature, it must be manufactured on site immediately before use, and there are many restrictions on transportation and distribution.

したがって、二酸化塩素水を純粋に、亜塩素酸(ClO )、塩素酸(ClO )及びそれらの塩などが含有されない方法で簡単に製造することは、二酸化塩素水を食品などに使用することにおいて必須条件である。 Therefore, it is easy to produce chlorine dioxide water purely by a method that does not contain chlorous acid (ClO 2 ), chloric acid (ClO 3 ), and salts thereof. It is a prerequisite for doing.

特開平7−300202号公報JP-A-7-300202

上述の問題点を解決するために、本発明の目的は、亜塩素酸、塩素酸及びそれらの塩などが含有されない純粋な二酸化塩素気体を定量的に発生させることができる装置を提供することにある。   In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide an apparatus capable of quantitatively generating pure chlorine dioxide gas that does not contain chlorous acid, chloric acid, and salts thereof. is there.

また、本発明の他の目的は、短時間に高濃度の二酸化塩素気体を発生させることができ、前記高濃度の二酸化塩素が発生しても、爆発の危険なしに安全な二酸化塩素気体発生装置を提供することにある。   Another object of the present invention is to generate a high concentration of chlorine dioxide gas in a short time, and even if the high concentration of chlorine dioxide is generated, the chlorine dioxide gas generator is safe without risk of explosion. Is to provide.

上述の課題を解決するために、本発明に係る二酸化塩素気体発生装置は、二酸化塩素発生反応が発生する反応槽と、前記反応槽を第1領域と第2領域に分ける多孔性硝子フィルタ層とを含む。   In order to solve the above-described problems, a chlorine dioxide gas generator according to the present invention includes a reaction vessel in which a chlorine dioxide generation reaction occurs, a porous glass filter layer that divides the reaction vessel into a first region and a second region, including.

前記反応槽の第1領域には、前記反応槽に塩素気体及び非活性気体を供給する少なくとも1つの気体供給部が連結される。   The first region of the reaction tank is connected to at least one gas supply unit that supplies chlorine gas and an inert gas to the reaction tank.

前記反応槽の第2領域には、前記反応槽に次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、または酸を供給する少なくとも1つの原料供給部が連結される。   The second region of the reaction tank is connected to at least one raw material supply unit that supplies hypochlorite, chlorite, or acid to the reaction tank.

前記反応槽の前記第1領域、または第2領域のうちの少なくともいずれか1つには、前記第1領域より前記第2領域の圧力を小さくする圧力調節部が連結される。   A pressure adjusting unit that makes the pressure in the second region smaller than the first region is connected to at least one of the first region and the second region of the reaction vessel.

前記反応槽の第2領域には、排出口が連結され、前記反応槽で生成された二酸化塩素気体は、前記反応槽に連結された前記排出口を通じて排出される。前記多孔性硝子フィルタ層の空隙の大きさは、10ミクロン乃至100ミクロンであり得る。   A discharge port is connected to the second region of the reaction tank, and chlorine dioxide gas generated in the reaction tank is discharged through the discharge port connected to the reaction tank. The pore size of the porous glass filter layer may be 10 to 100 microns.

前記圧力調節部は、前記第1領域に連結され、前記第1領域を加圧する圧力ポンプであるか、または前記第2領域に連結され、前記第2領域を減圧させる減圧器、または真空ポンプであり得る。   The pressure adjusting unit is a pressure pump that is connected to the first region and pressurizes the first region, or a pressure reducer that is connected to the second region and depressurizes the second region, or a vacuum pump. possible.

前記圧力調節部が減圧器の場合、前記減圧器は、減圧水、または減圧気体を利用するアスピレータであり、前記二酸化塩素が前記アスピレータを通過する前記減圧水に吸収されるか、または減圧気体に混合する。   When the pressure adjusting unit is a decompressor, the decompressor is an aspirator using decompressed water or decompressed gas, and the chlorine dioxide is absorbed in the decompressed water passing through the aspirator or is converted into a decompressed gas. Mix.

前記非活性気体は窒素気体、炭酸気体、及び空気のうちの少なくともいずれか1つであり得る。   The inactive gas may be at least one of nitrogen gas, carbon dioxide gas, and air.

本発明に係る二酸化塩素製造装置において、前記原料供給部は、ソレノイドバルブを通じて連結されることができる。前記ソレノイドバルブは、制御部により制御される。前記制御部は、前記ソレノイドバルブを制御し、前記次亜塩素酸、亜塩素酸、または酸の供給量を調節することができる。   In the chlorine dioxide manufacturing apparatus according to the present invention, the raw material supply unit may be connected through a solenoid valve. The solenoid valve is controlled by a control unit. The controller may control the solenoid valve to adjust the amount of hypochlorous acid, chlorous acid, or acid supplied.

本発明に係る二酸化塩素製造装置には、前記反応槽内部の圧力を感知する圧力感知部が具備されることができる。前記圧力感知部の信号は、前記制御部に伝達される。   The chlorine dioxide production apparatus according to the present invention may include a pressure sensing unit that senses the pressure inside the reaction vessel. The signal of the pressure sensing unit is transmitted to the control unit.

前記排出口には、吸着塔が連結されることができる。前記吸着塔は、前記非活性気体と生成された二酸化塩素とを溶解する有機溶媒及び吸着物質を含む。前記有機溶媒ではn−ヘクサン、メチレンクロライド、エチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、石油エーテルのうちのいずれか1つが使われることができる。また、前記吸着物質ではゼオライトやシリカゲルが使われることができる。   An adsorption tower may be connected to the discharge port. The adsorption tower includes an organic solvent that dissolves the inert gas and generated chlorine dioxide, and an adsorbing substance. As the organic solvent, any one of n-hexane, methylene chloride, ethyl ether, tert-butyl methyl ether, and petroleum ether can be used. In addition, zeolite or silica gel may be used as the adsorbing material.

前記吸着塔には、前記吸着塔で吸着されて残った二酸化塩素気体を除去するための二酸化塩素気体除去塔が連結されることができる。前記気体除去塔は、前記二酸化塩素気体を除去するための過酸化水素、またはチオ硫酸ナトリウムを含むことができる。   The adsorption tower may be connected to a chlorine dioxide gas removal tower for removing the chlorine dioxide gas remaining after adsorption by the adsorption tower. The gas removal tower may include hydrogen peroxide or sodium thiosulfate for removing the chlorine dioxide gas.

本発明に係る二酸化塩素製造装置は、微細な多孔性硝子フィルタを通過しながら生成された気泡が反応物の撹拌を円滑に進行させるので、高収率の二酸化塩素を得ることができる。   In the chlorine dioxide production apparatus according to the present invention, the bubbles generated while passing through the fine porous glass filter smoothly stir the reactants, so that a high yield of chlorine dioxide can be obtained.

反応槽内部の減圧と下部から噴出される微細非活性気泡によって爆発を抑制することができ、容易に二酸化塩素を気体化することができる。この純粋な二酸化塩素気体は、減圧水に容易に吸収され、純粋な二酸化塩素水を得ることができる。   Explosion can be suppressed by the reduced pressure inside the reaction tank and fine inactive bubbles ejected from the lower part, and chlorine dioxide can be easily gasified. This pure chlorine dioxide gas is easily absorbed in the vacuum water, and pure chlorine dioxide water can be obtained.

また、本発明では、ソレノイドバルブを利用して少量は、もちろん、大量の原料を定量的に適切な時間の間投入することができるので、反応物及び結果物の制御が容易であり、安価であるので、非常に経済的である。   Further, in the present invention, since a small amount, of course, a large amount of raw material can be introduced quantitatively for an appropriate time using a solenoid valve, the control of reactants and results is easy and inexpensive. It is so economical.

本発明の第1実施形態に係る二酸化塩素発生装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the chlorine dioxide generator which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る二酸化塩素発生装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the chlorine dioxide generator which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る二酸化塩素発生装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the chlorine dioxide generator which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

以下、実施形態を通じて本発明をより詳細に説明する。しかし、本発明は前記実施形態に限定されず、互いに異なる多様な形態に応用されることができ、説明した実施形態は、すべての面において例示的であり、限定的ではないと理解しなければならない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail through embodiments. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be applied to various forms different from each other. The described embodiment is illustrative in all aspects and is not limited. Don't be.

図1は、本発明の第1実施形態に係る二酸化塩素発生装置の第1実施形態を示す概略的な模式図である。   FIG. 1 is a schematic diagram showing a first embodiment of the chlorine dioxide generator according to the first embodiment of the present invention.

図1を参照すると、本実施形態に係る二酸化塩素発生装置は、反応によって二酸化塩素が発生される反応槽100を含んで構成される。   Referring to FIG. 1, the chlorine dioxide generator according to this embodiment includes a reaction tank 100 in which chlorine dioxide is generated by a reaction.

前記反応槽100の内部には、前記反応槽100を2つの領域に分ける多孔性硝子フィルタ層110が具備される。すなわち、前記多孔性硝子フィルタ層110は、反応槽100を第1領域R1と第2領域R2に分離する。   The reaction vessel 100 includes a porous glass filter layer 110 that divides the reaction vessel 100 into two regions. That is, the porous glass filter layer 110 separates the reaction tank 100 into the first region R1 and the second region R2.

前記多孔性硝子フィルタ層110は、前記反応槽100の内部を上部、または下部、左部、または右部などで多様に分けることができるが、第1領域R1は、下部であり、第2領域R2は、上部であることが一番好ましい。これは液体状で反応が起こって気体が生成される場合に、上部方向に移動するので、上部で発生した気体を排出口を通じて容易に排出することができる。 前記反応槽100の第1領域R1には、二酸化塩素の生成反応に使われることができる塩素気体と、塩素気体の濃度を調節する非活性気体を供給する少なくとも1つの気体供給部120が具備されている。前記気体供給部120は、前記反応槽100の第1領域R1と気体供給ライン122に連結されることができ、前記第1領域R1と連結された前記気体供給ライン122の一端には、気体注入口124が形成されている。   The porous glass filter layer 110 can divide the inside of the reaction tank 100 into an upper part, a lower part, a left part, or a right part. The first region R1 is a lower part, and the second region. Most preferably, R2 is the upper part. When the reaction occurs in a liquid state and gas is generated, the gas moves upward, so that the gas generated in the upper part can be easily discharged through the discharge port. The first region R1 of the reaction vessel 100 includes at least one gas supply unit 120 that supplies a chlorine gas that can be used in a chlorine dioxide generation reaction and an inert gas that adjusts the concentration of the chlorine gas. ing. The gas supply unit 120 may be connected to the first region R1 of the reaction tank 100 and the gas supply line 122. One end of the gas supply line 122 connected to the first region R1 may be connected to a gas injection line. An inlet 124 is formed.

前記非活性気体と塩素気体は、本実施形態のように同一の気体注入口124を利用して供給されることができるが、他の実施形態では、別途の気体供給部120に貯蔵されて別途の注入口に供給されるか、または同時に供給されることができる。例えば、上述の塩素気体を前記多孔性硝子フィルタ層110を通じて第1領域R1から第2領域R2に移動させると共に塩素気体の濃度を調節するように非活性気体を供給する気体注入口がさらに形成されることができる。図1では1つの気体注入口124を有する実施形態を示す。
この時に供給される非活性気体は、二酸化塩素の反応に参加しない気体を使い、ヘリウム、ネオン、アルゴンなどの非活性気体と、相対的に非常に安定した炭酸気体や空気(air)が使われることができる。
The inactive gas and the chlorine gas may be supplied using the same gas inlet 124 as in the present embodiment. However, in other embodiments, the inert gas and the chlorine gas are stored in a separate gas supply unit 120 and separately supplied. Can be supplied to the inlet or simultaneously. For example, a gas inlet for supplying an inert gas so as to move the above chlorine gas from the first region R1 to the second region R2 through the porous glass filter layer 110 and adjust the concentration of the chlorine gas is further formed. Can. FIG. 1 shows an embodiment having one gas inlet 124.
The inert gas supplied at this time is a gas that does not participate in the reaction of chlorine dioxide, and an inert gas such as helium, neon, and argon, and a relatively very stable carbon dioxide gas and air are used. be able to.

前記反応槽100の第2領域R2には、二酸化塩素の生成反応に使われることができる亜塩素酸塩、次亜塩素酸塩、及び硫酸、塩酸、窒酸のような酸を供給する少なくとも一つ以上の原料供給部130、140、150が具備される。本実施形態では、説明の便宜上図1では第1原料供給部130、第2原料供給部140、及び第3原料供給部150として示す。   The second region R2 of the reaction vessel 100 is supplied with at least one of chlorite, hypochlorite, and an acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid that can be used for a reaction for generating chlorine dioxide. One or more raw material supply units 130, 140, 150 are provided. In the present embodiment, for convenience of explanation, FIG. 1 shows the first raw material supply unit 130, the second raw material supply unit 140, and the third raw material supply unit 150.

前記第1乃至第3原料供給部130、140、150は、前記第2領域R2と各々第1乃至第3原料供給ライン132、142、152を通じて連結され、前記第1乃至第3原料供給ライン132、142、152と第2領域R2が連結される一端には、第1乃至第3原料注入口134、144、154が各々形成されている。   The first to third raw material supply units 130, 140, and 150 are connected to the second region R2 through first to third raw material supply lines 132, 142, and 152, respectively, and the first to third raw material supply lines 132 are connected. , 142, 152 and the second region R2 are formed with first to third raw material inlets 134, 144, 154, respectively.

前記第1乃至第3原料供給部130、140、150は、図示しないが、タンク形態の原料供給部を具備することができる。前記第1乃至第3原料供給部130、140、150は、各々第1乃至第3原料供給ライン132、142、152と第1乃至第3原料注入口134、144、154とを通じて前記第2領域R2に原料が供給される。   The first to third raw material supply units 130, 140, and 150 may include a raw material supply unit in a tank form (not shown). The first to third raw material supply units 130, 140, and 150 are connected to the second region through first to third raw material supply lines 132, 142, and 152 and first to third raw material inlets 134, 144, and 154, respectively. The raw material is supplied to R2.

図示したように、本実施形態では各々の物質を個別供給するように原料供給部が複数個形成されるが、ここに限定されない。また、本発明の他の実施形態では、1つの原料注入口に2つの以上の物質を供給するように形成されることができる。これによって、原料供給ライン及び原料注入口も必要によって多様な個数で形成されることができる。図1では、原料注入口が各々個別形成されているが、2種の原料を1つの注入口に供給して反応槽に連結するY字形態の原料供給ラインを有することもできる。   As shown in the drawing, in the present embodiment, a plurality of raw material supply units are formed so as to individually supply each substance, but the present invention is not limited thereto. In another embodiment of the present invention, two or more substances may be supplied to one raw material inlet. Accordingly, the raw material supply lines and the raw material injection ports can be formed in various numbers as necessary. In FIG. 1, the raw material inlets are individually formed, but it is also possible to have a Y-shaped raw material supply line for supplying two kinds of raw materials to one inlet and connecting them to the reaction tank.

前記反応槽100の前記第1領域R1、または第2領域R2のうちの少なくともいずれか1つには、前記第1領域R1と第2領域R2の圧力を制御する圧力調節部が具備される。前記圧力調節部は、前記第1領域R1と第2領域R2との圧力差を形成することによって、2つの領域R1、R2の間の多孔性硝子フィルタ層110を貫通して流体が流れるようにする。   At least one of the first region R1 and the second region R2 of the reaction vessel 100 is provided with a pressure adjusting unit that controls the pressure in the first region R1 and the second region R2. The pressure adjusting unit forms a pressure difference between the first region R1 and the second region R2, so that a fluid flows through the porous glass filter layer 110 between the two regions R1 and R2. To do.

本実施形態によると、前記反応槽100の第2領域R2には、前記反応槽100内部の圧力を調節するための圧力調節部として減圧器160が連結される。前記減圧器160は、前記第2領域R2と排出管162とを通じて連結される。前記減圧器160では、アスピレータや真空ポンプが使われることができるが、本実施形態では、アスピレータを例としてあげて説明する。 この時、前記反応槽100と減圧器160との間には、遮断バルブ166が具備されることができる。前記減圧器160は、反応槽100内部の気体を吸入して反応槽100内部、特に第2領域R2の圧力を低める。ここで、前記減圧器160は、必要によって多様な形態の減圧器、例えば気体減圧器、空気ポンプなどを使うことができるが、好ましくは、減圧水、または減圧気体を利用したアスピレータを使う。   According to the present embodiment, a decompressor 160 is connected to the second region R2 of the reaction vessel 100 as a pressure adjustment unit for adjusting the pressure inside the reaction vessel 100. The decompressor 160 is connected through the second region R2 and the discharge pipe 162. In the decompressor 160, an aspirator or a vacuum pump can be used. In the present embodiment, an aspirator will be described as an example. At this time, a shutoff valve 166 may be provided between the reaction vessel 100 and the decompressor 160. The decompressor 160 sucks the gas in the reaction tank 100 to lower the pressure in the reaction tank 100, particularly in the second region R2. Here, the decompressor 160 may use various forms of decompressors, for example, a gas decompressor, an air pump, or the like, but preferably uses decompressed water or an aspirator using decompressed gas.

前記減圧器160には、前記反応槽100に具備された排出口164に連結される。   The decompressor 160 is connected to a discharge port 164 provided in the reaction vessel 100.

上述の構造を有する二酸化塩素の製造装置を利用して二酸化塩素を発生させるメカニズムは、次の通りである。   The mechanism for generating chlorine dioxide using the chlorine dioxide production apparatus having the above-described structure is as follows.

先ず、二酸化塩素を製造する方法に対して説明すれば、必要な原料によって例えば三種類をあげることができる。第1は、亜塩素酸塩と酸(硫酸、または塩酸など)を使って製造する場合であり、第2は、亜塩素酸塩、次亜塩素酸塩、及び酸(硫酸、または塩酸など)を使って製造する場合であり、第3は、亜塩素酸塩と塩素とを使って製造する場合である。   First, if it demonstrates with respect to the method of manufacturing chlorine dioxide, three types can be mention | raise | lifted by a required raw material, for example. The first is the case of using chlorite and acid (sulfuric acid or hydrochloric acid), and the second is chlorite, hypochlorite and acid (sulfuric acid or hydrochloric acid). The third is a case of manufacturing using chlorite and chlorine.

上述の三種類の方法を化学式として示すと、次の通りである。化学式4乃至5では亜塩素酸塩、塩酸、または硫酸を使った第1の場合であり、化学式6乃至7は亜塩素酸塩、無機酸(塩酸、または硫酸)、及び次亜塩素酸塩を使った第2の場合であり、化学式8は亜塩素酸塩と塩素とを使った第3の場合である。   The above three types of methods are expressed as chemical formulas as follows. Chemical formulas 4 to 5 represent the first case using chlorite, hydrochloric acid, or sulfuric acid, and chemical formulas 6 to 7 represent chlorite, inorganic acid (hydrochloric acid or sulfuric acid), and hypochlorite. This is the second case used, and Chemical Formula 8 is the third case using chlorite and chlorine.

(式4)
5NaClO+4HCl→4ClO+5NaCl+2H
(Formula 4)
5NaClO 2 + 4HCl → 4ClO 2 + 5NaCl + 2H 2 O

(式5)
5NaClO+2HSO→4ClO+2NaSO+NaCl+2H
(Formula 5)
5NaClO 2 + 2H 2 SO 4 → 4ClO 2 + 2Na 2 SO 4 + NaCl + 2H 2 O

(式6)
2NaClO+NaClO+2HCl→2ClO+3NaCl+H
(Formula 6)
2NaClO 2 + NaClO + 2HCl → 2ClO 2 + 3NaCl + H 2 O

(式7)
2NaClO+NaClO+HSO→2ClO+NaSO+NaCl+H
(Formula 7)
2NaClO 2 + NaClO + H 2 SO 4 → 2ClO 2 + Na 2 SO 4 + NaCl + H 2 O

(式8)
2NaClO+Cl→2ClO+2NaCl
(Formula 8)
2NaClO 2 + Cl 2 → 2ClO 2 + 2NaCl

上述の各々の原料は、前記第1領域R1と第2領域R2に具備された気体注入口124及び第1乃至第3原料注入口134、144、154を利用して供給される。   Each of the above-described raw materials is supplied using the gas inlet 124 and the first to third raw material inlets 134, 144, and 154 provided in the first region R1 and the second region R2.

例えば、第一方法では、第2領域R2に硫酸、または塩酸などの酸と亜塩素酸塩とを供給する。第2方法では第2領域R2に亜塩素酸塩、次亜塩素酸塩、及び酸(硫酸または塩酸)を供給する。第3の方法では前記第1領域R1に塩素気体を供給し、第2領域R2に亜塩素酸塩を供給する。   For example, in the first method, an acid such as sulfuric acid or hydrochloric acid and chlorite are supplied to the second region R2. In the second method, chlorite, hypochlorite, and acid (sulfuric acid or hydrochloric acid) are supplied to the second region R2. In the third method, chlorine gas is supplied to the first region R1, and chlorite is supplied to the second region R2.

上述の原料が投入される前後、または投入と共に前記減圧器160は反応槽100内の気体を吸入する方式で反応槽100内部の圧力を減少させる。 減圧水(図示しない)が前記アスピレータ(減圧器160)を通じて供給されれば、第2領域R2の圧力が第1領域R1の圧力より低くなる。これによって、外部から非活性気体(窒素気体、炭酸気体、または空気)が気体注入口122通じて反応槽100内部に吸入される。   The decompressor 160 reduces the internal pressure of the reaction tank 100 by sucking the gas in the reaction tank 100 before, after, or when the above-described raw materials are input. If depressurized water (not shown) is supplied through the aspirator (decompressor 160), the pressure in the second region R2 becomes lower than the pressure in the first region R1. Accordingly, an inert gas (nitrogen gas, carbon dioxide gas, or air) is sucked into the reaction tank 100 from the outside through the gas inlet 122.

この時、前記圧力差によって非活性気体が反応槽100の下端に設置された微細な多孔性硝子フィルタ110を通過し、第2領域R2に微細な気泡が生成される。このような微細な気泡によって第2領域R2の原料注入口134、144、154を通じて投入された反応物と均一な撹拌が行われ、同時に高濃度、高収率の二酸化塩素が発生する。   At this time, the inert gas passes through the fine porous glass filter 110 installed at the lower end of the reaction tank 100 due to the pressure difference, and fine bubbles are generated in the second region R2. By these fine bubbles, the reactants introduced through the raw material inlets 134, 144 and 154 in the second region R2 are uniformly stirred, and at the same time, high concentration and high yield of chlorine dioxide is generated.

前記二酸化塩素は、反応槽100内部の減圧と微細な気泡によって容易に気体になる。   The chlorine dioxide easily becomes a gas due to the reduced pressure inside the reaction tank 100 and fine bubbles.

前記二酸化塩素気体は、減圧器160の方に吸収され、減圧水に溶解される。この結果、純粋二酸化塩素の水溶液を得ることができる。   The chlorine dioxide gas is absorbed by the decompressor 160 and dissolved in the decompressed water. As a result, an aqueous solution of pure chlorine dioxide can be obtained.

上述のように、本発明では、通常の二酸化塩素の製造方法に使われる原料を使うが、通常の方法より原料の濃度を高めて使うことができ、反応速度も増加させることができる。さらに、同時間に高濃度の二酸化塩素気体を発生させる。   As described above, in the present invention, a raw material used in a normal chlorine dioxide production method is used. However, the raw material can be used at a higher concentration than in a normal method, and the reaction rate can be increased. Furthermore, high concentration chlorine dioxide gas is generated at the same time.

このような高濃度の二酸化塩素が発生しても、爆発なしに高収率、高濃度を維持することができる理由は、同一の反応槽の第2領域に設置された反応物の連続的であり、定量的な投入と同一の反応槽の下部に設置された微細気泡発生器が外部から流入される非活性気体を連続して微細な気泡を発生させることからである。このような条件を達成するために同一の反応槽の上部と減圧器とを連結して反応槽内に一定の減圧を維持する。   The reason why a high yield and high concentration can be maintained without an explosion even if such high concentration of chlorine dioxide is generated is that the reactants installed in the second region of the same reaction tank are continuous. This is because the fine bubble generator installed in the lower part of the same reaction tank as the quantitative charging continuously generates the fine bubbles by the inactive gas flowing from the outside. In order to achieve such conditions, the upper part of the same reaction tank and a decompressor are connected to maintain a constant reduced pressure in the reaction tank.

この時、このような微細な気泡による迅速で均一な反応物の撹拌が起こり、これによって生成された高濃度の二酸化塩素を反応物及び反応副産物の溶液から微細な非活性気泡が二酸化塩素を気体化して抽出することができる。   At this time, rapid and uniform agitation of the reactant occurs due to such fine bubbles, and the high concentration of chlorine dioxide produced thereby causes fine inert bubbles to gasify chlorine dioxide from the reactant and reaction byproduct solution. Can be extracted.

すなわち、この微細な非活性気泡は、反応物を理想的に撹拌し、同時に発生された高濃度の二酸化塩素を混合反応液及び副反応物の溶液から容易に二酸化塩素を気体状に抽出することができ、また二酸化塩素気体を希薄して爆発を抑制することができる。   In other words, this fine non-active bubble ideally stirs the reactants, and at the same time, easily extracts chlorine dioxide from the mixed reaction solution and by-product reactants in the gaseous state. The explosion can be suppressed by diluting chlorine dioxide gas.

この抽出された純粋な二酸化塩素気体は、減圧器から流出される減圧水に吸収されて純粋な二酸化塩素水溶液を得ることができる。   The extracted pure chlorine dioxide gas is absorbed by the decompressed water flowing out from the decompressor to obtain a pure chlorine dioxide aqueous solution.

純粋な二酸化塩素水溶液の製造において、一番大事なことは、反応槽内部の圧力、吸入される非活性気体、及び微細な多孔性硝子フィルタであり得る。前記多孔性硝子フィルタ層の空隙の大きさは、好ましくは10ミクロン乃至100ミクロン、より好ましくは、10乃至40ミクロンで形成される。空隙の大きさが10ミクロンより小さい場合には、第1領域と第2領域との間に物質が移動され難しく、100ミクロンより大きい場合には、多孔性硝子フィルタ層で発生される気泡の大きさが非常に大きくなって反応が十分に起こらない問題がある。   In the production of pure chlorine dioxide aqueous solution, the most important thing can be the pressure inside the reaction vessel, the inactive gas sucked in, and the fine porous glass filter. The pore size of the porous glass filter layer is preferably 10 to 100 microns, more preferably 10 to 40 microns. When the size of the void is smaller than 10 microns, it is difficult for the substance to move between the first region and the second region. When the size is larger than 100 microns, the size of bubbles generated in the porous glass filter layer is large. There is a problem that the reaction becomes too large and the reaction does not occur sufficiently.

そして、減圧器を使って反応槽内部の圧力を調節する場合、常圧で200mmHgから400mmHgになるように減圧するが、好ましくは、210mmHg〜240mmHgが効果的である。200mmHgより小さい場合には、気泡の直径が大きくなって、微細気泡を形成することができず、400mmHgより大きい場合には、気体発生率が低下されて爆発の危険性が増加する。   And when adjusting the pressure inside a reaction vessel using a pressure reducer, it reduces pressure to 200 mmHg to 400 mmHg at normal pressure, but preferably 210 mmHg to 240 mmHg is effective. When the diameter is smaller than 200 mmHg, the diameter of the bubbles becomes large and fine bubbles cannot be formed. When the diameter is larger than 400 mmHg, the gas generation rate is lowered and the risk of explosion increases.

前記反応槽の各部分は別に説明しないが、多様な種類の管、パイプなどの連結装置により連結されることができ、必要によって連結装置なしに各部分が直接連結されることもできる。   Although each part of the reaction vessel is not described separately, it can be connected by various kinds of connecting devices such as pipes and pipes, and if necessary, each part can be directly connected without a connecting device.

(第1−1実施形態)
反応槽の上部から分当り6.5mLずつ25wt%亜塩素酸ソーダと分当り2mLずつ30wt%の硫酸とを定量ポンプを利用して注入する。
(1-1st Embodiment)
From the top of the reaction vessel, 6.5 mL of 25 wt% sodium chlorite per minute and 30 mL of sulfuric acid of 2 mL per minute are injected using a metering pump.

3〜3.5気圧の加圧水に連結されたアスピレータを稼動し、反応槽に減圧が発生し、外部から空気を分当り400mLずつ反応槽の下部に設置された多孔性微細硝子フィルタを通じて吸入させ、微細気泡が生成されながら2つの化合物の迅速な混合と共に生成される二酸化塩素を反応混合物及び副反応物の溶液から容易に気化させる。前記気化された二酸化塩素は、アスピレータの噴出される減圧水に溶解され、前記二酸化塩素が溶解された減圧水から純粋な二酸化塩素水の溶液(5.8L/分)を得る。   An aspirator connected to pressurized water at 3 to 3.5 atm is operated, decompression occurs in the reaction tank, and 400 mL of air per minute is sucked from the outside through a porous fine glass filter installed at the bottom of the reaction tank, Chlorine dioxide generated with rapid mixing of the two compounds while microbubbles are generated is easily vaporized from the reaction mixture and side reaction solution. The vaporized chlorine dioxide is dissolved in reduced pressure water ejected from an aspirator, and a pure chlorine dioxide solution (5.8 L / min) is obtained from the reduced pressure water in which the chlorine dioxide is dissolved.

本実施形態で得た二酸化塩素の溶液の濃度は、172mg/Lであり、収率は85%である。   The concentration of the chlorine dioxide solution obtained in this embodiment is 172 mg / L, and the yield is 85%.

(第1−2実施形態)
反応槽上部から分当り4.8mLずつ25wt%亜塩素酸ソーダと分当り4mLずつ12wt%の次亜塩素酸ソーダ及び30wt%の硫酸2mL/分を定量ポンプを利用して注入する。
(1-2 embodiment)
From the top of the reaction vessel, 4.8 mL of 25 wt% sodium chlorite per minute, 4 mL per minute of 12 wt% sodium hypochlorite, and 30 wt% sulfuric acid 2 mL / min are injected using a metering pump.

また3〜3.5気圧の加圧水に連結されたアスピレータを稼動すれば、反応槽内部に真空が発生し、外部から400mL/分ずつ窒素気体を反応槽の下端に設置された多孔性微細硝子フィルタを通じて吸入する。反応槽では、微細気泡が生成されながら3種類の反応化合物が迅速な混合と共に生成された二酸化塩素を副反応物と不純物溶液から容易に気化され、噴出される減圧水に吸収されて純粋な二酸化塩素水5.8L/分を得ることができる。   If an aspirator connected to pressurized water at 3 to 3.5 atm is operated, a vacuum is generated inside the reaction tank, and a porous fine glass filter installed with nitrogen gas at the lower end of the reaction tank at 400 mL / min from the outside. Inhale through. In the reaction tank, the chlorine dioxide produced by the rapid mixing of the three reaction compounds while producing fine bubbles is easily vaporized from the side reaction products and the impurity solution, and absorbed into the jetted vacuum water to produce pure dioxide. Chlorine water 5.8 L / min can be obtained.

本実施形態で得た二酸化塩素溶液の濃度は185mg/Lであり、収率は95%である。   The concentration of the chlorine dioxide solution obtained in this embodiment is 185 mg / L, and the yield is 95%.

(第1−3実施形態)
反応槽の上部から分当り4.9mLずつ25wt%亜塩素酸ソーダを定量ポンプに投入しながら3〜3.5気圧の加圧水に連結されたアスピレータを稼動する。この時、反応槽に減圧が形成され、外部から炭酸気体400mL/分と塩素気体170mL/分ずつ反応槽の下端部に設置した多孔性微細硝子フィルタを通じて吸入させ、微細な空気塩素混合気泡が生成されながら亜塩素酸ソーダ溶液と瞬間的に混合して二酸化塩素が生成される。前記純粋な二酸化塩素気体は、アスピレータ噴出水に吸収され、純粋な二酸化塩素水溶液5.8L/分を得る。
(1-3 embodiment)
An aspirator connected to pressurized water at 3 to 3.5 atm is operated while 25 wt% sodium chlorite is added to the metering pump at 4.9 mL per minute from the upper part of the reaction tank. At this time, a reduced pressure is formed in the reaction tank, and from the outside, carbon dioxide gas 400 mL / min and chlorine gas 170 mL / min are sucked through a porous fine glass filter installed at the lower end of the reaction tank to generate fine air-chlorine mixed bubbles. While being mixed with the sodium chlorite solution instantaneously, chlorine dioxide is produced. The pure chlorine dioxide gas is absorbed by the aspirator jet water to obtain a pure chlorine dioxide aqueous solution of 5.8 L / min.

本実施形態で得た二酸化塩素溶液の濃度は、180mg/Lであり、収率は98%である。   The concentration of the chlorine dioxide solution obtained in this embodiment is 180 mg / L, and the yield is 98%.

(第1−4実施形態)
第1−1実施形態乃至第1―3で使った反応槽と反応試薬は、同一であるが、液体減圧器の代わりに非活性加圧気体窒素、二酸化炭素、空気などを気体減圧器に連結して二酸化塩素非活性気体混合気体(16L/分)を得ることができる。
(First to Fourth Embodiments)
The reaction tank and the reaction reagent used in the 1-1st embodiment to 1-3 are the same, but instead of the liquid decompressor, inactive pressurized gas nitrogen, carbon dioxide, air, etc. are connected to the gas decompressor. Thus, a chlorine dioxide inactive gas mixed gas (16 L / min) can be obtained.

本実施形態で得た二酸化塩素溶液の濃度は69mg/Lであり、収率は90%である。   The concentration of the chlorine dioxide solution obtained in this embodiment is 69 mg / L, and the yield is 90%.

図2は、本発明の第2実施形態に係る二酸化塩素の製造装置を示す。以下、図面及び説明では、第1実施形態と異なる部分を中心として説明し、未説明部分は第1実施形態による。図面の類似の構成要素は類似の番号を使用する。 本実施形態では反応槽200と、前記反応槽200を第1領域R1と第2領域R2に分ける多孔性硝子フィルタ層210と、前記反応槽200の第1領域R1に連結され、前記反応槽200に塩素気体及び非活性気体を供給する少なくとも一つの気体供給部220と、前記反応槽200の第2領域R2に連結され、前記反応槽200に次亜塩素酸、亜塩素酸、または酸を供給する少なくとも一つの原料供給部230、240、250と、前記反応槽200の前記第1領域R1、または第2領域R2のうちの少なくともいずれか1つに連結され、前記第1領域R1より前記第2領域R2の圧力を小さくするための圧力調節部と、前記反応槽200に連結され、前記反応槽200の第2領域R2で生成された二酸化塩素気体が排出される排出口264とを含む。   FIG. 2 shows an apparatus for producing chlorine dioxide according to a second embodiment of the present invention. Hereinafter, in the drawings and description, the description will focus on the parts different from the first embodiment, and the unexplained parts are according to the first embodiment. Similar components in the drawings use similar numbers. In the present embodiment, the reaction vessel 200 is connected to the reaction vessel 200, the porous glass filter layer 210 that divides the reaction vessel 200 into a first region R1 and a second region R2, and the first region R1 of the reaction vessel 200. Is connected to at least one gas supply unit 220 for supplying chlorine gas and inert gas to the second region R2 of the reaction tank 200, and hypochlorous acid, chlorous acid, or acid is supplied to the reaction tank 200. Connected to at least one of the first region R1 and the second region R2 of the reaction vessel 200, and is connected to the first region R1 by the first region R1. A pressure adjusting unit for reducing the pressure in the second region R2, and a discharge port 2 connected to the reaction vessel 200 and from which chlorine dioxide gas generated in the second region R2 of the reaction vessel 200 is discharged. And a 4.

この時、圧力調節部として加圧ポンプ260が具備され、発生された二酸化塩素気体溶液を得るための吸着塔270をさらに具備する。   At this time, a pressure pump 260 is provided as a pressure control unit, and further includes an adsorption tower 270 for obtaining the generated chlorine dioxide gas solution.

前記加圧ポンプ260は、前記反応槽200の第1領域R1と前記気体供給部220との間に具備される。前記加圧ポンプ260は、特に非活性気体を供給する供給ライン222上に具備されることができ、前記非活性気体を第1領域R1に高圧で供給する。   The pressurizing pump 260 is provided between the first region R 1 of the reaction vessel 200 and the gas supply unit 220. The pressurizing pump 260 may be provided on a supply line 222 that supplies an inert gas, and supplies the inert gas to the first region R1 at a high pressure.

前記反応槽200内の第1領域R1に塩素気体と共に加圧ポンプ260によって非活性気体が高圧で供給されれば、反応槽200内の第1領域R1の圧力が反応槽200内の第2領域R2の圧力より高くなり、このような圧力差は、第1領域R1の気体が第2領域R2に移動する原動力になる。これによって、第1領域R1の非活性気体及び塩素気体が多孔性硝子フィルタ層210を通じて第2領域R2に移動し、前記多孔性硝子フィルタ層210を通過すると共に微細な気泡が第2領域R2に生成される。このような微細な気泡によって第2領域R2の原料注入口234、244、254を通じて投入された反応物と均一な撹拌が行われ、同時に高濃度、高収率の二酸化塩素が発生される。前記発生された二酸化塩素気体は、排出口264を通じて排出される。   If an inert gas is supplied to the first region R1 in the reaction tank 200 together with chlorine gas by a pressure pump 260 at a high pressure, the pressure in the first region R1 in the reaction tank 200 is changed to the second region in the reaction tank 200. The pressure becomes higher than the pressure of R2, and such a pressure difference becomes a driving force for moving the gas in the first region R1 to the second region R2. As a result, the inert gas and chlorine gas in the first region R1 move to the second region R2 through the porous glass filter layer 210, pass through the porous glass filter layer 210, and fine bubbles in the second region R2. Generated. By these fine bubbles, the reactants introduced through the raw material inlets 234, 244, 254 in the second region R2 are uniformly stirred, and at the same time, high concentration and high yield of chlorine dioxide is generated. The generated chlorine dioxide gas is discharged through the discharge port 264.

前記排出口264には、吸着塔270が連結される。前記吸着塔270は、1つで具備されることができるが、複数個具備され、直列連結されることもできる。   An adsorption tower 270 is connected to the discharge port 264. One adsorption tower 270 may be provided, but a plurality of adsorption towers 270 may be provided and connected in series.

前記吸着塔270は、前記非活性気体と生成された二酸化塩素とを溶解する有機溶媒及び吸着物質を含んでいる。これによって、発生した二酸化塩素気体は吸着塔270に吸収され、純粋な二酸化塩素の有機溶媒溶液を得ることができる。   The adsorption tower 270 includes an organic solvent that dissolves the inert gas and the generated chlorine dioxide and an adsorbing substance. Thus, the generated chlorine dioxide gas is absorbed by the adsorption tower 270, and a pure organic solvent solution of chlorine dioxide can be obtained.

前記有機溶媒は、水と混合することができる溶媒、すなわちメタノール、エチルアルコール、プロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、アセトン、エチルアセテートなどであり、水と混合されずに分離して層を形成する有機溶媒ではn−ヘクサン、メチレンクロライド、エチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、石油エーテルなどである。   The organic solvent is a solvent that can be mixed with water, that is, methanol, ethyl alcohol, propanol, isopropanol, tetrahydrofuran, acetone, ethyl acetate, and the like, and is an organic solvent that separates and forms a layer without being mixed with water. n-hexane, methylene chloride, ethyl ether, tert-butyl methyl ether, petroleum ether and the like.

上述の有機溶媒のうち、揮発性が強くて水と混合せずに層を形成する有機溶媒は、二酸化塩素水溶液から直接分液器により抽出して使うことができる。   Among the organic solvents described above, an organic solvent that is highly volatile and forms a layer without being mixed with water can be used by being extracted directly from an aqueous chlorine dioxide solution using a separator.

また前記有機溶媒の吸着塔内にゼオライトやシリカゲルをさらに追加して気体状の二酸化塩素をゼオライトやシリカゲルに吸着させて回収することができる。ゼオライトやシリカゲルに吸着された二酸化塩素は、後に非活性気体を多量供給することによって脱着させることができる。   Further, zeolite or silica gel can be further added to the organic solvent adsorption tower so that gaseous chlorine dioxide can be adsorbed on the zeolite or silica gel and recovered. Chlorine dioxide adsorbed on zeolite or silica gel can be desorbed later by supplying a large amount of inactive gas.

(第2−1実施形態)
直列連結された3つの有機溶媒の吸着塔にエチルアルコールを入れ、反応槽の第2領域の投入口に6.5mL/minで25wt%亜塩素酸塩ソーダと2mL/minで30wt%硫酸を入れ、反応槽の第1領域に非活性窒素気体を350mL/minずつ15分間投入する。
(2-1 embodiment)
Ethyl alcohol is put into three organic solvent adsorption towers connected in series, and 25 wt% sodium chlorite soda and 30 wt% sulfuric acid are added at 2 mL / min to the inlet of the second region of the reaction tank. Then, inactive nitrogen gas is introduced into the first region of the reaction tank at 350 mL / min for 15 minutes.

この時、最終的に得られた二酸化塩素エチルアルコール溶液の濃度は2,125mg/L(収率85%)である。   At this time, the concentration of the chlorine dioxide ethyl alcohol solution finally obtained is 2,125 mg / L (yield 85%).

同一の方法でメタノール、イソブチルアルコール及びアセトンも2,000mg/L〜2,200mg/Lを得ることができる。   In the same manner, 2,000 mg / L to 2,200 mg / L of methanol, isobutyl alcohol and acetone can be obtained.

(第2−2実施形態)
並列連結された3つの有機溶媒の吸着塔に6Lのn−ヘクサンを入れ、反応槽の第2領域の投入口に6.5mL/minで25wt%亜塩素酸塩及び2mL/minで30wt%硫酸溶液を入れ、反応槽の第1領域に300mL/minずつ非活性炭酸気体を15分間投入する。
(2-2 embodiment)
6 L of n-hexane was placed in three organic solvent adsorption towers connected in parallel, and 25 wt% chlorite at 6.5 mL / min and 30 wt% sulfuric acid at 2 mL / min at the inlet of the second region of the reaction vessel. The solution is put, and inactive carbon dioxide gas is added to the first region of the reaction tank at 300 mL / min for 15 minutes.

この時に得られたn−ヘクサン二酸化塩素溶液の濃度は2,250mg/L(収率90%)である。   The concentration of the n-hexane chlorine dioxide solution obtained at this time is 2,250 mg / L (yield 90%).

同一の方法でエチルエーテル2370mg/L、 tert−ブチルメチルエーテル(2,320mg/L)の二酸化塩素の有機溶媒溶液を得る。   In the same manner, an organic solvent solution of ethyl ether 2370 mg / L, tert-butyl methyl ether (2,320 mg / L) in chlorine dioxide is obtained.

(第2−3実施形態)
並列連結された3つの吸着塔にシリカゲルやゼオライトを入れ、反応槽の第2領域の投入口に6.5mL/minで25%亜塩素酸塩を投入し、第1領域には空気360mL/min及び塩素気体946mL/minを同時に注入する。
(2-3 embodiment)
Silica gel and zeolite are put into three adsorbing towers connected in parallel, 25% chlorite is put at 6.5 mL / min into the inlet of the second region of the reaction tank, and air is fed into the first region at 360 mL / min. And 946 mL / min of chlorine gas are injected simultaneously.

この時生成された二酸化塩素気体は、シリカゲルやゼオライトに吸着され、最終的に収率95%の二酸化塩素を得ることができる。   The chlorine dioxide gas generated at this time is adsorbed on silica gel or zeolite, and finally 95% yield of chlorine dioxide can be obtained.

図3は、本発明の第3実施形態に係る二酸化塩素の製造装置を示す。以下、図面及び説明では第1実施形態と異なる部分を中心として説明し、未説明部分は第1実施形態による。図面の類似の構成要素は、類似の番号を使用する。   FIG. 3 shows an apparatus for producing chlorine dioxide according to a third embodiment of the present invention. In the following, the drawings and description will focus on the parts different from the first embodiment, and the parts not explained will depend on the first embodiment. Similar components in the drawings use similar numbers.

二酸化塩素の発生反応時、亜塩素酸塩が酸によって不均等の分解反応が起こって次亜塩素酸、塩素酸及び塩素などの反応物が生成されるので、反応物の迅速な撹拌と混合、原料化合物の正確な量を注入しなければならない高収率、高純度の二酸化塩素を生成することができる。これによって、本発明は、上述の反応物を正確な量で適切な時間を置いて反応させることができるようにソレノイドバルブを具備する。   During the generation reaction of chlorine dioxide, chlorite undergoes an unequal decomposition reaction with acid to produce reactants such as hypochlorous acid, chloric acid and chlorine, so rapid stirring and mixing of the reactants, High yield, high purity chlorine dioxide must be produced, where the exact amount of raw material compound must be injected. Accordingly, the present invention includes a solenoid valve so that the above-described reactants can be reacted in an accurate amount with an appropriate time.

図3を参照すると、本実施形態では反応槽300と、前記反応槽300を第1領域R1と第2領域R2に分ける多孔性硝子フィルタ層320と、前記反応槽300の第1領域R1に連結され、前記反応槽300に塩素気体及び非活性気体を供給する少なくとも1つの気体供給部320と、前記反応槽300の第2領域R2に連結され、前記反応槽300に次亜塩素酸、亜塩素酸、または酸を供給する少なくとも1つの原料供給部330、340、350と、前記反応槽300の前記第1領域R1、または第2領域R2のうちの少なくともいずれか1つに連結され、前記第1領域R1より前記第2領域R2の圧力を小さくするための圧力調節部と、前記反応槽300に連結され、前記反応槽300の第2領域R2で生成された二酸化塩素気体が排出される排出口364とを含む。   Referring to FIG. 3, in this embodiment, the reaction tank 300 is connected to a porous glass filter layer 320 that divides the reaction tank 300 into a first region R <b> 1 and a second region R <b> 2, and the first region R <b> 1 of the reaction tank 300. And connected to at least one gas supply unit 320 for supplying chlorine gas and inert gas to the reaction tank 300 and the second region R2 of the reaction tank 300, and the reaction tank 300 is supplied with hypochlorous acid and chlorine. The acid or at least one raw material supply unit 330, 340, 350 for supplying an acid, and the first region R1 or the second region R2 of the reaction tank 300 are connected to the first region R1, and the second region R2. A pressure adjusting unit for reducing the pressure in the second region R2 from the first region R1 and the chlorine dioxide gas generated in the second region R2 of the reaction vessel 300 are connected to the reaction vessel 300. And a discharge port 364 is issued.

前記第1領域R1及び第2領域R2に連結された第1乃至第3原料供給部330、340、350には、前記反応槽300に原料を注入する時の第1乃至第3原料注入口334、344、354を開閉するための第1乃至第3ソレノイドバルブS1、S2、S3が各々具備される。前記第1乃至第3ソレノイドバルブS1、S2、S3は、磁気コアがあるソレノイドと1つ、またはその以上のオリフィスを含んで構成されるバルブとして、流体の流れが前記ソレノイドに電流を通ずる時、または前記ソレノイドに電流が通じない時、コアの動きによって開閉されながら制御されるバルブである。   First to third raw material inlets 334 when the raw material is injected into the reaction tank 300 are supplied to the first to third raw material supply units 330, 340, and 350 connected to the first region R1 and the second region R2. First to third solenoid valves S1, S2, S3 for opening and closing 344, 354 are provided. The first to third solenoid valves S1, S2, S3 are valves configured to include a solenoid having a magnetic core and one or more orifices. When a fluid flow passes a current through the solenoid, Alternatively, the valve is controlled while being opened and closed by the movement of the core when no current flows through the solenoid.

前記第1乃至第3ソレノイドバルブS1、S2、S3は開かれている時間を0.5秒乃至10秒の間、閉まっている時間を1秒乃至60秒の間で調整することができる。これによって、投入原料薬品の量を調節することができ、また必要によって、反応槽300と減圧器360との連結部分にも具備することによって、反応槽300内部の圧力を調節して反応槽300に設置された多孔性硝子フィルタ310によって微細な気泡を形成することができるようにする。   The first to third solenoid valves S1, S2, and S3 can be adjusted so that the opening time is 0.5 seconds to 10 seconds and the closing time is 1 second to 60 seconds. Thereby, the amount of the raw material chemicals can be adjusted, and if necessary, the reaction vessel 300 is also provided at the connecting portion between the reaction vessel 300 and the decompressor 360 to adjust the pressure inside the reaction vessel 300. The fine glass bubbles can be formed by the porous glass filter 310 installed in the filter.

前記反応槽300には、前記第1領域R1及び前記第2領域R2の圧力を感知する圧力感知部312が具備され、好ましくは、前記第2領域R2に具備されて第2領域R2の圧力を感知し、後述の制御部370に前記感知した圧力信号を提供する。   The reaction tank 300 includes a pressure sensing unit 312 that senses the pressure in the first region R1 and the second region R2, and is preferably provided in the second region R2 to control the pressure in the second region R2. Sense and provide the sensed pressure signal to a control unit 370 to be described later.

前記減圧器360は、前記反応槽300及び排出管362に連結されることができ、前記排出管362の反応槽300側の一端には、ソレノイドバルブS4が具備されることができる。この時、前記減圧器360には、電気的信号によって前記減圧器360を作動させるか、または止めるようにするスイッチ372が具備されており、制御部370にスイッチ372が電気的に連結される。前記減圧器360は、反応槽300内部の気体を吸入して反応槽300内部の圧力を低める役割を果たす。   The decompressor 360 may be connected to the reaction tank 300 and the discharge pipe 362, and a solenoid valve S4 may be provided at one end of the discharge pipe 362 on the reaction tank 300 side. At this time, the decompressor 360 is provided with a switch 372 for operating or stopping the decompressor 360 according to an electrical signal, and the switch 372 is electrically connected to the controller 370. The decompressor 360 serves to reduce the pressure inside the reaction tank 300 by sucking the gas inside the reaction tank 300.

前記減圧器360には、前記反応槽300内部で形成された気体が排出される排出口364が形成されており、前記減圧器360がアスピレータの場合には、減圧水または減圧気体が排出される排出口と等しい排出口を使うことができる。また、純粋な二酸化塩素気体は減圧水に容易に吸収され、純粋な二酸化塩素水溶液を得ることができる。   The decompressor 360 is formed with a discharge port 364 through which the gas formed inside the reaction tank 300 is exhausted. When the decompressor 360 is an aspirator, decompressed water or decompressed gas is exhausted. An outlet equal to the outlet can be used. Moreover, pure chlorine dioxide gas is easily absorbed in the reduced pressure water, and a pure chlorine dioxide aqueous solution can be obtained.

前記第1、第2及び第3原料供給部330、340、350及び減圧器360のソレノイドバルブS1、S2、S3、前記減圧器360のスイッチ372、及び圧力感知部312は前記ソレノイドバルブS1、S2、S3と、前記減圧器360、前記反応槽300を制御する制御部370に電気的に連結されて制御される。   The first, second and third raw material supply units 330, 340 and 350 and the solenoid valves S1, S2 and S3 of the decompressor 360, the switch 372 of the decompressor 360 and the pressure sensing unit 312 are the solenoid valves S1 and S2. , S3, the decompressor 360, and the controller 370 that controls the reaction vessel 300 are electrically connected and controlled.

前記制御部370は、マイクロプロセッサが内蔵した電子式制御装置としてPCB(Printed Circuit Board)上に実装されて具備されることができ、各条件によって前記構成要素の開閉や作動するか否かを制御する。   The control unit 370 can be mounted on a PCB (Printed Circuit Board) as an electronic control device built in a microprocessor, and controls whether to open or close the component according to each condition. To do.

本実施形態によって二酸化塩素を製造する順序は次の通りである。   The order of producing chlorine dioxide according to this embodiment is as follows.

先ず、前記反応槽300内部の減圧は、外部の管に連結された真空ポンプ、アスピレータなどのような減圧器360を作動することによって行われる。本実施形態では以下減圧器360としてアスピレータを使う場合を一例として説明するが、これに限定されず、真空ポンプなども使うことができる。   First, the internal pressure of the reaction tank 300 is reduced by operating a pressure reducing device 360 such as a vacuum pump or an aspirator connected to an external pipe. In the present embodiment, a case where an aspirator is used as the decompression device 360 will be described as an example.

先ず、前記制御部370によって減圧器360のスイッチ372がオンされれば、減圧器360が作動し、前記減圧器360に連結されたソレノイドバルブS4が開かれて前記反応槽300の空気を排出させる。前記反応槽300内部の減圧が開示されれば、前記第2領域R2の圧力が前記第1領域R1の圧力より低くなるので、前記第1領域R1から第2領域R2の方向に気体が移動する。これによって、多孔性硝子フィルタ層310から微細な気泡が形成される。   First, when the switch 372 of the decompressor 360 is turned on by the controller 370, the decompressor 360 is operated, and the solenoid valve S4 connected to the decompressor 360 is opened to discharge the air in the reaction tank 300. . If the decompression inside the reaction tank 300 is disclosed, the pressure in the second region R2 becomes lower than the pressure in the first region R1, so that gas moves from the first region R1 to the second region R2. . Thereby, fine bubbles are formed from the porous glass filter layer 310.

前記反応槽300内部に十分で安定した減圧状態が前記圧力感知器312によって感知されれば、前記制御部370に信号を与え、決められた時間によって前記第1原料供給部300乃至第3原料供給部500に連結されたソレノイドバルブS1、S2、S3を開閉する。これによって、必要な原料が定量的に反応槽300内部に投入される。   If the pressure sensor 312 senses a sufficient and stable reduced pressure state in the reaction tank 300, a signal is given to the control unit 370, and the first raw material supply unit 300 to the third raw material supply are performed according to a predetermined time. The solenoid valves S1, S2, and S3 connected to the unit 500 are opened and closed. As a result, necessary raw materials are quantitatively introduced into the reaction vessel 300.

このように投入された原料は、多孔性硝子フィルタ310から形成された気泡によって混合と共に上述の化学式4乃至8の反応によって二酸化塩素を発生させる。   The raw material charged in this way is mixed by the air bubbles formed from the porous glass filter 310 and generates chlorine dioxide by the reactions of the above chemical formulas 4 to 8 together with the mixing.

すなわち、第1領域R1の非活性気体及び塩素気体が多孔性硝子フィルタ層310を通じて第2領域R2に移動し、前記多孔性硝子フィルタ層310を通過すると共に微細な気泡が第2領域R2に生成される。このような微細な気泡によって第2領域R2の流入口を通じて投入された反応物と均一な撹拌が行われ、同時に高濃度、高収率の二酸化塩素が発生される。   That is, the inert gas and chlorine gas in the first region R1 move to the second region R2 through the porous glass filter layer 310, pass through the porous glass filter layer 310, and fine bubbles are generated in the second region R2. Is done. Such fine bubbles cause uniform stirring with the reactants introduced through the inlet of the second region R2, and at the same time, high concentration and high yield of chlorine dioxide is generated.

この反応混合物及び副反応物の溶液に含まれた二酸化塩素は、反応槽300内部の減圧と微細な気泡によって容易に気体状の純粋な二酸化塩素気体に抽出される。   Chlorine dioxide contained in the reaction mixture and side reaction product solution is easily extracted into gaseous pure chlorine dioxide gas by the reduced pressure and fine bubbles inside the reaction vessel 300.

この二酸化塩素気体は、減圧器360の方に吸収され、流出される減圧水に吸収される。この結果、純粋二酸化塩素水溶液を得ることができる。   This chlorine dioxide gas is absorbed by the decompressor 360 and absorbed by the decompressed water that flows out. As a result, a pure chlorine dioxide aqueous solution can be obtained.

上述のように、本発明では、電子制御装置を使ってソレノイドバルブの開閉を調整することによって、投入程度を微量まで制御することができるので、反応量を調節すると共に余分の原料物質による副反応を抑制する効果もある。   As described above, in the present invention, by adjusting the opening and closing of the solenoid valve using an electronic control device, the degree of charging can be controlled to a very small amount. There is also an effect of suppressing.

従来には、原料を定量ポンプ、または流量計を利用して投入した。これは原料薬品が液体、または塩素のような気体であって可能であったが、その投入量が細密ではなくて正確に原料の量を計量し難く、これによって、反応物の量や反応程度も制御し難い。しかし、本発明は、このような問題点を全部解決した。また、上述のように、本発明では通常の二酸化塩素の製造方法に使われる原料を使うが、通常の方法より原料の濃度を高めて使うことができ、反応速度も増加させることができる。そのだけではなく、同一時間に高濃度の二酸化塩素気体を発生せることができる。   In the past, raw materials were charged using a metering pump or a flow meter. This was possible because the raw material chemical was a liquid or a gas such as chlorine, but the input amount was not fine and it was difficult to accurately measure the amount of raw material. Also difficult to control. However, the present invention has solved all such problems. In addition, as described above, in the present invention, the raw material used in the ordinary chlorine dioxide production method is used. However, the raw material can be used at a higher concentration than in the usual method, and the reaction rate can be increased. Not only that, it is possible to generate a high concentration of chlorine dioxide gas at the same time.

(第3−1実施形態)
第1原料貯蔵容器に12.5wt%の亜塩素酸ソーダを準備し、第2原料貯蔵容器に15wt%の硫酸を準備する。次に、アスピレータをスイッチオンした後、前記反応槽のソレノイドバルブを開いて圧力を低め、次に、前記亜塩素酸ソーダをソレノイドバルブを通じて1,104mL/minを反応槽に投入すると共に前記硫酸を0.4mL/minずつ反応槽に投入する。
(3-1 embodiment)
12.5 wt% sodium chlorite is prepared in the first raw material storage container, and 15 wt% sulfuric acid is prepared in the second raw material storage container. Next, after the aspirator was switched on, the solenoid valve of the reaction tank was opened to lower the pressure, and then sodium chlorite was charged into the reaction tank at 1,104 mL / min through the solenoid valve and the sulfuric acid was added. Charge 0.4 mL / min into the reaction vessel.

発生された二酸化塩素水溶液は17ppm濃度として5.8L(収率92%)に該当する。   The generated chlorine dioxide aqueous solution corresponds to 5.8 L (yield 92%) as a concentration of 17 ppm.

(第3−2実施形態)
第1原料貯蔵容器に12.5wt%の亜塩素酸ソーダを準備し、第2原料貯蔵容器に6wt%の次亜塩素酸ソーダを準備し、第3燃料貯蔵容器に12.5wt%硫酸を準備する。次に、アスピレータをスイッチオンした後、前記反応槽のソレノイドバルブを開いて圧力を低め、次に、前記亜塩素酸ソーダを2.66mL/min、前記次亜塩素酸ソーダを2.18mL/min、及び前記硫酸を1.45mL/minずつ反応槽に投入する。
(3-2 embodiment)
Prepare 12.5 wt% sodium chlorite in the first raw material storage container, prepare 6 wt% sodium hypochlorite in the second raw material storage container, and prepare 12.5 wt% sulfuric acid in the third fuel storage container To do. Next, after switching on the aspirator, the solenoid valve of the reaction vessel is opened to lower the pressure, and then the sodium chlorite is 2.66 mL / min and the sodium hypochlorite is 2.18 mL / min. And 1.45 mL / min of the sulfuric acid are charged into the reaction vessel.

この時に発生された二酸化塩素気体はアスピレータで水に吸収溶解されて53ppmを示し、二酸化塩素水5.8L(収率95%)に該当する。   The chlorine dioxide gas generated at this time is absorbed and dissolved in water by an aspirator to show 53 ppm, which corresponds to 5.8 L of chlorine dioxide water (yield 95%).

100:反応槽
120:気体供給部
122:気体供給ライン
124:気体注入口
160:減圧器
164:排出口
R1:第1領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100: Reaction tank 120: Gas supply part 122: Gas supply line 124: Gas inlet 160: Pressure reducer 164: Outlet R1: 1st area | region

Claims (15)

反応槽と、
前記反応槽を第1領域と第2領域に分ける多孔性硝子フィルタ層と、
前記反応槽の第1領域に連結され、前記反応槽に塩素気体及び非活性気体を供給する少なくとも1つの気体供給部と、
前記反応槽の第2領域に連結され、前記反応槽に次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、または酸を供給する少なくとも1つの原料供給部と、
前記反応槽の前記第1領域、または第2領域のうちの少なくともいずれかいずれか1つに連結され、前記第1領域より前記第2領域の圧力を小さくするための圧力調節部と、
前記反応槽に連結され、前記反応槽の第2領域で生成された二酸化塩素気体が排出される排出口とを含むことを特徴とする二酸化塩素発生装置。
A reaction vessel;
A porous glass filter layer dividing the reaction vessel into a first region and a second region;
At least one gas supply unit connected to the first region of the reaction vessel and supplying chlorine gas and an inert gas to the reaction vessel;
At least one raw material supply unit connected to the second region of the reaction vessel and supplying hypochlorite, chlorite, or acid to the reaction vessel;
A pressure adjusting unit connected to at least one of the first region and the second region of the reaction tank and configured to reduce the pressure in the second region from the first region;
A chlorine dioxide generator, comprising: a discharge port connected to the reaction tank and from which chlorine dioxide gas generated in the second region of the reaction tank is discharged.
前記多孔性硝子フィルタ層の空隙の大きさは10ミクロン乃至100ミクロンであることを特徴とする請求項1に記載の二酸化塩素発生装置。   2. The chlorine dioxide generator according to claim 1, wherein the size of the void in the porous glass filter layer is 10 to 100 microns. 前記圧力調節部は、前記第1領域に連結され、前記第1領域を加圧する圧力ポンプであることを特徴とする請求項1に記載の二酸化塩素発生装置。   The chlorine dioxide generator according to claim 1, wherein the pressure adjusting unit is a pressure pump that is connected to the first region and pressurizes the first region. 前記圧力調節部は、前記第2領域に連結され、前記第2領域を減圧させる減圧器であることを特徴とする請求項1に記載の二酸化塩素発生装置。   2. The chlorine dioxide generator according to claim 1, wherein the pressure adjusting unit is a decompressor that is connected to the second region and depressurizes the second region. 前記減圧器は、減圧水、または減圧気体を利用するアスピレータであり、前記二酸化塩素が前記アスピレータを通過する前記減圧水に吸収されるか、または減圧気体に混合することを特徴とする請求項4に記載の二酸化塩素発生装置。   5. The decompressor is an aspirator using decompressed water or decompressed gas, and the chlorine dioxide is absorbed by the decompressed water passing through the aspirator or mixed with the decompressed gas. The chlorine dioxide generator described in 1. 前記減圧器は、真空ポンプであることを特徴とする請求項4に記載の二酸化塩素発生装置。   The chlorine dioxide generator according to claim 4, wherein the decompressor is a vacuum pump. 前記非活性気体は、窒素気体、炭酸気体、及び空気のうちの少なくとも何れか1つであることを特徴とする請求項1に記載の二酸化塩素発生装置。   2. The chlorine dioxide generator according to claim 1, wherein the non-active gas is at least one of nitrogen gas, carbon dioxide gas, and air. 前記原料供給部は、ソレノイドバルブを通じて連結されることを特徴とする請求項1に記載の二酸化塩素発生装置。   The chlorine dioxide generator according to claim 1, wherein the raw material supply unit is connected through a solenoid valve. 前記ソレノイドバルブを制御する制御部をさらに含み、
前記制御部は、前記ソレノイドバルブを制御して、前記次亜塩素酸、亜塩素酸、または酸の供給量を調節することを特徴とする請求項8に記載の二酸化塩素発生装置。
A control unit for controlling the solenoid valve;
The chlorine dioxide generator according to claim 8, wherein the controller controls the solenoid valve to adjust a supply amount of the hypochlorous acid, chlorous acid, or acid.
前記反応槽に前記反応槽内部の圧力を感知する圧力感知部をさらに含み、前記圧力感知部の信号は、前記制御部に伝達されることを特徴とする請求項9に記載の二酸化塩素発生装置。   The chlorine dioxide generator according to claim 9, further comprising a pressure sensing unit for sensing a pressure inside the reaction vessel in the reaction vessel, and a signal of the pressure sensing unit is transmitted to the control unit. . 前記排出口に連結された吸着塔をさらに含み、前記吸着塔は前記非活性気体と生成された二酸化塩素とを溶解する有機溶媒及び吸着物質を含むことを特徴とする請求項1に記載の二酸化塩素発生装置。   The adsorption tower according to claim 1, further comprising an adsorption tower connected to the outlet, wherein the adsorption tower contains an organic solvent that dissolves the inert gas and generated chlorine dioxide and an adsorbent. Chlorine generator. 前記有機溶媒は、n−ヘクサン、メチレンクロライド、エチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、石油エーテルのうちのいずれか1つであることを特徴とする請求項11に記載の二酸化塩素発生装置。   12. The chlorine dioxide generator according to claim 11, wherein the organic solvent is any one of n-hexane, methylene chloride, ethyl ether, tert-butyl methyl ether, and petroleum ether. 前記吸着物質は、ゼオライトやシリカゲルであることを特徴とする請求項11に記載の二酸化塩素発生装置。   12. The chlorine dioxide generator according to claim 11, wherein the adsorbing substance is zeolite or silica gel. 前記吸着塔に連結され、吸着されて残った二酸化塩素気体を除去するための二酸化塩素気体除去塔をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の二酸化塩素発生装置。   The chlorine dioxide generator according to claim 11, further comprising a chlorine dioxide gas removal tower connected to the adsorption tower to remove the chlorine dioxide gas remaining after adsorption. 前記気体除去塔は、前記二酸化塩素気体を除去するための過酸化水素、またはチオ硫酸ソーダを含むことを特徴とする請求項14に記載の二酸化塩素発生装置。   The chlorine dioxide generator according to claim 14, wherein the gas removal tower includes hydrogen peroxide or sodium thiosulfate for removing the chlorine dioxide gas.
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