JP2011502745A5 - - Google Patents

Claims (23)

1. ろ過膜の表面上にポリマー層を形成するために、炭化水素又はフッ化炭素モノマーを含むプラズマに該ろ過膜を曝す工程を含む、再利用可能なろ過膜の細孔径を維持する方法。
2. 再利用可能なろ過膜を苛性洗浄に供する、請求項１に記載の方法。
3. 再利用可能なろ過膜が、合成ポリマー材料から形成されている、請求項１又は２に記載の方法。
4. 合成ポリマー材料がポリエチレンである、請求項３に記載の方法。
5. プラズマがパルス化されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
6. モノマーが、式（Ｉ）：
   

   

   ［式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、独立して水素、アルキル、ハロアルキル、アリール、又はハロゲンで置換されているアリールから選択され；Ｒ^４は、Ｘ−Ｒ^５基｛式中、Ｒ^５は、アルキル又はハロアルキル基であり、Ｘは、結合；式−Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ_２）_ｎＹ−の基（式中、ｎは１〜１０の整数であり、Ｙは結合又はスルホンアミド基である）；又は−（０）_ＰＲ^６（Ｏ）_ｑ（ＣＨ_２）_ｔ−の基（式中、Ｒ^６は、アリール、又はハロゲンで置換されているアリールであり、ｐは０又は１であり、ｑは０又は１であり、ｔは０又は１〜１０の整数であり、ｑが１である場合には、ｔは０以外である）である｝である］
   の化合物である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 式（Ｉ）の化合物が、式（ＩＩ）：
   ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｒ^５ （ＩＩ）
   ｛式中、Ｒ^５は、請求項６で規定した通りである｝、
   の化合物、又は式（ＩＩＩ）：
   ＣＨ_２＝ＣＲ^７ａＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ_２）_ｎＲ^５ （ＩＩＩ）
   ｛式中、ｎ及びＲ^５は、請求項６で規定した通りであり、Ｒ^７ａは、水素、Ｃ_１−１０アルキル、又はＣ_１−１０ハロアルキルである｝
   の化合物である、請求項６に記載の方法。
8. 式（Ｉ）の化合物が、式（ＩＩＩ）の化合物である、請求項７に記載の方法。
9. 式（ＩＩＩ）の化合物が、式（ＩＶ）：
   

   

   ｛式中、Ｒ^７ａは、請求項７で規定した通りであり、ｘは、１〜９の整数である｝
   の化合物である、請求項７に記載の方法。
10. 式（ＩＶ）の化合物が、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアシレートである、請求項９に記載の方法。
11. ろ過膜をプラズマ堆積チャンバに置き、前記チャンバ内でグロー放電を点火し、そして電圧をパルス場としてかける、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
12. 印加電圧が、４０〜５００Ｗの電力である、請求項１１に記載の方法。
13. 電圧が、タイムオン：タイムオフの比が１：５００〜１：１５００の範囲である順序でパルス化されている、請求項１１又は１２に記載の方法。
14. 予備的工程において、連続出力プラズマをろ過膜にかける、請求項９〜１３のいずれか１項に記載の方法。
15. 前記予備的工程を不活性ガスの存在下で行なう、請求項１４に記載の方法。
16. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の方法によって処理された再利用可能なろ過膜。
17. 合成ポリマー材料から形成されている、請求項１６に記載の再利用可能なろ過膜。
18. ポリエチレンから形成されている、請求項１７に記載の再利用可能なろ過膜。
19. 請求項１６〜１８のいずれか１項に記載のろ過膜に液体の試料を通し、そして使用後に、再利用に備えて苛性溶液中で該ろ過膜を洗浄する工程を含む、液体をろ過する方法。
20. 化学攻撃に耐性を持つろ過膜を形成するための、プラズマ重合プロセスにより堆積された、重合されたフッ化炭素又は炭化水素のコーティングの使用。
21. 化学攻撃が洗浄中に起きる、請求項２０に記載の使用。
22. ろ過膜が、合成ポリマー材料から形成されている、請求項２０又は２１に記載の使用。
23. 合成ポリマー材料がポリエチレンである、請求項２２に記載の使用。