JP2011258441A - Method of manufacturing plasma display panel - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing PDP for preventing large-small particles of protective layer forming raw materials from mixing at the time of application and drying.SOLUTION: In this method of manufacturing a plasma display panel, a protective layer is formed on a front plate through processes including: (i) a process in which a first protective layer raw material containing first MgO particles and a first solvent and a second protective layer raw material containing second MgO particles and a second solvent are prepared; (ii) a process in which the first protective layer raw material and the second protective layer raw material are simultaneously applied to a dielectric layer formed on a base plate of a front plate and thereby a protective layer raw material layer having a two-layer structure of the first protective layer material layer and the second protective layer material layer is formed; and (iii) the protective layer raw material layer having a two-layer structure is dried; the particle size of the first MgO particles being smaller than that of the second MgO particles in the first and second protective layer raw materials prepared in the process (i), and the surface of the dielectric layer facing downward in the vertical direction when the first and second protective layer raw materials are simultaneously applied to that surface in the process (ii).

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。より詳細には、本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法のうち特に保護層形成に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display panel. More particularly, the present invention relates to the formation of a protective layer, among other methods of manufacturing a plasma display panel.

プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと称する)は、気体放電からの放射を利用した平面表示装置である。高速表示や大型化が容易であり、映像表示装置や広報表示装置などの分野で広く実用化されている。PDPには直流型(DC型)と交流型(AC型)があるが、面放電型AC型PDPは寿命特性や大型化の点で特に高い技術的ポテンシャルを持ち、商品化されている。   A plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”) is a flat display device using radiation from gas discharge. High-speed display and large size are easy, and it is widely put into practical use in fields such as video display devices and public information display devices. There are two types of PDP: DC type (DC type) and AC type (AC type). The surface discharge type AC type PDP has a particularly high technical potential in terms of life characteristics and size, and has been commercialized.

図10は、一般的なAC型PDPにおける放電単位となる放電セル構造の模式的組図である。図示するように、PDP(101’)は、フロントパネル(102’)とバックパネル(109’)との貼り合せから構成される。フロントパネル(102’)は、フロントパネルガラス(103’)の片面に、走査電極および維持電極を一対とする表示電極対(106’)が複数対にわたり配設されており、当該表示電極対(106’)を覆うように誘電体層(107’)および保護層(108’)が順次積層されて成るパネルである。走査電極および維持電極は、それぞれ透明電極(120’)及びバスライン(121’)を積層して構成されている。   FIG. 10 is a schematic assembly diagram of a discharge cell structure serving as a discharge unit in a general AC type PDP. As shown in the figure, the PDP (101 ') is formed by bonding a front panel (102') and a back panel (109 '). The front panel (102 ′) has a plurality of display electrode pairs (106 ′) each having a pair of scan electrodes and sustain electrodes on one side of the front panel glass (103 ′). 106 ′) is a panel in which a dielectric layer (107 ′) and a protective layer (108 ′) are sequentially laminated so as to cover. The scan electrode and the sustain electrode are configured by laminating a transparent electrode (120 ') and a bus line (121'), respectively.

誘電体層(107’)は低融点ガラスから形成され、AC型PDP特有の電流制限機能を奏する。そして、表面層(108’)は、誘電体層(107’)及び表示電極対(106’)をプラズマ放電のイオン衝突から保護すると共に、二次電子を効率よく放出し、放電開始電圧を低下させる役目を果たす。通常、当該表面層(108’)は、二次電子放出特性、耐スパッタ性、光学透明性に優れる酸化マグネシウム(MgO)を用いて真空蒸着法や印刷法によって成膜される。かかる表面層(108’)と同様の構成は、誘電体層(107’)及び表示電極対(106’)を保護する他に、二次電子放出特性の確保を目的とした保護層として設けられる。   The dielectric layer (107 ') is made of low-melting glass and has a current limiting function unique to the AC type PDP. Then, the surface layer (108 ′) protects the dielectric layer (107 ′) and the display electrode pair (106 ′) from ion collision of plasma discharge, and efficiently emits secondary electrons, thereby reducing the discharge start voltage. Play the role of letting. In general, the surface layer (108 ') is formed by vacuum evaporation or printing using magnesium oxide (MgO) having excellent secondary electron emission characteristics, sputtering resistance, and optical transparency. The same structure as the surface layer (108 ′) is provided as a protective layer for the purpose of securing secondary electron emission characteristics in addition to protecting the dielectric layer (107 ′) and the display electrode pair (106 ′). .

他方、バックパネル(109’)は、バックパネルガラス(110’)上に画像データを書き込むための複数のデータ(アドレス)電極(111’)が前記フロントパネル(102’)の表示電極対(106’)と直交方向で交差するように併設されて成るパネルである。バックパネルガラス(110’)には、データ電極(111’)を覆うように低融点ガラスからなる誘電体層(112’)が配設される。誘電体層(112’)において隣接する放電セル(図示省略)との境界上には、低融点ガラスからなる所定の高さの隔壁リブ(113’)が(放電空間115’)を区画するように、井桁状等のパターン部(113’)を組み合わせて形成される。誘電体層(112’)の表面と隔壁(113’)の側面には、R、G、B各色の蛍光体インクが塗布及び焼成されてなる蛍光体層(114’)(即ち、蛍光体層R、G、B)が形成されている。   On the other hand, the back panel (109 ′) has a plurality of data (address) electrodes (111 ′) for writing image data on the back panel glass (110 ′), and the display electrode pair (106) of the front panel (102 ′). It is a panel that is installed side-by-side with '). A dielectric layer (112 ') made of low-melting glass is disposed on the back panel glass (110') so as to cover the data electrode (111 '). On the boundary of the dielectric layer (112 ′) with the adjacent discharge cells (not shown), partition ribs (113 ′) having a predetermined height made of low-melting glass partition (discharge space 115 ′). And a pattern portion (113 ′) such as a cross beam is formed in combination. A phosphor layer (114 ′) (that is, a phosphor layer) formed by applying and firing phosphor inks of R, G, and B colors on the surface of the dielectric layer (112 ′) and the side surfaces of the partition walls (113 ′). R, G, B) are formed.

フロントパネル(102’)とバックパネル(109’)とは、表示電極対(106’)とデータ電極(111’)とが放電空間(115’)をおいて互いに直交するように配置され、その各周囲で封着されている。フロントパネル(102’)およびバックパネル(109’)の内部の放電空間(115’)には、放電ガスとしてXe−Ne系あるいはXe−He系等の希ガスが約数十kPaの圧力で封入されている。以上のような構成でもってPDP(101)が構築されている。   The front panel (102 ′) and the back panel (109 ′) are arranged such that the display electrode pair (106 ′) and the data electrode (111 ′) are orthogonal to each other with a discharge space (115 ′). Sealed around each. The discharge space (115 ′) inside the front panel (102 ′) and the back panel (109 ′) is filled with a rare gas such as Xe—Ne or Xe—He as a discharge gas at a pressure of about several tens of kPa. Has been. The PDP (101) is constructed with the above configuration.

PDPで画像表示を実現するためには、1フィールドの映像を複数のサブフィールド(S.F.)に分割する階調表現方式(例えばフィールド内時分割表示方式)が用いられる。   In order to realize the image display by the PDP, a gradation expression method (for example, an intra-field time division display method) that divides an image of one field into a plurality of subfields (SF) is used.

特開2008−27924号公報JP 2008-27924 A

ところで、近年の電化製品においては低電力駆動が望まれており、PDPについても同様の要求がある。高精細なPDPにおいては、放電セルが微細化されて放電セル数も増大するので、書込放電の確実性を上げるべく動作電圧が高くなる問題が生じる。これらの問題の対策として、MgO保護層の結晶構造を変化させたり、或いはMgOにFe、CrおよびVや、Si、Alを添加物として加えることで、MgOの改質を図ることが講じられている。また、誘電体層上或いは、真空蒸着方法やスパッタ法で成膜したMgO膜上に、放電遅れの改善効果が期待できるMgO保護層を気相法で成膜したり、気相法で作製したMgOの粉体を誘電体層上に塗布する構成も提案されている。このような従来技術では、真空蒸着方法で成膜したMgO層の上にダイコータによりMgOの粉体が塗布する方法が取られてきた。   By the way, low-power driving is desired in recent electric appliances, and there is a similar requirement for PDP. In a high-definition PDP, discharge cells are miniaturized and the number of discharge cells is increased, which causes a problem that the operating voltage increases to increase the reliability of the write discharge. As countermeasures against these problems, it is attempted to modify MgO by changing the crystal structure of the MgO protective layer or by adding Fe, Cr and V, Si, and Al as additives to MgO. Yes. Also, a MgO protective layer that can be expected to improve the discharge delay is formed on the dielectric layer or on the MgO film formed by a vacuum deposition method or a sputtering method. A configuration in which MgO powder is applied onto a dielectric layer has also been proposed. In such a conventional technique, a method of applying a powder of MgO by a die coater on an MgO layer formed by a vacuum vapor deposition method has been taken.

しかしながら、いわゆる薄膜成膜と言われる真空蒸着方法と厚膜成膜と言われるダイコート方法とが連続して行われることを考えると、この2層を同じ塗布プロセスで実施すべきとの考え方が浮上してくる。その1つの方法として、まず従来、蒸着法にて成膜されていたMgO層をダイコート法にて微細なMgOを分散させたインクを用いて形成し、乾燥後、この層の粒子よりも少し大きなMgOを分散させたインクを用いて同様に塗布乾燥させる方法が考えられる。特に、2層を同時に塗布乾燥することが、工程の削減や、工程間で発生するダストの低減、2層間の密着力向上などの点で望まれている。   However, considering that the vacuum deposition method called so-called thin film deposition and the die coating method called thick film deposition are performed continuously, the idea that these two layers should be implemented in the same coating process has emerged. Come on. As one of the methods, first, an MgO layer that has been conventionally formed by an evaporation method is formed by using an ink in which fine MgO is dispersed by a die coating method, and after drying, it is slightly larger than the particles of this layer. A method of applying and drying similarly using ink in which MgO is dispersed is conceivable. In particular, the simultaneous application and drying of the two layers is desired in terms of reducing the number of steps, reducing dust generated between the steps, and improving the adhesion between the two layers.

MgO粒子の積層膜を形成するには、下層にあたるインク内に微細なMgO粒子を供する一方、上層にあたるインク内に下層の粒子の数百倍ある粒子サイズのMgOを並べることが必要である。ここで従来の積層塗布としては、光学フィルムの製造方法というものがある(例えば、上記特許文献1参照)。図11は、特許文献1に記載された従来法で粒子を含んだインクの積層塗布を行う態様を示している。図示するように、それぞれにMgO粒子を含んだインク(40’および50’)は、スリットダイ(70’)のスリット(71’および72’)を通してパネル(10’)上へ積層塗布される。塗布後は、乾燥装置(図示せず)でインクを乾燥させている。しかしながら、かかる従来法では、図12に示すように、大粒子(56’)と小粒子(46’)との上下関係が入れ替わってしまい、混ざりを発生した粒子の積層体が生じてしまう。   In order to form a laminated film of MgO particles, it is necessary to provide fine MgO particles in the ink corresponding to the lower layer, while arranging MgO having a particle size several hundred times that of the lower layer particles in the ink corresponding to the upper layer. Here, as a conventional lamination coating, there is a method of manufacturing an optical film (for example, see Patent Document 1). FIG. 11 shows a mode in which ink containing particles is applied by a conventional method described in Patent Document 1. As shown, the inks (40 'and 50') each containing MgO particles are laminated and applied onto the panel (10 ') through the slits (71' and 72 ') of the slit die (70'). After application, the ink is dried by a drying device (not shown). However, in such a conventional method, as shown in FIG. 12, the vertical relationship between the large particles (56 ') and the small particles (46') is switched, and a layered body of mixed particles is generated.

つまり、粒子サイズの異なる2種類のインクを同時塗布して乾燥した場合には、2層の乾燥が終了するまでに大粒子(56’)が沈降を開始し、小粒子(46’)層の中に大粒子(56’)が混ざってしまう。これにより、本来、小粒子(46’)層の上に存在すべき大粒子(56’)が減少し、PDPパネルとして目的の電気特性を得られないということが懸念される。   That is, when two types of inks having different particle sizes are simultaneously applied and dried, the large particles (56 ′) start to settle before the drying of the two layers ends, and the small particles (46 ′) Large particles (56 ') are mixed inside. As a result, there is a concern that the large particles (56 ') that should originally exist on the small particle (46') layer are reduced, and the intended electrical characteristics cannot be obtained as a PDP panel.

本発明はこのような事情に鑑みて為されたものである。つまり、本発明の課題は、保護層形成原料の大小粒子が塗布乾燥時に混ざることを防止したPDP製造法を提供することである。   The present invention has been made in view of such circumstances. That is, the subject of this invention is providing the PDP manufacturing method which prevented the large and small particle | grains of a protective layer formation raw material from mixing at the time of application | coating drying.

上記課題を解決するため、本発明は、基板A上に電極Aと誘電体層Aと保護層とが形成された前面板と、基板B上に電極Bと誘電体層Bと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板とが対向配置されて成るプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前面板の保護層の形成が、
(i)第1MgO粒子および第1溶剤を含んで成る第1保護層原料ならびに第2MgO粒子および第2溶剤を含んで成る第2保護層原料を用意する工程、
(ii)基板A上に形成された誘電体層Aに対して第1保護層原料と第2保護層原料とを実質的に同時に塗布することによって「第1保護層原料から成る第1保護層原料層」と「第2保護層原料から成る第2保護層原料層」との2層構造の保護層原料層を形成する工程、ならびに
(iii)2層構造の保護層原料層を乾燥に付す工程
を含んで成り、
工程(i)で用意する第1保護層原料および第2保護層原料につき、第1保護層原料の第1MgO粒子の粒子サイズが第2保護層原料の第2MgO粒子の粒子サイズよりも小さくなっており、
工程(ii)においては、「塗布されることになる誘電体層Aの面」を鉛直方向下向きにした状態で、第1保護層原料および第2保護層原料を実質的に同時に誘電体層Aの面に向かって供給しており、それによって、誘電体層Aと接するようにその誘電体層A上に第1保護層原料層を形成すると共に、第1保護層原料層と接するようにその第1保護層原料層上に第2保護層原料層を形成することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法が提供される。
In order to solve the above problems, the present invention provides a front plate in which an electrode A, a dielectric layer A, and a protective layer are formed on a substrate A, an electrode B, a dielectric layer B, a partition, and a phosphor on a substrate B. A method of manufacturing a plasma display panel, wherein a back plate on which a layer is formed is disposed to face each other,
The formation of the protective layer on the front plate
(I) providing a first protective layer material comprising first MgO particles and a first solvent, and a second protective layer material comprising second MgO particles and a second solvent;
(Ii) By applying the first protective layer raw material and the second protective layer raw material substantially simultaneously to the dielectric layer A formed on the substrate A, the “first protective layer made of the first protective layer raw material” A step of forming a protective layer raw material layer having a two-layer structure of a “raw material layer” and a “second protective layer raw material layer comprising a second protective layer raw material”; and (iii) subjecting the protective layer raw material layer having a two-layer structure to drying Comprising the steps,
For the first protective layer raw material and the second protective layer raw material prepared in step (i), the particle size of the first MgO particles of the first protective layer raw material is smaller than the particle size of the second MgO particles of the second protective layer raw material. And
In the step (ii), the first protective layer raw material and the second protective layer raw material are substantially simultaneously and substantially the same with the “surface of the dielectric layer A to be applied” facing downward in the vertical direction. The first protective layer raw material layer is formed on the dielectric layer A so as to be in contact with the dielectric layer A, and the first protective layer raw material layer is in contact with the first protective layer raw material layer. A method for producing a plasma display panel is provided, wherein a second protective layer raw material layer is formed on the first protective layer raw material layer.

本発明の製造方法では、「塗布されることになる誘電体層Aの面」を鉛直方向下向きにした状態で2種類の保護層原料を個別に同時塗布することを特徴としている。つまり、図1に示すように、塗布面を地面側へ向けた状態で2種類の保護層原料(40,50)を鉛直方向上向きに供給して2層同時塗布を行う。   The production method of the present invention is characterized in that two types of protective layer materials are separately applied simultaneously with the “surface of the dielectric layer A to be applied” facing downward in the vertical direction. That is, as shown in FIG. 1, two types of protective layer raw materials (40, 50) are supplied vertically upward with the coating surface facing the ground side, and two layers are simultaneously coated.

本明細書において「第1保護層原料および第2保護層原料を同時に塗布」とは、誘電体層Aの塗布される面に対して、第1保護層原料を供給すると共に、その供給に際して第2保護層原料も併せて供給する態様を実質的に意味している。   In the present specification, “the first protective layer raw material and the second protective layer raw material are applied simultaneously” means that the first protective layer raw material is supplied to the surface on which the dielectric layer A is applied, The aspect which supplies 2 protective layer raw materials collectively is substantially meant.

また、本明細書において「塗布されることになる誘電体層Aの面を鉛直方向下向きにした状態」とは、保護層原料が供される誘電体層面が地面側を向いていることを実質的に意味している。従って、本発明では、誘電体層Aの面が大きく見て地面側を向いていればよく鉛直方向下向きから僅かにずれた態様(例えば鉛直方向から±30°以内の範囲で誘電体層面が地面側を向いている態様)をも包含している。   Further, in this specification, “the state in which the surface of the dielectric layer A to be applied is vertically downward” means that the surface of the dielectric layer provided with the protective layer raw material faces the ground side. Meaning. Therefore, in the present invention, it is sufficient that the surface of the dielectric layer A is large and faces the ground side, and is slightly deviated from the vertical downward direction (for example, the dielectric layer surface is within ± 30 ° from the vertical direction). A side facing side) is also included.

更に、本明細書において「粒子サイズ」とは、粒子のあらゆる方向における長さのうち最大となる長さを実質的に意味している。特に本発明で用いられるMgO粒子はMgO粉体の形態で用いられ得るので、「MgO粒子サイズ」は実質的には粉体粒子における「平均粒子サイズ」のことを指している。ここで、かかる「平均粒子サイズ」とは、粒子の透過型電子顕微鏡写真または光学顕微鏡写真に基づいて例えば10個の粒子のサイズを測定し、その数平均として算出した粒子サイズを実質的に意味している。   Further, in the present specification, the “particle size” substantially means the maximum length among the lengths of the particles in all directions. In particular, since the MgO particles used in the present invention can be used in the form of MgO powder, the “MgO particle size” substantially refers to the “average particle size” of the powder particles. Here, the “average particle size” substantially means the particle size calculated as the number average of, for example, the size of 10 particles based on the transmission electron micrograph or optical micrograph of the particles. is doing.

ある好適な態様では、工程(i)で用意する第1保護層原料および第2保護層原料につき、“第2保護層原料における第2MgO粒子の沈降速度”が“第1保護層原料における第1MgO粒子の沈降速度”よりも速くなっており、かつ、“第2保護層原料における第2溶剤の蒸気圧”が“第1保護層原料における第1溶剤の蒸気圧”よりも低くなっている。   In a preferred embodiment, for the first protective layer raw material and the second protective layer raw material prepared in step (i), the “sedimentation rate of the second MgO particles in the second protective layer raw material” is “the first MgO in the first protective layer raw material”. It is faster than the “sedimentation rate of the particles”, and “the vapor pressure of the second solvent in the second protective layer material” is lower than “the vapor pressure of the first solvent in the first protective layer material”.

別のある好適な態様では、工程(ii)で形成された2層構造の保護層原料層をその形成時における向きをそのまま維持した状態で真空乾燥に付す。つまり、工程(iii)において、誘電体層Aに対して保護層原料層の方が鉛直方向に下側となった配置状態で「2層構造の保護層原料層」を真空乾燥させる。かかる場合、保護層原料層を2段階で真空乾燥に付すことが好ましい。具体的には、第1真空乾燥と第2真空乾燥との2段階の真空乾燥を実施することが好ましく、第1真空乾燥では、第1減圧下において第1保護層原料層を乾燥させ、第2真空乾燥では、その第1減圧から更に減圧した第2減圧下において第2保護層原料層を乾燥させる。   In another preferred embodiment, the protective layer raw material layer having the two-layer structure formed in the step (ii) is subjected to vacuum drying while maintaining the orientation at the time of formation. That is, in the step (iii), the “two-layer protective layer raw material layer” is vacuum-dried in a state in which the protective layer raw material layer is vertically lower than the dielectric layer A. In such a case, it is preferable to subject the protective layer raw material layer to vacuum drying in two stages. Specifically, it is preferable to carry out two-stage vacuum drying of first vacuum drying and second vacuum drying. In the first vacuum drying, the first protective layer material layer is dried under a first reduced pressure, In the two-vacuum drying, the second protective layer material layer is dried under a second reduced pressure that is further reduced from the first reduced pressure.

本発明の製造方法によれば、保護層形成原料の大小粒子(MgO大粒子およびMgO小粒子)が塗布乾燥時に混ざり合うといった不都合が防止される。つまり、パネルの塗布面に近い側の第1保護層として小粒子のMgO粒子層が形成され、遠い側の第2保護層として大粒子のMgO粒子層が形成される。具体的には図2に示すように、前面板の保護層としては、誘電体層上に「第1保護層原料層の乾燥によって得られる第1MgO粒子層(46)」が設けられると共に、「第2保護層原料層の乾燥によって得られる第2MgO粒子層(56)」が第1MgO粒子層(46)の上に設けられる(第1MgO粒子サイズ<第2MgO粒子サイズ)。   According to the production method of the present invention, it is possible to prevent inconvenience that large and small particles (MgO large particles and MgO small particles) of the protective layer forming raw material are mixed during coating and drying. That is, a small MgO particle layer is formed as the first protective layer on the side close to the coated surface of the panel, and a large MgO particle layer is formed as the second protective layer on the far side. Specifically, as shown in FIG. 2, as the protective layer of the front plate, a “first MgO particle layer (46) obtained by drying the first protective layer raw material layer” is provided on the dielectric layer, and “ A second MgO particle layer (56) obtained by drying the second protective layer raw material layer ”is provided on the first MgO particle layer (46) (first MgO particle size <second MgO particle size).

このように、本発明では、パネル基板に近い側の第1保護層としてMgO小粒子層および遠い側の第2保護層としてMgO大粒子層を実現できるので、得られるPDPでは、従来に比べ、低消費電力と高コントラストという有利な効果が奏される。   In this way, in the present invention, since the MgO small particle layer can be realized as the first protective layer on the side close to the panel substrate and the MgO large particle layer can be realized as the second protective layer on the far side, the obtained PDP has a higher The advantageous effects of low power consumption and high contrast are achieved.

本発明における背面積層塗布の態様を表した断面模式図Schematic cross-sectional view showing the aspect of back side lamination coating in the present invention 本発明における真空乾燥後の前面板パネル(特に保護層)の態様を表した断面模式図The cross-sectional schematic diagram showing the aspect of the front plate panel (especially protective layer) after the vacuum drying in this invention PDPの構成を模式的に示した図(図3(a):PDPの概略構成を模式的に示した斜視図、図3(b):PDP前面板を模式的に示した断面図)The figure which showed the structure of PDP typically (FIG. 3 (a): The perspective view which showed the schematic structure of PDP typically, FIG.3 (b): The sectional view which showed the PDP front plate typically) 本発明の製造方法における工程を模式的に表した断面斜視図Cross-sectional perspective view schematically showing the steps in the production method of the present invention 保護層原料中における粒子径と沈降速度との相関関係を表したグラフ(実験結果)Graph showing the correlation between particle size and sedimentation velocity in the protective layer material (experimental results) 本発明における2層同時の背面塗布の態様を模式的に表した断面斜視図The cross-sectional perspective view which represented typically the aspect of 2 layer simultaneous backside coating in this invention 本発明で用いることができる真空排気チャンバーの構成を模式的に表した図The figure which represented typically the structure of the vacuum exhaust chamber which can be used by this invention 本発明における真空乾燥時の真空度特性を表したグラフGraph showing the degree of vacuum characteristics during vacuum drying in the present invention 大粒子の8割以上が小粒子層から飛び出ている場合の電顕写真図Electron micrograph when over 80% of the large particles are popping out of the small particle layer 一般的なPDPの保護膜周辺の構成を表した断面模式図Cross-sectional schematic diagram showing the configuration around the protective film of a typical PDP 従来技術における積層塗布時の態様を表した断面模式図Schematic cross-sectional view showing the state of multilayer coating in the prior art 従来技術における真空乾燥後の前面板パネル(特に保護層)の態様を表した断面模式図Cross-sectional schematic diagram showing the mode of the front panel (especially protective layer) after vacuum drying in the prior art

以下にて、図面を参照しながら、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法を詳細に説明する。図面に示す各種の要素は、本発明の理解のために模式的に示したにすぎず、寸法比や外観などは実物と異なり得ることに留意されたい。   Hereinafter, a method for manufacturing a plasma display panel of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the various elements shown in the drawings are merely schematically shown for understanding of the present invention, and the dimensional ratio, appearance, and the like may differ from the actual ones.

プラズマディスプレイパネルの構成
まず、本発明の製造方法を経ることによって最終的に得られるプラズマディスプレイパネルを簡単に説明する。図3(a)に、PDPの構成を断面斜視図で模式的に示すと共に、図3(b)にPDPの前面板の断面図を模式的に示す。
[ Configuration of plasma display panel ]
First, a plasma display panel finally obtained through the manufacturing method of the present invention will be briefly described. FIG. 3A schematically shows the configuration of the PDP in a sectional perspective view, and FIG. 3B schematically shows a sectional view of the front plate of the PDP.

本発明のPDP(100)の構成は、図3(a)に示すように、「基板A(10)に電極A(11)と誘電体層A(15)と保護層(16)とが設けられた前面板(1)」および「基板B(20)上に電極B(21)と誘電体層B(22)と隔壁(23)と蛍光体層(25)とが設けられた背面板(2)」からなる。   As shown in FIG. 3 (a), the PDP (100) of the present invention has a structure in which an electrode A (11), a dielectric layer A (15), and a protective layer (16) are provided on a substrate A (10). The front plate (1) ”and the back plate (on which the electrode B (21), the dielectric layer B (22), the partition wall (23), and the phosphor layer (25) are provided on the substrate B (20)). 2) ".

図示するように、前面板(1)では基板A(10)上に電極A(11)が設けられ、電極A(11)を覆うように誘電体層A(15)が基板A(10)上に設けられ、また、誘電体層A(15)上に保護層(16)が設けられている。背面板(2)では基板B(20)上に電極B(21)が設けられ、電極B(21)を覆うように誘電体層B(22)が基板B(20)上に設けられ、誘電体層B(22)上に隔壁(23)および蛍光体層(25)が設けられている。前面板(1)と背面板(2)とは、保護層(16)と蛍光体層(25)とが互いに向き合うように対向配置されている。前面板(1)および背面板(2)の周縁部は、例えば低融点フリットガラス材料などから成る封着部材によって気密封着されている(図示せず)。前面板(1)と背面板(2)との間に形成された放電空間(30)には放電ガス(ヘリウム、ネオンまたはキセノンなど)が例えば20kPa〜80kPa程度の圧力で封入されている。   As shown in the figure, the front plate (1) is provided with the electrode A (11) on the substrate A (10), and the dielectric layer A (15) is disposed on the substrate A (10) so as to cover the electrode A (11). In addition, a protective layer (16) is provided on the dielectric layer A (15). In the back plate (2), an electrode B (21) is provided on the substrate B (20), and a dielectric layer B (22) is provided on the substrate B (20) so as to cover the electrode B (21). A partition wall (23) and a phosphor layer (25) are provided on the body layer B (22). The front plate (1) and the back plate (2) are arranged to face each other so that the protective layer (16) and the phosphor layer (25) face each other. The peripheral portions of the front plate (1) and the back plate (2) are hermetically sealed by a sealing member made of, for example, a low melting point frit glass material (not shown). A discharge space (30) formed between the front plate (1) and the back plate (2) is filled with a discharge gas (such as helium, neon, or xenon) at a pressure of about 20 kPa to 80 kPa, for example.

更に具体的に、本発明のPDP(100)を説明していく。本発明のPDP(100)の前面板(1)は、上述したように、基板A(10)、電極A(11)、誘電体層A(15)および保護層(16)を有して成る。基板A(10)は、透明で絶縁性を有する基板(厚さは例えば約1.0mm以上かつ約3mm以下)である。基板A(10)としては、例えば、フロート法などで製造されたフロートガラス基板を挙げることができる他、ソーダライムガラス基板またはホウケイ酸塩ガラス基板などを挙げることができる。電極A(11)は、基板A(10)上にストライプ状に平行に複数配置されるものであり、例えば、走査電極(12)および維持電極(13)から成る表示電極である。この場合、走査電極(12)および維持電極(13)は、それぞれ「酸化インジウム(ITO)または酸化スズ(SnO)などから成る透明導電膜である透明電極(12a、13a)」、および、かかる透明電極上に形成された「銀を主成分としたバス電極(12b、13b)」から構成される(図3(b)参照)。透明電極(12a、13a)は、蛍光体層で発生した可視光を透過させる電極として主に機能する一方、バス電極(12b、13b)は、透明電極の長手方向に導電性を付与するための電極として主に機能する。透明電極(12a、13a)の厚さは、好ましくは約50nm以上かつ約500nm以下である。また、バス電極(12b、13b)の厚さは、好ましくは約1μm以上かつ約20μm以下である。尚、図3(a)に示すように、基板A(10)上にはブラックストライプ(14)(遮光層)もパターン形成され得る。 More specifically, the PDP (100) of the present invention will be described. As described above, the front plate (1) of the PDP (100) of the present invention includes the substrate A (10), the electrode A (11), the dielectric layer A (15) and the protective layer (16). . The substrate A (10) is a transparent and insulating substrate (having a thickness of about 1.0 mm or more and about 3 mm or less). Examples of the substrate A (10) include a float glass substrate manufactured by a float process or the like, and a soda lime glass substrate or a borosilicate glass substrate. A plurality of electrodes A (11) are arranged in parallel in the form of stripes on the substrate A (10), and are, for example, display electrodes including scan electrodes (12) and sustain electrodes (13). In this case, the scanning electrode (12) and the sustaining electrode (13) are respectively “transparent electrodes (12a, 13a) which are transparent conductive films made of indium oxide (ITO) or tin oxide (SnO 2 )” and the like. It is comprised from "the bus electrode (12b, 13b) which has silver as a main component" formed on the transparent electrode (refer FIG.3 (b)). The transparent electrodes (12a, 13a) mainly function as electrodes that transmit visible light generated in the phosphor layer, while the bus electrodes (12b, 13b) provide conductivity in the longitudinal direction of the transparent electrodes. Mainly functions as an electrode. The thickness of the transparent electrodes (12a, 13a) is preferably about 50 nm or more and about 500 nm or less. The thickness of the bus electrodes (12b, 13b) is preferably about 1 μm or more and about 20 μm or less. As shown in FIG. 3A, a black stripe (14) (light shielding layer) can also be formed on the substrate A (10).

誘電体層A(15)は、基板A(10)の表面に形成された電極A(11)を覆うように設けられている。かかる誘電体層A(15)は、主としてガラス成分およびビヒクル成分(=バインダ樹脂および有機溶剤などを含んだ成分)から成る誘電体原料ペーストを塗布および熱処理して得られるガラス組成から成る膜である。誘電体層A(15)の上には、例えば酸化マグネシウム(MgO)などから成る保護層(16)が形成されている(厚さは例えば約0.5μm以上かつ約1.5μm以下)。   The dielectric layer A (15) is provided so as to cover the electrode A (11) formed on the surface of the substrate A (10). The dielectric layer A (15) is a film made of a glass composition obtained by applying and heat-treating a dielectric material paste mainly composed of a glass component and a vehicle component (= a component containing a binder resin and an organic solvent). . On the dielectric layer A (15), a protective layer (16) made of, for example, magnesium oxide (MgO) is formed (thickness is about 0.5 μm or more and about 1.5 μm or less).

一方、本発明のPDPの背面板(2)は、上述したように、基板B(20)、電極B(21)、誘電体層B(22)、隔壁(23)および蛍光体層(25)を有して成る。基板B(20)は、透明で絶縁性を有する基板(厚さは例えば約1.0mm以上かつ約3mm以下)であることが好ましく、例えば、フロート法などで製造されたフロートガラス基板を挙げることができる他、ソーダライムガラス基板、ホウケイ酸塩ガラス基板または各種セラミック基板などを挙げることができる。電極B(21)は、基板B(20)上にストライプ状に複数形成される銀を主成分とした電極(厚さは例えば約1μm以上かつ約10μm以下)であり、例えば、アドレス電極(またはデータ電極)である。アドレス電極は、各放電セルを選択的に放電させる機能を主に有している。   On the other hand, as described above, the back plate (2) of the PDP of the present invention includes the substrate B (20), the electrode B (21), the dielectric layer B (22), the partition wall (23), and the phosphor layer (25). It has. The substrate B (20) is preferably a transparent and insulating substrate (thickness is, for example, not less than about 1.0 mm and not more than about 3 mm), for example, a float glass substrate manufactured by a float method or the like. In addition, a soda lime glass substrate, a borosilicate glass substrate, various ceramic substrates, and the like can be given. The electrode B (21) is an electrode (thickness is about 1 μm or more and about 10 μm or less) made mainly of silver and formed in stripes on the substrate B (20). Data electrode). The address electrode mainly has a function of selectively discharging each discharge cell.

誘電体層B(22)は、下地誘電体層と一般に呼ばれるものであり、基板B(20)の表面に形成された電極B(21)を覆うように設けられている。かかる誘電体層B(22)は、主としてガラス成分およびビヒクル成分(=バインダ樹脂および有機溶剤などを含んだ成分)から成る誘電体原料ペーストを塗布および熱処理して得られるガラス組成から成る膜である。誘電体層B(22)の厚さは、例えば約5μm以上かつ約50μm以下である。誘電体層B(22)の上には、蛍光体材料を主成分とした蛍光体層(25)が形成されている(厚さは例えば約5μm以上かつ約20μm以下程度)。蛍光体層(25)は、放電によって放射された紫外線を可視光線に変換する機能を主に有している。かかる蛍光体層(25)は、赤色、緑色および青色を発する蛍光体層を構成単位としており、それぞれが隔壁(23)で区切られている。隔壁(23)は、放電空間をアドレス電極(21)毎に区画する目的で、ストライプ状または井桁状に誘電体層B(22)上に形成されている。   The dielectric layer B (22) is generally called a base dielectric layer, and is provided so as to cover the electrode B (21) formed on the surface of the substrate B (20). The dielectric layer B (22) is a film having a glass composition obtained by applying and heat-treating a dielectric raw material paste mainly composed of a glass component and a vehicle component (= a component including a binder resin and an organic solvent). . The thickness of the dielectric layer B (22) is, for example, not less than about 5 μm and not more than about 50 μm. On the dielectric layer B (22), a phosphor layer (25) mainly composed of a phosphor material is formed (the thickness is, for example, about 5 μm or more and about 20 μm or less). The phosphor layer (25) mainly has a function of converting ultraviolet rays emitted by the discharge into visible light. The phosphor layer (25) has phosphor layers emitting red, green and blue as structural units, and each is separated by a partition wall (23). The barrier ribs (23) are formed on the dielectric layer B (22) in a stripe shape or in a grid pattern for the purpose of partitioning the discharge space for each address electrode (21).

本発明のPDP(100)では、前面板(1)の表示電極(11)と背面板(2)のアドレス電極(21)とが直交するように、前面板(1)と背面板(2)とが放電空間(30)を挟んで対向して配置されている。このようなPDP(100)では、隔壁(23)によって仕切られ、アドレス電極(21)と表示電極(11)とが交差する放電空間(30)が放電セル(32)として機能することになる。換言すれば、マトリクス状に配列されている放電セルが画像表示領域を構成している。従って、外部駆動回路から表示電極(11)に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電ガスを放電させ、かかる放電によって生じる紫外線によって、各色の蛍光体層を励起させて赤色、緑色および青色の可視光を発生させると、カラー画像表示が実現される。   In the PDP (100) of the present invention, the front plate (1) and the back plate (2) are arranged so that the display electrode (11) of the front plate (1) and the address electrode (21) of the back plate (2) are orthogonal to each other. Are arranged opposite to each other across the discharge space (30). In such a PDP (100), the discharge space (30) partitioned by the partition wall (23) and intersecting the address electrode (21) and the display electrode (11) functions as a discharge cell (32). In other words, the discharge cells arranged in a matrix form an image display area. Accordingly, the discharge gas is discharged by selectively applying the video signal voltage from the external drive circuit to the display electrode (11), and the phosphor layers of the respective colors are excited by the ultraviolet rays generated by the discharge, thereby red, green, and blue. When visible light is generated, color image display is realized.

PDPの一般的な製造方法
次に、PDPの一般的な製造方法について簡潔に説明する。特に言及しない限り、本発明に係るPDPは、原則、一般的なPDP製造法に基づいて得ることができる。また、特に言及しない限り、各種構成部材の原材料(原料ペースト)/構成材料なども一般的なPDP製造法で常套的に用いられているものであってよい。
[ General manufacturing method of PDP ]
Next, a general method for manufacturing a PDP will be briefly described. Unless otherwise stated, the PDP according to the present invention can be obtained based on a general PDP manufacturing method in principle. Unless otherwise specified, raw materials (raw material pastes) / constituent materials of various constituent members may also be those conventionally used in general PDP manufacturing methods.

まず、ガラス基板である基板A(10)上に、電極Aとして走査電極(12)と維持電極(13)とから構成される表示電極(11)を形成する。走査電極(12)および維持電極(13)のそれぞれの透明電極(12a、13a)とバス電極(12b、13b)とは、露光・現像するフォトリソグラフィ法などを用いてパターニングできる。透明電極(12a、13a)は薄膜プロセスなどを用いて形成でき、バス電極(12b、13b)は銀(Ag)材料を含むペーストを乾燥(100〜200℃程度)および焼成(400〜600℃程度)に付すことによって形成できる。また、電極Aの形成に際して、遮光層(14)も形成してよく、黒色顔料を含んだ原料ペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料を含んだ原料をガラス基板の全面に設けた後、露光・現像するフォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することによって形成できる。次いで、走査電極(12)、維持電極(13)および遮光層(14)を覆うように基板A(10)上に、ガラス成分(SiO、Bなどから形成される材料)とビヒクル成分とを主成分とした誘電体原料ペーストをダイコート法または印刷法などにより塗布して誘電体ペースト層を形成する。塗布した後、所定の時間放置すると塗布された誘電体ペーストの表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成すると誘電体層A(15)が形成される。誘電体層A(15)を形成した後、かかる誘電体層A(15)上に保護膜(16)を形成する。保護膜(16)は、一般的には、真空蒸着法、CVD法またはスパッタリング法などを用いて形成できる。 First, on the substrate A (10) which is a glass substrate, the display electrode (11) composed of the scan electrode (12) and the sustain electrode (13) is formed as the electrode A. The transparent electrodes (12a, 13a) and the bus electrodes (12b, 13b) of the scan electrode (12) and the sustain electrode (13) can be patterned using a photolithography method that exposes and develops. The transparent electrodes (12a, 13a) can be formed by using a thin film process or the like, and the bus electrodes (12b, 13b) are obtained by drying (about 100 to 200 ° C.) and baking (about 400 to 600 ° C.) a paste containing a silver (Ag) material. ). Further, when forming the electrode A, a light shielding layer (14) may also be formed. After the raw material paste containing the black pigment is screen-printed or the raw material containing the black pigment is provided on the entire surface of the glass substrate, exposure / It can be formed by patterning using a photolithography method for development and baking. Next, a glass component (material formed from SiO 2 , B 2 O 3, etc.) and a vehicle on the substrate A (10) so as to cover the scan electrode (12), the sustain electrode (13), and the light shielding layer (14). A dielectric material paste mainly composed of components is applied by a die coating method or a printing method to form a dielectric paste layer. After application, if left for a predetermined time, the surface of the applied dielectric paste is leveled to form a flat surface. Thereafter, when the dielectric paste layer is fired, a dielectric layer A (15) is formed. After forming the dielectric layer A (15), a protective film (16) is formed on the dielectric layer A (15). The protective film (16) can be generally formed by using a vacuum deposition method, a CVD method, a sputtering method, or the like.

以上の工程により、基板A(10)上に所定の構成部材である電極A(走査電極(12)および維持電極(13))、誘電体層A(15)および保護層(16)が形成され、前面板(1)が完成する。   Through the above steps, electrodes A (scanning electrode (12) and sustaining electrode (13)), dielectric layer A (15) and protective layer (16), which are predetermined constituent members, are formed on substrate A (10). The front plate (1) is completed.

一方、背面板(2)は次のようにして形成する。まず、ガラス基板である基板B(20)上に、電極Bとしてアドレス電極(21)を形成する。具体的には、銀(Ag)材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、銀を主成分とした金属膜を全面に形成した後、露光・現像するフォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによって前駆体層を形成し、それを所望の温度(例えば約400〜約600℃)で焼成することによりアドレス電極(21)を形成する。この「アドレス電極」は、クロム/銅/クロムの3層薄膜上にフォトレジストを塗布したものをフォトリソグラフィ及びウェットエッチングによりパターニングして形成してもよい。次いで、アドレス電極(21)が形成された基板B(20)上に、下地誘電体層となる誘電体層B(22)を形成する。まず、「ガラス成分(SiO、Bなどから形成される材料)およびビヒクル成分などを主成分とした誘電体原料ペースト」をダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層を形成する。そして、かかる誘電体ペースト層を焼成することで誘電体層B(22)を形成できる。次いで、隔壁(23)を形成する。まず、誘電体層B(22)上に誘電体原料ペーストを塗布して所定の形状にパターニングすることにより、隔壁材料層を形成し、その後、それを焼成に付して隔壁(23)を形成する。例えば、低融点ガラス材料、ビヒクル成分およびフィラー等を主成分とした原料ペーストをダイコート法または印刷法によって塗布して約100℃〜200℃の乾燥に付した後、露光・現像するフォトリソグラフィ法でパターニングし、次いで、約400℃〜約600℃の焼成に付すことによって隔壁(23)を形成する。隔壁(23)の形成に引き続いて、蛍光体層(25)を形成する。隣接する隔壁(23)間の誘電体層B(22)上および隔壁(23)の側面に蛍光体材料を含む蛍光体原料ペーストを塗布し、焼成することによって蛍光体層(25)を形成する。より具体的には、蛍光体粉末およびビヒクル成分等を主成分とした原料ペーストをダイコート法、印刷法、ディスペンス法またはインクジェット法などによって塗布し、次いで、約100℃の乾燥に付すことによって蛍光体層(25)を形成する。 On the other hand, the back plate (2) is formed as follows. First, the address electrode (21) is formed as the electrode B on the substrate B (20) which is a glass substrate. Specifically, a method of screen printing a paste containing a silver (Ag) material, a method of patterning using a photolithography method in which a metal film mainly composed of silver is formed on the entire surface, and then exposed and developed are used. An address electrode (21) is formed by forming a precursor layer and firing it at a desired temperature (eg, about 400 to about 600 ° C.). This “address electrode” may be formed by patterning a chrome / copper / chromium three-layer thin film coated with a photoresist by photolithography and wet etching. Next, a dielectric layer B (22) serving as a base dielectric layer is formed on the substrate B (20) on which the address electrodes (21) are formed. First, a “dielectric material paste mainly composed of a glass component (a material formed from SiO 2 , B 2 O 3 or the like) and a vehicle component” is applied by a die coating method or the like to form a dielectric paste layer. And dielectric layer B (22) can be formed by baking this dielectric paste layer. Next, a partition wall (23) is formed. First, a dielectric material paste is applied onto the dielectric layer B (22) and patterned into a predetermined shape to form a partition wall material layer, which is then baked to form the partition wall (23). To do. For example, by a photolithography method in which a raw material paste mainly composed of a low-melting glass material, a vehicle component and a filler is applied by a die coating method or a printing method, dried at about 100 ° C. to 200 ° C., and then exposed and developed. The partition wall (23) is formed by patterning and then baking at about 400 ° C. to about 600 ° C. Subsequent to the formation of the partition wall (23), the phosphor layer (25) is formed. A phosphor raw material paste containing a phosphor material is applied on the dielectric layer B (22) between the adjacent barrier ribs (23) and on the side surfaces of the barrier ribs (23), and baked to form the phosphor layer (25). . More specifically, the phosphor paste is prepared by applying a raw material paste mainly composed of phosphor powder and a vehicle component by a die coating method, a printing method, a dispensing method, an ink jet method or the like, and then drying at about 100 ° C. A layer (25) is formed.

以上の工程により、基板B(20)上に、所定の構成部材たる電極B(アドレス電極(21))、誘電体層B(22)、隔壁(23)および蛍光体層(25)が形成され、背面板(2)が完成する。   Through the above steps, the electrode B (address electrode (21)), the dielectric layer B (22), the partition wall (23), and the phosphor layer (25), which are predetermined constituent members, are formed on the substrate B (20). The back plate (2) is completed.

このようにして所定の構成部材を備えた前面板(1)と背面板(2)とは、表示電極(11)とアドレス電極(21)とが直交するように対向配置させる。次いで、前面板(1)と背面板(2)の周囲をガラスフリットで封着すると共に、形成される放電空間(30)に放電ガス(ヘリウム、ネオンまたはキセノンなど)を封入することによってPDP(100)が完成する。   In this way, the front plate (1) and the back plate (2) provided with predetermined constituent members are arranged to face each other so that the display electrodes (11) and the address electrodes (21) are orthogonal to each other. Next, the periphery of the front plate (1) and the back plate (2) is sealed with a glass frit, and a discharge gas (helium, neon, xenon, etc.) is sealed in the discharge space (30) to be formed. 100) is completed.

本発明の製造方法]
本発明の方法は、PDP製造において、特に前面板側の保護層形成に特徴を有している。かかる保護層形成においては、原料が塗布されることになる誘電体層面を鉛直方向下向きにした状態で2種類の保護層原料を同時塗布することを特徴としている(図1参照)。即ち、2種類の保護層原料を“背面積層塗布”ないしは“裏面積層塗布”している。
[ Production method of the present invention]
The method of the present invention is particularly characterized in the formation of a protective layer on the front plate side in PDP production. Such protective layer formation is characterized in that two types of protective layer raw materials are simultaneously applied with the dielectric layer surface to which the raw material is applied facing downward in the vertical direction (see FIG. 1). That is, two types of protective layer raw materials are “back-layer coating” or “back-layer coating”.

前面板の製作を図4(a)〜(d)を参照して説明する。前面板の製作に際しては、まず、「電極が形成された基板」を用意する。「電極が形成された基板」とは、「前面板側の電極Aが形成された基板A」のことを意味しており、より具体的には図4(a)に示すように「表示電極(11)が形成されたガラス基板(10)」のことを意味している。つまり、ガラス基板(10)上に、走査電極(12)と維持電極(13)とから構成される表示電極(11)が形成されたものを用意する。基板(10)は、ソーダライムガラスや高歪み点ガラス、各種セラミックスからなる絶縁基板であることが好ましく、厚さは1.0mm〜3mm程度であることが好ましい。走査電極(12)および維持電極(13)には、それぞれ、厚さ50〜500nm程度のITO等から成る透明電極(12a、13a)が形成されていると共に、表示電極の抵抗値を下げるべく透明電極上に、銀を含んで成る厚さ1〜20μm程度のバス電極(12b、13b)が形成されている。具体的には、透明電極を薄膜プロセスなどで形成した後に、バス電極を焼成プロセスなどを経て形成する。特に、バス電極の形成に際しては、まず、銀を主成分とした導電性ペーストをスクリーン印刷法によりストライプ状に形成する。また、バス電極は銀を主成分とした感光性ペーストをダイコート法や印刷法により塗布した後に、100℃〜200℃で乾燥した後、露光・現像するフォトリソグラフィー法によりパターンニングすることによってストライプ状に形成してもよい。別法にてディスペンス法やインクジェット法を用いてもよい。最終的には、乾燥に付した後、400℃〜600℃の焼成に付すことによって、バス電極を得ることができる。尚、透明電極上には、Al、CuまたはCr等の金属やCr/Cu/Crのような積層体からなる金属電極を形成してもよい。   The production of the front plate will be described with reference to FIGS. When manufacturing the front plate, first, a “substrate on which electrodes are formed” is prepared. The “substrate on which the electrode is formed” means “the substrate A on which the electrode A on the front plate side is formed”, and more specifically, as shown in FIG. (11) means a glass substrate (10) ". That is, a glass substrate (10) having a display electrode (11) composed of a scan electrode (12) and a sustain electrode (13) is prepared. The substrate (10) is preferably an insulating substrate made of soda lime glass, high strain point glass, or various ceramics, and the thickness is preferably about 1.0 mm to 3 mm. The scan electrode (12) and the sustain electrode (13) are formed with transparent electrodes (12a, 13a) made of ITO or the like having a thickness of about 50 to 500 nm, respectively, and transparent to lower the resistance value of the display electrode. On the electrodes, bus electrodes (12b, 13b) having a thickness of about 1 to 20 μm containing silver are formed. Specifically, after forming the transparent electrode by a thin film process or the like, the bus electrode is formed through a firing process or the like. In particular, when forming the bus electrode, first, a conductive paste mainly composed of silver is formed in a stripe shape by a screen printing method. In addition, the bus electrode is formed in a stripe shape by applying a photosensitive paste mainly composed of silver by a die coating method or a printing method, drying at 100 ° C. to 200 ° C., and then patterning by a photolithography method that exposes and develops. You may form in. Alternatively, a dispensing method or an ink jet method may be used. Finally, after subjecting to drying, a bus electrode can be obtained by subjecting to baking at 400 ° C. to 600 ° C. On the transparent electrode, a metal electrode made of a metal such as Al, Cu or Cr or a laminate such as Cr / Cu / Cr may be formed.

表示電極(11)の形成に引き続いて、図4(b)に示すように誘電体層(15)を形成する。誘電体層(15)は、PDP前面板の一般的な製造で用いられる焼成法またはゾルゲル法などを用いて得ることができる。例えば、SiO、B、ZnO、Biなどを含むガラス粉末と有機溶剤とバインダ樹脂とを混合して成る誘電体原料ペーストをスクリーン印刷法で塗布し、その後、熱処理に付すことによって誘電体層を形成することができる。誘電体層(15)の厚さは、好ましくは5μm〜30μm程度であり、より好ましくは10μm〜20μm程度である。尚、有機溶剤としてはアルコール類(例えばイソプロピルアルコール)やケトン類(例えばメチルイソブチルケトン)を挙げることができ、バインダ樹脂としては、セルロース系樹脂またはアクリル系樹脂などを挙げることができる。 Subsequent to the formation of the display electrode (11), a dielectric layer (15) is formed as shown in FIG. The dielectric layer (15) can be obtained by a firing method or a sol-gel method used in general production of a PDP front plate. For example, a dielectric material paste formed by mixing glass powder containing SiO 2 , B 2 O 3 , ZnO, Bi 2 O 3 , an organic solvent, and a binder resin is applied by screen printing, and then subjected to heat treatment. Thus, a dielectric layer can be formed. The thickness of the dielectric layer (15) is preferably about 5 μm to 30 μm, more preferably about 10 μm to 20 μm. Examples of the organic solvent include alcohols (for example, isopropyl alcohol) and ketones (for example, methyl isobutyl ketone), and examples of the binder resin include cellulose resins and acrylic resins.

誘電体層(15)の形成に引き続いて、保護層(16)を形成する。従って、まず、本発明の製造方法の工程(i)を実施する。具体的には「第1MgO粒子および第1溶剤を含んで成る第1保護層原料」ならびに「第2MgO粒子および第2溶剤を含んで成る第2保護層原料」を用意する。   Subsequent to the formation of the dielectric layer (15), the protective layer (16) is formed. Therefore, first, step (i) of the manufacturing method of the present invention is performed. Specifically, “a first protective layer material comprising first MgO particles and a first solvent” and “a second protective layer material comprising second MgO particles and a second solvent” are prepared.

第1保護層原料は、“第1MgO粒子としてのMgO粒子粉体”と“第1溶剤としての有機溶剤”とを相互に混合することによって調製することができる。第1MgO粒子は、好ましくはMgO結晶粉体(MgO微結晶粉体)であり、より好ましくはMgO単結晶粉体である。かかる第1MgO粒子の粒径は、第2保護層原料の第2MgO粒子のサイズよりも小さくなっており、好ましくは50nm以下、より好ましくは約5nm〜50nm程度、更に好ましくは約15nm〜50nm程度である。そして、第1保護層原料の第1MgO粒子の含有量は、第2保護層原料の第2MgO粒子の含有量よりも多いことが好ましく、例えば好ましくは6〜20重量%程度(第1保護層原料の全重量基準)であり、より好ましくは8〜15重量%程度(第1保護層原料の全重量基準)である。第1溶剤として用いる有機溶剤としては、3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノール、n−ヘプチルアルコール、2−エトキシエタノール、2−メトキシエタノール、n−ヘキシルアルコールまたは2−メチル−1−プロパノール等の有機溶剤を挙げることができる他、α−テルピネオール、プロピレングリコール、2−オクタノール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルまたはグリセリン等の有機溶剤も挙げることができる。ここで、第1溶剤として用いる有機溶剤は、その蒸気圧が第2保護層原料の第2溶剤の蒸気圧よりも高いことが好ましい(一例として、例えば3−メトキシ−3−メチル−1ブタノールを第1溶剤として用いることができる)。第1保護層原料中の第1溶剤の含有量は、好ましくは80〜95重量%程度(第1保護層原料の全重量基準)、より好ましくは85〜95重量%程度(第1保護層原料の全重量基準)である。尚、第1溶剤の有機溶剤としては、上述で例示したような有機溶剤から選ばれる少なくとも2種類以上の溶剤を組み合わせた混合物を用いてもよい。   The first protective layer material can be prepared by mutually mixing “MgO particle powder as first MgO particles” and “organic solvent as first solvent”. The first MgO particles are preferably MgO crystal powder (MgO microcrystal powder), more preferably MgO single crystal powder. The particle diameter of the first MgO particles is smaller than the size of the second MgO particles of the second protective layer material, preferably 50 nm or less, more preferably about 5 nm to 50 nm, and still more preferably about 15 nm to 50 nm. is there. And it is preferable that content of the 1st MgO particle | grains of a 1st protective layer raw material is larger than content of the 2nd MgO particle | grains of a 2nd protective layer raw material, For example, Preferably it is about 6 to 20 weight% (1st protective layer raw material) And more preferably about 8 to 15% by weight (based on the total weight of the first protective layer raw material). Examples of the organic solvent used as the first solvent include 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, n-heptyl alcohol, 2-ethoxyethanol, 2-methoxyethanol, n-hexyl alcohol, and 2-methyl-1-propanol. And organic solvents such as α-terpineol, propylene glycol, 2-octanol, dipropylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol methyl ether, or glycerin. Here, the organic solvent used as the first solvent preferably has a vapor pressure higher than the vapor pressure of the second solvent of the second protective layer raw material (for example, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol is used. Can be used as the first solvent). The content of the first solvent in the first protective layer raw material is preferably about 80 to 95% by weight (based on the total weight of the first protective layer raw material), more preferably about 85 to 95% by weight (first protective layer raw material). Based on the total weight). In addition, as the organic solvent of the first solvent, a mixture obtained by combining at least two kinds of solvents selected from the organic solvents exemplified above may be used.

第2保護層原料は、“第2MgO粒子としてのMgO粒子粉体”と“第2溶剤としての有機溶剤”とを相互に混合することによって調製することができる。第2MgO粒子は、好ましくはMgO結晶粉体(MgO微結晶粉体)であり、より好ましくはMgO単結晶粉体である。かかる第2MgO粒子の粒径は、第1保護層原料の第1MgO粒子よりも大きくなっており、好ましくは1μm以上、より好ましくは約1μm〜20μm程度、更に好ましくは約1μm〜5μm程度である。そして、第2保護層原料の第2MgO粒子の含有量は、第1保護層原料の第1MgO粒子の含有量よりも小さいことが好ましく、例えば好ましくは0.3〜8重量%程度(第2保護層原料の全重量基準)であり、より好ましくは0.3〜2重量%程度(第2保護層原料の全重量基準)である。第2溶剤として用いる有機溶剤としては、P−メンタ−1−エン−8−オール、3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノール、n−ヘプチルアルコール、2−エトキシエタノール、2−メトキシエタノール、n−ヘキシルアルコールまたは2−メチル−1−プロパノール等の有機溶剤を挙げることができる他、α−テルピネオール、プロピレングリコール、2−オクタノール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルまたはグリセリン等の有機溶剤も挙げることができる。ここで、第2溶剤として用いる有機溶剤は、その蒸気圧が第1保護層原料の第1溶剤の蒸気圧よりも低いことが好ましい(一例としては、例えばP−メンタ−1−エン−8−オールを第2溶剤として用いることができる)。第2保護層原料中の第2溶剤の含有量は、好ましくは92〜99.7重量%(第2保護層原料の全重量基準)、より好ましくは98〜99.7重量%(第2保護層原料の全重量基準)である。尚、第2溶剤の有機溶剤としては、上述で例示したような有機溶剤から選ばれる少なくとも2種類以上の溶剤を組み合わせた混合物を用いてもよい。   The second protective layer material can be prepared by mutually mixing “MgO particle powder as second MgO particles” and “organic solvent as second solvent”. The second MgO particles are preferably MgO crystal powder (MgO microcrystal powder), more preferably MgO single crystal powder. The particle diameter of the second MgO particles is larger than the first MgO particles of the first protective layer material, and is preferably 1 μm or more, more preferably about 1 μm to 20 μm, and still more preferably about 1 μm to 5 μm. The content of the second MgO particles in the second protective layer raw material is preferably smaller than the content of the first MgO particles in the first protective layer raw material, for example, preferably about 0.3 to 8% by weight (second protection) Based on the total weight of the layer raw material), more preferably about 0.3 to 2% by weight (based on the total weight of the second protective layer raw material). Examples of the organic solvent used as the second solvent include P-ment-1-en-8-ol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, n-heptyl alcohol, 2-ethoxyethanol, 2-methoxyethanol, n In addition to organic solvents such as hexyl alcohol or 2-methyl-1-propanol, α-terpineol, propylene glycol, 2-octanol, dipropylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol methyl ether, glycerin, etc. Organic solvents can also be mentioned. Here, the organic solvent used as the second solvent preferably has a vapor pressure lower than the vapor pressure of the first solvent of the first protective layer raw material (for example, P-menta-1-ene-8- All can be used as the second solvent). The content of the second solvent in the second protective layer material is preferably 92 to 99.7% by weight (based on the total weight of the second protective layer material), more preferably 98 to 99.7% by weight (second protection). Based on the total weight of the layer raw material). In addition, as an organic solvent of a 2nd solvent, you may use the mixture which combined the at least 2 or more types of solvent chosen from the organic solvent which was illustrated above.

特に本発明においては、第1保護層原料および第2保護層原料の溶剤として、成分が異なるものを選択してよく、蒸気圧や粘度が相互に異なるものを選択してよい。つまり、第1保護層原料および第2保護層原料の有機溶剤として、相互に可溶性を呈するものの、粘度、飽和蒸気圧(沸点)が異なるものを用いてよい。   In particular, in the present invention, as the solvent for the first protective layer raw material and the second protective layer raw material, those having different components may be selected, and those having different vapor pressures and viscosities may be selected. That is, as the organic solvent for the first protective layer raw material and the second protective layer raw material, those which are mutually soluble but have different viscosities and saturated vapor pressures (boiling points) may be used.

例えば、保護層原料の蒸気圧についていえば、上述したように、第2保護層原料の第2溶剤の蒸気圧が第1保護層原料の第1溶剤の蒸気圧よりも低くなっていることが好ましい。換言すれば、第1保護層原料の第1溶剤の蒸気圧が第2保護層原料の第2溶剤の蒸気圧よりも高くなっていることが好ましい。これによって、後述する“2段階の真空乾燥”を好適に実施することができる。例えば、第1保護層原料と第2保護層原料との間では2桁程度の差で蒸気圧値が異なることが好ましく、より具体的には第1保護層原料の第1溶剤の蒸気圧が第2保護層原料の第2溶剤の蒸気圧よりも10倍〜100倍程度高くなっていることが好ましい。   For example, as to the vapor pressure of the protective layer material, as described above, the vapor pressure of the second solvent of the second protective layer material is lower than the vapor pressure of the first solvent of the first protective layer material. preferable. In other words, the vapor pressure of the first solvent in the first protective layer material is preferably higher than the vapor pressure of the second solvent in the second protective layer material. Thus, “two-stage vacuum drying” described later can be suitably performed. For example, the vapor pressure value is preferably different by about two orders of magnitude between the first protective layer raw material and the second protective layer raw material. More specifically, the vapor pressure of the first solvent of the first protective layer raw material is different. The vapor pressure of the second solvent of the second protective layer material is preferably higher by about 10 to 100 times.

ここで、本発明においては、“第1保護層原料に含まれる第1MgO粒子のサイズ”が“第2保護層原料に含まれる第2MgO粒子のサイズ”よりも小さくなっている。一般に粒子は液体内で重力の影響を受け、浮力よりも重力が勝る場合では、液体内でも沈降現象が生じる。沈降速度に関し、一般的に知られているストークスの式は以下の通りである。
(式1)
上記式1から分かるように、液体内の粒子の沈降速度は一般に粒子半径の二乗に比例することになる。つまり、粒径が大きいほど液体中で沈降速度が大きくなる。この点、本発明においては第2MgO粒子の方が第1MgO粒子よりもサイズ(粒径)が大きくなっているので、第2保護層原料中の第2MgO粒子の沈降速度は、第1保護層原料中の第1MgO粒子の沈降速度よりも速くなる。実際、本発明で用いる保護層原料についての実験結果をプロットすると2次曲線上にあり、式1で示された一般的な沈降速度と粒子径との関係が成り立つことを把握している(図5参照)。具体的には、第1MgO粒子(小粒子)の直径を50nm以下、第2MgO粒子(大粒子)の直径を約1μm以上とした場合では、溶媒が同じであると式1から沈降速度が400倍も異なる結果が予想される。特に小粒子レベルの場合では、粒子間のファンデルワールス力などの影響でほとんどが沈むことがないので、沈降速度の差がさらに広がることが予想される。実際に低粘度原料において沈降速度を測定した結果においては、1μm以上のMgO大粒子の場合は約1μ/s、50nm以下のMgO小粒子の場合は測定不能であった。それゆえ、従来技術において保護層原料層の各厚みを10μmとした場合を想定すると、かかる塗布薄膜内では、上層に存在する大粒子のMgO粒子は、上層と下層の境界部まで10秒程度で沈降し、その後、下層内へそのまま溶け込むか、あるいは、乾燥時にて下層に入り込むなどの現象を起こす可能性があるものと考えられる。
Here, in the present invention, “the size of the first MgO particles contained in the first protective layer material” is smaller than “the size of the second MgO particles contained in the second protective layer material”. In general, particles are affected by gravity in a liquid, and when gravity exceeds buoyancy, a sedimentation phenomenon occurs in the liquid. Regarding the sedimentation velocity, the generally known Stokes equation is as follows.
(Formula 1)
As can be seen from Equation 1, the sedimentation rate of the particles in the liquid is generally proportional to the square of the particle radius. That is, the larger the particle size, the greater the settling speed in the liquid. In this regard, in the present invention, since the second MgO particles are larger in size (particle diameter) than the first MgO particles, the sedimentation rate of the second MgO particles in the second protective layer raw material is determined by the first protective layer raw material. It becomes faster than the sedimentation rate of the first MgO particles therein. In fact, when the experimental results for the protective layer material used in the present invention are plotted, it is on a quadratic curve, and it is understood that the general relationship between the sedimentation velocity and the particle size represented by Equation 1 is established (see FIG. 5). Specifically, when the diameter of the first MgO particles (small particles) is 50 nm or less and the diameter of the second MgO particles (large particles) is about 1 μm or more, the settling speed is 400 times as long as the solvent is the same from Equation 1 Different results are expected. In particular, in the case of a small particle level, almost no sinking occurs due to the influence of van der Waals force between particles, so that it is expected that the difference in sedimentation speed will be further widened. As a result of actually measuring the sedimentation rate in the low-viscosity raw material, it was impossible to measure about 1 μ / s for large MgO particles of 1 μm or more and small MgO particles of 50 nm or less. Therefore, assuming that each thickness of the protective layer raw material layer is 10 μm in the prior art, in such a coated thin film, the large MgO particles present in the upper layer reach the boundary between the upper layer and the lower layer in about 10 seconds. It is considered that the liquid may settle down and then dissolve into the lower layer as it is, or may enter the lower layer when it is dried.

この点、本発明では、最終的には上層を成す層(=第2保護層)に大粒子の第2MgO粒子が含まれているといえども、後述するように第1保護層原料層と第2保護層原料層とを背面積層状態にしているので(図1参照)、第2保護層原料層の第2MgO粒子(大粒子)が第1保護層原料層内に入り込むことが防止されている。むしろ背面積層状態では第2保護層原料層の第2MgO粒子が鉛直方向下向きに沈降しようとする力が働き、第1保護層原料層から離れる方向に移動し得るので、大粒子の第2MgO粒子と小粒子の第1MgO粒子とが好適に棲み分けされることになる。   In this regard, in the present invention, although the upper layer (= second protective layer) finally contains large second MgO particles, as described later, the first protective layer raw material layer and the first layer Since the two protective layer raw material layers are laminated on the back surface (see FIG. 1), the second MgO particles (large particles) of the second protective layer raw material layer are prevented from entering the first protective layer raw material layer. . Rather, in the back lamination state, the force that the second MgO particles of the second protective layer raw material layer try to settle down in the vertical direction works and can move away from the first protective layer raw material layer. The small first MgO particles are suitably segregated.

ちなみに、本発明でいう『第2保護層原料中の第2MgO粒子の沈降速度V2は、第1保護層原料中の第1MgO粒子の沈降速度V1よりも速くなっている』につき具体例を挙げれば、例えばV2がV1よりも2〜450倍程度(例えば400倍程度)大きくなっている。   By the way, a specific example is given for the “precipitation speed V2 of the second MgO particles in the second protective layer raw material is faster than the precipitation speed V1 of the first MgO particles in the first protective layer raw material” in the present invention. For example, V2 is about 2 to 450 times (for example, about 400 times) larger than V1.

本発明の製造方法の工程(i)に引き続いて工程(ii)を実施する。即ち、基板A上に形成された誘電体層A上に対して第1保護層原料と第2保護層原料とを同時に塗布する。本発明では、かかる同時塗布によって「第1保護層原料から成る第1保護層原料層」と「第2保護層原料から成る第2保護層原料層」との2層構造の保護層原料層を形成する。   Subsequent to step (i) of the production method of the present invention, step (ii) is performed. That is, the first protective layer raw material and the second protective layer raw material are simultaneously applied onto the dielectric layer A formed on the substrate A. In the present invention, a protective layer material layer having a two-layer structure of “a first protective layer material layer made of a first protective layer material” and “a second protective layer material layer made of a second protective layer material” is formed by such simultaneous application. Form.

特に本発明においては、第1保護層原料と第2保護層原料とを背面積層状態で同時に塗布する。より具体的には、図4(c)および図6に示すように、塗布されることになる誘電体層A(15)の面を鉛直方向下向きにした状態で、第1保護層原料(40)および第2保護層原料(50)を同時に塗布する。これによって、誘電体層A(15)と接するように第1保護層原料層(40A)を形成すると共に、その第1保護層原料層(40A)の上に第2保護層原料層(50A)を形成する(図4(d)参照)。   In particular, in the present invention, the first protective layer raw material and the second protective layer raw material are simultaneously applied in a backside laminated state. More specifically, as shown in FIG. 4C and FIG. 6, the first protective layer material (40) with the surface of the dielectric layer A (15) to be applied faced downward in the vertical direction. ) And the second protective layer raw material (50) are simultaneously applied. Thus, the first protective layer raw material layer (40A) is formed in contact with the dielectric layer A (15), and the second protective layer raw material layer (50A) is formed on the first protective layer raw material layer (40A). (See FIG. 4D).

保護層原料の塗布にはスリットダイを用いることが好ましい。特に本発明では“積層塗布”が行えるように2つのスリット部を備えたスリットダイ(70)を用いることが好ましい(図1および図6参照)。特に図1に示すように、用いるスリットダイ(70)は、3分割されており、原料吐出部となる2つのスリット部(71および72)を備えている。これにより、第1保護層原料および第2保護層原料の同時塗布が可能となる。好ましくはスリット厚み(t1,t2)は数10〜数100μm程度である。スリットダイ(70)の形状及び分割部の形や数などは、記載されたものに限定されるものでなく、3分割のうち中央部の部分の先端を鋭角にしたタイプなど、様々な形状や数が考えられる。また、これらの分割部の取り付け高さを変えるなどして、リップ間の位置を適宜変更してもよい。いずれのタイプのスリットダイであっても、本発明においては、塗布面を下向き(即ち“鉛直方向下側”)にするので、図6に示すようにスリット部(71,72)が上側(即ち“鉛直方向上側”)に向くようにスリットダイを設置することになる。   A slit die is preferably used for coating the protective layer material. In particular, in the present invention, it is preferable to use a slit die (70) provided with two slit portions so that “lamination coating” can be performed (see FIGS. 1 and 6). In particular, as shown in FIG. 1, the slit die (70) to be used is divided into three parts and includes two slit parts (71 and 72) serving as a raw material discharge part. Thereby, simultaneous application | coating of a 1st protective layer raw material and a 2nd protective layer raw material is attained. Preferably, the slit thickness (t1, t2) is about several tens to several hundreds μm. The shape of the slit die (70) and the shape and number of the divided portions are not limited to those described, but various shapes such as a type in which the tip of the central portion of the three divided portions has an acute angle, Number is conceivable. Further, the position between the lips may be changed as appropriate by changing the mounting height of these divided portions. In any type of slit die, in the present invention, the coating surface is directed downward (that is, “downward in the vertical direction”), so that the slit portions (71, 72) are on the upper side (that is, as shown in FIG. 6). The slit die will be installed so that it faces the “vertical upper side”).

スリットダイ(70)への原料供給は、チューブポンプやシリンジポンプなどのポンプを用いて行ってよい。また、第1保護層原料および第2保護層原料は粒子を含んでいるので、粒子沈降を抑えるべく、スリットダイ(70)の周辺回路としてポンプなどを備えた循環機構を設けてもよい。   The raw material supply to the slit die (70) may be performed using a pump such as a tube pump or a syringe pump. Further, since the first protective layer raw material and the second protective layer raw material contain particles, a circulation mechanism including a pump or the like may be provided as a peripheral circuit of the slit die (70) in order to suppress particle sedimentation.

上述のようなスリットダイを用いて積層塗布を好適に実施するには、第1保護層原料および第2保護層原料が15mPa・s以下程度の粘度を有していることが好ましい。より具体的にいえば、スリットダイを用いた背面積層塗布が好適に行われるように、第1保護層原料および第2保護層原料の粘度は、好ましくは3mPa・s以上かつ15mPa・s以下であり、より好ましくは4mPa・s以上かつ10mPa・s以下となっている。尚、第1保護層原料および第2保護層原料は一般に非ニュートン性流体となり得るので、本明細書で用いる粘度は「ずり速度100s−1および温度25℃における粘度」を実質的に意味している。 In order to suitably perform the lamination coating using the slit die as described above, it is preferable that the first protective layer raw material and the second protective layer raw material have a viscosity of about 15 mPa · s or less. More specifically, the viscosity of the first protective layer raw material and the second protective layer raw material is preferably 3 mPa · s or more and 15 mPa · s or less so that the back surface lamination coating using a slit die is suitably performed. Yes, more preferably 4 mPa · s or more and 10 mPa · s or less. Since the first protective layer raw material and the second protective layer raw material can generally be a non-Newtonian fluid, the viscosity used in this specification substantially means “viscosity at a shear rate of 100 s −1 and a temperature of 25 ° C.”. Yes.

第1保護層原料および第2保護層原料の同時塗布に際しては、図6に示すように、「電極(11)および誘電体層(15)が形成された基板(10)」が塗布面を下側(地面側)に向けて設置されることになる。図示する態様では、塗布される基板(10)がガラスパネルのような枚葉仕様で表されているものの、塗布面が常に地面側を向くことが可能であれば、ロール・ツー・ロール方式などを採用してもよい。ロール・ツー・ロール方式を採用する場合であっても、本発明では塗布面を下向き(即ち“鉛直方向下側”)にするので、スリットダイはそのスリット部が上側(即ち“鉛直方向上側”)に向くように設置される。   In the simultaneous application of the first protective layer raw material and the second protective layer raw material, as shown in FIG. 6, the “substrate (10) on which the electrode (11) and the dielectric layer (15) are formed” is placed below the coated surface. It will be installed toward the side (ground side). In the illustrated embodiment, the substrate (10) to be applied is represented by a single-wafer specification such as a glass panel, but if the application surface can always face the ground side, a roll-to-roll method, etc. May be adopted. Even when the roll-to-roll method is adopted, in the present invention, the coating surface is directed downward (that is, “vertically downward”), so that the slit die has an upper slit portion (that is, “vertically upward”). ).

背面積層塗布により形成される第1保護層原料層(40A)の厚さ(Wet膜厚)は、好ましくは3μm〜15μm程度である。一方、背面積層塗布により形成される第2保護層原料層(50A)の厚さ(Wet膜厚)は、好ましくは3μm〜20μm程度である(図4(d)参照)。   The thickness (Wet film thickness) of the first protective layer raw material layer (40A) formed by back surface lamination coating is preferably about 3 μm to 15 μm. On the other hand, the thickness (Wet film thickness) of the second protective layer raw material layer (50A) formed by back layer coating is preferably about 3 μm to 20 μm (see FIG. 4D).

第1および第2の保護層原料層が形成されると、次に、本発明の製造方法の工程(iii)を実施する。具体的には、図4(d)に示される2層構造の保護層原料層(60)を乾燥に付す。即ち、第1保護層原料層を乾燥に付すことにより第1保護層(即ち、第1MgO粒子層)を得ると共に、第2保護層原料層を乾燥に付することにより第2保護層(即ち、第2MgO粒子層)を得る。ここでいう「乾燥」とは、原料層に含まれている溶剤(より具体的にいえば第1溶剤および第2溶剤)を気化させて原料層から除去することを実質的に意味している。例えば、保護層原料層を7〜1Pa、好ましくは7〜0.1Paの減圧下または真空下に置いてもよく、あるいは、大気圧下で100〜400℃程度の熱処理に付してもよい。必要に応じて「減圧下または真空下」と「熱処理」とを組み合わせてもよい。乾燥後に得られる保護層全体の厚さは、溶剤が抜けることに起因して、原料層の厚さよりも減じられ、全体で0.2〜5μm程度となり得る。   Once the first and second protective layer raw material layers are formed, next, step (iii) of the production method of the present invention is performed. Specifically, the protective layer raw material layer (60) having a two-layer structure shown in FIG. 4 (d) is subjected to drying. That is, the first protective layer raw material layer is subjected to drying to obtain a first protective layer (ie, the first MgO particle layer), and the second protective layer raw material layer is subjected to drying to obtain the second protective layer (ie, the first protective layer raw material layer). A second MgO particle layer) is obtained. Here, “drying” substantially means that the solvent contained in the raw material layer (more specifically, the first solvent and the second solvent) is vaporized and removed from the raw material layer. . For example, the protective layer raw material layer may be placed under reduced pressure or vacuum of 7 to 1 Pa, preferably 7 to 0.1 Pa, or may be subjected to heat treatment at about 100 to 400 ° C. under atmospheric pressure. If necessary, “under reduced pressure or under vacuum” and “heat treatment” may be combined. The total thickness of the protective layer obtained after drying is reduced from the thickness of the raw material layer due to the removal of the solvent, and can be about 0.2 to 5 μm as a whole.

特に本発明においては、工程(ii)で形成された2層構造の保護層原料層の向きをそのまま維持して真空乾燥を行うことが好ましい。つまり、工程(iii)においては、誘電体層Aに対して保護層原料層の方が鉛直方向に下側に位置する状態で2層構造の保護層原料層を真空乾燥に付すことが好ましい。これにより、乾燥処理に際して「第2保護層原料層(50A)に含まれる大粒子の第2MgO粒子」と「第1保護層原料層(40A)に含まれる小粒子の第1MgO粒子」とが好適に棲み分けされた状態が維持される。   In particular, in the present invention, it is preferable to perform vacuum drying while maintaining the orientation of the protective layer raw material layer having the two-layer structure formed in step (ii). That is, in the step (iii), it is preferable that the protective layer raw material layer having a two-layer structure is subjected to vacuum drying in a state where the protective layer raw material layer is positioned below the dielectric layer A in the vertical direction. As a result, “the large second MgO particles contained in the second protective layer raw material layer (50A)” and “the small first MgO particles contained in the first protective layer raw material layer (40A)” are suitable during the drying process. The state of being segregated is maintained.

真空乾燥を行う場合、図7に示すような装置(80)を用いることができる。かかる真空乾燥装置(80)は、真空チャンバー(81)、圧力調整機能を備えたコンダクタンスバルブ(82)、ポンプ(83)および真空計(84)を有して成る。塗布される基板は、吊り下げ機構(図示せず)によって塗布面を地面側へ向けた状態で設置することができる。図7には示してしないものの、基板交換用に搬送用ロボット(図示せず)が設置されていてもよい。   When performing vacuum drying, an apparatus (80) as shown in FIG. 7 can be used. The vacuum drying apparatus (80) includes a vacuum chamber (81), a conductance valve (82) having a pressure adjusting function, a pump (83), and a vacuum gauge (84). The substrate to be applied can be installed with the application surface facing the ground side by a suspension mechanism (not shown). Although not shown in FIG. 7, a transfer robot (not shown) may be installed for substrate replacement.

真空乾燥装置(80)では、真空チャンバー(81)内に「電極、誘電体層および保護層原料層(60)を備えた基板(10)」が設置される。例えばロボットなどを用いてかかる基板(10)を塗布面が地面側にした状態のままで真空チャンバー(80)へと搬送する。塗布されることになる基板(10)が真空チャンバー(80)内に設置されると、ポンプ(83)を用いて真空排気を開始する。真空排気では、急激な減圧により保護層原料層(60)内から突沸が起こらないように排気初期時の排気速度変化を真空計(84)の値を見ながらコンダクタンスバルブ(82)を用いて制御することが好ましい。例えば、チャンバー・サイズ及び排気能力に依存し得るが、1000Pa以下の真空度に至るまでに30秒程度の時間を要するように制御すると、突沸をより好適に抑制することができる。ちなみに、保護層原料層の完全乾燥として必要な1Pa以下の到達圧力や排気能力が不足する場合では、ターボポンプなどの超高真空対応ポンプをポンプ(83)の前段に追加してもよい。その場合、同様に、一度に高真空まで到達しないようにコンダクタンスバルブ(82)の制御やターボポンプの排気スタートのタイミングを調整することが好ましい。   In the vacuum drying apparatus (80), a “substrate (10) including an electrode, a dielectric layer and a protective layer raw material layer (60)” is installed in a vacuum chamber (81). For example, the substrate (10) is transported to the vacuum chamber (80) with the application surface being on the ground side using a robot or the like. When the substrate (10) to be coated is placed in the vacuum chamber (80), evacuation is started using the pump (83). In evacuation, the conductance valve (82) is used to control the change in the evacuation speed at the initial stage of evacuation while checking the value of the vacuum gauge (84) so that bumping does not occur from within the protective layer material layer (60) due to sudden pressure reduction. It is preferable to do. For example, although it may depend on the chamber size and the exhaust capacity, bumping can be more suitably suppressed by controlling so that it takes about 30 seconds to reach a vacuum degree of 1000 Pa or less. Incidentally, when the ultimate pressure of 1 Pa or less and the exhaust capability required for complete drying of the protective layer raw material layer are insufficient, an ultra-high vacuum compatible pump such as a turbo pump may be added before the pump (83). In that case, similarly, it is preferable to control the conductance valve (82) and adjust the exhaust start timing of the turbo pump so as not to reach a high vacuum at a time.

本発明においては、突沸をより好適に防止すべく保護層原料層を2段階で真空乾燥に付すことが好ましい。具体的には、第1真空乾燥と第2真空乾燥との2段階の真空乾燥を実施することが好ましい。例えば、第1真空乾燥では、第1減圧下において第1保護層原料層を乾燥させ、第2真空乾燥では、その第1減圧から更に減圧した第2減圧下において第2保護層原料層を乾燥させる。これにより、第1保護層原料層(40A)と第2保護層原料層(50A)とが時間をずらして個々に乾燥されることになり、「第2保護層原料層(50A)に含まれる第2MgO大粒子」と「第1保護層原料層(40A)に含まれる第1MgO小粒子」とがより好適に棲み分けされることになる。   In the present invention, it is preferable to subject the protective layer raw material layer to vacuum drying in two stages in order to more suitably prevent bumping. Specifically, it is preferable to carry out two-stage vacuum drying including first vacuum drying and second vacuum drying. For example, in the first vacuum drying, the first protective layer raw material layer is dried under a first reduced pressure, and in the second vacuum drying, the second protective layer raw material layer is dried under a second reduced pressure further reduced from the first reduced pressure. Let Thereby, the first protective layer raw material layer (40A) and the second protective layer raw material layer (50A) are individually dried at different times, and are contained in the "second protective layer raw material layer (50A)". The “second MgO large particles” and the “first MgO small particles contained in the first protective layer raw material layer (40A)” are more appropriately separated.

図8は、真空排気を実施した際の乾燥曲線であって、真空チャンバー(81)内の真空度を排気開始からの時間軸でグラフ化した乾燥曲線である。保護層原料層は、真空チャンバー中が真空排気されることにより、液体状態から気化し、蒸発、つまり乾燥を始める。一般的に低粘度原料層(低粘度原料)と高粘度原料層(高粘度原料)との蒸気圧を比べた場合、低粘度原料層の蒸気圧>高粘度原料層の蒸気圧となり、高粘度原料層ほど乾燥しにくい。低粘度原料層と高粘度原料層との積層物が設けられた閉空間に対して真空引きを行う場合では、図8に示すような2つこぶの真空度曲線が得られるように実施することが好ましい。つまり、真空引きを開始すると、まず低粘度原料の蒸気圧あたりで圧力が一旦上昇するので、そのあたりで真空引きの程度を減じて低粘度原料層の乾燥を促進させる。低粘度原料層の乾燥が終了すると、高粘度原料層の気化する真空度にまで真空引きを更に進めて高粘度原料層の乾燥を開始させる。高粘度原料層の乾燥が開始すると(高粘度原料の蒸気圧付近で真空度の上昇が見られる)、同様に真空引きの程度を減じて高粘度原料層の乾燥を促進させる。このようにすると、低粘度原料と高粘度原料層との積層物を2段階で真空乾燥することができる。   FIG. 8 is a drying curve when vacuum evacuation is performed, and is a drying curve in which the degree of vacuum in the vacuum chamber (81) is graphed on the time axis from the start of evacuation. The protective layer material layer is vaporized from a liquid state by evacuating the vacuum chamber, and starts to evaporate, that is, dry. Generally, when the vapor pressures of the low-viscosity raw material layer (low-viscosity raw material) and the high-viscosity raw material layer (high-viscosity raw material) are compared, the vapor pressure of the low-viscosity raw material layer> the vapor pressure of the high-viscosity raw material layer. The raw material layer is harder to dry. When evacuating a closed space in which a laminate of a low-viscosity raw material layer and a high-viscosity raw material layer is provided, it should be carried out so as to obtain a two-part vacuum degree curve as shown in FIG. Is preferred. That is, when evacuation is started, the pressure first rises around the vapor pressure of the low-viscosity raw material, and the degree of evacuation is reduced at that point to promote drying of the low-viscosity raw material layer. When the drying of the low-viscosity raw material layer is completed, the vacuuming is further advanced to the degree of vacuum at which the high-viscosity raw material layer is vaporized to start the drying of the high-viscosity raw material layer. When drying of the high-viscosity raw material layer is started (an increase in the degree of vacuum is observed near the vapor pressure of the high-viscosity raw material), similarly, the degree of vacuuming is reduced to promote drying of the high-viscosity raw material layer. If it does in this way, the laminated body of a low-viscosity raw material and a high-viscosity raw material layer can be vacuum-dried in two steps.

本発明では、第1保護層原料層を低粘度層として形成し、第2保護層原料層を高粘度層として形成することが好ましい。そのためには、第1保護層原料の粘度が例えば30mPa・s〜100mPa・s程度であって、一方、第2保護層原料の粘度が例えば3mPa・s〜10mPa・s程度であることが好ましい。このような第1保護層原料層および第2保護層原料層を図7に示される真空乾燥装置(80)を用いて2段階で真空乾燥する態様を説明する。まず、コンダクタンスバルブ(82)の開度が小さい状態で真空チャンバー(81)をポンプ(83)にて真空排気を開始し、数100Pa程度の真空領域において蒸気圧の高い第1保護層原料層の乾燥を開始させる。その後、コンダクタンスバルブ(82)の開度を大きくし、数Pa程度の高真空領域まで真空排気し、蒸気圧の低い第2保護層原料層を乾燥させる。コンダクタンスバルブ(82)を調整せず、一度に高真空領域まで真空排気してしまうと、2種類の保護層原料層の乾燥が同時に起こる可能性があり、第1と第2との積層膜内で混ざり合いなどの不具合が発生してしまうので、排気速度の調整は慎重に実施することが好ましい。この圧力制御を効果ある範囲で適切に実施するには、上述したように、第1保護層原料と第2保護層原料との間で2桁程度の蒸気圧差があることが望ましい。このようにして、2段階で真空乾燥すると、基板に近い側の第1保護層としてMgO小粒子層、遠い側の第2保護層としてMgO大粒子層が好適に形成される。   In the present invention, the first protective layer raw material layer is preferably formed as a low viscosity layer, and the second protective layer raw material layer is preferably formed as a high viscosity layer. For this purpose, it is preferable that the viscosity of the first protective layer material is, for example, about 30 mPa · s to 100 mPa · s, while the viscosity of the second protective layer material is, for example, about 3 mPa · s to 10 mPa · s. A mode in which the first protective layer raw material layer and the second protective layer raw material layer are vacuum-dried in two stages using a vacuum drying apparatus (80) shown in FIG. 7 will be described. First, evacuation of the vacuum chamber (81) is started by the pump (83) in a state where the opening of the conductance valve (82) is small, and the first protective layer material layer having a high vapor pressure in a vacuum region of about several hundred Pa is used. Start drying. Then, the opening degree of the conductance valve (82) is increased, the vacuum is exhausted to a high vacuum region of about several Pa, and the second protective layer material layer having a low vapor pressure is dried. If the evacuation is performed to the high vacuum region at once without adjusting the conductance valve (82), the two types of protective layer raw material layers may be dried at the same time. Therefore, it is preferable to adjust the exhaust speed carefully. In order to appropriately perform this pressure control within an effective range, it is desirable that there is a vapor pressure difference of about two digits between the first protective layer raw material and the second protective layer raw material as described above. Thus, when vacuum drying is performed in two stages, a small MgO particle layer is suitably formed as the first protective layer on the side close to the substrate, and a large MgO particle layer is formed as the second protective layer on the far side.

以上の工程(i)〜(iii)を経ることによって、「第1保護層原料層から形成された第1MgO粒子層」と「第2保護層原料層から形成された第2MgO粒子層」とから成る2層構造の保護層が得られることになり、最終的に前面板が完成する。特に本発明では、基板に近い側の1層目には小粒子の第1MgO粒子の膜が形成され、その表面に2層目として大粒子の第2MgO粒子がちりばめられた状態となった保護層が得られる。   By going through the above steps (i) to (iii), from the “first MgO particle layer formed from the first protective layer raw material layer” and the “second MgO particle layer formed from the second protective layer raw material layer” A protective layer having a two-layer structure is obtained, and the front plate is finally completed. In particular, in the present invention, a protective layer in which a film of small first MgO particles is formed in the first layer close to the substrate, and the second layer of large particles is interspersed as the second layer on the surface. Is obtained.

以下では、本発明に関連して行った実験内容と実施操作について説明する。尚、以下の説明では、保護層原料のことを便宜上「インク」と称している。
(表1)
Below, the content of the experiment conducted in connection with this invention and implementation operation are demonstrated. In the following description, the protective layer material is referred to as “ink” for convenience.
(Table 1)

表1の上段に記載している4つの実験(実験1−1、2−1、3−1および4−1)は、図11に示す従来技術の方法を用いたものであり、インク40’、インク50’の成分を変えて行ったものである。一方、下段に記載している4つの実験(実験1−2、2−2、3−2および4−2)は、図1に示す本発明の塗布乾燥方法を用いて実験した結果であり、同様にインク40、インク50の成分を変えて行ったものである。   Four experiments (Experiments 1-1, 2-1, 3-1, and 4-1) described in the upper part of Table 1 were performed using the method of the prior art shown in FIG. The ink 50 'was changed. On the other hand, the four experiments (Experiments 1-2, 2-2, 3-2 and 4-2) described in the lower part are the results of experiments using the coating and drying method of the present invention shown in FIG. Similarly, the ink 40 and ink 50 components are changed.

インクの溶媒としては、以下の溶媒を用いた。
高粘度インク溶媒:P−メンタ−1−エン−8−オール 蒸気圧5Pa(常温時)
低粘度インク溶媒:3−メトキシ−3−メチル−1ブタノール 蒸気圧200Pa(常温時)
The following solvents were used as ink solvents.
High viscosity ink solvent: P-Ment-1-en-8-ol Vapor pressure 5 Pa (at room temperature)
Low viscosity ink solvent: 3-methoxy-3-methyl-1-butanol Vapor pressure 200Pa (at room temperature)

インクに含まれる粒子としては、小粒子、大粒子共にMgO粒子を用い、各インク間で粒子径が異なるようにした。   As the particles contained in the ink, MgO particles were used for both the small particles and the large particles so that the particle diameters were different between the inks.

上記表1では、実験1−2の条件が一番良い出来栄えと判断された。このような出来栄え評価は、乾燥後に大粒子が小粒子層からどれだけ頭を出しているかをSEMにより観察することで行った(図9参照)。評価の判断基準にあたっては、『○』は大粒子の8割以上が小粒子層から飛び出ている場合であり(図9で示されている“飛び出し程度”である)、『◎』は大粒子の9割以上が小粒子層から飛び出ている場合である。逆に、『△』は、大粒子の半分未満しか小粒子層から飛び出していない場合、『×』は、大粒子が小粒子層から全く飛び出していない場合である。   In Table 1 above, the condition of Experiment 1-2 was judged to be the best performance. Such performance evaluation was performed by observing by SEM how much the large particles protrude from the small particle layer after drying (see FIG. 9). In the evaluation criteria, “○” indicates that 80% or more of the large particles are protruding from the small particle layer (the “jumping degree” shown in FIG. 9), and “◎” indicates the large particles. This is a case where 90% or more of the above has protruded from the small particle layer. On the contrary, “Δ” indicates that less than half of the large particles protrude from the small particle layer, and “X” indicates that no large particles protrude from the small particle layer.

本実施例に際して行った実験内容を経時的に説明する。まず、2種類のインクを、それぞれの押出しポンプによりスリットダイの内部へ押し込んだ。これにより、2つのスリットからスリットダイ内部へ押し込まれたインクが吐出されるのに合わせて、スリットダイ(又はパネル10)を移動させて2層のインク層を形成した。本発明の実験では、各層の塗布膜厚を数10〜数100μmとした為、塗布時に各層に供給されるインク量は42インチパネルサイズを前記の厚みで塗布した場合、数mL〜数10mLとなる。塗布されたパネルでは2種類のインクが積層され、基板に近い側のインク層には小粒子が、遠い側のインク層には大粒子が含まれているものである。積層塗布されたパネル基板は、真空チャンバーへと塗布面を地面側にしたままで搬送した。そして、真空チャンバーへと移動させた後、ポンプを駆動させて真空排気を実施した。この時、急激な減圧により塗布膜内から突沸が起こらないように排気初期時の排気速度変化を真空計の値を見ながらコンダクタンスバルブを用いて制御した。チャンバー・サイズ及び排気能力にもよるが、1000Pa以下の真空度に至るまでに30秒程度の時間をとる方が突沸抑制に効果的であることが今回の実験より分かった。   The content of the experiment conducted in this example will be described over time. First, two types of ink were pushed into the slit die by the respective extrusion pumps. Thus, the ink that was pushed into the slit die from the two slits was ejected to move the slit die (or panel 10) to form two ink layers. In the experiment of the present invention, since the coating film thickness of each layer was set to several tens to several hundreds of μm, the amount of ink supplied to each layer at the time of coating was several mL to several tens mL when the 42-inch panel size was applied with the above thickness. Become. In the applied panel, two types of ink are laminated, and the ink layer closer to the substrate contains small particles, and the far ink layer contains large particles. The laminated and coated panel substrate was conveyed to the vacuum chamber with the coated surface on the ground side. And after moving to a vacuum chamber, the pump was driven and evacuation was implemented. At this time, the change in the exhaust speed at the initial stage of exhaust was controlled by using a conductance valve so as not to cause bumping from the inside of the coating film due to sudden pressure reduction. Although it depends on the chamber size and exhaust capacity, it was found from this experiment that it takes more than 30 seconds to reach a vacuum level of 1000 Pa or less, which is more effective for suppressing bumping.

(結果の考察)
実験条件と出来栄え評価の結果とを鑑みると、各Runで起こっている現象としては以下のことが考えられる。
● まず従来例であるインク40’およびインク50’に同じ溶媒を用いた実験2−1や4−1の場合、下層のインク内の小粒子は粒子径が小さい為、インク内でほとんど沈降しない状況であるのに対し、上層のインク内の大粒子はその粒子径が大きい為に高速で沈降してしまい、塗布後、乾燥までの間に大粒子が、小粒子の存在する下層インクの中へ混ざり込んだものと考えられる。その結果、大粒子と小粒子との上下関係が逆転している部分が発生し、所望の特性が得られないという現象が起こったものと考えられる。
● また、従来例でインク40’と50’とでインクが異なる場合、塗布後、大粒子はインク内で沈降を始めてインク40’とインク50’との境界面まで移動する。この状態で真空乾燥を実施した場合、観察結果を見ると大粒子は、小粒子層の中に潜り込んでおり、これも問題である。
● 実験2−2や4−2の場合は、上記の実験2−1や4−1と同様に塗布後の乾燥時にインク50の層より乾燥を開始するが、インクの乾燥時には、小粒子と大粒子とが同じ溶媒内に混合した形になってしまう為、最終の乾燥時には、大粒子層の表面に小粒子が存在する部分などが存在し、目的に積層構造になっていなかったと考えられる。低粘度インクを用いた2−2の方が4−2よりも結果が良いのは、乾燥時間が長く混合現象がより発生していたからであると考えられる。
● 実験1−2が一番良い出来栄えとなったが、これは、乾燥時にまず低粘度インク40の乾燥を開始し、小粒子層をパネル表面に形成後、大粒子を含んだ高粘度インク50の乾燥を行ったので、小粒子層の表面に大粒子の分散状態が好適に出来たからであると考えられる。
(Consideration of results)
Considering the experimental conditions and results of performance evaluation, the following can be considered as phenomena occurring in each Run.
● First, in the case of Experiments 2-1 and 4-1, where the same solvent is used for the ink 40 ′ and the ink 50 ′, which are conventional examples, the small particles in the lower layer ink have a small particle size, and thus hardly settle in the ink. On the other hand, the large particles in the upper layer ink settle down at a high speed due to the large particle size, and the large particles in the lower layer ink where small particles exist after coating until drying. It is thought that it was mixed. As a result, it is considered that a portion in which the vertical relationship between the large particles and the small particles is reversed occurs and a desired characteristic cannot be obtained.
In addition, when the inks 40 ′ and 50 ′ are different from each other in the conventional example, after application, the large particles start to settle in the ink and move to the boundary surface between the ink 40 ′ and the ink 50 ′. When vacuum drying is performed in this state, the large particles are found in the small particle layer as seen from the observation result, which is also a problem.
In the case of Experiment 2-2 or 4-2, the drying starts from the layer of the ink 50 at the time of drying after application as in the case of the above Experiment 2-1 or 4-1; Since the large particles are mixed in the same solvent, there is a part where small particles exist on the surface of the large particle layer at the time of final drying. . The reason why the result of 2-2 using the low-viscosity ink is better than that of 4-2 is thought to be that the drying time is longer and the mixing phenomenon occurs more.
● Experiment 1-2 was the best result. First, when drying, the low-viscosity ink 40 started to dry, and after forming a small particle layer on the panel surface, the high-viscosity ink 50 containing large particles 50 This is probably because the dispersion state of the large particles was suitably formed on the surface of the small particle layer.

本発明の製造方法によって得られるPDPは、改質された保護層によって前面板誘電体層が好適に覆われたものであるので、一般家庭向けテレビジョンおよび商業用のディスプレイとして用いることができる他、その他の表示デバイスにも好適に用いることができる。   Since the PDP obtained by the production method of the present invention has a front-surface dielectric layer suitably covered with a modified protective layer, it can be used as a general-use television set and a commercial display. It can also be suitably used for other display devices.

また、本発明の製造方法は、異なるサイズの粒子積層体を“同時塗布乾燥”により形成することができるので、PDP製造のみならず、粒子層形成の制御が必要とされるLCD、有機ELなどのディスプレイパネル及び、光学フルム、そして鋼板や布などの塗装工程などの用途にも適用することができる。   Further, the production method of the present invention can form particle laminates of different sizes by “simultaneous coating and drying”, so that not only PDP production but also control of particle layer formation, LCD, organic EL, etc. The present invention can also be applied to applications such as display panels, optical films, and painting processes such as steel sheets and cloth.

(本発明に関連した符号)
1 前面板
2 背面板
10 前面板側の基板
11 前面板側の電極(表示電極)
12 走査電極
12a 透明電極
12b バス電極
13 維持電極
13a 透明電極
13b バス電極
14 ブラックストライプ(遮光層)
15 前面板側の誘電体層
16 保護層
20 背面板側の基板
21 背面板側の電極(アドレス電極)
22 背面板側の誘電体層
23 隔壁
24 溝部
25 蛍光体層
26 隔壁上層
30 放電空間
32 放電セル
40 第1保護層原料
40A 第1保護層原料層
46 第1MgO粒子(小粒子)
48 第1溶剤
50 第2保護層原料
50A 第2保護層原料層
56 第2MgO粒子(大粒子)
58 第2溶剤
60 2層構造の保護層原料層
70 スリットダイ
71 第1スリット部
72 第2スリット部
80 真空乾燥装置
81 真空チャンバー
82 コンダクタンスバルブ
83 ポンプ
84 真空計
100 PDP
(従来技術・背景技術に関連した符号)
10’ パネル
16’ 保護層
40’ インク
46’ MgO小粒子
48’ インク溶剤
50’ インク
56’ MgO大粒子
58’ インク溶剤
70’ スリットダイ
71’ 第1スリット部
72’ 第2スリット部
101’ PDP
102’ フロントパネル
103’ フロントパネルガラス
104’ 維持電極
106’ 表示電極対
107’ 誘電体層
108’ 保護層
109’ バックパネル
110’ バックパネルガラス
111’ データ電極
112’ 誘電体層
113’ 隔壁(リブ)
114’ 蛍光体層
115’ 放電空間
120’ 透明電極
121’ バスライン
(Codes related to the present invention)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front plate 2 Back plate 10 Front board side board 11 Front board side electrode (display electrode)
12 Scan electrode 12a Transparent electrode 12b Bus electrode 13 Sustain electrode 13a Transparent electrode 13b Bus electrode 14 Black stripe (light shielding layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 Dielectric layer by the side of a front board 16 Protection layer 20 Board | substrate by the side of a back board 21 Electrode (address electrode) by the side of a back board
22 dielectric layer on the back plate side 23 partition wall 24 groove portion 25 phosphor layer 26 partition wall upper layer 30 discharge space 32 discharge cell 40 first protective layer raw material 40A first protective layer raw material layer 46 first MgO particles (small particles)
48 1st solvent 50 2nd protective layer raw material 50A 2nd protective layer raw material layer 56 2nd MgO particle (large particle)
58 Second solvent 60 Two-layer protective layer raw material layer 70 Slit die 71 First slit portion 72 Second slit portion 80 Vacuum dryer 81 Vacuum chamber 82 Conductance valve 83 Pump 84 Vacuum gauge 100 PDP
(Codes related to conventional and background technologies)
10 'panel 16' protective layer 40 'ink 46' MgO small particles 48 'ink solvent 50' ink 56 'MgO large particles 58' ink solvent 70 'slit die 71' first slit portion 72 'second slit portion 101' PDP
102 'front panel 103' front panel glass 104 'sustain electrode 106' display electrode pair 107 'dielectric layer 108' protective layer 109 'back panel 110' back panel glass 111 'data electrode 112' dielectric layer 113 'barrier rib (rib )
114 'phosphor layer 115' discharge space 120 'transparent electrode 121' bus line

Claims (5)

基板A上に電極Aと誘電体層Aと保護層とが形成された前面板と、基板B上に電極Bと誘電体層Bと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板とが対向配置されて成るプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前面板における保護層の形成が、
(i)第1MgO粒子および第1溶剤を含んで成る第1保護層原料ならびに第2MgO粒子および第2溶剤を含んで成る第2保護層原料を用意する工程、
(ii)基板A上に形成された誘電体層Aに対して第1保護層原料と第2保護層原料とを同時に塗布することによって、第1保護層原料層および第2保護層原料層との2層構造の保護層原料層を形成する工程、ならびに
(iii)保護層原料層を乾燥に付す工程
を含んで成り、
前記工程(i)で用意する第1保護層原料および第2保護層原料では、第1保護層原料の第1MgO粒子の粒子サイズが第2保護層原料の第2MgO粒子の粒子サイズよりも小さくなっており、
前記工程(ii)において、塗布されることになる誘電体層Aの面を鉛直方向下向きにした状態で、第1保護層原料および第2保護層原料を同時に塗布しており、それによって、誘電体層Aと接するように第1保護層原料層を形成すると共に、該第1保護層原料層と接するように第2保護層原料層を形成することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
The front plate in which the electrode A, the dielectric layer A, and the protective layer are formed on the substrate A is opposed to the back plate in which the electrode B, the dielectric layer B, the partition wall, and the phosphor layer are formed on the substrate B. A plasma display panel manufacturing method comprising:
The formation of a protective layer on the front plate
(I) providing a first protective layer material comprising first MgO particles and a first solvent, and a second protective layer material comprising second MgO particles and a second solvent;
(Ii) By simultaneously applying the first protective layer raw material and the second protective layer raw material to the dielectric layer A formed on the substrate A, the first protective layer raw material layer and the second protective layer raw material layer; Forming a protective layer raw material layer having a two-layer structure, and (iii) subjecting the protective layer raw material layer to drying,
In the first protective layer raw material and the second protective layer raw material prepared in the step (i), the particle size of the first MgO particles of the first protective layer raw material is smaller than the particle size of the second MgO particles of the second protective layer raw material. And
In the step (ii), the first protective layer raw material and the second protective layer raw material are applied at the same time with the surface of the dielectric layer A to be applied facing downward in the vertical direction. A method for producing a plasma display panel, comprising: forming a first protective layer raw material layer so as to be in contact with the body layer A; and forming a second protective layer raw material layer so as to be in contact with the first protective layer raw material layer .
前記工程(i)で用意する第1保護層原料および第2保護層原料では、第2保護層原料における第2MgO粒子の沈降速度が第1保護層原料における第1MgO粒子の沈降速度よりも速くなっており、また、第2溶剤の蒸気圧が第1溶剤の蒸気圧よりも低いことを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。   In the first protective layer material and the second protective layer material prepared in the step (i), the settling rate of the second MgO particles in the second protective layer material is faster than the settling rate of the first MgO particles in the first protective layer material. The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 1, wherein the vapor pressure of the second solvent is lower than the vapor pressure of the first solvent. 前記工程(ii)では、第1保護層原料および第2保護層原料を鉛直方向上向きに供給することによって、第1保護層原料および第2保護層原料の同時塗布を実施することを特徴とする、請求項1または2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。   In the step (ii), the first protective layer raw material and the second protective layer raw material are simultaneously applied by supplying the first protective layer raw material and the second protective layer raw material vertically upward. A method for manufacturing a plasma display panel according to claim 1 or 2. 前記工程(iii)では、2層構造の保護層原料層を真空乾燥に付しており、
保護層原料層が誘電体層Aに対して鉛直方向の下側に位置する向きのまま真空乾燥を実施することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
In the step (iii), the protective layer raw material layer having a two-layer structure is subjected to vacuum drying,
The plasma display panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the protective layer raw material layer is vacuum-dried in a direction in which the protective layer material layer is positioned below the dielectric layer A in the vertical direction. Method.
前記工程(iii)では、2層構造の保護層原料層を2段階で真空乾燥に付しており、
第1真空乾燥では、第1減圧下において第1保護層原料層を乾燥させ、第2真空乾燥では、該第1減圧から更に減圧した第2減圧下において第2保護層原料層を乾燥させることを特徴とする、請求項2に従属する請求項3または4に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
In the step (iii), the protective layer raw material layer having a two-layer structure is subjected to vacuum drying in two stages,
In the first vacuum drying, the first protective layer raw material layer is dried under a first reduced pressure, and in the second vacuum drying, the second protective layer raw material layer is dried under a second reduced pressure that is further reduced from the first reduced pressure. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 3 or 4, which is dependent on claim 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014114178A (en) * 2012-12-07 2014-06-26 Ube Material Industries Ltd Magnesium oxide fine particle fluid dispersion

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