JP2011232329A - 回収装置、回収方法及び分析方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る回収装置は、一つ又は複数の部材によって構成された空間内の物質を回収する回収装置であって、上記空間内に気体又は溶媒を導入するための導入口を上記部材に形成する、導入用ニードル13と、上記導入口を介して上記空間内に上記気体又は溶媒を供給する供給配管14と、上記空間から上記物質を含む上記気体又は溶媒を排出するための排出口を上記部材に形成する、回収用ニードル15と、上記排出口を介して上記物質を含む気体又は溶媒を回収する回収配管16とを備えている。
【選択図】図1
Description
本発明に係る回収装置の一実施形態について、図1,2を参照して以下に説明する。図1の(a)は、本発明の一実施形態に係る回収装置の構成を模式的に示す図である。
)、SVOCs(semi volatile organic compounds)等)、アンモニウムイオン(塩基
性物質)、又は硫酸イオン(酸性物質)等の分子状の汚染物質(AMCs)が挙げられる。これらを例えば吸着剤(TENAX等)が充填された捕集管、活性炭、インピンジャー、固相吸着剤(例えば、特開2009−14522を参照すればよい)、又はメンブレンフィルターなどで回収し、GC/MS、IC、又はICP/MS等で測定評価する。
媒を導入するために、管状であることが好ましい。導入用ニードル13の直径は、ペリクル膜に形成する導入口の口径に応じて適宜設定すればよい。導入用ニードル13の材質としては、例えば、SUS等が挙げられるがこれに限定されるものではない。
成分を分析する分析手段とを備えた分析装置としてもよい。この場合、分析手段は、筺体11内に収納してもよいし、筺体11外に設置してもよい。また、分析手段を回収配管16に接続し、排出口から排出される気体又は溶媒に含まれる化学物質の成分を直接分析できる構成としてもよい。
本発明に係る回収方法は、一つ又は複数の部材によって構成された空間内の物質を回収する回収方法であって、第1の穿孔手段が上記部材に形成した導入口を介して、上記空間内に気体又は溶媒を導入する導入工程と、第2の穿孔手段が上記部材に形成した排出口を介して、上記空間から上記物質を含む上記気体又は溶媒を回収する回収工程とを含めばよい。以下、本発明に係る回収方法を、図1の(b)に示す回収装置10を用いて行なう場合について説明する。
本実施例では、有機成分を添加した模擬マスクを用いて、本発明に係る回収装置の有機成分の回収率を測定した。
まず、容積1Lの真空ビンに、混合有機成分のスタンダード1,000ppmを100μl投入し、標準ガスを作製した。そして、作製した標準ガス1mlを模擬マスクへスパイクした。模擬マスクは、ガラス、アルミニウム及び樹脂シートによって作製し、これらの材料によって囲まれる空間内の容積は69mlであった。
標準ガスをスパイクした模擬マスクを本発明の回収装置の設置台に配置し、上述した実施形態に示したように、模擬マスクにニードルで孔を開けて導入口及び排出口を形成した。この導入口にニードルを介して供給配管を接続し、流速0.1L/分、温度約20℃で模擬マスクの空間内へ高純度の窒素を導入した。
した。なお、5分間、15分間及び30分間気体を捕集する操作はそれぞれ3回行ない、60分間気体を捕集する操作は2回行ない、120分間気体を捕集する操作は1回行なった。
本実施例では、捕集した気体中のトルエン−d体を、加熱脱着(GC/MS)により分析した。分析結果を図3,4に示す。図3は、実施例1において、トルエン−d体の回収率の結果を示すグラフであり、図4は、実施例1において、トルエン−d体の平均回収率の結果を示す表である。
本実施例では、イオン成分を添加した模擬マスクを用いて、本発明に係る回収装置のイオン成分の回収率を測定した。
まず、ガス発生装置としてパーミエーターを用いて作製した高濃度のNH3(アンモニア)ガスを、捕集容器に捕集した。捕集容器としてはテドラーバッグを使用した。次に、捕集したガス2mlを模擬マスクへスパイクした。模擬マスクは、ガラス、アルミニウム及び樹脂シートによって作製し、これらの材料によって囲まれる空間内の容積は69mlであった。
標準ガスをスパイクした模擬マスクを本発明の回収装置の設置台に配置し、上述した実施形態に示したように、模擬マスクにニードルで孔を開けて導入口及び排出口を形成した。この導入口にニードルを介して供給配管を接続し、流速0.1L/分、温度約20℃で10時間、模擬マスクの空間内へ高純度の窒素を導入した。
本実施例では、捕集した気体中のアンモニウムイオン(NH4 +)を、Brems−Bにより分析した。分析結果を図5,6に示す。図5は、実施例2において、アンモニウムイオンの回収率の結果を示す表であり、図6は、実施例2において、アンモニウムイオンの回収率の結果を示すグラフである。
の経過と共に増加傾向にあった。
本実施例では、洗浄した模擬マスクを用いて、マスクとペリクルとで囲まれた空間内部のアンモニウムイオンの吸脱着挙動を評価した。
模擬マスクは、ガラス、アルミニウム及び樹脂シートによって作製し、あらかじめ試験前に洗浄し、アンモニウムイオンが検出しないことを確認した。これらの材料によって囲まれる空間内の容積は69mlであった。
パーミエーションチューブを用いてパーミエーターで発生させたアンモニアガスを0.1L/分の流速で模擬マスクへ導入し、模擬マスク内部を強制汚染させた。汚染開始と同時に排出口からアンモニア分析用のサンプラーとしてのBrems−Bを用いて、経時毎に空間内の気体を捕集し吸着挙動を評価した。
本実施例では、捕集した気体中のアンモニウムイオン(NH4 +)を、Brems−Bにより分析した。分析結果を図7,8に示す。図7は、実施例3において、アンモニウムイオンの検出量を示す表であり、図8は、実施例3において、アンモニウムイオンの回収率の結果を示すグラフである。回収率は予めパーミエーションチューブで発生させたアンモニアガスの濃度、模擬マスクから吸着されずに排出されたアンモニア量、模擬マスク内部に吸着したアンモニア量から算出した。
は食品のパッケージ内等の狭小空間に存在する汚染物質の分析に利用することができる。
11 筺体
12 設置台
13 導入用ニードル(第1の穿孔手段)
14 供給配管(供給手段)
15 回収用ニードル(第2の穿孔手段)
16 回収配管(回収手段)
17 高さ調整機構
18 ガイド(位置決め手段)
19 接着シート(第1の隙間封止手段)
Claims (18)
- 一つ又は複数の部材によって構成された空間内の物質を回収する回収装置であって、
上記空間内に気体又は溶媒を導入するための導入口を上記部材に形成する、第1の穿孔手段と、
上記導入口を介して上記空間内に上記気体又は溶媒を供給する供給手段と、
上記空間から上記物質を含む上記気体又は溶媒を排出するための排出口を上記部材に形成する、第2の穿孔手段と、
上記排出口を介して上記物質を含む気体又は溶媒を回収する回収手段とを備える、回収装置。 - 上記導入口及び排出口を形成する位置を決定するための位置決め手段を備える、請求項1に記載の回収装置。
- 上記第1の穿孔手段、上記第2の穿孔手段、上記供給手段及び上記回収手段のうち少なくとも一つが帯電防止機能を有する、請求項1又は2に記載の回収装置。
- 上記第1の穿孔手段は管状であり、
上記供給手段は、上記第1の穿孔手段を介して上記導入口から上記空間内に上記気体又は溶媒を導入する、請求項1から3のいずれか1項に記載の回収装置。 - 上記第2の穿孔手段は管状であり、
上記回収手段は、上記第2の穿孔手段を介して上記排出口から上記物質を含む気体又は溶媒を回収する、請求項1から4のいずれか1項に記載の回収装置。 - 上記部材を設置する筺体を備え、
形成された上記導入口と、当該導入口を貫通している上記第1の穿孔手段との間、形成された上記排出口と、当該排出口を貫通している上記第2の穿孔手段との間、及び上記空間と、上記部材が設置された上記筺体内の設置空間との間のうち少なくとも一つを封止する第1の隙間封止手段を備える、請求項1から5のいずれか1項に記載の回収装置。 - 上記供給手段から上記第1の穿孔手段に気体又は溶媒を導入するための第1の接続部と、
上記第1の接続部と上記第1の穿孔手段との間を封止する第2の隙間封止手段とを備える、請求項1から6のいずれか1項に記載の回収装置。 - 上記第2の穿孔手段から上記回収手段に気体又は溶媒を通すための第2の接続部と、
上記第2の接続部と上記第2の穿孔手段との間を封止する第3の隙間封止手段とを備える、請求項1から7のいずれか1項に記載の回収装置。 - 上記部材は、フォトマスク及び該フォトマスクを保護する保護膜であり、
上記第1の穿孔手段及び第2の穿孔手段は、上記保護膜を穿孔する、請求項1から8のいずれか1項に記載の回収装置。 - 上記フォトマスクに光を照射する光源を備える、請求項9に記載の回収装置。
- 上記フォトマスクを加熱する加熱手段を備える、請求項9又は10に記載の回収装置。
- 上記部材は、気体透過防止膜、液体透過防止膜及び防塵保護膜のうち少なくとも一つであり、上記空間を被覆又は包装する、請求項1から8のいずれか1項に記載の回収装置。
- 上記供給手段が供給する上記気体を加湿する加湿手段を備える、請求項1から12のいずれか1項に記載の回収装置。
- 上記供給手段が供給する上記気体又は溶媒の温度を調温する調温手段を備える、請求項1から13のいずれか1項に記載の回収装置。
- 上記回収手段が回収した上記物質の成分を分析するための、請求項1から14のいずれか1項に記載の回収装置。
- 一つ又は複数の部材によって構成された空間内の物質を回収する回収方法であって、
第1の穿孔手段が上記部材に形成した導入口を介して、上記空間内に気体又は溶媒を導入する導入工程と、
第2の穿孔手段が上記部材に形成した排出口を介して、上記空間から上記物質を含む上記気体又は溶媒を回収する回収工程とを含む、回収方法。 - 上記導入工程及び上記回収工程では、上記部材が設置された筺体内に上記物質の成分とは異なる成分からなる浄化気体又は汚染気体を供給する、請求項16に記載の回収方法。
- 上記導入工程及び上記回収工程では、上記部材が設置された筺体内に上記物質の成分とは異なる成分からなる浄化溶媒又は汚染溶媒を供給する、請求項16に記載の回収方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010090820 | 2010-04-09 | ||
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JP2011080093A JP5149415B2 (ja) | 2010-04-09 | 2011-03-31 | 回収装置、回収方法及び分析方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2011232329A true JP2011232329A (ja) | 2011-11-17 |
JP5149415B2 JP5149415B2 (ja) | 2013-02-20 |
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Country Status (1)
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