JP2011227099A - 導電率測定装置ならびにその製造および使用 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 51
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 30
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 17
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 10
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 claims description 8
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims description 8
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 7
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 claims description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 210000001520 comb Anatomy 0.000 claims description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 5
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 claims description 3
- -1 transition metal sulfide Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 claims 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 2
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 2
- 230000033558 biomineral tissue development Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 235000013681 dietary sucrose Nutrition 0.000 description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 229960004793 sucrose Drugs 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/06—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a liquid
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/18—Water
- G01N33/1826—Organic contamination in water
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/18—Water
- G01N33/1826—Organic contamination in water
- G01N33/1846—Total carbon analysis
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
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Abstract
【解決手段】本発明は、液体、特に超純水の導電率を測定するための装置の製造方法であって、超高純度の液体の導電率の測定を可能にするセル定数を定めるために適した2つの導電率測定電極を備え、絶縁材料の基板上に導電性材料からの電極パターンを形成することによって、各電極を製造することを含むことを特徴とする方法に関する。
さらに、本発明は、この方法によって得られる導電率測定装置、およびこの導電率測定装置を備える全有機体炭素(TOC)量を測定するための装置に関する。
【選択図】図1
Description
1.Advanced Photochemical Processes、EPA/625/R−98/004、1998年12月、
2.Photocatalytic oxidation of Gas−Phase BTEX−contaminated Waste Streams、NREL/TP−473−7575、1995年3月、
3.Photocatalytic thin film cascade for treatment of organic compounds in wastewater、A.H.C.Cha.、J.P.Barford、C.K.Cha.、Water Science and Technology、vol.44、5、187−195。
電極パターンが、基板の上または基板上に堆積させた下地層自体の上に予め堆積させた材料の層をエッチングすることによって形成され、
基板の電気絶縁材料が、石英ガラス、Mylar(登録商標)、およびケイ素からなる群より選択され、
導電率測定電極を形成する導電材料が、炭素、白金、銀、金、チタニウム、およびホウ素をドープしたダイアモンドからなる群より選択され、
導電率測定電極のパターンが、互いに噛み合った構造を形成する2つの交互配置のくしの形態をとって製造され、
この方法が、基板上に導体または半導体材料でパターンを形成することによって、基板上にサーミスタを製造することをさらに含み、
サーミスタの材料が、多結晶シリコン、白金、およびホウ素をドープしたダイアモンドからなる群より選択され、
導電率測定電極を形成するパターンまたは各導電率測定電極を形成するパターンが、サーミスタ形成材料の下地層の上に製造される場合に、電気絶縁材料、好ましくは二酸化ケイ素SiO2またはチッ化ケイ素Si3N4の堆積物によって、下地層から隔てられている。
装置が、導電率測定チャンバを有するセルを備え、導電率測定チャンバが、セルに設けられた液体導入口および排出口によってセルの外部に連絡するとともに、導電率測定電極のパターンを少なくとも部分的に覆っており、
セルが、相補的である2つの部材を含み、一方の部材が、導電率測定チャンバを形成する凹所を含み、他方の部材が、基板を形成しており、セルの液体導入口および排出口が、基板を形成している部材に形成されており、
装置が、セルを収容する2つの部品を含むケーシングと、2つの部品を締め付けることによって組み立てるための手段であって、導電率測定セルの流体の漏れ防止を保証するために適した手段とを含み、
基板の電気絶縁材料が、石英ガラス、Mylar(登録商標)、およびケイ素からなる群より選択され、
導電率測定電極を形成する導電材料が、炭素、白金、銀、金、チタニウム、およびホウ素をドープしたダイアモンドからなる群より選択され、
導電率測定電極のパターンが、互いに噛み合った構造を形成する2つの交互配置のくしの形態をとり、
装置が、基板上に導体または半導体材料でパターンを形成することによって、基板上にサーミスタを製造することをさらに含み、
サーミスタの材料が、多結晶シリコン、白金、およびホウ素をドープしたダイアモンドからなる群より選択され、
導電率測定電極を形成するパターンまたは各導電率測定電極を形成するパターンが、サーミスタ形成材料を含む下地層の上に製造される場合に、電気絶縁材料、好ましくは二酸化ケイ素SiO2またはチッ化ケイ素Si3N4の堆積物によって、下地層から隔てられており、
装置が、装置に特有の電子部品を、基板の後面に備える。
装置が、光酸化のために、360nm以上かつ400nm以下であって、好ましくは365nmに等しい波長を発するUVランプと、基板上の幅広いエネルギー帯を有する半導体材料を主成分とする光触媒堆積物とを含み、
装置が、光酸化のために、160nm以上かつ400nm以下の波長の紫外線を発するキセノンフラッシュランプと、おそらくは幅広いエネルギー帯を有する半導体材料を主成分とする光触媒堆積物とを含み、
幅広いエネルギー帯の半導体材料が、好ましくはドープされた、遷移金属の単独酸化物、遷移金属とアルカリまたはアルカリ土類金属との混合酸化物、および遷移金属硫化物のうちの少なくとも1つを含み、
半導体材料が、TiO2、ZnO、Fe2O3、ZrO2、Ta2O5、SrTiO3、CaTiO3、KTaO3、CdS、およびZnSからなる群より選択され、
紫外ランプによって発せられた紫外線を検出するために、基板の後面に配置された光センサを備え、
紫外ランプが、発光ダイオードの形態である。
石英ガラスの基板13上に多結晶シリコンを堆積させるステップ、
多結晶シリコンの層に温度センサ17のパターンを、好ましくはP型のドーピングおよび活性化の後に形成するステップ、
電気絶縁材料(ここでは、窒化ケイ素Si3N4)を、多結晶シリコンのパターンの少なくとも一部上に堆積させるステップ、
酸化チタニウムを堆積させるステップ、
チタニウムに導電率測定電極15、16のパターンを形成するステップ、
酸化チタニウムを光触媒として堆積させるステップ、および
メタライゼーションまたはオンクロミウム(Cr/Au)、ならびに接続領域18の形成を行うステップを含む、マイクロエレクトロニクスの方法を実施することによって、例えば実行される。
1.完成したサブアセンブリとして、機器アイテムへと接続することができる完成した小型のTOC測定装置、
2.これらの装置の製造における手作業による組み立ての排除、
3.効果的な光酸化、
4.紫外線発生装置の寿命の向上、
5.予熱を必要としないUV発光ダイオード、
6.分析対象サンプルに予熱を加えることがない、
7.UV発光ダイオードの最大かつ瞬時の有効性、
8.UVの制御のための段階の追加の可能性、
9.電子機器によるUVの放射のより良好な制御および調節、
10.或るTOC測定装置から別のTOC測定装置へのUV放射の高い再現性、
11.導電率測定セル内の気泡、粒子などの検出の可能性、
12.電子妨害に関連する雑音の低減。光酸化プロセスの発生と同時に導電率の測定を実行できるようになり、光酸化プロセスの完了まで光酸化プロセスを制御することができる、
13.セル定数の高い再現性。したがって較正は、所与のセルのバッチのうちのわずかな割合についてのみ必要である、
14.所与のバッチにおける温度センサの高い再現性、
15.導電率の測定時のより良好な温度検出精度の達成、
16.製造コストの削減、
17.技術水準のサンプル容積よりも小さなサンプル容積を実現できるために、光酸化時間の短縮、
18.測定すべきサンプル容積が小さいことによる直接的な測定、
19.セルの設計における柔軟性、
20.もたらされる検出限界(TOC測定装置の実例においてはpptでの値)を考慮して、導電率測定セルを所与の装置(浄水システム、リザーバなど)に柔軟に組み込むことができる、
21.導電率セルの1回限りの使用を想定できる、
22.接着剤の不使用における有機混入物質の排除、
23.種々の追加の電子部品および測定または検出のための装置を一体化の可能性を有するTOC測定装置の小型化の可能性、
24.導電率測定チャンバの容積を最小限へと減らして、超高純度の液体の導電率の測定に適した小さなセル定数を得ることができる。
10 ケーシング
11 (ケーシングの)下部
12 窓
13 基板
14 凹所(チャンバ)
15、16 導電率測定電極
17 サーミスタ
18 はんだ面
19 電気接続ワイヤ
20 電気コネクタ
21、22 水供給穴
23、24 穴
25、26 Oリングシール
27、28 くぼみ
29a、29b、29c、29d ねじ
30a、30b、30c、30d ねじ山
31 中央開口
32 空洞
33、34 突起
35 UVランプ
36 光センサ
Claims (26)
- 液体、特に超純水の導電率を測定するための装置の製造方法であって、装置が、超高純度の液体の導電率の測定を可能にするセル定数を定めるために適した2つの導電率測定電極を備え、製造方法が、
絶縁材料の基板上に導電性材料からの電極パターンを形成することによって、各電極を製造することを含むことを特徴とする、方法。 - 電極パターンが、基板の上または基板上に堆積させた下地層自体の上に予め堆積させた材料の層をエッチングすることによって形成されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 基板の電気絶縁材料が、石英ガラス、Mylar(登録商標)、およびケイ素からなる群より選択されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 導電率測定電極を形成する導電材料が、炭素、白金、銀、金、チタニウム、およびホウ素をドープしたダイアモンドからなる群より選択されることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 導電率測定電極のパターンが、互いに噛み合った構造を形成する2つの交互配置のくしの形態をとって製造されていることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
- 基板上に導体または半導体材料でパターンを形成することによって、基板上にサーミスタを製造することをさらに含むことを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- サーミスタの材料が、多結晶シリコン、白金、およびホウ素をドープしたダイアモンドからなる群より選択されることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 導電率測定電極を形成するパターンまたは導電率測定電極を形成する各パターンが、サーミスタ形成材料の下地層の上に製造される場合に、電気絶縁材料、好ましくは二酸化ケイ素(SiO2)またはチッ化ケイ素(Si3N4)の堆積物によって、下地層から隔てられていることを特徴とする、請求項6または7に記載の方法。
- 液体、特に超純水の導電率を測定するため装置であって、超高純度の液体の導電率の測定を可能にするセル定数を定めるために適した2つの導電率測定電極(15、16)を備え、
各電極が、電気絶縁材料の基板(13)の上の導電材料のパターンの形態をとることを特徴とする、装置。 - 導電率測定チャンバ(14)を有するセルを備え、導電率測定チャンバ(14)が、セルに設けられた液体導入口および排出口(21、22)によってセルの外部に連絡するとともに、導電率測定電極のパターンを少なくとも部分的に覆っていることを特徴とする、請求項9に記載の装置。
- セルが、相補的である2つの部材(12、13)を備え、一方の部材が、導電率測定チャンバ(14)を形成する凹所を含み、他方の部材が、基板(13)を形成しており、セルの液体導入口および排出口が、基板を形成している部材(13)に形成されていることを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- セルを収容する2つの部品(10、11)を含むケーシングと、2つの部品を締め付けることによって組み立てるための手段(29a〜29d)であって、導電率測定セルの流体の漏れ防止を保証するために適した手段とを含むことを特徴とする、請求項10または11に記載の装置。
- 基板の電気絶縁材料が、石英ガラス、Mylar(登録商標)、およびケイ素からなる群より選択されることを特徴とする、請求項9から12のいずれか一項に記載の装置。
- 導電率測定電極を形成する導電材料が、炭素、白金、銀、金、チタニウム、およびホウ素をドープしたダイアモンドからなる群より選択されることを特徴とする、請求項9から13のいずれか一項に記載の装置。
- 導電率測定電極のパターンが、互いに噛み合った構造を形成する2つの交互配置のくしの形態をとることを特徴とする、請求項9から14のいずれか一項に記載の装置。
- 基板上に導体または半導体材料でパターンを形成することによって、基板上にサーミスタ(17)を製造することをさらに含むことを特徴とする、請求項9から15のいずれか一項に記載の装置。
- サーミスタの材料が、多結晶シリコン、白金、およびホウ素をドープしたダイアモンドからなる群より選択されることを特徴とする、請求項16に記載の装置。
- 導電率測定電極を形成するパターンまたは導電率測定電極を形成する各パターンが、サーミスタ形成材料の下地層の上に製造される場合に、電気絶縁材料、好ましくは二酸化ケイ素(SiO2)またはチッ化ケイ素(Si3N4)の堆積物によって、下地層から隔てられていることを特徴とする、請求項16または17に記載の装置。
- 装置に特有の電子部品を、基板の後面に備えることを特徴とする、請求項9から18のいずれか一項に記載の装置。
- 液体サンプルの全有機体炭素(TOC)含有量を測定するための装置であって、
請求項10から19のいずれか一項に記載の導電率を測定するための装置を備え、該導電率を測定するための装置が、測定チャンバ(14)内に位置する液体サンプルの光酸化を実行するため、紫外線に対して透明な少なくとも1つの窓(12)を有する、全有機体炭素(TOC)含有量を測定するための装置。 - 光酸化のために、360nm以上かつ400nm以下であって、好ましくは365nmに等しい波長を発するUVランプと、基板上の幅広いエネルギー帯を有する半導体材料を主成分とする光触媒堆積物とを含むことを特徴とする、請求項20に記載の装置。
- 光酸化のために、160nm以上かつ400nm以下の波長の紫外線を発するキセノンフラッシュランプと、おそらくは基板上の幅広いエネルギー帯を有する半導体材料を主成分とする光触媒堆積物とを含むことを特徴とする、請求項20に記載の装置。
- 幅広いエネルギー帯を有する半導体材料が、好ましくはドープされた、遷移金属の単独酸化物、遷移金属とアルカリまたはアルカリ土類金属との混合酸化物、および遷移金属硫化物のうちの少なくとも1つを含むことを特徴とする、請求項21または22に記載の装置。
- 半導体材料が、TiO2、ZnO、Fe2O3、ZrO2、Ta2O5、SrTiO3、CaTiO3、KTaO3、CdS、およびZnSからなる群より選択されることを特徴とする、請求項23に記載の装置。
- 紫外ランプによって発せられた紫外線を検出するために、基板の後面に配置された光センサ(36)を備えることを特徴とする、請求項21から24のいずれか一項に記載の装置。
- 紫外ランプが、発光ダイオードの形態であることを特徴とする、請求項21から25のいずれか一項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0655276A FR2909447B1 (fr) | 2006-12-01 | 2006-12-01 | Dispositif de mesure de conductivite, sa fabrication et son utilisation |
FR0655276 | 2006-12-01 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007308330A Division JP2008139312A (ja) | 2006-12-01 | 2007-11-29 | 導電率測定装置ならびにその製造および使用 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011227099A true JP2011227099A (ja) | 2011-11-10 |
JP5394453B2 JP5394453B2 (ja) | 2014-01-22 |
Family
ID=38180191
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007308330A Pending JP2008139312A (ja) | 2006-12-01 | 2007-11-29 | 導電率測定装置ならびにその製造および使用 |
JP2011176077A Active JP5394453B2 (ja) | 2006-12-01 | 2011-08-11 | 導電率測定装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007308330A Pending JP2008139312A (ja) | 2006-12-01 | 2007-11-29 | 導電率測定装置ならびにその製造および使用 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20080258742A1 (ja) |
EP (1) | EP1927849B1 (ja) |
JP (2) | JP2008139312A (ja) |
CN (1) | CN101221141B (ja) |
ES (1) | ES2680498T3 (ja) |
FR (1) | FR2909447B1 (ja) |
SG (2) | SG143218A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2909447B1 (fr) * | 2006-12-01 | 2009-07-31 | Millipore Corp | Dispositif de mesure de conductivite, sa fabrication et son utilisation |
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-
2006
- 2006-12-01 FR FR0655276A patent/FR2909447B1/fr active Active
-
2007
- 2007-11-27 ES ES07291411.2T patent/ES2680498T3/es active Active
- 2007-11-27 EP EP07291411.2A patent/EP1927849B1/en active Active
- 2007-11-28 US US11/998,003 patent/US20080258742A1/en not_active Abandoned
- 2007-11-29 JP JP2007308330A patent/JP2008139312A/ja active Pending
- 2007-11-30 CN CN2007101441745A patent/CN101221141B/zh active Active
- 2007-11-30 SG SG200718201-7A patent/SG143218A1/en unknown
- 2007-11-30 SG SG2014013106A patent/SG2014013106A/en unknown
-
2011
- 2011-08-11 JP JP2011176077A patent/JP5394453B2/ja active Active
- 2011-11-18 US US13/299,593 patent/US20120062243A1/en not_active Abandoned
- 2011-11-18 US US13/299,585 patent/US20120061346A1/en not_active Abandoned
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2006300633A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Shimadzu Corp | 全有機体炭素測定装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101221141B (zh) | 2012-05-30 |
CN101221141A (zh) | 2008-07-16 |
EP1927849B1 (en) | 2018-04-25 |
FR2909447B1 (fr) | 2009-07-31 |
EP1927849A1 (en) | 2008-06-04 |
SG143218A1 (en) | 2008-06-27 |
US20120062243A1 (en) | 2012-03-15 |
JP5394453B2 (ja) | 2014-01-22 |
FR2909447A1 (fr) | 2008-06-06 |
US20120061346A1 (en) | 2012-03-15 |
US20080258742A1 (en) | 2008-10-23 |
JP2008139312A (ja) | 2008-06-19 |
SG2014013106A (en) | 2014-05-29 |
ES2680498T3 (es) | 2018-09-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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|
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|
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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