JP2011225779A - Transparent resin composition and optical semiconductor device - Google Patents

Transparent resin composition and optical semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2011225779A
JP2011225779A JP2010099191A JP2010099191A JP2011225779A JP 2011225779 A JP2011225779 A JP 2011225779A JP 2010099191 A JP2010099191 A JP 2010099191A JP 2010099191 A JP2010099191 A JP 2010099191A JP 2011225779 A JP2011225779 A JP 2011225779A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
mass
resin composition
meth
transparent resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010099191A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuko Takahashi
優子 高橋
Yuki Taniguchi
勇気 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Kyocera Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Chemical Corp filed Critical Kyocera Chemical Corp
Priority to JP2010099191A priority Critical patent/JP2011225779A/en
Publication of JP2011225779A publication Critical patent/JP2011225779A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition with excellent transparency and transparency after thermal history, heat resistance, and reliability, and is especially preferred for sealing an optical semiconductor device.SOLUTION: The transparent resin composition comprises (A) a (meth)acrylic modified silicone compound, (B) a (meth)acrylic resin having a carbonate group, and (C) a curing catalyst, as essential components, wherein 20-95 pts.mass of the component (A) and 5-80 pts.mass of the component (B) are contained per a total of 100 pts.mass of the component (A) and the component (B). The optical semiconductor device sealed by curing the composition is also provided.

Description

本発明はLED、フォトトランジスタ、フォトダイオード、CCD等の光半導体等の封止用樹脂組成物およびレンズなど透明な成形品に関する。さらに詳しくは、適正範囲の弾性率、Tgを有し、又は耐紫外線や耐熱劣化性を有する、透明樹脂組成物およびそれを使用して封止された光半導体装置に関する。   The present invention relates to a resin composition for sealing an optical semiconductor such as an LED, a phototransistor, a photodiode, or a CCD, and a transparent molded product such as a lens. More specifically, the present invention relates to a transparent resin composition having an appropriate range of elastic modulus and Tg, or having resistance to ultraviolet rays and heat deterioration, and an optical semiconductor device sealed using the same.

光半導体はそれを外部環境から保護するために透明樹脂で封止されているが、光半導体素子の封止に用いられる透明樹脂には、透明性、耐湿性、耐熱性が求められるため、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂が用いられている(例えば、特許文献1〜3参照)。また、レンズなど透明樹脂を用いた成形品では、もともとアクリル樹脂が使用されているが、近年耐リフロー性を要求されるようになり、アクリル樹脂で寸法安定性、耐熱性に優れていることが求められるようになってきた。   The optical semiconductor is sealed with a transparent resin to protect it from the external environment. However, the transparent resin used for sealing the optical semiconductor element is required to have transparency, moisture resistance, and heat resistance. Resins and silicone resins are used (see, for example, Patent Documents 1 to 3). In addition, acrylic resin is originally used for molded products using transparent resin such as lenses, but recently, reflow resistance has been required, and acrylic resin has excellent dimensional stability and heat resistance. It has come to be required.

特開2006−307087号公報JP 2006-307087 A WO2007/129536号パンフレットWO2007 / 129536 pamphlet 特表2008-537968号公報Special table 2008-537968 gazette

耐熱性を向上させるためにはシリコーン骨格の導入が好ましいが、寸法安定性を求めるとエポキシ樹脂やアクリル樹脂のような有機材料やシリカなど無機充填剤を配合することが好ましい。しかしながら、紫外線照射される環境で透明性を維持するために、エポキシ樹脂よりアクリル樹脂が好ましい。
また、エポキシ樹脂を酸無水物で硬化させる系では酸無水物の揮発も多い上、アクリル樹脂との併用ではエポキシ樹脂とアクリル樹脂双方とも反応しづらくなるため、エポキシ樹脂をカチオン硬化させることが好ましい。
本発明はこのような従来の事情に対処するためになされたもので、透明性および耐熱性、信頼性に優れる、特に光半導体装置封止用として好ましい樹脂組成物およびその硬化物で封止された光半導体装置を提供することを目的とする。
In order to improve heat resistance, it is preferable to introduce a silicone skeleton. However, in order to obtain dimensional stability, it is preferable to add an organic filler such as an epoxy resin or an acrylic resin or an inorganic filler such as silica. However, acrylic resin is preferable to epoxy resin in order to maintain transparency in an environment irradiated with ultraviolet rays.
In addition, in the system where the epoxy resin is cured with an acid anhydride, the volatilization of the acid anhydride is also large, and it becomes difficult for both the epoxy resin and the acrylic resin to react when used in combination with the acrylic resin. Therefore, it is preferable to cationically cure the epoxy resin. .
The present invention has been made in order to cope with such a conventional situation, and is sealed with a resin composition excellent in transparency, heat resistance and reliability, and particularly preferable for sealing an optical semiconductor device and a cured product thereof. It is an object of the present invention to provide an optical semiconductor device.

本発明者等は、上記の目的を達成するため鋭意研究を重ねた結果、(メタ)アクリル変性シリコーン化合物とカーボネート基を有する(メタ)アクリル樹脂および硬化触媒を必須成分とすることにより、透明性、耐熱性、信頼性に優れる、特に光半導体装置封止用として好ましい透明樹脂組成物および光半導体装置が得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
また、オキセタン基を有する(メタ)アクリル樹脂やグリシジル基と炭素−炭素二重結合を有する化合物や無機充填剤を配合することにより、さらに耐熱信頼性、基板との接着性、低収縮性の向上を図ることができる。
すなわち、本発明は、下記
(1)(A)(メタ)アクリル変性シリコーン化合物、(B)カーボネート基を有する(メタ)アクリル樹脂および(C)硬化触媒を必須成分とし、成分(A)と成分(B)の合計量100質量部中、前記成分(A)を20〜95質量部の割合で含有し、かつ、前記成分(B)を5〜80質量部の割合で含有することを特徴とする透明樹脂組成物、
(2)成分(C)の含有量が成分(A)と成分(B)の合計量100質量部に対して0.1〜1質量部である上記(1)に記載の透明樹脂組成物、
(3)さらに(D)オキセタン基を有する(メタ)アクリル樹脂を前記成分(A)と成分(B)の合計100質量部に対して10〜70質量部含有する上記(1)または(2)に記載の透明樹脂組成物、
(4)さらに(E)グリシジル基と炭素−炭素二重結合を有する化合物を成分(A)と成分(B)の合計100質量部に対して10〜50質量部含有する上記(1)〜(3)のいずれかに記載の透明樹脂組成物および
(5)上記(1)〜(4)のいずれかに記載の透明樹脂組成物を硬化させることにより封止してなる光半導体装置を提供するものである。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have made (meth) acryl-modified silicone compound, a (meth) acrylic resin having a carbonate group, and a curing catalyst as essential components, thereby achieving transparency. The present inventors have found that a transparent resin composition and an optical semiconductor device excellent in heat resistance and reliability, particularly preferable for sealing an optical semiconductor device, can be obtained, and the present invention has been completed.
In addition, by incorporating a (meth) acrylic resin having an oxetane group, a compound having a glycidyl group and a carbon-carbon double bond, or an inorganic filler, heat resistance reliability, adhesion to a substrate, and low shrinkage are further improved. Can be achieved.
That is, the present invention comprises (1) (A) (meth) acryl-modified silicone compound, (B) (meth) acrylic resin having a carbonate group, and (C) a curing catalyst as essential components. In the total amount of 100 parts by mass of (B), the component (A) is contained in a proportion of 20 to 95 parts by mass, and the component (B) is contained in a proportion of 5 to 80 parts by mass. Transparent resin composition,
(2) The transparent resin composition according to the above (1), wherein the content of the component (C) is 0.1 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B),
(3) The above (1) or (2) further comprising (D) 10 to 70 parts by mass of (meth) acrylic resin having an oxetane group with respect to 100 parts by mass in total of the component (A) and the component (B). Transparent resin composition according to
(4) The above (1) to (4) further containing (E) 10 to 50 parts by mass of a compound having a glycidyl group and a carbon-carbon double bond with respect to 100 parts by mass in total of the component (A) and the component (B). A transparent resin composition according to any one of 3) and (5) an optical semiconductor device that is sealed by curing the transparent resin composition according to any one of (1) to (4) above. Is.

本発明により、透明性および熱履歴を受けた後の透明性、耐熱性、信頼性に優れる、特に光半導体装置封止用として好ましい樹脂組成物およびその硬化物で封止された光半導体装置が提供される。   According to the present invention, there are provided a resin composition excellent in transparency, heat resistance, and reliability after being subjected to transparency and heat history, particularly preferable for sealing an optical semiconductor device, and an optical semiconductor device sealed with a cured product thereof. Provided.

以下、本発明を詳細に説明する。
まず、成分(A)について説明する。
本発明で用いられる成分(A)の(メタ)アクリル変性シリコーン化合物は、(メタ)アクリル基が、シリコーン骨格の側鎖や末端など、どの位置に導入されていても構わない。具体例として、信越化学工業製X−22−164(シリコーン骨格がメタクリルエステル位置に導入されている。官能基当量190)、X−22−164As(シリコーン骨格がメタクリルエステル位置に導入されている。当量450)、X−22−164A(シリコーン骨格がメタクリルエステル位置に導入されている。官能基当量860)等が使用できる。
その他の例としては、(メタ)アクリルオキシプロピル末端ポリジメチルシロキサン、[(メタ)アクリルオキシプロピル]メチルシロキサン、[(メタ)アクリルオキシプロピル]メチルシロキサンとジメチルシロキサンの共重合体等が用いられる。なお、前記化合物の(メタ)アクリル基の末端にメチル基が導入されているものも使用できる。1分子中の官能基数は2つ以上が好ましいが官能基数が1つのものでもかまわない。
官能基当量は100〜1000が好ましい範囲であり、この範囲であれば、得られた透明樹脂組成物のタック性および硬化物の耐熱性が良好になる。
本発明の透明樹脂組成物における成分(A)の割合は、成分(A)と成分(B)の合計量100質量部中20〜95質量部であることが必須であり、50〜95質量部であることが好ましい。
成分(A)の割合が20質量部未満であると得られた透明樹脂組成物またはその硬化物の耐熱性が低下する。また95質量部を超えると硬化物にクラックや剥離を生ずる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
First, the component (A) will be described.
In the (meth) acryl-modified silicone compound of component (A) used in the present invention, the (meth) acryl group may be introduced at any position such as a side chain or a terminal of the silicone skeleton. As specific examples, X-22-164 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (silicone skeleton is introduced at the methacrylic ester position, functional group equivalent 190), X-22-164As (silicone skeleton is introduced at the methacrylic ester position). Equivalent 450), X-22-164A (silicone skeleton is introduced at the methacrylic ester position, functional group equivalent 860), and the like can be used.
Other examples include (meth) acryloxypropyl-terminated polydimethylsiloxane, [(meth) acryloxypropyl] methylsiloxane, and a copolymer of [(meth) acryloxypropyl] methylsiloxane and dimethylsiloxane. In addition, those in which a methyl group is introduced at the terminal of the (meth) acryl group of the compound can also be used. The number of functional groups in one molecule is preferably 2 or more, but one having 1 functional group may be used.
The functional group equivalent is preferably in the range of 100 to 1000. Within this range, the tackiness of the obtained transparent resin composition and the heat resistance of the cured product are improved.
The ratio of the component (A) in the transparent resin composition of the present invention is essential to be 20 to 95 parts by mass in 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B), and 50 to 95 parts by mass. It is preferable that
The heat resistance of the obtained transparent resin composition or its hardened | cured material falls that the ratio of a component (A) is less than 20 mass parts. Moreover, when it exceeds 95 mass parts, a crack and peeling will arise in hardened | cured material.

次に、成分(B)について説明する。
成分(B)のカーボネート基を有する(メタ)アクリル樹脂としては、得られた透明樹脂組成物の硬化物が無色透明で変色し難いものであれば、どのようなカーボネート基を有する(メタ)アクリル樹脂を単独もしくは併用してもよい。具体例として、宇部興産(株)製UM−90(1/3)DM〔シクロヘキサン基を骨格に有するメタクリルオリゴマーと直鎖アルキル基を有するメタクリルオリゴマーを1:3で共重合したもの〕、UM−90(3/1)DM〔シクロヘキサン基を骨格に有するメタクリルオリゴマーと直鎖アルキル基を有するメタクリルオリゴマーを3:1で共重合したもの〕が挙げられる。
カーボネート基を有する(メタ)アクリル樹脂のその他の例としては、カーボネート基とアルキル基を骨格に有する(メタ)アクリルオリゴマー、前記アルキル基に代えてシクロアルキル基、複素環を導入したものも使用できるが、耐紫外線性を有するためには芳香環、アミノ基、チオール基を有する化合物は好ましくない。
さらに、グリシジル(メタ)アクリレート、4−ブチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートおよびポリエチレングリコールジグリシジルエーテルから選ばれる少くとも1種と二酸化炭素とを反応させて得られた5員環環状カーボネート基含有アクリルモノマーを重合して得られる樹脂が挙げられる。
本発明の透明樹脂組成物中の成分(B)の割合は、成分(A)と成分(B)の合計量100質量部中5〜80質量部であることが必須であり、5〜50質量部であることが好ましい。
成分(B)の割合が5質量部未満であると硬化物にクラックや剥離を生ずる。また80質量部を超えると得られた透明樹脂組成物またはその硬化の物耐熱性が低下する。
Next, the component (B) will be described.
The (meth) acrylic resin having a carbonate group as the component (B) is any (meth) acrylic having a carbonate group as long as the cured product of the obtained transparent resin composition is colorless and transparent and hardly discolored. Resins may be used alone or in combination. As a specific example, UM-90 (1/3) DM (copolymerized methacrylic oligomer having a cyclohexane group in a skeleton and a methacrylic oligomer having a linear alkyl group in a 1: 3 ratio) manufactured by Ube Industries, Ltd., UM- 90 (3/1) DM [copolymerization of a methacryl oligomer having a cyclohexane group in the skeleton and a methacryl oligomer having a linear alkyl group at a ratio of 3: 1].
As other examples of the (meth) acrylic resin having a carbonate group, a (meth) acryl oligomer having a carbonate group and an alkyl group in the skeleton, and those having a cycloalkyl group or a heterocyclic ring introduced in place of the alkyl group can also be used. However, a compound having an aromatic ring, an amino group or a thiol group is not preferred in order to have ultraviolet resistance.
Further, it is obtained by reacting at least one selected from glycidyl (meth) acrylate, 4-butyl glycidyl (meth) acrylate, 3,4-cyclohexylmethyl (meth) acrylate and polyethylene glycol diglycidyl ether with carbon dioxide. And a resin obtained by polymerizing a 5-membered cyclic carbonate group-containing acrylic monomer.
The ratio of the component (B) in the transparent resin composition of the present invention is essential to be 5 to 80 parts by mass in 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B), and 5 to 50 masses. Part.
When the proportion of the component (B) is less than 5 parts by mass, cracks and peeling occur in the cured product. Moreover, when it exceeds 80 mass parts, the obtained transparent resin composition or its cured product heat resistance will fall.

次に、成分(C)について説明する。
成分(C)の硬化触媒としては、熱硬化型の触媒でも光硬化型の触媒でも構わない。例えば、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(ADVN)、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。また、トリアルキルスルホニウム塩やトリアリールスルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩などが挙げられ、単独もしくは2種類以上を併用してもよい。
本発明の透明樹脂組成物中の成分(C)である硬化触媒の割合は、成分(A)と成分(B)の合計量100質量部に対して、好ましくは0.1〜1質量部である。成分(C)の割合が0.1質量部未満であると硬化が不十分となるおそれがある。また1質量部を超えると、耐熱性、成形作業性および硬化物の電気特性が悪くなり好ましくない。
Next, the component (C) will be described.
The curing catalyst for component (C) may be a thermosetting catalyst or a photocuring catalyst. Examples thereof include azobisisobutyronitrile (AIBN), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (ADVN), benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, benzophenone, acetophenone, and the like. Moreover, a trialkylsulfonium salt, a triarylsulfonium salt, a diaryliodonium salt, etc. are mentioned, You may use together single or 2 types or more.
The ratio of the curing catalyst which is the component (C) in the transparent resin composition of the present invention is preferably 0.1 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B). is there. If the proportion of component (C) is less than 0.1 parts by mass, curing may be insufficient. On the other hand, if it exceeds 1 part by mass, the heat resistance, molding workability, and electrical properties of the cured product are deteriorated.

次に、成分(D)について説明する。
本発明の透明樹脂組成物中の成分(D)のオキセタン基を有する(メタ)アクリル樹脂はオキセタン基と(メタ)アクリル基の間の構造は硬化物が無色透明で変色し難いものであれば、どのようなオキセタン基を有する(メタ)アクリル樹脂を単独もしくは併用してもよい。具体例としては宇部興産製OXMA〔オキセタン基を有する(メタ)アクリル酸エステル重合体〕等が使用できる。
また、この成分(D)の割合は、成分(A)と成分(B)の合計量100質量部に対して10〜70質量部であることが好ましく、より好ましくは10〜40質量部である。
成分(D)の割合が10質量部未満であると接着性の向上や信頼性向上があまり見られない。成分(D)の割合が70質量部を超えると硬化性が悪くなり、表面未硬化によるタック性が残り、汚れやすい。しかも作業性が悪い。また、未硬化部分が多いと本発明の透明樹脂組成物で封止された半導体装置の信頼性や耐候性が悪くなる。
Next, the component (D) will be described.
The (meth) acrylic resin having an oxetane group of component (D) in the transparent resin composition of the present invention has a structure between the oxetane group and the (meth) acrylic group as long as the cured product is colorless and transparent and hardly discolors. Any (meth) acrylic resin having an oxetane group may be used alone or in combination. Specific examples include OXMA [(meth) acrylic acid ester polymer having an oxetane group] manufactured by Ube Industries.
Moreover, it is preferable that the ratio of this component (D) is 10-70 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of a component (A) and a component (B), More preferably, it is 10-40 mass parts. .
When the ratio of the component (D) is less than 10 parts by mass, improvement in adhesion and reliability are not so much observed. When the proportion of the component (D) exceeds 70 parts by mass, the curability deteriorates, the tackiness due to the uncured surface remains, and it tends to become dirty. Moreover, workability is poor. Moreover, when there are many uncured parts, the reliability and weather resistance of the semiconductor device encapsulated with the transparent resin composition of the present invention will deteriorate.

次に、成分(E)について説明する。
本発明の透明樹脂組成物中の成分(E)のグリシジル基と炭素−炭素二重結合を有する化合物としては、グリシジル基と(メタ)アクリル基を有するものでも、グリシジル基とエチレン基やブタジエン基などのアルケニル基を有するものでも硬化物が無色透明で変色し難いものであれば、どのようなグリシジル基と炭素−炭素二重結合を有する化合物を単独もしくは併用して用いてもよい。具体例としては、グリシジルメタクリレート、エポキシ化ポリブタジエン(アデカ製、BF−1000)等が挙げられる。
ここで、成分(E)の割合は、成分(A)と成分(B)の合計量100質量部に対して10〜50質量部であることが好ましく、より好ましくは10〜30質量部である。
成分(E)の割合が10質量部未満であると接着性の向上や信頼性の向上があまり見られない。成分(E)の割合が50質量部を超えると本発明の透明樹脂組成物で封止された半導体装置の耐紫外線性が低下したり、もろくなるので好ましくない。
Next, the component (E) will be described.
The compound having a glycidyl group and a carbon-carbon double bond as the component (E) in the transparent resin composition of the present invention may be one having a glycidyl group and a (meth) acryl group, or a glycidyl group, an ethylene group or a butadiene group. Any glycidyl group and a compound having a carbon-carbon double bond may be used singly or in combination as long as the cured product is colorless and transparent and hardly discolors. Specific examples include glycidyl methacrylate, epoxidized polybutadiene (manufactured by Adeka, BF-1000) and the like.
Here, it is preferable that the ratio of a component (E) is 10-50 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of a component (A) and a component (B), More preferably, it is 10-30 mass parts. .
When the ratio of the component (E) is less than 10 parts by mass, improvement in adhesion and improvement in reliability are hardly observed. When the proportion of the component (E) exceeds 50 parts by mass, the ultraviolet resistance of the semiconductor device encapsulated with the transparent resin composition of the present invention is lowered or brittle, which is not preferable.

本発明には、目的に反しない限り、無機充填剤を配合することができる。無機充填剤は、分散させたときに着色させないものであればどのような無機充填剤でも構わないが、より好ましくは、平均一次粒子径が5〜40nm程度の無機充填剤であり、単独もしくは併用してもよい。例えば、シリカ、酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化亜鉛、酸化バリウム、炭酸カルシウム、酸化アルミ等が挙げられ、これらは、単独または2種以上混合して用いることができる。
この無機充填剤の平均一次粒子径は、例えばレーザー回折散乱式粒度分布測定装置(堀場製作所製、装置名:LA−920)を用いて測定することができる。
また、この無機充填剤の割合は、成分(A)と成分(B)の合計量100質量部に対して1〜60質量部となる範囲が好ましく、10〜50質量部となる範囲がより好ましい。無機充填剤の割合が10質量部未満では、硬化物の耐熱性、寸法安定性、機械的強度を十分に向上させることができず、また、60質量部を超えると、十分に分散させることが困難になり、成形性(流動性)や硬化物の耐熱性、機械的強度、寸法安定性等が低下する。
無機充填剤の配合は、これを上記樹脂に分散させる場合は常温あるいは加熱混合、あるいは均一分散に特に有効な方法としては遊星式撹拌装置や三本ロールの使用が好ましい。
In the present invention, an inorganic filler can be blended unless it is contrary to the purpose. The inorganic filler may be any inorganic filler as long as it is not colored when dispersed, but more preferably an inorganic filler having an average primary particle size of about 5 to 40 nm, either alone or in combination. May be. Examples thereof include silica, titanium oxide, zirconia oxide, zinc oxide, barium oxide, calcium carbonate, aluminum oxide, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
The average primary particle diameter of the inorganic filler can be measured using, for example, a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus (manufactured by Horiba, Ltd., apparatus name: LA-920).
Moreover, the range which becomes 1-60 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of a component (A) and a component (B) for the ratio of this inorganic filler is preferable, and the range used as 10-50 mass parts is more preferable. . If the proportion of the inorganic filler is less than 10 parts by mass, the heat resistance, dimensional stability and mechanical strength of the cured product cannot be sufficiently improved, and if it exceeds 60 parts by mass, it can be sufficiently dispersed. It becomes difficult, and the moldability (fluidity), the heat resistance of the cured product, the mechanical strength, the dimensional stability, etc. are reduced.
In the case of blending the inorganic filler in the resin, it is preferable to use a planetary stirrer or a three roll as a particularly effective method for normal temperature, heat mixing, or uniform dispersion.

また、本発明の透明樹脂組成物には本発明の目的に反しない限り、上述以外の(メタ)アクリル樹脂、エポキシ化合物、オキセタン化合物、カップリング剤、酸化防止剤、離型剤等を使用することができる。
(メタ)アクリル樹脂としては一官能または二官能以上の(メタ)アクリル化合物、環状基を有する(メタ)アクリル化合物または共重合体が挙げられる。具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の重合体または共重合体が挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
エポキシ化合物としては、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、多官能型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、各種ノボラック型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
オキセタン化合物としては、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、2−エチルヘキシルオキセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタニルメタクリレート、ビス[(1−エチル(3−オキセタニルメチルエーテル))]など一官能、二官能以上のオキセタン化合物等が挙げられる。
酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−p−ヒドロトルエン、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール等のフェノール系酸化防止剤、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト等のリン系酸化防止剤、ジフェニルアミン等のアミン系酸防止剤等が挙げられる。
カップリング剤としては、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシラン系カップリング剤や、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート等のチタネート系カップリング剤等が挙げられる。
In addition, (meth) acrylic resins, epoxy compounds, oxetane compounds, coupling agents, antioxidants, mold release agents and the like other than those described above are used in the transparent resin composition of the present invention unless they are contrary to the object of the present invention. be able to.
Examples of the (meth) acrylic resin include monofunctional or bifunctional or higher (meth) acrylic compounds, (meth) acrylic compounds having a cyclic group, and copolymers. Specific examples include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, Examples thereof include polymers or copolymers such as cyclohexyl (meth) acrylate. These may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.
Epoxy compounds include glycidyl ester type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, polyfunctional type epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, various novolac type epoxy resins, alicyclic type epoxy resins, dicyclopentadiene type. An epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, etc. are mentioned.
As the oxetane compound, monofunctional such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 2-ethylhexyloxetane, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetanyl methacrylate, bis [(1-ethyl (3-oxetanylmethylether))], Bifunctional or higher oxetane compounds are exemplified.
Antioxidants include 2,6-di-t-butyl-p-hydrotoluene, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, etc. Phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants such as tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, amine acid antioxidants such as diphenylamine, etc. Is mentioned.
As a coupling agent, silane coupling agents such as 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, tetraisopropylbis (dioctylphosphite) titanate, Examples thereof include titanate coupling agents such as tetraoctyl bis (dioctyl phosphite) titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, isopropyl tristearoyl titanate, and isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate.

なお、上記無機充填剤と他の成分との混合には、加熱混合など、通常の撹拌方法を用いることができる。   In addition, the mixing with the said inorganic filler and another component can use normal stirring methods, such as heat mixing.

本発明の光半導体装置は、上記の透明樹脂組成物を用いて各種の光半導体素子を封止することにより製造することができる。封止可能な光半導体素子としては、LED、フォトダイオード、フォトトランジスタ、フォトサイリスタ、フォトコンダクタ等が例示される。
封止方法あるいは成形方法としては、LIM成形法(液状樹脂射出成形法)、圧縮成形法、注型法等が適用可能である。本発明の樹脂組成物を加熱して硬化させ、最終的にその硬化物によって封止された光半導体装置が得られる。
本発明の透明樹脂組成物を加熱硬化させる際の温度は、100〜170℃程度、好ましくは120〜150℃である。
このようにして得られた光半導体装置における硬化物は、優れた透明性を有し、加熱履歴を受けた後も透明性を示すとともに、温度サイクル試験〔TCT(Thermo Cycle Test)〕においても高い信頼性等を有している。
The optical semiconductor device of the present invention can be produced by sealing various optical semiconductor elements using the transparent resin composition. Examples of the optical semiconductor element that can be sealed include an LED, a photodiode, a phototransistor, a photothyristor, and a photoconductor.
As a sealing method or a molding method, a LIM molding method (liquid resin injection molding method), a compression molding method, a casting method, or the like can be applied. The resin composition of the present invention is heated and cured, and an optical semiconductor device sealed with the cured product is finally obtained.
The temperature at which the transparent resin composition of the present invention is heat-cured is about 100 to 170 ° C, preferably 120 to 150 ° C.
The cured product in the optical semiconductor device thus obtained has excellent transparency, exhibits transparency even after receiving a heating history, and is also high in a temperature cycle test (TCT (Thermo Cycle Test)). It has reliability.

以下、本発明を実施例および比較例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。以下の実施例および比較例において「部」は「質量部」を表わす。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention concretely, this invention is not limited to these Examples. In the following examples and comparative examples, “part” represents “part by mass”.

[実施例1]
成分(A)の(メタ)アクリル変性シリコーン化合物として、メタクリル変性シリコーン樹脂〔信越化学工業社製、商品名 X−22−164〕90質量部および成分(B)のカーボネート基を有する(メタ)アクリル樹脂として、カーボネート基を有するメタクリル樹脂[宇部興産(株)製、商品名:UM−90(1/3)DM〕10質量部、成分(C)の硬化触媒として、ジクミルパーオキサイド[日本油脂(株)製、商品名:パークミルD]0.1質量部をフラスコを用いて25℃で混合して液状の透明樹脂組成物を得た。
[Example 1]
As the (meth) acrylic modified silicone compound of component (A), 90 parts by mass of a methacrylic modified silicone resin [trade name X-22-164, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] and (meth) acrylic having a carbonate group of component (B) As a resin, a methacrylic resin having a carbonate group [manufactured by Ube Industries, Ltd., trade name: UM-90 (1/3) DM], 10 parts by mass, as a curing catalyst for component (C), dicumyl peroxide [Nippon Yushi Co., Ltd., trade name: Park Mill D] 0.1 parts by mass were mixed at 25 ° C. using a flask to obtain a liquid transparent resin composition.

[実施例2〜10、比較例1〜4]
樹脂組成を表1記載のものとした以外は、実施例1と同様の手順によって液状の透明樹脂組成物を得た。
[Examples 2 to 10, Comparative Examples 1 to 4]
A liquid transparent resin composition was obtained by the same procedure as in Example 1 except that the resin composition was as described in Table 1.

<半導体装置の作製>
実施例1〜12および比較例1〜4で得られた透明樹脂組成物をLED(発光素子)のSMD(表面実装ディバイス)の枠に注型し、100℃で2時間、150℃で2時間加熱硬化させ透明樹脂組成物で封止された半導体装置を作製した。
<Fabrication of semiconductor device>
The transparent resin compositions obtained in Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 4 were cast into a frame of an SMD (surface mount device) of an LED (light emitting device), and the temperature was 100 ° C. for 2 hours and 150 ° C. for 2 hours. A semiconductor device which was heat-cured and sealed with a transparent resin composition was produced.

<評価項目>
[タック性]
成形品に金属粉を散布し空気を吹き付けて金属粉を除去し、除去できるか否かで下記の基準で判定した。
○:除去できる。
×:除去できない。
<Evaluation items>
[Tackiness]
Metal powder was sprayed on the molded product, air was blown to remove the metal powder, and whether or not it could be removed was determined according to the following criteria.
○: Can be removed.
X: Cannot be removed.

[透明性]
透明樹脂組成物を100℃で2時間、150℃で2時間の条件で加熱成形し、20mm×20mm×1mmの試験片を作製した。この試験片について、日本分光社製の分光光度計(V−570)を用いて波長460nmの光透過率(%)を測定した。
[transparency]
The transparent resin composition was thermoformed under the conditions of 100 ° C. for 2 hours and 150 ° C. for 2 hours to produce a 20 mm × 20 mm × 1 mm test piece. About this test piece, the light transmittance (%) of wavelength 460nm was measured using the spectrophotometer (V-570) by JASCO Corporation.

[常温弾性率、Tg]
透明樹脂組成物を100℃で2時間、150℃で2時間の条件で加熱成形して48mm×5mm×2mmの試験片を作製した。この試験片について、セイコー社製の動的粘弾性測定装置(DMS110)を用いて測定した。
[Room temperature elastic modulus, Tg]
The transparent resin composition was thermoformed under the conditions of 100 ° C. for 2 hours and 150 ° C. for 2 hours to prepare a 48 mm × 5 mm × 2 mm test piece. About this test piece, it measured using the dynamic viscoelasticity measuring apparatus (DMS110) by a Seiko company.

[耐熱性]
透明樹脂組成物を100℃で2時間、150℃で2時間加熱成形し、20mm×20mm×1mmの試験片を得た。この試験片を150℃で168時間放置しておき、分光光度計〔日本分光(株)製、V−570〕を用いて波長460nmの光透過率を測定し、以下の基準で評価した(BaSO4標準板を100%とする)。
◎:透過率に対して85%以上のもの
○:80%以上、85%未満のもの
△:75%以上、80%未満のもの
×:75%未満のもの
[Heat-resistant]
The transparent resin composition was thermoformed at 100 ° C. for 2 hours and 150 ° C. for 2 hours to obtain a test piece of 20 mm × 20 mm × 1 mm. This test piece was allowed to stand at 150 ° C. for 168 hours, and the light transmittance at a wavelength of 460 nm was measured using a spectrophotometer [manufactured by JASCO Corporation, V-570] and evaluated according to the following criteria (BaSO 4 Standard plate is 100%).
◎: 85% or more of transmittance ○: 80% or more, less than 85% △: 75% or more, less than 80% ×: less than 75%

[TCT]
LED(発光素子)のSMDの枠に透明樹脂組成物を注型して、100℃で2時間、150℃で2時間加熱成形し、気相で−40℃(30分)→室温(5分)→120℃(30分)→室温(5分)の温度サイクルを100サイクル繰り返し、クラックや剥離のNG数を数えた。
[TCT]
A transparent resin composition is cast into an SMD frame of an LED (light emitting device), and heat-molded at 100 ° C. for 2 hours and at 150 ° C. for 2 hours, and in a gas phase, −40 ° C. (30 minutes) → room temperature (5 minutes) ) → 120 ° C. (30 minutes) → room temperature (5 minutes) was repeated 100 times, and the number of cracks and peeling NG was counted.

Figure 2011225779
Figure 2011225779

表1から明らかなように、実施例ではいずれもTCT、タック性に関しては良好であった。また、オキセタニルメタクリレートやグリシジルメタクリレートを併用することにより耐熱性が向上している。これに対し、(メタ)アクリル変性シリコーン化合物あるいはカーボネート基を有する(メタ)アクリル樹脂を単独で用いた比較例1、2では、温度サイクル試験でクラックや剥離が生じた。比較例3、4のように、従来用いられている汎用のエポキシ変性シリコーン化合物やシリコーンゴムを用いたものでは各種特性が劣った。   As is clear from Table 1, in all examples, TCT and tackiness were good. In addition, heat resistance is improved by using oxetanyl methacrylate or glycidyl methacrylate in combination. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 using a (meth) acryl-modified silicone compound or a (meth) acrylic resin having a carbonate group alone, cracks and peeling occurred in the temperature cycle test. As in Comparative Examples 3 and 4, those using conventional general-purpose epoxy-modified silicone compounds and silicone rubbers were inferior in various properties.

実施例および比較例で使用した成分(A)〜(F)は以下の通りである。
<成分(A)―(メタ)アクリル変性シリコーン化合物>
(1)X−22‐164:信越化学工業(株)製のメタクリル変性シリコーン樹脂(官能基当量190)
(2)X−22‐164As:信越化学工業(株)製のメタクリル変性シリコーン樹脂(官能基当量450)
(3)X−22‐164A:信越化学工業(株)製のメタクリル変性シリコーン樹脂(官能基当量860)
<成分(B)―カーボネート基を有する(メタ)アクリル樹脂>
(1)UM−90(1/3)DM:宇部興産(株)製のカーボネート基を有するメタクリルオリゴマー共重合体(シクロヘキサン基を有するメタクリルオリゴマー/直鎖アルキル基を有するオリゴマー=1/3で共重合したもの)
(2)UM−90(3/1)DM:宇部興産(株)製のカーボネート基を有するメタクリルオリゴマー共重合体(シクロヘキサン基を有するメタクリルオリゴマー/直鎖アルキル基を有するメタクリルオリゴマー=3/1で共重合したもの)
<成分(C)―硬化触媒>
(1)パークミルD:日本油脂(株)製のジクミルパーオキサイド
(2)SI110L:三新化成(株)製のベンジルメチル−p−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスファート:48.5質量%、γ−ブチロラクトン:50.4質量%−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムメチルサルフェート:1.5質量%の混合物
<成分(D)>
OXMA:宇部興産(株)製のオキセタニルメタクリレート(分子量184)
<成分(E)>
(1)GMA:関東化学(株)製のグリシジルメタクリレート(試薬グレード)
(2)BF−1000:ADEKA(株)製のエポキシ化ポリブタジエン[粘度366Pas(25℃)]
<比較用成分>
(1)X−22‐169As:信越化学工業(株)製のエポキシ変性シリコーンオイル(官能基当量500)
(2)MHPA:新日本理化(株)製のメチルヘキサヒドロフタル酸無水物
(3)YE5822:Momentive社製の液状シリコーンゴム
Components (A) to (F) used in Examples and Comparative Examples are as follows.
<Component (A)-(Meth) acrylic modified silicone compound>
(1) X-22-164: Methacryl-modified silicone resin (functional group equivalent 190) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
(2) X-22-164As: methacryl-modified silicone resin (functional group equivalent 450) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
(3) X-22-164A: methacryl-modified silicone resin (functional group equivalent 860) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
<Component (B)-(Meth) acrylic resin having carbonate group>
(1) UM-90 (1/3) DM: a methacrylic oligomer copolymer having a carbonate group manufactured by Ube Industries, Ltd. (a methacrylic oligomer having a cyclohexane group / an oligomer having a linear alkyl group) Polymerized)
(2) UM-90 (3/1) DM: a methacrylic oligomer copolymer having a carbonate group manufactured by Ube Industries, Ltd. (methacrylic oligomer having a cyclohexane group / methacrylic oligomer having a linear alkyl group = 3/1 Copolymerized)
<Component (C) -Curing Catalyst>
(1) Park mill D: Dicumyl peroxide manufactured by NOF Corporation (2) SI110L: Benzylmethyl-p-hydroxyphenylsulfonium hexafluorophosphate manufactured by Sanshin Kasei Co., Ltd .: 48.5% by mass, γ -Butyrolactone: 50.4% by mass-Hydroxyphenyldimethylsulfonium methyl sulfate: 1.5% by mass of mixture <component (D)>
OXMA: Oxetanyl methacrylate (molecular weight 184) manufactured by Ube Industries, Ltd.
<Ingredient (E)>
(1) GMA: Glycidyl methacrylate (reagent grade) manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.
(2) BF-1000: Epoxidized polybutadiene manufactured by ADEKA Corporation [viscosity 366 Pas (25 ° C.)]
<Comparative ingredients>
(1) X-22-169As: Epoxy-modified silicone oil (functional group equivalent 500) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
(2) MHPA: Methylhexahydrophthalic anhydride manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd. (3) YE5822: Liquid silicone rubber manufactured by Momentive

本発明の透明樹脂組成物は、各種光半導体素子、具体的にはフォトダイオード、フォトトランジスタ、フォトサイリスタ、フォトコンダクタ等を硬化・封止するための樹脂として好適に用いることができる。   The transparent resin composition of the present invention can be suitably used as a resin for curing and sealing various optical semiconductor elements, specifically photodiodes, phototransistors, photothyristors, photoconductors, and the like.

Claims (5)

(A)(メタ)アクリル変性シリコーン化合物、(B)カーボネート基を有する(メタ)アクリル樹脂および(C)硬化触媒を必須成分とし、成分(A)と成分(B)の合計量100質量部中、前記成分(A)を20〜95質量部の割合で含有し、かつ、前記成分(B)を5〜80質量部の割合で含有することを特徴とする透明樹脂組成物。   (A) (meth) acryl-modified silicone compound, (B) (meth) acrylic resin having a carbonate group, and (C) a curing catalyst as essential components, in a total amount of 100 parts by mass of component (A) and component (B) The transparent resin composition characterized by containing the said component (A) in the ratio of 20-95 mass parts, and containing the said component (B) in the ratio of 5-80 mass parts. 成分(C)の含有量が成分(A)と成分(B)の合計量100質量部に対して0.1〜1質量部である請求項1に記載の透明樹脂組成物。   The transparent resin composition according to claim 1, wherein the content of the component (C) is 0.1 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B). さらに(D)オキセタン基を有する(メタ)アクリル樹脂を前記成分(A)と成分(B)の合計100質量部に対して10〜70質量部含有する請求項1または2に記載の透明樹脂組成物。   The transparent resin composition according to claim 1 or 2, further comprising (D) 10 to 70 parts by mass of (meth) acrylic resin having an oxetane group with respect to a total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (B). object. さらに(E)グリシジル基と炭素−炭素二重結合を有する化合物を成分(A)と成分(B)の合計100質量部に対して10〜50質量部含有する請求項1〜3のいずれかに記載の透明樹脂組成物。   Furthermore, (E) The compound which has a glycidyl group and a carbon-carbon double bond is contained in 10-50 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of a component (A) and a component (B). The transparent resin composition as described. 請求項1〜4のいずれかに記載の透明樹脂組成物を硬化させることにより封止してなる光半導体装置。   The optical semiconductor device formed by sealing by hardening the transparent resin composition in any one of Claims 1-4.
JP2010099191A 2010-04-22 2010-04-22 Transparent resin composition and optical semiconductor device Pending JP2011225779A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010099191A JP2011225779A (en) 2010-04-22 2010-04-22 Transparent resin composition and optical semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010099191A JP2011225779A (en) 2010-04-22 2010-04-22 Transparent resin composition and optical semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011225779A true JP2011225779A (en) 2011-11-10

Family

ID=45041552

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010099191A Pending JP2011225779A (en) 2010-04-22 2010-04-22 Transparent resin composition and optical semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011225779A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016072458A1 (en) * 2014-11-07 2016-05-12 日立化成株式会社 Resin composition, resin film, resin cured product, electronic component, and method for manufacturing electronic component
WO2019124156A1 (en) * 2017-12-22 2019-06-27 Dic株式会社 Active energy ray-curable composition, cured product thereof, and lens
WO2022075162A1 (en) * 2020-10-08 2022-04-14 Dic株式会社 Active energy ray curable composition, cured product, lens, and camera module
US11827796B2 (en) 2018-04-16 2023-11-28 Canon Kabushiki Kaisha Curable resin composition for three-dimensional shaping and method of manufacturing three-dimensionally shaped product

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016072458A1 (en) * 2014-11-07 2016-05-12 日立化成株式会社 Resin composition, resin film, resin cured product, electronic component, and method for manufacturing electronic component
WO2019124156A1 (en) * 2017-12-22 2019-06-27 Dic株式会社 Active energy ray-curable composition, cured product thereof, and lens
US11827796B2 (en) 2018-04-16 2023-11-28 Canon Kabushiki Kaisha Curable resin composition for three-dimensional shaping and method of manufacturing three-dimensionally shaped product
WO2022075162A1 (en) * 2020-10-08 2022-04-14 Dic株式会社 Active energy ray curable composition, cured product, lens, and camera module
JP7468685B2 (en) 2020-10-08 2024-04-16 Dic株式会社 Active energy ray curable composition, cured product, lens and camera module

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI393748B (en) Organopolysiloxane, curable silicone composition that contains aforementioned organopolysiloxane, and method of application of the latter
JP5154340B2 (en) Resin composition for optical semiconductor encapsulation
JP2006131868A (en) Resin composition, optical member using the same composition and method for producing the same optical member
JP2007308683A (en) Epoxy resin curing agent, epoxy resin composition, epoxy resin cured product and optical member using the same
EP3118235B1 (en) Heat-curable epoxy resin composition for optical semiconductor element encapsulation and optical semiconductor device using same
JP2009068007A (en) Thermosetting resin composition for light reflection, optical semiconductor mounting substrate using it, manufacturing method for it, and optical semiconductor device
JP2011225779A (en) Transparent resin composition and optical semiconductor device
CN1247651C (en) Resin composition for optical-semiconductor encapsulation
JP2006241353A (en) Epoxy resin composition and electronic part apparatus
JP6233228B2 (en) Thermosetting epoxy resin composition for optical semiconductor element sealing and semiconductor device using the same
WO2010146979A1 (en) Resin composition for encapsulation of photosemiconductors
JP4872358B2 (en) Resin composition, optical member using the same, and method for producing the same
JP4947905B2 (en) Resin composition for optical semiconductor encapsulation
JP2006131867A (en) Resin composition, optical part produced by using the same and method for producing the part
JP4926709B2 (en) Thermosetting resin composition, sealant for optical element and cured product
JP2009215520A (en) Epoxy resin composition for sealing optical semiconductor and optical semiconductor device
JP2016153447A (en) White thermosetting epoxy resin composition for led reflector
JP6148870B2 (en) Curable resin composition and cured product
JP5330633B2 (en) Resin composition, optical member using the same, and method for producing the same
JP5123031B2 (en) Optical semiconductor element sealing sheet
US9562147B2 (en) Transparent polyamide resin composition and crosslinked transparent polyamide resin molded body
JP6077321B2 (en) Curable resin composition, optical semiconductor sealing material, and optical semiconductor device
JP5330632B2 (en) Resin composition, optical member using the same, and method for producing the same
JP2006328207A (en) Epoxy resin composition and its application
JP5000259B2 (en) Transparent sealing material