JP2011219544A - Printing ink composition and method for producing printed matter - Google Patents

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Kazunari Kawamoto
一成 川本
Kazuoki Goto
一起 後藤
Tomoyuki Yoshida
智之 吉田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ink composition that has superior coating properties on printing plates and superior fine pattern formation and is suitable for a method for manufacturing a specific printed matter, a method for producing a printed matter using the same, a printing plate for forming a surface smooth pattern, an original plate for a printing plate and a printing method.SOLUTION: The printing ink composition to be used for a method for producing a printed matter comprising at least a step for coating the whole area of a printing plate having an ink-releasing part and an inkphilic part on a substrate with ink and a step for selectively transferring the ink on ink-releasing part to an object base material includes at least a nonvolatile component, a solvent and a polar group modified silicone.

Description

本発明は印刷用インキ組成物および印刷物の製造方法に関する。より詳しくは、電子機器用途の微細パターン印刷に好適に用いられる印刷用インキ組成物および印刷物の製造方法に関する。   The present invention relates to a printing ink composition and a method for producing a printed material. More specifically, the present invention relates to a printing ink composition suitably used for fine pattern printing for use in electronic equipment and a method for producing a printed matter.

近年、フラットパネルディスプレイや太陽電池、Radio Frequency Identification(RF−ID)などの電子機器が注目されている。電子機器の配線、薄膜トランジスタ(TFT)電極またはカラーフィルターなどの微細パターンは、従来フォトリソ法により形成されてきた。しかし、近年、機能性インキまたは機能性ペーストを印刷する印刷法により、微細パターンを形成する技術が検討されている。印刷法では直接パターンを形成できるため、フォトリソ法に比べて工程が少なくなり、製造コストを安くできる。また、現像廃液などの問題もなくなり環境にやさしい。さらにプラスチック基板に対する印刷も容易であるため、電子機器のフレキシブル化にとって有効な方法である。   In recent years, electronic devices such as flat panel displays, solar cells, and radio frequency identification (RF-ID) have attracted attention. Conventionally, fine patterns such as wiring of electronic devices, thin film transistor (TFT) electrodes, or color filters have been formed by photolithography. However, in recent years, a technique for forming a fine pattern by a printing method for printing a functional ink or a functional paste has been studied. Since the pattern can be directly formed by the printing method, the number of processes is reduced compared to the photolithography method, and the manufacturing cost can be reduced. In addition, problems such as developing waste liquid are eliminated and it is environmentally friendly. Furthermore, since printing on a plastic substrate is easy, this is an effective method for making electronic devices flexible.

微細パターン印刷法として、(1)撥樹脂(インキ剥離性)機能を施した画線部と親樹脂(親インキ性)機能を施した非画線部を有する印刷版に樹脂(インキ)を塗布する工程、(2)印刷版の撥樹脂機能(インキ剥離性)より弱い撥樹脂機能(インキ剥離性)を施した画像転写シートを印刷版に押圧して画線部上の樹脂(インキ)を画像転写シートに転写する工程、および(3)画像転写シート上の樹脂(インキ)を基板上に転写する工程によってなる剥離オフセット印刷法が提案されている(例えば特許文献1参照)。この方法によれば反転オフセット印刷法(例えば、特許文献2参照)に見られるようなベタ部におけるパターンの抜けが見られない。ここで、上記(2)の工程における画像転写シートを基板にして上記(3)の工程を省略する方法も考えられ、また、上記(2)の工程の後に、印刷版に残った樹脂(インキ)を基板上に転写する方法も提案されている(特許文献3)。そして、剥離印刷用インキ組成物が提案されている(例えば特許文献4参照)。   As a fine pattern printing method, (1) Resin (ink) is applied to a printing plate that has an image area with a resin-repellent (ink releasability) function and a non-image area with an oleophilic (ink-insensitive) function. (2) Pressing an image transfer sheet having a resin repellency function (ink releasability) weaker than the resin repellency function (ink releasability) of the printing plate against the printing plate, to apply the resin (ink) on the image area A peeling offset printing method has been proposed which includes a step of transferring to an image transfer sheet and (3) a step of transferring a resin (ink) on the image transfer sheet onto a substrate (see, for example, Patent Document 1). According to this method, there is no missing pattern in the solid portion as seen in the reverse offset printing method (see, for example, Patent Document 2). Here, a method of omitting the step (3) using the image transfer sheet in the step (2) as a substrate is also conceivable, and the resin (ink) remaining on the printing plate after the step (2) is considered. ) Has also been proposed (Patent Document 3). And the ink composition for peeling printing is proposed (for example, refer patent document 4).

特開2004−249696号公報JP 2004-249696 A 特開平11−58921号公報JP-A-11-58921 特公平8−3068号公報Japanese Patent Publication No. 8-3068 特開2009−221250号公報JP 2009-221250 A

剥離オフセット印刷法では、印刷版上の撥樹脂機能を施した画線部に均質にインキを塗布しなければならない。また、塗布したインキが印刷版から画像転写シートへと完全に転写されなければならない。本発明者らは、この二つの課題を同時に満たすことが重要であると考えた。   In the peeling offset printing method, it is necessary to uniformly apply ink to the image line portion having a resin-repellent function on the printing plate. Also, the applied ink must be completely transferred from the printing plate to the image transfer sheet. The present inventors considered that it is important to satisfy these two problems simultaneously.

しかしながら、特許文献4に記載の剥離印刷用インキ組成物では、印刷版上の撥樹脂機能を施した画線部に対する塗布性が不十分であり、しばしばハジキが見られた。撥樹脂機能を施したインキ剥離性部位と親樹脂機能を施した親インキ性部位を同時に有する印刷版において、樹脂との親和性が高い親インキ性部位にインキ組成物が集まりやすく、インキ剥離性部位のハジキが大きくなりやすいと考えられる。本発明は印刷版上の撥樹脂機能を施した画線部への塗布性および印刷版から画像転写シートへの転写性に優れた、特定の微細パターン形成用の印刷方法に適した、印刷用インキ組成物の提供に関するものである。また、本発明は前記インキ組成物を用いた印刷物の製造方法に関するものである。   However, in the ink composition for release printing described in Patent Document 4, the application property to the image line portion having a resin-repellent function on the printing plate is insufficient, and repelling is often observed. In printing plates that have an ink releasable part with a resin-repellent function and an ink-philic part with a parent resin function at the same time, the ink composition easily collects at the ink-philic part that has a high affinity with the resin, and the ink releasability. It seems that the repelling of the part tends to be large. The present invention is suitable for a printing method for forming a specific fine pattern, which is excellent in coating property on an image line portion having a resin-repellent function on a printing plate and transferability from a printing plate to an image transfer sheet. The present invention relates to the provision of an ink composition. The present invention also relates to a method for producing a printed material using the ink composition.

本発明は、支持体上にインキ剥離性部位と親インキ性部位を有する印刷版の全面にインキを塗布する工程および前記インキ剥離性部位上のインキを選択的に対象基材に転写する工程を少なくとも有する印刷物の製造方法に使用される印刷用インキ組成物であって、前記印刷用インキ組成物が少なくとも不揮発性成分、溶剤、および極性基変性シリコーンを含有することを特徴とする印刷用インキ組成物である。   The present invention includes a step of applying ink to the entire surface of a printing plate having an ink releasable site and an ink-philic site on a support, and a step of selectively transferring the ink on the ink releasable site to a target substrate. A printing ink composition used in a method for producing a printed material having at least the printing ink composition, wherein the printing ink composition contains at least a nonvolatile component, a solvent, and a polar group-modified silicone. It is a thing.

また本発明は、支持体上にインキ剥離性部位と親インキ性部位を有する印刷版の全面に、少なくとも不揮発性成分、溶剤、および極性基変性シリコーンを含有するインキを塗布する工程および前記インキ剥離性部位上のインキを選択的に対象基材に転写する工程を少なくとも有する印刷方法により製造される印刷物の製造方法である。   The present invention also includes a step of applying an ink containing at least a non-volatile component, a solvent, and a polar group-modified silicone to the entire surface of a printing plate having an ink releasable part and an ink-philic part on a support, and the ink peeling. It is a manufacturing method of the printed matter manufactured by the printing method which has at least the process of selectively transferring the ink on a property part to an object base material.

本発明のインキ組成物を使用することで、支持体上にインキ剥離性の画線部と親インキ性の非画線部を有する印刷版の全面に、ハジキなどの欠点を抑えて均質な塗膜を形成することができる。また、本発明のインキ組成物を用いることでインキ剥離性の画線部上のインキを対象基材に完全に転写することができる。このインキ組成物はインキ剥離性部位上のインキを選択的に対象基材に転写する特定の印刷法に適しており、この印刷法により膜厚ムラがなく高精細なパターンを得ることができる。これによりフォトリソ法で製造したものに近い電気的特性または光学的特性を持つ電子機器を、簡便かつ低コストで製造することが可能となる。   By using the ink composition of the present invention, a uniform coating can be applied to the entire surface of a printing plate having an ink-peelable image area and an ink-free non-image area on the support while suppressing defects such as repellency. A film can be formed. Further, by using the ink composition of the present invention, it is possible to completely transfer the ink on the image-removable image area to the target substrate. This ink composition is suitable for a specific printing method in which the ink on the ink peelable portion is selectively transferred to a target substrate, and a high-definition pattern without film thickness unevenness can be obtained by this printing method. This makes it possible to easily and inexpensively manufacture an electronic device having electrical characteristics or optical characteristics similar to those manufactured by the photolithography method.

本発明の印刷方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the printing method of this invention. 本発明の印刷方法の別の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows another example of the printing method of this invention.

第一に本発明の印刷方法について説明する。本発明の印刷方法は、支持体上にインキ剥離性部位と親インキ性部位を有する印刷版の全面にインキを塗布する工程および前記インキ剥離性部位上のインキを選択的に対象基材に転写する工程を少なくとも有する。   First, the printing method of the present invention will be described. The printing method of the present invention includes a step of applying ink to the entire surface of a printing plate having an ink-removable part and an ink-philic part on a support, and selectively transferring the ink on the ink-removable part to a target substrate. At least the process of performing.

図1は本発明の印刷方法の一例を示す概略図である。(a)支持体1上に少なくとも親インキ層2とインキ剥離層3をこの順に有する印刷版原版をパターン加工することにより、インキ剥離性部位と親インキ性部位を形成した印刷版を得る。(b)印刷版の全面にブレードコーター5を用いてインキ4を塗布する。(c)転写胴6に巻き付けたシリコーンブランケット7を印刷版に押し当ててインキ剥離性部位上のインキ(画線部上インキ4’)を選択的に転写する。ここで、インキ剥離性部位上のインキ(画線部上インキ4’)を選択的に転写するとは、非画線部上インキ4”を実質的に転写せず、実質的にインキ剥離性部位上のインキ(画線部上インキ4’)のみを転写することを意味する。(d)シリコーンブランケット7上に転写されたインキ(画線部上インキ4’)を被印刷物8に再転写し、印刷パターン9を形成する。   FIG. 1 is a schematic view showing an example of the printing method of the present invention. (A) The printing plate precursor having at least the parent ink layer 2 and the ink release layer 3 in this order on the support 1 is patterned to obtain a printing plate on which an ink release portion and an ink affinity portion are formed. (B) Ink 4 is applied to the entire surface of the printing plate using a blade coater 5. (C) The silicone blanket 7 wound around the transfer cylinder 6 is pressed against the printing plate to selectively transfer the ink (ink 4 'on the image area) on the ink peelable portion. Here, selectively transferring the ink on the ink peelable portion (ink 4 ′ on the image area) does not substantially transfer the ink 4 ″ on the non-image area, and substantially transfers the ink peelable portion. This means that only the upper ink (ink 4 'on the image area) is transferred. (D) The ink (ink 4' on the image area) transferred on the silicone blanket 7 is retransferred to the substrate 8. The print pattern 9 is formed.

図2は本発明の印刷方法の別の一例を示す概略図である。(a)支持体1上に少なくとも親インキ層2とインキ剥離層3をこの順に有する印刷版原版をパターン加工することにより、インキ剥離性部位と親インキ性部位を形成した印刷版を得る。(b)印刷版の全面にブレードコーター5を用いてインキ4を塗布する。 (c)撥樹脂コーティングを施した剥離フィルム10を圧胴11で圧力をかけながら印刷版に押し当ててインキ剥離性部位上のインキのみを選択的に転写することで印刷パターン12を形成する。ここで撥樹脂コーティングした剥離フィルムには、フィルムのインキ剥離性が印刷版のインキ剥離性部位のインキ剥離性より低く、親インキ性部位のインキ剥離性よりも高いものを選択する。   FIG. 2 is a schematic view showing another example of the printing method of the present invention. (A) The printing plate precursor having at least the parent ink layer 2 and the ink release layer 3 in this order on the support 1 is patterned to obtain a printing plate on which an ink release portion and an ink affinity portion are formed. (B) Ink 4 is applied to the entire surface of the printing plate using a blade coater 5. (C) The release film 10 on which the resin-repellent coating has been applied is pressed against the printing plate while applying pressure with the impression cylinder 11 to selectively transfer only the ink on the ink-peelable portion, thereby forming the print pattern 12. Here, as the release film coated with the resin-repellent film, a film having an ink release property lower than the ink release property of the printing plate and higher than the ink release property of the ink-philic part is selected.

次に本発明のインキ組成物について説明する。本発明のインキ組成物は、少なくとも不揮発性成分、溶剤、および極性基変性シリコーンを含有する。   Next, the ink composition of the present invention will be described. The ink composition of the present invention contains at least a nonvolatile component, a solvent, and a polar group-modified silicone.

不揮発性成分とは、印刷物の加熱処理後に残存し、何らかの機能、例えば電子部品の電気的機能や光学的機能を発現するものであり、それぞれの目的に応じて選択される。直接機能に関わるものとして(i)導電性インキ(ペースト)における金属微粒子、金属酸化物微粒子、カーボン粉末、カーボンナノチューブおよびポリチオフェンやポリアニリンなどの導電性高分子、(ii)半導体インキにおけるポリチオフェンなどの有機半導体材料、フラーレン誘導体、カーボンナノチューブ、シリコン半導体微粒子、化合物半導体微粒子、酸化物半導体微粒子、ポリシランおよびポリゲルマン、(iii)レジストインキにおけるアクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などの樹脂、(iv)カラーフィルター製造用インキにおけるレッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)の各種着色顔料およびブラックマトリックス形成のためのカーボンブラックやチタンブラックなどの黒色顔料、(v)有機EL素子製造用インキにおける発光材料および電荷輸送材料、(vi)絶縁膜製造用インキにおけるエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド、ポリシロキサンなどの絶縁材料が例示される。また、直接電気的特性や光学的特性に関係しないが塗膜形成を補助したり、形成された膜の物性を改善するために添加され、不揮発性成分として残存しうるものとして、バインダー樹脂や分散剤、架橋剤、充填剤(フィラー)などの添加剤が例示される。   The non-volatile component remains after the heat treatment of the printed matter and expresses some function, for example, an electrical function or an optical function of the electronic component, and is selected according to each purpose. (I) Conductive polymers such as metal fine particles, metal oxide fine particles, carbon powder, carbon nanotubes and carbon nanotubes and polythiophene and polyaniline in conductive ink (paste), (ii) organic such as polythiophene in semiconductor ink Semiconductor material, fullerene derivative, carbon nanotube, silicon semiconductor fine particle, compound semiconductor fine particle, oxide semiconductor fine particle, polysilane and polygermane, (iii) resin such as acrylic resin, epoxy resin, phenol resin in resist ink, (iv) color filter Various colored pigments of red (R), green (G), and blue (B) in manufacturing inks, black pigments such as carbon black and titanium black for forming a black matrix, (v) organic EL elements Luminescent materials and charge transport materials in manufacturing inks, epoxy resin, acrylic resin, polyimide, an insulating material such as a polysiloxane is exemplified in (vi) insulating film manufacturing ink. In addition, although not directly related to electrical and optical characteristics, it is added to assist the formation of the coating film or improve the physical properties of the formed film, and can remain as a non-volatile component. Examples thereof include additives such as an agent, a crosslinking agent, and a filler (filler).

不揮発性成分のインキ組成物に対する含有量は、塗布性と膜形成性の観点から1〜50重量%であることが好ましく、5〜20重量%であることがより好ましい。含有量が低すぎると塗膜が薄くなりすぎて膜厚ムラが大きくなる。また含有量が多すぎると流動性が低いため、塗膜のレベリングが起こりにくく塗布ムラのある膜になる。   The content of the nonvolatile component with respect to the ink composition is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 20% by weight from the viewpoints of coatability and film-forming properties. If the content is too low, the coating film becomes too thin and the film thickness unevenness increases. Moreover, since fluidity | liquidity is low when there is too much content, leveling of a coating film does not occur easily and it becomes a film | membrane with a coating nonuniformity.

溶剤とは前記不揮発性成分を溶解または良分散させることが可能であり、かつ加熱処理によって揮発するものであれば特に限定されず、単独で用いても複数を混合して用いてもよいが、印刷版への塗布性と、対象基材への転写性の観点から、遅乾性溶剤と速乾性溶剤の組み合わせ溶剤であることが好ましい。   The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve or well disperse the nonvolatile components and volatilizes by heat treatment, and may be used alone or in combination. From the viewpoint of applicability to a printing plate and transferability to a target substrate, a combination solvent of a slow drying solvent and a quick drying solvent is preferable.

ここで遅乾性溶剤とはASTM D3539による蒸発速度(例えば、”塗料の流動と塗膜形成”、中道敏彦著、技報堂出版社、1995年発行、107〜109頁参照)が0.8以下の溶剤であり、好ましくは0.5以下の溶剤である。具体的には、(i)ドデカン、ウンデカンなどの炭化水素、(ii)キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素、(iii)ヘキサノール、3−メチル−3−メトキシブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノ−t−ブチルエーテルなどのアルコール、(iv)ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエーテル/エステル、(v)ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトムアミドなどのアミド、(vi)γ−ブチロラクトンなどのラクトンが例示される。   Here, the slow-drying solvent is an evaporation rate by ASTM D3539 (for example, “Paint flow and coating film formation”, written by Toshihiko Nakamichi, published by Gihodo Publishing Co., Ltd., 1995, pages 107 to 109) of 0.8 or less. Solvent, preferably 0.5 or less. Specifically, (i) hydrocarbons such as dodecane and undecane, (ii) aromatic hydrocarbons such as xylene and mesitylene, (iii) hexanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve Alcohols such as methyl carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol mono-t-butyl ether, (iv) dipropylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, etc. Ether / ester, (v) ketones such as diisobutyl ketone and diacetone alcohol, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetome Amides, such as bromide, it is exemplified lactone such as (vi) .gamma.-butyrolactone.

速乾性溶剤とは前述のASTM D3539による蒸発速度が0.8より大きい溶剤であり、好ましくは1.0以上の溶剤である。具体的には(i)n−ヘキサン、n−オクタン、イソオクタンなどの炭化水素、(ii)トルエンなどの芳香族炭化水素、(iii)メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール、(iv)ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテルなどのエーテル、(v)酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチルなどのエステル、(vi)アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトンが例示される。   The quick-drying solvent is a solvent having an evaporation rate of more than 0.8 according to the above-mentioned ASTM D3539, preferably a solvent of 1.0 or more. Specifically, (i) hydrocarbons such as n-hexane, n-octane and isooctane, (ii) aromatic hydrocarbons such as toluene, (iii) alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, (iv) dibutyl ether And ethers such as tetrahydrofuran and cyclopentyl methyl ether, (v) esters such as ethyl acetate, isopropyl acetate and n-butyl acetate, and (vi) ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone.

遅乾性溶剤と速乾性溶剤の比率は遅乾性溶剤/速乾性溶剤=100/0〜0/100から選ばれる任意の比率でよいが、塗布性と転写性のバランスから遅乾性溶剤/速乾性溶剤=70/30〜1/99であることが好ましい。遅乾性溶剤の比率が少ないと塗布したインキが版上で乾燥しすぎてタック性がなくなってしまい、対象基材への転写ができなくなる。一方、速乾性溶剤の比率が少ないと版に塗布したインキの流動性が大きすぎ、パターン形状が潰れて不良となる。   The ratio of the slow-drying solvent and the quick-drying solvent may be any ratio selected from slow-drying solvent / fast-drying solvent = 100/0 to 0/100. However, the slow-drying solvent / fast-drying solvent is selected from the balance of coatability and transferability. = 70/30 to 1/99 is preferable. If the ratio of the slow-drying solvent is small, the applied ink becomes too dry on the plate and tackiness is lost, and transfer to the target substrate becomes impossible. On the other hand, when the ratio of the quick-drying solvent is small, the fluidity of the ink applied to the plate is too large, and the pattern shape is crushed and becomes defective.

極性基変性シリコーンはインキ組成物の表面張力を低下させ、インキ剥離性部位への濡れ性を高めることでインキ塗布性を著しく向上させるために添加される。ここで極性基変性シリコーンとは下記一般式(1)を繰り返し単位に持つポリアルキルシロキサンの一部を、極性基を含有する官能基に変換したものである。極性基変性されていないシリコーンは不揮発性成分または溶媒との相互作用が小さいため、相分離が起きやすいなどの問題がある。極性基を含有する官能基に変換する部位は、主鎖末端、主鎖中、側鎖のいずれでもよい。また、変性基当量は通常500〜10,000g/molであるが、これらに限定されるものではない。   The polar group-modified silicone is added to reduce the surface tension of the ink composition and increase the wettability to the ink releasable site, thereby significantly improving the ink application property. Here, the polar group-modified silicone is obtained by converting a part of polyalkylsiloxane having the following general formula (1) as a repeating unit into a functional group containing a polar group. Silicones that are not modified with a polar group have a problem that phase separation is likely to occur because of their small interaction with non-volatile components or solvents. The site to be converted into a functional group containing a polar group may be any of the main chain terminal, the main chain, and the side chain. Further, the modifying group equivalent is usually 500 to 10,000 g / mol, but is not limited thereto.

Figure 2011219544
Figure 2011219544

(nは2以上の整数である。RおよびRはそれぞれ独立に炭素数1〜10の飽和炭化水素基を表す。表面張力低下性の観点から、RおよびRの全体の50モル%以上がメチル基であることが好ましい。)
ここで、極性基とは、アミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、エーテル基(ポリエーテル基含む)、エステル基、アミド基、エポキシ基、アクリル基、メタクリル基などが例示される。これらの極性基はシロキサン主鎖に直接結合していてもよいし、アルキレン基、アリーレン基などの炭素鎖を介して結合していてもよい。また、一分子に二種以上の極性基を有していてもよい。これらの中で比較的少量で塗布性の向上に効果があることから、アミノ基変性シリコーン、メルカプト基変性シリコーン、ポリエーテル基変性シリコーンが好ましく用いられる。
(N is an integer of 2 or more. R 1 and R 2 each independently represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. From the viewpoint of reducing surface tension, 50 moles of R 1 and R 2 as a whole. % Or more is preferably a methyl group.)
Here, examples of the polar group include an amino group, a hydroxy group, a mercapto group, a carboxyl group, an ether group (including a polyether group), an ester group, an amide group, an epoxy group, an acrylic group, and a methacryl group. These polar groups may be directly bonded to the siloxane main chain, or may be bonded via a carbon chain such as an alkylene group or an arylene group. Moreover, you may have 2 or more types of polar groups in 1 molecule. Of these, amino group-modified silicones, mercapto group-modified silicones, and polyether group-modified silicones are preferably used because they are effective in improving coatability in relatively small amounts.

極性基変性シリコーンのインキ組成物に対する含有量はハジキのない均質な塗布面を形成する観点から、0.01重量%以上が好ましく、0.1重量%以上がより好ましい。また、良好な転写性を保ちかつ形成した塗膜の機能に悪影響を及ぼさないという観点から10重量%以下が好ましく、5重量%以下がより好ましい。   The content of the polar group-modified silicone with respect to the ink composition is preferably 0.01% by weight or more, and more preferably 0.1% by weight or more, from the viewpoint of forming a uniform coated surface without cissing. Moreover, 10 weight% or less is preferable and 5 weight% or less is more preferable from a viewpoint of maintaining favorable transcription | transfer property and not having a bad influence on the function of the formed coating film.

次に印刷版について説明する。印刷版は主に画線部となるインキ剥離性部位と非画線部となる親インキ性部位からなるパターンが形成された平版が用いられる。インキ剥離性部位とは何らかの撥樹脂加工を施した部位であり、例えばシリコーンゴム、シリコーン樹脂、フッ素ゴム、フッ素樹脂、シランカップリング剤などで構成される。親インキ性部位はインキ剥離性部位よりも表面自由エネルギーが大きい素材、例えばアクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂などの樹脂や、ガラス、金属、金属酸化物などの無機物質で構成される。インキ剥離性部位と親インキ性部位は同一平面でも段差があってもよい。段差がある場合、その大きさは数μm〜十数μm程度であり、このような版は特に平凹版または平凸版と呼ばれることもあるが、ここでは広義の平版として扱う。具体的には水なし平版PS版(例えば東レ株式会社)や特開2009−234062号公報、特開2009−274365号公報、特開2009−276598号公報に示される印刷版が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中ではインキ剥離性に関してインキ剥離性部位と親インキ性部位との間のコントラストが大きく良好なパターンが得られるという観点から水なし平版PS版が特に好ましく用いられる。   Next, the printing plate will be described. As the printing plate, a lithographic plate on which a pattern composed mainly of an ink peelable portion serving as an image line portion and an ink-philic portion serving as a non-image portion is used. The ink releasable portion is a portion subjected to some resin-repellent processing, and is composed of, for example, silicone rubber, silicone resin, fluororubber, fluororesin, silane coupling agent, or the like. The ink-philic part is composed of a material having a larger surface free energy than the ink-peelable part, for example, an acrylic resin, a urethane resin, a phenol resin, a polyester resin, or an inorganic substance such as glass, metal, or metal oxide. . The ink peelable part and the ink-philic part may be on the same plane or have a step. When there is a level difference, the size is about several μm to several tens of μm, and such a plate is sometimes called a plano-concave plate or plano-convex plate. Specific examples include waterless planographic PS plates (for example, Toray Industries, Inc.) and printing plates disclosed in JP2009-234062A, JP2009-274365A, and JP2009-276598A. It is not limited to. Among these, a waterless lithographic PS plate is particularly preferably used from the viewpoint that a good pattern can be obtained with a large contrast between the ink peelable part and the ink-philic part with respect to the ink peelability.

本発明のインキ組成物の版への塗布方法としては特に限定されないが、具体的にはスリットダイコーター、グラビアコーター、リバースロールコーター、ナチュラルロールコーター、ナイフコーター、エアーナイフコーター、ブレードコーター、ロールブレードコーター、キャップコーター、ワイヤーバーコーター、ディップコーター、カーテンコーター、スピンコーター、マイクロメーター付アプリケーター、ベーカー式アプリケーター、フィルムアプリケーター、アニックスローラー、インクジェット、ノズルコーターなどが例示される。   The method for applying the ink composition of the present invention to the plate is not particularly limited, but specifically, a slit die coater, a gravure coater, a reverse roll coater, a natural roll coater, a knife coater, an air knife coater, a blade coater, and a roll blade. Examples include a coater, a cap coater, a wire bar coater, a dip coater, a curtain coater, a spin coater, an applicator with a micrometer, a baker type applicator, a film applicator, an anix roller, an ink jet, and a nozzle coater.

次に対象基材について説明する。印刷版のインキ剥離性部位上のインキのみを転写できるようにするため、インキ剥離性の大きさが 印刷版のインキ剥離性部位表面>対象基材の表面>印刷版の親インキ性部位表面 の関係になるように対象基材は設計される。具体的には剥離性の強いシリコーン樹脂、シリコーンゴム、フッ素樹脂、フッ素ゴムのいずれかを成形したシートまたはフィルム、一般的なフィルムの表面にシリコーン樹脂やフッ素樹脂をコーティングした剥離フィルム、紙の表面にシリコーン樹脂やフッ素樹脂をコーティングした剥離紙などが例示されるが、これらに限定されるものではない。   Next, the target substrate will be described. In order to be able to transfer only the ink on the ink releasable part of the printing plate, the size of the ink releasability is as follows. The target substrate is designed to be relevant. Specifically, a highly peelable silicone resin, silicone rubber, fluororesin, or a sheet or film molded from fluororubber, a general film surface coated with a silicone resin or fluororesin, or a paper surface Examples thereof include release paper coated with silicone resin or fluororesin, but are not limited thereto.

対象基材がオフセット印刷の中間転写体である場合には、対象基材として前記剥離フィルムやゴムシートに布性や発砲樹脂など柔軟性のあるシートを張り合わせてクッション性を高めたブランケットが例示されるが、多様な被印刷物に適用できることからブランケットが好適に用いられる。特に適切なインキ剥離性の観点からシリコーンゴムブランケットであることが好ましい。   When the target substrate is an intermediate transfer body for offset printing, a blanket in which a cushioning property is enhanced by bonding a flexible sheet such as cloth property or foaming resin to the release film or rubber sheet as the target substrate is exemplified. However, since it can be applied to various printed materials, a blanket is preferably used. In particular, a silicone rubber blanket is preferable from the viewpoint of appropriate ink releasability.

次に被印刷物について説明する。本発明の印刷方法に用いられる被印刷物は特に限定されるものではないが、電子機器用途において印刷物の熱処理が必要になる場合には、耐熱性のある材料が好ましい。このような材料として、例えば、ポリエチレンテレフタラート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリイミド(PI)、ポリアラミド、ポリカーボネート(PC)、シクロオレフィンポリマーなどの耐熱プラスチックのフィルムまたはシート、ソーダライムや石英などのガラス板、シリコンウェハーなどが挙げられる。また、基板上に他の方法により何らかのパターンを形成したのち、その上に本発明の印刷版を用いて印刷してもよい。例えば薄膜トランジスタの製造においてゲート電極とゲート絶縁層のパターンを形成し、その上にソース・ドレイン電極を印刷する場合が挙げられる。   Next, the substrate will be described. Although the to-be-printed material used for the printing method of this invention is not specifically limited, When the heat processing of printed material is needed for an electronic device use, a heat resistant material is preferable. Examples of such materials include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS), polyethersulfone (PES), polyimide (PI), polyaramid, polycarbonate (PC), and cycloolefin polymer. Examples thereof include a heat-resistant plastic film or sheet, a glass plate such as soda lime or quartz, and a silicon wafer. Alternatively, after some pattern is formed on the substrate by another method, printing may be performed using the printing plate of the present invention. For example, in manufacturing a thin film transistor, a pattern of a gate electrode and a gate insulating layer is formed, and a source / drain electrode is printed thereon.

以下に実施例を用いて本発明を説明する。
<ポリシロキサン溶液(a)の調製>
メチルトリメトキシシラン510.8g、フェニルトリメトキシシラン1239.4g、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン154.0g、シリケート51 220.3g(多摩化学(株)製)およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1921.1gを三つ口フラスコに入れ、水669.4gにリン酸6.4gを溶かしたリン酸溶液をバス温度40℃にて30分間かけて添加した。得られた溶液をバス温度70℃にて1.5時間加熱撹拌し、さらにバス温度115℃にて1.5時間加熱撹拌し、加水分解による副生成物であるメタノール、水を留去しつつ反応させた。反応終了後、氷冷し、全固形分濃度 45%のポリシロキサン溶液(a)を得た。
<チタンブラック分散液(b)の調製>
特許第3120476号公報の実施例1に記載の方法により、メチルメタクリレート/メタクリル酸/スチレン共重合体(重量組成比30/40/30)を合成後、グリシジルメタクリレート40重量部を付加させ、精製水で再沈、濾過、乾燥することにより、平均分子量(Mw)40,000、酸価110(mgKOH/g)の特性を有するアクリルポリマー粉末を得た。
The present invention will be described below with reference to examples.
<Preparation of polysiloxane solution (a)>
510.8 g of methyltrimethoxysilane, 1239.4 g of phenyltrimethoxysilane, 154.0 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 220.3 g of silicate 51 (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) and propylene glycol 1921.1 g of monomethyl ether acetate was put in a three-necked flask, and a phosphoric acid solution in which 6.4 g of phosphoric acid was dissolved in 669.4 g of water was added at a bath temperature of 40 ° C. over 30 minutes. The obtained solution was heated and stirred at a bath temperature of 70 ° C. for 1.5 hours, and further heated and stirred at a bath temperature of 115 ° C. for 1.5 hours, while distilling off methanol and water, which were by-products by hydrolysis, Reacted. After completion of the reaction, the reaction mixture was ice-cooled to obtain a polysiloxane solution (a) having a total solid content concentration of 45%.
<Preparation of titanium black dispersion (b)>
After synthesizing a methyl methacrylate / methacrylic acid / styrene copolymer (weight composition ratio 30/40/30) by the method described in Example 1 of Japanese Patent No. 3120476, 40 parts by weight of glycidyl methacrylate is added, and purified water is added. Then, an acrylic polymer powder having properties of an average molecular weight (Mw) of 40,000 and an acid value of 110 (mgKOH / g) was obtained.

得られたアクリルポリマー粉末のジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(DPMA)50重量%溶液 50.0gとチタンブラック 115.0g(三菱マテリアル電子化成(株)製)、およびDPMA 325.0gをタンクに仕込み、ホモミキサー(特殊機化製)で1時間撹拌し予備分散液を得た。その後、0.05mmφジルコニアビーズ(ニッカトー製、YTZボール)を70%充填した遠心分離セパレーターを具備したウルトラアペックスミル(寿工業製)に前記予備分散液を供給し、回転速度8m/sで2時間分散を行った。この分散液に、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DHPA、日本化薬(株)製)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)50重量%溶液 37.4g、光重合開始剤として“イルガキュア”369 17.7g(長瀬産業(株)製)、シリコーン系界面活性剤のPGMEA10重量%溶液 3.6gをPGMEA 330.0gに溶解した溶液を添加し、全固形分濃度20重量%、顔料/樹脂(重量比)=72/28のチタンブラック分散液(b)を得た。   50.0 g of a 50% by weight dipropylene glycol monomethyl ether acetate (DPMA) solution of the obtained acrylic polymer powder, 115.0 g of titanium black (manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemical Co., Ltd.), and 325.0 g of DPMA are charged into a tank, The mixture was stirred for 1 hour with a homomixer (manufactured by Special Machine) to obtain a preliminary dispersion. Thereafter, the preliminary dispersion was supplied to an ultra apex mill (manufactured by Kotobuki Kogyo Co., Ltd.) equipped with a centrifugal separator filled with 70% 0.05 mmφ zirconia beads (manufactured by Nikkato Co., Ltd., YTZ balls) and rotated at a rotational speed of 8 m / s for 2 hours. Dispersion was performed. In this dispersion, 37.4 g of a propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) 50 wt% solution of dipentaerythritol hexaacrylate (DHPA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a polyfunctional monomer and “Irgacure” as a photopolymerization initiator 369 17.7 g (manufactured by Nagase Sangyo Co., Ltd.), PGMEA 10 wt% solution of silicone surfactant 3.6 g of PGMEA dissolved in 330.0 g, total solid content concentration 20 wt%, pigment / resin A titanium black dispersion (b) having a (weight ratio) = 72/28 was obtained.

(実施例1)
<インキ組成物の調製>
ポリシロキサン溶液(a) 21.6gとアルミニウム系架橋剤”プレンアクト”AL−M(味の素ファインテクノ(株)製)のPGMEA50重量%溶液 0.3gをPGMEA 33.0gと酢酸イソプロピル 44.9gの混合溶媒に加え撹拌した。これに極性基変性シリコーンA(アミノ基変性シリコーン、製品名:X−22−161B、信越化学(株)製)0.2gを加えてさらに撹拌し、インキ組成物を得た。このようにして得られたインキ組成物の不揮発性成分濃度(ポリシロキサン+架橋剤)はインキ組成物全体の10重量%であり、また溶剤比率は遅乾性溶剤/速乾性溶剤=50/50であった。
(Example 1)
<Preparation of ink composition>
Mixing 31.6 g of PGMEA and 44.9 g of isopropyl acetate 0.3 g of PGMEA 50 wt% solution of polysiloxane solution (a) 21.6 g and aluminum-based crosslinking agent “Plenact” AL-M (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) Added to the solvent and stirred. To this, 0.2 g of polar group-modified silicone A (amino group-modified silicone, product name: X-22-161B, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added and stirred to obtain an ink composition. The non-volatile component concentration (polysiloxane + crosslinking agent) of the ink composition thus obtained was 10% by weight of the total ink composition, and the solvent ratio was slow drying solvent / fast drying solvent = 50/50. there were.

<印刷版の作製>
ネガ型の水なし平版PS版(TANE、東レ(株)製)を10cm□に裁断し、超高圧水銀灯露光機(PEM−6M、ユニオン光学(株)製)の露光ステージに設置した。次にライン/スペース=25μm/25μmのラインパターンが5cm□の範囲に形成されているフォトマスクを乗せて露光した。これを自動現像機TWL−860KII(東レ株式会社製)を用いて現像し印刷版を得た。
<Preparation of printing plate>
A negative type waterless lithographic PS plate (TANE, manufactured by Toray Industries, Inc.) was cut into 10 cm □ and placed on an exposure stage of an ultrahigh pressure mercury lamp exposure machine (PEM-6M, manufactured by Union Optics). Next, a photomask on which a line pattern of line / space = 25 μm / 25 μm was formed in a range of 5 cm □ was placed and exposed. This was developed using an automatic developing machine TWL-860KII (manufactured by Toray Industries, Inc.) to obtain a printing plate.

<インキ組成物の版への塗布>
印刷版を平台に固定したのち、インキ組成物をワイヤーバーコーター(番手3)を用いて版の全面に塗布し、30秒間放置して乾燥させた。その後塗膜を光学顕微鏡で観察し、下記の基準に従って評価した。結果を表1に示す。
<Application of ink composition to plate>
After fixing the printing plate on a flat table, the ink composition was applied to the entire surface of the plate using a wire bar coater (counter 3) and left to dry for 30 seconds. Thereafter, the coating film was observed with an optical microscope and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.

直径100μm以上のハジキが10個未満 A
直径100μm以上のハジキが10個以上50個未満 B
直径100μm以上のハジキが50個以上 C
均質な塗膜が形成されない D
<対象基材への転写>
対象基材には、シリコーンブランケット”シルブラン”((株)金陽社製)を用いた。前記の方法に従ってインキ組成物を印刷版の全面に塗布し、30秒間放置乾燥させた後、シリコーンブランケットを押し当て、ローラーで押圧したのちブランケットを剥がした。次にブランケットに転写されたインキ組成物を目視で観察し、下記の基準に従って評価した。結果を表1に示す。
Less than 10 repels with a diameter of 100 μm or more A
10 or more and less than 50 repellings with a diameter of 100 μm or more B
50 or more repellents with a diameter of 100 μm or more C
Homogeneous coating is not formed D
<Transfer to target substrate>
A silicone blanket “Syl Blanc” (manufactured by Kinyo Co., Ltd.) was used as the target substrate. The ink composition was applied to the entire surface of the printing plate according to the method described above, allowed to dry for 30 seconds, then pressed with a silicone blanket, pressed with a roller, and then the blanket was peeled off. Next, the ink composition transferred to the blanket was visually observed and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.

完全に転写されている A
未転写部分の面積が全体の10%未満 B
未転写部分の面積が全体の10%以上50%未満 C
未転写部分の面積が50%以上 D
<被印刷物への再転写>
被印刷物には12.5cm□のガラス基板を用いた。前記の方法に従ってインキ組成物を塗布し、シリコーンブランケットに転写させた。次にシリコーンブランケットのパターンが転写された部分をガラス基板に押し当て、ローラーで押圧したのちブランケットを剥がした。続いてガラス基板に再転写された印刷物を目視で観察し、下記の基準に従って評価した。結果を表1に示す。
Fully transcribed A
Less than 10% of the area of the untransferred part B
The area of the untransferred part is 10% or more and less than 50% of the whole C
The area of the untransferred part is 50% or more. D
<Retransfer to substrate>
A 12.5 cm square glass substrate was used for the substrate. The ink composition was applied according to the above method and transferred to a silicone blanket. Next, the portion to which the pattern of the silicone blanket was transferred was pressed against a glass substrate, pressed with a roller, and then the blanket was peeled off. Subsequently, the printed material retransferred to the glass substrate was visually observed and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.

完全に転写されている A
未転写部分の面積が全体の10%未満 B
未転写部分の面積が全体の10%以上50%未満 C
未転写部分の面積が50%以上 D
<印刷物の状態の観察>
前記の方法に従ってガラス基板に印刷物を形成したのち、これを熱風オーブン中、230℃で60分間加熱し、膜を硬化させた。その後、光学顕微鏡で印刷物のパターンを観察し、下記の基準に従って評価した。結果を表1に示す。
Fully transcribed A
Less than 10% of the area of the untransferred part B
The area of the untransferred part is 10% or more and less than 50% of the whole C
The area of the untransferred part is 50% or more. D
<Observation of printed matter>
After the printed material was formed on the glass substrate according to the above method, this was heated in a hot air oven at 230 ° C. for 60 minutes to cure the film. Then, the pattern of the printed matter was observed with an optical microscope and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.

フォトマスクのパターンが良好に再現されている A
パターンにゆがみやギザツキがある、ピンホール状のハジキが見られる B
転写不良やハジキにより、一部パターンが潰れている C
パターンができていない。 D
(実施例2〜5)
極性基変性シリコーンを表1に示したものに変更した以外は実施例1と同様にしてインキ組成物の調製および印刷を行った。結果を表1に示す。使用した極性基変性シリコーンの種類を下記に示す。
A: アミノ基変性 製品名:X−22−161B(信越化学(株)製)
B: アミノ基変性 製品名:FZ3705(東レ・ダウコーニング(株)製)
C: メルカプト基変性 製品名:X−22−167B(信越化学(株)製)
D: ポリエーテル基変性 製品名:BYK−307(ビックケミー・ジャパン(株)製)
E: ポリエーテル基変性 製品名:BYK−333(ビックケミー・ジャパン(株)製)
(実施例6〜9)
極性基変性シリコーンの添加量を表1に示したように変更した以外は実施例1と同様にしてインキ組成物の調製および印刷を行った。結果を表1に示す。
The photomask pattern is reproduced well A
Pinhole-shaped repellency is seen with distortion and jaggedness in the pattern. B
Some patterns are crushed due to improper transfer or repelling C
There is no pattern. D
(Examples 2 to 5)
An ink composition was prepared and printed in the same manner as in Example 1 except that the polar group-modified silicone was changed to that shown in Table 1. The results are shown in Table 1. The types of polar group-modified silicone used are shown below.
A: Amino group modification Product name: X-22-161B (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
B: Amino group modification Product name: FZ3705 (manufactured by Dow Corning Toray)
C: Mercapto group-modified product name: X-22-167B (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
D: Polyether group modified product name: BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.)
E: Polyether group modification Product name: BYK-333 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.)
(Examples 6 to 9)
An ink composition was prepared and printed in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the polar group-modified silicone was changed as shown in Table 1. The results are shown in Table 1.

(実施例10〜13)
不揮発性成分の濃度を表1に示したように変更した以外は実施例1と同様にしてインキ組成物の調製および印刷を行った。結果を表1に示す。
(Examples 10 to 13)
An ink composition was prepared and printed in the same manner as in Example 1 except that the concentration of the nonvolatile component was changed as shown in Table 1. The results are shown in Table 1.

(実施例14〜15)
遅乾性溶剤と速乾性溶剤の比率を表2に示したように変更した以外は実施例8と同様にしてインキ組成物の調製および印刷を行った。結果を表2に示す。
(Examples 14 to 15)
An ink composition was prepared and printed in the same manner as in Example 8 except that the ratio of the slow drying solvent to the quick drying solvent was changed as shown in Table 2. The results are shown in Table 2.

(実施例16)
遅乾性溶剤と速乾性溶剤の比率を表2に示したように変更した以外は実施例1と同様にしてインキ組成物の調製および印刷を行った。結果を表2に示す。
(Example 16)
An ink composition was prepared and printed in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the slow drying solvent to the fast drying solvent was changed as shown in Table 2. The results are shown in Table 2.

(実施例17)
チタンブラック分散液(b)50gをPGMEA 9.8gと酢酸イソプロピル 49.8gの混合溶媒に加え撹拌した。これに極性基変性シリコーンA(アミノ基変性シリコーン、製品名:X−22−161B)0.5gを加えてさらに撹拌し、インキ組成物を得た。このようにして得られたインキ組成物の不揮発性成分濃度(チタンブラック+樹脂)はインキ組成物全体の10重量%であり、また溶剤比率は遅乾性溶剤/速乾性溶剤=50/50であった。
(Example 17)
50 g of the titanium black dispersion liquid (b) was added to a mixed solvent of 9.8 g of PGMEA and 49.8 g of isopropyl acetate and stirred. To this, 0.5 g of polar group-modified silicone A (amino group-modified silicone, product name: X-22-161B) was added and further stirred to obtain an ink composition. The non-volatile component concentration (titanium black + resin) of the ink composition thus obtained was 10% by weight of the total ink composition, and the solvent ratio was slow drying solvent / fast drying solvent = 50/50. It was.

続いてこのインキ組成物を実施例1に記載の方法に従って印刷を行った。結果を表2に示す。   Subsequently, the ink composition was printed according to the method described in Example 1. The results are shown in Table 2.

(比較例1)
極性基変性シリコーンを添加しないこと以外は実施例1と同様にしてインキ組成物の調製および印刷を行った。その結果、版への塗布において、直径100μm以上のハジキが約百数十〜数百個観察され、良好な塗膜が形成されていなかった。版からシリコーンブランケットへの転写、およびシリコーンブランケットからガラス基板へは完全に転写されており、印刷物の状態はハジキがあること以外は良好であった。
(Comparative Example 1)
An ink composition was prepared and printed in the same manner as in Example 1 except that no polar group-modified silicone was added. As a result, about 100 to several hundred repellents having a diameter of 100 μm or more were observed in the application to the plate, and a good coating film was not formed. The transfer from the plate to the silicone blanket and the transfer from the silicone blanket to the glass substrate were complete, and the state of the printed material was good except that there was repelling.

(比較例2)
極性基変性シリコーンをフッ素系界面活性剤F(”メガファック”F−470、DIC(株)製)に変更した以外は実施例1と同様にしてインキ組成物の調製および印刷を行った。その結果、版への塗布において、直径100μm以上のハジキが約40〜70個観察され、良好な塗膜が形成されていなかった。版からシリコーンブランケットへの転写、およびシリコーンブランケットからガラス基板へは完全に転写されており、印刷物の状態はハジキがあること以外は良好であった。
(Comparative Example 2)
An ink composition was prepared and printed in the same manner as in Example 1 except that the polar group-modified silicone was changed to a fluorosurfactant F (“Megafac” F-470, manufactured by DIC Corporation). As a result, about 40 to 70 repels having a diameter of 100 μm or more were observed in the application to the plate, and a good coating film was not formed. The transfer from the plate to the silicone blanket and the transfer from the silicone blanket to the glass substrate were complete, and the state of the printed material was good except that there was repelling.

(比較例3)
極性基変性シリコーンを極性基のないシリコーンオイルG(ポリジメチルシロキサン、KF−96−100cs、信越化学(株)製)に変更した以外は実施例1と同様にしてインキ組成物の調製を行った。その結果、添加したシリコーンオイルは相分離を起こし、均質なインキ組成物を得ることができなかった。
(Comparative Example 3)
An ink composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polar group-modified silicone was changed to silicone oil G having no polar group (polydimethylsiloxane, KF-96-100cs, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). . As a result, the added silicone oil caused phase separation, and a homogeneous ink composition could not be obtained.

(比較例4)
極性基変性シリコーンを添加しないこと以外は実施例14と同様にしてインキ組成物の調製および印刷を行った。その結果、インキ組成物は印刷版のインキ剥離性部位で大きく弾かれて親インキ性部位に凝集してしまい、膜が形成されなかった。
(Comparative Example 4)
An ink composition was prepared and printed in the same manner as in Example 14 except that no polar group-modified silicone was added. As a result, the ink composition was greatly bounced at the ink peelable portion of the printing plate and aggregated at the ink-philic portion, and no film was formed.

Figure 2011219544
Figure 2011219544

Figure 2011219544
Figure 2011219544

1 支持体
2 親インキ層(親インキ性部位)
3 インキ剥離層(インキ剥離性部位)
4 インキ
4’ 画線部上インキ
4” 非画線部上インキ
5 ブレードコーター
6 転写胴
7 シリコーンブランケット
8 被印刷物
9 印刷パターン
10 撥樹脂コーティングを施した剥離フィルム
11 圧胴
12 印刷パターン
1 Support 2 Parent ink layer (ink-philic part)
3 Ink peeling layer (ink peeling part)
4 Ink 4 'Ink on the image area 4 "Ink on the non-image area 5 Blade coater 6 Transfer cylinder 7 Silicone blanket 8 Printed material 9 Print pattern 10 Release film 11 with resin-repellent coating 11 Imprint cylinder 12 Print pattern

Claims (4)

支持体上にインキ剥離性部位と親インキ性部位を有する印刷版の全面にインキを塗布する工程および前記インキ剥離性部位上のインキを選択的に対象基材に転写する工程を少なくとも有する印刷物の製造方法に使用される印刷用インキ組成物であって、前記印刷用インキ組成物が少なくとも不揮発性成分、溶剤、および極性基変性シリコーンを含有することを特徴とする印刷用インキ組成物。   A printed material having at least a step of applying ink to the entire surface of a printing plate having an ink-removable part and an ink-philic part on a support and a step of selectively transferring the ink on the ink-removable part to a target substrate. A printing ink composition for use in a production method, wherein the printing ink composition contains at least a nonvolatile component, a solvent, and a polar group-modified silicone. 前記極性基変性シリコーンがアミノ基変性シリコーン、メルカプト基変性シリコーン、ポリエーテル基変性シリコーンのいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の印刷用インキ組成物。   2. The printing ink composition according to claim 1, wherein the polar group-modified silicone is any one of an amino group-modified silicone, a mercapto group-modified silicone, and a polyether group-modified silicone. 支持体上にインキ剥離性部位と親インキ性部位を有する印刷版の全面に、少なくとも不揮発性成分、溶剤、および極性基変性シリコーンを含有するインキを塗布する工程および前記インキ剥離性部位上のインキを選択的に対象基材に転写する工程を少なくとも有する印刷物の製造方法。   A step of applying an ink containing at least a non-volatile component, a solvent, and a polar group-modified silicone to the entire surface of a printing plate having an ink releasable part and an ink-philic part on a support, and ink on the ink releasable part A method for producing a printed matter comprising at least a step of selectively transferring the ink to a target substrate. 前記対象基材がオフセット印刷の中間転写体であり、この中間転写体上に転写されたインキを被印刷物に再転写する工程をさらに有する請求項3に記載の印刷物の製造方法。   The method for producing a printed material according to claim 3, further comprising a step of re-transferring the ink transferred onto the intermediate transfer body to the printing material, wherein the target substrate is an intermediate transfer body for offset printing.
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