JP2011210918A - Electrolytic polymerization solution for forming conductive polymer, and method of manufacturing solid electrolytic capacitor using the same - Google Patents

Electrolytic polymerization solution for forming conductive polymer, and method of manufacturing solid electrolytic capacitor using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2011210918A
JP2011210918A JP2010076656A JP2010076656A JP2011210918A JP 2011210918 A JP2011210918 A JP 2011210918A JP 2010076656 A JP2010076656 A JP 2010076656A JP 2010076656 A JP2010076656 A JP 2010076656A JP 2011210918 A JP2011210918 A JP 2011210918A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive polymer
forming
supporting electrolyte
acid compound
sodium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010076656A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazufumi Inoue
和文 井上
Akinori Watanabe
章範 渡邉
Tomohisa Tenma
知久 天間
Shinji Matsumoto
伸二 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Carlit Co Ltd
Original Assignee
Japan Carlit Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Carlit Co Ltd filed Critical Japan Carlit Co Ltd
Priority to JP2010076656A priority Critical patent/JP2011210918A/en
Publication of JP2011210918A publication Critical patent/JP2011210918A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrolytic polymerization solution for forming a conductive polymer excellent in heat resistance, and to provide a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor using the same, low in ESR (Equivalent Series Resistance), and high in heat resistance.SOLUTION: The electrolytic polymerization solution for forming the conductive polymer contains a supporting electrolyte containing a naphthalene sulfonic acid compound, and a supporting electrolyte containing a sulfonic acid compound ranging from 29 to 33 in HLB (Hydrophilic-Lipophilic Balance) value calculated by the Davis method. The solid electrolytic capacitor manufactured by using the solution and the method of manufacturing the solid electrolytic capacitor are provided.

Description

本発明は、導電性高分子形成用電解重合液を使用して形成した導電性高分子からなる固体電解質層を形成させてなる固体電解コンデンサの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a solid electrolytic capacitor in which a solid electrolyte layer made of a conductive polymer formed using an electropolymerization liquid for forming a conductive polymer is formed.

アルミニウムやタンタル等の弁作用金属表面に誘電体酸化皮膜を形成し、該誘電体酸化皮膜上に固体電解質として電気伝導度の高い導電性高分子を形成させてなる固体電解コンデンサは、静電容量が高く、等価直列抵抗(以下、「ESR」と略記する。)が低い優れた特性を有することが知られている。   A solid electrolytic capacitor in which a dielectric oxide film is formed on the surface of a valve metal such as aluminum or tantalum, and a conductive polymer having a high electrical conductivity is formed on the dielectric oxide film as a solid electrolyte has a capacitance. It is known that it has an excellent characteristic that it has a high equivalent series resistance (hereinafter abbreviated as “ESR”).

上記固体電解コンデンサは一般的に、エッチング処理により表面積を拡大した弁作用金属箔、あるいは弁作用金属の粒子を焼結させることにより表面積を拡大した焼結体を、化成処理により該表面に誘電体酸化皮膜を形成させ、次いで、該誘電体酸化皮膜上に固体電解質層を形成し、カーボン及び銀ペーストからなる導電層を順次形成した後、リードフレームなどの外部端子に接続し、トランスファーモールド等による外装を施して製品化される。   In general, the solid electrolytic capacitor has a valve-acting metal foil whose surface area is enlarged by etching treatment, or a sintered body whose surface area is enlarged by sintering particles of valve-acting metal, and a dielectric material on the surface by chemical conversion treatment. An oxide film is formed, then a solid electrolyte layer is formed on the dielectric oxide film, a conductive layer made of carbon and silver paste is sequentially formed, and then connected to an external terminal such as a lead frame, by transfer molding or the like It is commercialized with an exterior.

固体電解コンデンサのESRは、コンデンサを形成する各部材の固有抵抗と、コンデンサを形成する各部材間に発生する接触抵抗からなる、合成抵抗が主要な因子となっており、それらの改善によるESRのより一層の低減が望まれている。   The ESR of a solid electrolytic capacitor is mainly composed of a combined resistance consisting of the specific resistance of each member forming the capacitor and the contact resistance generated between each member forming the capacitor. Further reduction is desired.

固体電解コンデンサの劣化は、偶発的に発生する不具合の他は一般的に、コンデンサを形成する各部材の熱劣化と、コンデンサの外装部を介して浸入する水分等の酸素源に起因する各部材の酸化劣化が主要な因子となっており、これらの劣化要因に対し、コンデンサを形成する各部材、特に固体電解質層の熱耐久性能の向上と、外装部材を中心としたガスバリア性の向上等の対策が行われている。   Deterioration of solid electrolytic capacitors is generally due to thermal degradation of each member forming the capacitor and oxygen sources such as moisture entering through the exterior of the capacitor, in addition to accidents that occur accidentally. Oxidative degradation of these materials is a major factor, and against these degradation factors, improvement of the thermal durability performance of each member that forms the capacitor, especially the solid electrolyte layer, and improvement of gas barrier properties centering on exterior members, etc. Measures are being taken.

固体電解コンデンサに用いられる一般的な固体電解質としては、ポリピロールとポリエチレンジオキシチオフェンが挙げられ、さらに詳しくは、主に電解酸化重合によって形成されるポリピロールと、化学酸化重合によって形成されるポリエチレンジオキシチオフェンに大別される。   Common solid electrolytes used for solid electrolytic capacitors include polypyrrole and polyethylene dioxythiophene. More specifically, polypyrrole mainly formed by electrolytic oxidation polymerization and polyethylene dioxy formed by chemical oxidation polymerization. Broadly divided into thiophenes.

電解酸化重合によって形成される固体電解質は、緻密な膜を形成することができるため、導電性が優れる傾向があり、積層型のコンデンサの製造に用いられている。一方、化学酸化重合は、複雑な形状の素子にも対応できるため、巻回型のコンデンサの製造に多く用いられている。   Since the solid electrolyte formed by electrolytic oxidation polymerization can form a dense film, it tends to have excellent conductivity, and is used in the manufacture of multilayer capacitors. On the other hand, chemical oxidative polymerization can be used even for devices having complicated shapes, and is therefore often used in the manufacture of winding type capacitors.

固体電解コンデンサを形成する固体電解質の固有の性能については、ポリピロールやポリエチレンジオキシチオフェン等のポリマーの種類のみではなく、固体電解質形成時に使用するドーパントによっても固体電解質の導電性や、熱耐久性等の性能が大きく変化することが知られている。   Regarding the inherent performance of the solid electrolyte forming the solid electrolytic capacitor, not only the type of polymer such as polypyrrole or polyethylenedioxythiophene, but also the conductivity of the solid electrolyte, thermal durability, etc. depending on the dopant used when forming the solid electrolyte It is known that the performance of the system changes greatly.

特許文献1、特許文献2に開示されているように、積層型の固体電解コンデンサに用いられるポリピロールからなる固体電解質では、代表的な支持電解質として、パラトルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸が挙げられるが、前記パラトルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸を支持電解質として用いたポリピロールからなる固体電解質では、導電性や熱耐久性が十分ではなく、得られた固体電解コンデンサのESRが高く、高温下での耐久性が低いという欠点があった。   As disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, in a solid electrolyte made of polypyrrole used for a multilayer solid electrolytic capacitor, paratoluenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid can be cited as typical supporting electrolytes. The solid electrolyte composed of polypyrrole using the above-mentioned paratoluenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid as a supporting electrolyte has insufficient conductivity and thermal durability, and the obtained solid electrolytic capacitor has high ESR and durability at high temperatures. There was a fault that the property was low.

特許文献1、特許文献2に開示されているように、積層型の固体電解コンデンサに用いられるポリピロールからなる固体電解質では、代表的な支持電解質として、パラトルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸が挙げられるが、前記パラトルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸を支持電解質として用いたポリピロールからなる固体電解質では、導電性や熱耐久性が十分ではなく、得られた固体電解コンデンサのESRが高く、熱耐久性が低いという欠点があった。   As disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, in a solid electrolyte made of polypyrrole used for a multilayer solid electrolytic capacitor, paratoluenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid can be cited as typical supporting electrolytes. The solid electrolyte made of polypyrrole using the paratoluenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid as a supporting electrolyte has insufficient conductivity and thermal durability, and the obtained solid electrolytic capacitor has high ESR and low thermal durability. There was a drawback.

特開平06−77093号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-77093 特開2001−110682号公報JP 2001-110682 A

本発明の目的は、熱耐久性に優れた固体電解質層を与える導電性高分子形成用電解重合液を提供すること、該導電性高分子形成用電解重合液を用いた、ESRが低く、高い熱耐久性を有する固体電解コンデンサの製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide an electropolymerization liquid for forming a conductive polymer that gives a solid electrolyte layer excellent in heat durability, and has a low ESR and a high ESR using the electropolymerization liquid for forming a conductive polymer It is to provide a method for producing a solid electrolytic capacitor having thermal durability.

本発明者らは、鋭意検討した結果、ナフタレンスルホン酸化合物を含む支持電解質と、デービス法により算出されたHLB値が29〜33の範囲であるスルホン酸化合物を含む支持電解質とを含有する導電性高分子形成用電解重合液とそれを用いて作製した固体電解コンデンサとその製造方法が上記課題を解決することを見出し、完成するに至った。   As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have a conductive electrolyte containing a supporting electrolyte containing a naphthalenesulfonic acid compound and a supporting electrolyte containing a sulfonic acid compound having an HLB value calculated by the Davis method in the range of 29 to 33. It has been found that an electrolytic polymerization solution for polymer formation, a solid electrolytic capacitor produced using the same, and a method for producing the same solve the above-mentioned problems, and have been completed.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

第一の発明は、導電性高分子単量体と支持電解質とが、溶媒に溶解されてなる導電性高分子形成用電解液において、
下記一般式(1)で表されるナフタレンスルホン酸化合物を含む支持電解質(D1)と、
デービス法により算出されたHLB値が29〜33の範囲であるスルホン酸化合物を含む支持電解質(D2)と、
を含有することを特徴とする導電性高分子形成用電解重合液である。
The first invention is a conductive polymer forming electrolyte solution in which a conductive polymer monomer and a supporting electrolyte are dissolved in a solvent.
A supporting electrolyte (D1) containing a naphthalenesulfonic acid compound represented by the following general formula (1);
A supporting electrolyte (D2) containing a sulfonic acid compound having an HLB value calculated by the Davis method in the range of 29 to 33;
It is an electropolymerization liquid for conductive polymer formation characterized by containing.

Figure 2011210918
(式(1)中、Rは同一でも異なっていてもよいハロゲン基又は炭素数1〜9の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を示す。Xはカチオンを示し、mは1〜4の整数であり、nは1〜3の整数である。)
Figure 2011210918
(In formula (1), R represents the same or different halogen group or a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. X + represents a cation, and m represents 1 to 4. An integer, and n is an integer of 1 to 3.)

第二の発明は、スルホン酸化合物が下記一般式(2)で表されるベンゼンスルホン酸化合物であることを特徴とする第一の発明に記載の導電性高分子形成用電解重合液である。   The second invention is the electropolymerization liquid for forming a conductive polymer according to the first invention, wherein the sulfonic acid compound is a benzenesulfonic acid compound represented by the following general formula (2).

Figure 2011210918
(式(2)中、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜15の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を示す。Xはカチオンを示し、mは1〜4の整数であり、nは1〜3の整数である。)
Figure 2011210918
(In the formula (2), R represents a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may be the same or different. X + represents a cation, and m is an integer of 1 to 4. , N is an integer from 1 to 3.)

第三の発明は、支持電解質(D1)と支持電解質(D2)のモル比が、9:1〜2:8であることを特徴とする第一又は第二の発明に記載の導電性高分子形成用電解重合液である。   3rd invention is a conductive polymer as described in 1st or 2nd invention characterized by the molar ratio of supporting electrolyte (D1) and supporting electrolyte (D2) being 9: 1-2: 8. This is an electrolytic polymerization solution for formation.

第四の発明は、下記一般式(3)〜(5)で示される少なくとも一つの化合物が添加剤として溶解されてなることを特徴とする第一から第三の発明のいずれかに記載の導電性高分子形成用電解重合液である。   According to a fourth aspect of the invention, there is provided the conductive material according to any one of the first to third aspects, wherein at least one compound represented by the following general formulas (3) to (5) is dissolved as an additive. It is an electropolymerization liquid for forming a conductive polymer.

Figure 2011210918
(式(3)〜(5)中、Rはそれぞれ同一でも異なっていてもよい水素原子、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基又はフェニル基を示す。)
Figure 2011210918
(In formulas (3) to (5), R represents a hydrogen atom which may be the same as or different from each other, a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.)

第五の発明は、前記導電性高分子単量体がピロール及び/又はピロール誘導体であることを特徴とする第一から第四の発明のいずれかに記載の導電性高分子形成用電解重合液である。   5th invention is an electropolymerization liquid for conductive polymer formation in any one of 1st to 4th invention, The said conductive polymer monomer is a pyrrole and / or a pyrrole derivative. It is.

第六の発明は、誘電体酸化被膜が形成された弁作用金属上に、第一から第五の発明のいずれかに記載の導電性高分子形成用電解重合液中で導電性高分子層を電解重合により形成する工程を少なくとも有する固体電解コンデンサの製造方法である。
である。
According to a sixth aspect of the present invention, a conductive polymer layer is formed on the valve action metal on which the dielectric oxide film is formed in the electropolymerization liquid for forming a conductive polymer according to any one of the first to fifth aspects. A method for producing a solid electrolytic capacitor having at least a step of forming by electrolytic polymerization.
It is.

本発明によれば、従来の固体電解コンデンサと比較して著しく優れたESR特性と熱耐久性を示す固体電解コンデンサが得られる固体電解コンデンサの製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the solid electrolytic capacitor from which the solid electrolytic capacitor which shows the remarkably outstanding ESR characteristic and heat durability compared with the conventional solid electrolytic capacitor can be provided.

まず、本発明の電解重合用電解液について説明する。   First, the electrolytic solution for electrolytic polymerization of the present invention will be described.

導電性高分子単量体と支持電解質とが、溶媒に溶解されてなる導電性高分子形成用電解液において、
下記一般式(1)で表されるナフタレンスルホン酸化合物を含む支持電解質(D1)と、
デービス法により算出されたHLB値が29〜33の範囲であるスルホン酸化合物を含む支持電解質(D2)と、
を含有することを特徴とする導電性高分子形成用電解重合液である。
In the electrolytic solution for forming a conductive polymer in which the conductive polymer monomer and the supporting electrolyte are dissolved in a solvent,
A supporting electrolyte (D1) containing a naphthalenesulfonic acid compound represented by the following general formula (1);
A supporting electrolyte (D2) containing a sulfonic acid compound having an HLB value calculated by the Davis method in the range of 29 to 33;
It is an electropolymerization liquid for conductive polymer formation characterized by containing.

本発明の導電性高分子形成用電解重合液は、ドーパントを放出できる支持電解質と導電性高分子単量体である重合性モノマーが、溶媒中に溶解されたものである。   The electropolymerization liquid for forming a conductive polymer of the present invention is a solution in which a supporting electrolyte capable of releasing a dopant and a polymerizable monomer that is a conductive polymer monomer are dissolved in a solvent.

重合性モノマーとしては、ピロール、アニリン、フラン、チオフェンあるいはこれらの誘導体を用いることができる。該誘導体としては、3−アルキルピロール、3−アルキルチオフェン、3,4−アルキレンジオキシピロール、3,4−アルキレンジオキシチオフェン等が挙げられる。前記モノマーは1種もしくは2種以上を同時に含有することができる。これらの中でも、得られる導電性高分子の強靱性、導電性及び耐久性の面から、ピロール及び/又はその誘導体が好ましく挙げられる。   As the polymerizable monomer, pyrrole, aniline, furan, thiophene, or derivatives thereof can be used. Examples of the derivative include 3-alkylpyrrole, 3-alkylthiophene, 3,4-alkylenedioxypyrrole, 3,4-alkylenedioxythiophene, and the like. The monomer may contain one kind or two or more kinds at the same time. Among these, pyrrole and / or a derivative thereof are preferable from the viewpoint of toughness, conductivity and durability of the obtained conductive polymer.

電解重合電解液の溶媒は、水、又はテトラヒドロフラン(THF)やジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、あるいはアセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジメチルホルムアミド(DMF)やアセトニトリル、ベンゾニトリル、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチルや酢酸ブチル等のエステル類、クロロホルムや塩化メチレン等の非芳香族性の塩素系溶媒、ニトロメタンやニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、あるいはメタノールやエタノール、プロパノール等のアルコール類、又はギ酸や酢酸、プロピオン酸等の有機酸又は該有機酸の酸無水物(無水酢酸等)を0〜30%以下の割合で水と混合した混合溶媒を挙げることができる。
これらの中でも、環境負荷、安全性の面から、水を単独で使用したものが好ましい。
The solvent of the electrolytic polymerization electrolytic solution is water, ethers such as tetrahydrofuran (THF), dioxane, and diethyl ether, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, dimethylformamide (DMF), acetonitrile, benzonitrile, N-methylpyrrolidone ( NMP), aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), esters such as ethyl acetate and butyl acetate, non-aromatic chlorine solvents such as chloroform and methylene chloride, nitro compounds such as nitromethane, nitroethane, and nitrobenzene Or a mixture of alcohols such as methanol, ethanol, and propanol, or organic acids such as formic acid, acetic acid, and propionic acid, or acid anhydrides (such as acetic anhydride) of the organic acids mixed with water at a ratio of 0 to 30% or less. Mention may be made of solvents.
Among these, from the viewpoint of environmental load and safety, those using water alone are preferable.

支持電解質(D1)に用いるナフタレンスルホン酸化合物は下記一般式(1)で表すことができる。   The naphthalenesulfonic acid compound used for the supporting electrolyte (D1) can be represented by the following general formula (1).

Figure 2011210918
Figure 2011210918

上記一般式(1)中、Rは同一でも異なっていてもよいハロゲン基又は炭素数1〜9の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を示す。Xはカチオンを示し、mは1〜4の整数であり、nは1〜3の整数である。 In said general formula (1), R shows the halogen group which may be the same or different, or a C1-C9 linear or branched alkyl group. X + represents a cation, m is an integer of 1 to 4, and n is an integer of 1 to 3.

上記ハロゲン基としては、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。   Examples of the halogen group include fluorine, chlorine, bromine and the like.

上記炭素数1〜9の直鎖状又は分岐状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。   Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an octyl group, an isopropyl group, and an isobutyl group.

ナフタレンスルホン酸の具体例としては、例えば、ナフタレンスルホン酸、メチルナフタレンスルホン酸、ジメチルナフタレンスルホン酸、トリメチルナフタレンスルホン酸、テトラメチルナフタレンスルホン酸、プロピルナフタレンスルホン酸、ジプロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸、メチルナフタレンジスルホン酸、ジメチルナフタレンジスルホン酸、トリメチルナフタレンジスルホン酸、プロピルナフタレンジスルホン酸、ジプロピルナフタレンジスルホン酸、ブチルナフタレンジスルホン酸、ジブチルナフタレンジスルホン酸、トリブチルナフタレンジスルホン酸等が挙げられ、重合性モノマーとの混和性の点より、ブチルナフタレンスルホン酸が好ましく挙げられる。ナフタレンスルホン酸化合物は単独若しくは2種類以上の混合物として用いてもよい。   Specific examples of naphthalenesulfonic acid include, for example, naphthalenesulfonic acid, methylnaphthalenesulfonic acid, dimethylnaphthalenesulfonic acid, trimethylnaphthalenesulfonic acid, tetramethylnaphthalenesulfonic acid, propylnaphthalenesulfonic acid, dipropylnaphthalenesulfonic acid, butylnaphthalenesulfone. Acid, dibutyl naphthalene sulfonic acid, tributyl naphthalene sulfonic acid, naphthalene disulfonic acid, methyl naphthalene disulfonic acid, dimethyl naphthalene disulfonic acid, trimethyl naphthalene disulfonic acid, propyl naphthalene disulfonic acid, dipropyl naphthalene disulfonic acid, butyl naphthalene disulfonic acid, dibutyl naphthalene disulfonic acid Acid, tributyl naphthalene disulfonic acid, etc., and miscibility with polymerizable monomers Ri, butyl naphthalene sulfonic acid are preferably exemplified. You may use a naphthalenesulfonic acid compound individually or in mixture of 2 or more types.

上記一般式(1)中のXはカチオンを示し、水素イオン、アンモニウムカチオン、アルカリ金属カチオンが挙げられる。
前記アンモニウムカチオンとしては、NH 、NH、NH 、NHR 、NR 等が挙げられる。Rは炭素数1〜6のアルキル基である。
前記アルカリ金属カチオンとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン等が挙げられる。
これらのカチオンの中で、ナトリウムイオンが好ましく挙げられる。
これらカチオンは、1種あるいは2種以上を混合して用いることが出来る。
X + in the general formula (1) represents a cation, and examples thereof include a hydrogen ion, an ammonium cation, and an alkali metal cation.
Examples of the ammonium cation include NH 4 + , NH 3 R + , NH 2 R 2 + , NHR 3 + , NR 4 + and the like. R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the alkali metal cation include lithium ion, sodium ion, and potassium ion.
Of these cations, sodium ions are preferred.
These cations can be used alone or in combination of two or more.

従って、上記一般式(1)により表される化合物の具体例としては、例えば、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムが挙げられる。
上記一般式(1)により表される化合物は、1種類もしくは2種類以上を使用することができる。
Accordingly, specific examples of the compound represented by the general formula (1) include sodium butylnaphthalenesulfonate.
The compound represented by the general formula (1) can be used alone or in combination of two or more.

支持電解質(D2)はデービス法によるHLB値が29〜33であるスルホン酸化合物を含有することを特徴としている。HLB値とは、Hydrophilic−Lipophilic−Balanceの略であり、界面活性剤の親水性と親油性のバランスを表す。値が小さいほど親油性が強く、大きいほど親水性が強いことを示す。HLB値には複数の求め方があるが、界面活性剤を構成する原子団の各構造に基づく基数を積算して求めるデービス法を採用した。基数は、例えば、−CH−であれば−0.475、−SONaであれば38.7である。下記の式(1)によって算出できる。 The supporting electrolyte (D2) is characterized by containing a sulfonic acid compound having an HLB value of 29 to 33 according to the Davis method. The HLB value is an abbreviation for Hydrophilic-Lipophilic-Balance and represents the balance between hydrophilicity and lipophilicity of a surfactant. A smaller value indicates stronger lipophilicity, and a larger value indicates stronger hydrophilicity. Although there are a plurality of ways of obtaining the HLB value, the Davis method is adopted in which the number of bases based on each structure of the atomic group constituting the surfactant is integrated. Radix, for example, -CH 2 - if -0.475, which is 38.7 if -SO 3 Na. It can be calculated by the following formula (1).

Figure 2011210918
Figure 2011210918

上記式(1)中の[1]は親水基の基数を表し、[2]は疎水基の基数を表す。   [1] in the above formula (1) represents the number of hydrophilic groups, and [2] represents the number of hydrophobic groups.

HLB値が29〜33の範囲にあるスルホン酸化合物を用いることで、ESRを低下させることができる。
29未満又は33超の場合では、優れたESRが得られない欠点がある。
By using a sulfonic acid compound having an HLB value in the range of 29 to 33, ESR can be lowered.
In the case of less than 29 or more than 33, there is a defect that excellent ESR cannot be obtained.

HLB値が29〜33のスルホン酸化合物としては、ベンゼンスルホン酸化合物、ナフタレンスルホン酸化合物等が挙げられ、好ましくはベンゼンスルホン酸化合物が挙げられる。   Examples of the sulfonic acid compound having an HLB value of 29 to 33 include a benzenesulfonic acid compound and a naphthalenesulfonic acid compound, and a benzenesulfonic acid compound is preferable.

ベンゼンスルホン酸化合物は下記一般式(2)で表すことができる。   The benzenesulfonic acid compound can be represented by the following general formula (2).

Figure 2011210918
Figure 2011210918

上記一般式(2)中、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜15の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を示す。Xはカチオンを示し、mは1〜4の整数であり、nは1〜3の整数である。 In said general formula (2), R shows the C1-C15 linear or branched alkyl group which may be the same or different. X + represents a cation, m is an integer of 1 to 4, and n is an integer of 1 to 3.

炭素数1〜15の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。   Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an octyl group, an isopropyl group, and an isobutyl group.

一般式(2)で表されるベンゼンスルホン酸化合物は、Rの炭素数の合計が7〜15の場合にHLB値が29〜33の範囲に入る特徴を有する。 Benzenesulfonic acid compound represented by the general formula (2) is, HLB value when the total number of carbon atoms of R m is 7-15 has features that fall within the scope of 29 to 33.

上記一般式(2)中のベンゼンスルホン酸化合物の具体例としては、オクチルベンゼンスルホン酸、ノニルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。   Specific examples of the benzenesulfonic acid compound in the general formula (2) include octylbenzenesulfonic acid, nonylbenzenesulfonic acid, decylbenzenesulfonic acid, undecylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, tridecylbenzenesulfonic acid, Examples include tetradecylbenzene sulfonic acid.

上記一般式(1)中のXはカチオンを示し、水素イオン、アンモニウムカチオン、アルカリ金属カチオンが挙げられる。
前記アンモニウムカチオンとしては、NH 、NH、NH 、NHR 、NR 等が挙げられる。Rは炭素数1〜6のアルキル基である。
前記アルカリ金属カチオンとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン等が挙げられる。
これらのカチオンの中で、ナトリウムイオンが好ましく挙げられる。
これらカチオンは、1種あるいは2種以上を混合して用いることが出来る。
X + in the general formula (1) represents a cation, and examples thereof include a hydrogen ion, an ammonium cation, and an alkali metal cation.
Examples of the ammonium cation include NH 4 + , NH 3 R + , NH 2 R 2 + , NHR 3 + , NR 4 + and the like. R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the alkali metal cation include lithium ion, sodium ion, and potassium ion.
Of these cations, sodium ions are preferred.
These cations can be used alone or in combination of two or more.

従って、上記一般式(2)により表される化合物の具体例としては、例えば、オクチルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ノニルベンゼンスルホン酸ナトリウム、デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ウンデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、トリデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、テトラデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等等が挙げられる。
上記一般式(2)により表される化合物は、1種類若しくは2種類以上を使用することができる。
Therefore, specific examples of the compound represented by the general formula (2) include, for example, sodium octylbenzenesulfonate, sodium nonylbenzenesulfonate, sodium decylbenzenesulfonate, sodium undecylbenzenesulfonate, dodecylbenzenesulfonate. Examples thereof include sodium, sodium tridecylbenzenesulfonate, sodium tetradecylbenzenesulfonate, and the like.
The compound represented by the general formula (2) may be used alone or in combination of two or more.

上記一般式(2)で表される化合物は、HLB値が比較的低いことにより、電解重合膜中により効率的に取り込まれ、高導電性の導電性高分子を与え、かつ該ドーパントを有する導電性高分子はドーパントの脱離が生じにくく、更に熱耐久性に優れたものとなる。   The compound represented by the general formula (2) has a relatively low HLB value, so that it can be more efficiently incorporated into the electropolymerized film to give a highly conductive conductive polymer, and a conductive material having the dopant. The functional polymer is less likely to cause the desorption of the dopant, and further has excellent thermal durability.

導電性高分子形成用電解重合液における支持電解質(D1)と支持電解質(D2)のモル比は、D1:D2=2:8〜9:1が好ましく、4:6〜8:2がより好ましく挙げられる。D1:D2=2:8〜9:1の範囲外では、優れたESRと熱耐久性が得られない欠点がある。   The molar ratio of the supporting electrolyte (D1) and the supporting electrolyte (D2) in the electropolymerization liquid for forming a conductive polymer is preferably D1: D2 = 2: 8-9: 1, more preferably 4: 6-8: 2. Can be mentioned. Outside the range of D1: D2 = 2: 8 to 9: 1, there is a drawback that excellent ESR and thermal durability cannot be obtained.

本発明の電解液中には添加剤を含有することができる。本発明にて使用される添加剤は、主に酸化防止剤、界面活性剤のいずれかの特性を有するものが好ましい。そのような添加剤としてより好ましくは下式(3)〜(5)で示される化合物である。   The electrolyte solution of the present invention can contain an additive. The additive used in the present invention is preferably one having mainly the characteristics of either an antioxidant or a surfactant. More preferred as such additives are compounds represented by the following formulas (3) to (5).

Figure 2011210918
Figure 2011210918

上記一般式(3)〜(5)中、Rはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい、水素原子、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基又はフェニル基を示す。   In the general formulas (3) to (5), R represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group, which may be the same or different.

上記一般式(3)で表される化合物の具体例としては、例えば、4−ニトロフェノール、2−メチル−4−ニトロフェノール、3−メチル−4−ニトロフェノール、2−エチル−4−ニトロフェノール、3−エチル−4−ニトロフェノール、2−ヘキシル−4−ニトロフェノール、3−ヘキシル−4−ニトロフェノール等のニトロフェノール類が挙げられる。
上記一般式(4)で表される化合物の具体例としては、例えば、4−ニトロ−1−ナフトール等のニトロナフトール類が挙げられる。
上記一般式(5)で表される化合物の具体例としては、例えば、1−ヒドロキシ−4−ニトロアントラキノン等のニトロアントラキノン類を挙げることができる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include, for example, 4-nitrophenol, 2-methyl-4-nitrophenol, 3-methyl-4-nitrophenol, 2-ethyl-4-nitrophenol. , Nitrophenols such as 3-ethyl-4-nitrophenol, 2-hexyl-4-nitrophenol and 3-hexyl-4-nitrophenol.
Specific examples of the compound represented by the general formula (4) include nitronaphthols such as 4-nitro-1-naphthol.
Specific examples of the compound represented by the general formula (5) include nitroanthraquinones such as 1-hydroxy-4-nitroanthraquinone.

上記一般式(3)〜(5)により表される化合物は、1種もしくは2種以上を使用することができる。上記一般式(3)〜(5)により表される化合物は、得られる導電性高分子の熱耐久性の面から、4−ニトロフェノール、4−ニトロ−1−ナフトール、1−ヒドロキシ−4−ニトロアントラキノンであることが好ましい。   The compound represented by the general formulas (3) to (5) can be used alone or in combination of two or more. The compounds represented by the above general formulas (3) to (5) are 4-nitrophenol, 4-nitro-1-naphthol, 1-hydroxy-4-phenyl from the viewpoint of thermal durability of the obtained conductive polymer. Nitroanthraquinone is preferred.

さらに、支持電解質塩及び添加剤を含有せしめる導電性高分子形成用電解重合液を用いて電解重合を実施することで、熱耐久性に著しく優れた導電性高分子が得られる。   Furthermore, by conducting the electropolymerization using an electropolymerization liquid for forming a conductive polymer containing a supporting electrolyte salt and an additive, a conductive polymer that is remarkably excellent in thermal durability can be obtained.

本発明の導電性高分子形成用電解重合液を用いた固体電解コンデンサを製造する方法について説明する。弁作用金属表面の誘電体酸化皮膜上にプレコート層として導電性高分子層を予め形成しておき、次に前記プレコート層上に新たな導電性高分子層を本発明の電解重合液を用いて電解重合により形成することで固体電解質層を形成した後、該固体電解質層にカーボンペースト、銀ペースト等の導電ペーストを塗布乾燥することによって陰極層を形成する。
プレコート層の導電性高分子の形成方法としては(1)化学重合による導電性高分子層を形成する方法、(2)導電性高分子溶液を塗布乾燥して導電性高分子層を形成する方法が挙げられる。
次に弁作用金属から陽極リード端子、陰極層から陰極リード端子を接続して電極を取り出して素子を形成し、この素子全体をエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂、あるいはセラミック製や金属製の外装ケース等により封止することで固体電解コンデンサを得ることができる。
A method for producing a solid electrolytic capacitor using the electropolymerization liquid for forming a conductive polymer of the present invention will be described. A conductive polymer layer is preliminarily formed as a precoat layer on the dielectric oxide film on the surface of the valve metal, and then a new conductive polymer layer is formed on the precoat layer using the electrolytic polymerization solution of the present invention. After forming a solid electrolyte layer by forming by electropolymerization, a cathode layer is formed by applying and drying a conductive paste such as carbon paste and silver paste on the solid electrolyte layer.
As a method for forming the conductive polymer of the precoat layer, (1) a method of forming a conductive polymer layer by chemical polymerization, (2) a method of forming a conductive polymer layer by applying and drying a conductive polymer solution Is mentioned.
Next, the anode lead terminal is connected from the valve action metal, the cathode lead terminal is connected from the cathode layer, and the electrode is taken out to form an element. A solid electrolytic capacitor can be obtained by sealing with, for example.

前記導電性高分子形成用電解重合液を用いることによって、導電性に優れ、かつ、高温に暴露された際に特定の安定構造をとる導電性高分子が得られ、さらに前記導電性高分子を固体電解質とすることにより、従来よりも格段に優れたESR特性、熱耐久性を有する固体電解コンデンサを得ることができる。   By using the electropolymerization liquid for forming the conductive polymer, a conductive polymer having excellent conductivity and taking a specific stable structure when exposed to high temperature is obtained. By using a solid electrolyte, it is possible to obtain a solid electrolytic capacitor having ESR characteristics and thermal durability that are remarkably superior to conventional ones.

本発明に用いられる陽極弁作用金属としては、アルミニウム、タンタル、ニオブ、チタンからなる群から選ばれる1種が挙げられ、焼結体又は箔の形状で用いられる。   The anode valve action metal used in the present invention includes one selected from the group consisting of aluminum, tantalum, niobium and titanium, and is used in the form of a sintered body or foil.

本発明の固体電解コンデンサの製造方法では、用いられる陽極弁作用金属の種類、形状により、チップ型または巻回型のいずれとすることができる。   In the manufacturing method of the solid electrolytic capacitor of this invention, it can be set as either a chip type or a winding type according to the kind and shape of the anode valve action metal used.

以下、本発明について実施例を挙げより詳細に説明する。なお、本発明は、以下の製造方法により、なんら限定されない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In addition, this invention is not limited at all by the following manufacturing methods.

<固体電解コンデンサの評価>
(実施例1)
表面に誘電体酸化皮膜が形成された3mm×5mmサイズのエッチドアルミニウム箔を、85℃の150g/lアジピン酸アンモニウム水溶液中10Vで化成した後、純水で洗い、105℃乾燥機中で10分間乾燥させた。これを、18℃サーモプレート上に10分間静置した。次に18℃に冷却したモノマー液(ピロール:3(g)+エタノール:5(g)+HO:18.4(g)の混合液):4μlを箔上に滴下し、1分間静置した。さらに、酸化剤液(p−トルエンスルホン酸テトラエチルアンモニウム(PTS−TEA):5.6(mmol)+ペルオキソ二硫酸アンモニウム:1.56(g)+HO:10.63(g)の混合液):12μlを箔上に滴下し、10分間静置することで化学酸化重合しプレコート層を形成した。これを純水にて洗浄し、105℃乾燥機中で10分間乾燥させた。
<Evaluation of solid electrolytic capacitors>
Example 1
A 3 mm × 5 mm size etched aluminum foil with a dielectric oxide film formed on the surface was formed at 10 V in a 150 g / l ammonium adipate aqueous solution at 85 ° C., washed with pure water, and 10 ° C. in a 105 ° C. dryer. Let dry for minutes. This was left to stand on an 18 ° C. thermoplate for 10 minutes. Next, 4 μl of a monomer liquid (pyrrole: 3 (g) + ethanol: 5 (g) + H 2 O: 18.4 (g) mixed liquid) cooled to 18 ° C. was dropped on the foil and left for 1 minute. did. Furthermore, an oxidizing agent solution (p-toluenesulfonate tetraethylammonium (PTS-TEA): 5.6 (mmol) + ammonium peroxodisulfate: 1.56 (g) + H 2 O: 10.63 (g)) : 12 μl was dropped on the foil and left to stand for 10 minutes for chemical oxidative polymerization to form a precoat layer. This was washed with pure water and dried in a 105 ° C. dryer for 10 minutes.

次に、電解重合液(ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.96(mmol)+オクチルベンゼンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製、特級):0.84(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合液)を用意した。 Next, electrolytic polymerization solution (sodium butylnaphthalenesulfonate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.96 (mmol) + sodium octylbenzenesulfonate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., special grade): 0.84 (mmol) + Pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g)).

プレコート層形成済みエッチドアルミニウム化成箔を電解重合液中に浸漬し、プレコート層に接触させた外部電極を陽極として、電流値を0.4mAに固定して電解重合を行い、導電性高分子層(固体電解質層)を形成した。   A conductive polymer layer is formed by immersing an etched aluminum formed foil with a precoat layer formed in an electrolytic polymerization solution, using the external electrode brought into contact with the precoat layer as an anode, fixing the current value to 0.4 mA, and performing electrolytic polymerization. (Solid electrolyte layer) was formed.

次に、上記アルミニウム箔の導電性高分子層を形成した部分にカーボンペーストと銀ペーストを順に塗布し、乾燥させて、合計20個のコンデンサ素子を完成させた。   Next, a carbon paste and a silver paste were sequentially applied to the portion of the aluminum foil where the conductive polymer layer was formed and dried to complete a total of 20 capacitor elements.

これら20個のコンデンサ素子について、初期特性として100Hzにおける等価直列抵抗(ESR)及び150℃8時間の熱処理後の100Hzにおける等価直列抵抗(ESR)を測定した。   For these 20 capacitor elements, the equivalent series resistance (ESR) at 100 Hz and the equivalent series resistance (ESR) at 100 Hz after heat treatment at 150 ° C. for 8 hours were measured as initial characteristics.

(実施例2)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと、以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):0.28(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):2.52(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Example 2)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. In other words, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 0.28 (mmol) + sodium sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 2.52 ( mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(実施例3)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):0.56(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):2.24(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Example 3)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 0.56 (mmol) + sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 2.24 ( mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(実施例4)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.12(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):1.68(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
Example 4
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. Namely, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.12 (mmol) + sodium sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.68 ( mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(実施例5)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.68(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):1.12(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Example 5)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.68 (mmol) + sodium sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.12 ( mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(実施例6)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.96(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):0.84(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Example 6)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.96 (mmol) + sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 0.84 ( mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(実施例7)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):2.24(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):0.56(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(実施例8)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):2.52(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):0.28(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(実施例9)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.96(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):0.84(mmol)+ピロール:0.6(g)+4−ニトロフェノール:0.229(mmol)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Example 7)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 2.24 (mmol) + sodium sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 0.56 ( mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.
(Example 8)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, butyl naphthalenesulfonate sodium (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 2.52 (mmol) + sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 0.28 (electrolytic polymerization solution) mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.
Example 9
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.96 (mmol) + sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 0.84 ( mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + 4-nitrophenol: 0.229 (mmol) + H 2 O: 45.8 (g) is used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. did. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(実施例10)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.96(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):0.84(mmol)+ピロール:0.6(g)+4−ニトロ−1−ナフトール:0.229(mmol)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Example 10)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.96 (mmol) + sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 0.84 ( mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + 4-nitro-1-naphthol: 0.229 (mmol) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(実施例11)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.96(mmol)+ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):0.84(mmol)+ピロール:0.6(g)+1−ヒドロキシ−4−ニトロアントラキノン:0.229(mmol)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Example 11)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.96 (mmol) + sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 0.84 ( mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + 1-hydroxy-4-nitroanthraquinone: 0.229 (mmol) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(比較例1)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):2.8(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Comparative Example 1)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, a mixed solution of sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 2.8 (mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for the electrolytic polymerization solution. Then, electropolymerization was performed to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(比較例2)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(ソフト型、混合物、東京化成工業株式会社製):2.8(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Comparative Example 2)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium dodecylbenzenesulfonate (soft type, mixture, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 2.8 (mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) An electropolymerization was performed using the mixed solution to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(比較例3)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.96(mmol)+p−トルエンスルホン酸ナトリウム(和光純薬工業株式会社製):0.84(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Comparative Example 3)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.96 (mmol) + sodium p-toluenesulfonate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0.84 (mmol) + pyrrole : 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

(比較例4)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.96(mmol)+ヘキサデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム:0.84(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
ヘキサデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムは、以下の方法で合成した。すなわち、ヘキサデシルベンゼン(和光純薬工業製)20(g)と20%発煙硫酸24(g)を25℃で10時間反応させた後、水12(g)を加えて38℃で20時間放置後、20質量%水酸化ナトリウム水溶液で中和することで、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを得た。
(Comparative Example 4)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium butylnaphthalenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.96 (mmol) + sodium hexadecylbenzenesulfonate: 0.84 (mmol) + pyrrole: 0.6 (g) + H Electrolytic polymerization was performed using a mixed solution of 2 O: 45.8 (g) to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.
Sodium hexadecylbenzenesulfonate was synthesized by the following method. That is, hexadecylbenzene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 20 (g) and 20% fuming sulfuric acid 24 (g) were reacted at 25 ° C. for 10 hours, water 12 (g) was added, and the mixture was allowed to stand at 38 ° C. for 20 hours. Then, the sodium hexadecylbenzenesulfonate was obtained by neutralizing with 20 mass% sodium hydroxide aqueous solution.

(比較例5)
導電性高分子の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1と同様にして20個のコンデンサ素子を得た。すなわち、電解重合液にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業株式会社製):1.00(mmol)+p−トルエンスルホン酸ナトリウム(和光純薬工業株式会社製):1.00(mmol)+ピロール:0.6(g)+HO:45.8(g)の混合溶液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行った。
(Comparative Example 5)
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer was changed to the following method. That is, sodium dodecylbenzenesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 1.00 (mmol) + sodium p-toluenesulfonate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 1.00 (mmol) + pyrrole : 0.6 (g) + H 2 O: 45.8 (g) was used for electrolytic polymerization to form a conductive polymer layer. The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1.

実施例1〜11、比較例1〜5のコンデンサ素子の測定結果を表1に示す。   Table 1 shows the measurement results of the capacitor elements of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 5.

Figure 2011210918
Figure 2011210918

表中の略称を以下に示す。
BNS−Na:ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム
OBS−Na:オクチルベンゼンスルホン酸ナトリウム
DBS−Na:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
PTS−Na:パラトルエンスルホン酸ナトリウム
HBS−Na:ヘキサデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
NP:4−ニトロフェノール
NNP:4−ニトロ−1−ナフトール−4−ニトロフェノール
HNA:1−ヒドロキシ−4−ニトロアントラキノン
Abbreviations in the table are shown below.
BNS-Na: sodium butylnaphthalenesulfonate OBS-Na: sodium octylbenzenesulfonate DBS-Na: sodium dodecylbenzenesulfonate PTS-Na: sodium paratoluenesulfonate HBS-Na: sodium hexadecylbenzenesulfonate NP: 4- Nitrophenol NNP: 4-nitro-1-naphthol-4-nitrophenol HNA: 1-hydroxy-4-nitroanthraquinone

実施例1〜11と比較例1〜5を比較すると実施例1〜11の方がコンデンサのESRの低減と熱耐久性の向上が見られた。特に添加剤を加えた実施例9〜11では大幅に熱耐久性が向上することが分かった。   When Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 5 were compared, Examples 1 to 11 showed a reduction in ESR of the capacitor and an improvement in thermal durability. In particular, in Examples 9 to 11 to which additives were added, it was found that the thermal durability was significantly improved.

本発明の導電性高分子形成用電解重合液により得られる導電性高分子は、固体電解コンデンサはもとより、有機ELディスプレイ、有機トランジスタ、ポリマー電池、太陽電池、各種センサー材料、電磁波シールド材料、帯電防止材料、エレクトロクロミック材料、人工筋肉などに好適に使用できる。   The conductive polymer obtained by the electropolymerization liquid for forming a conductive polymer of the present invention is not only a solid electrolytic capacitor, but also an organic EL display, an organic transistor, a polymer battery, a solar battery, various sensor materials, an electromagnetic shielding material, an antistatic material. It can be suitably used for materials, electrochromic materials, artificial muscles and the like.

Claims (7)

導電性高分子単量体と支持電解質とが、溶媒に溶解されてなる導電性高分子形成用電解液において、
下記一般式(1)で表されるナフタレンスルホン酸化合物を含む支持電解質(D1)と、
デービス法により算出されたHLB値が29〜33の範囲であるスルホン酸化合物を含む支持電解質(D2)と、
を含有することを特徴とする導電性高分子形成用電解重合液。
Figure 2011210918
(式(1)中、Rは同一でも異なっていてもよいハロゲン基又は炭素数1〜9の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を示す。Xはカチオンを示し、mは1〜4の整数であり、nは1〜3の整数である。)
In the electrolytic solution for forming a conductive polymer in which the conductive polymer monomer and the supporting electrolyte are dissolved in a solvent,
A supporting electrolyte (D1) containing a naphthalenesulfonic acid compound represented by the following general formula (1);
A supporting electrolyte (D2) containing a sulfonic acid compound having an HLB value calculated by the Davis method in the range of 29 to 33;
An electropolymerization liquid for forming a conductive polymer, comprising:
Figure 2011210918
(In formula (1), R represents the same or different halogen group or a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. X + represents a cation, and m represents 1 to 4. An integer, and n is an integer of 1 to 3.)
スルホン酸化合物が下記一般式(2)で表されるベンゼンスルホン酸化合物であることを特徴とする請求項1に記載の導電性高分子形成用電解重合液。
Figure 2011210918
(式(2)中、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜15の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を示す。Xはカチオンを示し、mは1〜4の整数であり、nは1〜3の整数である。)
The electropolymerization liquid for forming a conductive polymer according to claim 1, wherein the sulfonic acid compound is a benzenesulfonic acid compound represented by the following general formula (2).
Figure 2011210918
(In the formula (2), R represents a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may be the same or different. X + represents a cation, and m is an integer of 1 to 4. , N is an integer from 1 to 3.)
支持電解質(D1)と支持電解質(D2)のモル比が、9:1〜2:8であることを特徴とする請求項1又は2に記載の導電性高分子形成用電解重合液。   The electropolymerization liquid for forming a conductive polymer according to claim 1 or 2, wherein the molar ratio of the supporting electrolyte (D1) and the supporting electrolyte (D2) is 9: 1 to 2: 8. 下記一般式(3)〜(5)で示される少なくとも一つの化合物が添加剤として溶解されてなることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の導電性高分子形成用電解重合液。
Figure 2011210918
(式(3)〜(5)中、Rはそれぞれ同一でも異なっていてもよい水素原子、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基又はフェニル基を示す。)
The electropolymerization liquid for forming a conductive polymer according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one compound represented by the following general formulas (3) to (5) is dissolved as an additive. .
Figure 2011210918
(In formulas (3) to (5), R represents a hydrogen atom which may be the same as or different from each other, a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.)
前記導電性高分子単量体がピロール及び/又はピロール誘導体であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の導電性高分子形成用電解重合液。   5. The electropolymerization liquid for forming a conductive polymer according to any one of claims 1 to 4, wherein the conductive polymer monomer is pyrrole and / or a pyrrole derivative. 誘電体酸化皮膜が形成された弁作用金属上に、請求項1から5のいずれかに記載の導電性高分子形成用電解重合液中で導電性高分子層を電解重合により形成する工程を少なくとも有する固体電解コンデンサの製造方法。   A step of forming a conductive polymer layer by electropolymerization in the electropolymerization liquid for forming a conductive polymer according to any one of claims 1 to 5 on the valve action metal on which the dielectric oxide film is formed. A method for producing a solid electrolytic capacitor. 誘電体酸化皮膜が形成された弁作用金属上に、導電性高分子層(A)を形成する工程と、前記導電性高分子層(A)上に請求項1から5のいずれかに記載の電解重合液中で導電性高分子層(B)を電解重合により形成する工程とを有する固体電解コンデンサの製造方法。   The step of forming a conductive polymer layer (A) on the valve action metal on which the dielectric oxide film is formed, and the conductive polymer layer (A) according to any one of claims 1 to 5 And a step of forming a conductive polymer layer (B) by electrolytic polymerization in an electrolytic polymerization solution.
JP2010076656A 2010-03-30 2010-03-30 Electrolytic polymerization solution for forming conductive polymer, and method of manufacturing solid electrolytic capacitor using the same Pending JP2011210918A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010076656A JP2011210918A (en) 2010-03-30 2010-03-30 Electrolytic polymerization solution for forming conductive polymer, and method of manufacturing solid electrolytic capacitor using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010076656A JP2011210918A (en) 2010-03-30 2010-03-30 Electrolytic polymerization solution for forming conductive polymer, and method of manufacturing solid electrolytic capacitor using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011210918A true JP2011210918A (en) 2011-10-20

Family

ID=44941669

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010076656A Pending JP2011210918A (en) 2010-03-30 2010-03-30 Electrolytic polymerization solution for forming conductive polymer, and method of manufacturing solid electrolytic capacitor using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011210918A (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03291909A (en) * 1990-04-10 1991-12-24 Asahi Glass Co Ltd Solid-state electrolytic capacitor
JPH11312626A (en) * 1998-04-28 1999-11-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd Capacitor and its manufacture
JP2001110682A (en) * 1999-10-12 2001-04-20 Nec Corp Solid electrolytic capacitor
JP2005116777A (en) * 2003-10-08 2005-04-28 Sanyo Electric Co Ltd Solid electrolytic capacitor
JP2008205405A (en) * 2007-02-22 2008-09-04 Sanyo Electric Co Ltd Method for manufacturing solid electrolytic capacitor

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03291909A (en) * 1990-04-10 1991-12-24 Asahi Glass Co Ltd Solid-state electrolytic capacitor
JPH11312626A (en) * 1998-04-28 1999-11-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd Capacitor and its manufacture
JP2001110682A (en) * 1999-10-12 2001-04-20 Nec Corp Solid electrolytic capacitor
JP2005116777A (en) * 2003-10-08 2005-04-28 Sanyo Electric Co Ltd Solid electrolytic capacitor
JP2008205405A (en) * 2007-02-22 2008-09-04 Sanyo Electric Co Ltd Method for manufacturing solid electrolytic capacitor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101144526B1 (en) Dopant solution for electroconductive polymer, oxidizing agent and concurrently dopant solution for electroconductive polymer, electroconductive composition and solid electrolytic capacitor
JP5637544B2 (en) Solid electrolytic capacitor
JP2010182426A (en) Conductive polymer composition and manufacturing method thereof, and solid electrolytic capacitor using the conductive polymer composition
JP2013247312A (en) Conductive polymer for solid electrolytic capacitor
CN110121757B (en) Method for manufacturing solid electrolytic capacitor
JP2011138814A (en) Electrolytic capacitor and method of manufacturing the same
JP5763960B2 (en) Conductive polymer suspension and method for producing the same, conductive organic material, solid electrolytic capacitor and method for producing the same
WO2011052237A1 (en) Solid electrolytic capacitor and method for producing same
JP5327844B2 (en) Electrolytic polymerization liquid for forming conductive polymer, conductive polymer, solid electrolytic capacitor using the same, and method for producing the same
JP2009032895A (en) Solid-state electrolytic capacitor, and manufacturing method thereof
JP2014192183A (en) Solid electrolytic capacitor and method of manufacturing the same
JP5289183B2 (en) Manufacturing method of solid electrolytic capacitor
CN100580832C (en) Solid electrolytic capacitor
JP5305351B2 (en) Solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
JP4986062B2 (en) Manufacturing method of solid electrolytic capacitor
JP2011236339A (en) Electrolytic polymerization liquid for forming conductive polymer and method for manufacturing solid electrolytic capacitor using the same
JP2011210918A (en) Electrolytic polymerization solution for forming conductive polymer, and method of manufacturing solid electrolytic capacitor using the same
JP4925144B2 (en) Manufacturing method of solid electrolytic capacitor
JP2010090324A (en) Dopant solution for conductive polymer, dopant solution also serving as oxidizer for conductive polymer, conductive composition, solid electrolytic capacitor and method for manufacturing the same
JP2012054258A (en) Electrolytic polymerization solution for forming conductive polymer, solid electrolytic capacitor, and method for manufacturing the same
JP2012089542A (en) Electrolytic polymerization solution for forming conductive polymer and method of manufacturing solid electrolytic capacitor using the same
JP7210004B2 (en) Electrolyte for electrolytic capacitor and electrolytic capacitor
JP2010143996A (en) Electroconductive polymer, solid electrolytic capacitor using the same, and method for manufacturing the same
JP2008186881A (en) Solid electrolytic capacitor
JP2005259807A (en) Solid electrolytic capacitor and its manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130319

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131226

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20140115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140219

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140416

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141209

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150508