JP2011208598A - 薬液供給システム - Google Patents
薬液供給システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011208598A JP2011208598A JP2010078702A JP2010078702A JP2011208598A JP 2011208598 A JP2011208598 A JP 2011208598A JP 2010078702 A JP2010078702 A JP 2010078702A JP 2010078702 A JP2010078702 A JP 2010078702A JP 2011208598 A JP2011208598 A JP 2011208598A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- suction
- chemical
- chemical solution
- working chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
- B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
- B05C11/1007—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material
- B05C11/1013—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material responsive to flow or pressure of liquid or other fluent material
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B43/00—Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members
- F04B43/02—Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members having plate-like flexible members, e.g. diaphragms
- F04B43/06—Pumps having fluid drive
- F04B43/073—Pumps having fluid drive the actuating fluid being controlled by at least one valve
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
- B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
- B05C11/1026—Valves
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B43/00—Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members
- F04B43/12—Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members having peristaltic action
- F04B43/14—Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members having peristaltic action having plate-like flexible members
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2041—Exposure; Apparatus therefor in the presence of a fluid, e.g. immersion; using fluid cooling means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Reciprocating Pumps (AREA)
- Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)
Abstract
【解決手段】薬液供給ポンプ10において、一対のボディ11,12内には容積可変部材としてのダイアフラム13が収容されており、このダイアフラム13によってポンプ室14と作動室15とが区画形成されている。作動室15には電空レギュレータ30が接続されている。コントローラ60は、薬液の吸引を開始する場合には作動室15内の圧力を大気圧に設定するとともに、その状態で吸引バルブ23を開状態とする。そして、薬液タンク27の水頭圧によりポンプ室14に薬液が流入してくることで変動する作動室15内の圧力を、圧力センサ52を通じて読み取り、その読み取った圧力に基づいて電空レギュレータ30を制御する。
【選択図】図1
Description
以下、本発明を具体化した第1の実施の形態を図面に従って説明する。本実施の形態は、半導体装置等の製造ラインにて使用される薬液供給システムについて具体化しており、当該システムの基本的構成を図1に基づいて説明する。
本実施の形態では、薬液の吸引動作において薬液タンク27の水頭圧の影響を受けないようにするための構成が上記第1の実施の形態と異なっている。以下、その相違する構成について説明する。
本実施の形態では、薬液の吸引動作において薬液タンク27の水頭圧の影響を受けないようにするための構成が上記第1の実施の形態と異なっている。以下、その相違する構成について説明する。
本発明は上記各実施の形態の記載内容に限定されず例えば次のように実施しても良い。
Claims (10)
- 薬液タンクから薬液が充填されるポンプ室、及び容積可変部材により前記ポンプ室から仕切られてなる作動室を有し、当該作動室内の作動気体の圧力に応じて前記容積可変部材を作動させ、その作動に伴う前記ポンプ室の容積変化に基づいて前記薬液を吸引又は吐出する薬液供給ポンプと、
前記作動室に付与する気体圧力を吸引用圧力にすることで前記ポンプ室に薬液を吸引させる圧力調整手段と、
前記ポンプ室に通じる吐出通路側に設けられる吐出側開閉弁が閉状態であって、前記ポンプ室に通じる吸引通路側に設けられる吸引側開閉弁が閉状態である状況において、前記ポンプ室への薬液の充填を開始する場合に前記吸引側開閉弁を開状態に切り換える切換制御手段と、
前記吸引側開閉弁が開状態とされて前記ポンプ室への薬液の流入が開始された場合に、前記作動室に連通する空間又は前記作動室の気体圧力を検出する圧力検出手段と、
当該圧力検出手段の検出結果に基づいて、前記圧力調整手段により前記作動室に付与される吸引用圧力を制御する吸引制御手段と、
を備えていることを特徴とする薬液供給システム。 - 前記吸引制御手段は、前記吸引側開閉弁が開状態とされて前記ポンプ室への薬液の流入が開始された場合の前記圧力検出手段の検出圧力が低いほど、その後の薬液の吸引に際しての吸引用圧力の設定圧も低い設定圧となるようにするものであることを特徴とする請求項1に記載の薬液供給システム。
- 前記容積可変部材の位置を検出する位置検出手段を備え、
前記切換制御手段は、前記位置検出手段の検出結果が、前記容積可変部材の位置が薬液の吸引が完了した位置となったことに対応した結果となった場合に、開状態から閉状態に切り換わるように前記吸引側開閉弁を制御するものであり、
前記吸引制御手段は、前記圧力検出手段の検出結果に基づいて、前記圧力調整手段により前記作動室に付与される吸引用圧力を制御することで、各回の吸引動作において前記容積可変部材の位置が前記完了した位置となるまでに要する時間が一定となるようにするものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の薬液供給システム。 - 前記圧力調整手段は、前記作動室への吐出用圧力の付与を阻止又は許容する第1開閉弁と、前記作動室への前記吸引用圧力の付与を阻止又は許容する第2開閉弁と、を備え、
前記吸引制御手段において前記吸引用圧力の設定圧を決定するための前記圧力検出手段における圧力の検出が完了するまでは、前記第1開閉弁及び前記第2開閉弁の両方を閉状態として、前記作動室に連通された空間及び当該作動室が閉空間となるようにするものであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1に記載の薬液供給システム。 - 前記吐出側開閉弁が閉状態であって前記吸引側開閉弁が閉状態である状況において、前記切換制御手段により前記吸引側開閉弁が開状態とされた際の前記ポンプ室への薬液の流入に伴う圧力の変動を前記圧力検出手段において検出可能とするような検出用圧力に、前記圧力調整手段の設定圧を制御する検出用制御手段を備え、
前記吸引制御手段は、前記検出用圧力に設定されている状況で前記吸引側開閉弁が開状態とされて前記ポンプ室への薬液の流入が開始された場合における前記圧力検出手段の検出結果に基づいて、前記圧力調整手段により前記作動室に付与される吸引用圧力を制御するものであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1に記載の薬液供給システム。 - 前記検出用圧力は、前記吸引側開閉弁が開状態となった際に前記薬液タンクの水頭圧により前記ポンプ室への薬液の流入を可能とする圧力であることを特徴とする請求項5に記載の薬液供給システム。
- 前記圧力調整手段は、前記吸引制御手段により決定された前記吸引用圧力の設定圧と、前記圧力検出手段により検出された実圧力との偏差に基づいて、当該実圧力が前記設定圧となるように前記作動室に付与する圧力を調整するものであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1に記載の薬液供給システム。
- 薬液タンクから薬液が充填されるポンプ室、及び容積可変部材により前記ポンプ室から仕切られてなる作動室を有し、当該作動室内の作動気体の圧力に応じて前記容積可変部材を作動させ、その作動に伴う前記ポンプ室の容積変化に基づいて前記薬液を吸引又は吐出する薬液供給ポンプと、
前記作動室に付与する気体圧力を吸引用圧力にすることで前記ポンプ室に薬液を吸引させる圧力調整手段と、
前記ポンプ室に薬液が流入する場合における前記作動室の容積減少量に対して一義的に定まる作動量を、前記作動室へと通じる前記作動気体の流通経路側又は前記薬液供給ポンプにて検出する作動量検出手段と、
当該作動量検出手段の検出結果に基づいて、前記圧力調整手段により前記作動室に付与される吸引用圧力を制御する吸引制御手段と、
を備えていることを特徴とする薬液供給システム。 - 前記吸引制御手段は、前記ポンプ室に薬液が吸引される場合に、前記容積可変部材の変位速度を基準変位速度とするための基準値を設定するとともに、当該基準値と、前記作動量検出手段による検出結果から求めた数値との偏差に基づいて、当該求めた数値が前記基準値となるように前記圧力調整手段により調整される吸引用圧力の設定圧を制御するものであることを特徴とする請求項8に記載の薬液供給システム。
- 前記ポンプ室に通じる吸引通路側に設けられる吸引側開閉弁を、前記ポンプ室に薬液を吸引する場合に開状態となるように制御するとともに、前記容積可変部材の位置が薬液の吸引が完了した位置となった場合に閉状態となるように制御する切換制御手段を備え、
前記作動量検出手段は、前記作動量として前記容積可変部材の位置を検出するものであって、前記切換制御手段において前記容積可変部材の位置が薬液の吸引が完了した位置となったことを把握する場合に用いられる位置検出手段であることを特徴とする請求項8又は9に記載の薬液供給システム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010078702A JP5342489B2 (ja) | 2010-03-30 | 2010-03-30 | 薬液供給システム |
US13/069,300 US8636477B2 (en) | 2010-03-30 | 2011-03-22 | Chemical supply system |
KR1020110028038A KR20110109968A (ko) | 2010-03-30 | 2011-03-29 | 약액 공급 시스템 |
CN201110084870.8A CN102269152B (zh) | 2010-03-30 | 2011-03-29 | 药液供应系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010078702A JP5342489B2 (ja) | 2010-03-30 | 2010-03-30 | 薬液供給システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011208598A true JP2011208598A (ja) | 2011-10-20 |
JP5342489B2 JP5342489B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=44708432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010078702A Active JP5342489B2 (ja) | 2010-03-30 | 2010-03-30 | 薬液供給システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8636477B2 (ja) |
JP (1) | JP5342489B2 (ja) |
KR (1) | KR20110109968A (ja) |
CN (1) | CN102269152B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104214078A (zh) * | 2014-08-08 | 2014-12-17 | 云南大红山管道有限公司 | 一种具有自动保护功能的隔膜泵及其自动保护方法 |
JP2017096464A (ja) * | 2015-11-27 | 2017-06-01 | Ckd株式会社 | 気体圧駆動機器、及びその制御方法 |
KR20180105969A (ko) * | 2017-03-16 | 2018-10-01 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 이차전지용 슬러리의 대용량 정밀 이송 장치 및 방법 |
JP2022553270A (ja) * | 2019-10-18 | 2022-12-22 | ヒールテル・(グアンジョウ)・メディカル・テクノロジー・カンパニー・リミテッド | 流体を注入するためのシステム及び方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5742429B2 (ja) * | 2011-04-26 | 2015-07-01 | 富士通株式会社 | 塗布装置 |
CN103792856B (zh) * | 2012-11-02 | 2016-11-02 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 提供化学物品的控制系统 |
EA201591897A1 (ru) * | 2013-04-05 | 2016-06-30 | Эрлс Майнинг (Пти) Лтд. | Насосная система |
CN103230757B (zh) * | 2013-05-19 | 2015-06-10 | 江西科伦药业有限公司 | 药液安全配送装置 |
US10267303B2 (en) * | 2013-08-30 | 2019-04-23 | Flow Control Llc. | High viscosity portion pump |
CN103967734A (zh) * | 2014-05-26 | 2014-08-06 | 成都科佑达技术开发有限公司 | 一种气动计量泵 |
US10121685B2 (en) * | 2015-03-31 | 2018-11-06 | Tokyo Electron Limited | Treatment solution supply method, non-transitory computer-readable storage medium, and treatment solution supply apparatus |
US10302077B2 (en) | 2015-06-11 | 2019-05-28 | Ckd Corporation | Liquid supply system and method for controlling liquid supply system |
JP6541489B2 (ja) * | 2015-07-24 | 2019-07-10 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | 液体材料吐出装置 |
CN106640607A (zh) * | 2017-03-02 | 2017-05-10 | 吴平 | 脉动式气动加药系统和加药方法 |
CN110031644A (zh) * | 2017-06-30 | 2019-07-19 | 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 | 试剂供应装置、样本分析仪及试剂供应方法 |
JP6483874B1 (ja) * | 2018-01-18 | 2019-03-13 | 日機装株式会社 | 圧力検出器の調整装置 |
TWI702675B (zh) * | 2018-08-31 | 2020-08-21 | 辛耘企業股份有限公司 | 基板處理裝置 |
CN110875212B (zh) * | 2018-08-31 | 2022-07-01 | 辛耘企业股份有限公司 | 基板处理装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6659730B2 (en) * | 1997-11-07 | 2003-12-09 | Westport Research Inc. | High pressure pump system for supplying a cryogenic fluid from a storage tank |
JP4265820B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2009-05-20 | シーケーディ株式会社 | 薬液供給システム |
JP4768244B2 (ja) | 2004-08-09 | 2011-09-07 | シーケーディ株式会社 | 薬液供給システム及び薬液供給用ポンプ |
JP4541069B2 (ja) * | 2004-08-09 | 2010-09-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 薬液供給システム |
JP4658248B2 (ja) * | 2004-08-25 | 2011-03-23 | シーケーディ株式会社 | 薬液供給システム |
JP4668027B2 (ja) * | 2005-10-17 | 2011-04-13 | シーケーディ株式会社 | 薬液供給システム |
CA2527563C (en) * | 2005-12-23 | 2007-07-03 | Westport Research Inc. | Apparatus and method for pumping a cryogenic fluid from a storage vessel and diagnosing cryogenic pump performance |
JP4694377B2 (ja) * | 2006-01-27 | 2011-06-08 | シーケーディ株式会社 | 薬液供給システム |
-
2010
- 2010-03-30 JP JP2010078702A patent/JP5342489B2/ja active Active
-
2011
- 2011-03-22 US US13/069,300 patent/US8636477B2/en active Active
- 2011-03-29 CN CN201110084870.8A patent/CN102269152B/zh active Active
- 2011-03-29 KR KR1020110028038A patent/KR20110109968A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104214078A (zh) * | 2014-08-08 | 2014-12-17 | 云南大红山管道有限公司 | 一种具有自动保护功能的隔膜泵及其自动保护方法 |
JP2017096464A (ja) * | 2015-11-27 | 2017-06-01 | Ckd株式会社 | 気体圧駆動機器、及びその制御方法 |
KR20180105969A (ko) * | 2017-03-16 | 2018-10-01 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 이차전지용 슬러리의 대용량 정밀 이송 장치 및 방법 |
KR102207830B1 (ko) * | 2017-03-16 | 2021-01-26 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 이차전지용 슬러리의 대용량 정밀 이송 장치 및 방법 |
JP2022553270A (ja) * | 2019-10-18 | 2022-12-22 | ヒールテル・(グアンジョウ)・メディカル・テクノロジー・カンパニー・リミテッド | 流体を注入するためのシステム及び方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8636477B2 (en) | 2014-01-28 |
CN102269152B (zh) | 2014-11-26 |
JP5342489B2 (ja) | 2013-11-13 |
CN102269152A (zh) | 2011-12-07 |
KR20110109968A (ko) | 2011-10-06 |
US20110240672A1 (en) | 2011-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5342489B2 (ja) | 薬液供給システム | |
JP4694377B2 (ja) | 薬液供給システム | |
JP4668027B2 (ja) | 薬液供給システム | |
JP4855226B2 (ja) | 薬液供給システム及び薬液供給制御装置 | |
US10774857B2 (en) | Method for operating a valve device, valve device and data storage medium with a computer program | |
KR102421587B1 (ko) | 유량 제어 방법 및 유량 제어 장치 | |
JP2006316711A (ja) | 薬液供給システム及び薬液供給ポンプ | |
JP6244723B2 (ja) | 高圧ポンプの制御装置 | |
JP2011520057A (ja) | ポンピング・システム | |
JP5779324B2 (ja) | 薬液供給システム | |
US10309428B2 (en) | Method for controlling gas-pressure-driven apparatus and gas-pressure-driven apparatus | |
US10302077B2 (en) | Liquid supply system and method for controlling liquid supply system | |
US11022156B2 (en) | Actuator-operation detecting apparatus | |
JP4768244B2 (ja) | 薬液供給システム及び薬液供給用ポンプ | |
JP5412158B2 (ja) | 空気圧制御装置 | |
CN110709606B (zh) | 压力控制装置和压力利用装置 | |
JP5989881B2 (ja) | 薬液供給システム | |
JP6622144B2 (ja) | 液体供給システム、及び液体供給システムの制御方法 | |
JP2007051563A (ja) | 薬液供給システム | |
JP2007278978A (ja) | 分注装置 | |
JP2021033800A (ja) | 流量制御装置 | |
JP2021167575A (ja) | ポンプシステム | |
JP2020079981A (ja) | 制御システムおよび制御方法 | |
JP2011180093A (ja) | 燃料残量検出装置 | |
JP2009030442A (ja) | 混合流体供給システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120914 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130710 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130716 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130809 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5342489 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |