JP2011207222A - Method and apparatus for manufacturing ceramic electronic component - Google Patents

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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a ceramic electronic component, capable of improving adhesion of a ceramic sheet to a ceramic shaft.SOLUTION: The method for manufacturing the ceramic electronic component includes a first winding step which mounts the ceramic sheet 12 on the plane of a base 4, mounts the ceramic shaft 13 on the end of the ceramic sheet 12, interposes the ceramic sheet 12 and the ceramic shaft 13 between the plane of the pressing part 8 and the plane of the base 4, and move the base 4 in a direction H parallel to the plane of the base 4, thereby winding the ceramic sheet 12 around the rotating ceramic shaft 13 to form a ceramic substrate.

Description

本発明は、セラミック電子部品の製造方法及びセラミック電子部品の製造装置に関する。   The present invention relates to a ceramic electronic component manufacturing method and a ceramic electronic component manufacturing apparatus.

セラミックヒーターは、自動車用酸素センサー、半田ごて、石油ファンヒーター等の石油気化器用熱源、温水加熱機等の産業機器用、電子部品用、一般家庭用等の各種加熱用ヒーターに利用されている。   Ceramic heaters are used in various heaters for automotive oxygen sensors, soldering irons, oil vaporizer heat sources such as oil fan heaters, industrial equipment such as hot water heaters, electronic parts, and general households. .

特許文献1には、ローラーと基台を用いてセラミックシートをセラミック軸に巻き付ける工程を有するセラミックヒーターの製造方法が開示されている。   Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a ceramic heater having a step of winding a ceramic sheet around a ceramic shaft using a roller and a base.

特許第3694408号公報Japanese Patent No. 3694408

上記特許文献1に記載された製造方法では、ローラーの表面が曲面であるため、ローラーの表面と基台との距離が一定ではない。そのため、ローラーと基台に挟まれたセラミック軸とセラミックシートに作用する力の向き及び大きさが一定ではない。したがって、ローラーと基台によってセラミック軸とセラミックシートに加える圧力の制御が不十分となる。その結果、セラミック軸に対してセラミックシートが均一に圧着されずに巻きムラが生じたり、セラミックシートの端部がセラミック軸から剥離したりする場合があった。また、セラミック軸に巻き付けられたセラミックシートの端部は他所に比べて剥離し易いが、ローラーを用いてセラミックシートの端部を局所的に圧着することが困難であった。その結果、完成後のセラミックヒーターにおいてセラミックシートがセラミック軸から剥離し易くなり、セラミックヒーターの外観や、連続通電、断続通電又は抵抗値変化に関する信頼性のばらつきが大きくなる。   In the manufacturing method described in Patent Document 1, since the roller surface is a curved surface, the distance between the roller surface and the base is not constant. Therefore, the direction and magnitude of the force acting on the ceramic shaft and the ceramic sheet sandwiched between the roller and the base are not constant. Therefore, control of the pressure applied to the ceramic shaft and the ceramic sheet by the roller and the base becomes insufficient. As a result, the ceramic sheet may not be uniformly pressed against the ceramic shaft, resulting in uneven winding, or the end of the ceramic sheet may peel off from the ceramic shaft. Moreover, although the edge part of the ceramic sheet wound around the ceramic axis | shaft is easy to peel compared with other places, it was difficult to crimp | bond the edge part of a ceramic sheet locally using a roller. As a result, in the completed ceramic heater, the ceramic sheet is easily peeled off from the ceramic shaft, and the variation in reliability regarding the appearance of the ceramic heater and continuous energization, intermittent energization, or resistance value increase is increased.

また上記特許文献1に記載された製造方法では、ローラーの回転速度を上げてタクトタイムを早めようとすると、セラミック軸又はセラミックシートがローラーと基台の間からはじき出されたり、ローラーの回転がセラミック軸に伝達されずに、ローラーが空回りしたりする場合があった。そのため、タクトタイムを充分に短縮することが困難であった。   Further, in the manufacturing method described in Patent Document 1, when the rotation speed of the roller is increased to increase the tact time, the ceramic shaft or the ceramic sheet is ejected from between the roller and the base, or the rotation of the roller is caused by the ceramic. In some cases, the roller could idle without being transmitted to the shaft. For this reason, it has been difficult to sufficiently shorten the tact time.

上記の問題は、セラミックヒーターの製造方法においてのみならず、圧電変換素子、積層筒状コンデンサ及び点火プラグのように、セラミック軸と当該セラミック軸に巻かれたセラミックシートと電極部とを備えるセラミック電子部品の製造に共通する問題であった。   The above problem is not only in the method of manufacturing a ceramic heater, but also in a ceramic electronic device including a ceramic shaft, a ceramic sheet wound around the ceramic shaft, and an electrode portion, such as a piezoelectric conversion element, a multilayer cylindrical capacitor, and a spark plug. It was a common problem in the production of parts.

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、セラミック軸に対するセラミックシートの密着性を向上させることが可能なセラミック電子部品の製造方法及びセラミック電子部品の製造装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and provides a ceramic electronic component manufacturing method and a ceramic electronic component manufacturing apparatus capable of improving the adhesion of a ceramic sheet to a ceramic shaft. For the purpose.

上記目的を達成するために、本発明に係るセラミック電子部品の製造方法は、基台の平面にセラミックシートを載置し、セラミックシートの端部にセラミック軸を載置し、押し当て部の平面と基台の平面との間にセラミックシート及びセラミック軸を挟み込み、基台又は押し当て部の少なくともいずれかを、基台の平面に対して平行に移動させることにより、回転するセラミック軸にセラミックシートを巻き付けてセラミック基体を形成する第一巻き付け工程を備える。   In order to achieve the above object, a method of manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention includes placing a ceramic sheet on a plane of a base, placing a ceramic shaft on an end of the ceramic sheet, and The ceramic sheet and the ceramic shaft are sandwiched between the base plate and the plane of the base, and at least one of the base or the pressing portion is moved in parallel to the plane of the base, so that the ceramic sheet is rotated on the rotating ceramic shaft. Is wound to form a ceramic substrate.

上記本発明によれば、セラミック軸に対するセラミックシートの密着性を向上させることができる。   According to the said invention, the adhesiveness of the ceramic sheet with respect to a ceramic shaft can be improved.

上記本発明に係るセラミック電子部品の製造方法は、押し当て部の平面と基台の平面との間にセラミック基体を挟み込み、基台又は押し当て部の少なくともいずれかを、基台の平面に対して平行に移動させることにより、セラミック基体を回転させる第二巻き付け工程を備えることが好ましい。   In the method for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention, the ceramic base is sandwiched between the plane of the pressing portion and the plane of the base, and at least one of the base or the pressing portion is placed on the plane of the base. It is preferable to provide a second winding step of rotating the ceramic substrate by moving the ceramic substrate in parallel.

第二巻き付け工程によって、セラミック軸に対するセラミックシートの密着性が更に向上する。   The adhesion of the ceramic sheet to the ceramic shaft is further improved by the second winding step.

第二巻き付け工程における基台の硬度は、第一巻き付け工程における基台の硬度より高いことが好ましい。これにより、セラミック軸に対するセラミックシートの密着性が更に向上する。   The hardness of the base in the second winding step is preferably higher than the hardness of the base in the first winding step. This further improves the adhesion of the ceramic sheet to the ceramic shaft.

上記本発明に係るセラミック電子部品の製造方法は、セラミック基体においてセラミック軸の表面上に位置するセラミックシートの端部を押し当て部の平面又は基台の平面に対向させた状態で、押し当て部の平面と基台の平面との間にセラミック基体を挟み込む端部加圧工程を備えることが好ましい。   The method of manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention includes a pressing unit in a state where an end of a ceramic sheet located on a surface of a ceramic shaft in a ceramic base is opposed to a plane of a pressing unit or a plane of a base. It is preferable to provide an end pressurizing step in which the ceramic base is sandwiched between the flat surface and the base surface.

端部加圧工程でセラミックシートの端部を加圧することにより、セラミック軸に対するセラミックシートの端部の密着性が向上する。   By pressurizing the end of the ceramic sheet in the end pressurizing step, the adhesion of the end of the ceramic sheet to the ceramic shaft is improved.

本発明に係るセラミック電子部品の製造装置は、平面を有する押し当て部と、押し当て部の平面と対向する平面を有する基台と、押し当て部又は基台の少なくともいずれかを、基台の平面に垂直な方向に移動させる垂直方向移動機構と、押し当て部又は基台の少なくともいずれかを、基台の平面に平行な方向に移動させる平行方向移動機構と、を備える。   An apparatus for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention includes a pressing portion having a flat surface, a base having a flat surface facing the flat surface of the pressing portion, and at least one of the pressing portion and the base. A vertical direction moving mechanism that moves in a direction perpendicular to the plane; and a parallel direction moving mechanism that moves at least one of the pressing unit and the base in a direction parallel to the plane of the base.

上記本発明に係るセラミック電子部品の製造装置によれば、上記本発明に係るセラミック電子部品の製造方法を実施することができる。   According to the ceramic electronic component manufacturing apparatus according to the present invention, the ceramic electronic component manufacturing method according to the present invention can be implemented.

上記本発明に係るセラミック電子部品の製造方法及び製造装置は、セラミックヒーターの製造に適している。   The method and apparatus for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention are suitable for manufacturing a ceramic heater.

本発明によれば、セラミック軸に対するセラミックシートの密着性を向上させることが可能なセラミック電子部品の製造方法及びセラミック電子部品の製造装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of a ceramic electronic component and the manufacturing apparatus of a ceramic electronic component which can improve the adhesiveness of the ceramic sheet with respect to a ceramic shaft can be provided.

本発明の一実施形態に係るセラミックヒーターの製造装置の概略図である。It is the schematic of the manufacturing apparatus of the ceramic heater which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るセラミックヒーターの製造方法が備える第一巻き付け工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the 1st winding process with which the manufacturing method of the ceramic heater which concerns on one Embodiment of this invention is provided. 本発明の一実施形態に係るセラミックヒーターの製造方法が備える第二巻き付け工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the 2nd winding process with which the manufacturing method of the ceramic heater which concerns on one Embodiment of this invention is provided. 本発明の一実施形態に係るセラミックヒーターの製造方法が備える端部加圧工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the edge part pressurization process with which the manufacturing method of the ceramic heater which concerns on one Embodiment of this invention is provided. 本発明の他の実施形態に係るセラミックヒーターの製造装置が備える基台の概略図である。It is the schematic of the base with which the manufacturing apparatus of the ceramic heater which concerns on other embodiment of this invention is provided. 本発明の一実施形態に係るセラミックヒーターの製造方法によって得られるロッド状セラミックヒーターの概略図である。It is the schematic of the rod-shaped ceramic heater obtained by the manufacturing method of the ceramic heater which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る圧電変換素子の斜視図である。It is a perspective view of the piezoelectric transducer which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る圧電変換素子の断面図である。It is sectional drawing of the piezoelectric transducer which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る圧電変換素子の斜視分解図である。It is a perspective exploded view of a piezoelectric transducer according to another embodiment of the present invention.

以下、図面を参照しながら、本発明の好適な一実施形態について詳細に説明する。なお、図面において、同一又は同等の要素については同一の符号を付す。また、上下左右の位置関係は図面に示す通りである。また、説明が重複する場合にはその説明を省略する。   Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or equivalent elements are denoted by the same reference numerals. Also, the positional relationship between the top, bottom, left and right is as shown in the drawing. Further, when the description overlaps, the description is omitted.

(セラミック電子部品の製造装置)
以下では、本発明の一実施形態として、セラミック電子部品の一種であるセラミックヒーターの製造装置及び当該装置を用いたセラミックヒーターの製造方法について説明する。図1に示すように、本実施形態に係るセラミックヒーターの製造装置2は、板状の押し当て部8、及び基台4を備える。押し当て部8が有する平面と基台4が有する平面は、平行に対向している。
(Ceramic electronic component manufacturing equipment)
Below, as one embodiment of the present invention, a ceramic heater manufacturing apparatus which is a kind of ceramic electronic component and a ceramic heater manufacturing method using the apparatus will be described. As shown in FIG. 1, the ceramic heater manufacturing apparatus 2 according to this embodiment includes a plate-like pressing portion 8 and a base 4. The plane of the pressing portion 8 and the plane of the base 4 are opposed in parallel.

押し当て部8は支持体10に固定されている。支持体10は、垂直方向移動機構18に連結されている。垂直方向移動機構18は、支持体10及びそれに固定された押し当て部8を、基台4の平面に垂直な方向に自在に移動させる。   The pressing portion 8 is fixed to the support 10. The support 10 is connected to the vertical movement mechanism 18. The vertical direction moving mechanism 18 freely moves the support 10 and the pressing portion 8 fixed thereto in a direction perpendicular to the plane of the base 4.

基台4は支持台6に固定されている。支持台6は、平行方向移動機構20に連結されている。平行方向移動機構20は、支持台6及びそれに固定された基台4を、基台4の平面に平行な方向に自在に移動させる。   The base 4 is fixed to the support base 6. The support base 6 is connected to the parallel movement mechanism 20. The parallel movement mechanism 20 freely moves the support base 6 and the base 4 fixed thereto in a direction parallel to the plane of the base 4.

基台4又は押し当て部8の少なくともいずれかは可撓性を有することが好ましい。基台4又は押し当て部8が可撓性を有する場合、第一巻き付け工程、第二巻き付け工程又は端部加圧工程において、基台4と押し当て部8に挟まれたセラミック軸及びセラミックシートの表面形状に応じて基台4又は押し当て部8の表面が変形して、セラミック軸又はセラミックシートが基台4又は押し当て部8にめり込む(図2〜4参照)。これにより、基台4及び押し当て部8とセラミック軸及びセラミックシートとの接触面積が大きくなり、セラミック軸及びセラミックシートが均一に加圧され易くなる。その結果、セラミック軸に対するセラミックシートの密着性が向上し易くなる。   It is preferable that at least one of the base 4 or the pressing portion 8 has flexibility. When the base 4 or the pressing portion 8 has flexibility, the ceramic shaft and the ceramic sheet sandwiched between the base 4 and the pressing portion 8 in the first winding step, the second winding step, or the end pressing step. Depending on the surface shape, the surface of the base 4 or the pressing portion 8 is deformed, and the ceramic shaft or the ceramic sheet is sunk into the base 4 or the pressing portion 8 (see FIGS. 2 to 4). Thereby, the contact area of the base 4 and the pressing part 8, and a ceramic shaft and a ceramic sheet becomes large, and it becomes easy to pressurize a ceramic shaft and a ceramic sheet uniformly. As a result, the adhesion of the ceramic sheet to the ceramic shaft is likely to be improved.

可撓性を有する材料としては、Siスポンジ、Siゴム、クロロプレンゴム及びウレタンゴム等が挙げられる。これらの材料から基台4及び押し当て部8を構成すればよい。なお、ウレタンゴムの硬度はクロロプレンゴムの硬度より高い。クロロプレンゴムの硬度はSiゴムの硬度より高い。Siゴムの硬度はSiスポンジの硬度より高い。基台4又は押し当て部8の硬度が小さいほど、基台4及び押し当て部8とセラミック軸及びセラミックシートとの接触面積は大きくなり、セラミック軸及びセラミックシートに作用する圧力は小さくなる。   Examples of the material having flexibility include Si sponge, Si rubber, chloroprene rubber, and urethane rubber. What is necessary is just to comprise the base 4 and the pressing part 8 from these materials. The hardness of urethane rubber is higher than that of chloroprene rubber. The hardness of chloroprene rubber is higher than that of Si rubber. The hardness of Si rubber is higher than that of Si sponge. The smaller the hardness of the base 4 or the pressing part 8, the larger the contact area between the base 4 and the pressing part 8, the ceramic shaft and the ceramic sheet, and the smaller the pressure acting on the ceramic shaft and the ceramic sheet.

セラミックヒーターの製造装置2は基台4を加熱する加熱機構を備えていてもよい。例えば、基台4を加熱しながら、第一巻き付け工程、第二巻き付け工程又は端部加圧工程を実施することにより、熱可塑性のセラミックシートが成型され易くなり、セラミック軸に対するセラミックシートの密着性が向上する。   The ceramic heater manufacturing apparatus 2 may include a heating mechanism for heating the base 4. For example, by performing the first winding step, the second winding step, or the end pressure step while heating the base 4, the thermoplastic ceramic sheet is easily formed, and the adhesion of the ceramic sheet to the ceramic shaft Will improve.

(セラミック電子部品の製造方法)
以下では、本発明の一実施形態として、セラミック電子部品の一種であるセラミックヒーターの製造方法を説明する。セラミックヒーターの製造法方法は、上記の本実施形態に係るセラミックヒーターの製造装置を用いて実施する。
(Method for manufacturing ceramic electronic components)
Below, the manufacturing method of the ceramic heater which is 1 type of a ceramic electronic component is demonstrated as one Embodiment of this invention. The method for manufacturing a ceramic heater is performed using the above-described ceramic heater manufacturing apparatus according to the present embodiment.

<セラミックシート及びセラミック軸の形成工程>
まず、セラミックスの原料粉末、成型用バインダ及び有機溶剤を湿式で混合して、セラミックス組成物を得る。セラミックスの原料粉末は、基材及び焼結助剤を含有する。基材とは、例えば、Alに対応する原料である。焼結助剤とは、例えば、SiO、CaO、Mg及びZrO等の酸化物に対応する原料等である。なお、セラミックスの原料粉末は、焼成前に仮焼してもよい。また、セラミックス組成物は、ムライトやスピネル等のアルミナ類似の高温高強度セラミックスの原料や希土類元素の酸化物を更に含有していてもよい。
<Ceramic sheet and ceramic shaft formation process>
First, a ceramic raw material powder, a molding binder and an organic solvent are mixed by a wet method to obtain a ceramic composition. The ceramic raw material powder contains a base material and a sintering aid. The base, for example, a starting material corresponding to Al 2 O 3. The sintering aid is, for example, a raw material corresponding to an oxide such as SiO 2 , CaO, Mg and ZrO 2 . The ceramic raw material powder may be calcined before firing. The ceramic composition may further contain a raw material of high-temperature high-strength ceramics similar to alumina, such as mullite and spinel, and oxides of rare earth elements.

セラミックス組成物をドクターブレード法等により成型して、矩形のセラミックシート12を作製する。またセラミックス組成物を押し出し成型して、中空構造を有する管状のセラミック軸13を作製する。なお、セラミック軸13は管状ではなく円柱状であってもよい。セラミック軸13の外周長と、セラミックシート12の一辺の長さは、ほぼ同等とする。セラミック軸13の軸長と、セラミックシート12の他の一辺の長さは、ほぼ同等とする。   A ceramic composition is molded by a doctor blade method or the like to produce a rectangular ceramic sheet 12. Moreover, the ceramic composition is extruded to produce a tubular ceramic shaft 13 having a hollow structure. The ceramic shaft 13 may be cylindrical instead of tubular. The outer peripheral length of the ceramic shaft 13 and the length of one side of the ceramic sheet 12 are substantially equal. The axial length of the ceramic shaft 13 and the length of the other side of the ceramic sheet 12 are substantially equal.

セラミックシート12の片面に、スクリーン印刷等により、抵抗発熱材が埋設された発熱部を形成する。さらにスクリーン印刷等により、発熱部に接続した引き出し部を形成する。セラミックシート12において引き出し部の末端が位置する部分に、セラミックシート12を貫通するスルーホールを形成し、スルーホールに導体ペーストを充填する。   A heating part in which a resistance heating material is embedded is formed on one side of the ceramic sheet 12 by screen printing or the like. Further, a drawer portion connected to the heat generating portion is formed by screen printing or the like. A through hole penetrating the ceramic sheet 12 is formed in a portion of the ceramic sheet 12 where the end of the lead portion is located, and a conductive paste is filled in the through hole.

発熱部に埋設された抵抗発熱材、引き出し部、及び後述する電極パッドには、例えばW,Mo,Re等といった高融点金属を用いることができる。   A refractory metal such as W, Mo, Re, or the like can be used for the resistance heating material embedded in the heat generating portion, the lead portion, and an electrode pad described later.

セラミックシート12の表面のうち引き出し部が形成された片面とは反対側の表面に位置するスルーホールを覆うように、電極パッド(メタライズ)を形成する。また、発熱部及び引き出し部が形成されたセラミックシート12の片面上に接着剤22を塗布する。   An electrode pad (metallization) is formed so as to cover a through hole located on the surface of the ceramic sheet 12 opposite to the one surface on which the lead portion is formed. Further, an adhesive 22 is applied on one surface of the ceramic sheet 12 on which the heat generating portion and the lead portion are formed.

<第一巻き付け工程>
第一巻き付け工程では、図1及び図2Aに示すように、接着剤22が塗布されたセラミックシート12の片面を押し当て部8に対向させ、セラミックシート12を基台4の平面に載置する。セラミック軸13をセラミックシート12の端部に載置する。このとき、セラミック軸13の軸長と長さが等しいセラミックシート12の一辺と、セラミック軸13とを平行に配置する。
<First winding step>
In the first winding step, as shown in FIGS. 1 and 2A, one side of the ceramic sheet 12 coated with the adhesive 22 is opposed to the pressing portion 8 and the ceramic sheet 12 is placed on the plane of the base 4. . The ceramic shaft 13 is placed on the end of the ceramic sheet 12. At this time, one side of the ceramic sheet 12 having the same axial length as the ceramic shaft 13 and the ceramic shaft 13 are arranged in parallel.

第一巻き付け工程においてセラミック軸13をセラミックシート12の端部に密着させることにより、巻きムラを防止できる。   By bringing the ceramic shaft 13 into close contact with the end of the ceramic sheet 12 in the first winding step, winding unevenness can be prevented.

なお、図1、図2A等に示すように、基台4の表面の一端には、基台4の表面に対して傾斜した治具(ガイド)が設置されていてもよい。この治具の表面にセラミック軸13の表面を当接して、セラミック軸13の位置決めを行ってもよい。   In addition, as shown in FIG. 1, FIG. 2A etc., the jig | tool (guide) inclined with respect to the surface of the base 4 may be installed in the end of the surface of the base 4. FIG. The ceramic shaft 13 may be positioned by bringing the surface of the ceramic shaft 13 into contact with the surface of the jig.

次に、図2Bに示すように、押し当て部8を基台4の平面に向かって垂直移動させ、押し当て部8の平面と基台4の平面との間にセラミックシート12及びセラミック軸13を挟み込む。なお、押し当て部8の平面と基台4の平面との間に挟まれたセラミックシート12及びセラミック軸13に作用する圧力は、垂直方向移動機構18によって自在に調整できる。   Next, as shown in FIG. 2B, the pressing portion 8 is vertically moved toward the plane of the base 4, and the ceramic sheet 12 and the ceramic shaft 13 are interposed between the plane of the pressing portion 8 and the plane of the base 4. Is inserted. Note that the pressure acting on the ceramic sheet 12 and the ceramic shaft 13 sandwiched between the plane of the pressing portion 8 and the plane of the base 4 can be freely adjusted by the vertical movement mechanism 18.

次に、図2Cに示すように、基台4を、基台4の平面に対して平行なH方向に移動させることにより、R方向に回転させたセラミック軸13にセラミックシート12を巻き付け始める。更に基台4をH方向に移動させ続けることにより、図2Dに示すように、セラミック軸13にセラミックシート12全体を巻き付ける。なお、上記のように、基台4の平面に載置されたセラミックシート12の端部にセラミック軸13を載置する際には、セラミック軸13をH方向に直交させる。なお、H方向への基台4の移動速度は、平行方向移動機構20によって自在に調整できる。   Next, as shown in FIG. 2C, the ceramic sheet 12 is started to be wound around the ceramic shaft 13 rotated in the R direction by moving the base 4 in the H direction parallel to the plane of the base 4. Further, by continuing to move the base 4 in the H direction, the entire ceramic sheet 12 is wound around the ceramic shaft 13 as shown in FIG. 2D. As described above, when the ceramic shaft 13 is placed on the end portion of the ceramic sheet 12 placed on the plane of the base 4, the ceramic shaft 13 is orthogonal to the H direction. The moving speed of the base 4 in the H direction can be freely adjusted by the parallel moving mechanism 20.

以上の第一巻き付け工程によって、図2Eに示すように、セラミック軸13と、セラミック軸13の外周面に接着剤を介して圧着されたセラミックシート12とを備えるセラミック基体を形成する。セラミック基体では、接着剤、発熱部、引き出し部がセラミック軸13とセラミックシート12に挟まれている。   As shown in FIG. 2E, a ceramic base including the ceramic shaft 13 and the ceramic sheet 12 press-bonded to the outer peripheral surface of the ceramic shaft 13 with an adhesive is formed by the first winding process described above. In the ceramic substrate, an adhesive, a heat generating part, and a lead part are sandwiched between the ceramic shaft 13 and the ceramic sheet 12.

第一巻き付け工程では、基台4の表面の静摩擦係数が1〜2であり、基台4のデュロメータ硬度が5〜20であることが好ましい。基台4の表面摩擦係数及び硬度が上記の数値範囲内である場合、基台上でのセラミックシート12の滑りが抑制され、セラミック軸13へのセラミックシート12の巻き付けが容易になる。表面摩擦係数及び硬度が上記の数値範囲内である基台4を構成する材料としては、例えば、Siスポンジが好適である。押し当て部8を構成する材料としては、例えば、Siゴムを用いればよい。   In a 1st winding process, it is preferable that the static friction coefficient of the surface of the base 4 is 1-2, and the durometer hardness of the base 4 is 5-20. When the surface friction coefficient and the hardness of the base 4 are within the above numerical ranges, the sliding of the ceramic sheet 12 on the base is suppressed, and the ceramic sheet 12 can be easily wound around the ceramic shaft 13. For example, Si sponge is suitable as a material constituting the base 4 whose surface friction coefficient and hardness are within the above numerical ranges. For example, Si rubber may be used as the material constituting the pressing portion 8.

第一巻き付け工程では、セラミックシート12を延伸せずに行うことが好ましい。セラミックシート12を延伸しながら第一巻き付け工程を行うと、セラミック軸13へ巻き付けたセラミックシート12に復元力が働き、セラミックシート12が剥離し易くなる。   In the first winding step, it is preferable to carry out without stretching the ceramic sheet 12. When the first winding step is performed while the ceramic sheet 12 is stretched, a restoring force acts on the ceramic sheet 12 wound around the ceramic shaft 13 and the ceramic sheet 12 is easily peeled off.

<第二巻き付け工程>
本実施形態では、第一巻き付け工程後に下記の第二巻き付け工程を行うことが好ましい。
<Second winding process>
In this embodiment, it is preferable to perform the following 2nd winding process after a 1st winding process.

第二巻き付け工程では、図3Aに示すように、セラミック基体を基台4aの平面に設置する。このとき、セラミック基体が備えるセラミック軸13とH方向を直交させる。また、セラミック基体においてセラミック軸13の表面上に位置するセラミックシート12の両端部を基台4aの平面に対向させることが好ましい。そして、図3Bに示すように、押し当て部8の平面と基台4aの平面との間にセラミック基体を挟み込み、基台4aをH方向に移動させ、セラミック基体をR方向に回転させる。図3A、3B、3Cに示すように、セラミック基体をR方向に半回転させた場合、セラミック基体の全体が押し当て部8又は基台4aのいずれかと接触するため、セラミック軸13にセラミックシート12全体が再度圧着される。なお、第二巻き付け工程では、セラミック軸13の表面上に位置するセラミックシート12の両端部の開きを抑制するために、セラミックシート12及びセラミック軸13を損傷しない程度の大きな力をかけたほうがよい。   In the second winding step, as shown in FIG. 3A, the ceramic base is placed on the plane of the base 4a. At this time, the ceramic shaft 13 provided in the ceramic base is orthogonal to the H direction. Moreover, it is preferable to make both ends of the ceramic sheet 12 located on the surface of the ceramic shaft 13 in the ceramic base face the plane of the base 4a. Then, as shown in FIG. 3B, the ceramic base is sandwiched between the plane of the pressing portion 8 and the plane of the base 4a, the base 4a is moved in the H direction, and the ceramic base is rotated in the R direction. As shown in FIGS. 3A, 3B, and 3C, when the ceramic base is rotated halfway in the R direction, the entire ceramic base is in contact with either the pressing portion 8 or the base 4a. The whole is crimped again. In the second winding step, it is preferable to apply a large force that does not damage the ceramic sheet 12 and the ceramic shaft 13 in order to suppress the opening of both ends of the ceramic sheet 12 positioned on the surface of the ceramic shaft 13. .

第二巻き付け工程で用いる基台4aの硬度は、第一巻き付け工程で用いる基台4の硬度より高いことが好ましい。これにより、第二巻き付け工程においてセラミックシート13に作用する圧力が、第一巻き付け工程に比べて大きくなり、セラミック軸13に対してセラミックシート12を圧着させ易くなる。例えば、第一巻き付け工程でSiスポンジから構成された基台4を用いた場合、第二巻き付け工程ではSiスポンジより硬度が高いクロロプレンゴムから構成された基台4aを用いればよい。   The hardness of the base 4a used in the second winding step is preferably higher than the hardness of the base 4 used in the first winding step. As a result, the pressure acting on the ceramic sheet 13 in the second winding step becomes larger than that in the first winding step, and the ceramic sheet 12 can be easily pressed against the ceramic shaft 13. For example, when the base 4 made of Si sponge is used in the first winding step, the base 4a made of chloroprene rubber having higher hardness than Si sponge may be used in the second winding step.

第二巻き付け工程では、基台4aの表面の静摩擦係数が0.1〜1であり、基台4aのデュロメータ硬度が50〜90であることが好ましい。基台4aの表面摩擦係数及び硬度が上記の数値範囲内である場合、セラミック軸13とセラミックシート12との密着性を向上させ易くなる。   In the second winding step, it is preferable that the static friction coefficient of the surface of the base 4a is 0.1 to 1, and the durometer hardness of the base 4a is 50 to 90. When the surface friction coefficient and hardness of the base 4a are within the above numerical range, the adhesion between the ceramic shaft 13 and the ceramic sheet 12 can be easily improved.

<端部加圧工程>
本実施形態では、第二巻き付け工程の後で、下記の端部加圧工程を行うことが好ましい。
<End pressurization process>
In this embodiment, it is preferable to perform the following edge pressurization process after a 2nd winding process.

端部加圧工程では、図4Aに示すように、セラミック基体を基台4aの平面に設置する。このとき、セラミック基体が備えるセラミック軸13とH方向を直交させる。また、セラミック基体においてセラミック軸13の表面上に位置するセラミックシート12の両端部を基台4aの平面に対向させる。なお、端部加圧工程では、第二巻き付け工程で用いたものと同じ基台4aを用いればよい。   In the end pressurizing step, as shown in FIG. 4A, the ceramic base is placed on the plane of the base 4a. At this time, the ceramic shaft 13 provided in the ceramic base is orthogonal to the H direction. Further, both end portions of the ceramic sheet 12 positioned on the surface of the ceramic shaft 13 in the ceramic base are opposed to the plane of the base 4a. In the end pressure process, the same base 4a as that used in the second winding process may be used.

次に、図4Bに示すように、押し当て部8を基台4aの平面に向かって垂直移動させ、押し当て部8の平面と基台4aの平面との間にセラミック基体を挟み込む。これにより、セラミックシート12の両端部が、基台4aの平面に押し当てられる。これにより、セラミック軸13に圧着したセラミックシート12の両端部の保形性が向上し、セラミックシート12の両端部が端部加圧工程前の状態に復元し難くなる。その結果、セラミック基体の脱バインダ工程又は焼成工程において、セラミックシート12の両端部が剥離して開くことを防止できる。   Next, as shown in FIG. 4B, the pressing portion 8 is vertically moved toward the plane of the base 4a, and the ceramic base is sandwiched between the plane of the pressing portion 8 and the plane of the base 4a. Thereby, the both ends of the ceramic sheet 12 are pressed against the plane of the base 4a. Thereby, the shape retention property of the both ends of the ceramic sheet 12 crimped | bonded to the ceramic shaft 13 improves, and it becomes difficult to restore | restore the both ends of the ceramic sheet 12 in the state before an edge part pressurization process. As a result, it is possible to prevent the both end portions of the ceramic sheet 12 from being peeled off and opened in the binder removal step or firing step of the ceramic substrate.

端部加圧工程では、例えば、セラミックシート12の両端部が押し当てられた基台4aを加熱しながら、一定時間、押し当て部8と基台4aとの間にセラミック基体を挟み続けることが好ましい。これにより、セラミック軸13に圧着したセラミックシート12の両端部の保形性が更に向上する。   In the end pressurizing step, for example, the ceramic base may be kept between the pressing portion 8 and the base 4a for a certain time while heating the base 4a against which both ends of the ceramic sheet 12 are pressed. preferable. Thereby, the shape retention property of the both ends of the ceramic sheet 12 crimped | bonded to the ceramic shaft 13 further improves.

なお、第二巻き付け工程を行わずに、第一巻き付け工程の直後に端部加圧工程を実施した場合、セラミック基体の形状が崩れる可能性がある。具体的には、端部加圧工程中にセラミックシート12の端部以外の一部が、基台4aの平面に平行な方向において、セラミック軸13から剥離する可能性がある。第二巻き付け工程においてセラミック軸13に対するセラミックシート12の密着性を向上させた後で、端部加圧工程を実施することによって、端部加圧工程中でのセラミックシート12が剥離し難くなり、セラミック基体の形状が崩れ難くなる。   In addition, when an end part pressurization process is implemented immediately after a 1st winding process, without performing a 2nd winding process, the shape of a ceramic base | substrate may collapse | crumble. Specifically, a part other than the end portion of the ceramic sheet 12 may peel from the ceramic shaft 13 in a direction parallel to the plane of the base 4a during the end portion pressing step. After improving the adhesiveness of the ceramic sheet 12 to the ceramic shaft 13 in the second winding step, the ceramic sheet 12 in the end pressurizing step is hardly peeled by performing the end pressurizing step, The shape of the ceramic substrate is difficult to collapse.

次に、焼成工程において、セラミック基体を1450〜1650℃程度の還元雰囲気中で加熱する。   Next, in the firing step, the ceramic substrate is heated in a reducing atmosphere of about 1450 to 1650 ° C.

焼成工程後、電極パッドの表面にNiめっきを施す。金属リードをこのNiめっき上にロウ材を用いてロウ付けすることにより、電極部を形成する。ロウ材としては、例えばAg,Au,Cu,Ni,Pdのうち少なくとも1種からなるロウ材を用いることができる。ロウ材及び金属リードを保護するために、Niめっきを施す。これにより、図6に示すセラミックヒーターが得られる。   After the firing step, Ni plating is applied to the surface of the electrode pad. A metal lead is brazed onto the Ni plating by using a brazing material to form an electrode portion. As the brazing material, for example, a brazing material composed of at least one of Ag, Au, Cu, Ni, and Pd can be used. Ni plating is applied to protect the brazing material and the metal leads. Thereby, the ceramic heater shown in FIG. 6 is obtained.

図6に示すように、セラミックヒーターは、発熱部14及び引き出し部15を内蔵したセラミック基体11を備える。セラミック基体11は、セラミック軸13に、セラミックシート12が巻きつけられた構成を有する。セラミック基体11には、抵抗発熱材に電力を供給するための電極部16が設けられている。引き出し部15は電極部16と導通する。電極部16には金属リード17がロウ付けされている。   As shown in FIG. 6, the ceramic heater includes a ceramic substrate 11 in which a heat generating portion 14 and a drawer portion 15 are built. The ceramic substrate 11 has a configuration in which a ceramic sheet 12 is wound around a ceramic shaft 13. The ceramic base 11 is provided with an electrode portion 16 for supplying power to the resistance heating material. The lead portion 15 is electrically connected to the electrode portion 16. A metal lead 17 is brazed to the electrode portion 16.

セラミックシートの巻き付けにローラーを用いる従来の製造方法では、ローラーの回転速度を上げてタクトタイムを早めようとすると、セラミック軸又はセラミックシートがローラーと基台の間からはじき出されたり、ローラーの回転がセラミック軸に伝達されずに、ローラーが空回りしたりする場合があった。そのため、タクトタイムを充分に短縮することが困難であった。一方、本実施形態では、ローラーを用いないため、これらの問題が発生しない。そして、本実施形態では、第一巻き付け工程においてセラミック軸13をセラミックシート12の端部に密着させからセラミックシート12の巻き付けを開始するため、巻き付け中にセラミックシート12がセラミック軸13から外れ難くなる。これらの理由から、本実施形態では、従来に比べて、基台の移動速度を速めることができ、結果としてタクトタイムを短くできる。   In the conventional manufacturing method using a roller for winding a ceramic sheet, if the rotation speed of the roller is increased to shorten the tact time, the ceramic shaft or the ceramic sheet is ejected from between the roller and the base, or the rotation of the roller is prevented. In some cases, the roller could idle without being transmitted to the ceramic shaft. For this reason, it has been difficult to sufficiently shorten the tact time. On the other hand, in this embodiment, since a roller is not used, these problems do not occur. In this embodiment, since the ceramic sheet 12 starts to be wound after the ceramic shaft 13 is brought into close contact with the end of the ceramic sheet 12 in the first winding step, the ceramic sheet 12 is unlikely to be detached from the ceramic shaft 13 during winding. . For these reasons, in this embodiment, the moving speed of the base can be increased compared to the conventional case, and as a result, the tact time can be shortened.

本実施形態では、一定の距離をおいて配置された押し当て部の平面と基台の平面との間でセラミック軸及びセラミックシートを加圧しながら、セラミックシートをセラミック軸に巻き付ける。そのため、本実施形態では、ローラーを用いる従来の製造方法に比べて、押し当て部と基台に挟まれたセラミック軸とセラミックシートに作用する力の向き及び大きさが安定し、セラミック軸とセラミックシートに加える圧力の制御が容易となる。その結果、本実施形態では、セラミック軸に対してセラミックシートを均一に圧着することが可能となる。   In the present embodiment, the ceramic sheet is wound around the ceramic shaft while pressing the ceramic shaft and the ceramic sheet between the plane of the pressing portion and the plane of the base arranged at a certain distance. Therefore, in this embodiment, compared with the conventional manufacturing method using a roller, the direction and magnitude of the force acting on the ceramic shaft and the ceramic sheet sandwiched between the pressing portion and the base are stabilized. The pressure applied to the sheet can be easily controlled. As a result, in this embodiment, the ceramic sheet can be uniformly crimped to the ceramic shaft.

本実施形態では、完成後のセラミックヒーターにおいてセラミックシートがセラミック軸から剥離し難くなる。そのため、セラミックヒーターの外観が良くなり、連続通電、断続通電又は抵抗値変化に関する信頼性が向上する。   In this embodiment, the ceramic sheet is difficult to peel from the ceramic shaft in the completed ceramic heater. Therefore, the appearance of the ceramic heater is improved, and the reliability regarding continuous energization, intermittent energization, or resistance value change is improved.

本実施形態では、上述した第一巻き付け工程、第二巻き付け工程及び端部加圧工程を、一対の押し当て部と基台を用いて連続して行うことができる。一方、ローラーを用いる従来の製造方法において、本実施形態のような端部加圧工程を実施する場合、ローラーを用いた巻き付け工程と、ローラーとは別の押し当て部を用いた端部加圧工程を個別に行う必要がある。したがって、本実施形態では、従来に比べて、セラミックヒーターの製造過程を簡略化することが可能となる。   In this embodiment, the first winding step, the second winding step, and the end pressure step described above can be continuously performed using a pair of pressing portions and a base. On the other hand, in the conventional manufacturing method using a roller, when an end pressurization process like this embodiment is carried out, the winding process using a roller and the end pressurization using a pressing part different from the roller The process needs to be performed individually. Therefore, in this embodiment, it becomes possible to simplify the manufacturing process of a ceramic heater compared with the past.

以上、本発明の好適な一実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。   As mentioned above, although one suitable embodiment of the present invention was described in detail, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment.

例えば、製造装置が、押し当て部ではなく基台を移動させる垂直方向移動機構を備えていてもよい。また、製造装置が、基台ではなく押し当て部を移動させる平行方向移動機構を備えていてもよい。この場合も上述した実施形態と同様の効果を達成することができる。   For example, the manufacturing apparatus may include a vertical movement mechanism that moves the base instead of the pressing unit. Moreover, the manufacturing apparatus may include a parallel direction moving mechanism that moves the pressing portion instead of the base. In this case, the same effect as the above-described embodiment can be achieved.

また、基台及び押し当て部の各平面の面積を大きくすることで、基台の移動距離当たりの巻付け本数を増やすことが可能である。つまり、基台上に、複数のセラミックシートを同時に配置し、各セラミックシートの端部にセラミック軸を載置することにより、一回の第一巻き付け工程で複数のセラミック軸にセラミックシートを巻き付けてもよい。この場合も上述した実施形態と同様の効果を達成することができる。   Further, by increasing the area of each plane of the base and the pressing portion, it is possible to increase the number of windings per moving distance of the base. In other words, by placing a plurality of ceramic sheets on the base at the same time and placing the ceramic shaft on the end of each ceramic sheet, the ceramic sheets are wound around the plurality of ceramic shafts in a single first winding step. Also good. In this case, the same effect as the above-described embodiment can be achieved.

第一巻き付け工程、第二巻き付け工程及び端部加圧工程を連続して行う場合は、例えば、図5に示すように、第一基台4と第一基台4より硬度が高い第二基台4aを併設し、第一基台4の一部で第二基台4aを被覆してもよい。第一基台4の一部で第二基台4aを被覆した領域の硬度は、第一基台4だけが配置された領域の硬度より高い。第一基台4だけが配置された領域で第一巻付け工程を行い、第一巻付け工程に連続して、第一基台4の一部で第二基台4aを被覆した領域で第二巻き付け工程及び端部加圧工程を行えばよい。この場合も上述した実施形態と同様の効果を達成することができる。また、押し当て部を、第一部材と、第一部材より硬度が高い第二部材とから構成してもよい。押し当て部のうち第一部材から構成される領域で第一巻付け工程を行い、押し当て部のうち第二部材から構成される領域で第二巻き付け工程及び端部加圧工程を行ってもよい。この場合も上述した実施形態と同様の効果を達成することができる。   When the first winding step, the second winding step, and the end pressure step are performed continuously, for example, as shown in FIG. 5, the second base having higher hardness than the first base 4 and the first base 4. A base 4 a may be provided, and the second base 4 a may be covered with a part of the first base 4. The hardness of the region where the second base 4a is covered with a part of the first base 4 is higher than the hardness of the region where only the first base 4 is disposed. The first winding process is performed in the area where only the first base 4 is arranged, and the second base 4a is covered with a part of the first base 4 continuously after the first winding process. What is necessary is just to perform a 2 winding process and an edge part pressurization process. In this case, the same effect as the above-described embodiment can be achieved. Moreover, you may comprise a pressing part from the 1st member and the 2nd member whose hardness is higher than a 1st member. Even if a 1st winding process is performed in the area | region comprised from a 1st member among pressing parts, and a 2nd winding process and an edge part pressurization process are performed in the area | region comprised from a 2nd member among pressing parts. Good. In this case, the same effect as the above-described embodiment can be achieved.

基台を移動させる方向に沿って、基台の平面と押し当て部の平面との距離が短くなるように、押し当て部を基台に対して傾けてもよい。この場合も上述した実施形態と同様の効果を達成することができる。   The pressing portion may be tilted with respect to the base so that the distance between the plane of the base and the plane of the pressing portion is shortened along the direction in which the base is moved. In this case, the same effect as the above-described embodiment can be achieved.

本発明に係るセラミック電子部品の製造方法及び製造装置は、セラミック軸と当該セラミック軸に巻かれたセラミックシートと電極部とを備える他のセラミック電子部品の製造にも適用できる。例えば、図7〜9に示す圧電変換素子を、本発明の製造方法及び製造装置によって製造してもよい。   The method and apparatus for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention can also be applied to manufacturing other ceramic electronic components including a ceramic shaft, a ceramic sheet wound around the ceramic shaft, and an electrode portion. For example, you may manufacture the piezoelectric transducer shown in FIGS. 7-9 with the manufacturing method and manufacturing apparatus of this invention.

圧電変換素子110の製造では、まず、表面に第1の電極部111aが形成された薄板状の第1の圧電素子111と、表面に第2の電極部112aが形成された第2の圧電素子112とを、作製する。   In the manufacture of the piezoelectric transducer 110, first, a thin plate-like first piezoelectric element 111 having a first electrode portion 111a formed on the surface and a second piezoelectric element having a second electrode portion 112a formed on the surface. 112 is manufactured.

圧電素子111及び112の材料としては、PZT(PbZrO・PbTiO)を主成分とする圧電セラミックス組成物を使用する。圧電セラミックス組成物の粉体を溶剤、分散剤、バインダ、可塑剤等と混合して得たスラリーを、ブレード等を使用して、平面上で均一な厚さ(例えば20〜100μmの厚さ)のシート状に引き伸ばす。シート状のスラリーから溶剤を蒸発させて乾燥すると、グリーンシートと呼ばれる柔軟性のあるシートを得ることができる。なお、PZTには、Sr、Sn、Sb、Mn等の改質用の元素を少量添加してもよい。 As a material of the piezoelectric elements 111 and 112, a piezoelectric ceramic composition containing PZT (PbZrO 3 .PbTiO 3 ) as a main component is used. A slurry obtained by mixing the powder of the piezoelectric ceramic composition with a solvent, a dispersant, a binder, a plasticizer, etc., using a blade or the like, has a uniform thickness (for example, a thickness of 20 to 100 μm) on a plane Stretch out into a sheet. When the solvent is evaporated from the sheet-like slurry and dried, a flexible sheet called a green sheet can be obtained. A small amount of a modifying element such as Sr, Sn, Sb, or Mn may be added to PZT.

次に、このグリーンシートの表面に、スクリーン印刷等の手段で、ペースト状の電極材料(例えばPt系、Ag−Pd系の電極材料)を1〜数μmの厚さに印刷し、電極部111a及び112aをそれぞれ形成する。各電極が印刷されたグリーンシートを所定の大きさに切断することにより、第1の圧電素子111及び第2の圧電素子112が得られる。   Next, a paste-like electrode material (for example, Pt-based or Ag-Pd-based electrode material) is printed on the surface of the green sheet to a thickness of 1 to several μm by means such as screen printing, and the electrode portion 111a. And 112a, respectively. The first piezoelectric element 111 and the second piezoelectric element 112 are obtained by cutting the green sheet on which each electrode is printed into a predetermined size.

次に、第1の圧電素子111の上に第2の圧電素子112を積層して貼り合わせることにより、積層体を形成する。この積層体は、上記のセラミックヒーターに係る実施形態におけるセラミックシート12に対応するものである。   Next, the second piezoelectric element 112 is stacked on the first piezoelectric element 111 and bonded to form a stacked body. This laminated body corresponds to the ceramic sheet 12 in the embodiment according to the ceramic heater.

なお、積層体の形成工程では、第1の圧電素子111の電極部111aが形成された表面と、第2の圧電素子112の電極部112aが形成されていない面とを対向させる。また、積層体の形成工程では、下側に位置する第1の圧電素子111の電極部111aの端部を露出させるため、上側に位置する第2の圧電素子112の端部に切り欠き部112bを形成する。これにより、下側の圧電素子111の電極部111aにリード線を接続することができる。   In the laminated body forming step, the surface of the first piezoelectric element 111 on which the electrode portion 111a is formed is opposed to the surface of the second piezoelectric element 112 on which the electrode portion 112a is not formed. Further, in the step of forming the laminated body, in order to expose the end portion of the electrode portion 111a of the first piezoelectric element 111 located on the lower side, the notch portion 112b is formed on the end portion of the second piezoelectric element 112 located on the upper side. Form. Thereby, a lead wire can be connected to the electrode part 111a of the piezoelectric element 111 on the lower side.

次に、積層体を構成する第1の圧電素子111を中軸113(セラミック軸)に対向させた状態で、積層体を中軸113に巻き付けることにより、円筒状のセラミック基体を形成する。積層体の中軸113への巻き付けには、セラミックヒーターに係る上記実施形態と同様の製造装置及び製造方法を適用すればよい。なお、第一巻き付け工程において中軸113と積層体との間に隙間が生じる可能性がある場合、中軸113と積層体とを接着する成分を用いて、隙間を埋めることが好ましい。これにより、巻きズレを防止できる。中軸113と積層体とを接着する成分としては、例えば、中軸113及び積層体が含むものと同様の圧電セラミックス組成物の粉末、バインダ並びに溶剤等から構成されるペーストを用いればよい。   Next, a cylindrical ceramic substrate is formed by winding the laminated body around the middle shaft 113 in a state where the first piezoelectric element 111 constituting the laminated body is opposed to the middle shaft 113 (ceramic shaft). For the winding around the central shaft 113 of the laminate, a manufacturing apparatus and a manufacturing method similar to those of the above-described embodiment relating to the ceramic heater may be applied. When there is a possibility that a gap is generated between the middle shaft 113 and the laminated body in the first winding step, it is preferable to fill the gap using a component that bonds the middle shaft 113 and the laminated body. Thereby, winding shift can be prevented. As a component for adhering the intermediate shaft 113 and the laminate, for example, a paste composed of a powder of a piezoelectric ceramic composition similar to that included in the intermediate shaft 113 and the laminate, a binder, a solvent, and the like may be used.

中軸113は、例えば、各圧電素子に用いたものと同様の圧電セラミックス組成物を含むスラリーを押し出し成型することにより、作製すればよい。   The middle shaft 113 may be produced by, for example, extruding a slurry containing a piezoelectric ceramic composition similar to that used for each piezoelectric element.

得られたセラミック基体を所定の温度条件で焼成した後、電極部111a及び112aにそれぞれリード線を接続する。そして、リード間に所定の直流高電圧を印加して各圧電素子を分極させると、圧電変換素子110が完成する。圧電変換素子110を所望の長さ(例えば5mm程度)に切断すると、アクチエータの駆動素子として使用できる。   After the obtained ceramic substrate is fired at a predetermined temperature condition, lead wires are connected to the electrode portions 111a and 112a, respectively. Then, when each piezoelectric element is polarized by applying a predetermined high DC voltage between the leads, the piezoelectric conversion element 110 is completed. When the piezoelectric conversion element 110 is cut into a desired length (for example, about 5 mm), it can be used as an actuator drive element.

圧電セラミックス組成物の代わりに、BaTiO等の誘電体セラミック組成物を用いてグリーンシートを形成すること以外は圧電変換素子110とほぼ同様の方法で、積層筒状コンデンサを製造することも可能である。また、本発明の製造装置及び製造方法は、点火プラグの製造に適用することもできる。 It is also possible to manufacture a multilayered cylindrical capacitor in substantially the same manner as the piezoelectric transducer 110 except that a green sheet is formed using a dielectric ceramic composition such as BaTiO 3 instead of the piezoelectric ceramic composition. is there. Moreover, the manufacturing apparatus and manufacturing method of this invention can also be applied to manufacture of a spark plug.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

(実施例1)
焼成工程後に91.2重量%のAl、5.9重量%のSiO、1.7重量%のCaO、0.1重量%のMgO及び1.1重量%のZrOを含有するセラミックスが得られるように、基材及び焼結助剤を秤量して、セラミックスの原料粉末を調製した。セラミックスの原料粉末、成型用バインダ及び有機溶剤を湿式で混合し、セラミック組成物のスラリーを得た。このスラリーをドクターブレード法で成型して、厚み0.3mmのセラミックシートaと厚み0.1mmのセラミックシートbを得た。このセラミックシートbの表面に、W−Reからなる発熱部とW−Moからなる引き出し部をスクリーン印刷した。セラミックシートaにおいてセラミックシートbの引き出し部の末端が位置する箇所に対向する部分に、スルーホールを形成し、導体ペーストをスルーホールに充填した。セラミックシートaとセラミックシートbを重ね合わせ、加熱及び加圧して圧着することにより、セラミックシートcを形成した。スルーホールと重なるようにセラミックシートcのセラミックシートa側の表面に電極パッドをスクリーン印刷して、引き出し部と電極パッドを導通させた。そして、セラミックスシートcを所定の大きさに切断した。切断したセラミックシートcの表面のうち、電極パッドが印刷されていない側に、有機溶剤を主成分とする接着剤を塗布した。
Example 1
Baking step after 91.2 wt% of Al 2 O 3, 5.9 wt% of SiO 2, 1.7 wt% of CaO, contained 0.1% by weight of MgO and 1.1 wt% of ZrO 2 In order to obtain ceramics, the base material and the sintering aid were weighed to prepare ceramic raw material powder. A ceramic raw material powder, a molding binder and an organic solvent were wet mixed to obtain a ceramic composition slurry. This slurry was molded by a doctor blade method to obtain a ceramic sheet a having a thickness of 0.3 mm and a ceramic sheet b having a thickness of 0.1 mm. On the surface of the ceramic sheet b, a heat generating part made of W-Re and a lead part made of W-Mo were screen-printed. A through hole was formed in a portion of the ceramic sheet a facing the position where the end of the lead portion of the ceramic sheet b was located, and a conductive paste was filled in the through hole. The ceramic sheet a and the ceramic sheet b were superposed, heated and pressurized, and pressed to form a ceramic sheet c. An electrode pad was screen-printed on the surface of the ceramic sheet c on the ceramic sheet a side so as to overlap the through hole, and the lead portion and the electrode pad were made conductive. Then, the ceramic sheet c was cut into a predetermined size. An adhesive mainly composed of an organic solvent was applied to the surface of the cut ceramic sheet c on the side where the electrode pads were not printed.

上記セラミックス組成物のスラリーを押し出し成型することにより、セラミック軸を作製した。   A ceramic shaft was prepared by extruding the ceramic composition slurry.

図1に示す製造装置を用いて、以下の第一巻き付け工程、第二巻き付け工程及び端部加圧工程を行った。   The following first winding process, second winding process, and end pressure process were performed using the manufacturing apparatus shown in FIG.

<第一巻き付け工程>
第一巻き付け工程では、まず、接着剤が塗布されたセラミックシートcの片面を、板状の押し当て部に対向させ、セラミックシートcを基台の平面に載置した。セラミック軸をセラミックシートcの端部に載置した。次に、板状の押し当て部を基台の平面に向かって垂直移動させ、押し当て部の平面と基台の平面との間にセラミックシートc及びセラミック軸を挟み込み、セラミックシートcとセラミック軸を密着させた。第一巻き付け工程では、シリコンスポンジ製の基台と、シリコンゴム製の押し当て部を用い、第一巻き付け工程では、基台をあらかじめ80℃に加熱した。
<First winding step>
In the first winding step, first, one side of the ceramic sheet c to which the adhesive was applied was opposed to the plate-like pressing portion, and the ceramic sheet c was placed on the plane of the base. The ceramic shaft was placed on the end of the ceramic sheet c. Next, the plate-shaped pressing portion is vertically moved toward the plane of the base, the ceramic sheet c and the ceramic shaft are sandwiched between the plane of the pressing portion and the plane of the base, and the ceramic sheet c and the ceramic shaft Was brought into close contact. In the first winding step, a base made of silicon sponge and a pressing portion made of silicon rubber were used, and in the first winding step, the base was heated to 80 ° C. in advance.

次に、基台を、基台の平面に対して平行な方向に移動させ、セラミック軸を回転させることにより、セラミック軸にセラミックシートcを巻き付け、セラミック基体を形成した。なお、基台の移動速度は、300mm/secに調整した。   Next, by moving the base in a direction parallel to the plane of the base and rotating the ceramic shaft, the ceramic sheet c was wound around the ceramic shaft to form a ceramic base. The moving speed of the base was adjusted to 300 mm / sec.

<第二巻き付け工程>
第一巻き付け工程後の第二巻き付け工程では、シリコンスポンジ製の基台を、クロロプレンゴム製の基台に取替え、クロロプレンゴム製の基台をあらかじめ80℃に加熱した。第二巻き付け工程では、シリコンゴム製の押し当て部を用いた。
<Second winding process>
In the second winding step after the first winding step, the base made of silicon sponge was replaced with a base made of chloroprene rubber, and the base made of chloroprene rubber was heated to 80 ° C. in advance. In the second winding step, a pressing portion made of silicon rubber was used.

第二巻き付け工程では、セラミック基体をクロロプレンゴム製の基台の平面に設置した。このとき、セラミック基体においてセラミック軸の表面上に位置するセラミックシートcの両端部を基台の平面に対向させた。そして、板状の押し当て部の平面と基台の平面との間にセラミック基体を挟み込み、基台をその平面に対して平行な方向に移動させ、セラミック基体を回転させ、増し巻きを行った。   In the second winding step, the ceramic base was placed on the plane of the base made of chloroprene rubber. At this time, both ends of the ceramic sheet c located on the surface of the ceramic shaft in the ceramic base were opposed to the plane of the base. Then, the ceramic base is sandwiched between the plane of the plate-like pressing portion and the plane of the base, the base is moved in a direction parallel to the plane, the ceramic base is rotated, and additional winding is performed. .

<端部加圧工程>
第二巻き付け工程後の端部加圧工程では、クロロプレンゴム製の基台を用い、クロロプレンゴム製の基台をあらかじめ80℃に加熱した。端部加圧工程では、シリコンゴム製の押し当て部を用いた。
<End pressurization process>
In the end pressure step after the second winding step, a chloroprene rubber base was heated to 80 ° C. in advance using a chloroprene rubber base. In the end pressure process, a pressing part made of silicon rubber was used.

端部加圧工程では、セラミック基体を基台の平面に設置した。このとき、セラミック基体においてセラミック軸の表面上に位置するセラミックシートcの両端部を基台の平面に対向させた。   In the end pressurizing step, the ceramic base was placed on the plane of the base. At this time, both ends of the ceramic sheet c located on the surface of the ceramic shaft in the ceramic base were opposed to the plane of the base.

次に、押し当て部を基台の平面に向かって垂直移動させ、押し当て部の平面と基台の平面との間にセラミック基体を挟み込んだ。これにより、セラミックシートcの両端部を40秒間加圧した。   Next, the pressing portion was vertically moved toward the plane of the base, and the ceramic base was sandwiched between the plane of the pressing portion and the plane of the base. Thereby, both ends of the ceramic sheet c were pressurized for 40 seconds.

端部加圧工程後、セラミック基体を、1500〜1600℃の還元雰囲気炉で焼成した。焼成後、電極パッドの表面に下地Niめっきを形成した。Au−Cuからなるロウを用いて、下地Niめっきに金属リードをロウ付けして、実施例1のセラミックヒーターを得た。ロウ付けには真空炉を使用した。実施例1のセラミックヒーターでは、セラミック軸からのセラミックシートcの剥離が確認されなかった。   After the edge pressing step, the ceramic substrate was fired in a reducing atmosphere furnace at 1500 to 1600 ° C. After firing, an underlying Ni plating was formed on the surface of the electrode pad. Using a solder made of Au—Cu, a metal lead was brazed to the underlying Ni plating to obtain a ceramic heater of Example 1. A vacuum furnace was used for brazing. In the ceramic heater of Example 1, peeling of the ceramic sheet c from the ceramic shaft was not confirmed.

[外観検査]
第一巻き付け工程後、第二巻き付け工程を行う前の実施例1のセラミック基体の外観検査を行い、外観不良の有無を調べた。なお、外観不良とは、セラミック軸からのセラミックシートcの剥離を意味する。外観検査の結果、実施例1のセラミック基体には外観不良がなかった。
[Visual inspection]
After the first winding process, the appearance of the ceramic substrate of Example 1 before performing the second winding process was examined to check for appearance defects. The appearance defect means peeling of the ceramic sheet c from the ceramic shaft. As a result of the appearance inspection, the ceramic substrate of Example 1 had no appearance defect.

(実施例2)
第一巻き付け工程における基台の移動速度を500mm/secに調整したこと以外は、実施例1と同様の方法で、第一巻き付け工程だけを行い、実施例2のセラミック基体を形成した。実施例1と同様の外観検査の結果、実施例2のセラミック基体には外観不良がなかった。
(Example 2)
A ceramic substrate of Example 2 was formed by performing only the first winding process in the same manner as in Example 1 except that the moving speed of the base in the first winding process was adjusted to 500 mm / sec. As a result of appearance inspection similar to that of Example 1, the ceramic substrate of Example 2 had no appearance defect.

(比較例1)
比較例1では、第一巻き付け工程における基台の移動速度を500mm/secに調整した。また、比較例1では、板状の押し当て部の代わりに、シリコンゴムで形成された表面を有するローラーを用いた。以上の事項以外は実施例1と同様の方法で、第一巻き付け工程だけを行い、比較例1のセラミック基体を形成した。実施例1と同様の外観検査の結果、比較例1のセラミック基体には外観不良が発見された。また、この外観不良は、ローラーの空回りに起因することが判明した。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, the moving speed of the base in the first winding step was adjusted to 500 mm / sec. In Comparative Example 1, a roller having a surface formed of silicon rubber was used instead of the plate-like pressing portion. Except for the above items, only the first winding step was performed in the same manner as in Example 1, and the ceramic substrate of Comparative Example 1 was formed. As a result of an appearance inspection similar to that of Example 1, an appearance defect was found in the ceramic substrate of Comparative Example 1. Moreover, it turned out that this external appearance defect originates in the idle rotation of a roller.

実施例と比較例との比較から、実施例では、セラミックシートcの剥離を起こすことなく、基台移動速度を速めることができ、結果としてタクトタイムを短くできることが確認された。   From the comparison between the example and the comparative example, in the example, it was confirmed that the base moving speed can be increased without causing the ceramic sheet c to peel off, and as a result, the tact time can be shortened.

[硬度及び摩擦係数の測定]
実施例1で用いたシリコンスポンジ製の基台、クロロプレンゴム製の基台、シリコンゴム製の押し当て部それぞれの硬度及び静摩擦係数を測定した。硬度の測定は、デュロメータ:JIS−K−7215法を用いて行った。静摩擦係数の測定は、JIS−K−7125法を用いて行った。
[Measurement of hardness and friction coefficient]
The hardness and static friction coefficient of the silicon sponge base, the chloroprene rubber base, and the silicon rubber pressing part used in Example 1 were measured. The hardness was measured using a durometer: JIS-K-7215 method. The static friction coefficient was measured using JIS-K-7125 method.

シリコンスポンジ製の基台のデュロメータ硬度は、12であった。シリコンスポンジ製の基台の静摩擦係数は、1.6であった。   The durometer hardness of the base made of silicon sponge was 12. The coefficient of static friction of the base made of silicon sponge was 1.6.

クロロプレンゴム製の基台のデュロメータ硬度は、70であった。クロロプレンゴム製の基台の静摩擦係数は、0.4であった。   The durometer hardness of the chloroprene rubber base was 70. The static friction coefficient of the chloroprene rubber base was 0.4.

シリコンゴム製の押し当て部のデュロメータ硬度は、50であった。シリコンゴム製の押し当て部の静摩擦係数は、10であった。   The durometer hardness of the pressing portion made of silicon rubber was 50. The static friction coefficient of the pressing part made of silicon rubber was 10.

(実施例3)
実施例3では、下記の方法で、アクチエータの駆動素子を作製した。
(Example 3)
In Example 3, an actuator driving element was manufactured by the following method.

まず、PZT(PbZrO・PbTiO)を主成分とする圧電セラミックス組成物のセラミックス粉体を溶剤、分散剤、バインダ、可塑剤等と混合してスラリーを調製した。ブレードを使用して、スラリーを平面上で一定の厚さのシート状に引き伸ばした。シート状のスラリーから溶剤を蒸発させて乾燥して、グリーンシートを得た。 First, a ceramic powder of a piezoelectric ceramic composition containing PZT (PbZrO 3 .PbTiO 3 ) as a main component was mixed with a solvent, a dispersant, a binder, a plasticizer, and the like to prepare a slurry. Using a blade, the slurry was stretched into a sheet of constant thickness on a flat surface. The solvent was evaporated from the sheet-like slurry and dried to obtain a green sheet.

グリーンシートの表面に、スクリーン印刷で、ペースト状の電極材料を所定の厚さに印刷し、第1の電極部及び第2の電極部を形成した。各電極が印刷されたグリーンシートを所定の大きさに切断するにより、表面に第1の電極部が形成された薄板状の第1の圧電素子と、表面に第2の電極部が形成された第2の圧電素子とを、作製した。   On the surface of the green sheet, a paste-like electrode material was printed to a predetermined thickness by screen printing to form a first electrode portion and a second electrode portion. By cutting the green sheet on which each electrode is printed into a predetermined size, a thin plate-like first piezoelectric element having a first electrode portion formed on the surface and a second electrode portion formed on the surface are formed. A second piezoelectric element was produced.

第1の圧電素子の上に第2の圧電素子を積層して貼り合わせることにより、積層体(セラミックシート)を形成した。なお、積層体の形成工程では、第1の圧電素子の電極部が形成された表面と、第2の圧電素子の電極部が形成されていない面とを対向させた。また、積層体の形成工程では、下側に位置する第1の圧電素子の電極部の端部を露出させるため、上側に位置する第2の圧電素子の端部に切り欠き部を形成した。   A laminated body (ceramic sheet) was formed by laminating and bonding the second piezoelectric element on the first piezoelectric element. In the step of forming the laminated body, the surface on which the electrode portion of the first piezoelectric element was formed was opposed to the surface on which the electrode portion of the second piezoelectric element was not formed. Moreover, in the formation process of a laminated body, in order to expose the edge part of the electrode part of the 1st piezoelectric element located below, the notch part was formed in the edge part of the 2nd piezoelectric element located above.

各圧電素子に用いたものと同様の圧電セラミックス組成物を含むスラリーを押し出し成型することにより、円筒状の中軸(セラミック軸)を作製した。   A cylindrical middle shaft (ceramic shaft) was manufactured by extruding a slurry containing a piezoelectric ceramic composition similar to that used for each piezoelectric element.

積層体(セラミックシート)を構成する第1の圧電素子を中軸(セラミック軸)に対向させた状態で、実施例1と同様に、第一巻き付け工程及び第二巻き付け工程を実施した。これらの工程により、積層体を中軸に巻き付けで、円筒状のセラミック基体を形成した。   The first winding step and the second winding step were performed in the same manner as in Example 1 with the first piezoelectric element constituting the multilayer body (ceramic sheet) facing the middle shaft (ceramic shaft). Through these steps, the laminated body was wound around the central shaft to form a cylindrical ceramic substrate.

得られたセラミック基体を所定の温度条件で焼成した後、第1及び第2の電極部にそれぞれリード線を接続した。そして、リード線間に所定の直流高電圧を印加して各圧電素子を分極させ、圧電変換素子を得た。圧電変換素子を所望の長さに切断し、実施例3のアクチエータの駆動素子を得た。   After the obtained ceramic substrate was fired under a predetermined temperature condition, lead wires were connected to the first and second electrode portions, respectively. Then, a predetermined high DC voltage was applied between the lead wires to polarize each piezoelectric element to obtain a piezoelectric conversion element. The piezoelectric transducer was cut to a desired length to obtain the actuator drive element of Example 3.

実施例1と同様の外観検査の結果、実施例3のセラミック基体には外観不良がなかった。   As a result of an appearance inspection similar to that of Example 1, the ceramic substrate of Example 3 had no appearance defect.

2・・・セラミックヒーターの評価装置、4,4a・・・基台、6・・・支持台、8・・・押し当て部、10・・・支持体、11・・・セラミック基体、12・・・セラミックシート、13・・・セラミック軸、14・・・発熱部、15・・・引き出し部、16・・・電極部、17・・・金属リード、18・・・垂直方向移動機構、20・・・平行方向移動機構、22・・・接着剤、110・・・圧電変換素子、111・・・第1の圧電素子、112・・・第2の圧電素子、111a・・・第1の電極部、112a・・・第2の電極部、113・・・中軸(セラミック軸)。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... Evaluation apparatus of a ceramic heater, 4, 4a ... Base, 6 ... Support stand, 8 ... Pushing part, 10 ... Support, 11 ... Ceramic base | substrate, 12. ..Ceramic sheet, 13... Ceramic shaft, 14... Heating portion, 15 .. Drawing portion, 16 .. Electrode portion, 17 .. Metal lead, 18.・ ・ ・ Parallel movement mechanism 22 ... Adhesive 110 ... Piezoelectric conversion element 111 ... First piezoelectric element 112 ... Second piezoelectric element 111a ... First Electrode part, 112a ... 2nd electrode part, 113 ... Middle axis (ceramic axis).

Claims (7)

基台の平面にセラミックシートを載置し、前記セラミックシートの端部にセラミック軸を載置し、押し当て部の平面と前記基台の平面との間に前記セラミックシート及び前記セラミック軸を挟み込み、前記基台又は前記押し当て部の少なくともいずれかを、前記基台の平面に対して平行に移動させることにより、回転する前記セラミック軸に前記セラミックシートを巻き付けてセラミック基体を形成する第一巻き付け工程を備える、
セラミック電子部品の製造方法。
A ceramic sheet is placed on the plane of the base, a ceramic shaft is placed on the end of the ceramic sheet, and the ceramic sheet and the ceramic shaft are sandwiched between the plane of the pressing portion and the plane of the base. First winding for forming a ceramic base by winding the ceramic sheet around the rotating ceramic shaft by moving at least one of the base or the pressing portion in parallel with the plane of the base. Comprising the steps,
Manufacturing method of ceramic electronic components.
前記押し当て部の平面と前記基台の平面との間に前記セラミック基体を挟み込み、前記基台又は前記押し当て部の少なくともいずれかを、前記基台の平面に対して平行に移動させることにより、前記セラミック基体を回転させる第二巻き付け工程を備える、
請求項1に記載のセラミック電子部品の製造方法。
By sandwiching the ceramic base between the plane of the pressing portion and the plane of the base, and moving at least one of the base or the pressing portion in parallel to the plane of the base A second winding step of rotating the ceramic substrate,
The method for manufacturing a ceramic electronic component according to claim 1.
前記第二巻き付け工程における前記基台の硬度が、前記第一巻き付け工程における前記基台の硬度より高い、
請求項2に記載のセラミック電子部品の製造方法。
The hardness of the base in the second winding step is higher than the hardness of the base in the first winding step,
A method for manufacturing a ceramic electronic component according to claim 2.
前記セラミック基体において前記セラミック軸の表面上に位置する前記セラミックシートの端部を押し当て部の平面又は前記基台の平面に対向させた状態で、押し当て部の平面と前記基台の平面との間に前記セラミック基体を挟み込む端部加圧工程を備える、
請求項1〜3のいずれか一項に記載のセラミック電子部品の製造方法。
In the state where the end of the ceramic sheet located on the surface of the ceramic shaft in the ceramic base is opposed to the plane of the pressing section or the plane of the base, the plane of the pressing section and the plane of the base An end pressurizing step of sandwiching the ceramic substrate between
The manufacturing method of the ceramic electronic component as described in any one of Claims 1-3.
前記セラミック電子部品がセラミックヒーターである、
請求項1〜4のいずれか一項に記載のセラミック電子部品の製造方法。
The ceramic electronic component is a ceramic heater;
The manufacturing method of the ceramic electronic component as described in any one of Claims 1-4.
平面を有する押し当て部と、
前記押し当て部の平面と対向する平面を有する基台と、
前記押し当て部又は前記基台の少なくともいずれかを、前記基台の平面に垂直な方向に移動させる垂直方向移動機構と、
前記押し当て部又は前記基台の少なくともいずれかを、前記基台の平面に平行な方向に移動させる平行方向移動機構と、
を備える、
セラミック電子部品の製造装置。
A pressing portion having a flat surface;
A base having a plane opposite to the plane of the pressing portion;
A vertical movement mechanism for moving at least one of the pressing portion and the base in a direction perpendicular to the plane of the base;
A parallel direction moving mechanism for moving at least one of the pressing portion or the base in a direction parallel to the plane of the base;
Comprising
Manufacturing equipment for ceramic electronic components.
前記セラミック電子部品がセラミックヒーターである、
請求項6に記載のセラミック電子部品の製造装置。
The ceramic electronic component is a ceramic heater;
The apparatus for manufacturing a ceramic electronic component according to claim 6.
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