JP2011203560A - Antireflective laminate and method for producing the same, and curable composition - Google Patents

Antireflective laminate and method for producing the same, and curable composition Download PDF

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Takahiro Kawai
高弘 川合
Eiichiro Urushibara
英一郎 漆原
Taro Kanamori
太郎 金森
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition from which a cured film excellent in low refractive index property and scratch resistance is formed in a one-time application process, or to provide a method for producing an antireflective laminate having the cured film.SOLUTION: The method for producing an antireflective laminate includes steps of: (a) applying a curable composition containing at least (A) a polymerizable compound, (B) particles 22 having a refractive index of 1.40 or less and (D) a solvent on a cellulose resin substrate 10; (b) forming a cured film 20 on the cellulose resin substrate 10 by curing the curable composition, wherein the particles 22 are unevenly distributed in the cured film 20, the particles distributed close to the face opposite to the face in contact with the cellulose resin substrate 10. The solvent (D) contains a solvent (D1) that dissolves the cellulose resin of the substrate and has a boiling point of 80°C or higher and 250°C or lower under the pressure of 0.1 MPa, by 3 mass% or more and 100 mass% or less.

Description

本発明は、反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに該反射防止用積層体を形成する際に用いられる硬化性組成物に関する。   The present invention relates to an antireflection laminate, a method for producing the same, and a curable composition used in forming the antireflection laminate.

近年、テレビ、パーソナルコンピュータ等の表示装置として、液晶表示装置が使用されている。かかる液晶表示装置において、外光の映りを防止して画質を向上させるために、低屈折率層を含有する反射防止膜を使用することが提案されている。   In recent years, liquid crystal display devices have been used as display devices for televisions, personal computers, and the like. In such a liquid crystal display device, it has been proposed to use an antireflection film containing a low refractive index layer in order to prevent reflection of external light and improve image quality.

従来の液晶表示装置に使用される反射防止膜は、低屈折率層とハードコート層を多層塗工することで低屈折率性および耐擦傷性を備えていた。このような多層構造を有する反射防止膜は、低屈折率層において反射率を低減させることができるが、多層構造とするために生産性やコストに劣るという問題があった。さらに、低屈折率層とハードコート層とを積層させることにより製造された反射防止膜は、低屈折率層とハードコート層との界面で剥離が起こりやすいという問題を抱えていた。   An antireflection film used in a conventional liquid crystal display device has low refractive index properties and scratch resistance by applying a multilayer coating of a low refractive index layer and a hard coat layer. The antireflection film having such a multilayer structure can reduce the reflectance in the low refractive index layer, but has a problem that the productivity and cost are inferior because of the multilayer structure. Furthermore, the antireflection film produced by laminating the low refractive index layer and the hard coat layer has a problem that peeling easily occurs at the interface between the low refractive index layer and the hard coat layer.

このような問題を解決するために、フッ素シランでシリカ粒子を修飾し、表面エネルギーによりその液体中でシリカ粒子を偏在化させてから硬化膜を形成するという反射防止膜の製造方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In order to solve such problems, a method for producing an antireflection film is proposed in which silica particles are modified with fluorine silane, and the silica particles are unevenly distributed in the liquid by surface energy, and then a cured film is formed. (For example, refer to Patent Document 1).

特許3861562号公報Japanese Patent No. 3861562

しかしながら、特許文献1に記載の方法では、シリカ粒子の偏在性が不十分で低屈折率性が得られないばかりでなく、硬化膜表面の耐擦傷性に優れないという問題があった。   However, the method described in Patent Document 1 has a problem that not only the uneven distribution of silica particles is insufficient and low refractive index is not obtained, but also the scratch resistance on the surface of the cured film is not excellent.

そこで、本発明にかかる幾つかの態様は、上記課題を解決することで、低屈折率性および耐擦傷性に優れた硬化膜を一度の塗布工程で形成することができる硬化性組成物、あるいは該硬化膜を有する反射防止用積層体の製造方法を提供するものである。   Therefore, some embodiments according to the present invention provide a curable composition that can form a cured film excellent in low refractive index and scratch resistance by a single coating step by solving the above-described problems, or A method for producing an antireflection laminate having the cured film is provided.

本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することができる。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following aspects or application examples.

[適用例1]
本発明に係る反射防止用積層体の製造方法の一態様は、
(a)(A)重合性化合物、(B)屈折率が1.40以下である粒子、および(D)溶剤を少なくとも含有する硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布する工程と、
(b)前記硬化性組成物を硬化させて前記セルロース樹脂基材上に硬化膜を形成する工程と、
を含む、前記硬化膜中において前記セルロース樹脂基材と接する面とは反対の面側に前記粒子が偏在している反射防止用積層体の製造方法であって、
前記(D)溶剤100質量%中、(D1)基材のセルロース樹脂を溶解し、かつ、0.1MPaにおける沸点が80℃以上250℃以下である溶剤を、3質量%以上100質量%以下含有することを特徴とする。
[Application Example 1]
One aspect of the method for producing an antireflection laminate according to the present invention is as follows.
(A) applying a curable composition containing (A) a polymerizable compound, (B) particles having a refractive index of 1.40 or less, and (D) a solvent on a cellulose resin substrate;
(B) curing the curable composition to form a cured film on the cellulose resin substrate;
In the cured film, a method for producing an antireflection laminate in which the particles are unevenly distributed on the surface opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate,
(D) In 100% by mass of the solvent, (D1) 3% by mass or more and 100% by mass or less of a solvent that dissolves the cellulose resin of the base material and has a boiling point at 0.1 MPa of 80 ° C. or higher and 250 ° C. or lower It is characterized by doing.

[適用例2]
適用例1において、
前記工程(a)と(b)との間に、
前記硬化性組成物を加熱する工程、をさらに含むことができる。
[Application Example 2]
In application example 1,
Between the steps (a) and (b),
The method may further include a step of heating the curable composition.

[適用例3]
適用例2において、
加熱温度は、前記(D1)成分の沸点よりも低くすることができる。
[Application Example 3]
In application example 2,
The heating temperature can be lower than the boiling point of the component (D1).

[適用例4]
適用例1ないし適用例3のいずれか一例において、
前記(B)粒子は、中空シリカ粒子であることができる。
[Application Example 4]
In any one of Application Examples 1 to 3,
The (B) particles may be hollow silica particles.

[適用例5]
適用例1ないし適用例4のいずれか一例において、
前記セルロース樹脂基材は、トリアセチルセルロース基材であることができる。
[Application Example 5]
In any one of Application Examples 1 to 4,
The cellulose resin base material may be a triacetyl cellulose base material.

[適用例6]
適用例1ないし適用例5のいずれか一例において、
前記(D1)成分は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、N−メチル−2−ピロリドンおよびγ−ブチロラクトンから選択される少なくとも1種であることができる。
[Application Example 6]
In any one of Application Examples 1 to 5,
The component (D1) can be at least one selected from propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, N-methyl-2-pyrrolidone and γ-butyrolactone.

[適用例7]
本発明に係る硬化性組成物の一態様は、
(A)重合性化合物と、(B)屈折率が1.40以下である粒子と、(D)溶剤と、を少なくとも含有し、
前記(D)溶剤100質量%中、(D1)基材のセルロース樹脂を溶解し、かつ、0.1MPaにおける沸点が80℃以上250℃以下である溶剤を、3質量%以上100質量%以下含有する。
[Application Example 7]
One aspect of the curable composition according to the present invention is:
(A) a polymerizable compound, (B) particles having a refractive index of 1.40 or less, and (D) a solvent,
(D) In 100% by mass of the solvent, (D1) 3% by mass or more and 100% by mass or less of a solvent that dissolves the cellulose resin of the base material and has a boiling point at 0.1 MPa of 80 ° C. or higher and 250 ° C. or lower To do.

[適用例8]
適用例7において、
前記(B)粒子は、中空シリカ粒子であることができる。
[Application Example 8]
In Application Example 7,
The (B) particles may be hollow silica particles.

本発明に係る反射防止用積層体の製造方法によれば、セルロース樹脂基材上に前記硬化性組成物を一度塗布して硬化させることで、セルロース樹脂基材と接触する面とは反対の面側に屈折率が1.40以下である粒子が高密度に存在する層を形成し、セルロース樹脂基材と接触する面側に屈折率が1.40以下である粒子が実質的に存在しない層を形成することができる。これにより、耐擦傷性および低屈折率性の双方を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。   According to the method for producing an antireflection laminate according to the present invention, the surface opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate is obtained by once applying and curing the curable composition on the cellulose resin substrate. A layer in which particles having a refractive index of 1.40 or less are present at a high density on the side, and a layer in which particles having a refractive index of 1.40 or less are not substantially present on the side in contact with the cellulose resin substrate Can be formed. As a result, an antireflection laminate having both scratch resistance and low refractive index can be produced.

本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法により製造された反射防止用積層体を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the laminated body for reflection manufactured with the manufacturing method of the laminated body for reflection which concerns on this Embodiment.

以下、本発明に係る好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において実施される各種の変型例も含む。   Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, Various modifications implemented in the range which does not change the summary of this invention are also included.

1.硬化性組成物
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)重合性化合物と、(B)屈折率が1.40以下である粒子と、(D)溶媒と、を少なくとも含有する。以下、本実施の形態に係る硬化性組成物の各成分について詳細に説明する。なお、以下の記載において(A)ないし(D)の各材料を、それぞれ(A)成分ないし(D)成分と省略して記載することもある。
1. Curable composition The curable composition which concerns on this Embodiment contains (A) polymeric compound, (B) particle | grains whose refractive index is 1.40 or less, and (D) solvent at least. Hereinafter, each component of the curable composition which concerns on this Embodiment is demonstrated in detail. In the following description, the materials (A) to (D) may be abbreviated as components (A) to (D), respectively.

1.1.(A)重合性化合物
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)重合性化合物を含有する。(A)成分は、硬化膜を形成する主成分である。
1.1. (A) Polymerizable compound The curable composition which concerns on this Embodiment contains (A) polymeric compound. (A) A component is a main component which forms a cured film.

(A)成分としては、分子内に2個以上の重合性基を含むものであれば特に制限はないが、例えば(メタ)アクリルエステル化合物、ビニル化合物、エポキシ化合物、アルコキシメチルアミン化合物が挙げられ、(メタ)アクリルエステル化合物が好ましい。   The component (A) is not particularly limited as long as it contains two or more polymerizable groups in the molecule, and examples thereof include (meth) acrylic ester compounds, vinyl compounds, epoxy compounds, and alkoxymethylamine compounds. (Meth) acrylic ester compounds are preferred.

(メタ)アクリルエステル化合物としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、エチレングルコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングルコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングルコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングルコールジ(メタ)アクリレート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレート類、およびこれらの水酸基へのエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加物のポリ(メタ)アクリレート類、分子内に2以上の(メタ)アクリロイル基を有するオリゴエステル(メタ)アクリレート類、オリゴエーテル(メタ)アクリレート類、およびオリゴエポキシ(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。これらの中では、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等が好ましい。   (Meth) acrylic ester compounds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di ( (Meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate Hydroxyl group-containing compounds such as diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate ) Acrylates and poly (meth) acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts to these hydroxyl groups, oligoesters (meth) acrylates having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule, oligoethers (meth) Examples include acrylates and oligoepoxy (meth) acrylates. Among these, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate and the like are preferable. .

ビニル化合物類としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等を挙げることができる。   Examples of vinyl compounds include divinylbenzene, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, and triethylene glycol divinyl ether.

エポキシ化合物としては、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等が挙げることができる。   As epoxy compounds, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, etc. Can be mentioned.

アルコキシメチルアミン化合物としては、ヘキサメトキシメチル化メラミン、ヘキサブトキシメチル化メラミン、テトラメトキシメチル化グリコールウリル、テトラブトキシメチル化グリコールウリル等が挙げられる。   Examples of the alkoxymethylamine compound include hexamethoxymethylated melamine, hexabutoxymethylated melamine, tetramethoxymethylated glycoluril, tetrabutoxymethylated glycoluril and the like.

このような(A)成分の市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のアロニックスM−400、M−404、M−408、M−450、M−305、M−309、M−310、M−315、M−320、M−350、M−360、M−208、M−210、M−215、M−220、M−225、M−233、M−240、M−245、M−260、M−270、M−1100、M−1200、M−1210、M−1310、M−1600、M−221、M−203、TO−924、TO−1270、TO−1231、TO−595、TO−756、TO−1343、TO−902、TO−904、TO−905、TO−1330、日本化薬株式会社製のKAYARAD D−310、D−330、DPHA、DPCA−20、DPCA−30、DPCA−60、DPCA−120、DN−0075、DN−2475、SR−295、SR−355、SR−399E、SR−494、SR−9041、SR−368、SR−415、SR−444、SR−454、SR−492、SR−499、SR−502、SR−9020、SR−9035、SR−111、SR−212、SR−213、SR−230、SR−259、SR−268、SR−272、SR−344、SR−349、SR−601、SR−602、SR−610、SR−9003、PET−30、T−1420、GPO−303、TC−120S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX−220、HX−620、R−551、R−712、R−167、R−526、R−551、R−712、R−604、R−684、TMPTA、THE−330、TPA−320、TPA−330、KS−HDDA、KS−TPGDA、KS−TMPTA、共栄社化学株式会社製のライトアクリレート PE−4A、DPE−6A、DTMP−4A等を挙げることができる。これらの化合物は、1種単独で用いてもよいし2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of commercially available products of such component (A) include, for example, Aronix M-400, M-404, M-408, M-450, M-305, M-309, M-310, manufactured by Toagosei Co., Ltd. M-315, M-320, M-350, M-360, M-208, M-210, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M- 260, M-270, M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-221, M-203, TO-924, TO-1270, TO-1231, TO-595, TO-756, TO-1343, TO-902, TO-904, TO-905, TO-1330, KAYARAD D-310, D-330, DPHA, DPCA-20, DPCA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, SR-295, SR-355, SR-399E, SR-494, SR-9041, SR-368, SR-415, SR-444, SR-454, SR-492, SR-499, SR-502, SR-9020, SR-9035, SR-111, SR-212, SR-213, SR-230, SR-259, SR-268, SR- 272, SR-344, SR-349, SR-601, SR-602, SR-610, SR-9003, PET-30, T-1420, GPO-303, TC-120S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620, R-551, R-712, R-167, R-526, R-5 51, R-712, R-604, R-684, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS-TPGDA, KS-TMPTA, light acrylate PE-manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 4A, DPE-6A, DTMP-4A and the like. These compounds may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

本実施の形態に係る硬化性組成物中において、(A)重合性化合物の含有量は、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに、通常80質量%以上であり、好ましくは90質量%以上である。この理由は、添加量が80質量%未満であると、十分な硬度が得られない場合があるからである。   In the curable composition which concerns on this Embodiment, content of (A) polymeric compound is 80 mass% or more normally, when the sum total of the component except a solvent is 100 mass%, Preferably it is 90. It is at least mass%. This is because if the amount added is less than 80% by mass, sufficient hardness may not be obtained.

1.2.(B)屈折率が1.40以下である粒子
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(B)屈折率が1.40以下である粒子を含有する。かかる粒子が硬化膜の表面に偏在化することにより低屈折率層を形成し、硬化膜に反射防止膜としての機能を付与することができる。また、該粒子が硬化膜の表面に偏在化することで、硬化膜の表面の硬度を向上させたり、カールを小さくさせたりする効果も期待される。
1.2. (B) Particles with Refractive Index of 1.40 or Less The curable composition according to the present embodiment contains (B) particles with a refractive index of 1.40 or less. When such particles are unevenly distributed on the surface of the cured film, a low refractive index layer can be formed, and the function as an antireflection film can be imparted to the cured film. In addition, since the particles are unevenly distributed on the surface of the cured film, the effects of improving the hardness of the surface of the cured film and reducing the curl are also expected.

粒子の屈折率は、1.40以下であり、好ましくは1.35以下、より好ましくは1.30以下である。屈折率を1.40以下とした理由は、屈折率が1.40を超える粒子を添加しても、反射防止性に優れた硬化膜を得ることができないからである。また、屈折率は、1.00を下限とし低いほど好ましいが、中空粒子を使用した場合は、屈折率が低くなるにつれ粒子の強度が低下するため、硬化膜の硬度や耐擦傷性も低下する。そのため、屈折率の下限は1.20とすることが好ましい。本明細書中における「屈折率」とは、25℃におけるNa−D線(波長589nm)の屈折率をいう。本明細書中における「粒子の屈折率」は、同一マトリックス中に、固形分中の粒子含量を、1質量%、10質量%、20質量%とした組成物を成膜し、JIS K7105に従い、25℃におけるNa−D線での屈折率を測定し、検量線法で計算した粒子含量100質量%の値をいう。   The refractive index of the particles is 1.40 or less, preferably 1.35 or less, more preferably 1.30 or less. The reason for setting the refractive index to 1.40 or less is that a cured film having excellent antireflection properties cannot be obtained even if particles having a refractive index exceeding 1.40 are added. Further, the refractive index is preferably as low as possible with 1.00 being the lower limit. However, when hollow particles are used, the strength of the cured film and the scratch resistance are reduced because the strength of the particles decreases as the refractive index decreases. . Therefore, the lower limit of the refractive index is preferably 1.20. The “refractive index” in this specification refers to the refractive index of Na-D line (wavelength 589 nm) at 25 ° C. In the present specification, “refractive index of particles” means that a composition in which the content of particles in a solid content is 1% by mass, 10% by mass, and 20% by mass is formed in the same matrix, The refractive index at the Na-D line at 25 ° C. is measured, and the particle content is 100% by mass calculated by the calibration curve method.

粒子としては、屈折率が1.40以下のものであれば特に限定されないが、例えば中空シリカ粒子、フッ化金属粒子等が挙げられる。これらの中でも、シリカを主成分とする中空シリカ粒子であることが好ましい。中空シリカ粒子は、その内部に空洞を有するため、中実粒子と比べてより低屈折率化することができる。   The particles are not particularly limited as long as the refractive index is 1.40 or less, and examples thereof include hollow silica particles and metal fluoride particles. Among these, hollow silica particles mainly composed of silica are preferable. Since the hollow silica particles have cavities inside, the refractive index can be further reduced as compared with the solid particles.

透過型電子顕微鏡により測定した粒子の数平均粒子径は、好ましくは1〜100nmであり、より好ましくは5〜60nmである。粒子の形状は、球状に限定されず不定形の形状であってもよい。   The number average particle diameter of the particles measured with a transmission electron microscope is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 60 nm. The shape of the particles is not limited to a spherical shape, and may be an irregular shape.

中空シリカ粒子の市販品としては、例えば、日揮触媒化成株式会社製の「JX1008SIV」(透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、固形分20質量%、イソプロピルアルコール溶媒)、「JX1009SIV」(透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン溶媒)等が挙げられる。   Examples of commercially available hollow silica particles include “JX1008SIV” manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd. (number average particle diameter 50 nm, solid content 20% by mass, isopropyl alcohol solvent obtained with a transmission electron microscope), “JX1009SIV” ( And a number average particle diameter of 50 nm, a solid content of 20% by mass, and a methyl isobutyl ketone solvent) obtained with a transmission electron microscope.

本実施の形態に用いられる中空シリカ粒子は、粒子変性剤で変性されたものであってもよい。粒子変性剤としては、重合性不飽和基および加水分解性シリル基を有する化合物(以下、「重合性粒子変性剤」ともいう。)等が挙げられる。重合性粒子変性剤の重合性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基が挙げられる。なお、加水分解性シリル基とは、水と反応してシラノール基(Si−OH)を生成するものであって、例えば、ケイ素に1以上のメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基等のアルコキシル基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子が結合したものをいう。   The hollow silica particles used in the present embodiment may be modified with a particle modifier. Examples of the particle modifier include compounds having a polymerizable unsaturated group and a hydrolyzable silyl group (hereinafter also referred to as “polymerizable particle modifier”). Examples of the polymerizable unsaturated group of the polymerizable particle modifier include a vinyl group and a (meth) acryloyl group. The hydrolyzable silyl group is a group that reacts with water to produce a silanol group (Si—OH). For example, one or more methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, isopropoxy groups on silicon. A group, an alkoxyl group such as an n-butoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, or a halogen atom is bonded.

本実施の形態に用いられる重合性粒子変性剤は、メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の市販品を使用することもできるし、例えば、国際公開公報WO97/12942号公報に記載された化合物を用いることもできる。   As the polymerizable particle modifier used in the present embodiment, a commercially available product such as methacryloyloxypropyltrimethoxysilane can be used, for example, a compound described in International Publication No. WO97 / 12942 is used. You can also.

また、粒子変性剤として、フッ素を含有する加水分解性シリル基を有する化合物(以下、「含フッ素粒子変性剤」ともいう。)、を使用することもできる。含フッ素粒子変性剤を使用することで、中空シリカ粒子を効率よく偏在させることが可能となる。本実施の形態に用いられる含フッ素粒子変性剤は、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等の市販品を使用することができる。   In addition, a fluorine-containing hydrolyzable silyl group-containing compound (hereinafter also referred to as “fluorine-containing particle modifier”) can be used as the particle modifier. By using the fluorine-containing particle modifier, it is possible to efficiently distribute the hollow silica particles. Commercially available products such as tridecafluorooctyltrimethoxysilane can be used as the fluorine-containing particle modifier used in the present embodiment.

また、アルキル基を有する粒子変性剤や、シリコーン鎖を有する粒子変性剤も、含フッ素粒子変性剤と同様に使用することができる。   Moreover, the particle modifier which has an alkyl group, and the particle modifier which has a silicone chain can be used similarly to a fluorine-containing particle modifier.

上記の各種粒子変性剤は1種を用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。   The above various particle modifiers may be used alone or in combination of two or more.

本実施の形態に用いられる中空シリカ粒子を変性させるためには、中空シリカ粒子と粒子変性剤とを混合し、加水分解させることにより両者を結合させればよい。得られた反応性中空シリカ粒子中の有機重合体成分、すなわち加水分解性シランの加水分解物および縮合物の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の重量減少%の恒量値として、例えば空気中で室温から通常800℃までの熱重量分析により求めることができる。   In order to modify the hollow silica particles used in the present embodiment, the hollow silica particles and the particle modifier may be mixed and hydrolyzed to bond them together. The ratio of the organic polymer component, that is, the hydrolyzate and condensate of hydrolyzable silane, in the obtained reactive hollow silica particles is usually the weight loss when the dry powder is completely burned in air. The constant value of can be determined, for example, by thermogravimetric analysis from room temperature to usually 800 ° C. in air.

反応性中空シリカ粒子への粒子変性剤の結合量は、変性後の中空シリカ粒子を100質量%とした場合、好ましくは0.01〜40質量%であり、より好ましくは0.1〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。中空シリカ粒子に反応させる粒子変性剤の量を上記範囲とすることで、組成物中における中空シリカ粒子の分散性を向上させることができるだけでなく、得られる硬化物の透明性や耐擦傷性を高める効果が期待できる。   The binding amount of the particle modifier to the reactive hollow silica particles is preferably 0.01 to 40% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass, when the modified hollow silica particles are 100% by mass. %, Particularly preferably 1 to 20% by mass. By setting the amount of the particle modifier to react with the hollow silica particles in the above range, not only can the dispersibility of the hollow silica particles in the composition be improved, but also the transparency and scratch resistance of the resulting cured product can be improved. The effect of increasing can be expected.

本実施の形態に係る硬化性組成物中において、(B)成分の含有量は、形成する硬化膜の膜厚に応じて適宜調整できる。例えば、硬化膜の膜厚が10μmの場合、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに、好ましくは0.4〜1.2質量%、より好ましくは0.5〜1質量%の範囲内である。例えば、硬化膜の膜厚が7μmの場合、好ましくは0.6〜1.8質量%、より好ましくは0.7〜1.5質量%であり、硬化膜の膜厚が3μmの場合、好ましくは1.2〜4質量%、より好ましくは1.5〜3質量%の範囲内である。(B)成分の含有量が上記の範囲未満であると、反射防止性を発現する(B)成分が高密度に存在する層(低屈折率層)を形成できない場合がある。一方、(B)成分の含有量が上記の範囲を超えると、反射防止性を発現する(B)成分が高密度に存在する層(低屈折率層)の厚さが大きくなりすぎて、反射率低減効果が発現しない場合がある。   In the curable composition which concerns on this Embodiment, content of (B) component can be suitably adjusted according to the film thickness of the cured film to form. For example, when the thickness of the cured film is 10 μm, when the total of the components excluding the solvent is 100% by mass, preferably 0.4 to 1.2% by mass, more preferably 0.5 to 1% by mass. Within range. For example, when the thickness of the cured film is 7 μm, it is preferably 0.6 to 1.8% by mass, more preferably 0.7 to 1.5% by mass, and preferably when the thickness of the cured film is 3 μm. Is in the range of 1.2 to 4 mass%, more preferably 1.5 to 3 mass%. When the content of the component (B) is less than the above range, it may be impossible to form a layer (low refractive index layer) in which the component (B) that exhibits antireflection properties exists at a high density. On the other hand, if the content of the component (B) exceeds the above range, the thickness of the layer (low refractive index layer) in which the component (B) that exhibits antireflection properties is present at a high density becomes too large and reflection The rate reduction effect may not appear.

1.3.(C)重合開始剤
本実施の形態にかかる硬化性組成物は、(C)重合開始剤を含有してもよい。このような(C)重合開始剤としては、(A)成分として(メタ)アクリルエステル化合物および/またはビニル化合物を含有する場合には、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物(熱重合開始剤)および放射線(光)照射により活性ラジカル種を発生させる化合物(放射線(光)ラジカル重合開始剤)等の汎用品を挙げることができる。また、(A)成分としてエポキシ化合物および/またはアルコキシメチルアミン化合物を含有する場合には、酸性化合物および放射線(光)照射により酸を発生させる化合物(放射線(光)酸発生剤)等の汎用品を挙げることができる。これらの中でも、放射線(光)重合開始剤が好ましい。
1.3. (C) Polymerization initiator The curable composition concerning this Embodiment may contain (C) polymerization initiator. As such (C) polymerization initiator, when (meth) acrylic ester compound and / or vinyl compound is contained as component (A), a compound (thermal polymerization initiator) that generates active radical species thermally. And general-purpose products such as compounds (radiation (light) radical polymerization initiators) that generate active radical species upon irradiation with radiation (light). In addition, when an epoxy compound and / or an alkoxymethylamine compound is contained as the component (A), general-purpose products such as an acidic compound and a compound (radiation (light) acid generator) that generates an acid upon irradiation with radiation (light) Can be mentioned. Among these, a radiation (photo) polymerization initiator is preferable.

放射線(光)ラジカル重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始させられるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1,4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等が挙げられる。   The radiation (photo) radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it can be decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate polymerization. For example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxy Benzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1-one 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- Morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) and the like.

放射線(光)ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、チバジャパン株式会社製のイルガキュア 184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61、ダロキュア 1116、1173、BASF社製のルシリン TPO、8893UCB社製のユベクリル P36、ランベルティ社製のエザキュアーKIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等が挙げられる。   Commercially available products of radiation (photo) radical polymerization initiators include, for example, Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, Darocur, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. 1116, 1173, BASF's Lucillin TPO, 8893UCB's Ubekrill P36, Lamberti's Ezacure KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTO46, KIP75 / B, and the like.

熱ラジカル重合開始剤としては、加熱により分解してラジカルを発生して重合を開始するものであれば特に制限はなく、例えば、過酸化物、アゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチル−パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。   The thermal radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it is decomposed by heating to generate radicals to initiate polymerization, and examples thereof include peroxides and azo compounds. Specific examples include: Examples include benzoyl peroxide, t-butyl-peroxybenzoate, and azobisisobutyronitrile.

放射線(光)酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩類、ジアリールヨードニウム塩類の化合物を使用することができる。放射線(光)酸発生剤の市販品としては、サンアプロ社製のCPI−100P、101A等が挙げられる。   As the radiation (photo) acid generator, compounds of triarylsulfonium salts and diaryliodonium salts can be used. Examples of commercially available radiation (light) acid generators include CPI-100P and 101A manufactured by San Apro.

本実施の形態に係る硬化性組成物中において、必要に応じて用いられる(C)重合開始剤の含有量は、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜10質量%の範囲内である。0.01質量%未満であると、硬化物としたときの硬度が不十分となるおそれがあり、20質量%を超えると、塗膜の硬度が損なわれるおそれがある。なお、(C)重合開始剤は複数種の化合物を併用することもできる。   In the curable composition according to the present embodiment, the content of the (C) polymerization initiator used as necessary is preferably 0.01 when the total of the components excluding the solvent is 100% by mass. -20 mass%, More preferably, it exists in the range of 0.1-10 mass%. If it is less than 0.01% by mass, the hardness of the cured product may be insufficient, and if it exceeds 20% by mass, the hardness of the coating film may be impaired. In addition, (C) a polymerization initiator can also use multiple types of compounds together.

1.4.(D)溶剤
本実施の形態に係る硬化性組成物は、塗膜の厚さを調節するために、(D)溶剤で希釈して用いられる。例えば、本実施の形態に係る硬化性組成物を反射防止膜や被覆材として用いる場合の粘度は、通常0.1〜50,000mPa・秒/25℃であり、好ましくは0.5〜10,000mPa・秒/25℃である。
1.4. (D) Solvent The curable composition according to this embodiment is used after being diluted with (D) a solvent in order to adjust the thickness of the coating film. For example, the viscosity when the curable composition according to the present embodiment is used as an antireflection film or a coating material is usually 0.1 to 50,000 mPa · sec / 25 ° C., preferably 0.5 to 10, 000 mPa · sec / 25 ° C.

本実施の形態で使用される(D)溶剤には、(D1)基材のセルロース樹脂を溶解し、かつ、0.1MPaにおける沸点が80℃以上250℃以下である溶剤(以下、(D1)成分ともいう。)が含まれる。本発明において、「基材のセルロース樹脂を溶解する」とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを6gの溶剤に2時間浸したときに、該フィルムの質量減少率が2%以上であることをいう。   In the solvent (D) used in the present embodiment, (D1) a solvent that dissolves the cellulose resin of the base material and has a boiling point at 0.1 MPa of 80 ° C. or higher and 250 ° C. or lower (hereinafter referred to as (D1) Also referred to as an ingredient). In the present invention, “dissolving the cellulose resin of the base material” means that when a 80 μm-thick cellulose resin film cut into a size of 18 cm × 1 cm is immersed in 6 g of solvent for 2 hours, the mass of the film decreases. The rate is 2% or more.

このような(D1)成分としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、N−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。ここに示した各化合物のトリアセチルセルロースに対する溶解性および0.1MPaにおける沸点は、後の実施例において示す表1に記載のとおりであり、いずれの化合物も上記(D1)成分の条件を満たすものである。これらの化合物は、1種単独で用いてもよく、2種以上混合して用いてもよい。   Examples of such component (D1) include propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, N-methyl-2-pyrrolidone, and γ-butyrolactone. The solubility of each compound shown here in triacetyl cellulose and the boiling point at 0.1 MPa are as shown in Table 1 shown in the following examples, and all the compounds satisfy the conditions of the component (D1). It is. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

本実施の形態にかかる硬化性組成物は、(D1)成分を含有することにより、加熱乾燥時にセルロース樹脂基材との親和性が高い(D1)成分がセルロース樹脂基材側に引き寄せられ、その結果として(B)成分がセルロース樹脂基材とは逆の界面に偏在化するものと考えられる。   Since the curable composition according to the present embodiment contains the component (D1), the component (D1) having a high affinity with the cellulose resin substrate at the time of heating and drying is attracted to the cellulose resin substrate side. As a result, it is considered that the component (B) is unevenly distributed at the interface opposite to the cellulose resin base material.

後述のとおり、本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法においては、本実施の形態に係る硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、通常80〜120℃で加熱乾燥する工程が行われる。ここで、セルロース樹脂に対する溶解性を有する溶剤の0.1MPaにおける沸点が80℃未満であると、この加熱乾燥時に溶剤が蒸発してしまうため、(B)成分の偏在化が起こらない。また、0.1MPaにおける沸点が250℃より高いと硬化膜中に溶剤が残留してしまい、硬度の低下を招くおそれがある。このような理由から、(D1)成分の0.1MPaにおける沸点は、80℃以上250℃以下であり、好ましくは100℃以上240℃以下、より好ましくは120℃以上220℃以下である。   As will be described later, in the method for producing an antireflection laminate according to the present embodiment, the curable composition according to the present embodiment is applied to a cellulose resin substrate, and then usually heated and dried at 80 to 120 ° C. A process is performed. Here, when the boiling point at 0.1 MPa of the solvent having solubility in the cellulose resin is less than 80 ° C., the solvent evaporates at the time of this heat drying, so that the uneven distribution of the component (B) does not occur. On the other hand, if the boiling point at 0.1 MPa is higher than 250 ° C., the solvent remains in the cured film, which may cause a decrease in hardness. For these reasons, the boiling point at 0.1 MPa of the component (D1) is 80 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or higher and 240 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or higher and 220 ° C. or lower.

また、(D1)成分以外の溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類等が挙げられる。   Examples of the solvent other than the component (D1) include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate and ethyl lactate. , Γ-butyrolactone, esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dimethylformamide And amides such as dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone.

本実施の形態に係る硬化性組成物において、(D)溶剤の含有量は、(D)溶剤を除く成分の合計を100質量部としたときに、50〜10,000質量部の範囲内であることが好ましい。溶剤の含有量は、塗布膜厚、硬化性組成物の粘度等を考慮して適宜決定することができる。   In the curable composition which concerns on this Embodiment, content of (D) solvent is in the range of 50-10,000 mass parts, when the sum total of the component except (D) solvent is 100 mass parts. Preferably there is. The content of the solvent can be appropriately determined in consideration of the coating film thickness, the viscosity of the curable composition, and the like.

また、本実施の形態に係る硬化性組成物において、(D)溶剤100質量%中の(D1)成分の割合は、3質量%以上100質量%以下であり、5質量%以上100質量%以下であることが好ましい。(D)溶剤100質量%中の(D1)成分の割合が3質量%未満であると、前述した(B)成分の偏在化が起こりにくくなる。   Moreover, in the curable composition which concerns on this Embodiment, the ratio of (D1) component in 100 mass% of (D) solvent is 3 mass% or more and 100 mass% or less, and 5 mass% or more and 100 mass% or less. It is preferable that (D) When the ratio of the component (D1) in 100% by mass of the solvent is less than 3% by mass, the uneven distribution of the component (B) described above is difficult to occur.

1.5.その他の添加剤
本実施の形態に係る硬化性組成物は、必要に応じて、粒子分散剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、着色剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、無機系充填材、有機系充填材、フィラー、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を含有することができる。これらの内、粒子分散剤として、フッ素原子を含有する化合物、シロキサン鎖を有する化合物を使用することで、中空シリカ粒子の偏在化を促進し、塗膜の屈折率を低下させることができる。
1.5. Other Additives The curable composition according to the present embodiment includes, as necessary, a particle dispersant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a silane coupling agent, an antiaging agent, and a thermal polymerization inhibitor. , Colorants, leveling agents, surfactants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, inorganic fillers, organic fillers, fillers, wettability improvers, coating surface improvers, and the like. Among these, by using a compound containing a fluorine atom or a compound having a siloxane chain as the particle dispersant, the uneven distribution of the hollow silica particles can be promoted, and the refractive index of the coating film can be lowered.

1.6.硬化性組成物の製造方法
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)重合性化合物、(B)粒子、(D)溶媒、必要に応じて(C)ラジカル重合開始剤、その他の添加剤をそれぞれ添加して、室温または加熱条件下で混合することにより調製することができる。具体的には、ミキサー、ニーダー、ボールミル、三本ロール等の混合機を用いて調製することができる。但し、加熱条件下で混合する場合には、熱重合開始剤の分解温度以下で行うことが好ましい。
1.6. Manufacturing method of curable composition The curable composition which concerns on this Embodiment is (A) polymeric compound, (B) particle | grains, (D) solvent, (C) radical polymerization initiator as needed, other It can prepare by adding an additive, respectively, and mixing under room temperature or a heating condition. Specifically, it can prepare using mixers, such as a mixer, a kneader, a ball mill, and a three roll. However, when mixing under heating conditions, it is preferable to carry out at or below the decomposition temperature of the thermal polymerization initiator.

2.反射防止用積層体およびその製造方法
本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法は、
(a)(A)重合性化合物、(B)屈折率が1.40以下である粒子、および(D)溶剤を少なくとも含有する硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布する工程と、
(b)前記硬化性組成物を硬化させて前記セルロース樹脂基材上に硬化膜を形成する工程と、を含む。本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法において、前記(D)溶剤100質量%中、(D1)基材のセルロース樹脂を溶解し、かつ、0.1MPaにおける沸点が80℃以上250℃以下である溶剤を、3質量%以上100質量%以下含有する。
2. Antireflection laminate and production method thereof The production method of the antireflection laminate according to the present embodiment is as follows.
(A) applying a curable composition containing (A) a polymerizable compound, (B) particles having a refractive index of 1.40 or less, and (D) a solvent on a cellulose resin substrate;
(B) curing the curable composition to form a cured film on the cellulose resin substrate. In the method for producing an antireflection laminate according to this embodiment, (D1) the cellulose resin of the base material is dissolved in 100% by mass of the solvent, and the boiling point at 0.1 MPa is 80 ° C. or higher and 250 ° C. A solvent having a temperature of ℃ or less is contained in an amount of 3% by mass to 100% by mass.

かかる反射防止用積層体の製造方法によれば、セルロース樹脂基材上に前記硬化性組成物を一度塗布して硬化させることで、セルロース樹脂基材と接触する面とは反対の面側に屈折率が1.40以下である粒子が高密度に存在する層を形成し、セルロース樹脂基材と接触する面側に屈折率が1.40以下である粒子が実質的に存在しない層を形成することができる。これにより、耐擦傷性および低屈折率性の双方を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。以下、工程ごとに説明する。   According to such a method for producing an antireflection laminate, once the curable composition is applied on a cellulose resin substrate and cured, the surface is refracted to the side opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate. A layer in which particles having a refractive index of 1.40 or less are present at a high density is formed, and a layer in which particles having a refractive index of 1.40 or less are not substantially present is formed on the side in contact with the cellulose resin substrate. be able to. As a result, an antireflection laminate having both scratch resistance and low refractive index can be produced. Hereinafter, it demonstrates for every process.

2.1.工程(a)
まず、前述した硬化性組成物を準備する。かかる硬化性組成物の構成や製造方法等は前述したとおりであるため、詳細な説明は省略するものとする。
2.1. Step (a)
First, the curable composition mentioned above is prepared. Since the structure and manufacturing method of such a curable composition are as described above, detailed description thereof will be omitted.

次に、準備した硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布する。塗布する方法は、特に制限されず、例えばバーコート塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の公知の方法を用いることができる。   Next, the prepared curable composition is apply | coated on a cellulose resin base material. The application method is not particularly limited, and for example, bar coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, lip coating, die coating, dip coating, offset printing, flexographic printing Known methods such as printing and screen printing can be used.

2.2.工程(b)
次に、セルロース樹脂基材上に塗布された硬化性組成物を硬化させて、前記セルロース樹脂基材上に硬化膜を形成する。硬化性組成物の硬化条件についても特に限定されるものではない。具体的には、0〜200℃、好ましくは80〜120℃で加熱処理して揮発成分を乾燥させた後、放射線および/または熱で硬化処理を行うことにより反射防止用積層体を形成することができる。熱で硬化させる場合の好ましい条件は、20〜150℃であり、10秒〜24時間の範囲で行われる。放射線で硬化させる場合、紫外線または電子線を用いることが好ましい。紫外線の照射光量は、好ましくは0.01〜10J/cmであり、より好ましくは0.1〜2J/cmである。また、電子線の照射条件は、加圧電圧が10〜300kV、電子密度が0.02〜0.30mA/cm、電子線照射量が1〜10Mradである。
2.2. Step (b)
Next, the curable composition applied on the cellulose resin substrate is cured to form a cured film on the cellulose resin substrate. The curing conditions for the curable composition are not particularly limited. Specifically, after heat-treating at 0 to 200 ° C., preferably 80 to 120 ° C. to dry the volatile components, the antireflection laminate is formed by performing a curing treatment with radiation and / or heat. Can do. A preferable condition for curing with heat is 20 to 150 ° C., and is performed in a range of 10 seconds to 24 hours. When curing with radiation, it is preferable to use ultraviolet rays or electron beams. Irradiation light amount of the ultraviolet rays is preferably 0.01 to 10 J / cm 2, more preferably 0.1~2J / cm 2. Moreover, the irradiation conditions of an electron beam are a pressurization voltage of 10-300 kV, an electron density of 0.02-0.30 mA / cm < 2 >, and an electron beam irradiation amount of 1-10 Mrad.

以上で説明したように、工程(a)と工程(b)との間に、セルロース樹脂基材上に塗布された硬化性組成物を加熱する工程をさらに設けておくことが好ましい。加熱する工程を設けることにより、硬化性組成物中の(D)溶媒を揮発させて除去することができる。加熱する工程をさらに設けることにより(D)溶媒が除去されるので、硬化性に優れた反射防止用積層体を形成することができる。ここで、加熱温度は、前述した(D1)成分の沸点との関係から、0〜200℃、好ましくは80〜120℃であるが、(D1)成分の沸点よりも低く設定しておくとよい。(D1)成分の沸点よりも高い温度で加熱することによって(D1)成分が速やかに揮発して除去されてしまうと、(B)粒子の偏在化が起こりにくくなるからである。なお、「加熱温度」とは、当該温度の雰囲気中に、硬化性組成物を塗布したセルロース樹脂基材をさらすことを意味し、セルロース樹脂基材または塗膜が当該温度に達していなくてもよい。   As described above, it is preferable to further provide a step of heating the curable composition coated on the cellulose resin substrate between the step (a) and the step (b). By providing the heating step, the (D) solvent in the curable composition can be volatilized and removed. Since the solvent is removed by further providing the heating step (D), an antireflection laminate having excellent curability can be formed. Here, the heating temperature is 0 to 200 ° C., preferably 80 to 120 ° C., because of the relationship with the boiling point of the component (D1) described above, but it may be set lower than the boiling point of the component (D1). . This is because if the component (D1) is volatilized and removed quickly by heating at a temperature higher than the boiling point of the component (D1), the (B) particles are less likely to be unevenly distributed. The “heating temperature” means that the cellulose resin substrate coated with the curable composition is exposed to the atmosphere at the temperature, even if the cellulose resin substrate or the coating film does not reach the temperature. Good.

セルロース樹脂基材上に前記硬化性組成物を一度塗布して硬化させることで(B)粒子が偏在する機構を以下に説明する。セルロース樹脂上に塗布された硬化性組成物中に前記(D1)成分が存在するため、基材であるセルロース樹脂の一部が、硬化性組成物中に溶解する。溶け出したセルロース樹脂は親水性であるため、塗布された硬化性組成物は基材付近の親水性が高まり、相対的に疎水性である(B)成分が基材と反対側に偏在化するものと考えられる。   The mechanism in which the (B) particles are unevenly distributed by applying and curing the curable composition once on the cellulose resin substrate will be described below. Since the component (D1) is present in the curable composition applied on the cellulose resin, a part of the cellulose resin as the base material is dissolved in the curable composition. Since the dissolved cellulose resin is hydrophilic, the applied curable composition has increased hydrophilicity in the vicinity of the substrate, and the relatively hydrophobic component (B) is unevenly distributed on the opposite side of the substrate. It is considered a thing.

2.3.反射防止用積層体
次に、前述した本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法によって製造された反射防止用積層体について説明する。図1は、本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法によって製造された反射防止用積層体を模式的に示した断面図である。図1に示すように、反射防止用積層体100は、基材となるセルロース樹脂基材10の上に前述した硬化性組成物を硬化させた硬化膜20が形成されており、前記硬化膜20のうち、セルロース樹脂基材10と接触した面側には粒子22が実質的に存在しないハードコート層24が形成され、基材10と接触した面とは反対の面側に粒子22が高密度に存在する低屈折率層26が形成されている。以下、本実施の形態に係る反射防止用積層体の各層について説明する。
2.3. Next, the antireflection laminate manufactured by the above-described method for manufacturing the antireflection laminate according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an antireflection laminate produced by the method for producing an antireflection laminate according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, in the antireflection laminate 100, a cured film 20 obtained by curing the above-described curable composition is formed on a cellulose resin substrate 10 as a substrate, and the cured film 20. Among them, a hard coat layer 24 substantially free of particles 22 is formed on the side in contact with the cellulose resin substrate 10, and the particles 22 are dense on the side opposite to the surface in contact with the substrate 10. A low refractive index layer 26 is formed. Hereinafter, each layer of the antireflection laminate according to the present embodiment will be described.

2.3.1.基材
本実施の形態に係る反射防止用積層体に用いられる基材は、セルロース樹脂基材である。基材としてセルロース樹脂を用いることにより、前述した硬化性組成物中に含まれる(D1)成分がセルロース樹脂基材と相互作用し、(D1)成分がセルロース樹脂基材と接触した面側に引き寄せられる。この作用により、セルロース樹脂基材と接触した面とは反対の面側に粒子22が高密度に存在する低屈折率層26を形成することができるものと考えられる。一方、セルロース樹脂以外の樹脂を基材として使用した場合には、前述したような作用効果を奏しない。本実施の形態において、セルロース樹脂基材とは、基材自体がセルロース樹脂で形成されていてもよいし、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等の基材表面にセルロース樹脂層を有する基材であってもよい。ここで、基材として使用可能なセルロース樹脂としては、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。
2.3.1. Base material The base material used for the laminated body for antireflection which concerns on this Embodiment is a cellulose resin base material. By using a cellulose resin as a base material, the component (D1) contained in the curable composition described above interacts with the cellulose resin base material, and the component (D1) is drawn to the surface side in contact with the cellulose resin base material. It is done. By this action, it is considered that the low refractive index layer 26 in which the particles 22 are present at a high density can be formed on the surface opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate. On the other hand, when a resin other than the cellulose resin is used as the base material, the above-described effects are not achieved. In the present embodiment, the cellulose resin base material may be a base material itself formed of a cellulose resin, or a base material having a cellulose resin layer on the surface of a base material such as polyethylene terephthalate or polycarbonate. . Here, examples of the cellulose resin that can be used as the base material include triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, and cellulose acetate butyrate.

また、基材をセルロース樹脂とする反射防止用積層体は、カメラのレンズ部、テレビ(CRT)の画面表示部、あるいは液晶表示装置における偏光子の保護フィルム等の広範なハードコートおよび/または反射防止膜の利用分野において、優れた耐擦傷性および反射防止効果を得ることができる。   In addition, the antireflection laminate having a base material made of cellulose resin is used in a wide range of hard coats and / or reflections such as a protective film for a polarizer in a camera lens unit, a television (CRT) screen display unit, or a liquid crystal display device. In the field of use of the anti-reflection film, excellent scratch resistance and antireflection effect can be obtained.

2.3.2.ハードコート層
ハードコート層24は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる二層構造を有する硬化膜20のうち、粒子22が実質的に存在しない層から構成される。
2.3.2. Hard Coat Layer The hard coat layer 24 is composed of a layer in which the particles 22 are not substantially present in the cured film 20 having a two-layer structure obtained by curing the curable composition described above.

ハードコート層24の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1〜50μm、より好ましくは1〜10μmである。ハードコート層24の厚さが1μm未満であると、硬度が不足する場合があり、一方、50μmを超えると、均質な膜を形成することが困難となったり、積層体のカールが大きくなり扱いづらくなる場合があるからである。硬化性組成物を塗布した際にセルロース樹脂を溶解させるため、ハードコート層24はセルロース樹脂成分を含んでいてもよい。   Although the thickness of the hard-coat layer 24 is not specifically limited, Preferably it is 1-50 micrometers, More preferably, it is 1-10 micrometers. If the thickness of the hard coat layer 24 is less than 1 μm, the hardness may be insufficient. On the other hand, if the thickness exceeds 50 μm, it is difficult to form a homogeneous film or the curling of the laminate is increased. This is because it may become difficult. In order to dissolve the cellulose resin when the curable composition is applied, the hard coat layer 24 may contain a cellulose resin component.

2.3.3.低屈折率層
低屈折率層26は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる二層構造を有する硬化膜20のうち、粒子22が高密度に存在する層から構成される。
2.3.3. Low Refractive Index Layer The low refractive index layer 26 is composed of a layer in which particles 22 are present at a high density in the cured film 20 having a two-layer structure obtained by curing the curable composition described above.

低屈折率層26の厚さは、特に限定されないが、好ましくは50〜200nm、より好ましくは60〜150nm、特に好ましくは80〜120nmである。低屈折率層26の厚さが50nm未満であると、十分な反射防止効果が得られない場合があり、一方、200nmを超えると、反射防止効果が低下する場合があるからである。   The thickness of the low refractive index layer 26 is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 nm, more preferably 60 to 150 nm, and particularly preferably 80 to 120 nm. This is because if the thickness of the low refractive index layer 26 is less than 50 nm, a sufficient antireflection effect may not be obtained, whereas if it exceeds 200 nm, the antireflection effect may be reduced.

反射防止用積層体100におけるハードコート層24と低屈性率層26との屈折率差は、0.05以上の値とすることが好ましい。この理由は、ハードコート層24と低屈折率層26との屈折率差が0.05未満の値であると、これらの反射防止膜での相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場合があるからである。   The refractive index difference between the hard coat layer 24 and the low-refractive index layer 26 in the antireflection laminate 100 is preferably set to a value of 0.05 or more. This is because if the difference in refractive index between the hard coat layer 24 and the low refractive index layer 26 is less than 0.05, a synergistic effect in these antireflection films cannot be obtained, and the antireflection effect is lowered. Because there is a case to do.

3.実施例
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。
3. EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

3.1.実施例1
3.1.1.硬化性組成物の製造
紫外線を遮蔽した容器中において、中空シリカ粒子(商品名「JX−1009SIV」、メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成株式会社製)5質量部(固形分として1質量部)、ペンタエリスリトールトリアクリレート(商品名「カヤラッドPET−30」、日本化薬株式会社製)96質量部、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリホリノプロパン−1−オン(商品名「イルガキュア(登録商標)907」、チバジャパン株式会社製)3質量部、サイラプレーンFM0725(チッソ株式会社製)0.1質量部、さらにメチルイソブチルケトンを95質量部、γ−ブチロラクトンを5質量部加えて室温で2時間撹拌することにより均一な溶液を得た。この溶液をアルミ皿に2g秤量後、175℃のホットプレート上で30分間乾燥させ、秤量した後固形分含量を求めたところ、50質量%であった。
3.1. Example 1
3.1.1. Production of Curable Composition In a container shielded from ultraviolet rays, hollow silica particles (trade name “JX-1009SIV”, methyl isobutyl ketone sol, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) 96 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (trade name “Kayarad PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one ( Trade name “Irgacure (registered trademark) 907”, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 3 parts by mass, Silaplane FM0725 (produced by Chisso Corporation) 0.1 part by mass, 95 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and 5 parts of γ-butyrolactone A homogeneous solution was obtained by adding part by mass and stirring at room temperature for 2 hours. 2 g of this solution was weighed in an aluminum dish, dried on a hot plate at 175 ° C. for 30 minutes, weighed, and the solid content was determined to be 50% by mass.

3.1.2.硬化膜サンプルの作製
前記「3.1.1.硬化性組成物の製造」で得られた溶液をトリアセチルセルロースフィルム(商品名「TDY−80UL」、富士フイルム株式会社製)上にバーコーターを用いて全体の硬化膜厚が約7μmとなるように塗布し、80℃で2分間乾燥後、窒素フロー下で高圧水銀灯(300mJ/cm)を用いて硬化させた。なお、塗布は、ロール状に巻かれたフィルムの内側の面に塗膜を形成するように行った。
3.1.2. Preparation of cured film sample The solution obtained in the above "3.1.1. Production of curable composition" was placed on a triacetyl cellulose film (trade name "TDY-80UL", manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) with a bar coater. It was applied so that the entire cured film thickness was about 7 μm, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then cured using a high-pressure mercury lamp (300 mJ / cm 2 ) under a nitrogen flow. In addition, application | coating was performed so that a coating film might be formed in the inner surface of the film wound by roll shape.

3.2.実施例2〜11、比較例1〜3
表2または表3に示す成分を、表2または表3に示す組成で配合したこと以外は、実施例1と同様にして硬化性組成物を製造し、硬化膜サンプルを得た。なお、溶剤成分の種類、トリアセチルセルロース(TAC)に対する溶解性、沸点に関するデータを表1にまとめておいた。なお、トリアセチルセルロースに対する溶解性の有無は、前述した方法により判定した。すなわち、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(商品名「TDY−80UL」、富士フイルム株式会社製)を、6gの溶剤に2時間浸したときのトリアセチルセルロースフィルムの質量減少率を測定し、質量減少率が2%以上である場合には該溶剤がセルロース樹脂に対する溶解性を有するものと判断し、2%未満である場合には該溶剤が基材のセルロース樹脂を溶解しないものと判断した。
3.2. Examples 2-11, Comparative Examples 1-3
A curable composition was produced in the same manner as in Example 1 except that the components shown in Table 2 or Table 3 were blended in the composition shown in Table 2 or Table 3, and a cured film sample was obtained. Table 1 summarizes data on the types of solvent components, solubility in triacetylcellulose (TAC), and boiling points. In addition, the presence or absence of the solubility with respect to triacetylcellulose was determined by the method mentioned above. That is, a triacetyl cellulose film obtained by immersing a 80 μm thick triacetyl cellulose film (trade name “TDY-80UL”, manufactured by FUJIFILM Corporation) in a size of 18 cm × 1 cm for 2 hours in 6 g of a solvent. When the mass reduction rate is 2% or more, it is determined that the solvent has solubility in the cellulose resin. When the mass reduction rate is less than 2%, the solvent is cellulose as a base material. The resin was judged not to dissolve.

Figure 2011203560
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また、実施例9および実施例10で使用した基材は、セルロースアセテートブチレート樹脂(商品名「CAB−381−20」、イーストマンケミカル社製)をアセトンに20質量%に溶解した溶液を、それぞれポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート基材上に、バーコーターを用いて塗布し80℃で3分間乾燥させ、5μmのセルロース樹脂膜を形成した基材を使用した。なお、γ−ブチロラクトンへのセルロースアセテートブチレートの溶解性を同様に試験したところ、溶解性が高く、引き上げ時に基材が崩れてしまったため数値を示していない。   Moreover, the base material used in Example 9 and Example 10 was prepared by dissolving a cellulose acetate butyrate resin (trade name “CAB-381-20”, manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) in acetone at 20 mass%. A base material in which a 5 μm cellulose resin film was formed on a polyethylene terephthalate and a polycarbonate base material using a bar coater and dried at 80 ° C. for 3 minutes was used. In addition, when the solubility of cellulose acetate butyrate in γ-butyrolactone was tested in the same manner, the solubility was high, and the base material collapsed during the pulling, so that no numerical value is shown.

実施例11で使用した粒子「B−1」は、次のようにして合成した。中空シリカ粒子(商品名「JX−1009SIV」、メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成株式会社製)90.9質量部(固形分濃度;20質量部)、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(GE東芝シリコーン(株)製)1質量部、イソプロパノール0.1質量部およびイオン交換水0.05質量部の混合液を、80℃で3時間攪拌後、オルトギ酸メチルエステル0.7質量部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌することで無色透明の粒子分散液B−1を得た。B−1をアルミ皿に2g秤量後、120℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、22.5質量%であった。   The particle “B-1” used in Example 11 was synthesized as follows. Hollow silica particles (trade name “JX-1009SIV”, methyl isobutyl ketone sol, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) 90.9 parts by mass (solid content concentration: 20 parts by mass), tridecafluorooctyltrimethoxysilane (GE Toshiba Silicone) (Made by Co., Ltd.) 1 part by mass, 0.1 part by mass of isopropanol and 0.05 part by mass of ion exchange water were stirred at 80 ° C. for 3 hours, and then 0.7 part by mass of methyl orthoformate was added. Further, colorless and transparent particle dispersion B-1 was obtained by heating and stirring at the same temperature for 1 hour. After weighing 2 g of B-1 in an aluminum dish, it was dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour and weighed to determine the solid content, which was 22.5% by mass.

3.3.評価試験
実施例および比較例で得られた硬化性組成物および硬化膜の特性を下記項目について評価した。その結果を表2および表3に併せて示す。
3.3. Evaluation test The characteristics of the curable compositions and cured films obtained in Examples and Comparative Examples were evaluated for the following items. The results are also shown in Table 2 and Table 3.

3.3.1.反射率
得られた硬化膜の裏面を黒色スプレーで塗装し、分光反射率測定装置(大型試料室積分球付属装置150−09090を組み込んだ自記分光光度計U−3410、日立製作所株式会社製)により波長340〜700nmの範囲における反射率を基材側から測定して評価した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準(100%)として、各波長における反射防止用積層体(反射防止膜)の反射率を測定し、そのうち波長550nmにおける光の反射率を表2および表3に併せて示した。反射率は、3%未満であれば低反射性を有すると判断することができる。
3.3.1. Reflectance The back surface of the obtained cured film was painted with black spray, and a spectral reflectance measurement device (a self-recording spectrophotometer U-3410 incorporating a large sample chamber integrating sphere attachment device 150-09090, manufactured by Hitachi, Ltd.) was used. The reflectance in the wavelength range of 340 to 700 nm was measured from the substrate side and evaluated. Specifically, the reflectance of the antireflection laminate (antireflection film) at each wavelength is measured using the reflectance of the aluminum deposited film as a reference (100%), and the reflectance of light at a wavelength of 550 nm is expressed. 2 and Table 3 are also shown. If the reflectance is less than 3%, it can be determined that the reflectance is low.

3.3.2.耐擦傷性(スチールウール耐性テスト)
得られた硬化膜をスチールウール(ボンスターNo.0000、日本スチールウール株式会社製)を学振型摩擦堅牢度試験機(AB−301、テスター産業株式会社製)に取り付け、硬化膜の表面を荷重200gの条件で10回繰り返し擦過し、当該硬化膜の表面における傷の発生の有無を以下の基準により目視で確認した。評価基準は、以下のとおりである。
AA:硬化膜に傷が発生しない。
A :硬化膜の剥離や傷の発生がほとんど認められないか、あるいは硬化膜にわずかな細い傷が認められる。
B :硬化膜全面に筋状の傷が認められる。
C :硬化膜の剥離が生じる。
3.3.2. Scratch resistance (steel wool resistance test)
The obtained cured film is attached with steel wool (Bonster No. 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) to a Gakushin type friction fastness tester (AB-301, manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.), and the surface of the cured film is loaded Scratching was repeated 10 times under the condition of 200 g, and the presence or absence of scratches on the surface of the cured film was visually confirmed according to the following criteria. The evaluation criteria are as follows.
AA: No damage occurs on the cured film.
A: Almost no peeling of the cured film or generation of scratches is observed, or slight thin scratches are observed on the cured film.
B: A streak is recognized on the entire surface of the cured film.
C: Separation of the cured film occurs.

3.3.3.鉛筆硬度
得られた硬化膜を「JIS K5600−5−4」に準拠し、ガラス基板上に固定させて評価した。
3.3.3. Pencil hardness Based on "JIS K5600-5-4", the obtained cured film was fixed on a glass substrate and evaluated.

Figure 2011203560
Figure 2011203560

Figure 2011203560
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3.4.評価結果
表2および表3の結果から、実施例1〜11の硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜においては、反射率が3%未満となり反射防止性を有していることが分かった。また、耐スチールウール性の結果から耐擦傷性にも優れていることが分かった。
3.4. Evaluation results From the results of Tables 2 and 3, it was found that in the cured films obtained by curing the curable compositions of Examples 1 to 11, the reflectance was less than 3% and had antireflection properties. . Moreover, it turned out that it is excellent also in abrasion resistance from the result of steel wool resistance.

これに対し、表2の結果から、比較例1〜3の硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜においては、耐擦傷性には優れているが、反射率が3%を超えてしまい反射率が劣ることが分かった。   On the other hand, from the results in Table 2, the cured films obtained by curing the curable compositions of Comparative Examples 1 to 3 are excellent in scratch resistance, but the reflectance exceeds 3% and is reflected. The rate was found to be inferior.

なお、実施例2、3、8および比較例1の硬化膜において、ハードコート層のラマン分光測定(日本電子株式会社製、形式「JRS−SYSTEM2000」を使用)を行った。その結果、実施例2、3および8のハードコート層からは、トリアセチルセルロースのカルボニル基に由来する1740cm−1のピークが検出されたが、比較例1のハードコート層からはトリアセチルセルロースに由来するピークは検出されなかった。すなわち、実施例2、3および8のハードコート層中には、基材のトリアセチルセルロースの一部が混入していることが示唆された。 In the cured films of Examples 2, 3, 8 and Comparative Example 1, Raman spectroscopic measurement of the hard coat layer (manufactured by JEOL Ltd., using model “JRS-SYSTEM2000”) was performed. As a result, a peak at 1740 cm −1 derived from the carbonyl group of triacetyl cellulose was detected from the hard coat layers of Examples 2, 3 and 8, but from the hard coat layer of Comparative Example 1 to triacetyl cellulose. No derived peak was detected. That is, it was suggested that a part of the triacetyl cellulose as a base material was mixed in the hard coat layers of Examples 2, 3 and 8.

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the present invention includes substantially the same configuration (for example, a configuration having the same function, method, and result, or a configuration having the same purpose and effect) as the configuration described in the embodiment. In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that achieves the same effect as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. In addition, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

10…セルロース樹脂基材、20…硬化膜、22…粒子、24…ハードコート層、26…低屈折率層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Cellulose resin base material, 20 ... Cured film, 22 ... Particle, 24 ... Hard coat layer, 26 ... Low refractive index layer

Claims (9)

(a)(A)重合性化合物、(B)屈折率が1.40以下である粒子、および(D)溶剤を少なくとも含有する硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布する工程と、
(b)前記硬化性組成物を硬化させて前記セルロース樹脂基材上に硬化膜を形成する工程と、
を含む、前記硬化膜中において前記セルロース樹脂基材と接する面とは反対の面側に前記粒子が偏在している反射防止用積層体の製造方法であって、
前記(D)溶剤100質量%中に、(D1)基材のセルロース樹脂を溶解し、かつ、0.1MPaにおける沸点が80℃以上250℃以下である溶剤を、3質量%以上100質量%以下含有することを特徴とする、反射防止用積層体の製造方法。
(A) applying a curable composition containing (A) a polymerizable compound, (B) particles having a refractive index of 1.40 or less, and (D) a solvent on a cellulose resin substrate;
(B) curing the curable composition to form a cured film on the cellulose resin substrate;
In the cured film, a method for producing an antireflection laminate in which the particles are unevenly distributed on the surface opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate,
In (D) 100% by mass of the solvent, (D1) a solvent in which the base cellulose resin is dissolved and the boiling point at 0.1 MPa is 80 ° C. or more and 250 ° C. or less is 3% by mass or more and 100% by mass or less. A method for producing an antireflection laminate, comprising:
請求項1において、
前記工程(a)と(b)との間に、
前記硬化性組成物を加熱する工程、をさらに含む、反射防止用積層体の製造方法。
In claim 1,
Between the steps (a) and (b),
The manufacturing method of the laminated body for antireflection which further includes the process of heating the said curable composition.
請求項2において、
加熱温度は、前記(D1)成分の沸点よりも低い、反射防止用積層体の製造方法。
In claim 2,
The method for producing an antireflection laminate, wherein the heating temperature is lower than the boiling point of the component (D1).
請求項1ないし請求項3のいずれか一項において、
前記(B)粒子は、中空シリカ粒子である、反射防止用積層体の製造方法。
In any one of Claims 1 to 3,
The method for producing an antireflection laminate, wherein the (B) particles are hollow silica particles.
請求項1ないし請求項4のいずれか一項において、
前記セルロース樹脂基材は、トリアセチルセルロース基材である、反射防止用積層体の製造方法。
In any one of Claims 1 thru | or 4,
The said cellulose resin base material is a manufacturing method of the laminated body for reflection prevention which is a triacetyl cellulose base material.
請求項1ないし請求項5のいずれか一項において、
前記(D1)成分は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、N−メチル−2−ピロリドンおよびγ−ブチロラクトンから選択される少なくとも1種である、反射防止用積層体の製造方法。
In any one of Claims 1 thru | or 5,
The component (D1) is a method for producing an antireflection laminate, wherein the component (D1) is at least one selected from propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, N-methyl-2-pyrrolidone, and γ-butyrolactone.
セルロース樹脂基材上に、(A)重合性化合物、(B)屈折率が1.40以下である粒子を含有する硬化性組成物の硬化膜を有する積層体であって、
前記硬化膜中において前記セルロース樹脂基材と接する面とは反対の面側に前記(B)屈折率が1.40以下である粒子が偏在しており、かつ、前記硬化膜中にセルロース樹脂成分を含有することを特徴とする、反射防止用積層体。
A laminate having a cured film of a curable composition containing (A) a polymerizable compound and (B) particles having a refractive index of 1.40 or less on a cellulose resin substrate,
In the cured film, the (B) particles having a refractive index of 1.40 or less are unevenly distributed on the surface opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate, and the cellulose resin component is present in the cured film. An antireflection laminate, comprising:
(A)重合性化合物と、(B)屈折率が1.40以下である粒子と、(D)溶剤と、を少なくとも含有し、
前記(D)溶剤100質量%中、(D1)基材のセルロース樹脂を溶解し、かつ、0.1MPaにおける沸点が80℃以上250℃以下である溶剤を、3質量%以上100質量%以下含有する、硬化膜中において基材と接する面とは反対の面側に前記粒子が偏在した反射防止積層体形成用の硬化性組成物。
(A) a polymerizable compound, (B) particles having a refractive index of 1.40 or less, and (D) a solvent,
(D) In 100% by mass of the solvent, (D1) 3% by mass or more and 100% by mass or less of a solvent that dissolves the cellulose resin of the base material and has a boiling point at 0.1 MPa of 80 ° C. or higher and 250 ° C. or lower A curable composition for forming an antireflection laminate, in which the particles are unevenly distributed on the side of the cured film opposite to the surface in contact with the substrate.
請求項8において、
前記(B)粒子は、中空シリカ粒子である、硬化性組成物。
In claim 8,
The said (B) particle | grain is a curable composition which is a hollow silica particle.
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