JP2011195515A - Anthracene derivative, resin, curable composition, and cured product - Google Patents

Anthracene derivative, resin, curable composition, and cured product Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anthracene derivative having specific characteristics of anthracene and a diversity of reactions, a resin having high functionality that is obtained from the anthracene derivative and can be applied to a variety of technical fields, and a composition and the like containing the anthracene derivative or the resin.SOLUTION: There are provided the anthracene derivative represented by formula (1), the resin obtained from the anthracene derivative, the composition containing the anthracene derivative or the resin, and a cured product of the composition, (wherein X and Y are each independently a hydroxyaryl group formed by substituting one or two or more hydrogen atoms on an aromatic ring with CHOZ, wherein a plurality of Z are each independently a hydrogen atom or a 1-4C alkyl group).

Description

本発明は、新規なアントラセン誘導体、これを用いた樹脂及び硬化性組成物並びに硬化物に関する。   The present invention relates to a novel anthracene derivative, a resin and a curable composition using the same, and a cured product.

アントラセンは、ベンゼン環が3個縮環した多環芳香族化合物であり、従来、木材の殺虫剤や保存安定剤、塗料等のほか、エポキシ樹脂やカーボンブラックの製造原料、アントラキノン染料の合成原料等の種々の用途に利用されている。また、アントラセンは、上記構造を有するため、構造的な硬さ、炭素密度の高さ、高融点、高屈折率等の特徴に加え、紫外線照射によってπ電子が作用し蛍光を発する等の有用な特性を有している。かかる特性を付加価値として更なる活用を図るべく、アントラセンの様々な応用展開が試みられている。これまでも種々のアントラセン誘導体が、多岐にわたる技術分野で付加価値の高い材料として開発されている。   Anthracene is a polycyclic aromatic compound in which three benzene rings are condensed. Conventionally, wood insecticides, storage stabilizers, paints, epoxy resin and carbon black production raw materials, anthraquinone dye synthesis raw materials, etc. It is used for various applications. In addition, since anthracene has the above-mentioned structure, in addition to features such as structural hardness, high carbon density, high melting point, and high refractive index, anthracene is useful in that π electrons act upon ultraviolet irradiation to emit fluorescence. It has characteristics. Various application developments of anthracene have been attempted in order to further utilize such characteristics as added value. Various anthracene derivatives have been developed as high value-added materials in various technical fields.

このようなアントラセン誘導体に係る技術としては、例えば、アントラセンの9,10位に(メタ)アクリレート基を導入し重合性モノマーとすることで、光ラジカル重合の増感剤として作用する光硬化ポリマー(特開2007−99637号公報等参照)や、紫外線吸収能や難燃性を有するポリマー(特開2008−1637号公報等参照)を得る技術が提案されている。また、フォトレジストの分野においても、アントラセン誘導体は、高感度、高解像性、高エッチング耐性、低昇華性などの利点を有する感放射線性樹脂組成物(特開2005−346024号公報等参照)や、レジスト樹脂とのインターミキシングを防止する反射防止膜(特開平7−82221号公報等参照)等としての活用が検討されている。さらには、電子輸送材料又は発光材料として、アントラセンを有機感光体(OPC)、有機エレクトロルミネッサンス素子、有機太陽電池、有機発光ダイオード等の用途へ応用することも検討されている(特開2009−40765号公報等参照)。また、アントラセンが高屈折率を有するという特徴を生かして、光学材料としての利用の他、高屈折率材料、低屈折率材料及び増感色素等を混合し、露光によって干渉縞を記録するホログラム記録材料としての利用も提案されている(特開平6−295151号公報等参照)。   As a technique relating to such an anthracene derivative, for example, a photo-curing polymer (acting as a sensitizer for photo radical polymerization by introducing a (meth) acrylate group at the 9th and 10th positions of anthracene to form a polymerizable monomer ( Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2007-99637) and a technique for obtaining a polymer having ultraviolet absorbing ability and flame retardancy (see Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-1637, etc.) have been proposed. Also in the field of photoresists, anthracene derivatives are radiation-sensitive resin compositions having advantages such as high sensitivity, high resolution, high etching resistance, and low sublimation (see JP 2005-346024 A). In addition, utilization as an antireflection film (see JP-A-7-82221 etc.) for preventing intermixing with a resist resin has been studied. Furthermore, application of anthracene to organic photoreceptors (OPCs), organic electroluminescent elements, organic solar cells, organic light emitting diodes, etc. as an electron transporting material or a light emitting material has been studied (Japanese Patent Laid-Open No. 2009-2009). No. 40765). Furthermore, taking advantage of the feature that anthracene has a high refractive index, in addition to its use as an optical material, a hologram recording that mixes high refractive index material, low refractive index material, sensitizing dye, etc. and records interference fringes by exposure Use as a material has also been proposed (see JP-A-6-295151, etc.).

一方、ノボラック型フェノール樹脂に着目すると、この樹脂は、一般的に成型品、積層品、シェルモールド、建材、接着材、摩擦材、砥石、電子材料、感熱紙、感圧紙、エポキシ樹脂用硬化剤など、幅広い用途に使用されている。このような中、特に近年のIT分野の急速な発展にも伴い、ノボラック型フェノール樹脂の高耐熱性、高屈折率、蛍光特性の向上等の高機能化、高付加価値化が渇望されている。   On the other hand, focusing on the novolac type phenolic resin, this resin is generally a molded product, laminated product, shell mold, building material, adhesive material, friction material, grindstone, electronic material, thermal paper, pressure sensitive paper, epoxy resin curing agent. It is used for a wide range of applications. Under such circumstances, especially with the rapid development of IT field in recent years, high functionality and high added value such as high heat resistance, high refractive index, and improvement of fluorescence characteristics of novolak type phenol resin are eagerly desired. .

高機能化されたノボラックフェノール樹脂としては、例えば、フルオレン骨格などの剛直な骨格を導入することで耐熱性を向上させた難燃性樹脂原料(特開2003−226727号公報等参照)や、メチロール基を有するビスフェノールフルオレンを用いて効率良くフルオレン骨格を導入した耐熱性や耐エッチング性に優れた感光性樹脂原料(特開2008−273844号公報等参照)、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格などを導入することで耐熱性や機械的強度を高めた熱硬化性樹脂成型材料(特開2009−286888号公報等参照)などが提案されている。   Examples of highly functional novolak phenol resins include flame retardant resin raw materials that have improved heat resistance by introducing a rigid skeleton such as a fluorene skeleton (see JP 2003-226727 A), methylol, and the like. A photosensitive resin material excellent in heat resistance and etching resistance in which a fluorene skeleton is efficiently introduced using a bisphenol fluorene having a group (see JP 2008-273844 A), a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, an anthracene skeleton, etc. A thermosetting resin molding material (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-286888) that has been improved by introducing heat resistance and mechanical strength has been proposed.

また、蛍光特性を有するフェノール−グリオキザールノボラック樹脂を、高密度多層プリント回路基板などに用いられる積層物の原料又は添加物として用い、その蛍光特性を積層品の品質検査である自動光学検査(AOI)に活用することも提案されている(特表2002−542389号公報等参照)。   In addition, phenol-glyoxal novolak resin having fluorescent properties is used as a raw material or additive for laminates used for high-density multilayer printed circuit boards and the like, and automatic optical inspection (AOI) that is a quality inspection of laminated products. It has also been proposed to use this information (see Japanese Patent Application Publication No. 2002-542389).

上述のように、骨格に剛直な構造を導入することにより耐熱性等を改善したノボラック型フェノール樹脂が種々検討されているが、これらのノボラック型樹脂であっても、IT分野を始めとした多種の用途へ応用するに当たっての高屈折率、蛍光特性等の各種機能性においては未だ改善の余地がある。また、このような高付加価値を有する樹脂を合成できる反応性に優れたアントラセン誘導体の開発が待ち望まれている。   As described above, various novolak-type phenolic resins having improved heat resistance and the like by introducing a rigid structure into the skeleton have been studied. Even in these novolak-type resins, there are various types including those in the IT field. There is still room for improvement in various functions such as high refractive index and fluorescence characteristics when applied to the above-mentioned applications. In addition, development of an anthracene derivative excellent in reactivity capable of synthesizing such a resin having a high added value is awaited.

特開2007−99637号公報JP 2007-99637 A 特開2008−1637号公報JP 2008-1637 A 特開2005−346024号公報JP 2005-346024 A 特開平7−82221号公報JP-A-7-82221 特開2009−40765号公報JP 2009-40765 A 特開平6−295151号公報JP-A-6-295151 特開2003−226727号公報JP 2003-226727 A 特開2008−273844号公報JP 2008-273844 A 特開2009−286888号公報JP 2009-286888 A 特表2002−542389号公報Special Table 2002-542389

本発明は、かかる事情を背景になされたものであり、アントラセン特有の特性(高炭素密度、高融点、高屈折率及び紫外線に対する蛍光性能等)と共に高い反応性を兼ね備えたアントラセン誘導体、及びこのアントラセン誘導体を用いて高屈折率及び優れた蛍光特性等の高い機能性を有し、多岐の技術分野での応用展開が可能な樹脂及びこれらを含む組成物を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and anthracene derivatives having high reactivity with characteristics unique to anthracene (such as high carbon density, high melting point, high refractive index, and fluorescence performance with respect to ultraviolet rays), and the anthracene It is an object of the present invention to provide a resin having a high functionality such as a high refractive index and excellent fluorescence characteristics using a derivative, and capable of being applied in various technical fields, and a composition containing these.

上記課題を解決するためになされた発明は、
下記式(1)にて表されるアントラセン誘導体である。
The invention made to solve the above problems is
It is an anthracene derivative represented by the following formula (1).

(式(1)中、X及びYは、それぞれ独立に、芳香環上の1又は2以上の水素原子が*−CHOZで置換されているヒドロキシアリール基である。*は、ヒドロキシアリール基の芳香環上の炭素原子と結合する結合手である。X及びYに含まれる複数のZは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基である。) (In formula (1), X and Y are each independently a hydroxyaryl group in which one or more hydrogen atoms on the aromatic ring are substituted with * —CH 2 OZ. * Is a hydroxyaryl group And a plurality of Z contained in X and Y are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

当該アントラセン誘導体は、アントラセン骨格を有するため、アントラセン特有の諸特性、例えば、高炭素密度、高屈折率及び紫外線に対する蛍光性能等を備える。また、このアントラセン誘導体は、所定位置に2つ以上のCHOZ(メチロール基又はアルコキシメチル基)を有するため、従来のフェノール系化合物に比べて格段に優れた熱硬化性などの反応性を有する。従って、当該アントラセン誘導体は、例えば、高機能性を有する樹脂原料や硬化剤等として好適に用いることができる。 Since the anthracene derivative has an anthracene skeleton, it has various characteristics peculiar to anthracene, such as high carbon density, high refractive index, and fluorescence performance with respect to ultraviolet rays. In addition, since this anthracene derivative has two or more CH 2 OZ (methylol group or alkoxymethyl group) at a predetermined position, it has reactivity such as thermosetting that is remarkably superior to conventional phenol compounds. . Therefore, the anthracene derivative can be suitably used as, for example, a highly functional resin material or curing agent.

上記X及びYは、それぞれ独立に、芳香環上の1又は2の水素原子が*−CHOZで置換されているヒドロキシフェニル基であるとよい。当該アントラセン誘導体は、構造が複雑ではなく効率よく製造することができる上に、熱硬化性等の優れた反応性を発揮することができる。 X and Y are each independently preferably a hydroxyphenyl group in which one or two hydrogen atoms on the aromatic ring are substituted with * —CH 2 OZ. The anthracene derivative is not complicated in structure and can be produced efficiently, and can exhibit excellent reactivity such as thermosetting.

上記Zが、水素原子であるとよい。このように当該アントラセン誘導体が、2つ以上のメチロール基を有することで、より優れた熱硬化性等の反応性を発揮することができる。   Said Z is good in it being a hydrogen atom. Thus, the said anthracene derivative can exhibit more excellent reactivity, such as thermosetting, by having two or more methylol groups.

本発明の樹脂は、上記アントラセン誘導体を用いて得られる樹脂である。当該樹脂は、熱硬化性等の優れた反応性を有すると共に、高屈折率、高ガラス転移点、蛍光特性等の優れた機能性を備えている。   The resin of the present invention is a resin obtained using the above anthracene derivative. The resin has excellent reactivity such as thermosetting, and also has excellent functionality such as high refractive index, high glass transition point, and fluorescence characteristics.

本発明の組成物は、上記アントラセン誘導体又はこのアントラセン誘導体を用いて得られる樹脂を含む組成物であり、硬化性等に優れている。また、本発明の硬化物は、この組成物を硬化して得られる硬化物であり、高耐熱性、高屈折率、高炭素密度、蛍光性能等の高機能性を備えるため、多分野へ応用可能な樹脂等として使用することができる。   The composition of the present invention is a composition containing the above anthracene derivative or a resin obtained using this anthracene derivative, and is excellent in curability and the like. In addition, the cured product of the present invention is a cured product obtained by curing this composition, and has high functionality such as high heat resistance, high refractive index, high carbon density, and fluorescence performance, so it can be applied to various fields. It can be used as a possible resin.

以上説明したように、本発明のアントラセン誘導体は、アントラセン特有の諸特性、例えば、高炭素密度、高屈折率及び紫外線に対する蛍光性能等を備えている。さらに、当該アントラセン誘導体は、アントラセン特有の諸性を備えた上で、メチロール基又はアルコキシメチル基に起因する高い反応性を示すため、各種樹脂原料や硬化剤として用いることができる。   As described above, the anthracene derivative of the present invention has various characteristics peculiar to anthracene, such as high carbon density, high refractive index, and fluorescence performance with respect to ultraviolet rays. Furthermore, since the anthracene derivative has various properties peculiar to anthracene and exhibits high reactivity due to a methylol group or an alkoxymethyl group, it can be used as various resin raw materials and curing agents.

従って、本発明のアントラセン誘導体、これより得られる樹脂、これらを含む組成物及び硬化物は、材料の高機能化や新たな特性の付与に極めて効果的であり、例えば、エポキシ樹脂原料、エポキシ樹脂硬化剤、ポリカーボネート原料、建材、シェルモールド、積層材、成型材料、塗料、記録材料、フォトレジスト材料、反射防止膜、半導体封止材等の電子材料、光学材料、分子磁気メモリー等の磁性材料等多岐の技術分野での応用展開を図ることができる。   Therefore, the anthracene derivative of the present invention, the resin obtained therefrom, the composition containing the same, and the cured product are extremely effective for enhancing the functionality of the material and imparting new characteristics. Curing agents, polycarbonate raw materials, building materials, shell molds, laminated materials, molding materials, paints, recording materials, photoresist materials, antireflection films, electronic materials such as semiconductor sealing materials, optical materials, magnetic materials such as molecular magnetic memory, etc. Applications can be developed in various technical fields.

実施例1のアントラセン誘導体のH−NMRチャートを示す図である。1 is a diagram showing a 1 H-NMR chart of an anthracene derivative of Example 1. FIG. 実施例1のアントラセン誘導体の13C−NMRチャートを示す図である。1 is a diagram showing a 13 C-NMR chart of an anthracene derivative of Example 1. FIG. 実施例1のアントラセン誘導体の吸収スペクトルを示す図である。2 is a graph showing an absorption spectrum of an anthracene derivative of Example 1. FIG. 実施例1のアントラセン誘導体の蛍光スペクトルを示す図である。2 is a graph showing a fluorescence spectrum of an anthracene derivative of Example 1. FIG. 実施例2の樹脂のGPCチャートを示す図である。It is a figure which shows the GPC chart of resin of Example 2. FIG. 実施例2の樹脂の吸収スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the absorption spectrum of resin of Example 2. FIG. 実施例2の樹脂の蛍光スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the fluorescence spectrum of resin of Example 2. FIG. 比較例1の樹脂のGPCチャートを示す図である。It is a figure which shows the GPC chart of resin of the comparative example 1. 比較例2の化合物の吸収スペクトルを示す図である。4 is a graph showing an absorption spectrum of a compound of Comparative Example 2. FIG. 比較例3の化合物の吸収スペクトルを示す図である。6 is a graph showing an absorption spectrum of a compound of Comparative Example 3. FIG. 比較例3の化合物の蛍光スペクトルを示す図である。4 is a graph showing a fluorescence spectrum of a compound of Comparative Example 3. FIG. 比較例4の樹脂のGPCチャートを示す図である。It is a figure which shows the GPC chart of resin of the comparative example 4. 比較例4の樹脂の吸収スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the absorption spectrum of resin of the comparative example 4. 比較例5の樹脂のGPCチャートを示す図である。It is a figure which shows the GPC chart of resin of the comparative example 5. 比較例5の樹脂の吸収スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the absorption spectrum of resin of the comparative example 5. 比較例5の樹脂の蛍光スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the fluorescence spectrum of resin of the comparative example 5.

以下、本発明の実施形態を、アントラセン誘導体、このアントラセン誘導体を用いて得られる樹脂、硬化性組成物及び硬化物についてこの順に詳説する。
<アントラセン誘導体>
本発明のアントラセン誘導体は、上記式(1)で示される。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail in this order for an anthracene derivative, a resin obtained by using the anthracene derivative, a curable composition, and a cured product.
<Anthracene derivative>
The anthracene derivative of the present invention is represented by the above formula (1).

本発明のアントラセン誘導体は、このようにアントラセン骨格を有することによりアントラセン特有の諸特性である高炭素密度、高屈折率及び紫外線に対する蛍光性能等を備えている。   The anthracene derivative of the present invention has an anthracene skeleton as described above, and thus has a high carbon density, a high refractive index, a fluorescence performance with respect to ultraviolet rays, and the like, which are characteristics unique to anthracene.

本発明のアントラセン誘導体を構成するヒドロキシアリール基とは、少なくとも1つのヒドロキシル基を有し、その他の置換基を有してもよい芳香族炭化水素の芳香環から1つの水素を除いた置換基である。上記ヒドロキシアリール基の具体例としては、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基等及びこれらの芳香環上の水素原子が、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルケニル基、アミノ基、メルカプト基等の置換基へ置換されたものが挙げられる。なお、当該芳香環上の置換基は、複数であってもよいが、芳香環の反応性を維持するためには、芳香環上の水素原子が全ては置換されていないことが好ましい。   The hydroxyaryl group constituting the anthracene derivative of the present invention is a substituent obtained by removing one hydrogen from an aromatic ring of an aromatic hydrocarbon which has at least one hydroxyl group and may have other substituents. is there. Specific examples of the hydroxyaryl group include a hydroxyphenyl group, a hydroxynaphthyl group, and the like, and a hydrogen atom on these aromatic rings is a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an alkenyl group, an amino group, or a mercapto group. Is substituted. In addition, although the substituent on the said aromatic ring may be plural, in order to maintain the reactivity of an aromatic ring, it is preferable that all the hydrogen atoms on an aromatic ring are not substituted.

上記アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、単環状又は縮合多環状アルキル基等が挙げられる。これらのアルキル基の具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、tert−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、4−デシルシクロヘキシル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkyl groups. Specific examples of these alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl, octadecyl, isopropyl and isobutyl. , Isopentyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, tert-octyl group, neopentyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group, norbornyl group , Boronyl group, 4-decylcyclohexyl group and the like.

上記アルコキシ基としては、直鎖状、分岐鎖状、単環状又は縮合多環状アルコキシ基等が挙げられる。これらのアルコキシ基の具体例としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、4−デシルシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the alkoxy group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkoxy groups. Specific examples of these alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, nonyloxy, decyloxy, dodecyloxy, octadecyloxy , Isopropoxy group, isobutoxy group, isopentyloxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, tert-octyloxy group, neopentyloxy group, cyclopropyloxy group , Cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, adamantyloxy group, norbornyloxy group, boronyloxy group, 4-decylcyclohexyloxy group and the like.

上記アリール基としては、置換基を有していてもよい芳香環から1つの水素を除いた基が挙げられ、具体例としてはフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アンスリル基、9−アンスリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナフチル基、2−フルオレニル基、9−フルオレニル基、3−ペリレニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,5−キシリル基、メシチル基、p−クメニル基、p−ドデシルフェニル基、o−メトキシフェニル基、m−メトキシフェニル基、p−メトキシフェニル基、2,6−ジメトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,4,5−トリメトキシフェニル基、p−シクロヘキシルフェニル基、4−ビフェニル基、o−フルオロフェニル基、m−クロロフェニル基、p−ブロモフェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、m−カルボキシフェニル基、o−メルカプトフェニル基、p−シアノフェニル基、m−ニトロフェニル基、m−アジドフェニル基等を挙げることができる。   Examples of the aryl group include groups in which one hydrogen is removed from an aromatic ring which may have a substituent, and specific examples include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, and a 1-anthryl group. , 9-anthryl group, 2-phenanthryl group, 3-phenanthryl group, 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 1-acenaphthyl group, 2-fluorenyl group 9-fluorenyl group, 3-perylenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,5-xylyl group, mesityl group, p-cumenyl group, p- Dodecylphenyl group, o-methoxyphenyl group, m-methoxyphenyl group, p-methoxyphenyl group, 2,6-dimethoxyphenyl group, 3,4-dimethoxyphenyl group, , 4,5-trimethoxyphenyl group, p-cyclohexylphenyl group, 4-biphenyl group, o-fluorophenyl group, m-chlorophenyl group, p-bromophenyl group, p-hydroxyphenyl group, m-carboxyphenyl group, An o-mercaptophenyl group, a p-cyanophenyl group, an m-nitrophenyl group, an m-azidophenyl group, and the like can be given.

上記アルケニル基としては、直鎖状、分岐鎖状、単環状又は縮合多環状アルケニル基等が挙げられ、これらは構造中に複数の炭素−炭素二重結合を有していてもよく、具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、イソプロペニル基、イソブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、1,3−ブタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロペンタジエニル基等が挙げられる。   Examples of the alkenyl group include straight chain, branched chain, monocyclic or condensed polycyclic alkenyl groups, and these may have a plurality of carbon-carbon double bonds in the structure. Specific examples As, vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, isopropenyl group, isobutenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, 1,3-butadienyl group, cyclohexadienyl group, cyclopentadienyl group Groups and the like.

上記ヒドロキシアリール基として、上述のような置換基を有するヒドロキアリール基を備えるアントラセン誘導体は、当該アントラセン誘導体の特徴を維持したまま、さらに機能を付加又は調整することができる。   An anthracene derivative having a hydroxyaryl group having a substituent as described above as the hydroxyaryl group can be further added or adjusted while maintaining the characteristics of the anthracene derivative.

例えば、置換基としてアルキル基を有するヒドロキシアリール基を備える当該アントラセン誘導体によれば、当該アントラセン誘導体の多様な反応性を低下させることなく、屈折率や融点等を調整することができる。なお、このような置換アルキル基としては、当該アントラセン誘導体の立体配置安定性の点から、低炭素数であることが好ましく、具体的には炭素数が5以下のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基が特に好ましい。   For example, according to the anthracene derivative provided with a hydroxyaryl group having an alkyl group as a substituent, the refractive index, the melting point, and the like can be adjusted without reducing the various reactivity of the anthracene derivative. Such a substituted alkyl group preferably has a low carbon number from the viewpoint of the steric stability of the anthracene derivative, specifically an alkyl group having 5 or less carbon atoms, a methyl group or An ethyl group is particularly preferred.

また、2以上のヒドロキシル基を有するヒドロキアリール基を備える当該アントラセン誘導体によれば、1つの芳香族環上に複数のヒドロキシル基が存在するので、例えば架橋反応性が向上するなど、更なる応用展開が可能となる。   Further, according to the anthracene derivative having a hydroxyaryl group having two or more hydroxyl groups, since there are a plurality of hydroxyl groups on one aromatic ring, further application development such as improved cross-linking reactivity is achieved. Is possible.

このヒドロキシアリール基の中でも、高屈折性、高炭素密度、剛直性等の点から、置換基として*−CHOZ(*は、ヒドロキシアリール基の芳香環上の炭素原子と結合する結合手である。以下、この結合手を省略する。)のみを有するヒドロキシフェニル基及びヒドロキシナフチル基が好ましく、置換基としてCHOZのみを有するヒドロキシフェニル基が特に好ましく、アントラセン骨格側との結合手に対してパラ位にヒドロキシル基を有し、置換基としてCHOZのみを有するヒドロキシフェニル基が最も好ましい。 Among these hydroxyaryl groups, from the viewpoint of high refraction, high carbon density, rigidity, etc., * -CH 2 OZ (* is a bond that bonds to a carbon atom on the aromatic ring of the hydroxyaryl group as a substituent. In the following, the hydroxyphenyl group and hydroxynaphthyl group having only the bond are omitted, the hydroxyphenyl group having only CH 2 OZ as the substituent is particularly preferable, and the bond with the anthracene skeleton side is preferred. Most preferred is a hydroxyphenyl group having a hydroxyl group at the para position and having only CH 2 OZ as a substituent.

なお、XとYとは、異なっていてもよいが、高屈折性、製造の容易さ等の点から、同一であることが好ましい。   X and Y may be different from each other, but are preferably the same from the viewpoints of high refraction, ease of manufacture, and the like.

当該アントラセン誘導体は、アントラセン骨格の9位及び10位から直接又は連結基を介して結合するヒドロキシアリール基にCHOZ(メチロール基又はアルコキシメチル基)を有することにより熱硬化性を始めとした、優れた反応性を有する。 The anthracene derivative has CH 2 OZ (methylol group or alkoxymethyl group) in a hydroxyaryl group bonded directly or via a linking group from the 9th and 10th positions of the anthracene skeleton, thereby starting thermosetting. Has excellent reactivity.

当該アントラセン誘導体のCHOZにおいて、Zが炭素数1〜4のアルキル基であるアルコキシメチル基とは、具体的には、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、n−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、sec−ブトキシメチル基、t−ブトキシメチル基である。 In CH 2 OZ of the anthracene derivative, the alkoxymethyl group in which Z is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms specifically includes a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, an n-propoxymethyl group, and an isopropoxymethyl group. N-butoxymethyl group, isobutoxymethyl group, sec-butoxymethyl group, and t-butoxymethyl group.

また、CHOZとしては、当該誘導体において反応性の高さを重視する場合はメチロール基(Zが水素原子である基)が好ましく、保存安定性を重視する場合は、メチロール基がアルキル基で保護されたアルコキシメチル基(Zが炭素数1〜4のアルキル基である基)が好ましい。分子中の複数のZは、互いに異なっていてもよいが、製造の容易さの点から同一であることが好ましい。 Further, as CH 2 OZ, a methylol group (a group in which Z is a hydrogen atom) is preferable when importance is attached to the reactivity of the derivative, and a methylol group is an alkyl group when importance is placed on storage stability. A protected alkoxymethyl group (a group in which Z is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) is preferred. Several Z in a molecule | numerator may mutually differ, However, It is preferable that it is the same from the point of the ease of manufacture.

当該アントラセン誘導体におけるこのCHOZの基数としては、ヒドロキシアリール基がヒドロキシフェニル基である場合は、2以上4以下が好ましく、各ヒドロキシフェニル基において、1又は2であることがさらに好ましい。このような数のCHOZを有する当該アントラセン誘導体は、構造が複雑ではなく効率よく製造することができる上に、熱硬化性等の優れた反応性を発揮することができる。 The number of CH 2 OZ groups in the anthracene derivative is preferably 2 or more and 4 or less, more preferably 1 or 2 in each hydroxyphenyl group, when the hydroxyaryl group is a hydroxyphenyl group. The anthracene derivative having such a number of CH 2 OZ is not complicated in structure and can be efficiently produced, and can exhibit excellent reactivity such as thermosetting.

また、当該アントラセン誘導体において、このCHOZは、ヒドロキシアリール基がヒドロキシフェニル基である場合は、ヒドロキシル基に対してオルソ位又はパラ位に位置していることが、効率的に製造できる点から好ましい。 Further, in the anthracene derivative, when the hydroxyaryl group is a hydroxyphenyl group, the CH 2 OZ is located in the ortho position or the para position with respect to the hydroxyl group from the point that it can be efficiently produced. preferable.

なお、当該アントラセン誘導体におけるアントラセン骨格は、本発明の効果を妨げない範囲において、9位及び10位以外の位置に置換基を有していてもよい。このアントラセン骨格の水素原子に置換される置換基としては、上述のヒドロキシアリール基の置換基と同様のもの等を挙げることができるが、効率的な生産性や反応制御性の点からは無置換であるものが好ましい。   In addition, the anthracene skeleton in the anthracene derivative may have a substituent at a position other than the 9th and 10th positions as long as the effects of the present invention are not hindered. Examples of the substituent substituted on the hydrogen atom of the anthracene skeleton include those similar to the above-described substituents of the hydroxyaryl group, but are unsubstituted from the viewpoint of efficient productivity and reaction controllability. Are preferred.

当該アントラセン誘導体としては、具体的には、以下の式(1−1)〜(1−4)を例示することができる。   Specific examples of the anthracene derivative include the following formulas (1-1) to (1-4).

これらの例示した式(1−1)〜(1−4)のアントラセン誘導体のように、式(1)におけるX及びYにおいて、各芳香環上の1又は2の水素原子がCHOZで置換されているアントラセン誘導体が好ましい。当該アントラセン誘導体は、熱硬化性等の反応性がより優れ、かつ、効率よく製造することができる。また、式(1−1)、式(1−2)等の式(1)におけるZが水素原子であるアントラセン誘導体も硬化性等の反応性が優れる点で好ましい。 Like these exemplified anthracene derivatives of the formulas (1-1) to (1-4), 1 or 2 hydrogen atoms on each aromatic ring are substituted with CH 2 OZ in X and Y in the formula (1). Preferred anthracene derivatives are preferred. The anthracene derivative is more excellent in reactivity such as thermosetting and can be produced efficiently. In addition, anthracene derivatives in which Z in Formula (1) such as Formula (1-1) and Formula (1-2) is a hydrogen atom are also preferable in terms of excellent reactivity such as curability.

また、当該アントラセン誘導体は、反応活性なヒドロキシル基(芳香環上のヒドロキシル基及びメチロール基におけるヒドロキシル基)及び芳香環を有することから、アントラセン特有の諸特性を備えた上でビスフェノール系化合物が備える多様な反応性を有する。例えば、当該アントラセン誘導体は、アリル化、グリシジル化、アクリル化されることができる。なお、このような更なる誘導体を得る場合、熱的に不安定なメチロール基を有するアントラセン誘導体より、熱に対し比較的安定なアルコキシメチル基を有するアントラセン誘導体を用いる方が、製造上、容易に上述の更なる誘導体を得ることができる。   In addition, since the anthracene derivative has a reactive hydroxyl group (hydroxyl group on the aromatic ring and hydroxyl group in the methylol group) and an aromatic ring, the anthracene derivative has various characteristics unique to anthracene and a variety of bisphenol compounds. Reactive. For example, the anthracene derivative can be allylated, glycidylated, acrylated. In order to obtain such a further derivative, it is easier to produce an anthracene derivative having an alkoxymethyl group that is relatively stable to heat than an anthracene derivative having a thermally unstable methylol group. Further derivatives as described above can be obtained.

このように当該アントラセン誘導体によれば、各種樹脂原料等に用いることができる等の高い汎用性を発揮することができる。特に、当該アントラセン誘導体は、フェノール骨格がアントラセン環の9位及び10位から配置されていることで、対称性が高く、また、熱のみで縮合を促進させる事が可能な為、樹脂原料として使用する場合のみならず、架橋剤としてベース樹脂の改質等の優れた応用展開が可能となる。特に、当該アントラセン誘導体は、アントラセン骨格の短軸となる9位及び10位にフェノール骨格が配置されているため、ポリマー骨格へ導入された際、当該ポリマーが極めて高い炭素密度を有する等の特有な機能が発揮されることが期待される。   Thus, according to the anthracene derivative, high versatility such as being usable for various resin raw materials can be exhibited. In particular, the anthracene derivative is used as a resin raw material because the phenol skeleton is arranged from the 9th and 10th positions of the anthracene ring, and has high symmetry and can promote condensation only by heat. In addition to this, excellent application development such as modification of the base resin as a cross-linking agent becomes possible. In particular, the anthracene derivative has a phenol skeleton arranged at the 9th and 10th positions, which are the short axis of the anthracene skeleton, and therefore, when introduced into the polymer skeleton, the anthracene derivative has a unique characteristic such that the polymer has a very high carbon density. The function is expected to be demonstrated.

また、当該アントラセン誘導体は、メチロール基又はアルコキシメチル基を有するビスフェノールフルオレン等のフルオレン化合物と比しても、アントラセン骨格を備えていることで同等以上の高屈折率を有している。具体的には、当該アントラセン誘導体の屈折率は1.6以上2.0以下とすることができる。当該アントラセン誘導体の屈折率や融点等の物性は、X、Y及びZを選択することで調整することができる。   Further, the anthracene derivative has an anthracene skeleton and has a high refractive index equal to or higher than that of a fluorene compound such as bisphenolfluorene having a methylol group or an alkoxymethyl group. Specifically, the refractive index of the anthracene derivative can be 1.6 or more and 2.0 or less. The physical properties such as refractive index and melting point of the anthracene derivative can be adjusted by selecting X, Y and Z.

本発明のアントラセン誘導体は、上記の構造を有するため、直接又は反応中間体として多用途に用いられ、例えば、ノボラック型等のフェノール樹脂原料、エポキシ樹脂原料、ポリカーボネート樹脂原料、硬化剤等の各種合成樹脂原料等として用いることができる。また、合成樹脂原料以外にも、例えば農薬中間体や、医薬中間体として用いることができる。   Since the anthracene derivative of the present invention has the above-mentioned structure, it is used for various purposes directly or as a reaction intermediate. For example, various synthesis of a novolak type phenol resin raw material, an epoxy resin raw material, a polycarbonate resin raw material, a curing agent, etc. It can be used as a resin raw material. Moreover, besides a synthetic resin raw material, it can be used as, for example, an agrochemical intermediate or a pharmaceutical intermediate.

<アントラセン誘導体の製造方法>
本発明のアントラセン誘導体は、非反応性含酸素有機溶媒及び酸触媒の存在下にて、フェノール類とアントラセン−9−カルボアルデヒドとを反応させ、ビスフェノールアントラセン化合物を得る第一工程、及び、得られたビスフェノールアントラセン化合物を塩基性触媒の存在下でホルムアルデヒドと反応させる第二工程により製造される。また、第三工程として、酸触媒存在下にて、第二工程にて得られたアントラセン誘導体と、炭素数1〜4の飽和脂肪族アルコールとを反応させ、メチロール基をアルコキシメチル基に変えることも出来る。
<Method for producing anthracene derivative>
The anthracene derivative of the present invention is obtained by reacting a phenol with an anthracene-9-carbaldehyde in the presence of a nonreactive oxygen-containing organic solvent and an acid catalyst to obtain a bisphenolanthracene compound, and The bisphenol anthracene compound is produced by a second step in which it is reacted with formaldehyde in the presence of a basic catalyst. In the third step, the anthracene derivative obtained in the second step is reacted with a saturated aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms in the presence of an acid catalyst to change the methylol group to an alkoxymethyl group. You can also.

<第一工程>
この製造方法の第一工程におけるフェノール類とは芳香環上にヒドロキシル基を有する化合物をいい、フェノール系化合物、ナフトール系化合物等が挙げられる。上記フェノール系化合物とは、フェノール及び芳香環上の水素が他の置換基に置換されたフェノールをいう。上記置換基としては、アルキル基やヒドロキシル基等が挙げられる。この置換基の数としては、アントラセン−9−カルボアルデヒドとの反応性から、4以下が好ましく、2以下が更に好ましく、0が特に好ましい。また、アントラセン−9−カルボアルデヒドとの反応性から、ヒドロキシル基のパラ位に置換基が配置されていないことが好ましい。
<First step>
The phenols in the first step of this production method refer to compounds having a hydroxyl group on the aromatic ring, and examples thereof include phenolic compounds and naphtholic compounds. The said phenol type compound means the phenol by which the hydrogen on phenol and an aromatic ring was substituted by the other substituent. Examples of the substituent include an alkyl group and a hydroxyl group. The number of substituents is preferably 4 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 0, from the reactivity with anthracene-9-carbaldehyde. Moreover, it is preferable that the substituent is not arrange | positioned in the para position of a hydroxyl group from the reactivity with anthracene-9-carbaldehyde.

上記フェノール系化合物としては例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール、2,3,5−トリメチルフェノール、2,3,6−トリメチルフェノール、2−エチルフェノール、4−エチルフェノール、2−イソプロピルフェノール、4−イソプロピルフェノール、2−tert−ブチルフェノール、4−tert−ブチルフェノール、2−シクロヘキシルフェノール、4−シクロヘキシルフェノール、2−フェニルフェノール、4−フェニルフェノール、チモール、2−tert−ブチル−5−メチルフェノール、2−シクロヘキシル−5−メチルフェノール、レゾルシン、2−メチルレゾルシン、カテコール、4−メチルカテコール、ハイドロキノン、ピロガロール等が挙げられる。   Examples of the phenol compound include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4- Xylenol, 3,5-xylenol, 2,3,5-trimethylphenol, 2,3,6-trimethylphenol, 2-ethylphenol, 4-ethylphenol, 2-isopropylphenol, 4-isopropylphenol, 2-tert- Butylphenol, 4-tert-butylphenol, 2-cyclohexylphenol, 4-cyclohexylphenol, 2-phenylphenol, 4-phenylphenol, thymol, 2-tert-butyl-5-methylphenol, 2-cyclohexyl-5-methylphenol, Zorushin, 2-methyl resorcinol, catechol, 4-methyl catechol, hydroquinone, pyrogallol.

上記ナフトール系化合物とは、ナフトール及び芳香環上の水素が他の置換基に置換されたナフトールをいう。上記置換基としてはアルキル基やヒドロキシル基等が挙げられる。この置換基の数としては、アントラセン−9−カルボアルデヒドとの反応性の点から、6以下が好ましく、2以下が更に好ましく、0が特に好ましい。   The naphthol compound refers to naphthol in which naphthol and hydrogen on the aromatic ring are substituted with other substituents. Examples of the substituent include an alkyl group and a hydroxyl group. The number of substituents is preferably 6 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 0 from the viewpoint of reactivity with anthracene-9-carbaldehyde.

上記ナフトール系化合物としては、1−ナフトール、2−ナフトール、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン等が挙げられる。   Examples of the naphthol compounds include 1-naphthol, 2-naphthol, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene and the like can be mentioned.

なお、上記フェノール類は、特にこれらに限定されるものではなく、所望する本発明のアントラセン誘導体の構造に応じて適宜選択される。例えば、上記フェノール類としてフェノールを選択することで、上記式(1)におけるX及びYがヒドロキシフェニル基であるアントラセン誘導体を製造することができる。なお、これらは単独又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The phenols are not particularly limited to these, and are appropriately selected depending on the desired structure of the anthracene derivative of the present invention. For example, by selecting phenol as the phenol, an anthracene derivative in which X and Y in the above formula (1) are hydroxyphenyl groups can be produced. In addition, you may use these individually or in combination of 2 or more types.

また、このフェノール類の配合量の下限としては、アントラセン−9−カルボアルデヒド1モルに対し2モルが好ましく、4モルがさらに好ましい。このフェノール類の配合量の上限としては、アントラセン−9−カルボアルデヒド1モルに対し100モルが好ましく、50モルがさらに好ましく、20モルが特に好ましい。フェノール類の配合量が上記下限未満では、原料の高次縮合物が生成する等の所望でない副反応が生じることがあり、精製に多大なエネルギーを要し、逆に上記上限を超えると未反応のフェノール類を除去するのに多大なエネルギーを要する為、共に非経済的である。   Moreover, as a minimum of the compounding quantity of this phenol, 2 mol is preferable with respect to 1 mol of anthracene-9-carbaldehyde, and 4 mol is more preferable. The upper limit of the amount of the phenols is preferably 100 mol, more preferably 50 mol, and particularly preferably 20 mol with respect to 1 mol of anthracene-9-carbaldehyde. If the blending amount of the phenol is less than the above lower limit, an undesirable side reaction such as formation of a high-order condensate of the raw material may occur, and a large amount of energy is required for purification. Both are uneconomical because it requires a lot of energy to remove the phenols.

本製造方法の第一工程においては、反応溶媒として、分子中に1以上の酸素原子を備える非反応性含酸素有機溶媒を用いる。なお「非反応性」とは、この反応系におけるフェノール類、アントラセン−9−カルボアルデヒド及び合成されるアントラセン誘導体とは反応しないことをいう。この非反応含酸素有機溶媒としては、例えばアルコール類、多価アルコール系エーテル、環状エーテル類、多価アルコール系エステル、ケトン類、エステル類、スルホキシド類、カルボン酸類等を用いることができる。   In the first step of the production method, a non-reactive oxygen-containing organic solvent having one or more oxygen atoms in the molecule is used as a reaction solvent. The term “non-reactive” means that it does not react with phenols, anthracene-9-carbaldehyde and synthesized anthracene derivatives in this reaction system. Examples of the non-reactive oxygen-containing organic solvent include alcohols, polyhydric alcohol ethers, cyclic ethers, polyhydric alcohol esters, ketones, esters, sulfoxides, carboxylic acids, and the like.

アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の一価アルコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール等の二価アルコール、グリセリン等の三価アルコールが挙げられる。   Examples of alcohols include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol, butanediol, pentanediol, hexanediol, ethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, Examples thereof include dihydric alcohols such as propylene glycol and polyethylene glycol, and trihydric alcohols such as glycerin.

多価アルコール系エーテルとしては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノペンチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルメチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル等のグリコールエーテル類が挙げられる。   Examples of the polyhydric alcohol ether include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monopentyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl methyl ether, ethylene glycol mono Examples include glycol ethers such as phenyl ether.

環状エーテル類としては、例えば、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。多価アルコール系エステルとしては、例えば、エチレングリコールアセテート等のグリコールエステル類が挙げられる。ケトン類としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルエチルケトンなどが挙げられる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。スルホキシド類としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等が挙げられる。カルボン酸類としては、例えば、酢酸等が挙げられる。   Examples of cyclic ethers include 1,3-dioxane, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran and the like. Examples of the polyhydric alcohol ester include glycol esters such as ethylene glycol acetate. Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl ethyl ketone. Examples of the esters include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and the like. Examples of the sulfoxides include dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide. Examples of carboxylic acids include acetic acid and the like.

これらの中でもアルコール類及び多価アルコール系エーテルが好ましく、メタノール、エチレングリコール及びエチレングリコールモノメチルエーテルが特に好ましい。   Among these, alcohols and polyhydric alcohol ethers are preferable, and methanol, ethylene glycol, and ethylene glycol monomethyl ether are particularly preferable.

非反応性含酸素有機溶媒は、上記の例示に限定されず、また、それぞれを単独又は2種以上を混合して用いても良い。非反応性含酸素有機溶媒の配合量の下限としては、フェノール類100質量部に対して、1質量部が好ましく、5質量部が更に好ましく、10質量部が特に好ましい。また、非反応性含酸素有機溶媒の配合量の上限としては、フェノール類100質量部に対して、1000質量部が好ましく、500質量部が更に好ましく、10質量部が特に好ましい。非反応性含酸素有機溶媒の配合量が上記下限未満であると、反応副生物の生成が顕著となり、生産性が低下するおそれがある。逆に、非反応性含酸素有機溶媒の配合量が上記上限を超えると、反応速度が低下し、生産性が低下するおそれがある。   The non-reactive oxygen-containing organic solvent is not limited to the above examples, and each may be used alone or in admixture of two or more. The lower limit of the amount of the non-reactive oxygen-containing organic solvent is preferably 1 part by mass, more preferably 5 parts by mass, and particularly preferably 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the phenols. Moreover, as an upper limit of the compounding quantity of a non-reactive oxygen-containing organic solvent, 1000 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of phenols, 500 mass parts is further more preferable, and 10 mass parts is especially preferable. When the blending amount of the non-reactive oxygen-containing organic solvent is less than the above lower limit, the production of reaction by-products becomes remarkable, and the productivity may be reduced. On the other hand, when the blending amount of the non-reactive oxygen-containing organic solvent exceeds the above upper limit, the reaction rate is lowered and the productivity may be lowered.

本製造方法の第一工程における酸触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸、過塩素酸などの無機酸、蓚酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、フェノールスルホン酸などの有機酸、強酸性イオン交換樹脂等を挙げることが出来る。これらの触媒は、単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また、メルカプト酢酸等の反応助触媒を併用しても良い。酸触媒の使用量としては、反応が適当に進む範囲で適宜設定すればよいが、一般的には、フェノール類100質量部に対して、0.1〜20質量部である。   As the acid catalyst in the first step of this production method, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and perchloric acid, organic acids such as oxalic acid, paratoluenesulfonic acid, methanesulfonic acid and phenolsulfonic acid, strongly acidic ions Exchange resin etc. can be mentioned. These catalysts may be used alone, or may be used in combination of two or more kinds, or a reaction promoter such as mercaptoacetic acid may be used in combination. The amount of the acid catalyst used may be appropriately set within a range where the reaction proceeds appropriately, but is generally 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the phenols.

この製造方法第一工程の反応工程は、上記のフェノール類、アントラセン−9−カルボアルデヒド、非反応性含酸素有機溶媒及び酸触媒を反応容器に投入して、所定時間撹拌して行われる。なお、上記反応容器への投入物の投入順序は問わない。   The reaction step of the first step of the production method is performed by adding the above phenols, anthracene-9-carbaldehyde, a non-reactive oxygen-containing organic solvent and an acid catalyst to the reaction vessel and stirring for a predetermined time. In addition, the order of the input of the input material into the reaction vessel is not limited.

この製造方法第一工程の反応工程における反応温度は、通常0〜100℃、好ましくは25〜60℃の範囲で行われる。反応温度が低すぎると、反応時間が長くなる可能性があり、一方、反応温度が高すぎると、高次縮合物及び異性体等の反応副生物の生成が助長され、当該アントラセン誘導体の純度が低下する可能性がある。   The reaction temperature in the reaction step of the first step of the production method is usually 0 to 100 ° C, preferably 25 to 60 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction time may be long. On the other hand, if the reaction temperature is too high, formation of reaction byproducts such as higher-order condensates and isomers is promoted, and the purity of the anthracene derivative is reduced. May be reduced.

この製造方法第一工程の反応工程における反応容器内の圧力は、通常は常圧であるが、加圧又は減圧で行っても良く、具体的には内部圧力(ゲージ圧)が−0.02〜0.2MPaの範囲であることが好ましい。   The pressure in the reaction vessel in the first reaction step of the production method is usually normal pressure, but may be increased or reduced pressure. Specifically, the internal pressure (gauge pressure) is -0.02. It is preferable to be in the range of ~ 0.2 MPa.

この製造方法第一工程の反応工程における反応時間は、用いるフェノール類、非反応性含酸素有機溶媒の種類と量、原料モル比、反応温度、圧力等に左右され、一概に定めることは出来ないが一般的には、1〜48時間の範囲であることが好ましい。   The reaction time in the first reaction step of this production method depends on the phenols to be used, the type and amount of the non-reactive oxygen-containing organic solvent, the raw material molar ratio, the reaction temperature, the pressure, etc., and cannot be determined in general. Is generally in the range of 1 to 48 hours.

この製造方法第一工程の反応終了後、生成物を抽出し、酸触媒の除去を行う。この触媒除去の方法としては、一般的には、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の非水溶性有機溶媒に生成物を溶解し、水洗により除去を行うが、その他中和処理を行った後析出した中和塩を濾別する方法や、アニオン性充填剤の詰まったカラムに反応液を通過させる方法等、特に制限はない。   After completion of the reaction in the first step of the production method, the product is extracted and the acid catalyst is removed. As a method for removing the catalyst, generally, the product is dissolved in a water-insoluble organic solvent such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and is removed by washing with water. There is no particular limitation such as a method of filtering off the Japanese salt or a method of passing the reaction solution through a column packed with an anionic filler.

この製造方法第一工程においては触媒除去後、精製によりビスフェノールアントラセン化合物を取り出す。一般的には、目的物に対して貧溶媒として作用し、その他の副生成物や未反応原料には良溶媒として作用する溶媒(キシレン等)を添加し、析出させた後、濾別、乾燥する方法や、カラムクロマトグラフィーによる方法等によって第一工程の目的物であるビスフェノールアントラセン化合物を精製することができる。   In the first step of the production method, after removing the catalyst, the bisphenolanthracene compound is taken out by purification. In general, a solvent (xylene, etc.) that acts as a poor solvent for the target product and acts as a good solvent for other by-products and unreacted raw materials is precipitated and then filtered and dried. The bisphenol anthracene compound which is the target product of the first step can be purified by a method using a method such as column chromatography.

<第二工程>
本製造方法の第二工程においては、塩基性触媒及び水等の溶媒の存在下にて、第一工程で得られたビスフェノールアントラセン化合物とホルムアルデヒドと反応させることにより行われる。
<Second step>
In the second step of the production method, the reaction is performed by reacting the bisphenolanthracene compound obtained in the first step with formaldehyde in the presence of a basic catalyst and a solvent such as water.

本製造方法の第二工程における塩基性触媒は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩;リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムブトキシド等のアルカリ金属アルコラート;トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン等の3級アミン等が挙げられ、これらのうちの1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、アルカリ金属水酸化物が好ましく、更にこの中でも水酸化ナトリウムが好ましく用いられる。これらの塩基性触媒は、通常、水で希釈して使用するが、第一工程で得られたビスフェノールアントラセン化合物の水溶解性を損なわない範囲において、メタノール等の有機溶媒を併用しても良い。塩基性触媒の使用量としては、ビスフェノールアントラセン化合物1質量部に対して0.1〜20質量部が好ましく、より好ましくは、1〜10質量部である。   Examples of the basic catalyst in the second step of the production method include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; sodium phosphate and the like Alkali metal phosphates such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium butoxide and the like; trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene, Examples include tertiary amines such as 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, and one or more of these can be used in combination. Among these, alkali metal hydroxides are preferable, and sodium hydroxide is preferably used among these. These basic catalysts are usually used after being diluted with water, but an organic solvent such as methanol may be used in combination as long as the water solubility of the bisphenolanthracene compound obtained in the first step is not impaired. As a usage-amount of a basic catalyst, 0.1-20 mass parts is preferable with respect to 1 mass part of bisphenol anthracene compounds, More preferably, it is 1-10 mass parts.

本製造方法の第二工程におけるビスフェノールアントラセン化合物と、塩基性触媒との反応モル比としては、第一工程のビスフェノールアントラセン化合物1モルに対して、塩基性触媒0.5〜20モルが好ましく、さらに好ましくは、1〜10モルである。   As a reaction molar ratio of the bisphenol anthracene compound and the basic catalyst in the second step of this production method, 0.5 to 20 mol of the basic catalyst is preferable with respect to 1 mol of the bisphenol anthracene compound in the first step. Preferably, it is 1-10 mol.

本製造方法の第二工程におけるホルムアルデヒドの使用量としては、ビスフェノールアントラセン化合物1モルに対して2〜20モルが好ましい。なお、この第二工程におけるホルムアルデヒドとしては、パラホルムアルデヒドであってもよい。   As the usage-amount of formaldehyde in the 2nd process of this manufacturing method, 2-20 mol is preferable with respect to 1 mol of bisphenol anthracene compounds. The formaldehyde in this second step may be paraformaldehyde.

本製造方法の第二工程における反応温度は、−10〜100℃であり、好ましくは、0〜50℃である。反応時間は、触媒量、反応モル比、反応温度、圧力等に依存するため一概に定める事は出来ないが、通常48時間以内である事が好ましい。   The reaction temperature in the 2nd process of this manufacturing method is -10-100 degreeC, Preferably, it is 0-50 degreeC. The reaction time depends on the catalyst amount, the reaction molar ratio, the reaction temperature, the pressure and the like, and thus cannot be determined unconditionally, but it is usually preferably within 48 hours.

本製造方法の第二工程における反応圧力は、通常は常圧であるが、加圧又は減圧下で反応を行っても良く、具体的には内部圧力(ゲージ圧)が−0.02〜0.2MPaが好ましい。   The reaction pressure in the second step of this production method is usually normal pressure, but the reaction may be performed under pressure or reduced pressure. Specifically, the internal pressure (gauge pressure) is -0.02 to 0. .2 MPa is preferred.

本製造方法第二工程の反応終了後、生成物を抽出し、塩基性触媒の除去を行う。この触媒除去の方法としては、一般的には中和処理を行った後、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の非水溶性有機溶媒に生成物を溶解し、水洗により中和塩除去を行うことができる。中和剤としては、特に制限はないが、通常希硫酸を用いる。   After completion of the reaction in the second step of the production method, the product is extracted and the basic catalyst is removed. As a method for removing the catalyst, generally, after neutralization treatment, the product can be dissolved in a water-insoluble organic solvent such as methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone, and neutralized salt can be removed by washing with water. . The neutralizing agent is not particularly limited, but dilute sulfuric acid is usually used.

本製造方法第二工程においては塩基性触媒除去後、精製により目的物を取り出す。一般的には、目的物に対して貧溶媒として作用し、その他の副生成物や未反応原料には良溶媒として作用する溶媒(トルエン等)を添加し、析出させた後濾別、乾燥する方法や、カラムガスクロマトグラフィーによる方法等によって第二工程の目的物であるアントラセン誘導体(メチロール体)を精製し、得ることができる。   In the second step of this production method, the target product is taken out by purification after removing the basic catalyst. In general, a solvent (toluene, etc.) that acts as a poor solvent for the target product and acts as a good solvent for other by-products and unreacted raw materials is added, precipitated, filtered and dried. The anthracene derivative (methylol form), which is the target product of the second step, can be purified and obtained by a method, a method by column gas chromatography, or the like.

<第三工程>
本製造方法の第三工程は、必ずしも必要ではないが、第二工程で得られたアントラセン誘導体の安定性を高めたい場合や、硬化剤として用いる場合に硬化開始温度を高めたい場合に行う工程である。本製造方法の第三工程では、酸触媒下にて、第二工程で得られたアントラセン誘導体と炭素数1〜4の飽和脂肪族アルコールとを反応させることによって製造される。
<Third step>
The third step of the production method is not necessarily required, but is a step performed when it is desired to increase the stability of the anthracene derivative obtained in the second step, or when it is desired to increase the curing start temperature when used as a curing agent. is there. In the 3rd process of this manufacturing method, it manufactures by making the anthracene derivative obtained at the 2nd process, and a C1-C4 saturated aliphatic alcohol react under an acid catalyst.

本製造方法の第三工程における炭素数1〜4の飽和脂肪族アルコールは、反応溶剤を兼ねた反応原料であり、メチロール基に対して目的とする保護基を与えるように適宜選択すればよく、具体的には、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプルピルアルコール、n−ブタノール、イソブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール等が挙げられる。これらの中でも、メタノール及びエタノールが好ましい。炭素数1〜4の低級アルコールの使用量は、第二工程で得られたアントラセン誘導体100質量部に対し、50〜5000質量部であり、好ましくは10〜1000質量部である。   The saturated aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms in the third step of the production method is a reaction raw material that also serves as a reaction solvent, and may be appropriately selected so as to give a desired protective group to the methylol group. Specific examples include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol and the like. Among these, methanol and ethanol are preferable. The usage-amount of a C1-C4 lower alcohol is 50-5000 mass parts with respect to 100 mass parts of anthracene derivatives obtained at the 2nd process, Preferably it is 10-1000 mass parts.

本製造方法の第三工程における酸触媒としては、濃硫酸、塩酸、硝酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、蓚酸、強酸性イオン交換樹脂などが用いられるが、その中でも、濃硫酸が好ましい。また、この酸触媒の使用量は第二工程で得られたアントラセン誘導体100質量部に対して、通常0.1〜100質量部、好ましくは、0.5〜20質量部である。   As the acid catalyst in the third step of this production method, concentrated sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, oxalic acid, strong acidic ion exchange resin, etc. are used, among them. Concentrated sulfuric acid is preferred. Moreover, the usage-amount of this acid catalyst is 0.1-100 mass parts normally with respect to 100 mass parts of anthracene derivatives obtained at the 2nd process, Preferably, it is 0.5-20 mass parts.

本製造方法の第三工程における反応温度は、通常0〜100℃であり、好ましくは40〜70℃である。また、反応時の圧力は、前述の第二工程と同様であり、反応時間は、通常48時間以内である。   The reaction temperature in the third step of the production method is usually from 0 to 100 ° C, preferably from 40 to 70 ° C. Moreover, the pressure at the time of reaction is the same as that of the above-mentioned 2nd process, and reaction time is usually within 48 hours.

本製造方法第三工程の反応終了後、酸触媒の除去を行う。この触媒除去の方法としては一般的には反応溶媒兼反応原料である炭素数1〜4の飽和脂肪族アルコールを減圧蒸留で除去した後、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の非水溶性有機溶媒に生成物を溶解し、水洗により除去を行う。炭素数1〜4の飽和脂肪族アルコールを減圧除去する前に、水酸化ナトリウム等の中和剤を用いて中和してもよい。   After completion of the reaction in the third step of the production method, the acid catalyst is removed. As a method for removing this catalyst, in general, a saturated aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms, which is a reaction solvent and reaction raw material, is removed by distillation under reduced pressure, and then generated in a water-insoluble organic solvent such as methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone. Dissolve the product and remove by washing with water. Before removing the saturated aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms under reduced pressure, it may be neutralized using a neutralizing agent such as sodium hydroxide.

本製造方法第三工程においては酸触媒除去後、精製により目的物を取り出す。一般的には、目的物に対して貧溶媒として作用し、その他の副生成物や未反応原料には良溶媒として作用する有機溶媒を添加し、析出させた後濾別、乾燥する方法によって第三工程の目的物であるアントラセン誘導体(アルコキシメチル体)を得ることができる。   In the third step of the production method, the target product is removed by purification after removing the acid catalyst. In general, an organic solvent that acts as a poor solvent for the target product and that acts as a good solvent for other by-products and unreacted raw materials is added, precipitated, filtered, and dried. An anthracene derivative (alkoxymethyl derivative), which is the target product of the three steps, can be obtained.

<樹脂>
本発明の樹脂は、当該アントラセン誘導体を用いて得られる樹脂であり、例えば、当該アントラセン誘導体とフェノール類又はビスフェノール類とを含む混合物を加熱し、縮合させたノボラック型フェノール樹脂等である。当該アントラセン誘導体は、CHOZ(メチロール基又はアルコキシメチル基)を有するため、一般的なアントラセン誘導体とフェノール類又はビスフェノール類とをホルムアルデヒド等の縮合剤を利用して縮合する場合と比べ、反応性が高い。従って、本発明のアントラセン誘導体をモノマーとして用いることで、未反応及び低分子量のアントラセン骨格が残りがたく、容易に高分子量の樹脂を得ることができる。
<Resin>
The resin of the present invention is a resin obtained by using the anthracene derivative, for example, a novolak type phenol resin obtained by heating and condensing a mixture containing the anthracene derivative and phenols or bisphenols. Since the anthracene derivative has CH 2 OZ (methylol group or alkoxymethyl group), it is more reactive than the case of condensing a general anthracene derivative and phenols or bisphenols using a condensing agent such as formaldehyde. Is expensive. Therefore, by using the anthracene derivative of the present invention as a monomer, an unreacted and low molecular weight anthracene skeleton hardly remains and a high molecular weight resin can be easily obtained.

上記フェノール類としては、具体的には、フェノール、クレゾール、キシレノール、ナフトール、レゾルシノール等が挙げられる。また、上記ビスフェノール類としては、ビスフェノール−A、ビスフェノール−F、ビスフェノール−S、ビスフェノールフルオレン等が挙げられる。   Specific examples of the phenols include phenol, cresol, xylenol, naphthol, resorcinol and the like. Examples of the bisphenols include bisphenol-A, bisphenol-F, bisphenol-S, and bisphenolfluorene.

重合の際のフェノール類又はビスフェノール類の芳香環1つに対する当該アントラセン誘導体のCHOZ(メチロール基又はアルコキシメチル基)の数の割合としては、1.0〜2.0が好ましい。なお、未反応のフェノール類又はビスフェノール類は、減圧蒸留や、再結晶などの方法で除去しておくことが好ましい。 As a ratio of the number of CH 2 OZ (methylol group or alkoxymethyl group) of the anthracene derivative to one aromatic ring of phenols or bisphenols during polymerization, 1.0 to 2.0 is preferable. In addition, it is preferable to remove unreacted phenols or bisphenols by a method such as distillation under reduced pressure or recrystallization.

本発明の樹脂は、当該アントラセン誘導体から得られることで、高い屈折率、ガラス転移点、炭素密度を備え、また、蛍光特性を有する。例えば、当該樹脂の屈折率としては、1.60以上2.00以下程度である。また、当該樹脂のガラス転移温度としては、135度以上150℃以下程度である。また、当該樹脂は、高炭素密度を有し、当該樹脂の残炭率としては、35%以上50%以下程度である。   Since the resin of the present invention is obtained from the anthracene derivative, it has a high refractive index, a glass transition point, a carbon density, and has fluorescence characteristics. For example, the refractive index of the resin is about 1.60 or more and 2.00 or less. Further, the glass transition temperature of the resin is about 135 ° C. or more and 150 ° C. or less. Moreover, the resin has a high carbon density, and the residual carbon ratio of the resin is about 35% to 50%.

<硬化性組成物>
当該硬化性組成物は、本発明のアントラセン誘導体又はこのアントラセン誘導体から得られる重合体を含むものである。
<Curable composition>
The said curable composition contains the polymer obtained from the anthracene derivative of this invention or this anthracene derivative.

この硬化性組成物としては、例えば、ノボラック型フェノール樹脂及び硬化剤を含み、さらにその他の任意成分を含んでいる組成物が挙げられる。但し、上記組成物においては硬化剤として当該アントラセン誘導体が用いられているか、ノボラック型フェノール樹脂として当該アントラセン誘導体から得られた樹脂が用いられている。この硬化性組成物の調製の方法としては、特に限定されず、例えばノボラック型フェノール樹脂と硬化剤を溶融混合や粉砕混合をしてもよいし、有機溶剤の存在下に溶解混合してもよい。   As this curable composition, the composition containing a novolak-type phenol resin and a hardening | curing agent, and the other arbitrary component is mentioned, for example. However, in the above composition, the anthracene derivative is used as a curing agent, or a resin obtained from the anthracene derivative is used as a novolac-type phenol resin. The method for preparing this curable composition is not particularly limited, and for example, a novolac type phenol resin and a curing agent may be melt-mixed or pulverized or dissolved and mixed in the presence of an organic solvent. .

上記ノボラック型フェノール樹脂としては、当該アントラセン誘導体から得られた樹脂のほか、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、キシレノールノボラック等を挙げることができ、これらの樹脂の構造としては、ランダムノボラック型でもハイオルソノボラック型でも用いることができる。なお、ノボラック型フェノール樹脂のフェノール性水酸基の一部がグリシジルエーテル化されていても構わない。   Examples of the novolac type phenolic resin include resins obtained from the anthracene derivatives, phenol novolacs, cresol novolacs, xylenol novolacs, and the like. But it can also be used. A part of the phenolic hydroxyl group of the novolak type phenol resin may be glycidyl etherified.

上記硬化剤としては、当該アントラセン誘導体のほか、メチロール化合物、アルコキシメチル化合物、ヘキサミン等を挙げることができる。上記メチロール化合物としては、2,6−ジメチロール−p−クレゾール等のモノマーのジメチロール化合物、ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−5−メチルフェニル)メタン等のダイマーのジメチロール化合物、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル)プロパン等のテトラメチロール化合物等が挙げられる。上記アルコキシメチル化合物としては、2,6−ジメトキシメチル−p−クレゾール等のモノマーのジアルコキシメチル化合物、ビス(4−ヒドロキシ−3−メトキシメチル−5−メチルフェニル)メタン等のダイマーのジアルコキシメチル化合物、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシメチルフェニル)プロパン等のテトラアルコキシメチル化合物等が挙げられる。   As said hardening | curing agent, a methylol compound, an alkoxymethyl compound, a hexamine etc. other than the said anthracene derivative can be mentioned. Examples of the methylol compound include monomeric dimethylol compounds such as 2,6-dimethylol-p-cresol, dimer dimethylol compounds such as bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-5-methylphenyl) methane, and 2,2- And tetramethylol compounds such as bis (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) propane. Examples of the alkoxymethyl compound include dialkoxymethyl compounds of monomers such as 2,6-dimethoxymethyl-p-cresol and dialkoxymethyl dimers such as bis (4-hydroxy-3-methoxymethyl-5-methylphenyl) methane. Compounds, tetraalkoxymethyl compounds such as 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethoxymethylphenyl) propane, and the like.

当該硬化性組成物における他の成分としては、各樹脂を製造する際に使用される公知のものが挙げられる。この他の成分としては、溶媒、無機充填剤、顔料、揺変性付与剤、流動性向上剤、他のモノマー等を挙げることができる。   As another component in the said curable composition, the well-known thing used when manufacturing each resin is mentioned. Examples of other components include a solvent, an inorganic filler, a pigment, a thixotropic agent, a fluidity improver, and other monomers.

上記溶媒としては、組成物構成によって異なるが、例えば、エーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類等を挙げることができる。   The solvent varies depending on the composition of the composition. For example, ethers, diethylene glycol alkyl ethers, ethylene glycol alkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ether pro Pionates, aromatic hydrocarbons, ketones, esters and the like can be mentioned.

また、上記無機充填剤としては、球状あるいは破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉末、ガラス粉末、マイカ、タルク、炭酸カルシウム、アルミナ、水和アルミナ等を挙げることができる。上記顔料としては、有機系又は無機系の体質顔料、鱗片状顔料等を挙げることができる。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系等を挙げることができ、上記流動性向上剤としては、フェニルグリシジルエーテル、ナフチルグリシジルエーテル等を挙げることができる。   Examples of the inorganic filler include silica powder such as spherical or crushed fused silica and crystalline silica, alumina powder, glass powder, mica, talc, calcium carbonate, alumina, hydrated alumina and the like. Examples of the pigment include organic or inorganic extender pigments and scaly pigments. Examples of the thixotropic agent include silicon-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, oxidized polyethylene wax, organic bentonite-based, and the like. Can be mentioned.

この硬化性組成物は、塗料、接着剤などの用途に用いられる他、以下に詳述する高機能性を有する硬化物を得るための材料等として用いることができる。   In addition to being used for applications such as paints and adhesives, the curable composition can be used as a material for obtaining a cured product having high functionality, which will be described in detail below.

<硬化物>
本発明の硬化物は、上記硬化性組成物を加熱することで硬化して得られるものである。当該硬化物は各種樹脂として使用することができる。当該硬化物は、アントラセン骨格に由来する高屈折率、高炭素密度、蛍光性能といった広範の用途に有用な各特性を付与する他、耐エッチング性のような電子材料用途特有の特性も付与する事ができ、高汎用性の材料として様々な用途に用いることができる。
<Hardened product>
The cured product of the present invention is obtained by curing the curable composition by heating. The cured product can be used as various resins. In addition to imparting various properties useful for a wide range of applications such as high refractive index, high carbon density, and fluorescence performance derived from the anthracene skeleton, the cured product also imparts properties specific to electronic materials such as etching resistance. It can be used for various purposes as a highly versatile material.

本発明の硬化物は、例えば、建材、摩擦材、砥石、記録材料、フォトレジスト材料、反射防止膜、半導体封止材等の電子材料、光学材料、有機EL材料、分子磁気メモリー等の磁性材料等に用いることができる。   The cured product of the present invention is, for example, a magnetic material such as a building material, a friction material, a grindstone, a recording material, a photoresist material, an antireflection film, a semiconductor encapsulating material, an optical material, an organic EL material, a molecular magnetic memory, etc. Etc. can be used.

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は、本実施例によってなんら限定されるものではない。なお、得られたアントラセン誘導体及び樹脂等の測定は、下記測定機器及び測定方法により行った。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by this Example. The obtained anthracene derivative, resin, and the like were measured by the following measuring equipment and measuring method.

<GPC純度>
GPC純度は、東ソー製HLC−8220型GPC、RI検出器、TSK−Gel SuperHZ2000+HZ1000+HZ1000(4.6mmφ×150mm)カラムを用い、展開溶媒としてテトラヒドロフランを0.35ml/分で送液し、目的物ピークの面積比によって求めた。
<GPC purity>
The GPC purity was measured using a Tosoh HLC-8220 GPC, RI detector, TSK-Gel SuperHZ2000 + HZ1000 + HZ1000 (4.6 mmφ × 150 mm) column, and tetrahydrofuran was fed at 0.35 ml / min as a developing solvent. Determined by area ratio.

<HPLC純度>
HPLC純度及び反応の終点確認は、島津製作所製HPLC Promineceシリーズ、UV検出器SPD−20A(246nm)、GLサイエンス製ODS−3(4.6mmφ×250mm)カラムを用い、展開溶媒として水/アセトニトリル=40/60を1.0ml/分で送液し、目的物ピークの面積比によって求めた。
<HPLC purity>
HPLC purity and reaction end point confirmation were performed using HPLC Promince series manufactured by Shimadzu Corporation, UV detector SPD-20A (246 nm), ODS-3 (4.6 mmφ × 250 mm) column manufactured by GL Science, and water / acetonitrile = developing solvent = 40/60 was fed at 1.0 ml / min, and the area ratio of the target product peak was determined.

<分子量>
分子量は、東ソー製HLC−8220型GPC、検出器(UV254nm)、TSK−Gel G4000HXL+G2000HXL(7.8mmφ×300mm)カラムを用い、展開溶媒としてテトラヒドロフランを1.00ml/分で送液して測定し、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)を求めた。
<Molecular weight>
The molecular weight was measured by using Tosoh HLC-8220 GPC, detector (UV254 nm), TSK-Gel G4000H XL + G2000H XL (7.8 mmφ × 300 mm) column, and tetrahydrofuran as a developing solvent at 1.00 ml / min. The weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene was measured.

<融点及びガラス転移温度(Tg)>
融点は、リガク製DSC8230型示差走査熱量計にて、窒素雰囲気下5℃/分の昇温速度によるピークトップ法にて求めた。また、ガラス転移温度は同様の条件で測定し、中点ガラス転移温度を求めた。
<Melting point and glass transition temperature (Tg)>
The melting point was determined by a peak top method with a temperature rising rate of 5 ° C./min under a nitrogen atmosphere with a DSC8230 differential scanning calorimeter manufactured by Rigaku. Moreover, the glass transition temperature was measured on the same conditions, and the midpoint glass transition temperature was calculated | required.

<残炭率>
残炭率は、リガク製TG8230型示差熱天秤にて、窒素雰囲気下10℃/分の昇温速度で830℃までの測定を行い、重量減少率を100%から除した数値で求めた。
<Remaining charcoal rate>
The residual charcoal rate was determined by a numerical value obtained by measuring up to 830 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min under a nitrogen atmosphere using a TG8230 differential thermal balance manufactured by Rigaku, and dividing the weight reduction rate from 100%.

H−NMR及び13C−NMR>
H−NMR及び13C−NMRは、バリアン社製UNITY−INOVA 400MHzを用い、TMSを基準物質としてDMSO−d6溶媒で測定した。
<1 H-NMR and 13 C-NMR>
1 H-NMR and 13 C-NMR were measured with DMSO-d6 solvent using TUN as a reference substance, using UNITY-INOVA 400 MHz manufactured by Varian.

<屈折率>
屈折率は、京都電子工業製RA−520N型屈折率計を用い、25℃にて1、5及び10質量%の各濃度でプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)に溶解して測定し、検量線を作成して100質量%時の換算屈折率を求めた。
<Refractive index>
The refractive index is measured by dissolving in propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) at concentrations of 1, 5 and 10% by mass at 25 ° C. using a RA-520N refractometer manufactured by Kyoto Electronics Industry. And the converted refractive index at 100% by mass was determined.

<吸収スペクトル及び蛍光スペクトル>
吸収スペクトルは、日本分光製分光光度計V−570を用いて1×10−5mol/L濃度でDMSOに溶解して測定を行い、蛍光スペクトルは、日立ハイテクノロジーズ社製蛍光分光光度計F−4010を用い、1×10−5mol/L濃度でDMSOに溶解して極大波長で励起させて測定を行った。また、アズワン製ハンディーUVランプSLUV−4を用いて、365nmの紫外線を照射し、発光の有無を観察した。
<Absorption spectrum and fluorescence spectrum>
The absorption spectrum was measured by dissolving in DMSO at a concentration of 1 × 10 −5 mol / L using a spectrophotometer V-570 manufactured by JASCO Corporation, and the fluorescence spectrum was measured by a fluorescence spectrophotometer F− manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. Using 4010, measurement was performed by dissolving in DMSO at a concentration of 1 × 10 −5 mol / L and exciting at the maximum wavelength. Moreover, the presence or absence of light emission was observed by irradiating 365 nm ultraviolet rays using a handy UV lamp SLUV-4 manufactured by ASONE.

[合成例1]
300mlの還流管付き反応容器にフェノール(112.8g,1.20mol)、アントラセン−9−カルボアルデヒド(49.4g,0.24mol)及びメタノール(11.3g)を入れ、40℃にて溶解した。濃硫酸(5.6g)を投入し、40℃で24時間反応を行った。次いで、反応液をメチルイソブチルケトン(169.2g)に溶解し、蒸留水(56.4g)にて水洗を数回行って触媒を除去した。減圧下にて、メチルイソブチルケトン及びフェノールを留去した後、キシレン(169.2g)及び蒸留水(11.3g)投入して10℃で攪拌した。析出した結晶を濾別後、減圧乾燥を行って、淡黄色の9−(4−ヒドロキシベンジル)−10−(4−ヒドロキシフェニル)アントラセン48.3g(収率53.3%)を得た。
[Synthesis Example 1]
Phenol (112.8 g, 1.20 mol), anthracene-9-carbaldehyde (49.4 g, 0.24 mol) and methanol (11.3 g) were placed in a 300 ml reaction vessel with a reflux tube and dissolved at 40 ° C. . Concentrated sulfuric acid (5.6 g) was added, and the reaction was performed at 40 ° C. for 24 hours. Next, the reaction solution was dissolved in methyl isobutyl ketone (169.2 g), and washed with distilled water (56.4 g) several times to remove the catalyst. After distilling off methyl isobutyl ketone and phenol under reduced pressure, xylene (169.2 g) and distilled water (11.3 g) were added and stirred at 10 ° C. The precipitated crystals were separated by filtration and dried under reduced pressure to obtain 48.3 g (yield 53.3%) of pale yellow 9- (4-hydroxybenzyl) -10- (4-hydroxyphenyl) anthracene.

[実施例1]
300mlの還流管付き反応容器に合成例1で得られた結晶(26.3g,0.07mol)、純水263.2g、48%苛性ソーダ(23.4g,0.28mol)を入れ、40℃で溶解した。37%ホルムアルデヒド水溶液(45.4g,0.56mol)を投入し、40℃で24時間反応を行った。次いで、反応液をメチルエチルケトン(263.2g)に溶解した後、20%硫酸で中和した。撹拌を止めて静置し、水層を除去した。減圧下にてメチルエチルケトンを留去した後、メチルイソブチルケトン(263.5g)及びトルエン(525.0g)を加え、10℃で撹拌した。析出した結晶を濾別し、粗結晶43.6gを得た。得られた粗結晶を、メタノール(43.6g)、トルエン(43.6g)に溶解した後10℃で撹拌し、析出した結晶を濾別し、減圧乾燥を行って、実施例1のアントラセン誘導体である淡黄色結晶25.4g(収率73.0%)を得た。
[Example 1]
Into a 300 ml reaction vessel equipped with a reflux tube, the crystals obtained in Synthesis Example 1 (26.3 g, 0.07 mol), pure water 263.2 g, 48% caustic soda (23.4 g, 0.28 mol) were placed, and at 40 ° C. Dissolved. A 37% aqueous formaldehyde solution (45.4 g, 0.56 mol) was added, and the reaction was performed at 40 ° C. for 24 hours. Next, the reaction solution was dissolved in methyl ethyl ketone (263.2 g), and then neutralized with 20% sulfuric acid. Stirring was stopped and the mixture was allowed to stand, and the aqueous layer was removed. Methyl ethyl ketone was distilled off under reduced pressure, methyl isobutyl ketone (263.5 g) and toluene (525.0 g) were added, and the mixture was stirred at 10 ° C. The precipitated crystals were separated by filtration to obtain 43.6 g of crude crystals. The obtained crude crystals were dissolved in methanol (43.6 g) and toluene (43.6 g) and then stirred at 10 ° C. The precipitated crystals were separated by filtration and dried under reduced pressure to obtain the anthracene derivative of Example 1. As a result, 25.4 g (yield 73.0%) of pale yellow crystals was obtained.

得られた結晶(実施例1のアントラセン誘導体)は、GPC純度98.6%、HPLC純度98.5%、融点161℃、換算屈折率1.655(25℃)であり、H−NMR(400MHz,DMSO−d6,δ,ppm/4.4,4.7,8H,−C OH/5.0,2H,−C −/5.0〜6.0,4H,−CH/7.0,7.2,4H,Phenyl−/7.4,7.5,7.7,8.4,8H,Anthryl−/7.8〜9.2,2H,Phenyl−O)及び13C−NMR(400MHz,DMSO−d6,δ,ppm/32.8,−−/52.5,52.5−OH/125.5,128.4,128.5,128.7,129.2,131.7,150.1,151.3,−Phenyl/125.2,125.4,125.9,127.7,129.9,130.2,132.7,137.0,−Anthryl)にて9−(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルベンジル)−10−(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル)アントラセンであることを確認した。図1にH−NMRチャート、図2に13C−NMRチャートを示す。またUVランプ(365nm)照射時の青色の発光を目視にて確認した。図3に吸収スペクトル、図4に蛍光スペクトル(励起波長:381nm)を示す。 The obtained crystal (anthracene derivative of Example 1) had a GPC purity of 98.6%, an HPLC purity of 98.5%, a melting point of 161 ° C., a converted refractive index of 1.655 (25 ° C.), and 1 H-NMR ( 400 MHz, DMSO-d6, δ, ppm / 4.4, 4.7, 8H, -C H 2 OH / 5.0, 2H, -C H 2- / 5.0 to 6.0, 4H, -CH 2 O H /7.0,7.2,4H,Phenyl- H /7.4,7.5,7.7,8.4,8H,Anthryl- H /7.8~9.2,2H , Phenyl-O H) and 13 C-NMR (400MHz, DMSO -d6, δ, ppm / 32.8, - C H 2 - / 52.5,52.5- C H 2 OH / 125.5,128. 4,128.5,128.7,129.2,131.7,150.1,151.3 , - Phenyl /125.2,125.4,125.9,127.7,129.9,130.2,132.7,137.0,- Anthryl) at 9- (4-hydroxy-3, 5-Dihydroxymethylbenzyl) -10- (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) anthracene was confirmed. FIG. 1 shows a 1 H-NMR chart, and FIG. 2 shows a 13 C-NMR chart. Moreover, the blue light emission at the time of UV lamp (365 nm) irradiation was confirmed visually. FIG. 3 shows an absorption spectrum, and FIG. 4 shows a fluorescence spectrum (excitation wavelength: 381 nm).

[実施例2]
300mlの還流管付き反応容器にm−クレゾール(27.0g,0.25mol)及び実施例1で得られた結晶(24.8g,0.05mol)を入れ、撹拌しながら昇温した。80℃で蓚酸(0.08g)を投入し、内温約105℃で還流反応を3時間行った。次いで、還流管を外して170℃まで常圧脱水を行った後、減圧下に未反応のm−クレゾールを除去し、実施例2のノボラック樹脂(35.5g)を得た。
[Example 2]
M-Cresol (27.0 g, 0.25 mol) and the crystals obtained in Example 1 (24.8 g, 0.05 mol) were placed in a 300 ml reaction vessel equipped with a reflux tube, and the temperature was raised while stirring. Succinic acid (0.08 g) was added at 80 ° C., and a reflux reaction was performed at an internal temperature of about 105 ° C. for 3 hours. Next, the reflux tube was removed and atmospheric pressure dehydration was performed up to 170 ° C., and then unreacted m-cresol was removed under reduced pressure to obtain the novolak resin (35.5 g) of Example 2.

実施例2の樹脂は、分子量(Mw)4086、ガラス転移温度141.3℃、残炭率43.6%、換算屈折率1.663(25℃)であった。また、UVランプ(365nm)照射時の青色の発光を目視にて確認した。図5にGPCチャート、図6に吸収スペクトル図7に蛍光スペクトル(励起波長:383nm)を示す。   The resin of Example 2 had a molecular weight (Mw) of 4086, a glass transition temperature of 141.3 ° C., a residual carbon ratio of 43.6%, and a converted refractive index of 1.663 (25 ° C.). Moreover, the blue light emission at the time of UV lamp (365 nm) irradiation was confirmed visually. FIG. 5 shows a GPC chart, FIG. 6 shows an absorption spectrum, and FIG. 7 shows a fluorescence spectrum (excitation wavelength: 383 nm).

[比較例1]
実施例2において、実施例1で得られた結晶(24.8g,0.05mol)の代わりに合成例1で得られた結晶(18.8g,0.05mol)及びパラホルムアルデヒド(6.9g,0.21mol)を用いたこと以外は、実施例2と同様の操作を行い、比較例1のノボラック樹脂(44.0g)を得た。
[Comparative Example 1]
In Example 2, instead of the crystal (24.8 g, 0.05 mol) obtained in Example 1, the crystal (18.8 g, 0.05 mol) obtained in Synthesis Example 1 and paraformaldehyde (6.9 g, The same operation as in Example 2 was performed except that 0.21 mol) was used, to obtain a novolak resin (44.0 g) of Comparative Example 1.

比較例1の樹脂は、分子量(Mw)547の透明感のない樹脂であり、GPCチャートより、原料の9−(4−ヒドロキシベンジル)−10−(4−ヒドロキシフェニル)アントラセンが樹脂構造内に取り込まれず残っていることを確認した。図8にGPCチャートを示す。   The resin of Comparative Example 1 is a resin having a molecular weight (Mw) of 547 and no transparency. From the GPC chart, the raw material 9- (4-hydroxybenzyl) -10- (4-hydroxyphenyl) anthracene is contained in the resin structure. It was confirmed that it was not taken in and remained. FIG. 8 shows a GPC chart.

[比較例2]
実施例1において、合成例1で得られた結晶(26.3g,0.07mol)の代わりにビスフェノール−A(16.0g,0.07mol)を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、12.9g(収率53.0%)の2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル)プロパン(比較例2の化合物)を得た。
[Comparative Example 2]
Example 1 was the same as Example 1 except that bisphenol-A (16.0 g, 0.07 mol) was used instead of the crystals (26.3 g, 0.07 mol) obtained in Synthesis Example 1. Operation was performed to obtain 12.9 g (yield 53.0%) of 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) propane (compound of Comparative Example 2).

得られた結晶(比較例2の化合物)は、GPC純度97.0%、HPLC純度90.8%、融点126℃、換算屈折率1.599(25℃)であり、UVランプ(365nm)照射を行ったが、目視では発光は確認できなかった。図9に吸収スペクトルを示す。   The obtained crystal (compound of Comparative Example 2) had a GPC purity of 97.0%, an HPLC purity of 90.8%, a melting point of 126 ° C., a converted refractive index of 1.599 (25 ° C.), and UV lamp (365 nm) irradiation. However, light emission could not be confirmed visually. FIG. 9 shows an absorption spectrum.

[比較例3]
実施例1において、合成例1で得られた結晶(26.3g,0.07mol)の代わりにビスフェノールフルオレンの市販品であるBPAF[商品名:JFEケミカル製/9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン](24.5g,0.07mol)を用いたこと以外は実施例1と同様の操作を行い21.8g(収率66.3%)の9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル)フルオレン(比較例3の化合物)を得た。
[Comparative Example 3]
In Example 1, instead of the crystals (26.3 g, 0.07 mol) obtained in Synthesis Example 1, BPAF which is a commercial product of bisphenolfluorene [trade name: 9,9-bis (4-hydroxy, manufactured by JFE Chemical Co., Ltd.] Phenyl) fluorene] (24.5 g, 0.07 mol) was used in the same manner as in Example 1 except that 21.8 g (yield 66.3%) of 9,9-bis (4-hydroxy-) 3,5-Dihydroxymethylphenyl) fluorene (Compound of Comparative Example 3) was obtained.

得られた結晶(比較例3の化合物)は、GPC純度96.2%、HPLC純度92.8%、融点185℃、換算屈折率1.645(25℃)であり、UVランプ(365nm)照射を行ったが、目視では発光は確認できず、蛍光分光光度計による蛍光強度も非常に弱いものであった。図10に吸収スペクトル、図11に蛍光スペクトル(励起波長:313nm)を示す。   The obtained crystal (compound of Comparative Example 3) had a GPC purity of 96.2%, an HPLC purity of 92.8%, a melting point of 185 ° C., a converted refractive index of 1.645 (25 ° C.), and irradiation with a UV lamp (365 nm). However, light emission could not be confirmed visually, and the fluorescence intensity by the fluorescence spectrophotometer was very weak. FIG. 10 shows an absorption spectrum, and FIG. 11 shows a fluorescence spectrum (excitation wavelength: 313 nm).

[比較例4]
実施例2において、実施例1で得られた結晶(24.8g,0.05mol)の代わりに比較例2で得られた結晶(17.4g,0.05mol)を用いたこと以外は、実施例2と同様の操作を行い、比較例4のノボラック樹脂(29.7g)を得た。
[Comparative Example 4]
In Example 2, except that the crystal (17.4 g, 0.05 mol) obtained in Comparative Example 2 was used instead of the crystal (24.8 g, 0.05 mol) obtained in Example 1, The same operation as in Example 2 was performed to obtain a novolak resin (29.7 g) of Comparative Example 4.

比較例4の樹脂は、分子量(Mw)4234、ガラス転移温度113.9℃、残炭率25.0%、換算屈折率1.623(25℃)であった。また、UVランプ(365nm)照射を行ったが、目視では発光は確認できなかった。図12にGPCチャート、図13に吸収スペクトルを示す。   The resin of Comparative Example 4 had a molecular weight (Mw) of 4234, a glass transition temperature of 113.9 ° C., a residual carbon ratio of 25.0%, and a converted refractive index of 1.623 (25 ° C.). Moreover, although UV lamp (365 nm) irradiation was performed, light emission was not able to be confirmed visually. FIG. 12 shows a GPC chart, and FIG. 13 shows an absorption spectrum.

[比較例5]
実施例2において、実施例1で得られた結晶(24.8g,0.05mol)の代わりに比較例3で得られた結晶(14.1g,0.05mol)を用いたこと以外は、実施例2と同様の操作を行い、比較例5のノボラック樹脂(20.7g)を得た。
[Comparative Example 5]
In Example 2, except that the crystal (14.1 g, 0.05 mol) obtained in Comparative Example 3 was used instead of the crystal (24.8 g, 0.05 mol) obtained in Example 1, The same operation as in Example 2 was performed to obtain a novolak resin (20.7 g) of Comparative Example 5.

比較例5の樹脂は、分子量(Mw)4729、ガラス転移温度128.3℃、残炭率39.9%、換算屈折率1.638(25℃)であった。また、UVランプ(365nm)照射を行ったが、目視では発光は確認できず、蛍光分光光度計による蛍光強度も非常に弱いものであった。図14にGPCチャート、図15に吸収スペクトル、図16に蛍光スペクトル(励起波長:313nm)を示す。   The resin of Comparative Example 5 had a molecular weight (Mw) of 4729, a glass transition temperature of 128.3 ° C., a residual carbon ratio of 39.9%, and a converted refractive index of 1.638 (25 ° C.). Moreover, although UV lamp (365 nm) irradiation was performed, light emission was not able to be confirmed visually and the fluorescence intensity by a fluorescence spectrophotometer was also very weak. FIG. 14 shows a GPC chart, FIG. 15 shows an absorption spectrum, and FIG. 16 shows a fluorescence spectrum (excitation wavelength: 313 nm).

上述の評価結果として、実施例1のアントラセン誘導体及びこの比較例の比較例2並びに比較例3の化合物の評価結果を表1に、実施例2の樹脂及びこの比較例の比較例1、比較例4並びに比較例5の樹脂の評価結果を表2にあらためて示す。   As the above evaluation results, the evaluation results of the anthracene derivative of Example 1 and the compounds of Comparative Example 2 and Comparative Example 3 of this Comparative Example are shown in Table 1, the resin of Example 2 and Comparative Examples 1 and Comparative Example of this Comparative Example are shown in Table 1. 4 and the evaluation results of the resins of Comparative Example 5 are shown again in Table 2.

本実施例で示されるように、実施例1のアントラセン誘導体は、他の熱硬化性ビスフェノール誘導体(比較例2、比較例3の化合物)より高い屈折率及び紫外線に対する蛍光特性を有することが示された。   As shown in this example, the anthracene derivative of Example 1 was shown to have a higher refractive index and fluorescence properties with respect to ultraviolet light than other thermosetting bisphenol derivatives (Comparative Examples 2 and 3). It was.

また、実施例1のアントラセン誘導体を原料として得られた実施例2の樹脂は、メチロール基を有さないアントラセン誘導体とホルムアルデヒドを原料として製造した樹脂(比較例1の樹脂)よりも効率的に樹脂構造内にアントラセン骨格が組み込まれる為、高分子量にすることができ、高いガラス転移温度及び残炭率を有することが示された。   In addition, the resin of Example 2 obtained using the anthracene derivative of Example 1 as a raw material is more efficient than the resin produced using anthracene derivative having no methylol group and formaldehyde as raw materials (resin of Comparative Example 1). Since the anthracene skeleton was incorporated into the structure, it was possible to increase the molecular weight and to show a high glass transition temperature and a residual carbon ratio.

また、実施例2で示された樹脂は、同様にメチロール基を持つビスフェノール−A誘導体及びビスフェノールフルオレン誘導体より製造された樹脂(比較例4、比較例5の樹脂)と比較すると、屈折率、ガラス転移温度、残炭率、蛍光特性のいずれにおいても優れた特性を有することが示された。   In addition, the resin shown in Example 2 is similar in refractive index to glass compared with resins produced from bisphenol-A derivatives and bisphenolfluorene derivatives having methylol groups (Comparative Examples 4 and 5). It was shown that it has excellent characteristics in all of transition temperature, residual carbon ratio, and fluorescence characteristics.

本発明のアントラセン誘導体は、例えば樹脂原料や架橋剤として用いることができる。また、このアントラセン誘導体から得られる樹脂は、例えば成型品、積層品、シェルモールド、建材、接着材、摩擦材、塗料、砥石、電子材料、感熱紙、感圧紙、エポキシ樹脂用硬化剤、フォトレジスト材料、反射防止膜、半導体封止材、記録材料などに用いることができる。
The anthracene derivative of the present invention can be used, for example, as a resin raw material or a crosslinking agent. Resins obtained from this anthracene derivative include, for example, molded products, laminated products, shell molds, building materials, adhesives, friction materials, paints, grindstones, electronic materials, thermal paper, pressure sensitive paper, epoxy resin curing agents, and photoresists. It can be used for materials, antireflection films, semiconductor encapsulants, recording materials and the like.

Claims (6)

下記式(1)にて表されるアントラセン誘導体。
(式(1)中、X及びYは、それぞれ独立に、芳香環上の1又は2以上の水素原子が*−CHOZで置換されているヒドロキシアリール基である。*は、ヒドロキシアリール基の芳香環上の炭素原子と結合する結合手である。X及びYに含まれる複数のZは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基である。)
An anthracene derivative represented by the following formula (1).
(In formula (1), X and Y are each independently a hydroxyaryl group in which one or more hydrogen atoms on the aromatic ring are substituted with * —CH 2 OZ. * Is a hydroxyaryl group And a plurality of Z contained in X and Y are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
上記X及びYは、それぞれ独立に、芳香環上の1又は2の水素原子が*−CHOZで置換されているヒドロキシフェニル基である請求項1に記載のアントラセン誘導体。 2. The anthracene derivative according to claim 1, wherein X and Y are each independently a hydroxyphenyl group in which one or two hydrogen atoms on the aromatic ring are substituted with * —CH 2 OZ. 上記Zが、水素原子である請求項1又は請求項2に記載のアントラセン誘導体。   The anthracene derivative according to claim 1 or 2, wherein Z is a hydrogen atom. 請求項1、請求項2又は請求項3に記載のアントラセン誘導体を用いて得られる樹脂。   A resin obtained by using the anthracene derivative according to claim 1, claim 2 or claim 3. 請求項1、請求項2又は請求項3に記載のアントラセン誘導体及び請求項4に記載の樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む硬化性組成物。   A curable composition comprising at least one selected from the group consisting of the anthracene derivative according to claim 1, claim 2 or claim 3 and the resin according to claim 4. 請求項5に記載の硬化性組成物を硬化して得られる硬化物。   A cured product obtained by curing the curable composition according to claim 5.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012224723A (en) * 2011-04-18 2012-11-15 Asahi Organic Chemicals Industry Co Ltd Phenol resin, curable composition including the same, and cured product
JP2013140203A (en) * 2011-12-28 2013-07-18 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc Radiation-sensitive composition and resist pattern forming method
JP2016029160A (en) * 2014-07-15 2016-03-03 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC Resin for underlayer
JP2016108297A (en) * 2014-12-09 2016-06-20 旭有機材工業株式会社 Anthracene derivative, method for producing the same, phenol resin, composition for photoresist and luminescent agent
WO2020039708A1 (en) 2018-08-23 2020-02-27 国立大学法人九州大学 Organic electroluminescence element

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0586156A (en) * 1991-09-30 1993-04-06 Nippon Kayaku Co Ltd New novolac compound, resin, and their preparation
JP2008266623A (en) * 2007-03-29 2008-11-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd Thermosetting resin composition, thermosetting resin molding material, and its cured product
JP2009286888A (en) * 2008-05-29 2009-12-10 Sumitomo Bakelite Co Ltd Thermosetting resin composition, thermosetting resin molding material, and cured product of the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0586156A (en) * 1991-09-30 1993-04-06 Nippon Kayaku Co Ltd New novolac compound, resin, and their preparation
JP2008266623A (en) * 2007-03-29 2008-11-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd Thermosetting resin composition, thermosetting resin molding material, and its cured product
JP2009286888A (en) * 2008-05-29 2009-12-10 Sumitomo Bakelite Co Ltd Thermosetting resin composition, thermosetting resin molding material, and cured product of the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012224723A (en) * 2011-04-18 2012-11-15 Asahi Organic Chemicals Industry Co Ltd Phenol resin, curable composition including the same, and cured product
JP2013140203A (en) * 2011-12-28 2013-07-18 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc Radiation-sensitive composition and resist pattern forming method
JP2016029160A (en) * 2014-07-15 2016-03-03 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC Resin for underlayer
JP2016108297A (en) * 2014-12-09 2016-06-20 旭有機材工業株式会社 Anthracene derivative, method for producing the same, phenol resin, composition for photoresist and luminescent agent
WO2020039708A1 (en) 2018-08-23 2020-02-27 国立大学法人九州大学 Organic electroluminescence element

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