JP2011190123A - Method for manufacturing ceramic electronic component and ceramic raw material powder - Google Patents

Method for manufacturing ceramic electronic component and ceramic raw material powder Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a ceramic electronic component of high reliability by attaining the improvement of a high temperature load life. <P>SOLUTION: The method is for manufacturing a ceramic electronic component which has a ceramic layer and electrodes, where the ceramic layer is composed of a dielectric ceramic composition containing a main component expressed by ABO<SB>3</SB>(wherein A is one or more selected from Ba, Ca and Sr, and B is one or more selected from Ti, Zr and Hf) and additional components, and includes a process for preparing a raw material powder of a main component and a gel compound slurry of at least a part of metallic elements or a solution of at least a part of metallic elements among metallic elements contained in additional components, a process for obtaining a raw material mixture by dispersing the raw material of a main component and the gel compound slurry or the solution, a process for drying the raw material mixture, and a process for heat-treating the raw material mixture after drying. As the gel compound slurry or the solution, a gel hydroxide slurry or an aqueous solution is preferable. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、セラミック電子部品およびセラミック原料粉体の製造方法に関し、特に信頼性が向上されたセラミック電子部品の製造方法および該電子部品に好適なセラミック原料粉体の製造方法に関する。   The present invention relates to a ceramic electronic component and a method of manufacturing a ceramic raw material powder, and more particularly to a method of manufacturing a ceramic electronic component with improved reliability and a method of manufacturing a ceramic raw material powder suitable for the electronic component.

セラミック電子部品の一例としての積層セラミックコンデンサは、小型、高性能、高信頼性の電子部品として広く利用されており、電気機器および電子機器の中で使用される個数も多数にのぼる。近年、機器の小型かつ高性能化に伴い、積層セラミックコンデンサに対する更なる小型化、高性能化、高信頼性化への要求はますます厳しくなっている。   A multilayer ceramic capacitor as an example of a ceramic electronic component is widely used as a small-sized, high-performance, high-reliability electronic component, and a large number of electric capacitors and electronic devices are used. In recent years, with the miniaturization and high performance of devices, the demand for further miniaturization, higher performance, and higher reliability of multilayer ceramic capacitors has become increasingly severe.

このような要求に対し、チタン酸バリウム等の主成分原料粉体と、特性を向上させる効果を有する種々の添加成分粉体とを混合した原料粉体を用いて誘電体磁器組成物を製造することで特性の向上を図っている。しかしながら、単に主成分原料粉体と添加成分粉体とを混合しただけでは、十分な信頼性が得られないという問題があった。   In response to such demands, a dielectric ceramic composition is manufactured using raw material powders obtained by mixing main component raw material powders such as barium titanate and various additive powders having an effect of improving characteristics. The improvement of the characteristic is aimed at. However, there is a problem that sufficient reliability cannot be obtained simply by mixing the main component raw material powder and the additive component powder.

このような問題に対し、主成分原料粉体に添加成分を被覆させた原料粉体を用いて特性の向上を図ることが提案されている。たとえば特許文献1には、チタン酸バリウム粉体のスラリーに添加元素のアルコキシド溶液を添加し仮焼することで、チタン酸バリウム粉末表面に添加元素が被覆された原料粉体を得てこれを用いることが開示されている。しかしながら、アルコキシドの合成には時間が掛かること、高コストであること、有機溶剤を用いるため環境負荷が大きいこと等の問題があった。   In order to solve such a problem, it has been proposed to improve the characteristics by using a raw material powder obtained by coating a main component raw material powder with an additive component. For example, in Patent Document 1, an alkoxide solution of an additive element is added to a barium titanate powder slurry and calcined to obtain a raw material powder in which the additive element is coated on the surface of the barium titanate powder. It is disclosed. However, the synthesis of alkoxide has problems such as time consuming, high cost, and use of an organic solvent, resulting in a large environmental load.

特開平10−139553号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-139553

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、高温負荷寿命の向上を実現し、信頼性の高いセラミック電子部品を製造する方法を提供することを目的とする。本発明の別の目的は、信頼性の高いセラミック電子部品を製造するのに好適なセラミック原料粉体を製造する方法を提供することである。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a highly reliable ceramic electronic component that realizes an improvement in high-temperature load life. Another object of the present invention is to provide a method for producing a ceramic raw material powder suitable for producing a highly reliable ceramic electronic component.

上記目的を達成するために、本発明に係るセラミック電子部品の製造方法は、
セラミック層と電極とを有するセラミック電子部品を製造する方法であって、
前記セラミック層が、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1つである)で表される主成分および添加成分を含む誘電体磁器組成物から構成されており、
前記主成分の原料粉体と、前記添加成分に含まれる金属元素のうち、少なくとも一部の金属元素のゲル状化合物スラリーまたは少なくとも一部の金属元素の溶液と、を準備する工程と、
前記主成分の原料と前記ゲル状化合物スラリーまたは前記溶液とを分散して原料混合物を得る工程と、
前記原料混合物を乾燥する工程と、
乾燥後の前記原料混合物を熱処理する工程と、を有する。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention includes:
A method for producing a ceramic electronic component having a ceramic layer and an electrode, comprising:
The ceramic layer has a main component and an addition represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti, Zr and Hf). It is composed of a dielectric ceramic composition containing components,
Preparing a raw material powder of the main component and a gel compound slurry of at least a part of metal element or a solution of at least a part of metal element among the metal elements contained in the additive component;
Dispersing the raw material of the main component and the gelled compound slurry or the solution to obtain a raw material mixture;
Drying the raw material mixture;
Heat-treating the raw material mixture after drying.

本発明では、主成分の原料粉体と添加成分に含まれる金属元素のゲル状化合物スラリーまたは該金属元素の溶液とを分散混合している。分散する際の添加成分の形態を上記のものとすることで、主成分の原料粉体と添加成分とを均一に分散混合することができる。その結果、乾燥後には、主成分の原料粉体の表面に添加成分が均一に被覆されたセラミック原料粉体が得られる。そして、このセラミック原料粉体を用いてセラミック電子部品を製造することで、信頼性が向上されたセラミック電子部品を得ることができる。   In the present invention, the raw material powder of the main component and the gel compound slurry of the metal element contained in the additive component or the solution of the metal element are dispersed and mixed. By setting the form of the additive component at the time of dispersion as described above, the main component raw material powder and the additive component can be uniformly dispersed and mixed. As a result, after drying, a ceramic raw material powder in which the additive component is uniformly coated on the surface of the main raw material powder is obtained. A ceramic electronic component with improved reliability can be obtained by manufacturing a ceramic electronic component using the ceramic raw material powder.

しかも、添加成分を、アルコキシドを用いて主成分の原料粉体に被覆する場合と比較して、短時間で被覆粉体が得られ、コストも低減できる。   In addition, the coated powder can be obtained in a short time and the cost can be reduced as compared with the case where the additive component is coated on the main component powder using alkoxide.

好ましくは、前記ゲル状化合物スラリーがゲル状水酸化物スラリーであり、前記溶液が水溶液である。ゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液を用いることで、環境負荷の大きい有機溶剤を使用することなく、主成分の原料粉体の表面に添加成分が均一に被覆されたセラミック原料粉体を簡便に得ることができる。   Preferably, the gel compound slurry is a gel hydroxide slurry, and the solution is an aqueous solution. By using a gel hydroxide slurry or an aqueous solution, ceramic raw material powder in which additive components are uniformly coated on the surface of the main raw material powder can be easily obtained without using an organic solvent with a large environmental load. be able to.

好ましくは、前記添加成分が希土類元素の酸化物を含んでおり、前記希土類元素のゲル状化合物スラリーまたは前記希土類元素の溶液を準備する。より好ましくは、前記希土類元素のゲル状化合物スラリーのみを準備する。   Preferably, the additive component includes a rare earth element oxide, and the rare earth element gel compound slurry or the rare earth element solution is prepared. More preferably, only the rare earth element gel compound slurry is prepared.

好ましくは、前記添加成分がアルカリ土類金属元素の酸化物および焼結助剤を含んでおり、前記アルカリ土類金属のゲル状化合物スラリーまたは前記アルカリ土類金属の溶液と、前記焼結助剤としての役割を有する金属元素のゲル状化合物スラリーまたは該金属元素の溶液と、を準備する。より好ましくは、Mgのゲル状化合物スラリーのみを準備する。なお、本明細書において、アルカリ土類金属元素とは、周期律表のII族に属する元素と同義である。   Preferably, the additive component includes an alkaline earth metal element oxide and a sintering aid, the alkaline earth metal gel compound slurry or the alkaline earth metal solution, and the sintering aid. A metal element gel-like compound slurry or a solution of the metal element is prepared. More preferably, only the Mg gel compound slurry is prepared. In this specification, an alkaline earth metal element is synonymous with an element belonging to Group II of the periodic table.

主成分の原料粉体と、特定の元素のゲル状化合物スラリーまたは溶液とを分散することで、本発明の効果をより向上させることができる。また、希土類元素およびMgについては、溶液の形態ではなく、ゲル状化合物スラリーの形態として分散することで、上述した効果をさらに高めることができる。   The effect of the present invention can be further improved by dispersing the raw material powder of the main component and the gel compound slurry or solution of the specific element. Moreover, about the rare earth element and Mg, the effect mentioned above can further be heightened by disperse | distributing not the form of a solution but the form of a gel-like compound slurry.

好ましくは、媒体撹拌型分散機を用いて前記原料混合物を得る。より好ましくは、媒体として、φ0.1mm以下の媒体を使用する。このような分散機や媒体を用いることで上述した効果をさらに高めることができる。   Preferably, the raw material mixture is obtained using a medium stirring type disperser. More preferably, a medium having a diameter of 0.1 mm or less is used as the medium. The effects described above can be further enhanced by using such a disperser and medium.

好ましくは、前記熱処理する工程において、400〜900℃の範囲で熱処理を行う。このような温度範囲とすることで、上述した効果をさらに高めることができる。   Preferably, in the heat treatment step, heat treatment is performed in a range of 400 to 900 ° C. By setting it as such a temperature range, the effect mentioned above can further be heightened.

好ましくは、前記乾燥する工程と前記熱処理する工程とを同時に行う。このようにしても、上述した効果と同様の効果を得ることができる。   Preferably, the drying step and the heat treatment step are performed simultaneously. Even if it does in this way, the effect similar to the effect mentioned above can be acquired.

好ましくは、前記原料混合物を得る工程において、分散剤を添加する。より好ましくは、前記分散剤は親水性の分散剤である。分散時に分散剤を添加することで、原料混合物の分散性をより高めることができるため、上述した効果をさらに高めることができる。   Preferably, a dispersing agent is added in the step of obtaining the raw material mixture. More preferably, the dispersant is a hydrophilic dispersant. By adding a dispersing agent at the time of dispersion, the dispersibility of the raw material mixture can be further increased, and thus the above-described effects can be further enhanced.

好ましくは、熱処理後の原料混合物に、溶剤およびバインダ樹脂を添加して、ペースト組成物を得る。   Preferably, a solvent and a binder resin are added to the raw material mixture after the heat treatment to obtain a paste composition.

また、本発明に係るセラミック原料粉体の製造方法は、
一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1つである)で表される主成分および添加成分を含むセラミック原料粉体を製造する方法であって、
前記主成分の原料粉体と、前記添加成分に含まれる金属元素のうち、少なくとも一部の金属元素のゲル状化合物スラリーまたは少なくとも一部の金属元素の溶液と、を準備する工程と、
前記主成分の原料と前記ゲル状化合物スラリーまたは前記溶液とを分散して原料混合物を得る工程と、
前記原料混合物を乾燥する工程と、
乾燥後の前記原料混合物を熱処理してセラミック原料粉体を得る工程と、を有する。
Moreover, the method for producing a ceramic raw material powder according to the present invention includes:
A ceramic raw material comprising a main component and an additive component represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti, Zr and Hf) A method for producing a powder comprising:
Preparing a raw material powder of the main component and a gel compound slurry of at least a part of metal element or a solution of at least a part of metal element among the metal elements contained in the additive component;
Dispersing the raw material of the main component and the gelled compound slurry or the solution to obtain a raw material mixture;
Drying the raw material mixture;
Heat-treating the raw material mixture after drying to obtain a ceramic raw material powder.

図1は、本発明の一実施形態に係る製造方法により製造された積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor manufactured by a manufacturing method according to an embodiment of the present invention. 図2は、セラミック原料粉体を作製する工程を示すフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart showing a process for producing a ceramic raw material powder.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。   Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.

積層セラミックコンデンサ1
図1に示すように、積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層2と、内部電極層3と、が交互に積層された構成のコンデンサ素子本体10を有する。内部電極層3は、各端面がコンデンサ素子本体10の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極4は、コンデンサ素子本体10の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
Multilayer ceramic capacitor 1
As shown in FIG. 1, the multilayer ceramic capacitor 1 includes a capacitor element body 10 having a configuration in which dielectric layers 2 and internal electrode layers 3 are alternately stacked. The internal electrode layers 3 are laminated so that the end faces are alternately exposed on the surfaces of the two opposite ends of the capacitor element body 10. The pair of external electrodes 4 are formed at both ends of the capacitor element body 10 and are connected to the exposed end surfaces of the alternately arranged internal electrode layers 3 to constitute a capacitor circuit.

コンデンサ素子本体10の形状に特に制限はないが、図1に示すように、通常、直方体状とされる。また、その寸法にも特に制限はなく、用途に応じて適当な寸法とすればよい。   The shape of the capacitor element body 10 is not particularly limited, but is usually a rectangular parallelepiped as shown in FIG. Moreover, there is no restriction | limiting in particular also in the dimension, What is necessary is just to set it as a suitable dimension according to a use.

誘電体層2
誘電体層2を構成する誘電体磁器組成物としては、特に制限されないが、本実施形態では、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTiおよびZrから選ばれる少なくとも1つである)で表される主成分および添加成分を含有する誘電体磁器組成物から構成されている。
Dielectric layer 2
As the dielectric ceramic composition forming the dielectric layers 2 is not particularly limited, in the present embodiment, the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, B is Ti and A dielectric ceramic composition containing a main component represented by Zr) and an additive component.

ABOとしては、たとえば{(Ba(1−x−y)CaSr)O}(Ti(1−z)Zrで表される化合物などが好ましい。なお、A,B,x,y,zは、いずれも任意の範囲である。本実施形態では、特に、BaTiO(好ましくは、組成式BaTiO2+m で表され、mが0.995≦m≦1.010であり、BaとTiとの比が0.995≦Ba/Ti≦1.010である)が好適に使用できる。 The ABO 3, for example, {(Ba (1-x- y) Ca x Sr y) O} such A (Ti (1-z) Zr z) compound represented by the B O 2 is preferred. Note that A, B, x, y, and z are all in an arbitrary range. In this embodiment, in particular, BaTiO 3 (preferably represented by the composition formula Ba m TiO 2 + m , m is 0.995 ≦ m ≦ 1.010, and the ratio of Ba to Ti is 0.995 ≦ Ba / Ti ≦ 1.010) can be preferably used.

添加成分としては、希土類元素の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物、焼結助剤が含まれる。   Additive components include rare earth element oxides, alkaline earth metal oxides, and sintering aids.

希土類元素の酸化物の含有量は、ABO 100モルに対して、希土類元素換算で、好ましくは0.2〜3.0モルである。希土類元素としては、特に制限されないが、Y、Dy、Ho、Gd、Yb、Er、Tbなどが挙げられる。希土類元素として、複数の元素であってもよいし、1種類の元素であってもよい。複数の元素である場合には、たとえば、Y、Yb、ErおよびHoからなる群から選ばれる少なくとも1つと、Dy、GdおよびTbからなる群から選ばれる少なくとも1つとであることが好ましい。 The oxide content of the rare earth element is preferably 0.2 to 3.0 mol in terms of rare earth element with respect to 100 mol of ABO 3 . Although it does not restrict | limit especially as a rare earth element, Y, Dy, Ho, Gd, Yb, Er, Tb etc. are mentioned. The rare earth element may be a plurality of elements or one kind of element. In the case of a plurality of elements, for example, at least one selected from the group consisting of Y, Yb, Er and Ho and at least one selected from the group consisting of Dy, Gd and Tb are preferable.

アルカリ土類金属の酸化物の含有量は、ABO100モルに対して、アルカリ土類金属元素換算で、好ましくは0.6〜2.5モル、より好ましくは0.8〜2.0モルである。アルカリ土類金属としては、特に制限されないが、Mgであることが好ましい。 The content of the alkaline earth metal oxide is preferably 0.6 to 2.5 mol, more preferably 0.8 to 2.0 mol, in terms of alkaline earth metal element, with respect to 100 mol of ABO 3. It is. The alkaline earth metal is not particularly limited, but is preferably Mg.

焼結助剤の含有量は、ABO100モルに対して、焼結助剤を構成する金属元素換算で、好ましくは0.2〜2.0モル、より好ましくは0.8〜1.5モルである。焼結助剤としては特に制限されないが、本実施形態では、SiOを含む成分であることが好ましく、Baの酸化物および/またはCaの酸化物と、Siの酸化物とを含む成分であることがより好ましい。このような成分としては、Baの酸化物、Caの酸化物およびSiの酸化物がそれぞれの酸化物の形態で含まれていてもよいし、複合酸化物あるいはガラスの形態で含まれていてもよい。また、Siについては後述のようにSi微粒子水分散液を準備してもよい。該成分においては、Baの含有モル比をa、Caの含有モル比をb、Siの含有モル比をcとすると、a+b+c=1、a+b≦cである。 The content of the sintering aid is preferably 0.2 to 2.0 mol, more preferably 0.8 to 1.5, in terms of the metal element constituting the sintering aid, with respect to 100 mol of ABO 3. Is a mole. Is not particularly limited as a sintering aid, in the present embodiment, is a component that contains preferably a component containing SiO 2, and an oxide of oxide and / or Ca in the Ba, an oxide of Si It is more preferable. As such components, Ba oxide, Ca oxide, and Si oxide may be included in the form of each oxide, or may be included in the form of a composite oxide or glass. Good. As for Si, an Si fine particle aqueous dispersion may be prepared as described later. In this component, a + b + c = 1 and a + b ≦ c, where a is the molar ratio of Ba, b is the molar ratio of Ca, and c is the molar ratio of Si.

また、本実施形態では、さらに、V、MoおよびWからなる群から選ばれる少なくとも1つの酸化物を含有することが好ましい。これらの酸化物の含有量は、ABO100モルに対して、V、MoおよびW換算で、好ましくは0.001〜0.2モル、より好ましくは0.02〜0.15モルである。 Moreover, in this embodiment, it is preferable to further contain at least one oxide selected from the group consisting of V, Mo and W. The content of these oxides is preferably 0.001 to 0.2 mol, more preferably 0.02 to 0.15 mol in terms of V, Mo and W with respect to 100 mol of ABO 3 .

また、本実施形態では、さらに、Mnおよび/またはCrの酸化物を含有することが好ましい。これらの酸化物の含有量は、ABO100モルに対して、Mnおよび/またはCr換算で、好ましくは0.01〜0.6モル、より好ましくは0.05〜0.3モルである。 Moreover, in this embodiment, it is preferable to contain the oxide of Mn and / or Cr further. The content of these oxides is preferably 0.01 to 0.6 mol, more preferably 0.05 to 0.3 mol in terms of Mn and / or Cr with respect to 100 mol of ABO 3 .

本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、さらに、所望の特性に応じて、その他の成分を含有してもよい。   The dielectric ceramic composition according to the present embodiment may further contain other components according to desired characteristics.

誘電体層2の厚みは、特に限定されないが、一層あたり2μm以下であることが好ましい。厚さの下限は、特に限定されないが、たとえば0.5μm程度である。   The thickness of the dielectric layer 2 is not particularly limited, but is preferably 2 μm or less per layer. Although the minimum of thickness is not specifically limited, For example, it is about 0.5 micrometer.

誘電体層2の積層数は、特に限定されないが、20以上であることが好ましく、より好ましくは50以上、特に好ましくは、100以上である。積層数の上限は、特に限定されないが、たとえば2000程度である。   The number of laminated dielectric layers 2 is not particularly limited, but is preferably 20 or more, more preferably 50 or more, and particularly preferably 100 or more. The upper limit of the number of stacked layers is not particularly limited, but is about 2000, for example.

内部電極層3
内部電極層3に含有される導電材は特に限定されないが、誘電体層2を構成する材料が耐還元性を有するため、比較的安価な卑金属を用いることができる。導電材として用いる卑金属としては、NiまたはNi合金が好ましい。Ni合金としては、Mn,Cr,CoおよびAlから選択される1種以上の元素とNiとの合金が好ましく、合金中のNi含有量は95重量%以上であることが好ましい。なお、NiまたはNi合金中には、P等の各種微量成分が0.1重量%程度以下含まれていてもよい。内部電極層3の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.1〜3μm、特に0.2〜2.0μm程度であることが好ましい。
Internal electrode layer 3
The conductive material contained in the internal electrode layer 3 is not particularly limited, but a relatively inexpensive base metal can be used because the material constituting the dielectric layer 2 has reduction resistance. As the base metal used as the conductive material, Ni or Ni alloy is preferable. The Ni alloy is preferably an alloy of Ni and one or more elements selected from Mn, Cr, Co and Al, and the Ni content in the alloy is preferably 95% by weight or more. In addition, in Ni or Ni alloy, various trace components, such as P, may be contained about 0.1 wt% or less. The thickness of the internal electrode layer 3 may be appropriately determined according to the application and the like, but is usually 0.1 to 3 μm, particularly preferably about 0.2 to 2.0 μm.

外部電極4
外部電極4に含有される導電材は特に限定されないが、本発明では安価なNi,Cuや、これらの合金を用いることができる。外部電極4の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。
External electrode 4
The conductive material contained in the external electrode 4 is not particularly limited, but in the present invention, inexpensive Ni, Cu, and alloys thereof can be used. The thickness of the external electrode 4 may be appropriately determined according to the application and the like, but is usually preferably about 10 to 50 μm.

積層セラミックコンデンサ1の製造方法
図1に示す積層セラミックコンデンサ1は、本実施形態に係る製造方法により製造される。以下、製造方法について具体的に説明する。図2には、セラミック原料粉体を作製する工程をフローチャートとして示す。
Manufacturing Method of Multilayer Ceramic Capacitor 1 The multilayer ceramic capacitor 1 shown in FIG. 1 is manufactured by the manufacturing method according to this embodiment. Hereinafter, the manufacturing method will be specifically described. In FIG. 2, the process of producing ceramic raw material powder is shown as a flowchart.

まず、誘電体磁器組成物を構成するABOの原料粉末と、添加成分に含まれる金属元素のゲル状化合物スラリーまたは該元素の溶液とを準備する。ゲル状化合物としては、特に制限されず、ゲル状水酸化物、ゲル状炭化物、ゲル状酸化物などが好ましいが、本実施形態ではゲル状水酸化物を準備する。 First, an ABO 3 raw material powder constituting the dielectric ceramic composition and a gel compound slurry of a metal element contained in the additive component or a solution of the element are prepared. The gel compound is not particularly limited and is preferably a gel hydroxide, a gel carbide, a gel oxide, or the like. In this embodiment, a gel hydroxide is prepared.

また、金属元素の溶液としては、特に制限されず、金属元素の水溶液が好ましい。本実施形態では該元素の水溶液を準備する。水溶液とする際の金属塩としては、酢酸塩、クエン酸塩、コハク酸塩などの形態として用いることが好ましい。本実施形態では酢酸塩を用いる。   The metal element solution is not particularly limited, and an aqueous metal element solution is preferable. In this embodiment, an aqueous solution of the element is prepared. The metal salt used in the aqueous solution is preferably used in the form of acetate, citrate, succinate or the like. In this embodiment, acetate is used.

ただし、Siについては、エタノールを溶媒としたゲルスラリーを準備する、あるいはSi微粒子水分散液(水系分散液)を準備する。Si微粒子水分散液としては、シリカコロイドを水で分散した分散液を準備する。   However, for Si, a gel slurry using ethanol as a solvent is prepared, or an Si fine particle aqueous dispersion (aqueous dispersion) is prepared. As the Si fine particle aqueous dispersion, a dispersion in which silica colloid is dispersed in water is prepared.

ABOの原料粉末としては、特に制限されず、上記した成分の酸化物やその混合物、複合酸化物を用いることができるが、その他、焼成により上記した酸化物や複合酸化物となる各種化合物、たとえば、炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物等から適宜選択し、混合して用いることもできる。 The raw material powder of ABO 3 is not particularly limited, and oxides of the above-described components, mixtures thereof, and composite oxides can be used. In addition, various compounds that become the above-described oxides and composite oxides by firing, For example, it can be appropriately selected from carbonates, oxalates, nitrates, hydroxides, organometallic compounds, and the like, and can be used as a mixture.

ABOの原料は、いわゆる固相法の他、各種液相法(たとえば、シュウ酸塩法、水熱合成法、アルコキシド法、ゾルゲル法など)により製造されたものなど、種々の方法で製造されたものを用いることができる。 ABO 3 raw materials are produced by various methods such as those produced by various liquid phase methods (for example, oxalate method, hydrothermal synthesis method, alkoxide method, sol-gel method, etc.) in addition to the so-called solid phase method. Can be used.

添加成分に含まれる金属元素のゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液としては、少なくとも、上述した希土類元素のゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液を準備すればよい。特に希土類元素はゲル状水酸化物スラリーとして準備することが好ましい。さらに、必要に応じて、BaおよびCa以外のアルカリ土類金属元素のゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液を準備すればよい。また、V等やMn等の元素のゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液を準備してもよい。   As the gel hydroxide slurry or aqueous solution of the metal element contained in the additive component, at least the above-described rare earth element gel hydroxide slurry or aqueous solution may be prepared. In particular, the rare earth element is preferably prepared as a gel hydroxide slurry. Furthermore, a gel-like hydroxide slurry or aqueous solution of an alkaline earth metal element other than Ba and Ca may be prepared as necessary. Moreover, you may prepare the gel-like hydroxide slurry or aqueous solution of elements, such as V and Mn.

なお、BaおよびCaについては、ゲル状化合物スラリーまたは水溶液として準備すればよいが、水溶液として準備することが好ましい。ゲル状化合物スラリーを用いる場合は、ゲル状炭酸化物スラリーとすることが好ましい。   In addition, about Ba and Ca, what is necessary is just to prepare as a gel-like compound slurry or aqueous solution, but it is preferable to prepare as aqueous solution. When using a gel compound slurry, it is preferable to use a gel carbonate slurry.

また、添加成分に含まれる金属元素の全量が、ゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液の形態として添加されなくてもよい。たとえば、希土類元素のゲル状水酸化物スラリーおよび希土類元素の酸化物粉末を用いて、本実施形態に係る誘電体磁器組成物を製造してもよい。   The total amount of the metal element contained in the additive component may not be added in the form of a gel hydroxide slurry or an aqueous solution. For example, the dielectric ceramic composition according to the present embodiment may be manufactured using a rare earth element gel hydroxide slurry and a rare earth element oxide powder.

ゲル状水酸化物スラリー中の水酸化物粒子は非常に細かく、たとえば、粒子径は5〜10nm程度である。ゲル状水酸化物スラリー中の水酸化物粒子は、後述する混合工程において、ABO原料粉体と共に均一に分散され、乾燥後にABO粒子の表面を被覆することになる。また、水溶液に溶解している元素も、乾燥後にABO粒子の表面を被覆することになる。 The hydroxide particles in the gel hydroxide slurry are very fine, for example, the particle diameter is about 5 to 10 nm. The hydroxide particles in the gel hydroxide slurry are uniformly dispersed together with the ABO 3 raw material powder in the mixing step described later, and coat the surface of the ABO 3 particles after drying. Further, the element dissolved in the aqueous solution also covers the surface of the ABO 3 particles after drying.

なお、たとえば添加成分として、アルコキシド等を用いた場合、価格が高いことや反応に長時間掛かるという不具合が存在する。また、有機溶剤を使用する必要があり、環境負荷が大きい。これに対し、本実施形態では、添加成分の元素のゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液を用いることで、生産性の向上、環境負荷の改善やコストの低減を実現することができる。   For example, when an alkoxide or the like is used as an additive component, there are disadvantages that the price is high and the reaction takes a long time. Moreover, it is necessary to use an organic solvent, and an environmental impact is large. On the other hand, in the present embodiment, by using a gel hydroxide slurry or an aqueous solution of the element as an additive component, it is possible to improve productivity, improve environmental load, and reduce cost.

次に、本実施形態では、ABOの原料粉末と、上記で得られた添加成分元素のゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液と、を水と共に予備分散する。この予備分散は、ABOの原料粉末とゲル状水酸化物スラリーとを軽く分散させるために行われ、ABOの原料粉末の解砕を目的とするものではない。予備分散は、たとえばボールミルを用いて1〜2時間程度行う。このとき、ボールミル以外の分散機等の攪拌機を用いてもよい。 Next, in the present embodiment, the raw material powder of ABO 3 and the gel-like hydroxide slurry or aqueous solution of the additive component element obtained above are preliminarily dispersed together with water. This preliminary dispersion is performed to lightly disperse the ABO 3 raw material powder and the gel hydroxide slurry, and is not intended to crush the ABO 3 raw material powder. The preliminary dispersion is performed for about 1 to 2 hours using, for example, a ball mill. At this time, a stirrer such as a disperser other than the ball mill may be used.

次に、予備分散後の混合物を、媒体撹拌型分散機を用いて分散して原料混合物を得る。本実施形態では、媒体撹拌型分散機としてビーズミルを用いる。分散混合する条件としては特に制限されないが、たとえばφ0.1mm以下の媒体を用いることが好ましい。   Next, the pre-dispersed mixture is dispersed using a medium stirring type disperser to obtain a raw material mixture. In this embodiment, a bead mill is used as the medium stirring type disperser. The conditions for dispersing and mixing are not particularly limited, but for example, a medium having a diameter of 0.1 mm or less is preferably used.

この分散では、ABO原料粉体を解砕しつつ、ABO原料粉体と添加成分(ゲル状水酸化物または水溶液中の添加金属元素)とを均一に分散させる。その結果、乾燥後にはABO粒子表面にゲル状水酸化物等を被覆させることができる。また、この分散では、親水性の分散剤を添加して、原料混合物の分散性をさらに高めることが好ましい。親水性の分散剤としては、たとえばポリカルボン酸系の分散剤が挙げられる。 In this dispersion, the ABO 3 raw material powder and the additive component (gel hydroxide or added metal element in the aqueous solution) are uniformly dispersed while crushing the ABO 3 raw material powder. As a result, after drying, the ABO 3 particle surface can be coated with a gel hydroxide or the like. In this dispersion, it is preferable to further improve the dispersibility of the raw material mixture by adding a hydrophilic dispersant. Examples of hydrophilic dispersants include polycarboxylic acid-based dispersants.

得られた原料混合物は乾燥される。乾燥後の原料混合物においては、ABO粒子の表面に、ゲル状水酸化物スラリー中または水溶液中の添加金属元素が被覆された状態となっている。すなわち、ゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液として添加された元素は、ABO粒子に物理的に被覆されている(吸着)。 The obtained raw material mixture is dried. In the raw material mixture after drying, the surface of the ABO 3 particles is covered with the additive metal element in the gel hydroxide slurry or the aqueous solution. That is, the element added as a gel hydroxide slurry or an aqueous solution is physically covered with ABO 3 particles (adsorption).

なお、乾燥方法は特に制限されず、静置乾燥、スプレー乾燥、凍結乾燥等から適宜選択すればよい。また、乾燥する温度も特に制限されず、原料混合物の溶媒を除去できる温度であればよい。   The drying method is not particularly limited, and may be appropriately selected from stationary drying, spray drying, freeze drying, and the like. Further, the drying temperature is not particularly limited as long as the solvent can be removed from the raw material mixture.

このような工程を経て、原料混合物を作製することで、主成分となるABO粒子に与えられるダメージをできるだけ小さくしつつ(ABO粒子の結晶性を維持しつつ)、しかもABO粒子に希土類元素等の化合物を均一に被覆することができる。 Through these steps, by manufacturing a raw material mixture, while minimizing the damage given to the ABO 3 particles as a main component (while maintaining the crystallinity of the ABO 3 particles), yet rare earth ABO 3 particle A compound such as an element can be uniformly coated.

さらに上記のようにすることで、後述する熱処理工程や焼成工程において、ABO粒子に対する上記の元素の固溶を制御することができ、その結果、所望の特性が実現された誘電体磁器組成物を得ることができる。たとえば、希土類元素をゲル状水酸化物の形態でABO粒子に被覆することで、希土類元素が、ABO粒子に対して過剰に固溶することを抑制することができる。その結果、信頼性を向上させることができる。 Furthermore, by doing the above, it is possible to control the solid solution of the above element with respect to the ABO 3 particles in the heat treatment step and the firing step described later, and as a result, the dielectric ceramic composition in which desired characteristics are realized. Can be obtained. For example, it is possible to prevent the rare earth element from being excessively dissolved in the ABO 3 particle by coating the rare earth element on the ABO 3 particle in the form of a gel hydroxide. As a result, reliability can be improved.

したがって、ABO粒子の結晶性を維持するために、乾燥後の原料混合物に含まれる、被覆されたABO原料粉体の比表面積は、BET法による測定で、予備分散前のABO原料粉体の比表面積の1.4倍以下であることが好ましい。 Therefore, in order to maintain the crystallinity of the ABO 3 particles, the specific surface area of the coated ABO 3 raw material powder contained in the raw material mixture after drying is measured by the BET method, and the ABO 3 raw material powder before preliminary dispersion is measured. It is preferably 1.4 times or less of the specific surface area of the body.

続いて、乾燥後の原料混合物は熱処理される。この熱処理を行うことにより、ABO粒子の表面に被覆された添加成分元素がより強固に粒子に対して固着される。この熱処理には、たとえばロータリーキルン、トンネル炉、バッチ炉を用いることができる。熱処理における保持温度は400〜900℃の範囲が好ましい。また、保持時間は0.2〜3.0時間が好ましい。なお、原料混合物の乾燥と熱処理とは同時に行ってもよい。同時に行う方法としては、たとえば噴霧熱分解法などが挙げられる。 Subsequently, the dried raw material mixture is heat treated. By performing this heat treatment, the additive component element coated on the surface of the ABO 3 particles is more firmly fixed to the particles. For this heat treatment, for example, a rotary kiln, a tunnel furnace, or a batch furnace can be used. The holding temperature in the heat treatment is preferably in the range of 400 to 900 ° C. The holding time is preferably 0.2 to 3.0 hours. In addition, you may perform simultaneously drying and heat processing of a raw material mixture. Examples of the method performed simultaneously include a spray pyrolysis method.

熱処理後には、原料混合物は凝集しているため、凝集をほぐす程度に原料混合物を解砕してもよい。なお、この解砕は後述する誘電体層用ペーストを調製時に行ってもよい。   Since the raw material mixture is agglomerated after the heat treatment, the raw material mixture may be crushed to such an extent that the agglomeration is loosened. This crushing may be performed at the time of preparing a dielectric layer paste described later.

熱処理後の原料混合物(セラミック原料粉体)の粒径は、通常、平均粒径0.1〜1μm程度である。次に、図2に示すように、セラミック原料粉体を塗料化して誘電体層用ペーストを調製する。誘電体層用ペーストは、誘電体原料(セラミック原料粉体)と有機ビヒクルとを混練した有機系の塗料であってもよく、水系の塗料であってもよい。   The particle size of the raw material mixture (ceramic raw material powder) after the heat treatment is usually about 0.1 to 1 μm in average particle size. Next, as shown in FIG. 2, a ceramic raw material powder is made into a paint to prepare a dielectric layer paste. The dielectric layer paste may be an organic coating material obtained by kneading a dielectric material (ceramic material powder) and an organic vehicle, or may be a water-based coating material.

有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すればよい。用いる有機溶剤も特に限定されず、印刷法やシート法など、利用する方法に応じて、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。   An organic vehicle is obtained by dissolving a binder in an organic solvent. The binder used for the organic vehicle is not particularly limited, and may be appropriately selected from usual various binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. The organic solvent to be used is not particularly limited, and may be appropriately selected from various organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, acetone, toluene, and the like according to a method to be used such as a printing method or a sheet method.

また、誘電体層用ペーストを水系の塗料とする場合には、水溶性のバインダや分散剤などを水に溶解させた水系ビヒクルと、誘電体原料とを混練すればよい。水系ビヒクルに用いる水溶性バインダは特に限定されず、たとえば、ポリビニルアルコール、セルロース、水溶性アクリル樹脂などを用いればよい。   Further, when the dielectric layer paste is used as a water-based paint, a water-based vehicle in which a water-soluble binder or a dispersant is dissolved in water and a dielectric material may be kneaded. The water-soluble binder used for the water-based vehicle is not particularly limited, and for example, polyvinyl alcohol, cellulose, water-soluble acrylic resin, etc. may be used.

内部電極層用ペーストは、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材、あるいは焼成後に上記した導電材となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネート等と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。また、内部電極層用ペーストには、共材が含まれていてもよい。共材としては特に制限されないが、主成分と同様の組成を有していることが好ましい。   The internal electrode layer paste is made by kneading the above-mentioned organic vehicle with various conductive metals and alloys as described above, or various oxides, organometallic compounds, resinates, etc. that become the above-mentioned conductive materials after firing. Prepare. The internal electrode layer paste may contain a common material. The common material is not particularly limited, but preferably has the same composition as the main component.

外部電極用ペーストは、上記した内部電極層用ペーストと同様にして調製すればよい。   The external electrode paste may be prepared in the same manner as the internal electrode layer paste described above.

上記した各ペースト中の有機ビヒクルの含有量に特に制限はなく、通常の含有量、たとえば、バインダは1〜5重量%程度、溶剤は10〜50重量%程度とすればよい。また、各ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体、絶縁体等から選択される添加物が含有されていてもよい。これらの総含有量は、10重量%以下とすることが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in content of the organic vehicle in each above-mentioned paste, For example, what is necessary is just about 1-5 weight% of binders, for example, about 10-50 weight% of binders. Each paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, insulators, and the like as necessary. The total content of these is preferably 10% by weight or less.

印刷法を用いる場合、誘電体層用ペーストおよび内部電極層用ペーストを、PET等の基板上に印刷、積層し、所定形状に切断した後、基板から剥離してグリーンチップとする。   When the printing method is used, the dielectric layer paste and the internal electrode layer paste are printed and laminated on a substrate such as PET, cut into a predetermined shape, and then peeled from the substrate to obtain a green chip.

また、シート法を用いる場合、誘電体層用ペーストを用いてグリーンシートを形成し、この上に内部電極層用ペーストを印刷し内部電極パターンを形成した後、これらを積層してグリーンチップとする。   When the sheet method is used, a green sheet is formed using a dielectric layer paste, an internal electrode layer paste is printed thereon to form an internal electrode pattern, and these are stacked to form a green chip. .

焼成前に、グリーンチップに脱バインダ処理を施す。脱バインダ条件としては、昇温速度を好ましくは5〜300℃/時間、保持温度を好ましくは180〜400℃、温度保持時間を好ましくは0.5〜24時間とする。また、脱バインダ雰囲気は、空気もしくは還元性雰囲気とする。   Before firing, the green chip is subjected to binder removal processing. As binder removal conditions, the temperature rising rate is preferably 5 to 300 ° C./hour, the holding temperature is preferably 180 to 400 ° C., and the temperature holding time is preferably 0.5 to 24 hours. The binder removal atmosphere is air or a reducing atmosphere.

グリーンチップの焼成では、昇温速度を好ましくは200〜2000℃/時間とする。   In firing the green chip, the rate of temperature rise is preferably 200 to 2000 ° C./hour.

焼成時の保持温度は、好ましくは1300℃以下、より好ましくは1100〜1250℃であり、その保持時間は、好ましくは0.5〜8時間、より好ましくは1〜3時間である。保持温度が上記範囲未満であると緻密化が不十分となり、前記範囲を超えると、内部電極層の異常焼結による電極の途切れや、内部電極層構成材料の拡散による容量温度特性の悪化、誘電体磁器組成物の還元が生じやすくなる。   The holding temperature during firing is preferably 1300 ° C. or less, more preferably 1100 to 1250 ° C., and the holding time is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 1 to 3 hours. If the holding temperature is lower than the above range, the densification becomes insufficient. If the holding temperature is higher than the above range, the electrode is interrupted due to abnormal sintering of the internal electrode layer, the capacity temperature characteristic is deteriorated due to diffusion of the constituent material of the internal electrode layer, and the dielectric Reduction of the body porcelain composition is likely to occur.

焼成雰囲気は、還元性雰囲気とすることが好ましく、雰囲気ガスとしてはたとえば、NとHとの混合ガスを加湿して用いることができる。 The firing atmosphere is preferably a reducing atmosphere. As the atmosphere gas, for example, a mixed gas of N 2 and H 2 can be used by humidification.

また、焼成時の酸素分圧は、内部電極層用ペースト中の導電材の種類に応じて適宜決定されればよいが、導電材としてNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、焼成雰囲気中の酸素分圧は、10−14〜10−10MPaとすることが好ましい。酸素分圧が上記範囲未満であると、内部電極層の導電材が異常焼結を起こし、途切れてしまうことがある。また、酸素分圧が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にある。降温速度は、好ましくは50〜2000℃/時間である。 In addition, the oxygen partial pressure during firing may be appropriately determined according to the type of the conductive material in the internal electrode layer paste, but when a base metal such as Ni or Ni alloy is used as the conductive material, The oxygen partial pressure is preferably 10 −14 to 10 −10 MPa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, the conductive material of the internal electrode layer may be abnormally sintered and may be interrupted. Further, when the oxygen partial pressure exceeds the above range, the internal electrode layer tends to be oxidized. The temperature lowering rate is preferably 50 to 2000 ° C./hour.

還元性雰囲気中で焼成した後、コンデンサ素子本体にはアニールを施すことが好ましい。アニールは、誘電体層を再酸化するための処理であり、これによりIR寿命(絶縁抵抗の寿命)を著しく長くすることができるので、信頼性が向上する。   After firing in a reducing atmosphere, the capacitor element body is preferably annealed. Annealing is a process for re-oxidizing the dielectric layer, and thereby the IR life (insulation resistance life) can be remarkably increased, so that the reliability is improved.

アニール雰囲気中の酸素分圧は、10−9〜10−5MPaとすることが好ましい。酸素分圧が前記範囲未満であると誘電体層の再酸化が困難であり、前記範囲を超えると内部電極層の酸化が進行する傾向にある。 The oxygen partial pressure in the annealing atmosphere is preferably 10 −9 to 10 −5 MPa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, it is difficult to re-oxidize the dielectric layer, and when it exceeds the above range, oxidation of the internal electrode layer tends to proceed.

アニールの際の保持温度は、1100℃以下、特に900〜1100℃とすることが好ましい。保持温度が上記範囲未満であると誘電体層の酸化が不十分となるので、IRが低く、また、IR寿命が短くなりやすい。一方、保持温度が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化して容量が低下するだけでなく、内部電極層が誘電体素地と反応してしまい、容量温度特性の悪化、IRの低下、IR寿命の低下が生じやすくなる。なお、アニールは昇温過程および降温過程だけから構成してもよい。すなわち、温度保持時間を零としてもよい。この場合、保持温度は最高温度と同義である。   The holding temperature at the time of annealing is preferably 1100 ° C. or less, particularly 900-1100 ° C. When the holding temperature is lower than the above range, the dielectric layer is not sufficiently oxidized, so that the IR is low and the IR life tends to be short. On the other hand, if the holding temperature exceeds the above range, not only the internal electrode layer is oxidized and the capacity is lowered, but the internal electrode layer reacts with the dielectric substrate, the capacity temperature characteristic is deteriorated, the IR is lowered, the IR Life is likely to decrease. Note that annealing may be composed of only a temperature raising process and a temperature lowering process. That is, the temperature holding time may be zero. In this case, the holding temperature is synonymous with the maximum temperature.

これ以外のアニール条件としては、温度保持時間を好ましくは0〜20時間、より好ましくは2〜4時間、降温速度を好ましくは50〜500℃/時間、より好ましくは100〜300℃/時間とする。また、アニールの雰囲気ガスとしては、たとえば、加湿したNガス等を用いることが好ましい。 As other annealing conditions, the temperature holding time is preferably 0 to 20 hours, more preferably 2 to 4 hours, and the cooling rate is preferably 50 to 500 ° C./hour, more preferably 100 to 300 ° C./hour. . Further, as the annealing atmosphere gas, for example, humidified N 2 gas or the like is preferably used.

上記した脱バインダ処理、焼成およびアニールにおいて、Nガスや混合ガス等を加湿するには、たとえばウェッター等を使用すればよい。この場合、水温は5〜75℃程度が好ましい。 In the above-described binder removal processing, firing and annealing, for example, a wetter or the like may be used to wet the N 2 gas or mixed gas. In this case, the water temperature is preferably about 5 to 75 ° C.

脱バインダ処理、焼成およびアニールは、連続して行なっても、独立に行なってもよい。   The binder removal treatment, firing and annealing may be performed continuously or independently.

上記のようにして得られたコンデンサ素子本体に、たとえばバレル研磨やサンドブラストなどにより端面研磨を施し、外部電極用ペーストを塗布して焼成し、外部電極4を形成する。そして、必要に応じ、外部電極4表面に、めっき等により被覆層を形成する。   The capacitor element main body obtained as described above is subjected to end face polishing, for example, by barrel polishing or sand blasting, and the external electrode paste is applied and fired to form the external electrode 4. Then, if necessary, a coating layer is formed on the surface of the external electrode 4 by plating or the like.

このようにして製造された本実施形態の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。   The multilayer ceramic capacitor of this embodiment manufactured in this way is mounted on a printed circuit board or the like by soldering or the like and used for various electronic devices.

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々に改変することができる。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the embodiment mentioned above at all, and can be variously modified within the range which does not deviate from the summary of this invention.

また、上述した実施形態では、本発明により製造されるセラミック電子部品として、積層セラミックコンデンサを例示したが、このようなセラミック電子部品としては、積層セラミックコンデンサに限定されず、上記構成を有する電子部品であれば何でも良い。   In the above-described embodiment, the multilayer ceramic capacitor is exemplified as the ceramic electronic component manufactured according to the present invention. However, the ceramic electronic component is not limited to the multilayer ceramic capacitor and has the above-described configuration. Anything is fine.

以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。   Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.

実施例1
まず、ABOの原料粉体としてBaTiO粉末を準備した。添加成分の原料として、表1に示す試料番号1については、Yの酸化物粉体、Dyの酸化物粉体、Mgの酸化物粉体、Mnの酸化物粉体、Vの酸化物粉体、Baの酸化物粉体、Caの酸化物粉体およびSiの酸化物粉体を準備した。
Example 1
First, BaTiO 3 powder was prepared as a raw material powder for ABO 3 . For the sample number 1 shown in Table 1 as the raw material of the additive component, Y oxide powder, Dy oxide powder, Mg oxide powder, Mn oxide powder, V oxide powder Ba oxide powder, Ca oxide powder and Si oxide powder were prepared.

表1に示す試料番号2については、Si以外の添加成分のゲル状水酸化物スラリーを準備し、Siについては、エタノールを溶媒としたゲルスラリーを準備した。   For sample number 2 shown in Table 1, a gel hydroxide slurry of additive components other than Si was prepared, and for Si, a gel slurry using ethanol as a solvent was prepared.

表1に示す試料番号3については、Si以外の添加成分については、試料番号2と同様に、ゲル状水酸化物スラリーを準備し、Siについては、ゾルゲル法で合成された粒子径が10〜20nm程度のコロイダルシリカを水で分散したSi水分散液を準備した。   For sample number 3 shown in Table 1, for the additive components other than Si, a gel-like hydroxide slurry is prepared as in sample number 2, and for Si, the particle size synthesized by the sol-gel method is 10 to 10 A Si aqueous dispersion in which colloidal silica of about 20 nm was dispersed with water was prepared.

表1に示す試料番号4については、添加成分のうちYおよびDyについては試料番号2と同様に、ゲル状水酸化物スラリーを準備した。YおよびDy以外の各元素については、各元素の水溶液を準備した。Siについては、試料番号3と同様のものを準備した。   For sample number 4 shown in Table 1, a gel-like hydroxide slurry was prepared for Y and Dy among the additive components in the same manner as for sample number 2. For each element other than Y and Dy, an aqueous solution of each element was prepared. About Si, the same thing as sample number 3 was prepared.

表1に示す試料番号5については、Si以外の添加成分の水溶液を準備し、Siについては、試料番号3と同様のものを準備した。   For Sample No. 5 shown in Table 1, an aqueous solution of additive components other than Si was prepared, and for Si, the same as Sample No. 3 was prepared.

なお、添加成分の添加量は、BaTiO100モルに対し、Y酸化物がY換算で0.25モル、Dy酸化物がDy換算で0.50モル、Mg酸化物がMg換算で1.75モル、Mn酸化物がMn換算で0.20モル、V酸化物がV換算で0.0010モル、焼結助剤成分が、Ba、Ca、Si換算で、合計1.40モルとなるように秤量した。 In addition, with respect to 100 mol of BaTiO 3 , the addition amount of the additive component is 0.25 mol in terms of Y for Y oxide, 0.50 mol in terms of Dy oxide, and 1.75 in terms of Mg oxide for Mg. Mol, Mn oxide is 0.20 mol in terms of Mn, V oxide is 0.0010 mol in terms of V, and the sintering aid component is 1.40 mol in total in terms of Ba, Ca, Si. Weighed.

次に、BaTiO粉末と添加成分の原料とを、ボールミルを用いて予備分散を1時間行った。予備分散後の原料混合物を、φ0.1mmの媒体が充填されたビーズミルを用いて、48時間分散・混合し、原料混合物を作製した。すなわち、試料番号1においては、BaTiO粉末と各元素の酸化物粉体とを分散混合し、試料番号2〜4においては、BaTiO粉末と各元素のゲル状水酸化物または水溶液とを分散混合した。また、分散剤として、ポリカルボン酸系分散剤を、誘電体材料100wt%に対して、1.5wt%添加した。 Next, the BaTiO 3 powder and the raw material of the additive component were preliminarily dispersed for 1 hour using a ball mill. The raw material mixture after the preliminary dispersion was dispersed and mixed for 48 hours using a bead mill filled with a medium having a diameter of 0.1 mm to prepare a raw material mixture. That is, in sample number 1, BaTiO 3 powder and oxide powder of each element are dispersed and mixed, and in sample numbers 2 to 4, BaTiO 3 powder and gel hydroxide or aqueous solution of each element are dispersed. Mixed. Further, as a dispersant, 1.5 wt% of a polycarboxylic acid dispersant was added to 100 wt% of the dielectric material.

得られた原料混合物をスプレー乾燥機にて250℃で乾燥した後、ロータリーキルンにおいて750℃で15分熱処理を行った。熱処理後の原料混合物(セラミック原料粉体)を誘電体原料とした。   The obtained raw material mixture was dried at 250 ° C. by a spray dryer, and then heat-treated at 750 ° C. for 15 minutes in a rotary kiln. The raw material mixture (ceramic raw material powder) after the heat treatment was used as a dielectric raw material.

次いで、得られた誘電体原料:100重量部と、ポリビニルブチラール樹脂:10重量部と、可塑剤としてのジオクチルフタレート(DOP):5重量部と、溶媒としてのアルコール:100重量部とをボールミルで混合してペースト化し、誘電体層用ペーストを得た。   Next, the obtained dielectric material: 100 parts by weight, polyvinyl butyral resin: 10 parts by weight, dioctyl phthalate (DOP) as a plasticizer: 5 parts by weight, and alcohol as a solvent: 100 parts by weight with a ball mill The mixture was made into a paste to obtain a dielectric layer paste.

また、上記とは別に、Ni粒子:44.6重量部と、テルピネオール:52重量部と、エチルセルロース:3重量部と、ベンゾトリアゾール:0.4重量部とを、3本ロールにより混練し、スラリー化して内部電極層用ペーストを作製した。   In addition to the above, Ni particles: 44.6 parts by weight, terpineol: 52 parts by weight, ethyl cellulose: 3 parts by weight, and benzotriazole: 0.4 parts by weight are kneaded with three rolls to obtain a slurry. To prepare an internal electrode layer paste.

そして、上記にて作製した誘電体層用ペーストを用いて、PETフィルム上に、乾燥後の厚みが1.0μmとなるようにグリーンシートを形成した。次いで、この上に内部電極層用ペーストを用いて、電極層を所定パターンで印刷した後、PETフィルムからシートを剥離し、電極層を有するグリーンシートを作製した。次いで、電極層を有するグリーンシートを複数枚積層し、加圧接着することによりグリーン積層体とし、このグリーン積層体を所定サイズに切断することにより、グリーンチップを得た。   Then, using the dielectric layer paste prepared above, a green sheet was formed on the PET film so that the thickness after drying was 1.0 μm. Next, the electrode layer was printed in a predetermined pattern using the internal electrode layer paste thereon, and then the sheet was peeled off from the PET film to produce a green sheet having the electrode layer. Next, a plurality of green sheets having electrode layers were laminated and pressure-bonded to obtain a green laminated body, and the green laminated body was cut into a predetermined size to obtain a green chip.

次いで、得られたグリーンチップについて、脱バインダ処理、焼成およびアニールを下記条件にて行って、積層セラミック焼成体を得た。   Next, the obtained green chip was subjected to binder removal treatment, firing and annealing under the following conditions to obtain a multilayer ceramic fired body.

脱バインダ処理条件は、昇温速度:25℃/時間、保持温度:260℃、温度保持時間:8時間、雰囲気:空気中とした。   The binder removal treatment conditions were temperature rising rate: 25 ° C./hour, holding temperature: 260 ° C., temperature holding time: 8 hours, and atmosphere: in the air.

焼成条件は、昇温速度:1000℃/時間、保持温度:1190℃とし、保持時間を1時間とした。降温速度は1000℃/時間とした。なお、雰囲気ガスは、加湿したN+H混合ガスとし、酸素分圧が10−12MPaとなるようにした。 The firing conditions were a heating rate: 1000 ° C./hour, a holding temperature: 1190 ° C., and a holding time of 1 hour. The cooling rate was 1000 ° C./hour. The atmospheric gas was a humidified N 2 + H 2 mixed gas, and the oxygen partial pressure was 10 −12 MPa.

アニール条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1000℃、温度保持時間:2時間、降温速度:200℃/時間、雰囲気ガス:加湿したNガス(酸素分圧:10−7MPa)とした。 The annealing conditions were: temperature rising rate: 200 ° C./hour, holding temperature: 1000 ° C., temperature holding time: 2 hours, temperature falling rate: 200 ° C./hour, atmospheric gas: humidified N 2 gas (oxygen partial pressure: 10 −7 MPa).

なお、焼成およびアニールの際の雰囲気ガスの加湿には、ウェッターを用いた。   A wetter was used for humidifying the atmospheric gas during firing and annealing.

次いで、得られた積層セラミック焼成体の端面をサンドブラストにて研磨した後、外部電極としてCuを塗布し、図1に示す積層セラミックコンデンサの試料を得た。得られたコンデンサ試料のサイズは、3.2mm×1.6mm×0.6mmであり、誘電体層の厚み約0.9μm、内部電極層の厚み約0.7μm、内部電極層に挟まれた誘電体層の数は100とした。   Next, after polishing the end face of the obtained multilayer ceramic fired body by sandblasting, Cu was applied as an external electrode to obtain a sample of the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. The size of the obtained capacitor sample was 3.2 mm × 1.6 mm × 0.6 mm, the thickness of the dielectric layer was about 0.9 μm, the thickness of the internal electrode layer was about 0.7 μm, and was sandwiched between the internal electrode layers The number of dielectric layers was 100.

得られたコンデンサ試料について、比誘電率、誘電損失、CR積、容量温度特性および高温負荷寿命(HALT)の測定を、それぞれ下記に示す方法により行った。   About the obtained capacitor | condenser sample, the dielectric constant, dielectric loss, CR product, a capacitance temperature characteristic, and the high temperature load lifetime (HALT) were measured by the method shown below, respectively.

比誘電率ε
比誘電率εは、コンデンサ試料に対し、基準温度25℃において、デジタルLCRメータ(YHP社製4274A)にて、周波数1kHz,入力信号レベル(測定電圧)1.0Vrmsの条件下で測定された静電容量から算出した(単位なし)。比誘電率は高いほうが好ましく、本実施例では、2500以上を良好とした。結果を表1に示す。
Dielectric constant ε r
The relative dielectric constant ε r was measured for a capacitor sample at a reference temperature of 25 ° C. with a digital LCR meter (4274A manufactured by YHP) under the conditions of a frequency of 1 kHz and an input signal level (measurement voltage) of 1.0 Vrms. Calculated from capacitance (no unit). It is preferable that the relative dielectric constant is high. In this example, 2500 or more was considered good. The results are shown in Table 1.

誘電損失(tanδ)
誘電損失(tanδ)は、コンデンサ試料に対し、基準温度25℃において、デジタルLCRメータ(YHP社製4274A)にて、周波数1kHz,入力信号レベル(測定電圧)0.5Vrmsの条件下で測定した。誘電損失は低いほうが好ましく、本実施例では5.0%以下を良好とした。結果を表1に示す。
Dielectric loss (tan δ)
The dielectric loss (tan δ) was measured for a capacitor sample at a reference temperature of 25 ° C. using a digital LCR meter (4274A manufactured by YHP) under the conditions of a frequency of 1 kHz and an input signal level (measurement voltage) of 0.5 Vrms. The dielectric loss is preferably as low as possible. In this example, 5.0% or less was considered good. The results are shown in Table 1.

CR積
コンデンサ試料に対し、絶縁抵抗計(アドバンテスト社製R8340A)を用いて、20℃において6.3V/μmの直流電圧を、コンデンサ試料に1分間印加した後の絶縁抵抗IRを測定した。CR積は、上記にて測定した静電容量C(単位はμF)と、絶縁抵抗IR(単位はMΩ)との積を求めることにより測定した。本実施例では、1000以上を良好とし、1500以上であることがより好ましい。結果を表1に示す。
The insulation resistance IR after applying a DC voltage of 6.3 V / μm to the capacitor sample for 1 minute at 20 ° C. was measured for the CR product capacitor sample using an insulation resistance meter (R8340A manufactured by Advantest). The CR product was measured by determining the product of the capacitance C (unit: μF) measured above and the insulation resistance IR (unit: MΩ). In the present embodiment, 1000 or more is good, and 1500 or more is more preferable. The results are shown in Table 1.

静電容量の温度特性(TC)
コンデンサ試料に対し、−55〜85℃における静電容量を測定し、静電容量の変化率ΔCを算出し、EIA規格のX5R特性またはB特性を満足するか否かについて評価した。すなわち、−55〜85℃において、変化率ΔCが、±15%以内であるか否かを評価した。結果を表1に示す。
Capacitance temperature characteristics (TC)
The capacitance at −55 to 85 ° C. was measured for the capacitor sample, the rate of change ΔC in capacitance was calculated, and it was evaluated whether the E5 standard X5R characteristic or B characteristic was satisfied. That is, it was evaluated whether the change rate ΔC was within ± 15% at −55 to 85 ° C. The results are shown in Table 1.

高温負荷寿命(HALT)
コンデンサ試料に対し、160℃にて、9V/μmの電界下で直流電圧の印加状態に保持し、寿命時間を測定することにより、高温負荷寿命を評価した。本実施例においては、印加開始から絶縁抵抗が一桁落ちるまでの時間を寿命と定義した。また、本実施例では、上記の評価を20個のコンデンサ試料について行い、その平均値を高温負荷寿命とした。評価基準は50時間以上を良好とし、60時間以上であることがより好ましい。結果を表1に示す。
High temperature load life (HALT)
The capacitor sample was maintained at 160 ° C. in an applied DC voltage under an electric field of 9 V / μm, and the lifetime was measured to evaluate the high temperature load life. In this example, the time from the start of application until the insulation resistance drops by an order of magnitude was defined as the lifetime. In this example, the above evaluation was performed on 20 capacitor samples, and the average value was defined as the high temperature load life. The evaluation standard is good for 50 hours or more, and more preferably 60 hours or more. The results are shown in Table 1.

Figure 2011190123
Figure 2011190123

表1より、添加成分を酸化物粉体の形態で、BaTiO粉末と分散混合した場合(試料番号1)では、高温負荷寿命が悪化していることが確認できた。また、CR積についても他の試料よりも劣る傾向にあることが確認できた。一方、添加成分をゲル状水酸化物スラリーまたは水溶液の形態で、BaTiO粉末と分散した場合(試料番号2〜5)には、高温負荷寿命が向上していることが確認できた。特に希土類元素(YおよびDy)をゲル状水酸化物スラリーの形態で分散した場合(試料番号2〜4)には、高温負荷寿命が良好であることが確認できた。 From Table 1, it was confirmed that when the additive component was dispersed and mixed with the BaTiO 3 powder in the form of oxide powder (sample number 1), the high temperature load life was deteriorated. It was also confirmed that the CR product also tends to be inferior to the other samples. On the other hand, when the additive component was dispersed with BaTiO 3 powder in the form of a gel hydroxide slurry or an aqueous solution (sample numbers 2 to 5), it was confirmed that the high temperature load life was improved. In particular, when the rare earth elements (Y and Dy) were dispersed in the form of a gel hydroxide slurry (sample numbers 2 to 4), it was confirmed that the high temperature load life was good.

また、BaおよびCaを水溶液の形態で分散した場合(試料番号4)は、ゲルスラリーの形態で用いる場合(試料番号3)よりも高温負荷寿命が若干向上することが確認できた。   Moreover, when Ba and Ca were disperse | distributed in the form of aqueous solution (sample number 4), it has confirmed that a high temperature load lifetime improved a little compared with the case where it uses in the form of a gel slurry (sample number 3).

実施例2
分散工程において用いる媒体撹拌型分散機および使用した媒体の径を表2に示すものとした以外は、実施例1の試料番号2と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料を作製し、実施例1と同様の特性評価を行った。結果を表2に示す。
Example 2
A sample of the multilayer ceramic capacitor was prepared in the same manner as in Sample No. 2 of Example 1, except that the medium stirring type disperser used in the dispersion step and the diameter of the medium used were shown in Table 2. Example 1 The same characteristic evaluation was performed. The results are shown in Table 2.

Figure 2011190123
Figure 2011190123

表2より、使用した媒体の径が大きい場合(試料番号6および7)には、誘電損失、容量温度特性および高温負荷寿命が悪化する傾向にあることが確認できた。また、媒体撹拌型分散機ではなく、撹拌羽根のみによる分散混合した場合(試料番号8)にも、高温負荷寿命が悪化する傾向にあることが確認できた。   From Table 2, it was confirmed that when the diameter of the medium used was large (sample numbers 6 and 7), the dielectric loss, the capacity-temperature characteristics, and the high temperature load life tended to deteriorate. Moreover, it was confirmed that the high temperature load life tends to be deteriorated even when the dispersion mixing is performed only with the stirring blades (sample number 8) instead of the medium stirring type disperser.

実施例3
乾燥および熱処理を、噴霧熱分解法により同時に行った以外は、実施例1の試料番号2と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料を作製し、実施例1と同様の特性評価を行った。結果を表3に示す。
Example 3
A multilayer ceramic capacitor sample was produced in the same manner as in Sample No. 2 of Example 1 except that drying and heat treatment were simultaneously performed by spray pyrolysis, and the same characteristic evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 3.

Figure 2011190123
Figure 2011190123

表3より、乾燥および熱処理を同時に行った場合にも本発明の効果が得られることが確認できた。   From Table 3, it was confirmed that the effects of the present invention can be obtained even when drying and heat treatment are performed simultaneously.

1… 積層セラミックコンデンサ
2… 誘電体層
3… 内部電極層
4… 外部電極
10… コンデンサ素子本体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer ceramic capacitor 2 ... Dielectric layer 3 ... Internal electrode layer 4 ... External electrode 10 ... Capacitor element main body

Claims (14)

セラミック層と電極とを有するセラミック電子部品を製造する方法であって、
前記セラミック層が、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1つである)で表される主成分および添加成分を含む誘電体磁器組成物から構成されており、
前記主成分の原料粉体と、前記添加成分に含まれる金属元素のうち、少なくとも一部の金属元素のゲル状化合物スラリーまたは少なくとも一部の金属元素の溶液と、を準備する工程と、
前記主成分の原料と前記ゲル状化合物スラリーまたは前記溶液とを分散して原料混合物を得る工程と、
前記原料混合物を乾燥する工程と、
乾燥後の前記原料混合物を熱処理する工程と、を有するセラミック電子部品の製造方法。
A method for producing a ceramic electronic component having a ceramic layer and an electrode, comprising:
The ceramic layer has a main component and an addition represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti, Zr and Hf). It is composed of a dielectric ceramic composition containing components,
Preparing a raw material powder of the main component and a gel compound slurry of at least a part of metal element or a solution of at least a part of metal element among the metal elements contained in the additive component;
Dispersing the raw material of the main component and the gelled compound slurry or the solution to obtain a raw material mixture;
Drying the raw material mixture;
And a step of heat-treating the raw material mixture after drying.
前記ゲル状化合物スラリーがゲル状水酸化物スラリーであり、前記溶液が水溶液である請求項1に記載のセラミック電子部品の製造方法。   The method for producing a ceramic electronic component according to claim 1, wherein the gel compound slurry is a gel hydroxide slurry, and the solution is an aqueous solution. 前記添加成分が希土類元素の酸化物を含んでおり、前記希土類元素のゲル状化合物スラリーまたは前記希土類元素の溶液を準備する請求項1または2に記載のセラミック電子部品の製造方法。   3. The method of manufacturing a ceramic electronic component according to claim 1, wherein the additive component includes an oxide of a rare earth element, and the gel compound slurry of the rare earth element or the rare earth element solution is prepared. 前記希土類元素のゲル状化合物スラリーのみを準備する請求項3に記載のセラミック電子部品の製造方法。   4. The method for producing a ceramic electronic component according to claim 3, wherein only the rare earth element gel compound slurry is prepared. 前記添加成分がアルカリ土類金属元素の酸化物および焼結助剤を含んでおり、前記アルカリ土類金属のゲル状化合物スラリーまたは前記アルカリ土類金属の溶液と、前記焼結助剤としての役割を有する金属元素のゲル状化合物スラリーまたは該金属元素の溶液と、を準備する請求項1〜4のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。   The additive component contains an oxide of an alkaline earth metal element and a sintering aid, the alkaline earth metal gel compound slurry or the alkaline earth metal solution, and a role as the sintering aid The manufacturing method of the ceramic electronic component in any one of Claims 1-4 which prepares the gel-like compound slurry of the metallic element which has this, or the solution of this metallic element. Mgのゲル状化合物スラリーのみを準備する請求項5に記載のセラミック電子部品の製造方法。   The method for producing a ceramic electronic component according to claim 5, wherein only the gel compound slurry of Mg is prepared. 媒体撹拌型分散機を用いて前記原料混合物を得る請求項1〜6のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。   The manufacturing method of the ceramic electronic component in any one of Claims 1-6 which obtains the said raw material mixture using a medium stirring type disperser. 媒体として、φ0.1mm以下の媒体を使用する請求項7に記載のセラミック電子部品の製造方法。   The method of manufacturing a ceramic electronic component according to claim 7, wherein a medium having a diameter of 0.1 mm or less is used as the medium. 前記熱処理する工程において、400〜900℃の範囲で熱処理を行う請求項1〜8のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。   The method for manufacturing a ceramic electronic component according to claim 1, wherein the heat treatment is performed in a range of 400 to 900 ° C. in the heat treatment step. 前記乾燥する工程と前記熱処理する工程とを同時に行う請求項1〜9のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。   The method for manufacturing a ceramic electronic component according to claim 1, wherein the drying step and the heat treatment step are performed simultaneously. 前記原料混合物を得る工程において、分散剤を添加する請求項1〜10のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。   The method for producing a ceramic electronic component according to claim 1, wherein a dispersant is added in the step of obtaining the raw material mixture. 前記分散剤は、親水性の分散剤である請求項11に記載のセラミック電子部品の製造方法。   The method for manufacturing a ceramic electronic component according to claim 11, wherein the dispersant is a hydrophilic dispersant. 熱処理後の原料混合物に、溶剤およびバインダ樹脂を添加して、ペースト組成物を得る請求項1〜12のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。   The manufacturing method of the ceramic electronic component in any one of Claims 1-12 which add a solvent and binder resin to the raw material mixture after heat processing, and obtain a paste composition. 一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1つである)で表される主成分および添加成分を含むセラミック原料粉体を製造する方法であって、
前記主成分の原料粉体と、前記添加成分に含まれる金属元素のうち、少なくとも一部の金属元素のゲル状化合物スラリーまたは少なくとも一部の金属元素の溶液と、を準備する工程と、
前記主成分の原料と前記ゲル状化合物スラリーまたは前記溶液とを分散して原料混合物を得る工程と、
前記原料混合物を乾燥する工程と、
乾燥後の前記原料混合物を熱処理してセラミック原料粉体を得る工程と、を有するセラミック原料粉体の製造方法。
A ceramic raw material comprising a main component and an additive component represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti, Zr and Hf) A method for producing a powder comprising:
Preparing a raw material powder of the main component and a gel compound slurry of at least a part of metal element or a solution of at least a part of metal element among the metal elements contained in the additive component;
Dispersing the raw material of the main component and the gelled compound slurry or the solution to obtain a raw material mixture;
Drying the raw material mixture;
Heat-treating the raw material mixture after drying to obtain a ceramic raw material powder.
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