JP2011177774A - Flux for soldering and solder paste composition using the same - Google Patents

Flux for soldering and solder paste composition using the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide flux for soldering which can suppress the generation of voids in a solder metal, and also can suppress the scattering of flux and the solder metal, and a solder paste composition using the same. <P>SOLUTION: The flux for soldering comprises acid-modified polyolefin. Further, the flux comprises a base resin and an activator, the base resin is made of rosin or a synthetic resin, and the flux further comprises acid-modified polyolefin. The paste composition comprises the above flux for soldering and the solder alloy powder. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子機器のプリント基板等の回路基板に対して回路部品等をはんだ接続する際に使用するはんだ付け用フラックスおよびそれを用いたはんだペースト組成物に関する。   The present invention relates to a soldering flux used when a circuit component or the like is solder-connected to a circuit board such as a printed board of an electronic device, and a solder paste composition using the same.

従来から、電子回路部品等をはんだ接続するために、はんだ金属と、はんだ付け用フラックス(以下、「フラックス」と言うことがある。)とからなる種々のはんだペースト組成物(以下、「ペースト組成物」と言うことがある。)が使用されている。従来のはんだ接合部では、はんだ金属中にボイド(気泡)が発生したり、ペースト組成物加熱時のフラックスの突沸によってフラックスやはんだ金属がはんだ付け部以外に飛散する現象が認められていた。   Conventionally, various solder paste compositions (hereinafter referred to as “paste compositions”) comprising solder metal and soldering flux (hereinafter sometimes referred to as “flux”) for soldering electronic circuit components and the like. Is sometimes used.) Is used. In conventional solder joints, voids (bubbles) are generated in the solder metal, and flux and solder metal are scattered outside the soldered part due to bumping of the flux when the paste composition is heated.

近時、電子機器の小型化や高機能化に伴い、はんだ接合部の微細化と実装の高密度化が進むにつれ、前記現象が問題視されるようになってきた。すなわち、はんだ金属中にボイドが発生すると、それを起点とした冷熱サイクル試験によるクラック等の発生による接合信頼性に影響を及ぼすことになる。従来のようなはんだ接合部が比較的大きい場合にはこの影響を受け難いが、はんだ接合部が微細化されると、前記影響が大きくなり接合信頼性に問題を生じる。つまり、ボイド体積が同一であっても、接合部のはんだに対するボイド体積の割合が大きくなるため、接合信頼性が低下する。   In recent years, with the miniaturization and high functionality of electronic devices, the above phenomenon has been regarded as a problem as the solder joints are miniaturized and the mounting density is increased. That is, when a void is generated in the solder metal, it affects the bonding reliability due to generation of a crack or the like in a cooling / heating cycle test starting from the void. When the solder joint portion is relatively large as in the prior art, it is difficult to be affected by this. However, when the solder joint portion is miniaturized, the effect becomes large, causing a problem in joint reliability. That is, even if the void volume is the same, since the ratio of the void volume to the solder at the joint portion is increased, the joint reliability is lowered.

また、フラックスの飛散は、コネクタパターン等の導通を確保しなければならない部分への絶縁物付着不良の原因となり、はんだ金属の飛散は、部品電極間への付着による短絡不良等の原因となる。これらの問題に対し、従来は、フラックスやはんだ金属の付着が問題となる部分をはんだ付け部から離して配置するなど、設計を工夫することで対応してきた。   Moreover, the scattering of the flux causes a failure in adhesion of an insulator to a portion such as a connector pattern where conduction must be ensured, and the scattering of the solder metal causes a short-circuit failure due to adhesion between component electrodes. Conventionally, these problems have been dealt with by devising the design such as disposing the part where adhesion of flux or solder metal is a problem away from the soldering part.

しかし、実装の高密度化に伴い、そのような配置を行う自由度が低くなり、設計上の工夫のみでは、フラックスやはんだ金属の飛散による問題を回避し難くなっている。フラックスやはんだ金属が付着してはならない部分に耐熱テープ等を貼り付け、はんだ付け後に取り除くという対策もあるが、この対策では製造コストが増加する。   However, as the mounting density is increased, the degree of freedom for such an arrangement is reduced, and it is difficult to avoid problems due to scattering of flux and solder metal only by design ingenuity. There is also a measure to stick heat-resistant tape or the like on the part where flux or solder metal should not adhere, and remove it after soldering, but this measure increases the manufacturing cost.

一方、特許文献1には、フラックス等の飛散を防止可能なフラックスとして、高密度酸化型ポリエチレンを含有するフラックスが記載されている。特許文献2には、ボイドの発生を低減可能なフラックスとして、低分子量の物質を除去した樹脂酸類の多価アルコールエステルをベース樹脂として含有するフラックスが記載されている。   On the other hand, Patent Document 1 describes a flux containing high-density oxidized polyethylene as a flux capable of preventing scattering of flux and the like. Patent Document 2 describes a flux containing, as a base resin, a polyhydric alcohol ester of a resin acid from which a low molecular weight substance has been removed as a flux that can reduce the generation of voids.

しかし、特許文献1,2に記載されているフラックスは、フラックス等の飛散を防止する効果やボイドの発生を低減する効果が必ずしも十分ではなかった。また、特許文献1には、はんだ金属中に発生するボイドの問題についての記載がなく、特許文献2には、フラックス等の飛散の問題についての記載がない。   However, the fluxes described in Patent Documents 1 and 2 are not necessarily sufficient in the effect of preventing scattering of the flux and the like and the effect of reducing the generation of voids. Further, Patent Document 1 does not describe the problem of voids generated in the solder metal, and Patent Document 2 does not describe the problem of scattering of flux or the like.

特開2004−283905号公報JP 2004-283905 A 国際公開第06/070797号パンフレットInternational Publication No. 06/077077 Pamphlet

本発明の課題は、はんだ金属中にボイドが発生するのを抑制することができ、かつフラックスやはんだ金属が飛散するのを抑制することができるはんだ付け用フラックスおよびそれを用いたはんだペースト組成物を提供することである。   An object of the present invention is to provide a soldering flux capable of suppressing the generation of voids in the solder metal and suppressing the scattering of the flux and the solder metal, and a solder paste composition using the same Is to provide.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、以下の構成からなる解決手段を見出し、本発明を完成するに至った。
(1)酸変性ポリオレフィンを含有することを特徴とするはんだ付け用フラックス。
(2)ベース樹脂と活性剤とを含有するはんだ付け用フラックスであって、前記ベース樹脂が、ロジンまたは合成樹脂であり、酸変性ポリオレフィンをさらに含有することを特徴とするはんだ付け用フラックス。
(3)前記酸変性ポリオレフィンが、無水カルボン酸基で変性したポリプロピレンおよび無水カルボン酸基で変性したポリエチレンから選ばれる少なくとも1種である前記(1)または(2)記載のはんだ付け用フラックス。
(4)前記酸変性ポリオレフィンの密度が、0.93g/cm3以上である前記(1)〜(3)のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。
(5)前記酸変性ポリオレフィンのJIS K 0070に規定の酸価が、20mgKOH/g以上である前記(1)〜(4)のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。
(6)前記酸変性ポリオレフィンの重量平均分子量が、10,000〜50,000である前記(1)〜(5)のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。
(7)前記酸変性ポリオレフィンの含有量が、フラックス総量に対して0.1〜10重量%である前記(1)〜(6)のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。
(8)有機溶剤をさらに含有し、該有機溶剤が高沸点溶剤を含有する前記(1)〜(7)のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。
(9)フラックス総量に対し、ベース樹脂を20〜74.9重量%、活性剤を3〜20重量%、ワックスを1〜10重量%、有機溶剤を20〜50重量%、添加剤を1〜10重量%の割合で含有する前記(1)〜(8)のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。
(10)前記(1)〜(9)のいずれかに記載のはんだ付け用フラックスと、はんだ合金粉末とを含有することを特徴とするはんだペースト組成物。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found a solution means having the following constitution and have completed the present invention.
(1) A soldering flux comprising an acid-modified polyolefin.
(2) A soldering flux containing a base resin and an activator, wherein the base resin is rosin or a synthetic resin and further contains an acid-modified polyolefin.
(3) The soldering flux according to (1) or (2), wherein the acid-modified polyolefin is at least one selected from polypropylene modified with a carboxylic anhydride group and polyethylene modified with a carboxylic anhydride group.
(4) The soldering flux according to any one of (1) to (3), wherein the acid-modified polyolefin has a density of 0.93 g / cm 3 or more.
(5) The soldering flux according to any one of (1) to (4), wherein the acid value specified in JIS K 0070 of the acid-modified polyolefin is 20 mgKOH / g or more.
(6) The soldering flux according to any one of (1) to (5), wherein the acid-modified polyolefin has a weight average molecular weight of 10,000 to 50,000.
(7) The soldering flux according to any one of (1) to (6), wherein the content of the acid-modified polyolefin is 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the flux.
(8) The soldering flux according to any one of (1) to (7), further containing an organic solvent, wherein the organic solvent contains a high boiling point solvent.
(9) 20 to 74.9% by weight of the base resin, 3 to 20% by weight of the activator, 1 to 10% by weight of the wax, 20 to 50% by weight of the organic solvent, and 1 to 3% of the additive with respect to the total flux. The soldering flux according to any one of (1) to (8), which is contained in a proportion of 10% by weight.
(10) A solder paste composition comprising the soldering flux according to any one of (1) to (9) and a solder alloy powder.

本発明によれば、はんだ金属中のボイドの発生と、フラックスやはんだ金属の飛散とを抑制することができ、それゆえ微細な接合部へのはんだ付けや高密度実装においても高い接合信頼性で、かつ絶縁物付着不良や短絡不良等を招くことなく、良好なはんだ接続を実現することが可能になるという効果がある。   According to the present invention, it is possible to suppress the generation of voids in the solder metal and the scattering of the flux and the solder metal, and therefore, with high joint reliability even in soldering to fine joints and high-density mounting. In addition, there is an effect that it is possible to realize a good solder connection without causing an insulator adhesion failure or a short circuit failure.

本発明のはんだ付け用フラックスは、酸変性ポリオレフィンを含有するものである。前記フラックスは、通常、後述するようなロジンや合成樹脂をベース樹脂として含有する。前記酸変性ポリオレフィンは、酸変性により非極性のポリオレフィンに極性を付与したものであり、それゆえ前記ベース樹脂に対して優れた相溶性を示す。したがって、フラックスに前記酸変性ポリオレフィンを含有すると、リフロー時におけるフラックス溶融粘度を増大させることができる。その結果、はんだ溶融がゆっくりとなり、気泡がペースト組成物表面に移動し易くなるので、はんだ金属中にボイドが発生するのを抑制することができる。また、フラックスの粘度が増大しているため、ペースト組成物加熱時にフラックスが突沸することを抑制することができ、フラックスやはんだ金属が飛散し難くなる。はんだ金属中に発生するボイドの問題や、フラックス等の飛散の問題は、融点の高い無鉛はんだにおいて顕著である。したがって、本発明のはんだ付け用フラックスは、無鉛はんだ付け用フラックスとしても好適に用いることができる。   The soldering flux of the present invention contains an acid-modified polyolefin. The flux usually contains rosin or synthetic resin as described later as a base resin. The acid-modified polyolefin is obtained by imparting polarity to a non-polar polyolefin by acid modification, and therefore exhibits excellent compatibility with the base resin. Therefore, when the acid-modified polyolefin is contained in the flux, the flux melt viscosity during reflow can be increased. As a result, solder melting becomes slow and air bubbles easily move to the surface of the paste composition, so that generation of voids in the solder metal can be suppressed. Moreover, since the viscosity of the flux is increased, it is possible to prevent the flux from bumping when the paste composition is heated, and the flux and the solder metal are hardly scattered. The problem of voids generated in solder metal and the problem of scattering of flux and the like are remarkable in lead-free solder having a high melting point. Therefore, the soldering flux of the present invention can be suitably used as a lead-free soldering flux.

前記酸変性ポリオレフィンは、酸変性により酸基が導入されたポリオレフィンである。前記酸基としては、例えば無水カルボン酸基(−CO−O−OC−)、カルボン酸基(−COOH)等が挙げられる。前記酸基をポリオレフィンに導入可能な化合物としては、例えば無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水コハク酸、無水グルタル酸、無水アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。前記ポリオレフィンとしては、例えばポリプロピレン、ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合樹脂等が挙げられる。前記酸変性ポリオレフィンは、無水カルボン酸基で変性したポリプロピレンおよび無水カルボン酸基で変性したポリエチレンから選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。   The acid-modified polyolefin is a polyolefin having an acid group introduced by acid modification. Examples of the acid group include a carboxylic anhydride group (—CO—O—OC—) and a carboxylic acid group (—COOH). Examples of the compound capable of introducing the acid group into the polyolefin include maleic anhydride, itaconic anhydride, succinic anhydride, glutaric anhydride, adipic anhydride, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, acrylic acid, and methacrylic acid. Can be mentioned. Examples of the polyolefin include polypropylene, polyethylene, and ethylene-propylene copolymer resin. The acid-modified polyolefin is preferably at least one selected from polypropylene modified with a carboxylic anhydride group and polyethylene modified with a carboxylic anhydride group.

前記酸変性ポリオレフィンは、密度の高い高密度酸変性ポリオレフィンであるのが好ましい。具体的には、前記酸変性ポリオレフィンの密度は、0.93g/cm3以上であるのが好ましい。前記密度があまり小さいと、リフロー時にフラックス粘度があまり増大しないため好ましくない。前記密度の上限値としては、1.0g/cm3程度が適当である。 The acid-modified polyolefin is preferably a high-density acid-modified polyolefin having a high density. Specifically, the acid-modified polyolefin preferably has a density of 0.93 g / cm 3 or more. If the density is too small, the flux viscosity does not increase so much during reflow, which is not preferable. The upper limit of the density is suitably about 1.0 g / cm 3 .

前記酸変性ポリオレフィンの酸価は、20mgKOH/g以上であるのが好ましい。前記酸価があまり小さいと、ベース樹脂に対する相溶性が低下する傾向にあるので好ましくない。前記酸価の上限値としては、70mgKOH/g程度が適当である。前記酸価は、JIS K 0070に準拠して測定し得られる値である。   The acid value of the acid-modified polyolefin is preferably 20 mgKOH / g or more. If the acid value is too small, the compatibility with the base resin tends to decrease, such being undesirable. The upper limit of the acid value is suitably about 70 mgKOH / g. The acid value is a value that can be measured according to JIS K 0070.

前記酸変性ポリオレフィンの重量平均分子量は、10,000〜50,000であるのが好ましい。前記重量平均分子量があまり小さいと、酸変性ポリオレフィンよる効果が得られ難くなる傾向にあるので好ましくない。また、前記重量平均分子量があまり大きいと、ベース樹脂に対する相溶性が低下する傾向にあるので好ましくない。前記重量平均分子量は、酸変性ポリオレフィンをゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)で測定して得られる値である。   The acid-modified polyolefin preferably has a weight average molecular weight of 10,000 to 50,000. If the weight average molecular weight is too small, the effect of the acid-modified polyolefin tends to be difficult to obtain. On the other hand, if the weight average molecular weight is too large, the compatibility with the base resin tends to decrease, such being undesirable. The weight average molecular weight is a value obtained by measuring acid-modified polyolefin by gel permeation chromatography (GPC).

前記酸変性ポリオレフィンの含有量は、フラックス総量に対して0.1〜10重量%であるのが好ましく、1〜5重量%であるのがより好ましい。これにより、酸変性ポリオレフィンによる効果を得ることができる。   The content of the acid-modified polyolefin is preferably 0.1 to 10% by weight, and more preferably 1 to 5% by weight, based on the total amount of the flux. Thereby, the effect by acid-modified polyolefin can be acquired.

前記酸変性ポリオレフィンは、市販のものを用いることができ、具体例としては、いずれも三洋化成社製のユーメックス1001、ユーメックス1010、ユーメックス2000等が挙げられる。   Commercially available acid-modified polyolefins can be used, and specific examples include Umex 1001, Umex 1010, Umex 2000 and the like manufactured by Sanyo Kasei.

一方、前記フラックスは、前記した通り、通常、ベース樹脂を含有する。該ベース樹脂としては、特に制限されるものではなく、従来からフラックスに一般的に使用されているものを使用することができる。具体例としては、ロジンやその誘導体、合成樹脂等が挙げられる。   On the other hand, the flux usually contains a base resin as described above. The base resin is not particularly limited, and those conventionally used for fluxes can be used. Specific examples include rosin, derivatives thereof, and synthetic resins.

前記ロジンとしては、例えば通常のガムロジン、トールロジン、ウッドロジン等が挙げられ、それらの誘導体としては、例えば重合ロジン、アクリル化ロジン、水素添加ロジン、不均化ロジン、ホルミル化ロジン、ロジンエステル、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、ロジン変性アルキド樹脂等が挙げられ、これらは1種または2種以上を混合して用いてもよい。前記合成樹脂としては、例えばアクリル樹脂、スチレン−マレイン酸樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、テルペン樹脂、ポリプロピレンカーボネートやポリブチレンカーボネート等のポリアルキレンカーボネート等が挙げられ、これらは1種または2種以上を混合して用いてもよい。前記ベース樹脂の含有量は、特に制限されないが、フラックス総量に対して20〜80重量%であるのが好ましく、30〜60重量%であるのがより好ましい。   Examples of the rosin include ordinary gum rosin, tall rosin, wood rosin and the like. Derivatives thereof include, for example, polymerized rosin, acrylated rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, formylated rosin, rosin ester, and rosin modified. A maleic acid resin, a rosin modified phenol resin, a rosin modified alkyd resin, etc. are mentioned, These may be used alone or in combination of two or more. Examples of the synthetic resin include acrylic resin, styrene-maleic acid resin, epoxy resin, urethane resin, polyester resin, phenoxy resin, terpene resin, polyalkylene carbonate such as polypropylene carbonate and polybutylene carbonate, and the like. You may use a seed | species or 2 or more types in mixture. The content of the base resin is not particularly limited, but is preferably 20 to 80% by weight, and more preferably 30 to 60% by weight with respect to the total amount of flux.

前記フラックスは、通常、活性剤を含有する。該活性剤としては、従来からフラックスに使用されているものを使用することができる。具体例としては、アミン類(ジフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジフェニルアミン、トリエタノールアミン、モノエタノールアミン等)、アミン塩類(エチレンジアミン等のポリアミンや、シクロヘキシルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン等のアミンの有機酸塩や無機酸(塩酸、硫酸等の鉱酸)塩等)、有機酸類(コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、セバシン酸、マレイン酸等のジカルボン酸;ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の脂肪酸;乳酸、ジメチロールプロピオン酸、リンゴ酸等のヒドロキシカルボン酸;安息香酸、フタル酸、トリメリット酸等)、アミノ酸類(グリシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、バリン等)等が挙げられ、これらは1種または2種以上を混合して用いてもよい。前記アミン塩類の具体例としては、ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩等が挙げられる。   The flux usually contains an activator. As the activator, those conventionally used in fluxes can be used. Specific examples include amines (diphenylguanidine, naphthylamine, diphenylamine, triethanolamine, monoethanolamine, etc.), amine salts (polyamines such as ethylenediamine, organic acid salts and inorganic acids of amines such as cyclohexylamine, ethylamine, and diethylamine). (Mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid) salts), organic acids (succinic acid, adipic acid, glutaric acid, sebacic acid, maleic acid and other dicarboxylic acids; myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid and other fatty acids; Hydroxycarboxylic acids such as lactic acid, dimethylolpropionic acid, malic acid; benzoic acid, phthalic acid, trimellitic acid, etc.), amino acids (glycine, alanine, aspartic acid, glutamic acid, valine, etc.), etc. Use a seed or a mixture of two or more Good. Specific examples of the amine salts include diphenylguanidine hydrobromide.

特に、前記ベース樹脂にポリアルキレンカーボネートを採用する場合には、有機カルボン酸を前記活性剤としてフラックスに添加するのが好ましい。これにより、はんだのぬれ性を向上させることができるとともに、分解残渣を殆ど発生させることなく、低温での融解が可能になる。前記有機カルボン酸としては、例えばセバシン酸等が挙げられる。   In particular, when a polyalkylene carbonate is adopted as the base resin, it is preferable to add an organic carboxylic acid as the activator to the flux. As a result, the wettability of the solder can be improved, and melting at a low temperature is possible with almost no decomposition residue. Examples of the organic carboxylic acid include sebacic acid and the like.

前記ベース樹脂にロジンやアクリル樹脂等のカルボキシル基含有樹脂を採用する場合には、メチルコハク酸を前記活性剤としてフラックスに添加するのが好ましい。これにより、無鉛はんだ合金に必要とされる高温においても金属面から酸化物を除去することができ、かつ無鉛はんだ付けに必要とされる長時間に及ぶはんだ付け期間中に起こる酸化からも金属面を保護することができる。しかも、はんだ付け実施前、実施中、あるいは実施後におけるはんだ金属の腐食を抑制することができ、かつリフロー操作中において小さなはんだ付着層を保護することもできる。   When a carboxyl group-containing resin such as rosin or acrylic resin is adopted as the base resin, it is preferable to add methyl succinic acid to the flux as the activator. This allows the oxide to be removed from the metal surface even at the high temperatures required for lead-free solder alloys, and also from the oxidation that takes place during the long soldering periods required for lead-free soldering. Can be protected. Moreover, corrosion of the solder metal before, during, or after soldering can be suppressed, and a small solder adhesion layer can be protected during the reflow operation.

前記活性剤の含有量は、特に制限されないが、フラックス総量に対して3〜20重量%であるのが好ましい。活性剤の含有量があまり少ないと、活性剤による活性力が不足し、はんだ付け性が低下するおそれがある。また、活性剤の含有量があまり多いと、フラックスの皮膜性が低下し、親水性が高くなるので、腐食性および絶縁性が低下するおそれがある。   The content of the activator is not particularly limited, but is preferably 3 to 20% by weight with respect to the total flux. If the content of the activator is too small, there is a risk that the activator's activity will be insufficient and solderability will be reduced. Moreover, when there is too much content of an activator, since the film property of a flux will fall and hydrophilicity will become high, there exists a possibility that corrosivity and insulation may fall.

前記フラックスは、必要に応じてワックスを含有することもできる。該ワックスとしては、例えば硬化ヒマシ油、蜜ロウ、カルナバワックス、ステアリン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸エチレンビスアミド等が挙げられ、これらは1種または2種以上を混合して用いてもよい。前記ワックスの含有量は、特に制限されないが、フラックス総量に対して1〜10重量%であるのが好ましい。   The flux may contain a wax if necessary. Examples of the wax include hydrogenated castor oil, beeswax, carnauba wax, stearic acid amide, hydroxystearic acid ethylene bisamide and the like, and these may be used alone or in combination. The content of the wax is not particularly limited, but is preferably 1 to 10% by weight with respect to the total flux.

前記フラックスを液状にして使用する場合には、適当な有機溶剤を前記フラックスに含有することもできる。前記有機溶剤としては、例えばエチルセロソルブ、ブチルカルビトール、ヘキシルカルビトール等のアルコール系溶剤;酢酸ブチル等のエステル系溶剤;テレピン油等の炭化水素系溶剤等が挙げられ、これらは1種または2種以上を混合して用いてもよい。   When the flux is used in a liquid state, an appropriate organic solvent can be contained in the flux. Examples of the organic solvent include alcohol solvents such as ethyl cellosolve, butyl carbitol, and hexyl carbitol; ester solvents such as butyl acetate; hydrocarbon solvents such as turpentine oil, and the like. You may mix and use a seed | species or more.

前記有機溶剤は、高沸点溶剤を含有するのが好ましい。すなわち、前記で例示した有機溶剤と、高沸点溶剤とを併用して使用するのが好ましい。該高沸点溶剤とは、はんだ付け温度よりも高い温度を沸点とする有機溶剤のことを意味する。フラックスに高沸点溶剤を含有すると、リフロー時におけるフラックス溶融粘度を増大させることができることより、はんだ金属中のボイドの発生を抑制する効果と、フラックス等の飛散を抑制する効果とを向上させることができる。前記高沸点溶剤としては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリグリセリン等の多価アルコール系溶剤やこれらのエーテル化合物あるいはエステル化合物の他、トリメリット酸エステル、フタル酸エステル等のエステル系溶剤、ソルビトールエーテル等のエーテル系溶剤等が挙げられ、これらは1種または2種以上を混合して用いてもよい。前記高沸点溶剤の沸点としては、通常、280℃以上である。   The organic solvent preferably contains a high boiling point solvent. That is, it is preferable to use the organic solvent exemplified above and the high boiling point solvent in combination. The high boiling point solvent means an organic solvent having a boiling point higher than the soldering temperature. If the flux contains a high-boiling solvent, the flux melt viscosity during reflow can be increased, so that the effect of suppressing the generation of voids in the solder metal and the effect of suppressing the scattering of flux and the like can be improved. it can. Examples of the high boiling point solvent include polyhydric alcohol solvents such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polyglycerin, ether compounds or ester compounds thereof, ester solvents such as trimellitic acid ester and phthalic acid ester, and sorbitol ether. And ether solvents such as these may be used, and these may be used alone or in combination. The boiling point of the high boiling point solvent is usually 280 ° C. or higher.

前記有機溶剤の含有量は、特に制限されないが、フラックス総量に対して20〜50重量%であるのが好ましく、この中の1〜10重量%が高沸点溶剤であることがさらに好ましい。有機溶剤の含有量があまり少ないと、フラックスの粘性が高くなり、フラックスの塗布性やはんだペースト組成物としたときの印刷性が悪化するおそれがある。また、有機溶剤の含有量があまり多いと、フラックスとしての有効成分、すなわちベース樹脂等の割合が相対的に少なくなってしまうため、はんだ付け性が低下するおそれがある。   The content of the organic solvent is not particularly limited, but is preferably 20 to 50% by weight with respect to the total flux, and more preferably 1 to 10% by weight is a high boiling point solvent. When the content of the organic solvent is too small, the viscosity of the flux increases, and the applicability of the flux and the printability of the solder paste composition may be deteriorated. Moreover, when there is too much content of an organic solvent, since the ratio of the active ingredient as a flux, ie, a base resin, will become relatively small, there exists a possibility that solderability may fall.

前記フラックスは、必要に応じて添加剤を含有することもできる。該添加剤としては、例えば酸化防止剤、キレート化剤、防錆剤等が挙げられる。   The flux may contain an additive as necessary. Examples of the additive include an antioxidant, a chelating agent, and a rust inhibitor.

特に、有機酸ビスマス塩と、ビニルエーテル化合物によって潜在化されたカルボキシル化合物とを前記添加剤としてフラックスに添加するのが好ましい。これにより、はんだのぬれ性を向上させることができるとともに、はんだ接合部中のボイドの発生やボイドの大きさを抑制することができ、かつこの状態を長期にわたって維持することができる。   In particular, it is preferable to add a bismuth organic acid salt and a carboxyl compound latentized by a vinyl ether compound to the flux as the additive. Thereby, the wettability of the solder can be improved, the generation of voids in the solder joints and the size of the voids can be suppressed, and this state can be maintained for a long time.

前記有機酸ビスマス塩とは、ビスマスにアシルオキシ基が結合した化合物のことを意味する。具体例としては、酢酸ビスマス、オクチル酸ビスマス、ネオデカン酸ビスマス、ステアリン酸ビスマス、ロジン酸ビスマス、ナフテン酸ビスマス、オレイン酸ビスマス、シュウ酸ビスマス等が挙げられる。   The organic acid bismuth salt means a compound in which an acyloxy group is bonded to bismuth. Specific examples include bismuth acetate, bismuth octylate, bismuth neodecanoate, bismuth stearate, bismuth rosinate, bismuth naphthenate, bismuth oleate, and bismuth oxalate.

前記カルボキシル化合物とは、分子内にカルボキシル基を少なくとも1つ有する化合物のことを意味する。具体例としては、天然ロジン、重合ロジン、不均化ロジン、不飽和二塩基酸変性ロジン等のロジン誘導体;オレイン酸、アジピン酸等の脂肪族カルボン酸;安息香酸、トリメリット酸等の芳香族カルボン酸;ヒドロキシピバリン酸、リンゴ酸、乳酸等のヒドロキシカルボン酸;酸無水物とアルコールの反応から得られるカルボン酸等が挙げられる。   The carboxyl compound means a compound having at least one carboxyl group in the molecule. Specific examples include rosin derivatives such as natural rosin, polymerized rosin, disproportionated rosin and unsaturated dibasic acid-modified rosin; aliphatic carboxylic acids such as oleic acid and adipic acid; aromatics such as benzoic acid and trimellitic acid Examples thereof include carboxylic acids; hydroxycarboxylic acids such as hydroxypivalic acid, malic acid, and lactic acid; and carboxylic acids obtained from the reaction of acid anhydrides with alcohols.

前記ビニルエーテル化合物によって潜在化されたカルボキシル化合物とは、前記カルボキシル化合物がビニルエーテル化合物によって保護化されていて加熱によって解離してカルボキシル基を生成するカルボキシル化合物のことを意味する。潜在化されたカルボキシル基を1つ以上含有する化合物は、通常、前記カルボキシル化合物とビニルエーテル、あるいはカルボキシル化合物の無水物とヒドロキシビニルエーテルとを、無触媒で、あるいは酸性リン酸エステル化合物等の酸触媒の存在下で、室温〜100℃の温度で反応させることにより得られる。   The carboxyl compound made latent by the vinyl ether compound means a carboxyl compound that is protected by the vinyl ether compound and dissociates by heating to generate a carboxyl group. The compound containing one or more latent carboxyl groups is usually a non-catalytic or acid-catalyzed ester compound such as an acid phosphate compound, and the carboxyl compound and vinyl ether, or an anhydride of the carboxyl compound and hydroxy vinyl ether. It can be obtained by reacting at room temperature to 100 ° C. in the presence.

1分子中にヒドロキシル基を2つ以上有する化合物の該ヒドロキシル基に炭素6員環構造を有する環状酸無水物を開環ハーフエステル化反応させることにより得られるカルボン酸誘導体を前記添加剤としてフラックスに添加するのが好ましい。これにより、はんだのぬれ性を向上させることができるとともに、はんだ接合部中のボイドの発生やボイドの大きさを抑制することができる。   In the flux, a carboxylic acid derivative obtained by subjecting a compound having two or more hydroxyl groups in one molecule to a ring-opening half esterification reaction with a cyclic acid anhydride having a carbon 6-membered ring structure on the hydroxyl group is used as the additive. It is preferable to add. Thereby, the wettability of the solder can be improved, and the generation of voids and the size of the voids in the solder joint can be suppressed.

前記1分子中にヒドロキシル基を2個以上有する化合物としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン等が挙げられる。前記環状酸無水物としては、例えばヘキサヒドロ無水フタル酸、水素添加無水トリメリット酸等が挙げられる。   Examples of the compound having two or more hydroxyl groups in one molecule include ethylene glycol, diethylene glycol, and trimethylolpropane. Examples of the cyclic acid anhydride include hexahydrophthalic anhydride, hydrogenated trimellitic anhydride, and the like.

多孔質吸着剤や球状ポリマー微粒子等を前記添加剤としてフラックスに添加するのが好ましい。これにより、ボイドの発生を抑制することができる。前記多孔質吸着剤としては、例えば活性炭素、シリカゲル、活性アルミナ等が挙げられる。前記球状ポリマー微粒子としては、例えばポリイミド微粒子、ポリ尿素微粒子、ベンゾグアナミン微粒子、アクリル系架橋微粒子、スチレン系架橋微粒子等が挙げられる。前記球状ポリマー微粒子の粒径としては、5μm以下であるのが好ましい。   It is preferable to add a porous adsorbent, spherical polymer fine particles or the like as the additive to the flux. Thereby, generation | occurrence | production of a void can be suppressed. Examples of the porous adsorbent include activated carbon, silica gel, activated alumina and the like. Examples of the spherical polymer fine particles include polyimide fine particles, polyurea fine particles, benzoguanamine fine particles, acrylic crosslinked fine particles, and styrene crosslinked fine particles. The spherical polymer fine particles preferably have a particle size of 5 μm or less.

前記添加剤の含有量は、特に制限されないが、フラックス総量に対して1〜10重量%であるのが好ましい。   The content of the additive is not particularly limited, but is preferably 1 to 10% by weight based on the total amount of flux.

本発明のはんだペースト組成物は、前記フラックスと、はんだ合金粉末とを含有するものである。該はんだ合金粉末としては、特に制限はなく、一般に用いられている錫−鉛合金、さらに銀、ビスマスまたはインジウム等を添加した錫−鉛合金等を用いることができる。また、錫−銀系、錫−銅系、錫−銀−銅系等の無鉛合金を用いることもできる。はんだ合金粉末の粒径としては、10〜40μm程度であるのが好ましい。   The solder paste composition of the present invention contains the flux and solder alloy powder. There is no restriction | limiting in particular as this solder alloy powder, The tin-lead alloy etc. which silver, bismuth, indium, etc. added further generally used can be used. In addition, a lead-free alloy such as tin-silver, tin-copper, tin-silver-copper may be used. The particle size of the solder alloy powder is preferably about 10 to 40 μm.

前記はんだペースト組成物におけるフラックスとはんだ合金粉末との重量比(フラックス:はんだ合金粉末)は、所望されるはんだペーストの用途や機能に応じて適宜設定すればよく、特に制限されないが、通常、10:90〜15:85程度であるのがよい。   The weight ratio of the flux to the solder alloy powder (flux: solder alloy powder) in the solder paste composition may be appropriately set according to the desired use and function of the solder paste, and is not particularly limited. : It is good that it is about 90-15: 85.

前記はんだペースト組成物は、電子機器部品等をはんだ接続する際に、ディスペンサーやスクリーン印刷等により基板上に塗布される。そして、塗布後、例えば150〜200℃程度でプリヒートを行い、最高温度170〜250℃程度でリフローを行う。基板上への塗布およびリフローは、大気中で行ってもよく、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で行ってもよい。   The solder paste composition is applied onto a substrate by a dispenser, screen printing, or the like when soldering an electronic device component or the like. And after application | coating, it preheats, for example at about 150-200 degreeC, and performs reflow at the maximum temperature of about 170-250 degreeC. The application and reflow on the substrate may be performed in the air or in an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon, or helium.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。以下の実施例および比較例において、はんだペースト組成物の調製に使用した酸変性ポリオレフィン(A)〜(C)、酸化型ポリエチレンおよびはんだ合金粉末は、次の通りである。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited only to a following example. In the following examples and comparative examples, the acid-modified polyolefins (A) to (C), oxidized polyethylene and solder alloy powder used for the preparation of the solder paste composition are as follows.

・酸変性ポリオレフィン(A):無水カルボン酸基で変性したポリプロピレンであり、酸価26mgKOH/g、重量平均分子量40,000である三洋化成社製の「ユーメックス1001」を用いた。
・酸変性ポリオレフィン(B):無水カルボン酸基で変性したポリプロピレンであり、酸価52mgKOH/g、重量平均分子量30,000である三洋化成社製の「ユーメックス1010」を用いた。
・酸変性ポリオレフィン(C):無水カルボン酸基で変性したポリエチレンであり、酸価27mgKOH/g、重量平均分子量16,000である三洋化成社製の「ユーメックス2000」を用いた。
・酸化型ポリエチレン:酸価17mgKOH/gである三洋化成社製の「サンワックスE−330」を用いた。
・はんだ合金粉末:粒径が20〜30μm、重量比が錫:銀:銅=96.5:3.0:0.5の錫−銀−銅合金からなるはんだ合金粉末を用いた。
Acid-modified polyolefin (A): Polypropylene modified with a carboxylic anhydride group, “Umex 1001” manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd. having an acid value of 26 mg KOH / g and a weight average molecular weight of 40,000 was used.
Acid-modified polyolefin (B): Polypropylene modified with a carboxylic anhydride group, “Umex 1010” manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd. having an acid value of 52 mg KOH / g and a weight average molecular weight of 30,000 was used.
Acid-modified polyolefin (C): Polyethylene modified with a carboxylic anhydride group, “Umex 2000” manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd. having an acid value of 27 mg KOH / g and a weight average molecular weight of 16,000 was used.
Oxidized polyethylene: “Sun Wax E-330” manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd. having an acid value of 17 mg KOH / g was used.
Solder alloy powder: A solder alloy powder made of a tin-silver-copper alloy having a particle size of 20 to 30 μm and a weight ratio of tin: silver: copper = 96.5: 3.0: 0.5 was used.

[実施例1〜3および比較例1,2]
<はんだペースト組成物の調製>
まず、表1に示す各成分を表1に示す配合組成で容器に仕込み、加熱溶解後、冷却し、フラックスをそれぞれ得た。次いで、得られた各フラックスとはんだ合金粉末とを、重量比でフラックス:はんだ合金粉末=11:89の比率で混合し、はんだペースト組成物をそれぞれ得た。
[Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2]
<Preparation of solder paste composition>
First, each component shown in Table 1 was charged into a container with the composition shown in Table 1, dissolved after heating, and then cooled to obtain a flux. Next, each obtained flux and solder alloy powder were mixed at a weight ratio of flux: solder alloy powder = 11: 89 to obtain solder paste compositions, respectively.

<評価>
得られた各はんだペースト組成物について、ボイド面積率およびフラックス飛散数を評価した。各評価方法を以下に示すとともに、その結果を表1に示す。
<Evaluation>
About each obtained solder paste composition, the void area rate and the number of flux scattering were evaluated. Each evaluation method is shown below, and the results are shown in Table 1.

(ボイド面積率)
まず、はんだペースト組成物を、基板上に直径0.4mmφ、厚さ150μmで印刷し、0.8mmピッチのCSP部品を搭載した。次いで、大気下において、175±5℃で80±5秒間プリヒートを行い、最高温度235±5℃で溶融し、はんだ付けを行った。はんだ付け後の基板を軟X線透視装置(名古屋電気工業社製の「NLX−3500F2」)で観察して写真撮影し、撮影された写真を画像解析ソフト(旭エンジニアリング社製の「Azo君」)で解析し、はんだ金属中に占めるボイドの面積率(%)を算出した。
(Void area ratio)
First, the solder paste composition was printed on a substrate with a diameter of 0.4 mmφ and a thickness of 150 μm, and a CSP component with a pitch of 0.8 mm was mounted. Next, in the atmosphere, preheating was performed at 175 ± 5 ° C. for 80 ± 5 seconds, melting at a maximum temperature of 235 ± 5 ° C., and soldering was performed. The soldered board is observed with a soft X-ray fluoroscope (“NLX-3500F2” manufactured by Nagoya Electric Industry Co., Ltd.) and photographed, and the photographed image is image analysis software (“Azo-kun” manufactured by Asahi Engineering Co., Ltd.) The area ratio (%) of voids in the solder metal was calculated.

(フラックス飛散数)
まず、縦50mm×横50mm×厚さ0.3mmの銅板の中央部に、はんだペースト組成物を直径6.0mmφ、厚さ200μmで印刷した。次いで、最高温度235±5℃で溶融したときのフラックスの飛散を顕微鏡(倍率:20倍)により観察し、フラックス飛散数(個)をカウントした。
(Flux scattering number)
First, a solder paste composition was printed at a diameter of 6.0 mmφ and a thickness of 200 μm on the center of a copper plate having a length of 50 mm × width of 50 mm × thickness of 0.3 mm. Subsequently, the scattering of the flux when melted at the maximum temperature of 235 ± 5 ° C. was observed with a microscope (magnification: 20 times), and the number of flux scattering (pieces) was counted.

Figure 2011177774
Figure 2011177774

表1から明らかなように、酸変性ポリオレフィンを含有する実施例1〜3は、ボイド面積率が小さく、フラックス飛散数も少ない結果を示した。この結果から、実施例1〜3によれば、はんだ金属の飛散の抑制も可能であると期待される。これに対し、酸変性ポリオレフィンを含有していない比較例1、および酸変性ポリオレフィンに代えて酸化型ポリエチレンを含有する比較例2は、実施例1〜3よりもボイド面積率が大きく、フラックス飛散数も著しく多い結果を示した。   As is clear from Table 1, Examples 1 to 3 containing acid-modified polyolefin showed a result that the void area ratio was small and the number of flux scattering was small. From this result, according to Examples 1 to 3, it is expected that the scattering of the solder metal can be suppressed. In contrast, Comparative Example 1 that does not contain acid-modified polyolefin and Comparative Example 2 that contains oxidized polyethylene instead of acid-modified polyolefin have a larger void area ratio than Examples 1 to 3, and the number of flux scattering Also showed significantly more results.

Claims (10)

酸変性ポリオレフィンを含有することを特徴とするはんだ付け用フラックス。   A soldering flux comprising acid-modified polyolefin. ベース樹脂と活性剤とを含有するはんだ付け用フラックスであって、
前記ベース樹脂が、ロジンまたは合成樹脂であり、
酸変性ポリオレフィンをさらに含有することを特徴とするはんだ付け用フラックス。
A soldering flux containing a base resin and an activator,
The base resin is rosin or synthetic resin;
A soldering flux further comprising an acid-modified polyolefin.
前記酸変性ポリオレフィンが、無水カルボン酸基で変性したポリプロピレンおよび無水カルボン酸基で変性したポリエチレンから選ばれる少なくとも1種である請求項1または2記載のはんだ付け用フラックス。   The soldering flux according to claim 1 or 2, wherein the acid-modified polyolefin is at least one selected from polypropylene modified with a carboxylic anhydride group and polyethylene modified with a carboxylic anhydride group. 前記酸変性ポリオレフィンの密度が、0.93g/cm3以上である請求項1〜3のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。 The soldering flux according to claim 1, wherein the acid-modified polyolefin has a density of 0.93 g / cm 3 or more. 前記酸変性ポリオレフィンのJIS K 0070に規定の酸価が、20mgKOH/g以上である請求項1〜4のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。   The soldering flux according to any one of claims 1 to 4, wherein an acid value defined in JIS K 0070 of the acid-modified polyolefin is 20 mgKOH / g or more. 前記酸変性ポリオレフィンの重量平均分子量が、10,000〜50,000である請求項1〜5のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。   The soldering flux according to any one of claims 1 to 5, wherein the acid-modified polyolefin has a weight average molecular weight of 10,000 to 50,000. 前記酸変性ポリオレフィンの含有量が、フラックス総量に対して0.1〜10重量%である請求項1〜6のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。   The soldering flux according to any one of claims 1 to 6, wherein the content of the acid-modified polyolefin is 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the flux. 有機溶剤をさらに含有し、該有機溶剤が高沸点溶剤を含有する請求項1〜7のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。   The soldering flux according to any one of claims 1 to 7, further comprising an organic solvent, wherein the organic solvent contains a high boiling point solvent. フラックス総量に対し、
ベース樹脂を20〜74.9重量%、
活性剤を3〜20重量%、
ワックスを1〜10重量%、
有機溶剤を20〜50重量%、
添加剤を1〜10重量%の割合で含有する請求項1〜8のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。
For the total flux,
20-74.9% by weight of base resin,
3-20% by weight of active agent,
1-10% by weight of wax,
20-50% by weight of organic solvent,
The soldering flux according to any one of claims 1 to 8, which contains an additive in a proportion of 1 to 10% by weight.
請求項1〜9のいずれかに記載のはんだ付け用フラックスと、はんだ合金粉末とを含有することを特徴とするはんだペースト組成物。   A solder paste composition comprising the soldering flux according to claim 1 and a solder alloy powder.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016010817A (en) * 2014-06-30 2016-01-21 株式会社タムラ製作所 Flux composition, solder composition and electronic substrate
KR20180134326A (en) * 2017-06-07 2018-12-18 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 Flux for resin-containing solder, flux for flux coat solder, resin-containing solder, and flux coat solder

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0464274A (en) * 1990-07-04 1992-02-28 Uchihashi Estec Co Ltd Soldering and cream solder used therefor
JPH0671476A (en) * 1992-08-26 1994-03-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Cream soldering material and reflow soldering method
JPH07164183A (en) * 1993-12-17 1995-06-27 Nippon Genma:Kk Flux composition
JPH09122975A (en) * 1995-10-27 1997-05-13 Nippon Arumitsuto Kk Flux composition for soldering
JP2008062241A (en) * 2006-09-04 2008-03-21 Harima Chem Inc Solder paste composition

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0464274A (en) * 1990-07-04 1992-02-28 Uchihashi Estec Co Ltd Soldering and cream solder used therefor
JPH0671476A (en) * 1992-08-26 1994-03-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Cream soldering material and reflow soldering method
JPH07164183A (en) * 1993-12-17 1995-06-27 Nippon Genma:Kk Flux composition
JPH09122975A (en) * 1995-10-27 1997-05-13 Nippon Arumitsuto Kk Flux composition for soldering
JP2008062241A (en) * 2006-09-04 2008-03-21 Harima Chem Inc Solder paste composition

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016010817A (en) * 2014-06-30 2016-01-21 株式会社タムラ製作所 Flux composition, solder composition and electronic substrate
KR20180134326A (en) * 2017-06-07 2018-12-18 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 Flux for resin-containing solder, flux for flux coat solder, resin-containing solder, and flux coat solder
KR101986264B1 (en) 2017-06-07 2019-06-05 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 Flux for resin-containing solder, flux for flux coat solder, resin-containing solder, and flux coat solder

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