JP2011176938A - Vibration wave motor and method of manufacturing the same - Google Patents

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  • General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent piezoelectric characteristic degradation, cracking, and peeling of a piezoelectric material required for exciting an elastic body. <P>SOLUTION: Multiple projections 201c are formed in either surface 201a of an elastic body 201. The films of the raw material of the piezoelectric material 202 and a stress relaxing body 204 are formed on the other surface 201b of the elastic body 201 in positions corresponding to the projections 201c by an aerosol deposition method. The stress relaxing body 204 is provided with a gap D1 against the piezoelectric material 202 and relaxes stress applied to the piezoelectric material 202 when the piezoelectric material 202 is burned. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、エアロゾルデポジション法により原材料膜を成膜し、焼成して形成された圧電体を有する振動波モータ及び振動波モータの製造方法に関する。   The present invention relates to a vibration wave motor having a piezoelectric body formed by forming and firing a raw material film by an aerosol deposition method, and a method for manufacturing the vibration wave motor.

一般に振動波モータは、円環状の振動体を有しており、この振動体は金属製の弾性体に圧電素子を接合して構成されている。圧電素子上に形成された2相の電極群に時間的に位相の異なる高周波電圧を印加すると、圧電素子の振動によって弾性体には二つの定在波振動が励起され、これら二つの定在波振動が合成されて進行波となり、弾性体の表面が楕円運動する。そして、この弾性体の表面に回転体を加圧接触させると、回転体を回転駆動することができる。   In general, a vibration wave motor has an annular vibrating body, and this vibrating body is configured by joining a piezoelectric element to a metal elastic body. When a high-frequency voltage whose phase is different in time is applied to the two-phase electrode group formed on the piezoelectric element, two standing wave vibrations are excited in the elastic body by the vibration of the piezoelectric element, and these two standing waves are excited. Vibrations are combined into traveling waves, and the surface of the elastic body moves elliptically. When the rotating body is brought into pressure contact with the surface of the elastic body, the rotating body can be driven to rotate.

上述した圧電素子としては、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)のバルク材を、焼成後に寸法精度を得るべく切削又は研磨の機械加工を行い、その後上述した電極群を配置して分極を行う方法が実用化されている。そして、上述したバルク材と弾性体を、エポキシ系又はアクリル系の熱硬化タイプの接着剤を用いて接着接合して一体化し、それを振動体としていた。   As the above-described piezoelectric element, there is a method in which a bulk material of PZT (lead zirconate titanate) is machined for cutting or polishing to obtain dimensional accuracy after firing, and then the above-described electrode group is arranged and polarized. It has been put into practical use. Then, the bulk material and the elastic body described above are bonded and integrated using an epoxy or acrylic thermosetting adhesive, and this is used as a vibrating body.

近年、微小電気機械システム(MEMS:micro electrical mechanical system)の注目度が高まってきている。この分野では、圧電セラミックスを利用したセンサやアクチュエータ等を更に集積化し、実用に供するために成膜によってそれらの素子を作製することが検討されている。その一つとして、セラミックスや金属等の成膜技術として知られているエアロゾルデポジション法が注目されている(非特許文献1参照)。   In recent years, attention has been focused on micro electro mechanical systems (MEMS). In this field, it has been studied to further integrate sensors and actuators using piezoelectric ceramics, and to produce these elements by film formation for practical use. As one of them, an aerosol deposition method, which is known as a film forming technique for ceramics and metals, has attracted attention (see Non-Patent Document 1).

エアロゾルデポジション法とは、原料の粉体からエアロゾルを生成し、そのエアロゾルを基板に噴射し、その際の衝突エネルギーにより粉体を堆積させて膜を形成する方法である。エアロゾルデポジション法を用いることにより、効率良く10μm以上の圧電体を成膜することができる。   The aerosol deposition method is a method of forming a film by generating an aerosol from raw material powder, injecting the aerosol onto a substrate, and depositing the powder by collision energy at that time. By using the aerosol deposition method, a piezoelectric body having a thickness of 10 μm or more can be efficiently formed.

図6用いて、一般的な振動波モータの弾性体と、それにエアロゾルデポジション法によって圧電体を成膜し、さらに電極を成膜する工程を説明する。図6(a)には、振動波モータの振動体に使われる金属性の弾性体101を上方から見た斜視図を示している。弾性体101は円環形状に形成され、複数の凸部101aを有している。複数の凸部101aは環状に等間隔に配置されており、それらの間には複数の溝101bが形成されている。   With reference to FIG. 6, an elastic body of a general vibration wave motor and a process of forming a piezoelectric body by an aerosol deposition method and further forming an electrode will be described. FIG. 6A shows a perspective view of the metallic elastic body 101 used for the vibration body of the vibration wave motor as viewed from above. The elastic body 101 is formed in an annular shape and has a plurality of convex portions 101a. The plurality of convex portions 101a are annularly arranged at equal intervals, and a plurality of grooves 101b are formed between them.

この弾性体101には、図6(b)に示すように、弾性体101の複数の凸部101aが形成されている面とは反対側の面に、エアロゾルデポジション法により圧電体102が成膜される。その後、圧電体102を500℃から700℃以上で焼成し、図6(c)に示すように、振動波モータの駆動に必要な振動を励起させるための適当な形状の複数の電極103を形成する。そして、各電極103に交流電圧を印加することにより、振動体100に進行波を励起し、凸部101aに接する回転体(図示せず)を回転させる。   As shown in FIG. 6B, the elastic body 101 has a piezoelectric body 102 formed on the surface of the elastic body 101 opposite to the surface on which the plurality of convex portions 101a are formed by an aerosol deposition method. Be filmed. Thereafter, the piezoelectric body 102 is fired at 500 ° C. to 700 ° C. or more to form a plurality of electrodes 103 having an appropriate shape for exciting the vibration necessary for driving the vibration wave motor, as shown in FIG. To do. Then, by applying an AC voltage to each electrode 103, a traveling wave is excited in the vibrating body 100, and a rotating body (not shown) in contact with the convex portion 101a is rotated.

明渡 純、「次世代の機械設計を探る第3回、超微粒子の衝突付着現象を利用した高速セラミックス・コーティング」、機械設計、日刊工業新聞社、第45巻第6号(2001年5月号)、p.92−96Jun Akira, “The 3rd exploration of next-generation mechanical design, high-speed ceramic coating using the impact adhesion phenomenon of ultrafine particles”, Mechanical Design, Nikkan Kogyo Shimbun, Volume 45, No. 6 (May 2001) No.), p. 92-96

ところで、上述したように、エアロゾルデポジション法により弾性体に成膜した圧電体は、良好な圧電特性を得るために通常500℃から700℃で焼成する必要がある。この工程を焼成工程と呼ぶ。しかし、焼成工程において、圧電体と弾性体との熱膨張率の違い等により、圧電体に応力が発生し、圧電体の圧電特性の低下やクラックの発生、圧電体の弾性体からの剥離などにより、振動波モータの特性が低下するといった問題があった。   Incidentally, as described above, the piezoelectric body formed on the elastic body by the aerosol deposition method usually needs to be fired at 500 ° C. to 700 ° C. in order to obtain good piezoelectric characteristics. This process is called a baking process. However, in the firing process, stress is generated in the piezoelectric body due to the difference in thermal expansion coefficient between the piezoelectric body and the elastic body, the piezoelectric characteristics of the piezoelectric body are reduced, cracks are generated, the piezoelectric body is peeled off from the elastic body, etc. As a result, there has been a problem that the characteristics of the vibration wave motor are deteriorated.

そこで、本発明は、弾性体を励振するのに必要な圧電体の圧電特性の低下やクラック又は剥離を抑制することができる振動波モータ及び振動波モータの製造方法を提供することを目的とするものである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a vibration wave motor and a method of manufacturing the vibration wave motor that can suppress a decrease in the piezoelectric characteristics, cracks, or separation of the piezoelectric body necessary for exciting the elastic body. Is.

本発明は、一方の面及び前記一方の面と反対側の他方の面からなる一対の面を有し、前記一方の面に複数の凸部が形成された弾性体と、前記弾性体の前記複数の凸部に相対する回転体と、を備え、前記弾性体の振動により前記回転体を回転させる振動波モータにおいて、前記弾性体の前記他方の面であって、前記複数の凸部に対応する位置にエアロゾルデポジション法により成膜され、焼成して形成される圧電体と、前記圧電体に配置され、交流電圧の印加により、前記弾性体を励振する複数の電極と、前記弾性体の前記他方の面に、前記圧電体と隙間をあけて設けられ、焼成する際に前記圧電体にかかる応力を緩和する応力緩和体と、を備えたことを特徴とするものである。   The present invention includes an elastic body having a pair of surfaces including one surface and the other surface opposite to the one surface, and a plurality of convex portions formed on the one surface, and the elastic body A vibration wave motor that rotates the rotating body by vibration of the elastic body, the other surface of the elastic body, corresponding to the plurality of convex parts A piezoelectric body formed and fired by an aerosol deposition method, a plurality of electrodes disposed on the piezoelectric body and energizing the elastic body by application of an alternating voltage, and the elastic body The other surface is provided with a stress relaxation body that is provided with a gap between the piezoelectric body and that relieves stress applied to the piezoelectric body during firing.

また、本発明は、一方の面及び前記一方の面と反対側の他方の面からなる一対の面を有し、前記一方の面に複数の凸部が形成された弾性体と、前記弾性体の前記複数の凸部に相対する回転体と、を備え、前記弾性体の振動により前記回転体を回転させる振動波モータの製造方法において、前記弾性体の前記他方の面であって、前記複数の凸部に対応する位置にエアロゾルデポジション法により圧電体の原材料を成膜する第1の成膜工程と、前記弾性体の前記他方の面に、前記圧電体の原材料膜と隙間をあけて、前記圧電体にかかる応力を緩和する応力緩和体を成膜する第2の成膜工程と、前記第1の成膜工程で成膜された前記圧電体の原材料膜を、前記応力緩和体と共に焼成して前記圧電体を形成する焼成工程と、を備えたことを特徴とするものである。   The present invention also includes an elastic body having a pair of surfaces including one surface and the other surface opposite to the one surface, and a plurality of convex portions formed on the one surface, and the elastic body. A rotating body opposed to the plurality of convex portions, and a method of manufacturing a vibration wave motor that rotates the rotating body by vibration of the elastic body. A first film forming step of forming a piezoelectric material by a aerosol deposition method at a position corresponding to the convex portion of the elastic body, and a gap with the piezoelectric material film on the other surface of the elastic body. A second film forming step for forming a stress relaxation body for relaxing stress applied to the piezoelectric body, and a raw material film for the piezoelectric body formed in the first film forming step together with the stress relaxation body. And a firing step of firing to form the piezoelectric body. Than is.

本発明によれば、圧電体を焼成により形成する際に、弾性体と圧電体との熱膨張率の違いにより圧電体にかかる応力が応力緩和体により緩和される。これにより、圧電体の圧電特性の低下やクラック、剥離を抑制することができる。また、応力緩和体にクラックや剥離が生じても、応力緩和体は圧電体と隙間をあけて設けられているので、応力緩和体のクラックや剥離が圧電体には影響しない。したがって、振動波モータの性能の低下を抑制することができる。   According to the present invention, when the piezoelectric body is formed by firing, the stress applied to the piezoelectric body is relieved by the stress relaxation body due to the difference in thermal expansion coefficient between the elastic body and the piezoelectric body. Thereby, the fall of the piezoelectric characteristic of a piezoelectric material, a crack, and peeling can be suppressed. Even if cracks or peeling occurs in the stress relaxation body, since the stress relaxation body is provided with a gap from the piezoelectric body, the cracks and peeling of the stress relaxation body do not affect the piezoelectric body. Accordingly, it is possible to suppress a decrease in the performance of the vibration wave motor.

エアロゾルデポジション法によりセラミックスを基板に成膜する成膜装置の模式図である。It is a schematic diagram of the film-forming apparatus which forms ceramics into a film by the aerosol deposition method. 本発明の第1実施形態に係る振動波モータの説明図であり、(a)は振動波モータの断面図、(b)は弾性体の斜視図である。It is explanatory drawing of the vibration wave motor which concerns on 1st Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing of a vibration wave motor, (b) is a perspective view of an elastic body. 本発明の第1実施形態に係る振動波モータの振動体の製造工程を説明する説明図であり、(a)は弾性体に圧電体及び応力緩和体を成膜した図、(b)は圧電体上に電極を成膜した図である。It is explanatory drawing explaining the manufacturing process of the vibrating body of the vibration wave motor which concerns on 1st Embodiment of this invention, (a) is the figure which formed the piezoelectric material and the stress relaxation body into a film in the elastic body, (b) is piezoelectric It is the figure which formed the electrode film on the body. 本発明の第2実施形態に係る振動波モータの振動体の製造工程を説明する説明図であり、(a)は弾性体に圧電体及び応力緩和体を成膜した図、(b)は圧電体上に電極を成膜した図である。It is explanatory drawing explaining the manufacturing process of the vibrating body of the vibration wave motor which concerns on 2nd Embodiment of this invention, (a) is the figure which formed the piezoelectric material and the stress relaxation body into a film in the elastic body, (b) is piezoelectric It is the figure which formed the electrode film on the body. 本発明の第3実施形態に係る振動波モータの振動体の製造工程を説明する説明図であり、(a)は弾性体に圧電体及び応力緩和体を成膜した図、(b)は圧電体上に電極を成膜した図である。It is explanatory drawing explaining the manufacturing process of the vibrating body of the vibration wave motor which concerns on 3rd Embodiment of this invention, (a) is the figure which formed the piezoelectric material and the stress relaxation body into the film in the elastic body, (b) is piezoelectric It is the figure which formed the electrode film on the body. 従来の振動波モータの振動体の製造工程を説明する説明図であり、(a)は成膜前の弾性体の図、(b)は弾性体に圧電体を成膜した図、(c)は圧電体上に電極を成膜した図である。It is explanatory drawing explaining the manufacturing process of the vibrating body of the conventional vibration wave motor, (a) is a figure of the elastic body before film-forming, (b) is the figure which formed the piezoelectric body into a film on the elastic body, (c) FIG. 4 is a diagram in which an electrode is formed on a piezoelectric body.

以下、本発明を実施するための形態を図面を参照しながら詳細に説明する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[第1実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態に係るエアロゾルデポジション法による成膜装置の概略構成を示す説明図である。図1に示す成膜装置1は、膜形成部2と、エアロゾル生成部3と、を備え、エアロゾルデポジション法により基板にセラミックスを皮膜形成する。エアロゾル生成部3は、エアロゾル生成器30と、ガス搬送管31によってエアロゾル生成器30内にガス供給源33から注入されるガスの量を調節するマスフローコントローラ32と、を備えている。エアロゾル搬送管4の基端部はエアロゾル生成器30の上部に挿入されている。このように構成されたエアロゾル生成部3は、セラミックス微粒子粉末をガス中に分散させてエアロゾル化し、エアロゾル搬送管4を介して膜形成部2にエアロゾルを搬送する。膜形成部2は、真空ポンプ21で真空化(減圧)される真空チャンバー20を有し、搬送管4の先端部に配置されたノズル5から、減圧下の雰囲気でエアロゾル6を基板7に噴射して皮膜を形成する。なお、基板7は、X−Yステージ8に固定されており、基板7をX軸方向およびY軸方向に移動させながら皮膜を形成する。
[First Embodiment]
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of a film forming apparatus using an aerosol deposition method according to the first embodiment of the present invention. A film forming apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a film forming unit 2 and an aerosol generating unit 3, and forms a ceramic film on a substrate by an aerosol deposition method. The aerosol generating unit 3 includes an aerosol generator 30 and a mass flow controller 32 that adjusts the amount of gas injected from the gas supply source 33 into the aerosol generator 30 by the gas transport pipe 31. The base end portion of the aerosol transport pipe 4 is inserted into the upper part of the aerosol generator 30. The aerosol generating unit 3 configured as described above disperses the ceramic fine particle powder in the gas to form an aerosol, and conveys the aerosol to the film forming unit 2 through the aerosol conveying tube 4. The film forming unit 2 has a vacuum chamber 20 that is evacuated (depressurized) by a vacuum pump 21, and sprays aerosol 6 onto the substrate 7 in a reduced-pressure atmosphere from a nozzle 5 disposed at the tip of the transfer tube 4. To form a film. The substrate 7 is fixed to the XY stage 8 and forms a film while moving the substrate 7 in the X-axis direction and the Y-axis direction.

本第1実施形態では、セラミックスとして、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等の圧電体の原材料を使用し、また基板7として振動波モータの金属製の弾性体を設置する。エアロゾルデポジション法によって圧電体材料を成膜することで、10〜100μm程度で均一的な組成から成る圧電体膜を1回の成膜工程にて形成することができる。更に、ノズル5と基板7の間に、基板7上に成膜する圧電体の所望の形状に対応した形状のマスク9を設置することにより、基板7上に所望の形状の皮膜を成膜することができる。   In the first embodiment, a piezoelectric raw material such as PZT (lead zirconate titanate) is used as the ceramic, and a metal elastic body of a vibration wave motor is installed as the substrate 7. By forming a piezoelectric material film by the aerosol deposition method, a piezoelectric film having a uniform composition of about 10 to 100 μm can be formed in one film forming process. Further, a mask 9 having a shape corresponding to the desired shape of the piezoelectric material to be formed on the substrate 7 is placed between the nozzle 5 and the substrate 7, thereby forming a film having a desired shape on the substrate 7. be able to.

振動波モータ50は、図2(a)に示すように、回転体60と、回転体60を振動により回転させる振動体70と、回転体60を振動体70に押圧する加圧機構80と、を備えている。   As shown in FIG. 2A, the vibration wave motor 50 includes a rotating body 60, a vibrating body 70 that rotates the rotating body 60 by vibration, a pressurizing mechanism 80 that presses the rotating body 60 against the vibrating body 70, It has.

振動体70は、円環形状に形成された弾性体201を有している。この弾性体201は、一方の面201aと、面201aとは反対側の他方の面201bとからなる一対の面を有している。振動体70は、弾性体201の一方の面201aに接着固定され、回転体60に接触する摺動材71と、弾性体201の他方の面201bに成膜される圧電体202と、圧電体202上に形成される複数の電極203とを有している。   The vibrating body 70 has an elastic body 201 formed in an annular shape. The elastic body 201 has a pair of surfaces including one surface 201a and the other surface 201b opposite to the surface 201a. The vibrating body 70 is bonded and fixed to one surface 201 a of the elastic body 201, the sliding material 71 that contacts the rotating body 60, the piezoelectric body 202 formed on the other surface 201 b of the elastic body 201, and the piezoelectric body And a plurality of electrodes 203 formed on 202.

圧電体202は、電気−機械エネルギー変換素子であり、入力された電気エネルギーを振動エネルギーに変換する。摺動材71には、回転体60が接触し、回転体60が加圧機構80によって加圧される。加圧機構80は加圧バネ81とバネ受け82とからなり、バネ受け82は回転軸90に固定され、回転体60及び加圧バネ81は、バネ受け82を介して回転軸90と一体に回転する。回転体60、振動体70及び加圧機構80はハウジング91で覆われている。ハウジング91は、基部92とケース部94とで構成されている。ハウジング91の基部92には軸受け93が装着され、ケース部94には軸受け95が装着される。軸受け93,95は、回転軸90を回転自在に支持している。ハウジング91の基部92の中央には、回転軸90が挿通される挿通孔92aが形成され、この挿通孔92aの周りにハウジング内側に突出して振動体70(弾性体201)を支持する円環形状の支持部92bが形成されている。   The piezoelectric body 202 is an electro-mechanical energy conversion element, and converts input electric energy into vibration energy. The rotating body 60 contacts the sliding member 71, and the rotating body 60 is pressurized by the pressurizing mechanism 80. The pressurizing mechanism 80 includes a pressurizing spring 81 and a spring receiver 82, and the spring receiver 82 is fixed to the rotating shaft 90. The rotating body 60 and the pressing spring 81 are integrated with the rotating shaft 90 via the spring receiver 82. Rotate. The rotating body 60, the vibrating body 70 and the pressurizing mechanism 80 are covered with a housing 91. The housing 91 includes a base portion 92 and a case portion 94. A bearing 93 is attached to the base portion 92 of the housing 91, and a bearing 95 is attached to the case portion 94. The bearings 93 and 95 support the rotary shaft 90 in a freely rotatable manner. An insertion hole 92a through which the rotation shaft 90 is inserted is formed at the center of the base 92 of the housing 91, and an annular shape that protrudes inward of the housing around the insertion hole 92a and supports the vibrating body 70 (elastic body 201). The support portion 92b is formed.

弾性体201の一方の面201aには、図2(b)に示すように、複数の凸部201cが形成されている。複数の凸部201cは、円環状に等間隔に配置されており、隣り合う凸部201cの間には、半径方向に延びる溝201dが形成されている。複数の凸部201cには、図2(a)に示すように、摺動材71を介して回転体60が相対して配置されている。   On one surface 201a of the elastic body 201, as shown in FIG. 2B, a plurality of convex portions 201c are formed. The plurality of convex portions 201c are arranged in an annular shape at equal intervals, and a groove 201d extending in the radial direction is formed between adjacent convex portions 201c. As shown in FIG. 2A, the rotating body 60 is disposed relative to the plurality of convex portions 201 c via the sliding material 71.

弾性体201の中央には、回転軸90が挿通される孔201eが形成されており、孔201eの周囲には、凸部201c及び溝201dよりも厚みが薄い薄肉部201fが形成されている。この薄肉部201fは、円環形状に形成されている。弾性体201は、円環形状の内周部201Aと内周部201Aの外側に形成された円環形状の外周部201Bとを有して構成される。内周部201Aは、外周部201Bよりも薄肉に形成された薄肉部201fであり、外周部201Bには、その一方の面に周方向に沿って形成される複数の凸部201c及び複数の溝201dが形成されている。この内周部201Aは、外周部201Bがハウジング91に接触しないように、ハウジング91の基部92に形成された支持部92bに圧入又は接着等により固定される。内周部201Aは薄肉に形成されているので、凸部201c及び溝201dのある外周部201Bの振動の妨げとなるのを回避している。   A hole 201e through which the rotation shaft 90 is inserted is formed at the center of the elastic body 201, and a thin portion 201f having a thickness smaller than the convex portion 201c and the groove 201d is formed around the hole 201e. The thin portion 201f is formed in an annular shape. The elastic body 201 includes an annular inner peripheral part 201A and an annular outer peripheral part 201B formed outside the inner peripheral part 201A. The inner peripheral portion 201A is a thin portion 201f formed thinner than the outer peripheral portion 201B, and the outer peripheral portion 201B has a plurality of convex portions 201c and a plurality of grooves formed on one surface thereof along the circumferential direction. 201d is formed. The inner peripheral portion 201A is fixed to a support portion 92b formed on the base portion 92 of the housing 91 by press fitting or adhesion so that the outer peripheral portion 201B does not contact the housing 91. Since the inner peripheral portion 201A is formed to be thin, it prevents the outer peripheral portion 201B having the convex portion 201c and the groove 201d from being disturbed.

弾性体201の他方の面201bには、圧電体202及び複数の電極203が形成されている。圧電体202は、複数の凸部201c及び複数の溝201dに対応する位置に形成されており、半径方向の長さが、複数の凸部201cの半径方向の長さと同一に設定された円環形状に形成されている。つまり、圧電体202は、外周部201Bに形成されている。複数の電極203は、圧電体202上に形成されている。電極203には、交流電圧が印加され、弾性体201が励振される。このように電極203を凸部201c及び溝201dに対応する個所に形成することで、振動の励起を容易にし、回転体60の回転を発生しやすくしている。   A piezoelectric body 202 and a plurality of electrodes 203 are formed on the other surface 201 b of the elastic body 201. The piezoelectric body 202 is formed at a position corresponding to the plurality of convex portions 201c and the plurality of grooves 201d, and the length in the radial direction is set to be the same as the length in the radial direction of the plurality of convex portions 201c. It is formed into a shape. That is, the piezoelectric body 202 is formed on the outer peripheral portion 201B. The plurality of electrodes 203 are formed on the piezoelectric body 202. An AC voltage is applied to the electrode 203 and the elastic body 201 is excited. Thus, by forming the electrode 203 at a location corresponding to the convex portion 201c and the groove 201d, excitation of vibration is facilitated and rotation of the rotating body 60 is easily generated.

ところで、この圧電体202は、エアロゾルデポジション法により形成されるセラミックスであるが、圧電体202の圧電特性向上のため、500℃から700℃の温度で焼成される。このとき、圧電体202には、圧電体202と弾性体201との熱膨張率の違いにより、応力が発生する。具体的には、弾性体201及び圧電体202は円環形状に形成されているので、焼成の際には弾性体201及び圧電体202が主に半径方向に膨張するが、熱膨張率の違いにより圧電体202には半径方向に応力が発生する。そこで、本第1実施形態では、弾性体201の他方の面201bに圧電体202と隙間をあけて応力緩和体204が形成されている。この応力緩和体204は、弾性体201の内周部201Aに形成されている。   By the way, the piezoelectric body 202 is a ceramic formed by an aerosol deposition method, and is fired at a temperature of 500 ° C. to 700 ° C. in order to improve the piezoelectric characteristics of the piezoelectric body 202. At this time, stress is generated in the piezoelectric body 202 due to a difference in thermal expansion coefficient between the piezoelectric body 202 and the elastic body 201. Specifically, since the elastic body 201 and the piezoelectric body 202 are formed in an annular shape, the elastic body 201 and the piezoelectric body 202 expand mainly in the radial direction during firing, but the difference in thermal expansion coefficient. As a result, a stress is generated in the radial direction in the piezoelectric body 202. Therefore, in the first embodiment, the stress relaxation body 204 is formed on the other surface 201b of the elastic body 201 with a gap from the piezoelectric body 202. The stress relaxation body 204 is formed on the inner peripheral portion 201 </ b> A of the elastic body 201.

この応力緩和体204は、振動体70を製造する製造工程のうち、焼成工程でその効果を発揮するので、図3を参照しながら、振動体70の製造工程について詳細に説明する。この製造工程は、成膜工程と、焼成工程と、電極形成工程とを含んでいる。   Since the stress relaxation body 204 exerts its effect in the firing process among the manufacturing processes for manufacturing the vibrating body 70, the manufacturing process of the vibrating body 70 will be described in detail with reference to FIG. This manufacturing process includes a film forming process, a baking process, and an electrode forming process.

まず、成膜工程から説明すると、図3(a)に示すように、弾性体201の他方の面201bには、圧電体202の原材料であるPZTがエアロゾルデポジション法により成膜される。このとき、図1のマスク9を用いて成膜される。このマスク9には、圧電体202及び応力緩和体204の形状に対応する開口部が形成されており、このマスク9を用いて成膜することで、弾性体201の他方の面201bには、圧電体202の原材料膜と、応力緩和体204とが同時に成膜される。言い換えれば、圧電体202の原材料を成膜する工程(第1の成膜工程)と、応力緩和体204を成膜する工程(第2の成膜工程)とを同時に行っている。つまり、応力緩和体204は、圧電体202と同一の原材料をエアロゾルデポジション法により成膜して形成される。このように応力緩和体204として圧電体202と同一の原材料を用いることで、応力緩和体204を成膜するためだけの工程を別途設ける必要がなく、圧電体202となる原材料膜と同時に応力緩和体204を成膜することができる。したがって、振動体70、ひいては振動波モータ50の生産性が向上する。なお、圧電体202及び応力緩和体204は厚さ10〜100μm程度で弾性体201の他方の面201bに成膜される。圧電体202の原材料膜と応力緩和体204とは、隙間D1をあけて弾性体201の他方の面201bに非連結状態で形成されている。   First, the film forming process will be described. As shown in FIG. 3A, PZT which is a raw material of the piezoelectric body 202 is formed on the other surface 201b of the elastic body 201 by an aerosol deposition method. At this time, the film is formed using the mask 9 of FIG. In the mask 9, openings corresponding to the shapes of the piezoelectric body 202 and the stress relaxation body 204 are formed. By forming a film using the mask 9, the other surface 201b of the elastic body 201 has The raw material film of the piezoelectric body 202 and the stress relaxation body 204 are formed simultaneously. In other words, the process of forming the raw material of the piezoelectric body 202 (first film forming process) and the process of forming the stress relaxation body 204 (second film forming process) are performed simultaneously. That is, the stress relaxation body 204 is formed by forming a film of the same raw material as that of the piezoelectric body 202 by the aerosol deposition method. In this way, by using the same raw material as the piezoelectric body 202 as the stress relaxation body 204, it is not necessary to provide a separate process for forming the stress relaxation body 204 separately, and the stress relaxation is performed simultaneously with the raw material film to be the piezoelectric body 202. The body 204 can be formed. Therefore, the productivity of the vibrating body 70, and hence the vibration wave motor 50, is improved. The piezoelectric body 202 and the stress relaxation body 204 are formed on the other surface 201b of the elastic body 201 with a thickness of about 10 to 100 μm. The raw material film of the piezoelectric body 202 and the stress relaxation body 204 are formed in an unconnected state on the other surface 201b of the elastic body 201 with a gap D1.

次に、成膜された圧電体202となる原材料膜を、応力緩和体204と共に焼成して圧電体202を形成する(焼成工程)。この焼成工程では、圧電体202の圧電特性向上のため、500℃から700℃の温度で焼成される。   Next, the formed raw material film to be the piezoelectric body 202 is fired together with the stress relaxation body 204 to form the piezoelectric body 202 (firing step). In this firing step, firing is performed at a temperature of 500 ° C. to 700 ° C. in order to improve the piezoelectric characteristics of the piezoelectric body 202.

次に、図3(b)に示す複数の電極(電極膜)203をスパッタ法又は印刷法等にて圧電体202上に形成する(電極形成工程)。この工程後、分極処理を行う。以上の工程により振動体70が製造される。ここで、1つの電極203とこの電極203に対向する圧電体の202部分とで1つの圧電素子が形成され、図3(b)に示す電極203の数だけ圧電素子が形成されている。   Next, a plurality of electrodes (electrode films) 203 shown in FIG. 3B are formed on the piezoelectric body 202 by sputtering or printing (electrode forming step). After this step, a polarization process is performed. The vibrating body 70 is manufactured by the above process. Here, one piezoelectric element is formed by one electrode 203 and the 202 portion of the piezoelectric body facing the electrode 203, and the piezoelectric elements are formed by the number of electrodes 203 shown in FIG.

複数の電極203は、環状に配置された第1の電極群203aと、第1の電極群203aの内側に環状に配置された第2の電極群203bとに分割して構成される。つまり、複数の圧電素子が、環状に配置された第1の圧電素子群と、第1の圧電素子群の内側に環状に配置された第2の圧電素子群とに分割して構成される。各圧電素子群における各圧電素子は、素子毎に分極方向を反転させて形成されている。そして、各電極群203a,203bには、互いに位相の異なる交流電圧が印加される。これにより、2つの定在波振動が励起され、これら2つの定在波振動が合成されて進行波となり、弾性体201の表面201aが楕円運動する。そして、弾性体201の凸部201cに摺動材71を介して圧接する回転体60には、弾性体201の撓み振動により回転運動が付与される。   The plurality of electrodes 203 are configured to be divided into a first electrode group 203a arranged in a ring shape and a second electrode group 203b arranged in a ring shape inside the first electrode group 203a. That is, the plurality of piezoelectric elements are divided into a first piezoelectric element group arranged in an annular shape and a second piezoelectric element group arranged in an annular shape inside the first piezoelectric element group. Each piezoelectric element in each piezoelectric element group is formed by reversing the polarization direction for each element. Then, AC voltages having different phases are applied to the electrode groups 203a and 203b. As a result, two standing wave vibrations are excited, the two standing wave vibrations are combined into a traveling wave, and the surface 201a of the elastic body 201 moves elliptically. A rotating motion is imparted to the rotating body 60 that is in pressure contact with the convex portion 201 c of the elastic body 201 via the sliding member 71 by the flexural vibration of the elastic body 201.

ここで、上記焼成工程における焼成作業により圧電体202が形成されるが、この焼成の際に、セラミックス製の圧電体202と金属製の弾性体201との熱膨張率の違いにより圧電体202に発生する応力が、応力緩和体204により緩和される。つまり、圧電体202には、弾性体201の熱膨張により半径方向に応力が作用するが、応力緩和体204にも半径方向に応力が作用している。このように応力が圧電体202と応力緩和体204との両方に作用することで分散されるので、圧電体202に応力が集中するのを防いでいる。この応力緩和体204により、焼成の際に圧電体202に作用する応力が緩和されるので、圧電体202の圧電特性の低下を抑制することができる。また、圧電体202にクラックが発生するのを抑制することができ、圧電体202が剥離するのを抑制することができる。したがって、振動体70、ひいては振動波モータ50の製造の歩留まりを向上させることができる。   Here, the piezoelectric body 202 is formed by the firing operation in the firing step. During this firing, the piezoelectric body 202 is formed due to the difference in thermal expansion coefficient between the ceramic piezoelectric body 202 and the metal elastic body 201. The generated stress is relaxed by the stress relaxation body 204. In other words, stress is applied to the piezoelectric body 202 in the radial direction due to thermal expansion of the elastic body 201, but stress is also applied to the stress relaxation body 204 in the radial direction. As described above, since stress is dispersed by acting on both the piezoelectric body 202 and the stress relaxation body 204, the stress is prevented from concentrating on the piezoelectric body 202. Since the stress relaxing body 204 relieves the stress acting on the piezoelectric body 202 during firing, the piezoelectric characteristics of the piezoelectric body 202 can be prevented from being deteriorated. In addition, the occurrence of cracks in the piezoelectric body 202 can be suppressed, and peeling of the piezoelectric body 202 can be suppressed. Therefore, the manufacturing yield of the vibrating body 70, and hence the vibration wave motor 50, can be improved.

また、応力緩和体204を圧電体202と同一の原材料とすることで、応力緩和体204の熱膨張率と圧電体202の熱膨張率とを等しくすることができる。したがって、応力緩和体204に応力が集中するのを効果的に抑制することができる。また、応力緩和体204が圧電体202に及ぼす熱膨張率の違いによる影響を小さくすることができる。   Further, by using the stress relaxation body 204 as the same raw material as the piezoelectric body 202, the thermal expansion coefficient of the stress relaxation body 204 and the thermal expansion coefficient of the piezoelectric body 202 can be made equal. Therefore, it is possible to effectively suppress the concentration of stress on the stress relaxation body 204. In addition, the influence of the difference in thermal expansion coefficient exerted on the piezoelectric body 202 by the stress relaxation body 204 can be reduced.

なお、この焼成工程において、応力緩和体204はクラックの発生や剥離、圧電特性の低下が起きても特に問題はない。つまり、応力緩和体204は、圧電体202とは隙間D1を設けて形成されているので、圧電体202と連続して形成されているものではなく、応力緩和体204にクラックや剥離が発生しても、圧電体202には応力緩和体204のクラックや剥離が影響しない。つまり、応力緩和体204のクラックや剥離で圧電体202にクラックや剥離は生じない。したがって、振動波モータ50の性能の低下を抑制することができる。   In this firing step, the stress relaxation body 204 has no particular problem even if cracks are generated or peeled off or the piezoelectric characteristics are lowered. That is, since the stress relaxation body 204 is formed with a gap D1 from the piezoelectric body 202, it is not formed continuously with the piezoelectric body 202, and cracks and peeling occur in the stress relaxation body 204. However, the piezoelectric body 202 is not affected by cracks or peeling of the stress relaxation body 204. That is, no cracks or peeling occurs in the piezoelectric body 202 due to cracks or peeling of the stress relaxation body 204. Therefore, it is possible to suppress a decrease in the performance of the vibration wave motor 50.

[第2実施形態]
次に、第2実施形態の振動波モータについて、図4に示す振動体70Aの製造工程を示す図を参照しながら説明する。なお、本第2実施形態において、上記第1実施形態と同一の構成については、同一符号を付して説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, the vibration wave motor according to the second embodiment will be described with reference to the drawings showing the manufacturing process of the vibrating body 70A shown in FIG. Note that in the second embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

弾性体201は円環形状に形成されているので、焼成工程では弾性体201が半径方向に膨張する。したがって、圧電体202Aには、半径方向に応力が作用する。そこで、成膜工程(第1の成膜工程)では、図4(a)に示すように、圧電体202Aを、半径方向に分割して形成している。本第2実施形態では、図4(b)に示すように、圧電体202Aを第1の電極群203aに対応する部分(分割片)202aと第2の電極群203bに対応する部分(分割片)202bとに分割して形成している。ここで、分割片202a及び分割片202bは、マスク9(図1)により分割して成膜される。したがって、成膜後に分割する工程は必要ない。このように形成された分割片202aと分割片202bとの間には、隙間D2が設けられている。そして、圧電体202Aを分割片202a,202bに分割しても、弾性体201の振動の励起に与える影響は少ない。圧電体202Aをエアロゾルデポジション法により成膜後に焼成工程が実施され、その後電極203が成膜される電極形成工程が実施される。   Since the elastic body 201 is formed in an annular shape, the elastic body 201 expands in the radial direction in the firing step. Therefore, stress acts on the piezoelectric body 202A in the radial direction. Therefore, in the film forming step (first film forming step), as shown in FIG. 4A, the piezoelectric body 202A is formed by being divided in the radial direction. In the second embodiment, as shown in FIG. 4B, the piezoelectric body 202A is divided into a portion (divided piece) 202a corresponding to the first electrode group 203a and a portion (divided piece) corresponding to the second electrode group 203b. ) 202b. Here, the divided pieces 202a and the divided pieces 202b are formed by being divided by the mask 9 (FIG. 1). Therefore, a step of dividing after film formation is not necessary. A gap D2 is provided between the divided piece 202a and the divided piece 202b thus formed. Even if the piezoelectric body 202A is divided into the divided pieces 202a and 202b, the influence on the excitation of the vibration of the elastic body 201 is small. A firing process is performed after the piezoelectric body 202A is formed by an aerosol deposition method, and then an electrode forming process is performed in which the electrode 203 is formed.

以上、本第2実施形態では、上記第1実施形態と同様に応力緩和体204を備えたことにより、圧電体202Aの圧電特性の低減が抑制され、圧電体202Aのクラックの発生や剥離が抑制されるという上記第1実施形態と同様の効果を奏する。更に、本第2実施形態では、圧電体202Aを半径方向に分割したことにより、焼成工程で各分割片202a,202bに発生する応力を低減することができる。これにより圧電体202Aのクラックの発生や剥離、圧電特性の低下をより効果的に抑制することができる。したがって、振動体70A、ひいては振動波モータの製造の歩留まりを向上させることができる。   As described above, in the second embodiment, the stress relaxation body 204 is provided in the same manner as in the first embodiment, so that the reduction in the piezoelectric characteristics of the piezoelectric body 202A is suppressed, and the generation and separation of cracks in the piezoelectric body 202A are suppressed. The same effect as the first embodiment is achieved. Furthermore, in the second embodiment, by dividing the piezoelectric body 202A in the radial direction, it is possible to reduce the stress generated in each of the divided pieces 202a and 202b in the firing process. Thereby, generation | occurrence | production of the crack of piezoelectric body 202A, peeling, and the fall of a piezoelectric characteristic can be suppressed more effectively. Therefore, it is possible to improve the manufacturing yield of the vibrating body 70A and thus the vibration wave motor.

また、圧電体202Aを各電極群203a,203bに対応して分割片202a,202bに分割して形成したので、圧電体を一体に形成する場合よりも、圧電体202Aによる弾性体201の振動の減衰作用を低減させることができる。したがって、より効果的に弾性体201を振動させることができる。   Further, since the piezoelectric body 202A is divided into the divided pieces 202a and 202b corresponding to the respective electrode groups 203a and 203b, the vibration of the elastic body 201 by the piezoelectric body 202A is more than that in the case where the piezoelectric body is integrally formed. The damping action can be reduced. Therefore, the elastic body 201 can be vibrated more effectively.

[第3実施形態]
次に、第3実施形態の振動波モータについて、図5に示す振動体70Bの製造工程を示す図を参照しながら説明する。なお、本第3実施形態において、上記第1実施形態と同一の構成については、同一符号を付して説明を省略する。
[Third Embodiment]
Next, the vibration wave motor according to the third embodiment will be described with reference to the drawings showing the manufacturing process of the vibrating body 70B shown in FIG. Note that in the third embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

圧電体202Bの成膜工程では、図5(a)に示すように、圧電体202Bを、半径方向に分割すると共に、周方向に分割して形成している。そして、焼成工程後、電極形成工程では、図5(b)に示すように、各分割片202cにはそれぞれ1つの電極203が形成される。つまり、圧電体202Bは、電極毎に分割して形成されている。各分割片202cは、成膜工程でマスク9(図1)により分割して成膜される。したがって、成膜後に分割する工程は必要ない。このように形成された各分割片202cの間には、隙間D2,D3が設けられている。そして、圧電体202を電極203毎の分割片202cに分割しても、弾性体201の振動の励起に与える影響は少ない。   In the film formation process of the piezoelectric body 202B, as shown in FIG. 5A, the piezoelectric body 202B is divided in the radial direction and divided in the circumferential direction. Then, after the firing process, in the electrode forming process, as shown in FIG. 5B, one electrode 203 is formed on each divided piece 202c. In other words, the piezoelectric body 202B is divided for each electrode. Each divided piece 202c is divided into films by the mask 9 (FIG. 1) in the film forming process. Therefore, a step of dividing after film formation is not necessary. Gaps D2 and D3 are provided between the divided pieces 202c formed in this way. Even if the piezoelectric body 202 is divided into the divided pieces 202 c for each electrode 203, the influence on the excitation of vibration of the elastic body 201 is small.

以上、本第3実施形態では、上記第1実施形態と同様に応力緩和体204を備えたことにより、圧電体202Bの圧電特性の低減が抑制され、圧電体202Bのクラックの発生や剥離が抑制されるという上記第1実施形態と同様の効果を奏する。更に、本第3実施形態では、圧電体202Bを電極203毎に分割して形成したことにより、上記第2実施形態よりも圧電体を更に細かく分割しているので、更に効果的に圧電体202Bのクラックの発生や剥離、圧電特性の低下を抑制することができる。したがって、振動体70B、ひいては振動波モータの製造の歩留まりを向上させることができる。   As described above, in the third embodiment, the stress relaxation body 204 is provided in the same manner as in the first embodiment, so that the reduction of the piezoelectric characteristics of the piezoelectric body 202B is suppressed, and the occurrence of cracks and peeling of the piezoelectric body 202B are suppressed. The same effect as the first embodiment is achieved. Furthermore, in the third embodiment, since the piezoelectric body 202B is divided and formed for each electrode 203, the piezoelectric body is further finely divided than in the second embodiment, so that the piezoelectric body 202B is more effectively produced. Generation of cracks, peeling, and deterioration of piezoelectric characteristics can be suppressed. Therefore, it is possible to improve the manufacturing yield of the vibrating body 70B, and hence the vibration wave motor.

また、本第3実施形態では、圧電体202Bを電極203毎に分割して形成したことにより、圧電体202Bを一体に形成する場合よりも、圧電体202Bによる弾性体201の振動の減衰作用を低減させることができる。したがって、より効果的に弾性体201を振動させることができる。   In the third embodiment, since the piezoelectric body 202B is divided for each electrode 203, the vibration damping action of the elastic body 201 by the piezoelectric body 202B is more effective than when the piezoelectric body 202B is integrally formed. Can be reduced. Therefore, the elastic body 201 can be vibrated more effectively.

なお、上記実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。上記実施形態では、応力緩和体が、圧電体と同一の材料で成膜される場合について説明したが、これに限定するものではなく、応力を緩和できる材料であれば、別素材のセラミックス材料で成膜される場合であってもよい。この場合、エアロゾルデポジション法で応力緩和体を形成すればよい。また、応力を緩和できる材料であれば、セラミックス材料以外の材料で成膜される場合であってもよい。いずれの場合でも、圧電体と同一又は近傍の熱膨張率であると好適である。   In addition, although this invention was demonstrated based on the said embodiment, this invention is not limited to this. In the above-described embodiment, the case where the stress relaxation body is formed of the same material as the piezoelectric body has been described. However, the present invention is not limited to this, and any other ceramic material may be used as long as the material can relieve stress. The film may be formed. In this case, the stress relaxation body may be formed by the aerosol deposition method. Further, as long as the material can relieve stress, the film may be formed of a material other than the ceramic material. In any case, it is preferable that the thermal expansion coefficient is the same as or close to that of the piezoelectric body.

また、上記実施形態では、圧電体の原材料を成膜する第1の成膜工程と、応力緩和体を成膜する第2の成膜工程とを同時に一つの成膜工程(一工程)で行う場合について説明したが、これに限定するものではなく、各工程を別々に行ってもよい。   Moreover, in the said embodiment, the 1st film-forming process which forms the raw material of a piezoelectric material and the 2nd film-forming process which forms a stress relaxation body are simultaneously performed by one film-forming process (one process). Although the case has been described, the present invention is not limited to this, and each step may be performed separately.

また、上記実施形態では、応力緩和体を圧電体の内側に環形状に形成する場合について説明したが、これに限定するものではない。弾性体が凸部を有する内周部と、内周部の外側に形成される外周部とを有する場合には、外周部に応力緩和体を設ければよい。この場合、応力緩和体を環形状に形成するのが好ましい。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the case where a stress relaxation body was formed in the annular shape inside a piezoelectric material, it is not limited to this. When the elastic body has an inner peripheral portion having a convex portion and an outer peripheral portion formed outside the inner peripheral portion, a stress relaxation body may be provided on the outer peripheral portion. In this case, the stress relaxation body is preferably formed in a ring shape.

また、上記実施形態では、弾性体が円環形状の場合について説明したが、円形に限定するものではなく、多角形等のあらゆる環形状のものに適用することが可能である。また、上記実施形態では、圧電体と応力緩和体とが非連結状態で形成される場合について説明したが、応力の緩和に影響を及ぼさない程度の細さの連結部で圧電体と応力緩和体とが連結されていてもよい。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the case where an elastic body was a ring shape, it is not limited to a circle, It is possible to apply to all ring shapes, such as a polygon. Further, in the above embodiment, the case where the piezoelectric body and the stress relaxation body are formed in a non-connected state has been described. However, the piezoelectric body and the stress relaxation body have a thin coupling portion that does not affect stress relaxation. And may be linked.

50 振動波モータ
60 回転体
201 弾性体
201c 凸部
202,202A,202B 圧電体
203 電極
204 応力緩和体
50 Vibration wave motor 60 Rotating body 201 Elastic body 201c Convex parts 202, 202A, 202B Piezoelectric body 203 Electrode 204 Stress relaxation body

Claims (7)

一方の面及び前記一方の面と反対側の他方の面からなる一対の面を有し、前記一方の面に複数の凸部が形成された弾性体と、前記弾性体の前記複数の凸部に相対する回転体と、を備え、前記弾性体の振動により前記回転体を回転させる振動波モータにおいて、
前記弾性体の前記他方の面であって、前記複数の凸部に対応する位置にエアロゾルデポジション法により成膜され、焼成して形成される圧電体と、
前記圧電体に配置され、交流電圧の印加により、前記弾性体を励振する複数の電極と、
前記弾性体の前記他方の面に、前記圧電体と隙間をあけて設けられ、焼成する際に前記圧電体にかかる応力を緩和する応力緩和体と、を備えたことを特徴とする振動波モータ。
An elastic body having a pair of surfaces composed of one surface and the other surface opposite to the one surface, and a plurality of convex portions formed on the one surface, and the plurality of convex portions of the elastic body A vibration wave motor that rotates the rotating body by vibration of the elastic body.
A piezoelectric body formed on the other surface of the elastic body by an aerosol deposition method at a position corresponding to the plurality of convex portions, and fired;
A plurality of electrodes disposed on the piezoelectric body and exciting the elastic body by application of an alternating voltage;
A vibration wave motor comprising: a stress relaxation body that is provided on the other surface of the elastic body with a gap between the piezoelectric body and that relieves stress applied to the piezoelectric body during firing. .
前記応力緩和体は、前記圧電体と同一の原材料をエアロゾルデポジション法により成膜して形成されることを特徴とする請求項1に記載の振動波モータ。   The vibration wave motor according to claim 1, wherein the stress relaxation body is formed by forming the same raw material as the piezoelectric body by an aerosol deposition method. 前記複数の凸部は、環状に配置され、
前記圧電体は、前記複数の凸部に対応して環形状に形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の振動波モータ。
The plurality of convex portions are arranged in an annular shape,
The vibration wave motor according to claim 1, wherein the piezoelectric body is formed in an annular shape corresponding to the plurality of convex portions.
前記複数の電極は、環状に配置された第1の電極群と、前記第1の電極群の内側に環状に配置された第2の電極群とを有し、
前記圧電体は、前記第1の電極群に対応する部分と前記第2の電極群に対応する部分とに半径方向に分割して形成されていることを特徴とする請求項3に記載の振動波モータ。
The plurality of electrodes include a first electrode group arranged in an annular shape, and a second electrode group arranged in an annular shape inside the first electrode group,
4. The vibration according to claim 3, wherein the piezoelectric body is formed by dividing in a radial direction a portion corresponding to the first electrode group and a portion corresponding to the second electrode group. Wave motor.
前記圧電体は、前記電極毎に分割して形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の振動波モータ。   5. The vibration wave motor according to claim 1, wherein the piezoelectric body is divided for each of the electrodes. 一方の面及び前記一方の面と反対側の他方の面からなる一対の面を有し、前記一方の面に複数の凸部が形成された弾性体と、前記弾性体の前記複数の凸部に相対する回転体と、を備え、前記弾性体の振動により前記回転体を回転させる振動波モータの製造方法において、
前記弾性体の前記他方の面であって、前記複数の凸部に対応する位置にエアロゾルデポジション法により圧電体の原材料を成膜する第1の成膜工程と、
前記弾性体の前記他方の面に、前記圧電体の原材料膜と隙間をあけて、前記圧電体にかかる応力を緩和する応力緩和体を成膜する第2の成膜工程と、
前記第1の成膜工程で成膜された前記圧電体の原材料膜を、前記応力緩和体と共に焼成して前記圧電体を形成する焼成工程と、を備えたことを特徴とする振動波モータの製造方法。
An elastic body having a pair of surfaces composed of one surface and the other surface opposite to the one surface, and a plurality of convex portions formed on the one surface, and the plurality of convex portions of the elastic body A rotating wave motor, wherein the rotating body is rotated by the vibration of the elastic body.
A first film forming step of forming a raw material of the piezoelectric body by an aerosol deposition method on the other surface of the elastic body and corresponding to the plurality of convex portions;
A second film forming step of forming a stress relaxation body that relaxes the stress applied to the piezoelectric body by forming a gap with the raw material film of the piezoelectric body on the other surface of the elastic body;
A firing step of firing the piezoelectric material film formed in the first film formation step together with the stress relaxation body to form the piezoelectric body. Production method.
前記第1の成膜工程及び前記第2の成膜工程では、前記圧電体及び前記応力緩和体の形状に対応するマスクを用い、同一の原材料で成膜することを特徴とする請求項6に記載の振動波モータの製造方法。   7. The film formation using the same raw material in the first film formation process and the second film formation process using a mask corresponding to the shape of the piezoelectric body and the stress relaxation body. The manufacturing method of the vibration wave motor of description.
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