JP2011169759A - Semiconductor device for inspection, and inspection method of the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem in that the cost increases in inspecting different types of semiconductor devices in a semiconductor device having a noncontact interface. <P>SOLUTION: The semiconductor device for inspection includes an LSI for inspection. The LSI for inspection includes a plurality of noncontact interfaces for communicating a signal by noncontact between it and a semiconductor device to be inspected, a communication section connected to the noncontact interfaces, and a communication control section for controlling the communication section. The communication control section controls the operating state of the communication section according to the constitution of the semiconductor device to be inspected. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、検査用半導体装置および半導体装置の検査方法に関し、特に、検査対象半導体装置と非接触で通信することが可能な検査用半導体装置および半導体装置の検査方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor device for inspection and a method for inspecting a semiconductor device, and more particularly, to a semiconductor device for inspection and a method for inspecting a semiconductor device capable of non-contact communication with a semiconductor device to be inspected.

半導体装置の一種類であるLSIの検査では、テスタ装置から被検査LSIに電源および信号を供給してLSIの内部動作を検査する。   In the inspection of an LSI, which is one type of semiconductor device, power and signals are supplied from the tester device to the LSI to be inspected to inspect the internal operation of the LSI.

特許文献1には、被検査ウェハ内の被検査LSIへの電源および信号を供給する方法として、電極間の容量性結合により信号を非接触で伝送し、電源は検査針(ニードル)を被検査LSIの電源パッドに接触させて供給する方法を用いた半導体装置の検査装置が開示されている。特許文献1に記載の半導体装置の検査装置が備えるプローブカードは、基板と、基板に配置され、ウェハ内の被検査LSIと同じサイズの検査用LSIと、検査用LSIに配置された外部信号電極とから構成される。外部信号電極は、被検査LSIにも配置される。そして、検査用LSIと被検査LSIとは、これらの外部信号電極を互いに近接させて容量結合を行うことにより、信号伝送を非接触で行う。   In Patent Document 1, as a method of supplying power and signals to an LSI to be inspected in a wafer to be inspected, signals are transmitted in a non-contact manner by capacitive coupling between electrodes, and the power source inspects an inspection needle (needle). There has been disclosed a semiconductor device inspection apparatus using a method of supplying a power pad in contact with an LSI. A probe card provided in an inspection apparatus for a semiconductor device described in Patent Document 1 includes a substrate, an inspection LSI having the same size as the LSI to be inspected in the wafer, and an external signal electrode disposed in the inspection LSI. It consists of. The external signal electrode is also disposed on the LSI to be inspected. Then, the inspection LSI and the LSI to be inspected perform signal coupling in a non-contact manner by performing capacitive coupling by bringing these external signal electrodes close to each other.

特許文献1に記載の半導体装置の検査装置は、信号の伝送をニードルによる接触方式ではなく、外部信号電極を非接触インタフェースとして用いた非接触方式を採用している。外部信号電極は狭ピッチで配置できるので、微細ピッチのLSIの検査が可能となる。   The semiconductor device inspection apparatus described in Patent Document 1 adopts a non-contact method using an external signal electrode as a non-contact interface instead of a contact method using a needle for signal transmission. Since the external signal electrodes can be arranged at a narrow pitch, it is possible to inspect a fine pitch LSI.

一方、特許文献2には、信号を伝送するプローブピンを大量に備えたプローブカードを有し、被検査LSIの製品ごとに被検査LSIと接触するプローブピンを切り換え可能な半導体装置の検査装置が開示されている。これにより、各品種のプローブカードを共用化することが可能となるため、プローブカードの種類を削減してその開発費用を削減することが可能となる。   On the other hand, Patent Document 2 discloses a semiconductor device inspection apparatus having a probe card having a large number of probe pins for transmitting signals and capable of switching the probe pins in contact with the LSI to be inspected for each product of the LSI to be inspected. It is disclosed. As a result, it is possible to share the probe card of each type, so that it is possible to reduce the type of probe card and to reduce its development cost.

国際公開第2007/029422号 ([0093]、図1)International Publication No. 2007/029422 ([0093], FIG. 1) 特開2004−085281号公報 ([0033]、[0036]、図7)JP 2004-085281 A ([0033], [0036], FIG. 7)

しかしながら、特許文献1に開示された技術においては、被検査LSIの外部信号電極の位置が被検査LSIごとに異なるため、プローブカードを被検査LSIごとに作り変える必要がある。そのため、プローブカードの製作コストが高くなるという問題があった。   However, in the technique disclosed in Patent Document 1, since the position of the external signal electrode of the LSI to be inspected differs for each LSI to be inspected, it is necessary to make a probe card for each LSI to be inspected. Therefore, there is a problem that the production cost of the probe card becomes high.

また、特許文献2に開示された技術においては、プローブピンのピッチには制限があるため、プローブピンを高集積化することができないという問題があった。さらに、大量のプローブピンが必要となりプローブカードが高価になる、といった問題があった。   Further, the technique disclosed in Patent Document 2 has a problem that the probe pins cannot be highly integrated because the pitch of the probe pins is limited. Furthermore, there is a problem that a large amount of probe pins are required and the probe card is expensive.

本発明の目的は、上述した非接触方式を用いた半導体装置の検査装置においては異なる種類の半導体装置を検査する際のコストが増大するという課題を解決する検査用半導体装置および半導体装置の検査方法を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor device for inspection and a method for inspecting a semiconductor device, which solves the problem of increased costs in inspecting different types of semiconductor devices in the above-described semiconductor device inspection device using a non-contact method. Is to provide.

本発明の検査用半導体装置は、検査用LSIを備え、検査用LSIは検査対象半導体装置との間で非接触で信号を通信するための複数の非接触インタフェースと、非接触インタフェースに接続された通信部と、通信部を制御する通信制御部と、を有し、通信制御部は、検査対象半導体装置の構成に応じて通信部の動作状態を制御する。   The inspection semiconductor device of the present invention includes an inspection LSI, and the inspection LSI is connected to the non-contact interface and a plurality of non-contact interfaces for non-contact communication of signals with the semiconductor device to be inspected. A communication control unit that controls the communication unit, and the communication control unit controls an operation state of the communication unit according to the configuration of the semiconductor device to be inspected.

また、本発明の半導体装置の検査方法は、検査対象半導体装置に対向して配置された検査用LSIが備える複数の非接触インタフェースの使用状態を、検査対象半導体装置の構成に応じて制御し非接触インタフェースを介して検査対象半導体装置を検査する   Also, the semiconductor device inspection method of the present invention controls the use state of a plurality of non-contact interfaces provided in an inspection LSI arranged opposite to the inspection target semiconductor device according to the configuration of the inspection target semiconductor device. Inspect the semiconductor device to be inspected via the contact interface

本発明の検査用半導体装置によれば、異なる種類の半導体装置を検査する場合であっても、検査に要するコストの増大を抑制することができる。   According to the semiconductor device for inspection of the present invention, an increase in cost required for inspection can be suppressed even when different types of semiconductor devices are inspected.

本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIの平面図である。1 is a plan view of an inspection LSI constituting an inspection semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置により検査される被検査LSIの平面図である。1 is a plan view of an LSI to be inspected by an inspection semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIの平面図であって、図2の被検査LSIを検査する際に動作状態にある非接触インタフェースを示す図である。FIG. 3 is a plan view of an inspection LSI constituting the inspection semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, showing a non-contact interface in an operating state when inspecting the LSI to be inspected in FIG. 2; . 本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIの別の例の平面図である。It is a top view of another example of the test LSI constituting the test semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置により検査される被検査LSIの別の例の平面図である。FIG. 6 is a plan view of another example of an LSI to be inspected by the inspection semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIの別の例の平面図であって、図5の被検査LSIを検査する際に動作状態にある非接触インタフェースを示す図である。FIG. 6 is a plan view of another example of an inspection LSI constituting the inspection semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, and shows a non-contact interface in an operating state when inspecting the LSI to be inspected in FIG. 5. FIG. 本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIが備える非接触インタフェース及びその周辺部の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of a non-contact interface and a peripheral portion thereof included in an inspection LSI constituting the inspection semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIの別の例が備える非接触インタフェース及びその周辺部の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the non-contact interface with which another example of the test | inspection LSI which comprises the test | inspection semiconductor device which concerns on the 1st Embodiment of this invention is provided, and its peripheral part. 本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIが備える非接触インタフェース及びその周辺部の構成を詳細に示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating in detail a configuration of a non-contact interface and a peripheral portion thereof included in the inspection LSI constituting the inspection semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態に係る検査用半導体装置と、被検査ウェハとの断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device for an inspection which concerns on the 2nd Embodiment of this invention, and a to-be-inspected wafer. 本発明の第2の実施形態に係る検査用半導体装置と、被検査ウェハとの別の例の断面図である。It is sectional drawing of another example of the semiconductor device for a test | inspection which concerns on the 2nd Embodiment of this invention, and a to-be-inspected wafer. 図10の検査用半導体装置の平面図である。It is a top view of the semiconductor device for a test | inspection of FIG. 図10の被検査ウェハの平面図である。It is a top view of the to-be-inspected wafer of FIG. 図10の検査用半導体装置の平面図であって、図13の被検査ウェハを検査する際に動作状態にある検査用LSIの非接触インタフェースを示す図である。FIG. 14 is a plan view of the inspection semiconductor device in FIG. 10, showing a non-contact interface of the inspection LSI in an operating state when inspecting the wafer to be inspected in FIG. 13. 図10の被検査ウェハの別の例の平面図である。It is a top view of another example of the to-be-inspected wafer of FIG. 図10の検査用半導体装置の平面図であって、図15の被検査ウェハを検査する際に動作状態にある検査用LSIの非接触インタフェースを示す図である。FIG. 16 is a plan view of the inspection semiconductor device of FIG. 10, showing a non-contact interface of the inspection LSI in an operating state when inspecting the wafer to be inspected of FIG. 15. 本発明の第3の実施形態に係る検査用半導体装置の平面図である。It is a top view of the semiconductor device for a test concerning a 3rd embodiment of the present invention. 図17に示す検査用半導体装置により検査される被検査ウェハの例の平面図である。It is a top view of the example of the to-be-inspected wafer test | inspected with the semiconductor device for an inspection shown in FIG. 図17に示す検査用半導体装置に係る検査用LSIが備える非接触インタフェース及びその周辺部の構成を示した図である。FIG. 18 is a diagram illustrating a configuration of a non-contact interface and a peripheral portion thereof included in an inspection LSI according to the inspection semiconductor device illustrated in FIG. 17. 図17に示す検査用半導体装置に係る検査用LSIが備える非接触インタフェース及びその周辺部の構成を示した図である。FIG. 18 is a diagram illustrating a configuration of a non-contact interface and a peripheral portion thereof included in an inspection LSI according to the inspection semiconductor device illustrated in FIG. 17.

本明細書において用いる検査用LSI、被検査LSI、被検査ウェハ、検査対象半導体装置および検査用半導体装置の用語は、以下のように定義される。検査用LSIは検査に用いる半導体装置である。被検査LSIは検査される半導体装置である。被検査ウェハは、シリコン基板等の半導体基板単体を意味せず、それに形成された複数の半導体装置(IC,LSIを問わない)を含んだ半導体基板をいう。検査対象半導体装置は検査される半導体装置であり、被検査LSIと被検査ウェハを含む。検査用半導体装置は半導体装置の検査に用いるための装置である。検査用半導体装置は、例えば、プローブカードであっても良いし、さらにその他の構成を備えるものでも良い。なお、「LSI」と記載するが「IC」であってもよく、これ以外の分類にかかる半導体装置であっても良い。   The terms “inspection LSI”, “inspected LSI”, “inspected wafer”, “inspection target semiconductor device”, and “inspection semiconductor device” used in this specification are defined as follows. The inspection LSI is a semiconductor device used for inspection. The LSI to be inspected is a semiconductor device to be inspected. The wafer to be inspected does not mean a single semiconductor substrate such as a silicon substrate but a semiconductor substrate including a plurality of semiconductor devices (IC and LSI) formed thereon. The semiconductor device to be inspected is a semiconductor device to be inspected, and includes an LSI to be inspected and a wafer to be inspected. The semiconductor device for inspection is a device for use in inspection of a semiconductor device. The inspection semiconductor device may be, for example, a probe card or may be provided with other configurations. In addition, although described as “LSI”, it may be “IC” or may be a semiconductor device according to another classification.

以下に、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

〔第1の実施の形態〕
図1は、本発明の第1の実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSI100の平面図である。検査用LSI100は、被検査LSIとの間で非接触で信号を通信するための非接触インタフェース101を複数備える。検査用LSI100は、非接触インタフェース101に接続された通信部と、通信部を制御する通信制御部とを有する。通信制御部は被検査LSIの構成に応じて通信部の動作状態を制御する。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a plan view of an inspection LSI 100 constituting the inspection semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. The inspection LSI 100 includes a plurality of non-contact interfaces 101 for communicating signals with the LSI to be inspected in a non-contact manner. The inspection LSI 100 includes a communication unit connected to the non-contact interface 101 and a communication control unit that controls the communication unit. The communication control unit controls the operation state of the communication unit according to the configuration of the LSI to be inspected.

非接触インタフェースは、例えば、誘導性結合または容量性結合による非接触結合を用いて被検査LSIと通信することができる。従って、非接触インタフェースは、例えばコイルなどのインダクタまたはコンデンサなどのキャパシタを用いた構成とすることができる。   The non-contact interface can communicate with the LSI to be inspected using non-contact coupling by inductive coupling or capacitive coupling, for example. Therefore, the non-contact interface can be configured using an inductor such as a coil or a capacitor such as a capacitor.

本実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIの動作例について、図2、図3を用いて次に説明する。例えば、被検査LSI150の非接触インタフェース151が図2に示す位置にあるとする。この場合、図3に示すように、通信制御部は通信部を制御することにより、検査用LSI100の非接触インタフェースのうち、被検査LSI150の非接触インタフェース151と対向する非接触インタフェース105を含む実線で表されたものを動作状態にする。すなわち、非接触インタフェース105の使用状態を動作状態にする。この制御により、非接触インタフェース105は被検査LSI150の非接触インタフェース151と信号伝送が可能な状態となる。一方、通信制御部は通信部を制御することにより、非接触インタフェース101を含む破線で表されたものを非動作状態にする。   Next, an example of the operation of the inspection LSI constituting the inspection semiconductor device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. For example, assume that the non-contact interface 151 of the LSI to be inspected 150 is in the position shown in FIG. In this case, as illustrated in FIG. 3, the communication control unit controls the communication unit to include the non-contact interface 105 that faces the non-contact interface 151 of the LSI to be inspected 150 among the non-contact interfaces of the LSI for inspection 100. Put the one represented by the operation state. That is, the use state of the non-contact interface 105 is set to the operation state. By this control, the non-contact interface 105 becomes capable of signal transmission with the non-contact interface 151 of the LSI 150 to be inspected. On the other hand, the communication control unit controls the communication unit to put the non-contact state including the non-contact interface 101 into a non-operating state.

このように、本実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIは、通信制御部が通信部を制御して非接触インタフェースを個別に制御することにより、任意の非接触インタフェースを動作状態にすることができる。そのため、例えば、被検査LSIの非接触インタフェースの配置パターンに基づいて、検査用LSIの各非接触インタフェースを動作状態にするかしないかを切り換えることが可能となる。その結果、検査用LSIの共用化が可能となり、一種類の検査用LSIを用いて、非接触インタフェースの位置が異なる複数種類の被検査LSIを検査することができるようになる。従って、複数種類の被検査LSIの検査に要するコストの増大を抑制することができる。   As described above, the inspection LSI constituting the inspection semiconductor device according to the present embodiment enables any non-contact interface to be in an operating state by the communication control unit controlling the non-contact interface individually by controlling the communication unit. Can be. Therefore, for example, based on the arrangement pattern of the non-contact interface of the LSI to be inspected, it is possible to switch whether or not each non-contact interface of the inspection LSI is in an operating state. As a result, the inspection LSI can be shared, and a plurality of types of LSIs to be inspected having different positions of the non-contact interface can be inspected using one type of inspection LSI. Therefore, an increase in cost required for inspecting a plurality of types of LSIs to be inspected can be suppressed.

非接触インタフェースは、検査用LSI100に一の方向に周期性をもって配置されることとしても良い。例えば、非接触インタフェースは、図1に示すように、図面上の上下方向に等間隔で配置されることとしても良い。   The non-contact interface may be arranged on the inspection LSI 100 with periodicity in one direction. For example, as shown in FIG. 1, the non-contact interface may be arranged at equal intervals in the vertical direction on the drawing.

また、非接触インタフェースは、検査用LSI100に二次元状に並設される構成としてもよい。一例として図4に示すように、検査用LSI100に行及び列からなる格子状に配置されることとしても良い。図4に示す検査用LSI100を用いて、図5に示す被検査LSI150を検査する場合は、図6に示すように、非接触インタフェース105を含む実線で表されたものを動作状態にすることとする。これにより、検査用LSI100の非接触インタフェース105は、被検査LSI150の非接触インタフェース151と信号伝送を行うことができる。   Further, the non-contact interface may be configured to be arranged two-dimensionally in the inspection LSI 100. As an example, as shown in FIG. 4, the inspection LSI 100 may be arranged in a lattice shape including rows and columns. When the LSI to be inspected 150 shown in FIG. 5 is inspected using the inspection LSI 100 shown in FIG. 4, as shown in FIG. 6, the one represented by the solid line including the non-contact interface 105 is put into an operating state. To do. Thereby, the non-contact interface 105 of the LSI for inspection 100 can perform signal transmission with the non-contact interface 151 of the LSI to be inspected 150.

次に、非接触インタフェースと通信部と通信制御部とについて図7を用いて詳しく説明する。ここで、通信部111は送信回路と受信回路とを備えるものとする。通信制御部110は通信部111を制御して、所定の通信部111を動作状態にする。具体的には、通信制御部110は、送信回路と受信回路のいずれかを選択し、選択した送信回路または受信回路の動作状態と非動作状態とを切り換える。通信制御部110が送信回路を動作状態にした場合は、通信部111は信号配線120から信号を取得し、必要に応じてその信号に処理を施して非接触インタフェース101へ出力する。そして、非接触インタフェース101は被検査LSIの非接触インタフェースに信号を送る。通信制御部110が受信回路を動作状態にした場合は、通信部は、非接触インタフェース101が被検査LSIから受信した信号に必要に応じて処理を施して信号配線120へ出力する。このように、通信制御部110は通信部111を制御することにより、非接触インタフェース101の送信動作と受信動作とを切り換えて、検査用LSI100と被検査LSIとの通信を制御することができる。   Next, the non-contact interface, the communication unit, and the communication control unit will be described in detail with reference to FIG. Here, it is assumed that the communication unit 111 includes a transmission circuit and a reception circuit. The communication control unit 110 controls the communication unit 111 to bring the predetermined communication unit 111 into an operating state. Specifically, the communication control unit 110 selects either the transmission circuit or the reception circuit, and switches between the operation state and the non-operation state of the selected transmission circuit or reception circuit. When the communication control unit 110 puts the transmission circuit into an operating state, the communication unit 111 acquires a signal from the signal wiring 120, processes the signal as necessary, and outputs it to the non-contact interface 101. The non-contact interface 101 sends a signal to the non-contact interface of the LSI to be inspected. When the communication control unit 110 puts the reception circuit into an operating state, the communication unit performs processing on the signal received by the non-contact interface 101 from the LSI to be inspected as necessary and outputs the signal to the signal wiring 120. As described above, the communication control unit 110 can control the communication between the inspection LSI 100 and the LSI to be inspected by switching the transmission operation and the reception operation of the non-contact interface 101 by controlling the communication unit 111.

非接触インタフェースによる通信で用いる信号の形式と信号配線を伝わる信号の形式が異なる場合は、通信部が信号の形式を変換することとしても良い。例えば、非接触インタフェースがコイルを使った磁場信号を用いて通信する場合は、送信回路は配線を伝わる電気信号を磁場信号に変換し、受信回路は磁場信号を電気信号に変換することとしても良い。   When the format of the signal used for communication using the non-contact interface is different from the format of the signal transmitted through the signal wiring, the communication unit may convert the format of the signal. For example, when the non-contact interface communicates using a magnetic field signal using a coil, the transmission circuit may convert an electric signal transmitted through the wiring into a magnetic field signal, and the receiving circuit may convert the magnetic field signal into an electric signal. .

なお、上述で説明した通信部は送信回路と受信回路の両方を備えたものとしたが、送信回路または受信回路のいずれか一方のみを備えたものとしても良い。   The communication unit described above includes both the transmission circuit and the reception circuit. However, the communication unit may include only one of the transmission circuit and the reception circuit.

通信部は1個または複数個でも構わない。通信部が複数個ある場合は、非接触インタフェースごとに通信部を接続できる。通信部が1個のみの場合は、全ての非接触インタフェースがその通信部に接続されることとする。   One or a plurality of communication units may be used. When there are a plurality of communication units, the communication units can be connected for each non-contact interface. When there is only one communication unit, all non-contact interfaces are connected to the communication unit.

通信制御部は1個または複数個でも構わない。通信制御部が複数ある場合は、通信部ごとに通信制御部を接続できる。通信制御部が1個のみの場合は、全ての通信部がその通信制御部に接続されることとする。   One or a plurality of communication control units may be provided. When there are a plurality of communication control units, a communication control unit can be connected to each communication unit. When there is only one communication control unit, all communication units are connected to the communication control unit.

通信制御部と通信部を配置する場所は限定されない。従って、図7に示すように、検査用LSI100に各々の前記通信部及び各々の前記通信制御部を各々の非接触インタフェースに近接して配置しても良い。または、複数の通信制御部と複数の通信部を所定の場所にまとめ、これらと各々の非接触インタフェースを離して配置しても良い。   The place where the communication control unit and the communication unit are arranged is not limited. Therefore, as shown in FIG. 7, each of the communication units and each of the communication control units may be arranged in the inspection LSI 100 in proximity to each non-contact interface. Alternatively, a plurality of communication control units and a plurality of communication units may be gathered at a predetermined location, and these may be arranged apart from each non-contact interface.

通信制御部110と通信部111は、図7に示すように、検査用LSI100に各々の非接触インタフェース101ごとに近接して配置され、さらに、非接触インタフェース101ごとに通信部111が接続され、通信部111ごとに通信制御部110が接続されるのが望ましい。通信部111と非接触インタフェース101とを近接して配置することにより、これらを接続する配線を短くできる。その結果、配線抵抗及び配線容量の増加による信号の遅延及び消費電力の増加を防止できる。また、非接触インタフェース101に大きな寄生抵抗及び寄生容量が加わって非接触インタフェース101の特性が変化するのを防止できるため、高い通信性能を実現できる。さらに、通信制御部110と非接触インタフェース101とを近接して配置することにより、これらを接続する配線を短くできる。従って、検査用LSI内に設ける配線の量を減らすことができるため、検査用LSIの設計を簡素化することができる。   As shown in FIG. 7, the communication control unit 110 and the communication unit 111 are arranged close to each non-contact interface 101 in the inspection LSI 100, and the communication unit 111 is connected to each non-contact interface 101. It is desirable that the communication control unit 110 is connected to each communication unit 111. By arranging the communication unit 111 and the non-contact interface 101 close to each other, the wiring connecting them can be shortened. As a result, signal delay and increase in power consumption due to increases in wiring resistance and wiring capacitance can be prevented. In addition, since it is possible to prevent the characteristics of the non-contact interface 101 from being changed due to large parasitic resistance and parasitic capacitance added to the non-contact interface 101, high communication performance can be realized. Furthermore, by arranging the communication control unit 110 and the non-contact interface 101 close to each other, the wiring connecting them can be shortened. Accordingly, since the amount of wiring provided in the inspection LSI can be reduced, the design of the inspection LSI can be simplified.

通信制御部110は、動作状態にある非接触インタフェース101が送信する状態と受信する状態とを切り換える機能を有することとする。これにより、検査用LSI100の非接触インタフェース101は、被検査LSI150の非接触インタフェース151の状態に応じて送信状態または受信状態になることができる。そして、これらの非接触インタフェース101,151が適切に通信して、信号の授受を行うことが可能となる。   The communication control unit 110 has a function of switching between a transmission state and a reception state of the non-contact interface 101 in an operating state. Thereby, the non-contact interface 101 of the inspection LSI 100 can be in a transmission state or a reception state according to the state of the non-contact interface 151 of the LSI to be inspected 150. Then, these non-contact interfaces 101 and 151 can appropriately communicate to exchange signals.

次に、図8を用いて、検査用LSIに搭載される具体的な構成の一例として、非接触インタフェースの動作状態の切り換えおよび信号選択の制御を行う回路を説明する。非接触インタフェース101は金属面から構成され、被検査LSIと信号の授受を行うためのインダクタまたは被検査LSIと対となり信号を送受信するキャパシタとして機能することとする。通信部111は、信号送信波形を生成し、さらに、受信信号をデジタル信号に変換することとする。通信制御部110は通信部111の動作状態を切り換え、さらに、通信部111と接続する信号配線を選択することとする。通信部111は、通信制御部110からの制御に従って動作する。   Next, a circuit for switching the operation state of the non-contact interface and controlling the signal selection will be described as an example of a specific configuration mounted on the inspection LSI with reference to FIG. The non-contact interface 101 is composed of a metal surface, and functions as an inductor for transmitting / receiving a signal to / from the LSI to be inspected or a capacitor for transmitting / receiving a signal in a pair with the LSI to be inspected. The communication unit 111 generates a signal transmission waveform and further converts the received signal into a digital signal. The communication control unit 110 switches the operation state of the communication unit 111 and further selects a signal wiring connected to the communication unit 111. The communication unit 111 operates according to control from the communication control unit 110.

個々の非接触インタフェース101及びその周辺部のより具体的な構成の例を図9に示す。通信部111は、送信回路112および受信回路113を備える。通信制御部110はシフトレジスタで構成することができる。通信制御部110は、制御信号を保存し、その制御信号を用いて通信部の動作状態を制御する。制御信号は、テスタ装置やプローブカードからシリアル入力される。通信部111は、通信制御部110からの制御信号に従って、送信回路112のみ動作状態にする、受信回路113のみ動作状態にする、両方とも非動作状態にする、のいずれかの状態を取ることとする。これにより、非接触インタフェース101の使用状態が制御される。送信回路112のみ動作状態になった場合、非接触インタフェース101は被検査LSIに信号を送信する。受信回路113のみ動作状態になった場合、非接触インタフェース101は被検査LSIから信号を受信する。送信回路112、受信回路113の両方が非動作状態になった場合は、非接触インタフェース101も非動作状態になる。信号配線120〜127は、テスタ装置やプローブカードから入力されるデータ、またはテスタ装置やプローブカードへ出力するデータを送信する配線である。セレクタ114は、通信制御部110が出力する制御信号の値に応じて信号配線120〜127から所定の信号配線を選択する。そして、選択した信号配線と送信回路112とを接続し、信号配線から取得した信号を送信回路112に出力する。スイッチ115は、通信制御部110が出力する制御信号の値に応じて信号配線120〜127から所定の信号配線を選択する。そして、選択した信号配線と受信回路113とを接続し、受信回路から取得した信号を信号配線に出力する。   An example of a more specific configuration of each non-contact interface 101 and its peripheral part is shown in FIG. The communication unit 111 includes a transmission circuit 112 and a reception circuit 113. The communication control unit 110 can be configured with a shift register. The communication control unit 110 stores the control signal and controls the operation state of the communication unit using the control signal. The control signal is serially input from a tester device or a probe card. In accordance with a control signal from the communication control unit 110, the communication unit 111 is in an operation state in which only the transmission circuit 112 is activated, only the reception circuit 113 is activated, or both are inactivated. To do. Thereby, the use state of the non-contact interface 101 is controlled. When only the transmission circuit 112 is activated, the non-contact interface 101 transmits a signal to the LSI to be inspected. When only the receiving circuit 113 is activated, the non-contact interface 101 receives a signal from the LSI to be inspected. When both the transmission circuit 112 and the reception circuit 113 are inactive, the non-contact interface 101 is also inactive. The signal wirings 120 to 127 are wirings for transmitting data input from the tester device or the probe card or data output to the tester device or the probe card. The selector 114 selects a predetermined signal wiring from the signal wirings 120 to 127 according to the value of the control signal output from the communication control unit 110. Then, the selected signal wiring and the transmission circuit 112 are connected, and a signal acquired from the signal wiring is output to the transmission circuit 112. The switch 115 selects a predetermined signal wiring from the signal wirings 120 to 127 according to the value of the control signal output from the communication control unit 110. Then, the selected signal wiring and the receiving circuit 113 are connected, and a signal acquired from the receiving circuit is output to the signal wiring.

図9に示す構成を例にして、各構成の動作について説明する。通信制御部110は、送信回路112を制御する制御信号として1ビット、受信回路113を制御する制御信号として1ビット、セレクタ114を制御する制御信号として8ビット、スイッチ115を制御する制御信号として8ビット、の計18ビットの制御信号を出力するものとする。セレクタ114はスイッチ回路で構成され、通信制御部110が備える第1のシフトレジスタに格納された8ビットの制御信号を取得する。そして、セレクタ114は、通信制御部110から取得した8ビットの制御信号のn番目が「1」のときに、セレクタ114に接続される8本の信号配線120〜127の第n番目の信号配線のデータを送信回路112に出力するものとする。また、スイッチ115はスイッチ回路で構成され、通信制御部110が備える第2のシフトレジスタに格納された8ビットの制御信号を取得する。そして、スイッチ115は、通信制御部110から取得した8ビットの制御信号のn番目が「1」のときに、受信回路112の出力を、スイッチ115に接続される信号配線120〜127の第n番目の信号配線に渡すものとする。送信回路112は、通信制御部110が備える第3のシフトレジスタに格納された1ビットの制御信号を取得する。受信回路113は、制御信号が備える第4のシフトレジスタに格納された1ビットの制御信号を取得する。送信回路112と受信回路113は、電源スイッチなどのスイッチを備え、通信制御部110から取得する制御信号が「1」であった場合のみ動作するものとする。   Using the configuration shown in FIG. 9 as an example, the operation of each configuration will be described. The communication control unit 110 has 1 bit as a control signal for controlling the transmission circuit 112, 1 bit as a control signal for controlling the reception circuit 113, 8 bits as a control signal for controlling the selector 114, and 8 bits as a control signal for controlling the switch 115. A total of 18 bits of control signals are output. The selector 114 is configured by a switch circuit, and acquires an 8-bit control signal stored in a first shift register included in the communication control unit 110. Then, when the n-th of the 8-bit control signal acquired from the communication control unit 110 is “1”, the selector 114 is the n-th signal wiring of the eight signal wirings 120 to 127 connected to the selector 114. Are output to the transmission circuit 112. The switch 115 includes a switch circuit, and acquires an 8-bit control signal stored in the second shift register included in the communication control unit 110. Then, when the n-th of the 8-bit control signal acquired from the communication control unit 110 is “1”, the switch 115 sends the output of the reception circuit 112 to the n-th signal lines 120 to 127 connected to the switch 115. Pass to the second signal wiring. The transmission circuit 112 acquires a 1-bit control signal stored in a third shift register included in the communication control unit 110. The reception circuit 113 acquires a 1-bit control signal stored in a fourth shift register included in the control signal. The transmission circuit 112 and the reception circuit 113 include switches such as a power switch, and operate only when the control signal acquired from the communication control unit 110 is “1”.

上述した構成を用いて、信号配線120のデータを非接触インタフェース101を用いて送信するときの動作は次のとおりである。通信制御部110は、セレクタ114に制御信号「10000000」出力し、送信回路112に制御信号「1」を出力する。これにより、信号配線120のデータを非接触インタフェース101を用いて送信できる。このとき、信号配線121〜127に信号配線120のデータが混ざるのを防ぐために、スイッチ115に制御信号「00000000」を出力し、受信回路113に制御信号「0」を出力するのが望ましい。これにより、受信回路113を非動作状態とすることができる。   The operation when the data of the signal wiring 120 is transmitted using the non-contact interface 101 using the above-described configuration is as follows. The communication control unit 110 outputs a control signal “10000000” to the selector 114 and outputs a control signal “1” to the transmission circuit 112. Thereby, the data of the signal wiring 120 can be transmitted using the non-contact interface 101. At this time, it is desirable to output the control signal “00000000” to the switch 115 and the control signal “0” to the receiving circuit 113 in order to prevent the data of the signal wiring 120 from being mixed with the signal wirings 121 to 127. Thereby, the receiving circuit 113 can be brought into a non-operating state.

非接触インタフェースを非動作状態にする場合は、通信制御部が出力する18ビット全ての制御信号を「0」にすれば良い。このような制御信号を通信部が取得した場合、その通信部に接続された非接触インタフェースは送信動作、受信動作のいずれも行わない。   When the non-contact interface is set to the non-operation state, all 18-bit control signals output from the communication control unit may be set to “0”. When such a control signal is acquired by the communication unit, the non-contact interface connected to the communication unit performs neither transmission operation nor reception operation.

図8および図9の構成により、通信制御部110は通信部111を制御して、非接触インタフェース101ごとに信号配線120〜127のどの信号配線と接続するかを決定することができる。さらに、通信制御部110は通信部111を制御して、非接触インタフェース101が被検査LSIに信号を送信するか、または、被検査LSIから信号を受信するか、または、非動作状態になるかを決定することができる。従って、検査用LSIを上述した構成にすることにより、図3、図6のように、動作状態にする非接触インタフェースの切り換えおよび非接触インタフェースによる信号の送受信方向の制御を行うことができる。   8 and 9, the communication control unit 110 can control the communication unit 111 to determine which signal wiring of the signal wirings 120 to 127 is connected for each non-contact interface 101. Further, the communication control unit 110 controls the communication unit 111 to determine whether the non-contact interface 101 transmits a signal to the LSI to be inspected, receives a signal from the LSI to be inspected, or enters an inoperative state. Can be determined. Therefore, by configuring the inspection LSI as described above, it is possible to switch the non-contact interface to be in the operating state and control the signal transmission / reception direction by the non-contact interface as shown in FIGS.

通信部111と信号配線120〜127との接続方法は本実施形態に限定されるものではない。例えば、非接触インタフェースごとにそれ専用の信号配線を設けることができる。一方、本実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIは、図8、図9に示すように、それぞれの通信部111に複数の信号配線が接続され、通信部111がセレクタ114及びスイッチ115が備える構成とした。このような構成にすることにより、一本の信号配線を複数の非接触インタフェースで共用化できるため、検査用LSIの設計が容易となり、さらに、検査用LSIの使用時の電力消費を削減することができる。   The connection method between the communication unit 111 and the signal wirings 120 to 127 is not limited to this embodiment. For example, a dedicated signal wiring can be provided for each non-contact interface. On the other hand, the inspection LSI constituting the inspection semiconductor device according to the present embodiment has a plurality of signal lines connected to each communication unit 111 as shown in FIGS. The switch 115 has a configuration. With such a configuration, a single signal wiring can be shared by a plurality of non-contact interfaces, which makes it easier to design an inspection LSI, and further reduces power consumption when using the inspection LSI. Can do.

本実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIは、非接触インタフェースの動作の切り換えを電気的に行うことにより、機械的に切り換えるものよりも動作の切り換えを高速に行うことができる。   The inspection LSI constituting the inspection semiconductor device according to the present embodiment can switch the operation at a higher speed than the one that is mechanically switched by electrically switching the operation of the non-contact interface.

非接触インタフェースは、ニードルよりも細かいピッチで配置可能である。そのため、単位面積当たりに配置できる非接触インタフェースの数が増える。また、非接触インタフェースの配置の自由度が高くなる。その結果、より汎用性の高い検査用LSIを作製することが可能となる。   The non-contact interface can be arranged at a finer pitch than the needle. Therefore, the number of non-contact interfaces that can be arranged per unit area increases. In addition, the degree of freedom of arrangement of the non-contact interface is increased. As a result, it is possible to manufacture a test LSI with higher versatility.

本実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSIは、構造的な制限が無い限りは、いかなるサイズの被検査LSIの検査に用いることができる。   The inspection LSI that constitutes the inspection semiconductor device according to the present embodiment can be used for inspection of an LSI to be inspected of any size as long as there is no structural limitation.

非接触インタフェースはニードルよりも1個当たりのコストが安い。そのため、本実施形態の検査用半導体装置を構成する検査用LSIを、ニードルを備えたものよりも安価に作製できる。   Non-contact interfaces are less expensive per needle than needles. Therefore, the inspection LSI constituting the inspection semiconductor device of this embodiment can be manufactured at a lower cost than that provided with the needle.

本実施形態によれば、多品種の被検査LSIに対応可能な検査用LSIを安価に得ることができる。   According to this embodiment, it is possible to obtain an inspection LSI that can handle a wide variety of LSIs to be inspected at low cost.

〔第2の実施の形態〕
以下に、図面を参照して第2の実施の形態を説明する。
[Second Embodiment]
The second embodiment will be described below with reference to the drawings.

本実施形態に係る検査用半導体装置は、検査用LSIとプローブカード基板を備える。図10は、検査用LSI200およびプローブカード基板202を備えた検査用半導体装置205ならびに被検査ウェハ252の位置関係を示す。検査用LSI200は複数の非接触インタフェース201を備えることとする。被検査ウェハ252は複数の被検査LSIを備え、被検査LSIは、複数の非接触インタフェース251を備えることとする。電源ニードル203は、被検査ウェハ252の周辺部に配置された電源パッド253に接触して、被検査ウェハ252に電源を供給することとする。   The inspection semiconductor device according to the present embodiment includes an inspection LSI and a probe card substrate. FIG. 10 shows a positional relationship between the inspection semiconductor device 205 including the inspection LSI 200 and the probe card substrate 202 and the wafer 252 to be inspected. The inspection LSI 200 is provided with a plurality of non-contact interfaces 201. The wafer to be inspected 252 includes a plurality of LSIs to be inspected, and the LSI to be inspected includes a plurality of non-contact interfaces 251. The power supply needle 203 is in contact with the power supply pad 253 disposed in the peripheral portion of the wafer 252 to be inspected, and supplies power to the wafer 252 to be inspected.

本実施形態に係る検査用半導体装置では、被検査ウェハ252に備えられた複数の非接触インタフェース251と検査用LSI200に備えられた複数の非接触インタフェース201とを向かい合わせて配置することにより、これらの非接触インタフェース201、251間で信号を授受することが可能となる。   In the inspection semiconductor device according to the present embodiment, a plurality of non-contact interfaces 251 provided on the wafer to be inspected 252 and a plurality of non-contact interfaces 201 provided on the inspection LSI 200 are arranged to face each other. It is possible to exchange signals between the non-contact interfaces 201 and 251.

なお、検査用LSIと被検査ウェハは一対一の関係である必要はなく、検査用LSIと被検査ウェハは、一対多、多対一、多対多のいずれの関係にあっても良い。例えば、図11に示すように、1枚の被検査ウェハ352を2枚の検査用LSI300を用いて検査することができる。また、一枚の検査用LSIを用いて、複数の被検査ウェハを検査しても良い。   The inspection LSI and the wafer to be inspected need not have a one-to-one relationship, and the inspection LSI and the wafer to be inspected may have any one-to-many, many-to-one, or many-to-many relationship. For example, as shown in FIG. 11, one inspection wafer 352 can be inspected using two inspection LSIs 300. A plurality of wafers to be inspected may be inspected using a single inspection LSI.

なお、プローブカード基板は図10に示すように電源ニードルを備えた構成としても良いし、電源ニードルを備えない構成としても良い。   Note that the probe card substrate may have a configuration with a power needle as shown in FIG. 10 or a configuration without a power needle.

検査用LSIや被検査ウェハに電源を供給する方法は限定されるものではない。検査用LSIや被検査ウェハへの電源供給は、例えば、プローブカード基板を介して、非接触方式またはニードルを用いた接触方式を用いる電源供給部により行うことができる。非接触方式を用いる電源供給部は、誘導性結合または容量性結合による非接触結合を用いることができる。一方、接触方式を用いる電源供給部は、図10、図11に示すように、電源ニードル203、303、304を構成とすることができる。この場合、被検査ウェハ252、352の内側や周辺部の任意の位置には、電源ニードル203、303、304が接触する電源パッド253、353が配置される。   A method for supplying power to the inspection LSI or the wafer to be inspected is not limited. The power supply to the inspection LSI or the wafer to be inspected can be performed, for example, by a power supply unit using a non-contact method or a contact method using a needle via a probe card substrate. The power supply unit using the non-contact method can use non-contact coupling by inductive coupling or capacitive coupling. On the other hand, as shown in FIGS. 10 and 11, the power supply unit using the contact method can include power needles 203, 303, and 304. In this case, power supply pads 253 and 353 with which the power supply needles 203, 303, and 304 come into contact are arranged at arbitrary positions inside and around the wafers 252 and 352 to be inspected.

図12は、図10に示す検査用半導体装置205の平面図である。検査用LSI200は格子状に配置された非接触インタフェース201を備える。各非接触インタフェース201の動作状態を制御する制御信号は、プローブカード基板202を搭載するテスタ装置から送信される。各非接触インタフェース201はその制御信号に基づいて動作する。   FIG. 12 is a plan view of the inspection semiconductor device 205 shown in FIG. The inspection LSI 200 includes a non-contact interface 201 arranged in a grid pattern. A control signal for controlling the operation state of each non-contact interface 201 is transmitted from a tester device on which the probe card board 202 is mounted. Each non-contact interface 201 operates based on the control signal.

検査用LSIの非接触インタフェースの動作例を、図13、14を用いて説明する。図13は、図10に示す被検査ウェハ252の平面図である。被検査ウェハ252は4個の被検査LSI250を備え、各被検査LSI250は複数の非接触インタフェース251を備える。非接触インタフェース251は所定のパターンに配置される。本実施形態に係る検査用半導体装置は、図13に示す被検査ウェハ252を検査する場合、検査用LSI200の非接触インタフェース201のうち、図14の実線で示す非接触インタフェースのみを動作状態にする。そして、その他の非接触インタフェースは非動作状態にして、信号の授受を停止状態にする。   An operation example of the non-contact interface of the inspection LSI will be described with reference to FIGS. FIG. 13 is a plan view of the wafer 252 to be inspected shown in FIG. The wafer to be inspected 252 includes four LSIs to be inspected 250, and each LSI to be inspected 250 includes a plurality of non-contact interfaces 251. The non-contact interface 251 is arranged in a predetermined pattern. When the inspection semiconductor device according to the present embodiment inspects the wafer 252 to be inspected shown in FIG. 13, only the non-contact interface indicated by the solid line in FIG. . Then, other non-contact interfaces are set in a non-operating state, and signal transmission / reception is stopped.

このように、本実施形態に係る検査用半導体装置により、被検査ウェハに備えられた複数の被検査LSIの非接触インタフェースの配置パターンに基づいて、検査用LSIの各非接触インタフェースを動作状態にするかしないかを切り換えることが可能となる。その結果、多品種の被検査LSIに対して検査装置の共用化が可能となる。   As described above, with the semiconductor device for inspection according to the present embodiment, each non-contact interface of the inspection LSI is brought into an operation state based on the arrangement pattern of the non-contact interfaces of the plurality of LSIs to be inspected provided on the wafer to be inspected. It is possible to switch whether to do or not. As a result, it is possible to share an inspection apparatus for a wide variety of LSIs to be inspected.

また、本実施形態に係る検査用半導体装置により、被検査ウェハに含まれる複数の被検査LSIを同時に検査することが可能となる。   In addition, with the semiconductor device for inspection according to the present embodiment, it is possible to simultaneously inspect a plurality of LSIs to be inspected included in a wafer to be inspected.

また、本実施形態に係る検査用半導体装置により、異なる大きさの被検査LSIを備えた被検査ウェハを検査することが可能となる。例えば、図15に示すように、2種類の異なる大きさの被検査LSI250を備えた被検査ウェハ252があるとする。このような被検査ウェハ252を検査する場合は、図16の実線で示す非接触インタフェース201を動作させれば良い。このように、被検査LSIの大きさ及び非接触インタフェースの配置パターンに依存せずに、同一の検査用LSIにより、異なる大きさの被検査LSIまたは非接触インタフェースの異なる配置パターンを持つ被検査LSIを検査することが可能となる。   In addition, with the semiconductor device for inspection according to this embodiment, it becomes possible to inspect a wafer to be inspected having LSIs having different sizes. For example, as shown in FIG. 15, it is assumed that there is a wafer to be inspected 252 provided with two types of LSIs to be inspected 250 having different sizes. When such a wafer 252 to be inspected is inspected, the non-contact interface 201 indicated by the solid line in FIG. 16 may be operated. In this way, the LSI to be inspected having different sizes of the LSI to be inspected or different arrangement patterns of the non-contact interface by the same inspection LSI without depending on the size of the LSI to be inspected and the arrangement pattern of the non-contact interface. Can be inspected.

検査に用いるテストベクトルのデータと被検査LSIの非接触インタフェースの配置パターンとは、検査前に、テスタ装置に入力され、保存されるのが望ましい。これにより、動作させる検査用LSIの非接触インタフェースを検査時に瞬時に決定でき、正確な検査を行うことが可能となる。   It is desirable that the test vector data used for the inspection and the arrangement pattern of the non-contact interface of the LSI to be inspected are input to the tester apparatus and stored before the inspection. As a result, the non-contact interface of the inspection LSI to be operated can be instantaneously determined at the time of inspection, and accurate inspection can be performed.

被検査LSIの非接触インタフェースの配置パターンは、検査する際に決定されることとしても良い。例えば、被検査ウェハの全ての非接触インタフェースから信号が常に出力される状態にしておき、この信号を受信できた検査用LSIの非接触インタフェースを動作させることとしてもよい。   The arrangement pattern of the non-contact interface of the LSI to be inspected may be determined when inspecting. For example, it is possible to set a state in which signals are always output from all the non-contact interfaces of the wafer to be inspected, and operate the non-contact interfaces of the inspection LSI that can receive the signals.

検査用LSIをプローブカード基板に搭載する方法は特に限定されるものではない。例えば、プローブカード基板の下面の所定の箇所に複数の電極を設け、これらを検査用LSIに設けられた貫通電極に接続しても良い。   The method for mounting the inspection LSI on the probe card substrate is not particularly limited. For example, a plurality of electrodes may be provided at predetermined locations on the lower surface of the probe card substrate, and these may be connected to through electrodes provided in the inspection LSI.

〔第3の実施の形態〕
次に、図面を参照して第3の実施の形態を説明する。第3の実施の形態は、通信部が送信回路と受信回路のいずれか一方を有し、通信制御部は通信部の動作状態と非動作状態の切り換えを制御することを特徴とする。そして、複数の非接触インタフェースのうち、前記検査用LSIにおける所定のに配置された非接触インタフェースが、前記送信回路を有する前記通信部に接続され、前記複数の非接触インタフェースのうち、前記検査用LSIにおける前記所定の領域以外の領域に配置された非接触インタフェースが、前記受信回路を有する前記通信部に接続される構成とされる。
本実施形態の一例として、図17には、送信回路を有する通信部に接続された非接触インタフェースが列状に配置された第1の領域と、受信回路を有する通信部に接続された非接触インタフェースが列状に配置されたものを示す。なお、これら第1と第2の領域は列に限定されるものでなく、例えば一または複数の行であっても良い。また、行または列でなくとも、検査用LSI400における任意の領域を、第1と第2の領域とすることができる。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment will be described with reference to the drawings. The third embodiment is characterized in that the communication unit has one of a transmission circuit and a reception circuit, and the communication control unit controls switching between an operation state and a non-operation state of the communication unit. And among the plurality of non-contact interfaces, a non-contact interface arranged in a predetermined manner in the inspection LSI is connected to the communication unit having the transmission circuit, and among the plurality of non-contact interfaces, the inspection interface A contactless interface arranged in an area other than the predetermined area in the LSI is connected to the communication unit having the receiving circuit.
As an example of the present embodiment, FIG. 17 illustrates a first area in which contactless interfaces connected to a communication unit having a transmission circuit are arranged in a line, and a contactless connection connected to a communication unit having a reception circuit. The interface is arranged in a line. Note that the first and second regions are not limited to columns, and may be one or a plurality of rows, for example. Further, an arbitrary area in the inspection LSI 400 can be used as the first and second areas, even if it is not a row or a column.

図17は、本実施形態に係る検査用半導体装置を構成する検査用LSI400と検査用LSI400を搭載するプローブカード基板402との平面図である。図18は、図17に示す検査用LSI400及びプローブカード基板402により検査される被検査LSI450の例を上から見た平面図である。検査用LSI400に格子状に配置された非接触インタフェース401の所定の列は、送信のみを行う送信器440として機能する非接触インタフェースから構成されるものとする。送信器440と接続する通信部は、送信回路を備え、受信回路を備えない。また、非接触インタフェース401の所定の列は、受信のみを行う受信器441として機能する非接触インタフェースから構成されるものとする。受信器441と接続する通信部は、受信回路を備え、送信回路を備えない。被検査LSI450は、図18に示すように、検査用LSI400と向かい合わせた際に、検査用LSI400の送信器440に対応する位置に受信器491を備え、検査用LSI400の受信器441に対応する位置に送信器490を備えた被検査LSIであれば、異なる品種であっても同一の検査用LSIを用いることができる。   FIG. 17 is a plan view of the inspection LSI 400 constituting the inspection semiconductor device according to the present embodiment and the probe card substrate 402 on which the inspection LSI 400 is mounted. 18 is a plan view of an example of the LSI to be inspected 450 to be inspected by the inspection LSI 400 and the probe card substrate 402 shown in FIG. It is assumed that a predetermined column of the non-contact interface 401 arranged in a lattice pattern on the inspection LSI 400 is configured by a non-contact interface that functions as a transmitter 440 that performs only transmission. The communication unit connected to the transmitter 440 includes a transmission circuit and does not include a reception circuit. In addition, it is assumed that the predetermined column of the non-contact interface 401 includes a non-contact interface that functions as a receiver 441 that performs only reception. The communication unit connected to the receiver 441 includes a reception circuit and does not include a transmission circuit. As shown in FIG. 18, the LSI to be inspected 450 includes a receiver 491 at a position corresponding to the transmitter 440 of the inspecting LSI 400 when facing the inspecting LSI 400, and corresponds to the receiver 441 of the inspecting LSI 400. As long as the LSI to be inspected is provided with the transmitter 490 at the position, the same LSI for inspection can be used even for different types.

送信器として機能する非接触インタフェースと受信器として機能する非接触インタフェースのより具体的な構成を、図19、図20を用いて説明する。送信器として機能する非接触インタフェース401には、図19に示すように、送信回路412が接続される。セレクタ414により選ばれた信号配線420〜427のうちの一つの信号配線の信号は、送信回路412を介して非接触インタフェース401に出力される。そして、この信号は、非接触インタフェース401により、被検査LSIに送られる。送信回路412の動作状態及び非動作状態の切り換え、並びに、セレクタ414による信号配線420〜427の選択は、通信制御部410により制御される。一方、受信器として機能する非接触インタフェース401には、図20に示すように、受信回路413が接続される。非接触インタフェース401が受信した信号は、受信回路413を介して、スイッチ415により選ばれた信号配線420〜427のうちの一つの信号配線に出力される。受信回路413の動作状態及び非動作状態の切り換え、並びに、スイッチ415による信号配線420〜427の選択は、通信制御部410により制御される。   More specific configurations of the non-contact interface functioning as a transmitter and the non-contact interface functioning as a receiver will be described with reference to FIGS. 19 and 20. As shown in FIG. 19, a transmission circuit 412 is connected to the non-contact interface 401 that functions as a transmitter. A signal of one of the signal wirings 420 to 427 selected by the selector 414 is output to the non-contact interface 401 via the transmission circuit 412. This signal is sent to the LSI under test by the non-contact interface 401. Switching of the operation state and non-operation state of the transmission circuit 412 and selection of the signal wirings 420 to 427 by the selector 414 are controlled by the communication control unit 410. On the other hand, as shown in FIG. 20, a reception circuit 413 is connected to the non-contact interface 401 functioning as a receiver. A signal received by the non-contact interface 401 is output to one of the signal wirings 420 to 427 selected by the switch 415 via the reception circuit 413. Switching of the operating state and non-operating state of the reception circuit 413 and selection of the signal wirings 420 to 427 by the switch 415 are controlled by the communication control unit 410.

このように、格子状に配置された非接触インタフェースのうち、所定の領域に配置されたものを送信専用、その他のものを受信専用とすることにより、非接触インタフェースに接続する回路の構成を簡素化することができる。そのため、送信と受信の両方を行う回路を構成とする場合と比較して、その他の回路をより多く検査用LSIに搭載することできる。さらに、検査用LSI全体の消費電力を少なくすることができる。   As described above, among the non-contact interfaces arranged in a grid pattern, the configuration of the circuit connected to the non-contact interface is simplified by dedicating the one arranged in a predetermined area to the transmission only and the other to the reception only. Can be Therefore, more circuits can be mounted on the inspection LSI as compared with the case where a circuit that performs both transmission and reception is configured. Furthermore, the power consumption of the entire inspection LSI can be reduced.

また、所定の非接触インタフェースを送信専用、その他のものを受信専用とすることにより、非接触インタフェースの使用状態の制御が容易となる。非接触インタフェースが送受信可能である場合、非接触インタフェースの使用状態の制御は、動作状態または非動作状態のみならず、動作状態の場合における送信状態または受信状態を選択する。一方、非接触インタフェースが送信専用または受信専用と決まっている場合は、非接触インタフェースの使用状態の制御は動作状態と非動作状態の選択のみで十分である。   In addition, by making a predetermined non-contact interface dedicated to transmission and the other dedicated to reception, it becomes easy to control the use state of the non-contact interface. When the non-contact interface can transmit and receive, the control of the use state of the non-contact interface selects not only the operation state or the non-operation state but also the transmission state or the reception state in the case of the operation state. On the other hand, when the non-contact interface is determined to be dedicated for transmission or reception, it is sufficient to control the use state of the non-contact interface only by selecting the operation state and the non-operation state.

本発明は上記実施形態に限定されることなく、特許請求の範囲に記載した発明の範囲内で、種々の変形が可能であり、それらも本発明の範囲内に含まれるものであることはいうまでもない。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible within the scope of the invention described in the claims, and it is also included within the scope of the present invention. Not too long.

100、200、300、400 検査用LSI
101、105、201、301、401 非接触インタフェース
110、210、410 通信制御部
111、211 通信部
112、412 送信回路
113、413 受信回路
114、414 セレクタ
115、415 スイッチ
120、121、122、127、420、421、422、427 信号配線
150、250、350、450 被検査LSI
151、251、351、451 非接触インタフェース
202、302、402 プローブカード基板
203、303、304、403 電源ニードル
205、305 検査用半導体装置
252、352 被検査ウェハ
253、353、453 電源パッド
440、490 送信器
441、491 受信器
100, 200, 300, 400 LSI for inspection
101, 105, 201, 301, 401 Non-contact interface 110, 210, 410 Communication control unit 111, 211 Communication unit 112, 412 Transmission circuit 113, 413 Reception circuit 114, 414 Selector 115, 415 Switch 120, 121, 122, 127 420, 421, 422, 427 Signal wiring 150, 250, 350, 450 LSI to be inspected
151, 251, 351, 451 Non-contact interface 202, 302, 402 Probe card substrate 203, 303, 304, 403 Power supply needle 205, 305 Inspection semiconductor device 252, 352 Inspected wafer 253, 353, 453 Power supply pad 440, 490 Transmitter 441, 491 Receiver

Claims (16)

検査用LSIを備えた検査用半導体装置であって、
前記検査用LSIは、
検査対象半導体装置との間で非接触で信号を通信するための複数の非接触インタフェースと、
前記非接触インタフェースに接続された通信部と、
前記通信部を制御する通信制御部と、を有し、
前記通信制御部は、前記検査対象半導体装置の構成に応じて前記通信部の動作状態を制御する検査用半導体装置。
An inspection semiconductor device comprising an inspection LSI,
The inspection LSI is
A plurality of non-contact interfaces for non-contact communication of signals with a semiconductor device to be inspected;
A communication unit connected to the contactless interface;
A communication control unit for controlling the communication unit,
The said communication control part is a semiconductor device for a test | inspection which controls the operation state of the said communication part according to the structure of the said test object semiconductor device.
前記非接触インタフェースは、前記検査用LSIに一の方向に周期性をもって配置されている請求項1に記載の検査用半導体装置。 The inspection semiconductor device according to claim 1, wherein the non-contact interface is arranged with periodicity in one direction on the inspection LSI. 前記非接触インタフェースは、前記検査用LSIに二次元状に並設されている請求項1または2に記載の検査用半導体装置。 The inspection semiconductor device according to claim 1, wherein the non-contact interface is arranged in a two-dimensional manner on the inspection LSI. 前記通信部は、送信回路と受信回路とを有し、
前記通信制御部は前記送信回路と前記受信回路のいずれかを選択し、選択した前記送信回路または前記受信回路の動作状態と非動作状態の切り換えを制御する請求項1から3のいずれか一項に記載の検査用半導体装置。
The communication unit includes a transmission circuit and a reception circuit,
The said communication control part selects either the said transmission circuit or the said reception circuit, and controls switching of the operation state of the selected said transmission circuit or the said reception circuit, and a non-operation state. The semiconductor device for inspection as described in 2.
前記通信部は送信回路と受信回路のいずれか一方を有し、
前記通信制御部は前記通信部の動作状態と非動作状態の切り換えを制御する請求項1から3のいずれか一項に記載の検査用半導体装置。
The communication unit has one of a transmission circuit and a reception circuit,
4. The semiconductor device for inspection according to claim 1, wherein the communication control unit controls switching between an operation state and a non-operation state of the communication unit. 5.
前記複数の非接触インタフェースのうち、前記検査用LSIにおける所定の領域に配置された非接触インタフェースが、前記送信回路を有する前記通信部に接続され、
前記複数の非接触インタフェースのうち、前記検査用LSIにおける前記所定の領域以外の領域に配置された非接触インタフェースが、前記受信回路を有する前記通信部に接続される、請求項5に記載の検査用半導体装置。
Of the plurality of non-contact interfaces, a non-contact interface arranged in a predetermined region in the inspection LSI is connected to the communication unit having the transmission circuit,
The inspection according to claim 5, wherein among the plurality of non-contact interfaces, a non-contact interface arranged in an area other than the predetermined area in the inspection LSI is connected to the communication unit including the receiving circuit. Semiconductor device.
前記所定の領域に配置された前記非接触インタフェースおよび前記前記所定の領域以外の領域に配置された前記非接触インタフェースは、行または列状に配置される請求項6に記載の検査用半導体装置。 The inspection semiconductor device according to claim 6, wherein the non-contact interface arranged in the predetermined region and the non-contact interface arranged in a region other than the predetermined region are arranged in rows or columns. 前記検査用LSIは、前記送信回路に接続されたセレクタと、前記セレクタに接続された複数の信号配線とを有し、
前記セレクタは、複数の前記信号配線の中から所定の前記信号配線を選択し、選択した前記信号配線から取得した信号を前記送信回路に出力する請求項4から7のいずれか一項に記載の検査用半導体装置。
The inspection LSI includes a selector connected to the transmission circuit, and a plurality of signal wirings connected to the selector,
8. The selector according to claim 4, wherein the selector selects a predetermined signal wiring from a plurality of the signal wirings, and outputs a signal acquired from the selected signal wiring to the transmission circuit. 9. Inspection semiconductor device.
前記検査用LSIは、前記受信回路に接続されたスイッチと、前記スイッチに接続された複数の信号配線を有し、
前記スイッチは、複数の前記信号配線の中から所定の前記信号配線を選択し、前記受信回路から取得した信号を選択した前記信号配線に出力する請求項4から8のいずれか一項に記載の検査用半導体装置。
The inspection LSI has a switch connected to the receiving circuit, and a plurality of signal wirings connected to the switch,
9. The switch according to claim 4, wherein the switch selects a predetermined signal wiring from a plurality of the signal wirings, and outputs a signal acquired from the reception circuit to the selected signal wiring. 10. Inspection semiconductor device.
前記非接触インタフェースは、誘導性結合または容量性結合による非接触結合を用いる請求項1から9のいずれか一項に記載の検査用半導体装置。 The semiconductor device for inspection according to any one of claims 1 to 9, wherein the non-contact interface uses non-contact coupling by inductive coupling or capacitive coupling. 前記非接触インタフェースごとに前記通信部が接続され、
前記通信部ごとに前記通信制御部が接続され、
前記非接触インタフェースごとに前記通信部と前記通信制御部とが近接して配置される請求項1から10のいずれか一項に記載の検査用半導体装置。
The communication unit is connected for each non-contact interface,
The communication control unit is connected to each communication unit,
The inspection semiconductor device according to claim 1, wherein the communication unit and the communication control unit are arranged close to each other for each non-contact interface.
前記検査用LSIと、前記検査対象半導体装置に電源を供給する電源供給部とを有する請求項1から11のいずれか1項に記載の検査用半導体装置。 12. The semiconductor device for inspection according to claim 1, further comprising a power supply unit that supplies power to the inspection LSI and the semiconductor device to be inspected. 前記電源供給部は、誘導性結合または容量性結合による非接触結合を用いる請求項12に記載の検査用半導体装置。 13. The semiconductor device for inspection according to claim 12, wherein the power supply unit uses non-contact coupling by inductive coupling or capacitive coupling. 前記電源供給部は、ニードルである請求項12に記載の検査用半導体装置装置。 The semiconductor device device for inspection according to claim 12, wherein the power supply unit is a needle. 検査対象半導体装置に対向して配置された検査用LSIが備える複数の非接触インタフェースの使用状態を、前記検査対象半導体装置の構成に応じて制御し前記非接触インタフェースを介して前記検査対象半導体装置を検査する半導体装置の検査方法。 The use state of a plurality of non-contact interfaces provided in an inspection LSI arranged opposite to the inspection target semiconductor device is controlled according to the configuration of the inspection target semiconductor device, and the inspection target semiconductor device is connected via the non-contact interface. Semiconductor device inspection method for inspecting semiconductor devices. 前記非接触インタフェースの使用状態の制御は、動作状態もしくは非動作状態の一方、または、送信状態もしくは受信状態の一方を選択する請求項15に記載の半導体装置の検査方法。 The semiconductor device inspection method according to claim 15, wherein the use state control of the non-contact interface selects one of an operation state and a non-operation state, or one of a transmission state and a reception state.
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