JP2011159666A - Method of manufacturing wiring board with reinforcing member - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a wiring board with a reinforcing member, capable of surely buffering a stress applied to the reinforcing member and preventing the wiring board from warpage. <P>SOLUTION: The wiring board 11 with a stiffener includes a wiring board 40, having a principal board plane 41 and a rear board face 42, and the stiffener 31 including a plurality of split pieces 36 and jointed with a side of the principal board plane 41. An upper tool 92 including a plurality of storage parts 95 is placed on the side of the principal board plane 41 during a tool arrangement step. The plurality of split pieces 36 are stored in respective storage parts 95 during a jointing step, thereby laying out the respective split pieces 36 in a frame as a whole, while mutually positioning them and jointing them on the principal board plane 41. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、配線基板の反りを防止するための補強材を備えた補強材付き配線基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a wiring board with a reinforcing material provided with a reinforcing material for preventing warping of the wiring board.

コンピュータのマイクロプロセッサ等として使用される半導体集積回路素子(ICチップ)は、近年ますます高速化、高機能化しており、これに付随して端子数が増え、端子間ピッチも狭くなる傾向にある。一般的にICチップの底面には多数の端子が密集してアレイ状に配置されており、このような端子群はマザーボード側の端子群に対してフリップチップの形態で接続される。ただし、ICチップ側の端子群とマザーボード側の端子群とでは端子間ピッチに大きな差があることから、ICチップをマザーボード上に直接的に接続することは困難である。そのため、通常はICチップをICチップ搭載用配線基板上に搭載してなる半導体パッケージを作製し、その半導体パッケージをマザーボード上に搭載するという手法が採用される(例えば特許文献1参照)。   In recent years, semiconductor integrated circuit elements (IC chips) used as computer microprocessors and the like have become increasingly faster and more functional, with an accompanying increase in the number of terminals and a tendency to narrow the pitch between terminals. . In general, a large number of terminals are densely arranged on the bottom surface of an IC chip, and such a terminal group is connected to a terminal group on the motherboard side in the form of a flip chip. However, it is difficult to connect the IC chip directly on the mother board because there is a large difference in the pitch between the terminals on the IC chip side terminal group and the mother board side terminal group. For this reason, a method is generally adopted in which a semiconductor package is prepared by mounting an IC chip on an IC chip mounting wiring board, and the semiconductor package is mounted on a motherboard (see, for example, Patent Document 1).

なお、ICチップは、一般に熱膨張係数が2.0ppm/℃〜5.0ppm/℃程度の半導体材料(例えばシリコン等)を用いて形成される。一方、ICチップ搭載用配線基板は、それよりも熱膨張係数がかなり大きい樹脂材料等を用いて形成された樹脂配線基板であることが多い。この樹脂配線基板の一例としては、コア基板の表面及び裏面にビルドアップ層を形成したものが実用化されている。この樹脂配線基板においては、コア基板として、例えば、補強繊維に樹脂を含浸させた樹脂基板(ガラスエポキシ基板など)が用いられている。そして、そのコア基板の剛性を利用して、コア基板の表面及び裏面に樹脂絶縁層と導体層とを交互に積層することにより、ビルドアップ層が形成される。つまり、この樹脂配線基板において、コア基板は、補強の役割を果たしており、ビルドアップ層と比べて非常に厚く形成されている。また、コア基板には、表面及び裏面に形成されたビルドアップ層間の導通を図るための配線(具体的には、スルーホール導体など)が貫通形成されている。   The IC chip is generally formed using a semiconductor material (for example, silicon) having a thermal expansion coefficient of about 2.0 ppm / ° C. to 5.0 ppm / ° C. On the other hand, the IC chip mounting wiring board is often a resin wiring board formed using a resin material having a considerably larger thermal expansion coefficient. As an example of this resin wiring board, a structure in which a buildup layer is formed on the front surface and the back surface of a core substrate has been put into practical use. In this resin wiring substrate, for example, a resin substrate (glass epoxy substrate or the like) in which a reinforcing fiber is impregnated with a resin is used as a core substrate. Then, by utilizing the rigidity of the core substrate, a resin layer and a conductor layer are alternately laminated on the front surface and the back surface of the core substrate, thereby forming a buildup layer. That is, in this resin wiring substrate, the core substrate plays a role of reinforcement and is formed much thicker than the build-up layer. In addition, wiring (specifically, a through-hole conductor or the like) is formed through the core substrate for conduction between buildup layers formed on the front surface and the back surface.

ところで近年では、半導体集積回路素子の高速化に伴い、使用される信号周波数が高周波帯域となってきている。この場合、コア基板を貫通する配線が大きなインダクタンスとして寄与し、高周波信号の伝送ロスや回路誤動作の発生につながり、高速化の妨げとなってしまう。この問題を解決するために、樹脂配線基板を、コア基板を有さない基板とすることが提案されている(例えば特許文献2参照)。この基板は、比較的に厚いコア基板を省略することにより全体の配線長を短くしたものであるため、高周波信号の伝送ロスが低減され、半導体集積回路素子を高速で動作させることが可能となる。   By the way, in recent years, with the increase in the speed of semiconductor integrated circuit elements, the signal frequency used has become a high frequency band. In this case, the wiring penetrating the core substrate contributes as a large inductance, leading to transmission loss of high-frequency signals and circuit malfunction, which hinders speeding up. In order to solve this problem, it has been proposed that the resin wiring substrate is a substrate that does not have a core substrate (see, for example, Patent Document 2). Since this substrate is obtained by shortening the overall wiring length by omitting a relatively thick core substrate, the transmission loss of high-frequency signals is reduced, and the semiconductor integrated circuit element can be operated at high speed. .

しかし、コア基板を省略すると樹脂配線基板が薄肉化されるため、樹脂配線基板の剛性の低下が避けられなくなる。この場合、フリップチップ接続に用いたはんだが冷却される際に、チップ材料と基板材料との熱膨張係数差に起因する熱応力の影響を受けて、樹脂配線基板がチップ搭載面側に反りやすくなる。その結果、チップ接合部分にクラックが起こり、オープン不良などが生じやすくなる。つまり、上記のようなICチップを用いて半導体パッケージを構成した場合、高い歩留まりや信頼性を実現できないという問題が生じる。   However, if the core substrate is omitted, the resin wiring board is thinned, and thus the rigidity of the resin wiring board is inevitably lowered. In this case, when the solder used for flip chip connection is cooled, the resin wiring board tends to warp to the chip mounting surface side due to the influence of thermal stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the chip material and the substrate material. Become. As a result, cracks occur in the chip bonding portion, and open defects are likely to occur. That is, when a semiconductor package is configured using the above IC chip, there arises a problem that high yield and reliability cannot be realized.

上記の問題を解決するために、樹脂配線基板101の片面(ICチップ106の搭載面102)に、枠状のスティフナ105(補強材)を貼付した半導体パッケージ100が提案されている(図22参照)。前記スティフナ105は、樹脂配線基板101よりも剛性の高い材料(例えば金属材料)を用いて形成される。ここで、金属製のスティフナ105を使用して半導体パッケージ100を製造する場合、樹脂配線基板101の熱膨張係数は、金属製スティフナ105の熱膨張係数よりも大きくなるため、熱膨張係数差に起因する熱応力の影響を受けて樹脂配線基板101に反りが発生することがある。   In order to solve the above problem, there has been proposed a semiconductor package 100 in which a frame-like stiffener 105 (reinforcing material) is attached to one side of the resin wiring substrate 101 (the mounting surface 102 of the IC chip 106) (see FIG. 22). ). The stiffener 105 is formed using a material (for example, a metal material) having higher rigidity than the resin wiring substrate 101. Here, when the semiconductor package 100 is manufactured using the metal stiffener 105, the thermal expansion coefficient of the resin wiring substrate 101 is larger than the thermal expansion coefficient of the metal stiffener 105, and therefore, it is caused by the difference in thermal expansion coefficient. The resin wiring board 101 may be warped under the influence of the thermal stress.

この対策として、スティフナの一部にスリットを形成し、熱応力の分散を図るようにした技術が提案されている(例えば、特許文献3参照)。図23は、特許文献3の半導体パッケージに用いられるスティフナ110を示している。図23のスティフナ110は4つの角部111を有する矩形枠状に形成されており、そのスティフナ110の中央部には、ICチップを収納するための開口部112が形成されている。また、このスティフナ110には、開口部112の各角部とスティフナ110の対応する各角部111にわたりスリット114が設けられている。   As a countermeasure, a technique has been proposed in which slits are formed in a part of the stiffener so as to distribute thermal stress (see, for example, Patent Document 3). FIG. 23 shows the stiffener 110 used in the semiconductor package of Patent Document 3. The stiffener 110 in FIG. 23 is formed in a rectangular frame shape having four corners 111, and an opening 112 for accommodating an IC chip is formed at the center of the stiffener 110. In addition, the stiffener 110 is provided with slits 114 extending from the corners of the opening 112 to the corresponding corners 111 of the stiffener 110.

特開2002−26500号公報(図1など)JP 2002-26500 A (FIG. 1 and the like) 特開2002−26171号公報(図5など)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-26171 (FIG. 5 etc.) 特開2007−299887号公報(図3など)JP 2007-299887 A (FIG. 3 etc.)

ところで、上記従来のスティフナ110において、スリット114は、その一端が開口部112に開放状態で形成されるとともに他端が角部111の近傍に位置している。つまり、スティフナ110は、スリット114によって完全に分断されておらず一部が繋がった状態となっている。このため、スティフナ110においてその繋がった部分に熱応力が集中することがあり、その場合には樹脂配線基板の反りを解消することができなくなる。樹脂配線基板に反りが発生すると、ICチップの搭載が困難となり、製品信頼性が低下してしまう。   By the way, in the conventional stiffener 110, the slit 114 is formed such that one end thereof is opened in the opening 112 and the other end is located in the vicinity of the corner 111. That is, the stiffener 110 is not completely divided by the slit 114 and is partially connected. For this reason, thermal stress may concentrate on the connected portion of the stiffener 110, and in this case, it becomes impossible to eliminate the warp of the resin wiring board. If the resin wiring board is warped, it is difficult to mount the IC chip, and the product reliability is lowered.

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、補強材に加わる応力を確実に緩和して配線基板の反りを防止することができる補強材付き配線基板の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring board with a reinforcing material that can reliably relieve stress applied to the reinforcing material and prevent warping of the wiring board. There is to do.

そして上記課題を解決するための手段(手段1)としては、基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層及び複数の導体層を積層してなる構造を有し、チップ部品を接続可能な複数の主面側接続端子が前記基板主面上に配設された板状の配線基板と、前記基板主面側に接合され、前記複数の主面側接続端子を露出させるとともに、平面視で全体として枠状をなす複数の分割片からなる補強材とを備えた補強材付き配線基板の製造方法であって、前記複数の分割片を互いに位置決めしつつ全体として枠状に配置可能な複数の収容部を備えた治具を前記基板主面側に配置する治具配置工程と、前記複数の収容部内に前記複数の分割片をそれぞれ収容し、前記基板主面に対して前記複数の分割片を接合する接合工程とを含むことを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法がある。   As means for solving the above problems (means 1), the substrate has a main surface and a back surface, and has a structure in which a plurality of resin insulation layers and a plurality of conductor layers are laminated, and chip components are connected. A plurality of possible main surface side connection terminals are joined to the plate main surface side disposed on the substrate main surface, the main surface side connection terminals are exposed, and the plurality of main surface side connection terminals are exposed. A method of manufacturing a wiring board with a reinforcing material, comprising a reinforcing material consisting of a plurality of divided pieces that form a frame shape as a whole, wherein the plurality of divided pieces can be arranged in a frame shape as a whole while positioning each other. A jig placement step of placing a jig having a plurality of housing portions on the substrate main surface side, and housing the plurality of divided pieces in the plurality of housing portions, respectively, And a joining step for joining the split pieces. There are provided methods for producing the wood with the wiring board.

従って、手段1に記載の発明によると、治具配置工程において、治具が基板主面側に配置される。続く接合工程において、その治具における複数の収納部に複数の分割片がそれぞれ収納されることで、各分割片が互いに位置決めされつつ全体として枠状に配置され、複数の分割片が基板主面に対して接合される。このようにすると、基板主面側において、複数の分割片を正確な位置に迅速に接合することができ、各分割片からなる補強材によって配線基板の強度を確実に高めることができる。また、補強材が各分割片によって完全に分割されるため、補強材と配線基板との熱膨張係数差に起因して補強材に加わる熱応力を確実に緩和することができ、補強材付き配線基板の反りを防止することができる。   Therefore, according to the invention described in the means 1, in the jig arranging step, the jig is arranged on the substrate main surface side. In the subsequent joining step, the plurality of divided pieces are respectively stored in the plurality of storage portions in the jig, so that each divided piece is positioned as a whole while being positioned with respect to each other, and the plurality of divided pieces are the substrate main surface. To be joined. If it does in this way, a plurality of division pieces can be quickly joined to an exact position in the substrate main surface side, and the strength of a wiring board can be certainly raised by the reinforcing material which consists of each division piece. In addition, since the reinforcing material is completely divided by each divided piece, the thermal stress applied to the reinforcing material due to the difference in thermal expansion coefficient between the reinforcing material and the wiring board can be surely alleviated, and the wiring with the reinforcing material Warpage of the substrate can be prevented.

上記補強材は、前記配線基板を構成する樹脂材料よりも高剛性であることが好ましい。その理由は、補強材自体に高い剛性が付与されていれば、それを面接合することで配線基板に高い剛性を付与することができ、外部から加わる応力に対していっそう強くなるからである。また、高い剛性を有する補強材であれば、補強材を薄くしても配線基板に十分高い剛性を付与することができるため、補強材付き配線基板全体の薄肉化を阻害しないからである。   The reinforcing material is preferably more rigid than the resin material constituting the wiring board. The reason is that if the reinforcing material itself is given high rigidity, it can be given high rigidity to the wiring board by surface bonding, and becomes stronger against externally applied stress. In addition, if the reinforcing material has high rigidity, the wiring board can be provided with sufficiently high rigidity even if the reinforcing material is thinned, so that the thinning of the entire wiring board with reinforcing material is not hindered.

なお、前記補強材は、例えば、剛性の高い金属材料やセラミック材料を用いて形成することが好ましく、例えば、樹脂材料中に無機材料を含有させた複合材料によって形成するものでもよい。   The reinforcing material is preferably formed using, for example, a highly rigid metal material or ceramic material. For example, the reinforcing material may be formed of a composite material in which an inorganic material is contained in a resin material.

前記補強材を構成する金属材料としては、鉄、金、銀、銅、銅合金、鉄ニッケル合金、珪素、ガリウム砒素などがある。また、前記補強材を構成するセラミック材料としては、例えばアルミナ、ガラスセラミック、結晶化ガラス等の低温焼成材料、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素などがある。前記補強材を構成する樹脂材料としては、エポキシ樹脂、ポリブテン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体(ABS樹脂)などがある。   Examples of the metal material constituting the reinforcing material include iron, gold, silver, copper, copper alloy, iron nickel alloy, silicon, and gallium arsenide. Examples of the ceramic material constituting the reinforcing material include low-temperature fired materials such as alumina, glass ceramic, and crystallized glass, aluminum nitride, silicon carbide, and silicon nitride. As the resin material constituting the reinforcing material, epoxy resin, polybutene resin, polyamide resin, polybutylene terephthalate resin, polyphenylene sulfide resin, polyimide resin, bismaleimide / triazine resin, polycarbonate resin, polyphenylene ether resin, acrylonitrile butadiene styrene copolymer There is a coalescence (ABS resin).

前記補強材は配線基板の基板主面に接合されるが、接合の手法は特に限定されることはなく、補強材を形成している材料の性質、形状等に合った周知の手法を採用することができる。例えば、補強材の接合面を、前記基板主面に対して接着剤を介して接合することが好ましい。このようにすれば、配線基板に対して補強材を確実かつ容易に接合することができる。なお、接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、ゴム系接着剤などが挙げられる。   The reinforcing material is bonded to the main surface of the wiring board, but the bonding method is not particularly limited, and a well-known method suitable for the nature, shape, etc. of the material forming the reinforcing material is adopted. be able to. For example, the joining surface of the reinforcing material is preferably joined to the substrate main surface via an adhesive. In this way, the reinforcing material can be reliably and easily joined to the wiring board. Examples of the adhesive include an acrylic adhesive, an epoxy adhesive, a cyanoacrylate adhesive, and a rubber adhesive.

前記補強材を構成する前記複数の分割片のうちの少なくとも1つの分割片は、他の分割片とは異なる材料で形成されていてもよいし、他の分割片とは異なる厚さを有するものでもよい。   At least one divided piece of the plurality of divided pieces constituting the reinforcing material may be formed of a material different from other divided pieces, or have a thickness different from that of the other divided pieces. But you can.

前記配線基板において、チップ部品が搭載される部位や導体層が形成される部位は、その周辺部位よりも強度や熱膨張係数が異なる場合がある。この場合、配線基板における強度や熱膨張係数の差に応じて、異なる材料で形成された分割片や厚さが異なる分割片を接合することにより、補強材付き配線基板の反りを確実に防止することができる。また、各分割片の形成材料や厚さが異なる場合であっても、上記治具を用いることにより、各分割片を正確な位置に迅速に接合することができる。   In the wiring board, the part where the chip component is mounted and the part where the conductor layer is formed may have different strength and thermal expansion coefficient than the peripheral part. In this case, the warping of the wiring board with the reinforcing material is surely prevented by joining the split pieces formed of different materials and the split pieces having different thicknesses according to the difference in strength and thermal expansion coefficient in the wiring board. be able to. Moreover, even if the formation material and thickness of each division | segmentation piece differ, each division | segmentation piece can be rapidly joined to an exact position by using the said jig | tool.

前記複数の分割片のうちの少なくとも1つの分割片は、他の分割片とは異なる接着剤を用いて接合されていてもよい。前記複数の分割片の形成材料が異なる場合、それら形成材料に適した接着剤を用いて各分割片を接合することにより、補強材付き配線基板の反りを確実に防止することができる。   At least one divided piece of the plurality of divided pieces may be bonded using an adhesive different from the other divided pieces. When the forming materials of the plurality of divided pieces are different, the warping of the wiring board with the reinforcing material can be surely prevented by bonding the divided pieces using an adhesive suitable for the forming materials.

前記複数の分割片のうちの少なくとも1つの分割片は、導電金属材料を含んで形成されるとともに、前記配線基板の前記導体層に対して導電性接着剤を用いて接合されていてもよい。この場合、導電金属材料を含んで形成された分割片を介して配線基板の導体層に電気的に接続することが可能となり、その分割片を外部端子として使用することができる。   At least one of the plurality of divided pieces may be formed to include a conductive metal material, and may be bonded to the conductor layer of the wiring board using a conductive adhesive. In this case, it becomes possible to electrically connect to the conductor layer of the wiring board through the divided piece formed including the conductive metal material, and the divided piece can be used as the external terminal.

前記補強材は、外形寸法が前記配線基板の外形寸法よりも大きく設定され、前記補強材の外縁部が前記配線基板の外縁部よりも基板平面方向へ全体的に張り出した状態で、前記配線基板に接合されていてもよい。このようにすると、相対的に配線基板の外縁部が補強材の外縁部よりも引っ込んだ状態となり、配線基板の外縁部に他部材等が接触しにくくなる。その結果、配線基板の外縁部を補強材で確実に保護することができ、配線基板の外縁部の破損を防止することができる。   The reinforcing material has an outer dimension set to be larger than an outer dimension of the wiring board, and the outer edge portion of the reinforcing material protrudes from the outer edge portion of the wiring board in the substrate plane direction as a whole. It may be joined to. If it does in this way, it will be in the state where the outer edge part of the wiring board was relatively retracted rather than the outer edge part of a reinforcing material, and it will become difficult for other members etc. to contact the outer edge part of a wiring board. As a result, the outer edge portion of the wiring board can be reliably protected with the reinforcing material, and damage to the outer edge portion of the wiring board can be prevented.

前記補強材において各分割片の間に形成されるスリットの形状は、特に限定されるものではなく、直線的な形状であってもよいし、非直線的な形状であってもよい。なお、非直線的な形状の具体例としては、例えばクランク形状を挙げることができる。この非直線的な形状のスリットを補強材に形成する場合、補強材に加わる熱応力を緩和するために個々の分割片の位置がずれたとしても、補強材の面方向にて各分割片の一部が重なり合うこととなる。そして、各分割片の重なり合う部分によって、配線基板の反りを確実に防止することができる。   The shape of the slit formed between the divided pieces in the reinforcing material is not particularly limited, and may be a linear shape or a non-linear shape. A specific example of the non-linear shape is a crank shape, for example. In the case of forming this non-linear slit in the reinforcing material, even if the position of each divided piece is shifted in order to relieve the thermal stress applied to the reinforcing material, each of the divided pieces in the surface direction of the reinforcing material. Some will overlap. And the curvature of a wiring board can be prevented reliably by the overlapping part of each division | segmentation piece.

前記配線基板において前記スリットが形成された箇所に対応する位置には、複数層にわたりプレーン状導体層が配置されていることが好ましい。この場合、補強材においてスリットが形成される部分は剛性が低くなるが、配線基板の複数層にプレーン状導体層を設けることによってその剛性が低くなる部分を補強することができる。このため、補強材付き配線基板の剛性を十分に確保することができる。   It is preferable that a plane-like conductor layer is disposed over a plurality of layers at a position corresponding to the position where the slit is formed on the wiring board. In this case, the portion where the slit is formed in the reinforcing material has low rigidity, but by providing a plane conductor layer on a plurality of layers of the wiring board, the portion where the rigidity is low can be reinforced. For this reason, the rigidity of the wiring board with a reinforcing material can be sufficiently ensured.

前記板状の配線基板としては、基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層及び複数の導体層を積層してなる構造を有し、チップ部品を接続可能な複数の主面側接続端子が前記基板主面上に配設された構造のものが使用される。前記配線基板としては、コアを有さないコアレス配線基板を挙げることができ、以下の各工程を経て製造される。   The plate-like wiring board has a substrate main surface and a substrate back surface, has a structure in which a plurality of resin insulation layers and a plurality of conductor layers are laminated, and a plurality of main surface sides to which chip components can be connected A structure in which connection terminals are arranged on the main surface of the substrate is used. Examples of the wiring board include a coreless wiring board that does not have a core, and is manufactured through the following steps.

先ず、下地樹脂シート形成工程において、製造時の補強のために用いる支持基板上に下地樹脂シートを形成し、金属シート体配置工程において、2枚の金属箔を剥離可能な状態で密着してなる積層金属シート体を、前記下地樹脂絶シート上に配置する。その後、金属シート体封止工程において、前記樹脂絶縁層となるべき樹脂絶縁シートを、前記積層金属シート体を包むように配置して、前記樹脂絶縁シートと前記下地樹脂シートとの間に前記積層金属シート体を封止する。そして、積層体形成工程において、前記積層金属シート体を封止した前記樹脂絶縁シート上に前記導体層となるべき配線パターンと前記樹脂絶縁層となるべき樹脂絶縁シートとを交互に積層する。この工程により、前記配線基板となるべき配線積層部を前記積層金属シート体上に含む積層体を形成する。さらに、周囲部切除工程において、前記配線積層部とその周囲部との境界に沿って前記積層体を前記支持基板ごと切断して前記周囲部を除去した後、剥離工程において、前記配線積層部と前記支持基板とを前記金属シート体(2枚の金属箔)の界面にて剥離する。そして、接続端子形成工程において、前記配線積層部の表面上にある金属箔をパターニングして、前記基板主面上の複数の主面側接続端子を形成する。   First, in the base resin sheet forming step, the base resin sheet is formed on a support substrate used for reinforcement during manufacturing, and in the metal sheet body arranging step, the two metal foils are adhered in a peelable state. A laminated metal sheet is placed on the base resin sheet. Thereafter, in the metal sheet body sealing step, a resin insulating sheet to be the resin insulating layer is disposed so as to wrap the laminated metal sheet body, and the laminated metal is interposed between the resin insulating sheet and the base resin sheet. The sheet body is sealed. And in a laminated body formation process, the wiring pattern which should become the said conductor layer, and the resin insulating sheet which should become the said resin insulating layer are laminated | stacked alternately on the said resin insulating sheet which sealed the said laminated metal sheet body. By this step, a laminated body including the wiring laminated portion to be the wiring board on the laminated metal sheet body is formed. Further, in the peripheral portion cutting step, the laminate is cut along with the support substrate along the boundary between the wiring laminated portion and the peripheral portion, and the peripheral portion is removed. The support substrate is peeled off at the interface of the metal sheet (two metal foils). In the connection terminal forming step, the metal foil on the surface of the wiring laminated portion is patterned to form a plurality of main surface side connection terminals on the substrate main surface.

前記配線基板において、前記複数の樹脂絶縁層には前記複数のビア導体が形成され、前記複数のビア導体は前記複数の樹脂絶縁層の各層において同一方向に拡径していることが好ましい。このようにすると、コア基板を含まないコアレス配線基板を確実に製造することができる。   In the wiring board, it is preferable that the plurality of via conductors are formed in the plurality of resin insulation layers, and the plurality of via conductors are expanded in the same direction in each layer of the plurality of resin insulation layers. In this way, a coreless wiring board that does not include a core board can be reliably manufactured.

一実施の形態の半導体パッケージを示す概略断面図。1 is a schematic cross-sectional view showing a semiconductor package of an embodiment. 半導体パッケージを示す平面図。The top view which shows a semiconductor package. スティフナ付き配線基板の製造方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the manufacturing method of a wiring board with a stiffener. スティフナ付き配線基板の製造方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the manufacturing method of a wiring board with a stiffener. スティフナ付き配線基板の製造方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the manufacturing method of a wiring board with a stiffener. スティフナ付き配線基板の製造方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the manufacturing method of a wiring board with a stiffener. スティフナ付き配線基板の製造方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the manufacturing method of a wiring board with a stiffener. スティフナ付き配線基板の製造方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the manufacturing method of a wiring board with a stiffener. スティフナ付き配線基板の製造方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the manufacturing method of a wiring board with a stiffener. スティフナ付き配線基板の製造方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the manufacturing method of a wiring board with a stiffener. スティフナ付き配線基板の製造方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the manufacturing method of a wiring board with a stiffener. 各分割片の配置用治具を示す平面図。The top view which shows the jig | tool for arrangement | positioning of each division | segmentation piece. 各分割片の配置用治具を示す断面図。Sectional drawing which shows the jig | tool for arrangement | positioning of each division | segmentation piece. 別の実施の形態のスティフナ付き配線基板を示す断面図。Sectional drawing which shows the wiring board with a stiffener of another embodiment. 別の実施の形態のスティフナ付き配線基板を示す断面図。Sectional drawing which shows the wiring board with a stiffener of another embodiment. 別の実施の形態のスティフナ付き配線基板を示す要部断面図。The principal part sectional drawing which shows the wiring board with a stiffener of another embodiment. 別の実施の形態のスティフナ付き配線基板を示す平面図。The top view which shows the wiring board with a stiffener of another embodiment. 各分割片の配置用治具を示す平面図。The top view which shows the jig | tool for arrangement | positioning of each division | segmentation piece. 別の実施の形態のスティフナ付き配線基板を示す平面図。The top view which shows the wiring board with a stiffener of another embodiment. 別の実施の形態のスティフナ付き配線基板を示す平面図。The top view which shows the wiring board with a stiffener of another embodiment. 別の実施の形態のスティフナ付き配線基板を示す要部断面図。The principal part sectional drawing which shows the wiring board with a stiffener of another embodiment. 従来技術の半導体パッケージを示す斜視図。The perspective view which shows the semiconductor package of a prior art. 従来技術のスティフナを示す平面図。The top view which shows the stiffener of a prior art.

以下、本発明を補強材付き配線基板に具体化した一実施の形態を図面に基づき詳細に説明する。   Hereinafter, an embodiment in which the present invention is embodied in a wiring board with a reinforcing material will be described in detail with reference to the drawings.

図1及び図2に示されるように、本実施の形態の半導体パッケージ10は、スティフナ付き配線基板11(補強材付き配線基板)と、ICチップ21(チップ部品)とからなるBGA(ボールグリッドアレイ)である。なお、半導体パッケージ10の形態は、BGAのみに限定されず、例えばPGA(ピングリッドアレイ)やLGA(ランドグリッドアレイ)等であってもよい。ICチップ21は、縦15.0mm×横15.0mm×厚さ0.8mmの矩形平板状であって、熱膨張係数が4.2ppm/℃のシリコンからなる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the semiconductor package 10 of the present embodiment includes a BGA (ball grid array) composed of a wiring board 11 with stiffeners (wiring board with reinforcing material) and an IC chip 21 (chip parts). ). Note that the form of the semiconductor package 10 is not limited to BGA alone, and may be PGA (pin grid array), LGA (land grid array), or the like. The IC chip 21 is a rectangular flat plate having a length of 15.0 mm, a width of 15.0 mm, and a thickness of 0.8 mm, and is made of silicon having a thermal expansion coefficient of 4.2 ppm / ° C.

スティフナ付き配線基板11は、配線基板40と、補強材である配線基板用スティフナ(以下「スティフナ」という)31とを備えている。本実施の形態の配線基板40は、基板主面41及び基板裏面42を有し、縦50.0mm×横50.0mm×厚さ0.4mmの平面視略矩形状に形成されている。また、配線基板40は、コア基板を含まずに形成されたコアレス配線基板であって、エポキシ樹脂からなる4層の樹脂絶縁層43,44,45,46と銅からなる導体層51とを交互に積層した構造を有する。本実施の形態の配線基板40において、樹脂絶縁層43〜46の熱膨張係数は約30ppm/℃となっており、導体層51の熱膨張係数は約17ppm/℃となっている。なお、熱膨張係数は、0℃〜ガラス転移温度(Tg)間の測定値の平均値をいう。   The wiring board 11 with a stiffener includes a wiring board 40 and a wiring board stiffener (hereinafter referred to as “stiffener”) 31 that is a reinforcing material. The wiring substrate 40 of the present embodiment has a substrate main surface 41 and a substrate back surface 42 and is formed in a substantially rectangular shape in plan view of 50.0 mm long × 50.0 mm wide × 0.4 mm thick. The wiring board 40 is a coreless wiring board formed without including a core board, and is composed of four resin insulation layers 43, 44, 45, 46 made of epoxy resin and conductor layers 51 made of copper alternately. It has a laminated structure. In the wiring board 40 of the present embodiment, the thermal expansion coefficients of the resin insulating layers 43 to 46 are about 30 ppm / ° C., and the thermal expansion coefficient of the conductor layer 51 is about 17 ppm / ° C. In addition, a thermal expansion coefficient says the average value of the measured value between 0 degreeC-glass transition temperature (Tg).

図1に示されるように、配線基板40の基板主面41上(第4層の樹脂絶縁層46の表面上)には、端子パッド52(主面側接続端子)がアレイ状に配置されている。さらに、端子パッド52の表面上には、複数の主面側はんだバンプ54が配設されている。各主面側はんだバンプ54は、前記ICチップ21の面接続端子22に電気的に接続されている。即ち、ICチップ21は、配線基板40の基板主面41側に搭載されている。なお、各端子パッド52及び各主面側はんだバンプ54が形成されている領域は、ICチップ21を搭載可能なICチップ搭載領域23である。   As shown in FIG. 1, terminal pads 52 (main surface side connection terminals) are arranged in an array on the substrate main surface 41 of the wiring substrate 40 (on the surface of the fourth resin insulating layer 46). Yes. Furthermore, a plurality of main surface side solder bumps 54 are disposed on the surface of the terminal pad 52. Each main surface side solder bump 54 is electrically connected to the surface connection terminal 22 of the IC chip 21. That is, the IC chip 21 is mounted on the substrate main surface 41 side of the wiring substrate 40. In addition, the area | region in which each terminal pad 52 and each main surface side solder bump 54 is formed is the IC chip mounting area 23 in which the IC chip 21 can be mounted.

一方、配線基板40の基板裏面42上(第1層の樹脂絶縁層43の下面上)には、BGA用パッド53(裏面側接続端子)がアレイ状に配設されている。また、各BGA用パッド53の表面上には、マザーボード接続用の複数の裏面側はんだバンプ55が配設されており、各裏面側はんだバンプ55により、配線基板40は図示しないマザーボード(母基板)上に実装される。   On the other hand, BGA pads 53 (back surface side connection terminals) are arranged in an array on the substrate back surface 42 of the wiring substrate 40 (on the lower surface of the first resin insulating layer 43). A plurality of backside solder bumps 55 for connecting a mother board are provided on the surface of each BGA pad 53, and the wiring board 40 is not shown in the figure by the backside solder bumps 55. Implemented above.

各樹脂絶縁層43〜46には、それぞれビア穴56及びビア導体57が設けられている。各ビア穴56は、円錐台形状をなし、各樹脂絶縁層43〜46に対してYAGレーザまたは炭酸ガスレーザを用いた穴あけ加工を施すことで形成される。各ビア導体57は、基板裏面42側(図1では下方向)に行くに従って拡径した導体であって、各導体層51、前記端子パッド52及びBGA用パッド53を相互に電気的に接続している。   Each resin insulation layer 43 to 46 is provided with a via hole 56 and a via conductor 57. Each via hole 56 has a truncated cone shape, and is formed by drilling the resin insulation layers 43 to 46 using a YAG laser or a carbon dioxide gas laser. Each via conductor 57 is a conductor whose diameter increases toward the back side 42 of the substrate (downward in FIG. 1), and electrically connects each conductor layer 51, the terminal pad 52 and the BGA pad 53 to each other. ing.

図1及び図2に示されるように、前記スティフナ31は、例えば、縦50.0mm×横50.0mm×厚さ2.0mmの矩形枠状の補強材であって、4つの分割片36からなる。各分割片36は、枠内面37から枠外面38にわたって延びるスリット39を介して完全に分割されている。本実施の形態の各分割片36は、全て同一形状、同一サイズの部材であり、具体的には、長辺及び短辺を有する台形状の部材である。そして、スティフナ31において、短辺側を枠内面37側に長辺側を枠外面38側に向けた状態で各分割片36を配置させることにより、4つの各コーナ部に直線的な形状のスリット39が形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the stiffener 31 is a rectangular frame-shaped reinforcing material having a length of 50.0 mm, a width of 50.0 mm, and a thickness of 2.0 mm, for example. Become. Each divided piece 36 is completely divided through a slit 39 extending from the frame inner surface 37 to the frame outer surface 38. Each of the divided pieces 36 of the present embodiment is a member having the same shape and the same size, and specifically, a trapezoidal member having a long side and a short side. Then, in the stiffener 31, by arranging each divided piece 36 with the short side facing the frame inner surface 37 side and the long side facing the frame outer surface 38 side, slits having a linear shape at each of the four corner portions. 39 is formed.

なお、スティフナ31(分割片36)は、金属材料(例えば、銅)を用いて配線基板40よりも厚く形成されている。従って、スティフナ31(分割片36)は、配線基板40よりも高剛性となっている。さらに、スティフナ31の熱膨張係数は、約17ppm/℃であり、配線基板40を構成する樹脂絶縁層43〜46の熱膨張係数(約30ppm/℃)よりも小さい値となっている。   The stiffener 31 (divided piece 36) is formed thicker than the wiring board 40 using a metal material (for example, copper). Therefore, the stiffener 31 (divided piece 36) is more rigid than the wiring board 40. Furthermore, the thermal expansion coefficient of the stiffener 31 is about 17 ppm / ° C., which is smaller than the thermal expansion coefficient (about 30 ppm / ° C.) of the resin insulating layers 43 to 46 constituting the wiring board 40.

スティフナ31は、配線基板40に接合される接合面32と、接合面32の反対側に位置する非接合面33とを有している。接合面32は、基板主面41の外周部(即ち、基板主面41において前記ICチップ搭載領域23を除く領域)に面接触可能となっている。   The stiffener 31 has a bonding surface 32 bonded to the wiring substrate 40 and a non-bonding surface 33 located on the opposite side of the bonding surface 32. The bonding surface 32 can come into surface contact with the outer peripheral portion of the substrate main surface 41 (that is, the region excluding the IC chip mounting region 23 in the substrate main surface 41).

また、スティフナ31には、接合面32の中央部及び非接合面33の中央部にて開口する平面視で矩形状の開口部35が貫通形成されている。開口部35は、端子パッド52及び前記主面側はんだバンプ54を露出させるようになっている。具体的に言うと、開口部35は、縦20mm×横20mmのサイズを有する断面略正方形状の孔である。   The stiffener 31 is formed with a rectangular opening 35 penetrating in a plan view opening at the center of the joint surface 32 and the center of the non-joint surface 33. The opening 35 exposes the terminal pad 52 and the main surface side solder bump 54. More specifically, the opening 35 is a hole having a substantially square cross section having a size of 20 mm long × 20 mm wide.

そして図1に示されるように、スティフナ31を構成する各分割片36の接合面32は、基板主面41の外周部に対して接着剤30(例えば、エポキシ系接着剤)を介して面接合される。このようにスティフナ付き配線基板11を構成すれば、スティフナ31により配線基板11に高い剛性が付与される。   As shown in FIG. 1, the joining surface 32 of each divided piece 36 constituting the stiffener 31 is surface-bonded to the outer peripheral portion of the substrate main surface 41 via an adhesive 30 (for example, an epoxy-based adhesive). Is done. If the stiffener-equipped wiring board 11 is configured in this way, the stiffener 31 imparts high rigidity to the wiring board 11.

次に、スティフナ付き配線基板11の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the wiring board 11 with a stiffener is demonstrated.

準備工程において、配線基板40を作製し、あらかじめ準備しておく。   In the preparation step, the wiring board 40 is prepared and prepared in advance.

配線基板40は、以下の配線基板作製工程を経て作製される。配線基板作製工程では、まず、図3に示されるように、ガラスエポキシ基板などの十分な強度を有する基板であって、製造時の補強のために用いる支持基板70を準備する。次に、支持基板70上に、エポキシ樹脂からなるシート状の絶縁樹脂基材を貼り付けて下地樹脂絶縁層71(下地樹脂シート)を形成することにより、支持基板70及び下地樹脂絶縁層71からなる基材69を得る(下地樹脂シート形成工程)。そして、図4に示されるように、基材69の片面(具体的には下地樹脂絶縁層71の上面)に、積層金属シート体72を配置する(金属シート体配置工程)。ここで、下地樹脂絶縁層71上に積層金属シート体72を配置することにより、以降の製造工程で積層金属シート体72が下地樹脂絶縁層71から剥がれない程度の密着性が確保される。積層金属シート体72は、2枚の銅箔73,74(金属箔)を剥離可能な状態で密着させてなる。具体的には、金属めっき(例えば、クロムめっき)を介して各銅箔73,74を積層することで積層金属シート体72が形成されている。   The wiring board 40 is manufactured through the following wiring board manufacturing process. In the wiring board manufacturing process, first, as shown in FIG. 3, a support board 70 which is a board having sufficient strength such as a glass epoxy board and is used for reinforcement at the time of manufacture is prepared. Next, a base resin insulating layer 71 (base resin sheet) is formed on the support substrate 70 by attaching a sheet-like insulating resin base material made of an epoxy resin, so that the support substrate 70 and the base resin insulation layer 71 are separated. A base material 69 is obtained (underlying resin sheet forming step). Then, as shown in FIG. 4, the laminated metal sheet body 72 is arranged on one side of the base material 69 (specifically, the upper surface of the base resin insulating layer 71) (metal sheet body arranging step). Here, by disposing the laminated metal sheet body 72 on the base resin insulating layer 71, adhesiveness is secured to such an extent that the laminated metal sheet body 72 is not peeled off from the base resin insulating layer 71 in the subsequent manufacturing process. The laminated metal sheet body 72 is formed by closely attaching two copper foils 73 and 74 (metal foil) in a peelable state. Specifically, the laminated metal sheet body 72 is formed by laminating the copper foils 73 and 74 via metal plating (for example, chromium plating).

その後、図5に示されるように、積層金属シート体72を包むようにシート状の樹脂絶縁基材75(樹脂絶縁シート)を配置し、真空圧着熱プレス機(図示略)を用いて真空下にて加圧加熱することにより、樹脂絶縁基材75を硬化させて第4層の樹脂絶縁層46を形成する。ここで、樹脂絶縁層46は、積層金属シート体72と密着するとともに、その積層金属シート体72の周囲領域において下地樹脂絶縁層71と密着することで、積層金属シート体72を封止する(金属シート体封止工程)。   Thereafter, as shown in FIG. 5, a sheet-like resin insulating base material 75 (resin insulating sheet) is disposed so as to wrap the laminated metal sheet body 72, and is vacuumed using a vacuum press-bonding hot press (not shown). By applying pressure and heating, the resin insulating substrate 75 is cured to form the fourth resin insulating layer 46. Here, the resin insulating layer 46 is in close contact with the laminated metal sheet body 72, and is in close contact with the base resin insulating layer 71 in the peripheral region of the laminated metal sheet body 72, thereby sealing the laminated metal sheet body 72 ( Metal sheet body sealing step).

そして、図6に示されるように、レーザ加工を施すことによって樹脂絶縁層46の所定の位置にビア穴56を形成し、次いで各ビア穴56内のスミアを除去するデスミア処理を行う。その後、従来公知の手法に従って無電解銅めっき及び電解銅めっきを行うことで、各ビア穴56内にビア導体57を形成する。さらに、従来公知の手法(例えばセミアディティブ法)によってエッチングを行うことで、樹脂絶縁層46上に導体層51をパターン形成する(図7参照)。   Then, as shown in FIG. 6, laser processing is performed to form via holes 56 at predetermined positions of the resin insulating layer 46, and then desmear processing is performed to remove smears in the via holes 56. Then, via conductors 57 are formed in each via hole 56 by performing electroless copper plating and electrolytic copper plating according to a conventionally known method. Further, the conductor layer 51 is patterned on the resin insulating layer 46 by performing etching by a conventionally known method (for example, semi-additive method) (see FIG. 7).

また、第1層〜第3層の樹脂絶縁層43〜45及び導体層51についても、上述した第4層の樹脂絶縁層46及び導体層51と同様の手法によって形成し、樹脂絶縁層46上に積層していく(積層体形成工程)。以上の工程によって、基材69上に積層金属シート体72、樹脂絶縁層43〜46及び導体層51を積層した積層体80を形成する(図8参照)。なお図8に示されるように、積層体80において積層金属シート体72上に位置する領域が、配線基板40となるべき配線積層部81となる。   The first to third resin insulation layers 43 to 45 and the conductor layer 51 are also formed by the same method as the above-described fourth resin insulation layer 46 and conductor layer 51, and the resin insulation layer 46 is formed on the resin insulation layer 46. (Laminate forming step). The laminated body 80 which laminated | stacked the laminated metal sheet body 72, the resin insulating layers 43-46, and the conductor layer 51 on the base material 69 is formed by the above process (refer FIG. 8). As shown in FIG. 8, a region located on the laminated metal sheet body 72 in the laminated body 80 is a wiring laminated portion 81 to be the wiring board 40.

この積層体80をダイシング装置(図示略)により切断し、積層体80における配線積層部81の周囲領域を除去する(周囲部切除工程)。この際、図8に示すように、配線積層部81とその周囲部82との境界(図8では矢印で示す境界)において、配線積層部81の下方にある基材69(支持基板70及び下地樹脂絶縁層71)ごと切断する。この切断によって、樹脂絶縁層46にて封止されていた積層金属シート体72の外縁部が露出した状態となる。つまり、周囲部82の除去によって、下地樹脂絶縁層71と樹脂絶縁層46との密着部分が失われる。この結果、配線積層部81と基材69とは積層金属シート体72のみを介して連結した状態となる。   The laminated body 80 is cut by a dicing apparatus (not shown), and the peripheral region of the wiring laminated portion 81 in the laminated body 80 is removed (peripheral part cutting step). At this time, as shown in FIG. 8, at the boundary between the wiring laminated portion 81 and the peripheral portion 82 (the boundary indicated by the arrow in FIG. 8), the base material 69 (the support substrate 70 and the base layer) below the wiring laminated portion 81 is provided. The entire resin insulation layer 71) is cut. By this cutting, the outer edge portion of the laminated metal sheet body 72 sealed with the resin insulating layer 46 is exposed. That is, due to the removal of the peripheral portion 82, the close contact portion between the base resin insulating layer 71 and the resin insulating layer 46 is lost. As a result, the wiring laminated portion 81 and the base material 69 are connected via the laminated metal sheet body 72 only.

ここで、図9に示されるように、積層金属シート体72における2枚の銅箔73,74の界面にて剥離して、配線積層部81を基材69から分離する(剥離工程)。そして、図10に示されるように、配線積層部81(樹脂絶縁層46)の下面上にある銅箔73に対してエッチングによるパターニングを行うことにより、最表層の樹脂絶縁層46上に端子パッド52を形成する(接続端子形成工程)。   Here, as shown in FIG. 9, the wiring laminated portion 81 is separated from the base material 69 by peeling at the interface between the two copper foils 73 and 74 in the laminated metal sheet 72 (peeling step). Then, as shown in FIG. 10, by patterning by etching the copper foil 73 on the lower surface of the wiring laminated portion 81 (resin insulating layer 46), terminal pads are formed on the outermost resin insulating layer 46. 52 is formed (connection terminal forming step).

続くはんだバンプ形成工程では、最表層の樹脂絶縁層46上に形成された複数の端子パッド52上に、ICチップ接続用の主面側はんだバンプ54を形成する(図11参照)。具体的には、図示しないはんだボール搭載装置を用いて各端子パッド52上にはんだボールを配置した後、はんだボールを所定の温度に加熱してリフローすることにより、各端子パッド52上に主面側はんだバンプ54を形成する。同様に、樹脂絶縁層43上に形成された複数のBGA用パッド53上に、裏面側はんだバンプ55を形成する。   In the subsequent solder bump forming step, main surface side solder bumps 54 for IC chip connection are formed on the plurality of terminal pads 52 formed on the outermost resin insulation layer 46 (see FIG. 11). Specifically, a solder ball is placed on each terminal pad 52 using a solder ball mounting device (not shown), and then the solder ball is heated to a predetermined temperature and reflowed, whereby the main surface is placed on each terminal pad 52. Side solder bumps 54 are formed. Similarly, back-side solder bumps 55 are formed on the plurality of BGA pads 53 formed on the resin insulating layer 43.

次いで、複数の分割片36からなるスティフナ31を準備し、そのスティフナ31を用いて配線基板40を補強する。なお、スティフナ31の各分割片36は、従来周知の加工装置を用いて銅板等を加工することにより作製される。   Next, a stiffener 31 including a plurality of divided pieces 36 is prepared, and the wiring board 40 is reinforced using the stiffener 31. Each divided piece 36 of the stiffener 31 is manufactured by processing a copper plate or the like using a conventionally known processing apparatus.

本実施の形態では、矩形枠状のスティフナ31となるようにスリット39を介して複数の分割片36を配置する必要がある。ここで、各分割片36を1つずつ配置すると、手間がかかる上に個々の分割片36を正確な位置に接合することが困難となる。さらに、各分割片36のいずれか1つでも固定位置がずれてしまうと、所望のスリット幅を確保することができなくなる。そして、スリット幅が狭くなると、熱応力の緩和が不十分となる。また逆に、スリット幅が広くなると、スティフナ31の強度を十分に確保することができなくなる。このため、本実施の形態では、複数の分割片36からなるスティフナ31を正確に接合するための新たな製造方法を採用している。   In the present embodiment, it is necessary to dispose a plurality of divided pieces 36 through the slits 39 so that the stiffener 31 has a rectangular frame shape. Here, if each of the divided pieces 36 is arranged one by one, it takes time and it becomes difficult to join the individual divided pieces 36 to an accurate position. Furthermore, if any one of the divided pieces 36 is displaced in the fixed position, a desired slit width cannot be secured. And when the slit width becomes narrow, the relaxation of thermal stress becomes insufficient. On the other hand, if the slit width is widened, the strength of the stiffener 31 cannot be sufficiently secured. For this reason, in this Embodiment, the new manufacturing method for joining the stiffener 31 which consists of several division | segmentation piece 36 correctly is employ | adopted.

具体的には、図12及び図13に示されるような配置用治具90を用いて、スティフナ31を構成する個々の分割片36を正確な位置に接合している。本実施の形態の配置用治具90は、下治具91と上治具92とにより構成されている。下治具91には、配線基板40を収納して固定する凹部93が形成されている。上治具92には、平面視で矩形状の開口部94が形成されるとともに、その開口部94の周囲に、各分割片36を互いに位置決めしつつ全体として枠状に配置可能な4つの収容部95が形成されている。開口部94は、配線基板40におけるICチップ搭載領域23を露出させるための貫通孔である。また、収容部95は、長辺及び短辺を有する台形状の貫通孔であり、スティフナ31の形状に合わせて形成されている。   Specifically, by using an arrangement jig 90 as shown in FIGS. 12 and 13, the individual divided pieces 36 constituting the stiffener 31 are joined at accurate positions. The placement jig 90 according to the present embodiment includes a lower jig 91 and an upper jig 92. The lower jig 91 is formed with a recess 93 for storing and fixing the wiring board 40. The upper jig 92 is formed with a rectangular opening 94 in plan view, and around the opening 94, there are four housings that can be arranged in a frame shape while positioning the divided pieces 36 relative to each other. A portion 95 is formed. The opening 94 is a through hole for exposing the IC chip mounting region 23 in the wiring board 40. The accommodating portion 95 is a trapezoidal through hole having a long side and a short side, and is formed according to the shape of the stiffener 31.

そして、治具配置工程において、基板主面41側を上方に向けた配線基板40を下治具91の凹部93に収納し、その状態で下治具91の上側(配線基板40の基板主面41側)に上治具92を重ね合わせて配置する。   Then, in the jig placement step, the wiring board 40 with the board main surface 41 facing upward is housed in the recess 93 of the lower jig 91, and in this state, the upper side of the lower jig 91 (the board main surface of the wiring board 40). 41) and the upper jig 92 is arranged so as to overlap.

接合工程では、各分割片36の接合面32に接着剤30を塗布した後、各分割片36を各収容部95内にそれぞれ収納して接合面32を基板主面41に接触させる。この状態で、例えば150℃程度で加熱処理(キュア)を行って接着剤30を固化させれば、加熱処理後に接着剤30が室温まで冷却されるとともに、各分割片36が基板主面41に対して接着剤30を介して接合固定される。この結果、配線基板40の基板主面41において各分割片36が全体として枠状に接合される。そして、配置用治具90の下治具91と上治具92とが分離された後、配置用治具90から配線基板40が取り出される。   In the bonding step, after the adhesive 30 is applied to the bonding surface 32 of each divided piece 36, each divided piece 36 is accommodated in each accommodating portion 95, and the bonding surface 32 is brought into contact with the substrate main surface 41. In this state, if the adhesive 30 is solidified by performing a heat treatment (curing) at about 150 ° C., for example, the adhesive 30 is cooled to room temperature after the heat treatment, and each divided piece 36 is formed on the substrate main surface 41. On the other hand, it is bonded and fixed via an adhesive 30. As a result, the divided pieces 36 are joined in a frame shape as a whole on the board main surface 41 of the wiring board 40. Then, after the lower jig 91 and the upper jig 92 are separated from each other, the wiring board 40 is taken out from the arrangement jig 90.

その後、配線基板40のICチップ搭載領域23にICチップ21を載置する。このとき、ICチップ21側の面接続端子22と、配線基板40側の主面側はんだバンプ54とを位置合わせするようにする。そして、加熱して各主面側はんだバンプ54をリフローすることにより、面接続端子22と主面側はんだバンプ54とが接合され、配線基板40にICチップ21が搭載される(図1参照)。   Thereafter, the IC chip 21 is mounted on the IC chip mounting area 23 of the wiring board 40. At this time, the surface connection terminals 22 on the IC chip 21 side and the main surface side solder bumps 54 on the wiring board 40 side are aligned. Then, by heating and reflowing the main surface side solder bumps 54, the surface connection terminals 22 and the main surface side solder bumps 54 are joined, and the IC chip 21 is mounted on the wiring board 40 (see FIG. 1). .

従って、本実施の形態によれば以下の効果を得ることができる。   Therefore, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.

(1)本実施の形態では、配置用治具90を用いることにより、複数の分割片36を互いに位置決めしつつ全体として枠状に配置することができ、配線基板40の基板主面41における正確な位置に複数の分割片36を迅速に接合することができる。またこの場合、スティフナ31における各分割片36の間には、均一なスリット幅を有するスリット39を形成することができる。従って、各分割片36からなるスティフナ31によって、配線基板40の強度を確実に高めることができる。また、スティフナ31が各分割片36にて完全に分割されるため、スティフナ31と配線基板40との熱膨張係数差に起因してスティフナ31に加わる熱応力を確実に緩和することができ、補強材付き配線基板11の反りを防止することができる。   (1) In the present embodiment, by using the arrangement jig 90, the plurality of divided pieces 36 can be arranged in a frame shape as a whole while being positioned with respect to each other. A plurality of divided pieces 36 can be quickly joined at various positions. In this case, a slit 39 having a uniform slit width can be formed between the divided pieces 36 in the stiffener 31. Therefore, the strength of the wiring board 40 can be reliably increased by the stiffener 31 including the respective divided pieces 36. Further, since the stiffener 31 is completely divided by each divided piece 36, the thermal stress applied to the stiffener 31 due to the difference in thermal expansion coefficient between the stiffener 31 and the wiring board 40 can be surely relieved, and reinforcement is performed. Warpage of the wiring board 11 with material can be prevented.

(2)本実施の形態のスティフナ付き配線基板11では、配線基板40の基板主面41上において、ICチップ21の周囲を囲むように矩形枠状のスティフナ31が接合されるので、配線基板40の強度を確実に高めることができる。   (2) In the wiring board 11 with a stiffener of the present embodiment, the stiffener 31 having a rectangular frame shape is joined on the board main surface 41 of the wiring board 40 so as to surround the periphery of the IC chip 21. The strength of the can be reliably increased.

なお、本発明の実施の形態は以下のように変更してもよい。   In addition, you may change embodiment of this invention as follows.

・上記実施の形態のスティフナ付き配線基板11では、銅からなる4つの分割片36を用いてスティフナ31を形成していたが、銅以外の金属製の分割片を用いてもよいし、セラミック製の分割片や樹脂製の分割片を用いてもよい。さらに、樹脂材料からなる基材の表面に金属板やセラミック板を貼り付けてなる分割片を用いてもよい。また、スティフナ31を構成する分割片36のうちの少なくとも1つの分割片36を他の分割片36とは異なる材料で形成してもよい。さらに、分割片36のうちの少なくとも1つの分割片36を他の分割片36とは異なる接着剤を用いて接合するようにしてもよい。   In the wiring board 11 with the stiffener of the above embodiment, the stiffener 31 is formed using the four divided pieces 36 made of copper. However, a divided piece made of metal other than copper may be used, or a ceramic made piece. Alternatively, a divided piece made of resin or a divided piece made of resin may be used. Furthermore, you may use the division piece formed by affixing a metal plate or a ceramic board on the surface of the base material which consists of resin materials. Further, at least one of the divided pieces 36 constituting the stiffener 31 may be formed of a material different from that of the other divided pieces 36. Further, at least one of the divided pieces 36 may be joined using an adhesive different from that of the other divided pieces 36.

具体的には、例えば、図14に示すように、スティフナ付き配線基板11Aでは、右側に配置する分割片36Aを金属材料である銅で形成し、左側に配置する分割片36Bを樹脂材料であるエポキシ樹脂で形成している。このスティフナ付き配線基板11Aでは、金属製の分割片36Aと樹脂製の分割片36Bとで異なる接着剤30A,30Bを用いて接合している。また、スティフナ付き配線基板11Aでは、配線基板40における中央よりも左側にずれた位置にICチップ21が搭載されており、右側の強度が不足するため、右側は金属製の分割片36Aで補強している。一方、配線基板40の左側は、ICチップ21と配線基板40との熱膨張係数の差が大きくなるため、配線基板40と熱膨張係数の差が少ない樹脂製の分割片36Bで補強している。また、分割片36A,36Bの形成材料に適した接着剤30A,30Bを用いることにより、各分割片36A,36Bを確実に接合することができる。このように、異なる材料の分割片36A,36Bでスティフナ31Aを構成することにより、スティフナ付き配線基板11Aの反りを確実に防止することができる。   Specifically, for example, as shown in FIG. 14, in the stiffener-equipped wiring board 11A, the divided piece 36A disposed on the right side is formed of copper, which is a metal material, and the divided piece 36B disposed on the left side is formed of a resin material. It is made of epoxy resin. In the stiffener-equipped wiring board 11A, the metal divided pieces 36A and the resin divided pieces 36B are joined using different adhesives 30A and 30B. Further, in the wiring board 11A with a stiffener, the IC chip 21 is mounted at a position shifted to the left side from the center in the wiring board 40, and the right side is insufficient in strength. Therefore, the right side is reinforced with a metal divided piece 36A. ing. On the other hand, since the difference in thermal expansion coefficient between the IC chip 21 and the wiring board 40 increases on the left side of the wiring board 40, the wiring board 40 is reinforced with resin-made segment pieces 36B that have a small difference in thermal expansion coefficient. . Further, by using the adhesives 30A and 30B suitable for the material for forming the divided pieces 36A and 36B, the divided pieces 36A and 36B can be reliably bonded. Thus, by configuring the stiffener 31A with the divided pieces 36A and 36B of different materials, it is possible to reliably prevent the wiring board 11A with a stiffener from warping.

・上記実施の形態の補強材付き配線基板11では、同一形状の複数の分割片36を用いてスティフナ31を形成していたが、これに限定されるものではない。図15に示される補強材付き配線基板11Bのように、厚さが異なる分割片36C,36Dを用いてスティフナ31Bを構成してもよい。このスティフナ付き配線基板11Bでは、配線基板40における中央よりも左側にずれた位置にICチップ21が搭載されており、右側の強度が不足する。このため、配線基板40の右側を厚い分割片36Cで補強し、左側を薄い分割片36Dで補強している。このように補強材付き配線基板11Bを構成すれば、厚さの異なる分割片36C,36Dで配線基板40を的確に補強することができ、強材付き配線基板11Bの反りを確実に防止することができる。また例えば、補強材付き配線基板において強度が不足する部位に配置される分割片の幅を広くしてもよい。つまり、配線基板40の反りに合わせた異なる形状の分割片を用いてスティフナを形成する。この場合も、配線基板40を確実に補強することができ、配線基板40の反りを防止することができる。   In the wiring board 11 with a reinforcing material of the above embodiment, the stiffener 31 is formed using a plurality of divided pieces 36 having the same shape, but the present invention is not limited to this. The stiffener 31B may be configured by using divided pieces 36C and 36D having different thicknesses as in the wiring board with reinforcing material 11B shown in FIG. In this stiffener-equipped wiring board 11B, the IC chip 21 is mounted at a position shifted to the left side from the center of the wiring board 40, and the right side strength is insufficient. For this reason, the right side of the wiring board 40 is reinforced with a thick divided piece 36C, and the left side is reinforced with a thin divided piece 36D. If the wiring board 11B with the reinforcing material is configured in this way, the wiring board 40 can be reinforced with the divided pieces 36C and 36D having different thicknesses, and the warping of the wiring board 11B with the strong material can be surely prevented. Can do. Further, for example, the width of the divided pieces arranged in the portion where the strength is insufficient in the wiring board with the reinforcing material may be increased. That is, the stiffener is formed using divided pieces having different shapes according to the warp of the wiring board 40. Also in this case, the wiring board 40 can be reliably reinforced and the warping of the wiring board 40 can be prevented.

・上記実施の形態において、スティフナ31を構成する分割片36は、エポキシ系接着剤30を用いて配線基板40の樹脂絶縁層46に接合していたが、これに限定されるものではない。図16に示される配線基板40Aのように、導体層51に対して導電性接着剤30Cを用いて接合してもよい。ここで、分割片36は導電金属材料である銅からなるため、分割片36を介して配線基板40の導体層51に電気的に接続することが可能となる。この場合、分割片36を外部端子として使用することができるため、実用上好ましいものとなる。なお、外部端子として利用しない他の分割片36については、エポキシ系接着剤30を用いて樹脂絶縁層46に接合する。   In the above embodiment, the divided pieces 36 constituting the stiffener 31 are bonded to the resin insulating layer 46 of the wiring board 40 using the epoxy adhesive 30, but the present invention is not limited to this. Like the wiring board 40A shown in FIG. 16, the conductive layer 51 may be bonded to the conductor layer 51 using a conductive adhesive 30C. Here, since the divided piece 36 is made of copper, which is a conductive metal material, it can be electrically connected to the conductor layer 51 of the wiring board 40 via the divided piece 36. In this case, the divided piece 36 can be used as an external terminal, which is practically preferable. The other divided pieces 36 that are not used as external terminals are bonded to the resin insulating layer 46 using the epoxy adhesive 30.

・上記実施の形態において、スティフナ31を構成する分割片36は、台形状の部材であるが、その形状を適宜変更することができる。その分割片36の別の具体例を図17に示している。図17に示されるように、補強材付き配線基板11Cのスティフナ31Cは、L字形状をなす4つの分割片36Eによって矩形枠状に形成されている。このスティフナ31Cにおいても、枠内面37から枠外面38にわたって延びるスリット39Aが形成されている。各スリット39Aは、スティフナ31Cの各辺の中央部において各辺と直交する方向に形成されている。そして、補強材付き配線基板11Cを製造する場合には、図18に示すような配置用治具90Aを用いる。この配置用治具90Aも、下治具91と上治具92Aとを備える。上治具92Aには、各分割片36Eを互いに位置決めしつつ全体として枠状に配置可能な4つの収容部95Aが形成されている。なお、下治具91は、図13に示す上記実施の形態と同一形状である。この配置用治具90Aを用いることにより、配線基板40の基板主面41において、複数の分割片36Eを正確な位置に迅速に接合することができる。   -In above-mentioned embodiment, although the division | segmentation piece 36 which comprises the stiffener 31 is a trapezoidal member, the shape can be changed suitably. Another specific example of the divided piece 36 is shown in FIG. As shown in FIG. 17, the stiffener 31C of the reinforcing-material-attached wiring board 11C is formed in a rectangular frame shape by four divided pieces 36E having an L-shape. Also in this stiffener 31C, a slit 39A extending from the frame inner surface 37 to the frame outer surface 38 is formed. Each slit 39A is formed in a direction perpendicular to each side at the center of each side of the stiffener 31C. And when manufacturing the wiring board 11C with a reinforcing material, the arrangement | positioning jig | tool 90A as shown in FIG. 18 is used. This arrangement jig 90A also includes a lower jig 91 and an upper jig 92A. The upper jig 92A is formed with four accommodating portions 95A that can be arranged in a frame shape as a whole while positioning the divided pieces 36E relative to each other. The lower jig 91 has the same shape as that of the above embodiment shown in FIG. By using the placement jig 90A, the plurality of divided pieces 36E can be quickly joined to the correct positions on the board main surface 41 of the wiring board 40.

・上記実施の形態の補強材付き配線基板11,11A〜11Cでは、外形が配線基板40と同じ寸法のスティフナ31,31A〜31Cを用いていたが、これに限定されるものではない。図19に示される補強材付き配線基板11Dのように、配線基板40よりも外形寸法が大きく設定されたスティフナ31Dを用いてもよい。このスティフナ31Dは、スリット39Bを介して分割された4つの分割片36Fからなり、外縁部が配線基板40の外縁部よりも基板平面方向へ全体的に張り出した状態で配線基板40に接合されている。このように補強材付き配線基板11Dを構成すると、相対的に配線基板40の外縁部がスティフナ31Dの外縁部よりも引っ込んだ状態となり、配線基板40の外縁部に他部材等が接触しにくくなる。その結果、配線基板40の外縁部をスティフナ31Dで確実に保護することができ、配線基板40の外縁部の破損を防止することができる。   The stiffeners 31, 31 </ b> A to 31 </ b> C having the same outer dimensions as the wiring board 40 are used in the wiring boards 11, 11 </ b> A to 11 </ b> C with the reinforcing material of the above embodiment, but are not limited thereto. A stiffener 31D having an outer dimension larger than that of the wiring board 40 may be used like the wiring board with reinforcing material 11D shown in FIG. The stiffener 31D is composed of four divided pieces 36F divided through the slits 39B. The stiffener 31D is joined to the wiring board 40 in a state where the outer edge portion is entirely projected in the substrate plane direction from the outer edge portion of the wiring board 40. Yes. When the wiring board 11D with the reinforcing material is configured in this manner, the outer edge portion of the wiring board 40 is relatively retracted from the outer edge portion of the stiffener 31D, and other members or the like are less likely to contact the outer edge portion of the wiring board 40. . As a result, the outer edge portion of the wiring board 40 can be reliably protected by the stiffener 31D, and the outer edge portion of the wiring board 40 can be prevented from being damaged.

・上記各実施の形態において、スティフナ31,31A〜31Dに形成されるスリット39,39A,39Bは、直線的な形状であるが、非直線的な形状のスリットに変更してもよい。その具体例を図20に示している。図20に示される補強材付き配線基板11Eのスティフナ31Eは、4つの分割片36Gからなり、クランク形状のスリット39Cを介して各分割片36Gが分割されている。このようなスリット39Cをスティフナ31Eに形成することにより、スティフナ31Eと配線基板40との熱膨張係数差に起因してスティフナ31Eに加わる熱応力を確実に緩和することができる。またこの場合、熱応力を緩和するために個々の分割片36Gの位置がずれたとしても、スティフナ31Eの面方向にて各分割片36Gの一部が重なり合うこととなる。そして、各分割片36Gの重なり合う部分によって、配線基板40の反りを確実に防止することができる。   In each of the above embodiments, the slits 39, 39A, 39B formed in the stiffeners 31, 31A to 31D have a linear shape, but may be changed to a non-linear shape. A specific example is shown in FIG. A stiffener 31E of the wiring board with reinforcing material 11E shown in FIG. 20 is composed of four divided pieces 36G, and each divided piece 36G is divided through a crank-shaped slit 39C. By forming such a slit 39C in the stiffener 31E, the thermal stress applied to the stiffener 31E due to the difference in thermal expansion coefficient between the stiffener 31E and the wiring board 40 can be reliably relieved. In this case, even if the positions of the individual divided pieces 36G are shifted in order to relieve the thermal stress, a part of each divided piece 36G overlaps in the surface direction of the stiffener 31E. And the curvature of the wiring board 40 can be reliably prevented by the overlapping portions of the divided pieces 36G.

・図21に示される配線基板40Bのように、スリット39が形成された箇所に対応する位置に、樹脂絶縁層44〜46の複数層にわたりプレーン状導体層51Aを設けてもよい。なお、プレーン状導体層51Aは、ビア導体57に接続されておらず電気的な機能を有さないダミーの導体層である。図21のスティフナ付き配線基板11Fでは、スティフナ31においてスリット39が形成される部分は剛性が低くなるが、配線基板40Bの複数層にプレーン状導体層51Aを設けることによって剛性が低くなる部分を補強することができる。このため、補強材付き配線基板11Fの剛性を十分に確保することができる。   As in the wiring board 40B shown in FIG. 21, a plane conductor layer 51A may be provided across a plurality of layers of the resin insulating layers 44 to 46 at positions corresponding to the locations where the slits 39 are formed. The plane conductor layer 51A is a dummy conductor layer that is not connected to the via conductor 57 and has no electrical function. In the stiffener-provided wiring substrate 11F of FIG. 21, the portion of the stiffener 31 where the slit 39 is formed has low rigidity, but the portion of the wiring substrate 40B provided with a plane-like conductor layer 51A reinforces the portion of low rigidity. can do. For this reason, the rigidity of the wiring board 11F with the reinforcing material can be sufficiently ensured.

・上記各実施の形態のスティフナ31,31A〜31Fは、4つの分割片36,36A〜36Gにて構成されるものであったが、分割片の個数は適宜変更することができる。   -Although the stiffeners 31 and 31A-31F of each said embodiment were comprised by the four division | segmentation pieces 36 and 36A-36G, the number of division | segmentation pieces can be changed suitably.

次に、前述した実施の形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。   Next, the technical ideas grasped by the embodiment described above are listed below.

(1)基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層及び複数の導体層を積層してなる構造を有し、チップ部品を接続可能な複数の主面側接続端子が前記基板主面上に配設された板状の配線基板と、前記基板主面側に接合され、複数の分割片からなり、前記複数の主面側接続端子を露出させる平面視で全体として枠状の補強材とを備えた補強材付き配線基板の製造方法であって、前記複数の分割片を互いに位置決めしつつ全体として枠状に配置可能な複数の収容部を備えた治具を前記基板主面側に配置する治具配置工程と、前記複数の収容部内に前記複数の分割片をそれぞれ収容し、前記基板主面に対して前記複数の分割片を接合する接合工程とを含み、前記治具は、前記配線基板を収納固定する凹部を有する下治具と、前記下治具の上面に重ね合わるよう配置され、前記複数の収容部を有する上治具とを備えることを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法。   (1) It has a substrate main surface and a substrate back surface, has a structure in which a plurality of resin insulation layers and a plurality of conductor layers are laminated, and a plurality of main surface side connection terminals to which chip components can be connected are the main substrate A plate-like wiring board disposed on the surface, and a frame-like reinforcement as a whole in a plan view, which is joined to the substrate main surface side and is composed of a plurality of divided pieces and exposes the plurality of main surface side connection terminals. And a jig having a plurality of accommodating portions that can be arranged in a frame shape as a whole while positioning the plurality of divided pieces relative to each other. A jig arranging step of arranging the plurality of divided pieces in the plurality of accommodating portions, and a joining step of joining the plurality of divided pieces to the substrate main surface, A lower jig having a recess for storing and fixing the wiring board, and an upper surface of the lower jig Is Kasaneawaru so arranged, the manufacturing method of the reinforcing member with the wiring board, characterized in that it comprises an upper jig having a plurality of accommodating portions.

(2)技術的思想(1)において、前記複数の分割片のうちの少なくとも1つの分割片は、他の分割片とは異なる接着剤を用いて接合されることを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法。   (2) In the technical idea (1), at least one divided piece of the plurality of divided pieces is bonded using an adhesive different from the other divided pieces, and the reinforcing material-attached wiring A method for manufacturing a substrate.

(3)技術的思想(1)または(2)において、前記複数の分割片のうちの少なくとも1つの分割片は、導電金属材料を含んで形成されるとともに、前記配線基板の前記導体層に対して導電性接着剤を用いて接合されることを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法。   (3) In the technical idea (1) or (2), at least one divided piece of the plurality of divided pieces is formed to include a conductive metal material and to the conductor layer of the wiring board. A method for manufacturing a wiring board with a reinforcing material, wherein the wiring board is bonded using a conductive adhesive.

(4)技術的思想(1)において、前記配線基板の反りに応じて、異なる形状の分割片を前記配線基板に接合するようにしたことを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法。   (4) In the technical idea (1), a method of manufacturing a wiring board with a reinforcing material, characterized in that divided pieces having different shapes are joined to the wiring board according to warping of the wiring board.

(5)技術的思想(1)乃至(4)のいずれかにおいて、前記補強材の外形寸法は前記配線基板の外形寸法よりも大きく設定され、前記補強材の外縁部が前記配線基板の外縁部よりも基板平面方向へ全体的に張り出した状態で、前記補強材が前記配線基板に接合されることを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法。   (5) In any one of the technical ideas (1) to (4), an outer dimension of the reinforcing material is set larger than an outer dimension of the wiring board, and an outer edge portion of the reinforcing material is an outer edge portion of the wiring board. A method of manufacturing a wiring board with a reinforcing material, wherein the reinforcing material is joined to the wiring board in a state of projecting in an overall direction in the plane of the board.

(6)技術的思想(1)乃至(5)のいずれかにおいて、前記補強材において、各分割片の間に形成されるスリットは直線形状であることを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法。   (6) In any one of the technical ideas (1) to (5), in the reinforcing material, the slit formed between the divided pieces has a linear shape. Method.

(7)技術的思想(1)乃至(5)のいずれかにおいて、前記補強材において、各分割片の間に形成されるスリットはクランク形状であることを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法。   (7) In any one of the technical ideas (1) to (5), in the reinforcing material, the slit formed between the divided pieces has a crank shape. Method.

(8)技術的思想(6)または(7)において、前記配線基板において前記スリットが形成された箇所に対応する位置には、複数層にわたりプレーン状導体層が配置されていることを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法。   (8) In the technical idea (6) or (7), a plane-like conductor layer is disposed over a plurality of layers at a position corresponding to the position where the slit is formed in the wiring board. Manufacturing method of wiring board with reinforcing material.

11,11A〜11F…補強材付き配線基板としてのスティフナ付き配線基板
21…チップ部品としてのICチップ
31,31A〜31E…補強材としてのスティフナ
36,36A〜36G…分割片
40,40A,40B…配線基板
41…基板主面
42…基板裏面
43〜46…樹脂絶縁層
51…導体層
52…主面側接続端子としての端子パッド
70…支持基板
71…下地樹脂シートとしての下地樹脂絶縁層
72…積層金属シート体
73,74…金属箔としての銅箔
75…樹脂絶縁シートとしての樹脂絶縁基材
80…積層体
81…配線積層部
82…周囲部
92,92A…治具としての上治具
95,95A…収容部
11, 11A to 11F: Wiring board with stiffener as wiring board with reinforcing material 21 ... IC chip 31, 31A to 31E as chip component ... Stiffeners 36, 36A to 36G as reinforcing material 40, 40A, 40B ... Wiring board 41 ... substrate main surface 42 ... substrate back surface 43-46 ... resin insulating layer 51 ... conductor layer 52 ... terminal pad as main surface side connection terminal 70 ... support substrate 71 ... base resin insulating layer 72 as base resin sheet 72 ... Laminated metal sheet bodies 73, 74 ... copper foil as metal foil 75 ... resin insulating base material as resin insulating sheet 80 ... laminated body 81 ... wiring laminated portion 82 ... peripheral portion 92,92A ... upper jig 95 as jig , 95A ... Accommodating section

Claims (4)

基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層及び複数の導体層を積層してなる構造を有し、チップ部品を接続可能な複数の主面側接続端子が前記基板主面上に配設された板状の配線基板と、
前記基板主面側に接合され、前記複数の主面側接続端子を露出させるとともに、平面視で全体として枠状をなす複数の分割片からなる補強材と
を備えた補強材付き配線基板の製造方法であって、
前記複数の分割片を互いに位置決めしつつ全体として枠状に配置可能な複数の収容部を備えた治具を前記基板主面側に配置する治具配置工程と、
前記複数の収容部内に前記複数の分割片をそれぞれ収容し、前記基板主面に対して前記複数の分割片を接合する接合工程と
を含むことを特徴とする補強材付き配線基板の製造方法。
A substrate main surface and a substrate back surface, having a structure in which a plurality of resin insulation layers and a plurality of conductor layers are stacked, and a plurality of main surface side connection terminals to which chip components can be connected are on the substrate main surface An arranged plate-like wiring board;
Manufacturing of a wiring board with a reinforcing material, which is bonded to the main surface side of the substrate, exposes the plurality of main surface side connection terminals, and includes a reinforcing material composed of a plurality of divided pieces that form a frame shape as a whole in plan view. A method,
A jig arranging step of arranging a jig provided with a plurality of accommodating portions that can be arranged in a frame shape as a whole while positioning the plurality of divided pieces on the substrate main surface side;
A method of manufacturing a wiring board with a reinforcing material, comprising: a joining step of housing the plurality of divided pieces in the plurality of housing portions and joining the plurality of divided pieces to the substrate main surface.
前記複数の分割片のうちの少なくとも1つの分割片は、他の分割片とは異なる材料で形成されることを特徴とする請求項1に記載の補強材付き配線基板の製造方法。   2. The method of manufacturing a wiring board with a reinforcing material according to claim 1, wherein at least one of the plurality of divided pieces is formed of a material different from that of the other divided pieces. 前記複数の分割片のうちの少なくとも1つの分割片は、他の分割片とは異なる厚さを有することを特徴とする請求項1に記載の補強材付き配線基板の製造方法。   2. The method of manufacturing a wiring board with a reinforcing material according to claim 1, wherein at least one of the plurality of divided pieces has a thickness different from that of the other divided pieces. 前記板状の配線基板は、
製造時の補強のために用いる支持基板上に下地樹脂シートを形成する下地樹脂シート形成工程と、
2枚の金属箔を剥離可能な状態で密着してなる積層金属シート体を、前記下地樹脂絶シート上に配置する金属シート体配置工程と、
前記樹脂絶縁層となるべき樹脂絶縁シートを、前記積層金属シート体を包むように配置して、前記樹脂絶縁シートと前記下地樹脂シートとの間に前記積層金属シート体を封止する金属シート体封止工程と、
前記積層金属シート体を封止した前記樹脂絶縁シート上に前記導体層となるべき配線パターンと前記樹脂絶縁層となるべき樹脂絶縁シートとを交互に積層して、前記配線基板となるべき配線積層部を前記積層金属シート体上に含む積層体を形成する積層体形成工程と、
前記配線積層部とその周囲部との境界に沿って前記積層体を前記支持基板ごと切断して前記周囲部を除去する周囲部切除工程と、
前記配線積層部と前記支持基板とを前記積層金属シート体の界面にて剥離する剥離工程と、
前記配線積層部の表面上にある金属箔をパターニングして、前記基板主面上の複数の主面側接続端子を形成する接続端子形成工程と
の各工程を経て製造されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の補強材付き配線基板の製造方法。
The plate-like wiring board is
A base resin sheet forming step of forming a base resin sheet on a support substrate used for reinforcement during production;
A metal sheet body arranging step of arranging a laminated metal sheet body in close contact with the two metal foils in a peelable state on the base resin sheet;
A metal sheet body seal is provided, wherein a resin insulating sheet to be the resin insulating layer is disposed so as to wrap the laminated metal sheet body, and the laminated metal sheet body is sealed between the resin insulating sheet and the base resin sheet. Stop process,
On the resin insulation sheet encapsulating the laminated metal sheet body, a wiring pattern to be the conductor layer and a resin insulation sheet to be the resin insulation layer are alternately laminated to form a wiring laminate to be the wiring board. A laminated body forming step of forming a laminated body including a portion on the laminated metal sheet body;
A peripheral part excision step of removing the peripheral part by cutting the laminated body together with the support substrate along a boundary between the wiring laminated part and the peripheral part;
A peeling step of peeling the wiring laminated portion and the support substrate at the interface of the laminated metal sheet body;
The metal foil on the surface of the wiring laminated portion is patterned and manufactured through each step of a connection terminal forming step of forming a plurality of main surface side connection terminals on the substrate main surface. The manufacturing method of the wiring board with a reinforcing material of any one of Claims 1 thru | or 3.
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