JP2011119442A - Substrate transfer apparatus, aligner using the same, and method of manufacturing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体製造で基板搬送に使用する基板搬送装置、その基板搬送装置を使って基板の露光を行う露光装置、及びデバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a substrate transfer apparatus used for substrate transfer in semiconductor manufacturing, an exposure apparatus that performs exposure of a substrate using the substrate transfer apparatus, and a device manufacturing method.
ICやLSI等の半導体デバイス、液晶デバイス、CCD等の撮像デバイス、磁気ヘッド等のデバイスを製造する装置として露光装置がある。露光装置は、基板をステージに供給するために搬入し、又は前記基板をステージから回収するために搬出するハンドを有している。前記基板は、基板の保持手段となる基板チャックを介してステージ上に固定載置される。前記基板の供給又は回収のために、ステージとハンドは、相互に接近、退避の方向に駆動し、基板チャックは、基板の解放と固定のために、基板とステージの間で駆動する。 There is an exposure apparatus as an apparatus for manufacturing a semiconductor device such as an IC or LSI, a liquid crystal device, an imaging device such as a CCD, or a device such as a magnetic head. The exposure apparatus has a hand that carries in the substrate to supply it to the stage or carries it out to collect the substrate from the stage. The substrate is fixedly placed on the stage via a substrate chuck serving as a substrate holding means. In order to supply or collect the substrate, the stage and the hand are driven toward and away from each other, and the substrate chuck is driven between the substrate and the stage to release and fix the substrate.
前記ステージとハンドの駆動及び基板チャックの駆動によって搬送する基板の破損等を防ぐには、相互干渉しないように駆動を制御する必要がある。 In order to prevent damage to the substrate to be conveyed by driving the stage and hand and driving the substrate chuck, it is necessary to control the driving so as not to interfere with each other.
一方、製造のスループットを向上させるためには、前記基板搬送の所要時間をなるべく短縮することが望まれる。特に、近年、基板の大型化に伴い、ステージとハンドを相互干渉しない位置まで移動させる距離が長くなり、基板の搬送時間の短縮は、前記スループットの向上に大きな効果をもたらす。 On the other hand, in order to improve the manufacturing throughput, it is desired to shorten the time required for carrying the substrate as much as possible. In particular, with the recent increase in size of the substrate, the distance for moving the stage and the hand to a position where they do not interfere with each other becomes longer, and shortening the substrate transport time has a great effect on the improvement of the throughput.
従来、前記基板の搬送時間の短縮を図るために、基板交換後、ステージの移動中に、ハンドをステージの移動方向と反対方向に移動させる技術が開示されていた(例えば特許文献1参照)。なお、ステージとハンドの移動方向は、前記反対方向のほか、干渉しない方向であれば、直交する方向、所定の角度をもった方向であってもよい。また、前記従来技術では、ステージとハンドとの干渉については、それぞれにセンサを設け、そのセンサからの出力に基づいて干渉の有無を判断することも提案されていた。 Conventionally, in order to shorten the time for transporting the substrate, a technique has been disclosed in which the hand is moved in the direction opposite to the moving direction of the stage during the movement of the stage after substrate replacement (see, for example, Patent Document 1). Note that the moving direction of the stage and the hand may be an orthogonal direction or a direction having a predetermined angle as long as the direction does not interfere in addition to the opposite direction. In the prior art, regarding interference between the stage and the hand, it has also been proposed to provide a sensor for each, and determine the presence or absence of interference based on the output from the sensor.
しかし、前記従来技術では、ステージ及びハンドが相互に干渉しない位置で停止したことを確認した後、ステージ又はハンドの駆動を行うため、前記確認から次の駆動処理までの待ち時間が生じるという問題があった。 However, in the prior art, since the stage or the hand is driven after confirming that the stage and the hand have stopped at a position where they do not interfere with each other, there is a problem that a waiting time from the confirmation to the next driving process occurs. there were.
また、ステージとハンドとの干渉については、それぞれにセンサを設け、そのセンサからの出力に基づいて干渉の有無を判断することも提案されていたが、コストが増大するという問題も生じていた。 Further, regarding the interference between the stage and the hand, it has been proposed to provide a sensor for each, and determine the presence or absence of interference based on the output from the sensor, but there has also been a problem that the cost increases.
そこで、本発明は、ステージとハンドが非干渉になる位置の確認を停止せずに行ってスループットを向上させる基板搬送装置を提供することを目的とする。また、センサを用いずに、非干渉になる位置の確認を行うことによって、ステージとハンドの駆動制御を低コストに行うことができる基板搬送装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate transfer apparatus that improves the throughput by confirming the position where the stage and the hand do not interfere with each other without stopping. It is another object of the present invention to provide a substrate transport apparatus that can perform drive control of a stage and a hand at a low cost by confirming a position where no interference occurs without using a sensor.
上記の課題を解決するため、本発明は、基板の保持手段を介して前記基板が載置されるステージと、前記基板をステージに供給するために搬入し、又は前記保持手段から解放された基板をステージから回収するために搬出するハンドと、前記ハンドが基板の供給又は回収をするときに、基板を支持する支持手段とを有し、前記基板の搬入及び搬出に際し、前記ステージとハンドとが非干渉になるように、少なくとも前記保持手段又は支持手段のいずれか一方とステージとハンドの駆動を制御する機構を備えた基板搬送装置であって、前記ステージとハンドが、いずれも駆動範囲内において前記非干渉となる位置の条件を定める駆動プロファイルを決定する決定手段と、駆動中のステージとハンドの位置情報を取得する取得手段と、前記取得された位置情報に基づいてステージとハンドの駆動を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記ステージとハンドとが、前記駆動プロファイルにより定められた非干渉の位置にあるときに、少なくとも、前記基板の保持手段又は支持手段のいずれか一方を駆動させることを特徴とすることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a stage on which the substrate is placed via a substrate holding unit, and a substrate that is carried in to supply the substrate to the stage or is released from the holding unit. And a support means for supporting the substrate when the hand supplies or recovers the substrate, and the stage and the hand are not loaded when the substrate is loaded and unloaded. A substrate transport apparatus having a mechanism for controlling driving of at least one of the holding means or the supporting means and the stage and the hand so that the stage and the hand are both within the driving range so as to be non-interfering. A determination unit that determines a driving profile that defines a condition of a position that causes non-interference, an acquisition unit that acquires position information of a stage being driven and a hand, and the acquired Control means for controlling the driving of the stage and the hand based on the positional information, and the control means is at least when the stage and the hand are in a non-interfering position defined by the driving profile, One of the holding means and the supporting means for driving the substrate is driven.
本発明によれば、ステージとハンドとが、駆動範囲内で同時に駆動している状態で、保持手段である基板チャックの駆動を開始することができ、スループットの更なる向上を図ることが可能になるという効果を奏する。 According to the present invention, it is possible to start driving the substrate chuck, which is the holding means, while the stage and the hand are simultaneously driven within the driving range, and it is possible to further improve the throughput. The effect of becoming.
また、駆動プロファイルの決定により、ステージとハンドの駆動制御にセンサを用いずに行うことができるため、従来に比べ、低コスト化を図ることができるという効果を奏する。 Further, since the drive profile can be determined without using a sensor for the drive control of the stage and the hand, the cost can be reduced as compared with the conventional case.
以下、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面等を参照して説明する。なお、以下の説明では、具体的な構成、動作等を示して説明を行うが、これらは、適宜変更することができる。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the following description, a specific configuration, operation, and the like are shown and described, but these can be changed as appropriate.
また、以下の実施形態では、レチクルステージに搭載されたレチクルのパターンを基板ステージに搭載された基板に投影する露光装置の基板ステージに適用したものを例に説明するが、これに限定する趣旨ではない。従って、レチクルステージに適用したものでもよく、また、基板ステージ、レチクルステージ双方に適用したものであってもよい。 Further, in the following embodiment, an example will be described in which the pattern of the reticle mounted on the reticle stage is applied to the substrate stage of the exposure apparatus that projects onto the substrate mounted on the substrate stage. Absent. Accordingly, it may be applied to a reticle stage, or may be applied to both a substrate stage and a reticle stage.
図1は、本発明の実施形態に係るステージ及び基板搬送系を備えたステップアンドスキャン方式の露光装置1の構成を示す概略図である。軸は図面上方向をY軸、左右方向をX軸とし、X,Y軸に直交な方向をZ軸とする。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a step-and-
露光装置1は、ステージ空間2にステージ3を有する。ステージ3はステージ支持部4によって支持されており、ステージ支持部4の駆動によりステージ空間2のX,Y方向に自由に駆動する。ステージ支持部4のアクチュエータとしてリニアモータや、位置検出用にレーザ干渉計およびリニアエンコーダが構成される(図示せず)。ステージ3は、基板の保持手段としての基板チャック5と、基板搬送系から基板を供給、回収する時に基板を支持する支持手段としての吸着ピン6とを備えている。基板は、基板チャック5を介してステージ3に載置される。基板チャック5は、ステージ3上のアクチュエータ(図示せず)によってZ軸方向の駆動が可能である。このZ軸方向の駆動により、基板チャック5による基板の保持、解放が行われる。このZ軸方向の駆動は、基板の露光時のフォーカス調整、また基板搬送系から基板の回収、供給時に行われる。なお、このZ軸方向の駆動は、基板チャック5の上面と吸着ピン6との間に空隙が形成されればよい。従って、吸着ピン6をZ軸方向に駆動させる構成でもよく、また、基板チャック5と吸着ピン6の双方を駆動させる構成であってもよい。露光装置1の外部にあるコータデベロッパ15は、露光装置1内の基板温調部14に接続されている。基板温調部14はコータデベロッパ15から供給された基板を一時的に保管しており、コーダデベロッパ15と搬入ハンド12との間の中継や、基板の温調調整を行う。搬入ハンド12は、基板を支持するハンドとX軸方向に駆動する駆動機構から構成されており、基板温調部14から未露光の基板を回収し、PA(プリアライメント)ユニット11に供給する。また、露光済みの基板を基板回収部13から回収して基板温調部14に供給する。なお、搬入ハンド12は、基板温調部14からの基板の供給、回収以外にも、オープンキャリア16からの基板の受け渡しもおこなう。PAユニット11は、搬入ハンド12から供給された基板の位置調整を行う。PAユニット11は、X軸,Y軸方向及び回転方向に駆動可能なアクチュエータ及び基板のノッチを検出するセンサがあり、前記ノッチの向き調整や、X,Y軸方向の微小なずれを補正する。
The
PAユニット11で位置調整された基板は、基板の供給ハンド7によりステージ3に供給するために搬入される。供給ハンド7はガイド機構8のアクチュエータ及び位置センサにより、X,Y,Z軸方向の駆動、位置合わせが可能である。供給ハンド7はステージ3に未露光の基板を供給するため、ステージ3の駆動範囲外からステージ空間2内を行き来する。ステージ3は、所定の基板の供給位置で供給ハンド7から基板を受け取り、露光処理を開始する。
The substrate whose position is adjusted by the
ステージ3から露光済みの基板を回収して搬出するため、回収ハンド9が装備されている。回収ハンド9は供給ハンド7と同様に、ガイド機構10によりX,Y、Z軸方向の駆動が可能となっている。ステージ3が回収位置に駆動されると、回収ハンド9はハンドをステージ空間2に進入させ、ステージ3から基板を回収する。回収ハンド9は、ステージ3から回収した基板を基板回収部13に受け渡す。基板回収部13は、基板の有無を確認するためのセンサがつけられており(図示せず)、基板が有る場合は搬入ハンド12により回収される。搬入ハンド12は、回収した露光済みの基板を基板温調部14又はオープンキャリア16に搬入する。
In order to collect and carry out the exposed substrate from the
露光装置1には、ステージ3と供給ハンド7及び回収ハンド9のハンドと基板チャック5との駆動を制御する機構(制御部)を有する。この制御部は、ステージの駆動を制御するためのステージ制御コントローラ18、ハンドの駆動を制御するためのハンド制御コントローラ19が備わっている。ステージ制御コントローラ18及びハンド制御コントローラ19では、各ユニットのアクチュエータ及び位置センサにより精密なサーボ制御が行われる。また、ステージ3の駆動及び基板搬送系の駆動のシーケンスは、メインコントローラ17の指令のもとで行われる。メインコントローラ17は、ステージ3と前記ハンドとが駆動範囲内において非干渉となる位置の条件を定める駆動プロファイルの決定手段として機能する。また、駆動中のステージ3と前記ハンドの位置情報を取得する取得手段としても機能する。メインコントローラ17とステージ制御コントローラ18及びハンド駆動制御コントローラ19とは、マスタースレーブ方式の共有バス20で接続されている。マスターとなるメインコントローラ17は、共有バス20を経由して駆動指令を前記各制御コントローラに転送する。各制御コントローラは、各ユニットの駆動制御を行い、その結果をメインコントローラ17に返信する。
The
また、ステージ制御コントローラ18とハンド制御コントローラ19との間は、通信ライン21で接続されている。下記の実施形態1,2における基板の回収、供給に関わる信号のやり取りは、主にステージ制御コントローラ18とハンド制御コントローラ19間で行われる。各制御コントローラが通信ライン21経由で直接通信することで、メインコントローラ17の処理負荷を軽減し、高速な処理を可能にする。
The
(第1実施形態)
以下、図1におけるステージ3と供給ハンド7による基板の供給動作について説明する。図2は、ステージ3の吸着ピン6に供給ハンド7から基板Wを供給したあとのステージ3及び供給ハンド7の退避駆動を示す。なお、軸は図面上方向をZ軸、左右方向をY軸とし、Z,Y軸に直交な方向をX軸とする。図2(a)は、供給ハンド7が、ステージ3上の吸着ピン4に基板Wを供給した状態を示している。このとき供給ハンド7は、基板チャック5がZ軸上方向に駆動すると干渉する位置にいる。ここで、ステージ3、供給ハンド7の両方が所定のX,Y軸上の位置に到達したときに、基板チャック5をZ軸上方向に駆動しても干渉しない位置(A)、(B)を定める。この干渉しない位置の条件は、ステージ3、供給ハンド7の駆動開始タイミング、駆動速度、加速度、ジャークなどの駆動プロファイルによって定まる。各位置情報の算出はメインコントローラ17によって行われ、各位置情報はステージ制御コントローラ18、ハンド制御コントローラ19に転送される。
(First embodiment)
Hereinafter, the substrate supply operation by the
図2(b)は供給ハンド7から基板Wを吸着ピン6に供給したのち、ステージ3と供給ハンド7が相互に退避する方向に駆動することを示す。図2(c)は供給ハンド7が(B)に到達したことを示す。このとき、ハンド制御コントローラ19は、通信ライン21を経由し、ステージ制御コントローラ18へステージ駆動許可信号を転送する。図2(d)はステージ3が(A)に到達したことを示す。このとき、ステージ制御コントローラ18はハンド制御コントローラ19から転送されたステージ駆動許可信号を判定する。駆動許可信号が許可の場合は、基板チャック5がZ軸上方向に移動する駆動を開始し、禁止の場合は前記Z軸上方向の駆動をせず、供給ハンド7との干渉を回避する。
FIG. 2B shows that after the substrate W is supplied from the
図3にステージ3と供給ハンド7が退避する際の駆動プロファイルを示す。SY1、SY2はそれぞれステージ3上の基板チャック5、供給ハンド7の干渉対象となる先端部分のY駆動プロファイルを示す。また、SZ1は基板チャック5のZ軸方向の駆動プロファイルを示す。また、C1、C2はステージ3、供給ハンド7の駆動開始位置、Z1は基板チャック5のZ軸方向の駆動開始位置を示す。ステージ3、供給ハンド7の駆動開始タイミングをT0とした場合、ステージ3、供給ハンド7は、駆動開始位置C1,C2から各駆動プロファイルに従って加速、等速駆動、減速、停止を行う。同様に、基板チャック5の駆動開始タイミングをT0とした場合、基板チャック5は、Z1から各駆動プロファイルに従って加速、等速駆動、減速、停止をおこなう。なお、ステージ3、供給ハンド7、基板チャック5は、それぞれ別のタイミングで駆動開始してもよい。基板チャックとハンドが干渉しないためには、Y軸方向に(A)>(B)になるタイミングが必要である。また、ステージ3の(A)に到達するタイミングT1が、駆動開始タイミングT0に近いほど基板チャック5のZ軸方向の駆動が早く開始できる。そこで、SY1,SY2が交錯する箇所Kに近い前後の位置を(A),(B)にするのが望ましい。また、(A)、(B)間の距離Pがステージ3、供給ハンド7の駆動誤差やメカ公差も考慮した値になるように(A),(B)の位置を調整する。
FIG. 3 shows a drive profile when the
上記駆動プロファイルにより、ステージ3は退避駆動中に供給ハンド7と干渉しないことが判定でき、安全にZ軸方向の駆動を開始することができる。また、ステージ3及び供給ハンド7が同時に退避する方向に駆動している中で基板チャック5のZ軸方向の駆動を行うため、次の駆動までの待ち時間が短くなりスループットが向上する。なお、本実施の形態では、前記Z軸方向の駆動について、基板チャック5を駆動させる形態で説明したが、吸着ピン6を駆動させる形態であってもよい。また、基板チャック5と吸着ピン6の双方を駆動させる形態であってもよい。以下、第2実施形態についても同様である。
From the drive profile, it can be determined that the
(第2実施形態)
以下、図1におけるステージ3と回収ハンド9の基板回収動作について説明する。図4は、ステージ3、回収ハンド9が基板回収位置に向かって接近する駆動をし、基板Wを回収する動作を示す。図4(a)は、ステージ3と回収ハンド9とが、回収位置に向かって接近する駆動を示す。なお、軸は図面上方向をZ軸、左右方向をY軸とし、Z,Y軸に直交な方向をX軸とする。図2(a)は、回収ハンド9が、基板Wを回収する位置に到達する前の状態、即ち、回収ハンド9とステージ3とが、非干渉の領域にある状態を示している。ここで、ステージ3と回収ハンド9のそれぞれが減速停止をしても互いに干渉しない位置(C)、(D)を定める。なお、(C)、(D)はステージ3が減速停止、回収ハンド9が静止することで互いに干渉しない位置であっても構わない。この干渉しない位置の条件は、各々の駆動開始タイミング、駆動速度、加速度、ジャークなどの駆動プロファイルによる各ユニットの停止距離によって定まる。なお、Z干渉境界は、回収ハンド5が基板の回収位置に進入しても、基板チャック5のZ軸方向の位置が、回収ハンド9と干渉しない範囲を画定する基準位置である。
(Second Embodiment)
Hereinafter, the substrate collection operation of the
図4(b)は回収ハンド9による基板Wの回収を行うために、ステージ3と回収ハンド9とが同時に接近し、ステージ3が(C)に到達したことを示す。ステージ3が(C)に到達すると、ステージ制御コントローラ18は、ステージ3のZ軸方向の位置とZ干渉境界との比較をおこなう。比較の結果に基づき、ハンド駆動許可情報をハンド制御コントローラ19に転送する。ステージ3のZ軸方向の位置がZ干渉境界よりも下の場合は、回収ハンド9の回収位置への動作を継続する。一方、ステージ3のZ軸方向の位置がZ干渉境界よりも上の場合は、ステージ3の駆動を停止して回収ハンド9との干渉を防止する。ここで安全のために、ステージ3、回収ハンド9の双方にブレーキをかけて全軸停止してもよい。
FIG. 4B shows that the
図4(c)は、回収ハンドが(D)に到達したことを示す。なお、回収ハンド9は、基板Wの回収位置へ駆動する以外に(D)で静止していてもよい。このとき、ハンド制御コントローラ19は、ステージ制御コントローラ18から転送された前記ハンド駆動許可情報を判定する。ハンド駆動許可情報が許可の場合は、基板の回収位置への駆動を継続し、禁止の場合は駆動を停止する。ここで、ステージ3にブレーキをかけて全軸停止してもよい。
FIG. 4C shows that the collection hand has reached (D). The
図4(d)は、ハンド駆動許可情報を判定した後、ステージ3と回収ハンド9とが基板の回収位置に進出し、基板回収位置に達したことを示す。
FIG. 4D shows that after the hand drive permission information is determined, the
図5にステージ3と回収ハンド9とが接近する際の駆動プロファイルを示す。SY1は、ステージ3上の基板チャック5の先端部分Y軸上の駆動プロファイルを示し、SY2は、回収ハンド9の先端部分のY軸上の駆動プロファイルを示す。また、SZ1は基板チャック5のZ駆動プロファイルを示す。また、C1はステージのY軸上の駆動開始位置を示し、C2は、回収ハンド9のY軸上の駆動開始位置を示す。Z1は基板チャック5のZ軸上の駆動開始位置を示す。ステージ3、回収ハンド9の駆動開始タイミングをT0とした場合、ステージ3、回収ハンド9は駆動開始位置C1,C2から、また、基板チャック5はZ1から各駆動プロファイルに従って加速、等速駆動、減速、停止を行う。基板チャック5と回収ハンド9とが干渉しないためには、まず、Y軸方向に対し(C)>(D)であることが必要である。また、(C)(D)間の距離Pをステージ3と回収ハンド9とが緊急停止しても干渉しない距離に調整する必要がある。さらに、ステージ3が、Y軸上の位置(C)に到達するタイミングT1で、Z軸上の位置(E)<Z干渉境界になるように調整する必要がある。
FIG. 5 shows a drive profile when the
上記駆動プロファイルにより、ステージ3は、駆動中に回収ハンド9がステージ3と干渉しないZ軸上の位置を判定でき、安全に回収ハンド9の進入駆動を開始することができる。また、ステージ3と回収ハンド9とが同時に接近する駆動ができるため、次の駆動までの待ち時間が短くなりスループットが向上する。
Based on the drive profile, the
次に、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。 Next, a method for manufacturing a device (semiconductor device, liquid crystal display device, etc.) according to an embodiment of the present invention will be described. A semiconductor device is manufactured through a pre-process for producing an integrated circuit on a wafer and a post-process for completing an integrated circuit chip on the wafer produced in the pre-process as a product. The pre-process includes a step of exposing a wafer coated with a photosensitive agent using the above-described exposure apparatus, and a step of developing the wafer. The post-process includes an assembly process (dicing and bonding) and a packaging process (encapsulation). A liquid crystal display device is manufactured through a process of forming a transparent electrode. The step of forming the transparent electrode includes a step of applying a photosensitive agent to a glass substrate on which a transparent conductive film is deposited, a step of exposing the glass substrate on which the photosensitive agent is applied using the above-described exposure apparatus, and a glass substrate. The process of developing is included. According to the device manufacturing method of the present embodiment, it is possible to manufacture a higher quality device than before.
1 露光装置
2 ステージ空間
3 ステージ
4 ステージ支持部
5 基板チャック
6 吸着ピン
7 供給ハンド
8 ガイド機構
9 回収ハンド
10 ガイド機構
11 PAユニット
12 搬入ハンド
13 基板回収部
14 基板温調部
15 コーダデベロッパ
16 オープンキャリア
17 メインコントローラ
18 ステージ制御コントローラ
19 ハンド制御コントローラ
20 共有バス
21 通信ライン
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記ステージとハンドが、いずれも駆動範囲内において前記非干渉となる位置の条件を定める駆動プロファイルを決定する決定手段と、駆動中のステージとハンドの位置情報を取得する取得手段と、前記取得された位置情報に基づいてステージとハンドの駆動を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記ステージとハンドとが、前記駆動プロファイルにより定められた非干渉の位置にあるときに、少なくとも、前記基板の保持手段又は支持手段のいずれか一方を駆動させることを特徴とする基板搬送装置。 A stage on which the substrate is placed via a substrate holding means; a hand that carries in the substrate to be supplied to the stage; or a hand that unloads the substrate released from the holding means to recover from the stage; The hand has a supporting means for supporting the substrate when supplying or collecting the substrate, and at least the holding means so that the stage and the hand do not interfere when the substrate is carried in and out. Or a substrate transport apparatus having a mechanism for controlling the drive of either one of the support means and the stage and the hand,
The stage and the hand are both determined by a determining unit that determines a driving profile that defines the position of the non-interfering position within the driving range, an acquiring unit that acquires positional information of the stage and the hand being driven, Control means for controlling the drive of the stage and the hand based on the position information obtained, and the control means is at least when the stage and the hand are at a non-interfering position defined by the drive profile, One of the substrate holding means and the supporting means is driven.
少なくとも、前記基板ステージとレチクルステージの一方が、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のステージであることを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus that projects a pattern of a reticle mounted on a reticle stage onto a substrate mounted on a substrate stage,
An exposure apparatus, wherein at least one of the substrate stage and the reticle stage is the stage according to any one of claims 1 to 5.
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