JP2011119342A - Laser diode cooling mechanism and laser device equipped with the same - Google Patents
Laser diode cooling mechanism and laser device equipped with the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011119342A JP2011119342A JP2009273491A JP2009273491A JP2011119342A JP 2011119342 A JP2011119342 A JP 2011119342A JP 2009273491 A JP2009273491 A JP 2009273491A JP 2009273491 A JP2009273491 A JP 2009273491A JP 2011119342 A JP2011119342 A JP 2011119342A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- installation member
- laser diode
- cooling mechanism
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
Description
本発明は、レーザダイオードを冷却するレーザダイオード冷却機構及びそれを備えたレーザ装置に関する。 The present invention relates to a laser diode cooling mechanism for cooling a laser diode and a laser apparatus including the same.
従来から、熱加工等の分野において、レーザダイオード(LD)が広汎に利用されている。前記LDは、レーザ発振中に相当の熱を発生し、所定温度よりも高い温度になると熱ストレスで劣化することが知られている。そのため、通常、前記LDの過度な温度上昇を抑えるために該LDの冷却が行われる。 Conventionally, laser diodes (LDs) have been widely used in fields such as thermal processing. It is known that the LD generates considerable heat during laser oscillation and deteriorates due to thermal stress when the temperature is higher than a predetermined temperature. For this reason, the LD is usually cooled in order to suppress an excessive temperature rise of the LD.
前記LDの冷却機構としては、例えば、水冷式冷却機構、チラークーラ、及び空冷式冷却機構等が知られている。 As the LD cooling mechanism, for example, a water cooling type cooling mechanism, a chiller cooler, and an air cooling type cooling mechanism are known.
水冷式冷却機構は、例えば、リチウムイオン電池の製造工場等のような水の利用が好ましくない環境においては利用することができないことがある。 The water cooling type cooling mechanism may not be used in an environment where use of water is not preferable, such as a lithium ion battery manufacturing factory.
チラークーラは、冷媒としてフロンやHFC(ハイドロフルオロカーボン)等が用いられるため、地球環境に悪影響を及ぼすことがある。 The chiller cooler uses chlorofluorocarbon, HFC (hydrofluorocarbon) or the like as a refrigerant, and thus may adversely affect the global environment.
空冷式冷却機構としては、ヒートシンクやペルチェ素子等が知られている(特許文献1参照)。 As the air-cooling type cooling mechanism, a heat sink, a Peltier element, and the like are known (see Patent Document 1).
近年、高出力のレーザを発振することができるLDの開発が望まれており、そのために、前記LDを冷却する冷却機構の冷却効率を高めることが必須である。 In recent years, it has been desired to develop an LD capable of oscillating a high-power laser. For this reason, it is essential to increase the cooling efficiency of a cooling mechanism that cools the LD.
本発明は、このような課題を考慮してなされたものであり、地球環境に対する悪影響を抑えつつ冷却効率を向上することができるレーザダイオード冷却機構及びそれを備えたレーザ装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such problems, and an object of the present invention is to provide a laser diode cooling mechanism capable of improving cooling efficiency while suppressing adverse effects on the global environment, and a laser device including the same. And
本発明に係るレーザダイオード冷却機構は、レーザダイオードが設けられる設置部材と、前記設置部材に設けられ、且つ前記レーザダイオードを冷却する吸熱部を有するスターリングクーラとを備えることを特徴とする。 The laser diode cooling mechanism according to the present invention includes an installation member on which a laser diode is provided, and a Stirling cooler provided on the installation member and having a heat absorption part that cools the laser diode.
このような構成によれば、スターリングクーラを利用しているので、ヒートシンクやペルチェ素子のみを用いた場合と比較して、冷却効率を高めることができる。また、フロンやHFC等を利用していないので、地球環境に対する悪影響を抑えることができる。さらに、水を利用していないので、水の利用が好ましくない環境においても好適に用いることができる。 According to such a configuration, since the Stirling cooler is used, the cooling efficiency can be increased as compared with the case where only the heat sink or the Peltier element is used. In addition, since no chlorofluorocarbon or HFC is used, adverse effects on the global environment can be suppressed. Furthermore, since water is not used, it can be suitably used even in an environment where the use of water is not preferable.
また、前記スターリングクーラの前記吸熱部は、前記レーザダイオードが駆動しているときに、前記設置部材の温度が最も高くなる位置に設けられていてもよい。 Moreover, the said heat absorption part of the said Stirling cooler may be provided in the position where the temperature of the said installation member becomes the highest when the said laser diode is driving.
そうすると、レーザダイオードが駆動しているときに、設置部材の温度が最も高い部位を優先的に冷却することができる。これにより、前記設置部材の一部への熱エネルギの集中を回避することができる。つまり、レーザダイオードから設置部材への熱の伝達を円滑にすることができる。よって、レーザダイオードの冷却効率を一層高めることができる。 If it does so, when the laser diode is driving, the part with the highest temperature of an installation member can be cooled preferentially. Thereby, concentration of the heat energy to a part of the installation member can be avoided. That is, heat can be smoothly transferred from the laser diode to the installation member. Therefore, the cooling efficiency of the laser diode can be further increased.
前記設置部材は、ヒートシンクであってもよい。これにより、レーザダイオードにて発生した熱をヒートシンクに効率的に逃がすことができる。 The installation member may be a heat sink. Thereby, the heat generated in the laser diode can be efficiently released to the heat sink.
前記レーザダイオードは、複数設けられており、各レーザダイオードと前記設置部材との間には、ペルチェ素子が設けられていてもよい。 A plurality of the laser diodes may be provided, and a Peltier element may be provided between each laser diode and the installation member.
ペルチェ素子を電気的に制御することにより、レーザダイオードの熱を設置部材に伝達させて各レーザダイオードの温度を任意に調整することができる。つまり、ペルチェ素子を電気的に制御することにより、例えば、複数のレーザダイオードの温度を一定にしたり、各レーザダイオードの温度を異なるようにしたりすることが可能となる。 By electrically controlling the Peltier element, the temperature of each laser diode can be arbitrarily adjusted by transmitting the heat of the laser diode to the installation member. That is, by electrically controlling the Peltier element, for example, the temperature of the plurality of laser diodes can be made constant, or the temperature of each laser diode can be made different.
本発明に係るレーザ装置は、レーザダイオードと、前記レーザダイオードが設けられる設置部材と、前記設置部材に設けられ、且つ、前記レーザダイオードを冷却する吸熱部を有するスターリングクーラと、を備えることを特徴とする。 A laser apparatus according to the present invention includes a laser diode, an installation member provided with the laser diode, and a Stirling cooler provided on the installation member and having a heat absorption part that cools the laser diode. And
このような構成によれば、スターリングクーラを利用してレーザダイオードが冷却されるので、地球環境に対する悪影響を抑えつつ冷却効率を向上することができる。 According to such a configuration, since the laser diode is cooled using the Stirling cooler, the cooling efficiency can be improved while suppressing adverse effects on the global environment.
本発明によれば、スターリングクーラを利用しているので、ヒートシンクやペルチェ素子を用いた場合と比較して、冷却効率を高めることができる。また、フロンやHFC等を利用していないので、地球環境に対する悪影響を抑えることができる。さらに、水を利用していないので、水の利用が好ましくない環境においても好適に用いることができる。 According to the present invention, since the Stirling cooler is used, the cooling efficiency can be increased as compared with the case where a heat sink or a Peltier element is used. In addition, since no chlorofluorocarbon or HFC is used, adverse effects on the global environment can be suppressed. Furthermore, since water is not used, it can be suitably used even in an environment where the use of water is not preferable.
以下、本発明に係るレーザダイオード冷却機構と、それが組み込まれたレーザ装置について好適な実施形態を例示し、添付の図面を参照しながら詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of a laser diode cooling mechanism according to the present invention and a laser device in which the laser diode cooling mechanism is incorporated will be exemplified and described in detail with reference to the accompanying drawings.
本実施形態に係るレーザ装置は、複数のレーザ光を合成することで高出力(例えば、100W〜300W程度)のレーザ光を出射する装置であり、ワークの加工、溶接、又は、切断等に用いられる。 The laser apparatus according to the present embodiment is an apparatus that emits high-power (for example, about 100 W to 300 W) laser light by synthesizing a plurality of laser lights, and is used for processing, welding, cutting, or the like of a workpiece. It is done.
先ず、本実施形態に係るレーザ装置の基本的構成について説明する。図1に示すように、レーザ装置10は、複数のレーザ光を出力する一対のレーザ出力部12a、12bと、前記複数のレーザ光を合成する合成部14と、レーザ出力部12a、12bと合成部14との間を結ぶ光ファイバ16と、合成されたレーザ光(合成レーザ光)をテーブル17上に配置されたワークWに集光する出射ユニット18とを備えている。
First, the basic configuration of the laser apparatus according to this embodiment will be described. As shown in FIG. 1, the
図1〜図3に示すように、レーザ出力部12a、12bは、支持台20に支持された第1〜第3ユニット22a、22b、22cを有し、各ユニット22a、22b、22cには、前記レーザ光を出力するレーザダイオード(LD)24a、24b、24cが設けられると共に、LD24a、24b、24cから出力したレーザ光を伝送する光ファイバ16が接続コネクタ26a、26b、26cにより接続されている。つまり、図1に示すように、各レーザ出力部12a、12bには、3本の光ファイバ16が接続されている。第1〜第3ユニット22a、22b、22cは、一方向に並列しており、レーザ出力部12a、12bは、各ユニット22a、22b、22cの接続コネクタ26a、26b、26c同士が対向するように配置されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
なお、以下の説明において、第1〜第3ユニット及びその構成要素を区別する場合には参照符号に添え字「a」、「b」、又は「c」を付し、区別しない場合には添え字を省略する。 In the following description, the subscripts “a”, “b”, or “c” are added to the reference numerals when distinguishing the first to third units and their components, and the subscripts are appended when they are not distinguished. Omit the letter.
図1〜図3に示すように、ユニット22は、LD24を収容するケーシング28を有しており、ケーシング28内には、LD24から出力されたレーザ光を平行化するコリメートレンズ30と、コリメートレンズ30にて平行化されたレーザ光を集光する集光レンズ32、34が設けられている。また、各ユニット22a、22b、22cは、ケーシング28同士が接触するように配置されている。なお、集光レンズ32は、レーザ光を左右方向に集光し、集光レンズ34は、レーザ光を上下方向に集光する。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
図1に示すように、各レーザ出力部12a、12bに接続された前記3本の光ファイバ16は、1本に束ねられた(バンドルされた)状態で合成部14に接続される。なお、以下の説明において、前記3本の光ファイバ16がバンドルされた部位をバンドル部16aと呼ぶことがある。図1から諒解されるように、バンドル部16aは、第1〜第3ユニット22a、22b、22cの並び方向に沿って延在している。
As shown in FIG. 1, the three
また、各ユニット22a、22b、22cは、レーザ光の出力方向が、第1〜第3ユニット22a、22b、22cの並び方向と直交する方向に対してバンドル部16a側に所定角度だけ傾斜するように設定されている。これにより、光ファイバ16は、バンドル部16aと接続コネクタ26の間において、緩やかに湾曲する。従って、光ファイバ16の折損を防止することができる。
Each
合成部14は、レーザ出力部12a、12bから光ファイバ16を介して導かれた6本のレーザ光を1本に合成する。
The combining
出射ユニット18は、合成部14から出射された合成レーザ光を平行化するコリメートレンズ36と、コリメートレンズ36にて平行化された合成レーザ光をワークWに集光する集光レンズ38とを有する。
The
次に、本実施形態に係るレーザダイオード冷却機構(LD冷却機構)40について説明する。図1〜図3に示すように、LD冷却機構40は、LD24を冷却するためのものであり、LD24が設置される設置部材42と、LD24と設置部材42との間に配置されたペルチェ素子44と、設置部材42に設けられたスターリングクーラ46とを有する。
Next, the laser diode cooling mechanism (LD cooling mechanism) 40 according to this embodiment will be described. As shown in FIGS. 1 to 3, the
図2及び図3に示すように、設置部材42は、支持台20に設けられた状態で板状に形成されている。また、設置部材42は、例えば、ヒートシンクとして形成されており、アルミニウム材料や銅材料で構成されている。これにより、設置部材42に伝達された熱を効率的に放熱することができる。設置部材42には、設置部材42の温度を取得する温度検出手段としての温度検出部48が設けられている(図3参照)。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
ペルチェ素子44は、その上面にLD24が接触すると共に、その下面に設置部材42が接触している。また、ペルチェ素子44は、電流が供給されることで、前記上面が吸熱されて前記下面が放熱されるように構成されている。
The
スターリングクーラ46は、具体的な図示を省略するが、例えば、シリンダ内のピストンを往復運動させてヘリウムガスを圧縮・膨張させることにより、冷却対象物を冷却するものであり、支持台20に固定された本体部50と、本体部50から設置部材42まで延在する円柱部52と、本体部50を挟んで円柱部52とは反対側に位置する放熱部54とを有する。また、スターリングクーラ46は、円柱部52の中心線が第2ユニット22bのLD24bの略中心に位置するように配置されている。
Although not specifically shown, the
図3に示すように、円柱部52の先端近傍には、ヘリウムガスの膨張作用によって冷却される吸熱部56が設けられている。吸熱部56は、その外面が設置部材42と面接触した状態で且つ設置部材42の内部に位置している。これにより、吸熱部56の外面と設置部材42との間に幾らかの隙間が形成された状態で、吸熱部56を設置部材42内に位置した場合と比べて、設置部材42を効率的に冷却することが可能になる。
As shown in FIG. 3, a
放熱部54は、支持台20から離間した位置に配置されており、ヘリウムガスの圧縮作用によって発生する熱を放熱する。
The
次に、上述したLD冷却機構40及びそれを備えたレーザ装置10を制御する制御部58について図3を参照しながら説明する。
Next, the above-described
制御部58は、LD24に対して電圧を印加、又は、LD24への電圧印加を停止することによりレーザ光の出力を制御する。
The
制御部58は、記憶部60と、判定部62と、ペルチェ素子制御部64と、スターリングクーラ制御部66とを備えている。
The
記憶部60には、スターリングクーラ駆動開始温度(以下、駆動開始温度と称する。)T0が予め設定されて記憶されている。駆動開始温度T0は、任意に設定してよいが、例えば、LD24が熱ストレスによって劣化する時に温度検出部48が取得する温度以下に設定されている。
In the
判定部62は、温度検出部48にて取得される温度が駆動開始温度T0よりも大きいか否かを判定する。
The
ペルチェ素子制御部64は、ペルチェ素子44に供給する電流を調整する。
The Peltier
スターリングクーラ制御部66は、スターリングクーラ46のピストンを駆動してヘリウムガスの圧縮・膨張の頻度を制御する。すなわち、スターリングクーラ制御部66は、吸熱部56の冷却度合いを制御する。
The Stirling
次に、本実施形態に係るレーザ装置10のレーザ加工手順について図4のフローチャートを参照しながら説明する。
Next, the laser processing procedure of the
先ず、制御部58は、LD24a、24b、24cに所定電圧を印加してレーザ光を出力する(ステップS1)。このとき、LD24は、発熱する。なお、前記所定電圧は、ワークWの加工条件に基づいて決定される。ワークWの加工条件は、レーザ装置10に設けられる不図示の入力手段によって制御部58に入力される。
First, the
また、ペルチェ素子制御部64は、各LD24の温度が略一定になるようにペルチェ素子44に電流を供給する(ステップS2)。これにより、LD24で生じた熱がペルチェ素子44の上面から下面に移動する。つまり、ペルチェ素子44によってLD24が冷却される。そして、ペルチェ素子44の下面に移動した熱は、設置部材42にて外部に放熱される。なお、このとき、温度検出部48は、設置部材42の温度に対応する信号を出力する。
Further, the Peltier
続いて、判定部62は、温度検出部48の出力信号を参照して取得される設置部材42の温度(取得温度)Taが記憶部60に記憶されている駆動開始温度T0よりも大きいか否かを判定する(ステップS3)。
Subsequently, the
取得温度Taが駆動開始温度T0以下である場合(ステップS3:NO)、ステップS5に進み、判定部62はレーザ加工が終了したか否かを判定する。終了していなければ(ステップS5:NO)ステップS3の処理に戻る。すなわち、LD24は、設置部材42及びペルチェ素子44だけで十分に冷却可能な状態である。
If the acquired temperature T a is less than the drive start temperature T 0 (step S3: NO), the process proceeds to step S5, the
一方、取得温度Taが駆動開始温度T0よりも大きい場合(ステップS3:YES)、スターリングクーラ制御部66は、スターリングクーラ46を駆動する(ステップS4)。これにより、スターリングクーラ46の吸熱部56によって設置部材42が冷却される。
On the other hand, when the acquired temperature T a is greater than the operation starting temperature T 0 (step S3: YES), the Stirling
そして、レーザ加工が終了すると(ステップS5:YES)、制御部58は、LD24の駆動を停止する(ステップS6)。
When the laser processing is completed (step S5: YES), the
その後、ペルチェ素子制御部64は、ペルチェ素子44への電流供給を停止する(ステップS7)と共に、スターリングクーラ制御部66は、スターリングクーラ46の駆動を停止する(ステップS8)。なお、ステップS7及びS8は、ステップS6の動作が終了した後、ある程度の時間経過後に行うとよい。これにより、LD24の駆動が停止した後においても、LD24がLD冷却機構40によって冷却される。よって、LD24の駆動が停止した後に、LD24が熱ストレスによって劣化することを防止することができる。
Thereafter, the Peltier
次に、本実施形態に係るLD冷却機構40とそれを備えたレーザ装置10の作用効果について図5及び図6を参照しながら説明する。
Next, functions and effects of the
図5は、LD24が駆動された状態の設置部材42の温度分布を示すグラフであり、横軸は第2LD24bの中心を通る線分X0を基準とした第1〜第3ユニット22a、22b、22cの並び方向の距離を示し(図6参照)、縦軸は温度を示している。なお、図6に示すように、前記線分X0は、スターリングクーラ46の円柱部52の中心軸上に位置しており、第2LD24bの中心から第1LD24aの中心までの距離と、第2LD24bの中心から第3LD24cの中心までの距離をそれぞれX1としている。
FIG. 5 is a graph showing the temperature distribution of the
また、図5において、実線L1は、スターリングクーラ46を駆動していない状態の設置部材42の温度分布を示し、破線L2は、スターリングクーラ46を駆動した状態の設置部材42の温度分布を示している。
In FIG. 5, a solid line L1 indicates the temperature distribution of the
図5から諒解されるように、LD24を駆動してレーザ光を出力すると、第2LD24bが第1LD24a及び第3LD24cに挟まれているので、設置部材42は線分X0の位置で温度T1となり最も温度が高くなる。
As can be seen from FIG. 5, when the laser beam is output by driving the LD 24, the
本実施形態では、設置部材42の最も温度が高くなる位置にスターリングクーラ46の吸熱部56を配置しているので、設置部材42において、線分X0の位置の温度上昇が抑えられる。これにより、設置部材42は温度T2に保持されることとなる。
In the present embodiment, since the
本実施形態によれば、LD24の冷却にスターリングクーラ46を利用しているので、ヒートシンクやペルチェ素子のみを利用した場合と比較して冷却効率を高めることができる。また、スターリングクーラ46は、その冷媒としてヘリウムを利用しており、フロンやHFC等を利用していないので、地球環境に対する悪影響を抑えることができる。さらに、水を利用していないので、水の利用が好ましくない環境においても好適に用いることができる。
According to the present embodiment, since the
本実施形態では、上述したように、LD24が駆動しているときに、設置部材42の温度が最も高い部位にスターリングクーラ46の吸熱部56を配置しているので、設置部材42の温度が最も高い部位を優先的に冷却することができる。これにより、設置部材42の一部への熱エネルギの集中を回避することができる。つまり、LD24から設置部材42への熱の伝達を円滑にすることができる。よって、LD24の冷却効率を一層高めることができる。
In the present embodiment, as described above, when the LD 24 is being driven, the
本発明は上記実施形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることは当然可能である。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and it is naturally possible to adopt various configurations without departing from the gist of the present invention.
本発明に係るペルチェ素子制御部は、各LDが別々の温度になるように各ユニットのペルチェ素子に電流を供給してもよい。 The Peltier device control unit according to the present invention may supply a current to the Peltier device of each unit so that each LD has a different temperature.
本発明に係るLD冷却機構は、ペルチェ素子を省略して、設置部材の上面に直接的にLDを設置してもよい。また、設置部材は、ヒートシンクでなくてもよく、例えば、光学ベースとして構成されていてもよい。光学ベースは、金属材料、複合材料、又はセラミック等で構成される。金属材料としては、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、又はステンレス鋼(SUS)等を用いることができる。なお、光学ベースを銅で構成した場合、比較的熱伝導率が高いため、放熱効果を高めることができる。また、複合材料としては、銅とダイヤモンドの複合材料(銅ダイヤ)や、銀とダイヤモンドの複合材料(銀ダイヤ)等を用いることができる。 The LD cooling mechanism according to the present invention may omit the Peltier element and install the LD directly on the upper surface of the installation member. Further, the installation member may not be a heat sink, and may be configured as an optical base, for example. The optical base is made of a metal material, a composite material, ceramic, or the like. As the metal material, copper (Cu), aluminum (Al), stainless steel (SUS), or the like can be used. Note that when the optical base is made of copper, the heat dissipation effect can be enhanced because of its relatively high thermal conductivity. As the composite material, a composite material of copper and diamond (copper diamond), a composite material of silver and diamond (silver diamond), or the like can be used.
本発明に係るレーザ出力部は、3つのLDを有する例に限らない。例えば、レーザ出力部は、4つ以上のLDを有していてもよいし、1つ又は2つのLDを有していてもよい。いずれの構成においても、設置部材の温度が最も高くなる位置に対応してスターリングクーラを配設することが望ましい。 The laser output unit according to the present invention is not limited to an example having three LDs. For example, the laser output unit may have four or more LDs, and may have one or two LDs. In any configuration, it is desirable to dispose the Stirling cooler corresponding to the position where the temperature of the installation member is highest.
また、本発明に係るレーザ装置は、希土類元素がドープされたコアを有する光ファイバに励起光を照射するLDを備えるレーザ装置(ファイバレーザ装置)であってもよい。 The laser device according to the present invention may be a laser device (fiber laser device) including an LD that irradiates an optical fiber having a core doped with a rare earth element with excitation light.
本発明は、スターリングクーラの吸熱部が設置部材の内部に位置する例に限らず、スターリングクーラの設置場所は任意に選択してよい。例えば、前記吸熱部の一部又は全部が第2ユニットのケーシング内に位置するようにスターリングクーラを配置してもよい。この場合、スターリングクーラは、ケーシング内の空気を媒体としてLDを冷却することができる。 The present invention is not limited to the example in which the heat absorption part of the Stirling cooler is located inside the installation member, and the installation location of the Stirling cooler may be arbitrarily selected. For example, you may arrange | position a Stirling cooler so that a part or all of the said heat absorption part may be located in the casing of a 2nd unit. In this case, the Stirling cooler can cool the LD using air in the casing as a medium.
10…レーザ装置 12a、12b…レーザ出力部
20…支持台 24a、24b、24c…レーザダイオード
40…レーザダイオード冷却機構 42…設置部材
44…ペルチェ素子 46…スターリングクーラ
56…吸熱部
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記設置部材に設けられ、且つ前記レーザダイオードを冷却する吸熱部を有するスターリングクーラと、を備えることを特徴とするレーザダイオード冷却機構。 An installation member provided with a laser diode;
A laser diode cooling mechanism, comprising: a Stirling cooler provided on the installation member and having a heat absorbing portion for cooling the laser diode.
前記スターリングクーラの前記吸熱部は、前記レーザダイオードが駆動しているときに、前記設置部材の温度が最も高くなる位置に設けられていることを特徴とするレーザダイオード冷却機構。 The laser diode cooling mechanism according to claim 1, wherein
The laser diode cooling mechanism, wherein the heat absorption part of the Stirling cooler is provided at a position where the temperature of the installation member is highest when the laser diode is driven.
前記設置部材は、ヒートシンクであることを特徴とするレーザダイオード冷却機構。 The laser diode cooling mechanism according to claim 1 or 2,
The laser diode cooling mechanism, wherein the installation member is a heat sink.
前記レーザダイオードは、複数設けられており、
前記設置部材と前記レーザダイオードとの間には、ペルチェ素子が設けられていることを特徴とするレーザダイオード冷却機構。 The laser diode cooling mechanism according to claim 2 or 3,
A plurality of the laser diodes are provided,
A laser diode cooling mechanism, wherein a Peltier element is provided between the installation member and the laser diode.
前記レーザダイオードが設けられる設置部材と、
前記設置部材に設けられ、且つ、前記レーザダイオードを冷却する吸熱部を有するスターリングクーラと、を備えることを特徴とするレーザ装置。 A laser diode;
An installation member provided with the laser diode;
A laser apparatus comprising: a Stirling cooler provided on the installation member and having a heat absorption part for cooling the laser diode.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009273491A JP2011119342A (en) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | Laser diode cooling mechanism and laser device equipped with the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009273491A JP2011119342A (en) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | Laser diode cooling mechanism and laser device equipped with the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011119342A true JP2011119342A (en) | 2011-06-16 |
Family
ID=44284359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009273491A Withdrawn JP2011119342A (en) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | Laser diode cooling mechanism and laser device equipped with the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011119342A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2524545A (en) * | 2014-03-26 | 2015-09-30 | Michell Instr Ltd | Multi-species Spectroscopy |
EP3142201A1 (en) * | 2015-09-11 | 2017-03-15 | Michell Instruments Ltd. | A tuning system for a tuneable diode laser spectroscopy device comprising a termo electric cooler and a further cooler |
-
2009
- 2009-12-01 JP JP2009273491A patent/JP2011119342A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2524545A (en) * | 2014-03-26 | 2015-09-30 | Michell Instr Ltd | Multi-species Spectroscopy |
EP2924821A1 (en) * | 2014-03-26 | 2015-09-30 | Michell Instruments Ltd. | A tuning system for a tuneable diode laser spectroscopy device comprising a thermo electric cooler and a further cooler |
GB2524545B (en) * | 2014-03-26 | 2016-06-08 | Michell Instr Ltd | A tuning system for a tuneable diode laser spectroscopy device comprising a thermo electric cooler and a further cooler |
EP3142201A1 (en) * | 2015-09-11 | 2017-03-15 | Michell Instruments Ltd. | A tuning system for a tuneable diode laser spectroscopy device comprising a termo electric cooler and a further cooler |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6445213B2 (en) | Line beam light source, line beam irradiation apparatus, and laser lift-off method | |
JP6261471B2 (en) | Laser processing equipment | |
JP5942426B2 (en) | Light source device | |
JP2007322493A (en) | Optical fiber holder and fiber laser machining apparatus | |
JP2010114162A (en) | Laser gain medium, laser oscillator, and laser amplifier | |
KR20070096847A (en) | Laser processing apparatus | |
JP2013218286A (en) | Faraday rotator, optical isolator, laser device, and extreme-ultraviolet light generation apparatus | |
JP5308175B2 (en) | Optical fiber cooling equipment | |
JP2011119342A (en) | Laser diode cooling mechanism and laser device equipped with the same | |
JP2017224678A (en) | Laser oscillator and manufacturing method of excitation light detection structure | |
JP2016081994A (en) | Direct diode laser oscillator | |
TWI661627B (en) | Optical fiber cooling device and laser oscillator | |
JP2015109356A (en) | Laser device, method for manufacturing laser device, laser processing device, and display device | |
EP1111739A2 (en) | Laser oscillator apparatus | |
JP2016082122A (en) | Solid-state laser element | |
US20040264540A1 (en) | Laser apparatus | |
JP7258091B2 (en) | Laser oscillator and laser processing equipment | |
JP2005152972A (en) | Laser beam machining apparatus | |
JP2014202902A (en) | Holder, laser oscillation device, and laser beam machine | |
JP2014213341A (en) | Laser machining apparatus | |
WO2017026194A1 (en) | Laser system and method for cooling laser device | |
JP6799328B2 (en) | Optical fiber holding device and laser oscillator with it | |
JP4282565B2 (en) | Laser heating device | |
JP6695039B2 (en) | Fiber optic equipment | |
JP2012033818A (en) | Semiconductor laser-excited solid-state laser apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20130205 |