JP2011119268A - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この整合ポイント補正のためのオートラーニングにおいては、実際の加工対象ではないダミーの半導体ウエハをチャンバ内に搬入し、実プロセスと同じ条件でプラズマプロセスを実行して、基準インピーダンスZsの下で整合器にオートマッチングを行わせ、反射波測定回路で得られた反射波電力の測定値を取り込んでメモリに格納する。そして、ロギング終了後に、メモリに取り込んである全ての反射波電力測定値の中で最小のものを最小値決定処理で決定し、この反射波電力最小値が得られたときの基準インピーダンスを当該実プロセスに対応する整合ポイントとして登録する。
【選択図】 図10
Description
16 サセプタ(下部電極)
34 上部電極
44 上部整合器
52 上部高周波電源
66 処理ガス供給源
88 下部整合器
90 下部高周波電源
100 主制御部
102 整合回路
C1,C2,C3 可変コンデンサ
L1 可変インダクタンスコイル
104 コントローラ
106 RFセンサ
108,110 ステップモータ
112 Vpp 測定回路
114,116 反射波測定回路
122 プロセッサ(CPU)
124 メモリ(RAM)
128 プログラム記憶装置(HDD)
138 記憶媒体
Claims (4)
- 減圧可能なチャンバ内の所定位置にダミーの被処理基板を配置し、所望のプロセスレシピと実質的に同じ条件で前記チャンバ内を所定の真空度に減圧し、前記チャンバ内に所定の処理ガスを供給し、高周波電源より所定周波数の高周波を所定のパワーで所定の高周波電極に可変整合器を介して給電して前記チャンバ内にプラズマを生成し、負荷インピーダンスの測定値が予め選定された複数の基準インピーダンスに一致するように前記可変整合器のインピーダンスを可変制御する第1の工程と、
各々の前記基準インピーダンスの下で前記高周波電源側に得られる反射波の電力を測定して測定値を記録する第2の工程と、
前記複数の基準インピーダンスの中で前記反射波電力の測定値が最小値または最小値付近になるときの基準インピーダンスを登録する第3の工程と、
前記チャンバ内の前記所定位置に正規の被処理基板を配置し、前記プロセスレシピの条件で前記チャンバ内を所定の真空度に減圧し、前記チャンバ内に所定の処理ガスを供給し、前記高周波電源より前記高周波を所定のパワーで前記高周波電極に前記可変整合器を介して給電して前記チャンバ内にプラズマを生成し、負荷インピーダンスの測定値が前記登録された基準インピーダンスに一致するように前記可変整合器のインピーダンスを可変制御して、前記基板にプラズマ処理を施す第4の工程と
を有するプラズマ処理方法。 - 減圧可能なチャンバ内の下部電極の上にダミーの被処理基板を配置し、所望のプロセスレシピと実質的に同じ条件で前記チャンバ内を所定の真空度に減圧し、前記チャンバ内に所定の処理ガスを供給し、前記チャンバ内で前記処理ガスを第1の高周波により放電させてプラズマを生成するとともに、高周波電源より第2の周波数の高周波を所定のパワーで前記下部電極に可変整合器を介して給電して前記プラズマ中のイオンを前記基板に引き込み、負荷インピーダンスの測定値が予め選定された複数の基準インピーダンスに一致するように前記可変整合器のインピーダンスを可変制御する第1の工程と、
各々の前記基準インピーダンスの下で前記高周波電源側に得られる反射波の電力を測定して測定値を記録する第2の工程と、
前記複数の基準インピーダンスの中で前記反射波電力の測定値が最小値または最小値付近になるときの基準インピーダンスを登録する第3の工程と、
前記チャンバ内の前記所定位置に正規の被処理基板を配置し、前記プロセスレシピの条件で前記チャンバ内を所定の真空度に減圧し、前記チャンバ内に所定の処理ガスを供給し、前記チャンバ内で前記処理ガスを前記第1の高周波により放電させてプラズマを生成するとともに、前記高周波電源より前記第2の高周波を所定のパワーで前記下部電極に前記可変整合器を介して給電して前記プラズマ中のイオンを前記基板に引き込み、負荷インピーダンスの測定値が前記登録された基準インピーダンスに一致するように前記可変整合器のインピーダンスを可変制御して、前記基板にプラズマ処理を施す第4の工程と
を有するプラズマ処理方法。 - 前記第1の工程では、前記負荷インピーダンスの測定値を各々の前記基準インピーダンスに一致させる操作を行う度毎に、改めて前記高周波電源からの前記高周波を前記高周波電極に給電してプラズマを生成する、請求項1または請求項2記載のプラズマ処理方法。
- 前記第2の工程では、タイマ機能によりマッチングが確立した頃合いを見計らって反射波電力の測定値を取り込む、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法。
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JP2015062160A (ja) * | 2013-08-20 | 2015-04-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
KR20160046918A (ko) | 2014-02-04 | 2016-04-29 | 가부시끼가이샤교산세이사꾸쇼 | 고주파 전원장치 및 플라즈마 착화방법 |
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