JP2011113017A - Optical structure and optical display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は複数の薄膜層から構成され背後から光を照射することで意匠パターンを中抜きした文字表示を行う光学構造体及びそのような光学構造体を備えた光学表示装置に関するものである。 The present invention relates to an optical structure that includes a plurality of thin film layers and displays characters with a design pattern removed by irradiating light from behind, and an optical display device including such an optical structure.
従来から例えば携帯電話やパソコン等の入力手段である入力キーのプレス面には文字、記号あるいは図形等が印刷され、それら文字等を認識することで当該入力キーを押動した場合に実行される入力内容が理解されるようになっている。例えば携帯電話では数字の印刷されたテンキーは基本的に電話番号の入力用のキーであり、当該数字の印刷されたテンキーを押動するとその数字が電話番号として入力されることとなる。このような携帯電話の一例として特許文献1を挙げる。
ところで近年、携帯電話ではデザインや機能の多様化が求められており、この引用文献1の携帯電話のような一般的な縦向きデザインの携帯電話だけではなく、横長に持つ横向きデザインの携帯電話の需要も認められるようになってきている。例えばワンセグチューナーを内蔵した大型液晶パネルが併設されたようないわゆるワンセグタイプの携帯電話では、むしろ入力キーを横向きにして使用することが使い勝手がよい場合があるからである。また、携帯電話以外のその他のPDA(Personal Digital Assistants)のような電子機器でも同様の事情がある。
更に、状況に応じて同じ機種で縦向きと横向きの両方の向きを随時切り替えて使用したいという要請もある。例えば、上記のようなワンセグタイプの携帯電話で携帯電話として使用する際には縦向きで使用し、映像を見る場合には横向きで使用するといったようなケースである。
Conventionally, for example, characters, symbols or figures are printed on the press surface of an input key which is an input means such as a mobile phone or a personal computer, and this is executed when the input key is pressed by recognizing the characters. The input contents are understood. For example, in a mobile phone, a numeric keypad on which numbers are printed is basically a key for inputting a telephone number. When the numeric keypad on which the numbers are printed is pressed, the number is input as a telephone number.
By the way, in recent years, mobile phones have been required to diversify their designs and functions. In addition to mobile phones with a general vertical design such as the mobile phone of the cited
Furthermore, there is also a demand to use both the vertical and horizontal orientations at any time on the same model depending on the situation. For example, the one-seg type mobile phone as described above is used in a portrait orientation when used as a mobile phone, and is used in a landscape orientation when viewing an image.
しかし「同じ機種で縦向きと横向きの両方の向きを随時切り替えて使用したい」という場合には入力キーに印刷された文字等を例えば縦向きを基準に正立させると横向きで使用する場合には文字等が寝てしまう(90度傾いてしまう)こととなり文字等が非常に読み取りにくくなってしまう。そのため90度向きの異なる2つの文字等を隣接させて印刷するということも考えられるものの、画面がゴミゴミした感じになりデザイン的にも好ましくはない。
このような不具合を解消するため、同じ位置に90度向きの異なる文字等の2つの意匠パターンを異なる2層の薄膜層を利用して交錯させて配置させることが考えられる。そして、波長の異なる2種類の可視光光源としてのバックライトを使用していずれかの意匠パターンのみを明瞭に浮かび上がらせるというものである。しかし、2つの意匠パターンを交錯させて配置するとバックライトを点灯させていない場合(以下、この場合をデフォルト状態とする)には図6のように両方の意匠パターン201,202部分(ここでは例として数字の「7」の交錯を図示する)が上記バックライトの場合とは逆の色調で交錯した状態で目視されてしまうこととなる。そのため、文字等が判別しにくくなったりキーの見栄えが悪くなってしまうという不具合が生じてしまう。
そのため、出願人は平成18年12月28日付けで特許文献2の光学構造体を提案した。特許文献2では3枚の誘電体薄膜層を使用して最上層の誘電体薄膜層の意匠パターンを下層のいずれかの薄膜層の意匠パターンと一致させることでデフォルト状態で一致した部分の意匠パターンを見えなくするというものである。
However, if you want to use both the vertical and horizontal orientations on the same model at any time, use the characters printed on the input keys etc. Characters will fall asleep (tilt at 90 degrees), making them very difficult to read. For this reason, it may be possible to print two characters or the like that are oriented 90 degrees adjacent to each other, but the screen feels dusty and is not preferable in terms of design.
In order to solve such a problem, it is conceivable to arrange two design patterns such as characters having different 90-degree orientations at the same position by using two different thin film layers. Then, only one of the design patterns is clearly raised using the backlights as two types of visible light sources having different wavelengths. However, when the two design patterns are arranged so as to intersect with each other, when the backlight is not turned on (hereinafter, this case is assumed to be the default state), both design patterns 201 and 202 (in this example, as shown in FIG. 6) Will be viewed in a state of being mixed in a color tone opposite to that of the backlight. As a result, it becomes difficult to distinguish characters and the like, and the appearance of the keys becomes poor.
Therefore, the applicant proposed the optical structure of
しかしながら、上記特許文献2ではデフォルト状態で交錯するいずれかの意匠パターンで目視させるような構成であり、デフォルト状態ではバックライトで浮かび上がる意匠パターンとは異なる意匠パターンを目視したいという要請がある。しかし、そのような新たな意匠パターンの薄膜層は目視方向、つまり最上層に配置されることとなるためバックライトを点灯させた場合にはバックライトで浮かび上がる意匠パターンの目視の妨げになってしまう可能性がある。
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的は、バックライトで浮かび上がる意匠パターンとは異なるバックライトを使用しないデフォルト状態で目視可能な意匠パターンを有するとともに、その異なる意匠パターンがバックライトで浮かび上がる意匠パターンの目視の妨げにならないような光学構造体及び光学表示装置を提供することである。
However, the above-mentioned
The present invention has been made paying attention to such problems existing in the prior art. The purpose is to have a design pattern that is visible in a default state that does not use a backlight different from the design pattern that appears in the backlight, and that the different design pattern does not interfere with the visual inspection of the design pattern that appears in the backlight. An optical structure and an optical display device are provided.
上記課題を解決するための第1の手段として、複数の薄膜層を積層状に1枚あるいは複数枚の透明基板上に成膜してなる光学構造体において、前記複数の薄膜層は、文字、記号あるいは図形等からなる第1の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしたマスク層と、同マスク層の上層に配置され、外光によって前記マスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度の濃度を得るための所定の吸収率又は透視できない程度に前記外光を反射させる反射率を備えるとともに、前記マスク層の中抜き部分を通過してその背後から照射される照射光を透過させる所定の透過率を備えた遮蔽層と、同遮蔽層の上層に配置され、前記外光を反射させる所定の反射率を備えるとともに、前記照射光を透過させる所定の透過率を備えた文字、記号あるいは図形等からなる第2の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きした反射層とから構成され、前記反射層における透過率を反射率よりも大きく設定したことをその要旨とする。
また、第2の手段として、光学表示装置を所定の波長の可視光を照射する可視光光源と、同可視光光源の前面に配置される文字、記号あるいは図形等からなる第1の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしたマスク層と、同マスク層の上層に配置され、外光によって前記マスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度の濃度を得るための所定の吸収率又は透視できない程度に前記外光を反射させる反射率を備えるとともに、前記マスク層の中抜き部分を通過してその背後の可視光光源から照射される照射光を透過させる所定の透過率を備えた遮蔽層と、同遮蔽層の上層に配置され、前記外光を反射させる所定の反射率を備えるとともに、前記照射光を透過させる所定の透過率を備えた文字、記号あるいは図形等からなる第2の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きした透過率を反射率よりも大きく設定した反射層とから構成するようにしたことをその要旨とする。
As a first means for solving the above problems, in the optical structure formed by laminating a plurality of thin film layers on one or a plurality of transparent substrates, the plurality of thin film layers include characters, A mask layer in which a first design pattern made up of symbols, figures, or the like is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship, and is disposed in an upper layer of the mask layer, and the first layer of the mask layer is formed by external light. Provided with a predetermined absorptivity for obtaining a density at which the design pattern cannot be seen through, or a reflectance for reflecting the external light to a degree that cannot be seen through, and is irradiated from behind the hollow portion of the mask layer. A shielding layer having a predetermined transmittance for transmitting the irradiation light; and a predetermined transmittance for transmitting the irradiation light while being disposed on an upper layer of the shielding layer and having a predetermined reflectance for reflecting the external light. And a reflective layer in which the second design pattern made up of letters, symbols, figures, etc. is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship, and the transmittance in the reflective layer is larger than the reflectance The gist is that it has been set.
As a second means, a visible light source for irradiating visible light of a predetermined wavelength to the optical display device, and a first design pattern made up of characters, symbols, figures, etc. arranged in front of the visible light source A mask layer that is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship, and an upper layer of the mask layer for obtaining a density at which the first design pattern of the mask layer cannot be seen through by external light. Predetermined transmission that has a predetermined absorption rate or a reflectance that reflects the outside light to the extent that it cannot be seen through, and that transmits the irradiation light irradiated from the visible light source behind the mask layer through the hollow portion A letter, a symbol or a letter having a predetermined transmittance for transmitting the irradiation light, and having a predetermined reflectance for reflecting the outside light, and a shielding layer having a ratio and an upper layer of the shielding layer The gist is that the second design pattern having a shape or the like is composed of a reflection layer in which the transmittance is set so that the negative or positive relationship is set larger than the reflectance. .
また、第3の手段として、複数の薄膜層を積層状に1枚あるいは複数枚の透明基板上に成膜してなる光学構造体において、前記複数の薄膜層は、文字、記号あるいは図形等からなる第1の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしたマスク層と、同マスク層の上層に配置され、外光を反射させる所定の反射率を備えるとともに、前記照射光を透過させる所定の透過率を備えた文字、記号あるいは図形等からなる第2の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きした反射層と、同反射層の上層に配置され、前記外光によって前記マスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度の濃度を得るための所定の吸収率又は透視できない程度に前記外光を反射させる反射率を備えるとともに、前記反射層の反射光及び前記マスク層の中抜き部分を通過してその背後から照射される照射光を透過させる所定の透過率を備えた遮蔽層と、
から構成され、前記反射層における透過率を反射率よりも大きく設定したことをその要旨とする。
また、第4の手段として、所定の波長の可視光を照射する可視光光源と、同可視光光源の前面に配置される文字、記号あるいは図形等からなる第1の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしたマスク層と、同マスク層の上層に配置され、外光を反射させる所定の反射率を備えるとともに、前記照射光を透過させる所定の透過率を備えた文字、記号あるいは図形等からなる第2の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きした透過率を反射率よりも大きく設定した反射層と、同反射層の上層に配置され、前記外光によって前記マスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度の濃度を得るための所定の吸収率又は透視できない程度に前記外光を反射させる反射率を備えるとともに、前記反射層の反射光及び前記マスク層の中抜き部分を通過してその背後から照射される照射光を透過させる所定の透過率を備えた遮蔽層とから構成するようにしたことをその要旨とする。
As a third means, in the optical structure formed by laminating a plurality of thin film layers on one or a plurality of transparent substrates, the plurality of thin film layers are formed from characters, symbols, figures, or the like. A mask layer in which the first design pattern is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship, and a predetermined reflectance for reflecting external light, which is disposed in an upper layer of the mask layer, and the irradiation A reflective layer in which a second design pattern made up of characters, symbols or figures having a predetermined transmittance for transmitting light is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship, and an upper layer of the reflective layer A predetermined absorptivity for obtaining a density at which the first design pattern of the mask layer cannot be seen through by the outside light, or a reflectance that reflects the outside light to a degree that cannot be seen through. A shielding layer having a predetermined transmittance capable of transmitting illumination light emitted from behind through the vent portion in the reflected light and the mask layer of the reflective layer,
The gist is that the transmittance in the reflective layer is set larger than the reflectance.
Further, as a fourth means, a first design pattern consisting of a visible light source that emits visible light of a predetermined wavelength and characters, symbols, figures, etc. arranged in front of the visible light source is negative or positive. The mask layer hollowed out so as to be in any relationship and the upper layer of the mask layer is provided with a predetermined reflectance for reflecting external light and a predetermined transmittance for transmitting the irradiation light. The second design pattern consisting of letters, symbols, figures, etc. is placed in the reflective layer with the transmittance set to be larger than the reflectance so that the negative or positive relationship will be in either negative or positive relationship, and on the upper layer of the reflective layer And having a predetermined absorptance for obtaining a density at which the first design pattern of the mask layer cannot be seen through by the outside light, or a reflectance for reflecting the outside light to a degree that cannot be seen through. The gist of the invention is that it is constituted by a shielding layer having a predetermined transmittance that transmits the reflected light of the reflective layer and the irradiation light irradiated from behind the mask layer. To do.
このような構成の光学構造体の構成について説明を容易にするためにその構造の一例を図示する。
まず、第1及び第2の手段について、遮蔽層が外光によってマスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度の濃度を得るための所定の吸収率を備えている場合について説明する。
例えば図7及び図8のような3層の誘電体薄膜層101〜103の積層構造を想定することができる。ここでは1枚の透明基板104上に成膜しているが、複数枚の透明基板104上に成膜しそれを重ねて3層構造としてもよい。また、後述するようにマスク層は複数の層で構成するようにしてもよいが、ここでは話を単純化するために以下ではマスク層は1層として説明する。
マスク層101は文字、記号あるいは図形等からなる第1の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしている。ここで「ネガあるいはポジのいずれかの関係」とは文字部分が中抜きされている場合と逆に文字部分のみ薄膜層が形成されその周囲が抜けている場合のどちらでもよいという意味である。
遮蔽層102はマスク層101の上層、つまり外光側に配置されている。遮蔽層102は外光を吸収して所定の濃度の膜体としてマスク層101の第1の意匠パターンがわからない程度にマスク層101を遮蔽するような濃度となる所定の吸収率(透過率)を備えている。すべての可視光について均等な吸収率を備えていてもよく、ある波長のみ特異的に吸収しそれ以外は反射する場合があっても構わない。つまり、遮蔽層102は可視光に対して吸収と反射の両方の特性を有する場合もある。
一方、遮蔽層102は背後の可視光光源から照射される照射光を透過させるような所定の透過率を備えている。
反射層103は遮蔽層の上層に配置されている。反射層103は文字、記号あるいは図形等からなる第2の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしている。基本的に第1の意匠パターンと異なることを想定しているが、使用方法としてあえて第1の意匠パターンと同じであることを妨げるものではない。反射層103は背後の可視光光源から照射される照射光を透過させるような所定の透過率を備えている。
In order to facilitate the description of the configuration of the optical structure having such a configuration, an example of the structure is illustrated.
First, the first and second means will be described in the case where the shielding layer has a predetermined absorptance for obtaining a density at which the first design pattern of the mask layer cannot be seen through by external light.
For example, a laminated structure of three dielectric thin film layers 101 to 103 as shown in FIGS. 7 and 8 can be assumed. Although the film is formed on one
In the mask layer 101, the first design pattern made up of characters, symbols, figures, or the like is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship. Here, the “relation between negative or positive” means that either a case where the character portion is hollowed out or a case where a thin film layer is formed only in the character portion and the periphery thereof is omitted.
The
On the other hand, the
The reflective layer 103 is disposed on the upper layer of the shielding layer. In the reflective layer 103, the second design pattern made up of characters, symbols, figures, etc. is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship. Although it is basically assumed that the first design pattern is different from the first design pattern, this does not prevent the use of the same design pattern as the first design pattern. The reflective layer 103 has a predetermined transmittance that transmits the irradiation light emitted from the visible light source behind.
このような光学構造体において可視光光源が点灯されている場合と可視光光源が消灯されている場合(デフォルトの状態)の外光と照射光の挙動について説明する。まず可視光光源が点灯された場合について説明する。
図7に示すように、マスク層101側の可視光光源Bから照射光L1を照射すると、照射光L1はマスク層101によって遮蔽されマスク層101以外の部分、つまり第1の意匠パターンに従って薄膜層のない部分をそのまま通過していく。更に、照射光L1は遮蔽層102を透過し、反射層103に至って反射層103は透過し、薄膜層のない部分においてはそのまま通過して前面に達する。
これによって、照射光によって照らし出されたマスク層101の第1の意匠パターンが前面から目視されることとなる。
次に可視光光源が消灯された場合について説明する。
図8に示すように、外光L2は反射層103において反射されて反射層103の第2の意匠パターンに従って目視されることとなる。一方、反射層103の薄膜層のない部分は遮蔽層102であり、外光L2はここで吸収されて所定の濃度となってマスク層101を遮蔽するとともに反射層103の背景となる。
これによって、外光L2によって照らし出された反射層103の第2の意匠パターンが前面から遮蔽層102を背景に目視されることとなる。
In such an optical structure, the behavior of external light and irradiation light when the visible light source is turned on and when the visible light source is turned off (default state) will be described. First, a case where the visible light source is turned on will be described.
As shown in FIG. 7, when the irradiation light L1 is irradiated from the visible light source B on the mask layer 101 side, the irradiation light L1 is shielded by the mask layer 101 and is a thin film layer according to a portion other than the mask layer 101, that is, the first design pattern. Pass through the part without the mark. Further, the irradiation light L1 passes through the
As a result, the first design pattern of the mask layer 101 illuminated by the irradiation light is viewed from the front.
Next, a case where the visible light source is turned off will be described.
As shown in FIG. 8, the external light L <b> 2 is reflected by the reflective layer 103 and is visually observed according to the second design pattern of the reflective layer 103. On the other hand, the portion of the reflective layer 103 without the thin film layer is the
As a result, the second design pattern of the reflective layer 103 illuminated by the external light L2 is viewed from the front with the
ここで、光学構造体を使用する環境においては照射光L1が照射されている場合であっても外光L2が存在する状態が一般的である。照射光L1が照射されている場合には第1の意匠パターンを目視させたいのであるから、第2の意匠パターンは目視されないことが好ましい。しかし、図7に示すように外光L2が存在する場合には目視されるパターン中にはどうしても、第2の意匠パターンが含まれることとなってしまう。そのため、本発明では反射層103における反射率よりも透過率を大きく設定して可視光光源からの照射光がより多く眼に入るようにしている。 Here, in an environment where the optical structure is used, a state in which the external light L2 exists is common even when the irradiation light L1 is irradiated. Since it is desired to make the first design pattern visible when the irradiation light L1 is irradiated, it is preferable that the second design pattern is not visually observed. However, as shown in FIG. 7, when the external light L2 is present, the pattern to be visually observed always includes the second design pattern. Therefore, in the present invention, the transmittance is set to be larger than the reflectance of the reflective layer 103 so that more irradiation light from the visible light source enters the eye.
次に、遮蔽層が外光によって前記マスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度に外光を反射させる反射率を備えている場合について説明する。図9及び図10が遮蔽層が外光を反射する場合のイメージである。
この場合も基本的に上記のように遮蔽層が外光を吸収する場合と大きく異なるわけではなく、可視光光源が点灯されている場合には照射光L1は遮蔽層102を透過し、反射層103に至って反射層103は透過し、薄膜層のない部分においてはそのまま通過して前面に達する。これによって、照射光によって照らし出されたマスク層101の第1の意匠パターンが前面から目視されることとなる。一方、可視光光源が消灯されている場合には外光L2は反射層103において反射されて反射層103の第2の意匠パターンに従って目視されることとなる。但し、外光を反射させる反射率を備えている場合では背景が吸収の場合と異なり鏡面あるいは乱反射でしていれば白色となり、外光L2によって照らし出された反射層103の第2の意匠パターンが前面からこのような遮蔽層102を背景に反射率の差異によって目視されることとなる。
また、すべて、あるいは特定の波長の可視光を特異的に反射させることで所望の反射光を得ることが可能である。
尚、ある可視光を反射しなければこれは吸収あるいは透過しているわけであり、上記したように遮蔽層は吸収率と反射率を同時に備えている場合もありうる。遮蔽層の透過特性は吸収量と反射量で調整することが可能で、吸収量を多くすれば濃色化(黒色化)され、反射量が多くなれば鏡面化(白色化)することができるわけである。
Next, the case where the shielding layer has a reflectance that reflects external light to such an extent that the first design pattern of the mask layer cannot be seen through by external light will be described. 9 and 10 are images when the shielding layer reflects external light.
In this case as well, the shielding layer basically does not differ greatly from the case of absorbing external light as described above, and when the visible light source is turned on, the irradiation light L1 passes through the
Moreover, it is possible to obtain desired reflected light by specifically reflecting all or a specific wavelength of visible light.
If some visible light is not reflected, it is absorbed or transmitted. As described above, the shielding layer may have both absorptance and reflectance at the same time. The transmission characteristics of the shielding layer can be adjusted by the amount of absorption and the amount of reflection. When the amount of absorption is increased, it becomes darker (blackened), and when the amount of reflection is increased, it can be mirrored (whited). That is why.
次に、第3及び第4の手段について説明する。第3及び第4の手段では遮蔽層と反射層の位置が逆転しているパターンである。図12及び図13がそのイメージである。まず可視光光源が点灯された場合について説明する。
図12に示すように、マスク層101側の可視光光源Bから照射光L1を照射すると、照射光L1はマスク層101によって遮蔽されマスク層101以外の部分、つまり第1の意匠パターンに従って薄膜層のない部分をそのまま通過していく。更に、照射光L1は反射層103を透過し、反射層103の薄膜層のない部分においてはそのまま通過して遮蔽層102に至る。透過した照射光L1は遮蔽層102に至ってこれを透過して前面に達する。
これによって、照射光によって照らし出されたマスク層101の第1の意匠パターンが前面から目視されることとなる。
次に可視光光源が消灯された場合について説明する。
図13に示すように、遮蔽層102を透過した外光L2は反射層103において反射されて反射層103の第2の意匠パターンに従って目視されることとなる。また、外光L2は遮蔽層102で吸収されて所定の濃度となってマスク層101を遮蔽する。
これによって、外光L2によって照らし出された反射層103の第2の意匠パターンが前面から遮蔽層102を背景に目視されることとなる。
遮蔽層102が吸収ではなく反射特性を示す場合には上記段落0011と同様に考えることができる。
Next, the third and fourth means will be described. In the third and fourth means, the positions of the shielding layer and the reflection layer are reversed. FIG. 12 and FIG. 13 are the images. First, a case where the visible light source is turned on will be described.
As shown in FIG. 12, when the irradiation light L1 is irradiated from the visible light source B on the mask layer 101 side, the irradiation light L1 is shielded by the mask layer 101, and a portion other than the mask layer 101, that is, a thin film layer according to the first design pattern. Pass through the part without the mark. Further, the irradiation light L1 passes through the reflective layer 103, passes through the portion of the reflective layer 103 without the thin film layer as it is, and reaches the
As a result, the first design pattern of the mask layer 101 illuminated by the irradiation light is viewed from the front.
Next, a case where the visible light source is turned off will be described.
As shown in FIG. 13, the external light L <b> 2 that has passed through the
As a result, the second design pattern of the reflective layer 103 illuminated by the external light L2 is viewed from the front with the
When the
本発明においては、マスク層を隣接して積層された更に複数のマスク層から構成し、各マスク層をそれぞれ所定の波長域の照射光を特異的に透過させないようにするとともに、それぞれ他のマスク層で特異的に透過させない所定の波長域の照射光を透過させるようにすることが好ましい。ここに「透過させない」とは所定の波長域の可視光を吸収あるい反射するか、又は両方の作用による光学特性を有する場合をいう。
このように構成すると、透過特性の異なる複数のマスク層に対して背後から異なる波長域の照射光を別個に照射することで、異なる意匠パターンを照らし出すようにすることが可能となる。例えば、複数のマスク層を2枚の第1及び第2のマスク層とし、第1のマスク層は赤色の波長域の照射光を特異的に透過させないとともに、それ以外の波長域の可視光を透過させ、第2のマスク層は青色の波長域の照射光を特異的に透過させないとともに、それ以外の波長域の可視光を透過させることが想定される。そうすれば、赤色の波長域の照射光を照射すると第1のマスク層の第1の意匠パターンのみが前面から目視されることとなり、青色の波長域の照射光を照射すると第2のマスク層の第1の意匠パターンのみが前面から目視されることとなる。
また、複数のマスク層で構成する場合には遮蔽層はそれら複数のマスク層のそれぞれの光学特性を合成した吸収特性と対応する吸収特性(つまり逆にいえばそれぞれの光学特性を合成した透過特性に反する透過特性)を示すことが好ましい。その結果、青色の照射光パターンと赤色の照射光パターンの明るさを大きく損なうことなく遮蔽層と複数のマスク層が重ね合わされて、透過特性を示す波長域以外の吸収特性が向上するため、遮蔽層がより濃色化することとなり、デフォルト状態での反射層の目視効果が向上する。
In the present invention, the mask layer is composed of a plurality of mask layers stacked adjacent to each other so that each mask layer does not specifically transmit irradiation light in a predetermined wavelength region, and each of the other masks. It is preferable to transmit irradiation light in a predetermined wavelength range that is not specifically transmitted by the layer. Here, “does not transmit” refers to the case where visible light in a predetermined wavelength range is absorbed or reflected, or has optical characteristics due to both actions.
If comprised in this way, it will become possible to illuminate a different design pattern by irradiating separately the irradiation light of a different wavelength range from the back with respect to several mask layers from which a transmission characteristic differs. For example, a plurality of mask layers are used as two first and second mask layers. The first mask layer does not specifically transmit irradiation light in a red wavelength region, and transmits visible light in other wavelength regions. It is assumed that the second mask layer does not specifically transmit the irradiation light in the blue wavelength region and transmits the visible light in other wavelength regions. Then, when the irradiation light in the red wavelength region is irradiated, only the first design pattern of the first mask layer is visually observed from the front, and when the irradiation light in the blue wavelength region is irradiated, the second mask layer. Only the first design pattern will be viewed from the front.
In the case of a plurality of mask layers, the shielding layer has an absorption characteristic corresponding to the combined optical characteristics of the multiple mask layers (in other words, transmission characteristics combining the respective optical characteristics). It is preferable to exhibit a transmission characteristic contrary to the above. As a result, the shielding layer and the plurality of mask layers are overlapped without significantly impairing the brightness of the blue illumination light pattern and the red illumination light pattern, and the absorption characteristics other than the wavelength region showing the transmission characteristics are improved. The layer becomes darker, and the visual effect of the reflective layer in the default state is improved.
また、反射層における反射率は4%以上であり10%未満であることが好ましい。
反射率は正反射および拡散反射、その両方を含んだ反射量であり、反射率が高すぎれば可視光光源が点灯されている状態であっても第2の意匠パターンが目視されてしまうからである。一般に屈折率が1.5程度の透明基板の片面の正反射率は約4%であるためこの透明基板との反射率の差異を創出するため、反射層の反射率は4%以上でなければならないが、実験的に上限は10%未満であることが好ましい。そのため、屈折率が高い透明基板へ反射層を形成する場合は、反射層は10%未満の反射率にとどめ、基板の反射率に対して差異を創出させる程度の反射率が好ましい。
さらに言えば反射層から通過する照光の光量と反射層以外の部分から通過する照光の光量差は小さいほど好ましい。具体的には遮蔽層およびマスク層の透過光量によって変動するが、光量差は10倍以内に押さえることが好ましい。
The reflectance in the reflective layer is 4% or more and preferably less than 10%.
The reflectance is the amount of reflection including both regular reflection and diffuse reflection. If the reflectance is too high, the second design pattern will be visually observed even when the visible light source is turned on. is there. In general, the regular reflectance of one surface of a transparent substrate having a refractive index of about 1.5 is about 4%, so that a difference in reflectance with this transparent substrate is created. Therefore, the reflectance of the reflective layer must be 4% or more. However, the upper limit is preferably less than 10% experimentally. Therefore, when a reflective layer is formed on a transparent substrate having a high refractive index, the reflectance of the reflective layer is preferably less than 10%, and a reflectance that creates a difference with respect to the reflectance of the substrate is preferable.
Furthermore, the smaller the difference between the amount of light passing through the reflective layer and the amount of light passing through the portion other than the reflective layer, the better. Specifically, it varies depending on the amount of light transmitted through the shielding layer and the mask layer, but it is preferable to suppress the light amount difference within 10 times.
照射光の輝度は外光に対して2倍以上であれば反射層に意匠パターンの目視が邪魔されることはない。
外光から反射層で反射される光量に対して反射層と遮蔽層、マスク層を通過して照光される光量が多くならないと可視光光源が点灯されている状態であっても第2の意匠パターンは目視されてしまうため、照光する可視光光源はマスク層、遮蔽層、反射層を通過した後の条件で外光よりも明るい必要がある。
If the brightness of the irradiation light is twice or more that of the outside light, the reflective layer will not disturb the visual inspection of the design pattern.
Even if the visible light source is turned on when the amount of light that passes through the reflective layer, the shielding layer, and the mask layer does not increase with respect to the amount of light reflected by the reflective layer from outside light, the second design is used. Since the pattern is visually recognized, the visible light source to be illuminated needs to be brighter than the external light under the conditions after passing through the mask layer, the shielding layer, and the reflection layer.
ここに、本発明の薄膜層は数十nm〜数百μmの厚さの膜体であって、マスク層では所定の吸収率又は反射率を有し、遮蔽層では所定の吸収率及び透過率を有し、反射層では所定の吸収率及び反射率を有する。
薄膜層は主にバインダー樹脂中に微粒子を分散させ所定の成膜方法(印刷、スピンコート、ディッピング、塗布、染色等)で成膜することが考えられる。バインダー樹脂としては実質的に透明であって、照射光を大きく変化させないものであれば特に限定されるものではない。例えばポリエステル、ポリカーボネート、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、有機ケイ素系樹脂、フッ素系樹脂が挙げられる。微粒子素材としては顔料、染料あるいは蛍光剤等が具体的に挙げられる。
また、誘電体多層膜によって薄膜層を構成することもできる。誘電体薄膜層としては一般にはそれ自体が多層膜構造を取ることとなる。誘電体薄膜の膜数、膜素材、膜厚を設計することによって透過光(つまり反射光)を自由に制御することが可能である。多層膜の各構成膜層は金属もしくは金属窒化物もしくは金属酸化物もしくは金属フッ化物からなる膜素材であって、例えばCr(クロム)、Ni(ニッケル)、Si(シリコン)、Si3N4(窒化シリコン)TiO2(二酸化チタン)、Ta2O5(五酸化タンタル)、SiO2(酸化ケイ素)、MgF2(フッ化マグネシウム)、CaF2(フッ化カルシュウム)らが挙げられる。
本発明では構成される多層膜の数は特に限定されるものではない。所望の波長に対する反射性能又は透過性能を発現させるために化合物を選択し、組み合わせて誘電体光学膜を構成することが可能である。誘電体薄膜層の成膜方法に特に限定的な意味はないが一般的には蒸着法やスパッタリング法で成膜されることが好ましい。
なお、反射層については上記成膜方法以外に、ブラスト処理のような物理処理やエッチング処理のような化学処理などによって材料表面に構造をもたせて反射率を得ることも可能である。
Here, the thin film layer of the present invention is a film body having a thickness of several tens of nanometers to several hundreds of μm, the mask layer has a predetermined absorptance or reflectance, and the shielding layer has a predetermined absorptance and transmittance. The reflective layer has a predetermined absorptance and reflectance.
It is conceivable that the thin film layer is formed by a predetermined film formation method (printing, spin coating, dipping, coating, dyeing, etc.) in which fine particles are mainly dispersed in a binder resin. The binder resin is not particularly limited as long as it is substantially transparent and does not significantly change the irradiation light. Examples thereof include polyester, polycarbonate, urethane resin, acrylic resin, methacrylic resin, organic silicon resin, and fluorine resin. Specific examples of the fine particle material include pigments, dyes, and fluorescent agents.
Moreover, a thin film layer can also be comprised with a dielectric multilayer film. Generally, the dielectric thin film layer itself has a multilayer film structure. It is possible to freely control the transmitted light (that is, reflected light) by designing the number of dielectric thin films, the film material, and the film thickness. Each constituent film layer of the multilayer film is a film material made of metal, metal nitride, metal oxide, or metal fluoride. For example, Cr (chromium), Ni (nickel), Si (silicon), Si 3 N 4 ( Silicon nitride) TiO 2 (titanium dioxide), Ta 2 O 5 (tantalum pentoxide), SiO 2 (silicon oxide), MgF 2 (magnesium fluoride), CaF 2 (calcium fluoride), and the like.
In the present invention, the number of multilayer films constituted is not particularly limited. A dielectric optical film can be configured by selecting and combining compounds in order to exhibit reflection performance or transmission performance for a desired wavelength. The method for forming the dielectric thin film layer is not particularly limited, but it is generally preferable to form the film by a vapor deposition method or a sputtering method.
In addition to the film formation method described above, the reflective layer can have a reflectance by obtaining a structure on the material surface by physical treatment such as blast treatment or chemical treatment such as etching treatment.
本発明に使用されるプラスチック基材は特に限定されるものではなく、例えばガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクレート及びその共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレン、塩化ビニル、ABS樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、NBR樹脂、AS樹脂等が一例として挙げられる。
本発明は例えば、携帯電話、PDA(Personal Digital Assistants)のような電子機器、ラジオ等の表示画面に応用することが可能である。
The plastic substrate used in the present invention is not particularly limited. For example, glass, polycarbonate, polymethyl methacrylate and its copolymer, polypropylene, polyethylene, vinyl chloride, ABS resin, phenol resin, melamine resin, silicone Resin, NBR resin, AS resin, etc. are mentioned as an example.
The present invention can be applied to display screens of mobile devices, electronic devices such as PDAs (Personal Digital Assistants), radios, and the like.
上記各請求項の発明では、バックライトで浮かび上がる意匠パターンとは異なるバックライトを使用しないデフォルト状態で目視可能な意匠パターンを有するとともに、その意匠パターンがバックライトによって浮かび上がる意匠パターンの目視の妨げにならないため、デフォルト状態で目視可能な意匠パターンを自由に設定することができ、光学構造体の応用範囲がより拡大する。 In the inventions of the above claims, the design pattern is visible in a default state that does not use a backlight that is different from the design pattern that floats on the backlight, and the design pattern that appears by the backlight is obstructed from visual observation. Therefore, the design pattern visible in the default state can be freely set, and the application range of the optical structure is further expanded.
以下、本発明の光学構造体を携帯電話機に応用した実施例について図面に従って説明をする。
(実施例1)
図1及び図2に示すように、携帯電話機10は蓋側筐体11と本体側筐体12をヒンジ部13で連結された外形形状とされている。本実施例1では携帯電話機10はワンセグチューナが内蔵され地上波デジタルテレビジョン放送を見ることが可能である。蓋側及び本体側筐体11,12はヒンジ部13によって開閉可能とされ、携帯可能状態では図1の実線のように折り畳まれ、電話機やとして使用可能状態で仮想線のように開放させて内部を露出させることとなる。
図2に示すように、本体側筐体12の内面にはタッチパネル15が配設されている。使用者はタッチパネル15の表面にタッチして入力操作する。タッチパネル15上にはテンキーや各種メニューキーの意匠パターンが表示された図3の光学フィルム17が配設されている。タッチパネル15のタッチした場合に実行される入力内容と光学フィルム17の当該キー位置は対応している。例えば使用者はタッチパネル15の表面の所定の意匠パターン部分にタッチすることで電話番号の入力等の各種操作を行う。
図3に示すように、タッチパネル15の裏面側には可視光光源としての青色と赤色の2種類のLED18(λtyp:470nm),19(λtyp:630nm)が交互に整然と配設されている。光学フィルム17とLED18,19によって光学表示装置が構成されている。蓋側筐体11の内面には大型モニタ20が配設されている。携帯電話機10はその他携帯電話機としての通常の機構、例えば撮影用レンズ、モデム、マイク、レシーバ、送受信部、アンテナ等を備えているがこれらの説明は省略する。
タッチパネル15には蓋側筐体11を開放することによってテンキーや各種メニューキーの意匠パターンが一定時間発光して表示されるようになっている。使用者の入力切り替えによって図4(a)及び(b)のいずれかの向きでバックライト表示させることが可能である。本実施例では縦向き意匠パターンが選択された場合には青色のLED18が発光されて図4(a)のような縦向きの意匠パターンが表示され縦向きの意匠パターンが青色光で表示され、横向き意匠パターンが選択された場合には赤色のLED19が発光されて図4(b)のような横向きの意匠パターンが赤色光で表示される。青色のLED18からの可視光を第1の照射光とし、赤色のLED19からの可視光を第2の照射光とする。
一方、青色のLED18及び赤色のLED19のいずれも点灯されていないデフォルト状態では例えば図4(c)のような携帯電話機10のメーカーの社名が黒色の背景に白色で表示されるようになっている。
Hereinafter, embodiments in which the optical structure of the present invention is applied to a mobile phone will be described with reference to the drawings.
Example 1
As shown in FIGS. 1 and 2, the
As shown in FIG. 2, a
As shown in FIG. 3, two types of blue and red LEDs 18 (λtyp: 470 nm) and 19 (λtyp: 630 nm) as a visible light source are alternately and regularly arranged on the back surface side of the
The
On the other hand, in the default state where neither the
次に、上記のような視認性を備えた光学フィルム17の構造について説明する。
光学フィルム17は図3に示すように2枚の第1及び第2の透明基板21,22を重複させた2枚構成とされている。第1の透明基板21が上層(外側)に配置されている。図5に示すように、第1の透明基板21の上面には反射層23が形成されている。第1の透明基板21の下面には遮蔽層24が形成されている。本実施例1では反射層23は印刷で、遮蔽層24は蒸着によって成膜されている。第2の透明基板22の上面にはマスク層26aが形成され、下面には第2のマスク層26bが形成されている。第1及び第2のマスク層26a,26bは印刷によって成膜されている。
第1のマスク層26aは図4(a)のように文字部分がネガとして縦向きの意匠パターンP1で中抜きされおり、第2のマスク層26bは図4(b)のように文字部分がネガとして横向きの意匠パターンP2で中抜きされている。反射層23は図4(c)に示す文字部分がポジとして表示される意匠パターンP3とされている。遮蔽層24は第1の透明基板21全域を遮蔽している。
第1のマスク層26aは透過−吸収特性を示す表1のグラフにおいて(2)の光学特性を示し、第2のマスク層26bは表1のグラフ(1)の光学特性を示し、遮蔽層24は表1のグラフ(3)の光学特性を示す。
尚、各層の光学特性は可視光域のみに特化して記入されている。
Next, the structure of the
As shown in FIG. 3, the
As shown in FIG. 4A, the
The
The optical characteristics of each layer are written specifically for the visible light region only.
表1のグラフ(1)に示すように、第2のマスク層26bは青色を中心とした波長群である450nm〜500nm辺りの光に対しては470nm付近をピークに平均80%程度の透過率に設定され、赤色を中心とした波長群である600nm〜750nm付近の光に対しては平均2%程度の透過率(平均98%程度の吸収率)に設定されている。つまり、第2のマスク層26bは青色に対する透過率が極めて高く、赤色付近の可視光を吸収するため、この第2のマスク層26bを単独目視した場合には青色を呈することとなる。
一方、表1のグラフ(2)に示すように、第1のマスク層26aは青色を中心とした波長群である450nm〜500nm辺りの光に対しては平均5%以下の透過率(平均95%程度の吸収率)に設定され、赤色を中心とした波長群である600nm〜750nmの光に対しては平均90%近くの非常に高い透過率に設定されている。つまり、第1のマスク層26aは赤色に対する透過率が極めて高く、青色付近の可視光を吸収するため、この第1のマスク層26aを単独目視した場合には赤色を呈することとなる。
As shown in graph (1) of Table 1, the second mask layer 26b has a transmittance of about 80% on average with a peak at around 470 nm for light in the wavelength group of 450 nm to 500 nm that is a wavelength group centered on blue. For light in the vicinity of 600 nm to 750 nm, which is a wavelength group centered on red, the transmittance is set to about 2% on average (absorbance about 98% on average). That is, the second mask layer 26b has a very high transmittance for blue and absorbs visible light in the vicinity of red. Therefore, when the second mask layer 26b is viewed by itself, the second mask layer 26b exhibits blue.
On the other hand, as shown in the graph (2) of Table 1, the
また、表1のグラフ(3)に示すように、遮蔽層24は青色を中心とした波長群である400nm〜500nm辺りの光に対しては440nm付近をピークに平均50%程度の透過率に設定され、赤色を中心とした波長群である650nm〜750nm付近の光に対しては平均70%程度の透過率である。そして、中間の530〜600nm付近では平均20%以下の透過率(平均80%程度の吸収率)に設定されている。
つまり、遮蔽層24は青色に対しても赤色に対しても透過性能を十分備えているため、青色のLED18あるいは赤色のLED19が点灯された場合には第1のマスク層26aの意匠パターンP1の第1の照射光として、あるいは第2のマスク層26bの意匠パターンP2の第2の照射光として透過してそれぞれ上層側から目視できることとなる。また、第1及び第2のマスク層26a,26bの吸収特性を合成すると紫色系となり、更にここに遮蔽層24の吸収特性、主として530〜600nm付近の緑色系の吸収特性を合成すると遮蔽層24をデフォルト状態で目視した場合には反射層23はほぼ黒に近い非常に濃色の背景から浮かび上がることとなる。本実施例1では遮蔽層24の平均透過率は約25%に設定したため第1及び第2のマスク層26a,26bの重なった部分の平均透過率はこれ以下とされる。
Further, as shown in the graph (3) of Table 1, the
That is, since the
反射層23はデフォルト状態で目視できるとともに、第1あるいは第2の照射光のいずれのバックライトによっても見えなくなるような反射率でなければならない。本実施例1ではレンズ反射率計(オリンパス社製)による正反射率は5%、透過率は約90%に設定されている。従って、上記青色のLED18の第1の照射光も赤色のLED19の第2の照射光も反射層23部分を透過して目視されることとなる。
表2は反射層について、その反射率とバックライト(可視光光源)点灯時における遮蔽層24を背景とした透過率との関係を示したものである。測定条件として(A)外光はない状態でバックライトとして630nmの赤色光源を用いた場合、(B)外光条件として700ルクスの屋内蛍光灯照明下においてバックライトとして同じ赤色光源を用いた場合、(C)外光条件として700ルクスの屋内蛍光灯照明に加えて白色のスポットライトを使用し1800ルクスの照明下においてバックライトとして同じ赤色光源を用いた場合、の3つの条件で行った。バックライトはマスク層26a,26bを抜けてくる第1の意匠パターンの光を念頭においている。正反射率は視感反射帯(緑反射率)で測定した。実際には(C)のような強い外光条件は直射日光下のような場所しかあり得ないが、比較例として挙げた。
本実施例1の反射層23はサンプル4に相当し、本実施例1の遮蔽層24の透過率は上記のように25%でバックライト点灯時において(B)条件では若干見えるという判定であるが、実際には第1及び第2のマスク層26a,26bの意匠パターンP1,P2を透過する照光パターンと反射層23の意匠パターンP3の重なり合う部分が多いため、照射光量が全体的に増加し、目視しにくくなる。つまり、本実施例1の反射層23は使用可能である。
サンプル3〜5のように「点灯時若干見える」程度の条件であれば、本発明の光学構造体としては照射光とのコントラストによって十分使用が可能である。但し、サンプル1及び2のように「点灯時見える」と判断されたものでは透過率が非常に低い場合であって照射光の輝度が極めて外光の輝度に対して高い場合には照射光とのコントラストによって目視可能である。しかし、反射率が10%を超える場合には照射光の輝度を高くしても反射層は目視でき、輝度を高くしすぎるとかえって拡散する光によって意匠パターンP1,P2の判別が困難となる。
また、意匠パターンP1,P2は照射光の輝度が外光に対して2倍以上であれば反射層23に目視が邪魔されることはない。
The
Table 2 shows the relationship between the reflectance of the reflective layer and the transmittance with the
The
As long as the
In addition, the design patterns P1 and P2 are not disturbed by the
このような構成の携帯電話機10では、バックライトとして青色又は赤色のLED18,19が点灯しているときは、それぞれ選択した向きでいずれかのパターンが発光してタッチパネル15の表面にテンキーや各種メニューキーが目視されることとなる。一方、青色又は赤色のLED18,19のいずれも点灯していない時には外光によって反射層23における白色の「TOKAI」という文字が遮蔽層24と第1及び第2のマスク層26a,26bの重なった黒色の外周色を背景に目視されることとなる。
In the
(実施例2)
次に光学フィルム17の構造の異なる実施例2について説明する。実施例2は光学フィルム17のみ実施例1と異なるため前記載携帯電話機10の説明は省略する。
実施例2でも光学フィルム17は図5と同じ層構造を有し、反射層23、第1及び第2のマスク層26a,26bの光学特性も同じであるが、遮蔽層24の光学特性のみ異なっている。
実施例2における遮蔽層24は一種の反射膜であって、その光学特性は透過−反射特性を示す表3のグラフに示すように可視域においてほぼフラットな光学特性を示し、平均20%の透過率に設定されている。遮蔽層24は外光を反射すると白色の金属色を呈する
実施例2においてもバックライトとして青色又は赤色のLED18,19が点灯しているときは、それぞれ選択した向きでいずれかのパターンが発光してタッチパネル15の表面にテンキーや各種メニューキーが目視されることとなる。一方、青色又は赤色のLED18,19のいずれも点灯していない時には外光によって金属色に輝く遮蔽層24を背景に4〜10%の弱い反射層23の白色の「TOKAI」という文字が目視されることとなる。
(Example 2)
Next, Example 2 in which the structure of the
Also in Example 2, the
The
(実施例3)
次に光学フィルム17の構造の異なる実施例3について説明する。実施例3も光学フィルム17のみ実施例1と異なるため前記載携帯電話機10の説明は省略する。
実施例3では光学フィルム17は反射層23、遮蔽層24、第1及び第2のマスク層26a,26bの光学特性はいずれも実施例1と同じであるが図11のように反射層23と遮蔽層24が上下入れ替わった層構造を有する。
このような構成の携帯電話機10では、バックライトとして青色又は赤色のLED18,19が点灯しているときは、それぞれ選択した向きでいずれかのパターンが発光してタッチパネル15の表面にテンキーや各種メニューキーが目視されることとなる。一方、青色又は赤色のLED18,19のいずれも点灯していない時には外光によって遮蔽層24を透過して反射層23の白色の「TOKAI」という文字が遮蔽層24と第1及び第2のマスク層26a,26bの重なった黒色の外周色を背景に目視されることとなる。反射層23は遮蔽層24を透過するため、実施例1の反射層23の見え方に比べて若干暗めに目視されることとなる。
表4及び表5は遮蔽層24の下層にある反射層23の見え方、つまり反射層23に対する遮蔽層24の透過性能を表した表である。表4は上記と同じ700ルクスの屋内蛍光灯外光のみでの見え方であり、表5は上記と同じ630nmの赤色光源をバックライトとして使用した場合の見え方である。表4は外光で反射層23が見える方が好ましく、逆に表5はバックライトによって反射層23が見えない方が好ましいわけである。
本実施例3は上記と同様サンプル4に相当し、反射層23の正反射率は5%である。一方、遮蔽層24は25%の平均透過率に設定されている。表4のバックライトのない外光のみの条件ではサンプル4は若干見える。という判定である。実際にはもう少し透過率を上げたり反射率を上げることでよりよく見えるような設定とすることが可能である。一方、表5のバックライトのある条件でもサンプル4はやはり若干見える、という判定である。バックライトのある条件では逆に反射層23は見えない方がよいのであるが、上記実施例1の説明のように実際には第1及び第2のマスク層26a,26bの意匠パターンP1,P2を透過する照光パターンと反射層23の意匠パターンP3の重なり合う部分が多いため反射層23は目視しにくくなるため問題はない。
(Example 3)
Next, Example 3 in which the structure of the
In Example 3, the
In the
Tables 4 and 5 are tables showing the appearance of the
Example 3 corresponds to Sample 4 as described above, and the regular reflectance of the
尚、この発明は、次のように変更して具体化することも可能である。
・上記では遮蔽層24は第1及び第2のマスク層26a,26bの光学特性を合成した特性に対応する特性としていたが、フラットな特性、たとえば表1のグラフ(4)のように可視光域(400〜750nmの範囲)において一定した透過率に設定するようにしてもよい。このようにフラットな特性とすることで反射層23の背景は若干薄くなるものの、逆に第1及び第2のマスク層26a,26bを透過する青色又は赤色のLED18,19の光はより鮮明となる。また、青の照光量と赤の照光量の光量バランスが調整しやすくなる。また、遮蔽層24は蒸着以外に市販品の減光フィルムを用いてもよい。
・上記実施例1では背景が黒色であったが、遮蔽層24の吸収特性を調整することで様々な色をデフォルト状態で反射層23の背景として目視させることが可能である。
・上記実施例では第1のマスク層26aを青色を透過させ、第2のマスク層26bでは赤色を透過させるような設定であったが、他の色の組み合わせで構成しても構わない。
・上記光学フィルム17における第1及び第2のマスク層26a,26bや遮蔽層24の光学特性の設定は一例であって、他の特性であっても構わない。
・第1及び第2のマスク層26a,26bの順序は逆であっても構わない。
・反射層23の上層に保護膜を設けるようにしてもよい。
・照射用の光源はLEDやレーザーなどの単色光源が好ましいが、電球などの光源と薄膜を組み合わせた光源を用いても良く、導光板や拡散板などを使って照射光とするのが良い。
・また外光や照射光源に紫外線を用い、遮蔽層、反射層に蛍光剤や蓄光剤を混ぜると、その混合した層で紫外線が可視光に変換されて意匠パターンを目視させることもできる。
その他本発明の趣旨を逸脱しない態様で実施することは自由である。
It should be noted that the present invention can be modified and embodied as follows.
In the above description, the
-Although the background was black in the said Example 1, by adjusting the absorption characteristic of the
In the above embodiment, the
The setting of the optical characteristics of the first and second mask layers 26a and 26b and the
The order of the first and second mask layers 26a and 26b may be reversed.
A protective film may be provided on the
-The light source for irradiation is preferably a monochromatic light source such as an LED or a laser, but a light source such as a light bulb combined with a thin film may be used, and it is preferable to use a light guide plate or a diffusion plate as the irradiation light.
In addition, when ultraviolet rays are used for the external light or the irradiation light source and a fluorescent agent or a phosphorescent agent is mixed in the shielding layer and the reflective layer, the ultraviolet rays are converted into visible light in the mixed layer so that the design pattern can be visually observed.
In addition, it is free to implement in a mode that does not depart from the spirit of the present invention.
10…携帯電話機、17…光学構造体としての光学フィルム、21,22…透明基板、23…反射層、24…遮蔽層、26a,26b…マスク層、P1,P2,P3…意匠パターン。
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記複数の薄膜層は、
文字、記号あるいは図形等からなる第1の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしたマスク層と、
同マスク層の上層に配置され、外光によって前記マスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度の濃度を得るための所定の吸収率又は透視できない程度に前記外光を反射させる反射率を備えるとともに、前記マスク層の中抜き部分を通過してその背後から照射される照射光を透過させる所定の透過率を備えた遮蔽層と、
同遮蔽層の上層に配置され、前記外光を反射させる所定の反射率を備えるとともに、前記照射光を透過させる所定の透過率を備えた文字、記号あるいは図形等からなる第2の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きした反射層と、
から構成され、前記反射層における透過率を反射率よりも大きく設定したことを特徴とする光学構造体。 In an optical structure formed by forming a plurality of thin film layers on a single transparent substrate or a plurality of transparent substrates,
The plurality of thin film layers are:
A mask layer in which the first design pattern made up of characters, symbols or figures is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship;
A predetermined absorptivity for obtaining a density at which the first design pattern of the mask layer cannot be seen through by external light, or a reflectance that reflects the external light to a degree that cannot be seen through, is provided on the mask layer. And a shielding layer having a predetermined transmittance that transmits the irradiation light irradiated from behind the mask layer through the hollow portion;
A second design pattern comprising a character, a symbol, a figure, or the like, disposed on the shielding layer, having a predetermined reflectance for reflecting the external light and having a predetermined transmittance for transmitting the irradiation light; A reflective layer hollowed out to be in either a negative or positive relationship,
The optical structure is characterized in that the transmittance in the reflective layer is set larger than the reflectance.
前記複数の薄膜層は、
文字、記号あるいは図形等からなる第1の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしたマスク層と、
同マスク層の上層に配置され、外光を反射させる所定の反射率を備えるとともに、前記照射光を透過させる所定の透過率を備えた文字、記号あるいは図形等からなる第2の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きした反射層と、
同反射層の上層に配置され、前記外光によって前記マスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度の濃度を得るための所定の吸収率又は透視できない程度に前記外光を反射させる反射率を備えるとともに、前記外光による反射層の反射光及び前記マスク層の中抜き部分を通過してその背後から照射される照射光を透過させる所定の透過率を備えた遮蔽層と、
から構成され、前記反射層における透過率を反射率よりも大きく設定したことを特徴とする光学構造体。 In an optical structure formed by forming a plurality of thin film layers on a single transparent substrate or a plurality of transparent substrates,
The plurality of thin film layers are:
A mask layer in which the first design pattern made up of characters, symbols or figures is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship;
A second design pattern made of characters, symbols, figures or the like, which is disposed on the mask layer and has a predetermined reflectance for reflecting external light and having a predetermined transmittance for transmitting the irradiation light, is negative. Or a reflective layer hollowed out so as to be in any positive relationship,
A predetermined absorptivity for obtaining a density at which the first design pattern of the mask layer cannot be seen through by the external light, or a reflectance that reflects the external light to a degree that cannot be seen through. And a shielding layer having a predetermined transmittance that transmits the reflected light of the reflective layer by the external light and the irradiation light irradiated from behind the mask layer through the hollow portion of the mask layer;
The optical structure is characterized in that the transmittance in the reflective layer is set larger than the reflectance.
同可視光光源の前面に配置される文字、記号あるいは図形等からなる第1の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしたマスク層と、
同マスク層の上層に配置され、外光によって前記マスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度の濃度を得るための所定の吸収率又は透視できない程度に外光を反射させる反射率を備えるとともに、前記マスク層の中抜き部分を通過してその背後の可視光光源から照射される照射光を透過させる所定の透過率を備えた遮蔽層と、
同遮蔽層の上層に配置され、前記外光を反射させる所定の反射率を備えるとともに、前記照射光を透過させる所定の透過率を備えた文字、記号あるいは図形等からなる第2の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きした透過率を反射率よりも大きく設定した反射層とから構成される光学表示装置。 A visible light source that emits visible light of a predetermined wavelength;
A mask layer in which the first design pattern composed of characters, symbols, figures, etc. arranged in front of the visible light source is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship;
The mask layer is disposed above the mask layer, and has a predetermined absorptivity for obtaining a density at which the first design pattern of the mask layer cannot be seen through by external light, or a reflectance that reflects external light to a degree that cannot be seen through. A shielding layer having a predetermined transmittance that transmits the irradiation light irradiated from the visible light source behind the mask layer through the hollow portion;
A second design pattern comprising a character, a symbol, a figure, or the like, disposed on the shielding layer, having a predetermined reflectance for reflecting the external light and having a predetermined transmittance for transmitting the irradiation light; An optical display device comprising a reflective layer in which the transmittance is set to be larger than the reflectance so as to have either a negative or positive relationship.
同可視光光源の前面に配置される文字、記号あるいは図形等からなる第1の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きしたマスク層と、
同マスク層の上層に配置され、外光を反射させる所定の反射率を備えるとともに、前記照射光を透過させる所定の透過率を備えた文字、記号あるいは図形等からなる第2の意匠パターンをネガあるいはポジのいずれかの関係となるように中抜きした透過率を反射率よりも大きく設定した反射層と、
同反射層の上層に配置され、前記外光によって前記マスク層の第1の意匠パターンが透視できない程度の濃度を得るための所定の吸収率又は透視できない程度に前記外光を反射させる反射率を備えるとともに、前記外光による反射層の反射光及び前記マスク層の中抜き部分を通過してその背後から照射される照射光を透過させる所定の透過率を備えた遮蔽層とから構成される光学表示装置。 A visible light source that emits visible light of a predetermined wavelength;
A mask layer in which the first design pattern composed of characters, symbols, figures, etc. arranged in front of the visible light source is hollowed out so as to have either a negative or positive relationship;
A second design pattern made of characters, symbols, figures or the like, which is disposed on the mask layer and has a predetermined reflectance for reflecting external light and having a predetermined transmittance for transmitting the irradiation light, is negative. Alternatively, a reflective layer in which the transmittance that has been hollowed out so as to be in any positive relationship is set larger than the reflectance,
A predetermined absorptivity for obtaining a density at which the first design pattern of the mask layer cannot be seen through by the external light, or a reflectance that reflects the external light to a degree that cannot be seen through. And a shielding layer having a predetermined transmittance that transmits the reflected light of the reflective layer by the external light and the irradiation light irradiated from behind the mask layer through the hollow portion of the mask layer. Display device.
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Cited By (4)
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JP2012159678A (en) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Tokai Kogaku Kk | Optical display device |
JP2016170198A (en) * | 2015-03-11 | 2016-09-23 | アルプス電気株式会社 | Stereoscopic structure, touch sensor with design, touch panel and electronic equipment |
JP2017032915A (en) * | 2015-08-05 | 2017-02-09 | アルプス電気株式会社 | Method for manufacturing illuminated display device |
JP2020157956A (en) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 豊田合成株式会社 | Steering wheel |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5757488A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-06 | Tokyo Shibaura Electric Co | Transverse magnetic flux induction heater |
JP2008164877A (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Tokai Kogaku Kk | Optical structure |
WO2008132967A1 (en) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Alps Electric Co., Ltd. | Display device |
-
2009
- 2009-11-30 JP JP2009271473A patent/JP4915968B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5757488A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-06 | Tokyo Shibaura Electric Co | Transverse magnetic flux induction heater |
JP2008164877A (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Tokai Kogaku Kk | Optical structure |
WO2008132967A1 (en) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Alps Electric Co., Ltd. | Display device |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012159678A (en) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Tokai Kogaku Kk | Optical display device |
JP2016170198A (en) * | 2015-03-11 | 2016-09-23 | アルプス電気株式会社 | Stereoscopic structure, touch sensor with design, touch panel and electronic equipment |
JP2017032915A (en) * | 2015-08-05 | 2017-02-09 | アルプス電気株式会社 | Method for manufacturing illuminated display device |
JP2020157956A (en) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 豊田合成株式会社 | Steering wheel |
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