JP2011111596A - Manufacturing method of polyimide film, and polyimide film - Google Patents

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Akira Kikusawa
明 菊澤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a polyimide film which is transparent and satisfies both a low linear expansion and a low birefringence by fabricating a specific aromatic acid dianhydride and a specific diamine by a specific fabrication method; and to further provide a product using the polyimide film to form a product or a member requiring the transparency and the heat resistance and a low linear thermal expansion coefficient and a low birefringence. <P>SOLUTION: The manufacturing method of a polyimide film includes mixing a polyamic acid obtained by reacting at least two polyamide acids having specific structures, with a dehydration catalyst and an imidization agent, and allowing the mixture to react. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明で低線膨張かつ低複屈折に優れる高分子化合物に関する。好適には、耐熱性優れるポリイミドに関し、特に、耐熱性と共に低線膨張かつ低複屈折に対する要求が高い製品又は部材を形成するための材料(例えば、液晶表示装置など)として好適に利用できるポリイミドフィルムの製造方法、当該製造方法で得られたポリイミド、当該ポリイミドを含有する樹脂組成物及び、当該樹脂組成物を用いて作製した物品に関するものである。 The present invention relates to a polymer compound that is transparent, has low linear expansion, and is excellent in low birefringence. Preferably, the polyimide film can be suitably used as a material (for example, a liquid crystal display device) for forming a product or member that has a high requirement for heat resistance and low linear expansion and low birefringence. The manufacturing method of this, the polyimide obtained by the said manufacturing method, the resin composition containing the said polyimide, and the articles | goods produced using the said resin composition.

近年、液晶や有機EL、電子ペーパー等のディスプレイや、太陽電池、タッチパネル等のエレクトロニクスの急速な進歩に伴い、デバイスの薄型化や軽量化、更には、フレキシブル化が要求されるようになってきた。これらのデバイスにはガラス板上に様々な電子素子、例えば、薄型トランジスタや透明電極等が形成されているが、このガラス材料をフィルム材料に変えることにより、パネル自体の薄型化や軽量化が図れる。しかしながらこれらの電子素子の形成には高温プロセスが必要であり、これに耐えられるだけのフィルム材料がこれまで存在しなかった。   In recent years, with the rapid progress of displays such as liquid crystal, organic EL, and electronic paper, and electronics such as solar cells and touch panels, devices have been required to be thinner and lighter, and more flexible. . In these devices, various electronic elements such as thin transistors and transparent electrodes are formed on a glass plate. By changing this glass material to a film material, the panel itself can be made thinner and lighter. . However, the formation of these electronic devices requires a high temperature process, and there has been no film material that can withstand this.

ポリイミドは耐熱性と共に高い絶縁性能を有することから、半導体や電子部品への応用がなされてきた。その為、単結晶シリコンや銅などの金属と積層される場合が多く、ポリイミドの熱膨張率を単結晶シリコンや金属並に小さくし、積層した基板のそりを解決する試みは従来から行われてきた。   Since polyimide has high insulation performance as well as heat resistance, it has been applied to semiconductors and electronic components. Therefore, it is often laminated with metals such as single crystal silicon and copper, and attempts have been made to solve the warpage of the laminated substrate by reducing the thermal expansion coefficient of polyimide to the same level as single crystal silicon and metal. It was.

また、ポリイミドを光学材料として使用する場合、光学部品の偏波依存性を起こさないために、低複屈折性も重要な特性である。   When polyimide is used as an optical material, low birefringence is also an important characteristic in order not to cause polarization dependency of optical components.

このようなポリイミドの物性に大きく影響を与える因子として、その化学構造が挙げられる。一般に、ポリイミドの高分子鎖が剛直で直線性が高いほど熱膨張率は下がるといわれており、熱膨張率を下げる為、ポリイミドの原料である酸二無水物、ジアミン双方で種々の構造が提案されてきた。   The chemical structure is a factor that greatly affects the physical properties of such polyimide. Generally, it is said that the higher the polymer chain of polyimide and the higher the linearity, the lower the coefficient of thermal expansion. To reduce the coefficient of thermal expansion, various structures are proposed for both acid dianhydride and diamine, which are polyimide raw materials. It has been.

しかしながら、熱膨張係数と複屈折はトレードオフの関係にあり、ポリイミドの高分子鎖が剛直で直線性が高いほど分子が配列して熱膨張率は下がるが、複屈折は高くなることが一般的に知られている。例えば、特許文献1では、4―アミノ―2―メチルフェニル―4‘―アミノベンゾエートとピロメリット酸二無水物からなるポリイミド膜は0.8ppm/Kという低い線膨張係数を示したが、複屈折は0.196と高い値を示している。   However, the coefficient of thermal expansion and birefringence are in a trade-off relationship, and the higher the rigidity and linearity of the polyimide polymer chain, the lower the coefficient of thermal expansion and the higher the birefringence. Known to. For example, in Patent Document 1, a polyimide film made of 4-amino-2-methylphenyl-4′-aminobenzoate and pyromellitic dianhydride showed a low coefficient of linear expansion of 0.8 ppm / K, but birefringence. Shows a high value of 0.196.

特開2007−112990JP2007-112990

本発明は、上記実情を鑑みて成し遂げられたものであり、透明性や耐熱性、更には低熱膨張性と低複屈折性を兼ね備えたポリイミドを得ることを目的とする。さらに、当該高分子化合物を用いて耐熱性や、低線熱膨張係数の要求の高い製品又は部材を形成するための樹脂材料として有用な樹脂組成物、さらには、当該樹脂組成物を用いて作製した耐熱性に優れた製品又は部材を提供することを目的とする。   The present invention has been accomplished in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to obtain a polyimide having both transparency and heat resistance, as well as low thermal expansion and low birefringence. Furthermore, a resin composition useful as a resin material for forming a product or member having a high demand for heat resistance and a low linear thermal expansion coefficient using the polymer compound, and further, produced using the resin composition An object is to provide a product or member excellent in heat resistance.

本願発明は以下の構成を有するものである。   The present invention has the following configuration.

1). 下記式(1)で示す化合物と下記式(2)で示す化合物、あるいは下記式(3)で示す化合物と下記式(4)で示す化合物を反応させて得られるポリアミド酸に脱水触媒及びイミド化剤を混合した溶液を支持体上に流延することにより作成することを特徴とする、ポリイミドフィルムの製造方法。   1). A dehydration catalyst and imidation are carried out on a polyamic acid obtained by reacting a compound represented by the following formula (1) and a compound represented by the following formula (2), or a compound represented by the following formula (3) and a compound represented by the following formula (4). A method for producing a polyimide film, which is prepared by casting a solution mixed with an agent on a support.

Figure 2011111596
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式中nは繰り返し単位の数を示し、 Where n represents the number of repeating units,

Figure 2011111596
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式中mは繰り返し単位を示し、nよりも小さな整数であり、前記式(1)と(2)のR2は必ずしも同一のものでなくてもよく、 In the formula, m represents a repeating unit and is an integer smaller than n, and R 2 in the formulas (1) and (2) may not necessarily be the same,

Figure 2011111596
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式中oは繰り返し単位の数を示し、 Where o represents the number of repeating units,

Figure 2011111596
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式中pは繰り返し単位の数を示し、oよりも小さな整数であり、前記式(3)と(4)のR2は必ずしも同一のものでなくてもよい。 In the formula, p represents the number of repeating units and is an integer smaller than o, and R 2 in the formulas (3) and (4) may not necessarily be the same.

前記式のR1は下記一般式(5)から選択される4価の有機基を、また、R2は下記一般式(6)から選択される2価の有機基を示し、 R 1 in the above formula represents a tetravalent organic group selected from the following general formula (5), and R 2 represents a divalent organic group selected from the following general formula (6).

Figure 2011111596
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Figure 2011111596
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式中R3は、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、C1〜C16のアルキル基を示す。 In the formula, R 3 represents a halogen, an alkyl halide, or a C1-C16 alkyl group.

2). 前記式(2)あるいは(4)で表される繰り返し単位として、R1の構造が下記一般式(7)であることを特徴とする1)に記載のポリイミドフィルムの製造方法。 2). As a repeating unit represented by the formula (2) or (4), the structure of R 1 is the following general formula (7).

Figure 2011111596
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3). 前記式(1)、(2)、(3)あるいは(4)で表される繰り返し単位として、R2の構造が下記一般式(8)から選択される2価の有機基であることを特徴とする1)または2)に記載のポリイミドフィルムの製造方法。 3). As the repeating unit represented by the formula (1), (2), (3) or (4), the structure of R 2 is a divalent organic group selected from the following general formula (8). The manufacturing method of the polyimide film as described in 1) or 2).

Figure 2011111596
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4). R3がハロゲン、もしくは、ハロゲン化アルキルであることを特徴とする1)乃至3)のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。 4). The method for producing a polyimide film according to any one of 1) to 3), wherein R 3 is halogen or alkyl halide.

5). R3がトリフルオロメチル基であることを特徴とする1)乃至4)のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。 5). The process for producing a polyimide film as described in any of 1) to 4), characterized in that R 3 is a trifluoromethyl group.

6). 前記式(1)と(2)、あるいは前記式(3)と(4)を反応させて得られるポリアミド酸にイミド化剤と脱水触媒を用いてイミド化することを特徴とする、1)乃至5)のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。   6). The polyamic acid obtained by reacting the above formulas (1) and (2) or the above formulas (3) and (4) is imidized by using an imidizing agent and a dehydrating catalyst. The manufacturing method of the polyimide film in any one of 5).

7). イミド化剤が3級アミンであることを特徴とする6)に記載のポリイミドフィルムの製造方法。   7). 6. The method for producing a polyimide film according to 6), wherein the imidizing agent is a tertiary amine.

8). 脱水触媒が酸無水物であることを特徴とする6)または7)に記載のポリイミドフィルムの製造方法。   8). The method for producing a polyimide film according to 6) or 7), wherein the dehydration catalyst is an acid anhydride.

9). イミド化剤が、ポリアミド酸のカルボン酸に対して0.01モル倍当量以上を用いることを特徴とする、6)乃至8)のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。   9). The method for producing a polyimide film according to any one of 6) to 8), wherein the imidizing agent is used in an amount of 0.01 molar equivalent or more with respect to the carboxylic acid of the polyamic acid.

10). 脱水触媒が、ポリアミド酸のカルボン酸に対して0.05モル倍当量以上を用いることを特徴とする、6)乃至9)のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。   10). The method for producing a polyimide film according to any one of 6) to 9), wherein the dehydration catalyst is used in an amount of 0.05 molar equivalent or more relative to the carboxylic acid of the polyamic acid.

11). ポリアミド酸の重量平均分子量が3,000以上である、1)乃至10)のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。   11). The method for producing a polyimide film according to any one of 1) to 10), wherein the polyamic acid has a weight average molecular weight of 3,000 or more.

12). 線熱膨張係数が40ppm/K以下である、1)乃至11)のいずれかに記載の方法で製造されたポリイミドフィルム。   12). The polyimide film manufactured by the method in any one of 1) thru | or 11) whose linear thermal expansion coefficient is 40 ppm / K or less.

13). 複屈折が0.1以下である、12)に記載のポリイミドフィルム。   13). The polyimide film as described in 12), wherein the birefringence is 0.1 or less.

14). ガラス転移温度が200℃以上である、12)または13)に記載のポリイミドフィルム。   14). The polyimide film according to 12) or 13), which has a glass transition temperature of 200 ° C. or higher.

15). 光学フィルムと偏光子とを含む偏光板であって、前記光学フィルムが11)乃至14)のいずれかに記載のポリイミドフィルムである偏光板。   15). A polarizing plate comprising an optical film and a polarizer, wherein the optical film is a polyimide film according to any one of 11) to 14).

16). 液晶セルの少なくとも一方の表面に光学部材が配置された液晶パネルであって、前記光学部材が、11)乃至14)のいずれかに記載のポリイミドフィルムである液晶パネル。   16). A liquid crystal panel in which an optical member is disposed on at least one surface of a liquid crystal cell, wherein the optical member is the polyimide film according to any one of 11) to 14).

17). 液晶セルの少なくとも一方の表面に光学部材が配置された液晶パネルであって、前記光学部材が15)記載の偏光板である液晶パネル。   17). A liquid crystal panel in which an optical member is disposed on at least one surface of a liquid crystal cell, wherein the optical member is a polarizing plate described in 15).

18). 液晶パネルを含む液晶表示装置であって、前記液晶パネルが17)記載の液晶パネルである液晶表示装置。   18). A liquid crystal display device including a liquid crystal panel, wherein the liquid crystal panel is a liquid crystal panel according to 17).

上記本発明に係るポリイミドを含有する樹脂組成物は、剛直で直線性が高い高分子鎖の中にさらに剛直な高分子鎖を一部導入することによって、分子配向が部分的に乱れ、複屈折は低くなる一方で、導入した剛直な高分子鎖により低CTEは保持できるという特徴を持つ。   The resin composition containing the polyimide according to the present invention has a partially disturbed molecular orientation and birefringence by partially introducing a more rigid polymer chain into a rigid and highly linear polymer chain. Has a characteristic that low CTE can be maintained by the introduced rigid polymer chain.

また、上記本発明に係るポリイミドを含有する樹脂組成物は、透明性、耐熱性に加えて、低線膨張性、低複屈折性に優れることから、耐熱性、低膨張性(寸法安定性)、低複屈折性が必要とされる公知の全ての部材用のフィルムや塗膜として好適であり、例えば、印刷物、カラーフィルター、フレキシブルディスプレー、半導体部品、層間絶縁膜、配線被覆膜、光回路、光回路部品、反射防止膜、ホログラム、光学部材又は建築材料や構造物としての利用が期待される。   Moreover, since the resin composition containing the polyimide according to the present invention is excellent in low linear expansion and low birefringence in addition to transparency and heat resistance, it has heat resistance and low expansion (dimensional stability). Suitable for films and coatings for all known members that require low birefringence, such as printed materials, color filters, flexible displays, semiconductor parts, interlayer insulation films, wiring coating films, optical circuits Use as an optical circuit component, an antireflection film, a hologram, an optical member, a building material or a structure is expected.

以下において本発明を詳しく説明する。
本発明で製造されるポリイミドは、上記式(1)と上記式(2)、あるいは上記式(3)と上記式(4)を反応させて得られるポリアミド酸から誘導されるポリイミドである。式(2)あるいは式(4)中のR1は酸二無水物成分からポリイミド鎖の形成に関与する両末端酸無水物基を取り除いた構造であり、式(5)で示す構造を有するものである。
The present invention is described in detail below.
The polyimide produced by the present invention is a polyimide derived from polyamic acid obtained by reacting the above formula (1) and the above formula (2), or the above formula (3) and the above formula (4). R 1 in formula (2) or formula (4) is a structure obtained by removing both terminal acid anhydride groups involved in the formation of the polyimide chain from the acid dianhydride component, and has the structure represented by formula (5) It is.

式(5)に挙げられている4価の有機基のうち、得られる高分子が示す剛直性及び原料の入手性という観点から、特にフェニレン基を有する構造が好ましい。この場合、式(2)あるいは式(4)を製造するために用いる酸二無水物は、それぞれ、ピロメリット酸二無水物が好ましい。   Of the tetravalent organic groups listed in the formula (5), a structure having a phenylene group is particularly preferable from the viewpoint of the rigidity exhibited by the obtained polymer and the availability of raw materials. In this case, the acid dianhydride used for producing the formula (2) or the formula (4) is preferably pyromellitic dianhydride, respectively.

前記式(1)と前記式(2)、あるいは前記式(3)と前記式(4)は末端官能基の反応率が90%以上、さらには95%以上、特には98%以上となるように混合し反応させることが好ましい。実質的にはすべて反応させることがもっとも望ましい。末端の反応率が低いと分子の配向性が乱されず、複屈折低下の効果を発揮し難くなる。   In the formula (1) and the formula (2), or in the formula (3) and the formula (4), the reaction rate of the terminal functional group is 90% or more, more preferably 95% or more, and particularly 98% or more. It is preferable to mix and react. It is most desirable to react substantially all. When the terminal reaction rate is low, the molecular orientation is not disturbed, and it is difficult to exert the effect of lowering the birefringence.

本願発明のポリイミドフィルムの酸二無水物成分から派生する構造中、R1で示す構造が1〜30モル%、さらには3〜25モル%、特には5〜20モル%の範囲で用いることが好ましい。 In the structure derived from the acid dianhydride component of the polyimide film of the present invention, the structure represented by R 1 is 1 to 30 mol%, more preferably 3 to 25 mol%, particularly 5 to 20 mol%. preferable.

また、ポリイミドの透明性を確保できる範囲内であれば、式(2)あるいは式(4)のR1の部分の構造を形成するために、2種類以上の酸二無水物を併用して用いることができる。 If the transparency of the polyimide can be ensured, two or more types of acid dianhydrides are used in combination in order to form the structure of R 1 in formula (2) or formula (4). be able to.

上記式(5)と併用可能な他の酸二無水物としては、例えば、エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、1,3−ビス[(3,4−ジカルボキシ)ベンゾイル]ベンゼン二無水物、1,4−ビス[(3,4−ジカルボキシ)ベンゾイル]ベンゼン二無水物、2,2−ビス{4−[4−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}プロパン二無水物、2,2−ビス{4−[3−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}プロパン二無水物、ビス{4−[4−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}ケトン二無水物、ビス{4−[3−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}ケトン二無水物、4,4'−ビス[4−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]ビフェニル二無水物、4,4'−ビス[3−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]ビフェニル二無水物、ビス{4−[4−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}ケトン二無水物、ビス{4−[3−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}ケトン二無水物、ビス{4−[4−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}スルホン二無水物、ビス{4−[3−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}スルホン二無水物、ビス{4−[4−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}スルフィド二無水物、ビス{4−[3−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}スルフィド二無水物、2,2−ビス{4−[4−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルプロパン二無水物、2,2−ビス{4−[3−(1,2−ジカルボキシ)フェノキシ]フェニル}−1,1,1,3,3,3−プロパン二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。   Other acid dianhydrides that can be used in combination with the above formula (5) include, for example, ethylenetetracarboxylic dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid Anhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-di Carboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) sulfone dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3 , 4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2- Bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 1,3-bis [(3,4-dicarboxy) benzoyl] benzene dianhydride 1,4-bis [(3,4-dicarboxy) benzoyl] benzene dianhydride, 2,2-bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} propane dianhydride, 2,2-bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} propane dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} ketone dianhydride Bis (4- [3- (1,2-di Ruboxy) phenoxy] phenyl} ketone dianhydride, 4,4′-bis [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] biphenyl dianhydride, 4,4′-bis [3- (1,2-di) Carboxy) phenoxy] biphenyl dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} ketone dianhydride, bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] Phenyl} ketone dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} sulfone dianhydride, bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} Sulfone dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} sulfide dianhydride, bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} sulfi Dianhydride, 2,2-bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} -1,1,1,3,3,3-hexaflupropane dianhydride, 2, 2-bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} -1,1,1,3,3,3-propane dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic Acid dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic acid Anhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride and the like can be mentioned.

これらは式(5)で示す酸二無水物と共に単独あるいは2種以上混合して用いられる。そして、特に好ましく用いられるテトラカルボン酸二無水物として3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物が挙げられる。   These may be used alone or in admixture of two or more with the acid dianhydride represented by the formula (5). As particularly preferred tetracarboxylic dianhydrides, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 2,2- Bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride is mentioned.

一方、式(1)、(2)、(3)あるいは(4)中のR2は2価の有機基であり、その具体例としては、後述する各ジアミン成分に対応する2価の有機基、すなわち、ジアミン成分からポリイミド鎖の形成に関与する両末端アミノ基を取り除いた式(6)に示す構造が挙げられる。式(6)のうち、好ましくは、フェニレン基、もしくは、ビフェニレン基である。この場合、式(1)、(2)、(3)あるいは(4)を製造するために用いるジアミンは、それぞれ、フェニレン基を有するジアミン、および、ビフェニレン基を有するジアミンである。 On the other hand, R 2 in the formula (1), (2), (3) or (4) is a divalent organic group, and specific examples thereof include a divalent organic group corresponding to each diamine component described later. That is, the structure shown by Formula (6) which remove | eliminated the both terminal amino group which participates in formation of a polyimide chain from a diamine component is mentioned. Of the formula (6), a phenylene group or a biphenylene group is preferable. In this case, the diamines used for producing the formula (1), (2), (3) or (4) are a diamine having a phenylene group and a diamine having a biphenylene group, respectively.

また、式(6)中のR3は、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、C1〜C16のアルキル基を示す一価の有機基である。得られるポリイミドの透明性、耐熱性、及び寸法安定性から、ハロゲンやハロゲン化アルキルなどの電子吸引基が好ましく、フッ素原子もしくはトリフルオロメチル基がさらに好ましく、特にはトリフルオロメチル基が好ましい。 R 3 in the formula (6) is a monovalent organic group that represents a halogen, an alkyl halide, or a C1-C16 alkyl group. In view of the transparency, heat resistance and dimensional stability of the resulting polyimide, an electron withdrawing group such as halogen or halogenated alkyl is preferred, a fluorine atom or a trifluoromethyl group is more preferred, and a trifluoromethyl group is particularly preferred.

ジアミンについては、得られるポリイミドの線膨張性及び着色性から、剛直で電子吸引基を有するジアミンが好ましく用いられる。R2としては式(6)中フェニレン基もしくは、ビフェニレン基、さらにはビフェニレン基が好ましい。中でもトリフルオロメチル基を有するジアミンが好ましい。最も好ましい具体的化合物として2,2'-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンが挙げられる。 As for the diamine, a rigid diamine having an electron withdrawing group is preferably used because of the linear expansion and colorability of the resulting polyimide. R 2 is preferably a phenylene group, a biphenylene group or even a biphenylene group in the formula (6). Of these, diamines having a trifluoromethyl group are preferred. The most preferred specific compound is 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine.

これらのジアミンは2種以上を併用することができる。また、本願発明のポリイミドフィルム中、ジアミン成分から派生する構造中、すべてがR2の構造を有するジアミンを用いることが好ましいが、R2以外の構造を有するジアミンをジアミン全体の70モル%、好ましくは50モル%、さらに好ましくは20モル%を超えない範囲で用いてもかまわない。当該ジアミンのジアミンも含めて複数種用いる場合、それらは規則的に配列されていてもよいし、ランダムにポリイミド中に存在していてもよい。 Two or more of these diamines can be used in combination. Further, in the polyimide film of the present invention, in the structure derived from the diamine component, it is preferable to use a diamine having an R 2 structure, but the diamine having a structure other than R 2 is preferably 70 mol% of the total diamine, May be used in a range not exceeding 50 mol%, more preferably not exceeding 20 mol%. When using multiple types including the diamine of the said diamine, they may be regularly arranged and may exist in the polyimide at random.

併用可能な他のジアミンとして、例えば、3,3'−ジアミノジフェニルエーテル、3,4'−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、3,3'−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、3,4'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、3,4'−ジアミノベンゾフェノン、3,3'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、3,4'−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ジ(3−アミノフェニル)プロパン、2,2−ジ(4−アミノフェニル)プロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ジ(3−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ジ(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,1−ジ(3−アミノフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ジ(4−アミノフェニル)−1−フェニルエタン、1−(3−アミノフェニル)−1−(4−アミノフェニル)−1−フェニルエタン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、2,6−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゾニトリル、2,6−ビス(3−アミノフェノキシ)ピリジン、4,4'−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、4,4'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4'−ビス[4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4'−ビス[4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、4,4'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ]ジフェニルスルホン、3,3'−ジアミノ−4,4'−ジフェノキシベンゾフェノン、3,3'−ジアミノ−4,4'−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3'−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、3,3'−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン、6,6'−ビス(3−アミノフェノキシ)−3,3,3',3'−テトラメチル−1,1'−スピロビインダン、6,6'−ビス(4−アミノフェノキシ)−3,3,3',3'−テトラメチル−1,1'−スピロビインダン、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3−ビス(4−アミノブチル)テトラメチルジシロキサン、α,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン、α,ω−ビス(3−アミノブチル)ポリジメチルシロキサン、ビス(アミノメチル)エーテル、ビス(2−アミノエチル)エーテル、ビス(3−アミノプロピル)エーテル、ビス(2−アミノメトキシ)エチル]エーテル、ビス[2−(2−アミノエトキシ)エチル]エーテル、ビス[2−(3−アミノプロトキシ)エチル]エーテル、1,2−ビス(アミノメトキシ)エタン、1,2−ビス(2−アミノエトキシ)エタン、1,2−ビス[2−(アミノメトキシ)エトキシ]エタン、1,2−ビス[2−(2−アミノエトキシ)エトキシ]エタン、エチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、ジエチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、1,10−ジアミノデカン、1,11−ジアミノウンデカン、1,12−ジアミノドデカン、1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、trans−1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,2−ジ(2−アミノエチル)シクロヘキサン、1,3−ジ(2−アミノエチル)シクロヘキサン、1,4−ジ(2−アミノエチル)シクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロへキシル)メタン、2,6−ビス(アミノメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ビス(アミノメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、をあげることができる。   Examples of other diamines that can be used in combination include 3,3′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl sulfide, and 3,4′-diaminodiphenyl. Sulfide, 4,4′-diaminodiphenylsulfide, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 3,4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminobenzophenone, 4,4 ′ -Diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-di (3-aminophenyl) propane, 2 , 2-di (4-aminophenyl) propane, 2- ( -Aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) propane, 2,2-di (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-di (4 -Aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3 -Hexafluoropropane, 1,1-di (3-aminophenyl) -1-phenylethane, 1,1-di (4-aminophenyl) -1-phenylethane, 1- (3-aminophenyl) -1- (4-aminophenyl) -1-phenylethane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene 1,4-bis (4- Minophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis ( 4-aminobenzoyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-α, α-ditrifluoromethyl) Benzyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) ben 1,4-bis (4-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 2,6-bis (3-aminophenoxy) benzonitrile, 2,6-bis (3-aminophenoxy) pyridine, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-amino Phenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [ 4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4- Aminophenoxy) phenyl] ether, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3 -(3-Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3 , 3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (3-Aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy)- , Α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) -α, α -Dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 4,4′-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4 , 4′-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4′-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone, 4,4′-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] diphenylsulfone, 3,3′-diamino-4,4′-diphenoxybenzophenone, 3,3′-diamino 4,4′-dibiphenoxybenzophenone, 3,3′-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,3′-diamino-4-biphenoxybenzophenone, 6,6′-bis (3-aminophenoxy) -3,3 , 3 ′, 3′-tetramethyl-1,1′-spirobiindane, 6,6′-bis (4-aminophenoxy) -3,3,3 ′, 3′-tetramethyl-1,1′-spirobiindane, 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,3-bis (4-aminobutyl) tetramethyldisiloxane, α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane, α, ω -Bis (3-aminobutyl) polydimethylsiloxane, bis (aminomethyl) ether, bis (2-aminoethyl) ether, bis (3-aminopropyl) ether, bis 2-aminomethoxy) ethyl] ether, bis [2- (2-aminoethoxy) ethyl] ether, bis [2- (3-aminoprotoxy) ethyl] ether, 1,2-bis (aminomethoxy) ethane, 1 , 2-bis (2-aminoethoxy) ethane, 1,2-bis [2- (aminomethoxy) ethoxy] ethane, 1,2-bis [2- (2-aminoethoxy) ethoxy] ethane, ethylene glycol bis ( 3-aminopropyl) ether, diethylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, triethylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diamino Pentane, 1,6-diaminohexane, 1,7-diaminoheptane, 1,8-diaminoio Tan, 1,9-diaminononane, 1,10-diaminodecane, 1,11-diaminoundecane, 1,12-diaminododecane, 1,2-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, trans-1,4-diaminocyclohexane, 1,2-di (2-aminoethyl) cyclohexane, 1,3-di (2-aminoethyl) cyclohexane, 1,4-di (2-aminoethyl) cyclohexane, bis ( 4-aminocyclohexyl) methane, 2,6-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane. Can do.

さらに目的に応じ、架橋点となるエチニル基、ベンゾシクロブテン−4'−イル基、ビニル基、アリル基、シアノ基、イソシアネート基、及びイソプロペニル基のいずれか1種又は2種以上を、上記ジアミンの芳香環上水素原子の一部若しくは全てに置換基として導入しても使用することができる。   Furthermore, depending on the purpose, any one or two or more of the ethynyl group, benzocyclobuten-4′-yl group, vinyl group, allyl group, cyano group, isocyanate group, and isopropenyl group serving as a crosslinking point, Even if it introduce | transduces into some or all of the hydrogen atoms on the aromatic ring of diamine as a substituent, it can be used.

置換基R3は、原料の状態で導入し、ジアミンの状態で既に置換基が導入されたものを用いても良いし、ジアミンと反応させてポリイミドやポリアミド酸の状態で導入しても良い。また、置換基を導入することで吸収する光の波長を調整することが可能であり、得られるフィルムの透明性や着色度に影響を与える。 The substituent R 3 may be introduced in the raw material state and may be introduced in the state of a diamine, and the substituent R 3 may be introduced in the state of polyimide or polyamic acid by reacting with the diamine. Moreover, it is possible to adjust the wavelength of light to be absorbed by introducing a substituent, which affects the transparency and coloring degree of the resulting film.

本発明におけるポリイミドフィルムは詳述しているように式(1)と式(2)、あるいは式(3)と式(4)を反応させて得られるポリアミド酸から誘導されるポリイミド構造を有することが特徴であるが、ポリイミドフィルムのイミド化率が85%以上、さらには93%以上、特には97%以上であることが好ましい。実質的にすべてがイミド化されていることが最も好ましい。   As described in detail, the polyimide film of the present invention has a polyimide structure derived from polyamic acid obtained by reacting Formula (1) and Formula (2), or Formula (3) and Formula (4). However, the imidation ratio of the polyimide film is preferably 85% or more, more preferably 93% or more, and particularly preferably 97% or more. Most preferably, substantially all are imidized.

本発明のポリイミドを製造する方法としては、従来公知の手法を適用することができるが、例えば、酸二無水物とジアミンから前駆体であるポリアミド酸を合成し、これに脱水触媒とイミド化剤を添加して塗布し、ポリイミドフィルムを得る手法が代表的に挙げられる(化学的イミド化)。ポリアミド酸の状態で成形し、その後、脱水触媒やイミド化剤を用いずに加熱によりイミド化を行う手法(熱的イミド化)では、得られるフィルムの線膨張や寸法安定性が悪く、目的には適さない。   As a method for producing the polyimide of the present invention, conventionally known methods can be applied. For example, a polyamic acid which is a precursor is synthesized from an acid dianhydride and a diamine, and a dehydration catalyst and an imidizing agent are synthesized therewith. As a representative method, a polyimide film can be obtained by adding and coating (chemical imidization). Molding in the state of polyamic acid, and then imidizing by heating without using a dehydration catalyst or imidizing agent (thermal imidization), the resulting film has poor linear expansion and dimensional stability, and the purpose Is not suitable.

用いるイミド化剤としては、3級アミンを用いることができる。3級アミンとしては複素環式の3級アミンがさらに好ましい。複素環式の3級アミンの好ましい具体例としてはピリジン、ピコリン、キノリン、イソキノリンをあげることができる。脱水触媒としては酸無水物を用いることができる。酸無水物としては具体的には無水酢酸、プロピオン酸無水物、n−酪酸無水物、安息香酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物等が好ましい具体例として挙げることができる。   As the imidizing agent to be used, a tertiary amine can be used. As the tertiary amine, a heterocyclic tertiary amine is more preferable. Preferable specific examples of the heterocyclic tertiary amine include pyridine, picoline, quinoline and isoquinoline. An acid anhydride can be used as the dehydration catalyst. Specific examples of preferred acid anhydrides include acetic anhydride, propionic anhydride, n-butyric anhydride, benzoic anhydride, trifluoroacetic anhydride, and the like.

イミド化剤や脱水触媒の添加量としては、ポリアミド酸のカルボン酸基に対して、イミド化剤は0.01から2.0倍モル当量、さらには0.05〜1.5倍モル当量、特には0.1〜1.0倍モル当量が好ましい。また、脱水触媒は0.05から15.0倍モル当量、さらには1.0〜12倍モル当量、特には2.0〜10倍モル当量が好ましい。   The amount of the imidizing agent or dehydration catalyst added is 0.01 to 2.0 times molar equivalent, more preferably 0.05 to 1.5 times molar equivalent, relative to the carboxylic acid group of the polyamic acid. In particular, a molar equivalent of 0.1 to 1.0 is preferable. The dehydration catalyst is preferably 0.05 to 15.0 times molar equivalent, more preferably 1.0 to 12 times molar equivalent, and particularly preferably 2.0 to 10 times molar equivalent.

ポリアミド酸溶液にイミド化剤や脱水触媒を加える際、溶剤に溶かさず直接加えても良いし、溶剤に溶かしたものを加えても良い。直接加える方法ではイミド化剤や脱水触媒が拡散する前に反応が急激に進行しゲルが生成することがある。好ましくはイミド化剤や脱水触媒を溶剤に溶かし、その溶液をポリアミド酸溶液に混合することが好ましい。   When an imidizing agent or a dehydration catalyst is added to the polyamic acid solution, it may be added directly without being dissolved in a solvent, or a solution dissolved in a solvent may be added. In the direct addition method, the reaction may rapidly proceed before the imidizing agent or the dehydration catalyst diffuses to form a gel. Preferably, the imidizing agent and the dehydration catalyst are dissolved in a solvent, and the solution is mixed with the polyamic acid solution.

次に、本発明に係るポリイミドを合成する手法をこれより具体的に例示するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Next, the method for synthesizing the polyimide according to the present invention will be illustrated more specifically, but the present invention is not limited thereto.

ポリアミド酸を得る方法は、アミン成分と酸無水物成分を混合することで得ることができる。混合中には攪拌していることが好ましい、攪拌時間は1〜100時間が好ましい。混合する際の温度は発熱に注意すれば室温でも良いが、10℃以下、さらには5℃以下が好ましい。アミン成分と酸無水物成分は実質的に等モル使用することが好ましい。混合方法はアミン成分に酸無水物成分を加える方法、その反対の方法が採用できるが、アミン成分に酸無水物成分を加える方法が好ましい。それぞれの成分は一度に加えても良いし、複数回に分けて加えることも出来る。   A method for obtaining a polyamic acid can be obtained by mixing an amine component and an acid anhydride component. It is preferable to stir during mixing, and the stirring time is preferably 1 to 100 hours. The temperature at the time of mixing may be room temperature if attention is paid to heat generation, but it is preferably 10 ° C. or lower, more preferably 5 ° C. or lower. It is preferable to use substantially equimolar amounts of the amine component and the acid anhydride component. As the mixing method, a method in which an acid anhydride component is added to an amine component and the opposite method can be adopted. Each component may be added at once, or may be added in multiple portions.

所定時間撹拌した後、ポリアミド酸溶液が得られる。そのポリアミド酸を3℃以下、さらには0℃付近の低温にしてイミド化剤と脱水剤を加えることが好ましい。イミド化剤と脱水剤を加えた後、溶液を激しく攪拌し真空下もしくは遠心沈殿機等を用いて脱泡した後、ガラスやフィルムなどの基板上に塗布乾燥し、塗膜を成形させる。それを例えば300℃以上に加熱することでポリイミドの塗膜が得られる。   After stirring for a predetermined time, a polyamic acid solution is obtained. It is preferable to add the imidizing agent and the dehydrating agent at a low temperature of 3 ° C. or lower, more preferably near 0 ° C. After adding an imidizing agent and a dehydrating agent, the solution is vigorously stirred and defoamed under vacuum or using a centrifugal precipitator or the like, and then applied and dried on a substrate such as glass or a film to form a coating film. For example, a polyimide coating film can be obtained by heating it to 300 ° C. or higher.

このようにして合成される本発明のポリイミドは、低線膨張と低複屈折を有することを特徴としており、例えば引っ張り加重法により線熱膨張係数を測定する場合、15mm×5mmのフィルム試料に加重を3.0gとし、10℃/minの昇温速度で測定したときに、線熱膨張係数が40ppm/K以下、好ましくは20ppm/K以下、さらには10ppm/K以下、特には8ppm/K以下のポリイミドフィルムを得ることができる。また、このフィルムの複屈折を測定したとき、複屈折が0.2以下、好ましくは0.15以下、さらに好ましくは0.1以下のポリイミドフィルムを得ることができる。   The polyimide of the present invention synthesized in this manner is characterized by low linear expansion and low birefringence. For example, when measuring the linear thermal expansion coefficient by the tensile load method, a film sample of 15 mm × 5 mm is weighted. Is 3.0 g, and the linear thermal expansion coefficient is 40 ppm / K or less, preferably 20 ppm / K or less, more preferably 10 ppm / K or less, and particularly 8 ppm / K or less when measured at a heating rate of 10 ° C./min. The polyimide film can be obtained. Moreover, when the birefringence of this film is measured, a polyimide film having a birefringence of 0.2 or less, preferably 0.15 or less, and more preferably 0.1 or less can be obtained.

本発明に係るポリアミド酸の重量平均分子量は、その用途にもよるが、3,000〜1,000,000の範囲であることが好ましく、5,000〜500,000の範囲であることがさらに好ましく、10,000〜500,000の範囲であることがさらに好ましい。重量平均分子量が小さいと塗膜又はフィルムとした場合に十分な強度が得られにくく、また、着色の原因になるポリマー末端の数が相対的に多くなることから着色する場合がある。一方、大きすぎると溶液粘度が上昇し、溶媒への溶解性も落ちてくるため、表面が平滑で膜厚が均一な塗膜又はフィルムが得られにくくなる。   The weight average molecular weight of the polyamic acid according to the present invention is preferably in the range of 3,000 to 1,000,000, more preferably in the range of 5,000 to 500,000, although it depends on the use. Preferably, it is in the range of 10,000 to 500,000. When the weight average molecular weight is small, it is difficult to obtain sufficient strength when a coating film or film is used, and coloring may occur because the number of polymer ends that cause coloring is relatively large. On the other hand, if it is too large, the viscosity of the solution increases and the solubility in the solvent also decreases, so that it becomes difficult to obtain a coating film or film having a smooth surface and a uniform film thickness.

ここで用いている分子量とは、ゲルパーミレーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の値のことをいう。   The molecular weight used here refers to a value in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).

本発明のポリイミドは、低線膨張と低複屈折を有することを特徴とするが、耐熱性、絶縁性等のポリイミド本来の特性も損なわれておらず、良好である。   The polyimide of the present invention is characterized by having a low linear expansion and a low birefringence, but is good because the original properties of the polyimide such as heat resistance and insulation are not impaired.

ガラス転移温度は、耐熱性の観点からは高ければ高いほど良いが、示差走査熱量測定装置において、昇温速度10℃/minの条件で測定したときのガラス転移温度が、200℃以上が好ましく、更に好ましくは300℃以上であるとよい。   The glass transition temperature is preferably as high as possible from the viewpoint of heat resistance, but in a differential scanning calorimeter, the glass transition temperature when measured at a temperature rising rate of 10 ° C./min is preferably 200 ° C. or higher. More preferably, it is good at 300 degreeC or more.

本発明に係るポリアミド酸は、そのまま製品や部材を作製するためのコーティングや成形プロセスに供してもよいが、フィルム状に成形された成形物にさらにコーティング等の処理を行い積層物として用いることが出来る。コーティングあるいは成形プロセスに供するために、該ポリアミド酸を必要に応じて溶剤に溶解又は分散させ、さらに、光又は熱硬化性成分、本発明に係るポリアミド酸以外の非重合性バインダー樹脂、その他の成分を配合して、ポリイミド樹脂組成物を調製してもよい。   The polyamic acid according to the present invention may be used as it is for a coating or molding process for producing a product or member as it is, but it may be used as a laminate by subjecting a molded product formed into a film to a treatment such as coating. I can do it. In order to provide a coating or molding process, the polyamic acid is dissolved or dispersed in a solvent as necessary, and further, a light or thermosetting component, a non-polymerizable binder resin other than the polyamic acid according to the present invention, and other components. May be blended to prepare a polyimide resin composition.

本発明に係る樹脂組成物に加工特性や各種機能性を付与するために、その他に様々な有機又は無機の低分子又は高分子化合物を配合してもよい。例えば、染料、界面活性剤、レベリング剤、可塑剤、微粒子、増感剤等を用いることができる。微粒子には、ポリスチレン、ポリテトラフルオロエチレン等の有機微粒子、コロイダルシリカ、カーボン、層状珪酸塩等の無機微粒子等が含まれ、それらは多孔質や中空構造であってもよい。また、その機能又は形態としては顔料、フィラー、繊維等がある。   In order to impart processing characteristics and various functionalities to the resin composition according to the present invention, various organic or inorganic low-molecular or high-molecular compounds may be blended. For example, dyes, surfactants, leveling agents, plasticizers, fine particles, sensitizers, and the like can be used. The fine particles include organic fine particles such as polystyrene and polytetrafluoroethylene, inorganic fine particles such as colloidal silica, carbon, and layered silicate, and these may have a porous or hollow structure. The function or form includes pigments, fillers, fibers, and the like.

本発明に係るポリイミドフィルムは、その表面に金属酸化物や透明電極等の各種無機薄膜を形成していても良い。これら無機薄膜の製膜方法は特に限定されるものではなく、例えばCVD法、スパッタリング法や真空蒸着法、イオンプレーティング法等のPVD法であっても良い。   The polyimide film according to the present invention may have various inorganic thin films such as metal oxides and transparent electrodes formed on the surface thereof. The method for forming these inorganic thin films is not particularly limited, and may be, for example, a PVD method such as a CVD method, a sputtering method, a vacuum deposition method, or an ion plating method.

本発明に係るポリイミド樹脂組成物は、耐熱性、絶縁性等のポリイミド本来の特性に加えて、高い寸法安定性を有することから、これらの特性が有効とされる分野・製品、例えば、印刷物、カラーフィルター、フレキシブルディスプレー、半導体部品、層間絶縁膜、配線被覆膜、光回路、光回路部品、反射防止膜、ホログラム、光学部材又は建築材料を形成するのに適している。   Since the polyimide resin composition according to the present invention has high dimensional stability in addition to the original characteristics of polyimide such as heat resistance and insulation, fields and products in which these characteristics are effective, for example, printed matter, Suitable for forming color filters, flexible displays, semiconductor parts, interlayer insulating films, wiring coating films, optical circuits, optical circuit parts, antireflection films, holograms, optical members or building materials.

具体的には、本発明のポリイミドフィルムをいわゆる光学フィルムとして用い、偏向子と組み合わせて偏光板として用いることができる。また、液晶セルの少なくとも一方の表面に本発明のポリイミドフィルムあるいは本発明のポリイミドフィルムを用いた偏光板からなる光学部材を設け、液晶パネルとしても用いることができる。   Specifically, the polyimide film of the present invention can be used as a so-called optical film and used as a polarizing plate in combination with a deflector. Moreover, the optical member which consists of a polarizing plate using the polyimide film of this invention or the polyimide film of this invention is provided in the at least one surface of a liquid crystal cell, and it can use also as a liquid crystal panel.

さらには、当該液晶パネルを用いた液晶表示装置としても用いることができる。   Furthermore, it can also be used as a liquid crystal display device using the liquid crystal panel.

(前駆体溶液の合成)
(1)前駆体溶液1の合成
2,2'-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン 5.50g(17.2mmol)を100mLの3つ口フラスコに投入し、59.5gの脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解させ窒素気流下、撹拌した。そこへ、上記3,3',4,4'-BPDA5.0g(17.0mmol)を氷冷下(3℃)で添加し、添加終了後、2日間撹拌し、粘稠液体(前駆体溶液1)を得た。
(Synthesis of precursor solution)
(1) Synthesis of Precursor Solution 1 2.50 g (17.2 mmol) of 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine was put into a 100 mL three-necked flask, and 59.5 g of dehydrated dimethylacetamide ( The solution was dissolved in DMAc) and stirred under a nitrogen stream. Thereto, 5.0 g (17.0 mmol) of 3,3 ′, 4,4′-BPDA was added under ice-cooling (3 ° C.). After the addition was completed, the mixture was stirred for 2 days to obtain a viscous liquid (precursor solution). 1) was obtained.

(2)前駆体溶液2の合成
2,2'-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン 4.0g(12.5mmol)を100mLの3つ口フラスコに投入し、39.7gの脱水されたDMAcに溶解させ窒素気流下、撹拌した。そこへ、ピロメリット酸二無水物3.0g(13.8mmol)を氷冷下(3℃)で添加し、添加終了後、1日間撹拌し、粘稠液体(前駆体溶液2)を得た。
(2) Synthesis of Precursor Solution 2 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine (4.0 g, 12.5 mmol) was charged into a 100 mL three-necked flask and dissolved in 39.7 g of dehydrated DMAc. The mixture was stirred under a nitrogen stream. Thereto, 3.0 g (13.8 mmol) of pyromellitic dianhydride was added under ice cooling (3 ° C.), and after completion of the addition, the mixture was stirred for 1 day to obtain a viscous liquid (precursor solution 2). .

(3)前駆体溶液3の合成
前駆体溶液1(14.3g)と前駆体溶液2(1.3g)を50mLの3つ口フラスコに投入し、窒素気流下、撹拌した。1日間撹拌し、粘稠液体(前駆体溶液3)を得た。また、この前駆体溶液3の分子量を測定した結果、重量平均分子量は144000であった。
(3) Synthesis of precursor solution 3 Precursor solution 1 (14.3 g) and precursor solution 2 (1.3 g) were placed in a 50 mL three-necked flask and stirred under a nitrogen stream. The mixture was stirred for 1 day to obtain a viscous liquid (precursor solution 3). Moreover, as a result of measuring the molecular weight of this precursor solution 3, the weight average molecular weight was 144000.

(4)前駆体溶液4の合成
2,2'-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン 5.39g(16.8mmol)を100mLの3つ口フラスコに投入し、58.9gの脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解させ窒素気流下、撹拌した。そこへ、上記3,3',4,4'-BPDA5.0g(17.0mmol)を氷冷下(3℃)で添加し、添加終了後、2日間撹拌し、粘稠液体(前駆体溶液4)を得た。
(4) Synthesis of Precursor Solution 4 2.39 g (16.8 mmol) of 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine was charged into a 100 mL three-necked flask, and 58.9 g of dehydrated dimethylacetamide ( The solution was dissolved in DMAc) and stirred under a nitrogen stream. Thereto, 5.0 g (17.0 mmol) of 3,3 ′, 4,4′-BPDA was added under ice-cooling (3 ° C.). After the addition was completed, the mixture was stirred for 2 days to obtain a viscous liquid (precursor solution). 4) was obtained.

(5)前駆体溶液5の作成
前駆体溶液4(14.3g)と前駆体溶液2(1.3g)を50mLの3つ口フラスコに投入し、窒素気流下、撹拌した。1日間撹拌し、粘稠液体(前駆体溶液5)を得た。
(5) Preparation of precursor solution 5 Precursor solution 4 (14.3 g) and precursor solution 2 (1.3 g) were placed in a 50 mL three-necked flask and stirred under a nitrogen stream. The mixture was stirred for 1 day to obtain a viscous liquid (precursor solution 5).

(実施例1)
合成した上記前駆体溶液3(15.6g)を0℃付近に冷却した後、βピコリン0.16g(1.7mmol)及び無水酢酸1.18g(11.6mmol)の混合液を添加して激しく攪拌した。その後、真空下で脱泡したのち、ポリエチレンナフタレートフィルム上に流し、スリット間隔を0.5mmに設定したバーコーターでフィルム上に塗布した。その後、120℃に温められたオーブン内で7分20秒乾燥させた。その後、窒素雰囲気下、オーブンにより300℃で1時間加熱を行い、ポリイミドフィルムを得た。
Example 1
After the synthesized precursor solution 3 (15.6 g) was cooled to around 0 ° C., a mixed solution of 0.16 g (1.7 mmol) of β-picoline and 1.18 g (11.6 mmol) of acetic anhydride was added vigorously. Stir. Then, after defoaming under vacuum, it was poured on a polyethylene naphthalate film and applied onto the film with a bar coater in which the slit interval was set to 0.5 mm. Then, it was dried in an oven heated to 120 ° C. for 7 minutes and 20 seconds. Thereafter, heating was performed at 300 ° C. for 1 hour in an oven under a nitrogen atmosphere to obtain a polyimide film.

(比較例1)
合成した上記前駆体溶液5(15.6g)を0℃付近に冷却した後、βピコリン0.16g(1.7mmol)及び無水酢酸1.18g(11.6mmol)の混合液を添加して激しく攪拌した。その後、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。
(Comparative Example 1)
After the synthesized precursor solution 5 (15.6 g) is cooled to around 0 ° C., a mixed solution of 0.16 g (1.7 mmol) of β-picoline and 1.18 g (11.6 mmol) of acetic anhydride is added vigorously. Stir. Thereafter, a polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1.

(比較例2)
合成した上記前駆体溶液4(20.0g)を0℃付近に冷却した後、βピコリン0.23g(2.5mmol)及び無水酢酸1.5g(14.7mmol)の混合液を添加して激しく攪拌した。その後、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。
(Comparative Example 2)
After the synthesized precursor solution 4 (20.0 g) was cooled to around 0 ° C., a mixed solution of β3 picoline 0.23 g (2.5 mmol) and acetic anhydride 1.5 g (14.7 mmol) was added vigorously. Stir. Thereafter, a polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1.

(比較例3)
合成した上記前駆体溶液4(20.0g)を0℃付近に冷却した後、βピコリン0.68g(7.3mmol)及び無水酢酸4.5g(44.1mmol)の混合液を添加して激しく攪拌した。その後、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。
(Comparative Example 3)
After the synthesized precursor solution 4 (20.0 g) was cooled to around 0 ° C., a mixed solution of β-picoline 0.68 g (7.3 mmol) and acetic anhydride 4.5 g (44.1 mmol) was added vigorously. Stir. Thereafter, a polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1.

[ガラス転移温度の評価]
島津製作所製DSC−50(島津熱流束示差走査熱量計)により、昇温速度10℃/minで測定してポリマーのTg(ガラス転位温度)を求めた。
[Evaluation of glass transition temperature]
The Tg (glass transition temperature) of the polymer was determined by DSC-50 (Shimadzu heat flux differential scanning calorimeter) measured at a rate of temperature increase of 10 ° C./min.

[線熱膨張係数の評価]
上記で作製したフィルムの線熱膨張係数を、熱機械的分析装置Thermo Plus TMA8310(リガク社製)によって、15mm×5mmのフィルム試料に加重を3.0gとし、10℃/minの昇温速度で測定を行った。
[Evaluation of linear thermal expansion coefficient]
With the thermomechanical analyzer Thermo Plus TMA8310 (manufactured by Rigaku Corporation), the linear thermal expansion coefficient of the film prepared above was set to a weight of 3.0 g on a 15 mm × 5 mm film sample at a heating rate of 10 ° C./min. Measurements were made.

[複屈折の評価]
上記で作成したフィルムのレタデーションを、位相差測定装置KOBRA(王子計測機器株式会社製)によって測定し、フィルムの厚みで除することにより求めた。
[Evaluation of birefringence]
The retardation of the film created above was measured by a phase difference measuring device KOBRA (manufactured by Oji Scientific Instruments) and determined by dividing by the thickness of the film.

実施例および比較例において膜物性を評価した結果を表1に示す。   Table 1 shows the results of evaluating film properties in Examples and Comparative Examples.

Figure 2011111596
Figure 2011111596

表1から次のことが明らかである。
(1)比較例1、2で得られたフィルムの複屈折は、実施例と同程度であるが、線膨張係数が顕著に悪い。
(2)比較例3で得られたフィルムの線膨張係数は、実施例と同程度であるが、複屈折は顕著に悪い。
From Table 1, the following is clear.
(1) The birefringence of the films obtained in Comparative Examples 1 and 2 is comparable to that of the Examples, but the linear expansion coefficient is remarkably bad.
(2) The linear expansion coefficient of the film obtained in Comparative Example 3 is almost the same as in Examples, but the birefringence is remarkably bad.

表1のフィルムのTgを測定した結果、320℃までに明確なTgは観測されなかった。   As a result of measuring the Tg of the film of Table 1, no clear Tg was observed up to 320 ° C.

これらの結果より、本発明のポリイミドフィルムは、耐熱性が良好で、且つ、低線膨張・低複屈折を両立したフィルムを作製することが可能である為、これらの特性が有効とされる分野・製品、例えば、塗料、印刷インキ、カラーフィルター、フレキシブルディスプレー用フィルム、半導体装置、電子部品、層間絶縁膜、配線被覆膜、光回路、光回路部品、反射防止膜、ホログラム、その他の光学部材又は建築材料を形成するのに適している。   From these results, since the polyimide film of the present invention has good heat resistance and can produce a film having both low linear expansion and low birefringence, these characteristics are effective.・ Products such as paint, printing ink, color filters, flexible display films, semiconductor devices, electronic components, interlayer insulation films, wiring coating films, optical circuits, optical circuit components, antireflection films, holograms, and other optical members Or it is suitable for forming building materials.

具体的には、偏光板、液晶パネル、当該液晶パネルを用いた液晶表示装置としても用いることができる。   Specifically, it can also be used as a polarizing plate, a liquid crystal panel, and a liquid crystal display device using the liquid crystal panel.

Claims (18)

下記式(1)で示す化合物と下記式(2)で示す化合物、あるいは下記式(3)で示す化合物と下記式(4)で示す化合物を反応させて得られるポリアミド酸に脱水触媒及びイミド化剤を混合した溶液を支持体上に流延することにより作成することを特徴とする、ポリイミドフィルムの製造方法。
Figure 2011111596
式中nは繰り返し単位の数を示し、
Figure 2011111596
式中mは繰り返し単位を示し、nよりも小さな整数であり、前記式(1)と(2)のR2は必ずしも同一のものでなくてもよく、
Figure 2011111596
式中oは繰り返し単位の数を示し、
Figure 2011111596
式中pは繰り返し単位の数を示し、oよりも小さな整数であり、前記式(3)と(4)のR2は必ずしも同一のものでなくてもよい。
前記式のR1は下記一般式(5)から選択される4価の有機基を、また、R2は下記一般式(6)から選択される2価の有機基を示し、
Figure 2011111596
Figure 2011111596
式中R3は、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、C1〜C16のアルキル基を示す。
A dehydration catalyst and imidation are carried out on a polyamic acid obtained by reacting a compound represented by the following formula (1) and a compound represented by the following formula (2), or a compound represented by the following formula (3) and a compound represented by the following formula (4). A method for producing a polyimide film, which is prepared by casting a solution mixed with an agent on a support.
Figure 2011111596
Where n represents the number of repeating units,
Figure 2011111596
In the formula, m represents a repeating unit and is an integer smaller than n, and R 2 in the formulas (1) and (2) may not necessarily be the same,
Figure 2011111596
Where o represents the number of repeating units,
Figure 2011111596
In the formula, p represents the number of repeating units and is an integer smaller than o, and R 2 in the formulas (3) and (4) may not necessarily be the same.
R 1 in the above formula represents a tetravalent organic group selected from the following general formula (5), and R 2 represents a divalent organic group selected from the following general formula (6).
Figure 2011111596
Figure 2011111596
In the formula, R 3 represents a halogen, an alkyl halide, or a C1-C16 alkyl group.
前記式(2)あるいは(4)で表される繰り返し単位として、R1の構造が下記一般式(7)であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミドフィルムの製造方法。
Figure 2011111596
2. The method for producing a polyimide film according to claim 1, wherein the repeating unit represented by the formula (2) or (4) has a structure of R 1 represented by the following general formula (7).
Figure 2011111596
前記式(1)、(2)、(3)あるいは(4)で表される繰り返し単位として、R2の構造が下記一般式(8)から選択される2価の有機基であることを特徴とする請求項1または2に記載のポリイミドフィルムの製造方法。
Figure 2011111596
As the repeating unit represented by the formula (1), (2), (3) or (4), the structure of R 2 is a divalent organic group selected from the following general formula (8). The manufacturing method of the polyimide film of Claim 1 or 2.
Figure 2011111596
3がハロゲン、もしくは、ハロゲン化アルキルであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。 The method for producing a polyimide film according to any one of claims 1 to 3, wherein R 3 is halogen or an alkyl halide. 3がトリフルオロメチル基であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。 The method for producing a polyimide film according to any one of claims 1 to 4, wherein R 3 is a trifluoromethyl group. 前記式(1)と(2)、あるいは前記式(3)と(4)を反応させて得られるポリアミド酸にイミド化剤と脱水触媒を用いてイミド化することを特徴とする、請求項1乃至5のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。 The polyamic acid obtained by reacting the formulas (1) and (2) or the formulas (3) and (4) is imidized by using an imidizing agent and a dehydration catalyst. The manufacturing method of the polyimide film in any one of thru | or 5. イミド化剤が3級アミンであることを特徴とする請求項6に記載のポリイミドフィルムの製造方法。   The method for producing a polyimide film according to claim 6, wherein the imidizing agent is a tertiary amine. 脱水触媒が酸無水物であることを特徴とする請求項6または7に記載のポリイミドフィルムの製造方法。   The method for producing a polyimide film according to claim 6 or 7, wherein the dehydration catalyst is an acid anhydride. イミド化剤が、ポリアミド酸のカルボン酸に対して0.01モル倍当量以上を用いることを特徴とする、請求項6乃至8のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。   The method for producing a polyimide film according to any one of claims 6 to 8, wherein the imidizing agent is used in an amount of 0.01 molar equivalent or more with respect to the carboxylic acid of the polyamic acid. 脱水触媒が、ポリアミド酸のカルボン酸に対して0.05モル倍当量以上を用いることを特徴とする、請求項6乃至9のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。   The method for producing a polyimide film according to any one of claims 6 to 9, wherein the dehydration catalyst is used in an amount of 0.05 molar equivalent or more with respect to the carboxylic acid of the polyamic acid. ポリアミド酸の重量平均分子量が3,000以上である、請求項1乃至10のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法。   The manufacturing method of the polyimide film in any one of Claims 1 thru | or 10 whose weight average molecular weights of a polyamic acid are 3,000 or more. 線熱膨張係数が40ppm/K以下である、請求項1乃至11のいずれかに記載の方法で製造されたポリイミドフィルム。 The polyimide film manufactured with the method in any one of Claims 1 thru | or 11 whose linear thermal expansion coefficient is 40 ppm / K or less. 複屈折が0.1以下である、請求項12に記載のポリイミドフィルム。   The polyimide film of Claim 12 whose birefringence is 0.1 or less. ガラス転移温度が200℃以上である、請求項12または13に記載のポリイミドフィルム。   The polyimide film of Claim 12 or 13 whose glass transition temperature is 200 degreeC or more. 光学フィルムと偏光子とを含む偏光板であって、前記光学フィルムが請求項11乃至14のいずれかに記載のポリイミドフィルムである偏光板。   A polarizing plate comprising an optical film and a polarizer, wherein the optical film is a polyimide film according to claim 11. 液晶セルの少なくとも一方の表面に光学部材が配置された液晶パネルであって、前記光学部材が、請求項11乃至14のいずれかに記載のポリイミドフィルムである液晶パネル。   A liquid crystal panel in which an optical member is disposed on at least one surface of a liquid crystal cell, wherein the optical member is a polyimide film according to claim 11. 液晶セルの少なくとも一方の表面に光学部材が配置された液晶パネルであって、前記光学部材が請求項15記載の偏光板である液晶パネル。   A liquid crystal panel in which an optical member is disposed on at least one surface of a liquid crystal cell, wherein the optical member is a polarizing plate according to claim 15. 液晶パネルを含む液晶表示装置であって、前記液晶パネルが請求項17記載の液晶パネルである液晶表示装置。   A liquid crystal display device including a liquid crystal panel, wherein the liquid crystal panel is a liquid crystal panel according to claim 17.
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