JP2011082031A

JP2011082031A - Contact device, relay using the same, and micro relay

Info

Publication number: JP2011082031A
Application number: JP2009233705A
Authority: JP
Inventors: Koji Yokoyama; 浩司横山; Hiroshi Iwano; 博岩野; Susumu Kajita; 進梶田; Takeshi Hashimoto; 健橋本; Yoshiki Hayazaki; 嘉城早崎; Toru Baba; 徹馬場; Takaaki Yoshihara; 孝明吉原; Takeo Shirai; 健雄白井; Masakazu Adachi; 雅和足立
Original assignee: Panasonic Electric Works Co Ltd
Current assignee: Panasonic Electric Works Co Ltd
Priority date: 2009-10-07
Filing date: 2009-10-07
Publication date: 2011-04-21

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a contact device suppressing deformation and damage of a contact in closing between contacts; a relay using the same; and a micro relay. <P>SOLUTION: The contact device includes: a fixed contact 1; a movable contact 21a coming in contact with and separating from the fixed contact 1; a movable part 2 including the movable contact 21a and swingable between a position where the movable contact 21a is in contact with the fixed contact 1 and a position for separating from the fixed contact; and a frame C arranged separately from the movable part 2. The movable part 2 includes: a swingably supported body part 20; a contact part 21 arranged separately from the body part 20 and including the movable contact 21a on a surface opposite to the fixed contact 1; and an elastic support part 22 connecting the body part 20 to the contact part 21. An elastic deceleration spring part 23 connects the frame C to the contact part 21. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレーに関する。 The present invention relates to a contact device, a relay using the contact device, and a micro relay.

従来から、高周波用小型リレーとして、半導体微細加工技術を利用して形成されたＭＥＭＳリレーなどのマイクロリレーが提供されており、例えば特許文献１に開示されているようなものがある。特許文献１に記載のマイクロリレーは、ヨークに巻回されたコイルへの励磁電流に応じて磁束を発生する電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部、及びフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュア、及びアーマチュアが固定される可動部に接圧ばね部を介して支持され可動接点が設けられた可動接点基台部を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備えたもので、電磁石装置には、ベース基板の厚み寸法内でアーマチュアとヨークとにより形成される磁路中に永久磁石が設けられている。尚、本発明に係る接点装置とは、固定接点と、可動接点と、可動接点を接離自在に変位させる手段とを有するものであって、上記従来例のように前記手段として電磁石装置を用いた電磁リレーなどに利用される。 Conventionally, as a high-frequency small-sized relay, a micro relay such as a MEMS relay formed by using a semiconductor microfabrication technique has been provided, for example, as disclosed in Patent Document 1. The micro relay described in Patent Document 1 has a storage portion that stores an electromagnet device that generates a magnetic flux in response to an excitation current applied to a coil wound around a yoke, and a fixed contact is provided on one surface side in the thickness direction. The base substrate, a frame-like frame portion fixed to the one surface side of the base substrate, and an inner portion of the frame portion that is swingably supported by the frame portion via a support spring portion. An armature block having an armature to be driven and a movable contact base supported by a movable portion to which the armature is fixed via a contact pressure spring portion and provided with a movable contact; The electromagnet device is formed by an armature and a yoke within the thickness dimension of the base substrate. Permanent magnet is provided in the magnetic path that. The contact device according to the present invention includes a fixed contact, a movable contact, and a means for displacing the movable contact so that the movable contact can be freely moved. As in the conventional example, an electromagnet device is used as the means. Used for electromagnetic relays.

特開２００５−２１６５４１号公報JP 2005-216541 A

しかしながら、上記従来例では、接点間を閉成する際に、可動接点が固定接点に衝突した時の衝突エネルギーによって接点が変形したり、損傷を受けたりする虞がある。このため、接点が劣化して接点寿命が短くなるという問題があった。 However, in the above conventional example, when the contact is closed, the contact may be deformed or damaged by the collision energy when the movable contact collides with the fixed contact. For this reason, there was a problem that the contact point deteriorated and the contact life was shortened.

本発明は、上記の点に鑑みて為されたもので、接点間を閉成する際に接点の変形や損傷を抑制することのできる接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレーを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above points, and provides a contact device capable of suppressing deformation and damage of the contact when closing the contact, a relay using the contact device, and a micro relay. For the purpose.

請求項１の発明は、上記目的を達成するために、固定接点と、固定接点に接離自在な可動接点と、可動接点を有するとともに可動接点が固定接点と接触する位置と開離する位置との間で揺動自在な可動部と、可動部と離間して設けられる固定部とを備えた接点装置であって、可動部は、揺動自在に支持される本体部と、本体部と一体に揺動するとともに固定接点と対向する一面に可動接点が設けられた接点部とから成り、固定部と接点部との間を弾性を有する減速ばね部で連結したことを特徴とする。 In order to achieve the above object, the first aspect of the present invention provides a fixed contact, a movable contact that can be brought into contact with and separated from the fixed contact, a position having the movable contact and a position at which the movable contact comes into contact with the fixed contact A contact device including a movable part swingable between and a fixed part provided apart from the movable part, wherein the movable part is integrally supported with the main body part supported in a swingable manner. And a contact part provided with a movable contact on one surface facing the fixed contact, and the fixed part and the contact part are connected by an elastic reduction spring part.

請求項２の発明は、請求項１の発明において、可動部は、本体部と、本体部と離間して設けられる接点部と、弾性を有し本体部と接点部とを互いに連結する支持部とから成ることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the movable portion includes a main body portion, a contact portion provided apart from the main body portion, and a support portion that has elasticity and connects the main body portion and the contact portion to each other. It is characterized by comprising.

請求項３の発明は、請求項２の発明において、減速ばね部は１乃至複数対であって、減速ばね部の各対は、本体部の中心と接点部の中心とを通る直線に対して線対称に配置されることを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, there are one or more pairs of reduction spring portions, and each pair of reduction spring portions is relative to a straight line passing through the center of the main body portion and the center of the contact portion. It is arranged in line symmetry.

請求項４の発明は、請求項２又は３の発明において、減速ばね部は、接点部における本体部に近い側の端部に連結されることを特徴とする。 The invention of claim 4 is characterized in that, in the invention of claim 2 or 3, the reduction spring portion is connected to an end portion of the contact portion on the side close to the main body portion.

請求項５の発明は、請求項３の発明において、減速ばね部は、本体部の中心と接点部の中心とを結ぶ直線と直交し且つ接点部の中心を通る直線上に配置されることを特徴とする。 According to a fifth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the reduction spring portion is arranged on a straight line that is orthogonal to a straight line connecting the center of the main body portion and the center of the contact portion and passes through the center of the contact portion. Features.

請求項６の発明は、請求項１乃至５の何れか１項に記載の接点装置と、可動接点が固定接点に対して接離するように可動部を駆動する駆動装置とを備えたことを特徴とする。 A sixth aspect of the invention includes the contact device according to any one of the first to fifth aspects, and a driving device that drives the movable portion so that the movable contact is in contact with and away from the fixed contact. Features.

請求項７の発明は、請求項６記載のリレーにおいて、駆動装置が、磁性材料より成り可動部に設けられるアーマチュアを吸引する磁場を発生させることで可動部を揺動させる電磁石装置から成るマイクロリレーであって、基板より成り電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一面側に固定接点が設けられたベースと、ベースの前記一面側に固着される枠状のフレーム、及びフレームに揺動自在に支持される可動部とアーマチュアとを有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベースの反対側で周部がフレームに固着されるカバーとを備えたことを特徴とする。 According to a seventh aspect of the present invention, in the relay according to the sixth aspect, the driving device is a micro relay comprising an electromagnet device that swings the movable portion by generating a magnetic field that is made of a magnetic material and attracts the armature provided on the movable portion. A base formed of a substrate and containing an electromagnet device and having a fixed contact on one side in the thickness direction; a frame-like frame fixed to the one side of the base; and a frame An armature block having a movable portion and an armature that are swingably supported, and a cover whose peripheral portion is fixed to the frame on the opposite side of the base of the armature block.

請求項８の発明は、請求項６記載のリレーにおいて、駆動装置が、磁性材料より成り可動部に設けられるアーマチュアを吸引する磁場を発生させることで可動部を揺動させる電磁石装置から成るマイクロリレーであって、基板より成り厚み方向の一面側に固定接点が設けられたベースと、ベースの前記一面側に固着される枠状のフレーム、及びフレームに揺動自在に支持される可動部とアーマチュアとを有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベースの反対側で周部がフレームに固着され且つ電磁石装置を収納する収納部が形成されたカバーとを備えたことを特徴とする。 The invention according to claim 8 is the relay according to claim 6, wherein the driving device is an electromagnet device that swings the movable portion by generating a magnetic field that attracts an armature made of a magnetic material and provided on the movable portion. And a base made of a substrate and provided with a fixed contact on one side in the thickness direction, a frame-like frame fixed to the one side of the base, and a movable part and an armature that are swingably supported by the frame. And a cover having a peripheral portion fixed to the frame on the opposite side of the base of the armature block and having a storage portion for storing the electromagnet device.

請求項１の発明によれば、接点間を閉成する際に、減速ばね部が接点部を引き上げる力によって可動接点が固定接点に向かう速度を減速させることができる。したがって、減速に伴って可動接点の運動エネルギーが減少することで固定接点と衝突する際の衝突エネルギーも減少し、衝突による接点の変形や損傷を抑制することができる。 According to invention of Claim 1, when closing between contacts, the speed which a movable contact heads to a fixed contact can be decelerated with the force in which a deceleration spring part pulls up a contact part. Therefore, the kinetic energy of the movable contact decreases as the vehicle decelerates, so that the collision energy when colliding with the fixed contact also decreases, and deformation and damage of the contact due to the collision can be suppressed.

請求項２の発明によれば、接点部のみに減速ばね部による力を与えることから、本体部と接点部とが一体に設けられている場合と比較して減速ばね部による反力を抑えることができ、したがって可動部を駆動させるための駆動力を小さくすることができる。 According to the invention of claim 2, since the force by the reduction spring portion is applied only to the contact portion, the reaction force by the reduction spring portion is suppressed as compared with the case where the main body portion and the contact portion are provided integrally. Therefore, the driving force for driving the movable part can be reduced.

請求項３の発明によれば、１つの減速ばね部で接点部を支持する場合と比較してバランスが崩れにくくなるため、接点間の開閉動作の安定性を向上させることができる。 According to the invention of claim 3, since the balance is less likely to be lost as compared with the case where the contact point portion is supported by one deceleration spring portion, the stability of the opening / closing operation between the contact points can be improved.

請求項４の発明によれば、接点間を閉成する際に、可動接点の本体部から遠い側の端部から近い側の端部にかけて徐々に固定接点に押し込まれるために、可動接点全体が固定接点に対して押し込まれて接点の接触信頼性を向上させることができる。 According to the fourth aspect of the present invention, when closing the contacts, the movable contacts are gradually pushed into the fixed contacts from the end portions on the side far from the main body portion to the end portions on the near side. The contact reliability of the contact can be improved by being pushed into the fixed contact.

請求項５の発明によれば、接点間を閉成する際に、可動接点を固定接点に対して平衡状態を保ちながら固定接点に押し込むことができるので、可動接点全体が固定接点に対して確実に押し込まれ、接点の接触信頼性を向上させることができる。 According to the fifth aspect of the present invention, when the contact is closed, the movable contact can be pushed into the fixed contact while maintaining a balanced state with respect to the fixed contact. The contact reliability of the contacts can be improved.

請求項６の発明によれば、請求項１乃至５の何れか１項に記載の効果を奏するリレーを実現することができる。 According to the invention of claim 6, it is possible to realize a relay having the effect described in any one of claims 1 to 5.

請求項７，８の発明によれば、請求項１乃至５の何れか１項に記載の効果を奏するマイクロリレーを実現することができる。 According to the seventh and eighth aspects of the invention, a microrelay having the effect of any one of the first to fifth aspects can be realized.

本発明に係る接点装置の実施形態１を示す図で、（ａ）は要部の平面図で、（ｂ）はａ−ａ’線断面矢視図で、（ｃ）は動作説明図で、（ｄ）は減速ばね部を設けなかった場合の動作説明図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows Embodiment 1 of the contact apparatus which concerns on this invention, (a) is a top view of the principal part, (b) is an aa 'line sectional arrow view, (c) is operation | movement explanatory drawing, (D) is operation | movement explanatory drawing at the time of not providing the deceleration spring part. 同上のリブに減速ばね部を連結した場合を示す要部の平面図である。It is a top view of the principal part which shows the case where the deceleration spring part is connected with the rib same as the above. 本発明に係る接点装置の実施形態２を示す要部の平面図である。It is a top view of the principal part which shows Embodiment 2 of the contact apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る接点装置の実施形態３を示す図で、（ａ）は要部の平面図で、（ｂ）は減速ばね部を接点部の異なる部位に連結した場合の要部の平面図である。It is a figure which shows Embodiment 3 of the contact apparatus which concerns on this invention, (a) is a top view of the principal part, (b) is a top view of the principal part at the time of connecting a deceleration spring part to a different site | part of a contact part. is there. 本発明に係るマイクロリレーの基本形態１を示す図で、（ａ）は分解斜視図で、（ｂ）は下側から見た斜視図である。It is a figure which shows the basic form 1 of the micro relay which concerns on this invention, (a) is a disassembled perspective view, (b) is the perspective view seen from the lower side. 本発明に係るマイクロリレーの基本形態２を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the basic form 2 of the micro relay which concerns on this invention. 同上の断面図である。It is sectional drawing same as the above.

以下、本発明に係る接点装置の実施形態を説明するにあたって、本発明の接点装置を備えたマイクロリレーの基本形態１，２について図面を用いて説明する。尚、以下の説明では、図５（ａ）における上下を上下方向と定めるものとする。 Hereinafter, in describing embodiments of a contact device according to the present invention, basic forms 1 and 2 of a microrelay including the contact device of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the vertical direction in FIG. 5A is defined as the vertical direction.

（基本形態１）
本基本形態は、図５（ａ），（ｂ）に示すように、ヨーク６０に巻回されたコイル６２への励磁電流に応じて磁束を発生する電磁石装置６と、矩形板状のガラス基板から成り厚み方向の一面（上面）側において長手方向の両端部それぞれに各１対の固定接点５０が設けられたベース５と、ベース５の上面側に固着される矩形枠状のフレーム３１、及びフレーム３１の内側に配置されて４本の支持ばね部３２を介してフレーム３１に揺動自在に支持される可動部３０、及び可動部３０にそれぞれ２本の接圧ばね部３５を介して支持されるとともに各々可動接点（図示せず）が設けられた２つの可動接点基台部３４、及び磁性材料より成り可動部３０に設けられて電磁石装置６により駆動されるアーマチュア（図示せず）を有するアーマチュアブロック３と、アーマチュアブロック３におけるベース５の反対側で周部がフレーム３に固着される矩形板状のガラス基板から成るカバー４とを備えている。 (Basic form 1)
As shown in FIGS. 5A and 5B, the basic form includes an electromagnet device 6 that generates a magnetic flux in response to an exciting current applied to a coil 62 wound around a yoke 60, and a rectangular plate-like glass substrate. A base 5 provided with a pair of fixed contacts 50 at each end in the longitudinal direction on one surface (upper surface) side in the thickness direction, a rectangular frame 31 fixed to the upper surface side of the base 5, and A movable portion 30 disposed inside the frame 31 and supported by the frame 31 via the four support spring portions 32 so as to be swingable. The movable portion 30 is supported by two contact pressure spring portions 35. In addition, two movable contact bases 34 each provided with a movable contact (not shown) and an armature (not shown) provided on the movable part 30 made of a magnetic material and driven by the electromagnet device 6 are provided. Having armature And click 3, the peripheral portion on the opposite side of the base 5 in the armature block 3 and a cover 4 made of a rectangular plate-shaped glass substrate which is fixed to the frame 3.

電磁石装置６におけるヨーク６０は、図５（ａ）に示すように、２つのコイル６２が直接巻回される細長の矩形板状のコイル巻回部６０ａと、コイル巻回部６０ａの長手方向の両端部それぞれから可動部３０に近づく向きに延設されてコイル６２への励磁電流に応じて互いの先端面が異極に励磁される１対の脚片６０ｂと、両脚片６０ｂの間でコイル巻回部６０ａの長手方向の中央部に重ねて配置された矩形板状の永久磁石６１と、細長の矩形板状であってコイル巻回部６０ａにおける永久磁石６１との対向面の反対側でコイル巻回部６０ａと直交するように固着される樹脂成型体６３とを備えている。尚、ヨーク６０は電磁軟鉄などの鉄板を曲げ加工あるいは鋳造加工することにより形成されており、両脚片６０ｂの断面が矩形状に形成されている。 As shown in FIG. 5A, the yoke 60 in the electromagnet device 6 has an elongated rectangular plate-shaped coil winding portion 60a around which the two coils 62 are directly wound, and a longitudinal direction of the coil winding portion 60a. A pair of leg pieces 60b that extend from both ends toward the movable part 30 and whose opposite end surfaces are excited with different polarities according to the excitation current to the coil 62, and the coil between the leg pieces 60b. A rectangular plate-shaped permanent magnet 61 arranged in the center of the winding portion 60a in the longitudinal direction and an elongated rectangular plate-like shape on the opposite side of the surface facing the permanent magnet 61 in the coil winding portion 60a. And a resin molded body 63 fixed so as to be orthogonal to the coil winding portion 60a. The yoke 60 is formed by bending or casting an iron plate such as electromagnetic soft iron, and the cross sections of both leg pieces 60b are formed in a rectangular shape.

永久磁石６１は、厚み方向の両磁極面が互いに異極に着磁されており、一方の磁極面がコイル巻回部６０ａに当接し、他方の磁極面が両脚片６０ｂの先端面と同一平面上に位置するように厚み寸法を設定してある。また、各コイル６２は、それぞれ永久磁石６１と両脚片６０ｂとによってコイル巻回部６０ａの長手方向への移動が規制される。樹脂成型体６３は絶縁性を有する樹脂材料から成り、その一面における長手方向の両端部にコイル端子６３ａが一部を露出する形で設けられている。この各コイル端子６３ａにおいて円形状に形成された部位が外部接続用電極を構成し、矩形状に形成された部位がコイル接続部を構成している。尚、各コイル端子６３ａにおける外部接続用電極には、導電性材料（例えば、Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，半田など）から成るバンプ６４が適宜固着されるが、バンプ６４を固着する代わりにボンディングワイヤをボンディングしても構わない。 In the permanent magnet 61, both magnetic pole surfaces in the thickness direction are magnetized differently from each other, one magnetic pole surface is in contact with the coil winding portion 60a, and the other magnetic pole surface is flush with the tip surfaces of both leg pieces 60b. The thickness dimension is set so as to be located above. Further, each coil 62 is restricted from moving in the longitudinal direction of the coil winding portion 60a by the permanent magnet 61 and both leg pieces 60b. The resin molded body 63 is made of an insulating resin material, and the coil terminals 63a are provided so as to partially expose the longitudinal ends of one surface thereof. In each of the coil terminals 63a, a circular part forms an external connection electrode, and a rectangular part forms a coil connection part. A bump 64 made of a conductive material (for example, Au, Ag, Cu, solder, etc.) is appropriately fixed to the external connection electrode in each coil terminal 63a, but a bonding wire is used instead of fixing the bump 64. Bonding is acceptable.

ベース５は、パイレックス（登録商標）のような耐熱ガラスにより矩形状に形成されており、図５（ｂ）に示すように、その中央部には厚み方向に貫通して電磁石装置６を収納する収納孔５６が貫設され、四隅の各近傍には厚み方向に貫通するスルーホール（図示せず）が貫設されている。また、ベース５の厚み方向の両面であって各スルーホールの周縁にはランド５２が形成されている。ここで、ベース５の厚み方向において重なるランド５２同士は、スルーホールの内周面に被着された導電性材料（例えば、Ｃｕ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｐｔ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ａｕ，或いはこれらの合金など）から成る導体層（図示せず）によって電気的に接続されている。また、ベース５の厚み方向の他面（下面）側の各ランド５２にはバンプ５３が適宜固着されており、バンプ５３をランド５２に固着することによって、ベース５の下面側ではスルーホールの開口面がバンプ５３により覆われる。各スルーホールの開口面は円形状であって、ベース５の上面には、各スルーホールの開口面及びランド５２を覆うシリコン薄膜から成る４枚の蓋体５４が固着されている。 The base 5 is formed in a rectangular shape by heat-resistant glass such as Pyrex (registered trademark), and as shown in FIG. 5B, the central portion penetrates in the thickness direction and houses the electromagnet device 6. A storage hole 56 is provided therethrough, and through holes (not shown) penetrating in the thickness direction are provided in the vicinity of the four corners. Also, lands 52 are formed on both sides of the base 5 in the thickness direction and on the periphery of each through hole. Here, the lands 52 overlapping in the thickness direction of the base 5 are conductive materials (for example, Cu, Cr, Ti, Pt, Co, Ni, Au, or alloys thereof) deposited on the inner peripheral surface of the through hole. Etc.) are electrically connected by a conductor layer (not shown). Further, bumps 53 are appropriately fixed to the lands 52 on the other surface (lower surface) side in the thickness direction of the base 5. By fixing the bumps 53 to the lands 52, openings of through holes are formed on the lower surface side of the base 5. The surface is covered with bumps 53. The opening surface of each through hole is circular, and four lids 54 made of a silicon thin film covering the opening surface of each through hole and the land 52 are fixed to the upper surface of the base 5.

各１対の固定接点５０は、図５（ａ）に示すように、ベース５の長手方向の両端部においてベース５の短手方向に離間して形成された２つのスルーホールの間で並設されており、前記短手方向において隣り合うスルーホールの周縁に形成されたランド５２と導電パターン５１を介して電気的に接続されている。ここで、固定接点５０及び導電パターン５１及びランド５２の材料としては、例えば、Ｃｒ，Ｔｉ，Ｐｔ，Ｃｏ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ａｕ，或いはこれらの合金などの導電性材料を採用すればよく、バンプ５３の材料としては、例えば、Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，半田などの導電性材料を採用すればよい。尚、スルーホール及び収納孔５６は、例えば、サンドブラスト法やエッチング法などによって形成すればよく、導体層は、例えば、電気めっき法や真空蒸着法、スパッタ法などによって形成すればよい。 As shown in FIG. 5A, each pair of fixed contacts 50 is arranged in parallel between two through holes formed at both ends in the longitudinal direction of the base 5 and spaced apart in the short direction of the base 5. It is electrically connected via a conductive pattern 51 and a land 52 formed at the periphery of the through hole adjacent in the short direction. Here, as a material of the fixed contact 50, the conductive pattern 51, and the land 52, for example, a conductive material such as Cr, Ti, Pt, Co, Cu, Ni, Au, or an alloy thereof may be employed. As the material of 53, for example, a conductive material such as Au, Ag, Cu, or solder may be employed. The through hole and the accommodation hole 56 may be formed by, for example, a sand blast method or an etching method, and the conductor layer may be formed by, for example, an electroplating method, a vacuum evaporation method, a sputtering method, or the like.

収納孔５６の開口面は、図５（ｂ）に示すように十字状であって、ベースの上面側には、収納孔５６を閉塞するシリコン薄膜からなる蓋体５７が固着されている。ここで、電磁石装置６は、ヨーク６０の両脚片６０ｂの各先端面が蓋体５７と対向する形で収納孔５６に挿入される。電磁石装置６は、永久磁石６１がベース５の厚み寸法内でアーマチュアとヨーク６０とで形成される磁路中に設けられ、樹脂成型体６３の表面がベース５の下面と略面一となっている。尚、蓋体５４，５７は、シリコン基板をエッチングや研磨などで薄膜化することにより形成したシリコン薄膜により構成されており、厚み寸法を２０μｍに設定してある。ここで、蓋体５７の厚み寸法は２０μｍに限定するものではなく、例えば５〜５０μｍ程度の範囲内で適宜設定すればよい。また、蓋体５４，５７は、シリコン薄膜に限らず、ガラス基板をエッチングや研磨などで薄膜化することにより形成したガラス薄膜により構成してもよい。 The opening surface of the storage hole 56 has a cross shape as shown in FIG. 5B, and a lid 57 made of a silicon thin film that closes the storage hole 56 is fixed to the upper surface side of the base. Here, the electromagnet device 6 is inserted into the storage hole 56 such that the front end surfaces of both leg pieces 60 b of the yoke 60 face the lid body 57. In the electromagnet device 6, the permanent magnet 61 is provided in a magnetic path formed by the armature and the yoke 60 within the thickness dimension of the base 5, and the surface of the resin molded body 63 is substantially flush with the lower surface of the base 5. Yes. The lids 54 and 57 are made of a silicon thin film formed by thinning a silicon substrate by etching or polishing, and the thickness dimension is set to 20 μm. Here, the thickness dimension of the lid 57 is not limited to 20 μm, and may be appropriately set within a range of, for example, about 5 to 50 μm. Further, the lids 54 and 57 are not limited to the silicon thin film, but may be formed of a glass thin film formed by thinning a glass substrate by etching or polishing.

アーマチュアブロック３は、図５（ａ）に示すように、シリコン基板から成る半導体基板を半導体微細加工プロセスにより加工することによって形成された、上述の矩形枠状のフレーム３１と、４本の支持ばね部３２と、フレーム３１の内側に配置される矩形板状の可動部３０と、４本の接圧ばね部３５と、２つの可動接点基台部３４とから構成される。可動部３０におけるベース５との対向面には、例えば、軟鉄、電磁ステンレス、パーマロイなどの磁性材料から成る矩形板状のアーマチュアが固着されている。 As shown in FIG. 5A, the armature block 3 includes a rectangular frame 31 and four support springs formed by processing a semiconductor substrate made of a silicon substrate by a semiconductor microfabrication process. It comprises a part 32, a rectangular plate-like movable part 30 arranged inside the frame 31, four contact pressure spring parts 35, and two movable contact base parts 34. For example, a rectangular plate-shaped armature made of a magnetic material such as soft iron, electromagnetic stainless steel, or permalloy is fixed to the surface of the movable portion 30 facing the base 5.

支持ばね部３２は、可動部３０の短手方向の両側面側で可動部３０の長手方向に離間して２箇所に形成されている。各支持ばね部３２は、一端部がフレーム３１に一体に連結され、他端部が可動部３０に一体に連結されている。尚、各支持ばね部３２は、平面形状において一端部と他端部との間の部位を同一面内で蛇行した形状に形成することにより長さ寸法を長くしてある。このため、可動部３０が揺動する際に各支持ばね部３２にかかる応力を分散させることができ、各支持ばね部３２が破損するのを防止することができる。 The support spring portions 32 are formed at two locations on both side surfaces in the short direction of the movable portion 30 so as to be separated from each other in the longitudinal direction of the movable portion 30. Each support spring portion 32 has one end portion integrally connected to the frame 31 and the other end portion integrally connected to the movable portion 30. In addition, each support spring part 32 is lengthened by forming the site | part between one end part and the other end part in the planar shape in the meandering shape in the same plane. For this reason, when the movable part 30 swings, the stress concerning each support spring part 32 can be disperse | distributed, and it can prevent that each support spring part 32 is damaged.

可動部３０は、短手方向の両側縁の中央部から矩形状の突片３６が一体に延設され、フレーム３１の内周面において突片３６に対応する部位からも矩形状の突片３７が一体に延設されている。これら突片３６，３７は互いの先端面同士が対向しており、突片３６の先端面に設けられた凸部が突片３７の先端面に設けられた凹部の内周面に当接することで、フレーム３１の厚み方向に直交する面内における可動部３０の移動が規制される。 The movable portion 30 has a rectangular protruding piece 36 integrally extending from the center of both side edges in the short direction, and a rectangular protruding piece 37 from a portion corresponding to the protruding piece 36 on the inner peripheral surface of the frame 31. Is integrally extended. The projecting pieces 36 and 37 are such that the tip surfaces thereof face each other, and the projection provided on the tip surface of the projection piece 36 abuts on the inner peripheral surface of the recess provided on the tip surface of the projection piece 37. Thus, the movement of the movable portion 30 in the plane orthogonal to the thickness direction of the frame 31 is restricted.

可動接点基台部３４は、可動部３０の長手方向において可動部３０の両端部とフレーム３１との間にそれぞれ配置され、そのベース５との対向面（下面）に導電性材料から成る可動接点が固着されている。ここで、可動接点基台部３４は、２本の接圧ばね部３５を介して可動部３０に支持されている。尚、可動部３０の四隅には、アーマチュアの変位量を制限するストッパ部３３がそれぞれ一体に延設されているため、接圧ばね部３５の平面形状は、ストッパ部３３の外周縁の３辺に沿ったコ字状に形成されている。 The movable contact base portion 34 is disposed between both ends of the movable portion 30 and the frame 31 in the longitudinal direction of the movable portion 30, and a movable contact made of a conductive material on a surface (lower surface) facing the base 5. Is fixed. Here, the movable contact base part 34 is supported by the movable part 30 via two contact pressure spring parts 35. In addition, since the stopper part 33 which restrict | limits the amount of armature displacement is integrally extended in the four corners of the movable part 30, respectively, the planar shape of the contact pressure spring part 35 is three sides of the outer periphery of the stopper part 33. It is formed in U shape along.

カバー４は、パイレックス（登録商標）のような耐熱ガラスにより構成されており、アーマチュアブロック３との対向面に可動部３０の揺動空間を確保する凹所（図示せず）が形成されている。 The cover 4 is made of heat-resistant glass such as Pyrex (registered trademark), and a recess (not shown) that secures a swinging space of the movable portion 30 is formed on the surface facing the armature block 3. .

ここで、フレーム３１におけるベース５との対向面（下面）の周部には、全周に亘って接合用金属薄膜（図示せず）が形成され、カバー４との対向面（上面）の周部にも全周に亘って接合用金属薄膜３８ａが形成されている。また、ベース５におけるアーマチュアブロック３との対向面（上面）の周部にも全周に亘って接合用金属薄膜５５が形成され、カバー４におけるアーマチュアブロック３との対向面（下面）の周部にも全周に亘って接合用金属薄膜（図示せず）が形成されている。したがって、アーマチュアブロック３とカバー４とベース５とを圧接又は陽極接合により気密的に接合することができ、ベース５とカバー４とフレーム３１とで囲まれる空間の気密性を向上させることができる。 Here, a metal thin film for bonding (not shown) is formed over the entire periphery of the surface (lower surface) facing the base 5 in the frame 31, and the periphery of the surface (upper surface) facing the cover 4. A metal thin film for bonding 38a is also formed on the entire portion over the entire circumference. Further, a metal thin film 55 for bonding is formed over the entire periphery of the surface of the base 5 facing the armature block 3 (upper surface), and the periphery of the surface of the cover 4 facing the armature block 3 (lower surface). In addition, a bonding metal thin film (not shown) is formed over the entire circumference. Therefore, the armature block 3, the cover 4 and the base 5 can be hermetically joined by pressure welding or anodic bonding, and the airtightness of the space surrounded by the base 5, the cover 4 and the frame 31 can be improved.

以下、本基本形態の動作について説明する。コイル６２へ通電が行われると、磁化の向きに応じてアーマチュアの長手方向の一端部がヨーク６０の一方の脚片６０ｂに吸引されて可動部３０が揺動し、可動部３０の他端側の可動接点基台部３４に保持された可動接点が対向する１対の固定接点５０に所定の接点圧で接触する。この状態で通電を停止しても、永久磁石６１の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。 Hereinafter, the operation of the basic mode will be described. When the coil 62 is energized, one end of the armature in the longitudinal direction is attracted to one leg piece 60b of the yoke 60 according to the direction of magnetization, and the movable part 30 swings, and the other end side of the movable part 30 The movable contact held by the movable contact base 34 contacts the pair of fixed contacts 50 facing each other with a predetermined contact pressure. Even if energization is stopped in this state, the attractive force is maintained by the magnetic flux generated by the permanent magnet 61, and the state is maintained as it is.

また、コイル６２への通電方向を逆向きにすると、アーマチュアの長手方向の他端部がヨーク６０の他方の脚片６０ｂに吸引されて可動部３０が揺動し、可動部３０の他端側の可動接点基台部３４に保持された可動接点が対向する１対の固定接点５０に所定の接点圧で接触する。この状態で通電を停止しても、永久磁石６１の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。 Further, when the energization direction to the coil 62 is reversed, the other end portion of the armature in the longitudinal direction is attracted to the other leg piece 60b of the yoke 60, and the movable portion 30 swings. The movable contact held by the movable contact base 34 contacts the pair of fixed contacts 50 facing each other with a predetermined contact pressure. Even if energization is stopped in this state, the attractive force is maintained by the magnetic flux generated by the permanent magnet 61, and the state is maintained as it is.

（基本形態２）
本基本形態は、図６，７に示すように、主として、ベース１００と、ベース１００の厚み方向の一面（上面）側に設けられるアーマチュアブロック２００と、アーマチュアブロック２００におけるベース１００側とは反対側（上側）に設けられるカバー３００と、電磁石装置４００とを備えている。 (Basic form 2)
As shown in FIGS. 6 and 7, this basic form is mainly composed of a base 100, an armature block 200 provided on one surface (upper surface) side in the thickness direction of the base 100, and a side opposite to the base 100 side in the armature block 200. A cover 300 provided on the upper side and an electromagnet device 400 are provided.

ベース１００は、例えば直方体状のガラス基板により形成されており、図６に示すように、ベース１００の上面側における長手方向両端側それぞれには、１対の伝送線路１１０が形成されている。伝送線路１１０は何れも直線状に形成されており、その長手方向がベース１００の短手方向と一致している。また、１対の伝送線路１１０は、ベース１００の短手方向に沿って一直線上に並設されている。ここで、ベース１００の厚み方向の他面（下面）側の長手方向両端側それぞれには、１対の外部接続電極（図示せず）が形成されている。当該１対の外部接続電極は、それぞれ１対の伝送線路１１０各々とベース１００を厚み方向に貫通する貫通孔配線（図示せず）を介して電気的に接続されている。 The base 100 is formed of, for example, a rectangular parallelepiped glass substrate. As shown in FIG. 6, a pair of transmission lines 110 are formed on each of both ends in the longitudinal direction on the upper surface side of the base 100. All of the transmission lines 110 are formed in a straight line, and the longitudinal direction thereof coincides with the short direction of the base 100. In addition, the pair of transmission lines 110 are arranged in a line along the short direction of the base 100. Here, a pair of external connection electrodes (not shown) are formed on both ends in the longitudinal direction on the other surface (lower surface) side in the thickness direction of the base 100. The pair of external connection electrodes are electrically connected to a pair of transmission lines 110 and through-hole wirings (not shown) penetrating the base 100 in the thickness direction.

また、ベース１００の上面側には、伝送線路１１０に電気的に接続される複数の固定接点１２０が形成されている。各固定接点１２０は、各伝送線路１１０においてベース１００の内側となる端部に接続されている。よって、ベース１００の左右両端側それぞれには、固定接点１２０が１対ずつ形成されている。尚、各伝送線路１１０においてベース１００の外側となる端部は、上述の貫通孔配線を介して外部接続電極に電気的に接続されている。また、固定接点１２０は、例えばＣｕやＡｕなどの導電性が良好な金属材料から成る金属薄膜であって、スパッタ法や電気めっき法、真空蒸着法などを利用して形成されている。更に、固定接点１２０は、単層構造に限らず、例えばＡｕ層と、Ａｕ層とベース１００との間に介在されるＴｉ層とから成る多層構造であってもよい。 A plurality of fixed contacts 120 electrically connected to the transmission line 110 are formed on the upper surface side of the base 100. Each fixed contact 120 is connected to an end portion that is inside the base 100 in each transmission line 110. Therefore, a pair of fixed contacts 120 are formed on each of the left and right ends of the base 100. In each transmission line 110, an end portion that is outside the base 100 is electrically connected to the external connection electrode through the above-described through-hole wiring. The fixed contact 120 is a metal thin film made of a metal material having good conductivity such as Cu or Au, and is formed by using a sputtering method, an electroplating method, a vacuum deposition method, or the like. Further, the fixed contact 120 is not limited to a single layer structure, and may be a multilayer structure including, for example, an Au layer and a Ti layer interposed between the Au layer and the base 100.

アーマチュアブロック２００は、主として、可動部２１０と、フレーム２２０とを有する。フレーム２２０は、矩形枠状に形成されており、このフレーム２２０の開口内に可動部２１０が配置される。ここで、フレーム２２０の開口は、フレーム２２０の中央部に設けられた矩形状の第１の開口部２３０と、フレーム２２０の長手方向の両端側それぞれに設けられた第２の開口部２３１とを含む。第２の開口部２３１は、それぞれ上下方向の中央部において第１の開口部２３０と連通している。尚、フレーム２２０の外形寸法はベース１００の外形寸法と等しくしてある。 The armature block 200 mainly includes a movable part 210 and a frame 220. The frame 220 is formed in a rectangular frame shape, and the movable portion 210 is disposed in the opening of the frame 220. Here, the opening of the frame 220 includes a rectangular first opening 230 provided at the center of the frame 220 and a second opening 231 provided at both ends in the longitudinal direction of the frame 220. Including. The second opening 231 communicates with the first opening 230 at the center in the vertical direction. The outer dimensions of the frame 220 are the same as the outer dimensions of the base 100.

可動部２１０は、フレーム２２０の第１の開口部２３０内に配置される本体部２１１を有している。本体部２１１は矩形板状に形成され、その長手方向をフレーム２２０の長手方向に沿わせた形で第１の開口部２３０内に配置される。本体部２１１の短手方向両端部の各中央部には、接点用突片２１２が突設されており、その先端部は第２の開口部２３１内に配置されている。接点用突片２１２におけるベース１００との対向面（下面）には、可動接点２１３が設けられている（図７参照）。可動接点２１３は、１対の固定接点１２０と接触した際に当該１対の固定接点１２０間を短絡するように構成されている。尚、可動接点２１３は、固定接点１２０と同様にＣｕやＡｕなどの金属材料から成る金属薄膜であり、スパッタ法や電気めっき法、真空蒸着法などを利用して形成されている。また、可動接点２１３も、単層構造に限らず、上述の固定接点１２０と同様に多層構造であってもよい。 The movable part 210 has a main body part 211 disposed in the first opening 230 of the frame 220. The main body 211 is formed in a rectangular plate shape, and is disposed in the first opening 230 so that its longitudinal direction is along the longitudinal direction of the frame 220. A contact protrusion 212 is provided at each central portion of both ends in the short direction of the main body 211, and the tip thereof is disposed in the second opening 231. A movable contact 213 is provided on a surface (lower surface) of the contact protrusion 212 facing the base 100 (see FIG. 7). The movable contact 213 is configured to short-circuit between the pair of fixed contacts 120 when contacting the pair of fixed contacts 120. The movable contact 213 is a metal thin film made of a metal material such as Cu or Au, like the fixed contact 120, and is formed using a sputtering method, an electroplating method, a vacuum deposition method, or the like. Further, the movable contact 213 is not limited to a single layer structure, and may have a multilayer structure like the fixed contact 120 described above.

一方、本体部２１１におけるカバー３００との対向面（上面）の中央部には、支点突起２１４が突設されている。この支点突起２１４は、可動部２１０の揺動動作（シーソー動作）の支点として用いられる。 On the other hand, a fulcrum protrusion 214 projects from the center of the surface (upper surface) of the main body 211 facing the cover 300. The fulcrum protrusion 214 is used as a fulcrum for the swinging operation (seesaw operation) of the movable portion 210.

このような可動部２１０は、複数（図示では４つ）の支持片２４０によりフレーム２２０と一体に連結されている。支持片２４０は、それぞれフレーム２２０の第１の開口部２３０の長手方向における内側面と、本体部２１１の短手方向の外側面とを一体に連結するように構成されている。４つの支持片２４０は、本体部２１１の中心を中心として点対称となるように配置されている。また、支持片２４０は、厚み方向に直交する面内で本体部２１１の長手方向に沿った方向に進退するように蛇行した形状に形成されている。これによって、可動部２１０がフレーム２２０に揺動自在に支持されるようになっている。また、各支持片２４０を蛇行した形状に形成することで長さ寸法を長くし、可動部２１０が揺動動作する際に支持片２４０に加えられる応力を分散している。 Such a movable portion 210 is integrally connected to the frame 220 by a plurality of (four in the drawing) support pieces 240. Each of the support pieces 240 is configured to integrally connect the inner side surface of the first opening 230 of the frame 220 in the longitudinal direction and the outer side surface of the main body 211 in the short direction. The four support pieces 240 are arranged so as to be point-symmetric about the center of the main body 211. Further, the support piece 240 is formed in a meandering shape so as to advance and retreat in a direction along the longitudinal direction of the main body portion 211 within a plane orthogonal to the thickness direction. As a result, the movable portion 210 is swingably supported by the frame 220. Further, each support piece 240 is formed in a meandering shape to increase the length dimension, and the stress applied to the support piece 240 when the movable portion 210 swings is dispersed.

上述したアーマチュアブロック２００において、可動部２１０とフレーム２２０と支持片２４０とは、例えば５０μｍ〜３００μｍ程度、好ましくは２００μｍ程度の厚みの半導体基板２５をフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などの半導体微細加工技術を利用してパターニングすることにより一体に形成されている。尚、半導体基板２５は、シリコンから成る半導体層と、酸化シリコン（ＳｉＯ_２）より成る絶縁層とを交互に積層したＳＯＩ（２層ＳＯＩ）基板である。 In the above-described armature block 200, the movable part 210, the frame 220, and the support piece 240 are formed on the semiconductor substrate 25 having a thickness of, for example, about 50 μm to 300 μm, preferably about 200 μm, by a semiconductor micromachining technique such as a photolithography technique and an etching technique. It is integrally formed by patterning using it. The semiconductor substrate 25 is an SOI (two-layer SOI) substrate in which semiconductor layers made of silicon and insulating layers made of silicon oxide (SiO ₂ ) are alternately stacked.

可動部２１０の本体部２１１におけるカバー３００との対向面（上面）には、アーマチュア５００が設けられている。アーマチュア５００は、電磁石装置４００が発生する磁場により可動部２１０を揺動させるために用いられている。アーマチュア５００は、例えば電磁軟鉄、電磁ステンレス、パーマロイなどの磁性材料を機械加工して矩形板状に形成され、接着、溶接、熱着、ロウ付けなどの方法によって本体部２１１に接合されている。また、可動部２１０におけるベース１００との対向面（下面）側には、アーマチュア５００を可動部２１０に保持するとともに可動部２１０を補強する補強部材６００が設けられている。尚、補強部材６００によってマイクロリレーの厚み寸法が大きくなるのを避けるために、ベース１００には補強部材６００を避ける凹部１３０が凹設されている（図６参照）。 An armature 500 is provided on a surface (upper surface) of the main body 211 of the movable unit 210 facing the cover 300. The armature 500 is used for swinging the movable part 210 by a magnetic field generated by the electromagnet device 400. The armature 500 is formed into a rectangular plate shape by machining a magnetic material such as electromagnetic soft iron, electromagnetic stainless steel, or permalloy, and is joined to the main body 211 by a method such as adhesion, welding, heat fitting, or brazing. In addition, a reinforcing member 600 that holds the armature 500 on the movable portion 210 and reinforces the movable portion 210 is provided on the side of the movable portion 210 facing the base 100 (lower surface). In order to avoid an increase in the thickness of the micro relay due to the reinforcing member 600, the base 100 is provided with a recess 130 that avoids the reinforcing member 600 (see FIG. 6).

上述したアーマチュアブロック２００は、可動接点２１３と１対の固定接点１２０とがそれぞれ対向する形で、フレーム２２０をベース１００に接合することによって、ベース１００の上面側に取付けられる。 The armature block 200 described above is attached to the upper surface side of the base 100 by joining the frame 220 to the base 100 with the movable contact 213 and the pair of fixed contacts 120 facing each other.

カバー３００は、例えば絶縁性材料であるガラス基板により形成されており、その外形寸法はベース１００の外形寸法と等しくしてある。このようにカバー３００は、フレーム２２０の開口を閉塞できる大きさに形成されている。カバー３００におけるフレーム２２０側とは反対側の面（上面）の中央部には、厚み方向に貫通する開孔部３１０が形成されている。開孔部３１０は、電磁石装置４００を収納できる大きさに形成され、そのフレーム２２０側の面（下面）には、開孔部３１０全体を閉塞する閉塞板３２０が密着接合されている。閉塞板３２０は、例えば厚みが５〜５０μｍ程度（好ましくは２０μｍ程度）に形成されたシリコン板やガラス板などから成る。この開孔部３１０の内周面と閉塞板３２０とで囲まれる空間部が電磁石装置４００の収納室を構成している。上述のカバー３００は、フレーム２２０におけるベース１００側とは反対側の面（上面）に接合される。 The cover 300 is formed of, for example, a glass substrate that is an insulating material, and the outer dimensions thereof are equal to the outer dimensions of the base 100. Thus, the cover 300 is formed in a size that can close the opening of the frame 220. An opening 310 that penetrates in the thickness direction is formed at the center of the surface (upper surface) opposite to the frame 220 side of the cover 300. The opening 310 is formed in a size that can accommodate the electromagnet device 400, and a closing plate 320 that closes the entire opening 310 is tightly bonded to a surface (lower surface) on the frame 220 side. The closing plate 320 is made of, for example, a silicon plate or a glass plate having a thickness of about 5 to 50 μm (preferably about 20 μm). A space surrounded by the inner peripheral surface of the opening 310 and the closing plate 320 constitutes a storage chamber of the electromagnet device 400. The cover 300 described above is joined to the surface (upper surface) of the frame 220 opposite to the base 100 side.

電磁石装置４００は、アーマチュア５００を吸引する磁場を発生させるもので、可動部２１０をラッチするための永久磁石４１０を備えている。電磁石装置４００は、主として、ヨーク４２０と、１対のコイル４３０とを備えている。ヨーク４２０は、長尺矩形板状の主片４２１と、主片４２１の表面側（下面側）の長手方向両端部それぞれに突設された矩形板状の脚片４２２とを一体に備えている。このようなヨーク４２０は、電磁軟鉄などの鉄板を曲げ加工或いは鍛造加工することにより形成されている。永久磁石４１０は、直方体状に形成され、厚み方向の一面側と他面側とが互いに異極となるように着磁されている。この永久磁石４１０は、上記他面をヨーク４２０の主片４２１の下面における長手方向中央部に当接させるようにして、ヨーク４２０に取り付けられる。１対のコイル４３０は、主片４２１における各脚片４２２と永久磁石４１０との間の部位それぞれに配置される。 The electromagnet device 400 generates a magnetic field that attracts the armature 500 and includes a permanent magnet 410 for latching the movable portion 210. The electromagnet device 400 mainly includes a yoke 420 and a pair of coils 430. The yoke 420 is integrally provided with a long rectangular plate-shaped main piece 421 and rectangular plate-shaped leg pieces 422 projecting from both ends in the longitudinal direction on the surface side (lower surface side) of the main piece 421. . Such a yoke 420 is formed by bending or forging an iron plate such as electromagnetic soft iron. The permanent magnet 410 is formed in a rectangular parallelepiped shape, and is magnetized so that one surface side and the other surface side in the thickness direction have different polarities. The permanent magnet 410 is attached to the yoke 420 such that the other surface is in contact with the central portion in the longitudinal direction of the lower surface of the main piece 421 of the yoke 420. The pair of coils 430 is disposed at each portion of the main piece 421 between each leg piece 422 and the permanent magnet 410.

また、電磁石装置４００には、１対のコイル端子（図示せず）が設けられている。この１対のコイル端子間に電圧を印加することで、両コイル４３０に電流が流れる。このような電磁石装置４００は、カバー３００の上記収納室に収納される。ここで、カバー３００におけるアーマチュアブロック２００側とは反対側の面（上面）には、直線状の配線パターン（図示せず）が形成されており、この配線パターンの一端部にコイル端子が半田付けなどによって電気的に接続される。 Further, the electromagnet device 400 is provided with a pair of coil terminals (not shown). By applying a voltage between the pair of coil terminals, a current flows through both coils 430. Such an electromagnet device 400 is stored in the storage chamber of the cover 300. Here, a linear wiring pattern (not shown) is formed on the surface (upper surface) of the cover 300 opposite to the armature block 200 side, and a coil terminal is soldered to one end of the wiring pattern. Etc. are electrically connected.

ベース１００の下面側には、両コイル４３０に通電するための駆動電極（図示せず）が設けられており、この駆動電極と配線パターンの他端部とが厚み方向で重なる位置に、ベース１００、アーマチュアブロック２００、カバー３００を厚み方向に貫通する貫通孔（図示せず）が貫設されている。この貫通孔内には貫通孔配線（図示せず）が形成されており、この貫通孔配線と配線パターンとを介して駆動電極とコイル端子とが電気的に接続される。 A drive electrode (not shown) for energizing both coils 430 is provided on the lower surface side of the base 100, and the base 100 is located at a position where the drive electrode and the other end of the wiring pattern overlap in the thickness direction. A through hole (not shown) penetrating the armature block 200 and the cover 300 in the thickness direction is provided. A through-hole wiring (not shown) is formed in the through-hole, and the drive electrode and the coil terminal are electrically connected through the through-hole wiring and the wiring pattern.

以下、本基本形態の動作について説明する。両コイル４３０への通電が行われると、磁化の向きに応じてアーマチュア５００の長手方向の一端部がヨーク４２０の一方の脚片４２２に吸引されて可動部２１０の本体部２１１が揺動し、本体部２１１の長手方向一端側の接点用突片２１２に設けられた可動接点２１３が対向する１対の固定接点１２０に所定の接点圧で接触する。この状態で通電を停止しても、永久磁石４１０の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。 Hereinafter, the operation of the basic mode will be described. When energization of both the coils 430 is performed, one end of the armature 500 in the longitudinal direction is attracted to one leg piece 422 of the yoke 420 according to the direction of magnetization, and the main body 211 of the movable unit 210 swings. The movable contact 213 provided on the contact protrusion 212 on one end in the longitudinal direction of the main body 211 comes into contact with the pair of fixed contacts 120 facing each other with a predetermined contact pressure. Even if energization is stopped in this state, the attractive force is maintained by the magnetic flux generated by the permanent magnet 410, and the state is maintained as it is.

また、両コイル４３０への通電方向を逆向きにすると、アーマチュア５００の長手方向の他端部がヨーク４２０の他方の脚片４２２に吸引されて可動部２１０の本体部２１１が揺動し、本体部２１１の長手方向他端側の接点用突片２１２に設けられた可動接点２１３が対向する１対の固定接点１２０に所定の接点圧で接触する。この状態で通電を停止しても、永久磁石４１０の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。 Further, when the energization direction of both the coils 430 is reversed, the other end portion of the armature 500 in the longitudinal direction is attracted to the other leg piece 422 of the yoke 420, and the main body portion 211 of the movable portion 210 swings. The movable contact 213 provided on the contact protrusion 212 on the other end side in the longitudinal direction of the portion 211 comes into contact with a pair of fixed contacts 120 facing each other with a predetermined contact pressure. Even if energization is stopped in this state, the attractive force is maintained by the magnetic flux generated by the permanent magnet 410, and the state is maintained as it is.

上述のように、本基本形態では電磁石装置４００をカバー３００の開孔部３１０に収納しているので、電磁石装置４００をベース１００に収納する場合と比較してベース１００の厚みを薄くすることができる。このため、固定接点１２０を外部接続電極に接続するための貫通孔配線を短くすることができ、高周波特性を向上させることができる。また、電磁石装置４００と固定接点１２０との間の距離を長くすることができるので、電磁石装置４００が発生する磁場による影響を低減することができる。 As described above, since the electromagnet device 400 is housed in the opening 310 of the cover 300 in this basic embodiment, the thickness of the base 100 can be reduced compared to the case where the electromagnet device 400 is housed in the base 100. it can. For this reason, the through-hole wiring for connecting the fixed contact 120 to the external connection electrode can be shortened, and the high frequency characteristics can be improved. In addition, since the distance between the electromagnet device 400 and the fixed contact 120 can be increased, the influence of the magnetic field generated by the electromagnet device 400 can be reduced.

（実施形態１）
以下、本発明に係る接点装置の実施形態１について図面を用いて説明する。尚、以下の説明では、図１（ｂ）における上下左右を上下左右方向と定めるものとする。本実施形態は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、１対（図示では１つ）の固定接点１と、各固定接点１に接離自在な１対（図示では１つ）の可動接点２１ａと、可動接点２１ａを有するとともに可動接点２１ａが固定接点１と接触する位置と開離する位置との間で揺動自在な可動部２とを備える。尚、本実施形態は、ベースＡ及びカバーＢ及びフレームＣで囲まれる空間に収納されており、ベースＡにおける可動部２の長手方向両端部と対向する部位にそれぞれ固定接点１が設けられている。また、本実施形態の可動部２は、ベースＡと対向する一面（下面）に設けられた矩形板状のアーマチュア２ａが電磁石装置（図示せず）によって吸引されることで揺動するようになっている。 (Embodiment 1)
Hereinafter, a contact device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the top, bottom, left, and right in FIG. In this embodiment, as shown in FIGS. 1A and 1B, a pair (one in the figure) of the fixed contacts 1 and a pair (one in the figure) that can be contacted and separated from each of the fixed contacts 1 are shown. And a movable part 2 having a movable contact 21a and swingable between a position where the movable contact 21a contacts the fixed contact 1 and a position where the movable contact 21a is separated. In addition, this embodiment is accommodated in the space enclosed by the base A, the cover B, and the frame C, and the fixed contact 1 is provided in each part of the base A facing both ends in the longitudinal direction of the movable part 2. . In addition, the movable portion 2 of the present embodiment swings when a rectangular plate-shaped armature 2a provided on one surface (lower surface) facing the base A is attracted by an electromagnet device (not shown). ing.

可動部２は、揺動自在に支持される矩形板状の本体部２０と、本体部２０と離間して設けられるとともに固定接点１と対向する一面（下面）に可動接点２１ａが設けられた矩形板状の１対（図示では１つ）の接点部２１と、弾性を有し可動部２の長手方向の両端部において本体部２０と接点部２１とを各々互いに連結する２対（図示では１対）の支持部２２とから成る。 The movable portion 2 is a rectangular plate-shaped main body portion 20 that is supported in a swingable manner, and a rectangular shape that is provided apart from the main body portion 20 and that has a movable contact 21 a on one surface (lower surface) facing the fixed contact 1. A pair of plate-shaped contact portions (one in the drawing) 21 and two pairs (1 in the drawing) that connect the main body portion 20 and the contact portion 21 to each other at both ends in the longitudinal direction of the movable portion 2 having elasticity. A pair of support portions 22.

ベースＡにおける本体部２０の長手方向の中央部と対向する部位には、上方に向かって突出する支点突起２０ａが一体に形成されており、この支点突起２０ａが可動部２の揺動する際の支点となる。また、本体部２０の長手方向の両端部（図示では一端部のみ）における下面には、下方に突出するストッパ２０ｂがそれぞれ一体に形成されている。可動部２が揺動する際に当該ストッパ２０ｂの下端部がベースＡと当接することで、可動部２の上下方向の移動を規制している。 A fulcrum projection 20a that protrudes upward is integrally formed at a portion of the base A that faces the central portion of the main body 20 in the longitudinal direction. The fulcrum projection 20a is integrally formed when the movable portion 2 swings. It becomes a fulcrum. Further, stoppers 20b projecting downward are integrally formed on the lower surfaces of both ends in the longitudinal direction of the main body 20 (only one end in the figure). When the movable portion 2 swings, the lower end portion of the stopper 20b contacts the base A, thereby restricting the vertical movement of the movable portion 2.

接点部２１は、本体部２０の長手方向両端部とそれぞれ離間して設けられ、各々のベースＡと対向する一面（下面）に可動接点２１ａが固着されている。また、接点部２１の本体部２０に近い側の端部（図示では左端部）が固定接点１との接触部位となっている。支持部２２は何れも略コ字状に形成され、その一端部が本体部２０と一体に連結するとともに他端部が接点部２１と一体に連結している。尚、可動部２の長手方向の両端部それぞれにおいて、支持部２２を可動部２の短手方向の両端側にそれぞれ設けることで、各接点部２１を本体部２０に対してバランス良く支持している。また、各支持部２２の他端部側には、同一面内で蛇行した形状に形成された蛇行部２２ａが設けられており、当該蛇行部２２ａにより支持部２２の長さ寸法を長くしてある。このため、可動部２が揺動する際に各支持部２２にかかる応力を分散させ、各支持部２２が破損するのを防止している。 The contact portion 21 is provided to be separated from both longitudinal ends of the main body portion 20, and a movable contact 21 a is fixed to one surface (lower surface) facing each base A. Further, the end portion (left end portion in the drawing) of the contact portion 21 on the side close to the main body portion 20 is a contact portion with the fixed contact 1. Each of the support portions 22 is formed in a substantially U shape, and one end portion thereof is integrally connected to the main body portion 20 and the other end portion is integrally connected to the contact portion 21. In addition, in each of the both ends of the movable part 2 in the longitudinal direction, the support parts 22 are provided on both ends in the short direction of the movable part 2, so that each contact part 21 is supported in a balanced manner with respect to the main body part 20. Yes. In addition, a meandering portion 22a formed in a meandering shape in the same plane is provided on the other end side of each supporting portion 22, and the length of the supporting portion 22 is increased by the meandering portion 22a. is there. For this reason, when the movable part 2 swings, the stress applied to each support part 22 is dispersed to prevent each support part 22 from being damaged.

ここで、本実施形態では、弾性を有するとともに同一面内で蛇行した形状に形成された減速ばね部２３でフレームＣ（固定部）と接点部２１とを一体に連結している。減速ばね部２３は、その一端がフレームＣに連結されているため、可動部２が揺動して接点部２１が固定接点１に近付くと、減速ばね部２３が接点部２１によって引っ張られるため、接点部２１を固定接点１から遠ざける、即ち、接点部２１を上方へ引き上げる向きに復帰力が生じる。この復帰力によって、可動接点２１ａが固定接点１に向かう速度を減速させることができる。例えば、接点間を閉成する際の一定時間の間における可動接点２１ａの上下方向の移動距離を見ると、減速ばね部２３を設けない場合では、図１（ｄ）に示すように移動距離がＺ２となる。これに対して、減速ばね部２３を設けた本実施形態では、図１（ｃ）に示すように移動距離がＺ１（＜Ｚ２）となる。即ち、減速ばね部２３を設けることで、可動接点２１ａが固定接点１に向かう速度を減速させることができる。 Here, in this embodiment, the frame C (fixed portion) and the contact portion 21 are integrally connected by a reduction spring portion 23 that is elastic and has a meandering shape in the same plane. Since one end of the deceleration spring portion 23 is connected to the frame C, when the movable portion 2 swings and the contact portion 21 approaches the fixed contact 1, the deceleration spring portion 23 is pulled by the contact portion 21. A return force is generated in a direction in which the contact portion 21 is moved away from the fixed contact 1, that is, the contact portion 21 is pulled upward. With this restoring force, the speed at which the movable contact 21a heads toward the fixed contact 1 can be reduced. For example, when the moving distance in the vertical direction of the movable contact 21a during a certain time when the contacts are closed is viewed, when the deceleration spring portion 23 is not provided, the moving distance is as shown in FIG. Z2. In contrast, in the present embodiment in which the deceleration spring portion 23 is provided, the movement distance is Z1 (<Z2) as shown in FIG. That is, by providing the deceleration spring portion 23, the speed of the movable contact 21a toward the fixed contact 1 can be reduced.

上述のように、接点部２１とフレームＣとの間を弾性を有する減速ばね部２３で連結することで、接点間を閉成する際に、減速ばね部２３が接点部２１を引き上げる力によって可動接点２１ａが固定接点１に向かう速度を減速させることができる。したがって、減速に伴って可動接点２１ａの運動エネルギーが減少することで固定接点１と衝突する際の衝突エネルギーも減少し、衝突による接点の変形や損傷を抑制することができる。このため、接点も劣化し難くなり、接点寿命を延ばすことができる。 As described above, the contact portion 21 and the frame C are connected by the elastic reduction spring portion 23 so that the reduction spring portion 23 can be moved by the force that pulls up the contact portion 21 when the contacts are closed. The speed at which the contact 21a moves toward the fixed contact 1 can be reduced. Therefore, the kinetic energy of the movable contact 21a is reduced as the vehicle is decelerated, so that the collision energy when colliding with the fixed contact 1 is also reduced, and deformation and damage of the contact due to the collision can be suppressed. For this reason, the contact is not easily deteriorated, and the contact life can be extended.

尚、減速ばね部２３を固定する固定部はフレームＣに限定されるものではなく、例えば図２に示すように、フレームＣと接点部２１との間のスペースに可動部２と離間するリブ２４をベースＡ若しくはカバーＢから突設させ、当該リブ２４を固定部として減速ばね部２３の一端を連結するように構成してもよい。この場合でも、上記と同様の効果を奏することができる。 The fixing portion for fixing the deceleration spring portion 23 is not limited to the frame C. For example, as shown in FIG. 2, the rib 24 that is separated from the movable portion 2 in the space between the frame C and the contact portion 21. May be provided so as to protrude from the base A or the cover B, and one end of the deceleration spring portion 23 may be connected with the rib 24 as a fixed portion. Even in this case, the same effects as described above can be obtained.

（実施形態２）
以下、本発明に係る接点装置の実施形態２について図面を用いて説明する。尚、本実施形態の基本的な構成は実施形態１と共通であるので、共通する部位には同一の番号を付して説明を省略する。本実施形態は、図３に示すように、１つの接点部２１に対して減速ばね部２３が複数（図示では１対）設けられており、本体部２０の中心と接点部２１の中心とを通る直線（同図の一点鎖線ア）に対して線対称に配置されることを特徴とする。 (Embodiment 2)
Hereinafter, a second embodiment of the contact device according to the present invention will be described with reference to the drawings. Since the basic configuration of the present embodiment is the same as that of the first embodiment, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In the present embodiment, as shown in FIG. 3, a plurality of reduction spring portions 23 (one pair in the drawing) are provided for one contact portion 21, and the center of the main body portion 20 and the center of the contact portion 21 are arranged. It is characterized by being arranged in line symmetry with respect to a straight line (one-dot chain line a) in FIG.

上述のように、１対の減速ばね部２３を対称に配置することで、実施形態１のように１つの減速ばね部２３で接点部２１を支持する場合と比較して可動部２の揺動時におけるバランスが崩れにくくなるため、接点間の開閉動作の安定性を向上させることができる。 As described above, by arranging the pair of reduction spring portions 23 symmetrically, the movable portion 2 swings as compared with the case where the contact portion 21 is supported by one reduction spring portion 23 as in the first embodiment. Since the balance in time is less likely to be lost, the stability of the opening / closing operation between the contacts can be improved.

（実施形態３）
以下、本発明に係る接点装置の実施形態３について図面を用いて説明する。尚、本実施形態の基本的な構成は実施形態２と共通であるので、共通する部位には同一の番号を付して説明を省略する。本実施形態は、図４（ａ）に示すように、減速ばね部２３を接点部２１における本体部２０に近い側（左側）の端部に連結していることに特徴がある。尚、本実施形態では、各支持ばね部２２の蛇行部２２ａ同士を連結するとともに、当該連結部位を接点部２１に連結することで本体部２０と接点部２１とを互いに連結している。 (Embodiment 3)
Hereinafter, a third embodiment of the contact device according to the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, since the basic structure of this embodiment is common to Embodiment 2, the same number is attached | subjected to a common site | part and description is abbreviate | omitted. As shown in FIG. 4A, the present embodiment is characterized in that the deceleration spring portion 23 is connected to the end portion on the side (left side) close to the main body portion 20 in the contact portion 21. In the present embodiment, the meandering portions 22 a of the support spring portions 22 are connected to each other, and the connecting portion is connected to the contact portion 21 to connect the main body portion 20 and the contact portion 21 to each other.

ここで、実施形態１，２のように、減速ばね部２３を接点部２１における本体部２０から遠い側（右側）の端部に連結した場合、接点間を閉成する際に、可動接点２１ａの本体部２０から近い側の端部が先ず固定接点１に接触し、その状態のまま可動接点２１ａが固定接点１に押し込まれるために可動接点２１ａ全体が固定接点１に接触しない虞がある。一方、本実施形態のように、減速ばね部２３を接点部２１における本体部２０に近い側の端部に連結した場合、接点間を閉成する際に、可動接点２１ａの本体部２０から遠い側の端部から近い側の端部にかけて徐々に固定接点１に押し込まれるために、可動接点２１ａ全体が固定接点１に対して押し込まれて接点の接触信頼性を向上させることができる。 Here, as in the first and second embodiments, when the deceleration spring portion 23 is connected to the end portion of the contact portion 21 on the side far from the main body portion 20 (right side), the movable contact 21a is closed when closing the contacts. First, the end portion on the side closer to the main body portion 20 contacts the fixed contact 1, and the movable contact 21 a is pushed into the fixed contact 1 in that state, so that the entire movable contact 21 a may not contact the fixed contact 1. On the other hand, when the reduction spring portion 23 is connected to the end portion of the contact portion 21 on the side close to the main body portion 20 as in the present embodiment, the contact point 21 is far from the main body portion 20 of the movable contact 21a when closing the contact. Since it is gradually pushed into the fixed contact 1 from the end on the side to the end on the near side, the entire movable contact 21a can be pushed into the fixed contact 1 to improve the contact reliability of the contact.

尚、図４（ｂ）に示すように、接点部２１の長手方向の両端部それぞれとフレームＣとを減速ばね部２３で連結し、減速ばね部２３が本体部２０の中心と接点部２１の中心とを結ぶ直線と直交し且つ接点部２１の中心を通る直線（同図の一点鎖線イ）上に配置されるように構成してもよい。このように構成すれば、接点間を閉成する際に、接点部２１が減速ばね部２３の復帰力によって左右方向に傾くことがない。即ち、可動接点２１ａを固定接点１に対して平衡状態を保ちながら固定接点１に押し込むことができるので、可動接点２１ａ全体が固定接点１に対して確実に押し込まれ、接点の接触信頼性を向上させることができる。 As shown in FIG. 4 (b), both ends in the longitudinal direction of the contact portion 21 and the frame C are connected by a reduction spring portion 23, and the reduction spring portion 23 is connected to the center of the main body portion 20 and the contact portion 21. You may comprise so that it may arrange | position on the straight line (one-dot chain line a of the same figure) orthogonal to the straight line which connects a center, and passing through the center of the contact part 21. FIG. If comprised in this way, when closing between contacts, the contact part 21 will not incline in the left-right direction with the restoring force of the deceleration spring part 23. FIG. That is, since the movable contact 21a can be pushed into the fixed contact 1 while maintaining an equilibrium state with respect to the fixed contact 1, the entire movable contact 21a is reliably pushed into the fixed contact 1 and the contact reliability of the contact is improved. Can be made.

尚、上記各実施形態の接点装置は基本形態１，２の何れにも採用することができる。基本形態１に上記各実施形態の接点装置を採用する場合は、固定接点５０を固定接点１、可動接点基台部３４に設けられた可動接点を可動接点２１ａ、可動部３０を可動部２に各々置き換えればよい。また、基本形態２に本実施形態の接点装置を採用する場合は、固定接点１２０を固定接点１、可動接点２１３を可動接点２１ａ、可動部２１０を可動部２に各々置き換えればよい。勿論、本発明の接点装置を備えたリレーとしては、上記基本形態のマイクロリレーに限定されるものではなく、他の構造を有するリレー及びマイクロリレーに本発明の接点装置を採用しても構わない。また、可動部を揺動させるための駆動装置は上記の電磁駆動式に限定される必要はなく、例えば静電駆動式の駆動装置を採用しても構わない。 In addition, the contact device of each said embodiment is employable in any of the basic forms 1 and 2. When the contact device of each of the above embodiments is adopted as the basic form 1, the fixed contact 50 is the fixed contact 1, the movable contact provided on the movable contact base 34 is the movable contact 21a, and the movable part 30 is the movable part 2. Each may be replaced. Further, when the contact device of this embodiment is adopted as the basic form 2, the fixed contact 120 may be replaced with the fixed contact 1, the movable contact 213 with the movable contact 21a, and the movable part 210 with the movable part 2, respectively. Of course, the relay provided with the contact device of the present invention is not limited to the micro relay of the above basic form, and the contact device of the present invention may be adopted for a relay and a micro relay having other structures. . In addition, the driving device for swinging the movable portion is not limited to the electromagnetic driving type, and for example, an electrostatic driving type driving device may be adopted.

ここで、基本形態２では、本体部２０に相当する本体部２１１と、接点部２１に相当する接点用突片２１２とが一体に形成されている。このように本体部２１１と接点用突片２１２とが一体に形成されているリレーに減速ばね部２３を採用する場合には、接点用突片２１２のみならず本体部２１１にも減速ばね部２３による復帰力（反力）が与えられるために可動部２１０を駆動させるための駆動力が大きくなってしまう。そこで、上記各実施形態のように、本体部２０と接点部２１とを離間して設けるのが望ましい。このように構成することで、接点部２１のみに減速ばね部２３による力を与えることから、本体部２０と接点部２１とが一体に設けられている場合と比較して減速ばね部２３による反力を抑えることができ、したがって可動部２を駆動させるための駆動力を小さくすることができる。 Here, in the basic form 2, the main body portion 211 corresponding to the main body portion 20 and the contact protrusion 212 corresponding to the contact portion 21 are integrally formed. As described above, when the reduction spring portion 23 is employed in the relay in which the main body portion 211 and the contact protrusion 212 are integrally formed, the reduction spring portion 23 is applied not only to the contact protrusion 212 but also to the main body 211. Therefore, the driving force for driving the movable portion 210 is increased. Therefore, it is desirable to provide the main body portion 20 and the contact portion 21 apart from each other as in the above embodiments. With this configuration, since the force by the reduction spring portion 23 is applied only to the contact portion 21, the reaction by the reduction spring portion 23 is compared to the case where the main body portion 20 and the contact portion 21 are provided integrally. The force can be suppressed, and therefore the driving force for driving the movable part 2 can be reduced.

１固定接点
２可動部
２０本体部
２１接点部
２１ａ可動接点
２２支持部
２３減速ばね部
Ｃフレーム（固定部） DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Fixed contact 2 Movable part 20 Main body part 21 Contact part 21a Movable contact 22 Support part 23 Deceleration spring part C Frame (fixed part)

Claims

A fixed contact, a movable contact that can be moved to and away from the fixed contact, a movable portion that has a movable contact and can swing between a position where the movable contact contacts the fixed contact and a position where the movable contact opens, and a distance from the movable portion The movable unit includes a main body that is swingably supported, and a movable contact that swings integrally with the main body and faces the fixed contact. A contact device comprising: a contact portion provided; and a fixed portion and a contact portion connected by an elastic reduction spring portion.

The said movable part is comprised from the main-body part, the contact part provided apart from the main-body part, and the support part which has elasticity and connects a main-body part and a contact part mutually. Contact device.

The said reduction | decrease spring part is 1 thru | or several pairs, Comprising: Each pair of a reduction | decrease spring part is arrange | positioned axisymmetrically with respect to the straight line which passes along the center of a main-body part, and the center of a contact part. 2. The contact device according to 2.

The contact device according to claim 2, wherein the deceleration spring portion is connected to an end portion of the contact portion on a side close to the main body portion.

The contact device according to claim 3, wherein the deceleration spring portion is arranged on a straight line that is orthogonal to a straight line connecting the center of the main body portion and the center of the contact portion and passes through the center of the contact portion.

6. A relay comprising: the contact device according to claim 1; and a drive device that drives a movable portion so that the movable contact is in contact with and away from the fixed contact.

7. The relay according to claim 6, wherein the driving device is a micro relay including an electromagnet device that swings the movable portion by generating a magnetic field that is made of a magnetic material and attracts an armature provided on the movable portion. A base having a storage portion for storing an electromagnet device and having a fixed contact provided on one surface side in the thickness direction, a frame-like frame fixed to the one surface side of the base, and a frame that is swingably supported A micro relay comprising: an armature block having a movable portion and an armature; and a cover having a peripheral portion fixed to a frame on the opposite side of the base of the armature block.

7. The relay according to claim 6, wherein the driving device is a micro relay including an electromagnet device that swings the movable portion by generating a magnetic field that is made of a magnetic material and attracts an armature provided on the movable portion. A base provided with a fixed contact on one surface side in the thickness direction, a frame-like frame fixed to the one surface side of the base, and an armature block having a movable portion and an armature that are swingably supported by the frame; A microrelay comprising: a cover having a housing portion on which an electromagnet device is housed and a peripheral portion fixed to a frame on the opposite side of the base of the armature block.