JP2011074045A

JP2011074045A - ヒノキチオール水溶液及びその製造方法

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Publication number: JP2011074045A
Application number: JP2009230084A
Authority: JP
Inventors: Naoki Urushibata; 畑直樹漆; Yukinobu Tajima; 島幸信田; Hideki Tanemura; 村英樹種; Hideji Hirohama; 濱秀次廣; Kenetsu Nonaka; 中健悦野
Original assignee: Seems Inc
Current assignee: Seems Inc
Priority date: 2009-10-02
Filing date: 2009-10-02
Publication date: 2011-04-14
Anticipated expiration: 2029-10-02
Also published as: JP5537888B2

Abstract

【課題】ヒノキチオールを水で希釈し、以って各種分野で有効利用することが出来るヒノキチオール水溶液及びその製造方法の提供。
【解決手段】ヒノキチオール水溶液（Ｗ６）は、溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理が行われた純水（Ｗ１）を電気分解して、当該電気分解された純水のうち、陰極室側の純水（Ｗ２）に対して、安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけた水（Ｗ３、Ｗ４、Ｗ５）と、当該水（Ｗ４、Ｗ５）に対して１：３０００〜１：１４００の比（特に好ましくは、１：２０００の比）のヒノキチオール（２０）を含んでいる。
【選択図】図７

Description

本発明は、ヒノキチオールを利用する技術に関し、より詳細には、ヒノキチオールの有用な生理作用を活用するための水溶化技術に関する。

ヒノキチオールは、多くの有用な生理作用、例えば抗菌作用を奏する。
ヒノキチオールのような樹木抽出成分を有効利用することが出来れば、未利用の森林資源を活用することが出来て、林業・林産業の活性化に寄与することが出来る。そのため、近年、ヒノキチオールの有効利用が注目されている。

ヒノキチオールは、原料となるヒバから０．０１％程度しか抽出することが出来ず、大変に貴重な成分である。
また、例えば抗菌剤としてヒノキチオールを用いる場合に、抽出したヒノキチオールそのものを人体の皮膚に塗付した場合には、ヒノキチオールの作用が強過ぎて皮膚が炎症を起こす等の悪影響が懸念される。
そのため、ヒノキチオールを利用するに際しては、希釈することが前提となる。

ここで、ヒノキチオールは非水溶性であるため、従来技術においては、アルコールで希釈することが一般的であった。
しかし、アルコールで希釈したヒノキチオールを、例えば抗菌剤として人体の皮膚に塗付した場合には、アルコールが気化してしまい、皮膚表面には高濃度のヒノキチオールが残留してしまう。そして、高濃度のヒノキチオールの作用が強過ぎて、人体の皮膚に悪影響（例えば、炎症等）を及ぼしてしまう可能性がある。
その様な不都合を防止するためにも、ヒノキチオールを水溶化することが望ましいが、現時点で、ヒノキチオールを水溶化する技術は提案されていない。

その他の従来技術として、消炎剤としてヒノキチオールを使用する化粧料、皮膚外用剤が提案されている（特許文献１参照）。
しかし、係る従来技術（特許文献１）は、ヒノキチオールを水溶化するものではない。

特開２００５−２０６５７３号公報

本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、ヒノキチオールを水で希釈し、以って各種分野で有効利用することが出来るヒノキチオール水溶液及びその製造方法の提供を目的としている。

発明者は種々研究の結果、非水溶性のヒノキチオールであっても、いわゆる「アルカリイオン水」であって、溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理が行われた純水を電気分解して、当該電気分解された純水のうち、陰極室側の純水に対して、安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけることにより製造された水であれば、溶解させることが出来ることを見出した。
本発明は係る知見に基づいて提案されたものである。

本発明のヒノキチオール水溶液（Ｗ６）は、溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理が行われた純水（Ｗ１）を電気分解して、当該電気分解された純水のうち、陰極室（Ｃ４）側の純水（Ｗ２）に対して、安定化槽（６）内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけた水（Ｗ３、Ｗ４、Ｗ５）と、当該水（Ｗ３、Ｗ４、Ｗ５）に対して１：３０００〜１：１４００の比（特に好ましくは、１：２０００の比）のヒノキチオール（２０）を含んでいる。

ここで、前記水の温度（Ｗ４）は３５℃以上、好ましくは４０℃以上である。

また、前記水（Ｗ５）とヒノキチオール（２０）とを組成物として有するヒノキチオール水溶液（Ｗ６）を、純水（Ｗ０）により５倍〜１０倍に希釈することが好ましい。

さらに、前記水は磁気で処理されている（いわゆる「磁気処理水」、「磁気活性水」である）のが好ましい。

また、本発明のヒノキチオール水溶液の製造方法は、純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行う工程（Ｓ１）と、脱酸素処理が行われた純水を電気分解する工程（Ｓ２）と、陰極室（Ｃ４）側の純水（Ｗ２）に対して安定化槽（６）内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかける安定化工程（Ｓ３）と、安定化工程（Ｓ３）を行った水（Ｗ３、Ｗ４、Ｗ５）に対して１：３０００〜１：１４００の比（特に好ましくは、１：２０００の比）でヒノキチオール（２０）を溶解させる溶解工程（Ｓ６）とを有している。

ここで、前記溶解工程（Ｓ６）では、前記安定化工程（Ｓ３）を行った水の温度を３５℃以上、好ましくは４０℃以上に昇温する加熱工程（Ｓ４）を有することが好ましい。

また、前記溶解工程を行ったヒノキチオール水溶液（Ｗ６）を、純水（Ｗ０）により５倍〜１０倍に希釈する希釈工程を有することが好ましい。

さらに、前記安定化工程（Ｓ３）を行った水を磁気で処理（して、いわゆる「磁気処理水」、「磁気活性水」と）する工程（Ｓ５）を有するのが好ましい。
ここで、磁気で処理するに際しては、前記安定化工程（Ｓ３）を行った水を一定時間だけ磁界（１０）中に配置するのが好ましい。

上述した通り、溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理が行われた純水（Ｗ１）を電気分解して、当該電気分解された純水（Ｗ２、Ｗａ）のうち、陰極室（Ｃ４）側の純水（Ｗ２）に対して、安定化槽（６）内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけることにより製造された水（アルカリイオン水：Ｗ３）であり、溶解する水であれば、ヒノキチオール（２０）が溶解する。
そのため本発明によれば、ヒノキチオール（２０）が溶解したアルカリイオン水（Ｗ６）を得ることが出来るので、当該アルカリイオン水（Ｗ６）を、例えば、抗菌剤、除菌剤、洗浄剤として用いることが出来る。

この様な抗菌剤、すなわち、ヒノキチオール（２０）が溶解したアルカリイオン水（Ｗ６）はアルコールの様に揮発してしまうことはないので、皮膚に塗布された抗菌剤におけるヒノキチオール濃度が異常に高くなってしまうことはない。
そのため、従来技術で懸念された炎症等の悪影響が生じることが防止される。

それに加えて、ヒノキチオール（２０）とアルカリイオン水の相乗効果により、本発明によるヒノキチオール水溶液（Ｗ６）を人体の皮膚に塗付した場合には、塗布された部分の皮脂や汚れを分解除去して、塗付した部分における皮脂の蓄積や、その他の汚れを長期間に亘って防止することが出来る。
さらに、アルカリイオン水（Ｗ６）自体の浸透能力に起因して、本発明によるヒノキチオール水溶液（Ｗ６）を人体の皮膚に塗付した場合には、表皮から深い領域にヒノキチオール（２０）を運搬することが可能である。その結果、表皮から深い領域に存在するメラニン色素を分解して、いわゆる「美白効果」を達成することが可能である。

また本発明によるヒノキチオール水溶液（Ｗ６）によれば、ヒノキチオール（２０）が香料として機能するので、人体に塗付した場合には、塗付された者に対して、いわゆる「リラクゼーション効果」をもたらすことが出来る。

第1実施形態に係るヒノキチオール水溶液製造の際の、脱酸素処理を説明する態様図である。第1実施形態に係るヒノキチオール水溶液製造の際の、脱酸素処理後に行う電気分解処理を説明する態様図である。第1実施形態に係るヒノキチオール水溶液製造の際の、電気分解処理後に行う圧力を付与する処理を説明する態様図である。第1実施形態に係るヒノキチオール水溶液製造の際の、圧力付与後に行う加熱昇温処理を説明する態様図である。第1実施形態に係るヒノキチオール水溶液製造の際の、加熱昇温後に行う磁気付帯処理を説明する態様図である。第1実施形態に係るヒノキチオール水溶液製造の際の、磁気付帯後に行うヒノキチオール溶解処理を説明する態様図である。第1実施形態に係るヒノキチオール水溶液製造方法を示したフローチャートである。第２実施形態に係るヒノキチオール水溶液製造方法を示した態様図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
［第１実施形態］
本発明の第１実施形態として、純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行い、脱酸素処理が行なわれた純水を電気分解し、安定化槽内で陰極室側の純水に４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかける。
そして、圧力をかけられた水（安定化工程を行った水）の温度を３５℃以上に昇温し、当該水を磁気で処理して、その水に対して１：３０００〜１：１４００の比でヒノキチオールの結晶を溶解させて、ヒノキチオール水溶液を製造した。
純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行い、脱酸素処理が行なわれた純水を電気分解し、陰極室側の純水を安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上に加圧する手順について、図１〜図３を参照して説明する。

図１で示す脱酸素処理槽１は、その内部に複数のイオン交換膜２を配置している。そして、脱酸素処理槽１内に純水Ｗ０を注ぎ、純水中の溶存酸素をイオン交換膜２に吸引させることによって、純水中の溶存酸素濃度を１ｐｐｍ以下まで低下させている。
図1において、溶存酸素濃度１ｐｐｍ以下の純水は、符号Ｗ１で示されている。
ここで、図1は、図７におけるステップＳ１に相当する。

図２で示す工程では、図１で製造された溶存酸素濃度１ｐｐｍ以下の純水Ｗ１を電解槽３に注ぎ、当該純水Ｗ１を電気分解する。
ここで電解槽３は、例えば半透膜４５によって、左右の領域Ｃ４、Ｃ５に二分されている。そして、図２における左の領域Ｃ４には陰極４が配置され、右の領域Ｃ５には陽極５が配置されている。
純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行い、脱酸素処理が行なわれた純水を電気分解し、安定化槽内で陰極室側の純水に４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけるに際しては、図２における陰極４側の領域Ｃ４に集まった純水Ｗ２を利用する。
なお、図２は、図７のステップＳ２に相当する。

図３で示す手順では、陰極４側の領域Ｃ４に集まった純水Ｗ２（図２参照）を、安定化槽（例えば、シリンダ）６に入れ替える。
安定化槽６には、ピストン7が備えられており、このピストン7によって安定化槽６に入れた純水（図２において符号Ｗ２で示す純水：図３における純水Ｗ３を王圧する以前の段階の純水）を圧力Ｐで押圧し、以って、当該純水を安定化する。
ここで、圧力Ｐの大きさは、Ｐ≧４ｋｇ／ｃｍ^２とすることが好ましい。
図３における符号Ｗ３は、４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力で押圧した後の純水を示している。
図３で示す手順は、図７のステップＳ３に相当する。

図４に示す手順では、４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力が付与され、安定化した純水Ｗ３（図３参照）が加熱槽６０に移し変えられ、火熱槽６０内の純水Ｗ３を３５℃以上、好ましくは４５℃以上に加熱する。
純水Ｗ３を加熱・昇温するのは、実験例３で後述する様に、４５℃以上に加熱した場合には、被験者の体感としての抗菌性と、皮膚への浸透性が優れていたという実験結果に基づいている。
図４において、加熱された純水を符号Ｗ４で示す。また、符号８は、純水を加熱するための加熱用バーナを示している。
図４は、図７のステップＳ４に相当する。

図５で示す手順では、所定温度まで加熱された純水Ｗ４（図４参照）に、磁気を作用させている。
具体的には、先ず、３５℃以上、好ましくは４５℃以上に加熱された純水Ｗ４（図４参照）を磁気付加槽６５に移し変える。
磁気付加槽６５の下方には、電磁誘導コイル９が配置されており、この電磁誘導コイル９に通電することによって、コイル９回りに磁界１０が発生する。そして、この磁界１０に純水Ｗ４をさらすことにより、純水Ｗ４は純水Ｗ５となる。
図５は、図７のステップＳ５に相当する。

図６で示す手順では、磁界１０により活性化した純水Ｗ５（図５参照）を、溶解槽６７に移し変える。そして、活性化した純水Ｗ５に、適量のヒノキチオールの結晶２０を投入し、図示しない手段、例えば攪拌棒等で十分攪拌する。
ここで、ヒノキチオールの結晶２０の純水Ｗ５に対する質量割合は、１／３０００〜１／１４００の範囲とする。攪拌後、１／３０００〜１／１４００の範囲に希釈された均一濃度のヒノキチオール水溶液Ｗ６が精製される。
図６では、ヒノキチオールの結晶２０を、ガラス瓶１１から溶解槽６７内の磁気を帯びた純水Ｗ５に、直接投入しているように描写されている。しかし、実際には、図示しない計量手段によって、ヒノキチオールの結晶２０を計量して、図示しない計量手段により、ヒノキチオールの結晶２０を溶解槽６７内に投入している。
図６は、図７のステップＳ６に相当する。

［実験例１］
純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行い、脱酸素処理が行なわれた純水Ｗ１を電気分解し（純水Ｗ２）、陰極室側の純水に対して安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけ、当該圧力をかけられた水（安定化工程を行った水Ｗ３）の温度を３５℃以上に昇温し（加熱後の純水Ｗ４）、磁気で処理した水Ｗ５と、ヒノキチオール２０との比を変更して、ヒノキチオール２０が溶解する状態を観察して、実験例１を行った。
なお、ヒノキチオール２０については、ヒバから抽出して、発明者が結晶化したものを使用した。

実験例１の結果を、表１で示す。
表１及び実験例１に関連する記載において、「純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行い、脱酸素処理が行なわれた純水を電気分解し、陰極室側の純水に対して安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけ、当該圧力をかけられた水（安定化工程を行った水）の温度を３５℃以上に昇温し、磁気で処理した水」Ｗ５は、「アルカリイオン水」と表現されている。
表１

表１において、ヒノキチオールの結晶とアルカリイオン水との比が１：１２５０の場合では、アルカリイオン水に完全には溶解せず、残存するヒノキチオールの結晶（残渣）が存在した。
一方、ヒノキチオールの量が、アルカリイオン水に対する比が１：１４００の場合以下であれば、全て溶解した。
表１で示す実験例１の結果から、ヒノキチオールのアルカリイオン水に対する比が１：１４００以下（１：１６００、１：２０００、１：２５００、１：３３００、１：５０００）となるようにするべき旨が明らかになった。

［実験例２］
実験例２では、任意に選択した１００名の被験者に対して、ヒノキチオールとアルカリイオン水との比が１：５０００〜１：１４００の範囲となるヒノキチオール水溶液を塗布した。そして、被験者の体感として、抗菌性と表皮に対する浸透性の有無を集計した。
実験例２の結果を、表２で示す。
なお、表２〜後述の表５において、パラメータ以外の数値は、全て該当者の人数を表している。
表２

溶解したヒノキチオール溶液を抗菌剤として人体の皮膚に塗布した際に、ヒノキチオールとアルカリイオン水の比が１：５０００の場合には、抗菌性と表皮に対する浸透性が殆ど認められなかった。
ヒノキチオールがアルカリイオン水に対して１：３３００以上（１：２５００、１：２０００、１：１６００、１：１４００）であれば、抗菌性と表皮に対する浸透性は確認できた。特に、ヒノキチオールがアルカリイオン水に対して１：２０００の場合には、抗菌性及び浸透性の双方について「有る」と回答した被験者数が、１：２５００の場合に比較して、大幅に増大した。
ヒノキチオールがアルカリイオン水に対して１：１６００、１：１４００の場合には、抗菌性及び浸透性の双方について「有る」と回答した被験者数は、１：２０００の場合より微増した。
表２で示す実験例２の結果から、ヒノキチオールはアルカリイオン水に対して、１：３３００以上であることが好適であり、特に、１：２０００とするのが好ましいことが分かった。
そして、表１で示す実験例１の結果と、表２で示す実験例２の結果とを組み合わせれば、ヒノキチオールはアルカリイオン水に対して、１：３３００〜１：１４００とするべきであり、特に１：２０００が最適であることが判明した。

［実験例３］
実験例３では、「純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行い、脱酸素処理が行なわれた純水を電気分解し、陰極室側の純水に対して安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけ、当該圧力をかけられた水（安定化工程を行った水）」Ｗ３（以下、実験例２及び表２では、「昇温前のアルカリイオン水」と記載する）を、加熱後の温度を２５℃〜４５℃まで５℃ずつ変更して、加熱した。そして、「昇温前のアルカリイオン水」を各種温度まで昇温した後、磁気で処理して、ヒノキチオール２０を１：２０００の比で添加して、ヒノキチオール溶液Ｗ６を製造した。
そして、当該ヒノキチオール溶液Ｗ６を、任意に選択した１００名の被験者に対して塗布し、被験者の体感として、抗菌性と表皮に対する浸透性の有無を集計した。

抗菌性と表皮に対する浸透性については、被験者の体感によるものとして集計した。
実験例３の結果を、表３で示す。
表３

表３より、昇温前のアルカリイオン水を３５℃以上、好ましくは４０℃以上に昇温すると、抗菌性と表皮に対する浸透性が向上することが分かった。
すなわち、被験者の体感としての抗菌性と表皮に対する浸透性を向上するためには、昇温前のアルカリイオン水を３５℃以上、好ましくは４０℃以上に昇温することが好適であることが、実験例３より明らかになった。

［実験例４］
実験例４では、「純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行い、脱酸素処理が行なわれた純水を電気分解し、陰極室側の純水に対して安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけ、当該圧力をかけられた水（安定化工程を行った水）の温度を３５℃に昇温した水」Ｗ４を磁気で処理していない水Ｗ４と磁気で処理した水（以下、実験例４と表４では、「磁気で処理していない水」、「磁気で処理した水」と記載する）Ｗ５を、抗菌作用及び浸透性について比較した。
実験例４では、磁気で処理するに当たって、前記安定化工程を行った水を３０秒間だけ５０００ガウスの磁界中に配置した。
抗菌性及び浸透性（表皮に対する浸透性）については、被験者の体感によるものとして集計した。
実験例４の結果を、下表４で示す。
表４

表４において、磁気処理していない水で、抗菌性が有ると感じた被験者数と、浸透性が有ると感じた被験者数の数は、表３における３５℃の欄の人数に等しい。換言すれば、表４における「磁気で処理していない水」の実験結果は、表３における「３５℃に昇温した水」の実験結果と同一である。
表４から、磁気で処理した場合には、磁気で処理していない場合に比較して、抗菌性が有ると感じた被験者数及び浸透性が有ると感じた被験者数の数は、有意に増加している。
すなわち、磁気で処理することにより、被験者の体感として、抗菌性及び浸透性は増加する。

［第２実施形態］
本発明の第２実施形態として、第１実施形態に係るヒノキチオール水溶液Ｗ６を、純水により８倍〜１２倍に希釈した（Ｗ７：図８参照）。
ここで、「第１実施形態に係るヒノキチオール水溶液」Ｗ６とは、「純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行い、脱酸素処理が行なわれた純水を電気分解し、陰極室側の純水に対して安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけ、当該圧力をかけられた水（安定化工程を行った水）の温度を３５℃以上に昇温し、当該水を磁気で処理して、その水に対して１：３０００〜１：１４００の比でヒノキチオールの結晶を溶解させて製造したヒノキチオール水溶液」である。
「第１実施形態に係るヒノキチオール水溶液」Ｗ６の製造については、図１〜図７を参照して上述した通りである。

図８において、第１実施形態（図１〜図７参照）で得られたヒノキチオール水溶液Ｗ６を、攪拌槽６９に適量注入し、純水Ｗ０によって所定の倍率に希釈している。
詳細には、希釈処理に際して、先ず、ヒノキチオール水溶液Ｗ６を計量器（例えばメスシリンダ）６８で規定量（例えば１００ｃｃ）計量する（図８（Ａ）参照）。同様に、純水Ｗ０を計量器６８で規定量（例えば８００ｃｃ）計量する（図８（Ｂ）参照）。
次に、図８（Ｃ）で示す様に、計量した純水Ｗ０、ヒノキチオール水溶液Ｗ６を攪拌槽６９に注ぎ入れ、攪拌器（例えば、ミキサ）７０で十分に攪拌して、均一に希釈する。希釈後の水溶液は、図８（Ｃ）において、符号Ｗ７で示されている。

［実験例５］
ヒノキチオール水溶液Ｗ６を、希釈率を変更しつつ、純水Ｗ０により８倍〜１２倍に希釈し、希釈されたヒノキチオール水溶液Ｗ７の各々における抗菌作用及び浸透性について比較した。
抗菌性及び浸透性（表皮に対する浸透性）については、被験者の体感によるものとして集計した。
実験例５の結果については、下表５で示す。
表５

表５から、希釈率が１０倍以下であれば、被験者の体感として、抗菌性及び浸透性を有することが明らかとなった。
ここで、発明者の試算として、ヒノキチオール結晶製造の費用を考慮すると、販売数量にもよるが、希釈する場合には５倍以上に希釈しなければ採算が取れない可能性があることが判明した。
係る試算と実験例５の結果を考慮すると、ヒノキチオール水溶液Ｗ６を純水で希釈する場合には、５倍〜１０倍に希釈するべきであることが判明した。

ヒノキチオール水溶液Ｗ６、或いは純水で希釈されたヒノキチオール水溶液Ｗ７を用いて、抗菌剤、除菌剤、洗浄剤を製造したところ、抗菌性、除菌性に加えて、表皮上の皮脂を除去する効果が長期間持続した。
また、多数の被験者において、メラニン色素が除去されるという効果も確認された。

図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記述ではない。
図示の第１実施形態では、図５において、図４で示す加熱槽６０から、磁気付帯槽６５に加熱昇温された純水Ｗ４を移し変えているが、図４の加熱槽６０に磁気付帯手段を設けて、その磁気付帯手段を設けた加熱槽によって加熱昇温処理及び磁気付帯処理を行うことも出来る。
或いは、更にこの磁気付帯手段を設けた加熱槽において、図６で示すようなヒノキチオールの添加・溶解処理を行ってもよい。

１・・・脱酸素処理槽
２・・・イオン交換膜
３・・・電解槽
４・・・陰極
５・・・陽極
６・・・安定化槽
７・・・ピストン
８・・・加熱用バーナ
９・・・電磁誘導コイル
１０・・・磁界
２０・・・ヒノキチオール（の結晶）

Claims

溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理が行われた純水を電気分解して、当該電気分解された純水のうち、陰極室側の純水に対して、安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかけた水と、当該水に対して１：３０００〜１：１４００の比でヒノキチオールを含んでいることを特徴とするヒノキチオール水溶液。
前記水とヒノキチオールとを組成物として有するヒノキチオール水溶液は、純水により５倍〜１０倍に希釈されている請求項１のヒノキチオール水溶液。
前記水は磁気で処理されている請求項１、２の何れかのヒノキチオール水溶液。
純水の溶存酸素が１ｐｐｍ以下となる様に脱酸素処理を行う工程と、脱酸素処理が行なわれた純水を電気分解する工程と、陰極室側の純水に対して安定化槽内で４ｋｇ／ｃｍ^２以上の圧力をかける安定化工程と、安定化工程を行った水に対して１：３０００〜１：１４００の比のヒノキチオールを溶解させる溶解工程とを有しているヒノキチオール水溶液の製造方法。
前記溶解工程では、前記安定化工程を行なった水の温度を３５℃以上に昇温する加熱工程を有する請求項４のヒノキチオール水溶液の製造方法。
前記溶融工程を行ったヒノキチオール水溶液を、純水により５倍〜１０倍に希釈する希釈工程を有する請求項４、５の何れかのヒノキチオール水溶液の製造方法。
前記安定化工程を行った水を磁気で処理する工程を有する請求項４〜６の何れか１項のヒノキチオール水溶液の製造方法。