JP2011073277A - Laminated microporous film, method for manufacturing the same, and separator for battery - Google Patents

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Yoko Asami
陽子 浅見
Teruaki Masako
輝明 真子
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated microporous film having good gas permeability. <P>SOLUTION: A method for producing the laminated microporous film [wherein, T<SB>mA</SB>is a melting point (°C) of a first resin composition, and T<SB>mB</SB>is a melting point (°C) of a second resin composition] includes the following processes (1)-(5) in turn: a process (1) for annealing a first resin film made of the first resin composition; a process (2) in which the first resin film and a second resin film made of the second resin composition having the melting point T<SB>mB</SB>lower than the melting point T<SB>mA</SB>of the first resin composition are hot-pressed to form a laminate; a process (3) for annealing the laminate obtained in the process (2); a cold stretching process (4) in which the laminate obtained in the process (3) is cold-stretched 1.05-2.0 times in at least one direction; and a hot stretching process (5) in which the laminate obtained in the process (4), while being kept at a temperature higher than that in the process (4), is hot-stretched >1.0 and ≤5.0 times in at least one direction. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、積層微多孔性フィルム及びその製造方法、並びに電池用セパレータに関する。   The present invention relates to a laminated microporous film, a method for producing the same, and a battery separator.

微多孔性フィルム、特にポリオレフィン系微多孔性フィルムは、精密濾過膜、電池用セパレータ、コンデンサー用セパレータ、燃料電池用材料などに使用されており、特にリチウムイオン電池用セパレータとして好適に使用されている。近年、リチウムイオン電池は、携帯電話、ノート型パーソナルコンピュータなどの小型電子機器用途として使用されている一方で、ハイブリッド電気自動車などへの応用も図られている。   Microporous films, particularly polyolefin-based microporous films, are used in microfiltration membranes, battery separators, capacitor separators, fuel cell materials, and the like, and are particularly preferably used as lithium ion battery separators. . In recent years, lithium-ion batteries have been used for small electronic devices such as mobile phones and notebook personal computers, while being applied to hybrid electric vehicles and the like.

ここで、ハイブリッド電気自動車用のリチウムイオン電池には、短時間に多くのエネルギーを取り出すための、より高い出力特性が要求される。また、ハイブリッド電気自動車用のリチウムイオン電池は、一般に大型でかつ高エネルギー容量を必要とするため、より高い安全性の確保が要求される。
リチウム電池に備えられる電池用セパレータも、安全性を確保するために、シャットダウン(SD)機能を備えることが必須とされている。SD機能とは、電池内部の温度が過度に上昇した場合に、電池用セパレータの電気抵抗を急激に増大させることにより、電池反応を停止させて、それ以上の温度上昇を防止する機能である。上記SD機能の発現機構として、例えば、微多孔性フィルム製の電池用セパレータの場合、所定の温度まで電池内部温度が上昇すると、その多孔質構造を喪失して無孔化し、イオン透過を遮断することが挙げられる。しかし、このように無孔化してイオン透過を遮断しても、温度が更に上昇してフィルム全体が溶融し破膜してしまった場合は、電気的絶縁性を維持できなくなってしまう。このようにフィルムがその形態を保持できなくなりイオン透過を遮断することができなくなる温度を破膜温度といい、この破膜温度が高いほど電池用セパレータは耐熱性に優れているといえる。また、上記破膜温度とSDが開始する温度との差が大きいほど、安全性に優れているといえる。
Here, a lithium ion battery for a hybrid electric vehicle is required to have higher output characteristics for taking out a lot of energy in a short time. Moreover, since lithium ion batteries for hybrid electric vehicles are generally large and require high energy capacity, higher safety is required.
The battery separator provided in the lithium battery is also required to have a shutdown (SD) function in order to ensure safety. The SD function is a function that, when the temperature inside the battery rises excessively, stops the battery reaction by abruptly increasing the electric resistance of the battery separator and prevents further temperature rise. As a mechanism for expressing the SD function, for example, in the case of a battery separator made of a microporous film, when the internal temperature of the battery rises to a predetermined temperature, the porous structure is lost and becomes non-porous, and ion permeation is blocked. Can be mentioned. However, even if the pores are made non-porous in this way and the ion permeation is blocked, if the temperature further rises and the entire film melts and breaks, the electrical insulation cannot be maintained. The temperature at which the film cannot maintain its shape and cannot block ion permeation is called the membrane breaking temperature. The higher the membrane breaking temperature, the better the battery separator. Moreover, it can be said that it is excellent in safety, so that the difference of the said film breaking temperature and the temperature which SD starts is large.

このような事情に対応可能なセパレータとなる微多孔性フィルムを提供することを目的として、例えば、特許文献1には、共押出成形法により、高融点樹脂層と低融点樹脂層を有する積層フィルムを成形し、延伸して積層微多孔性フィルムを製造する方法が提案されている。 また、特許文献2には、ポリプロピレンフィルムとポリエチレンフィルムを別々に成形した後、積層し、アニールしてから延伸することで透気性の良好な積層微多孔性フィルムを製造する方法が開示されている。   For the purpose of providing a microporous film serving as a separator that can cope with such circumstances, for example, Patent Document 1 discloses a laminated film having a high melting point resin layer and a low melting point resin layer by a coextrusion molding method. A method for producing a laminated microporous film by molding and stretching is proposed. Patent Document 2 discloses a method of producing a laminated microporous film having good air permeability by separately forming a polypropylene film and a polyethylene film, then laminating, annealing, and stretching. .

特許第2883726号公報Japanese Patent No. 2883726 特許第3003830号公報Japanese Patent No. 3003830

特許文献1の方法によって得られる電池用セパレータは、高融点樹脂と低融点樹脂の成形温度等をある程度合わせる必要があり、それぞれに最適な条件で成形することが困難であるため、透気性の良好な積層微多孔性フィルムを得ることが難しかった。
また、特許文献2に開示された方法で製造された積層微多孔性フィルムについても、透気性は十分でない。
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、良好な透気性を有する積層微多孔性フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた電池用セパレータを提供することを課題とする。
The battery separator obtained by the method of Patent Document 1 has a high air permeability because it is necessary to match the molding temperatures of the high-melting point resin and the low-melting point resin to some extent, and it is difficult to mold them under optimum conditions. It was difficult to obtain a laminated microporous film.
Also, the air permeability is not sufficient for the laminated microporous film produced by the method disclosed in Patent Document 2.
This invention is made | formed in view of such a situation, and makes it a subject to provide the separator for batteries using the laminated microporous film which has favorable air permeability, its manufacturing method, and it.

本発明者らは前述の課題を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、第1の樹脂フィルムをアニールした後、第1の樹脂フィルムと第2の樹脂フィルムを熱圧着して積層体を形成し、次いで積層体をアニールすることにより、良好な透気性を有する積層微多孔フィルムを得ることができることを見出し、本発明を完成するに至ったのである。
すなわち、本発明は下記の通りである。
以下の工程(1)〜(5)をこの順で含む、積層微多孔性フィルムの製造方法(ただし、TmAは、第1の樹脂組成物の融点(℃)であり、TmBは、第2の樹脂組成物の融点(℃)である):
(1)第1の樹脂組成物から構成される第1の樹脂フィルムをアニールする工程、
(2)第1の樹脂フィルムと、前記第1の樹脂組成物の融点TmAよりも低い融点TmBを有する第2の樹脂組成物から構成される第2の樹脂フィルムを、熱圧着して積層体を形成する工程、
(3)前記工程(2)で得られた積層体をアニールする工程、
(4)前記工程(3)で得られた積層体を、少なくとも一方向に1.05倍以上2.0倍以下に冷延伸する冷延伸工程、
(5)前記工程(4)で得られた積層体を、工程(4)よりも高い温度に保持した状態で、少なくとも一方向に1.0倍を超え5.0倍以下に熱延伸する熱延伸工程。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors annealed the first resin film and then thermocompression bonded the first resin film and the second resin film to form a laminate. Then, it was found that a laminated microporous film having good air permeability can be obtained by annealing the laminate, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
A method for producing a laminated microporous film comprising the following steps (1) to (5) in this order (where T mA is the melting point (° C.) of the first resin composition, and T mB is 2 is the melting point (° C.) of the resin composition):
(1) A step of annealing a first resin film composed of the first resin composition,
(2) a first resin film, the second resin film and a second resin composition having a first melting point T mB than the melting point T mA resin composition, and thermocompression Forming a laminate,
(3) A step of annealing the laminate obtained in the step (2),
(4) A cold stretching step of cold stretching the laminate obtained in the step (3) at least 1.05 times to 2.0 times in at least one direction;
(5) Heat that heat-stretches the laminate obtained in the step (4) at a temperature higher than that of the step (4) at a temperature exceeding 1.0 times and not more than 5.0 times in at least one direction. Stretching process.

本発明によると、良好な透気性を有する積層微多孔性フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた電池用セパレータを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the laminated microporous film which has favorable air permeability, its manufacturing method, and the battery separator using the same can be provided.

破膜温度の測定装置の概略図である。It is the schematic of the measuring apparatus of a film breaking temperature.

以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、「本実施形態」という。)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. The present invention is not limited to the following embodiment, and can be implemented with various modifications within the scope of the gist.

本実施形態の製造方法により製造される積層微多孔性フィルムは、第1の樹脂組成物から構成される第1の樹脂フィルムから形成された微多孔層と、前記第1の樹脂組成物よりも低い融点を有する第2の樹脂組成物から構成される第2の樹脂フィルムから形成された微多孔層と、が積層された構造を有する。
第1の樹脂組成物及び第2の樹脂組成物は、JIS K−7121に準拠の方法で測定した融点(以下、単に「融点」という。)TmA、TmBがTmA>TmBを満足するものであれば、その材質は同質であっても異質であってもよい。
The laminated microporous film produced by the production method of the present embodiment has a microporous layer formed from the first resin film composed of the first resin composition, and more than the first resin composition. It has a structure in which a microporous layer formed from a second resin film composed of a second resin composition having a low melting point is laminated.
The first resin composition and the second resin composition have a melting point (hereinafter, simply referred to as “melting point”) T mA and T mB measured by a method according to JIS K-7121 and satisfy T mA > T mB . If it does, the material may be the same or different.

ここで、第1の樹脂組成物の融点TmAと第2の樹脂組成物の融点TmBとの差は5℃以上であることが好ましく、より好ましくは10℃以上である。その融点の差が5℃以上であると、積層微多孔性フィルムを電池用セパレータとして用いた場合、異常電流により電池の内部温度が上昇した際に、低融点の樹脂層が溶融しても高融点の樹脂層は溶融することなく保持されやすい。その結果、電池用セパレータのフィルム形状又はシート形状が保持され、安全性が向上する傾向にある。 Here, the difference between the melting point T mA of the first resin composition and the melting point T mB of the second resin composition is preferably 5 ° C. or more, more preferably 10 ° C. or more. When the difference in melting point is 5 ° C. or more, when the laminated microporous film is used as a battery separator, even when the low melting point resin layer melts when the internal temperature of the battery rises due to abnormal current, The melting point resin layer is easily held without melting. As a result, the film shape or sheet shape of the battery separator is maintained, and the safety tends to be improved.

本実施形態の積層微多孔性フィルムの製造方法の工程(2)において、第1の樹脂フィルムと第2の樹脂フィルムの積層体を形成するが、それらの積層の態様は特に限定されない。その態様の具体例としては、(a)1つの第1の樹脂フィルムと1つの第2の樹脂フィルムとからなる積層体、(b)1つの第1の樹脂フィルムとその両側に積層された第2の樹脂フィルムとからなる積層体、(c)1つの第2の樹脂フィルムとその両側に積層された第1の樹脂フィルムとからなる積層体、(d)第1の樹脂フィルム−第2の樹脂フィルム−第1の樹脂フィルム−第2の樹脂フィルムというように、それぞれの樹脂フィルムが交互に配置された積層体が挙げられる。   In the step (2) of the production method of the laminated microporous film of the present embodiment, a laminate of the first resin film and the second resin film is formed, but the manner of lamination is not particularly limited. As a specific example of the aspect, (a) a laminate composed of one first resin film and one second resin film, (b) one first resin film and the first laminated on both sides thereof A laminate composed of two resin films, (c) a laminate composed of one second resin film and first resin films laminated on both sides thereof, (d) a first resin film-second As the resin film-first resin film-second resin film, there may be mentioned a laminate in which the respective resin films are alternately arranged.

本実施形態の積層微多孔性フィルムの製造方法においては、予め、第1の樹脂組成物から構成される第1の樹脂フィルム(以下、「高融点樹脂フィルム」という場合がある。)と、第2の樹脂組成物から構成される第2の樹脂フィルム(以下、「低融点樹脂フィルム」という場合がある。)を、別々に用意する。第1及び第2の樹脂フィルムは、例えば、第1及び第2の樹脂組成物各々を押出成形することにより製造することができる。このときのドロー比、即ち、フィルムの巻取速度(単位はm/分である)を樹脂組成物の押出速度(ダイリップを通過する溶融樹脂の流れ方向の線速度であり、単位はm/分である)で除した値は、好ましくは10〜500、より好ましくは100〜400、更に好ましくは150〜350の範囲である。また、フィルムの巻取速度は好ましくは約2〜400m/分、より好ましくは10〜200m/分である。   In the method for producing a laminated microporous film of the present embodiment, a first resin film (hereinafter sometimes referred to as “high melting point resin film”) composed of a first resin composition, and a first. A second resin film (hereinafter sometimes referred to as “low melting point resin film”) composed of the resin composition 2 is prepared separately. The first and second resin films can be produced, for example, by extruding each of the first and second resin compositions. The draw ratio at this time, that is, the film winding speed (unit is m / min) is the extrusion speed of the resin composition (the linear speed in the flow direction of the molten resin passing through the die lip, and the unit is m / min). The value divided by is preferably 10 to 500, more preferably 100 to 400, and still more preferably 150 to 350. The film winding speed is preferably about 2 to 400 m / min, more preferably 10 to 200 m / min.

本実施形態の積層微多孔性フィルムの製造方法は、高融点樹脂フィルムと低融点樹脂フィルムを熱圧着(工程(2))する前に、高融点樹脂フィルムのアニール工程(1)を含む。
アニールの方法としては、例えば、フィルムを加熱ロール上に接触させる方法又は加熱気相中に曝す方法、フィルムを芯体上に巻き取り加熱気相又は加熱液相中に曝す方法や、これら両者を組み合わせて行う方法が挙げられる。これらの加熱処理の条件は、フィルムを構成する材料の種類等により適宜決定される。
高融点樹脂フィルムをアニールする場合の加熱温度は、好ましくは高融点樹脂フィルムの結晶化に適した(TmA−50)℃以上(TmA−2)℃以下であり、より好ましくは(TmA−40)℃以上(TmA−10)℃以下である。
The manufacturing method of the laminated microporous film of this embodiment includes an annealing step (1) of the high melting point resin film before thermocompression bonding (step (2)) of the high melting point resin film and the low melting point resin film.
As an annealing method, for example, a method in which a film is brought into contact with a heating roll or a method in which the film is exposed to a heated gas phase, a method in which the film is wound on a core body and exposed to a heated gas phase or a heated liquid phase, The method of performing in combination is mentioned. The conditions for these heat treatments are appropriately determined depending on the type of material constituting the film.
The heating temperature when annealing the high melting point resin film is preferably (T mA- 50) ° C. or more and (T mA −2) ° C. or less, more preferably (T mA ), which is suitable for crystallization of the high melting point resin film. It is −40) ° C. or higher and (T mA −10) ° C. or lower.

特許文献2に開示されているような従来技術では、各層を構成するフィルムを積層してからアニールを行うことから、各フィルムをそれぞれに最適な温度で結晶化させることができないため、結晶化度が上がらず、透気度の良好な積層微多孔性フィルムを得ることが難しい。
これに対して、本実施形態において、高融点樹脂フィルムを、低融点樹脂フィルムと熱圧着する前に、単独で最適な温度でアニールすることで、積層微多孔性フィルムの透気度を改良できることを見出した。この透気度改良の要因は、完全には解明できていないが、おそらく、高融点樹脂フィルムの結晶性が向上し、より開孔のきっかけになる部分が増えて、後の多孔化工程(工程(4)及び(5))において開孔しやすくなるためと推定される。
In the prior art disclosed in Patent Document 2, since the films constituting each layer are laminated and then annealed, each film cannot be crystallized at an optimum temperature. However, it is difficult to obtain a laminated microporous film having good air permeability.
On the other hand, in this embodiment, the air permeability of the laminated microporous film can be improved by annealing the high melting point resin film alone at an optimum temperature before thermocompression bonding with the low melting point resin film. I found. The cause of this air permeability improvement has not been fully elucidated, but probably the crystallinity of the high-melting point resin film is improved, and there are more opportunities for opening, resulting in a later porous process (process). (4) and (5)) are presumed to be easier to open.

高融点樹脂フィルム、低融点樹脂フィルムは、積層後、所定の延伸処理を施すことにより多孔化され、微多孔層となる。
第1の樹脂フィルムは、熱処理後の弾性回復率が好ましくは80〜95%であり、より好ましくは84〜92%である。また、第2の樹脂フィルムは、熱処理後の弾性回復率が好ましくは50〜80%であり、より好ましくは60〜75%である。
各樹脂フィルムの弾性回復率がこれらの範囲内であれば、多孔化の程度が十分な積層微多孔性フィルムを得ることができる。
The high melting point resin film and the low melting point resin film are made porous by applying a predetermined stretching treatment after the lamination, and become a microporous layer.
The first resin film has an elastic recovery rate after heat treatment of preferably 80 to 95%, more preferably 84 to 92%. The second resin film preferably has an elastic recovery rate after heat treatment of 50 to 80%, more preferably 60 to 75%.
If the elastic recovery rate of each resin film is within these ranges, a laminated microporous film having a sufficient degree of porosity can be obtained.

ここで、高融点樹脂フィルム及び低融点樹脂フィルムの「熱処理後の弾性回復率」は、それぞれ下記のようにして導出される。
高融点樹脂フィルムを、大気中、130℃で1時間アニールした後、幅10mm、長さ50mmの短冊状に切り出して試験片を得る。その試験片を引張試験機の所定位置にセットし、25°C、65%相対湿度の条件下、50mm/分の速度で長さ方向に100%まで(すなわち、100mmの長さになるまで)伸長する。その後、直ちに同速度(50mm/分)で試験片を弛緩させて荷重がゼロになった時の試験片の長さを測定する。そして、下記式(1)に基づいて、高融点樹脂フィルムの「熱処理後の弾性回復率」を導出する。
熱処理後の弾性回復率(%)=((100%伸張時の試験片の長さ)−(弛緩させて荷重がゼロになった時の試験片の長さ))/(伸張前の試験片の長さ)×100 (1)
また、低融点樹脂フィルムを、大気中、130℃で1時間アニールした後、幅15mm、長さ2インチ(5.08cm)の短冊状に切り出して試験片を得る。その試験片を引張試験機の所定位置にセットし、25°C、65%相対湿度の条件下、2インチ/分の速度で長さ方向に50%まで(すなわち、3インチの長さになるまで)伸長する。次いで、1分間、その伸長状態で試験片を保持し、その後、同速度(2インチ/分)で試験片を弛緩させて荷重がゼロになった時の試験片の長さを測定する。そして、下記式(2)に基づいて、低融点樹脂フィルムの「熱処理後の弾性回復率」を導出する。
熱処理後の弾性回復率(%)=((50%伸張時の試験片の長さ)−(弛緩させて荷重がゼロになった時の試験片の長さ))/((50%伸張時の試験片の長さ)−(伸張前の試験片の長さ))×100 (2)
Here, the “elastic recovery rate after heat treatment” of the high melting point resin film and the low melting point resin film is derived as follows, respectively.
The high melting point resin film is annealed in air at 130 ° C. for 1 hour, and then cut into a strip shape having a width of 10 mm and a length of 50 mm to obtain a test piece. The test piece is set in a predetermined position of a tensile tester and is 100% in the length direction at a speed of 50 mm / min under the conditions of 25 ° C. and 65% relative humidity (that is, until the length becomes 100 mm). Elongate. Thereafter, the test piece is immediately relaxed at the same speed (50 mm / min), and the length of the test piece when the load becomes zero is measured. And based on following formula (1), the "elastic recovery rate after heat processing" of a high melting point resin film is derived | led-out.
Elastic recovery rate after heat treatment (%) = ((length of test piece when 100% stretched) − (length of test piece when relaxed to zero load)) / (test piece before stretching) Length) x 100 (1)
Further, the low melting point resin film is annealed in air at 130 ° C. for 1 hour, and then cut into a strip shape having a width of 15 mm and a length of 2 inches (5.08 cm) to obtain a test piece. The specimen is set in place on a tensile tester and is up to 50% in length (ie, 3 inches long) at a speed of 2 inches / minute under conditions of 25 ° C. and 65% relative humidity. Elongate). The specimen is then held in its stretched state for 1 minute, and then the specimen is relaxed at the same speed (2 inches / minute) and the length of the specimen when the load becomes zero is measured. And based on following formula (2), the "elastic recovery rate after heat processing" of a low melting-point resin film is derived | led-out.
Elastic recovery rate after heat treatment (%) = ((length of test piece at 50% extension) − (length of test piece when relaxed and load becomes zero)) / ((at 50% extension) Test piece length) − (length of test piece before stretching)) × 100 (2)

工程(2)においては、高融点樹脂フィルム及び低融点樹脂フィルムを重ねて、加熱されたロ−ル間に通し、熱圧着することが好ましい。この場合、各樹脂フィルムは、原反ロ−ルスタンドから巻き出され、加熱されたロ−ル間でニップされ圧着されることで積層される。積層の際、各樹脂フィルムの弾性回復率が実質的に低下しないように熱圧着することが好ましい。特に、高融点樹脂フィルムを2枚の低融点樹脂フィルムで挟むようにしてそれらを積層する場合に、この方法を採用すると好適である。これにより、得られる積層フィルムのカ−ル(湾曲)が抑制され、外傷も受け難いため、最終的に得られる積層微多孔性フィルムの耐熱性、機械的強度等がより良好となる。また、積層微多孔性フィルムを電池用セパレ−タとして用いる場合、その安全性、信頼性等々の特性をより十分に満たす観点からも好適である。   In the step (2), it is preferable that the high-melting point resin film and the low-melting point resin film are overlapped, passed between heated rolls, and thermocompression bonded. In this case, each resin film is unwound from the roll roll stand, and is laminated by being nipped and pressure-bonded between heated rolls. During lamination, it is preferable to perform thermocompression bonding so that the elastic recovery rate of each resin film does not substantially decrease. In particular, when the high melting point resin films are laminated so as to be sandwiched between two low melting point resin films, it is preferable to employ this method. Thereby, curl (curvature) of the obtained laminated film is suppressed, and it is difficult to receive damage, so that the finally obtained laminated microporous film has better heat resistance, mechanical strength, and the like. In addition, when the laminated microporous film is used as a battery separator, it is also preferable from the viewpoint of sufficiently satisfying its safety and reliability characteristics.

熱圧着温度、上述の例で言えば加熱されたロ−ルの温度、に限定はないが、好ましくは120℃以上140℃以下、より好ましくは127℃以上132℃以下である。熱圧着温度が120℃以上であると、積層フィルム間の剥離強度が高くなり、その後の各延伸工程で剥がれが生じ難くなる傾向がある。また、熱圧着温度が140℃以下であれば、低融点樹脂フィルムが溶解してその弾性回復率が低下するようなことなく、所期の課題を満たす積層微多孔性フィルムが得られ易くなる傾向がある。
熱圧着圧、上述の例で言えば加熱されたロール間のニップ圧、に限定はないが、1〜3kg/cmが適当であり、各樹脂フィルムの原反ロ−ルからの巻き出し速度は0.5〜8m/分が適当である。また、積層体の剥離強度に限定はないが、3〜60g/15mmの範囲が好適である。
The thermocompression bonding temperature and the temperature of the heated roll in the above example are not limited, but are preferably 120 ° C. or higher and 140 ° C. or lower, more preferably 127 ° C. or higher and 132 ° C. or lower. When the thermocompression bonding temperature is 120 ° C. or higher, the peel strength between the laminated films increases, and there is a tendency that peeling does not easily occur in each subsequent stretching step. Moreover, if the thermocompression bonding temperature is 140 ° C. or lower, a laminated microporous film that satisfies the intended problem tends to be easily obtained without dissolving the low melting point resin film and reducing its elastic recovery rate. There is.
Although there is no limitation on the thermocompression bonding pressure, the nip pressure between heated rolls in the above example, 1 to 3 kg / cm 2 is appropriate, and the unwinding speed of each resin film from the original roll 0.5 to 8 m / min is appropriate. Moreover, although there is no limitation in the peeling strength of a laminated body, the range of 3-60g / 15mm is suitable.

本実施形態の積層微多孔性フィルムの製造方法は、熱圧着の後にアニール工程(3)を含む。工程(3)における加熱温度は、好ましくは、低融点樹脂フィルムの結晶化に適した(TmB−30)℃以上(TmB−2)℃以下であり、より好ましくは(TmB−15)℃以上(TmB−2)℃以下である。加熱時間は、10秒間〜100時間が好ましく、より好ましくは1分間〜10時間である。 The manufacturing method of the laminated microporous film of this embodiment includes an annealing step (3) after thermocompression bonding. The heating temperature in the step (3) is preferably (T mB −30) ° C. or higher and (T mB −2) ° C. or lower, more preferably (T mB −15), which is suitable for crystallization of the low melting point resin film. It is not lower than C and (T mB -2) C. or lower. The heating time is preferably 10 seconds to 100 hours, more preferably 1 minute to 10 hours.

本実施形態の積層微多孔性フィルムの製造方法は、熱圧着の後に冷延伸工程(4)を含む。冷延伸の延伸温度は、好ましくは−20℃以上(TmB−60)℃以下であり、より好ましくは0℃以上50℃以下の温度である。−20℃以上で延伸するとフィルムが破断し難くなり、また、(TmB−60)℃以下で延伸した場合は、得られる積層微多孔性フィルムの気孔率が高く、透気度が低くなる傾向がある。ここで、冷延伸工程(4)の延伸温度とは積層フィルムの表面温度である。
冷延伸工程(4)における延伸倍率は、1.05倍〜2.0倍であることが好ましく、より好ましくは1.1倍以上2.0倍未満である。
冷延伸は、少なくとも一方向に行うが、各樹脂フィルムの押出し方向(以下、「MD方向」という。)及び幅方向(以下、「TD方向」という。)の両方向に行ってもよい。好ましくは、積層体を構成する各フィルムの押出し方向にのみ一軸延伸を行うことが好ましい。
The manufacturing method of the lamination | stacking microporous film of this embodiment includes a cold drawing process (4) after thermocompression bonding. The stretching temperature for cold stretching is preferably −20 ° C. or higher and (T mB −60) ° C. or lower, more preferably 0 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. When stretched at −20 ° C. or higher, the film is difficult to break, and when stretched at (T mB −60) ° C. or lower, the resulting laminated microporous film has a high porosity and tends to have low air permeability. There is. Here, the stretching temperature in the cold stretching step (4) is the surface temperature of the laminated film.
The draw ratio in the cold drawing step (4) is preferably 1.05 to 2.0 times, more preferably 1.1 to less than 2.0 times.
Cold stretching is performed in at least one direction, but may be performed in both the extrusion direction of each resin film (hereinafter referred to as “MD direction”) and the width direction (hereinafter referred to as “TD direction”). Preferably, it is preferable to perform uniaxial stretching only in the extrusion direction of each film constituting the laminate.

本実施形態の積層微多孔性フィルムの製造方法は、冷延伸工程(4)の後に、工程(4)よりも高い温度に保持した状態で第2の延伸を施して延伸積層フィルムを得る熱延伸工程(5)を含む。熱延伸工程(5)の延伸温度は、好ましくは(TmB−60)℃以上(TmB−2)℃以下であり、より好ましくは(TmB−30)℃以上(TmB−2)℃以下である。
(TmB−60)℃以上で延伸すればフィルムが破断することなく延伸しやすく、また、(TmB−2)℃以下で延伸した場合は、気孔率が低く、透気度が高い積層微多孔性フィルムを得やすい。ここで、熱延伸工程(5)の延伸温度とは積層フィルムの表面温度である。
熱延伸工程(5)の延伸倍率は、1.05倍以上5.0倍以下であることが好ましく、より好ましくは1.1倍〜5.0倍、より好ましくは2.0倍〜5.0倍である。
熱延伸は、少なくとも一方向に対して行い、MD、TD両方向に行ってもよいが、冷延伸の延伸方向と同じ方向に行うことが好ましく、より好ましくは冷延伸の延伸方向と同じ方向にのみ一軸延伸を行うことである。
The manufacturing method of the laminated microporous film of the present embodiment is a hot stretching in which a stretched laminated film is obtained by performing a second stretching in a state of being held at a temperature higher than that in the step (4) after the cold stretching step (4). Including step (5). The stretching temperature in the heat stretching step (5) is preferably (T mB -60) ° C. or higher and (T mB −2) ° C. or lower, more preferably (T mB −30) ° C. or higher (T mB −2) ° C. It is as follows.
When stretched at (T mB −60) ° C. or higher, the film can be easily stretched without breaking, and when stretched at (T mB −2) ° C. or lower, the porosity is low and the air permeability is high. It is easy to obtain a porous film. Here, the stretching temperature in the thermal stretching step (5) is the surface temperature of the laminated film.
The draw ratio in the heat drawing step (5) is preferably 1.05 times or more and 5.0 times or less, more preferably 1.1 times to 5.0 times, more preferably 2.0 times to 5. 0 times.
The hot stretching may be performed in at least one direction and may be performed in both the MD and TD directions, but is preferably performed in the same direction as the cold stretching direction, and more preferably only in the same direction as the cold stretching direction. It is to perform uniaxial stretching.

本実施形態の積層微多孔性フィルムの製造方法は、熱延伸工程の後に、さらに、熱固定を施す工程(6)を含むことが好ましい。このような熱固定工程を設けることは、延伸時に作用した応力残留による積層微多孔性フィルムの延伸方向への収縮を抑制し得るばかりか、得られる積層微多孔性フィルムの層間剥離強度を向上させる観点からも好適である。この熱固定の方法としては、熱固定後の積層微多孔性フィルムの長さが10〜50%減少する程度熱収縮させる方法(以下、この方法を「緩和」という。)、延伸方向の寸法が変化しないように固定する方法等が挙げられる。   It is preferable that the manufacturing method of the lamination | stacking microporous film of this embodiment further includes the process (6) which performs heat setting after a heat | fever extending process. Providing such a heat setting step not only can suppress shrinkage in the stretching direction of the laminated microporous film due to residual stress acting during stretching, but also improves the delamination strength of the resulting laminated microporous film. It is also suitable from the viewpoint. As the heat setting method, a method of heat shrinking to the extent that the length of the laminated microporous film after heat setting is reduced by 10 to 50% (hereinafter, this method is referred to as “relaxation”), and the dimension in the stretching direction are as follows. The method of fixing so that it may not change is mentioned.

熱固定温度は、(TmB−30)℃以上(TmB−2)℃以下であることが好ましく、(TmB−15)℃以上(TmB−2)℃以下であることがより好ましい。ここで、熱固定温度とは、積層フィルムの表面温度である。
上記冷延伸工程(4)、熱延伸工程(5)、その他の延伸工程及び熱固定を施す工程(6)においては、ロール、テンター、オートグラフ等により、1段階又は2段階以上で、1軸方向及び/又は2軸方向に延伸、熱固定する方法を採用し得る。これらの中でも、本実施形態で得られる積層微多孔性フィルムに要求される物性や用途の観点から、ロールによる2段階以上の1軸延伸、熱固定が好ましい。
The heat setting temperature is preferably (T mB −30) ° C. or more and (T mB −2) ° C. or less, and more preferably (T mB −15) ° C. or more and (T mB −2) ° C. or less. Here, the heat setting temperature is the surface temperature of the laminated film.
In the cold drawing step (4), the hot drawing step (5), the other drawing step and the heat setting step (6), the roll, tenter, autograph, etc. are used in one step or two or more steps and uniaxial. A method of stretching and heat setting in the direction and / or biaxial direction may be employed. Among these, from the viewpoint of physical properties and applications required for the laminated microporous film obtained in the present embodiment, two or more stages of uniaxial stretching and heat setting with a roll are preferable.

[第1の樹脂フィルム(高融点樹脂フィルム)]
本実施形態における第1の樹脂フィルムは、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン、エチレン−プロピレン共重合体のようなポリオレフィン、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体等のオレフィン炭化水素を単量体成分として含む重合体を主成分とした第1の樹脂組成物から形成されることが好ましい。
高融点樹脂フィルムを構成する第1の樹脂組成物は、第2の樹脂組成物より高い融点を有するが、その融点TmAは、例えば、150℃〜280℃であると、破膜温度と成膜性のバランスが良好となるため、好ましい。
高融点樹脂フィルムを形成する第1の樹脂組成物が、ポリプロピレン樹脂100質量部と、ポリフェニレンエーテル樹脂5〜90質量部とを含有する熱可塑性樹脂組成物であれば、より耐熱性が高い積層微多孔性フィルムが得られるため、好ましい。
[First resin film (high melting point resin film)]
The first resin film in this embodiment is made of polyethylene (PE), polypropylene (PP), polybutene-1, poly-4-methylpentene, polyolefin such as ethylene-propylene copolymer, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer. It is preferably formed from a first resin composition mainly composed of a polymer containing an olefin hydrocarbon such as a coalescence as a monomer component.
The first resin composition constituting the high melting point resin film has a higher melting point than that of the second resin composition, and the melting point T mA is, for example, 150 ° C. to 280 ° C. This is preferable because the balance of film properties is improved.
If the first resin composition forming the high melting point resin film is a thermoplastic resin composition containing 100 parts by mass of polypropylene resin and 5 to 90 parts by mass of polyphenylene ether resin, the laminated Since a porous film is obtained, it is preferable.

以下、上記熱可塑性樹脂組成物について詳細を説明する。
[ポリプロピレン樹脂]
本実施形態において、ポリプロピレン樹脂(以下、「PP」と略す場合がある。)とは、ポリプロピレンを単量体成分として含む重合体であり、ホモポリマーであってもコポリマーであってもよい。コポリマーである場合、ランダムコポリマーであってもよいし、ブロックコポリマーであってもよい。また、コポリマーである場合、共重合成分に限定はなく、例えば、エチレン、ブテン、ヘキセン等が挙げられる。ポリプロピレン樹脂がコポリマーである場合、プロピレンの共重合割合は50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であってもよいし、90質量%以上であってもよい。 ポリプロピレン樹脂は、1種類を単独で又は2種類以上を混合して用いられる。また、ポリプロピレン樹脂を得る際に用いられる重合触媒も特に制限はなく、例えば、チーグラー・ナッタ系の触媒やメタロセン系の触媒などが挙げられる。
また、ポリプロピレン樹脂の立体規則性も特に制限はなく、アイソタクチック又はシンジオタクチックのポリプロピレン樹脂が用いられる。
Hereinafter, the thermoplastic resin composition will be described in detail.
[Polypropylene resin]
In the present embodiment, the polypropylene resin (hereinafter sometimes abbreviated as “PP”) is a polymer containing polypropylene as a monomer component, and may be a homopolymer or a copolymer. When it is a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. Moreover, when it is a copolymer, there is no limitation in a copolymerization component, For example, ethylene, butene, hexene, etc. are mentioned. When the polypropylene resin is a copolymer, the copolymerization ratio of propylene is preferably 50% by mass or more, 70% by mass or more, or 90% by mass or more. A polypropylene resin is used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. The polymerization catalyst used for obtaining the polypropylene resin is not particularly limited, and examples thereof include a Ziegler-Natta catalyst and a metallocene catalyst.
Further, the stereoregularity of the polypropylene resin is not particularly limited, and isotactic or syndiotactic polypropylene resin is used.

ポリプロピレン樹脂は、いかなる結晶性や融点を有するものであってもよい。また、得られる微多孔性フィルムの物性や用途に応じて、異なる結晶性や融点を有する2種以上のポリプロピレン樹脂を特定の配合比率で配合したものであってもよい。   The polypropylene resin may have any crystallinity or melting point. In addition, two or more kinds of polypropylene resins having different crystallinity and melting point may be blended at a specific blending ratio depending on the physical properties and applications of the obtained microporous film.

本実施形態で用いるポリプロピレン樹脂は、メルトフローレート(ASTM D1238に準拠し、230℃、2.16kgの荷重下で測定。以下同様。)が好ましくは0.1〜100g/10分、より好ましくは0.1〜80g/10分の範囲のものから選択できる。   The polypropylene resin used in this embodiment preferably has a melt flow rate (based on ASTM D1238, measured at 230 ° C. under a load of 2.16 kg, the same applies hereinafter), preferably 0.1 to 100 g / 10 minutes, more preferably It can be selected from the range of 0.1 to 80 g / 10 min.

本実施形態で用いるポリプロピレン樹脂は、特開昭44−15422号公報、特開昭52−30545号公報、特開平6−313078号公報、特開2006−83294号公報に記載されているような公知の変性ポリプロピレン樹脂であってもよい。さらに、本実施形態で用いるポリプロピレン樹脂は、上述のポリプロピレン樹脂と該変性ポリプロピレン樹脂との任意の割合の混合物であってもよい。   Polypropylene resins used in this embodiment are known as described in JP-A Nos. 44-15422, 52-30545, 6-313078, and 2006-83294. The modified polypropylene resin may be used. Furthermore, the polypropylene resin used in the present embodiment may be a mixture in any proportion of the above-described polypropylene resin and the modified polypropylene resin.

[ポリフェニレンエーテル樹脂]
本実施形態で用いることのできるポリフェニレンエーテル樹脂(以下、「PPE」と略す場合がある。)としては、例えば、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するものが挙げられる。

Figure 2011073277

ここで、式(1)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜7の低級アルキル基、フェニル基、ハロアルキル基、アミノアルキル基、炭化水素オキシ基、及び、少なくとも2個の炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを隔てているハロ炭化水素オキシ基、からなる群より選ばれる化学種を示す。 [Polyphenylene ether resin]
Examples of the polyphenylene ether resin (hereinafter sometimes abbreviated as “PPE”) that can be used in the present embodiment include those having a repeating unit represented by the following general formula (1).
Figure 2011073277

Here, in formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, a phenyl group, a haloalkyl group, or an aminoalkyl. A chemical species selected from the group consisting of a group, a hydrocarbonoxy group, and a halohydrocarbonoxy group in which at least two carbon atoms separate a halogen atom and an oxygen atom.

PPEの具体例としては、例えば、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−フェニル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2,6−ジクロロ−1,4−フェニレンエーテル)が挙げられる。さらに、PPEとして、例えば、2,6−ジメチルフェノールと他のフェノール類(例えば、2,3,6−トリメチルフェノール及び2−メチル−6−ブチルフェノール)との共重合体のようなポリフェニレンエーテル共重合体も挙げられる。これらの中では特に、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)、並びに、2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノールとの共重合体が好ましく、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)がより好ましい。   Specific examples of PPE include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene ether), and poly (2-methyl-6). -Phenyl-1,4-phenylene ether) and poly (2,6-dichloro-1,4-phenylene ether). Further, as PPE, for example, polyphenylene ether copolymer such as a copolymer of 2,6-dimethylphenol and other phenols (for example, 2,3,6-trimethylphenol and 2-methyl-6-butylphenol). Examples include coalescence. Among these, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) and a copolymer of 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol are preferable, and poly (2 , 6-dimethyl-1,4-phenylene ether) is more preferable.

また、PPEの製造方法に関しては、特に限定されるものではなく、公知の製造方法で得られるPPEであれば、本実施形態に用いることができる。
本実施形態で用いるPPEとして、上述のPPEとスチレン系モノマー及び/又はα,β−不飽和カルボン酸若しくはその誘導体(例えば、エステル化合物、酸無水物化合物)とを、ラジカル発生剤の存在下又は非存在下、溶融状態、溶液状態又はスラリー状態で80〜350℃の温度で反応させることによって得られる公知の変性PPEを用いることも可能である。さらに、上述のPPEと該変性PPEとの任意の割合の混合物であってもよい。本実施形態で用いるPPEの還元粘度は、0.15〜2.5が好ましく、0.30〜2.00がより好ましい。
Moreover, it does not specifically limit regarding the manufacturing method of PPE, If it is PPE obtained by a well-known manufacturing method, it can be used for this embodiment.
As the PPE used in the present embodiment, the above-mentioned PPE and a styrenic monomer and / or an α, β-unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof (for example, an ester compound, an acid anhydride compound) in the presence of a radical generator or It is also possible to use a known modified PPE obtained by reacting at a temperature of 80 to 350 ° C. in the absence, in the molten state, in the solution state or in the slurry state. Furthermore, the mixture of the above-mentioned PPE and this modified PPE in arbitrary ratios may be sufficient. The reduced viscosity of PPE used in the present embodiment is preferably 0.15 to 2.5, and more preferably 0.30 to 2.00.

本実施形態に係る熱可塑性樹脂組成物は、ポリプロピレン樹脂100質量部に対し、ポリフェニレンエーテル樹脂を5〜90質量部、好ましくは10〜80質量部、より好ましくは20〜65質量部含有する。PPEの含有割合を上記範囲に設定することは、得られる積層微多孔性フィルムの延伸性の観点から好適である。
本実施形態で用いるPPEとしては、上述のPPEの他に、PPEに対してポリスチレン、ハイインパクトポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン及び/又はゴム補強したシンジオタクチックポリスチレン等の他のポリマーを加えたいわゆるポリマーアロイも好適に用いられる。なお、その場合、PPEの配合量(5〜90質量部)には他のポリマーの質量も含むものとする。
The thermoplastic resin composition according to the present embodiment contains 5 to 90 parts by mass, preferably 10 to 80 parts by mass, more preferably 20 to 65 parts by mass of the polyphenylene ether resin with respect to 100 parts by mass of the polypropylene resin. Setting the content ratio of PPE within the above range is preferable from the viewpoint of stretchability of the obtained laminated microporous film.
As the PPE used in the present embodiment, in addition to the above-mentioned PPE, a so-called polymer obtained by adding other polymers such as polystyrene, high impact polystyrene, syndiotactic polystyrene and / or rubber reinforced syndiotactic polystyrene to the PPE. Alloys are also preferably used. In this case, the amount of PPE (5 to 90 parts by mass) includes the mass of other polymers.

[混和剤]
本実施形態における第1の樹脂フィルムは、ポリプロピレン樹脂を含む(好ましくは主成分として含む)相の海部と、ポリフェニレンエーテル樹脂を含む、好ましくは主成分として含む、相の島部とからなる海島構造を有するものであると好ましい。この場合、PP樹脂のマトリックス中にPPE樹脂が分散して存在する。
好ましくは、該島部の粒径が0.01μm〜10μmである。島部の大きさ(粒径)を制御するために、本実施形態に係る熱可塑性樹脂組成物は、ポリプロピレン樹脂と、ポリフェニレンエーテル樹脂に加えて、混和剤を含有することが特に好ましい。
なお、本明細書において「主成分として含む」、「主体とする」とは、特定成分が、該特定成分を含む組成物(マトリックス成分)中に含まれる割合として好ましくは50質量%以上、より好ましくは80質量%以上含まれ、100質量%含まれてもよいことを意味する。
[Admixture]
The first resin film in the present embodiment is a sea-island structure including a phase sea part including polypropylene resin (preferably included as a main component) and a phase island including polyphenylene ether resin, preferably included as a main component. It is preferable that it has. In this case, the PPE resin is dispersed in the PP resin matrix.
Preferably, the island portion has a particle size of 0.01 μm to 10 μm. In order to control the size (particle size) of the island part, the thermoplastic resin composition according to the present embodiment particularly preferably contains an admixture in addition to the polypropylene resin and the polyphenylene ether resin.
In the present specification, “including as a main component” and “mainly comprising” means that the specific component is preferably contained in a composition (matrix component) containing the specific component, preferably 50% by mass or more. It means that 80% by mass or more is preferably contained, and 100% by mass may be contained.

本実施形態で用いる混和剤は、上述のポリプロピレン樹脂のマトリックス中にポリフェニレンエーテル樹脂を分散粒子化させるための分散剤として作用する。さらには、その混和剤は、本実施形態に係る微多孔性フィルムに良好な気孔率及び良好な透気度を付与する効果を奏する。   The admixture used in the present embodiment acts as a dispersant for dispersing the polyphenylene ether resin in the above-described polypropylene resin matrix. Furthermore, the admixture has the effect of imparting good porosity and good air permeability to the microporous film according to the present embodiment.

本実施形態で用いる混和剤としては、ポリフェニレンエーテル樹脂の分散性の観点から、水添ブロック共重合体が好ましい。この水添ブロック共重合体は、例えば、ビニル芳香族化合物に由来する構造単位を主体とする少なくとも1個の重合体ブロックAと、共役ジエン化合物に由来する構造単位を主体とする少なくとも1個の重合体ブロックBとからなるブロック共重合体に水素を添加したブロック共重合体が挙げられる。   The admixture used in the present embodiment is preferably a hydrogenated block copolymer from the viewpoint of dispersibility of the polyphenylene ether resin. The hydrogenated block copolymer includes, for example, at least one polymer block A mainly composed of a structural unit derived from a vinyl aromatic compound and at least one structural unit mainly composed of a conjugated diene compound. Examples thereof include a block copolymer obtained by adding hydrogen to a block copolymer composed of the polymer block B.

重合体ブロックBの構造単位を提供する共役ジエン化合物としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン及び2,3−ジメチル−1,3−ブタジエンからなる群より選ばれる1種又は2種以上が挙げられる。これらの中でも、ブタジエン、イソプレン及びこれらの組み合わせが好ましい。共役ジエン化合物に由来する構造単位を主体とする重合体ブロックBは、共役ジエン化合物に由来する構造単位を少なくとも70質量%以上含有した重合体ブロックであると好ましく、共役ジエン化合物のホモ重合体ブロック、又は、共役ジエン化合物とその共役ジエン化合物と共重合可能なモノマーとの共重合体ブロックが挙げられる。重合体ブロックBにおけるミクロ構造(共役ジエン化合物の結合形態)については、1,2−ビニル結合量と3,4−ビニル結合量との合計(以下、単に「ビニル結合量」と略す。)が40〜90%であることが好ましく、より好ましくは45〜85%である。ここで、「ビニル結合量」とは、共役ジエン化合物が重合前に有していた全ビニル結合の数に対する、重合後に重合体ブロックB中に残存する1,2−、3,4−ビニル結合の合計数の割合(%)をいう。これらの共役ジエン化合物の結合形態及び「ビニル結合量」は、赤外分光スペクトルから導出される。ただし、NMRスペクトルを用いて導出した「ビニル結合量」の値を、赤外分光スペクトルから導出した値に換算してもよい。その換算は、ビニル結合量が同量の重合体について、それぞれ赤外分光スペクトル及びNMRスペクトルから「ビニル結合量」を導出して、それらの測定法の間の検量線を作成して行うことができる。かかるビニル結合量が40%以上であれば、本実施形態の積層微多孔性フィルムは気孔率と透過度とのバランスに一層優れる。   Examples of the conjugated diene compound that provides the structural unit of the polymer block B include one or two selected from the group consisting of butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, and 2,3-dimethyl-1,3-butadiene. The above is mentioned. Among these, butadiene, isoprene and combinations thereof are preferable. The polymer block B mainly composed of a structural unit derived from a conjugated diene compound is preferably a polymer block containing at least 70% by mass or more of a structural unit derived from a conjugated diene compound, and is a homopolymer block of a conjugated diene compound. Or a copolymer block of a conjugated diene compound and a monomer copolymerizable with the conjugated diene compound. Regarding the microstructure (bonded form of the conjugated diene compound) in the polymer block B, the sum of the 1,2-vinyl bond amount and the 3,4-vinyl bond amount (hereinafter simply referred to as “vinyl bond amount”) is used. It is preferable that it is 40 to 90%, More preferably, it is 45 to 85%. Here, the “vinyl bond amount” is the number of 1,2-, 3,4-vinyl bonds remaining in the polymer block B after the polymerization relative to the total number of vinyl bonds that the conjugated diene compound had before the polymerization. The percentage of the total number. The bond form and “vinyl bond amount” of these conjugated diene compounds are derived from infrared spectroscopy. However, the “vinyl bond amount” derived using the NMR spectrum may be converted into a value derived from the infrared spectrum. The conversion can be carried out by deriving the “vinyl bond amount” from the infrared spectrum and the NMR spectrum for a polymer having the same vinyl bond amount, and creating a calibration curve between these measurement methods. it can. When the vinyl bond amount is 40% or more, the laminated microporous film of this embodiment is further excellent in the balance between porosity and permeability.

重合体ブロックAの構造単位を提供するビニル芳香族化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−tert−ブチルスチレン及びジフェニルエチレンからなる群より選ばれる1種又は2種以上が挙げられる。これらの中でもスチレンが好ましい。
ビニル芳香族化合物に由来する構造単位を主体とする重合体ブロックAは、ビニル芳香族化合物に由来する構造単位を70質量%以上含有する重合体ブロックであると好ましく、ビニル芳香族化合物のホモ重合体ブロック、又は、ビニル芳香族化合物とそのビニル芳香族化合物と共重合可能なモノマーとの共重合体ブロックが挙げられる。
上記の構造を有するブロック共重合体の数平均分子量は、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した場合に、5,000〜1,000,000の範囲であると好ましい。また、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比である分子量分布は10以下であると好ましい。さらに、このブロック共重合体の分子構造は、直鎖状、分岐状、放射状又はこれらの任意の組み合わせのいずれであってもよい。
Examples of the vinyl aromatic compound that provides the structural unit of the polymer block A include one or more selected from the group consisting of styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, p-tert-butylstyrene, and diphenylethylene. Is mentioned. Of these, styrene is preferred.
The polymer block A mainly composed of a structural unit derived from a vinyl aromatic compound is preferably a polymer block containing 70% by mass or more of a structural unit derived from a vinyl aromatic compound. Examples thereof include a coalescence block or a copolymer block of a vinyl aromatic compound and a monomer copolymerizable with the vinyl aromatic compound.
The number average molecular weight of the block copolymer having the above structure is preferably in the range of 5,000 to 1,000,000 when measured by gel permeation chromatography using polystyrene as a standard substance. The molecular weight distribution, which is the ratio of the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography using polystyrene as a standard substance, is preferably 10 or less. Furthermore, the molecular structure of this block copolymer may be any of linear, branched, radial, or any combination thereof.

このような構造を有するブロック共重合体は、それに含まれる重合体ブロックBの脂肪族系二重結合(ビニル結合)に水素を添加することにより、水添ブロック共重合体、すなわち、ビニル芳香族化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素添加物となり、混和剤として用いられる。
ブロック共重合体の水素添加率(ブロック共重合体の脂肪族系二重結合のうち水素添加されているものの割合(%))は、水素添加前のブロック共重合体が有する脂肪族系二重結合の全量を基準として、80%以上であると好ましい。この水素添加率は、上述のビニル結合量と同様に、赤外分光スペクトルにより導出されるが、NMRスペクトルによって導出した水素添加率の値を赤外分光スペクトルから導出した値に換算したものであってもよい。
混和剤が、上記熱可塑性樹脂組成物中に占める割合は、その組成物の全量に対して、好ましくは1〜20質量%、より好ましくは1〜15質量%である。これにより、ポリフェニレンエーテル樹脂の分散性及びこの分散性に起因した本実施形態における積層微多孔性フィルムの気孔率及び透気度がより良好なものとなる。
The block copolymer having such a structure is obtained by adding hydrogen to an aliphatic double bond (vinyl bond) of the polymer block B contained therein, thereby obtaining a hydrogenated block copolymer, that is, a vinyl aromatic. It becomes a hydrogenated compound-conjugated diene compound block copolymer and is used as an admixture.
The hydrogenation rate of the block copolymer (the proportion of the aliphatic double bonds of the block copolymer that are hydrogenated (%)) is the aliphatic double of the block copolymer before hydrogenation. Based on the total amount of bonds, it is preferably 80% or more. This hydrogenation rate is derived from the infrared spectrum as in the case of the vinyl bond described above, but the value of the hydrogenation rate derived from the NMR spectrum is converted to a value derived from the infrared spectrum. May be.
The proportion of the admixture in the thermoplastic resin composition is preferably 1 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, based on the total amount of the composition. As a result, the dispersibility of the polyphenylene ether resin and the porosity and air permeability of the laminated microporous film in the present embodiment resulting from the dispersibility become better.

また、本実施形態に係る熱可塑性樹脂組成物には、上記各成分の他に、本発明により奏される効果を損なわない範囲で、必要に応じて付加的成分、例えば、オレフィン系エラストマー、酸化防止剤、金属不活性化剤、熱安定剤、難燃剤(有機リン酸エステル系化合物、ポリリン酸アンモニウム系化合物、芳香族ハロゲン系難燃剤、シリコーン系難燃剤等)、フッ素系ポリマー、可塑剤(低分子量ポリエチレン、エポキシ化大豆油、ポリエチレングリコール、脂肪酸エステル類等)、三酸化アンチモン等の難燃助剤、耐候(光)性改良剤、ポリオレフィン用造核剤、スリップ剤、無機又は有機充填材及び強化材(ポリアクリロニトリル繊維、カーボンブラック、酸化チタン、炭酸カルシウム、導電性金属繊維、導電性カーボンブラック等)、各種着色剤、離型剤等を添加されてもよい。   Further, the thermoplastic resin composition according to the present embodiment includes, in addition to the above components, additional components such as an olefin elastomer, an oxidation agent, and the like as long as the effects exhibited by the present invention are not impaired. Inhibitors, metal deactivators, heat stabilizers, flame retardants (organic phosphate ester compounds, ammonium polyphosphate compounds, aromatic halogen flame retardants, silicone flame retardants, etc.), fluoropolymers, plasticizers ( Low molecular weight polyethylene, epoxidized soybean oil, polyethylene glycol, fatty acid esters, etc.), flame retardant aids such as antimony trioxide, weathering (light) improvers, polyolefin nucleating agents, slip agents, inorganic or organic fillers And reinforcing materials (polyacrylonitrile fiber, carbon black, titanium oxide, calcium carbonate, conductive metal fiber, conductive carbon black, etc.), each Colorants, may be added a release agent or the like.

[海島構造]
本実施形態に係る高融点樹脂フィルムは、ポリプロピレン樹脂を含む相の海部と、ポリフェニレンエーテル樹脂を含む相の島部とからなる海島構造を有することが好ましい。
本実施形態において「海島構造」とは、ポリフェニレンエーテル樹脂を含む相の粒子からなる島成分間に、海部であるポリプロピレン樹脂を含む相の骨格が形成した構造のことである。換言すると、ポリプロピレン樹脂からなる母体(マトリックス)中にポリオレフィンエーテル樹脂が複数の島状に分散している構造をいう。
なお、上記のような海島構造(分散状態)は、透過型電子顕微鏡などを用いて容易に測定、観察することが可能である。例えば、測定対象となる高融点樹脂フィルムを試料台に積載後、その高融点樹脂フィルムに対して約3nm厚みのオスミウムコーティングを施し、加速電圧を1kVに設定した走査型電子顕微鏡(HITACHI S−4700)を用いて観察することができる。
[Sea-island structure]
The high melting point resin film according to the present embodiment preferably has a sea-island structure including a sea part of a phase containing a polypropylene resin and an island part of a phase containing a polyphenylene ether resin.
In the present embodiment, the “sea-island structure” is a structure in which a skeleton of a phase including a polypropylene resin as a sea part is formed between island components composed of phase particles including a polyphenylene ether resin. In other words, it refers to a structure in which a polyolefin ether resin is dispersed in a plurality of islands in a matrix (matrix) made of polypropylene resin.
The sea-island structure (dispersed state) as described above can be easily measured and observed using a transmission electron microscope or the like. For example, after a high melting point resin film to be measured is loaded on a sample stage, the high melting point resin film is coated with an osmium coating with a thickness of about 3 nm and an acceleration voltage is set to 1 kV (HITACHI S-4700). ).

島部の粒径は、好ましくは0.01μm〜10μm、より好ましくは0.1μm〜5μmである。島部の粒径をこのような範囲とすることは、最終的に得られる積層微多孔性フィルムの開孔部を、フィルム厚み方向、フィルム面方向において、より均一に分散することに寄与し得る。開孔部が均一に分散した積層微多孔性フィルムは電池用セパレータとして好適である。
なお、本実施形態において島部の上記粒径は、以下のようにして測定される。
まず、測定対象となる高融点樹脂フィルムについて海島構造の観察時の測定方法と同様にして透過型電子顕微鏡写真(倍率:5,000倍)を得る。次に、その写真から、マトリックス(海部)であるポリプロピレン樹脂を含む相中に分散したポリフェニレンエーテル樹脂を含む相(島部)の粒子100個を任意に選定する。そして、選定した各粒子の最大長を長軸径、最小長を短軸径として測定する。上記粒径は、当該長軸径として定義されるものである。この粒径は、上記粒子100個についての相加平均値が上述の範囲にあると好ましく、粒子100個全てについて上述の範囲にあるとより好ましい。
The particle size of the island is preferably 0.01 μm to 10 μm, more preferably 0.1 μm to 5 μm. Setting the particle size of the island part in such a range can contribute to more uniformly dispersing the pores of the finally obtained laminated microporous film in the film thickness direction and the film surface direction. . A laminated microporous film in which the apertures are uniformly dispersed is suitable as a battery separator.
In the present embodiment, the particle size of the island is measured as follows.
First, a transmission electron micrograph (magnification: 5,000 times) is obtained in the same manner as the measurement method when observing the sea-island structure for the high melting point resin film to be measured. Next, 100 particles of a phase (island part) containing a polyphenylene ether resin dispersed in a phase containing a polypropylene resin as a matrix (sea part) are arbitrarily selected from the photograph. Then, the maximum length of each selected particle is measured as the major axis diameter, and the minimum length is measured as the minor axis diameter. The particle diameter is defined as the major axis diameter. As for this particle size, the arithmetic average value for 100 particles is preferably in the above range, and more preferably in the above range for all 100 particles.

長軸径と短軸径との比(長軸径/短軸径)は、好ましくは1〜5であり、より好ましくは1〜3である。長軸径と短軸径との比をこのような範囲に設定することは、積層微多孔性フィルムの開孔性の観点から好適である。
なお、用いるポリプロピレン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、及び混和剤を適宜選択することで、上述のような粒径、長軸径と短軸径との比を有するポリフェニレンエーテル樹脂を含む相の粒子(島部)をマトリックス(海部)であるポリプロピレン樹脂を含む相中に分散させることができる。
The ratio of the major axis diameter to the minor axis diameter (major axis diameter / minor axis diameter) is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 3. Setting the ratio of the major axis diameter to the minor axis diameter in such a range is preferable from the viewpoint of the openability of the laminated microporous film.
In addition, by appropriately selecting the polypropylene resin, polyphenylene ether resin, and admixture to be used, particles of the phase containing the polyphenylene ether resin having the above-mentioned particle diameter, ratio of major axis diameter to minor axis diameter (island part) ) Can be dispersed in a phase containing a polypropylene resin which is a matrix (sea part).

本実施形態において、ポリプロピレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂とを含む特定の熱可塑性樹脂組成物から形成される高融点樹脂フィルムを用いて得られる積層微多孔性フィルムは、リチウムイオン電池用セパレータにも利用できる、優れた気孔率と透気度とを有する積層微多孔性フィルムである。この積層微多孔性フィルムは、ポリプロピレン樹脂を母材(マトリックス)とする熱可塑性樹脂組成物から形成されるものでありながら、200℃というポリプロピレン樹脂の融点を超える温度においてもフィルムとしての形態を維持できる、耐熱性の向上した積層微多孔性フィルムである。この耐熱性の向上は、従来技術からは全く予想もできなかった驚くべきことである。   In this embodiment, the laminated microporous film obtained by using a high melting point resin film formed from a specific thermoplastic resin composition containing a polypropylene resin and a polyphenylene ether resin can also be used for a lithium ion battery separator. It is a laminated microporous film having excellent porosity and air permeability. This laminated microporous film is formed from a thermoplastic resin composition having a polypropylene resin as a base material (matrix), but maintains a film form even at a temperature exceeding 200 ° C. of the polypropylene resin melting point. It is a laminated microporous film with improved heat resistance. This improvement in heat resistance is surprising, which could never have been predicted from the prior art.

耐熱性の向上は、積層微多孔性フィルムを電池用セパレータに応用した場合には、近年実施されている電池オーブン試験等で示される破膜温度の上昇をもたらす。本実施形態の製造方法により製造された積層微多孔性フィルムは、上記から明らかなように200℃以上の破膜温度を実現し得る。200℃以上の破膜温度を有する積層微多孔性フィルムは、電池用セパレータとしての耐熱性を飛躍的に向上させ得る。
本実施形態の製造方法により製造された積層微多孔性フィルムにおいてこのように高い破膜温度が実現される機構について詳細は明らかではないが、PPを海部、PPEを島部とするモルフォロジーを有することで、フィルム成形後においても高い溶融粘度を維持でき、破膜温度の向上に寄与しているものと考えられる。
When the laminated microporous film is applied to a battery separator, the improvement in heat resistance brings about an increase in the film breaking temperature as shown in a battery oven test or the like that has been carried out in recent years. As apparent from the above, the laminated microporous film produced by the production method of the present embodiment can achieve a film breaking temperature of 200 ° C. or higher. A laminated microporous film having a film breaking temperature of 200 ° C. or higher can dramatically improve the heat resistance as a battery separator.
Although it is not clear in detail about the mechanism that achieves such a high membrane breaking temperature in the laminated microporous film produced by the production method of this embodiment, it has a morphology with PP as the sea and PPE as the island. Thus, it is considered that a high melt viscosity can be maintained even after film formation, contributing to an improvement in the film breaking temperature.

[第2の樹脂フィルム(低融点樹脂フィルム)]
本実施形態における第2の樹脂フィルムは、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のオレフィン炭化水素を単量体成分として含む重合体であるポリオレフィン樹脂や、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂等の飽和ポリエステル樹脂を含む第2の樹脂組成物から構成されることが好ましい。
低融点樹脂フィルムを構成する第2の樹脂組成物は、その融点が100℃〜150℃であると、積層微多孔性フィルムを電池用セパレータとして用いた際、電池の安全性が飛躍的に向上するため、好ましい。このような第2の樹脂組成物を得るためには、融点が100℃〜150℃の樹脂をその樹脂組成物に含めればよい。そのような樹脂としては、例えばポリエチレン樹脂が挙げられ、より具体的には、いわゆる高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレンが挙げられる。なかでも、高密度ポリエチレン樹脂が好適に用いられる。
第2の樹脂組成物のMFRは、好ましくは0.01〜10g/10分であり、より好ましくは0.1〜3g/10分であり、さらに好ましくは0.8〜2.0g/10分であり、最も好ましくは1.0〜1.6g/10分である。MFRが0.01g/10分以上であれば、低融点樹脂フィルムにフィッシュアイが発生し難くなり、10g/10分以下であるとドローダウンが起こり難くなり、成膜性が良好となる。
また、第2の樹脂組成物の密度は、好ましくは945〜970kg/mであり、より好ましくは955〜970kg/mであり、更に好ましくは960〜967kg/mであり、最も好ましくは963〜967kg/mである。その密度が945kg/m以上であれば、透気性のより良好な微多孔性フィルムが得られ、970kg/m以下であれば、延伸する際に膜が破断し難くなる。
[Second resin film (low melting point resin film)]
The second resin film in the present embodiment is, for example, a polyolefin resin that is a polymer containing an olefin hydrocarbon such as a polyethylene resin or a polypropylene resin as a monomer component, or a saturated polyester such as a polyethylene terephthalate resin or a polybutylene terephthalate resin. It is preferable to be comprised from the 2nd resin composition containing resin.
When the second resin composition constituting the low melting point resin film has a melting point of 100 ° C. to 150 ° C., the safety of the battery is dramatically improved when the laminated microporous film is used as a battery separator. Therefore, it is preferable. In order to obtain such a second resin composition, a resin having a melting point of 100 ° C. to 150 ° C. may be included in the resin composition. Examples of such resins include polyethylene resins, and more specifically, so-called high density polyethylene, medium density polyethylene, and low density polyethylene. Among these, a high density polyethylene resin is preferably used.
The MFR of the second resin composition is preferably 0.01 to 10 g / 10 minutes, more preferably 0.1 to 3 g / 10 minutes, and further preferably 0.8 to 2.0 g / 10 minutes. And most preferably 1.0 to 1.6 g / 10 min. If the MFR is 0.01 g / 10 min or more, it is difficult for fish eyes to occur in the low melting point resin film, and if it is 10 g / 10 min or less, drawdown is difficult to occur, and the film formability is improved.
The density of the second resin composition is preferably 945~970kg / m 3, more preferably from 955~970kg / m 3, more preferably from 960~967kg / m 3, most preferably 963 to 967 kg / m 3 . If the density is 945 kg / m 3 or more, a microporous film with better air permeability can be obtained, and if it is 970 kg / m 3 or less, the membrane is difficult to break during stretching.

[積層微多孔性フィルムの物性]
本実施形態の積層微多孔性フィルムの気孔率は、好ましくは20%〜70%、より好ましくは35%〜65%、更に好ましくは45%〜60%である。この気孔率を20%以上に設定することにより、積層微多孔性フィルムを電池用途に用いた場合に十分なイオン透過性を確保し得る。一方、この気孔率を70%以下に設定することにより、積層微多孔性フィルムが十分な機械強度を確保し得る。本実施形態の積層微多孔性フィルムの膜厚は、5〜40μmが好ましく、10〜30μmがより好ましい。
なお、本実施形態の積層微多孔性フィルムの気孔率は、各層を構成する樹脂組成物の組成、延伸温度、延伸倍率等を適宜設定することにより上述の範囲に調節することができる。
また、積層微多孔性フィルムの気孔率は、そのフィルムから10cm×10cm角のサンプルを切り出し、そのサンプルの体積と質量とから下記式を用いて算出される。ここで、体積とは、積層微多孔性フィルムの見かけ体積(フィルム内の気孔の体積を含む)であり、例えば、10cm×10cm角のサンプルの体積は10cm×10cm×フィルムの厚さ(cm)である。
気孔率(%)=(体積(cm)−質量(g)/フィルムを構成する樹脂組成物の密度(g/cm))/体積(cm)×100
ここで、フィルムを構成する樹脂組成物の密度とは、積層微多孔性フィルムを構成する各層を構成する樹脂組成物の密度を、各層の体積に応じて按分した平均値である。
[Physical properties of laminated microporous film]
The porosity of the laminated microporous film of the present embodiment is preferably 20% to 70%, more preferably 35% to 65%, and further preferably 45% to 60%. By setting the porosity to 20% or more, sufficient ion permeability can be ensured when the laminated microporous film is used for battery applications. On the other hand, by setting the porosity to 70% or less, the laminated microporous film can ensure sufficient mechanical strength. 5-40 micrometers is preferable and, as for the film thickness of the lamination | stacking microporous film of this embodiment, 10-30 micrometers is more preferable.
In addition, the porosity of the laminated microporous film of this embodiment can be adjusted to the above-mentioned range by appropriately setting the composition of the resin composition constituting each layer, the stretching temperature, the stretching ratio, and the like.
In addition, the porosity of the laminated microporous film is calculated by cutting a 10 cm × 10 cm square sample from the film and using the following formula from the volume and mass of the sample. Here, the volume is the apparent volume of the laminated microporous film (including the volume of pores in the film). For example, the volume of a 10 cm × 10 cm square sample is 10 cm × 10 cm × film thickness (cm) It is.
Porosity (%) = (Volume (cm 3 ) −Mass (g) / Density of resin composition constituting film (g / cm 3 )) / Volume (cm 3 ) × 100
Here, the density of the resin composition that constitutes the film is an average value obtained by dividing the density of the resin composition that constitutes each layer constituting the laminated microporous film according to the volume of each layer.

本実施形態の積層微多孔性フィルムの透気度は、好ましくは10秒/100cc〜5000秒/100cc、より好ましくは50秒/100cc〜1000秒/100cc、更に好ましくは100秒/100cc〜500秒/100ccである。この透気度を5000秒/100cc以下とすることは、積層微多孔性フィルムの十分なイオン透過性を確保することに寄与し得る。一方、この透気度を10秒/100cc以上とすることは、欠陥のないより均質な積層微多孔性フィルムを得る観点から好適である。
なお、本実施形態の積層微多孔性フィルムの透気度は、各層を構成する樹脂組成物の組成、延伸温度、延伸倍率等を適宜設定することにより上述の範囲に調節することができる。
また、透気度は、JIS P−8117に準拠し、ガーレー式透気度計を用いて測定される。
The air permeability of the laminated microporous film of the present embodiment is preferably 10 seconds / 100 cc to 5000 seconds / 100 cc, more preferably 50 seconds / 100 cc to 1000 seconds / 100 cc, and even more preferably 100 seconds / 100 cc to 500 seconds. / 100cc. Setting the air permeability to 5000 seconds / 100 cc or less can contribute to ensuring sufficient ion permeability of the laminated microporous film. On the other hand, setting the air permeability to 10 seconds / 100 cc or more is preferable from the viewpoint of obtaining a more uniform laminated microporous film having no defects.
In addition, the air permeability of the laminated microporous film of the present embodiment can be adjusted to the above range by appropriately setting the composition of the resin composition constituting each layer, the stretching temperature, the stretching ratio, and the like.
The air permeability is measured using a Gurley type air permeability meter according to JIS P-8117.

本実施形態の製造方法で製造された積層微多孔性フィルムは電池用セパレータ、例えばリチウム二次電池用セパレータとして好適に用いられる。その他、各種分離膜としても用いられる。   The laminated microporous film produced by the production method of this embodiment is suitably used as a battery separator, for example, a lithium secondary battery separator. In addition, it is used as various separation membranes.

次に、実施例及び比較例を挙げて本実施の形態をより具体的に説明するが、本実施形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、用いた原材料及び各種特性の評価方法は下記の通りである。
まず、メルトフローレート(MFR)は、JIS K 7210に準拠し、ポリプロピレン樹脂については210℃、2.16kgの条件で、ポリエチレン樹脂については190℃、2.16kgの条件で測定した値であり、単位はg/10分である。
ポリエチレン樹脂の密度は、JIS K 7112に準拠し測定した値であり、その単位はkg/mである。
Next, the present embodiment will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present embodiment is not limited to the following examples unless it exceeds the gist. In addition, the raw material used and the evaluation method of various characteristics are as follows.
First, the melt flow rate (MFR) is a value measured in accordance with JIS K 7210 under conditions of 210 ° C. and 2.16 kg for polypropylene resin and 190 ° C. and 2.16 kg for polyethylene resin, The unit is g / 10 minutes.
The density of the polyethylene resin is a value measured according to JIS K 7112, and the unit is kg / m 3 .

ポリプロピレン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、混和剤、ポリエチレン樹脂として、下記のものを用いた。
1.ポリプロピレン樹脂
(a−1) プロピレンホモポリマー、MFR=0.4、融点(TmA)165℃
2.ポリフェニレンエーテル樹脂
(b−1) 2,6−キシレノールを酸化重合して得た還元粘度0.54のPPE
The following were used as polypropylene resin, polyphenylene ether resin, admixture, and polyethylene resin.
1. Polypropylene resin (a-1) Propylene homopolymer, MFR = 0.4, melting point (T mA ) 165 ° C.
2. Polyphenylene ether resin (b-1) PPE having a reduced viscosity of 0.54 obtained by oxidative polymerization of 2,6-xylenol

3.混和剤
(c−1) ポリスチレン(1)−水素添加されたポリブタジエン−ポリスチレン(2)の構造を有するスチレン−ブタジエンブロック共重合体の水素添加物であって、スチレンの重合割合は43重量%、数平均分子量は95,000、水素添加率は99.9%である。
また、ポリスチレン(1)ブロック(重合体ブロックA1)の数平均分子量は30,000、ポリスチレン(2)ブロック(重合体ブロックA2)の数平均分子量は10,000であり、ポリブタジエンブロック(重合体ブロックB)の、1,2−ビニル結合量と3,4−ビニル結合量の合計は80%である。
3. Admixture (c-1) Hydrogenated product of styrene-butadiene block copolymer having the structure of polystyrene (1) -hydrogenated polybutadiene-polystyrene (2), wherein the polymerization ratio of styrene is 43% by weight, The number average molecular weight is 95,000, and the hydrogenation rate is 99.9%.
The number average molecular weight of the polystyrene (1) block (polymer block A1) is 30,000, the number average molecular weight of the polystyrene (2) block (polymer block A2) is 10,000, and a polybutadiene block (polymer block). The total amount of 1,2-vinyl bonds and 3,4-vinyl bonds in B) is 80%.

4.ポリエチレン
(d−1) 旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックHD S160S、融点(TmB)133℃
4). Polyethylene (d-1) Suntec HD S160S, Asahi Kasei Chemicals Corporation, melting point (T mB ) 133 ° C

各種フィルムの特性は下記のようにして測定した。
(1)膜厚(μm)
ダイヤルゲージ(尾崎製作所社製、商品名「PEACOCK No.25」)にて測定した。
(2)気孔率(%)
フィルムから10cm×10cm角のサンプルを切り出し、そのサンプルの体積と質量とから下記式を用いて算出した。
気孔率(%)=(体積(cm)−質量(g)/樹脂組成物の密度(g/cm))/体積(cm)×100
(3)透気度(秒/100cc)
JIS P−8117に準拠したガーレー式透気度計にて測定した。なお、膜厚を20μmに換算した値を導出した。
The characteristics of various films were measured as follows.
(1) Film thickness (μm)
It was measured with a dial gauge (manufactured by Ozaki Seisakusho, trade name “PEACOCK No. 25”).
(2) Porosity (%)
A 10 cm × 10 cm square sample was cut out from the film, and calculated from the volume and mass of the sample using the following formula.
Porosity (%) = (volume (cm 3 ) −mass (g) / density of resin composition (g / cm 3 )) / volume (cm 3 ) × 100
(3) Air permeability (sec / 100cc)
It measured with the Gurley type air permeability meter based on JIS P-8117. A value obtained by converting the film thickness to 20 μm was derived.

(4)破膜温度(耐破膜性)
図1に破膜温度の測定装置の概略図を示す。(A)はその全体図であり、(B)、(C)はその測定装置におけるサンプルを概略的に示す平面図である。まず、(B)に示すように、厚さ10μmのニッケル箔2A上に積層微多孔性フィルム1を積層し、積層微多孔性フィルム1の縦方向(MD方向)(図面のXの方向)端部の上からテフロン(登録商標)テープ(図中斜線で示す。以下同様。)を貼り付けて、積層微多孔性フィルム1をニッケル箔2A上に固定した。ここで、積層微多孔性フィルム1は、予め電解液として1mol/Lのホウフッ化リチウム溶液(溶媒:プロピレンカーボネート/エチレンカーボネート/γ−ブチルラクトン=1/1/2(質量比))が含浸されたものを用いた。一方、(C)に示すように、厚さ10μmのニッケル箔2B上にテフロン(登録商標)テープを貼り合わせてマスキングした。ただし、ニッケル箔2Bの中央部に15mm×10mmの窓(開口)の部分を残した。
(4) Film breaking temperature (film resistance)
FIG. 1 shows a schematic diagram of a measuring device for the film breaking temperature. (A) is the whole figure, (B), (C) is a top view showing roughly the sample in the measuring device. First, as shown in (B), a laminated microporous film 1 is laminated on a nickel foil 2A having a thickness of 10 μm, and the longitudinal direction (MD direction) (direction X in the drawing) of the laminated microporous film 1 is shown. A Teflon (registered trademark) tape (shown by diagonal lines in the figure; the same applies hereinafter) was applied from above the part to fix the laminated microporous film 1 on the nickel foil 2A. Here, the laminated microporous film 1 is impregnated in advance with a 1 mol / L lithium borofluoride solution (solvent: propylene carbonate / ethylene carbonate / γ-butyllactone = 1/1/2 (mass ratio)) as an electrolytic solution. Used. On the other hand, as shown in (C), a Teflon (registered trademark) tape was bonded to the 10 μm thick nickel foil 2B for masking. However, a 15 mm × 10 mm window (opening) portion was left in the center of the nickel foil 2B.

次いで、(A)に示すように、上述のように加工したニッケル箔2Aとニッケル箔2Bとを積層微多孔性フィルム1を挟むようにして重ね合わせた。さらに、その両側からガラス板3A、3Bによって2枚のニッケル箔2A、2Bを挟み込んだ。このとき、ニッケル箔2Bの窓の部分と、積層微多孔性フィルム1とが相対するように位置合わせした。2枚のガラス板3A、3Bは市販のダブルクリップ(図示せず。)で挟んで固定した。そして、これらを、オーブン8内に収容した。   Next, as shown in (A), the nickel foil 2A and the nickel foil 2B processed as described above were superposed with the laminated microporous film 1 interposed therebetween. Furthermore, two nickel foils 2A and 2B were sandwiched between the glass plates 3A and 3B from both sides. At this time, it aligned so that the window part of nickel foil 2B and the lamination | stacking microporous film 1 might face. The two glass plates 3A and 3B were sandwiched and fixed by a commercially available double clip (not shown). These were accommodated in the oven 8.

次に、電気抵抗測定装置(安藤電気製LCRメーター、商品名「AG−4311」)4をニッケル箔2A、2Bに接続した。また、温度計6と接続されている熱電対5をテフロン(登録商標)を用いてガラス板3Aに固定した。測定した電気抵抗及び温度を記録するデーターコレクター7を電気抵抗測定装置4及び温度計6に接続した。
このような装置を用いて、オーブンにより25℃から200℃まで2℃/分でガラス板3Aの温度を昇温しながら、連続的にニッケル箔2A、2B間の電気抵抗を測定した。なお、電気抵抗は1kHzの交流にて測定した。ニッケル箔2A、2B間の電気抵抗値が一旦10Ωに達し、その後、その電気抵抗値が再び10Ωを下回るときの温度を破膜(ショート)温度とした。破膜温度が180℃未満の場合を「×」、180℃以上から200℃未満の場合を「○」、200℃以上の場合を「◎」と評価した。
Next, an electrical resistance measuring device (LCR meter manufactured by Ando Electric Co., Ltd., trade name “AG-4311”) 4 was connected to the nickel foils 2A and 2B. Moreover, the thermocouple 5 connected to the thermometer 6 was fixed to the glass plate 3A using Teflon (registered trademark). A data collector 7 for recording the measured electric resistance and temperature was connected to the electric resistance measuring device 4 and the thermometer 6.
Using such an apparatus, the electrical resistance between the nickel foils 2A and 2B was continuously measured while raising the temperature of the glass plate 3A from 25 ° C. to 200 ° C. at a rate of 2 ° C./min. The electrical resistance was measured with an alternating current of 1 kHz. The temperature at which the electrical resistance value between the nickel foils 2A and 2B once reached 10 3 Ω and then the electrical resistance value again falls below 10 3 Ω was defined as the film breaking (short) temperature. The case where the film breaking temperature was less than 180 ° C. was evaluated as “X”, the case where the film breaking temperature was 180 ° C. to less than 200 ° C. was evaluated as “◯”, and the case where the film breaking temperature was 200 ° C. or more was evaluated as “「 ”.

(5)熱収縮率
フィルムから12cm×12cm角のサンプルを切り出し、そのサンプルのMD方向、TD方向にそれぞれ10cm間隔で2つずつ(計4つ)の印を付け、サンプルを紙で挟んだ状態で、100℃又は140℃のオーブン中に60分間静置した。オーブンからサンプルを取り出し冷却した後、MD方向、TD方向の印間の長さ(cm)を測定し、下記式にてMD方向及びTD方向の熱収縮率を算出した。
MD方向の熱収縮率(%)=(10−加熱後のMD方向の長さ(cm))/10×100
TD方向の熱収縮率(%)=(10−加熱後のTD方向の長さ(cm))/10×100
(5) Thermal contraction rate A sample of 12 cm x 12 cm square is cut out from the film, and two (total of four) marks are placed at 10 cm intervals in the MD and TD directions of the sample, and the sample is sandwiched between papers. And left in an oven at 100 ° C. or 140 ° C. for 60 minutes. After the sample was taken out from the oven and cooled, the length (cm) between the marks in the MD direction and the TD direction was measured, and the thermal shrinkage rate in the MD direction and the TD direction was calculated by the following formula.
MD direction thermal shrinkage (%) = (10−length in the MD direction after heating (cm)) / 10 × 100
Thermal contraction rate (%) in TD direction = (10−length in TD direction after heating (cm)) / 10 × 100

[製造例1]高融点樹脂フィルム(A−1)
ポリプロピレン樹脂(a−1)を、口径20mm、L/D=30、260℃に設定した単軸押出機にフィーダーを介して投入し、押出機先端に設置したリップ厚3.0mmのTダイから押し出した。その後直ちに、溶融した樹脂に25℃の冷風を当て、95℃に冷却したキャストロールでドロー比250倍、巻き取り速度10m/分の条件で巻き取り、高融点樹脂フィルム(A−1)を成形した。この高融点樹脂フィルムの熱処理後の弾性回復率は90%であった。
[Production Example 1] High melting point resin film (A-1)
Polypropylene resin (a-1) was introduced into a single screw extruder set at 20 mm in diameter, L / D = 30, and 260 ° C. via a feeder, and from a T die having a lip thickness of 3.0 mm installed at the tip of the extruder. Extruded. Immediately thereafter, 25 ° C. cold air was applied to the molten resin, and the cast roll cooled to 95 ° C. was wound up under a draw ratio of 250 times and a winding speed of 10 m / min to form a high melting point resin film (A-1). did. The elastic recovery rate after heat treatment of this high melting point resin film was 90%.

[製造例2]高融点樹脂フィルム(A−2)
ポリプロピレン樹脂(a−1)100質量部と、ポリフェニレンエーテル樹脂(b−1)11質量部と、混和剤(c−1)3質量部とを準備した。また、第一原料供給口及び第二原料供給口を有する二軸押出機を準備した。上記核原料口は、押出機のほぼ中央に位置していた。温度260〜320℃、スクリュー回転数300rpmに設定した上記二軸押出機に(a−1)成分、(b−1)成分、(c−1)成分を供給して溶融混練し、熱可塑性樹脂組成物をペレットとして得た。
ポリプロピレン樹脂(a−1)に代えて上述のようにして得られた熱可塑性樹脂組成物のペレットを用いた以外は製造例1と同様にして、高融点樹脂フィルム(A−2)を成形した。この高融点樹脂フィルムにおけるPPEを含む相である島部の粒径は、0.1〜2.5μmであった。また、この高融点樹脂フィルムの熱処理後の弾性回復率は88%であった。
島部の粒径(μm)は、明細書本文中に記載したようにして測定し、測定した粒径の範囲(最大粒径〜最小粒径)を示した。なお、この粒径が測定できたことから明らかなとおり、海島構造も観察された。
[Production Example 2] High melting point resin film (A-2)
100 parts by mass of polypropylene resin (a-1), 11 parts by mass of polyphenylene ether resin (b-1), and 3 parts by mass of admixture (c-1) were prepared. Moreover, the twin-screw extruder which has a 1st raw material supply port and a 2nd raw material supply port was prepared. The nuclear material port was located at the approximate center of the extruder. (A-1) component, (b-1) component, (c-1) component are supplied to the above twin screw extruder set at a temperature of 260 to 320 ° C. and a screw rotation speed of 300 rpm, and are melt-kneaded to produce a thermoplastic resin The composition was obtained as a pellet.
A high melting point resin film (A-2) was molded in the same manner as in Production Example 1 except that the thermoplastic resin composition pellets obtained as described above were used instead of the polypropylene resin (a-1). . The particle size of the island part which is a phase containing PPE in this high melting point resin film was 0.1 to 2.5 μm. Further, the elastic recovery rate after heat treatment of this high melting point resin film was 88%.
The particle size (μm) of the island portion was measured as described in the specification text, and the measured particle size range (maximum particle size to minimum particle size) was shown. As is clear from the measurement of the particle size, a sea-island structure was also observed.

[製造例3]低融点樹脂フィルム(B−1)
ポリエチレン樹脂(d−1)を、口径20mm、L/D=30、220℃に設定した単軸押出機にフィーダーを介して投入し、押出機先端に設置したリップ厚3.0mmのTダイから押し出した。その後直ちに、溶融した樹脂に25℃の冷風を当て、95℃に冷却したキャストロールでドロー比300倍、巻き取り速度10m/分の条件で巻き取り、低融点樹脂フィルム(B−1)を成形した。この低融点樹脂フィルムの熱処理後の弾性回復率は72%であった。
[Production Example 3] Low melting point resin film (B-1)
A polyethylene resin (d-1) was introduced into a single-screw extruder set at 20 mm in diameter, L / D = 30, 220 ° C. via a feeder, and from a T-die having a lip thickness of 3.0 mm installed at the tip of the extruder. Extruded. Immediately after that, 25 ° C. cold air was applied to the molten resin, and the film was wound with a cast roll cooled to 95 ° C. under a draw ratio of 300 times and a winding speed of 10 m / min to form a low melting point resin film (B-1). did. The elastic recovery rate after heat treatment of this low melting point resin film was 72%.

[実施例1]
高融点樹脂フィルム(A−1)2枚を用意し、150℃に加熱された熱風循環オ−ブン中で1時間アニールを施した(工程(1))。次いで、高融点樹脂フィルム(A−1)と低融点樹脂フィルム(B−1)とをそれぞれ巻き出し速度4.0m/分で巻き出し、加熱ロ−ルに導き、そこで熱圧着温度130℃、線圧2.0kg/cmで熱圧着し、その後、同速度で25℃の冷却ロ−ルに導いて巻き取って積層フィルムを得た。(工程(2))この積層フィルムに対して130℃に加熱された熱風循環オ−ブン中で1時間アニールを施した。(工程(3))
次に、アニール後の積層フィルムを25℃の温度で縦方向に1.3倍で一軸延伸して、延伸積層フィルムを得た(冷延伸工程(4))。次いで、延伸積層フィルムを130℃の温度で縦方向に3.0倍で一軸延伸して積層微多孔性フィルムを得た(熱延伸工程(5))。
得られたA−1由来の第1の微多孔層とB−1由来の第2の微多孔層とが積層された積層微多孔性フィルムについて、膜厚、気孔率、透気度、熱収縮率、破膜温度(耐破膜性)を測定した。その結果を表1に示す。
[Example 1]
Two high melting point resin films (A-1) were prepared and annealed for 1 hour in a hot air circulating oven heated to 150 ° C. (step (1)). Next, the high melting point resin film (A-1) and the low melting point resin film (B-1) were each unwound at an unwinding speed of 4.0 m / min and led to a heating roll, where the thermocompression bonding temperature was 130 ° C., The film was thermocompression bonded at a linear pressure of 2.0 kg / cm, and then led to a 25 ° C. cooling roll at the same speed and wound to obtain a laminated film. (Step (2)) The laminated film was annealed for 1 hour in a hot air circulating oven heated to 130 ° C. (Process (3))
Next, the annealed laminated film was uniaxially stretched 1.3 times in the machine direction at a temperature of 25 ° C. to obtain a stretched laminated film (cold stretching step (4)). Next, the stretched laminated film was uniaxially stretched 3.0 times in the machine direction at a temperature of 130 ° C. to obtain a laminated microporous film (thermal stretching step (5)).
About the obtained laminated microporous film in which the first microporous layer derived from A-1 and the second microporous layer derived from B-1 were laminated, the film thickness, porosity, air permeability, heat shrinkage The rate and the film breaking temperature (film resistance) were measured. The results are shown in Table 1.

[実施例2]
高融点樹脂フィルム(A−1)に代えて高融点樹脂フィルム(A−2)を用いた以外は実施例1と同様にして、積層微多孔性フィルムを得た。得られた積層微多孔性フィルムについて、膜厚、気孔率、透気度、熱収縮率、破膜温度(耐破膜性)を測定した。その結果を表1に示す。
[Example 2]
A laminated microporous film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the high melting point resin film (A-1) was used instead of the high melting point resin film (A-1). The resulting laminated microporous film was measured for film thickness, porosity, air permeability, heat shrinkage rate, and film breaking temperature (film resistance). The results are shown in Table 1.

[実施例3]
実施例2の熱延伸工程(5)の後に、130℃の温度で0.8倍に緩和させて熱固定を施した以外は、実施例2と同様にして積層微多孔性フィルムを得た。得られた積層微多孔性フィルムについて、膜厚、気孔率、透気度、熱収縮率、破膜温度(耐破膜性)を測定した。その結果を表1に示す。
[Example 3]
A laminated microporous film was obtained in the same manner as in Example 2 except that after the heat stretching step (5) of Example 2, the film was heat fixed by relaxing it at a temperature of 130 ° C. by a factor of 0.8. The resulting laminated microporous film was measured for film thickness, porosity, air permeability, heat shrinkage rate, and film breaking temperature (film resistance). The results are shown in Table 1.

[比較例1]
高融点樹脂フィルム(A−1)と低融点樹脂フィルム(B−1)とをそれぞれ巻き出し速度4.0m/分で巻き出し、加熱ロ−ルに導き、そこで熱圧着温度130℃、線圧2.0kg/cmで熱圧着し、その後、同速度で25℃の冷却ロ−ルに導いて巻き取って積層フィルムを得た。この積層フィルムに対して130℃に加熱された熱風循環オ−ブン中で1時間アニールを施した。
次に、アニール後の積層フィルムを25℃の温度で縦方向に1.3倍で一軸延伸して、延伸積層フィルムを得た(冷延伸工程)。次いで、延伸積層フィルムを130℃の温度で縦方向に3.0倍で一軸延伸して積層微多孔性フィルムを得た(熱延伸工程)。そして、積層微多孔性フィルムに対して、130℃の温度で0.8倍に緩和させて熱固定を施した。
得られたA−1由来の第1の微多孔層とB−1由来の第2の微多孔層とが積層された積層微多孔性フィルムについて、膜厚、気孔率、透気度、熱収縮率、破膜温度(耐破膜性)を測定した。その結果を表1に示す。透気度が高く、実施例と比較すると劣る結果となった。
[Comparative Example 1]
The high melting point resin film (A-1) and the low melting point resin film (B-1) are each unwound at an unwinding speed of 4.0 m / min and led to a heating roll, where the thermocompression bonding temperature is 130 ° C. and the linear pressure. The film was thermocompression-bonded at 2.0 kg / cm, then led to a 25 ° C. cooling roll at the same speed and wound to obtain a laminated film. This laminated film was annealed for 1 hour in a hot air circulating oven heated to 130 ° C.
Next, the annealed laminated film was uniaxially stretched 1.3 times in the machine direction at a temperature of 25 ° C. to obtain a stretched laminated film (cold stretching process). Subsequently, the stretched laminated film was uniaxially stretched 3.0 times in the machine direction at a temperature of 130 ° C. to obtain a laminated microporous film (thermal stretching step). The laminated microporous film was heat-fixed by relaxing it at a temperature of 130 ° C. by a factor of 0.8.
About the obtained laminated microporous film in which the first microporous layer derived from A-1 and the second microporous layer derived from B-1 were laminated, the film thickness, porosity, air permeability, heat shrinkage The rate and the film breaking temperature (film resistance) were measured. The results are shown in Table 1. The air permeability was high, and the results were inferior compared to the examples.

Figure 2011073277
Figure 2011073277

1 積層微多孔性フィルム
2A ニッケル箔
2B ニッケル箔
3A ガラス板
3B ガラス板
4 電気抵抗測定装置
5 熱電対
6 温度計
7 データーコレクター
8 オーブン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laminated microporous film 2A Nickel foil 2B Nickel foil 3A Glass plate 3B Glass plate 4 Electrical resistance measuring device 5 Thermocouple 6 Thermometer 7 Data collector 8 Oven

Claims (14)

以下の工程(1)〜(5)をこの順で含む、積層微多孔性フィルムの製造方法(ただし、TmAは、第1の樹脂組成物の融点(℃)であり、TmBは、第2の樹脂組成物の融点(℃)である):
(1)第1の樹脂組成物から構成される第1の樹脂フィルムをアニールする工程、
(2)第1の樹脂フィルムと、前記第1の樹脂組成物の融点TmAよりも低い融点TmBを有する第2の樹脂組成物から構成される第2の樹脂フィルムを、熱圧着して積層体を形成する工程、
(3)前記工程(2)で得られた積層体をアニールする工程、
(4)前記工程(3)で得られた積層体を、少なくとも一方向に1.05倍以上2.0倍以下に冷延伸する冷延伸工程、
(5)前記工程(4)で得られた積層体を、工程(4)よりも高い温度に保持した状態で、少なくとも一方向に1.0倍を超え5.0倍以下に熱延伸する熱延伸工程。
A method for producing a laminated microporous film comprising the following steps (1) to (5) in this order (where T mA is the melting point (° C.) of the first resin composition, and T mB is 2 is the melting point (° C.) of the resin composition):
(1) A step of annealing a first resin film composed of the first resin composition,
(2) a first resin film, the second resin film and a second resin composition having a first melting point T mB than the melting point T mA resin composition, and thermocompression Forming a laminate,
(3) A step of annealing the laminate obtained in the step (2),
(4) A cold stretching step of cold stretching the laminate obtained in the step (3) at least 1.05 times to 2.0 times in at least one direction;
(5) Heat that heat-stretches the laminate obtained in the step (4) at a temperature higher than that of the step (4) at a temperature exceeding 1.0 times and not more than 5.0 times in at least one direction. Stretching process.
前記工程(1)において、アニール温度が(TmA−50)℃以上(TmA−2)℃以下である、請求項1に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。 The manufacturing method of the lamination | stacking microporous film of Claim 1 whose annealing temperature is ( TmA- 50) degreeC or more and ( TmA- 2) degrees C or less in the said process (1). 前記工程(2)において、熱圧着温度が120℃以上140℃以下である、請求項1又は2に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the lamination | stacking microporous film of Claim 1 or 2 whose thermocompression bonding temperature is 120 degreeC or more and 140 degrees C or less in the said process (2). 前記工程(3)において、アニール温度が(TmB−30)℃以上(TmB−2)℃以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。 The manufacturing method of the lamination | stacking microporous film of any one of Claims 1-3 whose annealing temperature is ( TmB- 30) degreeC or more and ( TmB- 2) degrees C or less in the said process (3). . 前記工程(4)において、冷延伸が、前記工程(3)で得られた積層体を−20℃以上(TmB−60)℃以下に保持した状態で行われる、請求項の1〜4のいずれか1項に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。 In the step (4), the cold drawing is performed in a state where the laminate obtained in the step (3) is held at -20 ° C or higher ( TmB- 60) ° C or lower. A method for producing a laminated microporous film according to any one of the preceding claims. 前記工程(5)において、熱延伸が、前記工程(4)で得られた積層体を(TmB−60)℃以上(TmB−2)℃以下に保持した状態で行われる、請求項1〜5のいずれか1項に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。 In the step (5), the thermal stretching is performed in a state in which the laminate obtained in the step (4) is held at ( TmB- 60) ° C or higher and ( TmB- 2) ° C or lower. The manufacturing method of the lamination | stacking microporous film of any one of -5. 前記工程(5)の後にさらに以下の工程(6)を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法:
(6)工程(5)で熱延伸された積層体を、(TmB−30)℃以上(TmB−2)℃以下の温度で熱固定する工程。
The method for producing a laminated microporous film according to any one of claims 1 to 6, further comprising the following step (6) after the step (5):
(6) The process of heat-setting the laminated body heat-stretched by process (5) at the temperature of ( TmB- 30) degreeC or more and ( TmB- 2) degrees C or less.
前記第1の樹脂組成物が、ポリプロピレン樹脂100質量部と、ポリフェニレンエーテル樹脂5〜90質量部とを含有する熱可塑性樹脂組成物であり、
前記第1の樹脂組成物から構成される第1の樹脂フィルムが前記ポリプロピレン樹脂を含む相の海部と、前記ポリフェニレンエーテル樹脂を含む相の島部とからなる海島構造を有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。
The first resin composition is a thermoplastic resin composition containing 100 parts by mass of a polypropylene resin and 5 to 90 parts by mass of a polyphenylene ether resin,
The 1st resin film comprised from the said 1st resin composition has a sea island structure which consists of the sea part of the phase containing the said polypropylene resin, and the island part of the phase containing the said polyphenylene ether resin. The manufacturing method of the laminated microporous film of any one of these.
前記熱可塑性樹脂組成物が、更に混和剤を前記ポリプロピレン樹脂100質量部に対して1〜20質量部含有する、請求項8に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。   The method for producing a laminated microporous film according to claim 8, wherein the thermoplastic resin composition further contains 1 to 20 parts by mass of an admixture with respect to 100 parts by mass of the polypropylene resin. 前記混和剤が、ビニル芳香族化合物に由来する構造単位を主体とする少なくとも1個の重合体ブロックAと、共役ジエン化合物に由来する構造単位を主体とし、1,2−ビニル結合量と3,4−ビニル結合量の合計が40〜90%である少なくとも1個の重合体ブロックBと、からなるブロック共重合体に水素を添加した水添ブロック共重合体である、請求項9に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。   The admixture is mainly composed of at least one polymer block A mainly composed of a structural unit derived from a vinyl aromatic compound, and a structural unit derived from a conjugated diene compound. The hydrogenated block copolymer obtained by adding hydrogen to a block copolymer comprising at least one polymer block B having a total 4-vinyl bond content of 40 to 90%. A method for producing a laminated microporous film. 前記島部の粒径が0.01μm〜10μmである、請求項8〜10のいずれか1項に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the lamination | stacking microporous film of any one of Claims 8-10 whose particle size of the said island part is 0.01 micrometer-10 micrometers. 前記第2の樹脂組成物がポリエチレン系樹脂組成物である、請求項1〜11のいずれか1項に記載の積層微多孔性フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the lamination | stacking microporous film of any one of Claims 1-11 whose said 2nd resin composition is a polyethylene-type resin composition. 請求項1〜12のいずれか1項に記載の製造方法により製造された積層微多孔性フィルム。   A laminated microporous film produced by the production method according to claim 1. 請求項13に記載の積層微多孔性フィルムからなる電池用セパレータ。   A battery separator comprising the laminated microporous film according to claim 13.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013028099A (en) * 2011-07-29 2013-02-07 Asahi Kasei E-Materials Corp Laminated microporous film and method for manufacturing the same, and cell separator
WO2016006453A1 (en) * 2014-07-11 2016-01-14 帝人株式会社 Separator roll and nonaqueous secondary battery
JP2016022678A (en) * 2014-07-22 2016-02-08 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Laminated microporous film and method for producing the same, and cell separator

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04181651A (en) * 1990-11-14 1992-06-29 Nitto Denko Corp Manufacture of separator for battery
JPH07304110A (en) * 1994-05-12 1995-11-21 Ube Ind Ltd Laminated porous film and production thereof
JPH09117959A (en) * 1995-10-24 1997-05-06 Ube Ind Ltd Production of laminated porous polyolefin film
JPH1050286A (en) * 1996-08-06 1998-02-20 Ube Ind Ltd Manufacture of separator for battery
JPH10100344A (en) * 1996-08-06 1998-04-21 Ube Ind Ltd Laminated porous polyolefin film and its production
JPH10261393A (en) * 1997-03-18 1998-09-29 Ube Ind Ltd Battery separator
JPH10302747A (en) * 1997-04-23 1998-11-13 Nitto Denko Corp Production for separator of battery
JP2000348703A (en) * 1999-06-01 2000-12-15 Ube Ind Ltd Separator for battery and lithium battery using same
JP2008144039A (en) * 2006-12-11 2008-06-26 Asahi Kasei Chemicals Corp Fluid-permeable fine porous material and its manufacturing method

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04181651A (en) * 1990-11-14 1992-06-29 Nitto Denko Corp Manufacture of separator for battery
JPH07304110A (en) * 1994-05-12 1995-11-21 Ube Ind Ltd Laminated porous film and production thereof
JPH09117959A (en) * 1995-10-24 1997-05-06 Ube Ind Ltd Production of laminated porous polyolefin film
JPH1050286A (en) * 1996-08-06 1998-02-20 Ube Ind Ltd Manufacture of separator for battery
JPH10100344A (en) * 1996-08-06 1998-04-21 Ube Ind Ltd Laminated porous polyolefin film and its production
JPH10261393A (en) * 1997-03-18 1998-09-29 Ube Ind Ltd Battery separator
JPH10302747A (en) * 1997-04-23 1998-11-13 Nitto Denko Corp Production for separator of battery
JP2000348703A (en) * 1999-06-01 2000-12-15 Ube Ind Ltd Separator for battery and lithium battery using same
JP2008144039A (en) * 2006-12-11 2008-06-26 Asahi Kasei Chemicals Corp Fluid-permeable fine porous material and its manufacturing method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013028099A (en) * 2011-07-29 2013-02-07 Asahi Kasei E-Materials Corp Laminated microporous film and method for manufacturing the same, and cell separator
WO2016006453A1 (en) * 2014-07-11 2016-01-14 帝人株式会社 Separator roll and nonaqueous secondary battery
JP5918455B1 (en) * 2014-07-11 2016-05-18 帝人株式会社 Separator roll manufacturing method
JP2016022678A (en) * 2014-07-22 2016-02-08 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Laminated microporous film and method for producing the same, and cell separator

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