JP2011062660A - Evacuation apparatus - Google Patents

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勇人 天久
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an evacuation apparatus capable of more efficiently performing continuous use and regeneration of a cold trap arranged in a vacuum tank than hereinafter. <P>SOLUTION: The evacuation apparatus 102 includes: an evacuation pump 11 capable of evacuating the interior of the vacuum tank 10; the cold trap 35 capable of freezing and trapping gas in the vacuum tank 10; a recessed cover part 32 arranged in the vacuum tank 10; and a flat-plane shaped washer part 33 arranged opposite to the cover part 32. As the result, a cold trap chamber 37 capable of housing the cold trap 35 therein is formed by the cover part 32 and the washer part 33. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は真空排気装置に関する。特に、本発明は、コールドトラップが併設された真空排気装置の改良技術に関する。   The present invention relates to a vacuum exhaust apparatus. In particular, the present invention relates to an improved technique for an evacuation apparatus provided with a cold trap.

真空槽内に残留するガス(例えば、水蒸気)の凍結トラップ用のコールドトラップが、真空排気装置に併設される場合がある。このようなコールドトラップは、例えば、極低温のフロン系混合冷媒を循環させるコイル状の配管により構成されている。   A cold trap for a freezing trap of gas (for example, water vapor) remaining in the vacuum chamber may be provided in the vacuum exhaust apparatus. Such a cold trap is constituted by, for example, a coiled pipe that circulates a cryogenic CFC-based mixed refrigerant.

これにより、当該配管の表面に、冷媒によって凍結された水蒸気が凍結トラップされるので、真空槽内の残留ガスの排気速度が速くなる。   Thereby, since the water vapor frozen by the refrigerant is frozen and trapped on the surface of the pipe, the exhaust speed of the residual gas in the vacuum chamber is increased.

ところで、真空排気装置のコールドトラップの使用形態として、従来から様々な方式が提案されている。   By the way, various methods have been conventionally proposed as a usage form of a cold trap of an evacuation apparatus.

例えば、真空槽内にコールドトラップを配置する方式の真空槽内配置型コールドトラップがある( 例えば、特許文献1、2参照)。   For example, there is an in-vacuum tank placement type cold trap in which a cold trap is disposed in a vacuum tank (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

本方式のコールドトラップでは、真空槽内に直接にコールドトラップを配置しているので、コールドトラップによる残留ガスの凍結トラップ効率が高い。よって、本方式のコールドトラップは、真空槽内の残留ガスの排気速度を向上できるという利点がある。   In the cold trap of this system, since the cold trap is arranged directly in the vacuum chamber, the efficiency of freezing and trapping residual gas by the cold trap is high. Therefore, the cold trap of this system has an advantage that the exhaust speed of the residual gas in the vacuum chamber can be improved.

しかし、この方式の場合、真空槽に大気を導入( ベント) する都度、コールドトラップを常温に戻し、コールドトラップの表面での多量の霜発生を防止する必要がある。よって、本方式のコールドトラップは、コールドトラップの温度操作に長時間を要する。また、コールドトラップを真空槽から隔離できないので、コールドトラップの短時間の再生にも支障をきたす。   However, with this method, it is necessary to return the cold trap to room temperature each time air is introduced (vented) into the vacuum chamber to prevent the generation of a large amount of frost on the surface of the cold trap. Therefore, the cold trap of this method requires a long time for the temperature operation of the cold trap. In addition, since the cold trap cannot be isolated from the vacuum chamber, the cold trap can be regenerated in a short time.

つまり、この真空排気装置では、コールドトラップの連続使用や再生において難点(連続使用の中断および再生の長期化の問題)があった。   In other words, this vacuum exhaust apparatus has a difficulty in continuous use and regeneration of the cold trap (interruption of continuous use and problems of prolonged regeneration).

特開平8 −144050号公報JP-A-8-144050 特許第2674591号明細書Japanese Patent No. 2675591

本件発明者は、真空槽内にコールドトラップ専用の凹型の蓋部を設けることにより、真空槽内配置型コールドトラップの連続使用および再生を従来よりも効率に行うこと(つまり、連続使用の中断防止および再生時間の短縮化を図ること)ができることに気がついた。また、この蓋部の存在が、真空槽内の熱源からコールドトラップへの熱輻射線の遮蔽に好都合であることも気がついた。   The present inventor can perform continuous use and regeneration of the cold trap disposed in the vacuum chamber more efficiently than before by providing a concave lid dedicated to the cold trap in the vacuum chamber (that is, preventing interruption of continuous use). And that the playback time can be shortened). It has also been found that the presence of the lid is convenient for shielding the heat radiation from the heat source in the vacuum chamber to the cold trap.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、真空槽内配置型コールドトラップの連続使用および再生を従来よりも効率に行うことができる真空排気装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a situation, and it aims at providing the vacuum exhaust apparatus which can perform the continuous use and reproduction | regeneration of a cold trap arrangement | positioning type cold trap more efficiently than before. .

上記課題を解決するため、本発明は、真空槽内を排気できる真空ポンプと、前記真空槽内のガスを凍結トラップできるコールドトラップと、前記真空槽内に配された凹型の蓋部と、前記蓋部に対置された平板状の座部と、を備え、前記蓋部と前記座部とによって、前記コールドトラップを格納できるコールドトラップ室の形成が行われる真空排気装置を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides a vacuum pump that can exhaust the inside of a vacuum chamber, a cold trap that can freeze and trap gas in the vacuum chamber, a concave lid portion disposed in the vacuum chamber, There is provided a vacuum evacuation device including a flat seat portion opposed to a lid portion, wherein a cold trap chamber capable of storing the cold trap is formed by the lid portion and the seat portion.

以上の構成により、真空槽内にコールドトラップ専用のコールドトラップ室を形成できるので、真空槽内配置型コールドトラップの特徴(利点)を損なわずに、コールドトラップの連続使用および再生を従来よりも効率に行うことができる。   With the above configuration, a cold trap chamber dedicated to a cold trap can be formed in the vacuum chamber, so continuous use and regeneration of the cold trap is more efficient than before without losing the features (advantages) of the cold trap placed in the vacuum chamber. Can be done.

本発明の真空排気装置では、前記蓋部の周縁が前記座部から離れることにより、前記コールドトラップが前記真空槽内に露出してもよい。また、前記蓋部の周縁が前記座部に当たることにより、前記コールドトラップ室が形成されてもよい。   In the vacuum evacuation device according to the present invention, the cold trap may be exposed in the vacuum chamber when a peripheral edge of the lid part is separated from the seat part. In addition, the cold trap chamber may be formed by a peripheral edge of the lid portion contacting the seat portion.

このようにして、真空槽内配置型コールドトラップの特徴(利点)を損なわずに、コールドトラップ室を適切に形成できる。   In this way, the cold trap chamber can be appropriately formed without impairing the characteristics (advantages) of the in-vacuum tank type cold trap.

また、本発明の真空排気装置では、前記真空槽の壁部が前記座部であってよい。   Moreover, in the vacuum exhaust apparatus of this invention, the wall part of the said vacuum chamber may be the said seat part.

これにより、真空排気装置の部品点数を削減できる。   Thereby, the number of parts of an evacuation apparatus can be reduced.

また、本発明の真空排気装置では、前記蓋部への駆動力を発生できる駆動装置を備えてもよい。そして、前記駆動装置の駆動部に支持されたピストンロッドが、前記壁部を気密に貫いて環状の前記コールドトラップと交差するように前記蓋部に延び、かつ、前記ピストンロッドの先端部が、前記蓋部に連結してもよい。   Further, the vacuum exhaust apparatus of the present invention may include a driving device that can generate a driving force to the lid. And the piston rod supported by the drive part of the drive device extends to the lid part so as to penetrate the wall part and cross the annular cold trap, and the tip part of the piston rod is You may connect with the said cover part.

また、本発明の真空排気装置では、前記蓋部は、前記ピストンロッドの軸方向に直交するように配された平板と、前記平板の周縁から前記ピストンロッドの軸方向に平行に延びる筒状壁と、を含んでもよい。そして、前記筒状壁によって押圧されている環状のシール部材が、前記コールドトラップ室と前記真空槽との間の気密性の確保に用いられてもよい。   Moreover, in the vacuum exhaust apparatus of the present invention, the lid portion includes a flat plate disposed so as to be orthogonal to the axial direction of the piston rod, and a cylindrical wall extending in parallel to the axial direction of the piston rod from the periphery of the flat plate. And may be included. And the cyclic | annular sealing member currently pressed by the said cylindrical wall may be used for ensuring airtightness between the said cold trap chamber and the said vacuum chamber.

これにより、真空装置が、例えば、バッチ式の成膜装置の場合、真空槽内の基板(図示せず)の入れ替え時に、冷媒循環中のコールドコイルを大気に曝さなくて済む。よって、基板入れ替え時においてもコールドコイルの使用条件を変えずに連続的に動作できる。   As a result, when the vacuum apparatus is, for example, a batch-type film forming apparatus, the cold coil in the refrigerant circulation need not be exposed to the atmosphere when replacing the substrate (not shown) in the vacuum chamber. Therefore, it is possible to operate continuously without changing the use condition of the cold coil even when replacing the substrate.

更に、前記コールドトラップ室のみに大気を導入するベントバルブを備えてもよく、前記コールドトラップ室が前記ベントバルブを用いて大気に開放されもよい。   Furthermore, a vent valve for introducing the atmosphere only into the cold trap chamber may be provided, and the cold trap chamber may be opened to the atmosphere using the vent valve.

これにより、真空槽内を大気開放せずに、コールドトラップ室に配されたベントバルブを用いてコールドトラップ室のみに大気を導入できる。その結果、コールドトラップの再生を効率的に行うことができる。よって、本実施形態の真空排気装置では、コールドトラップの再生を短時間で行うことができる。   Thereby, the atmosphere can be introduced only into the cold trap chamber by using the vent valve arranged in the cold trap chamber without opening the inside of the vacuum chamber to the atmosphere. As a result, the cold trap can be efficiently regenerated. Therefore, in the vacuum exhaust apparatus of this embodiment, the cold trap can be regenerated in a short time.

また、本発明の真空排気装置では、前記蓋部は、前記ピストンロッドの軸方向に直交するように配された平板と、前記平板の周縁から前記ピストンロッドの軸方向に平行に延びる筒状壁を含んでもよい。そして、前記蓋部が前記壁部から離れることによって、前記筒状壁と前記壁部との間に、環状の空間を形成してもよい。更に、前記コールドトラップが、前記空間を介して前記真空槽内に露出してもよい。   Moreover, in the vacuum exhaust apparatus of the present invention, the lid portion includes a flat plate disposed so as to be orthogonal to the axial direction of the piston rod, and a cylindrical wall extending in parallel to the axial direction of the piston rod from the periphery of the flat plate. May be included. And when the said cover part leaves | separates from the said wall part, you may form annular space between the said cylindrical wall and the said wall part. Furthermore, the cold trap may be exposed in the vacuum chamber through the space.

これにより、蓋部が真空槽内の奥深くまで移動すると、コールドトラップを上下方向において遮る部材が全く存在しなくなり、真空槽内の残留ガスのトラップを、コールドトラップによって効率的に行え、コールドトラップの排気能力を向上できる。   As a result, when the lid part moves deep inside the vacuum chamber, there is no member that blocks the cold trap in the vertical direction, and trapping of residual gas in the vacuum chamber can be efficiently performed by the cold trap. Exhaust capacity can be improved.

また、本発明の真空排気装置では、前記真空槽内に配された熱源を備えてもよい。そして、前記蓋部を、前記コールドトラップの使用時において前記熱源からの熱輻射を遮蔽する位置に配置してもよい。   Moreover, in the vacuum exhaust apparatus of this invention, you may provide the heat source distribute | arranged in the said vacuum chamber. And the said cover part may be arrange | positioned in the position which shields the thermal radiation from the said heat source at the time of use of the said cold trap.

これにより、真空装置での熱源動作中においても、熱源の発熱を考慮せずに、コールドコイルのガストラップを適切に行うことができる。   Thereby, even during the heat source operation in the vacuum apparatus, the cold coil gas trap can be appropriately performed without considering the heat generation of the heat source.

本発明によれば、真空槽内配置型コールドトラップの連続使用および再生を従来よりも効率に行うことができる真空排気装置が得られる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the vacuum exhaust apparatus which can perform the continuous use and reproduction | regeneration of a cold trap arranged in a vacuum chamber more efficiently than before is obtained.

本発明の実施形態の真空排気装置を備えた真空装置の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of the vacuum apparatus provided with the vacuum exhaust apparatus of embodiment of this invention. 本発明の実施形態による真空排気装置の副ポンプ構造の説明に用いる断面図である。It is sectional drawing used for description of the subpump structure of the vacuum exhaust apparatus by embodiment of this invention. 本発明の実施形態による真空排気装置の副ポンプ構造の説明に用いる断面図である。It is sectional drawing used for description of the subpump structure of the vacuum exhaust apparatus by embodiment of this invention. 図2のコールドコイルおよびその周辺構造を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the cold coil of FIG. 2, and its peripheral structure. 図2のA部の拡大図である。It is an enlarged view of the A section of FIG.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、以下の説明の便宜上、真空装置100において重力の作用する方向を「下方」といい、その反対方向を「上方」という場合がある。また、このような上下方向に直交する方向を「水平方向」という場合がある。   For convenience of the following description, the direction in which gravity acts in the vacuum apparatus 100 may be referred to as “downward”, and the opposite direction may be referred to as “upward”. In addition, such a direction perpendicular to the vertical direction may be referred to as a “horizontal direction”.

図1は、本発明の実施形態の真空排気装置を備えた真空装置の一例を模式的に示した図である。   FIG. 1 is a diagram schematically illustrating an example of a vacuum apparatus including a vacuum exhaust apparatus according to an embodiment of the present invention.

本実施形態の真空装置100は、図1に示すように、適宜の真空処理が行われる真空槽10と、真空槽10の内部を減圧可能な真空排気装置102と、を備える。   As shown in FIG. 1, the vacuum device 100 of the present embodiment includes a vacuum chamber 10 in which appropriate vacuum processing is performed, and a vacuum exhaust device 102 that can depressurize the inside of the vacuum chamber 10.

なお、真空槽10は、真空装置100を真空蒸着装置やスパッタリング装置などの真空成膜装置に用いる場合には、真空成膜室に該当する。例えば、本実施形態の真空装置100では、蒸着材料を入れた蒸着源40(後述の図2、3参照)と、この蒸着源40の熱によって蒸発された粒子を堆積させる樹脂製の基板41(後述の図2、3参照)と、が、真空槽10内に配されている。なお、このような蒸着源40は、ヒータやボードに直接通電し、発生する電熱を利用する方式の熱源や電子ビームを直接当てて加熱する方式の熱源によって構成できる。   The vacuum chamber 10 corresponds to a vacuum film forming chamber when the vacuum apparatus 100 is used in a vacuum film forming apparatus such as a vacuum vapor deposition apparatus or a sputtering apparatus. For example, in the vacuum apparatus 100 of the present embodiment, a vapor deposition source 40 (see FIGS. 2 and 3 to be described later) containing a vapor deposition material, and a resin substrate 41 on which particles evaporated by the heat of the vapor deposition source 40 are deposited ( 2 (see FIGS. 2 and 3 to be described later) are disposed in the vacuum chamber 10. In addition, such a vapor deposition source 40 can be comprised by the heat source of the system which supplies electricity directly to a heater and a board, uses the generated heat, and the heat source of a system which directly heats an electron beam.

よって、以下、真空装置100として、真空蒸着装置100を例にとり、本実施形態の真空排気装置102の構成を説明する。   Therefore, hereinafter, the configuration of the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment will be described by taking the vacuum vapor deposition apparatus 100 as an example of the vacuum apparatus 100.

真空排気装置102は、図1に示すように、真空槽10内を数Pa程度にまで排気できる粗引ポンプ13(低真空ポンプ)と、真空槽10内を蒸着処理が行われる高真空度になるまで排気できる主ポンプ11(高真空ポンプ)と、主ポンプ11の排気口を開閉できるメインバルブ20と、メインバルブ20の開閉用の駆動力を発生できる第1シリンダ21(駆動装置)と、を備える。   As shown in FIG. 1, the vacuum exhaust device 102 includes a roughing pump 13 (low vacuum pump) that can exhaust the interior of the vacuum chamber 10 to about several Pa, and a high degree of vacuum in which the interior of the vacuum chamber 10 is subjected to vapor deposition. A main pump 11 (high vacuum pump) capable of evacuating until the end, a main valve 20 capable of opening and closing the exhaust port of the main pump 11, a first cylinder 21 (driving device) capable of generating a driving force for opening and closing the main valve 20, Is provided.

また、真空排気装置102では、真空槽10内に配され、コールドトラップ室37を構成する凹型(矩形の箱型)の蓋部32(図2、3参照)と、この蓋部32への往復運動用の駆動力を発生できる第2シリンダ31と、を備える副ポンプ構造に特徴があるが、このような副ポンプ構造の詳細な説明は後述する。   In the vacuum exhaust device 102, a concave (rectangular box-shaped) lid portion 32 (see FIGS. 2 and 3) disposed in the vacuum chamber 10 and constituting the cold trap chamber 37, and reciprocation to the lid portion 32. The auxiliary pump structure including the second cylinder 31 capable of generating a driving force for movement has a feature. A detailed description of such an auxiliary pump structure will be described later.

なお、コールドトラップとは、真空槽10内の残留ガス(例えば、水蒸気)を凍結トラップすることにより、残留ガスを吸着排気できる真空ポンプの一種であり、極低温(雰囲気の圧力での飽和蒸気圧に対する温度以下;例えば、−140℃〜−120℃程度)のフロン系混合冷媒を循環できる金属配管からなるコールドコイル35(図4参照)や平板状のコールドパネルなどの冷却部品を用いて構成できる。   The cold trap is a kind of vacuum pump that can adsorb and exhaust residual gas by freezing and trapping residual gas (for example, water vapor) in the vacuum chamber 10, and is extremely low temperature (saturated vapor pressure at atmospheric pressure). It can be configured by using a cooling component such as a cold coil 35 (see FIG. 4) made of a metal pipe capable of circulating a chlorofluorocarbon mixed refrigerant at a temperature lower than the temperature of, for example, about −140 ° C. to −120 ° C. .

粗引ポンプ13には、メカニカルブースタポンプや油回転ポンプ、または、これらのポンプの組合せなどを用いることができる。主ポンプ11には、油蒸気噴射式の油拡散ポンプやターボ分子ポンプなどを用いることができる。   As the roughing pump 13, a mechanical booster pump, an oil rotary pump, a combination of these pumps, or the like can be used. As the main pump 11, an oil vapor injection type oil diffusion pump, a turbo molecular pump, or the like can be used.

また、メインバルブ20内の空間は、真空槽10内と主ポンプ11内との間の排気通路20A(図2、3参照)となっている。そして、上述の粗引ポンプ13は、粗引バルブ14を介して排気通路20Aおよび真空槽10内と連通している。このような粗引ポンプ13により、粗引バルブ14が開くと、真空槽10内のガスが粗引ポンプ13を用いて排気される。   The space in the main valve 20 is an exhaust passage 20A (see FIGS. 2 and 3) between the vacuum chamber 10 and the main pump 11. The roughing pump 13 described above communicates with the exhaust passage 20 </ b> A and the vacuum chamber 10 via the roughing valve 14. When the roughing valve 14 is opened by such a roughing pump 13, the gas in the vacuum chamber 10 is exhausted by using the roughing pump 13.

また、この粗引ポンプ13は、フォアラインバルブ16を介して主ポンプ11内に接続されている。フォアラインバルブ16が開くと、粗引ポンプ13が、主ポンプ11の起動を可能にする圧力にまで主ポンプ11内を減圧できる。   The roughing pump 13 is connected to the main pump 11 via the foreline valve 16. When the foreline valve 16 is opened, the roughing pump 13 can reduce the pressure in the main pump 11 to a pressure that allows the main pump 11 to be activated.

次に、真空排気装置102の副ポンプ構造について図面を参照しながら詳しく説明する。   Next, the sub pump structure of the vacuum exhaust apparatus 102 will be described in detail with reference to the drawings.

図2および図3は、本発明の実施形態による真空排気装置の副ポンプ構造の説明に用いる断面図である。図3では、凹型の蓋部32(詳細は後述)が平板状の座部33(詳細は後述)から離れることにより、コールドコイル35(コールドトラップ)が真空槽10内に露出した状態が図示されている。図2では、蓋部32が座部33に当たることにより、コールドコイル35がコールドコイル室37(コールドトラップ室)内に密封された状態が図示されている。   2 and 3 are cross-sectional views used for explaining the sub pump structure of the vacuum exhaust apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 3 illustrates a state in which the cold coil 35 (cold trap) is exposed in the vacuum chamber 10 when the concave lid portion 32 (details will be described later) is separated from the flat seat portion 33 (details will be described later). ing. FIG. 2 shows a state in which the cold coil 35 is sealed in the cold coil chamber 37 (cold trap chamber) by the lid portion 32 coming into contact with the seat portion 33.

なお、図2および図3では、便宜上、真空排気装置102の構成要素のうちの一部(例えば、粗引バルブ14など)の図示を省略している。   2 and 3, for convenience, some of the components of the vacuum exhaust device 102 (for example, the roughing valve 14) are not shown.

まず、本実施形態の真空排気装置102の主ポンプ構造を概説する。   First, the main pump structure of the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment will be outlined.

メインバルブ20は、図2および図3に示すように、弁板22と弁座23とによって、構成されている。弁板22は、第1シリンダ21のシリンダ本体21Aに支持されたピストンロッド21Bの先端部に連結されている。そして、メインバルブ20による主ポンプ11の排気口の閉栓時には、第1シリンダ21の駆動力に基づいて、弁板22によって主ポンプ11と真空槽10に連通する排気通路20Aとが、環状の第1シール部材22C(例えば、Oリング)によって仕切られ(図2および図3の二点鎖線参照)、メインバルブ20による主ポンプ11の排気口の開栓時には、主ポンプ11と排気通路20Aとが連通される(図2および図3の実線参照)。   As shown in FIGS. 2 and 3, the main valve 20 is constituted by a valve plate 22 and a valve seat 23. The valve plate 22 is connected to the tip of the piston rod 21 </ b> B supported by the cylinder body 21 </ b> A of the first cylinder 21. When the exhaust port of the main pump 11 is closed by the main valve 20, the exhaust passage 20 </ b> A communicating with the main pump 11 and the vacuum chamber 10 through the valve plate 22 is formed in an annular shape based on the driving force of the first cylinder 21. 1 When the main valve 20 opens the exhaust port of the main pump 11, the main pump 11 and the exhaust passage 20A are separated from each other by a seal member 22C (for example, an O-ring) (see a two-dot chain line in FIGS. 2 and 3). Communicating (see solid lines in FIGS. 2 and 3).

なお、このようなメインバルブ20のバルブ構造は周知である。よって、ここでは、メインバルブ20の詳細な構成の説明は省略する。   Such a valve structure of the main valve 20 is well known. Therefore, the detailed description of the main valve 20 is omitted here.

次に、本実施形態の真空排気装置102の特徴部である副ポンプ構造について述べる。   Next, the sub pump structure which is a characteristic part of the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment is described.

コールドコイル室37は、図2に示すように、真空槽10内に配された金属製(例えば、ステンレス製)の凹型の蓋部32の周縁と、蓋部32と対置された金属製(例えば、ステンレス製)の平板状の座部33と、が互いに当接することにより形成され、コールドコイル35の隔離室に相当する。   As shown in FIG. 2, the cold coil chamber 37 is made of a metal (for example, stainless steel) concave lid 32 disposed in the vacuum chamber 10 and a metal (for example, a metal) facing the lid 32 (for example, And a flat plate-like seat portion 33 made of stainless steel, and is in contact with each other, and corresponds to an isolation chamber of the cold coil 35.

なお、本実施形態の真空排気装置102では、座部33は、真空槽10の側壁部によって形成されており、これにより、真空排気装置102の部品点数を削減することができる。   In the vacuum evacuation device 102 of the present embodiment, the seat portion 33 is formed by the side wall portion of the vacuum chamber 10, whereby the number of parts of the vacuum evacuation device 102 can be reduced.

真空排気装置102の第2シリンダ31は、蓋部32の駆動系として機能する装置であり、図2および図3に示すように、シリンダ本体31A(駆動部)とピストンロッド31B(駆動力伝達部)とからなる。   The second cylinder 31 of the vacuum exhaust device 102 is a device that functions as a drive system for the lid portion 32. As shown in FIGS. 2 and 3, the cylinder body 31A (drive portion) and the piston rod 31B (drive force transmission portion). ).

シリンダ本体31Aは、適宜の固定手段によって、座部33を形成する真空槽10の側壁部に固定されている。シリンダ本体31Aに支持されたピストンロッド31Bは、座部33に形成された開口33Aを気密に貫いて、環状(例えば円環状や矩形の額縁状)のコールドコイル35のコイル面と交差するように真空槽10内に延び、ピストンロッド31Bの先端部が、蓋部32(正確には、後述の平板32Bの裏面側)の中央部において連結している。これにより、ピストンロッド21Bの伸縮によって、蓋部32を水平移動できる。   The cylinder body 31A is fixed to the side wall portion of the vacuum chamber 10 forming the seat portion 33 by an appropriate fixing means. The piston rod 31B supported by the cylinder body 31A passes through the opening 33A formed in the seat portion 33 in an airtight manner so as to intersect the coil surface of the annular (for example, an annular or rectangular frame) cold coil 35. It extends into the vacuum chamber 10 and the tip of the piston rod 31B is connected at the center of the lid 32 (exactly, the back side of a flat plate 32B described later). Thereby, the cover part 32 can be horizontally moved by expansion and contraction of the piston rod 21B.

詳しくは、図4に示すように、コールドコイル35は、冷凍機50からのフロン系混合冷媒を循環可能な金属配管を、水平方向に複数段(ここでは、3段)に亘って、コイル状に巻いて構成され、これにより、本実施形態の真空排気装置102の副ポンプとして機能できる。そして、このコールドコイル35が、真空槽10の側壁部の適所に固定され(固定手段の図示は省略)、ピストンロッド31Bが、真空槽10内においてコールドコイル35の内空間を通過している。   Specifically, as shown in FIG. 4, the cold coil 35 has a coil shape in which a metal pipe capable of circulating the chlorofluorocarbon mixed refrigerant from the refrigerator 50 extends horizontally in a plurality of stages (here, three stages). Thus, it can function as a sub pump of the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment. The cold coil 35 is fixed at an appropriate position on the side wall portion of the vacuum chamber 10 (the fixing means is not shown), and the piston rod 31B passes through the inner space of the cold coil 35 in the vacuum chamber 10.

一方、このコールドコイル室37(蓋部32)を平面視すると(水平方向から見た場合)、コールドコイル室37(蓋部32)は、コールドコイル35を完全に覆うことができる程度の外寸になっている。   On the other hand, when the cold coil chamber 37 (lid portion 32) is viewed in plan (when viewed from the horizontal direction), the cold coil chamber 37 (lid portion 32) has an outer dimension that can completely cover the cold coil 35. It has become.

図2および図3に示すように、この蓋部32は、ピストンロッド31Bの軸方向に直交するように配された矩形の平板32Bと、平板32Bの周縁からピストンロッド31Bの軸方向に平行に延びる、筒状かつ額縁状の壁32A(以下、「筒状壁32A」という)を含む。また、本実施形態の真空排気装置102では、筒状壁32Aは、平板32Bの周縁部において一体に形成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the lid portion 32 includes a rectangular flat plate 32B arranged so as to be orthogonal to the axial direction of the piston rod 31B, and parallel to the axial direction of the piston rod 31B from the periphery of the flat plate 32B. It includes a cylindrical and frame-like wall 32A (hereinafter referred to as “cylindrical wall 32A”) that extends. Moreover, in the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment, the cylindrical wall 32A is integrally formed in the peripheral part of the flat plate 32B.

また、図2のA部の拡大図(図5)に示すように、蓋部32の筒状壁32Aの先端部に環状の第2シール部材32C(例えば、Oリング)が配されている。この第2シール部材32Cにより、コールドコイル35を格納するコールドコイル室37の真空シールが適切に行われ、コールドコイル室37を気密に保つことができる。   Further, as shown in the enlarged view of the A part in FIG. 2 (FIG. 5), an annular second seal member 32C (for example, an O-ring) is disposed at the tip of the cylindrical wall 32A of the lid part 32. By this second seal member 32C, the cold coil chamber 37 in which the cold coil 35 is housed is properly vacuum-sealed, and the cold coil chamber 37 can be kept airtight.

このようにして、図2に示すように、蓋部32の筒状壁32Aが座部33に当たることにより、筒状壁32Aによって押圧されている環状の第2シール部材32Cが、コールドトラップ室37と真空槽10との間の気密性の確保に用いられる。   In this manner, as shown in FIG. 2, the cylindrical second wall 32 </ b> C pressed by the cylindrical wall 32 </ b> A is caused to contact the cold trap chamber 37 when the cylindrical wall 32 </ b> A of the lid portion 32 contacts the seat 33. And the vacuum chamber 10 are used to ensure airtightness.

また、図5に示すように、コールドコイル室37を形成する座部33(真空槽10の側壁部)にベントバルブ52が設けられ、これにより、ベントバルブ52を用いてコールドコイル35をデフロスト(霜取りによる再生)することができる。   In addition, as shown in FIG. 5, a vent valve 52 is provided in a seat portion 33 (side wall portion of the vacuum chamber 10) that forms the cold coil chamber 37, whereby the cold coil 35 is defrosted using the vent valve 52 ( Regeneration by defrosting).

更に、コールドコイル室37内の下方に設置された受皿51は、コールドコイル35の再生時に発生する水滴を受けることができる。この受皿51に溜まった水は、受皿51の底面に配された配管およびバルブ(いずれも図示せず)を用いてコールドコイル室37の外部に排水するとよい。   Further, the tray 51 installed below the cold coil chamber 37 can receive water droplets generated during the regeneration of the cold coil 35. The water collected in the tray 51 may be drained to the outside of the cold coil chamber 37 using piping and valves (both not shown) arranged on the bottom surface of the tray 51.

以上の構成により、本実施形態の真空排気装置102は、以下の様々な効果を奏する。   With the above configuration, the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment has the following various effects.

まず、第2シリンダ31の駆動力によってピストンロッド31Bのストロークが伸びると、蓋部32の筒状壁32Aが、図3に示すように座部33から離れ、蓋部32は、真空槽10の内側(座部33と反対側)に移動する。すると、蓋部32の筒状壁32Aと座部33との間に、環状の空間300が形成され、コールドコイル35が、この空間300を介して真空槽10内に露出する。   First, when the stroke of the piston rod 31B is extended by the driving force of the second cylinder 31, the cylindrical wall 32A of the lid portion 32 is separated from the seat portion 33 as shown in FIG. Moves inward (opposite the seat 33). Then, an annular space 300 is formed between the cylindrical wall 32 </ b> A of the lid portion 32 and the seat portion 33, and the cold coil 35 is exposed in the vacuum chamber 10 through the space 300.

これにより、多量の水蒸気を放出する樹脂製の基板41が真空槽10内に存在しても、基板41に近づけてコールドコイル35を配することができるので、真空槽10内を速やかに排気できる。特に、本実施形態の真空排気装置102では、蓋部32が水平方向に真空槽10内の奥深く移動すると、コールドコイル35を上下方向において遮る部材が存在しなくなり、真空槽10内の残留ガスのトラップを、コールドコイル35によって効率的に行え、コールドコイル35の排気能力を向上できる。   As a result, even if a resin substrate 41 that releases a large amount of water vapor is present in the vacuum chamber 10, the cold coil 35 can be disposed close to the substrate 41, so that the vacuum chamber 10 can be quickly evacuated. . In particular, in the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment, when the lid portion 32 moves deep inside the vacuum chamber 10 in the horizontal direction, there is no member that blocks the cold coil 35 in the vertical direction, and the residual gas in the vacuum chamber 10 is removed. Traps can be efficiently performed by the cold coil 35, and the exhaust capacity of the cold coil 35 can be improved.

また、本実施形態の真空排気装置102では、図3に示すように、蓋部32を、コールドコイル35の使用時において蒸着源40(熱源)からの熱輻射を遮蔽する位置に配置している。   Moreover, in the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment, as shown in FIG. 3, the cover part 32 is arrange | positioned in the position which shields the thermal radiation from the vapor deposition source 40 (heat source) when the cold coil 35 is used. .

これにより、真空槽10内に蒸着源40(熱源)が存在する場合であっても、蒸着源40から射出されたコールドコイル35への熱輻射の強度を、蓋部32を用いて低減できるという効果がある。   Thereby, even if it is a case where the vapor deposition source 40 (heat source) exists in the vacuum chamber 10, the intensity | strength of the heat radiation to the cold coil 35 inject | emitted from the vapor deposition source 40 can be reduced using the cover part 32. effective.

具体的には、本実施形態の真空排気装置102では、筒状壁32Aと座部33との間に環状の空間300が形成された状態でも、蒸着源40からコールドコイル35を投影した投影線200に示すように、蓋部32を用いて、蒸発源40の視野からコールドコイル35を隠すことができる。よって、蒸着源40からの熱輻射線は、蓋部32によって遮蔽(吸収または反射)されるので、コールドコイル35の周囲の温度を適温(例えば、約50℃以下)に保ち易くなる。   Specifically, in the evacuation apparatus 102 of the present embodiment, a projection line in which the cold coil 35 is projected from the vapor deposition source 40 even in a state where the annular space 300 is formed between the cylindrical wall 32A and the seat portion 33. As shown at 200, the cold coil 35 can be hidden from the field of view of the evaporation source 40 using the lid portion 32. Therefore, since the heat radiation from the vapor deposition source 40 is shielded (absorbed or reflected) by the lid portion 32, the temperature around the cold coil 35 can be easily maintained at an appropriate temperature (for example, about 50 ° C. or less).

なお、適温(例えば、約50℃以下)に保たれたコールドコイル35の周囲からの輻射熱では、コールドコイル35の表面の凍結水(氷)は溶解しないと考えられている。   In addition, it is thought that the frozen water (ice) on the surface of the cold coil 35 does not melt | dissolve by the radiant heat from the circumference | surroundings of the cold coil 35 maintained at appropriate temperature (for example, about 50 degrees C or less).

これにより、コールドコイル35にトラップされた凍結水の溶解を防止でき、コールドコイル35の排気能力を適切に維持できる。なお、蓋部32の表面を鏡面に仕上げると、熱輻射線の反射率を向上できるので都合がよい。   Thereby, dissolution of the frozen water trapped in the cold coil 35 can be prevented, and the exhaust capability of the cold coil 35 can be appropriately maintained. In addition, when the surface of the cover part 32 is finished in a mirror surface, it is convenient because the reflectance of the heat radiation can be improved.

一方、第2シリンダ31の駆動力によってピストンロッド31Bのストロークが縮むと、蓋部32の筒状壁32Aが、図2に示すように座部33に当接する。すると、コールドコイル室37が、蓋部32および座部33によって形成される。このため、真空槽10内とコールドコイル室37内との間を、蓋部32および座部33によって気密状態にできる。   On the other hand, when the stroke of the piston rod 31B is contracted by the driving force of the second cylinder 31, the cylindrical wall 32A of the lid portion 32 comes into contact with the seat portion 33 as shown in FIG. Then, the cold coil chamber 37 is formed by the lid portion 32 and the seat portion 33. For this reason, the space between the vacuum chamber 10 and the cold coil chamber 37 can be made airtight by the lid portion 32 and the seat portion 33.

これにより、本実施形態の真空排気装置102では、真空槽10内を大気開放せずに、コールドコイル室37に配されたベントバルブ52を用いてコールドコイル室37のみに大気を導入できる。これにより、コールドコイル35の再生を効率的(つまり、短時間に)に行うことができる。   Thereby, in the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment, air | atmosphere can be introduce | transduced only into the cold coil chamber 37 using the vent valve 52 distribute | arranged to the cold coil chamber 37, without opening the inside of the vacuum chamber 10 to air | atmosphere. Thereby, the reproduction of the cold coil 35 can be performed efficiently (that is, in a short time).

また、本実施形態の真空排気装置102では、真空蒸着装置100が、例えば、バッチ式の場合、真空槽10内の基板(図示せず)の入れ替え時に、冷媒循環中のコールドコイル35を大気に曝さなくて済む。よって、基板入れ替え時においてもコールドコイル35の使用条件を変えずに連続的に動作できる。   Moreover, in the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment, when the vacuum evaporation apparatus 100 is a batch type, for example, when replacing the substrate (not shown) in the vacuum chamber 10, the cold coil 35 in the circulation of the refrigerant is brought into the atmosphere. There is no need to expose. Therefore, it is possible to operate continuously without changing the use condition of the cold coil 35 even when replacing the substrate.

次に、本実施形態の真空排気装置102の動作を説明する。まず、真空排気装置102の通常の動作例を述べる。   Next, the operation of the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment will be described. First, an example of normal operation of the vacuum exhaust device 102 will be described.

なお、ここでは、バッチ式の真空蒸着装置100を例にして、この真空蒸着装置100の真空槽10内への基板41の入れ替え直後の状態にあると仮定する。   Here, it is assumed that the batch-type vacuum vapor deposition apparatus 100 is taken as an example, and the substrate 41 is in a state immediately after being exchanged into the vacuum chamber 10 of the vacuum vapor deposition apparatus 100.

真空槽10内の基板41の入れ替えが終了すると、真空槽10を密閉した後、粗引バルブ14を開ける。これにより、真空槽10内および排気通路20Aが、粗引ポンプ13により減圧される。真空槽10内および排気通路20Aの圧力が所定の真空度にまで減圧されると、粗引バルブ14を閉める。   When the replacement of the substrate 41 in the vacuum chamber 10 is completed, the roughing valve 14 is opened after the vacuum chamber 10 is sealed. As a result, the vacuum tank 10 and the exhaust passage 20 </ b> A are decompressed by the roughing pump 13. When the pressure in the vacuum chamber 10 and the exhaust passage 20A is reduced to a predetermined degree of vacuum, the roughing valve 14 is closed.

次いで、メインバルブ20を開ける。同時に、蓋部32を用いて、コールドコイル35を真空槽10内に露出させる。   Next, the main valve 20 is opened. At the same time, the cold coil 35 is exposed in the vacuum chamber 10 using the lid portion 32.

これにより、真空槽10内および排気通路20Aが、主ポンプ11のガス排気およびコールドコイル35のガストラップにより更に減圧される。   Thereby, the pressure in the vacuum chamber 10 and the exhaust passage 20 </ b> A is further reduced by the gas exhaust of the main pump 11 and the gas trap of the cold coil 35.

そして、真空槽10内および排気通路20Aの圧力が所定の高真空状態にまで減圧されると、真空槽10内において基板41に適宜の真空蒸着が行われる。この場合、蒸着源40から射出された熱輻射線がコールドコイル35に直接に入射しないよう、熱輻射線は蓋部32によって適切に遮蔽されているので都合がよい。つまり、真空蒸着装置100での真空蒸着中においても、蒸着源40の発熱を考慮せずに、コールドコイル35のガストラップを適切に行うことができる。   When the pressure in the vacuum chamber 10 and the exhaust passage 20 </ b> A is reduced to a predetermined high vacuum state, appropriate vacuum deposition is performed on the substrate 41 in the vacuum chamber 10. In this case, the heat radiation is suitably shielded by the lid 32 so that the heat radiation emitted from the vapor deposition source 40 does not directly enter the cold coil 35. That is, even during the vacuum evaporation in the vacuum evaporation apparatus 100, the gas trap of the cold coil 35 can be appropriately performed without considering the heat generation of the evaporation source 40.

基板41の真空蒸着が終わると、メインバルブ20を閉める。同時に、蓋部32を用いて、コールドコイル室37を形成(密閉)する。   When the vacuum deposition of the substrate 41 is finished, the main valve 20 is closed. At the same time, the cold coil chamber 37 is formed (sealed) using the lid portion 32.

なお、ここでは、主ポンプ11の連続運転を前提としているので、フォアラインバルブ16は、常時、開いている。   Here, since it is assumed that the main pump 11 is continuously operated, the foreline valve 16 is always open.

その後、適宜のベントバルブ(図示せず)を用いて、真空槽10内に大気に導入して、再び、基板41の入れ替えを行う。   Thereafter, using an appropriate vent valve (not shown), the air is introduced into the vacuum chamber 10 and the substrate 41 is replaced again.

このようにして、バッチ式の真空蒸着装置100による真空蒸着処理の一サイクルが実行される。   In this way, one cycle of the vacuum deposition process by the batch type vacuum deposition apparatus 100 is executed.

次に、真空排気装置102のコールドコイル35の再生の動作例を述べる。   Next, an operation example of the regeneration of the cold coil 35 of the vacuum exhaust device 102 will be described.

コールドコイル35の再生は、コールドコイル室37を形成(密閉)することにより行われる。蓋部32を座部33に当接させると、上述(図2)のとおり、コールドコイル35を格納するコールドコイル室37を形成(密閉)できる。   The cold coil 35 is regenerated by forming (sealing) the cold coil chamber 37. When the lid portion 32 is brought into contact with the seat portion 33, the cold coil chamber 37 for storing the cold coil 35 can be formed (sealed) as described above (FIG. 2).

この状態で、冷凍機50によるコールドコイル35への冷媒循環を止めて、コールドコイル35を常温に戻し、その後、ベントバルブ52を用いてコールドコイル室37のみに大気を導入する。   In this state, the refrigerant circulation to the cold coil 35 by the refrigerator 50 is stopped, the cold coil 35 is returned to room temperature, and then the atmosphere is introduced only into the cold coil chamber 37 using the vent valve 52.

なお、この場合、真空槽10を減圧状態(気密状態)に維持できる。よって、コールドコイル35の再生を短時間で行うことができる。   In this case, the vacuum chamber 10 can be maintained in a reduced pressure state (airtight state). Therefore, the reproduction of the cold coil 35 can be performed in a short time.

次いで、コールドコイル35の再生が行われた後、コールドコイル室37が減圧される。   Next, after the cold coil 35 is regenerated, the cold coil chamber 37 is decompressed.

コールドコイル室37の減圧は、例えば、コールドコイル室37に配された適宜の粗引バルブ(図示せず)を用いて粗引ポンプ13により減圧するとよい。   The cold coil chamber 37 may be decompressed by the roughing pump 13 using an appropriate roughing valve (not shown) disposed in the cold coil chamber 37, for example.

次いで、コールドコイル35への冷媒循環を開始して、コールドコイル35を再び極低温まで冷やす。   Next, refrigerant circulation to the cold coil 35 is started, and the cold coil 35 is cooled again to a very low temperature.

このようにして、コールドコイル35の再生が実行される。   In this way, the reproduction of the cold coil 35 is executed.

なお、コールドコイル35の再生の後、蓋部32の筒状壁32Aが座部33から離れて、コールドコイル35が真空槽10内に露出すると、真空槽10内および排気通路20Aが、主ポンプ11のガス排気および再生後のコールドコイル35のガストラップにより減圧される。   After the regeneration of the cold coil 35, when the cylindrical wall 32A of the lid portion 32 moves away from the seat portion 33 and the cold coil 35 is exposed in the vacuum chamber 10, the inside of the vacuum chamber 10 and the exhaust passage 20A are connected to the main pump. The pressure is reduced by 11 gas exhaust and the gas trap of the cold coil 35 after regeneration.

以上のとおり、本実施形態の真空排気装置102は、真空槽10内を排気できる主ポンプ11と、真空槽10内のガスを凍結トラップできるコールドコイル35と、真空槽10内に配された凹型の蓋部32と、蓋部32に対置された平板状の座部33(本実施形態では、真空槽10の側壁部)と、を備える。そして、本実施形態の真空排気装置102では、蓋部32と座部33とによって、コールドコイル室37の形成が行われる。   As described above, the evacuation apparatus 102 according to the present embodiment includes the main pump 11 that can evacuate the vacuum chamber 10, the cold coil 35 that can freeze trap the gas in the vacuum chamber 10, and the concave type disposed in the vacuum chamber 10. , And a flat seat portion 33 (in this embodiment, a side wall portion of the vacuum chamber 10) facing the lid portion 32. In the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment, the cold coil chamber 37 is formed by the lid portion 32 and the seat portion 33.

具体的には、蓋部32の筒状壁32Aが座部33に当たることにより、コールドコイル室37が形成される。その結果、コールドコイル室37の中にコールドコイル35が密封される。   Specifically, the cold coil chamber 37 is formed when the cylindrical wall 32 </ b> A of the lid portion 32 hits the seat portion 33. As a result, the cold coil 35 is sealed in the cold coil chamber 37.

以上の構成により、真空槽10内にコールドコイル35専用のコールドコイル室37を形成できるので、真空槽内配置型コールドトラップ35の特徴(利点)を損なわずに、コールドコイル35の連続使用および再生を従来よりも効率に行うことができる。   With the above configuration, the cold coil chamber 37 dedicated to the cold coil 35 can be formed in the vacuum chamber 10, so that the cold coil 35 can be continuously used and regenerated without impairing the features (advantages) of the cold trap 35 disposed in the vacuum chamber. Can be performed more efficiently than before.

また、本実施形態の真空排気装置102では、蓋部32への駆動力を発生できる第2シリンダ31(駆動装置)を備え、第2シリンダ31のシリンダ本体31A(駆動部)が座部33に配されている。また、蓋部32が、第2シリンダ31のピストンロッド31Bの軸方向に直交するように配された平板32Bと、平板32Bの周縁からピストンロッド31Bの軸方向に平行に延びる筒状壁32Aと、を含む。そして、シリンダ本体31Aに支持されたピストンロッド31Bが、座部33を気密に貫いて環状のコールドコイル35のコイル面と交差するように蓋部32に延び、かつ、ピストンロッド31Bの先端部が、蓋部32(正確には、蓋部32の平板32Bの裏面側中央部)に連結している。   Further, the vacuum exhaust device 102 of the present embodiment includes a second cylinder 31 (drive device) that can generate a drive force to the lid portion 32, and the cylinder body 31 </ b> A (drive portion) of the second cylinder 31 is attached to the seat portion 33. It is arranged. The lid 32 is disposed so as to be orthogonal to the axial direction of the piston rod 31B of the second cylinder 31, and the cylindrical wall 32A extends parallel to the axial direction of the piston rod 31B from the periphery of the flat plate 32B. ,including. The piston rod 31B supported by the cylinder body 31A extends through the seat portion 33 in an airtight manner and extends to the lid portion 32 so as to intersect the coil surface of the annular cold coil 35, and the tip end portion of the piston rod 31B is The lid portion 32 (more precisely, the back side central portion of the flat plate 32B of the lid portion 32) is connected.

そして、第2シリンダ31の駆動力に基づいて、蓋部32の筒状壁32Aが座部33に当接した場合、筒状壁32Aによって押圧されている環状の第2シール部材32Cが、コールドトラップ室37と真空槽10との間の気密性の確保に用いることができる。   When the cylindrical wall 32A of the lid portion 32 comes into contact with the seat portion 33 based on the driving force of the second cylinder 31, the annular second seal member 32C pressed by the cylindrical wall 32A is cold. It can be used to ensure airtightness between the trap chamber 37 and the vacuum chamber 10.

これにより、真空蒸着装置100が、例えば、バッチ式の場合、真空槽10内の基板(図示せず)の入れ替え時に、冷媒循環中のコールドコイル35を大気に曝さなくて済む。よって、基板入れ替え時においてもコールドコイル35の使用条件を変えずに連続的に動作できる。   Thereby, when the vacuum evaporation system 100 is a batch type, for example, when replacing a substrate (not shown) in the vacuum chamber 10, it is not necessary to expose the cold coil 35 in the circulation of the refrigerant to the atmosphere. Therefore, it is possible to operate continuously without changing the use condition of the cold coil 35 even when replacing the substrate.

また、真空槽10内を大気開放せずに、コールドコイル室37に配されたベントバルブ52を用いてコールドコイル室37のみに大気を導入でき、コールドコイル35の再生を効率的に行うことができる。よって、本実施形態の真空排気装置102では、コールドコイル35の再生を短時間で行うことができる。   Further, the atmosphere can be introduced only into the cold coil chamber 37 by using the vent valve 52 disposed in the cold coil chamber 37 without opening the inside of the vacuum chamber 10 to the atmosphere, so that the cold coil 35 can be efficiently regenerated. it can. Therefore, in the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment, the cold coil 35 can be regenerated in a short time.

更に、本実施形態の真空排気装置102では、蓋部32がピストンロッド31Bの軸方向(水平方向)に移動することにより、第2シリンダ31の駆動力に基づいて、蓋部32の筒状壁32Aが座部33から離れた場合、コールドコイル35が真空槽10内に露出する。   Furthermore, in the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment, the lid 32 moves in the axial direction (horizontal direction) of the piston rod 31B, so that the cylindrical wall of the lid 32 is based on the driving force of the second cylinder 31. When 32A moves away from the seat portion 33, the cold coil 35 is exposed in the vacuum chamber 10.

このようにして、本実施形態の真空排気装置102では、蓋部32が真空槽10内の奥深くまで移動すると、コールドコイル35を上下方向において遮る部材が全く存在しなくなり、真空槽10内の残留ガスのトラップを、コールドコイル35によって効率的に行え、コールドコイル35の排気能力を向上できる。   In this way, in the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment, when the lid portion 32 moves deep inside the vacuum chamber 10, there is no member that blocks the cold coil 35 in the vertical direction, and the residual in the vacuum chamber 10 remains. The gas can be trapped efficiently by the cold coil 35, and the exhaust capacity of the cold coil 35 can be improved.

特に、本実施形態の真空排気装置102では、真空槽10内に蒸着源40(熱源)を配置する場合、蒸着源40から射出された熱輻射線がコールドコイル35に直接に入射しないよう、熱輻射線は蓋部32によって適切に遮蔽できるので都合がよい。つまり、真空蒸着装置100での真空蒸着中においても、蒸着源40の発熱を考慮せずに、コールドコイル35のガストラップを適切に行うことができる。
(変形例1)
本実施形態の真空排気装置102では、コールドトラップの一例として、金属配管からなるコールドコイル35を例示したが、これに限らない。
In particular, in the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment, when the vapor deposition source 40 (heat source) is disposed in the vacuum chamber 10, heat radiation is performed so that the heat radiation emitted from the vapor deposition source 40 does not directly enter the cold coil 35. The radiation can be conveniently shielded by the lid 32, which is convenient. That is, even during the vacuum deposition in the vacuum deposition apparatus 100, the gas trap of the cold coil 35 can be appropriately performed without considering the heat generation of the deposition source 40.
(Modification 1)
In the vacuum exhaust apparatus 102 of this embodiment, although the cold coil 35 which consists of metal piping was illustrated as an example of a cold trap, it is not restricted to this.

例えば、コールドトラップの他の例として、冷媒通流用の中空を有する平板状のコールドパネルを配してもよい。なお、この場合、コールドパネルの中央部にピストンロッド31Bを通過させる孔を開けるとよい。
(変形例2)
本実施形態の真空排気装置102では、筒状壁32Aと平板32Bとが一体に構成されている例を述べたが、これに限らない。
For example, as another example of the cold trap, a flat cold panel having a hollow for refrigerant flow may be provided. In this case, a hole for allowing the piston rod 31B to pass through may be formed in the center of the cold panel.
(Modification 2)
In the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment, the example in which the cylindrical wall 32A and the flat plate 32B are integrally configured has been described, but the present invention is not limited thereto.

例えば、筒状壁32Aと平板32Bとを別体にして、両者を固定手段(ねじなど)によって連結してもよい。
(変形例3)
本実施形態の真空排気装置102を備える真空蒸着装置100では、真空槽10内の熱源の一例として、真空蒸着装置に用いる蒸着源40を述べたが、これに限らない。
For example, the cylindrical wall 32A and the flat plate 32B may be separated and connected to each other by a fixing means (screw or the like).
(Modification 3)
In the vacuum vapor deposition apparatus 100 including the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment, the vapor deposition source 40 used in the vacuum vapor deposition apparatus is described as an example of the heat source in the vacuum chamber 10, but the present invention is not limited thereto.

例えば、熱源の他の例として、真空槽10内の基板41を加熱する基板加熱装置がある。   For example, as another example of the heat source, there is a substrate heating apparatus that heats the substrate 41 in the vacuum chamber 10.

また、真空蒸着装置100以外の真空装置(例えば、スパッタリング装置)であっても、熱輻射線を射出する熱源が存在する。よって、本明細書に記載の技術は、このような様々な真空装置の熱源からの熱輻射線の遮蔽においても有用である。
(変形例4)
本実施形態の真空排気装置102では、第2シール部材32Cを筒状壁32Aの先端部に設ける例を述べたが、これに限らない。
Moreover, even if it is vacuum apparatuses (for example, sputtering apparatus) other than the vacuum evaporation apparatus 100, the heat source which inject | emits a thermal radiation exists. Thus, the techniques described herein are also useful in shielding heat radiation from such various vacuum equipment heat sources.
(Modification 4)
In the vacuum exhaust apparatus 102 of the present embodiment, the example in which the second seal member 32C is provided at the tip of the cylindrical wall 32A has been described, but the present invention is not limited thereto.

例えば、第2シール部材32Cを座部33に設けてもよい。つまり、筒状壁32Aによって押圧されている環状の第2シール部材32Cが、コールドトラップ室37と真空槽10との間の気密性の確保に用いられるとよい。   For example, the second seal member 32 </ b> C may be provided on the seat portion 33. That is, the annular second seal member 32 </ b> C pressed by the cylindrical wall 32 </ b> A may be used to ensure airtightness between the cold trap chamber 37 and the vacuum chamber 10.

また、第2シール部材32Cとして、Oリングを例示したが、これに限らない。   Moreover, although the O-ring is illustrated as the second seal member 32C, the present invention is not limited to this.

例えば、第2シール部材32Cとして、リップタイプのゴムシールを用いてもよい。   For example, a lip type rubber seal may be used as the second seal member 32C.

本発明の真空排気装置によれば、真空槽内配置型コールドトラップの連続使用および再生を従来よりも効率に行うことができる。よって、本発明の真空排気装置は、真空装置の排気システムに利用できる。   According to the evacuation apparatus of the present invention, continuous use and regeneration of the cold trap disposed in the vacuum chamber can be performed more efficiently than before. Therefore, the vacuum exhaust apparatus of the present invention can be used for an exhaust system of a vacuum apparatus.

10 真空槽
11 主ポンプ
13 粗引ポンプ
14 粗引バルブ
16 フォアラインバルブ
20 メインバルブ
20A 排気通路
21 第1シリンダ
21A 第1シリンダのシリンダ本体
21B 第1シリンダのピストンロッド
22 弁板
22C 第1シール部材
23 弁座
31 第2シリンダ
31A 第2シリンダのシリンダ本体
31B 第2シリンダのピストンロッド
32 蓋部
32A 筒状壁
32B 平板
32C 第2シール部材
33 座部
33A 開口
35 コールドコイル(コールドトラップ)
37 コールドコイル室(コールドトラップ室)
40 蒸着源
41 基板
50 冷凍機
51 受皿
52 ベントバルブ
100 真空蒸着装置(真空装置)
102 真空排気装置
200 投影線
300 環状の空間
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Vacuum tank 11 Main pump 13 Roughing pump 14 Roughing valve 16 Foreline valve 20 Main valve 20A Exhaust passage 21 Cylinder body 21B of 1st cylinder Piston rod 22 of 1st cylinder 22 Valve plate 22C 1st seal member 23 Valve seat 31 Second cylinder 31A Cylinder body 31B of the second cylinder Piston rod 32 of the second cylinder 32 Lid portion 32A Cylindrical wall 32B Flat plate 32C Second seal member 33 Seat portion 33A Opening 35 Cold coil (cold trap)
37 Cold coil room (cold trap room)
40 Vapor Deposition Source 41 Substrate 50 Refrigerator 51 Saucepan 52 Vent Valve 100 Vacuum Deposition Device (Vacuum Device)
102 Vacuum exhaust apparatus 200 Projection line 300 Annular space

Claims (8)

真空槽内を排気できる真空ポンプと、
前記真空槽内のガスを凍結トラップできるコールドトラップと、
前記真空槽内に配された凹型の蓋部と、
前記蓋部に対置された平板状の座部と、
を備え、
前記蓋部と前記座部とによって、前記コールドトラップを格納できるコールドトラップ室の形成が行われる真空排気装置。
A vacuum pump that can evacuate the vacuum chamber;
A cold trap that can freeze trap the gas in the vacuum chamber;
A concave lid disposed in the vacuum chamber;
A flat plate-like seat portion facing the lid portion;
With
An evacuation apparatus in which a cold trap chamber capable of storing the cold trap is formed by the lid and the seat.
前記蓋部の周縁が前記座部から離れることにより、前記コールドトラップが前記真空槽内に露出し、前記蓋部の周縁が前記座部に当たることにより、前記コールドトラップ室が形成される請求項1に記載の真空排気装置。   2. The cold trap chamber is formed by exposing the cold trap to the inside of the vacuum chamber when the peripheral edge of the lid part is separated from the seat part, and forming the cold trap chamber by the peripheral edge of the lid part contacting the seat part. The evacuation apparatus according to 1. 前記真空槽の壁部が前記座部である請求項1または2に記載の真空排気装置。   The vacuum exhaust apparatus according to claim 1 or 2, wherein the wall portion of the vacuum chamber is the seat portion. 前記蓋部への駆動力を発生できる駆動装置を備え、
前記駆動装置の駆動部に支持されたピストンロッドが、前記壁部を気密に貫いて環状の前記コールドトラップと交差するように前記蓋部に延び、かつ、前記ピストンロッドの先端部が、前記蓋部に連結している請求項3に記載の真空排気装置。
A driving device capable of generating a driving force to the lid,
A piston rod supported by the drive portion of the drive device extends to the lid portion so as to penetrate the wall portion in an airtight manner and intersect the annular cold trap, and a tip end portion of the piston rod is formed by the lid The vacuum exhaust apparatus according to claim 3, wherein the vacuum exhaust apparatus is connected to the portion.
前記蓋部は、前記ピストンロッドの軸方向に直交するように配された平板と、前記平板の周縁から前記ピストンロッドの軸方向に平行に延びる筒状壁と、を含み、
前記筒状壁によって押圧されている環状のシール部材が、前記コールドトラップ室と前記真空槽との間の気密性の確保に用いられる請求項4に記載の真空排気装置。
The lid portion includes a flat plate arranged to be orthogonal to the axial direction of the piston rod, and a cylindrical wall extending in parallel to the axial direction of the piston rod from the periphery of the flat plate,
The vacuum exhaust apparatus according to claim 4, wherein an annular seal member pressed by the cylindrical wall is used to ensure airtightness between the cold trap chamber and the vacuum chamber.
前記コールドトラップ室のみに大気を導入するベントバルブを備え、
前記コールドトラップ室が前記ベントバルブを用いて大気に開放される請求項5に記載の真空排気装置。
Provided with a vent valve that introduces air only to the cold trap chamber,
The vacuum exhaust apparatus according to claim 5, wherein the cold trap chamber is opened to the atmosphere using the vent valve.
前記蓋部は、前記ピストンロッドの軸方向に直交するように配された平板と、前記平板の周縁から前記ピストンロッドの軸方向に平行に延びる筒状壁を含み、
前記蓋部が前記壁部から離れることによって、前記筒状壁と前記壁部との間に、環状の空間が形成され、
前記コールドトラップが、前記空間を介して前記真空槽内に露出する請求項4に記載の真空排気装置。
The lid includes a flat plate arranged to be orthogonal to the axial direction of the piston rod, and a cylindrical wall extending in parallel to the axial direction of the piston rod from the periphery of the flat plate,
When the lid part is separated from the wall part, an annular space is formed between the cylindrical wall and the wall part,
The vacuum exhaust apparatus according to claim 4, wherein the cold trap is exposed in the vacuum chamber through the space.
前記真空槽内に配された熱源を備え、
前記蓋部が、前記コールドトラップの使用時において前記熱源からの熱輻射を遮蔽する位置に配置されている請求項1ないし7のいずれかに記載の真空排気装置。

A heat source arranged in the vacuum chamber;
The evacuation apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the lid portion is disposed at a position that shields heat radiation from the heat source when the cold trap is used.

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