JP2011057511A - Ceramic electronic part and method for manufacturing the same - Google Patents

Ceramic electronic part and method for manufacturing the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide ceramic electronic parts of high reliability by achieving improvement of high temperature load life, and a method for manufacturing the parts. <P>SOLUTION: The ceramic electronic parts include a dielectric layer and an electrode layer, where the dielectric layer 2 is composed of a dielectric ceramic composition containing a compound expressed by ABO<SB>3</SB>(wherein A is at least one selected from Ba, Ca and Sr; and B is at lest one selected from Ti and Zr) and an oxide of rare-earth element; and in the dielectric layer 2, there exists a segregation zone 20 where only oxides of the rare-earth element are segregated, and in the cross section of the dielectric layer 2, the ratio of area occupied by the segregation zone 20 to the visual field area of 1.0×1.0 μm is 0.45-0.90%. The content of the oxide of rare-earth element is preferably 1.0-2.0 mol%. The area ratio of the segregation zone can be controlled by setting the rate of temperature rise during firing to 700-2,000°C/h, for example. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、セラミック電子部品およびその製造方法に関し、特に信頼性が向上された電子部品およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a ceramic electronic component and a manufacturing method thereof, and more particularly to an electronic component with improved reliability and a manufacturing method thereof.

セラミック電子部品は、小型、高性能、高信頼性の電子部品として広く利用されており、電気機器および電子機器の中で使用される個数も多数にのぼる。近年、機器の小型かつ高性能化に伴い、セラミック電子部品に対する更なる小型化、高性能化、高信頼性化への要求はますます厳しくなっている。   Ceramic electronic components are widely used as small-sized, high-performance, and high-reliability electronic components, and the number of ceramic electronic components used in electrical and electronic devices is large. In recent years, with the miniaturization and high performance of devices, the demand for further miniaturization, high performance, and high reliability of ceramic electronic components has become increasingly severe.

このような要求に対し、特許文献1には、チタン酸バリウムの原料粉末のBET値と、誘電体磁器組成物の原料粉末のBET値と、を特定の関係とすることで、絶縁破壊電圧等の信頼性の向上を図った積層セラミックコンデンサが開示されている。しかしながら、特許文献1に開示された積層セラミックコンデンサにおいては、高温負荷寿命の改善が不十分であった。   In response to such a requirement, Patent Document 1 discloses that the BET value of the raw material powder of barium titanate and the BET value of the raw material powder of the dielectric ceramic composition have a specific relationship, so that the dielectric breakdown voltage, etc. A multilayer ceramic capacitor that improves the reliability of the above is disclosed. However, the multilayer ceramic capacitor disclosed in Patent Document 1 has been insufficient in improving the high-temperature load life.

特開2006−290675号公報JP 2006-290675 A

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、高温負荷寿命の向上を実現し、信頼性の高いセラミック電子部品およびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a highly reliable ceramic electronic component and a method for manufacturing the same, which can improve the high temperature load life.

上記目的を達成するために、本発明に係るセラミック電子部品は、
誘電体層および電極層を有するセラミック電子部品であって、
前記誘電体層が、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTiおよびZrから選ばれる少なくとも1つである)で表される化合物と、Rの酸化物(Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる少なくとも1つ)と、を含有する誘電体磁器組成物から構成されており、
前記誘電体層には、前記Rの酸化物のみが偏析している偏析領域が存在しており、
前記誘電体層の断面において、1.0×1.0μmの視野面積に対し、前記偏析領域が占める面積の割合が0.45〜0.90%であることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a ceramic electronic component according to the present invention comprises:
A ceramic electronic component having a dielectric layer and an electrode layer,
The dielectric layer is a compound represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti and Zr); An oxide (R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu). A dielectric porcelain composition comprising:
In the dielectric layer, there exists a segregation region where only the oxide of R segregates,
In the cross section of the dielectric layer, the ratio of the area occupied by the segregation region to the visual field area of 1.0 × 1.0 μm is 0.45 to 0.90%.

本発明では、誘電体層には、Rの酸化物のみが偏析している偏析領域が形成されている。すなわち、該偏析領域では、他の領域と比較してR元素が高濃度に存在しているが、その他の元素は他の領域と比較して高濃度で存在していない。このような偏析領域の面積割合を上記の範囲とすることで、電子部品の高温負荷寿命を向上させることができ、その結果、電子部品としての信頼性を高めることができる。   In the present invention, a segregation region in which only the R oxide is segregated is formed in the dielectric layer. That is, in the segregation region, the R element is present at a higher concentration than other regions, but the other elements are not present at a higher concentration than the other regions. By setting the area ratio of such a segregation region in the above range, the high temperature load life of the electronic component can be improved, and as a result, the reliability as the electronic component can be improved.

また、本発明に係るセラミック電子部品は、
誘電体層および電極層を有するセラミック電子部品であって、
前記誘電体層が、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTiおよびZrから選ばれる少なくとも1つである)で表される化合物と、Rの酸化物(Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる少なくとも1つ)と、を含有する誘電体磁器組成物から構成されており、
前記ABO100モルに対して、前記Rの酸化物が、R換算で、1.0〜2.0モル含有されており、
前記誘電体層には、前記Rの酸化物のみが偏析している偏析領域が存在していることを特徴とする。
The ceramic electronic component according to the present invention is
A ceramic electronic component having a dielectric layer and an electrode layer,
The dielectric layer is a compound represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti and Zr); An oxide (R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu). A dielectric porcelain composition comprising:
The oxide of R is contained in an amount of 1.0 to 2.0 mol in terms of R 2 O 3 with respect to 100 mol of the ABO 3 ,
The dielectric layer has a segregation region in which only the R oxide is segregated.

誘電体磁器組成物におけるRの酸化物の含有量を上記の範囲とし、Rの酸化物のみが偏析している偏析領域を存在させることで、高温負荷寿命を向上させることができ、その結果、電子部品としての信頼性を高めることができる。   The content of the oxide of R in the dielectric ceramic composition is in the above range, and the existence of a segregation region in which only the oxide of R is segregated can improve the high temperature load life. Reliability as an electronic component can be increased.

好ましくは、前記ABOの原料粉末のBET比表面積値が5.0〜6.0m/gである。BET比表面積値が特定の範囲にある原料粉末を用いることで、Rの酸化物のみが偏析している偏析領域を容易に形成でき、電子部品としての信頼性を高めることができる。 Preferably, the ABO 3 raw material powder has a BET specific surface area value of 5.0 to 6.0 m 2 / g. By using the raw material powder having a BET specific surface area value in a specific range, a segregation region where only the R oxide is segregated can be easily formed, and the reliability as an electronic component can be improved.

好ましくは、前記誘電体磁器組成物が、前記ABO100モルに対して、Mgの酸化物をMgO換算で0.5〜1.5モル、Mnの酸化物をMnO換算で0.1〜0.3モル、Vの酸化物をV換算で0.05〜0.2モル、Siの酸化物を含む化合物をSiO換算で0.5〜2.0モル含有する。 Preferably, the dielectric ceramic composition has an Mg oxide content of 0.5 to 1.5 mol in terms of MgO and an Mn oxide content of 0.1 to 0 in terms of MnO with respect to 100 mol of the ABO 3. 0.3 mol, 0.05 to 0.2 mol of V oxide in terms of V 2 O 5 , and 0.5 to 2.0 mol of compound containing Si oxide in terms of SiO 2 .

上記の成分を特定量含有させることで、電子部品としての諸特性を向上させつつ、Rの酸化物のみが偏析している偏析領域を容易に形成し、電子部品としての信頼性を高めることができる。   By including a specific amount of the above components, it is possible to easily form a segregation region where only the oxide of R is segregated while improving various characteristics as an electronic component, and to improve the reliability as an electronic component. it can.

好ましくは、前記RがSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる1つである。すなわち、複数のR元素の酸化物ではなく、1種類のR元素の酸化物が偏析していることで、上述した効果をさらに高めることができる。   Preferably, R is one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu. That is, the above-described effects can be further enhanced by segregation of one type of R element oxide rather than a plurality of R element oxides.

また、本発明に係るセラミック電子部品の製造方法は、
誘電体層および電極層を有するセラミック電子部品を製造する方法であって、
前記誘電体層は、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTiおよびZrから選ばれる少なくとも1つである)で表される化合物と、Rの酸化物(Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる少なくとも1つ)と、を含有する誘電体磁器組成物から構成され、
前記ABOの原料粉末と前記Rの酸化物の原料粉末とを混合し、混合原料粉末を準備する工程と、
前記混合原料粉末を用いて、成形体を得る工程と、
前記成形体を焼成する工程と、を有し、
前記成形体を焼成する工程において、昇温速度を700〜2000℃/時間とすることを特徴とする。
In addition, a method for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention includes:
A method of manufacturing a ceramic electronic component having a dielectric layer and an electrode layer, the method comprising:
The dielectric layer comprises a compound represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti and Zr); An oxide (R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu). A dielectric ceramic composition comprising:
Mixing the ABO 3 raw material powder and the R oxide raw material powder to prepare a mixed raw material powder;
Using the mixed raw material powder to obtain a molded body;
Firing the molded body, and
In the step of firing the molded body, the temperature rising rate is set to 700 to 2000 ° C./hour.

上記のようにすることで、Rの酸化物のみが偏析している偏析領域の存在状態を容易に制御することができる。その結果、電子部品の高温負荷寿命を向上させることができ、信頼性の高い電子部品を得ることができる。   By doing as described above, it is possible to easily control the existence state of the segregation region where only the oxide of R is segregated. As a result, the high temperature load life of the electronic component can be improved, and a highly reliable electronic component can be obtained.

好ましくは、前記ABO100モルに対して、前記Rの酸化物が、R換算で、1.0〜2.0モル含有されている。 Preferably, the oxide of R is contained in an amount of 1.0 to 2.0 mol in terms of R 2 O 3 with respect to 100 mol of the ABO 3 .

好ましくは、前記ABOの原料粉末のBET比表面積値が5.0〜6.0m/gである。 Preferably, the ABO 3 raw material powder has a BET specific surface area value of 5.0 to 6.0 m 2 / g.

好ましくは、前記誘電体磁器組成物が、前記ABO100モルに対して、Mgの酸化物をMgO換算で0.5〜1.5モル、Mnの酸化物をMnO換算で0.1〜0.3モル、Vの酸化物をV換算で0.05〜0.2モル、Siの酸化物を含む化合物をSiO換算で0.5〜2.0モル含有する。 Preferably, the dielectric ceramic composition has an Mg oxide content of 0.5 to 1.5 mol in terms of MgO and an Mn oxide content of 0.1 to 0 in terms of MnO with respect to 100 mol of the ABO 3. 0.3 mol, 0.05 to 0.2 mol of V oxide in terms of V 2 O 5 , and 0.5 to 2.0 mol of compound containing Si oxide in terms of SiO 2 .

誘電体磁器組成物に含有される成分の含有量やABOの原料粉末のBET比表面積値を上記の範囲とすることで、上述した効果をさらに高めることができる。 By making the content of the component contained in the dielectric ceramic composition and the BET specific surface area value of the raw material powder of ABO 3 within the above ranges, the above-described effects can be further enhanced.

好ましくは、前記RがSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる1つである。1種類のRの酸化物が偏析していることで、上述した効果をさらに高めることができる。   Preferably, R is one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu. The effect mentioned above can further be heightened because one type of oxide of R segregates.

好ましくは、前記混合原料粉末を準備する工程において、前記ABOの原料粉末の表面に、前記Rの酸化物の原料粉末を被覆する。 Preferably, in the step of preparing the mixed raw material powder, the surface of the ABO 3 raw material powder is coated with the raw material powder of the R oxide.

このようにすることで、Rの酸化物のみが偏析している偏析領域の形成を容易に制御することができ、さらには、その面積割合を容易に所望の範囲とすることができる。その結果、高温負荷寿命を向上させることができ、電子部品としての信頼性を高めることができる。   By doing in this way, formation of the segregation area | region where only the oxide of R segregates can be controlled easily, Furthermore, the area ratio can be easily made into a desired range. As a result, the high temperature load life can be improved, and the reliability as an electronic component can be increased.

図1は、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示す積層セラミックコンデンサの誘電体層の断面において、偏析領域の存在状態を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing the presence of segregation regions in the cross section of the dielectric layer of the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 図3は、R元素の平均濃度を算出する方法を説明するための模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a method of calculating the average concentration of the R element.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。   Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.

積層セラミックコンデンサ1
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層2と、内部電極層3と、が交互に積層された構成のコンデンサ素子本体10を有する。内部電極層3は、各端面がコンデンサ素子本体10の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極4は、コンデンサ素子本体10の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
Multilayer ceramic capacitor 1
As shown in FIG. 1, a multilayer ceramic capacitor 1 according to an embodiment of the present invention includes a capacitor element body 10 having a configuration in which dielectric layers 2 and internal electrode layers 3 are alternately stacked. The internal electrode layers 3 are laminated so that the end faces are alternately exposed on the surfaces of the two opposite ends of the capacitor element body 10. The pair of external electrodes 4 are formed at both ends of the capacitor element body 10 and are connected to the exposed end surfaces of the alternately arranged internal electrode layers 3 to constitute a capacitor circuit.

コンデンサ素子本体10の形状に特に制限はないが、図1に示すように、通常、直方体状とされる。また、その寸法にも特に制限はなく、用途に応じて適当な寸法とすればよい。   The shape of the capacitor element body 10 is not particularly limited, but is usually a rectangular parallelepiped as shown in FIG. Moreover, there is no restriction | limiting in particular also in the dimension, What is necessary is just to set it as a suitable dimension according to a use.

誘電体層2
誘電体層2は、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTiおよびZrから選ばれる少なくとも1つである)で表される化合物と、Rの酸化物(Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる少なくとも1つ)と、を含有する誘電体磁器組成物から構成されている。
Dielectric layer 2
The dielectric layer 2 includes a compound represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti and Zr); An oxide (R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu). It consists of a dielectric ceramic composition.

本実施形態では、ABOとして、たとえばBaTiO、CaTiO、SrTiOあるいはこれらの混合物などが好ましい。特に、BaTiO(好ましくは、組成式BaTiO2+m で表され、mが0.995≦m≦1.010であり、BaとTiとの比が0.995≦Ba/Ti≦1.010である)が好適に使用できる。 In the present embodiment, for example, BaTiO 3 , CaTiO 3 , SrTiO 3, or a mixture thereof is preferable as ABO 3 . In particular, BaTiO 3 (preferably represented by the composition formula Ba m TiO 2 + m , m is 0.995 ≦ m ≦ 1.010, and the ratio of Ba to Ti is 0.995 ≦ Ba / Ti ≦ 1.010. Can be suitably used.

Rの酸化物は、ABO 100モルに対して、R換算で、好ましくは1.0〜2.0モル含有され、より好ましくは1.4〜1.9モル含有される。Rの酸化物の含有量が多すぎても、少なすぎても、高温負荷寿命が悪化する傾向にある。R元素としては、複数の元素であってもよいが、本実施形態では、1種類の元素であることが好ましい。また、R元素はY元素であることが特に好ましい。 The oxide of R is preferably contained in an amount of 1.0 to 2.0 mol, more preferably 1.4 to 1.9 mol in terms of R 2 O 3 with respect to 100 mol of ABO 3 . If the content of R oxide is too much or too little, the high temperature load life tends to deteriorate. The R element may be a plurality of elements, but in the present embodiment, it is preferably one kind of element. The R element is particularly preferably a Y element.

本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、さらに、所望の特性に応じて、その他の成分を含有してもよい。   The dielectric ceramic composition according to the present embodiment may further contain other components according to desired characteristics.

具体的には、本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、さらに、Mgの酸化物を含有することが好ましい。Mgの酸化物の含有量は、ABO 100モルに対して、MgO換算で、好ましくは0.5〜1.5モル、より好ましくは0.6〜0.8モルである。Mgの酸化物の含有量が少なすぎると、高温負荷寿命が悪化する傾向にあり、逆に多すぎると、後述する偏析領域にMgが偏析してしまい、結果として高温負荷寿命が悪化する傾向にある。 Specifically, it is preferable that the dielectric ceramic composition according to the present embodiment further contains an oxide of Mg. The content of the Mg oxide is preferably 0.5 to 1.5 mol, more preferably 0.6 to 0.8 mol in terms of MgO with respect to 100 mol of ABO 3 . If the content of the Mg oxide is too small, the high temperature load life tends to deteriorate. Conversely, if it is too large, Mg segregates in the segregation region described later, and as a result, the high temperature load life tends to deteriorate. is there.

また、本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、さらに、Mnの酸化物を含有することが好ましい。Mnの酸化物の含有量は、ABO 100モルに対して、MnO換算で、好ましくは0.1〜0.3モル、より好ましくは0.15〜0.25モルである。Mnの酸化物の含有量が少なすぎると、高温負荷寿命が悪化する傾向にあり、逆に多すぎると、後述する偏析領域にMnが偏析してしまい、結果として高温負荷寿命が悪化する傾向にある。 Moreover, it is preferable that the dielectric ceramic composition according to the present embodiment further contains an oxide of Mn. The content of the Mn oxide is preferably 0.1 to 0.3 mol, more preferably 0.15 to 0.25 mol in terms of MnO with respect to 100 mol of ABO 3 . If the content of the Mn oxide is too small, the high temperature load life tends to deteriorate, and conversely if too much, Mn segregates in the segregation region described later, and as a result, the high temperature load life tends to deteriorate. is there.

また、本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、さらに、Vの酸化物を含有することが好ましい。Vの酸化物の含有量は、ABO 100モルに対して、V換算で、好ましくは0.05〜0.2モル、より好ましくは0.13〜0.18モルである。Vの酸化物の含有量が少なすぎると、高温負荷寿命が悪化する傾向にあり、逆に多すぎると、後述する偏析領域にVが偏析してしまい、結果として高温負荷寿命が悪化する傾向にある。 The dielectric ceramic composition according to this embodiment preferably further contains an oxide of V. The content of the V oxide is preferably 0.05 to 0.2 mol, more preferably 0.13 to 0.18 mol in terms of V 2 O 5 with respect to 100 mol of ABO 3 . If the content of the V oxide is too small, the high temperature load life tends to deteriorate. Conversely, if it is too large, V segregates in the segregation region described later, and as a result, the high temperature load life tends to deteriorate. is there.

また、本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、さらに、Siの酸化物を含む化合物を含有することが好ましい。Siの酸化物を含む化合物の含有量は、ABO 100モルに対して、SiO換算で、好ましくは0.5〜2.0モル、より好ましくは1.0〜1.6モルである。上記化合物の含有量が少なすぎると、高温負荷寿命が悪化する傾向にあり、逆に多すぎると、後述する偏析領域にSiが偏析してしまい、結果として高温負荷寿命が悪化する傾向にある。 Moreover, it is preferable that the dielectric ceramic composition according to the present embodiment further contains a compound containing a Si oxide. The content of the compound containing an oxide of Si, relative to ABO 3 100 moles, in terms of SiO 2, preferably 0.5 to 2.0 moles, more preferably 1.0 to 1.6 moles. If the content of the above compound is too small, the high temperature load life tends to be deteriorated. On the other hand, if the content is too large, Si is segregated in the segregation region described later, and as a result, the high temperature load life tends to be deteriorated.

なお、Siの酸化物を含む化合物は、SiO単独であってもよいが、本実施形態では、複合酸化物である(Ba,Ca)SiOであることが好ましい。 The compound containing an oxide of Si may be SiO 2 alone, but in this embodiment, (Ba, Ca) SiO 3 which is a composite oxide is preferable.

偏析領域20
本実施形態では、図2に示すように、誘電体層2には、誘電体粒子12と、少なくともRの酸化物のみが偏析している偏析領域20とが存在している。このようなRの酸化物のみが偏析している偏析領域が存在することで、コンデンサの高温負荷寿命を向上させることができ、その結果、信頼性を高めることができる。
Segregation region 20
In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the dielectric layer 2 includes dielectric particles 12 and a segregation region 20 where only an oxide of R is segregated. The presence of such a segregation region in which only the oxide of R is segregated can improve the high-temperature load life of the capacitor, and as a result, improve the reliability.

なお、誘電体層2には、偏析領域以外の領域(相)も存在しており、その相には、ABOを構成する元素やR元素が含まれていてもよいし、上述したMg、Mn、VおよびSiが含まれていてもよい。本実施形態では、図2に示すように、ABOを主成分とし、R元素が固溶している誘電体粒子12が存在している。 The dielectric layer 2 also includes a region (phase) other than the segregation region, and the phase may contain an element that constitutes ABO 3 or an R element. Mn, V and Si may be contained. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, there are dielectric particles 12 containing ABO 3 as a main component and having an R element as a solid solution.

「Rの酸化物のみが偏析している偏析領域」とは、該領域において、Rの酸化物のみが他の領域よりも高濃度で存在している領域を意味している。したがって、偏析領域には、ABOを構成する元素が存在していてもよい。また、Mg、Mn、VおよびSiなどが存在していてもよいが、これらの元素の酸化物は偏析していないことが必要である。たとえば、Rの酸化物およびMgOの両方が偏析している(高濃度で存在している)領域は、本発明における偏析領域ではない。このように、Rの酸化物とR元素以外の元素の酸化物とが偏析している場合、高温負荷寿命が悪化する傾向にあるため、好ましくない。なお、ABOは、誘電体粒子の主成分であるため、「ABOのみが偏析している偏析領域」は存在しない。 The “segregation region where only the R oxide is segregated” means a region in which only the R oxide exists in a higher concentration than the other regions. Therefore, an element constituting ABO 3 may be present in the segregation region. Further, Mg, Mn, V, Si and the like may be present, but the oxides of these elements need not be segregated. For example, a region where both the oxide of R and MgO are segregated (present at a high concentration) is not a segregated region in the present invention. Thus, when the oxide of R and the oxide of elements other than the R element are segregated, the high temperature load life tends to deteriorate, which is not preferable. Since ABO 3 is the main component of the dielectric particles, there is no “segregation region where only ABO 3 is segregated”.

Rの酸化物のみが偏析している偏析領域は、誘電体層2の断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真において、偏析領域とその他の相とを、コントラストの違いにより目視で判断し、その面積割合を算出してもよいが、本実施形態では、偏析領域の存在およびその面積割合は以下のようにして判断する。   The segregation region where only the oxide of R is segregated is determined by visual observation of the segregation region and other phases in the scanning electron microscope (SEM) photograph of the cross section of the dielectric layer 2 based on the difference in contrast. Although the area ratio may be calculated, in this embodiment, the presence of the segregation region and the area ratio are determined as follows.

まず、誘電体層2の断面を、走査透過型電子顕微鏡(STEM)により観察し、付属のエネルギー分散型X線分光装置を用いて、1.0×1.0μmの視野面積に対して、R元素およびその他の元素についての元素マッピング画像を得る。   First, the cross section of the dielectric layer 2 is observed with a scanning transmission electron microscope (STEM), and the attached energy dispersive X-ray spectrometer is used to measure a field area of 1.0 × 1.0 μm with respect to R. Obtain element mapping images for elements and other elements.

次に、所定数(たとえば5個以上)の誘電体粒子を、STEMにより観察し、付属のエネルギー分散型X線分光装置を用いて測定する。具体的には、図3に示すように、誘電体粒子の略中心を通る直線上で点分析を行い、得られたR元素(およびその他の元素)の濃度分布から該粒子におけるR元素(およびその他の元素)の平均濃度を算出する。   Next, a predetermined number (for example, 5 or more) of dielectric particles are observed with a STEM and measured using an attached energy dispersive X-ray spectrometer. Specifically, as shown in FIG. 3, point analysis is performed on a straight line passing through the approximate center of the dielectric particle, and the R element (and the element) in the particle is calculated from the concentration distribution of the obtained R element (and other elements). The average concentration of other elements is calculated.

そして、上記で得られたR元素およびその他の元素についてのマッピング画像(1.0×1.0μm)を画像処理することにより、R元素(およびその他の元素)の平均濃度の1/3超の領域と、平均濃度の1/3以下の領域とに分ける。すなわち、平均濃度の1/3超の領域を、各元素の酸化物が偏析している領域とする。そして、Rの酸化物が偏析している領域のうち、Rの酸化物「のみ」が偏析している領域を、本発明における「偏析領域」と規定する。このようにすると、SEMによる明視野像において、コントラストの差として観察される偏析領域とそれ以外の相との境界とよく一致するようになる。   The mapping image (1.0 × 1.0 μm) for the R element and other elements obtained above is subjected to image processing, so that the average concentration of the R element (and other elements) exceeds 1/3. The area is divided into an area having an average density of 1/3 or less. That is, a region where the average concentration exceeds 1/3 is defined as a region where oxides of the respective elements are segregated. Of the regions where the oxide of R is segregated, the region where only the oxide of R is segregated is defined as the “segregation region” in the present invention. If it does in this way, in the bright field image by SEM, it will come to correspond well with the boundary of the segregation area | region observed as a difference of contrast, and the other phase.

次に、画像処理された偏析領域の面積を算出し、1.0×1.0μmの視野面積に対する面積割合を算出する。この面積割合は0.45〜0.90%、好ましくは0.60〜0.85%である。   Next, the area of the segregated region subjected to image processing is calculated, and the area ratio with respect to the visual field area of 1.0 × 1.0 μm is calculated. The area ratio is 0.45 to 0.90%, preferably 0.60 to 0.85%.

この面積割合を制御することで、高温負荷寿命を向上させることができ、面積割合が小さすぎても大きすぎても、高温負荷寿命が悪化する傾向にある。   By controlling this area ratio, the high temperature load life can be improved, and even if the area ratio is too small or too large, the high temperature load life tends to deteriorate.

誘電体層2の厚みは、特に限定されないが、一層あたり5μm以下であることが好ましい。厚さの下限は、特に限定されないが、たとえば0.5μm程度である。   The thickness of the dielectric layer 2 is not particularly limited, but is preferably 5 μm or less per layer. Although the minimum of thickness is not specifically limited, For example, it is about 0.5 micrometer.

誘電体層2の積層数は、特に限定されないが、20以上であることが好ましく、より好ましくは50以上、特に好ましくは、100以上である。積層数の上限は、特に限定されないが、たとえば2000程度である。   The number of laminated dielectric layers 2 is not particularly limited, but is preferably 20 or more, more preferably 50 or more, and particularly preferably 100 or more. The upper limit of the number of stacked layers is not particularly limited, but is about 2000, for example.

内部電極層3
内部電極層3に含有される導電材は特に限定されないが、誘電体層2の構成材料が耐還元性を有するため、比較的安価な卑金属を用いることができる。導電材として用いる卑金属としては、NiまたはNi合金が好ましい。Ni合金としては、Mn,Cr,CoおよびAlから選択される1種以上の元素とNiとの合金が好ましく、合金中のNi含有量は95重量%以上であることが好ましい。なお、NiまたはNi合金中には、P等の各種微量成分が0.1重量%程度以下含まれていてもよい。内部電極層3の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.1〜3μm、特に0.2〜2.0μm程度であることが好ましい。
Internal electrode layer 3
The conductive material contained in the internal electrode layer 3 is not particularly limited, but a relatively inexpensive base metal can be used because the constituent material of the dielectric layer 2 has reduction resistance. As the base metal used as the conductive material, Ni or Ni alloy is preferable. The Ni alloy is preferably an alloy of Ni and one or more elements selected from Mn, Cr, Co and Al, and the Ni content in the alloy is preferably 95% by weight or more. In addition, in Ni or Ni alloy, various trace components, such as P, may be contained about 0.1 wt% or less. The thickness of the internal electrode layer 3 may be appropriately determined according to the application and the like, but is usually about 0.1 to 3 μm, particularly preferably about 0.2 to 2.0 μm.

外部電極4
外部電極4に含有される導電材は特に限定されないが、本発明では安価なNi,Cuや、これらの合金を用いることができる。外部電極4の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。
External electrode 4
The conductive material contained in the external electrode 4 is not particularly limited, but in the present invention, inexpensive Ni, Cu, and alloys thereof can be used. The thickness of the external electrode 4 may be appropriately determined according to the application and the like, but is usually preferably about 10 to 50 μm.

積層セラミックコンデンサ1の製造方法
本実施形態の積層セラミックコンデンサ1は、従来の積層セラミックコンデンサと同様に、ペーストを用いた通常の印刷法やシート法によりグリーンチップを作製し、これを焼成した後、外部電極を印刷または転写して焼成することにより製造される。以下、製造方法について具体的に説明する。
Manufacturing Method of Multilayer Ceramic Capacitor 1 The multilayer ceramic capacitor 1 of the present embodiment is the same as a conventional multilayer ceramic capacitor. After producing a green chip by a normal printing method or a sheet method using a paste and firing it, It is manufactured by printing or transferring an external electrode and firing. Hereinafter, the manufacturing method will be specifically described.

まず、誘電体層用ペーストに含まれる誘電体原料(混合原料粉末)を準備し、これを塗料化して、誘電体層用ペーストを調製する。   First, a dielectric material (mixed material powder) contained in the dielectric layer paste is prepared, and this is made into a paint to prepare a dielectric layer paste.

誘電体層用ペーストは、誘電体原料と有機ビヒクルとを混練した有機系の塗料であってもよく、水系の塗料であってもよい。   The dielectric layer paste may be an organic paint obtained by kneading a dielectric material and an organic vehicle, or may be a water-based paint.

誘電体原料として、まずABOの原料とRの酸化物の原料とを準備する。これらの原料としては、上記した成分の酸化物やその混合物、複合酸化物を用いることができるが、その他、焼成により上記した酸化物や複合酸化物となる各種化合物、たとえば、炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物等から適宜選択し、混合して用いることもできる。 As the dielectric material, first, an ABO 3 material and an R oxide material are prepared. As these raw materials, oxides of the above-described components, mixtures thereof, and composite oxides can be used. In addition, various compounds that become the above-described oxides or composite oxides by firing, such as carbonates and oxalic acid. They can be appropriately selected from salts, nitrates, hydroxides, organometallic compounds, and the like, and can also be used as a mixture.

ABOの原料は、いわゆる固相法の他、各種液相法(たとえば、シュウ酸塩法、水熱合成法、アルコキシド法、ゾルゲル法など)により製造されたものなど、種々の方法で製造されたものを用いることができる。 ABO 3 raw materials are produced by various methods such as those produced by various liquid phase methods (for example, oxalate method, hydrothermal synthesis method, alkoxide method, sol-gel method, etc.) in addition to the so-called solid phase method. Can be used.

また、ABOの原料のBET比表面積値は、好ましくは5.0〜6.0m/g、より好ましくは5.4〜5.8m/gである。このようなBET比表面積値を有するABOの原料と、Rの酸化物の原料とを用いることで、誘電体層中に、誘電体粒子への拡散に寄与しなかったR元素を単独で所望の状態に析出させることができる。すなわち、Rの酸化物のみが偏析している偏析領域の存在状態を好適に制御することが可能となる。その結果、偏析領域の面積割合を、本発明の範囲内とすることが容易となる。 Moreover, the BET specific surface area value of the ABO 3 raw material is preferably 5.0 to 6.0 m 2 / g, more preferably 5.4 to 5.8 m 2 / g. By using the raw material of ABO 3 having such a BET specific surface area value and the raw material of the oxide of R, the R element that did not contribute to the diffusion into the dielectric particles is desired alone in the dielectric layer. It can be made to precipitate in this state. That is, it is possible to suitably control the existence state of the segregation region in which only the R oxide is segregated. As a result, it becomes easy to make the area ratio of the segregation region within the range of the present invention.

また、ABOの原料粉末の表面に、少なくともRの酸化物の原料粉末を被覆してもよい。被覆する方法は特に制限されず、公知の方法を用いればよい。たとえば、R元素の酸化物の原料粉末を溶液化し、熱処理することで、被覆してもよい。このような被覆された粉末を用いることで、効率的に、Rの酸化物のみが偏析している偏析領域を形成することができる。また、その他の成分の原料粉末を、ABOの原料粉末の表面に被覆してもよい。 Alternatively, the surface of the ABO 3 raw material powder may be coated with at least an R oxide raw material powder. The method for coating is not particularly limited, and a known method may be used. For example, the raw material powder of the oxide of R element may be made into a solution and heat-treated for coating. By using such coated powder, it is possible to efficiently form a segregation region in which only the R oxide is segregated. Further, the raw material powder of the other components, may be coated on the surface of the raw material powder of ABO 3.

誘電体原料中の各化合物の含有量は、焼成後に上記した誘電体磁器組成物の組成となるように決定すればよい。塗料化する前の状態で、誘電体原料の粒径は、通常、平均粒径0.1〜1μm程度である。   What is necessary is just to determine content of each compound in a dielectric raw material so that it may become a composition of the above-mentioned dielectric ceramic composition after baking. In the state before forming a paint, the particle size of the dielectric material is usually about 0.1 to 1 μm in average particle size.

有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すればよい。用いる有機溶剤も特に限定されず、印刷法やシート法など、利用する方法に応じて、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。   An organic vehicle is obtained by dissolving a binder in an organic solvent. The binder used for the organic vehicle is not particularly limited, and may be appropriately selected from usual various binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. The organic solvent to be used is not particularly limited, and may be appropriately selected from various organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, acetone, toluene, and the like according to a method to be used such as a printing method or a sheet method.

また、誘電体層用ペーストを水系の塗料とする場合には、水溶性のバインダや分散剤などを水に溶解させた水系ビヒクルと、誘電体原料とを混練すればよい。水系ビヒクルに用いる水溶性バインダは特に限定されず、たとえば、ポリビニルアルコール、セルロース、水溶性アクリル樹脂などを用いればよい。   Further, when the dielectric layer paste is used as a water-based paint, a water-based vehicle in which a water-soluble binder or a dispersant is dissolved in water and a dielectric material may be kneaded. The water-soluble binder used for the water-based vehicle is not particularly limited, and for example, polyvinyl alcohol, cellulose, water-soluble acrylic resin, etc. may be used.

内部電極層用ペーストは、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材、あるいは焼成後に上記した導電材となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネート等と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。また、内部電極層用ペーストには、共材が含まれていてもよい。共材としては特に制限されないが、主成分と同様の組成を有していることが好ましい。   The internal electrode layer paste is obtained by kneading the above-mentioned organic vehicle with various conductive metals and alloys as described above, or various oxides, organometallic compounds, resinates, etc. that become the above-mentioned conductive materials after firing. Prepare. The internal electrode layer paste may contain a common material. The common material is not particularly limited, but preferably has the same composition as the main component.

外部電極用ペーストは、上記した内部電極層用ペーストと同様にして調製すればよい。   The external electrode paste may be prepared in the same manner as the internal electrode layer paste described above.

上記した各ペースト中の有機ビヒクルの含有量に特に制限はなく、通常の含有量、たとえば、バインダは1〜5重量%程度、溶剤は10〜50重量%程度とすればよい。また、各ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体、絶縁体等から選択される添加物が含有されていてもよい。これらの総含有量は、10重量%以下とすることが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in content of the organic vehicle in each above-mentioned paste, For example, what is necessary is just about 1-5 weight% of binders, for example, about 10-50 weight% of binders. Each paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, insulators, and the like as necessary. The total content of these is preferably 10% by weight or less.

印刷法を用いる場合、誘電体層用ペーストおよび内部電極層用ペーストを、PET等の基板上に印刷、積層し、所定形状に切断した後、基板から剥離してグリーンチップとする。   When the printing method is used, the dielectric layer paste and the internal electrode layer paste are printed and laminated on a substrate such as PET, cut into a predetermined shape, and then peeled from the substrate to obtain a green chip.

また、シート法を用いる場合、誘電体層用ペーストを用いてグリーンシートを形成し、この上に内部電極層用ペーストを印刷し内部電極パターンを形成した後、これらを積層してグリーンチップとする。   When the sheet method is used, a green sheet is formed using a dielectric layer paste, an internal electrode layer paste is printed thereon to form an internal electrode pattern, and these are stacked to form a green chip. .

焼成前に、グリーンチップに脱バインダ処理を施す。脱バインダ条件としては、昇温速度を好ましくは5〜300℃/時間、保持温度を好ましくは180〜400℃、温度保持時間を好ましくは0.5〜24時間とする。また、脱バインダ雰囲気は、空気もしくは還元性雰囲気とする。   Before firing, the green chip is subjected to binder removal processing. As binder removal conditions, the temperature rising rate is preferably 5 to 300 ° C./hour, the holding temperature is preferably 180 to 400 ° C., and the temperature holding time is preferably 0.5 to 24 hours. The binder removal atmosphere is air or a reducing atmosphere.

グリーンチップの焼成では、昇温速度を好ましくは700〜2000℃/時間、より好ましくは1000〜1700℃/時間とする。このような非常に速い昇温速度とすることで、Rの酸化物のみが偏析している偏析領域の存在状態を好適に制御することが可能となる。その結果、偏析領域の面積割合を、本発明の範囲内とすることが容易となる。   In the firing of the green chip, the rate of temperature rise is preferably 700 to 2000 ° C./hour, more preferably 1000 to 1700 ° C./hour. By setting such a very high temperature increase rate, it is possible to suitably control the existence state of the segregation region in which only the R oxide is segregated. As a result, it becomes easy to make the area ratio of the segregation region within the range of the present invention.

焼成時の保持温度は、好ましくは1300℃以下、より好ましくは1200〜1300℃であり、その保持時間は、好ましくは0.5〜8時間、より好ましくは2〜3時間である。保持温度が上記範囲未満であると緻密化が不十分となり、前記範囲を超えると、内部電極層の異常焼結による電極の途切れや、内部電極層構成材料の拡散による容量温度特性の悪化、誘電体磁器組成物の還元が生じやすくなる。   The holding temperature at the time of firing is preferably 1300 ° C. or less, more preferably 1200 to 1300 ° C., and the holding time is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 2 to 3 hours. If the holding temperature is less than the above range, the densification is insufficient. Reduction of the body porcelain composition is likely to occur.

焼成雰囲気は、還元性雰囲気とすることが好ましく、雰囲気ガスとしてはたとえば、NとHとの混合ガスを加湿して用いることができる。 The firing atmosphere is preferably a reducing atmosphere. As the atmosphere gas, for example, a mixed gas of N 2 and H 2 can be used by humidification.

また、焼成時の酸素分圧は、内部電極層用ペースト中の導電材の種類に応じて適宜決定されればよいが、導電材としてNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、焼成雰囲気中の酸素分圧は、10−14〜10−10MPaとすることが好ましい。酸素分圧が上記範囲未満であると、内部電極層の導電材が異常焼結を起こし、途切れてしまうことがある。また、酸素分圧が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にある。降温速度は、好ましくは50〜500℃/時間である。 In addition, the oxygen partial pressure during firing may be appropriately determined according to the type of the conductive material in the internal electrode layer paste, but when a base metal such as Ni or Ni alloy is used as the conductive material, The oxygen partial pressure is preferably 10 −14 to 10 −10 MPa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, the conductive material of the internal electrode layer may be abnormally sintered and may be interrupted. Further, when the oxygen partial pressure exceeds the above range, the internal electrode layer tends to be oxidized. The temperature lowering rate is preferably 50 to 500 ° C./hour.

還元性雰囲気中で焼成した後、コンデンサ素子本体にはアニールを施すことが好ましい。アニールは、誘電体層を再酸化するための処理であり、これによりIR寿命(絶縁抵抗の寿命)を著しく長くすることができるので、信頼性が向上する。   After firing in a reducing atmosphere, the capacitor element body is preferably annealed. Annealing is a process for re-oxidizing the dielectric layer, and thereby the IR life (insulation resistance life) can be remarkably increased, so that the reliability is improved.

アニール雰囲気中の酸素分圧は、10−9〜10−5MPaとすることが好ましい。酸素分圧が前記範囲未満であると誘電体層の再酸化が困難であり、前記範囲を超えると内部電極層の酸化が進行する傾向にある。 The oxygen partial pressure in the annealing atmosphere is preferably 10 −9 to 10 −5 MPa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, it is difficult to re-oxidize the dielectric layer, and when it exceeds the above range, oxidation of the internal electrode layer tends to proceed.

アニールの際の保持温度は、1100℃以下、特に1000〜1100℃とすることが好ましい。保持温度が上記範囲未満であると誘電体層の酸化が不十分となるので、IRが低く、また、IR寿命が短くなりやすい。一方、保持温度が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化して容量が低下するだけでなく、内部電極層が誘電体素地と反応してしまい、容量温度特性の悪化、IRの低下、IR寿命の低下が生じやすくなる。なお、アニールは昇温過程および降温過程だけから構成してもよい。すなわち、温度保持時間を零としてもよい。この場合、保持温度は最高温度と同義である。   The holding temperature at the time of annealing is preferably 1100 ° C. or less, and particularly preferably 1000 to 1100 ° C. When the holding temperature is lower than the above range, the dielectric layer is not sufficiently oxidized, so that the IR is low and the IR life tends to be short. On the other hand, if the holding temperature exceeds the above range, not only the internal electrode layer is oxidized and the capacity is lowered, but the internal electrode layer reacts with the dielectric substrate, the capacity temperature characteristic is deteriorated, the IR is lowered, the IR Life is likely to decrease. Note that annealing may be composed of only a temperature raising process and a temperature lowering process. That is, the temperature holding time may be zero. In this case, the holding temperature is synonymous with the maximum temperature.

これ以外のアニール条件としては、温度保持時間を好ましくは0〜20時間、より好ましくは2〜4時間、降温速度を好ましくは50〜500℃/時間、より好ましくは100〜300℃/時間とする。また、アニールの雰囲気ガスとしては、たとえば、加湿したNガス等を用いることが好ましい。 As other annealing conditions, the temperature holding time is preferably 0 to 20 hours, more preferably 2 to 4 hours, and the cooling rate is preferably 50 to 500 ° C./hour, more preferably 100 to 300 ° C./hour. . Further, as the annealing atmosphere gas, for example, humidified N 2 gas or the like is preferably used.

上記した脱バインダ処理、焼成およびアニールにおいて、Nガスや混合ガス等を加湿するには、たとえばウェッター等を使用すればよい。この場合、水温は5〜75℃程度が好ましい。 In the above-described binder removal processing, firing and annealing, for example, a wetter or the like may be used to wet the N 2 gas or mixed gas. In this case, the water temperature is preferably about 5 to 75 ° C.

脱バインダ処理、焼成およびアニールは、連続して行なっても、独立に行なってもよい。   The binder removal treatment, firing and annealing may be performed continuously or independently.

上記のようにして得られたコンデンサ素子本体に、たとえばバレル研磨やサンドブラストなどにより端面研磨を施し、外部電極用ペーストを塗布して焼成し、外部電極4を形成する。そして、必要に応じ、外部電極4表面に、めっき等により被覆層を形成する。   The capacitor element main body obtained as described above is subjected to end face polishing, for example, by barrel polishing or sand blasting, and the external electrode paste is applied and fired to form the external electrode 4. Then, if necessary, a coating layer is formed on the surface of the external electrode 4 by plating or the like.

このようにして製造された本実施形態の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。   The multilayer ceramic capacitor of this embodiment manufactured in this way is mounted on a printed circuit board or the like by soldering or the like and used for various electronic devices.

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々に改変することができる。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the embodiment mentioned above at all, and can be variously modified within the range which does not deviate from the summary of this invention.

また、上述した実施形態では、本発明に係る電子部品として積層セラミックコンデンサを例示したが、本発明に係る電子部品としては、積層セラミックコンデンサに限定されず、上記構成を有する電子部品であれば何でも良い。   In the above-described embodiment, the multilayer ceramic capacitor is exemplified as the electronic component according to the present invention. However, the electronic component according to the present invention is not limited to the multilayer ceramic capacitor, and any electronic component having the above configuration may be used. good.

以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。   Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.

実施例1
まず、ABOの原料としてBaTiO粉末を、Rの酸化物の原料としてY粉末を、それぞれ準備した。また、Mgの酸化物の原料としてMgCO粉末 、Mnの酸化物の原料としてMnO粉末、Vの酸化物の原料としてV粉末、焼結助剤として(Ba,Ca)SiO粉末を、それぞれ準備した。なお、BaTiO粉末のBET比表面積値は5.5m/gであった。また、(Ba,Ca)SiOは、BaCO、CaCOおよびSiOをボールミルにより湿式混合し、乾燥後に空気中で焼成したものを、ボールミルにより湿式粉砕して作製した。
Example 1
First, BaTiO 3 powder was prepared as an ABO 3 raw material, and Y 2 O 3 powder was prepared as an R oxide raw material. MgCO 3 powder as a raw material for Mg oxide MnO powder as a raw material for Mn oxide, V 2 O 5 powder as a raw material for V oxide, and (Ba, Ca) SiO 3 powder as a sintering aid were prepared. The BET specific surface area value of the BaTiO 3 powder was 5.5 m 2 / g. Further, (Ba, Ca) SiO 3 was prepared by wet-mixing BaCO 3 , CaCO 3 and SiO 2 by a ball mill, followed by drying and firing in the air by a ball mill.

次に、上記で準備した各原料粉末をボールミルで10時間湿式混合・粉砕し、乾燥して、混合原料粉末を得た。なお、MgCOは、焼成後には、MgOとして誘電体磁器組成物中に含有されることとなる。 Next, each raw material powder prepared above was wet mixed and pulverized in a ball mill for 10 hours and dried to obtain a mixed raw material powder. Incidentally, MgCO 3, after firing, and thus included in the dielectric ceramic composition as MgO.

次いで、得られた混合原料粉末:100重量部と、ポリビニルブチラール樹脂:10重量部と、可塑剤としてのジオクチルフタレート(DOP):5重量部と、溶媒としてのアルコール:100重量部とをボールミルで混合してペースト化し、誘電体層用ペーストを得た。   Subsequently, the obtained mixed raw material powder: 100 parts by weight, polyvinyl butyral resin: 10 parts by weight, dioctyl phthalate (DOP) as a plasticizer: 5 parts by weight, and alcohol as a solvent: 100 parts by weight with a ball mill The mixture was made into a paste to obtain a dielectric layer paste.

また、上記とは別に、Ni粒子:44.6重量部と、テルピネオール:52重量部と、エチルセルロース:3重量部と、ベンゾトリアゾール:0.4重量部とを、3本ロールにより混練し、スラリー化して内部電極層用ペーストを作製した。   In addition to the above, Ni particles: 44.6 parts by weight, terpineol: 52 parts by weight, ethyl cellulose: 3 parts by weight, and benzotriazole: 0.4 parts by weight are kneaded with three rolls to obtain a slurry. To prepare an internal electrode layer paste.

そして、上記にて作製した誘電体層用ペーストを用いて、PETフィルム上に、乾燥後の厚みが2μmとなるようにグリーンシートを形成した。次いで、この上に内部電極層用ペーストを用いて、電極層を所定パターンで印刷した後、PETフィルムからシートを剥離し、電極層を有するグリーンシートを作製した。次いで、電極層を有するグリーンシートを複数枚積層し、加圧接着することによりグリーン積層体とし、このグリーン積層体を所定サイズに切断することにより、グリーンチップを得た。   Then, using the dielectric layer paste prepared above, a green sheet was formed on the PET film so that the thickness after drying was 2 μm. Next, the electrode layer was printed in a predetermined pattern using the internal electrode layer paste thereon, and then the sheet was peeled off from the PET film to produce a green sheet having the electrode layer. Next, a plurality of green sheets having electrode layers were laminated and pressure-bonded to obtain a green laminated body, and the green laminated body was cut into a predetermined size to obtain a green chip.

次いで、得られたグリーンチップについて、脱バインダ処理、焼成およびアニールを下記条件にて行って、積層セラミック焼成体を得た。   Next, the obtained green chip was subjected to binder removal treatment, firing and annealing under the following conditions to obtain a multilayer ceramic fired body.

脱バインダ処理条件は、昇温速度:25℃/時間、保持温度:260℃、温度保持時間:8時間、雰囲気:空気中とした。   The binder removal treatment conditions were temperature rising rate: 25 ° C./hour, holding temperature: 260 ° C., temperature holding time: 8 hours, and atmosphere: in the air.

焼成条件は、昇温速度:2000℃/時間、保持温度:1200℃とし、保持時間を1時間とした。降温速度は2000℃/時間とした。なお、雰囲気ガスは、加湿したN+H混合ガスとし、酸素分圧が10−12MPaとなるようにした。 The firing conditions were a heating rate of 2000 ° C./hour, a holding temperature of 1200 ° C., and a holding time of 1 hour. The cooling rate was 2000 ° C./hour. The atmospheric gas was a humidified N 2 + H 2 mixed gas, and the oxygen partial pressure was 10 −12 MPa.

アニール条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1000℃、温度保持時間:2時間、降温速度:200℃/時間、雰囲気ガス:加湿したNガス(酸素分圧:10−7MPa)とした。 The annealing conditions were: temperature rising rate: 200 ° C./hour, holding temperature: 1000 ° C., temperature holding time: 2 hours, temperature falling rate: 200 ° C./hour, atmospheric gas: humidified N 2 gas (oxygen partial pressure: 10 −7 MPa).

なお、焼成およびアニールの際の雰囲気ガスの加湿には、ウェッターを用いた。   A wetter was used for humidifying the atmospheric gas during firing and annealing.

次いで、得られた積層セラミック焼成体の端面をサンドブラストにて研磨した後、外部電極としてCuを塗布し、図1に示す積層セラミックコンデンサの試料を得た。得られたコンデンサ試料のサイズは、3.2mm×1.6mm×0.6mmであり、誘電体層の厚み1.5μm、内部電極層の厚み1.0μm、内部電極層に挟まれた誘電体層の数は200とした。   Next, after polishing the end face of the obtained multilayer ceramic fired body by sandblasting, Cu was applied as an external electrode to obtain a sample of the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. The size of the obtained capacitor sample is 3.2 mm × 1.6 mm × 0.6 mm, the thickness of the dielectric layer is 1.5 μm, the thickness of the internal electrode layer is 1.0 μm, and the dielectric sandwiched between the internal electrode layers The number of layers was 200.

得られたコンデンサ試料について、偏析領域の観察および高温負荷寿命の測定を、それぞれ下記に示す方法により行った。   For the obtained capacitor sample, the segregation region was observed and the high temperature load life was measured by the methods described below.

偏析領域の観察
コンデンサ試料の誘電体層の切断面についてSTEM観察を行い、視野1.0×1.0μmの範囲について、STEMに付属のエネルギー分散型X線分光装置(STEM−EDX)を用いて、Y元素の元素マッピングを行った。
Observation of segregation region STEM observation is performed on the cut surface of the dielectric layer of the capacitor sample, and the range of the visual field of 1.0 × 1.0 μm is measured using an energy dispersive X-ray spectrometer (STEM-EDX) attached to the STEM. Element mapping of the Y element was performed.

次に、無作為に抽出した5個の粒子を、走査透過型電気顕微鏡(STEM)により観察し、エネルギー分散型X線分光法により各表面拡散粒子の略中心を通る直線上で点分析を行って、Y元素のX線スペクトルを測定した。得られたX線スペクトルから、該粒子におけるY元素の平均濃度を算出した。そして、上記で得られたY元素についてのマッピング画像を、Y元素の平均濃度が1/3超の領域を、Y元素が偏析している領域とするように画像処理を行った。また、その他の元素(Mg、Mn、V、Ba、Ca、Si)についても、同様に測定および画像処理を行ったが、MgO、MnO、Vおよび(Ba,Ca)SiOのいずれについても偏析領域は確認されなかった。 Next, five randomly extracted particles are observed with a scanning transmission electron microscope (STEM), and point analysis is performed on a straight line passing through the approximate center of each surface diffusion particle by energy dispersive X-ray spectroscopy. Then, the X-ray spectrum of the Y element was measured. From the obtained X-ray spectrum, the average concentration of the Y element in the particles was calculated. The mapping image for the Y element obtained above was subjected to image processing so that the region where the average concentration of the Y element exceeds 1/3 is the region where the Y element is segregated. Further, other elements (Mg, Mn, V, Ba, Ca, Si) were similarly measured and image-processed, but any of MgO, MnO, V 2 O 5 and (Ba, Ca) SiO 3 was used. No segregation region was observed.

次いで、画像処理後の画像から、1.0×1.0μmの視野面積に対して、Yの偏析領域の面積を算出した。なお、上記の画像処理により得られた偏析領域は、SEM観察写真より目視で判断できる偏析領域とよく一致していた。結果を表1に示す。 Next, the area of the segregated region of Y 2 O 3 was calculated from the image after the image processing with respect to the visual field area of 1.0 × 1.0 μm. In addition, the segregation area obtained by the above image processing was in good agreement with the segregation area that can be visually determined from the SEM observation photograph. The results are shown in Table 1.

高温負荷寿命
コンデンサ試料に対し、200℃にて、6V/μmの電界下で直流電圧の印加状態に保持し、寿命時間を測定することにより、高温負荷寿命を評価した。本実施例においては、印加開始から絶縁抵抗が一桁落ちるまでの時間を寿命と定義した。また、本実施例では、上記の評価を20個のコンデンサ試料について行い、その平均値を高温負荷寿命とした。評価基準は80時間以上を良好とした。結果を表1に示す。
The high temperature load life was evaluated by measuring the life time of a capacitor sample at a high temperature load at 200 ° C. with a DC voltage applied under an electric field of 6 V / μm. In this example, the time from the start of application until the insulation resistance drops by an order of magnitude was defined as the lifetime. In this example, the above evaluation was performed on 20 capacitor samples, and the average value was defined as the high temperature load life. The evaluation criterion was 80 hours or more. The results are shown in Table 1.

Figure 2011057511
Figure 2011057511

表1より、偏析領域の面積割合が本発明の範囲内である場合(試料番号3〜7)には、高温負荷寿命が良好となり、信頼性が向上していることが確認できる。   From Table 1, when the area ratio of the segregation region is within the range of the present invention (sample numbers 3 to 7), it can be confirmed that the high-temperature load life is good and the reliability is improved.

実施例2
BaTiO粉末のBET比表面積値を表2に示す値とした以外は、実施例1の試料番号5と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料を作製し、実施例1と同様の特性評価を行った。結果を表2に示す。
Example 2
A multilayer ceramic capacitor sample was prepared in the same manner as Sample No. 5 in Example 1 except that the BET specific surface area value of the BaTiO 3 powder was changed to the value shown in Table 2, and the same characteristic evaluation as in Example 1 was performed. It was. The results are shown in Table 2.

Figure 2011057511
Figure 2011057511

表2より、BaTiO粉末のBET比表面積値が本発明の好ましい範囲内とすることで(試料番号13〜15)、偏析領域の面積割合を制御できることが確認できる。 From Table 2, BaTiO 3 BET specific surface area value of the powder by within the preferred range of the present invention (Sample Nos. 13 to 15), the area ratio of the segregation area can be confirmed that can control.

実施例3
の含有量を表3に示す値とした以外は、実施例1と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料を作製し、実施例1と同様の特性評価を行った。結果を表3に示す。なお、その他の成分の添加量は、BaTiO100モルに対して、MgCOがMgO換算で0.8モル、MnOが0.25モル、Vが0.16モル、(Ba,Ca)SiOがSiO換算で1.2モルとした。この添加量が、焼成後の誘電体層における含有量となる。
Example 3
A multilayer ceramic capacitor sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the content of Y 2 O 3 was changed to the value shown in Table 3, and the same characteristic evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 3. The amount of other components added is 100 mol of BaTiO 3 , MgCO 3 is 0.8 mol in terms of MgO, MnO is 0.25 mol, V 2 O 5 is 0.16 mol, (Ba, Ca ) SiO 3 was 1.2 mol in terms of SiO 2 . This added amount is the content in the dielectric layer after firing.

Figure 2011057511
Figure 2011057511

表3より、Yの含有量が本発明の範囲内である場合(試料番号23〜25)には、高温負荷寿命が良好となり、信頼性が向上していることが確認できる。 From Table 3, when the content of Y 2 O 3 is within the range of the present invention (sample numbers 23 to 25), it can be confirmed that the high-temperature load life is good and the reliability is improved.

実施例4
焼成時における昇温速度を表4に示す値とした以外は、実施例1と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料を作製し、実施例1と同様の特性評価を行った。結果を表4に示す。
Example 4
A multilayer ceramic capacitor sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the heating rate during firing was set to the values shown in Table 4, and the same characteristic evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 4.

Figure 2011057511
Figure 2011057511

表4より、昇温速度が本発明の範囲内である場合(試料番号33〜37)には、Yのみが偏析している偏析領域が形成され、高温負荷寿命が良好となり、信頼性が向上していることが確認できる。 From Table 4, when the rate of temperature increase is within the range of the present invention (sample numbers 33 to 37), a segregation region where only Y 2 O 3 is segregated is formed, and the high temperature load life is improved and the reliability is improved. It can be confirmed that the performance is improved.

実施例5
Mgの酸化物、Mnの酸化物、Vの酸化物およびSiの酸化物を含む化合物の含有量を表5に示す値とした以外は、実施例1と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料を作製し、実施例1と同様の特性評価を行った。結果を表5に示す。
Example 5
A sample of the multilayer ceramic capacitor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the contents of the compound containing Mg oxide, Mn oxide, V oxide and Si oxide were changed to the values shown in Table 5. The same characteristic evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 5.

Figure 2011057511
Figure 2011057511

表5より、各成分の含有量が本発明の好ましい範囲内である場合(試料番号42〜45、48〜51、54〜57、60〜63)には、Yのみが偏析している偏析領域が本発明の範囲内で形成され、高温負荷寿命が良好となり、信頼性が向上していることが確認できる。 From Table 5, when the content of each component is within the preferred range of the present invention (sample numbers 42 to 45, 48 to 51, 54 to 57, 60 to 63), only Y 2 O 3 is segregated. It can be confirmed that the segregated region is formed within the scope of the present invention, the high temperature load life is improved, and the reliability is improved.

実施例6
の含有量、昇温速度、BET比表面積値を表6に示す値とした以外は、実施例1と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料を作製し、実施例1と同様の特性評価を行った。結果を表6に示す。
Example 6
A multilayer ceramic capacitor sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the Y 2 O 3 content, the rate of temperature increase, and the BET specific surface area were changed to the values shown in Table 6. Characterization was performed. The results are shown in Table 6.

Figure 2011057511
Figure 2011057511

表6より、Yの含有量、昇温速度、BET比表面積値が本発明の好ましい範囲内である場合(試料番号73〜76)には、Yのみが偏析している偏析領域が本発明の範囲内で形成され、高温負荷寿命が良好となり、信頼性が向上していることが確認できる。 From Table 6, when the content of Y 2 O 3 , the temperature increase rate, and the BET specific surface area are within the preferable ranges of the present invention (sample numbers 73 to 76), only Y 2 O 3 is segregated. It can be confirmed that the segregation region is formed within the scope of the present invention, the high temperature load life is improved, and the reliability is improved.

1… 積層セラミックコンデンサ
2… 誘電体層
3… 内部電極層
4… 外部電極
10… コンデンサ素子本体
12… 誘電体粒子
20… 偏析領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer ceramic capacitor 2 ... Dielectric layer 3 ... Internal electrode layer 4 ... External electrode 10 ... Capacitor element body 12 ... Dielectric particle 20 ... Segregation region

Claims (13)

誘電体層および電極層を有するセラミック電子部品であって、
前記誘電体層が、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTiおよびZrから選ばれる少なくとも1つである)で表される化合物と、Rの酸化物(Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる少なくとも1つ)と、を含有する誘電体磁器組成物から構成されており、
前記誘電体層には、前記Rの酸化物のみが偏析している偏析領域が存在しており、
前記誘電体層の断面において、1.0×1.0μmの視野面積に対し、前記偏析領域が占める面積の割合が0.45〜0.90%であることを特徴とするセラミック電子部品。
A ceramic electronic component having a dielectric layer and an electrode layer,
The dielectric layer is a compound represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti and Zr); An oxide (R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu). A dielectric porcelain composition comprising:
In the dielectric layer, there exists a segregation region where only the oxide of R segregates,
In the cross section of the dielectric layer, the ratio of the area occupied by the segregation region to the visual field area of 1.0 × 1.0 μm is 0.45 to 0.90%.
前記ABO100モルに対して、前記Rの酸化物が、R換算で、1.0〜2.0モル含有されている請求項1に記載のセラミック電子部品。 The ceramic electronic component according to claim 1, wherein the R oxide is contained in an amount of 1.0 to 2.0 mol in terms of R 2 O 3 with respect to 100 mol of the ABO 3 . 誘電体層および電極層を有するセラミック電子部品であって、
前記誘電体層が、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTiおよびZrから選ばれる少なくとも1つである)で表される化合物と、Rの酸化物(Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる少なくとも1つ)と、を含有する誘電体磁器組成物から構成されており、
前記ABO100モルに対して、前記Rの酸化物が、R換算で、1.0〜2.0モル含有されており、
前記誘電体層には、前記Rの酸化物のみが偏析している偏析領域が存在していることを特徴とするセラミック電子部品。
A ceramic electronic component having a dielectric layer and an electrode layer,
The dielectric layer is a compound represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti and Zr); An oxide (R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu). A dielectric porcelain composition comprising:
The oxide of R is contained in an amount of 1.0 to 2.0 mol in terms of R 2 O 3 with respect to 100 mol of the ABO 3 ,
The ceramic electronic component according to claim 1, wherein a segregation region in which only the oxide of R is segregated exists in the dielectric layer.
前記誘電体層の断面において、1.0×1.0μmの視野面積に対し、前記偏析領域が占める面積の割合が0.45〜0.90%である請求項3に記載のセラミック電子部品。   4. The ceramic electronic component according to claim 3, wherein a ratio of an area occupied by the segregation region is 0.45 to 0.90% with respect to a visual field area of 1.0 × 1.0 μm in a cross section of the dielectric layer. 前記ABOの原料粉末のBET比表面積値が5.0〜6.0m/gである請求項1〜4のいずれかに記載のセラミック電子部品。 The ceramic electronic component according to claim 1, wherein the ABO 3 raw material powder has a BET specific surface area value of 5.0 to 6.0 m 2 / g. 前記誘電体磁器組成物が、前記ABO100モルに対して、Mgの酸化物をMgO換算で0.5〜1.5モル、Mnの酸化物をMnO換算で0.1〜0.3モル、Vの酸化物をV換算で0.05〜0.2モル、Siの酸化物を含む化合物をSiO換算で0.5〜2.0モル含有する請求項1〜5のいずれかに記載のセラミック電子部品。 In the dielectric ceramic composition, the oxide of Mg is 0.5 to 1.5 mol in terms of MgO and the oxide of Mn is 0.1 to 0.3 mol in terms of MnO with respect to 100 mol of the ABO 3. The oxide of V contains 0.05 to 0.2 mol in terms of V 2 O 5 , and the compound containing an oxide of Si contains 0.5 to 2.0 mol in terms of SiO 2. A ceramic electronic component according to any one of the above. 前記RがSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる1つである請求項1〜6のいずれかに記載のセラミック電子部品。   The R is one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu. A ceramic electronic component according to any one of the above. 誘電体層および電極層を有するセラミック電子部品を製造する方法であって、
前記誘電体層は、一般式ABO(AはBa、CaおよびSrから選ばれる少なくとも1つであり、BはTiおよびZrから選ばれる少なくとも1つである)で表される化合物と、Rの酸化物(Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる少なくとも1つ)と、を含有する誘電体磁器組成物から構成され、
前記ABOの原料粉末と前記Rの酸化物の原料粉末とを混合し、混合原料粉末を準備する工程と、
前記混合原料粉末を用いて成形体を得る工程と、
前記成形体を焼成する工程と、を有し、
前記成形体を焼成する工程において、昇温速度を700〜2000℃/時間とすることを特徴とするセラミック電子部品の製造方法。
A method of manufacturing a ceramic electronic component having a dielectric layer and an electrode layer, the method comprising:
The dielectric layer comprises a compound represented by the general formula ABO 3 (A is at least one selected from Ba, Ca and Sr, and B is at least one selected from Ti and Zr); An oxide (R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu). A dielectric ceramic composition comprising:
Mixing the ABO 3 raw material powder and the R oxide raw material powder to prepare a mixed raw material powder;
Obtaining a molded body using the mixed raw material powder;
Firing the molded body, and
A method of manufacturing a ceramic electronic component, wherein, in the step of firing the molded body, a temperature rising rate is set to 700 to 2000 ° C./hour.
前記ABO100モルに対して、前記Rの酸化物が、R換算で、1.0〜2.0モル含有されている請求項8に記載のセラミック電子部品の製造方法。 The method for producing a ceramic electronic component according to claim 8, wherein the R oxide is contained in an amount of 1.0 to 2.0 mol in terms of R 2 O 3 with respect to 100 mol of the ABO 3 . 前記ABOの原料粉末のBET比表面積値が5.0〜6.0m/gである請求項8または9に記載のセラミック電子部品の製造方法。 The method for producing a ceramic electronic component according to claim 8 or 9, wherein the ABO 3 raw material powder has a BET specific surface area value of 5.0 to 6.0 m 2 / g. 前記誘電体磁器組成物が、さらに、Mgの酸化物、Mnの酸化物およびVの酸化物と、Siを主成分とする焼結助剤と、を含み、
前記ABO100モルに対して、前記Mgの酸化物が0.5〜1.5モル、前記Mnの酸化物が0.1〜0.3モル、前記Vの酸化物が0.05〜0.2モル、前記焼結助剤が0.5〜2.0モル含有する請求項8〜10のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。
The dielectric ceramic composition further includes an oxide of Mg, an oxide of Mn and an oxide of V, and a sintering aid mainly composed of Si,
With respect to 100 mol of ABO 3 , the oxide of Mg is 0.5 to 1.5 mol, the oxide of Mn is 0.1 to 0.3 mol, and the oxide of V is 0.05 to 0 The method for producing a ceramic electronic component according to any one of claims 8 to 10, wherein 0.2 mol and the sintering aid are contained in an amount of 0.5 to 2.0 mol.
前記RがSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選ばれる1つである請求項8〜11のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。   The R is one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu. A method for producing a ceramic electronic component according to claim 1. 前記混合原料粉末を準備する工程において、前記ABOの原料粉末の表面に、少なくとも前記Rの酸化物の原料粉末を被覆する請求項8〜12のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。 The method of manufacturing a ceramic electronic component according to any one of claims 8 to 12, wherein in the step of preparing the mixed raw material powder, a surface of the ABO 3 raw material powder is coated with at least the raw material powder of the R oxide.
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