JP2011056062A - Heat cooker - Google Patents

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ceramic coating
heater
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Akihiko Kobayashi
昭彦 小林
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problems that, when using PTFE in a heat cooker conventionally, since a using temperature is restrained by the heat resistance of the PTFE, and a coating film cannot be applied at a part requiring antifouling or non-adhesion property due to temperature rise accompanying heat cooking depending on components, there is fixed restriction on the formation of the coating film containing the PTFE. <P>SOLUTION: The heat cooker includes: a heating means which is one of a heater, magnetron or an induction heating coil; and one of a cooking chamber, a cooking table, a tray, a cooking container and a top plate for performing heat cooking. Fine recesses and projections are provided on the surface of a component configuring one of the cooking chamber, the cooking table, the tray, the cooking container, the top plate, the heater and an exhaust air path, and a ceramic coating film in a three-dimensional crosslinking matrix structure having a siloxane bond by a sol and gel method is formed. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、ヒータ、マイクロ波、電磁誘導加熱により、直接的・間接的に被加熱物である食材を調理する加熱調理器に関するものである。   The present invention relates to a cooking device that cooks a food material to be heated directly or indirectly by a heater, microwave, or electromagnetic induction heating.

従来から、加熱調理器を構成する部品の表面にPTFE(フッ素樹脂)を含む皮膜を設け、防汚性や非粘着性を高める提案がなされている(特許文献1〜3参照)。
特許文献1においては、ヒータやマイクロ波で加熱調理をおこなうオーブンレンジの庫内部品に、ヒータで加熱調理をおこなうホットプレートの調理容器に、特許文献2においてはヒータまたは電磁誘導加熱で加熱調理(炊飯等)をおこなう炊飯器の調理容器に、特許文献3においては誘導加熱にて加熱調理をおこなう誘導加熱調理器の被加熱物を載置する天板の構成部品にPTFEを含む皮膜を施す事例が記載されている。
Conventionally, proposals have been made to increase the antifouling property and non-adhesiveness by providing a film containing PTFE (fluororesin) on the surface of a component constituting the heating cooker (see Patent Documents 1 to 3).
In Patent Document 1, in the cooking cabinet of a hot plate that performs heating cooking with a heater, in a cooking cabinet of a hot plate that performs heating cooking with a heater or in a microwave oven cooking component with a heater or microwave (Patent Document 2 cooking with heating or electromagnetic induction heating ( Example of applying a film containing PTFE to the cooking container of a rice cooker that performs cooking, etc., on the component of the top plate on which the heated object of the induction heating cooker that performs cooking by induction heating is applied in Patent Document 3. Is described.

特開平6−337117号公報JP-A-6-337117 特開2006−15114号公報JP 2006-15114 A 特開2003−51374号公報JP 2003-51374 A

しかしながら、従来の加熱調理器においては、加熱調理器にPTFEを使用する場合、PTFEの耐熱性により使用温度を制約され、部品によっては加熱調理に伴う温度上昇のため、防汚や非粘着性が必要な部位に皮膜を施すことができないという課題があった。
また、海外においては、フッ素系化合物の規制(76/769/EEC第30回改正2006/122/ECなど)もあり、PTFEを含む皮膜の形成に一定の制約を受ける課題があった。
本発明は、以上のような問題を解決するためになされたもので、加熱調理器を構成する部品にPTFEを含まない皮膜を用い、温度の高い部位への皮膜の形成をおこなうとともに、製造の制約が少ない加熱調理器を提供するものである。
However, in the conventional cooking device, when PTFE is used for the cooking device, the use temperature is restricted due to the heat resistance of PTFE, and depending on the part, the temperature rises due to cooking, so that antifouling and non-adhesiveness are present. There was a problem that a film could not be applied to a necessary site.
In addition, overseas, there are regulations on fluorine compounds (76/769 / EEC 30th revision 2006/122 / EC, etc.), and there is a problem that certain restrictions are imposed on the formation of films containing PTFE.
The present invention has been made to solve the above-described problems, and uses a film that does not contain PTFE as a component that constitutes a heating cooker, and forms a film on a part having a high temperature. A cooking device with less restrictions is provided.

ヒータ、マグネトロン、誘導加熱コイルのいずれかの加熱手段と加熱調理をおこなう調理室、調理台、受皿、調理容器、天板のいずれかを備え、調理室、調理台、受皿、調理容器、天板、ヒータ、排気風路のいずれかを構成する部品の表面に微細な凹凸を設け、ゾル・ゲル法によりシロキサン結合を持つ三次元架橋マトリックス構造のセラミックコーティング皮膜を形成したものである。 Equipped with any heating means of heating, magnetron, induction heating coil and cooking room, cooking table, saucer, cooking container, top plate, cooking room, cooking table, saucer, cooking container, top plate In addition, fine irregularities are provided on the surface of a part constituting either the heater or the exhaust air passage, and a ceramic coating film having a three-dimensional crosslinked matrix structure having a siloxane bond is formed by a sol-gel method.

本発明によれば、セラミックコーティング皮膜により、PTFEを含む皮膜が使用できない高温とる部品においても、防汚性や非粘着性を付与できるとともに、PTFE皮膜の形成に係わる制約を受けず、メンテナンス性の良い製造しやすい加熱調理器とすることができる効果がある。 According to the present invention, the ceramic coating film can impart antifouling property and non-adhesiveness even in a high-temperature component where a film containing PTFE cannot be used, and is not subject to restrictions related to the formation of the PTFE film, and is easy to maintain. There exists an effect which can be set as the heating cooker which is easy to manufacture.

この発明の実施の形態1〜4を示す加熱調理器全体の斜視図である。It is a perspective view of the whole heating cooker which shows Embodiment 1-4 of this invention. この発明の実施の形態1〜4を示す加熱調理器のプレート6と吸排気口カバー7を取外した状態の本体1の斜視図である。1 is a perspective view of a main body 1 with a plate 6 and an intake / exhaust port cover 7 of a heating cooker showing Embodiments 1 to 4 of the present invention removed. この発明の実施の形態1〜4を示す右側の基板ケースユニット15の斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of a right substrate case unit 15 showing Embodiments 1 to 4 of the present invention. この発明の実施の形態1〜4を示す調理器18全体を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the whole cooker 18 which shows Embodiment 1-4 of this invention. この発明の実施の形態1〜4を示す調理室18の天井面及び調理室扉8を取り外した状態の斜視図である。It is a perspective view of the state which removed the ceiling surface of the cooking chamber 18, and the cooking chamber door 8 which shows Embodiment 1-4 of this invention. この発明の実施の形態1,2を示す本体1の調理室18部分の側面断面図である。1 is a side cross-sectional view of a cooking chamber 18 portion of a main body 1 showing Embodiments 1 and 2 of the present invention. この発明の実施の形態1〜4を示すセラミックコーティングの皮膜形成部の断面図である。It is sectional drawing of the film formation part of the ceramic coating which shows Embodiment 1-4 of this invention. この発明の実施の形態3,4を示す本体1の調理室18部分の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of the cooking chamber 18 part of the main body 1 which shows Embodiment 3, 4 of this invention.

実施の形態1.
図1は,この発明を実施するための実施の形態1の加熱調理器全体を示す斜視図である。
図1において加熱調理器の本体1の筐体2に上側には天板3が着脱自在に配置される。天板3の背面側に吸排気口カバー7が配置されている。排気口カバーは天板枠4に形成された吸気口12及び排気口13を覆い、吸気口12への空気の流入や排気口13からの空気の流出が通風可能な開口を持つとともに、吸気口12や排気口13への被調理物である食材の落下を防止している。
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a perspective view showing the entire heating cooker according to Embodiment 1 for carrying out the present invention.
In FIG. 1, a top plate 3 is detachably disposed on the upper side of a housing 2 of the main body 1 of the heating cooker. An intake / exhaust port cover 7 is disposed on the back side of the top 3. The exhaust port cover covers the intake port 12 and the exhaust port 13 formed in the top plate frame 4, and has an opening through which air can flow into and out of the air intake 12 and the air intake port. This prevents the food, which is to be cooked, from dropping to 12 and the exhaust port 13.

吸排気口カバー7の表面はショット・ブラストまたは化学エッチングで微細な凹凸を形成後、セラミックコーティングAの皮膜を形成している。ショット・ブラストの場合、吸排気口カバー7形状によっては、加工が困難な場合がありその場合は化学エッチンングを用いいている。調理室18からの加熱調理時の排気はの高温となるが450℃を超えることはない。 The surface of the intake / exhaust port cover 7 is formed with a ceramic coating A after forming fine irregularities by shot blasting or chemical etching. In the case of shot blasting, processing may be difficult depending on the shape of the intake / exhaust port cover 7, in which case chemical etching is used. The temperature of the exhaust from the cooking chamber 18 during cooking is high, but it does not exceed 450 ° C.

吸排気カバーを吸気が通過すると室内の空気に含まれる埃や微細な塵埃が付着しし、排気が通過すると調理室18から調理時の煙(油煙,湯気,炭化物微粒子,臭気成分等)に含まれる成分が付着して表面が汚れるが、セラミックコーティングAの防汚性と非粘着性により汚れを抑制するとともに、汚れを洗浄するメンテナンス時に汚れを容易に落とすことができる。 When the intake air passes through the intake / exhaust cover, dust contained in the indoor air and fine dust adhere to it, and when the exhaust passes, it is included in the cooking smoke (oil smoke, steam, carbide particles, odor components, etc.) from the cooking chamber 18. However, the surface of the ceramic coating A is soiled and non-adhesive to suppress the soiling, and the soiling can be easily removed during maintenance for cleaning the soiling.

天板3の中央にはプレート6が配置さている、プレート6の上には被加熱物である調理容器(図示せず)が載置され、加熱調理がおこなわれる。プレート6は結晶化ガラスやセラミックプレート等が用いられる。プレート6の載置面には微細な凹凸が形成されており、セラミックコーティングAの皮膜が形成されている。これは、載置された調理容器で加熱調理がおこなわれると、煮物調理の場合ふきこぼれで調理容器内の調理物が飛散することや、炒め物や揚げ物調理の場合は油の飛び跳ねによる飛散でプレート6の載置面は汚れ清掃等のメンテナンスが必要となるためである。 A plate 6 is disposed in the center of the top plate 3, and a cooking container (not shown), which is an object to be heated, is placed on the plate 6 and cooking is performed. As the plate 6, crystallized glass, a ceramic plate, or the like is used. Fine unevenness is formed on the mounting surface of the plate 6, and a film of the ceramic coating A is formed. This is because when cooking is performed in the placed cooking container, the food in the cooking container scatters in the case of boiled cooking, and in the case of stir-fry or fried food cooking, it is splashed by splashing oil. This is because the mounting surface of 6 requires maintenance such as dirt cleaning.

微細な凹凸の形成はショット・ブラストか化学エッチングが用いられる。ショット・ブラストを用いると加工費用は安価となるが、結晶化ガラスやセラミックプレートの強度・厚さによっては、ショット・ブラストの加工の際の衝撃により破損してしまい加工が困難な場合もあり、この場合は化学エッチングを用いる必要がある。化学エッチングの場合、加工費用は高くなるが、より微細な凹凸とすることができ、セラミックコーティングの皮膜を形成した際に、より高い密着力とすることができるとともに、皮膜表面の平滑性が高まり美観が向上し、洗浄性も良くなりメンテナンス性も高まる。 Shot blasting or chemical etching is used to form fine irregularities. If shot blasting is used, the processing cost will be low, but depending on the strength and thickness of the crystallized glass or ceramic plate, it may be damaged due to impact during shot blasting, and processing may be difficult. In this case, it is necessary to use chemical etching. In the case of chemical etching, the processing cost is high, but finer irregularities can be made, and when a ceramic coating film is formed, a higher adhesion can be obtained and the smoothness of the film surface is increased. The aesthetics are improved, the cleanability is improved and the maintenance is improved.

プレート6には被加熱物である食材等が入った調理容器が載置され、下方に配置される誘導加熱コイル10またはヒータ11で加熱調理がおこなわれる。調理によるプレート6の温度は概ね450℃以下である。例えば魚を焼く場合の調理容器の温度は175〜200℃程度であるが、ステーキを焼く場合は300〜375℃とする場合もあり、PTFEを含む皮膜は耐熱温度260℃を超えるため使用できないが、セラミックコーティングの耐熱温度未満であり使用可能である。
製品仕様・調理条件や空焚き等のトラブルにおいては450℃を超える場合もあり、そのような場合は誘導加熱コイル10またはヒータ11上方周辺をコーティングBで塗布する等の塗りわけをおこない、併せて色調等の目視が異なる条件での皮膜とし被加熱物の載置する位置を明示してもよい。
A cooking container containing ingredients to be heated is placed on the plate 6, and cooking is performed by the induction heating coil 10 or the heater 11 disposed below. The temperature of the plate 6 by cooking is approximately 450 ° C. or less. For example, the temperature of the cooking container when grilling fish is about 175 to 200 ° C, but when grilling steak, it may be 300 to 375 ° C, and the coating containing PTFE cannot be used because it exceeds the heat resistant temperature of 260 ° C. It is less than the heat resistance temperature of the ceramic coating and can be used.
In the case of troubles such as product specifications / cooking conditions and emptying, the temperature may exceed 450 ° C. In such a case, the upper part of the induction heating coil 10 or the heater 11 is coated with coating B, etc. The position on which the object to be heated is placed may be clearly indicated as a film under different conditions such as color tone.

また、プレート6表面には、被加熱物の載置する位置の明示やユーザーへの注意喚起や警告等の表示をおこなう場合もあるが、その場合は、セラミックコーティング皮膜形成後に溶剤・顔料・バンダー等を含むインキで表示内容を印刷した後、透明度の高いタイプのセラミックコーティングの皮膜の積層をおこなう。
セラミックコーティング種類による耐熱温度の違いは、セラミックコーティングAは450℃、セラミックコーティングBは900℃であり、450℃を越える部位にはセラミックコーティングBを塗布している。セラミックコーティングBは耐熱温度は高いが防汚性や非粘着性はセラミックコーティングAに劣るため、450℃以下の部位においては、セラミックコーティングAの皮膜を形成することで、防汚性や非粘着性を高めることができる。
In addition, on the surface of the plate 6, there is a case where the position where the object to be heated is placed is clearly indicated, or a warning or warning is displayed to the user. In such a case, the solvent, pigment, After the display content is printed with ink containing etc., a highly transparent ceramic coating film is laminated.
The difference in heat-resistant temperature depending on the type of ceramic coating is that the ceramic coating A is 450 ° C., the ceramic coating B is 900 ° C., and the ceramic coating B is applied to the portion exceeding 450 ° C. Ceramic coating B has high heat resistance, but antifouling and non-adhesiveness is inferior to ceramic coating A. Therefore, by forming a film of ceramic coating A at a temperature of 450 ° C or lower, antifouling and non-adhesive Can be increased.

天板3の天板枠4の前面側には天板操作部5が設けられている。天板枠4の外面側には化学エッチングにより微細な凹凸を形成した後、セラミックコーティングAの皮膜が形成されている。天板枠4は加熱手段から離れているため450℃を越えることはない。化学エッチングを用いるには天板枠4は意匠面であり皮膜の高い外観品質と、清掃・洗浄の頻度が多く皮膜のより高い密着性を得るためである。
本体1前面中央には、調理室18の調理室扉8が配置され、前面左右には前面操作部9が設けられる。
A top panel operating unit 5 is provided on the front side of the top panel frame 4 of the top panel 3. After forming fine irregularities on the outer surface side of the top frame 4 by chemical etching, a film of ceramic coating A is formed. Since the top frame 4 is away from the heating means, it does not exceed 450 ° C. The reason for using chemical etching is that the top plate frame 4 is a design surface and has a high appearance quality of the film, and a high frequency of cleaning and washing, and higher adhesion of the film.
A cooking chamber door 8 of the cooking chamber 18 is disposed in the front center of the main body 1, and a front operation unit 9 is provided on the front left and right.

図2は加熱調理器のプレート6と吸排気口カバー7を取外した状態の本体1の斜視図である。
天板枠4の背面側の中央に排気口13、左右に吸気口12が設けられている。
吸気口12は基板ケースユニット15の流入口に接続されている。
排気口13には調理室排気風路14が配置され、調理室18からの排気が基板ケース15から送出される冷却風とともに排気される。
通常の使用状態においては、排気口13は吸排気口カバー5で覆われている。
FIG. 2 is a perspective view of the main body 1 with the plate 6 and the intake / exhaust port cover 7 of the cooking device removed.
An exhaust port 13 is provided in the center of the back side of the top plate frame 4, and an intake port 12 is provided on the left and right.
The air inlet 12 is connected to the inlet of the substrate case unit 15.
A cooking chamber exhaust air passage 14 is disposed at the exhaust port 13, and the exhaust from the cooking chamber 18 is exhausted together with the cooling air sent from the substrate case 15.
In a normal use state, the exhaust port 13 is covered with the intake / exhaust port cover 5.

プレート6を取外した下方には、前面側の左右に誘導加熱コイルユニット10が配置され、背面側中央にはヒータ13が配置されている。誘導加熱コイルユニット10は誘導加熱により調理容器を発熱させ加熱調理をおこない、ヒータはジュール熱により発熱し、放射やプレート6を介した伝熱により調理容器の加熱をおこない、加熱調理をおこなう。
誘導加熱コイルユニット10及びヒータ11の下方には、調理室収納部19となっている。
Below the plate 6, induction heating coil units 10 are arranged on the left and right sides of the front side, and a heater 13 is arranged in the center of the back side. The induction heating coil unit 10 generates heat by heating the cooking container by induction heating, the heater generates heat by Joule heat, heats the cooking container by radiation and heat transfer through the plate 6, and performs cooking.
Below the induction heating coil unit 10 and the heater 11, there is a cooking chamber storage section 19.

図3は右側の基板ケースユニット15の斜視図を示す。左右の基板ケースユニット15の構成はほぼ対称であり、右側を用いて説明する。基板ケースユニット15には冷却ファン17が備えられ,内部に電子部品が実装された制御回路基板16が納められている。
制御基板回路16は天板操作部5、前面操作部9からの操作に伴う指示や温度センサ24の出力から、ヒータ11、誘導加熱コイル10、調理室18の上ヒータ20、下ヒータ21、触媒ヒータ26の加熱手段や、冷却ファン17等を制御・駆動ができるよう接続されている。
FIG. 3 is a perspective view of the right substrate case unit 15. The configurations of the left and right substrate case units 15 are substantially symmetrical, and will be described using the right side. The substrate case unit 15 is provided with a cooling fan 17 and houses a control circuit board 16 on which electronic components are mounted.
The control board circuit 16 receives the instructions accompanying the operation from the top panel operation unit 5 and the front operation unit 9 and the output of the temperature sensor 24, and the heater 11, induction heating coil 10, cooking chamber 18 upper heater 20, lower heater 21, catalyst The heating means of the heater 26, the cooling fan 17 and the like are connected so that they can be controlled and driven.

制御回路基板16には発熱を伴い冷却が必要な被冷却物となる部品も含まれ,冷却効率を高めるため,ヒートシンク(冷却フィン)を備えるものもある。
基板ケースユニット15は流入口から流出口に至る一体の風路として形成され、実装される部品の温度上昇を抑制し破損を防ぎ回路の機能を維持するため冷却ファン23が動作すると,後方上面の流入口より冷却風が吸引され,冷却ファン17を通過し,内部の制御回路基板16の被冷却物を冷却した後、前面側に設けられた流出口より送出され、筐体2内に配置される誘導加熱コイル等の被冷却物を冷却の後、排気口13より排気される
The control circuit board 16 includes a part that becomes an object to be cooled that generates heat and needs to be cooled. Some of the control circuit boards 16 include a heat sink (cooling fin) in order to improve cooling efficiency.
The board case unit 15 is formed as an integrated air path from the inlet to the outlet, and when the cooling fan 23 operates to suppress the temperature rise of the mounted components, prevent damage and maintain the function of the circuit, Cooling air is sucked from the inflow port, passes through the cooling fan 17, cools the object to be cooled on the internal control circuit board 16, and then is sent out from the outflow port provided on the front surface side and arranged in the housing 2. After cooling the object to be cooled such as an induction heating coil, it is exhausted from the exhaust port 13

図4は、調理器18全体を示す斜視図である。調理室18の前面には調理室扉8が配置され背面側には、調理室排気風路14が設けられている。
図5は、調理室18の天井面及び調理室扉8を取り外した状態の斜視図である。調理室18の背面には,調理室排気風路14に接続される開口が設けられている。調理室の側面前面側、背面の上方と下方に温度センサ24が設けられ、庫内の温度を検知可能としている。
調理室18の上方には上ヒータ20が配置され、その下方に被加物を載置する調理台22が配置され、その下方に下ヒータ21が配置され、その下方に受皿23が設けられる。
FIG. 4 is a perspective view showing the entire cooking device 18. A cooking chamber door 8 is disposed in front of the cooking chamber 18, and a cooking chamber exhaust air passage 14 is provided on the rear side.
FIG. 5 is a perspective view of the cooking chamber 18 with the ceiling surface and the cooking chamber door 8 removed. An opening connected to the cooking chamber exhaust air passage 14 is provided on the back surface of the cooking chamber 18. Temperature sensors 24 are provided on the front side of the side surface of the cooking chamber and above and below the back surface so that the temperature in the cabinet can be detected.
An upper heater 20 is disposed above the cooking chamber 18, a cooking table 22 on which an object is placed is disposed below the cooking chamber 18, a lower heater 21 is disposed below the cooking table 22, and a saucer 23 is disposed below the cooking heater 22.

本実施の形態においては上方加熱手段21と下方加熱手段23により調理台22に載置される被加熱物を上下方向より一度で加熱する構成としているが、上方または下方のみに加熱手段を設けてもよく、被加熱物の上下を反転させる等により同様の加熱調理は可能であり、加熱手段の数・配置によらず本発明の効果は同様に得られる。
また、本実施の形態においては、天井面にシート状にヒータを配置することや、天井面に膜状のヒータを一体的形成する等しても本発明の効果は同様に得られる。
In the present embodiment, the heating object placed on the cooking table 22 is heated at once from the vertical direction by the upper heating means 21 and the lower heating means 23, but the heating means is provided only above or below. In addition, the same cooking can be performed by reversing the top and bottom of the object to be heated, and the effect of the present invention can be obtained similarly regardless of the number and arrangement of the heating means.
In the present embodiment, the effect of the present invention can be obtained in the same manner by arranging a heater in a sheet shape on the ceiling surface or integrally forming a film heater on the ceiling surface.

図6は、本体1の調理室18部分の側面断面図を示す。
調理室18の加熱調理がおこなわれる内面側は、ショット・ブラストで微細な凹凸を形成した後、天井面はセラミックコーティングBが塗布され、底面、背面、左右側面、調理室扉8(内面側)はセラミックコーティングAが塗布されている。
部位によりコーティングの種類を変えているのは耐熱温度によるもので、ヒータ上方の天井面は450℃を越えることからセラミックコーティングBを採用している。
FIG. 6 is a side sectional view of the cooking chamber 18 portion of the main body 1.
On the inner surface where cooking is performed in the cooking chamber 18, after fine concavo-convex is formed by shot blasting, the ceiling surface is coated with ceramic coating B, and the bottom, back, left and right sides, cooking chamber door 8 (inner surface side) The ceramic coating A is applied.
The type of coating is changed depending on the part due to the heat-resistant temperature, and the ceramic coating B is adopted because the ceiling surface above the heater exceeds 450 ° C.

調理台22は化学エッチングにより微細な凹凸を形成後、セラミックコーティングAが塗布されている。化学エッチングで形成するのは調理台が細い線材を組み合わせて構成されているため、ショット・ブラストでは凹凸がうまく形成されない部位ができるためである。使用温度は概ね450℃以下であるが、調理室18の仕様や調理条件等により450℃を超える場合はセラミックコーティングBで皮膜が形成される。 The kitchen table 22 is coated with a ceramic coating A after forming fine irregularities by chemical etching. The reason why the etching is formed by chemical etching is that, since the cooking table is configured by combining thin wires, there is a portion where unevenness is not well formed by shot blasting. The operating temperature is approximately 450 ° C. or lower, but if the temperature exceeds 450 ° C. due to the specifications of the cooking chamber 18 or cooking conditions, a film is formed with the ceramic coating B.

受皿23はショット・ブラストで微細な凹凸を形成した後、セラミックコーティングAが塗布されている。使用温度は概ね450℃以下であるが、調理室18の仕様や調理条件等によって450℃を超える場合はセラミックコーティングBで皮膜が形成される。
上ヒータ20、下ヒータ21はショット・ブラストで微細な凹凸を形成した後、セラミックコーティングBが塗布されている。ヒータ表面は450℃を越えるためである。
The saucer 23 is formed with fine irregularities by shot blasting, and then a ceramic coating A is applied thereto. The operating temperature is approximately 450 ° C. or less, but if it exceeds 450 ° C. depending on the specifications of the cooking chamber 18 or cooking conditions, a film is formed with the ceramic coating B.
The upper heater 20 and the lower heater 21 are formed with fine irregularities by shot blasting and then coated with a ceramic coating B. This is because the heater surface exceeds 450 ° C.

調理室18に背面開口部に接続される調理室排気風路14はL字状の上面に開口が設けられ、排気口13に合流している。
調理室排気風路14の内面はショット・ブラストで微細な凹凸を形成した後、セラミックコーティングAが塗布されている。調理室排気風路14内には排気を浄化するための触媒25及び触媒25を加熱するための触媒ヒータ26を設けている。触媒の温度は300〜400℃に加熱し触媒の活性を高め酸化分解により排気に含まれる油煙や臭気成分の分解・浄化をおこなっており、概ねセラミックコーティングAの耐熱温度450℃を超ええることはないが、反応熱等により450℃を超える場所がある場合は触媒25や触媒ヒータ26のその場所及び周囲はコーティングBで皮膜を形成するように塗り分けても良い。
A cooking chamber exhaust air passage 14 connected to the rear opening of the cooking chamber 18 has an L-shaped upper surface and is joined to the exhaust port 13.
The inner surface of the cooking chamber exhaust air passage 14 is formed with fine irregularities by shot blasting, and then a ceramic coating A is applied thereto. A catalyst 25 for purifying exhaust gas and a catalyst heater 26 for heating the catalyst 25 are provided in the cooking chamber exhaust air passage 14. The temperature of the catalyst is heated to 300-400 ° C, and the activity of the catalyst is increased to decompose and purify oil smoke and odor components contained in the exhaust by oxidative decomposition, and the heat resistance temperature of the ceramic coating A can generally exceed 450 ° C. However, if there is a place where the temperature exceeds 450 ° C. due to reaction heat or the like, the place and the periphery of the catalyst 25 and the catalyst heater 26 may be separately coated so as to form a film with the coating B.

図7はセラミックコーティングの皮膜形成部の断面図である。
本実施の形態のセラミックコーティングはゾル・ゲル法によりシロキサン結合を持つ三次元架橋マトリックス構造の皮膜である。この構造の皮膜の一例として、サーモロン・ジャパン社のサーモロンコーティングがあげられ、SiO2、Al23、TiO2等の成分より構成される。耐熱温度450℃のコーティングAに対応する製品としてEndurance、Expert、Rocks、コーティングBに対応する耐熱温度900℃の製品としてResilienceがある。耐熱温度が450℃の製品の主な差異は皮膜の硬度や耐摩耗性の高さにより必要な仕様により適切なものが選択される。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a film forming portion of the ceramic coating.
The ceramic coating of the present embodiment is a film having a three-dimensional crosslinked matrix structure having a siloxane bond by a sol-gel method. An example of a film having this structure is Thermolon Japan Co., Ltd., which is composed of components such as SiO 2 , Al 2 O 3 , and TiO 2 . Products corresponding to Coating A having a heat resistant temperature of 450 ° C. include Resistance, Expert, Rocks, and Resilience as products having a heat resistant temperature of 900 ° C. corresponding to Coating B. The main difference between products with a heat-resistant temperature of 450 ° C is selected according to the required specifications depending on the hardness and wear resistance of the film.

このコーティングは防汚性・非粘着性を付加する目的で広く使用されるPTFEを含む皮膜と比較し、耐熱温度はPTFEの260℃よりも高いこと、PFOA・PTFE・VOCを含まず製造の制約が少ない、皮膜の硬度がPTFEを含む皮膜が鉛筆硬度H〜2Hに対して9Hと高いなどの利点がある。
セラミックコーティングは皮膜を施す基材29の被コーティング面を微細な凹凸面29とすることで、微細な凹凸に塗布したコーティング剤が入り込みそのまま硬化することで投錨効果(ファスナー効果、アンカー効果)により、密着性を高めている。
Compared with the coating containing PTFE, which is widely used for the purpose of adding antifouling property and non-adhesiveness, this coating has a heat resistance temperature higher than 260 ° C of PTFE, and does not contain PFOA, PTFE, VOC. There is an advantage that the film hardness of the film including PTFE is as high as 9H with respect to the pencil hardness H-2H.
Ceramic coating makes the coating surface of the base material 29 on which the film is applied a fine uneven surface 29, and the coating agent applied to the fine unevenness enters and cures as it is, with the anchoring effect (fastener effect, anchor effect), Increases adhesion.

ショット・ブラストにおいて凹凸を形成する場合は、研磨剤アルミナ60メッシュなどを用いて、表面粗さRa1〜4μmとすることで良好な密着性を得ることができる。
ショット・ブラストが困難な形状や、より高い皮膜の密着性・平滑性・良好な外観が求められる場合は、化学エッチングを用いて0.5〜10μmの粗度を有する面であるとともに、該面が5〜500nmの不定期な周期の超微細凹凸面で覆われた形状を形成するとより良好な皮膜・密着性を得ることができる。
When forming irregularities in shot blasting, good adhesion can be obtained by using an abrasive alumina 60 mesh or the like and having a surface roughness Ra1 to 4 μm.
When a shape that is difficult to be shot or blasted or a higher film adhesion / smoothness / good appearance is required, it is a surface having a roughness of 0.5 to 10 μm using chemical etching, and the surface is 5 When a shape covered with an ultrafine irregular surface having an irregular period of ˜500 nm is formed, a better film and adhesion can be obtained.

コーティング剤を塗布後、180〜310℃で焼成することにより、20〜50μmの膜厚の皮膜が形成される。PTFCの硬化温度が400℃程度に比べ低温で硬化することから、設備の耐熱性が低くて良いことや、焼成にかかるエネルギーコストが減らせるなど利点もある。
皮膜は単層で用いても良いが透明度の高いセラミックコーティングを積層してもよい。
After coating the coating agent, it is baked at 180 to 310 ° C. to form a film having a thickness of 20 to 50 μm. Since the curing temperature of PTFC is cured at a temperature lower than about 400 ° C., there are advantages such as low heat resistance of the equipment and reduction in energy cost for firing.
The film may be used as a single layer or may be laminated with a highly transparent ceramic coating.

セラミックコーティングは、各部品の強度・形状・密着性・仕上がりにより凹凸の形成手段が選択され、各部品が配置される環境での使用温度より高い耐熱温度の仕様のセラミックコーティングを選択し皮膜を形成していることは個別に説明したとおりである。 As for ceramic coating, a method to form irregularities is selected depending on the strength, shape, adhesion, and finish of each part, and a ceramic coating with a heat resistance specification higher than the operating temperature in the environment where each part is placed is selected to form a film This is as explained individually.

次に加熱調理器の加熱手段の動作について説明する。
このように構成された加熱調理器においては、天板操作部5や前面操作部9が操作され加熱調理の指示がなされると、制御回路基板16は、誘導加熱コイル10やヒータ11や調理室18内の加熱手段が制御・駆動され加熱調理がおこなわれる。天板3のプレート6に載置された被加熱物である食材等が投入された調理容器等を誘導加熱コイル10やヒータ11による加熱調理の動作については既に個別に説明した通りである。
Next, the operation of the heating means of the cooking device will be described.
In the heating cooker configured as described above, when the top panel operation unit 5 or the front operation unit 9 is operated to instruct heating cooking, the control circuit board 16 is connected to the induction heating coil 10, the heater 11, or the cooking chamber. The heating means in 18 is controlled and driven, and cooking is performed. The operation of cooking by the induction heating coil 10 or the heater 11 for the cooking container or the like in which the food to be heated placed on the plate 6 of the top plate 3 is put is as already described individually.

調理室18内の加熱調理時の調理室内の状況について説明する。
調理室18内において、被加熱物は天板操作部5または前面操作部9で選択された調理メニューにより、上方ヒータ20と下ヒータ21は制御され、調理台22に載置された被加熱物は加熱され調理される。被加熱物は魚等の食材そのままでも、ラッピングされたものや調理容器等の収納されたものでもよい。
The situation inside the cooking chamber during cooking in the cooking chamber 18 will be described.
In the cooking chamber 18, the object to be heated is controlled by the cooking menu selected by the top panel operation unit 5 or the front operation unit 9, and the upper heater 20 and the lower heater 21 are controlled, and the object to be heated placed on the cooking table 22 Is heated and cooked. The object to be heated may be a food material such as fish as it is, or may be a wrapped product or a cooking container.

本実施の形態においては、調理室18の加熱手段である上ヒータ20、下ヒータ21は、ジュール熱により発熱するシーズヒータであるが、加熱手段はこれに限定するものではなく、カーボンヒータ、フラットヒータ、天井面と一体的に形成される薄膜ヒータ等のヒータや、マグネトロンを用いる電波加熱、電磁誘導加熱、過加熱水蒸気による加熱でも良くこれに限定するものではない。
また、本実施の形態においては、調理室18は複合加熱調理器の一部であるが、調理室18は独立した加熱調理器としてもよく、トースタ、ロースター、電子レンジ、オーブンレンジ、スチームオーブン、ガスオーブン、コンベクションオーブンのいずれかまたは、複数の加熱手段を備えたものでもよく同様の効果は得られる。
In the present embodiment, the upper heater 20 and the lower heater 21 that are heating means of the cooking chamber 18 are sheathed heaters that generate heat by Joule heat. However, the heating means is not limited to this, and a carbon heater, a flat heater A heater such as a heater or a thin film heater formed integrally with the ceiling surface, radio wave heating using a magnetron, electromagnetic induction heating, or heating with superheated steam may be used, but the present invention is not limited thereto.
In the present embodiment, the cooking chamber 18 is a part of a combined cooking device, but the cooking chamber 18 may be an independent cooking device, such as a toaster, roaster, microwave oven, microwave oven, steam oven, Any one of a gas oven, a convection oven, or a plurality of heating means may be used, and the same effect can be obtained.

調理室18内で加熱調理がなされると被加熱物である食材から油煙や臭気成分が発生するとともに、食材からの汁気や脂分が飛散し受皿23や下ヒータ21と接触して揮発し油煙や臭気成分が発生して調理室18内に拡散するとともに受皿23や下ヒータ21に付着して汚すこととなる。
また、飛散した汁気や脂分、拡散した油煙や臭気成分の一部は調理室18内面、前面扉内面に付着・吸着して内面を汚すこととなる。
また、油煙や臭気成分は調理室18背面から調理室排気風路14へ排気され、触媒ヒータ26に加熱された触媒25により一部を分解・浄化して濃度を低減した後、調理室排気風路14を通過して排気口13より吸排気カバー7を経て筐体外へ排気される。この時、調理室排気風路14内面や吸排気カバー7に残留した油煙や臭気成分等が付着しこれらを汚すこととなる。
When cooking is performed in the cooking chamber 18, oily smoke and odor components are generated from the food that is to be heated, and the juice and fat from the food are scattered and volatilized in contact with the saucer 23 and the lower heater 21. Oil smoke and odor components are generated and diffused into the cooking chamber 18 and adhere to the tray 23 and the lower heater 21 and become dirty.
In addition, scattered sap and fat, part of the diffused smoke and odor components adhere to and adsorb on the inner surface of the cooking chamber 18 and the inner surface of the front door, thereby contaminating the inner surface.
In addition, oil smoke and odor components are exhausted from the back of the cooking chamber 18 to the cooking chamber exhaust air passage 14 and partially decomposed and purified by the catalyst 25 heated by the catalyst heater 26 to reduce the concentration. It passes through the passage 14 and is exhausted from the exhaust port 13 through the intake / exhaust cover 7 to the outside of the housing. At this time, oily smoke, odor components, etc. remaining on the inner surface of the cooking chamber exhaust air passage 14 and the intake / exhaust cover 7 are attached and contaminated.

次に加熱調理後に必要な清掃・洗浄等のメンテナンスが必要な部位とセラミックコーティングの位置を説明する。
調理室18内面、調理室扉8内面、調理室18の構成部品である上ヒータ20、下ヒータ21、調理台22、受皿23、調理室排気風路14の内面、天板3を構成する部品である天板枠4、プレート6、吸排気口カバー7があげられ、これらは各部品の形状や強度に応じてショット・ブラストまたは化学エッチングにより微細な凹凸が形成されたた後、使用部位の温度に応じた耐熱温度のセラミックコーティンAまたはセラミックコーティングBの皮膜が形成されている。
Next, the parts that require maintenance such as cleaning and washing required after cooking and the position of the ceramic coating will be described.
Cooking chamber 18 inner surface, cooking chamber door 8 inner surface, upper heater 20, lower heater 21, cooking table 22, saucer 23, inner surface of cooking chamber exhaust air passage 14 and components constituting top plate 3 The top plate frame 4, the plate 6, and the air intake / exhaust port cover 7 are raised, and after these fine irregularities are formed by shot blasting or chemical etching according to the shape and strength of each part, A film of the ceramic coating A or the ceramic coating B having a heat resistant temperature corresponding to the temperature is formed.

以上の構成を有する加熱調理器においては、ヒータ11、上ヒータ20、下ヒータ21、誘導加熱コイル10の加熱手段と、加熱調理をおこなう調理室18及び調理をおこなう調理容器を載置する天板3を備え、調理室18を構成するとともに内部に配置される部品である、調理室18の内面、調理室扉8内面、調理台22、受皿23、上ヒータ20、下ヒータ21、調理室排気風路14、及び天板3を構成する天板枠4、プレート6、吸排気口カバー7の表面に微細な凹凸を設け、ゾル・ゲル法によりシロキサン結合を持つ三次元架橋マトリックス構造のセラミックコーティング皮膜を形成したことにより、PTFEを含む皮膜が使用できない260℃以上となる場合もある上記部品にも防汚性・非粘着性を持たせることができ、清掃性・洗浄性が高まるとともにPTFE皮膜の形成に係わる制約を受けないことや、PTFE皮膜よりも硬度が高く耐久性に優れることや、PTFE皮膜よりも硬化温度が低いことから設備やエネルギーが低コストとなることからメンテナンス性に優れ製造性の良い耐久性のある安価な加熱調理器とすることができる。調理容器の内面に同様にセラミックコーティングの皮膜を形成し、下方に加熱手段を持つホットプレートや炊飯器においても同様の効果は得られる。
In the heating cooker having the above-described configuration, the heating means of the heater 11, the upper heater 20, the lower heater 21, the induction heating coil 10, the cooking chamber 18 for performing cooking, and the top plate on which the cooking container for performing cooking is placed. 3, which constitutes the cooking chamber 18 and is disposed inside, the inner surface of the cooking chamber 18, the inner surface of the cooking chamber door 8, the cooking table 22, the saucer 23, the upper heater 20, the lower heater 21, and the cooking chamber exhaust Three-dimensional cross-linked matrix structure ceramic coating with fine undulations on the surface of the airflow path 14 and the top plate frame 4, plate 6, and intake / exhaust port cover 7 constituting the top plate 3 and having siloxane bonds by the sol-gel method Due to the formation of a film, the above-mentioned parts, which may be used at a temperature of 260 ° C. or higher where a film containing PTFE cannot be used, can be given antifouling properties and non-adhesive properties, and the PTFE film can be cleaned and improved Involved in the formation of It is excellent in maintainability and has good manufacturability because it is harder than PTFE coating, has excellent durability and has a lower curing temperature than PTFE coating, and the equipment and energy are low in cost. A durable and inexpensive cooking device can be obtained. The same effect can be obtained also in a hot plate or rice cooker in which a ceramic coating film is similarly formed on the inner surface of the cooking vessel and the heating means is provided below.

また、被コーティング面をショット・ブラストを用い微細な凹凸を形成し、表面粗さをRa1〜4μmとしたことにより、セラミックコーティング皮膜の密着性が高まり、清掃や洗浄に伴う皮膜の剥がれ等を抑制でき、良好なメンテナン性を長期間維持でき、製品寿命の長い加熱調理器とすることができる。調理容器の内面に同様にセラミックコーティングの皮膜を形成し、下方に加熱手段を持つホットプレートや炊飯器においても同様の効果は得られる。 In addition, the surface to be coated is shot and blasted to form fine irregularities and the surface roughness is Ra1 ~ 4μm, which improves the adhesion of the ceramic coating film and suppresses the peeling of the film due to cleaning and cleaning. In addition, good maintainability can be maintained for a long time, and a cooking device having a long product life can be obtained. The same effect can be obtained also in a hot plate or rice cooker in which a ceramic coating film is similarly formed on the inner surface of the cooking vessel and the heating means is provided below.

また、化学エッチングを用い微細な凹凸を形成し、0.5〜10μmの粗度を有する面であるとともに、該面が5〜500nmの不定期な周期の超微細凹凸面で覆われた形状としセラミックコーティング皮膜を形成することにより、強度が不足してショット・ブラストでは破損の恐れがあり凹凸の形成が難しい結晶化ガラス板やセラミック板等が使用されるプレート6や、ショット・ブラストでは凹凸が形成しにくい形状や部位が存在する調理台22や吸排気口カバー7等のより多くの部位に防汚性・非粘着性を付与できるとともに、天板枠4においてはショット・ブラストで形成した凹凸に皮膜を形成するより、人目につく天板の外観の仕上がり良好にできるとともに、清掃頻度が多い天板においても、より表面の平滑度が高くでき清掃性・洗浄性が向上するとともに、密着性もより向上し耐久性も向上することから、メンテナン性の良い、外観品質の優れた長寿命の加熱調理とすることができる。炭素、陶器、磁器といった強度不足が懸念される素材で形成された調理容器の内面に同様にセラミックコーティングの皮膜を形成し、下方に加熱手段を持つホットプレートや炊飯器においても同様の効果は得られる。 In addition, it is a surface that has fine irregularities formed by chemical etching and has a roughness of 0.5 to 10 μm, and the surface is covered with an ultrafine irregular surface with an irregular period of 5 to 500 nm, and a ceramic coating By forming a film, unevenness is formed in the plate 6 that uses a crystallized glass plate or ceramic plate that is difficult to form unevenness due to insufficient strength and shot blasting, or in shot blasting. Antifouling and non-adhesive properties can be imparted to more parts such as the countertop 22 and the intake / exhaust port cover 7 where there are difficult shapes and parts, and the top plate frame 4 is coated with irregularities formed by shot blasting. It is possible to improve the appearance of the top board that can be seen by people, and to improve the cleanliness and cleanability of the top board that is frequently cleaned. To, since the adhesion both improved further improved durability, can be good maintenance property, and cooking excellent long life appearance quality is. The same effect can be obtained with a hot plate or rice cooker that has a coating of ceramic coating on the inner surface of a cooking vessel made of carbon, earthenware, porcelain, or other material that may be insufficient in strength. It is done.

また、部品の種類により微細な凹凸の形成手段が異なるようにしたことから、部品・部位ごとに適切な皮膜の密着性・外観とすることができるとともに、すべての部品を加工コストの高い化学エッチングとする場合に比べ、ショット・ブラストを組合せることにより適切な品質の低コストな加熱調理器とすることができる。 In addition, since the method of forming fine irregularities differs depending on the type of parts, it is possible to achieve appropriate film adhesion and appearance for each part and part, and chemical etching with high processing costs for all parts Compared to the case, it is possible to obtain a low-cost heating cooker of appropriate quality by combining shot blasting.

また、部品の種類、配置される位置により、セラミックコーティング皮膜の耐熱グレードが異なるようにしたことから、耐熱温度が450℃のコーティングAでは防汚性・非粘着性が付与できない調理室18天井面内側、上ヒータ20、下ヒータ21にも耐熱温度900℃のコーティングBを用いることで防汚性・非粘着性を付与できることから清掃性・洗浄性が向上しメンテナンス性の良い加熱調理器とすることができる。 In addition, because the heat resistance grade of the ceramic coating film is different depending on the type and location of the parts, the cooking chamber 18 ceiling surface where anti-fouling and non-adhesive properties cannot be imparted with coating A with a heat resistance temperature of 450 ° C The inside, upper heater 20, and lower heater 21 can be given antifouling and non-adhesive properties by using coating B with a heat-resistant temperature of 900 ° C. be able to.

実施の形態2.
実施形態1と同じ図1〜7を用いて、実施の形態2を説明する。実施の形態1とは加熱手段の制御とセラミックコーティングの皮膜の種類が一部の部品・部位で異なるのみなので異なる部分を主に記載する。実施の形態1においては、部品及び部位の使用温度により、セラミックコーティングAとセラミックコーティングBと皮膜を分けて塗布する場合があった。
例えば、プレート6においては加熱手段のヒータ11、誘導加熱コイル10の上方で非加熱物が載置される部分及びその周囲で温度が450℃を超える可能性がある場合はその部位をセラミックコーティングBで皮膜を形成している。
Embodiment 2. FIG.
The second embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 7 which are the same as the first embodiment. Since the first embodiment differs from the first embodiment only in the control of the heating means and the kind of the coating film of the ceramic coating, the different parts are mainly described. In the first embodiment, the ceramic coating A, the ceramic coating B, and the film may be applied separately depending on the use temperatures of the parts and parts.
For example, in the plate 6, the portion where the non-heated object is placed above the heater 11 of the heating means and the induction heating coil 10 and the temperature around the portion may exceed 450 ° C. A film is formed.

また、調理室18内面においても、天井面は高温となった空気の浮力による上昇や上ヒータ20と近接により450℃を越える場合があり、天井面はセラミックコーティングBで皮膜を形成している。
本実施の形態においては、プレート6上での加熱調理において、載置する調理容器の温度を検出するための温度センサが被加熱物を載置する位置の下方、プレート下に設けられている(図示せず)。
Also, in the inner surface of the cooking chamber 18, the ceiling surface may exceed 450 ° C. due to a rise due to the buoyancy of air that has become hot or close to the upper heater 20, and the ceiling surface is formed with a ceramic coating B.
In the present embodiment, in heat cooking on the plate 6, a temperature sensor for detecting the temperature of the cooking container to be placed is provided below the plate to be heated and below the plate ( Not shown).

温度センサはプレート6の底面に接触しプレート6を介して温度を測定する接触式のサーミスタを用いたものと被加熱物から放射される赤外線量を検出し被加熱物の温度を測定する赤外線センサを用いた非接触式のものがある。どちらを搭載するかは、求められる測定精度や応答性、製造コストにより適切に選択されればよくどちらのタイプでも同様の動作・効果は得られる。 The temperature sensor uses a contact thermistor that contacts the bottom surface of the plate 6 and measures the temperature via the plate 6, and an infrared sensor that detects the amount of infrared rays emitted from the heated object and measures the temperature of the heated object There is a non-contact type using. Which type is to be mounted may be selected appropriately depending on the required measurement accuracy, responsiveness, and manufacturing cost, and the same operation and effect can be obtained with either type.

制御回路基板16は温度センサの出力より、載置される被加熱物の温度を測定しており、センサの出力または被加熱物の測定温度から被加熱物が載置され接触するセラミックコーティングの温度を所定の換算により温度を推測する。
制御回路基板16は温度センサの出力よりセラミックコーティングの皮膜の温度が450℃を超える可能性がある判断した場合、温度センサが検知している加熱手段(ヒータ11及び左右の誘導加熱コイル10のいずれか)の出力を450℃未満となるような制御を行う。
これにより、セラミックコーティングの皮膜の温度は450℃未満とすることができ、被加熱物の空焚き等のトラブルにおいても450℃以上となることが防げ、耐熱温度が450℃のセラミックコーティングAのみでプレート6全体の皮膜を形成している。
The control circuit board 16 measures the temperature of the object to be heated from the output of the temperature sensor, and the temperature of the ceramic coating on which the object to be heated is placed and contacts from the output of the sensor or the measured temperature of the object to be heated. The temperature is estimated by a predetermined conversion.
When the control circuit board 16 determines that the temperature of the ceramic coating film may exceed 450 ° C from the output of the temperature sensor, the heating means detected by the temperature sensor (either the heater 11 or the left and right induction heating coils 10) The output is controlled to be less than 450 ° C.
As a result, the temperature of the ceramic coating film can be made less than 450 ° C, and it can be prevented from exceeding 450 ° C even in troubles such as emptying of the object to be heated, and only with the ceramic coating A having a heat resistant temperature of 450 ° C. A film of the entire plate 6 is formed.

同様に、調理室18においても温度センサ24を背面及び側面に設けており、温度センサ24の出力より、調理室18内面に施されたセラミックコーティングの皮膜の温度を450℃未満となるように、上ヒータ20及び下ヒータ21の出力が制御回路基板16からコントロールされることから、調理室18内面の皮膜をセラミックコーティングAのみで形成している。 Similarly, in the cooking chamber 18, the temperature sensor 24 is provided on the back surface and the side surface, and from the output of the temperature sensor 24, the temperature of the coating of the ceramic coating applied to the inner surface of the cooking chamber 18 is less than 450 ° C. Since the outputs of the upper heater 20 and the lower heater 21 are controlled from the control circuit board 16, the coating on the inner surface of the cooking chamber 18 is formed only by the ceramic coating A.

本実施の形態においては、プレート6と調理室18内面を例に説明したが、温度センサの出力による加熱手段の制御がなされれば、他のセラミックコーティングの皮膜を形成している部位・部品についても同様の効果は得られ、これに限定するものではない。
また、本実施の形態においては、調理室18の加熱手段である上ヒータ20、下ヒータ21は、ジュール熱により発熱するシーズヒータであるが、加熱手段はこれに限定するものではなく、カーボンヒータ、フラットヒータ、天井面と一体的に形成される薄膜ヒータ等のヒータや、マグネトロンを用いる電波加熱、電磁誘導加熱、過加熱水蒸気による加熱でも良くこれに限定するものではない。
また、本実施の形態においては、調理室18は複合加熱調理器の一部であるが、調理室18は独立した加熱調理器としてもよく、トースタ、ロースター、電子レンジ、オーブンレンジ、スチームオーブン、ガスオーブン、コンベクションオーブンのいずれかまたは、複数の加熱手段を備えたものでも同様の効果は得られる。
In the present embodiment, the plate 6 and the inner surface of the cooking chamber 18 have been described as examples. However, if the heating means is controlled by the output of the temperature sensor, other parts / parts forming a ceramic coating film The same effect can be obtained, but the present invention is not limited to this.
Further, in the present embodiment, the upper heater 20 and the lower heater 21 that are heating means of the cooking chamber 18 are sheathed heaters that generate heat due to Joule heat, but the heating means is not limited to this, and the carbon heater The heater may be a flat heater, a thin film heater formed integrally with the ceiling surface, radio wave heating using a magnetron, electromagnetic induction heating, or heating by superheated steam, but is not limited thereto.
In the present embodiment, the cooking chamber 18 is a part of a combined cooking device, but the cooking chamber 18 may be an independent cooking device, such as a toaster, roaster, microwave oven, microwave oven, steam oven, The same effect can be obtained with either a gas oven or a convection oven, or with a plurality of heating means.

以上の構成を有する加熱調理器においては,温度センサとしてプレート6に載置される被加熱物用の温度センサ及び調理室18用の温度センサ24と操作パネルである天板操作部5と前面操作部9と制御回路である制御回路基板16を備え、操作パネルが操作され加熱手段であるヒータ11、誘導加熱コイル10、上ヒータ20、下ヒータ21のいずれかまたは複数の動作を伴う指示がなされた場合、制御回路は温度センサの情報から加熱手段を制御し、セラミックコーティング皮膜が形成された部品が所定のセラミックコーティングの耐熱温度未満となるよう制御することより、単一の皮膜とすることができコーティングを塗り分ける手間が省け低コストで皮膜を形成することができるとともに、防汚性・非粘着性に優位な耐熱温度の低いセラミックコーティングで皮膜を形成することにより清掃性・洗浄性が高まり、安価でメンテナンス性の良い加熱調理器とすることができる。 In the cooking device having the above-described configuration, the temperature sensor for the object to be heated placed on the plate 6 as the temperature sensor, the temperature sensor 24 for the cooking chamber 18, the top panel operating unit 5 as the operation panel, and the front panel operation. Unit 9 and a control circuit board 16 that is a control circuit, and an operation panel is operated and instructions accompanied by one or more operations of a heater 11 that is a heating means, an induction heating coil 10, an upper heater 20, and a lower heater 21 are made. In this case, the control circuit controls the heating means from the information of the temperature sensor, and controls the part on which the ceramic coating film is formed to be below the heat resistance temperature of the predetermined ceramic coating, so that a single film can be obtained. A ceramic coating with a low heat-resistant temperature that is superior in antifouling properties and non-adhesiveness as well as being able to form a coating at low cost, eliminating the need to separate coatings. Increased cleaning properties, washability by forming a film, can be a maintenance of good heating cooker at a low cost.

実施の形態3.
図1〜6、8を用いて,実施の形態3を説明する。実施の形態1とは冷却ファン17の制御、冷却風の流れ、セラミックコーティングの皮膜の種類が一部の部位・部品で異なるのみなので異なる部分を主に記載する。
実施の形態1においては、部品及び部位の使用温度により、セラミックコーティングAとセラミックコーティングBと皮膜を分けて塗布する場合があった。
例えば、調理室18内面においては、天井面は高温となった空気の浮力による上昇や上ヒータ20と近接することから450℃を越える場合があり、天井面はセラミックコーティングBで皮膜を形成し、他の内面はセラミックコーティングAで皮膜を形成している。
Embodiment 3 FIG.
Embodiment 3 will be described with reference to FIGS. Since the control of the cooling fan 17, the flow of cooling air, and the kind of the coating film of the ceramic coating differ from the first embodiment only in some parts / parts, different parts are mainly described.
In the first embodiment, the ceramic coating A, the ceramic coating B, and the film may be applied separately depending on the use temperatures of the parts and parts.
For example, on the inner surface of the cooking chamber 18, the ceiling surface may exceed 450 ° C. due to the rise due to the buoyancy of air that has become hot or close to the upper heater 20, and the ceiling surface forms a film with the ceramic coating B, The other inner surface is coated with a ceramic coating A.

本実施の形態においては、図8に示す7調理室収納部19の天井面及び側面に、調理室収納部通風口27を設け、基板ケースユニット15に配置される冷却ファンから送出される冷却風を調理室収納部19と調理室18の空間へ調理室収納部通風口27から流入させている。特に調理室18の天井面が冷却される冷却風の流れが形成されるように調理室収納部通風口27の開口位置・開口面積を設定・調整している。冷却風による調理室18の天井面の冷却により、天井面のセラミックコーティングの皮膜温度をセラミックーティングAの耐熱温度450℃未満となり、セラミックコーティングAのみで調理室18内面のすべての皮膜を形成している。 In the present embodiment, the cooking chamber storage section ventilation opening 27 is provided on the ceiling surface and side surface of the seven cooking chamber storage section 19 shown in FIG. 8, and the cooling air sent from the cooling fan disposed in the substrate case unit 15 is used. Is allowed to flow into the space between the cooking chamber storage unit 19 and the cooking chamber 18 from the cooking chamber storage unit vent 27. In particular, the opening position / opening area of the cooking chamber storage section vent 27 is set and adjusted so that a flow of cooling air that cools the ceiling surface of the cooking chamber 18 is formed. Cooling of the ceiling surface of the cooking chamber 18 with cooling air reduces the coating temperature of the ceramic coating on the ceiling surface to less than 450 ° C of the ceramic coating A, and all coatings on the inner surface of the cooking chamber 18 are formed only with the ceramic coating A. ing.

本実施の形態においては、調理室18天井面を例に説明したが、冷却ファン17を備え冷却風がセラミックコーティングの皮膜が形成される部品に接触していれば、他のセラミックコーティングの皮膜を形成している部位・部品についても同様の効果は得られ、これに限定するものではない。
また、本実施の形態においては、調理室18の加熱手段である上ヒータ20、下ヒータ21は、ジュール熱により発熱するシーズヒータであるが、加熱手段はこれに限定するものではなく、カーボンヒータ、フラットヒータ、天井面と一体的に形成される薄膜ヒータ等のヒータや、マグネトロンを用いる電波加熱、電磁誘導加熱、過加熱水蒸気による加熱でも良くこれに限定するものではない。
In the present embodiment, the ceiling surface of the cooking chamber 18 has been described as an example. However, if the cooling fan 17 is provided and the cooling air is in contact with the part on which the ceramic coating film is formed, another ceramic coating film is used. The same effect can be obtained with respect to the formed parts and components, and the present invention is not limited to this.
Further, in the present embodiment, the upper heater 20 and the lower heater 21 that are heating means of the cooking chamber 18 are sheathed heaters that generate heat due to Joule heat, but the heating means is not limited to this, and the carbon heater The heater may be a flat heater, a thin film heater formed integrally with the ceiling surface, radio wave heating using a magnetron, electromagnetic induction heating, or heating by superheated steam, but is not limited thereto.

また、本実施の形態においては、調理室18は複合加熱調理器の一部であるが、調理室18は調理室収納部19を製品の外郭とすると、冷却ファンを備え調理室18と外郭の空間に冷却風が流れていれば、独立した加熱調理器としても同様の構成要件となり、トースタ、ロースター、電子レンジ、オーブンレンジ、スチームオーブン、ガスオーブン、コンベクションオーブンのいずれかまたは、複数の加熱手段を備えたものにおいてに、セラミックコーティングされた部品に冷却風が接触していれば同様の効果は得られる。 Further, in the present embodiment, the cooking chamber 18 is a part of the combined cooking device. However, the cooking chamber 18 includes a cooling fan when the cooking chamber storage unit 19 is an outer shell of the product, and includes the cooking chamber 18 and the outer shell. If the cooling air is flowing in the space, it will be the same as an independent heating cooker, and it will be a toaster, roaster, microwave oven, microwave oven, steam oven, gas oven, convection oven, or multiple heating means If the cooling air is in contact with the ceramic-coated part, the same effect can be obtained.

以上の構成を有する加熱調理器においては,冷却ファン17を備え、冷却ファン17からの送風により、セラミックコーティング皮膜が形成された部品である調理室18天井面を冷却することにより、セラミックコーティング皮膜が形成された部品が所定のセラミックコーティングの耐熱温度未満となるよう冷却され、コーティングを塗り分ける手間が省け低コストで皮膜を形成することができるとともに、防汚性・非粘着性に優位なセラミックコーティングAで皮膜を形成することにより清掃性・洗浄性が高まり、安価でメンテナンス性の良い加熱調理器とすることができる。 In the heating cooker having the above-described configuration, the cooling fan 17 is provided, and the ceramic coating film is formed by cooling the ceiling surface of the cooking chamber 18, which is a part on which the ceramic coating film is formed, by blowing air from the cooling fan 17. The formed parts are cooled so that they are below the heat resistance temperature of the specified ceramic coating, and it is possible to form a film at low cost without the trouble of coating the coating, and it is superior in antifouling and non-adhesive properties. By forming the film with A, the cleaning property / cleaning property is improved, and the cooking device can be inexpensive and has good maintainability.

実施の形態4.
図1〜6、8を用いて,実施の形態4を説明する。実施の形態3とは冷却ファン17の制御、及びそれに伴う冷却風の風量が異なるのみなので異なる部分を主に記載する。
実施の形態3においては、調理室18天井内面のセラミックコーティングAの皮膜の温度とは関係無く、冷却ファン17は制御されていた。冷却ファン17の風量が小風量の条件で制御されている場合においても、セラミックコーティングAの耐熱温度未満となるように調理室収納部通風口27からの流入するよう導風しているため、冷却ファン17の風量が大風量の条件で制御された場合、導風される風量が必要以上となり冷却され過ぎてしまい、調理室18内の加熱効率が低下して無駄に上ヒータ20及び下ヒータ21の出力を上がなくてはならず消費電力が増加することや、調理に要する時間が長くなる場合がある。
Embodiment 4 FIG.
A fourth embodiment will be described with reference to FIGS. Since only the control of the cooling fan 17 and the flow rate of the cooling air accompanying the third embodiment are different from the third embodiment, the different portions are mainly described.
In the third embodiment, the cooling fan 17 is controlled regardless of the temperature of the coating of the ceramic coating A on the ceiling inner surface of the cooking chamber 18. Even when the air volume of the cooling fan 17 is controlled under the condition of a small air volume, since the air is introduced from the cooking chamber storage section vent 27 so as to be lower than the heat resistance temperature of the ceramic coating A, the cooling fan 17 is cooled. When the air volume of the fan 17 is controlled under the condition of a large air volume, the air volume to be guided is more than necessary and is overcooled, the heating efficiency in the cooking chamber 18 is reduced, and the upper heater 20 and the lower heater 21 are wasted. Must be increased, power consumption may increase, and cooking time may increase.

本実施の形態においては、調理室18内の背面及び側面に設けられた温度センサ24の出力より、調理室18内面に施されたセラミックコーティングの皮膜の温度を推測し、450℃未満となるように冷却ファン17の風量を制御回路基板16から風量制御することにより、調理室18内面のセラミックコーティングの皮膜温度をセラミックコーティングAの耐熱温度を超えそうな場合は冷却風量を増加させ、所定の温度以下となった場合は冷却風量を低下させることで、無駄な冷却を抑制している。 In the present embodiment, the temperature of the ceramic coating film applied to the inner surface of the cooking chamber 18 is estimated from the outputs of the temperature sensors 24 provided on the back and side surfaces of the cooking chamber 18 so that the temperature is less than 450 ° C. In addition, by controlling the air volume of the cooling fan 17 from the control circuit board 16, if the coating temperature of the ceramic coating on the inner surface of the cooking chamber 18 is likely to exceed the heat resistance temperature of the ceramic coating A, the cooling air volume is increased to a predetermined temperature. When it becomes below, useless cooling is suppressed by reducing the amount of cooling air.

本実施の形態においては、調理室18天井面を例に説明したが、冷却ファン17を備え冷却風がセラミックコーティングの皮膜が形成される部品に接触しているとともに、温度センサ24を備えその出力より冷却ファン17が制御されていれば、他のセラミックコーティングの皮膜を形成している部位・部品についても同様の動作・効果は得られ、これに限定するものではない。
また、本実施の形態においては、温度センサ24の出力より冷却ファン17の風量を制御しているが、実施の形態2のように上ヒータ20や下ヒータ21の制御も併せておこなってもよく、これにより、さらに消費電力が少なく短時間の調理とすることも可能である。
In the present embodiment, the ceiling surface of the cooking chamber 18 has been described as an example. However, the cooling fan 17 is provided and the cooling air is in contact with the part on which the ceramic coating film is formed, and the temperature sensor 24 is provided and its output. If the cooling fan 17 is more controlled, the same operation and effect can be obtained for other parts and parts on which the ceramic coating film is formed, and the present invention is not limited to this.
In the present embodiment, the air volume of the cooling fan 17 is controlled by the output of the temperature sensor 24, but the upper heater 20 and the lower heater 21 may also be controlled as in the second embodiment. Thus, it is possible to make cooking with less power consumption and a short time.

また、本実施の形態においては、調理室18の加熱手段である上ヒータ20、下ヒータ21は、ジュール熱により発熱するシーズヒータであるが、加熱手段はこれに限定するものではなく、カーボンヒータ、フラットヒータ、天井面と一体的に形成される薄膜ヒータ等のヒータや、マグネトロンを用いる電波加熱、電磁誘導加熱、過加熱水蒸気による加熱でも良くこれに限定するものではない。
また、本実施の形態においては、調理室18は複合加熱調理器の一部であるが、調理室18は調理室収納部19を製品の外郭とすると、冷却ファンを備え調理室18と外郭の空間に冷却風が流れていれば、独立した加熱調理器としても同様の構成要件となり、トースタ、ロースター、電子レンジ、オーブンレンジ、スチームオーブン、ガスオーブン、コンベクションオーブンのいずれかまたは、複数の加熱手段を備えたものにおいてに、セラミックコーティングされた部品に冷却風が接触していれば同様の効果は得られる。
Further, in the present embodiment, the upper heater 20 and the lower heater 21 that are heating means of the cooking chamber 18 are sheathed heaters that generate heat due to Joule heat, but the heating means is not limited to this, and the carbon heater The heater may be a flat heater, a thin film heater formed integrally with the ceiling surface, radio wave heating using a magnetron, electromagnetic induction heating, or heating by superheated steam, but is not limited thereto.
Further, in the present embodiment, the cooking chamber 18 is a part of the combined cooking device. However, the cooking chamber 18 includes a cooling fan when the cooking chamber storage unit 19 is an outer shell of the product, and includes the cooking chamber 18 and the outer shell. If the cooling air is flowing in the space, it will be the same configuration requirements as an independent heating cooker, either toaster, roaster, microwave oven, microwave oven, steam oven, gas oven, convection oven, or multiple heating means If the cooling air is in contact with the ceramic-coated part, the same effect can be obtained.

以上の構成を有する加熱調理器においては,冷却ファン17を備え、冷却ファン17からの送風により、セラミックコーティング皮膜が形成された部品である調理室18天井面を冷却するとともに、温度センサ24と操作パネルである天板操作部5と前面操作部9と制御回路である制御回路基板16を備え、操作パネルが操作され加熱手段である上ヒータ20、下ヒータ21のいずれかまたは複数の動作を伴う指示がなされた場合、制御回路は温度センサ24の出力から冷却ファン17を制御し、セラミックコーティング皮膜が形成された部品が所定のセラミックコーティングの耐熱温度未満となるよう冷却風量を制御することより、単一の皮膜とすることができコーティングを塗り分ける手間が省け低コストで皮膜を形成することができるとともに、防汚性・非粘着性に優位なセラミックコーティングAで皮膜を形成することにより清掃性・洗浄性が高まる、更には調理室18を必要以上に冷却しないことから、調理に必要な電力量を削減できるとともに調理時間を短縮できることから、安価でメンテナンス性の良く省エネで短時間調理で省時間な加熱調理器とすることができる。 The heating cooker having the above configuration includes the cooling fan 17 and, by blowing air from the cooling fan 17, cools the ceiling surface of the cooking chamber 18, which is a part on which the ceramic coating film is formed, and operates with the temperature sensor 24. It is equipped with a top panel operation section 5 that is a panel, a front operation section 9, and a control circuit board 16 that is a control circuit, and the operation panel is operated and accompanied by the operation of one or more of the upper heater 20 and the lower heater 21 that are heating means. When instructed, the control circuit controls the cooling fan 17 from the output of the temperature sensor 24, and controls the amount of cooling air so that the part on which the ceramic coating film is formed is less than the predetermined heat resistance temperature of the ceramic coating. The film can be formed as a single film, eliminating the need to separate the coatings, and can be formed at low cost. By forming a film with the superior ceramic coating A, the cleanability and detergency increase, and the cooking chamber 18 is not cooled more than necessary, so that the amount of electric power required for cooking can be reduced and the cooking time can be shortened. It can be used as a cooking device that is inexpensive, has good maintainability, saves energy, and cooks for a short time.

本発明は、業務用及び家庭用の加熱調理器に利用することができる。 The present invention can be used for commercial and household cooking devices.

1 本体、2 筐体、3 天板、4 天板枠、5 天板操作部、6 プレート、
7 吸排気口カバー、8 調理室扉、9 前面操作部、10 誘導加熱コイル、
11 ヒータ、12 吸気口、13 排気口、14 調理室排気風路、
15 基板ケースユニット、16 制御回路基板、17 冷却ファン、
18 調理室、19 調理室収納部、20 上ヒータ、21 下ヒータ、
22 調理台、23 受皿、24 温度センサ、25 触媒、26 触媒ヒータ、
27 調理室収納部通風口、28 基材、29 凹凸面、
30 セラミックコーティング
1 Main body, 2 housing, 3 top plate, 4 top plate frame, 5 top plate operation section, 6 plate,
7 Intake / exhaust port cover, 8 Cooking chamber door, 9 Front operation part, 10 Induction heating coil,
11 Heater, 12 Intake port, 13 Exhaust port, 14 Cooking room exhaust air passage,
15 substrate case unit, 16 control circuit board, 17 cooling fan,
18 Cooking room, 19 Cooking room storage, 20 Upper heater, 21 Lower heater,
22 Cooking table, 23 saucer, 24 temperature sensor, 25 catalyst, 26 catalyst heater,
27 Ventilation port for cooking chamber, 28 base material, 29 uneven surface,
30 Ceramic coating

Claims (8)

ヒータ、マグネトロン、誘導加熱コイルのいずれかの加熱手段と加熱調理をおこなう調理室、調理台、受皿、調理容器、天板のいずれかを備え、調理室、調理台、受皿、調理容器、天板、ヒータ、排気風路、吸排気口カバーのいずれかを構成する部品の表面に微細な凹凸を設け、ゾル・ゲル法によりシロキサン結合を持つ三次元架橋マトリックス構造のセラミックコーティング皮膜を形成したことを特徴とする加熱調理器。 Equipped with any heating means of heating, magnetron, induction heating coil and cooking room, cooking table, saucer, cooking container, top plate, cooking room, cooking table, saucer, cooking container, top plate The surface of the components that make up any one of the heater, exhaust air passage, and intake / exhaust port cover was provided with fine irregularities, and a ceramic coating film with a three-dimensional crosslinked matrix structure with siloxane bonds was formed by the sol-gel method. A heating cooker featuring. 微細な凹凸は、ショット・ブラストにより形成され、表面粗さRa1〜4μmであることを特徴とする請求項1記載の加熱調理器。 2. The cooking device according to claim 1, wherein the fine irregularities are formed by shot blasting and have a surface roughness Ra1 to 4 [mu] m. 微細な凹凸は、化学エッチングにより形成され、0.5〜10μmの粗度を有する面であるとともに、該面が5〜500nmの不定期な周期の超微細凹凸面で覆われた形状であることを特徴とする請求項1記載の加熱調理器。 The fine irregularities are surfaces formed by chemical etching and having a roughness of 0.5 to 10 μm, and the surface is covered with an ultrafine irregular surface having an irregular period of 5 to 500 nm. The cooking device according to claim 1. 部品の種類により、微細な凹凸の形成手段が異なることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の加熱調理器。 The cooking device according to any one of claims 1 to 3, wherein the means for forming fine irregularities differs depending on the type of component. 部品の種類、配置される位置により、セラミックコーティング皮膜の耐熱グレードが異なることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の加熱調理器。 The cooking device according to any one of claims 1 to 4, wherein the heat-resistant grade of the ceramic coating film varies depending on the type of component and the position where the component is disposed. 温度センサと操作パネルと制御回路を備え、操作パネルが操作され加熱手段の動作を伴う指示がなされた場合、制御回路は温度センサの情報から加熱手段を制御し、セラミックコーティング皮膜が形成された部品が所定の温度以下となるよう制御することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の加熱調理器。 A component that has a temperature sensor, an operation panel, and a control circuit, and when the operation panel is operated and an instruction accompanied by the operation of the heating means is performed, the control circuit controls the heating means from the information of the temperature sensor, and the ceramic coating film is formed The cooking device according to any one of claims 1 to 5, wherein the temperature is controlled to be equal to or lower than a predetermined temperature. 冷却ファンを備え、冷却ファンからの送風により、セラミックコーティング皮膜が形成された部品を冷却することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の加熱調理器。 The heating cooker according to any one of claims 1 to 6, further comprising a cooling fan, wherein the component on which the ceramic coating film is formed is cooled by blowing air from the cooling fan. 温度センサと操作パネルと制御回路を備え、操作パネルが操作され加熱手段の動作を伴う指示がなされた場合、制御回路は温度センサの情報から冷却ファンを制御し、セラミックコーティング皮膜が形成された部品が所定の温度以下となるようにしたことを特徴とする請求項7記載の加熱調理器。 A component that has a temperature sensor, an operation panel, and a control circuit. When the operation panel is operated and an instruction accompanied by the operation of the heating means is given, the control circuit controls the cooling fan from the information of the temperature sensor, and the part on which the ceramic coating film is formed The cooking device according to claim 7, wherein the temperature is not more than a predetermined temperature.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012254199A (en) * 2011-06-09 2012-12-27 Aiho Corp Rice cooking pot
JP2014074561A (en) * 2012-10-05 2014-04-24 Mitsubishi Electric Corp Heating cooker
JP2016027302A (en) * 2015-10-15 2016-02-18 三菱電機株式会社 Heating cooker
JP2016200393A (en) * 2016-09-02 2016-12-01 三菱電機株式会社 Heating cooker
JP2020064735A (en) * 2018-10-16 2020-04-23 三菱電機株式会社 Heating cooker

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05245047A (en) * 1992-03-02 1993-09-24 Toho Kasei Kk Fluororesin coated cooker and method for manufacturing the same
JPH06337117A (en) * 1993-05-27 1994-12-06 Sharp Corp Film for high-temperature cooking apparatus and manufacture thereof
JPH09150829A (en) * 1995-11-30 1997-06-10 Hokkai Can Co Ltd Metallic can
JPH10113290A (en) * 1996-10-11 1998-05-06 Zojirushi Corp Heat cooking appliance
JP2000121070A (en) * 1998-10-15 2000-04-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Cooking device
JP2003051374A (en) * 2001-08-08 2003-02-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Induction heating cooker
JP2003339548A (en) * 2002-05-23 2003-12-02 Mitsubishi Electric Corp Cooking container
JP2004071375A (en) * 2002-08-07 2004-03-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Induction heating cooker
WO2008010639A1 (en) * 2006-07-18 2008-01-24 Thermolon Korea Co., Ltd Structure of coating layer for heat-cooker
JP2008279083A (en) * 2007-05-10 2008-11-20 Saito Shuichi Electromagnetic induction cooker using ceramic pot

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05245047A (en) * 1992-03-02 1993-09-24 Toho Kasei Kk Fluororesin coated cooker and method for manufacturing the same
JPH06337117A (en) * 1993-05-27 1994-12-06 Sharp Corp Film for high-temperature cooking apparatus and manufacture thereof
JPH09150829A (en) * 1995-11-30 1997-06-10 Hokkai Can Co Ltd Metallic can
JPH10113290A (en) * 1996-10-11 1998-05-06 Zojirushi Corp Heat cooking appliance
JP2000121070A (en) * 1998-10-15 2000-04-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Cooking device
JP2003051374A (en) * 2001-08-08 2003-02-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Induction heating cooker
JP2003339548A (en) * 2002-05-23 2003-12-02 Mitsubishi Electric Corp Cooking container
JP2004071375A (en) * 2002-08-07 2004-03-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Induction heating cooker
WO2008010639A1 (en) * 2006-07-18 2008-01-24 Thermolon Korea Co., Ltd Structure of coating layer for heat-cooker
JP2009543656A (en) * 2006-07-18 2009-12-10 サーモロン コリア カンパニー,リミテッド Coating layer structure of cooking container
JP2008279083A (en) * 2007-05-10 2008-11-20 Saito Shuichi Electromagnetic induction cooker using ceramic pot

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012254199A (en) * 2011-06-09 2012-12-27 Aiho Corp Rice cooking pot
JP2014074561A (en) * 2012-10-05 2014-04-24 Mitsubishi Electric Corp Heating cooker
JP2016027302A (en) * 2015-10-15 2016-02-18 三菱電機株式会社 Heating cooker
JP2016200393A (en) * 2016-09-02 2016-12-01 三菱電機株式会社 Heating cooker
JP2020064735A (en) * 2018-10-16 2020-04-23 三菱電機株式会社 Heating cooker
JP7274848B2 (en) 2018-10-16 2023-05-17 三菱電機株式会社 heating cooker

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