JP2011042650A - Zwitterionic organic salt - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a zwitterionic organic salt. <P>SOLUTION: The zwitterionic organic salt is represented by general formula (I), wherein Q represents an atomic group which forms an aromatic cation of 5- or 6-membered ring together with a nitrogen atom, R<SB>1</SB>represents a hydrogen atom or a substituent, R<SB>2</SB>represents a substituent, n1 is an integer of 0-5, X<SB>1</SB>represents a counterion, n2 is an integer of 0-4, at least one of R<SB>1</SB>and R<SB>2</SB>represents a substituent represented by general formula (II) (wherein L<SB>1</SB>represents a bivalent bonding group bonding the aromatic cation and V<SB>1</SB>, V<SB>1</SB>and V<SB>2</SB>each represent -CO-, -SO-, -SO<SB>2</SB>- or -PO(OR<SB>4</SB>)-(wherein R<SB>4</SB>represents an alkyl group or the like), and R<SB>3</SB>represents an alkoxy, alkyl, alkenyl or perfluoroalkyl group). <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は耐久性及び電荷輸送能に優れた電解質組成物に用いることができる新規なツイッターイオン型有機塩に関する。   The present invention relates to a novel Twitter ion type organic salt that can be used in an electrolyte composition having excellent durability and charge transporting ability.

従来から電池、キャパシター、センサー、表示素子、記録素子等の電気化学的素子の電解質として、電解質塩を溶媒に溶解した液状電解質組成物(電解液)が用いられてきた。しかしながら、このような液状電解質組成物を用いた電気化学的素子においては、長期間の使用又は保存の間に該組成物が漏洩することがあり、信頼性に欠ける。   Conventionally, a liquid electrolyte composition (electrolytic solution) in which an electrolyte salt is dissolved in a solvent has been used as an electrolyte for electrochemical elements such as batteries, capacitors, sensors, display elements, and recording elements. However, in an electrochemical device using such a liquid electrolyte composition, the composition may leak during long-term use or storage, resulting in lack of reliability.

Nature, 第353巻, 第737〜740頁, 1991年(非特許文献1)、米国特許4927721号(特許文献1)等は色素により増感した半導体微粒子を用いた光電変換素子及びこれを用いた光電気化学電池を開示しているが、これらにおいても電荷輸送層に電解液を用いているため、長期間の使用又は保存の間に電解液が漏洩又は枯渇し、光電変換効率が著しく低下したり、素子として機能しなくなる場合がある。   Nature, Vol. 353, pp. 737-740, 1991 (Non-patent Document 1), US Pat. No. 4,927,721 (Patent Document 1), etc., used a photoelectric conversion element using semiconductor fine particles sensitized with a dye and the same. Although the photoelectrochemical cell is disclosed, since the electrolyte is used for the charge transport layer in these, the electrolyte leaks or is depleted during long-term use or storage, and the photoelectric conversion efficiency is remarkably lowered. Or may not function as an element.

このような状況下、WO93/20565号(特許文献2)は固体電解質を用いた光電変換素子を提案した。また日本化学会誌, 7, 484頁 (1997)(非特許文献2)、特開平7-2881142号(特許文献3)、Solid State Ionics, 89, 263 (1986) (非特許文献3)及び特開平9-27352号(特許文献4)は、架橋ポリエチレンオキサイド系高分子化合物を用いた固体電解質を含む光電変換素子を提案した。しかしながら、これらの固体電解質を用いた光電変換素子は光電変換特性、特に短絡電流密度が不十分であり、加えて耐久性も十分ではない。   Under such circumstances, WO93 / 20565 (Patent Document 2) has proposed a photoelectric conversion element using a solid electrolyte. In addition, Journal of Chemical Society of Japan, 7, 484 (1997) (Non-patent Document 2), JP-A-7-2881142 (Patent Document 3), Solid State Ionics, 89, 263 (1986) (Non-patent Document 3) and JP No. 9-27352 (Patent Document 4) proposed a photoelectric conversion element including a solid electrolyte using a crosslinked polyethylene oxide polymer compound. However, photoelectric conversion elements using these solid electrolytes have insufficient photoelectric conversion characteristics, particularly short-circuit current density, and in addition, durability is not sufficient.

また、電解質組成物の漏洩及び枯渇を防止し光電変換素子の耐久性を向上させるために、ピリジニウム塩、イミダゾリウム塩、トリアゾリウム塩等を用いる方法が開示されている(WO 95/18456号(特許文献5)、特開平8-259543号(特許文献6)、電気化学, 第65巻, 11号, 923頁 (1997年)(非特許文献4)等)。これらの塩は常温(25℃付近)において溶融状態にあり、室温溶融塩と呼ばれる。この方法では水や有機溶媒等の溶媒が不要或いは少量で済むため、光電気化学電池の耐久性が向上する。しかしながら、従来の光電変換素子に用いられてきた室温溶融塩は全てカチオンとアニオンが共有結合で連結されていないものであり、カチオンとアニオンはそれぞれ独立に動き得ることから、レドックス対の拡散性の観点から不利であった。このような室温溶融塩を用いた光電変換素子は光電変換効率が良くない。   In addition, a method using a pyridinium salt, an imidazolium salt, a triazolium salt or the like is disclosed in order to prevent leakage and depletion of the electrolyte composition and improve the durability of the photoelectric conversion element (WO 95/18456 (Patent) Document 5), JP-A-8-259543 (Patent Document 6), Electrochemistry, Vol. 65, 11, 923 (1997) (Non-Patent Document 4)). These salts are in a molten state at room temperature (around 25 ° C.) and are called room temperature molten salts. In this method, since a solvent such as water or an organic solvent is unnecessary or a small amount is sufficient, the durability of the photoelectrochemical cell is improved. However, all of the room temperature molten salts used in conventional photoelectric conversion elements are those in which the cation and the anion are not covalently linked, and the cation and the anion can move independently. It was disadvantageous from the viewpoint. Photoelectric conversion elements using such room temperature molten salts have poor photoelectric conversion efficiency.

米国特許4927721号明細書US Patent 4927721 WO93/20565号パンフレットWO93 / 20565 pamphlet 特開平7-2881142号公報JP 7-2881142 A 特開平9-27352号公報JP-A-9-27352 WO 95/18456号パンフレットWO 95/18456 pamphlet 特開平8-259543号公報JP-A-8-259543

Nature, 第353巻, 第737〜740頁, 1991年Nature, 353, 737-740, 1991 日本化学会誌, 7, 484頁 (1997)The Chemical Society of Japan, 7, 484 (1997) Solid State Ionics, 89, 263 (1986)Solid State Ionics, 89, 263 (1986) 電気化学, 第65巻, 11号, 923頁 (1997年)Electrochemistry, 65, 11, 923 (1997)

本発明の目的は、新規なツイッターイオン型有機塩を提供することにあり、さらにはこれらの化合物を使用することにより、耐久性及び電荷輸送能に優れた電解質組成物、並びにこの電解質組成物を用いたために優れた耐久性及び光電変換特性を示す光電変換素子及び光電気化学電池を提供することである。   An object of the present invention is to provide a novel Twitter ion type organic salt, and further, by using these compounds, an electrolyte composition excellent in durability and charge transporting ability, and this electrolyte composition. It is to provide a photoelectric conversion element and a photoelectrochemical cell exhibiting excellent durability and photoelectric conversion characteristics because they are used.

上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者はツイッターイオン型有機塩をヨウ素塩と併せて用いた電解質組成物は耐久性及び電荷輸送能に優れていることを発見し、本発明に想到した。   As a result of diligent research in view of the above object, the present inventors have found that an electrolyte composition using a Twitter ion type organic salt in combination with an iodine salt is excellent in durability and charge transporting ability, and has arrived at the present invention. .

即ち、本発明のツイッターイオン型有機塩は、下記一般式(I)により表される。
一般式(I)中、Qは窒素原子と共に5又は6員環の芳香族カチオンを形成する原子団を表し、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、又は下記一般式(II)により表される置換基を表し、R2はアルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、炭酸エステル基、アミド基、カルバモイル基、ホスホニル基、複素環基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アシル基、スルホニル基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アリール基、アリーロキシ基、アルケニル基、アルキル基、又は下記一般式(II)により表される置換基を表し、n1は0〜5の整数を表し、X1は対イオンを表し、n2は0〜4の整数を表す。n1が2以上のとき複数のR2は同じでも異なっていてもよく、R1及びR2のうち少なくとも1つは下記一般式(II)により表される置換基である。
一般式(II)中、L1は前記芳香族カチオンとV1とを連結する、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基、アリーレンオキシ基、又はこれらの組み合わせからなる2価連結基を表し、V1及びV2はそれぞれ独立に-CO-、-SO-、-SO2-又は-PO(OR4)-(R4はアルキル基又はアリール基)を表し、R3はアルコキシ基、アルキル基、アルケニル基、又はパーフルオロアルキル基を表す。
That is, the Twitter ion type organic salt of the present invention is represented by the following general formula (I).
In the general formula (I), Q represents an atomic group that forms a 5- or 6-membered aromatic cation with a nitrogen atom, and R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or the following general formula (II). R 2 represents an alkoxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbonate group, an amide group, a carbamoyl group, a phosphonyl group, a heterocyclic group, an aryloxy group, an alkylthio group, an acyl group, a sulfonyl group, an acyloxy group. group, a sulfonyloxy group, an aryl group, an aryloxy group, an alkenyl group, an alkyl group, or a substituted group represented by the following general formula (II), n1 represents an integer of 0 to 5, X 1 is a counterion N2 represents an integer of 0 to 4. When n1 is 2 or more, a plurality of R 2 may be the same or different, and at least one of R 1 and R 2 is a substituent represented by the following general formula (II).
In general formula (II), L 1 represents a divalent linking group composed of an alkylene group, an arylene group, an alkyleneoxy group, an aryleneoxy group, or a combination thereof, which links the aromatic cation and V 1, and V 1 and V 2 each independently represent —CO—, —SO—, —SO 2 — or —PO (OR 4 ) — (R 4 represents an alkyl group or an aryl group), R 3 represents an alkoxy group, an alkyl group, An alkenyl group or a perfluoroalkyl group is represented.

前記Qは窒素原子と共にイミダゾール環又はピリジン環を表すのが好ましい。   Q preferably represents an imidazole ring or a pyridine ring together with a nitrogen atom.

前記V1及びV2のうち少なくとも1つが-SO2-であるのが好ましい。 It is preferable that at least one of V 1 and V 2 is —SO 2 —.

本発明においては、下記一般式(III)により表される新規イミダゾリウム有機塩をツイッターイオン型有機塩として好適に使用できる。
一般式(III)中、R11及びR21は水素原子、アルキル基、アルケニル基、又は下記一般式(IV)により表される置換基を表し、R22〜R24はそれぞれ独立に水素原子、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、炭酸エステル基、アミド基、カルバモイル基、ホスホニル基、複素環基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アシル基、スルホニル基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルキル基、又は下記一般式(IV)により表される置換基を表し、X11は対イオンを表し、n21は0〜4の整数を表す。R11及びR21〜R24は同じでも異なっていてもよく、R11及びR21〜R24のうち少なくとも1つは下記一般式(IV)により表される置換基である。
一般式(IV)中、L11は上記一般式(III)中のイミダゾリウムカチオンとV11とを連結する、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基、アリーレンオキシ基、又はこれらの組み合わせからなる2価連結基を表し、V11及びV21は-SO2-を表し、R31はアルコキシ基、アルキル基、アルケニル基、又はパーフルオロアルキル基を表す。
In the present invention, a novel imidazolium organic salt represented by the following general formula (III) can be suitably used as a Twitter ion type organic salt.
In the general formula (III), R 11 and R 21 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or a substituent represented by the following general formula (IV), R 22 to R 24 are each independently a hydrogen atom, Alkoxy group, cyano group, alkoxycarbonyl group, carbonate group, amide group, carbamoyl group, phosphonyl group, heterocyclic group, aryloxy group, alkylthio group, acyl group, sulfonyl group, acyloxy group, sulfonyloxy group, aryl group, aryl It represents an oxy group, an alkenyl group, an alkyl group, or a substituent represented by the following general formula (IV), X 11 represents a counter ion, and n 21 represents an integer of 0 to 4. R 11 and R 21 to R 24 may be the same or different, and at least one of R 11 and R 21 to R 24 is a substituent represented by the following general formula (IV).
In the general formula (IV), L 11 is an alkylene group, an arylene group, an alkyleneoxy group, an aryleneoxy group, or a combination thereof that links the imidazolium cation in the general formula (III) and V 11 2 V 11 and V 21 represent —SO 2 —, and R 31 represents an alkoxy group, an alkyl group, an alkenyl group, or a perfluoroalkyl group.

前記n21は0であるのが好ましい。   N21 is preferably 0.

前記R21〜R24はそれぞれ独立に水素原子又は前記一般式(IV)により表される置換基であるのが好ましい。 R 21 to R 24 are preferably each independently a hydrogen atom or a substituent represented by the general formula (IV).

本発明のツイッターイオン型有機塩を使用した電解質組成物は耐久性及び電荷輸送能に優れており、この電解質組成物を用いた光電変換素子は優れた光電変換特性を有し、経時での特性劣化が少ない。かかる光電変換素子からなる光電気化学電池は太陽電池として極めて有効である。   The electrolyte composition using the Twitter ion type organic salt of the present invention is excellent in durability and charge transporting ability, and the photoelectric conversion element using this electrolyte composition has excellent photoelectric conversion characteristics and characteristics over time. There is little deterioration. A photoelectrochemical cell comprising such a photoelectric conversion element is extremely effective as a solar cell.

光電変換素子の構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure of a photoelectric conversion element. 光電変換素子の構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure of a photoelectric conversion element. 光電変換素子の構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure of a photoelectric conversion element. 光電変換素子の構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure of a photoelectric conversion element. 光電変換素子の構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure of a photoelectric conversion element. 光電変換素子の構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure of a photoelectric conversion element. 光電変換素子の構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure of a photoelectric conversion element. 光電変換素子の構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure of a photoelectric conversion element. 光電変換素子の構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure of a photoelectric conversion element.

[1]電解質組成物
電解質組成物は本発明のツイッターイオン型有機塩及びヨウ素塩を含有し、さらにヨウ素や溶媒等を含有していてもよい。ツイッターイオン型有機塩がヨウ素塩である場合は、電解質組成物は他のヨウ素塩を含有する必要はない。電解質組成物は化学反応、金属メッキ等の反応溶媒、CCD(電荷結合素子)カメラ、種々の光電変換素子及び電池等に用いることができ、リチウム二次電池又は光電気化学電池に用いるのが好ましく、半導体を用いた光電気化学電池に用いるのがより好ましい。以下、電解質組成物の各構成成分について詳述する。
[1] Electrolyte Composition The electrolyte composition contains the Twitter ion type organic salt and iodine salt of the present invention, and may further contain iodine, a solvent, or the like. When the Twitter ion type organic salt is an iodine salt, the electrolyte composition does not need to contain another iodine salt. The electrolyte composition can be used for a chemical reaction, a reaction solvent such as metal plating, a CCD (charge coupled device) camera, various photoelectric conversion elements and batteries, and preferably used for a lithium secondary battery or a photoelectrochemical battery. More preferably, it is used for a photoelectrochemical cell using a semiconductor. Hereinafter, each component of the electrolyte composition will be described in detail.

(A)ツイッターイオン型有機塩
本発明のツイッターイオン型有機塩とは、一分子中にカチオン電荷を有する部分とアニオン電荷を有する部分とを持ち、両部分が共有結合で連結している有機化合物である。電解質組成物に用いるツイッターイオン型有機塩は常温(25℃付近)で液体であるのが好ましい。
(A) Twitter ion type organic salt The twitter ion type organic salt of the present invention is an organic compound having a part having a cationic charge and a part having an anion charge in one molecule, and both parts are linked by a covalent bond. It is. The Twitter ion type organic salt used in the electrolyte composition is preferably liquid at room temperature (around 25 ° C.).

ツイッターイオン型有機塩は下記一般式(I)により表されるのが好ましい。以下、本願では一般式(I)により表されるツイッターイオン型有機塩を「有機塩(I)」と称する。有機塩(I)は通常、低融点の塩、いわゆる溶融塩である。有機塩(I)の融点は100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましく、60℃以下であるのが特に好ましい。有機塩(I)は常温(25℃付近)で液体である溶融塩、いわゆる室温溶融塩であってよい。
The Twitter ion organic salt is preferably represented by the following general formula (I). Hereinafter, the Twitter ion type organic salt represented by the general formula (I) is referred to as “organic salt (I)” in the present application. The organic salt (I) is usually a low melting point salt, so-called molten salt. The melting point of the organic salt (I) is preferably 100 ° C. or less, more preferably 80 ° C. or less, and particularly preferably 60 ° C. or less. The organic salt (I) may be a molten salt that is liquid at room temperature (around 25 ° C.), that is, a so-called room temperature molten salt.

有機塩(I)とヨウ素塩との混合物は、溶媒をほとんど用いずに電解質組成物として使用できる場合が多く、溶媒を用いる必要がない場合も多い。この混合物が常温(25℃付近)で固体である場合は、溶媒や添加剤等を加えることで液状電解質組成物として使用できる。また何も添加しなくても、加熱溶解して電極上に浸透させる方法、低沸点溶媒(メタノール、アセトニトリル、塩化メチレン等)等を用いて電極上に浸透させ、その後溶媒を加熱により除去する方法等により光電変換素子に組み込むことが可能である。   In many cases, the mixture of the organic salt (I) and the iodine salt can be used as an electrolyte composition with almost no solvent, and there is no need to use a solvent. When this mixture is solid at room temperature (around 25 ° C.), it can be used as a liquid electrolyte composition by adding a solvent, an additive, or the like. Also, without adding anything, a method of dissolving by heating and permeating on the electrode, a method of permeating on the electrode using a low boiling point solvent (methanol, acetonitrile, methylene chloride, etc.), and then removing the solvent by heating It is possible to incorporate in a photoelectric conversion element by such as.

一般式(I)中、Qは窒素原子と共に5又は6員環の芳香族カチオンを形成する原子団を表す。Qは炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる1種以上の原子により構成されるのが好ましい。   In general formula (I), Q represents an atomic group that forms a 5- or 6-membered aromatic cation with a nitrogen atom. Q is preferably composed of one or more atoms selected from the group consisting of carbon atom, hydrogen atom, nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom.

Qが形成する5員環はオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環又はトリアゾール環であるのが好ましく、オキサゾール環、チアゾール環又はイミダゾール環であるのがより好ましく、イミダゾール環であるのが特に好ましい。Qが形成する6員環はピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環又はトリアジン環であるのが好ましく、ピリジン環であるのが特に好ましい。中でも、Qが窒素原子と共に形成する5又は6員環はイミダゾール環であるのが最も好ましい。   The 5-membered ring formed by Q is preferably an oxazole ring, thiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, isoxazole ring, thiadiazole ring, oxadiazole ring or triazole ring, and is an oxazole ring, thiazole ring or imidazole ring. Is more preferable, and an imidazole ring is particularly preferable. The 6-membered ring formed by Q is preferably a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, a pyrazine ring or a triazine ring, and particularly preferably a pyridine ring. Of these, the 5- or 6-membered ring formed by Q together with the nitrogen atom is most preferably an imidazole ring.

一般式(I)中、R1は水素原子又は置換基を表し、R2は置換基を表す。R2の数を示すn1は0〜5の整数であり、n1が2以上のとき複数のR2は同じでも異なっていてもよい。また、R1及びR2は互いに連結して環を形成していてもよい。 In general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a substituent, and R 2 represents a substituent. N1 indicating the number of R 2 is an integer of 0 to 5, and when n 1 is 2 or more, a plurality of R 2 may be the same or different. R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring.

上記R1及びR2のうち少なくとも1つは、下記一般式(II)により表される置換基である。以下、一般式(II)により表される置換基を「置換基(II)」と称する。有機塩(I)は置換基(II)を1〜4個有するのが好ましく、1個有するのがより好ましい。特に、R1が置換基(II)であることが好ましい。
At least one of R 1 and R 2 is a substituent represented by the following general formula (II). Hereinafter, the substituent represented by the general formula (II) is referred to as “substituent (II)”. The organic salt (I) preferably has 1 to 4 substituents (II), more preferably one. In particular, R 1 is preferably a substituent (II).

一般式(II)中、L1は上記芳香族カチオンとV1とを連結する2価連結基を表す。L1は炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる1種以上の原子により構成されるのが好ましい。L1の炭素原子数は1〜30であるのが好ましく、2〜20であるのがより好ましく、2〜8であるのが特に好ましい。L1の具体例としては、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基、アリーレンオキシ基、それらの組み合わせ等が挙げられる。L1は炭素原子数2〜8のアルキレン基又はアルキレンオキシ基であるのが特に好ましい。 In the general formula (II), L 1 represents a divalent linking group that links the aromatic cation and V 1 . L 1 is preferably composed of one or more atoms selected from the group consisting of carbon atom, hydrogen atom, nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom. L 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 8 carbon atoms. Specific examples of L 1 include an alkylene group, an arylene group, an alkyleneoxy group, an aryleneoxy group, and combinations thereof. L 1 is particularly preferably an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms or an alkyleneoxy group.

一般式(II)中、V1及びV2はそれぞれ独立に-CO-、-SO-、-SO2-又は-PO(OR4)-を表す。ここでR4はアルキル基又はアリール基を表す。V1及びV2のうち少なくとも1つは-SO2-であるのが好ましく、いずれも-SO2-であるのがより好ましい。 In general formula (II), V 1 and V 2 each independently represent —CO—, —SO—, —SO 2 — or —PO (OR 4 ) —. Here, R 4 represents an alkyl group or an aryl group. At least one of V 1 and V 2 is -SO 2 - is preferably from both -SO 2 - and more preferably is.

一般式(II)中、R3は置換基を表し、好ましくはアルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基等)、アルキル基(好ましくは炭素原子数1〜80であり、例えばメチル基、エチルプロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、t-オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、2-ヘキシルデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルケニル基(好ましくは炭素原子数2〜80であり、例えばビニル基、アリル基等)又はパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数3〜60のアルキル基又は炭素原子数2〜60のアルケニル基であり、特に好ましくは炭素原子数3〜48のアルキル基である。 In the general formula (II), R 3 represents a substituent, preferably an alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, etc.), an alkyl group (preferably having 1 to 80 carbon atoms, such as a methyl group, an ethylpropyl group, (Butyl group, isopropyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, t-octyl group, decyl group, dodecyl group, tetradecyl group, 2-hexyldecyl group, octadecyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, etc.) An alkenyl group (preferably having 2 to 80 carbon atoms, such as a vinyl group, an allyl group) or a perfluoroalkyl group, more preferably an alkyl group having 3 to 60 carbon atoms or 2 to 60 carbon atoms. And particularly preferably an alkyl group having 3 to 48 carbon atoms.

一般式(I)中のR1が上記置換基(II)以外の置換基を表す場合、好ましくはアルキル基(好ましくは炭素原子数1〜80であり、例えばメチル基、エチルプロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、t-オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、2-ヘキシルデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)又はアルケニル基(好ましくは炭素原子数2〜80であり、例えばビニル基、アリル基等)であり、より好ましくは炭素原子数3〜60のアルキル基又は炭素原子数2〜60のアルケニル基であり、特に好ましくは炭素原子数3〜48のアルキル基である。R1はさらに置換基を有していてもよく、その置換基の例としては後述するR2が表す好ましい置換基の例と同様のものが挙げられる。 When R 1 in the general formula (I) represents a substituent other than the above substituent (II), it is preferably an alkyl group (preferably having 1 to 80 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethylpropyl group, a butyl group). Isopropyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, t-octyl group, decyl group, dodecyl group, tetradecyl group, 2-hexyldecyl group, octadecyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, etc.) or alkenyl Group (preferably having 2 to 80 carbon atoms, such as vinyl group, allyl group, etc.), more preferably an alkyl group having 3 to 60 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 60 carbon atoms, especially An alkyl group having 3 to 48 carbon atoms is preferable. R 1 may further have a substituent, and examples of the substituent include the same examples as the preferable substituent represented by R 2 described later.

一般式(I)中のR2が上記置換基(II)以外の置換基を表す場合、好ましい置換基の例としては、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、-(OCH2CH2)n-OCH3(nは1〜20の整数)、-(OCH2CH2)n-OCH2CH3(nは1〜20の整数)等)、シアノ基、アルコキシカルボニル基(エトキシカルボニル基、メトキシエトキシカルボニル基等)、炭酸エステル基(エトキシカルボニルオキシ基等)、アミド基(アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、カルバモイル基(N,N-ジメチルカルバモイル基、N-フェニルカルバモイル基等)、ホスホニル基(ジエチルホスホニル基等)、複素環基(ピリジル基、イミダゾリル基、フラニル基、オキサゾリジノニル基等)、アリーロキシ基(フェノキシ基等)、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等)、アシルオキシ基(アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホニルオキシ基(メタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基等)、アリール基(フェニル基、トルイル基等)、アリーロキシ基(フェノキシ基等)、アルケニル基(ビニル基、1-プロペニル基等)、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、2-カルボキシエチル基、ベンジル基等)等が挙げられる。中でも、アルコキシ基、シアノ基、炭酸エステル基、アミド基、カルバモイル基、ホスホニル基、複素環基、アシル基、スルホニル基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基及びアルキル基がより好ましく、アルコキシ基、シアノ基、炭酸エステル基、ホスホニル基、複素環基及びアルキル基が特に好ましい。 When R 2 in the general formula (I) represents a substituent other than the above-described substituent (II), examples of preferred substituents include an alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, — (OCH 2 CH 2 ) n — OCH 3 (n is an integer from 1 to 20), — (OCH 2 CH 2 ) n —OCH 2 CH 3 (n is an integer from 1 to 20), etc., cyano group, alkoxycarbonyl group (ethoxycarbonyl group, methoxyethoxy) Carbonyl group etc.), carbonate group (ethoxycarbonyloxy group etc.), amide group (acetylamino group, benzoylamino group etc.), carbamoyl group (N, N-dimethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group etc.), phosphonyl group (Diethylphosphonyl group etc.), heterocyclic group (pyridyl group, imidazolyl group, furanyl group, oxazolidinonyl group etc.), aryloxy group (phenoxy group etc.), alkylthio group (methylthio group, ethylthio group etc.), acyl group Acetyl group, propionyl group, benzoyl group, etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl group, benzenesulfonyl group, etc.), acyloxy group (acetoxy group, benzoyloxy group, etc.), sulfonyloxy group (methanesulfonyloxy group, toluenesulfonyloxy group, etc.) ), Aryl groups (phenyl, toluyl, etc.), aryloxy groups (phenoxy, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, isopropyl, cyclo Propyl group, butyl group, 2-carboxyethyl group, benzyl group, etc.). Among them, an alkoxy group, a cyano group, a carbonate ester group, an amide group, a carbamoyl group, a phosphonyl group, a heterocyclic group, an acyl group, a sulfonyl group, an acyloxy group, a sulfonyloxy group, and an alkyl group are more preferable, an alkoxy group, a cyano group, Carbonic acid ester groups, phosphonyl groups, heterocyclic groups and alkyl groups are particularly preferred.

一般式(I)中、X1は対イオンを表し、X1の数を示すn2は0〜4の整数を表す。n2は有機塩(I)全体の電荷が中和されるように選択される。即ち、有機塩(I)が有する置換基の性質によって、有機塩(I)のX1を除く部分が陽イオン又は陰イオンとなったり正味のイオン電荷を持つ場合に、対イオンX1が必要となる。また、有機塩(I)が負電荷を持ち得る解離性基を有する場合にも、有機塩(I)全体の電荷はX1によって中和される。X1が陽イオンである場合、その例としては無機又は有機のアンモニウムイオン(テトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン等)、アルカリ金属イオン等が挙げられる。X1が陰イオンである場合、無機陰イオンであっても有機陰イオンであってもよく、その例としてはハロゲン陰イオン(フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等)、置換アリールスルホン酸イオン(p-トルエンスルホン酸イオン、p-クロロベンゼンスルホン酸イオン等)、アリールジスルホン酸イオン(1,3-ベンゼンジスルホン酸イオン、1,5-ナフタレンジスルホン酸イオン、2,6-ナフタレンジスルホン酸イオン等)、アルキル硫酸イオン(メチル硫酸イオン等)、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。X1はイオン性ポリマー等の電荷均衡対イオンであってもよく、また金属錯イオン(ビスベンゼン-1,2-ジチオラトニッケル(III)等)であってもよい。本発明では、n2が0であり有機塩(I)がX1を有さないことが好ましい。即ち、有機塩(I)中には共有結合で連結されていない対イオンが存在しないことが好ましい。 In the general formula (I), X 1 represents a counter ion, and n2 representing the number of X 1 represents an integer of 0 to 4. n2 is selected so that the overall charge of the organic salt (I) is neutralized. That is, the counter ion X 1 is necessary when the portion of the organic salt (I) other than X 1 becomes a cation or an anion or has a net ionic charge depending on the nature of the substituent of the organic salt (I). It becomes. Also, when the organic salt (I) has a dissociable group that can have a negative charge, the charge of the entire organic salt (I) is neutralized by X 1 . When X 1 is a cation, examples thereof include inorganic or organic ammonium ions (tetraalkyl ammonium ions, pyridinium ions, etc.), alkali metal ions, and the like. When X 1 is an anion, it may be an inorganic anion or an organic anion. Examples thereof include a halogen anion (fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion, etc.), Substituted aryl sulfonate ions (p-toluene sulfonate ion, p-chlorobenzene sulfonate ion, etc.), aryl disulfonate ions (1,3-benzene disulfonate ion, 1,5-naphthalenedisulfonate ion, 2,6-naphthalene ion) Disulfonate ion, etc.), alkyl sulfate ion (methyl sulfate ion, etc.), sulfate ion, thiocyanate ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, picrate ion, acetate ion, trifluoromethanesulfonic acid And ions. X 1 may be a charge balanced counter ion such as an ionic polymer, or may be a metal complex ion (such as bisbenzene-1,2-dithiolatonickel (III)). In the present invention, it is preferred that n2 is 0 organic salt (I) does not have a X 1. That is, it is preferable that the organic salt (I) does not contain a counter ion that is not linked by a covalent bond.

有機塩(I)はR1又はR2を介して多量体を形成していてもよい。この多量体は2〜4量体であるのが好ましく、2量体であるのがより好ましい。また、有機塩(I)がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキレン基、アラルキル基等を含む場合、それらは直鎖状であっても分岐状であってもよく、環式であってもよく、また置換されていても無置換であってもよい。有機塩(I)がアリール基、ヘテロ環基、シクロアルキル基、アラルキル基等を含む場合、それらは単環であっても多環(縮合環、環集合)であってもよく、また置換されていても無置換であってもよい。 The organic salt (I) may form a multimer via R 1 or R 2 . This multimer is preferably a dimer to tetramer, and more preferably a dimer. Further, when the organic salt (I) contains an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkylene group, an aralkyl group or the like, these may be linear or branched, or cyclic It may be substituted or unsubstituted. When the organic salt (I) contains an aryl group, a heterocyclic group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, etc., they may be monocyclic or polycyclic (fused ring, ring assembly) or substituted. Or may be unsubstituted.

本発明では、下記一般式(III)により表される新規イミダゾリウム有機塩を有機塩(I)として好適に使用できる。以下、一般式(III)により表されるイミダゾリウム有機塩を「化合物(III)」と称する。
In the present invention, a novel imidazolium organic salt represented by the following general formula (III) can be suitably used as the organic salt (I). Hereinafter, the imidazolium organic salt represented by the general formula (III) is referred to as “compound (III)”.

一般式(III)中、R11及びR21〜R24はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。R11及びR21〜R24は同じでも異なっていてもよい。また、R11及びR21〜R24はそれぞれ互いに連結して環を形成していてもよい。 In the general formula (III), R 11 and R 21 to R 24 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. R 11 and R 21 to R 24 may be the same or different. R 11 and R 21 to R 24 may be connected to each other to form a ring.

上記R11及びR21〜R24のうち少なくとも1つは、下記一般式(IV)により表される置換基である。以下、一般式(IV)により表される置換基を「置換基(IV)」と称する。化合物(III)は置換基(IV)を1〜4個有するのが好ましく、1個有するのがより好ましい。特に、R11及びR21のうち少なくとも1つが置換基(IV)であることが好ましい。
At least one of R 11 and R 21 to R 24 is a substituent represented by the following general formula (IV). Hereinafter, the substituent represented by the general formula (IV) is referred to as “substituent (IV)”. Compound (III) preferably has 1 to 4 substituents (IV), and more preferably 1 substituent. In particular, it is preferable that at least one of R 11 and R 21 is the substituent (IV).

一般式(IV)中、L11は上記一般式(III)中のイミダゾリウムカチオンとV11とを連結する2価連結基を表す。L11の好ましい態様及び具体例は上記一般式(II)中のL1の場合と同様である。また、V11及びV21はいずれも-SO2-を表し、R31は上記一般式(II)中のR3と同義であり、好ましい態様も同様である。 In the general formula (IV), L 11 represents a divalent linking group that links the imidazolium cation in the general formula (III) to V 11 . Preferred embodiments and specific examples of L 11 are the same as those of L 1 in the general formula (II). V 11 and V 21 both represent —SO 2 —, R 31 has the same meaning as R 3 in the general formula (II), and the preferred embodiment is also the same.

一般式(III)中のR11及びR21が上記置換基(IV)以外の置換基を表す場合、その好ましい態様は上記一般式(I)中のR1の場合と同様である。また、R22〜R24が上記置換基(IV)以外の置換基を表す場合、その好ましい態様は上記一般式(I)中のR2の場合と同様である。X11は対イオンを表し、X11の数を示すn21は0〜4の整数を表す。X11及びn21は上記一般式(I)中のX1及びn2とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。 When R 11 and R 21 in the general formula (III) represent a substituent other than the above substituent (IV), preferred embodiments thereof are the same as those for R 1 in the above general formula (I). Further, when R 22 to R 24 represents a substituent other than the substituent (IV), preferred embodiments thereof are the same as in the case of R 2 in the general formula (I). X 11 represents a counter ion, n21 indicating the number of X 11 represents an integer of 0-4. X 11 and n 21 have the same meanings as X 1 and n 2 in the general formula (I), respectively, and preferred embodiments are also the same.

化合物(III)はR11及びR21〜R24のいずれかを介して多量体を形成していてもよい。この多量体は2〜4量体であるのが好ましく、2量体であるのがより好ましい。 Compound (III) may form a multimer via any of R 11 and R 21 to R 24 . This multimer is preferably a dimer to tetramer, and more preferably a dimer.

電解質組成物中のツイッターイオン型有機塩の含有量は、電解質組成物全体に対して10質量%以上であるのが好ましく、20〜95質量%であるのがより好ましい。ツイッターイオン型有機塩の具体例を以下に示すが、本発明はそれらに限定されるものではない。   The content of the Twitter ion type organic salt in the electrolyte composition is preferably 10% by mass or more, and more preferably 20 to 95% by mass with respect to the entire electrolyte composition. Specific examples of the Twitter ion type organic salt are shown below, but the present invention is not limited thereto.


(B)ヨウ素塩
電解質組成物はツイッターイオン型有機塩及びヨウ素塩を含有する。上記ツイッターイオン型有機塩がヨウ素塩でない場合は、電解質組成物に他のヨウ素塩を添加する必要がある。このようなヨウ素塩としては、WO 95/18456号、特開平8-259543号、電気化学, 第65巻, 11号, 923頁 (1997年)等に記載のピリジニウム塩、イミダゾリウム塩、トリアゾリウム塩等が使用できる。電解質組成物は上記ツイッターイオン型有機塩及びヨウ素塩以外の塩を含有していてもよい。電解質組成物のヨウ素塩含有量は、電解質組成物全体に対して10質量%以上であるのが好ましく、50〜95質量%であるのがより好ましい。
(B) Iodine salt The electrolyte composition contains a Twitter ion type organic salt and an iodine salt. When the above-mentioned Twitter ion type organic salt is not an iodine salt, it is necessary to add another iodine salt to the electrolyte composition. Examples of such iodine salts include pyridinium salts, imidazolium salts, triazolium salts described in WO 95/18456, JP-A-8-259543, Electrochemistry, 65, 11, 923 (1997), etc. Etc. can be used. The electrolyte composition may contain a salt other than the above-described Twitter ion type organic salt and iodine salt. The iodine salt content of the electrolyte composition is preferably 10% by mass or more, and more preferably 50 to 95% by mass with respect to the whole electrolyte composition.

好ましいヨウ素塩の例としては、下記一般式(Y-a)、(Y-b)及び(Y-c)のいずれかにより表されるものが挙げられる。
Examples of preferred iodine salts include those represented by any one of the following general formulas (Ya), (Yb) and (Yc).

一般式(Y-a)中のQy1は窒素原子と共に5又は6員環の芳香族カチオンを形成する原子団を表す。Qy1は炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる原子により構成されるのが好ましい。Qy1が形成する5員環はオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環又はトリアゾール環であるのが好ましく、オキサゾール環、チアゾール環又はイミダゾール環であるのがより好ましく、オキサゾール環又はイミダゾール環であるのが特に好ましい。Qy1が形成する6員環はピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環又はトリアジン環であるのが好ましく、ピリジン環であるのが特に好ましい。 Q y1 in the general formula (Ya) represents an atomic group that forms a 5- or 6-membered aromatic cation with a nitrogen atom. Q y1 is preferably composed of an atom selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. The 5-membered ring formed by Q y1 is preferably an oxazole ring, thiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, isoxazole ring, thiadiazole ring, oxadiazole ring or triazole ring, and is preferably an oxazole ring, thiazole ring or imidazole ring. More preferably, it is particularly preferably an oxazole ring or an imidazole ring. The 6-membered ring formed by Q y1 is preferably a pyridine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, pyrazine ring or triazine ring, and particularly preferably a pyridine ring.

一般式(Y-b)中のAy1は窒素原子又はリン原子を表す。 A y1 in the general formula (Yb) represents a nitrogen atom or a phosphorus atom.

一般式(Y-a)、(Y-b)及び(Y-c)中のRy1〜Ry11はそれぞれ独立に置換又は無置換のアルキル基(好ましくは炭素原子数1〜24であり、直鎖状であっても分岐状であっても、また環式であってもよく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、t-オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、2-ヘキシルデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、或いは置換又は無置換のアルケニル基(好ましくは炭素原子数2〜24であり、直鎖状であっても分岐状であってもよく、例えばビニル基、アリル基等)を表す。Ry1〜Ry11はそれぞれ独立に、より好ましくは炭素原子数2〜18のアルキル基又は炭素原子数2〜18のアルケニル基であり、特に好ましくは炭素原子数2〜6のアルキル基である。 R y1 to R y11 in the general formulas (Ya), (Yb) and (Yc) are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group (preferably having 1 to 24 carbon atoms, It may be branched or cyclic, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, t-octyl group, decyl group , A dodecyl group, a tetradecyl group, a 2-hexyldecyl group, an octadecyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, or the like, or a substituted or unsubstituted alkenyl group (preferably having 2 to 24 carbon atoms, being linear May be branched, for example, vinyl group, allyl group, etc.). R y1 to R y11 are each independently more preferably an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms.

一般式(Y-b)中のRy2〜Ry5のうち2つ以上が互いに連結してAy1を含む非芳香族環を形成してもよく、一般式(Y-c)中のRy6〜Ry11のうち2つ以上が互いに連結して環を形成してもよい。 Two or more of R y2 to R y5 in the general formula (Yb) may be connected to each other to form a non-aromatic ring containing A y1, and R y6 to R y11 in the general formula (Yc) Two or more of them may be connected to each other to form a ring.

上記Qy1及びRy1〜Ry11は置換基を有していてもよい。好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I等)、シアノ基、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基等)、アリーロキシ基(フェノキシ基等)、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(エトキシカルボニル基等)、炭酸エステル基(エトキシカルボニルオキシ基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等)、アシルオキシ基(アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホニルオキシ基(メタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基等)、ホスホニル基(ジエチルホスホニル基等)、アミド基(アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、カルバモイル基(N,N-ジメチルカルバモイル基等)、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、2-カルボキシエチル基、ベンジル基等)、アリール基(フェニル基、トルイル基等)、複素環基(ピリジル基、イミダゾリル基、フラニル基等)、アルケニル基(ビニル基、1-プロペニル基等)等が挙げられる。 Q y1 and R y1 to R y11 may have a substituent. Examples of preferred substituents include halogen atoms (F, Cl, Br, I, etc.), cyano groups, alkoxy groups (methoxy groups, ethoxy groups, etc.), aryloxy groups (phenoxy groups, etc.), alkylthio groups (methylthio groups, ethylthio groups). Group), alkoxycarbonyl group (ethoxycarbonyl group etc.), carbonic acid ester group (ethoxycarbonyloxy group etc.), acyl group (acetyl group, propionyl group, benzoyl group etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl group, benzenesulfonyl group etc.) ), Acyloxy group (acetoxy group, benzoyloxy group etc.), sulfonyloxy group (methanesulfonyloxy group, toluenesulfonyloxy group etc.), phosphonyl group (diethylphosphonyl group etc.), amide group (acetylamino group, benzoylamino group) ), Carbamoyl group (N, N-dimethylcarbamoy) Group), alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, cyclopropyl group, butyl group, 2-carboxyethyl group, benzyl group, etc.), aryl group (phenyl group, toluyl group, etc.), complex Examples thereof include a ring group (pyridyl group, imidazolyl group, furanyl group, etc.), an alkenyl group (vinyl group, 1-propenyl group, etc.) and the like.

一般式(Y-a)、(Y-b)及び(Y-c)のいずれかにより表されるヨウ素塩は、Qy1及びRy1〜Ry11のいずれかを介して多量体を形成してもよい。 The iodine salt represented by any one of the general formulas (Ya), (Yb) and (Yc) may form a multimer via any one of Q y1 and R y1 to R y11 .

(C)ヨウ素
電解質組成物はヨウ素を含有するのが好ましく、特にこの電解質組成物を光電変換素子に用いる場合にはヨウ素を添加することによる効果が大きい。電解質組成物に添加したヨウ素は、該組成物中でI2として存在してもよく、イオン状態又は塩を形成した状態で存在してもよい。電解質組成物にヨウ素を添加する場合、ヨウ素の含有量は電解質組成物全体に対して0.1〜20質量%であるのが好ましく、0.5〜5質量%であるのがより好ましい。
(C) Iodine The electrolyte composition preferably contains iodine. In particular, when this electrolyte composition is used for a photoelectric conversion element, the effect of adding iodine is great. The iodine added to the electrolyte composition may exist as I 2 in the composition, or may exist in an ionic state or a salt-formed state. When iodine is added to the electrolyte composition, the content of iodine is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass with respect to the entire electrolyte composition.

(D)溶媒
電解質組成物は溶媒を含有してもよい。電解質組成物の溶媒含有量は、電解質組成物全体に対して50質量%以下であるのが好ましく、30質量%以下であるのがより好ましく、10質量%以下であるのが特に好ましい。
(D) Solvent The electrolyte composition may contain a solvent. The solvent content of the electrolyte composition is preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and particularly preferably 10% by mass or less with respect to the entire electrolyte composition.

電解質組成物に使用する溶媒は、低粘度でイオン移動度が高いか、高誘電率で有効キャリアー濃度を高めることができるか、或いはその両方であるために優れたイオン伝導性を発現できるものであることが好ましい。このような溶媒の例としては、カーボネート化合物(エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等)、複素環化合物(3-メチル-2-オキサゾリジノン等)、エーテル化合物(ジオキサン、ジエチルエーテル等)、鎖状エーテル類(エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールジアルキルエーテル等)、アルコール類(メタノール、エタノール、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル等)、多価アルコール類(エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン等)、ニトリル化合物(アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル、ビスシアノエチルエーテル等)、エステル類(カルボン酸エステル、リン酸エステル、ホスホン酸エステル等)、非プロトン性極性溶媒(ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルフォラン等)、水等が挙げられる。これらの溶媒は二種以上を混合して用いてもよい。   The solvent used in the electrolyte composition is one that can exhibit excellent ionic conductivity because it has a low viscosity and high ion mobility, or has a high dielectric constant and can increase the effective carrier concentration, or both. Preferably there is. Examples of such solvents include carbonate compounds (ethylene carbonate, propylene carbonate, etc.), heterocyclic compounds (3-methyl-2-oxazolidinone, etc.), ether compounds (dioxane, diethyl ether, etc.), chain ethers (ethylene Glycol dialkyl ether, propylene glycol dialkyl ether, polyethylene glycol dialkyl ether, polypropylene glycol dialkyl ether, etc.), alcohols (methanol, ethanol, ethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, polyethylene glycol monoalkyl ether, polypropylene glycol monoalkyl) Ethers), polyhydric alcohols (ethylene glycol, propylene glycol, polyethylene glycol) Coal, polypropylene glycol, glycerin, etc.), nitrile compounds (acetonitrile, glutarodinitrile, methoxyacetonitrile, propionitrile, benzonitrile, biscyanoethyl ether, etc.), esters (carboxylic esters, phosphates, phosphonates, etc.) , Aprotic polar solvents (dimethyl sulfoxide (DMSO), sulfolane, etc.), water and the like. These solvents may be used as a mixture of two or more.

(E)その他
電解質組成物は、ポリマー添加、オイルゲル化剤添加、多官能モノマー類を含む重合、ポリマーの架橋反応等の手法によりゲル化(固体化)させて使用することができる。
(E) Others The electrolyte composition can be used after being gelled (solidified) by a technique such as addition of a polymer, addition of an oil gelling agent, polymerization including polyfunctional monomers, or a crosslinking reaction of the polymer.

ポリマー添加によりゲル化する場合は、Polymer Electrolyte Reviews-1及び2(J. R. MacCallumとC. A. Vincentの共編、ELSEVIER APPLIED SCIENCE)に記載のポリマーを使用することができ、好ましくはポリアクリロニトリル又はポリフッ化ビニリデンを使用する。   In the case of gelation by addition of polymer, polymers described in Polymer Electrolyte Reviews-1 and 2 (JR MacCallum and CA Vincent, ELSEVIER APPLIED SCIENCE) can be used, preferably polyacrylonitrile or polyvinylidene fluoride is used. To do.

オイルゲル化剤添加によりゲル化させる場合は、J. Chem. Soc. Japan, Ind. Chem. Soc., 46779 (1943)、J. Am. Chem. Soc., 111, 5542 (1989)、J. Chem. Soc., Chem. Commun., 390 (1993)、Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 35, 1949 (1996)、Chem. Lett., 885, (1996)、J. Chem. Soc., Chem. Commun., 545, (1997)等に記載のオイルゲル化剤を使用することができ、好ましくはアミド構造を有する化合物を用いる。   In the case of gelation by adding an oil gelling agent, J. Chem. Soc. Japan, Ind. Chem. Soc., 46779 (1943), J. Am. Chem. Soc., 111, 5542 (1989), J. Chem Soc., Chem. Commun., 390 (1993), Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 35, 1949 (1996), Chem. Lett., 885, (1996), J. Chem. Soc., The oil gelling agent described in Chem. Commun., 545, (1997) can be used, and a compound having an amide structure is preferably used.

ゲル電解質組成物の層を多官能モノマー類の重合によって形成する場合、多官能モノマー類、重合開始剤、電解質組成物及び溶媒からなる溶液を調製し、キャスト法、塗布法、浸漬法、含浸法等の方法により感光層等の上にゾル層を形成し、その後ラジカル重合することによってゲル化するのが好ましい。多官能モノマー類はエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物であることが好ましく、その好ましい例としてはジビニルベンゼン、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート等が挙げられる。   When the gel electrolyte composition layer is formed by polymerization of polyfunctional monomers, a solution comprising polyfunctional monomers, a polymerization initiator, an electrolyte composition and a solvent is prepared, and a casting method, a coating method, a dipping method, and an impregnation method are prepared. It is preferable to form a sol layer on the photosensitive layer or the like by a method such as the above, and then gel by radical polymerization. The polyfunctional monomers are preferably compounds having two or more ethylenically unsaturated groups, and preferred examples include divinylbenzene, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, and triethylene. Examples include glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, and trimethylolpropane triacrylate.

上記多官能モノマー類及び単官能モノマーを用いた重合によってゲル電解質組成物を形成してもよい。単官能モノマーとしては、アクリル酸又はα-アルキルアクリル酸(アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等)或いはそれらのエステル又はアミド(N-イソプロピルアクリルアミド、N-n-ブチルアクリルアミド、N-t-ブチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N-メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、N-メチロールメタクリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、n-プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-メチル-2-ニトロプロピルアクリレート、n-ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、t-ブチルアクリレート、t-ペンチルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、2-メトキシエトキシエチルアクリレート、2,2,2-トリフルオロエチルアクリレート、2,2-ジメチルブチルアクリレート、3-メトキシブチルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、n-ペンチルアクリレート、3-ペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、n-ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロペンチルアクリレート、セチルアクリレート、ベンジルアクリレート、n-オクチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、4-メチル-2-プロピルペンチルアクリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、n-オクタデシルアクリレート、メチルメタクリレート、2-メトキシエトキシエチルメタクリレート、エチレングリコールエチルカーボネートメタクリレート、2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、t-ブチルメタクリレート、t-ペンチルメタクリレート、2-メトキシエチルメタクリレート、2-エトキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、n-オクタデシルメタクリレート、2-イソボルニルメタクリレート、2-ノルボルニルメチルメタクリレート、5-ノルボルネン-2-イルメチルメタクリレート、3-メチル-2-ノルボニルメチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル等)、マレイン酸又はフマル酸或いはそれらから誘導されるエステル類(マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル等)、p-スチレンスルホン酸のナトリウム塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類(ブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン等)、芳香族ビニル化合物(スチレン、p-クロロスチレン、t-ブチルスチレン、α-メチルスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウム等)、N-ビニルホルムアミド、N-ビニル-N-メチルホルムアミド、N-ビニルアセトアミド、N-ビニル-N-メチルアセトアミド、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、メタクリルスルホン酸ナトリウム、ビニリデンフルオライド、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、エチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブテン、N-フェニルマレイミド等を使用することができる。   You may form a gel electrolyte composition by superposition | polymerization using the said polyfunctional monomers and monofunctional monomers. Monofunctional monomers include acrylic acid or α-alkyl acrylic acid (acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, etc.) or their esters or amides (N-isopropylacrylamide, Nn-butylacrylamide, Nt-butylacrylamide, N, N -Dimethylacrylamide, N-methylmethacrylamide, acrylamide, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, acrylamidopropyltrimethylammonium chloride, methacrylamide, diacetone acrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, methyl acrylate, Ethyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-methyl-2-nitropropyl acrylate N-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, t-pentyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-methoxyethoxyethyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2-dimethylbutyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, n-pentyl acrylate, 3-pentyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclopentyl acrylate, cetyl Acrylate, benzyl acrylate, n-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 4-methyl-2-propylpentyl acrylate, heptadecafluorodec Acrylate, n-octadecyl acrylate, methyl methacrylate, 2-methoxyethoxyethyl methacrylate, ethylene glycol ethyl carbonate methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, 2- Hydroxypropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, t-pentyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, n-octadecyl methacrylate, 2- Isobornyl methacrylate, 2-norbornylmethyl methacrylate, 5-norbornyl N-2-ylmethyl methacrylate, 3-methyl-2-norbornylmethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, etc.), maleic acid or fumaric acid or esters derived therefrom (maleic acid) Dimethyl acid, dibutyl maleate, diethyl fumarate, etc.), sodium salt of p-styrenesulfonic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, dienes (butadiene, cyclopentadiene, isoprene, etc.), aromatic vinyl compounds (styrene, p-chloro) Styrene, t-butylstyrene, α-methylstyrene, sodium styrenesulfonate, etc.), N-vinylformamide, N-vinyl-N-methylformamide, N-vinylacetamide, N-vinyl-N-methylacetamide, vinylsulfonic acid , Sodium vinyl sulfonate, Sodium Rusuruhon acid, sodium methacrylate sulfonate, vinylidene fluoride, vinylidene chloride, vinyl alkyl ethers (methyl vinyl ether), ethylene, propylene, 1-butene, isobutene, can be used N- phenylmaleimide and the like.

多官能モノマー類及び単官能モノマーをと共に用いる場合、モノマー総量に占める多官能モノマーの質量比は0.5〜70質量%であるのが好ましく、1.0〜50質量%であるのがより好ましい。   When the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer are used together, the mass ratio of the polyfunctional monomer to the total monomer amount is preferably 0.5 to 70% by mass, and more preferably 1.0 to 50% by mass.

上述の多官能モノマー類及び単官能モノマーは、大津隆行・木下雅悦共著「高分子合成の実験法」(化学同人)や大津隆行「講座重合反応論1ラジカル重合(I)」(化学同人)に記載の一般的な高分子合成法であるラジカル重合によって重合することができる。上記モノマーは加熱、光又は電子線によって、或いは電気化学的にラジカル重合させることができるが、特に加熱によってラジカル重合させるのが好ましい。ラジカル重合する際には重合開始剤を用いてよく、好ましい重合開始剤の例としては、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、ジメチル-2,2'-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、ジメチル-2,2'-アゾビスイソブチレート等のアゾ系開始剤、ラウリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、t-ブチルパーオクトエート等の過酸化物系開始剤等が挙げられる。重合開始剤の添加量はモノマー総量に対して好ましくは0.01〜20質量%であり、より好ましくは0.1〜10質量%である。   The above-mentioned polyfunctional monomers and monofunctional monomers can be obtained from Takayuki Otsu and Masaaki Kinoshita "Experimental Methods for Polymer Synthesis" (Chemical Doujin) and Takayuki Otsu "Corporation Polymerization Reaction Theory 1 Radical Polymerization (I)" (Chemical Doujin) It can superpose | polymerize by radical polymerization which is the general polymer synthesis method as described in 1 above. The monomer can be radically polymerized by heating, light or electron beam, or electrochemically, and it is particularly preferable to radically polymerize by heating. In radical polymerization, a polymerization initiator may be used. Examples of preferable polymerization initiators include 2,2'-azobisisobutyronitrile and 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile). Azo initiators such as dimethyl-2,2'-azobis (2-methylpropionate), dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, lauryl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylperoct And peroxide-based initiators such as ate. The addition amount of the polymerization initiator is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the total amount of monomers.

ゲル電解質組成物に占めるモノマーの重量組成範囲は0.5〜70質量%であることが好ましく、より好ましくは1.0〜50質量%である。   The weight composition range of the monomer in the gel electrolyte composition is preferably 0.5 to 70% by mass, more preferably 1.0 to 50% by mass.

ポリマーの架橋反応により電解質組成物をゲル化させる場合、架橋可能な反応性基を含有するポリマー及び架橋剤を併用することが好ましい。この場合、反応性基は好ましくはピリジン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、トリアゾール環、モルホリン環、ピペリジン環、ピペラジン環等の含窒素複素環であり、架橋剤は好ましくは窒素原子が求核攻撃できる官能基を2つ以上有する化合物(求電子剤)であり、例えば2官能以上のハロゲン化アルキル、ハロゲン化アラルキル、スルホン酸エステル、酸無水物、酸クロライド、イソシアネート等が使用できる。   When the electrolyte composition is gelled by a polymer crosslinking reaction, it is preferable to use a polymer containing a crosslinkable reactive group and a crosslinking agent in combination. In this case, the reactive group is preferably a nitrogen-containing heterocyclic ring such as a pyridine ring, imidazole ring, thiazole ring, oxazole ring, triazole ring, morpholine ring, piperidine ring, piperazine ring, and the crosslinking agent preferably has a nitrogen atom. A compound (electrophile) having two or more functional groups capable of nuclear attack. For example, bifunctional or higher alkyl halides, halogenated aralkyls, sulfonic acid esters, acid anhydrides, acid chlorides, isocyanates and the like can be used.

電解質組成物は、金属ヨウ化物(LiI、NaI、KI、CsI、CaI2等)、金属臭化物(LiBr、NaBr、KBr、CsBr、CaBr2等)、4級アンモニウム臭素塩(テトラアルキルアンモニウムブロマイド、ピリジニウムブロマイド等)、金属錯体(フェロシアン酸塩−フェリシアン酸塩、フェロセン−フェリシニウムイオン等)、イオウ化合物(ポリ硫化ナトリウム、アルキルチオール−アルキルジスルフィド等)、ビオロゲン色素、ヒドロキノン−キノン等を含有していてもよい。これらは混合して用いてもよい。 The electrolyte composition, the metal iodide (LiI, NaI, KI, CsI , CaI 2 , etc.), a metal bromide (LiBr, NaBr, KBr, CsBr , CaBr 2 , etc.), quaternary ammonium bromine salt (tetraalkylammonium bromide, pyridinium Bromide, etc.), metal complexes (ferrocyanate-ferricyanate, ferrocene-ferricinium ion, etc.), sulfur compounds (sodium polysulfide, alkylthiol-alkyl disulfide, etc.), viologen dyes, hydroquinone-quinone, etc. It may be. These may be used as a mixture.

また、電解質組成物はJ. Am. Ceram. Soc., 80, (12), 3157-3171 (1997)に記載のt-ブチルピリジンや、2-ピコリン、2,6-ルチジン等の塩基性化合物を含有してもよい。塩基性化合物の電解質組成物中の濃度は0.05〜2Mであるのが好ましい。   Further, the electrolyte composition is a basic compound such as t-butylpyridine, 2-picoline, 2,6-lutidine and the like described in J. Am. Ceram. Soc., 80, (12), 3157-3171 (1997). It may contain. The concentration of the basic compound in the electrolyte composition is preferably 0.05 to 2M.

[2]光電変換素子
光電変換素子は導電層、感光層、電荷輸送層及び対極を有し、該電荷輸送層が上述した電解質組成物を含有する。
[2] Photoelectric conversion element The photoelectric conversion element has a conductive layer, a photosensitive layer, a charge transport layer and a counter electrode, and the charge transport layer contains the above-described electrolyte composition.

光電変換素子は、好ましくは図1に示すように、導電層10、下塗り層60、感光層20、電荷輸送層30、対極導電層40の順に積層してなり、感光層20を色素22によって増感した半導体微粒子21と当該半導体微粒子21の間の空隙に浸透した電荷輸送材料23とから構成する。通常、電荷輸送材料23は電荷輸送層30に用いる電解質組成物と同じ成分からなる。また光電変換素子に強度を付与するため、導電層10及び/又は対極導電層40の下地として基板50を設けてもよい。本願では、導電層10及び任意で設ける基板50からなる層を「導電性支持体」、対極導電層40及び任意で設ける基板50からなる層を「対極」と呼ぶ。なお、図1中の導電層10、対極導電層40、基板50は、それぞれ透明導電層10a、透明対極導電層40a、透明基板50aであってもよい。   As shown in FIG. 1, the photoelectric conversion element is preferably formed by laminating a conductive layer 10, an undercoat layer 60, a photosensitive layer 20, a charge transport layer 30, and a counter electrode conductive layer 40 in this order. It is composed of the sensed semiconductor fine particles 21 and the charge transport material 23 that has penetrated into the gaps between the semiconductor fine particles 21. Usually, the charge transport material 23 is composed of the same components as the electrolyte composition used for the charge transport layer 30. Further, a substrate 50 may be provided as a base for the conductive layer 10 and / or the counter electrode conductive layer 40 in order to impart strength to the photoelectric conversion element. In the present application, the layer composed of the conductive layer 10 and the optionally provided substrate 50 is referred to as “conductive support”, and the layer composed of the counter electrode conductive layer 40 and the optionally provided substrate 50 is referred to as “counter electrode”. Note that the conductive layer 10, the counter electrode conductive layer 40, and the substrate 50 in FIG. 1 may be the transparent conductive layer 10a, the transparent counter electrode conductive layer 40a, and the transparent substrate 50a, respectively.

図1に示す光電変換素子において、半導体微粒子がn型である場合、色素22により増感された半導体微粒子21を含む感光層20に入射した光は色素22等を励起し、励起された色素22等中の高エネルギーの電子が半導体微粒子21の伝導帯に渡され、さらに拡散により導電層10に到達する。このとき色素22等の分子は酸化体となっている。光電気化学電池においては、導電層10中の電子が外部回路で仕事をしながら対極導電層40及び電荷輸送層30を経て色素22等の酸化体に戻り、色素22が再生する。感光層20は負極(光アノード)として働き、対極導電層40は正極として働く。それぞれの層の境界(例えば導電層10と感光層20との境界、感光層20と電荷輸送層30との境界、電荷輸送層30と対極導電層40との境界等)では、各層の構成成分同士が相互に拡散混合していてもよい。以下各層について詳細に説明する。   In the photoelectric conversion element shown in FIG. 1, when the semiconductor fine particles are n-type, the light incident on the photosensitive layer 20 including the semiconductor fine particles 21 sensitized by the dye 22 excites the dye 22 and the like, and the excited dye 22 High-energy electrons in the same are passed to the conduction band of the semiconductor fine particles 21, and further reach the conductive layer 10 by diffusion. At this time, the molecule such as the dye 22 is an oxidant. In the photoelectrochemical cell, electrons in the conductive layer 10 return to an oxidant such as the dye 22 through the counter electrode conductive layer 40 and the charge transport layer 30 while working in an external circuit, and the dye 22 is regenerated. The photosensitive layer 20 functions as a negative electrode (photoanode), and the counter electrode conductive layer 40 functions as a positive electrode. At the boundary of each layer (for example, the boundary between the conductive layer 10 and the photosensitive layer 20, the boundary between the photosensitive layer 20 and the charge transport layer 30, the boundary between the charge transport layer 30 and the counter electrode conductive layer 40, etc.) They may be diffusively mixed with each other. Each layer will be described in detail below.

(A)導電性支持体
導電性支持体は、(1)導電層の単層、又は(2)導電層及び基板の2層からなる。(1)の場合は、導電層として強度や密封性が十分に保たれるような材料、例えば、金属材料(白金、金、銀、銅、亜鉛、チタン、アルミニウム、これらを含む合金等)を用いることができる。(2)の場合、感光層側に導電剤を含む導電層を有する基板を使用することができる。好ましい導電剤としては金属(白金、金、銀、銅、亜鉛、チタン、アルミニウム、インジウム、これらを含む合金等)、炭素、及び導電性金属酸化物(インジウム−スズ複合酸化物、酸化スズにフッ素又はアンチモンをドープしたもの等)が挙げられる。導電層の厚さは0.02〜10μm程度が好ましい。
(A) Conductive Support The conductive support is composed of (1) a single layer of a conductive layer, or (2) two layers of a conductive layer and a substrate. In the case of (1), a material that can maintain sufficient strength and sealability as the conductive layer, for example, a metal material (platinum, gold, silver, copper, zinc, titanium, aluminum, an alloy containing these, etc.) Can be used. In the case of (2), a substrate having a conductive layer containing a conductive agent on the photosensitive layer side can be used. Preferred conductive agents include metals (platinum, gold, silver, copper, zinc, titanium, aluminum, indium, alloys containing these), carbon, and conductive metal oxides (indium-tin composite oxides, fluorine in tin oxide) Or those doped with antimony). The thickness of the conductive layer is preferably about 0.02 to 10 μm.

導電性支持体は表面抵抗が低い程よい。好ましい表面抵抗の範囲は50Ω/□以下であり、さらに好ましくは20Ω/□以下である。   The lower the surface resistance of the conductive support, the better. The range of the surface resistance is preferably 50Ω / □ or less, more preferably 20Ω / □ or less.

導電性支持体側から光を照射する場合には、導電性支持体は実質的に透明であるのが好ましい。実質的に透明であるとは、可視〜近赤外領域(400〜1200nm)の光の一部又は全域において透過率が10%以上であることを意味し、50%以上であるのが好ましく、80%以上がより好ましい。特に、感光層が感度を有する波長域の透過率が高いことが好ましい。   When irradiating light from the conductive support side, the conductive support is preferably substantially transparent. The term “substantially transparent” means that the transmittance is 10% or more in a part or all of the light in the visible to near infrared region (400 to 1200 nm), preferably 50% or more, 80% or more is more preferable. In particular, it is preferable that the transmittance in a wavelength region where the photosensitive layer is sensitive is high.

透明導電性支持体としては、ガラス又はプラスチック等の透明基板の表面に導電性金属酸化物からなる透明導電層を塗布又は蒸着等により形成したものが好ましい。透明導電層として好ましいものは、フッ素若しくはアンチモンをドーピングした二酸化スズ或いはインジウム−スズ酸化物(ITO)である。透明基板にはコスト及び強度の点で有利なソーダガラス、アルカリ溶出の影響のない無アルカリガラス等のガラス基板のほか、透明ポリマーフィルムを用いることができる。透明ポリマーフィルムの材料としては、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート(PAr)、ポリスルフォン(PSF)、ポリエステルスルフォン(PES)、ポリイミド(PI)、ポリエーテルイミド(PEI)、環状ポリオレフィン、ブロム化フェノキシ樹脂等がある。十分な透明性を確保するために、導電性金属酸化物の塗布量はガラス又はプラスチックの支持体1m2当たり0.01〜100gとするのが好ましい。 The transparent conductive support is preferably formed by applying or vapor-depositing a transparent conductive layer made of a conductive metal oxide on the surface of a transparent substrate such as glass or plastic. A preferable transparent conductive layer is fluorine dioxide or antimony-doped tin dioxide or indium-tin oxide (ITO). As the transparent substrate, a transparent polymer film can be used in addition to a glass substrate such as soda glass which is advantageous in terms of cost and strength, alkali-free glass which is not affected by alkali elution. Transparent polymer film materials include triacetyl cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), syndiotactic polystyrene (SPS), polyphenylene sulfide (PPS), polycarbonate (PC), polyarylate ( PAr), polysulfone (PSF), polyester sulfone (PES), polyimide (PI), polyetherimide (PEI), cyclic polyolefin, brominated phenoxy resin, and the like. In order to ensure sufficient transparency, the coating amount of the conductive metal oxide is preferably 0.01 to 100 g per 1 m 2 of the glass or plastic support.

透明導電性支持体の抵抗を下げる目的で金属リードを用いるのが好ましい。金属リードの材質は白金、金、ニッケル、チタン、アルミニウム、銅、銀等の金属が好ましい。金属リードは透明基板に蒸着、スパッタリング等で設置し、その上に導電性の酸化スズ、ITO膜等からなる透明導電層を設けるのが好ましい。金属リード設置による入射光量の低下は、好ましくは10%以内、より好ましくは1〜5%とする。   It is preferable to use a metal lead for the purpose of reducing the resistance of the transparent conductive support. The material of the metal lead is preferably a metal such as platinum, gold, nickel, titanium, aluminum, copper, or silver. The metal lead is preferably installed on a transparent substrate by vapor deposition, sputtering or the like, and a transparent conductive layer made of conductive tin oxide, ITO film or the like is preferably provided thereon. The decrease in the amount of incident light due to the installation of the metal lead is preferably within 10%, more preferably 1 to 5%.

(B)感光層
感光層は色素によって増感した半導体微粒子を含有するのが好ましい。感光層において、半導体は感光体として作用し、光を吸収して電荷分離を行い電子と正孔を生ずる。色素増感した半導体では、光吸収及びこれによる電子及び正孔の発生は主として色素において起こり、半導体微粒子はこの電子(又は正孔)を受け取り、伝達する役割を担う。半導体は光励起下で伝導体電子がキャリアーとなり、アノード電流を与えるn型半導体であることが好ましい。
(B) Photosensitive layer The photosensitive layer preferably contains semiconductor fine particles sensitized with a dye. In the photosensitive layer, the semiconductor acts as a photoconductor, absorbs light, separates charges, and generates electrons and holes. In a dye-sensitized semiconductor, light absorption and generation of electrons and holes thereby occur mainly in the dye, and the semiconductor fine particles receive and transmit these electrons (or holes). The semiconductor is preferably an n-type semiconductor that gives an anode current when conductor electrons become carriers under photoexcitation.

(1)半導体
半導体としては、シリコン、ゲルマニウムのような単体半導体、III-V族系化合物半導体、金属のカルコゲナイド(酸化物、硫化物、セレン化物、それらの複合物等)、ペロブスカイト構造を有する化合物(チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ナトリウム、チタン酸バリウム、ニオブ酸カリウム等)等を使用することができる。
(1) Semiconductors Semiconductors include simple semiconductors such as silicon and germanium, III-V group compound semiconductors, metal chalcogenides (oxides, sulfides, selenides, composites thereof, etc.), compounds having a perovskite structure (Strontium titanate, calcium titanate, sodium titanate, barium titanate, potassium niobate, etc.) can be used.

好ましい金属のカルコゲナイドとして、チタン、スズ、亜鉛、鉄、タングステン、ジルコニウム、ハフニウム、ストロンチウム、インジウム、セリウム、イットリウム、ランタン、バナジウム、ニオブ又はタンタルの酸化物、カドミウム、亜鉛、鉛、銀、アンチモン又はビスマスの硫化物、カドミウム又は鉛のセレン化物、カドミウムのテルル化物等が挙げられる。他の化合物半導体としては亜鉛、ガリウム、インジウム、カドミウム等のリン化物、ガリウム−ヒ素又は銅−インジウムのセレン化物、銅−インジウムの硫化物等が挙げられる。さらには、MxOySz又はM1xM2yOz(M、M1及びM2はそれぞれ金属元素、Oは酸素、x、y、zは価数が中性になる組み合わせの数)のような複合物も好ましく用いることができる。 Preferred metal chalcogenides include titanium, tin, zinc, iron, tungsten, zirconium, hafnium, strontium, indium, cerium, yttrium, lanthanum, vanadium, niobium or tantalum oxide, cadmium, zinc, lead, silver, antimony or bismuth. Sulfides, cadmium or lead selenides, cadmium tellurides and the like. Examples of other compound semiconductors include phosphides such as zinc, gallium, indium, and cadmium, gallium-arsenic or copper-indium selenides, and copper-indium sulfides. Furthermore, M x O y S z or M 1x M 2y O z (M, M 1 and M 2 are metal elements, O is oxygen, and x, y and z are the number of combinations whose valence is neutral) Such composites can also be preferably used.

半導体の好ましい具体例は、Si、TiO2、SnO2、Fe2O3、WO3、ZnO、Nb2O5、CdS、ZnS、PbS、Bi2S3、CdSe、CdTe、SrTiO3、GaP、InP、GaAs、CuInS2、CuInSe2等であり、より好ましくはTiO2、ZnO、SnO2、Fe2O3、WO3、Nb2O5、CdS、PbS、CdSe、SrTiO3、InP、GaAs、CuInS2又はCuInSe2であり、特に好ましくはTiO2又はNb2O5であり、最も好ましくはTiO2である。TiO2の中でもアナターゼ型結晶を70%以上含むTiO2が好ましく、100%アナターゼ型結晶のTiO2が特に好ましい。また、これらの半導体中の電子電導性を上げる目的で金属をドープすることも有効である。ドープする金属としては2又は3価の金属が好ましい。半導体から電荷輸送層へ逆電流が流れるのを防止する目的で、半導体に1価の金属をドープすることも有効である。 Semiconductor preferred embodiment is, Si, TiO 2, SnO 2 , Fe 2 O 3, WO 3, ZnO, Nb 2 O 5, CdS, ZnS, PbS, Bi 2 S 3, CdSe, CdTe, SrTiO 3, GaP, InP, GaAs, a CuInS 2, CuInSe 2, etc., more preferably TiO 2, ZnO, SnO 2, Fe 2 O 3, WO 3, Nb 2 O 5, CdS, PbS, CdSe, SrTiO 3, InP, GaAs, CuInS 2 or CuInSe 2 , particularly preferably TiO 2 or Nb 2 O 5 , and most preferably TiO 2 . Preferably TiO 2 containing anatase 70% among TiO 2, particularly preferably TiO 2 100% anatase. It is also effective to dope metals for the purpose of increasing the electronic conductivity in these semiconductors. As a metal to dope, a bivalent or trivalent metal is preferable. In order to prevent a reverse current from flowing from the semiconductor to the charge transport layer, it is also effective to dope the semiconductor with a monovalent metal.

半導体は単結晶でも多結晶でもよいが、製造コスト、原材料確保、エネルギーペイバックタイム等の観点からは多結晶が好ましく、半導体微粒子からなる多孔質膜が特に好ましい。また、一部アモルファス部分を含んでいてもよい。   The semiconductor may be single crystal or polycrystal, but polycrystal is preferable from the viewpoint of manufacturing cost, securing raw materials, energy payback time, etc., and a porous film made of semiconductor fine particles is particularly preferable. Moreover, a part amorphous part may be included.

半導体微粒子の粒径は一般にnm〜μmのオーダーであるが、投影面積を円に換算したときの直径から求めた一次粒子の平均粒径は5〜200nmであるのが好ましく、8〜100nmがより好ましい。また分散液中の半導体微粒子(二次粒子)の平均粒径は0.01〜30μmが好ましい。粒径分布の異なる2種類以上の微粒子を混合してもよく、この場合小さい粒子の平均サイズは25nm以下であるのが好ましく、より好ましくは10nm以下である。入射光を散乱させて光捕獲率を向上させる目的で、粒径の大きな、例えば100〜300nm程度の半導体粒子を混合することも好ましい。   The particle size of the semiconductor fine particles is generally on the order of nm to μm, but the average particle size of the primary particles obtained from the diameter when the projected area is converted into a circle is preferably 5 to 200 nm, more preferably 8 to 100 nm. preferable. The average particle size of the semiconductor fine particles (secondary particles) in the dispersion is preferably 0.01 to 30 μm. Two or more kinds of fine particles having different particle size distributions may be mixed. In this case, the average size of the small particles is preferably 25 nm or less, more preferably 10 nm or less. In order to improve the light capture rate by scattering incident light, it is also preferable to mix semiconductor particles having a large particle size, for example, about 100 to 300 nm.

種類の異なる2種以上の半導体微粒子を混合して用いてもよい。2種以上の半導体微粒子を混合して使用する場合、一方はTiO2、ZnO、Nb2O5又はSrTiO3であることが好ましい。また他方はSnO2、Fe2O3又はWO3であることが好ましい。さらに好ましい組み合わせとしては、ZnOとSnO2、ZnOとWO3、ZnOとSnO2とWO3等の組み合わせを挙げることができる。2種以上の半導体微粒子を混合して用いる場合、それぞれの粒径が異なっていてもよい。特にTiO2、ZnO、Nb2O5又はSrTiO3の粒径が大きく、SnO2、Fe2O3又はWO3が小さい組み合わせが好ましい。好ましくは大きい粒径の粒子を100nm以上、小さい粒径の粒子を15nm以下とする。 Two or more different types of semiconductor fine particles may be mixed and used. When two or more kinds of semiconductor fine particles are mixed and used, one of them is preferably TiO 2 , ZnO, Nb 2 O 5 or SrTiO 3 . The other is preferably SnO 2 , Fe 2 O 3 or WO 3 . More preferable combinations include ZnO and SnO 2 , ZnO and WO 3 , ZnO, SnO 2 and WO 3, and the like. When two or more kinds of semiconductor fine particles are mixed and used, their particle sizes may be different. Particularly preferred is a combination in which the particle size of TiO 2 , ZnO, Nb 2 O 5 or SrTiO 3 is large and SnO 2 , Fe 2 O 3 or WO 3 is small. Preferably, the large particle size is 100 nm or more, and the small particle size is 15 nm or less.

半導体微粒子の作製法としては、作花済夫の「ゾル−ゲル法の科学」アグネ承風社(1998年)、技術情報協会の「ゾル−ゲル法による薄膜コーティング技術」(1995年)等に記載のゾル−ゲル法や、杉本忠夫の「新合成法ゲル−ゾル法による単分散粒子の合成とサイズ形態制御」、まてりあ, 第35巻, 第9号, 1012〜1018頁(1996年)等に記載のゲル−ゾル法が好ましい。またDegussa社が開発した塩化物を酸水素塩中で高温加水分解により酸化物を作製する方法も好ましく使用できる。   Semiconductor fine particles are prepared by Sakuo Sakuo's "Sol-gel Method Science" Agne Jofusha (1998), Technical Information Association "Sol-gel Method Thin Film Coating Technology" (1995), etc. The described sol-gel method and Tadao Sugimoto's "Synthesis and size control of monodisperse particles by the new synthetic gel-sol method", Materia, Vol. 35, No. 9, pp. 1012-1018 (1996) Etc.) is preferred. In addition, a method developed by Degussa for producing an oxide by high-temperature hydrolysis of a chloride in an oxyhydrogen salt can be preferably used.

半導体微粒子が酸化チタンの場合、上記ゾル-ゲル法、ゲル−ゾル法、塩化物の酸水素塩中での高温加水分解法はいずれも好ましいが、さらに清野学の「酸化チタン 物性と応用技術」技報堂出版(1997年)に記載の硫酸法又は塩素法を用いることもできる。さらにゾル−ゲル法として、Barbeらのジャーナル・オブ・アメリカン・セラミック・ソサエティー, 第80巻, 第12号, 3157〜3171頁(1997年)に記載の方法や、Burnsideらのケミストリー・オブ・マテリアルズ, 第10巻, 第9号, 2419〜2425頁に記載の方法も好ましい。   When the semiconductor fine particles are titanium oxide, the sol-gel method, gel-sol method, and high-temperature hydrolysis method in oxyhydrogen salt of chloride are all preferred, but Kiyoshi Manabu's “Titanium oxide properties and applied technology” The sulfuric acid method or the chlorine method described in Gihodo Publishing (1997) can also be used. Further, as a sol-gel method, the method described in Journal of American Ceramic Society of Barbe et al., Vol. 80, No. 12, pp. 3157-3171 (1997), or the chemistry of Burnside et al. , Vol. 10, No. 9, pages 2419-2425 are also preferred.

(2)半導体微粒子層
半導体微粒子を導電性支持体上に塗布するには、半導体微粒子の分散液又はコロイド溶液を導電性支持体上に塗布する方法の他に、前述のゾル−ゲル法等を使用することもできる。光電変換素子の量産化、半導体微粒子液の物性、導電性支持体の融通性等を考慮した場合、湿式の製膜方法が比較的有利である。湿式の製膜方法としては、塗布法、印刷法、電解析出法及び電着法が代表的である。また、金属を酸化する方法、金属溶液から配位子交換等で液相にて析出させる方法(LPD法)、スパッタ等で蒸着する方法、CVD法、或いは加温した基板上に熱分解する金属酸化物プレカーサーを吹き付けて金属酸化物を形成するSPD法を利用することもできる。
(2) Semiconductor fine particle layer In order to apply semiconductor fine particles on a conductive support, in addition to the method of applying a dispersion or colloidal solution of semiconductor fine particles on a conductive support, the sol-gel method described above is used. It can also be used. In consideration of mass production of photoelectric conversion elements, physical properties of semiconductor fine particle liquid, flexibility of conductive support, etc., a wet film forming method is relatively advantageous. Typical examples of the wet film forming method include a coating method, a printing method, an electrolytic deposition method, and an electrodeposition method. Also, a method of oxidizing metal, a method of depositing in a liquid phase from a metal solution by ligand exchange (LPD method), a method of vapor deposition by sputtering, a CVD method, or a metal that is thermally decomposed on a heated substrate An SPD method in which a metal oxide is formed by spraying an oxide precursor can also be used.

半導体微粒子の分散液を作製する方法としては、前述のゾル−ゲル法の他に、乳鉢ですり潰す方法、ミルを使って粉砕しながら分散する方法、半導体を合成する際に溶媒中で微粒子として析出させそのまま使用する方法等が挙げられる。   In addition to the sol-gel method described above, a method for preparing a dispersion of semiconductor fine particles includes a method of grinding in a mortar, a method of dispersing while pulverizing using a mill, and fine particles in a solvent when synthesizing a semiconductor. The method of depositing and using as it is is mentioned.

分散媒としては、水及び各種の有機溶媒(例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、シトロネロール、ターピネオール、ジクロロメタン、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル等)が使用できる。分散の際、必要に応じてポリエチレングリコール、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースのようなポリマー、界面活性剤、酸、キレート剤等を分散助剤として用いてもよい。ポリエチレングリコールの分子量を変えることで分散液の粘度が調節可能となり、さらに剥がれにくい半導体層を形成したり、半導体層の空隙率をコントロールできるので、ポリエチレングリコールを添加することは好ましい。   As the dispersion medium, water and various organic solvents (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, citronellol, terpineol, dichloromethane, acetone, acetonitrile, ethyl acetate, etc.) can be used. At the time of dispersion, a polymer such as polyethylene glycol, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, a surfactant, an acid, a chelating agent, or the like may be used as a dispersion aid as necessary. By changing the molecular weight of the polyethylene glycol, the viscosity of the dispersion can be adjusted, and a semiconductor layer that does not easily peel off can be formed and the porosity of the semiconductor layer can be controlled. Therefore, it is preferable to add polyethylene glycol.

塗布方法としては、アプリケーション系としてローラ法、ディップ法等、メータリング系としてエアーナイフ法、ブレード法等、またアプリケーションとメータリングを同一部分にできるものとして特公昭58-4589号に開示されているワイヤーバー法、米国特許2681294号、同2761419号、同2761791号等に記載のスライドホッパー法、エクストルージョン法、カーテン法等が好ましい。また汎用機としてスピン法やスプレー法も好ましい。湿式印刷方法としては、凸版、オフセット及びグラビアの三大印刷法をはじめ、凹版、ゴム版、スクリーン印刷等が好ましい。これらの中から液粘度やウェット厚さに応じて製膜方法を選択してよい。   Application methods such as roller method and dip method as application system, air knife method and blade method as metering system, and application and metering are disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 58-4589. The wire bar method, the slide hopper method, the extrusion method, the curtain method and the like described in US Pat. Nos. 2681294, 2761419, 2761791 and the like are preferable. Moreover, a spin method and a spray method are also preferable as a general purpose machine. As the wet printing method, intaglio, rubber plate, screen printing and the like are preferred, including the three major printing methods of letterpress, offset and gravure. A film forming method may be selected from these according to the liquid viscosity and the wet thickness.

半導体微粒子の層は単層に限らず、粒径の違った半導体微粒子の分散液を多層塗布したり、種類が異なる半導体微粒子(或いは異なるバインダー、添加剤)を含有する塗布層を多層塗布したりすることもできる。一度の塗布で膜厚が不足の場合にも多層塗布は有効である。   The semiconductor fine particle layer is not limited to a single layer, and a multi-layer coating of a dispersion of semiconductor fine particles having different particle diameters, or a multi-layer coating of a coating layer containing different types of semiconductor fine particles (or different binders and additives) You can also Multi-layer coating is also effective when the film thickness is insufficient with a single coating.

一般に半導体微粒子層の厚さ(感光層の厚さと同じ)が厚くなるほど、単位投影面積当たりの担持色素量が増えるため光の捕獲率が高くなるが、生成した電子の拡散距離が増すため電荷再結合によるロスも大きくなる。したがって、半導体微粒子層の好ましい厚さは0.1〜100μmである。光電気化学電池に用いる場合、半導体微粒子層の厚さは1〜30μmが好ましく、2〜25μmがより好ましい。半導体微粒子の支持体1m2当たりの塗布量は0.5〜100gが好ましく、3〜50gがより好ましい。 In general, as the semiconductor fine particle layer thickness (same as the photosensitive layer thickness) increases, the amount of supported dye increases per unit projected area and thus the light capture rate increases. Loss due to coupling also increases. Therefore, the preferable thickness of the semiconductor fine particle layer is 0.1 to 100 μm. When used in a photoelectrochemical cell, the thickness of the semiconductor fine particle layer is preferably 1 to 30 μm, and more preferably 2 to 25 μm. The coating amount of semiconductor fine particles per 1 m 2 of the support is preferably 0.5 to 100 g, more preferably 3 to 50 g.

半導体微粒子を導電性支持体上に塗布した後で半導体微粒子同士を電子的に接触させるとともに、塗膜強度の向上や支持体との密着性を向上させるために、加熱処理するのが好ましい。好ましい加熱温度の範囲は40℃以上700℃以下であり、より好ましくは100℃以上600℃以下である。また加熱時間は10分〜10時間程度である。ポリマーフィルムのように融点や軟化点の低い支持体を用いる場合、高温処理は支持体の劣化を招くため好ましくない。またコストの観点からもできる限り低温(例えば50℃〜350℃)であるのが好ましい。低温化は5nm以下の小さい半導体微粒子や鉱酸、金属酸化物プレカーサーの存在下での加熱処理等により可能となり、また、紫外線、赤外線、マイクロ波等の照射や電界、超音波を印加することにより行うこともできる。同時に不要な有機物等を除去する目的で、上記の照射や印加のほか加熱、減圧、酸素プラズマ処理、純水洗浄、溶剤洗浄、ガス洗浄等を適宜組み合わせて併用することが好ましい。   After the semiconductor fine particles are applied on the conductive support, the semiconductor fine particles are preferably brought into contact with each other electronically, and heat treatment is preferably performed in order to improve the coating strength and the adhesion to the support. A preferable heating temperature range is 40 ° C. or more and 700 ° C. or less, and more preferably 100 ° C. or more and 600 ° C. or less. The heating time is about 10 minutes to 10 hours. When using a support having a low melting point or softening point such as a polymer film, high temperature treatment is not preferable because it causes deterioration of the support. Moreover, it is preferable that it is as low temperature as possible (for example, 50 to 350 degreeC) also from a viewpoint of cost. The temperature can be lowered by heat treatment in the presence of small semiconductor particles of 5 nm or less, mineral acids, and metal oxide precursors, and by applying ultraviolet rays, infrared rays, microwaves, etc., electric fields, and ultrasonic waves. It can also be done. At the same time, for the purpose of removing unnecessary organic substances and the like, it is preferable to use a combination of irradiation, application, heating, decompression, oxygen plasma treatment, pure water cleaning, solvent cleaning, gas cleaning and the like in combination as appropriate.

加熱処理後、半導体微粒子の表面積を増大させたり、半導体微粒子近傍の純度を高め、色素から半導体微粒子への電子注入効率を高める目的で、例えば四塩化チタン水溶液を用いた化学メッキ処理や三塩化チタン水溶液を用いた電気化学的メッキ処理を行ってもよい。また、半導体微粒子から電荷輸送層へ逆電流が流れるのを防止する目的で、粒子表面に色素以外の電子電導性の低い有機物を吸着させることも有効である。吸着させる有機物としては疎水性基を持つものが好ましい。   After the heat treatment, for example, chemical plating using titanium tetrachloride aqueous solution or titanium trichloride to increase the surface area of the semiconductor fine particles, increase the purity in the vicinity of the semiconductor fine particles, and increase the efficiency of electron injection from the dye into the semiconductor fine particles. You may perform the electrochemical plating process using aqueous solution. In order to prevent a reverse current from flowing from the semiconductor fine particles to the charge transport layer, it is also effective to adsorb an organic substance having a low electron conductivity other than the dye on the particle surface. The organic substance to be adsorbed is preferably one having a hydrophobic group.

半導体微粒子層は、多くの色素を吸着することができるように大きい表面積を有することが好ましい。半導体微粒子の層を支持体上に塗布した状態での表面積は、投影面積に対して10倍以上であるのが好ましく、さらに100倍以上であるのが好ましい。この上限は特に制限はないが、通常1000倍程度である。   The semiconductor fine particle layer preferably has a large surface area so that a large amount of dye can be adsorbed. The surface area of the semiconductor fine particle layer coated on the support is preferably at least 10 times, more preferably at least 100 times the projected area. The upper limit is not particularly limited, but is usually about 1000 times.

(3)色素
感光層に用いる増感色素は、可視域や近赤外域に吸収を有し、半導体を増感しうる化合物なら任意に用いることができるが、金属錯体色素、メチン色素、ポルフィリン系色素及びフタロシアニン系色素が好ましく、金属錯体色素が特に好ましい。また、光電変換の波長域をできるだけ広くし、かつ変換効率を上げるために二種類以上の色素を併用又は混合して使用することができる。この場合、目的とする光源の波長域と強度分布に合わせるように、併用又は混合する色素とその割合を選ぶことができる。
(3) Dye The sensitizing dye used in the photosensitive layer can be arbitrarily used as long as it is a compound that has absorption in the visible region and near infrared region and can sensitize semiconductors, but metal complex dyes, methine dyes, porphyrins Dyes and phthalocyanine dyes are preferred, and metal complex dyes are particularly preferred. In addition, two or more kinds of dyes can be used in combination or mixed in order to widen the wavelength range of photoelectric conversion as much as possible and increase the conversion efficiency. In this case, it is possible to select the dye to be used or mixed and the ratio thereof so as to match the wavelength range and intensity distribution of the target light source.

こうした色素は半導体微粒子の表面に対して吸着能力の有る適当な結合基(interlocking group)を有しているのが好ましい。好ましい結合基としては、-COOH基、-OH基、-SO3H基、-P(O)(OH)2基及び-OP(O)(OH)2基のような酸性基、並びにオキシム、ジオキシム、ヒドロキシキノリン、サリチレート及びα-ケトエノレートのようなπ伝導性を有するキレート化基が挙げられる。中でも-COOH基、-P(O)(OH)2基及び-OP(O)(OH)2基が特に好ましい。これらの基はアルカリ金属等と塩を形成していてもよく、また分子内塩を形成していてもよい。またポリメチン色素の場合、メチン鎖がスクアリリウム環やクロコニウム環を形成する場合のように酸性基を含有するなら、この部分を結合基としてもよい。 Such a dye preferably has an appropriate interlocking group capable of adsorbing to the surface of the semiconductor fine particles. Preferred linking groups include -COOH groups, -OH groups, -SO 3 H groups, acidic groups such as -P (O) (OH) 2 groups and -OP (O) (OH) 2 groups, and oximes, Examples include chelating groups having π conductivity such as dioxime, hydroxyquinoline, salicylate and α-ketoenolate. Among them, -COOH group, -P (O) (OH) 2 group and -OP (O) (OH) 2 group are particularly preferable. These groups may form a salt with an alkali metal or the like, or may form an internal salt. In the case of a polymethine dye, if the methine chain contains an acidic group as in the case where the methine chain forms a squarylium ring or a croconium ring, this part may be used as a linking group.

以下、感光層に用いる好ましい増感色素を具体的に説明する。
(a)金属錯体色素
色素が金属錯体色素である場合、金属フタロシアニン色素、金属ポルフィリン色素又はルテニウム錯体色素が好ましく、ルテニウム錯体色素が特に好ましい。ルテニウム錯体色素としては、例えば米国特許4927721号、同4684537号、同5084365号、同5350644号、同5463057号、同5525440号、特開平7-249790号、特表平10-504512号、WO 98/50393号、特開2000-26487号等に記載の錯体色素が挙げられる。
Hereinafter, preferred sensitizing dyes used in the photosensitive layer will be specifically described.
(a) Metal Complex Dye When the dye is a metal complex dye, a metal phthalocyanine dye, a metal porphyrin dye, or a ruthenium complex dye is preferable, and a ruthenium complex dye is particularly preferable. Examples of the ruthenium complex dye include, for example, U.S. Pat.Nos. 4,972,721, 4,684,537, 5,844,365, 5,350,644, 5,630,57, 5,525,440, JP-A-7-249790, JP-T-10-504512, WO 98 / And complex dyes described in JP 50393 and JP 2000-26487 A.

さらにルテニウム錯体色素は下記一般式(V):
(A1)pRu(B-a)(B-b)(B-c) ・・・(V)
により表されるのが好ましい。一般式(V)中、A1は1又は2座の配位子を表し、好ましくはCl、SCN、H2O、Br、I、CN、NCO、SeCN、β-ジケトン誘導体、シュウ酸誘導体及びジチオカルバミン酸誘導体からなる群から選ばれた配位子である。pは0〜3の整数である。B-a、B-b及びB-cはそれぞれ独立に下記式B-1〜B-10のいずれかにより表される有機配位子を表す。
Furthermore, ruthenium complex dyes have the following general formula (V):
(A 1 ) p Ru (Ba) (Bb) (Bc) (V)
Is preferably represented by: In general formula (V), A 1 represents a mono- or bidentate ligand, preferably Cl, SCN, H 2 O, Br, I, CN, NCO, SeCN, β-diketone derivative, oxalic acid derivative and It is a ligand selected from the group consisting of dithiocarbamic acid derivatives. p is an integer of 0-3. Ba, Bb and Bc each independently represents an organic ligand represented by any one of the following formulas B-1 to B-10.

式B-1〜B-10中、R5は水素原子又は置換基を表し、該置換基の例としてはハロゲン原子、炭素原子数1〜12の置換又は無置換のアルキル基、炭素原子数7〜12の置換又は無置換のアラルキル基、炭素原子数6〜12の置換又は無置換のアリール基、前述の酸性基(これらの酸性基は塩を形成していてもよい)及びキレート化基が挙げられる。ここで、アルキル基及びアラルキル基のアルキル部分は直鎖状でも分岐状でもよく、またアリール基及びアラルキル基のアリール部分は単環でも多環(縮合環、環集合)でもよい。B-a、B-b及びB-cは同一でも異なっていてもよく、いずれか1つ又は2つでもよい。 In formulas B-1 to B-10, R 5 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and 7 carbon atoms. A substituted or unsubstituted aralkyl group of -12, a substituted or unsubstituted aryl group of 6 to 12 carbon atoms, the aforementioned acidic groups (these acidic groups may form a salt) and a chelating group Can be mentioned. Here, the alkyl part of the alkyl group and the aralkyl group may be linear or branched, and the aryl part of the aryl group and the aralkyl group may be monocyclic or polycyclic (fused ring, ring assembly). Ba, Bb and Bc may be the same or different, and may be any one or two.

金属錯体色素の好ましい具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of a metal complex dye is shown below, it is not limited to these.


(b)メチン色素
好ましいメチン色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等のポリメチン色素である。好ましく用いられるポリメチン色素の例としては、特開平11-35836号、特開平11-67285号、特開平11-86916号、特開平11-97725号、特開平11-158395号、特開平11-163378号、特開平11-214730号、特開平11-214731号、特開平11-238905号、特開2000-26487号、欧州特許892411号、同911841号及び同991092号の各明細書に記載の色素が挙げられる。好ましいメチン色素の具体例を下に示す。
(b) Methine dyes Preferred methine dyes are polymethine dyes such as cyanine dyes, merocyanine dyes and squarylium dyes. Examples of polymethine dyes preferably used include JP-A-11-35836, JP-A-11-67285, JP-A-11-86916, JP-A-11-97725, JP-A-11-158395, and JP-A-11-163378. , JP-A-11-214730, JP-A-11-214731, JP-A-11-238905, JP-A-2000-26487, European Patents 892411, 918441 and 991092 Is mentioned. Specific examples of preferred methine dyes are shown below.

(4)半導体微粒子への色素の吸着
半導体微粒子膜への色素の吸着は、色素の溶液中によく乾燥した半導体微粒子層を有する導電性支持体を浸漬するか、色素の溶液を半導体微粒子層に塗布する方法を用いることができる。前者の場合、浸漬法、ディップ法、ローラ法、エアーナイフ法等が使用可能である。浸漬法の場合、色素の吸着は室温で行ってもよいし、特開平7-249790号に記載されているように加熱還流して行ってもよい。また後者の塗布方法としては、ワイヤーバー法、スライドホッパー法、エクストルージョン法、カーテン法、スピン法、スプレー法等がある。また、インクジェット法等によって色素を画像状に塗布し、この画像そのものを光電変換素子とすることもできる。色素を溶解する溶媒の好ましい例としては、アルコール類(メタノール、エタノール、t-ブタノール、ベンジルアルコール等)、ニトリル類(アセトニトリル、プロピオニトリル、3-メトキシプロピオニトリル等)、ニトロメタン、ハロゲン化炭化水素(ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等)、エーテル類(ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等)、ジメチルスルホキシド、アミド類(N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセタミド等)、N-メチルピロリドン、1,3-ジメチルイミダゾリジノン、3-メチルオキサゾリジノン、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、炭酸エステル類(炭酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等)、ケトン類(アセトン、2-ブタノン、シクロヘキサノン等)、炭化水素(へキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエン等)、これらの混合溶媒等が挙げられる。
(4) Adsorption of dye to semiconductor fine particles Adsorption of dye to semiconductor fine particle film is performed by immersing a conductive support having a well-dried semiconductor fine particle layer in a dye solution, or by applying a dye solution to the semiconductor fine particle layer. A coating method can be used. In the former case, an immersion method, a dip method, a roller method, an air knife method or the like can be used. In the case of the immersion method, the adsorption of the dye may be performed at room temperature or may be performed by heating and refluxing as described in JP-A-7-249790. Examples of the latter application method include a wire bar method, a slide hopper method, an extrusion method, a curtain method, a spin method, and a spray method. In addition, a dye can be applied in an image form by an inkjet method or the like, and the image itself can be used as a photoelectric conversion element. Preferred examples of the solvent for dissolving the dye include alcohols (methanol, ethanol, t-butanol, benzyl alcohol, etc.), nitriles (acetonitrile, propionitrile, 3-methoxypropionitrile, etc.), nitromethane, halogenated carbonization. Hydrogen (dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, etc.), ethers (diethyl ether, tetrahydrofuran, etc.), dimethyl sulfoxide, amides (N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), N-methylpyrrolidone , 1,3-dimethylimidazolidinone, 3-methyloxazolidinone, esters (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), carbonates (diethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, etc.), ketones (acetone, 2-butanone, Cyclohexanone, etc.), carbonized water Examples thereof include hexane, petroleum ether, benzene, toluene and the like, and mixed solvents thereof.

色素の全吸着量は、多孔質半導体電極基板の単位面積(1m2)当たり0.01〜100mmolとするのが好ましい。また色素の半導体微粒子に対する吸着量は、半導体微粒子1g当たり0.01〜1mmolの範囲であるのが好ましい。このような色素の吸着量とすることにより半導体における増感効果が十分に得られる。これに対し、色素が少なすぎると増感効果が不十分となり、また色素が多すぎると半導体に付着していない色素が浮遊し、増感効果を低減させる原因となる。色素の吸着量を増大させるためには、吸着前に加熱処理を行うのが好ましい。加熱処理後、半導体微粒子表面に水が吸着するのを避けるため、常温に戻さずに、半導体電極基板の温度が60〜150℃の間で素早く色素の吸着操作を行うのが好ましい。 The total amount of dye adsorbed is preferably 0.01 to 100 mmol per unit area (1 m 2 ) of the porous semiconductor electrode substrate. The amount of the dye adsorbed on the semiconductor fine particles is preferably in the range of 0.01 to 1 mmol per 1 g of the semiconductor fine particles. By using such an amount of dye adsorbed, a sensitizing effect in a semiconductor can be sufficiently obtained. On the other hand, if the amount of the dye is too small, the sensitizing effect becomes insufficient, and if the amount of the dye is too large, the dye not attached to the semiconductor floats, which causes a reduction in the sensitizing effect. In order to increase the adsorption amount of the dye, it is preferable to perform a heat treatment before the adsorption. In order to avoid water adsorbing on the surface of the semiconductor fine particles after the heat treatment, it is preferable to quickly perform the dye adsorption operation at a temperature of the semiconductor electrode substrate of 60 to 150 ° C. without returning to normal temperature.

色素間の凝集などの相互作用を低減する目的で、無色の化合物を色素に添加し、半導体微粒子に共吸着させてもよい。この目的で有効な化合物は界面活性な性質、構造をもった化合物であり、例えば、カルボキシル基を有するステロイド化合物(例えばケノデオキシコール酸)や下記の例のようなスルホン酸塩類が挙げられる。
For the purpose of reducing interaction such as aggregation between the dyes, a colorless compound may be added to the dyes and co-adsorbed on the semiconductor fine particles. Compounds effective for this purpose are compounds having surface active properties and structures, and examples thereof include steroid compounds having a carboxyl group (for example, chenodeoxycholic acid) and sulfonates such as the following examples.

未吸着の色素は、吸着後速やかに洗浄により除去するのが好ましい。湿式洗浄槽を使い、アセトニトリル等の極性溶剤、アルコール系溶剤のような有機溶媒で洗浄を行うのが好ましい。色素を吸着した後にアミン類や4級塩を用いて半導体微粒子の表面を処理してもよい。好ましいアミン類としてはピリジン、4-t-ブチルピリジン、ポリビニルピリジン等が挙げられ、好ましい4級塩としてはテトロブチルアンモニウムヨージド、テトラヘキシルアンモニウムヨージド等が挙げられる。これらが液体の場合はそのまま用いてもよいし、有機溶媒に溶解して用いてもよい。   The unadsorbed dye is preferably removed by washing immediately after adsorption. It is preferable to use a wet cleaning tank and perform cleaning with a polar solvent such as acetonitrile or an organic solvent such as an alcohol solvent. After adsorbing the dye, the surface of the semiconductor fine particles may be treated with an amine or a quaternary salt. Preferable amines include pyridine, 4-t-butylpyridine, polyvinylpyridine and the like, and preferable quaternary salts include tetrobutylammonium iodide, tetrahexylammonium iodide and the like. When these are liquids, they may be used as they are, or may be used after being dissolved in an organic solvent.

(C)電荷輸送層
電荷輸送層は上記電解質組成物を含有する。電荷輸送層の形成方法に関しては2通りの方法が考えられる。1つは感光層の上に先に対極を貼り合わせておき、その間隙に液状の電荷輸送層を挟み込む方法である。もう1つは感光層上に直接、電荷輸送層を付与する方法で、対極はその後付与することになる。
(C) Charge transport layer The charge transport layer contains the above electrolyte composition. There are two possible methods for forming the charge transport layer. One is a method in which a counter electrode is first bonded onto the photosensitive layer, and a liquid charge transport layer is sandwiched between the gaps. The other is a method in which a charge transport layer is provided directly on the photosensitive layer, and a counter electrode is subsequently provided.

前者の方法の場合、電荷輸送層の挟み込み方法として、浸漬等による毛管現象を利用する常圧プロセス、又は常圧より低い圧力にして間隙の気相を液相に置換する真空プロセスを利用できる。   In the case of the former method, as a method for sandwiching the charge transport layer, a normal pressure process using a capillary phenomenon due to dipping or the like, or a vacuum process in which the gas phase in the gap is replaced with a liquid phase at a pressure lower than normal pressure can be used.

後者の方法の場合、湿式の電荷輸送層においては未乾燥のまま対極を付与し、エッジ部の液漏洩防止措置を施すことになる。またゲル電解質の場合には湿式で塗布して重合等の方法により固体化する方法があり、その場合には乾燥、固定化した後に対極を付与することもできる。電解液のほか湿式有機正孔輸送材料やゲル電解質を付与する方法としては、前述の半導体微粒子層や色素の付与と同様の方法を利用できる。   In the case of the latter method, the wet charge transporting layer is provided with a counter electrode without being dried, and measures for preventing liquid leakage at the edge portion are taken. In the case of a gel electrolyte, there is a method in which it is applied in a wet manner and solidified by a method such as polymerization. In this case, the counter electrode can be applied after drying and fixing. As a method for applying the wet organic hole transporting material and the gel electrolyte in addition to the electrolytic solution, the same methods as those for the semiconductor fine particle layer and the dye can be used.

固体電解質や固体の正孔輸送材料の場合には真空蒸着法やCVD法等のドライ成膜処理で電荷輸送層を形成し、その後対極を付与することもできる。有機正孔輸送材料は真空蒸着法、キャスト法、塗布法、スピンコート法、浸漬法、電解重合法、光電解重合法等の手法により電極内部に導入することができる。無機固体化合物の場合も、キャスト法、塗布法、スピンコート法、浸漬法、電解析出法、無電解メッキ法等の手法により電極内部に導入することができる。   In the case of a solid electrolyte or a solid hole transport material, a charge transport layer can be formed by a dry film forming process such as a vacuum deposition method or a CVD method, and then a counter electrode can be provided. The organic hole transport material can be introduced into the electrode by a technique such as a vacuum deposition method, a casting method, a coating method, a spin coating method, a dipping method, an electrolytic polymerization method, or a photoelectrolytic polymerization method. Also in the case of an inorganic solid compound, it can be introduced into the electrode by techniques such as casting, coating, spin coating, dipping, electrolytic deposition, and electroless plating.

なお、電荷輸送層中の水分は10,000ppm以下であるのが好ましく、さらに好ましくは2,000ppm以下であり、特に好ましくは100ppm以下である。   The moisture in the charge transport layer is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 2,000 ppm or less, and particularly preferably 100 ppm or less.

(D)対極
対極は前述の導電性支持体と同様に、導電性材料からなる対極導電層の単層構造でもよいし、対極導電層と支持基板から構成されていてもよい。対極導電層に用いる導電剤としては、金属(白金、金、銀、銅、アルミニウム、マグネシウム、インジウム等)、炭素、及び導電性金属酸化物(インジウム−スズ複合酸化物、フッ素ドープ酸化スズ等)が挙げられる。この中でも白金、金、銀、銅、アルミニウム及びマグネシウムが好ましく使用することができる。対極に用いる支持基板は、好ましくはガラス基板又はプラスチック基板であり、これに上記の導電剤を塗布又は蒸着して用いる。対極導電層の厚さは特に制限されないが、3nm〜10μmが好ましい。対極導電層の表面抵抗は低い程よい。好ましい表面抵抗の範囲としては50Ω/□以下であり、さらに好ましくは20Ω/□以下である。
(D) Counter Electrode The counter electrode may have a single-layer structure of a counter electrode conductive layer made of a conductive material, or may be composed of a counter electrode conductive layer and a support substrate, similarly to the above-described conductive support. As the conductive agent used for the counter electrode conductive layer, metals (platinum, gold, silver, copper, aluminum, magnesium, indium, etc.), carbon, and conductive metal oxides (indium-tin composite oxide, fluorine-doped tin oxide, etc.) Is mentioned. Among these, platinum, gold, silver, copper, aluminum, and magnesium can be preferably used. The support substrate used for the counter electrode is preferably a glass substrate or a plastic substrate, and the above-mentioned conductive agent is applied or vapor-deposited thereon. The thickness of the counter electrode conductive layer is not particularly limited, but is preferably 3 nm to 10 μm. The lower the surface resistance of the counter electrode conductive layer, the better. The range of the surface resistance is preferably 50Ω / □ or less, more preferably 20Ω / □ or less.

導電性支持体と対極のいずれか一方又は両方から光を照射してよいので、感光層に光が到達するためには、導電性支持体と対極の少なくとも一方が実質的に透明であればよい。発電効率の向上の観点からは、導電性支持体を透明にして光を導電性支持体側から入射させるのが好ましい。この場合、対極は光を反射する性質を有するのが好ましい。このような対極としては、金属又は導電性酸化物を蒸着したガラス又はプラスチック、或いは金属薄膜を使用できる。   Since light may be irradiated from either or both of the conductive support and the counter electrode, in order for light to reach the photosensitive layer, at least one of the conductive support and the counter electrode may be substantially transparent. . From the viewpoint of improving the power generation efficiency, it is preferable to make the conductive support transparent so that light is incident from the conductive support side. In this case, the counter electrode preferably has a property of reflecting light. As such a counter electrode, glass or plastic deposited with a metal or a conductive oxide, or a metal thin film can be used.

対極は電荷輸送層上に直接導電剤を塗布、メッキ又は蒸着(PVD、CVD)するか、導電層を有する基板の導電層側を貼り付ければよい。また、導電性支持体の場合と同様に、特に対極が透明の場合には対極の抵抗を下げる目的で金属リードを用いるのが好ましい。なお、好ましい金属リードの材質及び設置方法、金属リード設置による入射光量の低下等は導電性支持体の場合と同じである。   The counter electrode may be formed by directly applying, plating, or vapor-depositing (PVD, CVD) a conductive agent on the charge transport layer, or attaching the conductive layer side of the substrate having the conductive layer. As in the case of the conductive support, it is preferable to use a metal lead for the purpose of reducing the resistance of the counter electrode, particularly when the counter electrode is transparent. In addition, the material and installation method of a preferable metal lead, the fall of the incident light amount by metal lead installation, etc. are the same as the case of an electroconductive support body.

(E)その他の層
対極と導電性支持体の短絡を防止するため、導電性支持体と感光層の間には、緻密な半導体の薄膜層を下塗り層として予め塗設しておくことが好ましい。この下塗り層により短絡を防止する方法は、電荷輸送層に電子輸送材料や正孔輸送材料を用いる場合は特に有効である。下塗り層は好ましくはTiO2、SnO2、Fe2O3、WO3、ZnO又はNb2O5からなり、さらに好ましくはTiO2からなる。下塗り層は、例えばElectrochim. Acta, 40, 643-652 (1995)に記載されているスプレーパイロリシス法や、スパッタ法等により塗設することができる。下塗り層の好ましい膜厚は5〜1000nmであり、10〜500nmがさらに好ましい。
(E) Other layers In order to prevent a short circuit between the counter electrode and the conductive support, it is preferable to preliminarily coat a dense semiconductor thin film layer as an undercoat layer between the conductive support and the photosensitive layer. . This method of preventing a short circuit by the undercoat layer is particularly effective when an electron transport material or a hole transport material is used for the charge transport layer. The undercoat layer is preferably made of TiO 2 , SnO 2 , Fe 2 O 3 , WO 3 , ZnO or Nb 2 O 5 , more preferably TiO 2 . The undercoat layer can be applied by, for example, a spray pyrolysis method or a sputtering method described in Electrochim. Acta, 40, 643-652 (1995). The preferred thickness of the undercoat layer is 5 to 1000 nm, and more preferably 10 to 500 nm.

また、電極として作用する導電性支持体と対極の一方又は両方の外側表面、導電層と基板の間又は基板の中間に、保護層、反射防止層等の機能性層を設けてもよい。これらの機能性層の形成には、その材質に応じて塗布法、蒸着法、貼り付け法等を用いることができる。   Moreover, you may provide functional layers, such as a protective layer and an antireflection layer, in the outer surface of one or both of the electroconductive support body which acts as an electrode, and a counter electrode, between an electroconductive layer and a board | substrate, or in the middle of a board | substrate. For forming these functional layers, a coating method, a vapor deposition method, a bonding method, or the like can be used depending on the material.

(F)光電変換素子の内部構造の具体例
上述のように、光電変換素子の内部構造は目的に合わせ様々な形態が可能である。大きく2つに分ければ、両面から光の入射が可能な構造と、片面からのみ可能な構造が可能である。図2〜図9に好ましく適用できる光電変換素子の内部構造を例示する。
(F) Specific Example of Internal Structure of Photoelectric Conversion Element As described above, the internal structure of the photoelectric conversion element can take various forms according to the purpose. If roughly divided into two, a structure that allows light to enter from both sides and a structure that allows only one side are possible. The internal structure of the photoelectric conversion element preferably applicable to FIGS.

図2に示す構造は、透明導電層10aと透明対極導電層40aとの間に、感光層20と電荷輸送層30とを介在させたものであり、両面から光が入射する構造となっている。図3に示す構造は、透明基板50a上に一部金属リード11を設け、その上に透明導電層10aを設け、下塗り層60、感光層20、電荷輸送層30及び対極導電層40をこの順で設け、さらに支持基板50を配置したものであり、導電層側から光が入射する構造となっている。図4に示す構造は、支持基板50上に導電層10を有し、下塗り層60を介して感光層20を設け、さらに電荷輸送層30と透明対極導電層40aとを設け、一部に金属リード11を設けた透明基板50aを金属リード11側を内側にして配置したものであり、対極側から光が入射する構造である。図5に示す構造は、透明基板50a上に一部金属リード11を設け、さらに透明導電層10a(又は40a)を設けたもの1組の間に下塗り層60、感光層20及び電荷輸送層30を介在させたものであり、両面から光が入射する構造である。図6に示す構造は、透明基板50a上に透明導電層10a、下塗り層60、感光層20、電荷輸送層30及び対極導電層40を設け、この上に支持基板50を配置したものであり、導電層側から光が入射する構造である。図7に示す構造は、支持基板50上に導電層10を有し、下塗り層60を介して感光層20を設け、さらに電荷輸送層30及び透明対極導電層40aを設け、この上に透明基板50aを配置したものであり、対極側から光が入射する構造である。図8に示す構造は、透明基板50a上に透明導電層10aを有し、下塗り層60を介して感光層20を設け、さらに電荷輸送層30及び透明対極導電層40aを設け、この上に透明基板50aを配置したものであり、両面から光が入射する構造となっている。図9に示す構造は、支持基板50上に導電層10を設け、下塗り層60を介して感光層20を設け、さらに固体の電荷輸送層30を設け、この上に一部対極導電層40又は金属リード11を有するものであり、対極側から光が入射する構造となっている。   In the structure shown in FIG. 2, the photosensitive layer 20 and the charge transport layer 30 are interposed between the transparent conductive layer 10a and the transparent counter electrode conductive layer 40a, and light is incident from both sides. . In the structure shown in FIG. 3, a metal lead 11 is partially provided on a transparent substrate 50a, a transparent conductive layer 10a is provided thereon, and an undercoat layer 60, a photosensitive layer 20, a charge transport layer 30, and a counter electrode conductive layer 40 are arranged in this order. Further, a support substrate 50 is arranged, and light is incident from the conductive layer side. The structure shown in FIG. 4 has a conductive layer 10 on a support substrate 50, a photosensitive layer 20 provided through an undercoat layer 60, a charge transport layer 30 and a transparent counter electrode conductive layer 40a, and a metal in part The transparent substrate 50a provided with the leads 11 is disposed with the metal lead 11 side inward, and has a structure in which light enters from the counter electrode side. In the structure shown in FIG. 5, the primer layer 60, the photosensitive layer 20, and the charge transport layer 30 are provided between a pair of metal leads 11 provided on a transparent substrate 50 a and a transparent conductive layer 10 a (or 40 a). In this structure, light enters from both sides. In the structure shown in FIG. 6, a transparent conductive layer 10a, an undercoat layer 60, a photosensitive layer 20, a charge transport layer 30 and a counter electrode conductive layer 40 are provided on a transparent substrate 50a, and a support substrate 50 is disposed thereon. In this structure, light enters from the conductive layer side. The structure shown in FIG. 7 has a conductive layer 10 on a support substrate 50, a photosensitive layer 20 provided via an undercoat layer 60, a charge transport layer 30 and a transparent counter electrode conductive layer 40a, and a transparent substrate thereon. 50a is arranged, and light is incident from the counter electrode side. The structure shown in FIG. 8 has a transparent conductive layer 10a on a transparent substrate 50a, a photosensitive layer 20 is provided via an undercoat layer 60, a charge transport layer 30 and a transparent counter electrode conductive layer 40a are provided, and a transparent layer is provided thereon. The substrate 50a is disposed, and light is incident from both sides. In the structure shown in FIG. 9, the conductive layer 10 is provided on the support substrate 50, the photosensitive layer 20 is provided via the undercoat layer 60, and the solid charge transport layer 30 is further provided. It has a metal lead 11 and has a structure in which light is incident from the counter electrode side.

[3]光電気化学電池
光電気化学電池は、上記光電変換素子に外部負荷で仕事をさせるようにしたものである。光電気化学電池のうち、太陽光による発電を主目的としたものを太陽電池と呼ぶ。
[3] Photoelectrochemical cell The photoelectrochemical cell is one in which the photoelectric conversion element is caused to work with an external load. Among the photoelectrochemical cells, those mainly intended for power generation by sunlight are called solar cells.

光電気化学電池の側面は、構成物の劣化や内容物の揮散を防止するためにポリマーや接着剤等で密封するのが好ましい。導電性支持体及び対極にリードを介して接続する外部回路自体は公知のものでよい。   The side surface of the photoelectrochemical cell is preferably sealed with a polymer, an adhesive, or the like in order to prevent deterioration of the constituents or volatilization of the contents. The external circuit itself connected to the conductive support and the counter electrode via a lead may be a known one.

光電変換素子を太陽電池に適用する場合も、そのセル内部の構造は基本的に上述した光電変換素子の構造と同じである。また、光電変換素子を用いた色素増感型太陽電池は、従来の太陽電池モジュールと基本的には同様のモジュール構造をとりうる。太陽電池モジュールは、一般的には金属、セラミック等の支持基板の上にセルが構成され、その上を充填樹脂や保護ガラス等で覆い、支持基板の反対側から光を取り込む構造をとるが、支持基板に強化ガラス等の透明材料を用い、その上にセルを構成してその透明の支持基板側から光を取り込む構造とすることも可能である。具体的には、スーパーストレートタイプ、サブストレートタイプ、ポッティングタイプと呼ばれるモジュール構造、アモルファスシリコン太陽電池等で用いられる基板一体型モジュール構造等が知られており、色素増感型太陽電池も使用目的や使用場所及び環境により、適宜モジュール構造を選択できる。具体的には、特開2000-268892号に記載の構造や態様とすることが好ましい。   Even when the photoelectric conversion element is applied to a solar cell, the structure inside the cell is basically the same as the structure of the photoelectric conversion element described above. In addition, a dye-sensitized solar cell using a photoelectric conversion element can basically have the same module structure as a conventional solar cell module. The solar cell module generally has a structure in which cells are formed on a support substrate such as metal or ceramic, and the cell is covered with a filling resin or protective glass, and light is taken in from the opposite side of the support substrate. It is also possible to use a transparent material such as tempered glass for the support substrate, configure a cell thereon, and take in light from the transparent support substrate side. Specifically, module structures called super straight type, substrate type, potting type, and substrate integrated module structures used in amorphous silicon solar cells, etc. are known. Dye-sensitized solar cells are also used for and where they are used. The module structure can be appropriately selected depending on the environment. Specifically, the structure and aspect described in JP-A-2000-268892 are preferable.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

1.ツイッターイオン型有機塩の合成
以下の通り電解質組成物に用いるツイッターイオン型有機塩を合成した。なお、合成した各ツイッターイオン型有機塩の構造はNMRスペクトル及びMSスペクトルにより確認した。
1. Synthesis of Twitter ion-type organic salt A Twitter ion-type organic salt used in the electrolyte composition was synthesized as follows. The structure of each synthesized ionic organic salt was confirmed by NMR spectrum and MS spectrum.

(A)D-1の合成
0.4gの化合物A-1及び1.5gの化合物B-1を10mlのアセトニトリルに溶解し、加熱環流下、8時間反応させた。これを減圧下で濃縮し、塩化メチレンを加え不溶の塩化リチウムを除去した後、シリカゲルカラム(展開溶媒:メタノール/塩化メチレン)によって精製して1.1gの化合物D-1を得た。得られた化合物D-1のMSスペクトルを測定したところ、M+(posi)=335であった。また化合物D-1の粘度は990 cP (25℃)であった。
(A) Synthesis of D-1
0.4 g of compound A-1 and 1.5 g of compound B-1 were dissolved in 10 ml of acetonitrile and reacted for 8 hours under heating reflux. This was concentrated under reduced pressure, methylene chloride was added to remove insoluble lithium chloride, and then purified by a silica gel column (developing solvent: methanol / methylene chloride) to obtain 1.1 g of compound D-1. When MS spectrum of the obtained compound D-1 was measured, it was M + (posi) = 335. The viscosity of Compound D-1 was 990 cP (25 ° C.).

(B)D-2の合成
0.4gの化合物A-1及び2.5gの化合物B-2を10mlのアセトニトリルに溶解し、加熱環流下、8時間反応させた。これを減圧下で濃縮し、塩化メチレンを加え不溶の塩化リチウムを除去した後、シリカゲルカラム(展開溶媒:メタノール/塩化メチレン)によって精製して0.9gの化合物D-2を得た。得られた化合物D-2のMSスペクトルを測定したところ、M+(posi)=409であった。また化合物D-2の粘度は1680 cP (25℃)であった。
(B) Synthesis of D-2
0.4 g of compound A-1 and 2.5 g of compound B-2 were dissolved in 10 ml of acetonitrile and reacted for 8 hours under heating and reflux. This was concentrated under reduced pressure, methylene chloride was added to remove insoluble lithium chloride, and then purified by a silica gel column (developing solvent: methanol / methylene chloride) to obtain 0.9 g of compound D-2. When MS spectrum of the obtained compound D-2 was measured, it was M + (posi) = 409. The viscosity of Compound D-2 was 1680 cP (25 ° C.).

(C)D-18の合成
0.4gの化合物A-1及び3.5gの化合物B-2を20mlのアセトニトリルに溶解し、加熱環流下、8時間反応させた。これを減圧下で濃縮し、塩化メチレンを加え不溶の塩化リチウムを除去した後、テトラブチルアンモニウムのメタノール溶液を加えてシリカゲルカラム(展開溶媒:メタノール/塩化メチレン)によって精製して0.5gの化合物D-18を得た。得られた化合物D-18のMSスペクトルを測定したところ、M+(posi)=602であった。また化合物D-18の粘度は3210 cP (25℃)であった。
(C) Synthesis of D-18
0.4 g of compound A-1 and 3.5 g of compound B-2 were dissolved in 20 ml of acetonitrile and reacted for 8 hours under reflux with heating. This was concentrated under reduced pressure, methylene chloride was added to remove insoluble lithium chloride, and a methanol solution of tetrabutylammonium was added and purified by a silica gel column (developing solvent: methanol / methylene chloride) to obtain 0.5 g of compound D. Got -18. The MS spectrum of Compound D-18 obtained was measured and found to be M + (posi) = 602. The viscosity of Compound D-18 was 3210 cP (25 ° C.).

2.光電気化学電池の作製
(A)二酸化チタン分散液の調製
内側をテフロン(登録商標)コーティングした内容積200mlのステンレス製容器に15gの二酸化チタン微粒子(日本アエロジル(株)製「Degussa P-25」)、45gの水、1gの分散剤(アルドリッチ社製「Triton X-100」)、及び30gのジルコニアビーズ(ニッカトー社製、直径0.5mm)を入れ、サンドグラインダーミル(アイメックス社製)を用いて1500rpmで2時間分散処理し、ジルコニアビーズをろ過により除去して二酸化チタン分散液を得た。得られた二酸化チタン分散液中の二酸化チタン微粒子の平均粒径は2.5μmであった。なお、粒径はMALVERN社製のマスターサイザーを用いて測定した。
2. Production of photoelectrochemical cell
(A) Preparation of titanium dioxide dispersion 15 g of titanium dioxide fine particles (Degussa P-25 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), 45 g of water in a 200 ml stainless steel container with an inner volume of Teflon (registered trademark) coating Add 1 g of dispersant (Aldrich “Triton X-100”) and 30 g of zirconia beads (Nikkato, 0.5 mm in diameter), and disperse for 2 hours at 1500 rpm using a sand grinder mill (Eimex). Then, the zirconia beads were removed by filtration to obtain a titanium dioxide dispersion. The average particle diameter of the titanium dioxide fine particles in the obtained titanium dioxide dispersion was 2.5 μm. The particle size was measured using a master sizer manufactured by MALVERN.

(B)色素増感TiO2電極基板の作製
フッ素をドープした酸化スズ層を有する導電性ガラス(旭硝子(株)製「TCOガラス-U」を20mm×20mmの大きさに切断加工したもの、表面抵抗約30Ω/□)の導電面側にガラス棒を用いて上記二酸化チタン分散液を塗布した。半導体微粒子の塗布量は20g/m2とした。その際、導電面側の一部(端から3mm)に粘着テープを張ってスペーサーとし、粘着テープが両端に来るようにガラスを並べて一度に8枚ずつ塗布した。塗布後、粘着テープを剥離し、室温で1日間風乾した。次にこのガラスを電気炉(ヤマト科学(株)製マッフル炉「FP-32型」)に入れ、450℃にて30分間焼成し、TiO2電極を得た。このTiO2電極を取り出し冷却した後、色素R-1のエタノール溶液(3×10-4mol/l)に3時間浸漬し、さらに4-t-ブチルピリジンに15分間浸漬した。これをアセトニトリルで洗浄し、自然乾燥して色素増感TiO2電極基板を得た。
(B) Preparation of dye-sensitized TiO 2 electrode substrate Conductive glass having a tin oxide layer doped with fluorine ("TCO glass-U" manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. cut to a size of 20mm x 20mm, surface The titanium dioxide dispersion was applied to the conductive surface side having a resistance of about 30Ω / □ using a glass rod. The coating amount of the semiconductor fine particles was 20 g / m 2 . At that time, adhesive tape was stretched on a part of the conductive surface side (3 mm from the end) to form a spacer, and glass was lined up so that the adhesive tape came to both ends, and 8 sheets were applied at a time. After application, the adhesive tape was peeled off and air-dried at room temperature for 1 day. Next, this glass was put into an electric furnace (a muffle furnace “FP-32 type” manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) and baked at 450 ° C. for 30 minutes to obtain a TiO 2 electrode. After this TiO 2 electrode was taken out and cooled, it was immersed in an ethanol solution of dye R-1 (3 × 10 −4 mol / l) for 3 hours and further immersed in 4-t-butylpyridine for 15 minutes. This was washed with acetonitrile and naturally dried to obtain a dye-sensitized TiO 2 electrode substrate.

(C)光電気化学電池の作製
上述の色素増感TiO2電極基板(20mm×20mm)をこれと同じ大きさの白金蒸着ガラスと重ね合わせた。次に、10質量%の下記電解質塩Y-1、2質量%のヨウ素及び88質量%のビスシアノエチルエーテル(BCE)からなる電解質組成物を、両ガラスの隙間に毛細管現象を利用して染み込ませてTiO2電極中に導入し、エポキシ系封止剤で封止して図1に示した構造を有する比較例1の光電気化学電池を作製した。
(C) Production of photoelectrochemical cell The above-described dye-sensitized TiO 2 electrode substrate (20 mm × 20 mm) was superposed on platinum-deposited glass having the same size. Next, an electrolyte composition consisting of 10% by mass of the following electrolyte salt Y-1, 2% by mass of iodine and 88% by mass of biscyanoethyl ether (BCE) is soaked into the gap between the two glasses by utilizing capillary action. Then, it was introduced into a TiO 2 electrode and sealed with an epoxy sealant to prepare a photoelectrochemical cell of Comparative Example 1 having the structure shown in FIG.

電解質組成物を下記表1に示すように変更したこと以外は比較例1の光電気化学電池と同様の方法により、実施例1〜13及び比較例2〜8の光電気化学電池をそれぞれ作製した。ただし、電解質組成物の粘度が高く毛細管現象を利用して電解質組成物を両ガラスの隙間に染み込ませることが困難な場合は、電解質組成物を50℃に加温してTiO2電極に塗布し、これを減圧下に置いて電解質組成物を十分浸透させるとともにTiO2電極中の空気を抜き、白金蒸着ガラス(対極)を重ね合わせた。各実施例及び比較例に用いた電解質塩Y-1〜Y-4の構造を以下に示す。また、表1中の「LiTFSI」はリチウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide)を表す。 The photoelectrochemical cells of Examples 1 to 13 and Comparative Examples 2 to 8 were produced in the same manner as the photoelectrochemical cell of Comparative Example 1 except that the electrolyte composition was changed as shown in Table 1 below. . However, if the electrolyte composition has a high viscosity and it is difficult to make the electrolyte composition soak into the gap between the two glasses by utilizing capillary action, the electrolyte composition is heated to 50 ° C. and applied to the TiO 2 electrode. Then, this was placed under reduced pressure to sufficiently infiltrate the electrolyte composition, and air in the TiO 2 electrode was evacuated, and a platinum-deposited glass (counter electrode) was superposed. The structures of the electrolyte salts Y-1 to Y-4 used in each example and comparative example are shown below. “LiTFSI” in Table 1 represents lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide.

3.光電変換効率の測定
500Wのキセノンランプ(ウシオ電気(株)製)の光をOriel社製「AM1.5フィルター」及びシャープカットフィルター「Kenko L-42」を通すことにより、紫外線を含まない模擬太陽光を発生させた。この光の強度は100mW/cm2であった。この模擬太陽光を45℃にて上記実施例1〜13及び比較例1〜8の光電気化学電池に照射し、発生した電気を電流電圧測定装置「ケースレーSMU238型」にて測定した。各光電気化学電池の開放電圧、短絡電流密度、形状因子、変換効率及び72時間暗所保存後の短絡電流密度の低下率を下記表2に示す。
3.Measurement of photoelectric conversion efficiency
Simulated sunlight that does not contain ultraviolet rays was generated by passing light from a 500 W xenon lamp (USHIO ELECTRIC CO., LTD.) Through the “AM1.5 filter” manufactured by Oriel and the “Kenko L-42” sharp cut filter. . The intensity of this light was 100 mW / cm 2 . This simulated sunlight was irradiated to the photoelectrochemical cells of Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 8 at 45 ° C., and the generated electricity was measured with a current-voltage measuring device “Keutley SMU238 type”. Table 2 below shows the open-circuit voltage, short-circuit current density, shape factor, conversion efficiency, and rate of decrease in short-circuit current density after 72 hours of dark storage for each photoelectrochemical cell.

表2に示したように、30質量%以上の有機溶媒を含有する電解質組成物を用いた光電気化学電池(比較例1〜3並びに実施例1及び2)では暗所保存後の短絡電流密度の低下が著しいが、電解質組成物を用いた実施例1及び2の光電気化学電池は、従来のイミダゾリウム塩のみを含有する電解質組成物を用いた比較例1及び3の光電気化学電池よりも優れた変換効率及び保存安定性を示した。また、表2より、短絡電流密度の低下を抑えるためには電解質組成物の溶媒含有量は10質量%以下とするのが好ましく、溶媒を使用しないことがより好ましいことがわかる。   As shown in Table 2, in the photoelectrochemical cell (Comparative Examples 1 to 3 and Examples 1 and 2) using the electrolyte composition containing 30% by mass or more of the organic solvent, the short-circuit current density after storage in the dark place However, the photoelectrochemical cells of Examples 1 and 2 using the electrolyte composition are more than the conventional photoelectrochemical cells of Comparative Examples 1 and 3 using the electrolyte composition containing only the imidazolium salt. Also showed excellent conversion efficiency and storage stability. Further, from Table 2, it can be seen that the solvent content of the electrolyte composition is preferably 10% by mass or less, and more preferably no solvent is used, in order to suppress a decrease in short circuit current density.

従来のイミダゾリウム塩のみを用いた比較例4及び5の光電気化学電池では短絡電流密度が低く、これが低い光電変換効率の原因となっている。また、有機塩(I)のみを用いた比較例6の光電気化学電池、従来のイミダゾリウム塩と有機塩(I)の組み合わせを用いた比較例7の光電気化学電池、及び公知のLiTFSIと有機塩(I)の組み合わせを用いた比較例8の光電気化学電池は殆ど光電変換能を示さなかった。これに対して、有機塩(I)及びヨウ素塩を含有する電解質組成物を用いた実施例3〜13の光電気化学電池は高い短絡電流密度を示し、それに伴い優れた変換効率が得られた。   In the conventional photoelectrochemical cells of Comparative Examples 4 and 5 using only the imidazolium salt, the short-circuit current density is low, which causes low photoelectric conversion efficiency. Further, the photoelectrochemical cell of Comparative Example 6 using only the organic salt (I), the photoelectrochemical cell of Comparative Example 7 using a combination of the conventional imidazolium salt and the organic salt (I), and the known LiTFSI The photoelectrochemical cell of Comparative Example 8 using the combination of the organic salt (I) showed almost no photoelectric conversion ability. In contrast, the photoelectrochemical cells of Examples 3 to 13 using the electrolyte composition containing the organic salt (I) and the iodine salt showed high short-circuit current density, and accordingly, excellent conversion efficiency was obtained. .

10・・・導電層
10a・・・透明導電層
11・・・金属リード
20・・・感光層
21・・・半導体微粒子
22・・・色素
23・・・電荷輸送材料
30・・・電荷輸送層
40・・・対極導電層
40a・・・透明対極導電層
50・・・基板
50a・・・透明基板
60・・・下塗り層
10 ... conductive layer
10a ・ ・ ・ Transparent conductive layer
11 ... Metal lead
20 ... Photosensitive layer
21 ... Semiconductor fine particles
22 ... Dye
23 ... Charge transport material
30 ... Charge transport layer
40 ... Counterelectrode conductive layer
40a ・ ・ ・ Transparent counter electrode conductive layer
50 ... Board
50a ・ ・ ・ Transparent substrate
60 ... Undercoat layer

Claims (6)

下記一般式(I)により表されるツイッターイオン型有機塩。
一般式(I)中、Qは窒素原子と共に5又は6員環の芳香族カチオンを形成する原子団を表し、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、又は下記一般式(II)により表される置換基を表し、R2はアルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、炭酸エステル基、アミド基、カルバモイル基、ホスホニル基、複素環基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アシル基、スルホニル基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アリール基、アリーロキシ基、アルケニル基、アルキル基、又は下記一般式(II)により表される置換基を表し、n1は0〜5の整数を表し、X1は対イオンを表し、n2は0〜4の整数を表す。n1が2以上のとき複数のR2は同じでも異なっていてもよく、R1及びR2のうち少なくとも1つは下記一般式(II)により表される置換基である。
一般式(II)中、L1は前記芳香族カチオンとV1とを連結する、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基、アリーレンオキシ基、又はこれらの組み合わせからなる2価連結基を表し、V1及びV2はそれぞれ独立に-CO-、-SO-、-SO2-又は-PO(OR4)-(R4はアルキル基又はアリール基)を表し、R3はアルコキシ基、アルキル基、アルケニル基、又はパーフルオロアルキル基を表す。
Twitter ion type organic salt represented by the following general formula (I).
In the general formula (I), Q represents an atomic group that forms a 5- or 6-membered aromatic cation with a nitrogen atom, and R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or the following general formula (II). R 2 represents an alkoxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbonate group, an amide group, a carbamoyl group, a phosphonyl group, a heterocyclic group, an aryloxy group, an alkylthio group, an acyl group, a sulfonyl group, an acyloxy group. group, a sulfonyloxy group, an aryl group, an aryloxy group, an alkenyl group, an alkyl group, or a substituted group represented by the following general formula (II), n1 represents an integer of 0 to 5, X 1 is a counterion N2 represents an integer of 0 to 4. When n1 is 2 or more, a plurality of R 2 may be the same or different, and at least one of R 1 and R 2 is a substituent represented by the following general formula (II).
In general formula (II), L 1 represents a divalent linking group composed of an alkylene group, an arylene group, an alkyleneoxy group, an aryleneoxy group, or a combination thereof, which links the aromatic cation and V 1, and V 1 and V 2 each independently represent —CO—, —SO—, —SO 2 — or —PO (OR 4 ) — (R 4 represents an alkyl group or an aryl group), R 3 represents an alkoxy group, an alkyl group, An alkenyl group or a perfluoroalkyl group is represented.
請求項1に記載のツイッターイオン型有機塩において、前記Qは窒素原子と共にイミダゾール環又はピリジン環を表すことを特徴とするツイッターイオン型有機塩。 The Twitter ion type organic salt according to claim 1, wherein the Q represents an imidazole ring or a pyridine ring together with a nitrogen atom. 請求項1又は2に記載のツイッターイオン型有機塩において、前記V1及びV2のうち少なくとも1つが-SO2-であることを特徴とするツイッターイオン型有機塩。 The Twitter ion type organic salt according to claim 1 or 2, wherein at least one of V 1 and V 2 is -SO 2- . 下記一般式(III)により表されるイミダゾリウム有機塩。
一般式(III)中、R11及びR21は水素原子、アルキル基、アルケニル基、又は下記一般式(IV)により表される置換基を表し、R22〜R24はそれぞれ独立に水素原子、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、炭酸エステル基、アミド基、カルバモイル基、ホスホニル基、複素環基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アシル基、スルホニル基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルキル基、又は下記一般式(IV)により表される置換基を表し、X11は対イオンを表し、n21は0〜4の整数を表す。R11及びR21〜R24は同じでも異なっていてもよく、R11及びR21〜R24のうち少なくとも1つは下記一般式(IV)により表される置換基である。
一般式(IV)中、L11は前記一般式(III)中のイミダゾリウムカチオンとV11とを連結する、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基、アリーレンオキシ基、又はこれらの組み合わせからなる2価連結基を表し、V11及びV21は-SO2-を表し、R31はアルコキシ基、アルキル基、アルケニル基、又はパーフルオロアルキル基を表す。
An imidazolium organic salt represented by the following general formula (III).
In the general formula (III), R 11 and R 21 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or a substituent represented by the following general formula (IV), R 22 to R 24 are each independently a hydrogen atom, Alkoxy group, cyano group, alkoxycarbonyl group, carbonate group, amide group, carbamoyl group, phosphonyl group, heterocyclic group, aryloxy group, alkylthio group, acyl group, sulfonyl group, acyloxy group, sulfonyloxy group, aryl group, aryl It represents an oxy group, an alkenyl group, an alkyl group, or a substituent represented by the following general formula (IV), X 11 represents a counter ion, and n 21 represents an integer of 0 to 4. R 11 and R 21 to R 24 may be the same or different, and at least one of R 11 and R 21 to R 24 is a substituent represented by the following general formula (IV).
In the general formula (IV), L 11 is an alkylene group, an arylene group, an alkyleneoxy group, an aryleneoxy group, or a combination thereof, which links the imidazolium cation in the general formula (III) and V 11. V 11 and V 21 represent —SO 2 —, and R 31 represents an alkoxy group, an alkyl group, an alkenyl group, or a perfluoroalkyl group.
請求項4に記載のイミダゾリウム有機塩において、前記n21が0であることを特徴とするイミダゾリウム有機塩。 The imidazolium organic salt according to claim 4, wherein the n21 is 0. 請求項4又は5に記載のイミダゾリウム有機塩において、前記R21〜R24がそれぞれ独立に水素原子又は前記一般式(IV)により表される置換基であることを特徴とするイミダゾリウム有機塩。 6. The imidazolium organic salt according to claim 4, wherein R 21 to R 24 are each independently a hydrogen atom or a substituent represented by the general formula (IV). .
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